JP2016035562A5

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Publication number: JP2016035562A5
Application number: JP2015144891A
Authority: JP
Filing date: 2015-07-22
Publication date: 2018-05-31
Anticipated expiration: 2035-07-22

Description

（基板）
本発明の基板としては、特に限定されるものではないが、良好な表面性状、接触角特性
及び吸水特性を有する基板であることが好ましい。そのような基板を形成する基材として
は、例えば、ガラス等の無機材料と高分子材料が挙げられる。高分子材料としては、トリ
アセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リエチレンテレフタレート系樹脂、トリアセチルセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂
、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂等が挙げられる。これ
らは１種を単独で、又は２種以上を併用してもよい。特に、高分子材料を含有する基材を
含むことが好ましい。
基板の吸水率としては、通常５％以下、好ましくは３％以下、より好ましくは１％以下
である。吸水率が過度に大きくないことで、湿式成膜法にて異方性材料の膜を形成する際
の基板が吸湿を抑制するため、基板の反りによる塗布欠陥が発生し難い傾向にある。また
、塗布法にて異方性を有する光学膜が形成された後の基板の膨潤も抑制することができる
ため、光学欠陥が発生し難い傾向がある。なお、本実施の形態における「吸水率」とは、
ＡＳＴＭＤ５７０の試験方法を用い、２３℃の水に４時間浸漬させたときの重量変化率を
測定した値である。
(substrate)
Although it does not specifically limit as a board | substrate of this invention, It is preferable that it is a board | substrate which has a favorable surface property, a contact angle characteristic, and a water absorption characteristic. Examples of the base material for forming such a substrate include inorganic materials such as glass and polymer materials. As the polymer material, triacetate resins, acrylic resins, polyester resins, polycarbonate resins, polyethylene terephthalate resin, triacetyl cellulose resin, norbornene resin, cyclic Po Li olefin resin, polyimide resin, urethane Examples thereof include resins. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, it is preferable to include a base material containing a polymer material.
The water absorption rate of the substrate is usually 5% or less, preferably 3% or less, more preferably 1% or less. By water absorption is not excessively large, since the substrate in forming a film of anisotropic materials by a wet film-forming method to suppress moisture absorption, coating defects due to warping of the substrate tends to hardly occur. In addition, since the swelling of the substrate after the formation of the optical film having anisotropy by the coating method can be suppressed, there is a tendency that optical defects do not easily occur. The “water absorption rate” in the present embodiment is
It is the value which measured the rate of weight change when immersed in 23 degreeC water for 4 hours using the test method of ASTMD570.

（異方性を有する光学膜の塗布方法）
本発明の異方性を有する光学膜の塗布方法は連続塗布であれば特に限定されない。本発
明において連続塗布とは、パターンごとの間欠塗布ではなく、複数のパターン（区画）に
なるべき領域を連続で塗布することを指す。基板上に複数のパターンを設ける場合でも、
１回で連続塗布でき、複数のパターンごとに分けて塗布する必要はない。
異方性を有する光学膜形成用組成物を連続塗布し、異方性を有する光学膜を形成する方
法としては、特に限定されるものではないが、例えば、原崎勇次著「コーティング工学」
（株式会社朝倉書店、１９７１年３月２０日発行）２５３頁〜２７７頁に記載の方法、市
村國宏監修「分子協調材料の創製と応用」（株式会社シーエムシー出版、１９９８年３月
３日発行）１１８頁〜１４９頁に記載の方法、スロットダイコート法、スピンコート法、
スプレーコート法、バーコート法、ロールコート法、ブレードコート法、カーテンコート
法、ファウンテン法、ディップ法等で塗布する方法が挙げられる。これらの中でも、スロ
ットダイコート法が、均一性の高い異方性を有する光学膜が得られる傾向にあるため好ま
しい。
(Method for applying optical film having anisotropy)
The coating method of the optical film having anisotropy of the present invention is not particularly limited as long as it is a continuous coating. In the present invention, the term “continuous application” refers to the continuous application of regions to be a plurality of patterns (sections), not intermittent application for each pattern. Even when multiple patterns are provided on the substrate,
It can be applied continuously at one time, and it is not necessary to apply it separately for a plurality of patterns.
A method for continuously applying an optical film-forming composition having anisotropy to form an optical film having anisotropy is not particularly limited. For example, Yuji Harasaki "Coating Engineering"
(Asakura Shoten Co., Ltd., published on March 20, 1971) The method described on pages 253-277, supervised by Kunihiro Ichimura, “Creation and Application of Molecular Coordinating Materials” (CMC Publishing Co., Ltd., March 3, 1998) Issue) Method described on pages 118 to 149, slot die coating method, spin coating method,
Examples of the coating method include a spray coating method, a bar coating method, a roll coating method, a blade coating method, a curtain coating method, a fountain method, and a dip method. Among these, slot die coating is preferred because of the tendency of the optical film is obtained having a high anisotropy uniform.

（（II）工程）
本発明は、（II）工程として、（I）工程にて不溶化した異方性を有する光学膜上に、
感光性樹脂組成物を連続塗布して保護層を形成する工程を有する。
（保護層）
本発明の保護層は、異方性を有する光学膜をその後のプロセスや素子作成後の刺激や衝
撃等から保護する目的で形成されるものであるが、同時に異方性を有する光学膜の不要部
分を除去してパターニングするためのレジストとしての役割も果たす。
本発明の保護層は、異方性を有する光学膜上に感光性樹脂組成物を連続塗布することで
形成されたものであれば特に限定さないが、光学異方性を有さないものが、異方性を有す
る光学膜の性能を阻害しないため好ましい。本発明における光学異方性とは、保護層の厚
み方向及び任意の直交する面内２方向の立体座標系における合計３方向から選ばれる任意
の２方向における電磁気学的性質に異方性を有することである。
本発明の保護層は、異方性を有する光学膜の光学特性を損なわないことから、保護層の
厚み５００nmにおける５５０nmの光線透過率が８０％以上であること好ましく、更に好ま
しくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。上限は特になく、高い方が
好ましい。
(Process (II))
The present invention, as the step (II), on the optical film having anisotropy insolubilized in the step (I),
It has the process of apply | coating the photosensitive resin composition continuously and forming a protective layer.
(Protective layer)
The protective layer of the present invention is formed for the purpose of protecting the optical film having anisotropy from the subsequent process or stimulation or impact after the device is formed, but at the same time, the optical film having anisotropy is unnecessary. It also serves as a resist for patterning by removing portions.
The protective layer of the present invention is not particularly limited as long as it is formed by continuously applying a photosensitive resin composition on an optical film having anisotropy, but the protective layer has no optical anisotropy. It is preferable because it does not impair the performance of the optical film having anisotropy. The optical anisotropy of the present invention, anisotropy in electromagnetism properties at any two directions selected from a total of three directions in-plane two directions of the three-dimensional coordinate system in which the thickness direction and any Cartesian protective layer Is to have.
Since the protective layer of the present invention does not impair the optical properties of the optical film having anisotropy, the light transmittance at 550 nm at a thickness of 500 nm of the protective layer is preferably 80% or more, more preferably 85% or more. Yes, particularly preferably 90% or more. There is no particular upper limit, and a higher one is preferable.

有機アルカリ性化合物としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエ
タノールアミン等のエタノールアミン；モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン等のメチルアミン；モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン等のエ
チルアミン；モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン等のイソプロピルアミン；
ｎ−ブチルアミン；モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソ
プロパノールアミン等のイソプロパノールアミン；エチレンイミン；エチレンジイミン；
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）；コリン等が挙げられる。これらの
うち、電気特性の点では、有機アルカリ性化合物が好ましく、ＴＭＡＨを用いることが特
に好ましい。 Examples of the organic alkaline compound include monoethanolamine, diethanolamine, ethanolamine, such as triethanolamine; monomethylamine, dimethylamine, methylamine, trimethylamine or the like; monoethylamine, diethylamine, ethylamine or triethylamine; mono- isopropylamine, such as diisopropylamine Isopropylamine;
n- butylamine; monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, such as triisopropanolamine, ethylene imine, ethylene diimine;
Tetramethylammonium hydroxide (TMAH); choline and the like. Among these, in terms of electrical characteristics, an organic alkaline compound is preferable, and it is particularly preferable to use TMAH .