JP2016069466A - Optical film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film having high heat resistance, low phase difference and good fluidity.SOLUTION: There are provided: a polycarbonate resin obtained, for example, by heating 9,9-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)fluorene, 9-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]fluorene, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane, diphenyl carbonate, and tetramethyl ammonium hydroxide and sodium hydrogen carbonate as a catalyst in a nitrogen atmosphere; and an optical film using the resin.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、耐熱性が高く、位相差が低く、流動性が良好な光学フィルムに関するものである。   The present invention relates to an optical film having high heat resistance, low retardation, and good fluidity.

従来、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下、ビスフェノールAという)にカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボネート樹脂(以下、PC−Aという)は透明性、耐熱性、機械的特性、寸法安定性が優れているがゆえにエンジニアリングプラスチックとして多くの分野に広く使用されてきた。さらに近年その透明性を生かして光ディスク、フィルム、レンズ等の分野への光学用材料としての利用が展開されている。   Conventionally, a polycarbonate resin (hereinafter referred to as PC-A) obtained by reacting a carbonate precursor with 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter referred to as bisphenol A) has transparency, heat resistance, mechanical properties. It has been widely used in many fields as an engineering plastic because of its excellent characteristics and dimensional stability. Furthermore, in recent years, utilization of the transparency as an optical material in the fields of optical disks, films, lenses and the like has been developed.

しかしながら、PC−Aからなるフィルムを透明導電性フィルム用基板に使用する場合、耐熱性が十分ではなく、使用が困難であった。
そこで、上記問題への対策として様々な手法が検討されている。その一つとして、ビスフェノールAと9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンにカーボネート前駆物質を反応させると耐熱性が高いポリカーボネート樹脂が得られることが提案され(例えば特許文献1、2参照)、そのポリカーボネート樹脂を用いてなるフィルムを位相差フィルム用、偏光板の保護フィルム用に使用することが提案されている(例えば特許文献3、4、5、6参照)。しかしながら、上記ポリカーボネート樹脂は溶融粘度が高く、溶液キャスト法での製膜に限られていた。
However, when using the film which consists of PC-A for the board | substrate for transparent conductive films, heat resistance was not enough and it was difficult to use it.
Therefore, various methods have been studied as countermeasures against the above problems. As one of them, it is proposed that a polycarbonate resin having high heat resistance can be obtained by reacting a carbonate precursor with bisphenol A and 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene (for example, Patent Document 1). 2), it is proposed to use a film made of the polycarbonate resin for a retardation film and a protective film for a polarizing plate (see, for example, Patent Documents 3, 4, 5, and 6). However, the polycarbonate resin has a high melt viscosity and is limited to film formation by the solution casting method.

また、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンとスピログリコールからなるポリカーボネート樹脂を溶融製膜法でフィルム化することが提案されている(特許文献7)。しかしながら、ガラス転移温度が150℃以上の樹脂では、熱分解温度が低いため、溶融製膜が困難で、製膜中に分解が起こり、気泡やゲルが発生する問題がある。またフィルムの強度も低く、折り曲げ特性に課題があった。   In addition, it has been proposed to form a polycarbonate resin composed of 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene and spiroglycol by a melt film forming method (Patent Document 7). However, a resin having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher has a low thermal decomposition temperature, so that melt film formation is difficult, and decomposition occurs during film formation, causing bubbles and gels. Moreover, the strength of the film was low, and there was a problem in the bending characteristics.

また、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンとビスフェノールAとシロキサン化合物を共重合したポリカーボネート樹脂を溶融製膜したシートが提案されている(特許文献8)。しかしながら、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンの比率が高いため、フィルムが脆く、光学特性に関しては何ら記載がない。また、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンを含む偏光板保護フィルムが提案されているが、耐熱性が十分でなかった(特許文献9)。   In addition, a sheet in which a polycarbonate resin obtained by copolymerizing 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, bisphenol A, and a siloxane compound is formed into a melt has been proposed (Patent Document 8). However, since the ratio of 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene is high, the film is brittle and there is no description regarding optical properties. Further, a polarizing plate protective film containing 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene has been proposed, but the heat resistance is not sufficient (Patent Document 9).

特開2004−331688号公報JP 2004-331688 A 特開平8−134199号公報JP-A-8-134199 国際公開2000/026705号パンフレットInternational Publication No. 2000/026705 Pamphlet 国際公開2001/009649号パンフレットInternational Publication 2001/009649 Pamphlet 特開2001−296423号公報JP 2001-296423 A 特開2001−194530号公報JP 2001-194530 A 特許第5119250号公報Japanese Patent No. 5119250 特開2011−89050号公報JP 2011-89050 A 特開2012−103507号公報JP 2012-103507 A

本発明の目的は、耐熱性が高く、位相差が低く、流動性が良好な光学フィルムを提供することである。   An object of the present invention is to provide an optical film having high heat resistance, low retardation, and good fluidity.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、2種のフルオレン構造を有するビスフェノール化合物と芳香族ジヒドロキシ化合物にカーボネート前駆物質を特定の組成比で反応することが重要なことを見出した。この現象は従来の延伸での複屈折の発生現象とは異なり、驚くべきことに非常に狭い領域の組成でのみ位相差を低減できることを究明し、耐熱性が高く、位相差が低く、流動性が良好な光学フィルムが得られることを究明した。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that it is important to react a carbonate precursor with a specific composition ratio between a bisphenol compound having two fluorene structures and an aromatic dihydroxy compound. This phenomenon differs from the conventional phenomenon of birefringence in stretching, and surprisingly, it was found that the phase difference can be reduced only with a composition in a very narrow region, and has high heat resistance, low phase difference, and fluidity. It was found that an optical film having a good thickness can be obtained.
That is, the present invention is as follows.

1.主たる繰り返し単位が下記式

Figure 2016069466
[式(A)中、RおよびRは夫々独立して、水素原子、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子を示し、mおよびnは夫々独立して0〜4の整数を示す。]
で表される単位(A)と下記式
Figure 2016069466
[式(B)中、R、Rは夫々独立して水素原子、炭素原子数1〜9の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子であり、pおよびqは夫々独立して0〜4の整数を示す。Wは、単結合または下記式(W)
Figure 2016069466
であり、ここにRとRはそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数1〜9のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数6〜12のアリール基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、または炭素原子数7〜17のアラルキル基を表す。また、RとRが結合して炭素環または複素環を形成しても良い。RとRはそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数1〜9のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、または炭素原子数6〜12アリール基を表す。Rは1〜9のアルキレン基である。aは1〜20の整数を表し、bは1〜500の整数を表す。]
で表される単位(B)と下記式
Figure 2016069466
[式中、R10およびR11は夫々独立して、水素原子、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子を示し、R12およびR13は夫々独立して、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基を示し、sおよびtは夫々独立して0〜4の整数を示し、rおよびkは、夫々独立して1以上の整数を示す。]
で表される単位(C)を含むポリカーボネート樹脂であって、単位(A)と単位(B)と単位(C)とのモル比(A/B/C)が、単位(A)、単位(B)および単位(C)の合計を100モル%として、A/B/C=3〜90モル%/3〜90モル%/3〜90モル%の範囲であり、20℃の塩化メチレン溶液で測定された比粘度が0.18〜0.34であるポリカーボネート樹脂を溶融押出して得られる光学フィルム。
2.ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度が150〜190℃である前項1記載の光学フィルム。
3.波長550nmにおける面内位相差値Reの絶対値が20nm以下であり、厚み方向位相差値Rthの絶対値が50nm以下である前項1記載の光学フィルム。
4.ゲル数が100個/m以下である前項1記載の光学フィルム。
5.前項1記載の光学フィルムを用いたタッチパネル用基板。 1. The main repeating unit is the following formula
Figure 2016069466
[In Formula (A), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group that may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and m and n each independently And represents an integer of 0 to 4. ]
Unit (A) represented by the following formula
Figure 2016069466
[In the formula (B), R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may contain an aromatic group having 1 to 9 carbon atoms or a halogen atom, and p and q are each independently Represents an integer of 0 to 4. W is a single bond or the following formula (W)
Figure 2016069466
Where R 5 and R 6 are a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and a carbon atom, respectively. It represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 17 carbon atoms. R 5 and R 6 may combine to form a carbocyclic or heterocyclic ring. R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. Represents an aryl group. R 9 is an alkylene group of 1 to 9. a represents an integer of 1 to 20, and b represents an integer of 1 to 500. ]
Unit (B) represented by the following formula
Figure 2016069466
[Wherein, R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and R 12 and R 13 each independently represent A hydrocarbon group which may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms, s and t each independently represent an integer of 0 to 4, and r and k each independently represents 1 or more. Indicates an integer. ]
A polycarbonate resin containing a unit (C) represented by the formula (1), wherein the molar ratio (A / B / C) of the unit (A), the unit (B) and the unit (C) is the unit (A), the unit ( B) and the unit (C) as a total of 100 mol%, A / B / C = 3 to 90 mol% / 3 to 90 mol% / 3 to 90 mol%, and in a methylene chloride solution at 20 ° C. An optical film obtained by melt-extruding a polycarbonate resin having a measured specific viscosity of 0.18 to 0.34.
2. 2. The optical film as described in 1 above, wherein the polycarbonate resin has a glass transition temperature of 150 to 190 ° C.
3. 2. The optical film as described in 1 above, wherein the absolute value of the in-plane retardation value Re at a wavelength of 550 nm is 20 nm or less, and the absolute value of the thickness direction retardation value Rth is 50 nm or less.
4). 2. The optical film as described in 1 above, wherein the number of gels is 100 / m 2 or less.
5. A substrate for a touch panel using the optical film according to item 1 above.

本発明のポリカーボネート樹脂は、2種のフルオレン構造を有するビスフェノール化合物と芳香族ジヒドロキシ化合物にカーボネート前駆物質を特定の組成比で反応することで、耐熱性が高く、位相差が低く、流動性が良好な光学フィルムとすることが可能となった。そのため、その奏する工業的効果は格別である。   The polycarbonate resin of the present invention has high heat resistance, low phase difference, and good fluidity by reacting a carbonate precursor with a bisphenol compound having two fluorene structures and an aromatic dihydroxy compound at a specific composition ratio. It became possible to make it an optical film. Therefore, the industrial effect that it produces is exceptional.

以下、本発明を詳細に説明する。
<ポリカーボネート樹脂>
本発明のポリカーボネート樹脂は、主たる繰り返し単位が、単位(A)と単位(B)と単位(C)とから構成される。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<Polycarbonate resin>
In the polycarbonate resin of the present invention, the main repeating unit is composed of a unit (A), a unit (B), and a unit (C).

(単位(A))
単位(A)は、前記式(A)で示され、R、Rは夫々独立して水素原子、炭素原子数1〜10、好ましくは炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数5〜10のシクロアルキル基、炭素原子数6〜10のアリール基、炭素原子数7〜10のアラルキル基、炭素原子数1〜10のアルケニル基、またはハロゲン基(フッ素原子、塩素原子、臭素原子など)が好ましい。mおよびnは夫々独立して0〜4の整数を示す。
(Unit (A))
The unit (A) is represented by the formula (A), and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the number of carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen group (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom) Etc.) is preferable. m and n each independently represents an integer of 0 to 4.

具体的には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−n−プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−イソプロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−n−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−sec−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−tert−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどから誘導されるカーボネート単位である。特に、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンから誘導されるカーボネート単位が好ましい。   Specifically, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) Fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-n-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-isopropylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3- n-butylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-sec-butylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) fluorene, etc. A carbonate units et induction. In particular, carbonate units derived from 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene are preferred.

(単位(B))
単位(B)は、前記式(B)に示したように、芳香族構造を有するカーボネート単位である。前記式(B)中、R、Rは、水素原子、炭素原子数1〜9のアルキル基、炭素原子数6〜12のアリール基、炭素原子数2〜8のアルケニル基、炭素原子数7〜13のアラルキル基、またはハロゲン原子が好ましい。R、Rは、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数6〜9のアリール基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、炭素原子数7〜9のアラルキル基、またはハロゲン原子がより好ましく、メチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基がさらに好ましい。p、qはR、Rがベンゼン環上に置換している数を示し、0〜4の整数である。
(Unit (B))
The unit (B) is a carbonate unit having an aromatic structure as shown in the formula (B). In the formula (B), R 3 and R 4 are a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and the number of carbon atoms. 7-13 aralkyl groups or halogen atoms are preferred. R 3 and R 4 are each an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an aryl group having 6 to 9 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a halogen atom Are more preferable, and a methyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group is more preferable. p and q represent the number of R 3 and R 4 substituted on the benzene ring, and are integers of 0 to 4.

式(B)中のWは前記式(W)で示され、RとRはそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数1〜9のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数6〜12のアリール基、炭素原子数2〜5のアルケニル基または炭素原子数7〜17のアラルキル基を表す。また、RとRが結合して炭素環または複素環を形成しても良い。RとRはそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数1〜9のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、または炭素原子数6〜12アリール基を表す。Rは1〜9のアルキレン基である。aは1〜20の整数を表し、bは1〜500の整数を表す。 W in the formula (B) is represented by the formula (W), and R 5 and R 6 are each a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, An alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 17 carbon atoms is represented. R 5 and R 6 may combine to form a carbocyclic or heterocyclic ring. R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. Represents an aryl group. R 9 is an alkylene group of 1 to 9. a represents an integer of 1 to 20, and b represents an integer of 1 to 500.

具体的には、4,4′−ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(ビスフェノールE)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン(ビスフェノールC)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(ビスフェノールZ)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン(ビスフェノールM)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピルシクロヘキサンなどが例示される。なかでも、ビスフェノールA、ビスフェノールZ、ビスフェノールC、ビスフェノールE、ビスフェノールMが耐熱性、流動性の観点から好ましく、特にビスフェノールAが高流動、入手容易性の観点から好ましい。これらは2種類以上併用して用いても良い。   Specifically, 4,4′-biphenol, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane (bisphenol E), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A), 2,2- Bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane (bisphenol C), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1 -Bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (bisphenol Z), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, α, α′-bis (4-hydroxyphenyl) -m-diisopropylbenzene (bisphenol M), 1,1-bis (4-hydride) Roxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane and the like are exemplified. Of these, bisphenol A, bisphenol Z, bisphenol C, bisphenol E, and bisphenol M are preferable from the viewpoint of heat resistance and fluidity, and bisphenol A is particularly preferable from the viewpoint of high fluidity and availability. Two or more of these may be used in combination.

(単位(C))
単位(C)は、前記式(C)で示される。単位(C)中、R10およびR11は夫々独立して、水素原子、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子を示す。炭化水素基として、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、炭素数1〜10のアルケニル基が挙げられる。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
(Unit (C))
The unit (C) is represented by the formula (C). In the unit (C), R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group that may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom. As a hydrocarbon group, a C1-C10 alkyl group, a C5-C10 cycloalkyl group, a C6-C10 aryl group, a C7-C10 aralkyl group, a C1-C10 alkenyl group Is mentioned. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.

12およびR13は夫々独立して、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基を示す。炭化水素基は、好ましくは炭素数1〜10のアルキレン基、さらに好ましくは炭素数1〜4のアルキレン基、より好ましくはエチレン基である。
rおよびkは、それぞれ−(R12−O)−および−(O−R13)−の繰り返しの数を表す。rおよびkは、夫々独立して、1以上の整数であり、好ましくは1〜20の整数、さらに好ましくは1〜12の整数、さらにより好ましくは1〜8の整数、特に好ましくは1〜4の整数、最も好ましくは1である。sおよびtは、夫々独立して0〜4の整数を示す。
R 12 and R 13 each independently represent a hydrocarbon group that may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms. The hydrocarbon group is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethylene group.
r and k represent the number of repetitions of — (R 12 —O) — and — (O—R 13 ) —, respectively. r and k are each independently an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 20, more preferably an integer of 1 to 12, still more preferably an integer of 1 to 8, particularly preferably 1 to 4. An integer of 1, most preferably 1. s and t each independently represent an integer of 0 to 4.

単位(B)として、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(3−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(4−ヒドロキシブトキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[2−(2−ヒドロキシエトキシ)−5−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−エチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−プロピルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−イソプロピルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−n−ブチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−イソブチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−(1−メチルプロピル)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(3−ヒドロキシプロポキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(4−ヒドロキシブトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−2,5−ジメチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジエチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジプロピルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジイソプロピルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジ−n−ブチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジイソブチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ビス(1−メチルプロピル)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(3−ヒドロキシプロポキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(4−ヒドロキシブトキシ)−3,5−ジメチルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−シクロヘキシルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−フェニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジフェニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−ベンジルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジベンジルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−プロペニルフェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−フルオロフェニル]フルオレン、およびこれらの9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)フルオレンから誘導される単位が挙げられる。また、rおよびkが2以上である9,9−ビス[ヒドロキシポリ(アルキレンオキシ)フェニル]フルオレン等から誘導される単位が挙げられる。   As the unit (B), 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (3-hydroxypropoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (4-Hydroxybutoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] fluorene, 9,9-bis [2- (2-hydroxyethoxy) -5-methyl Phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-ethylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-propylphenyl] fluorene, 9, 9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-isopropylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3- -Butylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-isobutylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3- (1-methylpropyl) ) Phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (3-hydroxypropoxy) -3-methylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (4-hydroxybutoxy) -3-methylphenyl] fluorene, 9 , 9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -2,5-dimethylphenyl] fluorene, 9,9 -Bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-diethylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3 5-dipropylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-diisopropylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5 -Di-n-butylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-diisobutylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3 , 5-Bis (1-methylpropyl) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (3-hydroxypropoxy) -3,5-dimethylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (4-hydroxy) Butoxy) -3,5-dimethylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-cyclohexylphenyl] fluorene, 9, 9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-phenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-diphenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [ 4- (2-hydroxyethoxy) -3-benzylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dibenzylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- ( 2-hydroxyethoxy) -3-propenylphenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-fluorophenyl] fluorene, and their 9,9-bis (hydroxyalkoxyphenyl) fluorene Examples are the units that are derived. Moreover, a unit derived from 9,9-bis [hydroxypoly (alkyleneoxy) phenyl] fluorene or the like in which r and k are 2 or more can be mentioned.

これらのうち、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル]フルオレン}等が好ましい。特に、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(BPEF)から誘導される単位(C1)が好ましい。   Of these, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl] fluorene} and the like are preferable. In particular, the unit (C1) derived from 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene (BPEF) is preferable.

(組成比)
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂の組成比は、単位(A)と単位(B)と単位(C)とのモル比(A/B/C)が、単位(A)、単位(B)および単位(C)の合計を100モル%として、A/B/C=3〜90モル%/3〜90モル%/3〜90モル%の範囲であり、A/B/C=5〜80モル%/10〜80モル%/10〜80モル%の範囲が好ましく、A/B/C=5〜80モル%/10〜60モル%/20〜80モル%の範囲がより好ましく、A/B/C=5〜40モル%/10〜40モル%/40〜70モル%の範囲がさらに好ましい。かかる組成範囲のポリカーボネート樹脂をフィルム化した場合、フィルムの耐熱性、流動性に優れ、光学用途に適したものとなり好ましい。本発明で使用されるポリカーボネート樹脂は、単位(A)と単位(B)と単位(C)とのモル比(A/B/C)が上記範囲を満足すれば、共重合体、ブレンド物、またはその組み合わせであっても良い。例えば、単位(A)と単位(B)の共重合体と単位(C)の樹脂のブレンドなどが挙げられる。
(Composition ratio)
The composition ratio of the polycarbonate resin used in the present invention is such that the molar ratio (A / B / C) of units (A), units (B), and units (C) is unit (A), units (B) and A / B / C = 3 to 90 mol% / 3 to 90 mol% / 3 to 90 mol%, and A / B / C = 5 to 80 mol, where the total of units (C) is 100 mol% % / 10 to 80 mol% / 10 to 80 mol% is preferable, A / B / C = 5 to 80 mol% / 10 to 60 mol% / 20 to 80 mol% is more preferable, and A / B The range of / C = 5 to 40 mol% / 10 to 40 mol% / 40 to 70 mol% is more preferable. When a polycarbonate resin having such a composition range is formed into a film, it is preferable because the film has excellent heat resistance and fluidity and is suitable for optical applications. If the molar ratio (A / B / C) of the unit (A), the unit (B) and the unit (C) satisfies the above range, the polycarbonate resin used in the present invention is a copolymer, a blend, Alternatively, a combination thereof may be used. For example, a blend of a copolymer of unit (A) and unit (B) and a resin of unit (C) can be mentioned.

モル比は、日本電子社製JNM−AL400のプロトンNMRにて測定し算出する。主たる繰り返し単位とは、単位(A)、(B)および(C)の合計が全繰り返し単位を基準として60モル%以上であり、好ましくは70モル%以上であり、より好ましくは80モル%以上であり、さらに好ましくは90モル%以上であり、実質的に100モル%であることが特に好ましい。   The molar ratio is measured and calculated by proton NMR of JNM-AL400 manufactured by JEOL Ltd. The main repeating unit is a total of units (A), (B) and (C) of 60 mol% or more, preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, based on all repeating units. More preferably, it is 90 mol% or more, and it is especially preferable that it is substantially 100 mol%.

(比粘度:ηSP
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂の比粘度(ηSP)としては、0.18〜0.34の範囲であり、好ましくは0.20〜0.33の範囲であり、特に好ましくは0.23〜0.32の範囲である。かかる範囲内では、強度等が向上し、且つ流動特性が優れる。
本発明でいう比粘度は、20℃で塩化メチレン100mlにポリカーボネート樹脂0.7gを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求めた。
比粘度(ηSP)=(t−t)/t
[tは塩化メチレンの落下秒数、tは試料溶液の落下秒数]
(Specific viscosity: η SP )
The specific viscosity (η SP ) of the polycarbonate resin used in the present invention is in the range of 0.18 to 0.34, preferably in the range of 0.20 to 0.33, particularly preferably 0.23. It is in the range of ~ 0.32. Within such a range, strength and the like are improved, and flow characteristics are excellent.
The specific viscosity referred to in the present invention was determined using an Ostwald viscometer from a solution obtained by dissolving 0.7 g of a polycarbonate resin in 100 ml of methylene chloride at 20 ° C.
Specific viscosity (η SP ) = (t−t 0 ) / t 0
[T 0 is methylene chloride falling seconds, t is sample solution falling seconds]

なお、本発明のポリカーボネート樹脂の比粘度を測定する場合は、次の要領で行うことができる。すなわち、ポリカーボネート樹脂をその20〜30倍重量の塩化メチレンに溶解し、可溶分をセライト濾過により採取した後、溶液を除去して十分に乾燥し、塩化メチレン可溶分の固体を得る。かかる固体0.7gを塩化メチレン100mlに溶解した溶液から20℃における比粘度をオストワルド粘度計を用いて求める。   In addition, when measuring the specific viscosity of the polycarbonate resin of this invention, it can carry out in the following way. That is, the polycarbonate resin is dissolved in 20 to 30 times the weight of methylene chloride, and the soluble component is collected by celite filtration, and then the solution is removed and dried sufficiently to obtain a solid component soluble in methylene chloride. Using a Ostwald viscometer, the specific viscosity at 20 ° C. is determined from a solution of 0.7 g of the solid dissolved in 100 ml of methylene chloride.

(ガラス転移温度:Tg)
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは150〜190℃、より好ましくは152〜180℃、特に好ましくは154〜175℃の範囲である。Tgが下限以上であると耐熱安定性が良好となり、フィルムの加工工程でのフィルムの変形を抑制できる。またTgが上限以下の範囲では、フィルムの製膜加工に高い温度は必要なく、従来と異なる特別な加工設備を必要としないため好ましい。Tgは、アルキル基の導入により低くなると推定される。Tgはティー・エイ・インスツルメント・ジャパン(株)製2910型DSCを使用し、昇温速度20℃/minにて測定する。
(Glass transition temperature: Tg)
The glass transition temperature (Tg) of the polycarbonate resin used in the present invention is preferably in the range of 150 to 190 ° C, more preferably 152 to 180 ° C, and particularly preferably 154 to 175 ° C. When Tg is equal to or higher than the lower limit, the heat resistance stability is improved, and deformation of the film in the film processing step can be suppressed. Moreover, when Tg is in the range of the upper limit or less, a high temperature is not necessary for film formation, and a special processing facility different from the conventional one is not required. Tg is estimated to be lower due to the introduction of an alkyl group. Tg is measured by using a 2910 type DSC manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd. at a heating rate of 20 ° C./min.

(ポリカーボネート樹脂の製造方法)
本発明のポリカーボネート樹脂は、通常のポリカーボネート樹脂を製造するそれ自体公知の反応手段、例えばジオール成分にホスゲンや炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を反応させる方法により製造される。次にこれらの製造方法について基本的な手段を簡単に説明する。
(Production method of polycarbonate resin)
The polycarbonate resin of the present invention is produced by a reaction means known per se for producing an ordinary polycarbonate resin, for example, a method of reacting a diol component with a carbonate precursor such as phosgene or carbonic acid diester. Next, basic means for these manufacturing methods will be briefly described.

カーボネート前駆物質として、例えばホスゲンを使用する反応では、通常酸結合剤および溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物またはピリジンなどのアミン化合物が用いられる。溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。また反応促進のために例えば第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常0〜40℃であり、反応時間は数分〜5時間である。本発明のポリカーボネート樹脂は、その重合反応において、末端停止剤として通常使用される単官能フェノール類を使用することができる。殊にカーボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の場合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られた芳香族ポリカーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。
かかる単官能フェノール類としては、芳香族ポリカーボネート樹脂の末端停止剤として使用されるものであればよい。
In a reaction using, for example, phosgene as a carbonate precursor, the reaction is usually performed in the presence of an acid binder and a solvent. As the acid binder, for example, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or an amine compound such as pyridine is used. As the solvent, for example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chlorobenzene are used. In order to accelerate the reaction, a catalyst such as a tertiary amine or a quaternary ammonium salt can also be used. In that case, reaction temperature is 0-40 degreeC normally, and reaction time is several minutes-5 hours. In the polycarbonate resin of the present invention, monofunctional phenols that are usually used as a terminal terminator can be used in the polymerization reaction. Particularly in the case of a reaction using phosgene as a carbonate precursor, monofunctional phenols are generally used as a terminator for controlling the molecular weight, and the resulting aromatic polycarbonate resin has a terminal monofunctional phenol. Since it is blocked by a group based on, it is superior in thermal stability as compared to those not.
Such monofunctional phenols may be used as long as they are used as an end stopper for aromatic polycarbonate resins.

カーボネート前駆物質として炭酸ジエステルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加熱しながら撹拌して、生成するアルコールまたはフェノール類を留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノール類の沸点などにより異なるが、通常120〜300℃の範囲である。反応はその初期から減圧にして生成するアルコールまたはフェノール類を留出させながら反応を完結させる。また、必要に応じて末端停止剤、酸化防止剤等を加えてもよい。   The transesterification reaction using a carbonic acid diester as a carbonate precursor is performed by a method in which an aromatic dihydroxy component in a predetermined ratio is stirred with a carbonic acid diester while heating with an inert gas atmosphere to distill the generated alcohol or phenols. . The reaction temperature varies depending on the boiling point of the alcohol or phenol produced, but is usually in the range of 120 to 300 ° C. The reaction is completed while distilling off the alcohol or phenol produced under reduced pressure from the beginning. Moreover, you may add a terminal stopper, antioxidant, etc. as needed.

前記エステル交換反応に使用される炭酸ジエステルとしては、置換されてもよい炭素原子数6〜12のアリール基、アラルキル基等のエステルが挙げられる。具体的には、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネートおよびm−クレジルカーボネート等が例示される。なかでもジフェニルカーボネートが特に好ましい。ジフェニルカーボネートの使用量は、ジヒドロキシ化合物の合計1モルに対して、好ましくは0.97〜1.10モル、より好ましは1.00〜1.06モルである。   Examples of the carbonic acid diester used for the transesterification include esters such as an aryl group having 6 to 12 carbon atoms and an aralkyl group which may be substituted. Specific examples include diphenyl carbonate, ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate and m-cresyl carbonate. Of these, diphenyl carbonate is particularly preferred. The amount of diphenyl carbonate used is preferably 0.97 to 1.10 mol, more preferably 1.00 to 1.06 mol, per 1 mol of the total of dihydroxy compounds.

また溶融重合法においては重合速度を速めるために、重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物、金属化合物等が挙げられる。
このような化合物としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の、有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、4級アンモニウムヒドロキシド等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
In the melt polymerization method, a polymerization catalyst can be used to increase the polymerization rate. Examples of the polymerization catalyst include alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, nitrogen-containing compounds, and metal compounds.
As such compounds, organic acid salts, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides, alkoxides, quaternary ammonium hydroxides, and the like of alkali metals and alkaline earth metals are preferably used. It can be used alone or in combination.

アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素2ナトリウム、リン酸水素2カリウム、リン酸水素2リチウム、フェニルリン酸2ナトリウム、ビスフェノールAの2ナトリウム塩、2カリウム塩、2セシウム塩、2リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が例示される。   Specific examples of the alkali metal compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium hydroxide, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, lithium carbonate, sodium acetate, potassium acetate, acetic acid. Cesium, lithium acetate, sodium stearate, potassium stearate, cesium stearate, lithium stearate, sodium borohydride, sodium benzoate, potassium benzoate, cesium benzoate, lithium benzoate, disodium hydrogen phosphate, phosphoric acid Dipotassium hydrogen, dilithium hydrogen phosphate, disodium phenyl phosphate, disodium salt of bisphenol A, 2 potassium salt, 2 cesium salt, 2 lithium salt, sodium salt of phenol, potassium salt, cesium salt, lithium salt, etc. It is shown.

アルカリ土類金属化合物としては、具体的に、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、二酢酸マグネシウム、二酢酸カルシウム、二酢酸ストロンチウム、二酢酸バリウム等が例示される。   Specific examples of the alkaline earth metal compound include magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, strontium carbonate, barium carbonate, magnesium diacetate, calcium diacetate, and diacetic acid. Examples include strontium and barium diacetate.

含窒素化合物としては、具体的に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール基等を有する4級アンモニウムヒドロキシド類が例示される。また、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の3級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が例示される。また、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が例示される。   Specific examples of the nitrogen-containing compound include quaternary ammonium having an alkyl or aryl group such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, and trimethylbenzylammonium hydroxide. Hydroxides are exemplified. Further, tertiary amines such as triethylamine, dimethylbenzylamine and triphenylamine, and imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole and benzimidazole are exemplified. Moreover, bases or basic salts such as ammonia, tetramethylammonium borohydride, tetrabutylammonium borohydride, tetrabutylammonium tetraphenylborate, tetraphenylammonium tetraphenylborate and the like are exemplified.

金属化合物としては、亜鉛アルミニウム化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらの化合物は1種または2種以上併用してもよい。
これらの重合触媒の使用量は、ジヒドロキシ成分1モルに対し好ましくは1×10−9〜1×10−2当量、好ましくは1×10−8〜1×10−5当量、より好ましくは1×10−7〜1×10−3当量の範囲で選ばれる。
Examples of the metal compound include a zinc aluminum compound, a germanium compound, an organic tin compound, an antimony compound, a manganese compound, a titanium compound, and a zirconium compound. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
The amount of these polymerization catalysts to be used is preferably 1 × 10 −9 to 1 × 10 −2 equivalent, preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −5 equivalent, more preferably 1 × with respect to 1 mol of the dihydroxy component. It is selected in the range of 10 −7 to 1 × 10 −3 equivalents.

また、反応後期に触媒失活剤を添加することもできる。使用する触媒失活剤としては、公知の触媒失活剤が有効に使用されるが、なかでもスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましい。更にドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等のドデシルベンゼンスルホン酸の塩類、パラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等のパラトルエンスルホン酸の塩類が好ましい。   In addition, a catalyst deactivator can be added at a later stage of the reaction. As the catalyst deactivator to be used, a known catalyst deactivator is effectively used, and among them, sulfonic acid ammonium salt and phosphonium salt are preferable. Furthermore, salts of dodecylbenzenesulfonic acid such as tetrabutylphosphonium salt of dodecylbenzenesulfonic acid and salts of paratoluenesulfonic acid such as tetrabutylammonium salt of paratoluenesulfonic acid are preferable.

またスルホン酸のエステルとして、具体的に、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、パラトルエンスルホン酸メチル、パラトルエンスルホン酸エチル、パラトルエンスルホン酸ブチル、パラトルエンスルホン酸オクチル、パラトルエンスルホン酸フェニル等が例示される。なかでも、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩が特に好ましい。   Specific examples of sulfonic acid esters include methyl benzenesulfonate, ethyl benzenesulfonate, butyl benzenesulfonate, octyl benzenesulfonate, phenyl benzenesulfonate, methyl paratoluenesulfonate, ethyl paratoluenesulfonate, and paratoluene. Examples include butyl sulfonate, octyl p-toluenesulfonate, phenyl p-toluenesulfonate, and the like. Among these, dodecylbenzenesulfonic acid tetrabutylphosphonium salt is particularly preferable.

これらの触媒失活剤の使用量はアルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物より選ばれた少なくとも1種の重合触媒を用いた場合、その触媒1モル当たり好ましくは0.5〜50モルの割合で、より好ましくは0.5〜10モルの割合で、更に好ましくは0.8〜5モルの割合で使用することができる。
また、用途や必要に応じて熱安定剤、可塑剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、紫外線吸収剤、離型剤等の添加剤を配合することができる。
The amount of the catalyst deactivator used is preferably 0.5 to 50 mol per mol of the catalyst when at least one polymerization catalyst selected from alkali metal compounds and / or alkaline earth metal compounds is used. It can be used in a proportion, more preferably in a proportion of 0.5 to 10 mol, still more preferably in a proportion of 0.8 to 5 mol.
In addition, heat stabilizers, plasticizers, light stabilizers, polymerized metal deactivators, flame retardants, lubricants, antistatic agents, surfactants, antibacterial agents, ultraviolet absorbers, release agents, etc. Additives can be blended.

<光学フィルム>
本発明の光学フィルムは、具体的には、位相差フィルム、プラセル基板フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルム、輝度上昇フィルム、光ディスクの保護フィルム、拡散フィルム等の用途が挙げられる、なかでも位相差フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルムが好ましい。
<Optical film>
Specifically, the optical film of the present invention includes applications such as a retardation film, a plastic substrate film, a polarizing plate protective film, an antireflection film, a brightness enhancement film, an optical disk protective film, a diffusion film, etc. A phase difference film, a polarizing plate protective film and an antireflection film are preferred.

光学フィルムの製造方法としては、生産性の点から溶融押出法が採用される。
溶融押出法においては、Tダイを用いて樹脂を溶融押出し、冷却ロールに送る方法が好ましく用いられる。このときの溶融押出樹脂温度はポリカーボネート樹脂の分子量、Tg、溶融流動特性等から決められるが、240〜300℃の範囲が好ましく、250℃〜290℃の範囲がより好ましい。240℃より低いと粘度が高くなりポリマーの配向、応力歪みが残りやすく、また、300℃より高いと熱劣化によるゲル化、着色、Tダイからのダイライン(筋)等の問題が起きやすい。また、減圧状態に保持できる真空ホッパーを使用することが好ましい。真空度は10kPa以下が好ましく、5kPa以下がさらに好ましく、3kPa以下が特に好ましい。
As a method for producing an optical film, a melt extrusion method is adopted from the viewpoint of productivity.
In the melt extrusion method, a method in which a resin is melt-extruded using a T die and sent to a cooling roll is preferably used. The melt extrusion resin temperature at this time is determined from the molecular weight, Tg, melt flow characteristics, etc. of the polycarbonate resin, but is preferably in the range of 240 to 300 ° C, more preferably in the range of 250 ° C to 290 ° C. When the temperature is lower than 240 ° C., the viscosity becomes high and polymer orientation and stress strain tend to remain, and when the temperature is higher than 300 ° C., problems such as gelation due to thermal deterioration, coloring, and die line (stripe) from the T-die are likely to occur. Further, it is preferable to use a vacuum hopper that can be kept in a reduced pressure state. The degree of vacuum is preferably 10 kPa or less, more preferably 5 kPa or less, and particularly preferably 3 kPa or less.

未延伸の光学フィルムの厚みとしては、30〜400μmの範囲が好ましく、より好ましくは40〜300μmの範囲である。かかる未延伸光学フィルムは、ディスプレイ用基板やタッチパネル用基板として好適に用いられる。
未延伸光学フィルムは、波長550nmにおける面内位相差値Reの絶対値が20nm以下であることが好ましく、15nm以下であることがより好ましく、10nm以下であることがさらに好ましく、5nm以下であることが特に好ましい。また、波長550nmにおける厚み方向位相差値Rthの絶対値が50nm以下であることが好ましく、30nm以下であることがより好ましく、20nm以下であることがさらに好ましく、10nm以下であることが特に好ましく、5nm以下であることがもっとも好ましい。
上記範囲であるとディスプレイ用基板やタッチパネル用基板として使用した際に、ディスプレイやタッチパネルの画像のぼやけがなくなり、高精細な画像を表示することができ好ましい。
As a thickness of an unstretched optical film, the range of 30-400 micrometers is preferable, More preferably, it is the range of 40-300 micrometers. Such an unstretched optical film is suitably used as a display substrate or a touch panel substrate.
The unstretched optical film preferably has an in-plane retardation value Re of 20 nm or less at a wavelength of 550 nm, more preferably 15 nm or less, further preferably 10 nm or less, and more preferably 5 nm or less. Is particularly preferred. Further, the absolute value of the thickness direction retardation value Rth at a wavelength of 550 nm is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, further preferably 20 nm or less, particularly preferably 10 nm or less, Most preferably, it is 5 nm or less.
Within the above range, when used as a display substrate or a touch panel substrate, the image on the display or the touch panel is not blurred and a high-definition image can be displayed.

かかる未延伸光学フィルムは延伸配向することにより位相差を調整しても良い。なお、フィルムの製膜する機械軸方向を製膜方向または縦方向と称し、製膜方向とフィルムの厚み方向に直交する方向を横方向または幅方向と称する。延伸方法は、縦一軸延伸、テンター等を用いる横一軸延伸、あるいはそれらを組み合わせた同時二軸延伸、逐次二軸延伸等公知の方法を用いることが出来る。また連続で行うことが生産性の点で好ましいが、バッチ式で行っても良い。延伸温度は、ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度(Tg)に対して、好ましくは(Tg−20℃)〜(Tg+50℃)の範囲、より好ましくは(Tg−10℃)〜(Tg+30℃)の範囲である。この温度範囲であれば、ポリマーの分子運動が適度であり、延伸による緩和が起こり難く、配向制御が容易になり所望する面内位相差が得られ易いため好ましい。延伸温度が低いと位相差が発現しやすくなる傾向がある。
また、得られる光学フィルムのゲル数が100個/m以下であることが好ましく、50個/m以下であることがより好ましい。ゲル数が上記範囲内であるとディスプレイ用基板やタッチパネル用基板として使用した際に、ディスプレイやタッチパネルが高精細な画像を表示することができ好ましい。
Such an unstretched optical film may be adjusted in phase by stretching and orientation. The machine axis direction in which the film is formed is referred to as the film forming direction or the longitudinal direction, and the direction perpendicular to the film forming direction and the film thickness direction is referred to as the lateral direction or the width direction. As the stretching method, a known method such as longitudinal uniaxial stretching, lateral uniaxial stretching using a tenter or the like, or simultaneous biaxial stretching or sequential biaxial stretching in combination thereof can be used. Moreover, although it is preferable from a point of productivity to perform continuously, you may carry out by a batch type. The stretching temperature is preferably in the range of (Tg-20 ° C) to (Tg + 50 ° C), more preferably in the range of (Tg-10 ° C) to (Tg + 30 ° C) with respect to the glass transition temperature (Tg) of the polycarbonate resin. is there. This temperature range is preferable because the molecular motion of the polymer is appropriate, relaxation due to stretching is unlikely to occur, orientation control is facilitated, and a desired in-plane retardation is easily obtained. If the stretching temperature is low, the phase difference tends to be easily developed.
It is preferable that the gel of the optical film obtained is 100 / m 2 or less, more preferably 50 pieces / m 2 or less. When the number of gels is within the above range, the display or touch panel can display a high-definition image when used as a display substrate or a touch panel substrate.

<タッチパネル用透明導電性フィルム>
本発明の光学フィルムは、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム(基板)として好適に用いられる。
透明導電性フィルムは、ベースフィルムの低屈折率層の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネルと静電容量式タッチパネルが主流であるが、透明導電性フィルムはいずれのタッチパネルにも用いることができる。特に、透明導電性フィルムは、静電容量式タッチパネルに好適である。
<Transparent conductive film for touch panel>
The optical film of the present invention is suitably used as a base film (substrate) for a transparent conductive film for a touch panel.
The transparent conductive film is obtained by providing a transparent conductive film on the low refractive index layer of the base film.
As the touch panel, a resistive touch panel and a capacitive touch panel are mainstream, but the transparent conductive film can be used for any touch panel. In particular, the transparent conductive film is suitable for a capacitive touch panel.

静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。
パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部(透明導電膜がエッチングされずに残存している部分(導電部))と非パターン部(透明導電膜がエッチングされて除去された部分(非導電部))との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。この「骨見え」の問題は、本発明のベースフィルムを用いることにより低減される。
The transparent conductive film of the transparent conductive film of the capacitive touch panel is usually patterned in a predetermined pattern. The patterning of the transparent conductive film is performed by etching the transparent conductive film.
A transparent conductive film having a patterned transparent conductive film has a pattern portion (a portion where the transparent conductive film remains without being etched (conductive portion)) and a non-pattern portion (the transparent conductive film is etched). The part of the pattern is visually recognized due to the difference in reflectance and transmittance from the removed part (non-conductive part) or the color tone of the pattern part and the non-pattern part, so-called “bone appearance” occurs. The visibility of the transparent conductive film is reduced. This “bone appearance” problem is reduced by using the base film of the present invention.

透明導電膜の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ITO(酸化インジウム錫)、ATO(酸化アンチモン錫)などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもITOが好ましく用いられる。
透明導電膜の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から小さい方が好ましく、具体的には40nm以下が好ましく、30nm以下がより好ましく、25nm以下が更に好ましく、特に20nm以下が好ましい。透明導電膜の厚みの下限は、低抵抗の透明導電膜を確保するという観点から5nm以上が好ましく、7nm以上がより好ましく、10nm以上が特に好ましい。
As a material of the transparent conductive film, a known material used for a transparent conductive film can be used. Examples thereof include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide) and ATO (antimony tin oxide), metal nanowires such as silver nanowires, and carbon nanotubes. Among these, ITO is preferably used.
The thickness of the transparent conductive film is preferably smaller from the viewpoint of improving the visibility of the transparent conductive film, specifically 40 nm or less, more preferably 30 nm or less, still more preferably 25 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less. . The lower limit of the thickness of the transparent conductive film is preferably 5 nm or more, more preferably 7 nm or more, and particularly preferably 10 nm or more from the viewpoint of securing a low-resistance transparent conductive film.

透明導電膜の表面抵抗値は、1000Ω/□以下が好ましく、500Ω/□以下が好ましい。
透明導電膜の屈折率1.81以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率は1.85以上が好ましく、1.90以上がより好ましい。上限は2.20以下が好ましく、2.10以下がより好ましい。
透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
The surface resistance value of the transparent conductive film is preferably 1000Ω / □ or less, and preferably 500Ω / □ or less.
The refractive index of the transparent conductive film is preferably 1.81 or more. Further, the refractive index of the transparent conductive film is preferably 1.85 or more, more preferably 1.90 or more. The upper limit is preferably 2.20 or less, and more preferably 2.10 or less.
It does not specifically limit as a formation method of a transparent conductive film, A conventionally well-known method can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used.

透明導電膜はパターン化されていることが好ましい。透明導電膜のパターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開2006−344163号公報、特開2011−128896号公報等に開示されているパターンが挙げられる。   The transparent conductive film is preferably patterned. The patterning of a transparent conductive film can form various patterns according to the use to which a transparent conductive film is applied. Note that the pattern portion and the non-pattern portion are formed by patterning the transparent conductive film. Examples of the pattern shape of the pattern portion include a stripe shape, a lattice shape, or a combination thereof. Specifically, for example, there are patterns disclosed in JP-A-2006-344163, JP-A-2011-128896, and the like.

透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
The patterning of the transparent conductive film is generally performed by etching. For example, an etching resist film having a predetermined pattern is formed on the transparent conductive film by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method, and then etched to pattern the transparent conductive film.
A conventionally well-known thing is used as an etching liquid. For example, inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof are used.

以下実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、実施例中「部」とは「重量部」を意味する。実施例において使用した使用樹脂および評価方法は以下のとおりである。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” means “parts by weight”. The resins used and the evaluation methods used in the examples are as follows.

1.ポリマー組成比(NMR)
日本電子社製JNM−AL400のプロトンNMRにて測定し、ポリマー組成比(モル比)を算出した。
1. Polymer composition ratio (NMR)
The polymer composition ratio (molar ratio) was calculated by proton NMR of JNM-AL400 manufactured by JEOL Ltd.

2.比粘度
20℃で塩化メチレン100mlにポリカーボネート樹脂0.7gを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求めた。
比粘度(ηSP)=(t−t)/t
[tは塩化メチレンの落下秒数、tは試料溶液の落下秒数]
2. Specific viscosity The viscosity was determined using an Ostwald viscometer from a solution of 0.7 g of polycarbonate resin in 100 ml of methylene chloride at 20 ° C.
Specific viscosity (η SP ) = (t−t 0 ) / t 0
[T 0 is methylene chloride falling seconds, t is sample solution falling seconds]

3.ガラス転移温度
ポリカーボネート樹脂8mgを用いてティー・エイ・インスツルメント(株)製の熱分析システム DSC−2910を使用して、JIS K7121に準拠して窒素雰囲気下(窒素流量:40ml/min)、昇温速度:20℃/minの条件下で測定した。
3. Glass transition temperature Using a thermal analysis system DSC-2910 manufactured by TA Instruments Co., Ltd. using 8 mg of polycarbonate resin, in a nitrogen atmosphere (nitrogen flow rate: 40 ml / min) in accordance with JIS K7121 Temperature increase rate: Measured under conditions of 20 ° C./min.

4.ゲル数
実施例で得られた光学フィルムをカラー3Dレーザ顕微鏡を用いて、500mm×1000mmに存在する長軸の直径が300μm以上の干渉縞を有するゲル数をフィルム1m中に換算して求めた。
4). Number of gels Using the color 3D laser microscope, the number of gels obtained by converting the number of gels having interference fringes having a major axis diameter of 300 μm or more existing in 500 mm × 1000 mm into 1 m 2 of the film. .

5.位相差測定
実施例で得られた光学フィルムを日本分光(株)製 Spectroellipsometer M−220を使用して測定した。
5. Phase difference measurement The optical film obtained in the Example was measured using Spectroellipometer M-220 manufactured by JASCO Corporation.

6.Haze
実施例で得られた光学フィルムを用いて濁度計NDH−2000型(日本電色工業(株)製)を使用し、JIS K7105に準拠して、フィルムのHazeを測定した。
6). Haze
Using the optical film obtained in the example, a turbidimeter NDH-2000 type (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) was used, and the haze of the film was measured according to JIS K7105.

[実施例1]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(以下BCFと略す)194.6部,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン(以下BPEFと略す)901.8部、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下“BPA”と略称することがある)(以下BPAと略す)195.6部、ジフェニルカーボネート749.7部および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド3.6×10−3部と炭酸水素ナトリウム1.6×10−4部を窒素雰囲気下180℃に加熱し溶融させた。その後、30分かけて減圧度を13.4kPaに調整した。その後、20℃/hrの速度で270℃まで昇温を行い、10分間その温度で保持した後、1時間かけて減圧度を133Pa以下とした。合計6時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の1.5倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてペレットを得た。
<光学フィルムの製造>
次に、40mmφの単軸押出機に幅650mmのTダイを取り付け、得られたポリカーボネート樹脂を280℃で溶融製膜することにより透明な厚さ50μmの押出未延伸フィルムを得た。得られた光学フィルムの位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Example 1]
<Manufacture of polycarbonate resin>
9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene (hereinafter abbreviated as BCF) 194.6 parts, 9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene (hereinafter abbreviated as BPEF) 901. 8 parts, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter sometimes abbreviated as “BPA”) (hereinafter abbreviated as BPA) 195.6 parts, diphenyl carbonate 749.7 parts and tetramethylammonium as a catalyst Hydroxide 3.6 × 10 −3 parts and sodium hydrogen carbonate 1.6 × 10 −4 parts were heated to 180 ° C. in a nitrogen atmosphere and melted. Thereafter, the degree of vacuum was adjusted to 13.4 kPa over 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised to 270 ° C. at a rate of 20 ° C./hr and held at that temperature for 10 minutes, and then the degree of vacuum was reduced to 133 Pa or less over 1 hour. The reaction was carried out under stirring for a total of 6 hours.
After completion of the reaction, 1.5 times mole of the catalyst amount of tetrabutylphosphonium salt of dodecylbenzene sulfonate was added to deactivate the catalyst, and then discharged from the bottom of the reaction tank under nitrogen pressure and cooled in a water tank while being pelletized. To obtain pellets.
<Manufacture of optical film>
Next, a T-die having a width of 650 mm was attached to a 40 mmφ single-screw extruder, and the obtained polycarbonate resin was melt-formed at 280 ° C. to obtain a transparent unstretched film having a thickness of 50 μm. The optical film obtained was measured for retardation, gel number, and haze. The results are shown in Table 1.

[実施例2]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
BCF129.7部、BPEF901.8部、BPA234.7部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Example 2]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except for using 129.7 parts of BCF, 901.8 parts of BPEF, and 234.7 parts of BPA, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

[実施例3]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
BCF259部、BPEF751.5部、BPA234.7部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Example 3]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except for using 259 parts of BCF, 751.5 parts of BPEF, and 234.7 parts of BPA, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

[実施例4]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
BCF389.1部、BPEF751.5部、BPA156.5部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Example 4]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except for using BCF389.1 parts, BPEF751.5 parts, and BPA156.5 parts, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

[実施例5]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
BCF129.7部、BPEF901.8部、BPA234.7部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Example 5]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except for using 129.7 parts of BCF, 901.8 parts of BPEF, and 234.7 parts of BPA, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
BPEF901.7部、BPA312.9部として、BCFを用いなかった他は、実施例1と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Comparative Example 1]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except that BCF was not used as BPEF 901.7 parts and BPA 312.9 parts, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

[比較例2]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
BCF389.1部、BPA547.6部として、BPEFを用いなかった他は、実施例1と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Comparative Example 2]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except that BPEF was not used as BCF389.1 parts and BPA547.6 parts, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

[比較例3]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
BCF389.1部、BPEF1052.1部として、BPAを用いなかった他は、実施例1と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Comparative Example 3]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except that BPA was not used as BCF389.1 parts and BPEF1052.1 parts, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

[比較例4]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
最終重合温度を285℃とした以外は実施例3と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂を得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表1に記載した。
<光学フィルムの製造>
次に得られたポリカーボネート樹脂を実施例1と同様にフィルムを製膜し、位相差測定、ゲル数、Hazeを測定した。結果を表1に示した。
[Comparative Example 4]
<Manufacture of polycarbonate resin>
Except for the final polymerization temperature of 285 ° C., the same operation as in Example 3 was performed to obtain a polycarbonate resin. The specific viscosity and glass transition temperature of the pellets were measured and listed in Table 1.
<Manufacture of optical film>
Next, a film was formed from the obtained polycarbonate resin in the same manner as in Example 1, and retardation measurement, gel number, and haze were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2016069466
Figure 2016069466

本発明の光学フィルムは、透明導電性フィルムの基板として有用である。   The optical film of the present invention is useful as a substrate for a transparent conductive film.

Claims (5)

主たる繰り返し単位が下記式
Figure 2016069466
[式(A)中、RおよびRは夫々独立して、水素原子、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子を示し、mおよびnは夫々独立して0〜4の整数を示す。]
で表される単位(A)と下記式
Figure 2016069466
[式(B)中、R、Rは夫々独立して水素原子、炭素原子数1〜9の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子であり、pおよびqは夫々独立して0〜4の整数を示す。Wは、単結合または下記式(W)
Figure 2016069466
であり、ここにRとRはそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数1〜9のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数6〜12のアリール基、炭素原子数2〜5のアルケニル基、または炭素原子数7〜17のアラルキル基を表す。また、RとRが結合して炭素環または複素環を形成しても良い。RとRはそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数1〜9のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、または炭素原子数6〜12アリール基を表す。Rは1〜9のアルキレン基である。aは1〜20の整数を表し、bは1〜500の整数を表す。]
で表される単位(B)と下記式
Figure 2016069466
[式中、R10およびR11は夫々独立して、水素原子、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子を示し、R12およびR13は夫々独立して、炭素原子数1〜10の芳香族基を含んでもよい炭化水素基を示し、sおよびtは夫々独立して0〜4の整数を示し、rおよびkは、夫々独立して1以上の整数を示す。]
で表される単位(C)を含むポリカーボネート樹脂であって、単位(A)と単位(B)と単位(C)とのモル比(A/B/C)が、単位(A)、単位(B)および単位(C)の合計を100モル%として、A/B/C=3〜90モル%/3〜90モル%/3〜90モル%の範囲であり、20℃の塩化メチレン溶液で測定された比粘度が0.18〜0.34であるポリカーボネート樹脂を溶融押出して得られる光学フィルム。
The main repeating unit is the following formula
Figure 2016069466
[In Formula (A), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group that may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and m and n each independently And represents an integer of 0 to 4. ]
Unit (A) represented by the following formula
Figure 2016069466
[In the formula (B), R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may contain an aromatic group having 1 to 9 carbon atoms or a halogen atom, and p and q are each independently Represents an integer of 0 to 4. W is a single bond or the following formula (W)
Figure 2016069466
Where R 5 and R 6 are a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and a carbon atom, respectively. It represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 17 carbon atoms. R 5 and R 6 may combine to form a carbocyclic or heterocyclic ring. R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. Represents an aryl group. R 9 is an alkylene group of 1 to 9. a represents an integer of 1 to 20, and b represents an integer of 1 to 500. ]
Unit (B) represented by the following formula
Figure 2016069466
[Wherein, R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and R 12 and R 13 each independently represent A hydrocarbon group which may contain an aromatic group having 1 to 10 carbon atoms, s and t each independently represent an integer of 0 to 4, and r and k each independently represents 1 or more. Indicates an integer. ]
A polycarbonate resin containing a unit (C) represented by the formula (1), wherein the molar ratio (A / B / C) of the unit (A), the unit (B) and the unit (C) is the unit (A), the unit ( B) and the unit (C) as a total of 100 mol%, A / B / C = 3 to 90 mol% / 3 to 90 mol% / 3 to 90 mol%, and in a methylene chloride solution at 20 ° C. An optical film obtained by melt-extruding a polycarbonate resin having a measured specific viscosity of 0.18 to 0.34.
ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度が150〜190℃である請求項1記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the polycarbonate resin has a glass transition temperature of 150 to 190 ° C. 波長550nmにおける面内位相差値Reの絶対値が20nm以下であり、厚み方向位相差値Rthの絶対値が50nm以下である請求項1記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the absolute value of the in-plane retardation value Re at a wavelength of 550 nm is 20 nm or less, and the absolute value of the thickness direction retardation value Rth is 50 nm or less. ゲル数が100個/m以下である請求項1記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the number of gels is 100 / m 2 or less. 請求項1記載の光学フィルムを用いたタッチパネル用基板。   A touch panel substrate using the optical film according to claim 1.
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