JP2016021918A - Plant cultivation chamber - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、鉛直面において植物を栽培するための植物栽培室に関する。 The present invention relates to a plant cultivation room for cultivating a plant in a vertical plane.
室内において人工光を用いて、野菜等の植物の育成が行なわれている。この場合、植物を植え付けた栽培床を地面と水平に配置し、複数階層の棚状に重ねて設置することが多い。 Plants such as vegetables are grown indoors using artificial light. In this case, it is often the case that the cultivation floor planted with a plant is arranged horizontally with the ground and is stacked in a plurality of layers.
ここで、生育のばらつきを抑制するために、棚を移動可能な多段のラック式とし、各セルトレイ間の空間に任意の環境に制御可能な空気を流す技術が検討されている（例えば、特許文献１参照。）。この文献に記載の技術では、棚のフレームに固定されかつセルトレイ間の空間に向けられたダクトと、ダクトに空気を送る送風ファンとを用いて、気流方向が変更可能な空気流を作っている。 Here, in order to suppress variation in growth, a technique is considered in which a shelf is moved in a multi-stage rack type and air that can be controlled in an arbitrary environment is passed through the space between the cell trays (for example, Patent Documents). 1). In the technique described in this document, an air flow whose airflow direction can be changed is created by using a duct fixed to the frame of the shelf and directed to the space between the cell trays and a blower fan that sends air to the duct. .
更に、生育のばらつきを抑制するために、栽培床毎に、上部に照明を取り付けることがある。この場合、階層毎の照明の配置空間が必要となり、空間の利用効率が悪い。従って、この栽培方式では、土地面積に対する収穫効率の低下を招く。 Furthermore, in order to suppress the dispersion | variation in growth, lighting may be attached to the upper part for every cultivation floor. In this case, a lighting arrangement space for each level is required, and the space utilization efficiency is poor. Therefore, this cultivation method causes a reduction in harvest efficiency relative to the land area.
そこで、収穫効率を向上させるために、鉛直に配置された栽培パネルを用いる技術が検討されている（例えば、特許文献２参照。）。この文献に記載の技術においては、パネル面に対して約２０〜５０度の角度を有したポット受孔を設けた育成パネルを垂直に多段に構成している。 Then, in order to improve harvest efficiency, the technique using the cultivation panel arranged vertically is examined (for example, refer to patent documents 2). In the technique described in this document, a growth panel provided with pot receiving holes having an angle of about 20 to 50 degrees with respect to the panel surface is vertically configured in multiple stages.
植物の適正な生育を促すためには、植物栽培室内の温度を適切に管理することも必要である。そこで、植物栽培室において冷暖房等の空気調整が行なわれている。この場合、冷気、暖気の流れにより、植物栽培室内で温度勾配が生じる。これにより、植物の生育にばらつきが生じることがある。特に、特許文献２に示すように、植物を植える培地を鉛直方向に並べた栽培床においては、同じ栽培床における植物の生育状態のばらつきが問題となる。 In order to promote the proper growth of plants, it is also necessary to appropriately manage the temperature in the plant cultivation room. Therefore, air conditioning such as air conditioning is performed in the plant cultivation room. In this case, a temperature gradient occurs in the plant cultivation room due to the flow of cold air and warm air. This can cause variations in plant growth. In particular, as shown in Patent Document 2, in a cultivation bed in which culture media for planting plants are arranged in the vertical direction, variation in the growth state of the plants on the same cultivation floor becomes a problem.
本発明は、鉛直方向に延びる栽培床においても、温度むらを低減して、植物の生育のばらつきを抑制するための植物栽培室を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a plant cultivation room for reducing temperature unevenness and suppressing variation in plant growth even in a cultivation bed extending in the vertical direction.
上記課題を解決する植物栽培室は、鉛直方向に延びる複数の栽培床を、空間をおいて２次元的に配置する植物栽培室であって、前記栽培床の鉛直面には、植物が植えられる複数の培地が配置され、前記栽培床の上部に、前記栽培床の延在方向と対向させて送風ファンを設ける。この構成によれば、送風ファンによって、冷気及び暖気が攪拌されて、植物栽培室における温度むらを低減し、植物の生育状態のばらつきを抑制することができる。 The plant cultivation room which solves the above-mentioned subject is a plant cultivation room which arranges a plurality of cultivation floors which extend in the vertical direction two-dimensionally with a space, and plants are planted on the vertical surface of the cultivation floor. A plurality of culture media are arranged, and a blower fan is provided on the upper part of the cultivation bed so as to face the extending direction of the cultivation bed. According to this structure, cold air and warm air are stirred by the blower fan, temperature unevenness in the plant cultivation room can be reduced, and variations in the growth state of the plants can be suppressed.
上記植物栽培室において、天井を正方形状とすることが好ましい。この構成によれば、１つの送風ファンを用いて、植物栽培室内の温度むらを低減することができる。
上記植物栽培室において、前記送風ファンは、天井の中心に設けることが好ましい。この構成によれば、シーリングファンを用いて、植物栽培室内の温度むらを低減することができる。
In the plant cultivation room, the ceiling is preferably square. According to this structure, the temperature nonuniformity in a plant cultivation room can be reduced using one ventilation fan.
In the plant cultivation room, the blower fan is preferably provided at the center of the ceiling. According to this configuration, the temperature unevenness in the plant cultivation room can be reduced using the ceiling fan.
上記植物栽培室において、前記送風ファンの直径は、天井に配置可能な範囲で大きくすることが好ましい。植物栽培室の温度むらを、更に低減することができる。
上記植物栽培室において、前記栽培床の間に、前記植物に対して人工光を照射する照明部を配置し、前記照明部は、前記栽培床と並行して鉛直方向に延在させることが好ましい。この構成によれば、効率的な日照とともに、植物栽培室内の温度むらを低減することができる。
In the plant cultivation room, it is preferable to increase the diameter of the blower fan as long as it can be arranged on the ceiling. The temperature unevenness in the plant cultivation room can be further reduced.
In the said plant cultivation room, it is preferable to arrange | position the illumination part which irradiates artificial light with respect to the said plant between the said cultivation beds, and the said illumination part is extended in the perpendicular direction in parallel with the said cultivation bed. According to this configuration, temperature unevenness in the plant cultivation room can be reduced together with efficient sunlight.
本発明によれば、鉛直方向に延びる栽培床を配置した場合においても、温度分布のむらを軽減して、植物の生育状態のばらつきを抑制することができる。 According to the present invention, even when a cultivation bed extending in the vertical direction is arranged, unevenness in the temperature distribution can be reduced and variation in the growth state of the plant can be suppressed.
以下、図１〜図１４を用いて、植物栽培室の一実施形態を説明する。
本実施形態では、図１に示す植物栽培室２０を用いる。図１は、植物栽培室２０の斜視図である。図１に示すように、本実施形態の植物栽培室２０は、水平面が正方形をした直方体形状をしている。例えば、縦横４ｍ、高さ３ｍ程度の大きさの植物栽培室２０を用いることができる。
Hereinafter, an embodiment of a plant cultivation room will be described with reference to FIGS.
In this embodiment, the plant cultivation room 20 shown in FIG. 1 is used. FIG. 1 is a perspective view of the plant cultivation room 20. As shown in FIG. 1, the plant cultivation room 20 of the present embodiment has a rectangular parallelepiped shape with a square horizontal surface. For example, a plant cultivation room 20 having a size of about 4 m in length and width and about 3 m in height can be used.
図２は、植物栽培室２０の上面図である。植物栽培室２０の天井には、吹出口２１及び吸込口２２が形成されている。更に、植物栽培室２０には、この植物栽培室２０の温度を測定する温度計（図示せず）と、温度調整を行なう空気調整機（図示せず）とが設けられている。吹出口２１は、空気調整機からの冷気及び暖気を植物栽培室２０に供給する吸気部である。吸込口２２は、植物栽培室２０の空気を排出する排気部である。本実施形態では、吹出口２１及び吸込口２２は、それぞれ所定の間隔をおいて２つずつ植物栽培室２０に設けられている。具体的には、吹出口２１と吸込口２２は、植物栽培室２０を左右に分ける中心線に対して線対称となる位置に配置されている。 FIG. 2 is a top view of the plant cultivation room 20. An air outlet 21 and a suction port 22 are formed on the ceiling of the plant cultivation room 20. Further, the plant cultivation room 20 is provided with a thermometer (not shown) for measuring the temperature of the plant cultivation room 20 and an air conditioner (not shown) for adjusting the temperature. The blower outlet 21 is an air intake unit that supplies the plant cultivation room 20 with cool air and warm air from the air conditioner. The suction port 22 is an exhaust unit that discharges air from the plant cultivation room 20. In this embodiment, the blower outlet 21 and the suction inlet 22 are provided in the plant cultivation room 20 two each at predetermined intervals. Specifically, the blower outlet 21 and the suction inlet 22 are arrange | positioned in the position which becomes line symmetrical with respect to the centerline which divides the plant cultivation room 20 into right and left.
植物栽培室２０の天井には、送風ファンとしてシーリングファン４１が設けられている。このシーリングファン４１は、植物栽培室２０の天井の中心に配置される。本実施形態では、直径１２００ｍｍのシーリングファン４１を、高さ２．７５ｍの位置に設ける場合を想定する。このシーリングファン４１は、冷房時の送風方向と暖房時の送風方向を切り替えることができる。 A ceiling fan 41 is provided on the ceiling of the plant cultivation room 20 as a blower fan. This ceiling fan 41 is arranged at the center of the ceiling of the plant cultivation room 20. In the present embodiment, it is assumed that the ceiling fan 41 having a diameter of 1200 mm is provided at a height of 2.75 m. The ceiling fan 41 can switch between a blowing direction during cooling and a blowing direction during heating.
図１に示すように、植物栽培室２０内には、複数の栽培床３０が、縦横に所定の間隔で配置されている。本実施形態において、栽培床３０は、円筒形状であり、鉛直方向に延びており、その高さは、２．５ｍである。栽培床３０の内部には、流路（図示せず）が形成されている。この流路は、培養液タンク（図示せず）に接続されている。この培養液タンクから、栽培床３０の内部の流路に培養液が供給される。また、栽培床３０の外周面（鉛直面）には、培地３１を取り付けるための複数の孔が形成されている。この複数の孔は、栽培床３０の内部の流路に連通している。培地３１は、植物３２が植えられている。このため、栽培床３０の孔に培地３１が取り付けられた場合には、培地３１の植物３２に培養液が供給される。 As shown in FIG. 1, a plurality of cultivation floors 30 are arranged in the plant cultivation room 20 at predetermined intervals vertically and horizontally. In the present embodiment, the cultivation floor 30 has a cylindrical shape, extends in the vertical direction, and has a height of 2.5 m. A flow path (not shown) is formed inside the cultivation floor 30. This flow path is connected to a culture medium tank (not shown). The culture solution is supplied from the culture solution tank to the flow path inside the cultivation bed 30. In addition, a plurality of holes for attaching the culture medium 31 are formed on the outer peripheral surface (vertical surface) of the cultivation floor 30. The plurality of holes communicate with the flow path inside the cultivation floor 30. The medium 31 is planted with plants 32. For this reason, when the culture medium 31 is attached to the hole of the cultivation bed 30, the culture solution is supplied to the plant 32 of the culture medium 31.
更に、植物栽培室２０には、鉛直方向に延びる柱状を有する複数の照明装置３５が配置されている。この照明装置３５は、隣接する４つの栽培床３０に囲まれた空間の中心に配置されている。この照明装置３５は、栽培床３０と並行となるように立設されている。この照明装置３５は、例えばＬＥＤから構成されており、植物３２に対して人工光を照射する照明部として機能する。なお、本実施形態では、照明装置３５の高さは、栽培床３０と同様に、２．５ｍの場合を想定する。 Further, a plurality of lighting devices 35 having a column shape extending in the vertical direction are arranged in the plant cultivation room 20. This illuminating device 35 is arranged at the center of a space surrounded by four adjacent cultivation beds 30. The lighting device 35 is erected so as to be parallel to the cultivation floor 30. This illuminating device 35 is composed of, for example, an LED, and functions as an illuminating unit that irradiates the plant 32 with artificial light. In the present embodiment, the height of the lighting device 35 is assumed to be 2.5 m, similarly to the cultivation floor 30.
次に、以上のような構成の植物栽培室２０における作用について説明する。
本実施形態の植物栽培室２０を利用する場合には、植物栽培室２０の室温が一定となるように、空気調整機を稼働させる。更に、シーリングファン４１を回転させる。
Next, the effect | action in the plant cultivation room 20 of the above structures is demonstrated.
When using the plant cultivation room 20 of this embodiment, an air conditioner is operated so that the room temperature of the plant cultivation room 20 may become constant. Further, the ceiling fan 41 is rotated.
ここで、図３及び図４に、植物栽培室２０の温度分布についてシミュレーションした結果を示す。ここでは、室温が摂氏２０度で、各吹出口２１から摂氏１６度の冷気を０．０７ｍ３／ｓで流入させ、シーリングファン４１の攪拌風量を０．５回／ｈ相当とした場合を示す。 Here, in FIG.3 and FIG.4, the result simulated about the temperature distribution of the plant cultivation room 20 is shown. Here, a case where the room temperature is 20 degrees Celsius, cold air of 16 degrees Celsius is introduced from each outlet 21 at 0.07 m 3 / s, and the stirring air amount of the ceiling fan 41 is set to be 0.5 times / h is shown. .
図３（ａ）は、図２に示した植物栽培室２０のａ−ａ線方向の断面図における等温線図であり、図３（ｂ）は、ｂ−ｂ線方向の断面図における等温線図である。図３においては、温度が低い部分は濃く、温度が高い部分は薄く表示されており、濃淡が明確な部分は、温度差が大きいことを示している。 Fig.3 (a) is an isotherm figure in sectional drawing of the aa line direction of the plant cultivation room 20 shown in FIG. 2, FIG.3 (b) is an isotherm in sectional drawing of a bb line direction. FIG. In FIG. 3, the low temperature portion is dark and the high temperature portion is thinly displayed, and the clear portion shows a large temperature difference.
更に、図４は、上記条件での各高さ（地上から０．５ｍ、１．０ｍ、１．５ｍ、２．０ｍ、２．５ｍ）における水平面内における温度を示している。この図においては、摂氏２０．２度以下では、濃淡により温度を示している。なお、照明装置３５に対応する部分は、濃い色をしているが、この部分のみ摂氏２１度以上になっている。 Furthermore, FIG. 4 shows the temperature in the horizontal plane at each height (0.5 m, 1.0 m, 1.5 m, 2.0 m, and 2.5 m from the ground) under the above conditions. In this figure, the temperature is shown by shading below 20.2 degrees Celsius. In addition, although the part corresponding to the illuminating device 35 has a dark color, only this part is 21 degrees Celsius or more.
図５は、シーリングファン４１を動作させなかった植物栽培室における比較例である。図５（ａ）は、図２と同様に、植物栽培室２０のａ−ａ線方向の断面における等温線図であり、図３（ａ）に対応する。図５（ｂ）は、図２と同様に、植物栽培室２０のｂ−ｂ線方向の断面における等温線図であり、図３（ｂ）に対応する。
また、図６は、シーリングファン４１を動作させなかった植物栽培室の温度分布の高さ依存性を示す。この図６は、図４に対応する。
FIG. 5 is a comparative example in a plant cultivation room where the ceiling fan 41 is not operated. Fig.5 (a) is an isotherm figure in the cross section of the aa line direction of the plant cultivation room 20 similarly to FIG. 2, and corresponds to Fig.3 (a). FIG.5 (b) is an isotherm figure in the cross section of the bb line direction of the plant cultivation room 20 similarly to FIG. 2, and respond | corresponds to FIG.3 (b).
FIG. 6 shows the height dependency of the temperature distribution in the plant cultivation room where the ceiling fan 41 is not operated. FIG. 6 corresponds to FIG.
ここでは、植物栽培室の中央付近の温度分布を比較する。図５に示す温度分布に対して、図３に示す温度分布は濃淡が少ない。また、図４においては各高さの温度分布が類似したパターンになっているが、図６においては高低によって温度分布のパターンが異なる。従って、シーリングファン４１を動作させた場合の温度分布（図３、図４）は、動作させなかった場合の温度分布（図５、図６）に比べて、高さ方向の温度勾配が少ない。このことから、シーリングファン４１を動作させた場合には、植物栽培室２０の温度むらを低減することができる。 Here, the temperature distribution near the center of the plant cultivation room is compared. Compared to the temperature distribution shown in FIG. 5, the temperature distribution shown in FIG. In FIG. 4, the temperature distribution at each height has a similar pattern, but in FIG. 6, the temperature distribution pattern differs depending on the height. Therefore, the temperature distribution when the ceiling fan 41 is operated (FIGS. 3 and 4) has a smaller temperature gradient in the height direction than the temperature distribution when the ceiling fan 41 is not operated (FIGS. 5 and 6). From this, when the ceiling fan 41 is operated, the temperature unevenness of the plant cultivation room 20 can be reduced.
また、シーリングファン４１の攪拌風量を変更した場合の植物栽培室２０の温度分布についてシミュレーションも行なった。具体的には、攪拌風量を、０．５回／ｈ相当、１回／ｈ相当、３回／ｈ相当、７．５回／ｈ相当、３７．５回／ｈ相当と変更した。その結果、攪拌風量を変更した場合にも、温度分布には違いはないという知見が得られた。 In addition, a simulation was performed on the temperature distribution in the plant cultivation room 20 when the amount of stirring air of the ceiling fan 41 was changed. Specifically, the stirring air volume was changed to 0.5 times / h, 1 time / h, 3 times / h, 7.5 times / h, and 37.5 times / h. As a result, it was found that there was no difference in temperature distribution even when the stirring air volume was changed.
次に、図７〜図１０を用いて、シーリングファンのサイズを変更したシミュレーションを説明する。
まず、図７（ａ）には、植物栽培室２０の天井の中央に、直径２０００ｍｍのシーリングファン４２を設けた構成を示している。
Next, the simulation which changed the size of the ceiling fan is demonstrated using FIGS. 7-10.
First, FIG. 7A shows a configuration in which a ceiling fan 42 having a diameter of 2000 mm is provided in the center of the ceiling of the plant cultivation room 20.
図７（ｂ）、図７（ｃ）及び図８は、シーリングファン４２を、シーリングファン４１と同じ条件で解析した場合の温度分布についてシミュレーション結果である。図７（ｂ）及び図７（ｃ）は、それぞれ、図７（ａ）におけるｂ−ｂ線方向、ｃ−ｃ線方向の断面における等温線図である。 FIGS. 7B, 7 </ b> C, and 8 are simulation results for the temperature distribution when the ceiling fan 42 is analyzed under the same conditions as the ceiling fan 41. FIG. 7B and FIG. 7C are isotherm diagrams in cross sections in the bb line direction and the cc line direction in FIG. 7A, respectively.
更に、図８は、この場合の所定高さ（地上から０．５ｍ、１．０ｍ、１．５ｍ、２．０ｍ、２．５ｍ）における水平面内における温度を示しており、図４と同様に、摂氏２０．２度以下では、濃淡により温度を示している。
更に、図９（ａ）には、植物栽培室２０の天井の中央に、直径３０００ｍｍのシーリングファン４３を設けた構成を示している。
Furthermore, FIG. 8 shows the temperature in the horizontal plane at the predetermined height (0.5 m, 1.0 m, 1.5 m, 2.0 m, 2.5 m from the ground) in this case, and similarly to FIG. The temperature is indicated by shading below 20.2 degrees Celsius.
Further, FIG. 9A shows a configuration in which a ceiling fan 43 having a diameter of 3000 mm is provided in the center of the ceiling of the plant cultivation room 20.
図９（ｂ）、図９（ｃ）及び図１０は、シーリングファン４３を、シーリングファン４１と同じ条件で解析した場合の温度分布についてシミュレーション結果である。図９（ｂ）及び図９（ｃ）は、それぞれ、図９（ａ）におけるｂ−ｂ線方向、ｃ−ｃ線方向の断面における等温線図である。 FIGS. 9B, 9 </ b> C, and 10 are simulation results for the temperature distribution when the ceiling fan 43 is analyzed under the same conditions as the ceiling fan 41. FIG. 9B and FIG. 9C are isotherm diagrams in cross sections in the bb line direction and the cc line direction in FIG. 9A, respectively.
更に、図１０は、この場合の所定高さ（地上から０．５ｍ、１．０ｍ、１．５ｍ、２．０ｍ、２．５ｍ）における水平面内における温度を示しており、図４、図８と同様に、摂氏２０．２度以下では、濃淡により温度を示している。 Further, FIG. 10 shows the temperature in the horizontal plane at the predetermined height (0.5 m, 1.0 m, 1.5 m, 2.0 m, 2.5 m from the ground) in this case, and FIGS. Similarly, the temperature is indicated by shading below 20.2 degrees Celsius.
図７〜図１０に示すように、シーリングファンの径を大きくするほど、濃淡は少なくなり、植物栽培室２０の分布むらを軽減できることがわかる。 As shown in FIGS. 7 to 10, it can be seen that as the diameter of the ceiling fan is increased, the density is reduced, and the uneven distribution of the plant cultivation room 20 can be reduced.
また、図１１は、上述した植物栽培室２０に対して、一辺を２倍にした植物栽培室５０の構成を示している。また、図１２〜図１４は、この植物栽培室５０におけるシミュレーション結果を示している。
図１１に示すように、この植物栽培室５０は、縦４ｍ、横８ｍ、高さ３ｍ程度の大きさをしている。
この植物栽培室５０は、吹出口２１及び吸込口２２を４つ設けて、各吹出口２１から摂氏１６度の冷気を０．０７ｍ３／ｓで流入させている。更に、植物栽培室５０の天井の中央には、シーリングファン４１が設けられている。
Moreover, FIG. 11 has shown the structure of the plant cultivation room 50 which doubled one side with respect to the plant cultivation room 20 mentioned above. Moreover, FIGS. 12-14 has shown the simulation result in this plant cultivation room 50. FIG.
As shown in FIG. 11, the plant cultivation room 50 has a size of about 4 m in length, 8 m in width, and about 3 m in height.
This plant cultivation room 50 is provided with four air outlets 21 and four air inlets 22, and cool air of 16 degrees Celsius is introduced from each air outlet 21 at 0.07 m 3 / s. Furthermore, a ceiling fan 41 is provided in the center of the ceiling of the plant cultivation room 50.
図１２は、直径１２００ｍｍのシーリングファン４１を設けた場合の植物栽培室５０の温度分布についてのシミュレーション結果を示している。
図１３は、直径２０００ｍｍのシーリングファン４２を植物栽培室５０の天井の中央に設けた場合のシミュレーション結果を示している。
図１４は、直径３０００ｍｍのシーリングファン４３を植物栽培室５０の天井の中央に設けた場合のシミュレーション結果を示している。
FIG. 12 shows a simulation result of the temperature distribution in the plant cultivation room 50 when the ceiling fan 41 having a diameter of 1200 mm is provided.
FIG. 13 shows a simulation result when a ceiling fan 42 having a diameter of 2000 mm is provided in the center of the ceiling of the plant cultivation room 50.
FIG. 14 shows a simulation result when a ceiling fan 43 having a diameter of 3000 mm is provided in the center of the ceiling of the plant cultivation room 50.
ここで、図１２（ａ）、図１３（ａ）、図１４（ａ）は、図１１の植物栽培室５０におけるａ−ａ線方向の断面における等温線図である。図１２（ｂ）、図１３（ｂ）、図１４（ｂ）は、図１１の植物栽培室５０におけるｂ−ｂ線方向の断面における等温線図である。
これら等温線図においても、シーリングファンの径を大きくするほど、植物栽培室５０の温度むらを軽減できることがわかる。
Here, FIG. 12 (a), FIG. 13 (a), and FIG. 14 (a) are isotherm diagrams in a section taken along the line aa in the plant cultivation room 50 of FIG. FIG.12 (b), FIG.13 (b), FIG.14 (b) is an isotherm figure in the cross section of the bb line direction in the plant cultivation room 50 of FIG.
Also in these isotherm diagrams, it can be seen that the temperature unevenness of the plant cultivation room 50 can be reduced as the diameter of the ceiling fan is increased.
本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）本実施形態では、鉛直方向に延びる栽培床３０が縦横に空間をおいて配置された植物栽培室２０の天井に、シーリングファン４１，４２，４３を設ける。これにより、シーリングファン４１，４２，４３によって、冷気及び暖気が攪拌されて、植物栽培室２０における温度むらを軽減することができ、植物の生育状態のばらつきを抑制することができる。
According to this embodiment, the following effects can be obtained.
(1) In the present embodiment, ceiling fans 41, 42, and 43 are provided on the ceiling of the plant cultivation room 20 in which the cultivation floor 30 extending in the vertical direction is arranged with vertical and horizontal spaces. Thereby, cold air and warm air are stirred by the ceiling fans 41, 42, and 43, temperature unevenness in the plant cultivation room 20 can be reduced, and variations in the growth state of plants can be suppressed.
（２）本実施形態の植物栽培室２０は、水平面が正方形の直方体形状をしている。更に、シーリングファン４１，４２，４３は、植物栽培室２０の天井の中心に設ける。これにより、１つのシーリングファン４１，４２，４３で、植物栽培室２０内の温度むらを効率的に軽減することができる。 (2) The plant cultivation room 20 of the present embodiment has a rectangular parallelepiped shape with a horizontal plane. Further, the ceiling fans 41, 42, 43 are provided in the center of the ceiling of the plant cultivation room 20. Thereby, the temperature unevenness in the plant cultivation room 20 can be efficiently reduced with one ceiling fan 41, 42, 43.
（３）本実施形態の植物栽培室２０には、植物栽培室２０に配置可能な大きさのシーリングファン４１，４２，４３のうち、直径が大きいシーリングファン４３を設けることが好ましい。これにより、植物栽培室２０内の温度むらを、より軽減することができる。 (3) It is preferable that the plant cultivation room 20 of the present embodiment is provided with a ceiling fan 43 having a large diameter among the ceiling fans 41, 42, 43 having a size that can be arranged in the plant cultivation room 20. Thereby, the temperature nonuniformity in the plant cultivation room 20 can be reduced more.
（４）本実施形態の植物栽培室２０には、栽培床３０の間に、栽培床３０と並立させて鉛直方向に延びる柱状の照明装置３５を設ける。これにより、照明装置３５が栽培床３０間に配置されている場合においても、効率的に植物栽培室２０内の温度むらを低減することができる。 (4) In the plant cultivation room 20 of the present embodiment, a columnar lighting device 35 is provided between the cultivation floors 30 so as to be juxtaposed with the cultivation floors 30 and extending in the vertical direction. Thereby, even when the illuminating device 35 is arrange | positioned between the cultivation beds 30, the temperature nonuniformity in the plant cultivation room 20 can be reduced efficiently.
また、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態においては、植物栽培室２０，５０は、円柱形状をした栽培床３０を配置した。植物栽培室２０，５０に配置される栽培床３０は、鉛直方向に延在可能な形状であればよい。例えば、多角柱や平面パネル状のものを用いることができる。
Moreover, you may change the said embodiment as follows.
-In the said embodiment, the plant cultivation rooms 20 and 50 have arrange | positioned the cultivation floor 30 made into the column shape. The cultivation floor 30 arrange | positioned in the plant cultivation rooms 20 and 50 should just be a shape which can be extended in a perpendicular direction. For example, a polygonal column or a flat panel can be used.
・上記実施形態においては、直方体形状の植物栽培室２０，５０を用いた。鉛直方向に延在している栽培床が空間をおいて複数配置されている植物栽培室２０，５０であれば、植物栽培室２０，５０の形状はこれに限定されない。例えば、上部が三角錐形状になった植物栽培室であってもよい。 -In the said embodiment, the rectangular parallelepiped-shaped plant cultivation rooms 20 and 50 were used. As long as the cultivation floors 20 and 50 in which a plurality of cultivation floors extending in the vertical direction are arranged with a space therebetween, the shape of the plant cultivation rooms 20 and 50 is not limited thereto. For example, it may be a plant cultivation room whose upper part has a triangular pyramid shape.
・上記実施形態では、植物栽培室２０，５０において、縦横に所定の間隔で、複数の栽培床３０を配置した。栽培床３０の配置は、同じ間隔に限定されるものではない。例えば、植物栽培室２０，５０の中央領域のみに配置するようにしてもよい。この場合、植物栽培室２０，５０の周囲領域には、栽培床３０と同じ形状のダミー柱を配置する。これにより、温度分布のむらが少ない領域のみを利用することができる。 -In the said embodiment, in the plant cultivation rooms 20 and 50, the some cultivation floor 30 was arrange | positioned by the predetermined space | interval in the length and width. The arrangement of the cultivation floor 30 is not limited to the same interval. For example, you may make it arrange | position only to the center area | region of the plant cultivation rooms 20 and 50. FIG. In this case, dummy pillars having the same shape as the cultivation floor 30 are arranged in the surrounding area of the plant cultivation rooms 20 and 50. As a result, it is possible to use only a region with less uneven temperature distribution.
・上記実施形態では、植物栽培室２０，５０の天井の中心に、シーリングファン４１，４２，４３を配置した。シーリングファン４１，４２，４３の数は一つに限定されるものではない。複数のシーリングファンを同じ間隔で配置するようにしてもよい。 In the above embodiment, the ceiling fans 41, 42, 43 are arranged in the center of the ceiling of the plant cultivation rooms 20, 50. The number of ceiling fans 41, 42, 43 is not limited to one. A plurality of ceiling fans may be arranged at the same interval.
２０，５０…植物栽培室、２１…吹出口、２２…吸込口、３０…栽培床、３１…培地、３２…植物、３５…照明装置、４１，４２，４３…シーリングファン。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 20,50 ... Plant cultivation room, 21 ... Air outlet, 22 ... Suction inlet, 30 ... Cultivation floor, 31 ... Medium, 32 ... Plant, 35 ... Illuminating device, 41, 42, 43 ... Ceiling fan.
Claims (5)
前記栽培床の鉛直面には、植物が植えられる複数の培地が配置され、
前記栽培床の上部に、前記栽培床の延在方向と対向させて送風ファンを設けたことを特徴とする植物栽培室。 A plant cultivation room in which a plurality of cultivation floors extending vertically are arranged two-dimensionally with a space,
A plurality of culture media in which plants are planted are arranged on the vertical surface of the cultivation floor,
A plant cultivation room, wherein a blower fan is provided on the upper part of the cultivation floor so as to face the extending direction of the cultivation floor.
前記照明部は、前記栽培床と並行して鉛直方向に延在させたことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の植物栽培室。 Between the cultivated floors, arrange an illuminating unit that emits artificial light to the plant,
5. The plant cultivation room according to claim 1, wherein the illumination unit extends in a vertical direction in parallel with the cultivation floor.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014148169A JP6455003B2 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | Plant cultivation room |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2014148169A JP6455003B2 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | Plant cultivation room |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016021918A true JP2016021918A (en) | 2016-02-08 |
| JP6455003B2 JP6455003B2 (en) | 2019-01-23 |
Family
ID=55269285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014148169A Active JP6455003B2 (en) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | Plant cultivation room |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6455003B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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|---|---|
| JP6455003B2 (en) | 2019-01-23 |
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|
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