JP2016059868A - 水素生成触媒、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】担体と該担体に担持される金属種とからなる水素生成触媒であって、該担体に含まれる酸化チタンの結晶構造のルチル型の比率が50wt%以上であることを特徴とする前記水素生成触媒。
【選択図】なし
Description
[1]担体と該担体に担持される金属種とからなる水素生成触媒であって、該担体に含まれる酸化チタンの結晶構造のルチル型の比率が50wt%以上であることを特徴とする前記水素生成触媒。
<水素生成触媒>
本実施形態は、担体と該担体に担持される金属種とからなる水素生成触媒であって、該担体に含まれる酸化チタンの結晶構造のルチル型の比率が50wt%以上であることを特徴とする前記水素生成触媒である。
本実施形態の「担体」は、該担体に含まれる酸化チタンの結晶構造のルチル型の比率が50wt%以上であることを特徴とする。かかるルチル型の比率は、水素生成活性の観点から、65wt%以上が好ましく、75wt%以上がより好ましく、85wt%以上がさらに好ましい。また、該ルチル型の比率は、TiO2結晶相の精製コストの観点から、99.999wt%以下が好ましく、99.99wt%以下がより好ましく、99.95wt%以下がさらに好ましい。
担体は、ルチル型の酸化チタン以外に、アモルファス、ブルッカイト型、及びアナタース型酸化チタンを含有してもよい。調製の容易さの観点から、ルチル型の酸化チタン以外としては、アナタース型酸化チタンが好ましい。
本発明者らは、ルチル型が水素生成において高活性である理由として特定の理論に拘束されることを欲しないが、ルチル型は高温で安定な相であるため、ルチル型酸化チタンの表面はアナタース型酸化チタンの表面よりもより安定となる結果、担持した金属種の活性点が失活されにくくなり高活性化するものと推測する。
ここで、「純度」とは、担体材料中の酸化チタンの割合であり、不純物とは、酸化チタンの結晶構造中にドープ又は置換という形式で含まれ物理的に分離できないもの、物理的に分離できる粉体などである。
(担体に含まれる酸化チタンの結晶構造のルチル型の比率)=(酸化チタン中のルチル型の重量(g))/((酸化チタン中のルチル型の重量(g))+(酸化チタン中のアナタース型の重量(g))×100
前記式における酸化チタン中のルチル型の重量は、X線回折パターンの内部標準法により求められる。酸化チタン中のアナタース型の重量も同様に求めることができる。
前記金属種の化学状態としては、金属に限らず、化合物、錯体などでも構わないが、吸着基質への電子供与に寄与する電荷密度が高い材料である程高活性化に有利であるため、金属状態であることが好ましい。
前記水素生成触媒の製造方法としては、金属種の担持方法として、担持金属種を溶解させた溶液と懸濁させた担体からなるスラリーを用いて、溶媒を除去する含浸法などの方法、pHなどを変化させることによって溶液の溶解度を変化させ担持する方法、担体の前駆体と担持金属種が溶解した溶液から金属種がドープされた担体材料又は複合金属化合物を合成する方法などが挙げられる。中でも、溶媒を除去する含浸法などの方法、pHなどを変化させることによって溶液の溶解度を変化させ担持する方法が好ましく、さらに好ましくは含浸法である。
本実施形態の水素の製造方法とは、前記水素生成触媒の存在下で炭化水素の脱水素反応を行うことで水素を製造する方法である。
炭化水素のみを原料とした水素生成は触媒を用いることで促進でき、この反応過程は以下のように推測される。まず、炭化水素を触媒上に吸着させ、触媒上に炭化水素が脱水素した活性種(例えば、炭化水素がメタンである際は、CH4−x(1≦x≦4))と解離水素を生成する。この炭化水素の吸着から活性種生成の過程を、以降、炭化水素の活性化と記載する。この活性化過程を経て触媒上の解離水素から水素分子を形成し、この水素分子の触媒からの脱着を経て水素を生成する。
本実施形態の水素の製造方法の一例を示す。気体の導入部と抜出部を有する反応相に触媒を固定する。反応相の温度や圧力を所定の値に保ち、水素などを導入することで触媒の前処理を行う。その後、原料である気体を反応相へ導入し、触媒上で反応させた後、生成した水素を含む気体を抜き出すことで水素を得る。
本実施形態の炭化水素としては、具体的には、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、ペンテン、ヘキセン、アセチレン、及びこれらの異性体などが挙げられる。前記の観点から、炭化水素は、メタン、エタン、プロパン、エチレン、プロピレンであることが好ましく、最も好ましくはメタンである。
本発明の水素の製造方法の原料である炭化水素は、気体で導入されることが好ましい。
本実施形態の水素生成触媒は、反応相に、固定床、流動床、移動床又は疑似移動床として充填することができる。
反応相に導入する炭化水素の総容積流量は、反応相に充填された触媒量1g当たり0.001〜100,000L/hが好ましく、より好ましくは0.01〜1,000,000L/hである。触媒量とは、反応器に充填した触媒金属種と触媒担体の重量の和であり、反応器に触媒を固定する場合には、固定した反応器の重量を含めない。
<評価方法>
以下、特に断りのない場合は、25℃、湿度45%の条件で評価を行った。
本実施例、及び比較例において、水素生成の活性は、反応器下流に設置したオンラインのガスクロマトグラフィー(アジレント社製、490GC)を用いて評価した。カラム種類はMolsieve 5A PLOT、カラム温度は40℃、キャリアガスはアルゴン、キャリア導入圧力は0.55MPaであった。
なお、実施例、及び比較例における水素生成の活性は、以下のように定義する。
(水素生成の活性(mol min−1 m−2))=(生成水素量(mol min−1))÷{(触媒重量(g))×(触媒担体の比表面積(m2g−1))}
触媒担体の比表面積は、窒素吸着によるBET比表面積により求めた。測定装置は、Quantachrome社製、AUTOSORB3MPを用いて、−196℃の温度条件の下、吸着特性を評価した。
金属種の担持量は、担持金属種の化学状態が金属であると仮定して、以下のように算出した。
(金属種の担持量(wt%))={(担持金属種の金属の質量数(g/mol))×(前駆体金属種のモル数(mol))×100}/(担体の質量(g))
結晶構造の同定は、X線結晶構造回折により行った。装置には、Bruker社製、D8ADVANCEを使用し、X線源はCu Kα線、出力は40kV、40mAの条件の下、測定を行った。
酸化チタン担体に、金属塩を溶解させた水溶液を、以下の様に含浸させることにより、触媒を調製した。ルチル型の酸化チタン(99.9%、和光化学、7m2/g)10.0gを100mLの25mmol/L硝酸ニッケル水溶液に懸濁後、蒸発乾固させることで、ニッケル種を担持させた。その後、500℃、大気中で焼成した粉末を得た。この粉末に20MPaの圧力をかけることでペレットとし、これを粉砕後、0.25〜0.50mmに分級することで触媒を得た。この触媒のニッケルの担持量は2wt%であった。
SUS管(外径1/4インチ、肉厚0.5 mm)の中央部に1.0gの触媒を石英ウールに触媒をはさみ込むことで充填した流通系の反応器を用いた。
400℃にて、100mL/minの水素流通条件の下、1時間還元処理、Arにて反応管をパージ後、400℃の温度条件でCH4流通下(10mL/min)での水素生成活性は、3.0 μmol min−1 m−2であった。結果を以下の表1に示す。
実施例1のルチル型の酸化チタン(99.9%、和光化学、7m2/g)を、アナタース型の酸化チタン(99.5%、和光化学、11m2/g)に変更した以外は、実施例1と同様に行った。結果を以下の表1に示す。
実施例1のルチル型の酸化チタン(99.9%、和光化学、7m2/g)を、ルチル相とアナタース相混相(ルチル:アナタース=約3:7)の酸化チタン(99.0%、アエロゾル社製、51m2/g)に変更した以外は、実施例1と同様に行った。結果を以下の表1に示す。
実施例1の25mmol/L硝酸ニッケル水溶液を、25mmol/L硝酸コバルト水溶液に変更した以外は、実施例1と同様に行った。この触媒のコバルト種の担持量は2wt%であった。結果を以下の表1に示す。
実施例2のルチル型の酸化チタン(99.9%、和光化学、7m2/g)を、アナタース型の酸化チタン(99.5%、和光化学、11m2/g)に変更した以外は、実施例2と同様に行った。結果を以下の表1に示す。
実施例1の25mmol/L硝酸ニッケル水溶液を、100mmol/L硝酸鉄水溶液に変更した以外は、実施例1と同様に行った。この触媒の鉄種の担持量は8wt%であった。結果を以下の表1に示す。
実施例3のルチル型の酸化チタン(99.9%、和光化学、7m2/g)を、アナタース型の酸化チタン(99.5%、和光化学、11m2/g)に変更した以外は、実施例3と同様に行った。結果を以下の表1に示す。
実施例1の25mmol/L硝酸ニッケル水溶液を、25mmol/L塩化白金酸水溶液に変更した以外は、実施例1と同様に行った。この触媒の白金種の担持量は10wt%であった。結果を以下の表1に示す。
実施例4のルチル型の酸化チタン(99.9%、和光化学、7m2/g)を、アナタース型の酸化チタン(99.5%、和光化学、11m2/g)に変更した以外は、実施例4と同様に行った。結果を表1に示す。
Claims (7)
- 担体と該担体に担持される金属種とからなる水素生成触媒であって、該担体に含まれる酸化チタンの結晶構造のルチル型の比率が50wt%以上であることを特徴とする前記水素生成触媒。
- 前記金属種が3族から12族までの金属元素から選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載の水素生成触媒。
- 前記金属種の担持量が0.01wt%以上60wt%以下である、請求項1又は2に記載の水素生成触媒。
- 前記担体の比表面積が0.1m2/g以上100m2/g以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の水素生成触媒。
- 前記金属種を含浸法によって前記担体に担持する工程を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の水素生成触媒の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の水素生成触媒の存在下で炭化水素の脱水素反応を行う工程を含む、水素の製造方法。
- 前記炭化水素の炭素数が1〜10である、請求項6に記載の方法。
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