JP2016051692A - Conductive film and manufacturing method of conductive film - Google Patents

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JP2016051692A JP2015011493A JP2015011493A JP2016051692A JP 2016051692 A JP2016051692 A JP 2016051692A JP 2015011493 A JP2015011493 A JP 2015011493A JP 2015011493 A JP2015011493 A JP 2015011493A JP 2016051692 A JP2016051692 A JP 2016051692A
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崇 後藤
Takashi Goto
崇 後藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for forming a conductive film capable of manufacturing a pattern of the conductive film by a screen printing with good accuracy and forming the conductive film excellent in conductivity and adhesiveness to a substrate, and a manufacturing method of the conductive film.SOLUTION: There is provided a composition for forming a conductive film for screen printing containing at least cupric oxide particle having average particle diameter of 3 to 25 nm, polyalcohol and water, having a viscosity X measured at shear rate of 0.1 sunder a temperature condition of 25°C of 1,000 to 200,000 mPa s, a ratio of the viscosity X to a viscosity Y measured at shear rate of 100 sunder a temperature condition of 25°C of 3.0 to 1,000, the content of water of 0.5 to 150 pts.mass based on 100 pts.mass of polyalcohol and mass ratio of the content of polyalcohol to the content of cupric oxide particle of 0.1 to 2.5.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、導電膜、および、導電膜の製造方法に関する。   The present invention relates to a conductive film and a method for manufacturing a conductive film.

基材上に金属膜を形成する方法として、金属酸化物粒子の分散体を印刷法により基材に塗布し、加熱処理または光照射処理して焼結させることによって、金属膜や回路基板における配線等の電気的導通部位を形成する技術が知られている。
上記方法は、従来の高熱・真空プロセス(スパッタ)やめっき処理による配線作製法に比べて、簡便・省エネ・省資源であることから次世代エレクトロニクス開発において大きな期待を集めている。
As a method of forming a metal film on a base material, a dispersion of metal oxide particles is applied to the base material by a printing method and then sintered by heat treatment or light irradiation treatment to form a wiring in a metal film or a circuit board. A technique for forming such an electrically conductive portion is known.
Since the above method is simpler, energy-saving, and resource-saving than conventional high-heat / vacuum processes (sputtering) and plating processes, it is highly anticipated in the development of next-generation electronics.

例えば、特許文献1では、導電性金属粒子成分を真空下または不活性雰囲気下で焼成して導体層を形成し、メタライズされたセラミックス基板を製造する方法が開示されている。なお、特許文献1においては、導電性金属粒子として、酸化第二銅粒子(シーアイ化成株式会社製、平均粒子径48nm)が具体的に使用されている。   For example, Patent Document 1 discloses a method of manufacturing a metallized ceramic substrate by firing a conductive metal particle component in a vacuum or an inert atmosphere to form a conductor layer. In Patent Document 1, cupric oxide particles (manufactured by C-I Kasei Co., Ltd., average particle size 48 nm) are specifically used as the conductive metal particles.

特開2008−109062号公報JP 2008-109062 A

一方、電子機器や電子デバイスの小型化、高機能化の要求に対応するため、形成されるパターン形状の精度のより一層の向上が求められている。
また、各種組成物を基材に塗布する際の方法として、スクリーン印刷版を用いたスクリーン印刷法が知られている。
本発明者らは、特許文献1で具体的に開示されている酸化第二銅粒子を含む分散体を用いてスクリーン印刷法にて導電膜の作製を行ったところ、分散体がスクリーン印刷版を抜けにくく、かつ、パターン状の導電膜を作製した際に導電膜のパターン幅のバラツキが大きいことが知見された。つまり、上記分散体は、スクリーン印刷適性に欠けていた。
また、昨今、形成される導電膜の導電性および基材に対する密着性のより一層の向上も求められているが、上記特許文献1で具体的に開示されている酸化第二銅粒子を含む分散体を用いてスクリーン印刷法にて形成された導電膜の導電性および密着性は必ずしも十分でなく、さらなる改良が必要であった。
On the other hand, in order to meet the demand for downsizing and high functionality of electronic devices and electronic devices, further improvement in the accuracy of the pattern shape to be formed is required.
As a method for applying various compositions to a substrate, a screen printing method using a screen printing plate is known.
The inventors of the present invention produced a conductive film by a screen printing method using a dispersion containing cupric oxide particles specifically disclosed in Patent Document 1, and the dispersion produced a screen printing plate. It has been found that the variation in the pattern width of the conductive film is large when the patterned conductive film is difficult to come off. That is, the above dispersion lacked suitability for screen printing.
In addition, recently, there has been a demand for further improvement in the conductivity of the conductive film to be formed and the adhesion to the substrate. However, the dispersion containing cupric oxide particles specifically disclosed in Patent Document 1 is required. The electroconductivity and adhesiveness of the conductive film formed by the screen printing method using the body were not always sufficient, and further improvement was necessary.

本発明は、上記実情に鑑みて、スクリーン印刷法にて導電膜のパターンを精度よく製造することができ、かつ、導電性および基材への密着性が優れる導電膜を形成することができる導電膜形成用組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、この導電膜形成用組成物を用いた導電膜の製造方法を提供することも課題とする。
In view of the above circumstances, the present invention is capable of accurately producing a conductive film pattern by a screen printing method, and forming a conductive film having excellent conductivity and adhesion to a substrate. It is an object to provide a film-forming composition.
Moreover, this invention also makes it a subject to provide the manufacturing method of the electrically conductive film using this composition for electrically conductive film formation.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、使用される成分の種類および含有量、並びに、組成物の粘度を制御することにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by controlling the type and content of the components used and the viscosity of the composition.
That is, it has been found that the above object can be achieved by the following configuration.

(1) 平均粒子径が3〜25nmである酸化第二銅粒子と、
多価アルコールと、
水と、を少なくとも含有し、
25℃の温度条件下においてせん断速度0.1s−1で測定される粘度Xが1000〜200,000mPa・sであり、
25℃の温度条件下においてせん断速度100s−1で測定される粘度Yに対する粘度Xの比が3.0〜1000であり、
多価アルコール100質量部に対する水の含有量が、0.5〜150質量部であり、
酸化第二銅粒子の含有量に対する多価アルコールの含有量の質量比が、0.1〜2.5である、スクリーン印刷用の導電膜形成用組成物。
(2) 多価アルコールが、沸点が250℃以上で、かつ、分子量が500以下である多価アルコールを含む、(1)に記載の導電膜形成用組成物。
(3) さらに、周期律表の第8〜11族元素からなる群から選択される少なくとも1種の金属元素を含む金属触媒を含有する、(1)または(2)に記載の導電膜形成用組成物。
(4) 金属触媒の含有量が、酸化第二銅粒子全質量に対して、0.005〜10.0質量%である、(3)に記載の導電膜形成用組成物。
(5) 金属触媒の含有量が、酸化第二銅粒子全質量に対して、0.05〜5.0質量%である、(3)または(4)に記載の導電膜形成用組成物。
(6) 酸化第二銅粒子の平均粒子径が3nm以上20nm未満である、(1)〜(5)のいずれかに記載の導電膜形成用組成物。
(7) 多価アルコール100質量部に対する水の含有量が、20〜100質量部である、(1)〜(6)のいずれかに記載の導電膜形成用組成物。
(8) さらに、銅粒子を含む、(1)〜(7)のいずれかに記載の導電膜形成用組成物。
(9) 銅粒子の含有量が、酸化第二銅粒子全質量に対して、350質量%以下である、(8)に記載の導電膜形成用組成物。
(10) (1)〜(9)のいずれかに記載の導電膜形成用組成物を用いて、スクリーン印刷法にて、基材上に塗膜を形成する工程と、
塗膜に対して、加熱処理および光照射処理からなる群から選択される少なくとも1種の処理を行い、酸化第二銅粒子を還元して金属銅を含有する導電膜を形成する工程と、を備える、導電膜の製造方法。
(11) スクリーン印刷法にて、金属線で形成されているスクリーンメッシュ部を含むスクリーン印刷版を用いる、(10)に記載の導電膜の製造方法。
(12) 金属線の直径が10〜30μmである、(11)に記載の導電膜の製造方法。
(13) スクリーンメッシュ部のメッシュ数が、300〜600本/インチである、(11)または(12)に記載の導電膜の製造方法。
(14) 塗膜の平均厚みが5〜50μmである、(10)〜(13)のいずれかに記載の導電膜の製造方法。
(15) 基材が、ポリエチレンテレフタレート基材またはポリエチレンナフタレート基材である、(10)〜(14)のいずれかに記載の導電膜の製造方法。
(16) 加熱処理の雰囲気が非酸化的雰囲気であり、かつ、加熱処理がホットプレートまたはイナートオーブンによって行われる、(10)〜(15)のいずれかに記載の導電膜の製造方法。
(1) cupric oxide particles having an average particle diameter of 3 to 25 nm,
Polyhydric alcohol,
Water at least,
The viscosity X measured at a shear rate of 0.1 s −1 under a temperature condition of 25 ° C. is 1000 to 200,000 mPa · s,
The ratio of the viscosity X to the viscosity Y measured at a shear rate of 100 s −1 under a temperature condition of 25 ° C. is 3.0 to 1000,
The water content relative to 100 parts by mass of the polyhydric alcohol is 0.5 to 150 parts by mass,
The composition for electrically conductive film formation for screen printing whose mass ratio of content of polyhydric alcohol with respect to content of a cupric oxide particle is 0.1-2.5.
(2) The composition for electrically conductive film formation as described in (1) in which a polyhydric alcohol contains the polyhydric alcohol whose boiling point is 250 degreeC or more and whose molecular weight is 500 or less.
(3) The conductive film formation according to (1) or (2), further comprising a metal catalyst containing at least one metal element selected from the group consisting of Group 8 to 11 elements of the periodic table Composition.
(4) The composition for electrically conductive film formation as described in (3) whose content of a metal catalyst is 0.005-10.0 mass% with respect to the cupric oxide particle total mass.
(5) The composition for electrically conductive film formation as described in (3) or (4) whose content of a metal catalyst is 0.05-5.0 mass% with respect to the cupric oxide particle total mass.
(6) The composition for electrically conductive film formation in any one of (1)-(5) whose average particle diameter of a cupric oxide particle is 3 nm or more and less than 20 nm.
(7) The composition for electrically conductive film formation in any one of (1)-(6) whose content of water with respect to 100 mass parts of polyhydric alcohols is 20-100 mass parts.
(8) The composition for forming a conductive film according to any one of (1) to (7), further comprising copper particles.
(9) The composition for electrically conductive film formation as described in (8) whose content of a copper particle is 350 mass% or less with respect to the cupric oxide particle total mass.
(10) A step of forming a coating film on a substrate by a screen printing method using the composition for forming a conductive film according to any one of (1) to (9);
Performing at least one treatment selected from the group consisting of heat treatment and light irradiation treatment on the coating film, and reducing the cupric oxide particles to form a conductive film containing metallic copper; A method for producing a conductive film.
(11) The method for producing a conductive film according to (10), wherein a screen printing plate including a screen mesh portion formed of a metal wire is used by screen printing.
(12) The manufacturing method of the electrically conductive film as described in (11) whose diameter of a metal wire is 10-30 micrometers.
(13) The manufacturing method of the electrically conductive film as described in (11) or (12) whose mesh number of a screen mesh part is 300-600 piece / inch.
(14) The manufacturing method of the electrically conductive film in any one of (10)-(13) whose average thickness of a coating film is 5-50 micrometers.
(15) The manufacturing method of the electrically conductive film in any one of (10)-(14) whose base material is a polyethylene terephthalate base material or a polyethylene naphthalate base material.
(16) The method for manufacturing a conductive film according to any one of (10) to (15), wherein the heat treatment atmosphere is a non-oxidative atmosphere, and the heat treatment is performed by a hot plate or an inert oven.

本発明によれば、スクリーン印刷法にて導電膜のパターンを精度よく製造することができ、かつ、導電性および基材への密着性が優れる導電膜を形成することができる導電膜形成用組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、この導電膜形成用組成物を用いた導電膜の製造方法を提供することもできる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composition for electrically conductive film formation which can manufacture the pattern of an electrically conductive film with a screen printing method accurately, and can form the electrically conductive film which is excellent in electroconductivity and the adhesiveness to a base material. Things can be provided.
Moreover, according to this invention, the manufacturing method of the electrically conductive film using this composition for electrically conductive film formation can also be provided.

以下に、本発明の導電膜形成用組成物、および、導電膜の製造方法の好適態様について詳細に説明する。
なお、本明細書において、「〜」で記載される数値範囲は上限値および下限値を含むものとする。例えば、「10〜20」という数値範囲は「10」および「20」を含む。
Below, the suitable aspect of the manufacturing method of the composition for electrically conductive film formation of this invention and an electrically conductive film is demonstrated in detail.
In addition, in this specification, the numerical range described by "-" shall contain an upper limit and a lower limit. For example, a numerical range of “10-20” includes “10” and “20”.

本発明の導電膜形成用組成物(以後、単に「組成物」とも称する)の特徴点としては、平均粒子径の小さい酸化第二銅粒子、多価アルコールなどを所定量使用すると共に、組成物の粘度を調整している点が挙げられる。
より具体的には、まず、本発明においては、使用される酸化第二銅粒子の大きさが小さいためにその表面積が大きくなり、酸化第二銅粒子の表面の反応点と還元剤として機能する多価アルコールとの反応確率が高くなると推測される。このことによって、導電膜の導電性および導電膜と基材との密着性が高まると考えられる。また、このような酸化第二銅粒子と、他の成分との成分比を調整すると共に、組成物の粘度が所定の条件を満たすように調整することにより、組成物をスクリーン印刷法に好適使用できることを見出している。
As a characteristic point of the composition for forming a conductive film of the present invention (hereinafter also simply referred to as “composition”), a predetermined amount of cupric oxide particles having a small average particle diameter, polyhydric alcohol, and the like are used. The viscosity is adjusted.
More specifically, first, in the present invention, since the size of the cupric oxide particles used is small, the surface area of the cupric oxide particles increases, and the surface acts as a reaction point and a reducing agent on the cupric oxide particles. It is presumed that the reaction probability with the polyhydric alcohol increases. This is thought to increase the conductivity of the conductive film and the adhesion between the conductive film and the substrate. In addition, by adjusting the component ratio between such cupric oxide particles and other components, and adjusting the composition so that the viscosity of the composition satisfies a predetermined condition, the composition is preferably used in a screen printing method. I find out what I can do.

本発明の組成物は、平均粒子径が3〜25nmである酸化第二銅粒子と、多価アルコールと、水と、を少なくとも含有する。
以下では、まず、組成物に含まれる各種成分について詳述し、その後、この組成物を用いた導電膜の製造方法について詳述する。
The composition of the present invention contains at least cupric oxide particles having an average particle diameter of 3 to 25 nm, a polyhydric alcohol, and water.
Below, the various components contained in a composition are explained in full detail first, and the manufacturing method of the electrically conductive film using this composition is explained in full detail after that.

<酸化第二銅粒子>
導電膜形成用組成物には、酸化第二銅粒子が含有される。酸化第二銅粒子は、後述する加熱処理および/または光照射処理によって還元され、導電膜中の金属銅を構成する。
本発明における「酸化第二銅」とは、酸化されていない銅を実質的に含まない化合物であり、具体的には、X線回折による結晶解析において、酸化第二銅由来のピークが検出され、かつ金属由来のピークが検出されない化合物のことを指す。酸化されていない銅を実質的に含まないとは、限定的ではないが、酸化されていない銅(金属銅)の含有量が酸化第二銅粒子に対して1質量%以下であることが好ましい。
<Cupric oxide particles>
The composition for forming a conductive film contains cupric oxide particles. The cupric oxide particles are reduced by a heat treatment and / or a light irradiation treatment described later, and constitute metallic copper in the conductive film.
The “cupric oxide” in the present invention is a compound that does not substantially contain copper that has not been oxidized. Specifically, in crystal analysis by X-ray diffraction, a peak derived from cupric oxide is detected. And a compound in which no metal-derived peak is detected. Although it is not limited that copper which is not oxidized is not included substantially, it is preferred that content of copper (metal copper) which is not oxidized is 1 mass% or less to cupric oxide particles. .

酸化第二銅粒子の平均粒子径は、3〜25nmであり、組成物のスクリーン印刷法への適性がより優れる、形成される導電膜の導電性がより優れる、および、形成される導電膜の基材への密着性がより優れる、の少なくともいずれか1つ以上が満たされる点(以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する)で、3nm以上20nm未満が好ましく、3〜15nmがより好ましく、3〜10nmがさらに好ましい。
なお、上記平均粒子径は、酸化第二銅粒子の1次粒子径の平均値(いわゆる平均1次粒子径)であり、透過型電子顕微鏡(TEM)観察または走査型電子顕微鏡(SEM)観察により、少なくとも400個以上の酸化第二銅粒子の円相当径を測定し、それらを算術平均して求める。円相当径とは、観察される酸化第二銅粒子の2次元画像の面積と同じ面積に相当する円の直径を意味する。
The average particle diameter of the cupric oxide particles is 3 to 25 nm, the suitability of the composition for the screen printing method is more excellent, the conductivity of the formed conductive film is more excellent, and the formed conductive film It is preferably 3 nm or more and less than 20 nm, preferably 3 to 15 nm in that at least any one of the adhesion to the base material is satisfied (hereinafter also simply referred to as “the effect of the present invention is more excellent”). Is more preferable, and 3 to 10 nm is more preferable.
In addition, the said average particle diameter is an average value (what is called average primary particle diameter) of the primary particle diameter of a cupric oxide particle, and a transmission electron microscope (TEM) observation or a scanning electron microscope (SEM) observation is carried out. Then, the equivalent circle diameters of at least 400 cupric oxide particles are measured, and they are obtained by arithmetic averaging. The equivalent circle diameter means the diameter of a circle corresponding to the same area as the area of the two-dimensional image of the observed cupric oxide particles.

粒子径(一次粒子径)25nm以上の酸化第二銅粒子の含有量(割合)は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、酸化第二銅粒子全質量に対して、5質量%以下が好ましく、3質量%以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、0質量%が挙げられる。   The content (ratio) of cupric oxide particles having a particle size (primary particle size) of 25 nm or more is not particularly limited, but is 5 mass with respect to the total mass of cupric oxide particles in that the effect of the present invention is more excellent. % Or less is preferable, and 3% by mass or less is more preferable. Although a minimum in particular is not restrict | limited, 0 mass% is mentioned.

なお、酸化第二銅粒子は、市販品を使用しても、公知の製造方法で製造してもよい。
酸化第二銅粒子の製造方法としては、例えば、気相中で造粒を行う方式(気相法)と、湿式で造粒を行う方式(湿式法)があるが、なかでも、酸化第二銅粒子は湿式法で製造されたものであるのが好ましい。湿式法で造粒を行うことで、所望の粒子形状に制御することが可能となるからである。
酸化第二銅粒子の合成には、例えば、特開2003−183024号公報等に記載されているように、硝酸銅等の銅化合物(例えば、水酸化第二銅、塩化第二銅、臭化第二銅、ヨウ化第二銅、硫酸第二銅、硝酸第二銅などの2価の塩)と塩基(例えば、アルカリ金属化合物、有機アミン化合物)とを反応させることで、水酸化銅を生成し、加熱によって酸化第二銅粒子を造粒する方法が好ましい。つまり、銅化合物と塩基とを反応させ、その後、加熱処理を実施することにより酸化第二銅粒子を製造できる。
この方法によれば、より低温で、短時間で酸化第二銅粒子を合成することが可能であり、所望の粒子形状/分布に制御することができる。
湿式法で造粒を行う場合、溶媒として、水、または、沸点が150〜300℃の多価アルコールを用いることが好ましい。その理由としては、加熱脱水時に溶媒が揮発しにくく、また、作製した酸化第二銅粒子の分散安定性に優れることが挙げられる。多価アルコールの種類は、後述するものと同じである。
なお、上記方法(湿式法)においては、酸化第二銅粒子を製造(造粒)した後、酸化第二銅粒子に対して、水で洗浄する処理を施すことが好ましい。洗浄処理を実施することにより、不純物(例えば、硝酸ナトリウムなどの塩)を除去することができ、酸化第二銅粒子の分散安定性が向上し、組成物の粘度の制御がしやすくなる。なお、洗浄方法は特に制限されないが、酸化第二銅粒子を水中に加えて再分散させて、所定時間撹拌した後、遠心分離処理や膜処理により酸化第二銅粒子を水中から回収する操作を挙げられる。なお、この操作を複数回実施してもよい。
In addition, even if a cupric oxide particle uses a commercial item, it may be manufactured with a well-known manufacturing method.
As a method for producing cupric oxide particles, for example, there are a method of granulating in a gas phase (gas phase method) and a method of granulating in a wet method (wet method). The copper particles are preferably produced by a wet method. It is because it becomes possible to control to a desired particle shape by granulating by a wet method.
For the synthesis of cupric oxide particles, for example, as described in JP-A-2003-183024, a copper compound such as copper nitrate (for example, cupric hydroxide, cupric chloride, bromide) By reacting a divalent salt such as cupric, cupric iodide, cupric sulfate, and cupric nitrate) with a base (for example, an alkali metal compound or an organic amine compound), A method of producing and granulating cupric oxide particles by heating is preferred. That is, cupric oxide particles can be produced by reacting a copper compound with a base and then performing a heat treatment.
According to this method, it is possible to synthesize cupric oxide particles at a lower temperature and in a shorter time, and the desired particle shape / distribution can be controlled.
When granulating by a wet method, it is preferable to use water or a polyhydric alcohol having a boiling point of 150 to 300 ° C. as a solvent. The reason for this is that the solvent is less likely to volatilize during heat dehydration and that the prepared cupric oxide particles are excellent in dispersion stability. The type of polyhydric alcohol is the same as that described later.
In addition, in the said method (wet method), after manufacturing a cupric oxide particle (granulation), it is preferable to perform the process wash | cleaned with water with respect to a cupric oxide particle. By carrying out the washing treatment, impurities (for example, a salt such as sodium nitrate) can be removed, the dispersion stability of the cupric oxide particles is improved, and the viscosity of the composition can be easily controlled. The washing method is not particularly limited, but after adding cupric oxide particles in water and redispersing, stirring for a predetermined time, an operation of recovering cupric oxide particles from water by centrifugation or membrane treatment. Can be mentioned. This operation may be performed a plurality of times.

<多価アルコール>
導電膜形成用組成物には、多価アルコールが含有される。多価アルコールは、上記酸化第二銅粒子の還元剤として機能する。
多価アルコールとは、アルコール性ヒドロキシ基を2個以上有する化合物であれば特に限定されない。
多価アルコールの沸点は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、250℃以上が好ましく、250〜330℃がより好ましく、270〜310℃がさらに好ましい。なお、沸点は、1気圧下における測定値である。
多価アルコールの融点は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、−50℃以上が好ましく、0℃以上がより好ましく、20℃以上がさらに好ましい。なお、融点は、1気圧下における測定値である。
多価アルコールの分子量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、500以下が好ましく、50〜250がより好ましく、70〜150がさらに好ましい。
多価アルコールは、1種類を単独で、または2種類以上を組み合わせて使用することができる。例えば、多価アルコールとして、沸点250℃以上である多価アルコール(好ましくは、分子量500以下)のみを使用してもよいし、沸点250℃以上である多価アルコールA(好ましくは、分子量500以下)と沸点250℃未満である多価アルコールB(好ましくは、分子量500以下)とを合わせて使用してもよい。
<Polyhydric alcohol>
The composition for forming a conductive film contains a polyhydric alcohol. The polyhydric alcohol functions as a reducing agent for the cupric oxide particles.
The polyhydric alcohol is not particularly limited as long as it is a compound having two or more alcoholic hydroxy groups.
The boiling point of the polyhydric alcohol is not particularly limited, but is preferably 250 ° C. or higher, more preferably 250 to 330 ° C., and further preferably 270 to 310 ° C. in terms of more excellent effects of the present invention. The boiling point is a value measured at 1 atm.
The melting point of the polyhydric alcohol is not particularly limited, but is preferably −50 ° C. or higher, more preferably 0 ° C. or higher, and further preferably 20 ° C. or higher in terms of more excellent effects of the present invention. In addition, melting | fusing point is a measured value under 1 atmosphere.
The molecular weight of the polyhydric alcohol is not particularly limited, but is preferably 500 or less, more preferably 50 to 250, and still more preferably 70 to 150, from the viewpoint that the effects of the present invention are more excellent.
A polyhydric alcohol can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. For example, as the polyhydric alcohol, only a polyhydric alcohol having a boiling point of 250 ° C. or higher (preferably having a molecular weight of 500 or less) may be used, or a polyhydric alcohol A having a boiling point of 250 ° C. or higher (preferably having a molecular weight of 500 or less). ) And polyhydric alcohol B having a boiling point of less than 250 ° C. (preferably having a molecular weight of 500 or less) may be used in combination.

多価アルコールの具体例としては、例えば、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,2−オクタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−ノナンジオール、1,9−ノナンジオール、1,2−デカンジオール、1,10−デカンジオール、2,7−ジメチル−3,6−オクタンジオール、2,2−ジブチル−1,3−プロパンジオール、1,2−ドデカンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,2−テトラデカンジオール、1,14−テトラデカンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1−ヒドロキシメチル−2−(2−ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、1−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキシプロピル)シクロヘキサン、1−ヒドロキシ−2−(2−ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、1−ヒドロキシメチル−2−(2−ヒドロキシエチル)ベンゼン、1−ヒドロキシメチル−2−(3−ヒドロキシプロピル)ベンゼン、1−ヒドロキシ−2−(2−ヒドロキシエチル)ベンゼン、1,2−ベンジルジメチロール、1,3−ベンジルジメチロール、1,2−シクロヘキサンジオール,1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の2価のアルコール;グリセリン(プロパン−1,2,3−トリオール)、ブタン−1,2,4−トリオール、ヘキサン−1,2,6−トリオール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、トリメチロールプロパン(2−(ヒドロキシメチル)−2−エチルプロパン−1,3−ジオール)等の3価のアルコール;シクロオクタン−1,3,5,7−テトラオール、ペンタエリスリトール(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール)等の4価のアルコールなどが挙げられる。   Specific examples of the polyhydric alcohol include, for example, ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, , 5-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,2-octanediol, 1, 8-octanediol, 1,3-nonanediol, 1,9-nonanediol, 1,2-decanediol, 1,10-decanediol, 2,7-dimethyl-3,6-octanediol, 2,2- Dibutyl-1,3-propanediol, 1,2-dodecanediol, 1,12-dodecanediol, 1,2-tetradecanediol, 1,1 -Tetradecanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2,4-pentanediol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1-hydroxymethyl-2- ( 2-hydroxyethyl) cyclohexane, 1-hydroxy-2- (3-hydroxypropyl) cyclohexane, 1-hydroxy-2- (2-hydroxyethyl) cyclohexane, 1-hydroxymethyl-2- (2-hydroxyethyl) benzene, 1-hydroxymethyl-2- (3-hydroxypropyl) benzene, 1-hydroxy-2- (2-hydroxyethyl) benzene, 1,2-benzyldimethylol, 1,3-benzyldimethylol, 1,2-cyclohexane Diol, 1,3-cyclohexanediol, 1, -Divalent alcohols such as cyclohexanediol, diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol; glycerin (propane-1,2,3-triol), butane-1,2,4-triol, hexane-1,2,6-triol , Trivalent alcohols such as 3-methylpentane-1,3,5-triol and trimethylolpropane (2- (hydroxymethyl) -2-ethylpropane-1,3-diol); cyclooctane-1,3 And tetravalent alcohols such as 5,7-tetraol and pentaerythritol (2,2-bis (hydroxymethyl) -1,3-propanediol).

<水>
導電膜形成用組成物には、水が含有される。
水の種類は特に制限されないが、イオン交換水以上のレベルの純度を有するもの、例えば、逆浸透ろ過水(RO水)、ミリQ水、蒸留水等が好ましい。
<Water>
The composition for forming a conductive film contains water.
The type of water is not particularly limited, but water having a level of purity higher than that of ion-exchanged water, for example, reverse osmosis filtered water (RO water), milli-Q water, distilled water, and the like is preferable.

<その他任意成分>
本発明の組成物には、上記成分以外の他の成分が含まれていてもよい。
例えば、組成物には、さらに金属触媒が含まれていてもよい。
金属触媒は、周期律表の8族〜11族からなる群から選択される少なくとも1種の金属元素(金属)を含むのが好ましい。導電膜の導電性がより優れる点で、金属元素としては、金、銀、銅、白金、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウム、および、ニッケルからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素が好ましく、銀、白金、パラジウム、および、ニッケルからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素であることがより好ましく、パラジウムまたは白金であることが特に好ましく、パラジウムであることが最も好ましい。すなわち、得られる導電膜の導電性がより優れる理由から、金属触媒は、パラジウムを含む金属触媒であることが好ましい。
金属触媒の形態は特に制限されず、金属塩、錯体、粒子などのいずれであってもよい。
<Other optional components>
The composition of the present invention may contain components other than the above components.
For example, the composition may further contain a metal catalyst.
The metal catalyst preferably contains at least one metal element (metal) selected from the group consisting of groups 8 to 11 of the periodic table. The metal element is at least one metal element selected from the group consisting of gold, silver, copper, platinum, palladium, rhodium, iridium, ruthenium, osmium, and nickel in that the conductivity of the conductive film is more excellent. Preferably, it is at least one metal element selected from the group consisting of silver, platinum, palladium, and nickel, more preferably palladium or platinum, and most preferably palladium. That is, the metal catalyst is preferably a metal catalyst containing palladium because the conductivity of the obtained conductive film is more excellent.
The form of the metal catalyst is not particularly limited, and may be any metal salt, complex, particle or the like.

金属触媒の好適な態様としては、例えば、パラジウム塩、パラジウム錯体が挙げられる。なかでもパラジウム塩が好ましい態様として挙げられる。
パラジウム塩の種類は特に制限されず、その具体例としては、パラジウムの塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩、ホスホン酸塩などが挙げられる。なかでも、カルボン酸塩であることが好ましい。
カルボン酸塩を形成するカルボン酸の炭素数は特に制限されないが、1〜10であることが好ましく、1〜5であることがより好ましい。カルボン酸塩を形成するカルボン酸はハロゲン原子(好ましくはフッ素原子)を有してもよい。
As a suitable aspect of a metal catalyst, palladium salt and a palladium complex are mentioned, for example. Of these, a palladium salt is preferable.
The kind of palladium salt is not particularly limited, and specific examples thereof include palladium hydrochloride, nitrate, sulfate, carboxylate, sulfonate, phosphate, phosphonate and the like. Of these, carboxylate is preferable.
The number of carbon atoms of the carboxylic acid forming the carboxylate is not particularly limited, but is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5. The carboxylic acid forming the carboxylate may have a halogen atom (preferably a fluorine atom).

金属触媒は、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウムおよびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムからなる群より選択される少なくとも1種の化合物であることが好ましく、酢酸パラジウムであることがより好ましい。   The metal catalyst is preferably at least one compound selected from the group consisting of palladium acetate, palladium trifluoroacetate and tetrakis (triphenylphosphine) palladium, and more preferably palladium acetate.

組成物中には、水以外に、有機溶媒が含まれていてもよい。なお、有機溶媒には、上記多価アルコールは含まれない。
有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジオキサン、トリグライム、テトラグライム等のエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸ブチル、安息香酸ベンジル、ジメチルカーボネート、エチレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、カプロラクトン等のエステル系溶媒、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、テトラリン、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン(N−メチル−2−ピロリドン)、ヘキサメチルリン酸トリアミド、N,N−ジメチルイミダゾリジノン等のアミドまたは環状アミド系溶媒類、ジメチルスルホン等のスルホン系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒等が例示できる。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、水溶性有機溶媒が好ましい。水溶性有機溶媒とは、水と相溶性を示す有機溶媒であり、より具体的には、水と任意の割合で混合して、均一の系を形成する溶媒である。
また、水溶性有機溶媒としては、本発明の効果がより優れる点で、沸点100℃以上250℃未満のものが好ましく、沸点150℃以上250℃未満のものがより好ましい。
水溶性有機溶媒としては、例えば、N−メチルピロリドン、1,4−ジオキサン、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコールなどの分子内にヘテロ環構造を有する有機溶媒や、ブタノール、2−ブタノール、ペンタノールなどの1価のアルコール系溶媒などが挙げられる。
In the composition, an organic solvent may be contained in addition to water. The organic solvent does not include the polyhydric alcohol.
Organic solvents include ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, dioxane, triglyme, tetraglyme, methyl acetate, butyl acetate, benzyl benzoate, dimethyl carbonate, ethylene Ester solvents such as carbonate, γ-butyrolactone, caprolactone, hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, ethylbenzene, tetralin, hexane, octane, cyclohexane, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, trichloroethane, chlorobenzene, N, N -Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone (N-methyl-2-pyrrolidone), Kisamechirurin triamide, N, N-dimethylimidazolidinone amide or cyclic amide solvent such as, sulfone solvents dimethyl sulfone, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide can be exemplified.
Especially, the water-soluble organic solvent is preferable at the point which the effect of this invention is more excellent. The water-soluble organic solvent is an organic solvent that is compatible with water. More specifically, the water-soluble organic solvent is a solvent that is mixed with water at an arbitrary ratio to form a uniform system.
Moreover, as a water-soluble organic solvent, the thing of boiling point 100 degreeC or more and less than 250 degreeC is preferable, and the thing of boiling point 150 degreeC or more and less than 250 degreeC is more preferable at the point which the effect of this invention is more excellent.
Examples of the water-soluble organic solvent include organic solvents having a heterocyclic structure in the molecule such as N-methylpyrrolidone, 1,4-dioxane, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, butanol, 2-butanol, and pentanol. And monohydric alcohol solvents such as

また、上記金属触媒以外の他の任意成分としては、例えば、水溶性高分子、界面活性剤、揺変剤のような添加剤が挙げられる。
なお、組成物には、銅粒子が含まれていてもよい。
銅粒子の態様は特に制限されないが、例えば、平均粒子径が1nm〜10μmである粒子状の銅であることが好ましい。
粒子状とは小さい粒状を指し、その具体例としては、球状、楕円体状などが挙げられる。完全な球や楕円体である必要はなく、一部が歪んでいてもよい。
銅粒子の平均粒子径は1nm〜10μmの範囲であることが好ましく、なかでも、100nm〜8μmであることがより好ましく、500nm〜5μmであることがさらに好ましい。
なお、平均粒子径は、平均一次粒子径のことを指す。平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)観察により、少なくとも50個以上の銅粒子の粒子径(直径)を測定し、それらを算術平均して求める。なお、観察図中、銅粒子の形状が真円状でない場合、長径を直径として測定する。
Moreover, as other arbitrary components other than the said metal catalyst, additives, such as water-soluble polymer, surfactant, and thixotropic agent, are mentioned, for example.
Note that the composition may contain copper particles.
Although the aspect of a copper particle is not specifically limited, For example, it is preferable that it is particulate copper whose average particle diameter is 1 nm-10 micrometers.
The particulate form refers to a small granular form, and specific examples thereof include a spherical shape and an ellipsoidal shape. It is not necessary to be a perfect sphere or ellipsoid, and a part may be distorted.
The average particle diameter of the copper particles is preferably in the range of 1 nm to 10 μm, more preferably 100 nm to 8 μm, and even more preferably 500 nm to 5 μm.
In addition, an average particle diameter points out an average primary particle diameter. The average particle diameter is determined by measuring the particle diameter (diameter) of at least 50 copper particles by observation with a transmission electron microscope (TEM) and arithmetically averaging them. In addition, when the shape of a copper particle is not a perfect circle shape in an observation figure, a major axis is measured as a diameter.

<導電膜形成用組成物>
導電膜形成用組成物には、上述した、酸化第二銅粒子、多価アルコール、および、水が少なくとも含有される。
組成物中における酸化第二銅粒子の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、組成物全質量に対して、10〜60質量%が好ましく、20〜45質量%がより好ましく、20〜30質量%がさらに好ましい。
組成物中における多価アルコールの含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、組成物全質量に対して、10〜70質量%が好ましく、20〜50質量%がより好ましく、30〜45質量%がさらに好ましい。
組成物中における水の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、組成物全質量に対して、0.1〜35質量%が好ましく、5〜35質量%がより好ましく、10〜25質量%がさらに好ましく、12〜25質量%が特に好ましい。
<Composition for forming conductive film>
The composition for forming a conductive film contains at least the cupric oxide particles, polyhydric alcohol, and water described above.
The content of the cupric oxide particles in the composition is not particularly limited, but is preferably 10 to 60% by mass and preferably 20 to 45% by mass with respect to the total mass of the composition in terms of more excellent effects of the present invention. More preferably, 20-30 mass% is further more preferable.
Although the content of the polyhydric alcohol in the composition is not particularly limited, it is preferably 10 to 70% by mass and more preferably 20 to 50% by mass with respect to the total mass of the composition in that the effect of the present invention is more excellent. 30 to 45% by mass is more preferable.
The content of water in the composition is not particularly limited, but is preferably from 0.1 to 35% by mass, more preferably from 5 to 35% by mass with respect to the total mass of the composition in terms of more excellent effects of the present invention. 10 to 25% by mass is more preferable, and 12 to 25% by mass is particularly preferable.

組成物中における多価アルコールの含有量は、本発明の効果がより優れる点で、酸化第二銅粒子全質量に対して、50〜300質量%が好ましく、70〜250質量%がより好ましく、100〜230質量%がさらに好ましい。
組成物中における水の含有量は、本発明の効果がより優れる点で、酸化第二銅粒子全質量に対して、0.1〜300質量%が好ましく、10〜300質量%がより好ましく、30〜200質量%がさらに好ましく、30〜150質量%が特に好ましい。
The content of the polyhydric alcohol in the composition is preferably 50 to 300% by mass, more preferably 70 to 250% by mass, based on the total mass of the cupric oxide particles, in that the effect of the present invention is more excellent. 100-230 mass% is further more preferable.
The content of water in the composition is preferably 0.1 to 300% by mass, more preferably 10 to 300% by mass, based on the total mass of the cupric oxide particles, in that the effect of the present invention is more excellent. 30-200 mass% is further more preferable, and 30-150 mass% is especially preferable.

組成物に上記金属触媒が含まれる場合、組成物中における金属触媒の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、組成物全質量に対して、0.005〜7.0質量%が好ましく、0.01〜3.0質量%がより好ましく、0.03〜2.0質量%がさらに好ましく、0.05〜2.0質量%が特に好ましい。
組成物に上記有機溶媒が含まれる場合、組成物中における有機溶媒の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、組成物全質量に対して、0.1〜30質量%が好ましく、5〜30質量%がより好ましく、10〜25質量%がさらに好ましい。
When the metal catalyst is contained in the composition, the content of the metal catalyst in the composition is not particularly limited, but is 0.005 to 7.7 based on the total mass of the composition in that the effect of the present invention is more excellent. 0 mass% is preferable, 0.01-3.0 mass% is more preferable, 0.03-2.0 mass% is further more preferable, 0.05-2.0 mass% is especially preferable.
When the organic solvent is contained in the composition, the content of the organic solvent in the composition is not particularly limited, but 0.1 to 30 mass relative to the total mass of the composition in that the effect of the present invention is more excellent. % Is preferable, 5 to 30% by mass is more preferable, and 10 to 25% by mass is further preferable.

組成物に上記金属触媒が含まれる場合、組成物中における金属触媒の含有量は、本発明の効果がより優れる点で、酸化第二銅粒子全質量に対して、0.005〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましく、0.03〜5質量%がさらに好ましく、0.05〜5質量%が特に好ましい。
組成物に上記有機溶媒が含まれる場合、組成物中における有機溶媒の含有量は、本発明の効果がより優れる点で、酸化第二銅粒子全質量に対して、0.1〜300質量%が好ましく、10〜300質量%がより好ましく、30〜200質量%がさらに好ましく、30〜150質量%が特に好ましい。
組成物に銅粒子が含まれる場合、組成物中における銅粒子の含有量は、本発明の効果がより優れる点で、酸化第二銅粒子全質量に対して、1〜350質量%が好ましく、10〜200質量%がより好ましく、20〜100質量%がさらに好ましい。
When the metal catalyst is contained in the composition, the content of the metal catalyst in the composition is 0.005 to 10% by mass relative to the total mass of the cupric oxide particles in that the effect of the present invention is more excellent. Is preferable, 0.01-5 mass% is more preferable, 0.03-5 mass% is further more preferable, 0.05-5 mass% is especially preferable.
When the said organic solvent is contained in a composition, content of the organic solvent in a composition is 0.1-300 mass% with respect to the cupric oxide particle total mass by the point which the effect of this invention is more excellent. Is preferable, 10 to 300% by mass is more preferable, 30 to 200% by mass is further preferable, and 30 to 150% by mass is particularly preferable.
When copper particles are contained in the composition, the content of the copper particles in the composition is preferably 1 to 350% by mass with respect to the total mass of the cupric oxide particles, in that the effect of the present invention is more excellent. 10-200 mass% is more preferable, and 20-100 mass% is further more preferable.

組成物中において、多価アルコール100質量部に対する水の含有量が、0.5〜150質量部であり、本発明の効果がより優れる点で、10〜120質量部が好ましく、20〜100質量部がより好ましい。
水の含有量が0.5質量部未満の場合、組成物がスクリーン印刷版を抜けにくい、または、形成される導電膜のパターン精度が劣るなどスクリーン印刷適性が劣る(以後、単に「スクリーン印刷適性に劣る」とも称する)。水の含有量が150質量部超の場合、形成される導電膜の導電性および基材への密着性が劣ると共に、スクリーン印刷適性も劣る。
In the composition, the content of water with respect to 100 parts by mass of the polyhydric alcohol is 0.5 to 150 parts by mass, and 10 to 120 parts by mass is preferable in that the effect of the present invention is more excellent. Part is more preferred.
When the water content is less than 0.5 parts by mass, the composition is difficult to pass through the screen printing plate, or the screen printing aptitude is inferior, such as the pattern accuracy of the formed conductive film is inferior (hereinafter simply referred to as “screen printing aptitude”. Also inferior ”). When the water content exceeds 150 parts by mass, the conductivity of the formed conductive film and the adhesion to the substrate are inferior, and the screen printing suitability is also inferior.

組成物中において、酸化第二銅粒子の含有量に対する多価アルコールの含有量の質量比(多価アルコールの含有量/酸化第二銅粒子の含有量)は、0.1〜2.5であり、本発明の効果がより優れる点で、0.5〜2.5が好ましく、1.0〜2.0がより好ましい。
上記質量比が0.1未満の場合、導電性の点で劣る。上記質量比が2.5超の場合、スクリーン印刷適性に劣る。
In the composition, the mass ratio of the polyhydric alcohol content to the cupric oxide particle content (polyhydric alcohol content / cupric oxide particle content) is 0.1 to 2.5. In view of more excellent effects of the present invention, 0.5 to 2.5 is preferable, and 1.0 to 2.0 is more preferable.
When the mass ratio is less than 0.1, the conductivity is inferior. When the said mass ratio is over 2.5, it is inferior to screen printing aptitude.

25℃の温度条件下においてせん断速度0.1s−1(0.1(1/s))で測定される組成物の粘度Xは、1000〜200,000mPa・sであり、本発明の効果がより優れる点で、5000〜140,000mPa・sが好ましく、10,000〜100,000mPa・sがより好ましい。
組成物の粘度Xが1000mPa・s未満の場合、および、200,000mPa・s超の場合、スクリーン印刷適性に劣る。
The viscosity X of the composition measured at a shear rate of 0.1 s −1 (0.1 (1 / s)) under a temperature condition of 25 ° C. is 1000 to 200,000 mPa · s, and the effect of the present invention is effective. In the point which is more excellent, 5000-140,000 mPa * s is preferable and 10,000-100,000 mPa * s is more preferable.
When the viscosity X of the composition is less than 1000 mPa · s, and when it exceeds 200,000 mPa · s, the screen printability is poor.

25℃の温度条件下においてせん断速度100s−1で測定される組成物の粘度Yに対する上記粘度Xの比(粘度X/粘度Y)は、3.0〜1000であり、本発明の効果がより優れる点で、3.5〜200が好ましく、7.0〜140がより好ましく、10.0〜100がさらに好ましい。
上記比が3.0未満の場合、および、1000超の場合、スクリーン印刷適性に劣る。
なお、上記粘度Xはせん断速度の遅いときの組成物の粘度、上記粘度Yはせん断速度が速いときの組成物の粘度を表す。この粘度Xおよび粘度Yが上記所定の範囲内であれば、スキージを組成物に接触させてスクリーン印刷版に組成物を押し込む際に、スキージによる押し込み力によって組成物の粘度が低下してスクリーン印刷版を抜けやすく、かつ、基材上に付与された組成物では粘度が高いためパターンの広がりなどが抑制される。
The ratio of the viscosity X to the viscosity Y of the composition measured at a shear rate of 100 s −1 under a temperature condition of 25 ° C. (viscosity X / viscosity Y) is 3.0 to 1000, and the effect of the present invention is more effective. In the point which is excellent, 3.5-200 are preferable, 7.0-140 are more preferable, and 10.0-100 are more preferable.
When the above ratio is less than 3.0 and when it exceeds 1000, the screen printing suitability is poor.
The viscosity X represents the viscosity of the composition when the shear rate is low, and the viscosity Y represents the viscosity of the composition when the shear rate is high. If the viscosity X and the viscosity Y are within the predetermined range, when the composition is pushed into the screen printing plate by bringing the squeegee into contact with the composition, the viscosity of the composition is lowered by the pushing force by the squeegee, and screen printing is performed. The composition easily applied through the plate and the composition applied on the substrate has a high viscosity, so that the spread of the pattern is suppressed.

上記粘度Xおよび粘度Yの測定方法としては、HAAKE MARSIII(装置名)英弘精機社製を用いて、組成物を25℃に調整して、測定を実施する。試験は平行円板方式で、円板の直径は25mm、すきまは0.10mmないし0.15mmの条件とする。ラボジャパン社の高低温サーキュレーターで25℃にコントロールしたエチレングリコール水溶液を測定部に循環し温度を均一に保つ。そして、円板をせん断速度が0.1s−1または100s−1となるように一定速度で回転させ、その時の回転トルクを測定し粘度測定を求める。 As a method for measuring the viscosity X and the viscosity Y, the composition is adjusted to 25 ° C. using HAAKE MARSIII (device name) manufactured by Eihiro Seiki Co., Ltd., and measurement is performed. The test is performed using a parallel disk system, in which the diameter of the disk is 25 mm and the clearance is 0.10 mm to 0.15 mm. An ethylene glycol aqueous solution controlled at 25 ° C. by a high and low temperature circulator of Rabo Japan Co. is circulated to the measuring section to keep the temperature uniform. Then, the disk is rotated at a constant speed so that the shear rate is 0.1 s −1 or 100 s −1, and the rotational torque at that time is measured to obtain the viscosity measurement.

組成物の調製方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、酸化第二銅粒子と、多価アルコールと、水と、所望により、その他の成分とを添加した後、超音波法(例えば、超音波ホモジナイザーによる処理)、ミキサー法、3本ロール法、ボールミル法などの公知の手段により成分を分散させることによって、組成物を得ることができる。   The method for preparing the composition is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, after adding cupric oxide particles, polyhydric alcohol, water, and other components as required, ultrasonic method (for example, treatment with an ultrasonic homogenizer), mixer method, three-roll method, A composition can be obtained by dispersing the components by a known means such as a ball mill method.

<導電膜の製造方法>
次に、上記組成物を用いた導電膜の製造方法について詳述する。
導電膜の製造方法は、スクリーン印刷法により、上記組成物を基材上に付与して、塗膜を形成する工程(塗膜形成工程)と、塗膜に対して加熱処理および/または光照射処理(いわゆる還元処理)を実施して導電膜を形成する工程(導電膜形成工程)とを少なくとも有する。
以下、各工程について詳述する。
<Method for producing conductive film>
Next, the manufacturing method of the electrically conductive film using the said composition is explained in full detail.
The method for producing a conductive film includes a step of applying the above composition onto a substrate by a screen printing method to form a coating film (coating film forming step), a heat treatment and / or light irradiation on the coating film. At least a step of forming a conductive film (conductive film forming step) by performing a treatment (so-called reduction treatment).
Hereinafter, each process is explained in full detail.

[塗膜形成工程]
本工程は、上記導電膜形成用組成物を用いて、スクリーン印刷法にて、基材上に塗膜を形成する工程である。本工程により還元処理が施される前の前駆体膜が得られる。
以下では、まず、本工程で使用される基材について詳述し、その後、本工程の手順について詳述する。
なお、使用される導電膜形成用組成物については、上述のとおりである。
[Coating film forming process]
This step is a step of forming a coating film on the substrate by the screen printing method using the conductive film forming composition. The precursor film before the reduction treatment is obtained in this step.
Below, the base material used at this process is explained in full detail first, and the procedure of this process is explained in full detail after that.
In addition, it is as above-mentioned about the composition for electrically conductive film formation used.

(基材)
本工程で使用される基材は特に制限されず、基材に使用される材料としては、例えば、樹脂、紙、ガラス、シリコン系半導体、化合物半導体、金属酸化物、金属窒化物、木材、またはこれらの複合物が挙げられる。
基材としては、より具体的には、低密度ポリエチレン樹脂、高密度ポリエチレン樹脂、ABS(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン)樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレート)、ポリアセタール樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、セルロース誘導体等の樹脂基材;非塗工印刷用紙、微塗工印刷用紙、塗工印刷用紙(アート紙、コート紙)、特殊印刷用紙、コピー用紙、未晒包装紙(重袋用両更クラフト紙、両更クラフト紙)、晒包装紙(晒クラフト紙、純白ロール紙)、コートボール、チップボール、段ボール等の紙基材;ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、シリカガラス、石英ガラス等のガラス基材;アモルファスシリコン、ポリシリコン等のシリコン系半導体基材;CdS、CdTe、GaAs等の化合物半導体基材;銅板、鉄板、アルミ板等の金属基材;アルミナ、サファイア、ジルコニア、チタニア、酸化イットリウム、酸化インジウム、ITO(インジウム錫酸化物)、IZO(インジウム亜鉛酸化物)、ネサ(酸化錫)、ATO(アンチモンドープ酸化錫)、フッ素ドープ酸化錫、酸化亜鉛、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、ガリウムドープ酸化亜鉛、窒化アルミニウム、炭化ケイ素等のその他無機基材;紙−フェノール樹脂、紙−エポキシ樹脂、紙−ポリエステル樹脂等の紙−樹脂複合物、ガラス布−エポキシ樹脂、ガラス布−ポリイミド系樹脂、ガラス布−フッ素樹脂等のガラス−樹脂複合物等の複合基材等が挙げられる。
(Base material)
The substrate used in this step is not particularly limited, and examples of the material used for the substrate include resin, paper, glass, silicon-based semiconductor, compound semiconductor, metal oxide, metal nitride, wood, or These composites can be mentioned.
More specifically, as the base material, low density polyethylene resin, high density polyethylene resin, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene) resin, acrylic resin, styrene resin, vinyl chloride resin, polyester resin (polyethylene terephthalate), polyacetal resin , Resin base materials such as polysulfone resin, polyetherimide resin, polyetherketone resin, cellulose derivative; uncoated printing paper, fine coated printing paper, coated printing paper (art paper, coated paper), special printing paper, Paper substrates such as copy paper, unbleached wrapping paper (both kraft paper for heavy bags, both kraft paper), bleached wrapping paper (bleached kraft paper, pure white roll paper), coated balls, chipboard, cardboard, etc .; soda glass , Glass substrates such as borosilicate glass, silica glass, and quartz glass; amorphous silicon Silicon semiconductor substrate such as polysilicon, compound semiconductor substrate such as CdS, CdTe, GaAs, etc .; metal substrate such as copper plate, iron plate, aluminum plate; alumina, sapphire, zirconia, titania, yttrium oxide, indium oxide, ITO (Indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), Nesa (tin oxide), ATO (antimony-doped tin oxide), fluorine-doped tin oxide, zinc oxide, AZO (aluminum-doped zinc oxide), gallium-doped zinc oxide, Other inorganic base materials such as aluminum nitride and silicon carbide; paper-phenolic resin, paper-epoxy resin, paper-polyester resin and other paper-resin composites, glass cloth-epoxy resin, glass cloth-polyimide resin, glass cloth- Examples thereof include a composite substrate such as a glass-resin composite such as a fluororesin.

なかでも、基材としては、例えば、ポリイミド基材、ポリエチレンテレフタレート基材、ポリエチレンナフタレート基材、ポリカーボネート基材、セルロースエステル基材、ポリ塩化ビニル基材、ポリ酢酸ビニル基材、ポリウレタン基材、シリコーン基材、ポリビニルエチルエーテル基材、ポリサルファイド基材、ポリオレフィン基材、ポリアクリレート基材、および、ガラスエポキシ基材からなる群から選択される少なくとも一つが好ましい。さらに、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート基材、または、ポリエチレンナフタレート基材が挙げられる。   Especially, as a base material, for example, a polyimide base material, a polyethylene terephthalate base material, a polyethylene naphthalate base material, a polycarbonate base material, a cellulose ester base material, a polyvinyl chloride base material, a polyvinyl acetate base material, a polyurethane base material, At least one selected from the group consisting of a silicone substrate, a polyvinyl ethyl ether substrate, a polysulfide substrate, a polyolefin substrate, a polyacrylate substrate, and a glass epoxy substrate is preferable. Furthermore, Preferably, a polyethylene terephthalate base material or a polyethylene naphthalate base material is mentioned.

(工程の手順)
本工程では、スクリーン印刷法にて、基材上に組成物を付与して、塗膜を形成する。
スクリーン印刷法の手順は公知の方法を実施することができ、公知のスクリーン印刷機を使用することができる。
なお、スクリーン印刷法とは、所定のパターン状のスクリーンメッシュ部を含むスクリーン印刷版を基材上に設置し、スクリーン印刷版上に組成物を付与した後、組成物をスキージによってスクリーンメッシュ部から押し出してスクリーン印刷版を通過させて、基板上に組成物を付与する方法である。
(Process procedure)
In this step, the coating is formed by applying the composition onto the substrate by screen printing.
As the procedure of the screen printing method, a known method can be carried out, and a known screen printer can be used.
The screen printing method refers to a method in which a screen printing plate including a screen mesh portion having a predetermined pattern is placed on a substrate, the composition is applied onto the screen printing plate, and then the composition is removed from the screen mesh portion by a squeegee. It is a method of extruding and passing a screen printing plate to give a composition on a substrate.

本工程で使用されるスクリーン印刷版の種類は特に制限されず、金属線から形成されるスクリーンメッシュ部を有するスクリーン印刷版や、樹脂繊維(例えば、ポリエステル)から形成されるスクリーンメッシュ部を有するスクリーン印刷版などが挙げられ、耐久性に優れ、形成される導電膜のパターン精度がより優れる点で、金属線から形成されるスクリーンメッシュ部(以後、単に「メタルメッシュ部」とも称する)を有するスクリーン印刷版が好ましい。
なお、スクリーンメッシュ部は、例えば、ステンレス鋼などの金属からなる金属線を縦横に織り込んで形成されている。
また、スクリーン印刷版は、枠部と、枠部内に配置されるスクリーンメッシュ部とを有する。
The type of screen printing plate used in this step is not particularly limited, and a screen printing plate having a screen mesh portion formed from a metal wire or a screen having a screen mesh portion formed from a resin fiber (for example, polyester). A screen having a screen mesh portion (hereinafter, also simply referred to as “metal mesh portion”) formed from a metal wire in terms of excellent durability and better pattern accuracy of the formed conductive film, such as a printing plate. A printing plate is preferred.
The screen mesh portion is formed by weaving metal wires made of metal such as stainless steel vertically and horizontally, for example.
The screen printing plate has a frame part and a screen mesh part arranged in the frame part.

メタルメッシュ部を構成する金属線の直径は特に制限されないが、形成される導電膜のパターン精度、導電膜の導電性、および、導電膜の密着性の少なくとも一つがより優れる点で、5〜300μmが好ましく、10〜100μmがより好ましく、10〜30μmがさらに好ましく、10〜25μmが特に好ましく、10〜20μmが最も好ましい。
なお、金属線の断面が真円状でない場合、長径を上記直径とみなす。
The diameter of the metal wire constituting the metal mesh portion is not particularly limited, but is 5 to 300 μm in that at least one of the pattern accuracy of the conductive film to be formed, the conductivity of the conductive film, and the adhesion of the conductive film is more excellent. Is preferable, 10 to 100 μm is more preferable, 10 to 30 μm is further preferable, 10 to 25 μm is particularly preferable, and 10 to 20 μm is most preferable.
In addition, when the cross section of a metal wire is not perfect circle shape, a major axis is considered as the said diameter.

メタルメッシュ部のメッシュ数は特に制限されないが、形成される導電膜のパターン精度、導電膜の導電性、および、導電膜の密着性の少なくとも一つがより優れる点で、100〜800本/インチが好ましく、300〜600本/インチがより好ましく、400〜600本/インチがさらに好ましい。   The number of meshes in the metal mesh portion is not particularly limited, but is 100 to 800 / inch in that at least one of pattern accuracy of the conductive film to be formed, conductivity of the conductive film, and adhesion of the conductive film is more excellent. Preferably, 300 to 600 lines / inch is more preferable, and 400 to 600 lines / inch is more preferable.

基材上に組成物を付与する形状は特に制限されず、基材全面を覆う面状であっても、パターン状(例えば、配線状、ドット状)であってもよい。上記形状は、スクリーン印刷版中のスクリーンメッシュ部の形状を変えることにより調整することができる。   The shape in particular which gives a composition on a base material is not restrict | limited, The surface shape which covers the whole base material may be sufficient, and pattern shape (for example, wiring shape, dot shape) may be sufficient. The shape can be adjusted by changing the shape of the screen mesh portion in the screen printing plate.

本工程においては、必要に応じて、導電膜形成用組成物を基材へ付与した後に乾燥処理を行い、溶媒を除去してもよい。残存する溶媒を除去することにより、後述する導電膜形成工程において、溶媒の気化膨張に起因する微小なクラックや空隙の発生を抑制することができ、導電膜の導電性および導電膜と基材との密着性の点で好ましい。
乾燥処理の方法としては温風乾燥機などを用いることができ、温度としては、40℃〜200℃で加熱処理を行うことが好ましく、50℃以上150℃未満で加熱処理を行うことがより好ましく、70℃〜120℃で加熱処理を行うことがさらに好ましい。
乾燥時間は特に限定されないが、基材と導電膜との密着性がより良好になることから、1〜60分であることが好ましい。
In this step, if necessary, after applying the conductive film-forming composition to the substrate, a drying treatment may be performed to remove the solvent. By removing the remaining solvent, it is possible to suppress the generation of minute cracks and voids due to the vaporization and expansion of the solvent in the conductive film forming step described later. It is preferable in terms of adhesion.
As a method for the drying treatment, a hot air dryer or the like can be used, and the temperature is preferably 40 ° C. to 200 ° C., more preferably 50 ° C. or more and less than 150 ° C. More preferably, the heat treatment is performed at 70 ° C. to 120 ° C.
The drying time is not particularly limited, but is preferably 1 to 60 minutes because the adhesion between the substrate and the conductive film becomes better.

本工程で形成される塗膜の平均厚みは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、1〜500μmが好ましく、3〜70μmがより好ましく、5〜50μmがさらに好ましい。
なお、塗膜の平均厚みは、塗膜の任意の5点の厚みを測定して、それらを算術平均したものである。
Although the average thickness of the coating film formed at this process is not restrict | limited in particular, 1-500 micrometers is preferable, 3-70 micrometers is more preferable, and 5-50 micrometers is more preferable at the point which the effect of this invention is more excellent.
In addition, the average thickness of a coating film measures the thickness of arbitrary 5 points | pieces of a coating film, and averages them.

[導電膜形成工程]
本工程は、基材上に形成した塗膜(乾燥工程を行った場合には乾燥した塗膜)に対して加熱処理および/または光照射処理を行い、金属銅を含有する導電膜を形成する工程である。
加熱処理および/または光照射処理を行うことにより、酸化第二銅粒子が還元され、さらに融着して金属銅が得られる。より具体的には、酸化第二銅粒子が還元されて金属銅粒子が形成され、生成した金属銅粒子が互いに融着してグレインを形成し、さらにグレイン同士が接着・融着して金属銅を含有する導電膜が形成される。
組成物中に銅粒子が含まれる場合には、酸化第二銅粒子が還元して得られる金属銅粒子と組成物中の銅粒子とが融着してグレインを形成する。銅粒子が含まれていることで、導電膜を厚くすることができ、面抵抗や線抵抗がより低減できる。
[Conductive film forming step]
In this step, a heat treatment and / or a light irradiation treatment is performed on the coating film formed on the base material (or a dry coating film when the drying process is performed) to form a conductive film containing metallic copper. It is a process.
By performing the heat treatment and / or the light irradiation treatment, the cupric oxide particles are reduced and further fused to obtain metallic copper. More specifically, cupric oxide particles are reduced to form metallic copper particles, the produced metallic copper particles are fused together to form grains, and the grains are bonded and fused together to form metallic copper. A conductive film containing is formed.
When copper particles are contained in the composition, metal copper particles obtained by reduction of cupric oxide particles and copper particles in the composition are fused to form grains. By containing copper particles, the conductive film can be thickened, and the surface resistance and line resistance can be further reduced.

加熱処理の条件は、短時間で導電性により優れる導電膜を形成することができる点で、加熱温度は、特に限定されないが、80〜200℃が好ましく、120〜180℃がより好ましい。また、加熱時間は5〜120分が好ましく、30〜90分がより好ましい。
なお、加熱手段は特に制限されず、ホットプレート、イナートオーブン等公知の加熱手段を用いることができる。
本発明では、比較的低温の加熱処理により導電膜の形成が可能であり、従って、プロセスコストが安いという利点を有する。
The heat treatment conditions are such that a conductive film that is more excellent in conductivity can be formed in a short time, and the heating temperature is not particularly limited, but is preferably 80 to 200 ° C, more preferably 120 to 180 ° C. The heating time is preferably 5 to 120 minutes, more preferably 30 to 90 minutes.
The heating means is not particularly limited, and a known heating means such as a hot plate or an inert oven can be used.
In the present invention, the conductive film can be formed by heat treatment at a relatively low temperature, and therefore, the process cost is low.

光照射処理は、上述した加熱処理とは異なり、室温にて塗膜が付与された部分に対して光を短時間照射することで金属銅への還元および焼結が可能となり、長時間の加熱による基材の劣化が起こらず、導電膜と基材との密着性がより良好となる。
光照射処理で使用される光源は特に制限されず、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。また、g線、i線、Deep−UV光(深紫外光)、高密度エネルギービーム(レーザービーム)も使用される。
具体的な態様としては、赤外線レーザーによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光、赤外線ランプ露光などが好適に挙げられる。
光照射は、フラッシュランプによる光照射が好ましく、フラッシュランプによるパルス光照射であることがより好ましい。高エネルギーのパルス光の照射は、塗膜を付与した部分の表面を、極めて短い時間で集中して加熱することができるため、基材への熱の影響を極めて小さくすることができる。
パルス光の照射エネルギーとしては、1〜100J/cm2が好ましく、1〜30J/cm2がより好ましく、パルス幅としては1μ秒〜100m秒が好ましく、10μ秒〜10m秒がより好ましい。パルス光の照射時間は、1〜100m秒が好ましく、1〜50m秒がより好ましく、1〜20m秒が更に好ましい。
なお、光照射処理を実施した場合、酸化第二銅粒子が光を吸収し、熱に変換する光熱変換物質として働き、塗膜中に熱を伝達させる役割を果たしていると推測される。
Unlike the heat treatment described above, the light irradiation treatment can reduce and sinter to metallic copper by irradiating light on the portion to which the coating film is applied at room temperature for a short time, and heating for a long time. The base material does not deteriorate due to the above, and the adhesion between the conductive film and the base material becomes better.
The light source used in the light irradiation treatment is not particularly limited, and examples thereof include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp. Examples of radiation include electron beams, X-rays, ion beams, and far infrared rays. Further, g-line, i-line, deep-UV light (deep ultraviolet light), and high-density energy beam (laser beam) are also used.
Specific examples of preferred embodiments include scanning exposure with an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, and infrared lamp exposure.
The light irradiation is preferably light irradiation with a flash lamp, and more preferably pulsed light irradiation with a flash lamp. Irradiation with high-energy pulsed light can concentrate and heat the surface of the portion to which the coating film has been applied in a very short time, so that the influence of heat on the substrate can be extremely reduced.
The irradiation energy of the pulse light is preferably 1~100J / cm 2, more preferably 1~30J / cm 2, preferably 1μ seconds ~100m sec as a pulse width, and more preferably 10μ sec ~10m seconds. The irradiation time of the pulsed light is preferably 1 to 100 milliseconds, more preferably 1 to 50 milliseconds, and further preferably 1 to 20 milliseconds.
In addition, when a light irradiation process is implemented, it is estimated that the cupric oxide particle | grains act as a photothermal conversion substance which absorbs light and converts it into heat, and it has played the role which transmits heat in a coating film.

上記加熱処理および光照射処理は、単独で実施してもよく、両者を同時に実施してもよい。また、一方の処理を施した後、さらに他方の処理を施してもよい。   The heat treatment and the light irradiation treatment may be performed alone or both may be performed simultaneously. Moreover, after performing one process, you may perform the other process further.

本発明においては、加熱処理および光照射処理は、非酸化的雰囲気(非酸素雰囲気)および酸化的雰囲気のいずれで行われてもよい。非酸化的雰囲気は、酸素濃度が50体積ppm以下の雰囲気を意図し、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気、水素等の還元性ガス雰囲気などが挙げられる。酸化的雰囲気としては、大気雰囲気、酸素雰囲気などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、非酸化的雰囲気にて実施するのが好ましい。   In the present invention, the heat treatment and the light irradiation treatment may be performed in either a non-oxidizing atmosphere (non-oxygen atmosphere) or an oxidizing atmosphere. The non-oxidizing atmosphere is intended to be an atmosphere having an oxygen concentration of 50 ppm by volume or less, and examples thereof include an inert gas atmosphere such as nitrogen and argon, and a reducing gas atmosphere such as hydrogen. Examples of the oxidizing atmosphere include an air atmosphere and an oxygen atmosphere. Especially, it is preferable to implement in non-oxidizing atmosphere at the point which the effect of this invention is more excellent.

[導電膜]
本発明の導電膜形成用組成物を用いて上述した導電膜の製造方法を実施することにより、実質的に金属銅からなる金属導体を含む導電膜が製造される。
導電膜の平均厚みは特に制限されず、使用される用途に応じて適宜最適な膜厚が選択される。例えば、有機薄膜トランジスタ電極用途の点からは、10〜1000nmが好ましく、10〜500nmがより好ましく、20〜200nmがさらに好ましく、50〜150nmが特に好ましい。また、例えば、プリント配線基板用途の点からは、0.01〜500μmが好ましく、0.1〜100μmがより好ましく、0.5〜50μmがさらに好ましい。
なお、導電膜の平均厚みは、表面形状測定装置DEKTAK−3(アルバック社製)を用い、走査距離10mm、走査速度0.2mm/secの条件にて測定を行う。
[Conductive film]
By conducting the above-described method for producing a conductive film using the conductive film forming composition of the present invention, a conductive film containing a metal conductor substantially made of metallic copper is produced.
The average thickness of the conductive film is not particularly limited, and an optimum film thickness is appropriately selected according to the application used. For example, 10-1000 nm is preferable from the point of an organic thin-film transistor electrode use, 10-500 nm is more preferable, 20-200 nm is further more preferable, 50-150 nm is especially preferable. Further, for example, from the viewpoint of printed wiring board use, 0.01 to 500 μm is preferable, 0.1 to 100 μm is more preferable, and 0.5 to 50 μm is further preferable.
The average thickness of the conductive film is measured using a surface shape measuring device DEKTAK-3 (manufactured by ULVAC) under the conditions of a scanning distance of 10 mm and a scanning speed of 0.2 mm / sec.

導電膜は基材の全面、または、パターン状に設けられてもよい。パターン状の導電膜は、プリント配線基板などの導体配線(配線)として有用である。
パターン状の導電膜を得る方法としては、上記導電膜形成用組成物をパターン状に基材に付与して、上記加熱処理および/または光照射処理を行う方法や、基材全面に設けられた導電膜をパターン状にエッチングする方法などが挙げられる。
エッチングの方法は特に制限されず、公知のサブトラクティブ法、セミアディティブ法などを採用できる。
The conductive film may be provided on the entire surface of the base material or in a pattern. The patterned conductive film is useful as a conductor wiring (wiring) such as a printed wiring board.
As a method of obtaining a patterned conductive film, the above-mentioned composition for forming a conductive film was applied to a substrate in a pattern, and the above heat treatment and / or light irradiation treatment was performed, or the entire surface of the substrate was provided. For example, a method of etching the conductive film in a pattern may be used.
The etching method is not particularly limited, and a known subtractive method, semi-additive method, or the like can be employed.

パターン状の導電膜を多層配線基板として構成する場合、パターン状の導電膜の表面に、さらに絶縁層(絶縁樹脂層、層間絶縁膜、ソルダーレジスト)を積層して、その表面にさらなる配線(金属パターン)を形成してもよい。   When a patterned conductive film is configured as a multilayer wiring board, an insulating layer (insulating resin layer, interlayer insulating film, solder resist) is further laminated on the surface of the patterned conductive film, and further wiring (metal) is formed on the surface. Pattern) may be formed.

上記で得られた導電膜を有する基材(導電膜付き基材)は、種々の用途に使用することができる。例えば、プリント配線基板、薄膜トランジスタ(TFT)、フレキシブルプリント配線板(FPC)、RFID(radio frequency identifier)などが挙げられる。   The base material (base material with a conductive film) having the conductive film obtained above can be used for various applications. For example, a printed wiring board, a thin film transistor (TFT), a flexible printed wiring board (FPC), RFID (radio frequency identifier), etc. are mentioned.

以下に実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし本発明はこれらに限定されない。   The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.

(酸化第二銅粒子の合成)
硝酸銅(和光純薬工業株式会社製)の所定量を精製水に溶かし、0.1mol/lの硝酸銅水溶液をあらかじめ調製した。エチレングリコール100mlをガラス製200mlフラスコにとり、オイルバスで90℃に加熱した。ここに、上記硝酸銅水溶液と0.2mol/lの水酸化ナトリウム水溶液をそれぞれ20mlずつ10秒以内に添加し、10分間加熱して、酸化第二銅粒子を得た。その後、遠心分離(20000G,30分)により粒子を回収した後、水中に再分散させる作業を3回繰り返し、複製する硝酸ナトリウム塩等の不純物を除き、真空乾燥にて、溶媒の水を除去することで、酸化第二銅粒子の粉末を得た。XRD(X線回折法)分析により、35.5°および38°付近にそれぞれ(002)および(111)面に由来する強い回折ピークを観測し、得られた粒子が酸化第二銅であることを確認した。また、透過型電子顕微鏡(TEM)観察の結果、得られた酸化第二銅粒子の平均粒子径は5nmであり、粒子径25nm以上の粒子の割合は2%であった。
(Synthesis of cupric oxide particles)
A predetermined amount of copper nitrate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dissolved in purified water to prepare a 0.1 mol / l aqueous copper nitrate solution in advance. 100 ml of ethylene glycol was placed in a glass 200 ml flask and heated to 90 ° C. in an oil bath. 20 ml each of the copper nitrate aqueous solution and 0.2 mol / l sodium hydroxide aqueous solution were added thereto within 10 seconds and heated for 10 minutes to obtain cupric oxide particles. After that, after collecting the particles by centrifugation (20000 G, 30 minutes), the work of redispersing in water is repeated three times to remove impurities such as sodium nitrate that replicates, and the solvent water is removed by vacuum drying. Thus, a powder of cupric oxide particles was obtained. By XRD (X-ray diffraction method) analysis, strong diffraction peaks derived from the (002) and (111) planes are observed around 35.5 ° and 38 °, respectively, and the obtained particles are cupric oxide. It was confirmed. Moreover, as a result of observation with a transmission electron microscope (TEM), the average particle diameter of the obtained cupric oxide particles was 5 nm, and the ratio of particles having a particle diameter of 25 nm or more was 2%.

また、硝酸銅および水酸化ナトリウムの濃度(比率一定)、および、溶媒であるエチレングリコール/水の比率を調整することにより、平均粒子径の異なる酸化銅粒子を製造した。具体的には、平均粒子径3nm、10nm、15nm、20nm、25nm、34nmの酸化銅粒子をそれぞれ作製した。平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)観察により、400個の酸化第二銅粒子の円相当径を測定し、それらを算術平均して求めた。
なお、後述する比較例5では、酸化第二銅粒子(シーアイ化成株式会社製、平均粒子径48nm)を用いた。
Moreover, the copper oxide particle from which an average particle diameter differs was manufactured by adjusting the density | concentration (ratio constant) of copper nitrate and sodium hydroxide, and the ratio of ethylene glycol / water which is a solvent. Specifically, copper oxide particles having an average particle diameter of 3 nm, 10 nm, 15 nm, 20 nm, 25 nm, and 34 nm were prepared. The average particle diameter was determined by measuring the equivalent circle diameters of 400 cupric oxide particles by transmission electron microscope (TEM) observation and arithmetically averaging them.
In Comparative Example 5, which will be described later, cupric oxide particles (manufactured by C-I Kasei Co., Ltd., average particle size 48 nm) were used.

<実施例1>
(導電膜形成用組成物1の調製)
得られた酸化第二銅粒子と、トリメチロールプロパン、水、N−メチルピロリドン(NMP)、および、触媒として酢酸パラジウムとを表1に記載される添加量となるように混合し、自転公転ミキサー(THINKY社製、あわとり練太郎ARE−310)で5分間処理することで導電膜形成用組成物1を得た。
<Example 1>
(Preparation of conductive film forming composition 1)
The obtained cupric oxide particles, trimethylolpropane, water, N-methylpyrrolidone (NMP), and palladium acetate as a catalyst were mixed so as to have an addition amount shown in Table 1, and a revolution mixer The composition 1 for electrically conductive film formation was obtained by processing for 5 minutes with (THINKY company make, Awatori Nertaro ARE-310).

(導電膜の製造)
基材(PET(ポリエチレンテレフタレート)基材、テトロンK 50μm/帝人デュポン社製)上に、導電膜形成用組成物1をスクリーン印刷機(HP320/ニューロング社製)およびスクリーン印刷版としてスクリーンメッシュBS500/19(ステンレスメッシュ、500線/インチ、メッシュ線径19μm、アサダメッシュ社製)を用いて、基材上に線幅1mmのストライプパターンを印刷し、その後、100℃で10分間乾燥させることでパターン印刷された塗膜(平均厚み:14μm)を得た。
その後、酸素濃度を50体積ppm以下に環境制御したホットプレート上で150℃にて1時間焼成を行うことで導電膜を得た。導電膜の平均厚みは、500nmであった。
(Manufacture of conductive film)
On a base material (PET (polyethylene terephthalate) base material, Tetron K 50 μm / manufactured by Teijin DuPont), the conductive film forming composition 1 is used as a screen printing machine (HP320 / Neurong) and a screen printing plate as a screen mesh BS500. / 19 (stainless steel mesh, 500 wires / inch, mesh wire diameter 19 μm, manufactured by Asada Mesh Co., Ltd.), a stripe pattern with a line width of 1 mm is printed on the substrate, and then dried at 100 ° C. for 10 minutes. A pattern-printed coating film (average thickness: 14 μm) was obtained.
Then, the electrically conductive film was obtained by baking for 1 hour at 150 degreeC on the hotplate which controlled the oxygen concentration to 50 volume ppm or less. The average thickness of the conductive film was 500 nm.

[評価]
(粘度測定)
上述した方法により、25℃の温度条件下においてせん断速度0.1s−1で測定される導電膜形成用組成物の粘度X、および、25℃の温度条件下においてせん断速度100s−1で測定される導電膜形成用組成物の粘度Yを測定した。
(スクリーン印刷適性)
導電膜形成用組成物を用いてスクリーン印刷する際の「抜け」を観察すると共に、形成された導電膜のストライプパターンの形状を観察し、以下の基準で評価した。
「A」:「抜け」がなく、線幅のバラツキが0.05mm未満
「B」:「抜け」がなく、線幅のバラツキが0.05mm以上0.1mm未満
「C」:「抜け」がなく、線幅のバラツキが0.1mm以上0.2mm未満
「D」:「抜け」があるか、または、線幅のバラツキが0.2mm以上
「E」:「抜け」があり、かつ、線幅のバラツキが0.2mm以上
なお、「抜け」とはスクリーン印刷版上に導電膜形成用組成物を静置した際に、スキージで押す前にスクリーン印刷版を抜けてしまうことである。
「線幅のバラツキ」とは、1本の導電膜のストライプの任意の10か所の線幅を測定して、その最大値と最小値との差を意図する。
[Evaluation]
(Viscosity measurement)
By the method described above, the viscosity X of the composition for forming a conductive film measured at a shear rate of 0.1 s −1 under a temperature condition of 25 ° C. and the shear rate of 100 s −1 under a temperature condition of 25 ° C. The viscosity Y of the composition for forming a conductive film was measured.
(Screen printing aptitude)
While observing “missing” during screen printing using the composition for forming a conductive film, the shape of the stripe pattern of the formed conductive film was observed and evaluated according to the following criteria.
“A”: No “missing” and line width variation of less than 0.05 mm “B”: No “missing” and line width variation of 0.05 mm or more and less than 0.1 mm “C”: “missing” Line width variation is 0.1 mm or more and less than 0.2 mm “D”: “missing” exists, or line width variation is 0.2 mm or more “E”: “missing” exists, and the line The width variation is 0.2 mm or more. Note that “missing” means that when the composition for forming a conductive film is allowed to stand on the screen printing plate, the screen printing plate comes off before being pressed with a squeegee.
“Line width variation” means the difference between the maximum value and the minimum value obtained by measuring the line width at any 10 points in the stripe of one conductive film.

(密着性)
線幅1mmのストライプパターンを形成する代わりに、スクリーン印刷にて5cm角のベタ膜を印刷した以外は、上記(導電膜の製造)に記載の手順に従って、ベタ膜状の導電膜を作製した。得られた導電膜にニチバン株式会社製セロハンテープ(幅24mm)を密着させてから剥がした。剥がした後の導電膜の外観を目視で観察して、基材に対する密着性を評価した。評価基準は以下のとおりである。なお、実用上、A〜Cであることが好ましい。
「A」:テープに導電膜の付着が見られず、導電膜と基材との界面での剥離も見られない。
「B」:テープに導電膜の付着がやや見られるが、導電膜と基材との界面での剥離は見られない。
「C」:テープに導電膜の付着がはっきり見られ、導電膜と基材との界面で剥離面積が5%未満の範囲で見られる。
「D」:テープに導電膜の付着がはっきり見られ、導電膜と基材との界面で剥離面積が5%以上50%未満の範囲で見られる。
「E」:テープに導電膜の付着がはっきり見られ、導電膜と基材との界面で剥離面積が50%以上の範囲で見られる。
(Adhesion)
Instead of forming a stripe pattern having a line width of 1 mm, a solid film-like conductive film was produced according to the procedure described above (Manufacture of conductive film) except that a 5 cm square solid film was printed by screen printing. A cellophane tape (width 24 mm) manufactured by Nichiban Co., Ltd. was adhered to the obtained conductive film and then peeled off. The appearance of the conductive film after peeling was visually observed to evaluate the adhesion to the substrate. The evaluation criteria are as follows. In practice, it is preferably A to C.
“A”: Adhesion of the conductive film is not observed on the tape, and peeling at the interface between the conductive film and the substrate is not observed.
“B”: Adhesion of the conductive film is slightly observed on the tape, but peeling at the interface between the conductive film and the substrate is not observed.
"C": Adhesion of the conductive film is clearly seen on the tape, and the peeled area is seen in the range of less than 5% at the interface between the conductive film and the substrate.
"D": Adhesion of the conductive film is clearly seen on the tape, and the peeled area is seen in the range of 5% or more and less than 50% at the interface between the conductive film and the substrate.
“E”: The adhesion of the conductive film is clearly seen on the tape, and the peeled area is seen in the range of 50% or more at the interface between the conductive film and the substrate.

(導電性)
得られた導電膜について、四探針法抵抗率計を用いて面抵抗率を測定し、導電性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
「A」:面抵抗率が0.5Ω/□未満
「B」:面抵抗率が0.5Ω/□以上1Ω/□未満
「C」:面抵抗率が1Ω/□以上3Ω/□未満
「D」:面抵抗率が3Ω/□以上10Ω/□未満
「E」:面抵抗率が10Ω/□以上
また、得られた導電膜の膜厚と面抵抗率から体積抵抗率を求め、導電性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
「A」:体積抵抗率が50μΩ・cm未満
「B」:体積抵抗率が50μΩ・cm以上100μΩ・cm未満
「C」:体積抵抗率が100μΩ・cm以上300μΩ・cm未満
「D」:体積抵抗率が300μΩ・cm以上1000μΩ・cm未満
「E」:体積抵抗率が1000μΩ・cm以上
(Conductivity)
About the obtained electrically conductive film, surface resistivity was measured using the four-probe method resistivity meter, and electroconductivity was evaluated. The evaluation criteria are as follows.
“A”: surface resistivity of less than 0.5Ω / □ “B”: surface resistivity of 0.5Ω / □ or more and less than 1Ω / □ “C”: surface resistivity of 1Ω / □ or more and less than 3Ω / □ “D” ": The surface resistivity is 3 Ω / □ or more and less than 10 Ω / □" E ": The surface resistivity is 10 Ω / □ or more. Also, the volume resistivity is obtained from the film thickness and the surface resistivity of the obtained conductive film to determine the conductivity. evaluated. The evaluation criteria are as follows.
“A”: Volume resistivity is less than 50 μΩ · cm “B”: Volume resistivity is 50 μΩ · cm or more and less than 100 μΩ · cm “C”: Volume resistivity is 100 μΩ · cm or more and less than 300 μΩ · cm “D”: Volume resistance Rate is 300 μΩ · cm or more and less than 1000 μΩ · cm “E”: Volume resistivity is 1000 μΩ · cm or more

<実施例2〜23、比較例1〜6>
使用した成分の種類および使用量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様の手順に従って、導電膜を製造して、各種評価を実施した。結果を表1にまとめて示す。
<Examples 2 to 23, Comparative Examples 1 to 6>
Except having changed the kind and usage-amount of the component which were used as shown in Table 1, according to the procedure similar to Example 1, the electrically conductive film was manufactured and various evaluation was implemented. The results are summarized in Table 1.

表1中、「添加量(wt%)」は導電膜形成用組成物全質量に対する各成分の質量%を表す。
表1中、「溶媒」欄の「種類(1:1)」は、水とNMP(N−メチルピロリドン)との質量が1:1であることを意図する。
また、「耐CuO比(wt%)」欄は、酸化第二銅粒子の含有量に対する、各成分(多価アルコール、金属触媒、溶媒、銅粒子)の含有量の割合(質量%)を表す。つまり、割合(%)は、{(各成分の質量/酸化第二銅粒子の質量)×100}を表す。
また、「多価アルコール100質量部に対する水の量」欄は、組成物中における多価アルコール100質量部に対する水の含有量(質量部)を表す。
また、「CuOに対する多価アルコール比」欄は、酸化第二銅粒子の含有量に対する多価アルコールの含有量の質量比(多価アルコールの質量/酸化第二銅粒子の質量)を表す。
また、「粘度X/粘度Y」は、粘度Xを粘度Yで除した比(粘度X/粘度Y)を意図する。
また、「粘度X」欄の「>300000」は粘度が300000mPa・s超であることを意図し、「粘度X/粘度Y」欄の「>1000」は1000超であることを意図する。
さらに、表1で使用した「トリメチロールプロパン」の沸点は292℃であり、分子量は134であった。また、「エチレングリコール」の沸点は197℃であり、分子量は62であった。
In Table 1, “addition amount (wt%)” represents mass% of each component with respect to the total mass of the composition for forming a conductive film.
In Table 1, “type (1: 1)” in the “solvent” column intends that the mass of water and NMP (N-methylpyrrolidone) is 1: 1.
Further, the “CuO resistance ratio (wt%)” column represents the ratio (mass%) of the content of each component (polyhydric alcohol, metal catalyst, solvent, copper particles) to the content of cupric oxide particles. . That is, the ratio (%) represents {(mass of each component / mass of cupric oxide particles) × 100}.
Moreover, the column “the amount of water relative to 100 parts by mass of the polyhydric alcohol” represents the content (parts by mass) of water relative to 100 parts by mass of the polyhydric alcohol in the composition.
Further, the “polyhydric alcohol ratio to CuO” column represents the mass ratio of the content of polyhydric alcohol to the content of cupric oxide particles (mass of polyhydric alcohol / mass of cupric oxide particles).
Further, “viscosity X / viscosity Y” intends a ratio obtained by dividing viscosity X by viscosity Y (viscosity X / viscosity Y).
Further, “> 300000” in the “Viscosity X” column intends that the viscosity exceeds 300000 mPa · s, and “> 1000” in the “Viscosity X / Viscosity Y” column intends to exceed 1000.
Furthermore, the boiling point of “trimethylolpropane” used in Table 1 was 292 ° C., and the molecular weight was 134. Further, “ethylene glycol” had a boiling point of 197 ° C. and a molecular weight of 62.

表1に示すように、本発明の組成物を使用した場合は、各種効果(印刷適性、導電性、密着性)に優れることが確認された。
特に、実施例1〜5の比較より、酸化第二銅粒子の含有量が、組成物全質量に対して、20〜45質量%である場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例6〜10の比較より、酸化第二銅粒子の平均粒子径が3nm以上20nm未満である場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例3、11〜13の比較より、多価アルコール100質量部に対する水の含有量が、20〜100質量部である場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例14〜18の比較より、金属触媒の含有量が、組成物全質量に対して、0.05〜2.0質量%である場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例21〜23に示すように、銅粒子を含む場合も所望の効果が得られることが確認された。
一方、多価アルコールを使用していない比較例1、多価アルコールに対する水の割合が所定範囲外の比較例2および3、酸化第二銅粒子の大きさが所定範囲外の比較例4および5、並びに、組成物の粘度が所定範囲外の比較例6では、所望の効果が得られなかった。特に、比較例5は特許文献1で具体的に開示されている酸化第二銅粒子を使用した態様であり、所望の効果が得られなかった。
As shown in Table 1, when the composition of the present invention was used, it was confirmed that it was excellent in various effects (printability, conductivity, adhesion).
In particular, from the comparison of Examples 1 to 5, it was confirmed that the effect was more excellent when the content of cupric oxide particles was 20 to 45 mass% with respect to the total mass of the composition.
Moreover, it was confirmed from the comparison of Examples 6-10 that an effect is more excellent when the average particle diameter of a cupric oxide particle is 3 nm or more and less than 20 nm.
Moreover, from the comparison of Example 3, 11-13, when content of the water with respect to 100 mass parts of polyhydric alcohols was 20-100 mass parts, it was confirmed that an effect is more excellent.
Moreover, when content of a metal catalyst was 0.05-2.0 mass% with respect to the composition total mass from the comparison of Examples 14-18, it was confirmed that an effect is more excellent.
In addition, as shown in Examples 21 to 23, it was confirmed that the desired effect was obtained even when copper particles were included.
On the other hand, Comparative Example 1 using no polyhydric alcohol, Comparative Examples 2 and 3 in which the ratio of water to polyhydric alcohol is outside the predetermined range, Comparative Examples 4 and 5 in which the size of the cupric oxide particles is outside the predetermined range In addition, the desired effect was not obtained in Comparative Example 6 in which the viscosity of the composition was outside the predetermined range. In particular, Comparative Example 5 is an embodiment using cupric oxide particles specifically disclosed in Patent Document 1, and a desired effect was not obtained.

<実施例24〜29>
実施例2で使用した導電膜形成用組成物を用いて、使用したスクリーン印刷版の種類を変更し、導電膜の膜厚を変更した以外は、実施例1と同様の手順に従って、導電膜を製造し、各種評価を実施した。結果を表2にまとめて示す。
なお、表2の「スクリーン印刷版の種類」欄に記載の製品は、アサダメッシュ社製(ステンレスメッシュ、金属線使用)を用いた。
また、以下の表2中の「導電性」は、表1中の体積抵抗率の評価結果を表す。
<Examples 24-29>
Using the composition for forming a conductive film used in Example 2, the type of the screen printing plate used was changed, and the film thickness of the conductive film was changed. Manufactured and evaluated in various ways. The results are summarized in Table 2.
In addition, the product described in the “type of screen printing plate” column in Table 2 was manufactured by Asada Mesh Co., Ltd. (using stainless steel mesh and metal wire).
“Conductivity” in Table 2 below represents the evaluation results of volume resistivity in Table 1.

表2に示すように、スクリーン印刷の条件を変更した場合でも所望の効果が得られることが確認された。
特に、実施例28と29との比較より、金属線の直径が10〜30μmである場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例27と28との比較より、スクリーンメッシュ部のメッシュ数が、300〜600本/インチである場合、より効果が優れることが確認された。
As shown in Table 2, it was confirmed that the desired effect was obtained even when the screen printing conditions were changed.
In particular, from the comparison between Examples 28 and 29, it was confirmed that the effect was more excellent when the diameter of the metal wire was 10 to 30 μm.
Moreover, it was confirmed from the comparison with Example 27 and 28 that an effect is more excellent when the mesh number of a screen mesh part is 300-600 piece / inch.

Claims (16)

平均粒子径が3〜25nmである酸化第二銅粒子と、
多価アルコールと、
水と、を少なくとも含有し、
25℃の温度条件下においてせん断速度0.1s−1で測定される粘度Xが1000〜200,000mPa・sであり、
25℃の温度条件下においてせん断速度100s−1で測定される粘度Yに対する前記粘度Xの比が3.0〜1000であり、
前記多価アルコール100質量部に対する前記水の含有量が、0.5〜150質量部であり、
前記酸化第二銅粒子の含有量に対する前記多価アルコールの含有量の質量比が、0.1〜2.5である、スクリーン印刷用の導電膜形成用組成物。
Cupric oxide particles having an average particle diameter of 3 to 25 nm;
Polyhydric alcohol,
Water at least,
The viscosity X measured at a shear rate of 0.1 s −1 under a temperature condition of 25 ° C. is 1000 to 200,000 mPa · s,
The ratio of the viscosity X to the viscosity Y measured at a shear rate of 100 s −1 under a temperature condition of 25 ° C. is 3.0 to 1000,
The water content relative to 100 parts by mass of the polyhydric alcohol is 0.5 to 150 parts by mass,
The composition for electrically conductive film formation for screen printing whose mass ratio of content of the said polyhydric alcohol with respect to content of the said cupric oxide particle is 0.1-2.5.
前記多価アルコールが、沸点が250℃以上で、かつ、分子量が500以下である多価アルコールを含む、請求項1に記載の導電膜形成用組成物。   The composition for forming a conductive film according to claim 1, wherein the polyhydric alcohol includes a polyhydric alcohol having a boiling point of 250 ° C. or more and a molecular weight of 500 or less. さらに、周期律表の第8〜11族元素からなる群から選択される少なくとも1種の金属元素を含む金属触媒を含有する、請求項1または2に記載の導電膜形成用組成物。   Furthermore, the composition for electrically conductive film formation of Claim 1 or 2 containing the metal catalyst containing the at least 1 sort (s) of metal element selected from the group which consists of a group 8-11 elements of a periodic table. 前記金属触媒の含有量が、前記酸化第二銅粒子全質量に対して、0.005〜10.0質量%である、請求項3に記載の導電膜形成用組成物。   The composition for electrically conductive film formation of Claim 3 whose content of the said metal catalyst is 0.005-10.0 mass% with respect to the said cupric oxide particle total mass. 前記金属触媒の含有量が、前記酸化第二銅粒子全質量に対して、0.05〜5.0質量%である、請求項3または4に記載の導電膜形成用組成物。   The composition for electrically conductive film formation of Claim 3 or 4 whose content of the said metal catalyst is 0.05-5.0 mass% with respect to the said cupric oxide particle total mass. 前記酸化第二銅粒子の平均粒子径が3nm以上20nm未満である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電膜形成用組成物。   The composition for electrically conductive film formation of any one of Claims 1-5 whose average particle diameter of the said cupric oxide particle is 3 nm or more and less than 20 nm. 前記多価アルコール100質量部に対する前記水の含有量が、20〜100質量部である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の導電膜形成用組成物。   The composition for electrically conductive film formation of any one of Claims 1-6 whose content of the said water with respect to 100 mass parts of said polyhydric alcohols is 20-100 mass parts. さらに、銅粒子を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の導電膜形成用組成物。   Furthermore, the composition for electrically conductive film formation of any one of Claims 1-7 containing a copper particle. 前記銅粒子の含有量が、前記酸化第二銅粒子全質量に対して、350質量%以下である、請求項8に記載の導電膜形成用組成物。   The composition for electrically conductive film formation of Claim 8 whose content of the said copper particle is 350 mass% or less with respect to the said total cupric oxide particle mass. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の導電膜形成用組成物を用いて、スクリーン印刷法にて、基材上に塗膜を形成する工程と、
前記塗膜に対して、加熱処理および光照射処理からなる群から選択される少なくとも1種の処理を行い、前記酸化第二銅粒子を還元して金属銅を含有する導電膜を形成する工程と、を備える、導電膜の製造方法。
Using the composition for forming a conductive film according to any one of claims 1 to 9, a step of forming a coating film on a substrate by a screen printing method,
Performing at least one treatment selected from the group consisting of heat treatment and light irradiation treatment on the coating film, and reducing the cupric oxide particles to form a conductive film containing metallic copper; A method for producing a conductive film.
前記スクリーン印刷法にて、金属線で形成されているスクリーンメッシュ部を含むスクリーン印刷版を用いる、請求項10に記載の導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the electrically conductive film of Claim 10 using the screen printing plate containing the screen mesh part currently formed with the metal wire by the said screen printing method. 前記金属線の直径が10〜30μmである、請求項11に記載の導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the electrically conductive film of Claim 11 whose diameter of the said metal wire is 10-30 micrometers. 前記スクリーンメッシュ部のメッシュ数が、300〜600本/インチである、請求項11または12に記載の導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the electrically conductive film of Claim 11 or 12 whose mesh number of the said screen mesh part is 300-600 piece / inch. 前記塗膜の平均厚みが5〜50μmである、請求項10〜13のいずれか1項に記載の導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the electrically conductive film of any one of Claims 10-13 whose average thickness of the said coating film is 5-50 micrometers. 前記基材が、ポリエチレンテレフタレート基材またはポリエチレンナフタレート基材である、請求項10〜14のいずれか1項に記載の導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the electrically conductive film of any one of Claims 10-14 whose said base material is a polyethylene terephthalate base material or a polyethylene naphthalate base material. 前記加熱処理の雰囲気が非酸化的雰囲気であり、かつ、前記加熱処理がホットプレートまたはイナートオーブンによって行われる、請求項10〜15のいずれか1項に記載の導電膜の製造方法。   The manufacturing method of the electrically conductive film of any one of Claims 10-15 with which the atmosphere of the said heat processing is non-oxidative atmosphere, and the said heat processing are performed by a hotplate or inert oven.
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