JP2016015138A - Display device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device with a cover substrate which is excellent in flexibility and surface hardness and has excellent durability under high-temperature high-humidity circumstances and which enhances touch sensitivity by an enhanced dielectric constant.SOLUTION: A display device 100 includes: a display panel 300 including a first substrate and a second substrate; and a cover substrate 200 disposed on the display panel 300 and containing a carbonate compound. The carbonate compound contains a compound represented by the formula in the figure, where Rto Rare each independently hydrogen or C1-C10 alkyl, and the dotted line represents a single bond or no bond.

Description

本発明は、表示装置に関し、より具体的には、柔軟性及びタッチ感度を向上させた表示装置に関する。   The present invention relates to a display device, and more specifically to a display device with improved flexibility and touch sensitivity.

最近、本格的な情報化時代の進展に伴い、電気的情報信号を視覚的に表現する表示装置(display)分野が急速に発展してきており、これに応じて薄型化、軽量化、低消費電力化に優れた性能を有した多様な平面表示装置(Flat Display Device)が開発され、既存のブラウン管(Cathode Ray Tube:CRT)を早く代替している。   Recently, with the progress of the full-fledged information era, the field of display devices that visually represent electrical information signals has been rapidly developing, and accordingly, thinning, lightening, and low power consumption. Various flat display devices (Flat Display Devices) with excellent performance have been developed, and are quickly replacing the existing cathode ray tube (CRT).

このような表示装置の具体的な例としては、液晶表示装置(Liquid Crystal Display device:LCD)、有機電界発光表示装置(Organic Light Emitting Display:OLED)、電気泳動表示装置(Electrophoretic Display:EPD、Electric Paper Display)、プラズマ表示装置(Plasma Display Panel device:PDP)、電界放出表示装置(Field Emission Display device:FED)、電気発光表示装置(Electro luminescence Display Device:ELD)及びエレクトロウェッティング表示装置(Electro-Wetting Display:EWD)等を挙げることができる。   Specific examples of such a display device include a liquid crystal display device (LCD), an organic light emitting display device (OLED), and an electrophoretic display device (EPD, Electric). Paper Display), Plasma Display Panel Device (PDP), Field Emission Display Device (FED), Electroluminescence Display Device (ELD), and Electro-Wetting Display Device (Electro-) Wetting Display (EWD).

最近では、表示装置の開発が活発に行われていることから、既存のデザインとは差別化された多様性が要求されており、美的機能を強化でき、使用上の多機能を付与できる表示装置が議論中にある。プラスチックなどのような柔軟性を有する基板を用いたフレキシブル(flexible)表示装置が開発され、従来の平面表示装置と比較して多様なデザイン変形が可能となった。   Recently, the development of display devices has been actively carried out, so that diversity that is different from existing designs is required, and display devices that can enhance aesthetic functions and provide multi-use functions. Is under discussion. A flexible display device using a flexible substrate such as plastic has been developed, and various design modifications are possible as compared with a conventional flat display device.

このような表示装置の画面上にはカバー基板が適用される。前記カバー基板は、表示装置を保護するために高硬度及び耐衝撃性を有するように形成される必要がある。また、フレキシブル表示装置に適用される場合、前記カバー基板には柔軟性が必要である。従来、このようなカバー基板としては、殆ど強化ガラスが用いられてきたが、強化ガラスの場合、成形性が悪いことから、フレキシブル表示装置に適用し難いという問題点がある。従って、最近では成形性が優れたプラスチック材質のカバー基板に対する研究が活発に試みられている。しかし、プラスチック材質の場合、ガラス材質に比べて表面硬度が低いので、耐スクラッチ性が悪く、高温高湿環境下で簡単に変形して製品の信頼性が低下するという問題点がある。   A cover substrate is applied on the screen of such a display device. The cover substrate needs to be formed to have high hardness and impact resistance in order to protect the display device. When applied to a flexible display device, the cover substrate needs to be flexible. Conventionally, tempered glass has been mostly used as such a cover substrate. However, tempered glass has a problem that it is difficult to apply to a flexible display device because of poor moldability. Therefore, recently, research on a cover substrate made of a plastic material having excellent moldability has been actively attempted. However, the plastic material has a problem that the surface hardness is lower than that of the glass material, so that the scratch resistance is poor, and the product is easily deformed in a high-temperature and high-humidity environment and the reliability of the product is lowered.

また、最近では表示装置に表示された画像に、指またはスタイラスペンなどの入力装置を接触する方式で入力を行うタッチパネルが適用されている。タッチパネルは、代表的に抵抗膜方式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとに区分できる。   In recent years, a touch panel has been applied in which an image displayed on a display device is input by touching an input device such as a finger or a stylus pen. The touch panel can be typically classified into a resistive touch panel and a capacitive touch panel.

抵抗膜方式のタッチパネルは、入力装置に圧力を加えたとき、電極間連結によって抵抗が変化することを感知して位置が検出される。静電容量方式のタッチパネルは、指が接触したとき、電極間の静電容量が変化することを感知して位置が検出される。製造方式の便宜性及びセンシング力などを考慮して、小型モデルにおいては最近、静電容量方式が注目されている。このように、タッチパネルが適用される表示装置において、タッチ機能が円滑に駆動されるためには、厚いカバー基板の誘電率が高いことが好ましい。しかし、プラスチック材質の場合は殆ど、強化ガラスに比べて低い誘電率を有するので、プラスチック材質でカバー基板を形成する場合、タッチ感度が落ちるという問題点がある。   When a pressure is applied to the input device, the resistance film type touch panel senses that the resistance changes due to the connection between the electrodes and detects the position. The capacitance type touch panel detects the position by sensing that the capacitance between the electrodes changes when a finger touches the touch panel. In consideration of the convenience of the manufacturing method and the sensing power, the electrostatic capacity method has recently attracted attention in small models. Thus, in a display device to which a touch panel is applied, it is preferable that the dielectric constant of the thick cover substrate is high so that the touch function can be smoothly driven. However, most plastic materials have a dielectric constant lower than that of tempered glass. Therefore, when the cover substrate is formed of a plastic material, there is a problem that touch sensitivity is lowered.

従って、表面硬度が優れ、高温高湿環境下での信頼性が優れ、タッチ感度を低下させることなく成形性が優れたカバー基板を開発する必要性がある。   Therefore, there is a need to develop a cover substrate that has excellent surface hardness, excellent reliability in a high-temperature and high-humidity environment, and excellent moldability without reducing touch sensitivity.

本発明の目的は、柔軟性及び表面硬度が優れるだけでなく、高温高湿環境下においても優れた耐久性を有するカバー基板を含む表示装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a display device including a cover substrate that has not only excellent flexibility and surface hardness but also excellent durability even in a high temperature and high humidity environment.

また、本発明の他の目的は、誘電率が向上したカバー基板を含み、タッチ感度が向上した表示装置を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a display device including a cover substrate having an improved dielectric constant and having improved touch sensitivity.

上記したような従来技術の課題を解決するための本発明の表示装置は、第1基板及び第2基板を含む表示パネルと、前記表示パネルの上に配置され、カーボネート化合物を含むカバー基板とを含み、前記カーボネート化合物が、下記式:   A display device of the present invention for solving the problems of the prior art as described above includes a display panel including a first substrate and a second substrate, and a cover substrate disposed on the display panel and including a carbonate compound. And the carbonate compound has the following formula:

Figure 2016015138
Figure 2016015138

(式中、R〜Rは、それぞれ独立的に水素または炭素数1〜10のアルキルであり、点線は、単結合又は非結合を意味する)で表される化合物を含むことを特徴とする。 (Wherein R 1 to R 4 are each independently hydrogen or alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and the dotted line means a single bond or a non-bond). To do.

本発明によれば、柔軟性及び表面硬度が優れるだけでなく、高温高湿環境下においても優れた耐久性を有するカバー基板を含む表示装置を提供することができる。また、本発明によれば、誘電率が向上したカバー基板を含み、タッチ感度が向上した表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a display device including a cover substrate that has not only excellent flexibility and surface hardness but also excellent durability even in a high-temperature and high-humidity environment. In addition, according to the present invention, it is possible to provide a display device including a cover substrate having an improved dielectric constant and having improved touch sensitivity.

本発明の実施の形態に係る表示装置を示した図面である。1 is a diagram illustrating a display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態に係る表示装置の表示パネルを説明するための図面である。1 is a diagram for explaining a display panel of a display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態に係る表示装置の表示パネルを説明するための図面である。1 is a diagram for explaining a display panel of a display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態に係る表示装置のタッチパネルを説明するための図面である。It is drawing for demonstrating the touchscreen of the display apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る表示装置のタッチパネルを説明するための図面である。It is drawing for demonstrating the touchscreen of the display apparatus which concerns on embodiment of this invention.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参考して詳しく説明する。なお、実施の形態は、当業者に本発明の思想が十分に伝わるようにするための例示であり、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものではなく、他の形態で具体化することもできる。そして図面において、装置の大きさ及び厚さなどは、便宜を図り誇張表現されることもある。なお、本明細書全体にわたり同じ符号は同じ構成要素を示す。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the embodiments are exemplifications so that those skilled in the art can fully understand the idea of the present invention, and the present invention is not limited to these embodiments and is embodied in other forms. You can also. In the drawings, the size and thickness of the apparatus may be exaggerated for convenience. Note that the same reference numerals denote the same components throughout the specification.

図1〜図5を参照して本発明の実施の形態に係る表示装置を説明する。図1は本発明の実施の形態に係る表示装置を示した図面である。図2及び図3は本発明の実施の形態に係る表示装置の表示パネルを説明するための図面である。図4及び図5は本発明の実施の形態に係る表示装置のタッチパネルを説明するための図面である。   A display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a view showing a display device according to an embodiment of the present invention. 2 and 3 are views for explaining a display panel of a display device according to an embodiment of the present invention. 4 and 5 are diagrams for explaining a touch panel of a display device according to an embodiment of the present invention.

図1を示すように、本発明の実施の形態に係る表示装置100は、表示パネル300及びカバー基板200を含むことができる。前記カバー基板200は、前記表示パネル300の上方に配置される。また、本発明の実施の形態に係る表示装置100は、タッチパネル400をさらに含むことができる。   As shown in FIG. 1, the display device 100 according to the embodiment of the present invention may include a display panel 300 and a cover substrate 200. The cover substrate 200 is disposed above the display panel 300. In addition, the display device 100 according to the embodiment of the present invention may further include a touch panel 400.

まず、カバー基板200について説明する。
前記カバー基板200は、表示装置100の最上層に配置され、表示装置100を保護する役割をすることができる。すなわち、前記カバー基板200は、前記カバー基板200の下部に配置された表示パネル300またはタッチパネル400を保護することができる。前記カバー基板200の厚さは700μm〜1000μmに形成される。
First, the cover substrate 200 will be described.
The cover substrate 200 is disposed on the uppermost layer of the display device 100 and may serve to protect the display device 100. That is, the cover substrate 200 can protect the display panel 300 or the touch panel 400 disposed under the cover substrate 200. The cover substrate 200 has a thickness of 700 μm to 1000 μm.

前記カバー基板200は、ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)及びカーボネート化合物を含むことができる。前記カーボネート化合物は、下記式で表わされる化合物を含むことができる。   The cover substrate 200 may include polymethylmethacrylate (PMMA) and a carbonate compound. The carbonate compound may include a compound represented by the following formula.

Figure 2016015138
Figure 2016015138

但し、上記式中、前記R〜Rは、それぞれ独立的に水素または炭素数1〜10のアルキルであり、点線は、単結合又は非結合を意味する。前記R〜Rは水素であることが好ましく、R〜Rは水素であることがさらに好ましい。 However, in said formula, said R < 1 > -R < 4 > is respectively independently hydrogen or a C1-C10 alkyl, and a dotted line means a single bond or a non-bond. R 2 to R 4 are preferably hydrogen, and R 1 to R 4 are more preferably hydrogen.

一方、本発明において、前記カーボネート化合物は、前記カバー基板200の5重量%〜30重量%の含量で含まれることができる。前記カーボネート化合物が5重量%未満で含まれる場合、誘電率、硬度及び柔軟性が相対的に小さく形成される。また、前記カーボネート化合物が30重量%を超えて含まれる場合、前記カバー基板200の機械的物性が変わり、安定性が低下することがある。   Meanwhile, in the present invention, the carbonate compound may be included in an amount of 5 wt% to 30 wt% of the cover substrate 200. When the carbonate compound is included at less than 5% by weight, the dielectric constant, hardness, and flexibility are relatively small. In addition, when the carbonate compound is included in an amount exceeding 30% by weight, the mechanical properties of the cover substrate 200 may change and the stability may decrease.

上記したような本発明のカバー基板200は、従来公知のプラスチック材質のカバー基板に比べて、優れた表面硬度を有する。例えば、前記カバー基板は、8H以上、好ましくは8H〜12H、さらに好ましくは9H〜12Hの鉛筆硬度を有することができる。従って、本発明のカバー基板200を適用した表示装置は、耐スクラッチ性及び耐摩耗性が優れる。   The cover substrate 200 of the present invention as described above has an excellent surface hardness as compared with a conventionally known plastic cover substrate. For example, the cover substrate may have a pencil hardness of 8H or more, preferably 8H to 12H, and more preferably 9H to 12H. Therefore, the display device to which the cover substrate 200 of the present invention is applied is excellent in scratch resistance and wear resistance.

また、前記カバー基板200は、高温高湿環境下で優れた耐久性を有する。例えば、前記カバー基板200は、温度70℃、相対湿度90%の条件下で96時間放置した後に測定した膨張率が、0.1%以下、好ましくは0.05%以下、さらに好ましくは0.02%以下である。   The cover substrate 200 has excellent durability in a high temperature and high humidity environment. For example, the cover substrate 200 has an expansion coefficient measured after being allowed to stand for 96 hours at a temperature of 70 ° C. and a relative humidity of 90%, and is 0.1% or less, preferably 0.05% or less, more preferably 0.00. 02% or less.

また、前記カバー基板200は、柔軟性に優れ、折り曲げ(bending)、折畳み(folding)、ローリング(rolling)等のような多様なデザインに成形可能であるので、フレキシブル表示装置に好ましく適用することができる。例えば、前記カバー基板200は、屈曲度が45mm以下、好ましくは40mm以下、さらに好ましくは20mm〜40mmである。ここで、前記屈曲度は、多様な曲率半径を有する半円柱状のドラム上にカバー基板を付着した後、カバー基板が破損する直前のドラムの半径R値を測定することによって得られる。   Further, the cover substrate 200 is excellent in flexibility and can be formed into various designs such as bending, folding, rolling, and the like, and thus can be preferably applied to a flexible display device. it can. For example, the cover substrate 200 has a bending degree of 45 mm or less, preferably 40 mm or less, and more preferably 20 mm to 40 mm. Here, the bending degree is obtained by measuring a radius R value of the drum immediately after the cover substrate is damaged after the cover substrate is attached on a semi-cylindrical drum having various curvature radii.

また、前記カバー基板200は、高誘電率を有する。前記カバー基板200は、4.0以上の誘電率を有することが好ましい。前記カバー基板200は、4.0〜8.0の誘電率を有することがさらに好ましい。   The cover substrate 200 has a high dielectric constant. The cover substrate 200 preferably has a dielectric constant of 4.0 or more. More preferably, the cover substrate 200 has a dielectric constant of 4.0 to 8.0.

前記タッチパネル400が静電容量方式に形成される場合、タッチ性能は材料の誘電率に影響を受ける。特に、最上層に形成されて指またはスタイラスペンなどの入力装置と隣接するように配置され、表示装置に含まれる多数の基板のうち最も厚い前記カバー基板200の誘電率が、重要な要因として作用する。従って、誘電率が向上した本発明のカバー基板200を用いる場合、タッチ感度(sensitivity)及びタッチ性能が向上した表示装置100を実現することができる。   When the touch panel 400 is formed in a capacitive manner, the touch performance is affected by the dielectric constant of the material. In particular, the dielectric constant of the cover substrate 200, which is the thickest among a number of substrates included in the display device, is formed as the uppermost layer and disposed adjacent to an input device such as a finger or a stylus pen, and acts as an important factor. To do. Therefore, when the cover substrate 200 of the present invention with an improved dielectric constant is used, the display device 100 with improved touch sensitivity and touch performance can be realized.

次に、表示パネル300について説明する。
前記表示パネル300は、液晶表示パネルまたは有機電界発光表示パネルからなることができる。以下、図2を参照して、前記表示パネル300が液晶表示パネルである場合を例に説明する。
Next, the display panel 300 will be described.
The display panel 300 may be a liquid crystal display panel or an organic light emitting display panel. Hereinafter, an example in which the display panel 300 is a liquid crystal display panel will be described with reference to FIG.

図2を示すように、前記表示パネル300は、液晶表示パネルである。前記液晶表示パネル300は、第1基板301と第2基板302との間に液晶層380を挟むことによって形成される。また、図示されないが、前記液晶表示パネル300の下部には、バックライトユニットが配置される。また、図示されないが、第1基板301及び第2基板302の外面には、特定偏光のみを選択的に透過させる偏光板がさらに付着される。   As shown in FIG. 2, the display panel 300 is a liquid crystal display panel. The liquid crystal display panel 300 is formed by sandwiching a liquid crystal layer 380 between a first substrate 301 and a second substrate 302. Although not shown, a backlight unit is disposed below the liquid crystal display panel 300. Although not shown, a polarizing plate that selectively transmits only specific polarized light is further attached to the outer surfaces of the first substrate 301 and the second substrate 302.

前記液晶表示パネル300は、表示領域と非表示領域とに区分される。前記表示領域では、前記第1基板301の一面に、ゲート配線とデータ配線とがゲート絶縁膜352を間に挟んで相互垂直に交差して画素領域を定義する。前記画素領域には、薄膜トランジスター(Thin Film Transistor、TFT)が設けられる。前記薄膜トランジスターは、保護層356に形成されたコンタクトホールを介して、各画素領域に用意された画素電極357と接続される。すなわち、前記第1基板301は、薄膜トランジスター基板またはアレイ基板であることができる。   The liquid crystal display panel 300 is divided into a display area and a non-display area. In the display area, a gate line and a data line intersect each other vertically on one surface of the first substrate 301 with a gate insulating film 352 interposed therebetween to define a pixel area. A thin film transistor (TFT) is provided in the pixel region. The thin film transistor is connected to a pixel electrode 357 prepared in each pixel region through a contact hole formed in the protective layer 356. That is, the first substrate 301 may be a thin film transistor substrate or an array substrate.

前記薄膜トランジスター(TFT)は、ゲート電極351、ゲート絶縁膜352、半導体層353、ソース電極354及びドレーン電極355からなる。また、図面には、前記薄膜トランジスターのゲート電極351が半導体層353の下に配置されるボトムゲート(bottom gate)構造を図示したが、ゲート電極351が半導体層353の上に配置されるトップゲート(top gate)構造に形成することもできる。また、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で、薄膜トランジスターの構成などは、多様な変更及び修正が可能である。   The thin film transistor (TFT) includes a gate electrode 351, a gate insulating film 352, a semiconductor layer 353, a source electrode 354, and a drain electrode 355. In the drawing, a bottom gate structure in which the gate electrode 351 of the thin film transistor is disposed under the semiconductor layer 353 is illustrated. However, a top gate in which the gate electrode 351 is disposed on the semiconductor layer 353 is illustrated. It can also be formed in a (top gate) structure. In addition, various changes and modifications can be made to the configuration of the thin film transistor without departing from the technical idea of the present invention.

また、前記液晶表示パネル300の前記第2基板302の一面には、第1基板301の薄膜トランジスター(TFT)等の非表示領域を覆いながら画素領域を取囲む格子状のブラックマトリックス371が形成される。また、これらの格子内部で各画素領域に対応するように順次繰返し配列されるR(red)、G(green)及びB(blue)のカラーフィルタ層372と、これらを全て覆う透明な共通電極373とを含む。   A grid-like black matrix 371 is formed on one surface of the second substrate 302 of the liquid crystal display panel 300 so as to cover a non-display region such as a thin film transistor (TFT) of the first substrate 301 and surround a pixel region. The In addition, R (red), G (green), and B (blue) color filter layers 372 that are sequentially and repeatedly arranged so as to correspond to the respective pixel regions within these lattices, and a transparent common electrode 373 that covers them all. Including.

前記液晶層380と画素電極357との間及び前記液晶層380と共通電極373との間には、それぞれ第1配光膜358及び第2配光膜374が介在する。前記第1配光膜358及び第2配光膜374は、液晶分子の初期配列状態と配向方向を均一に整列させることができる。   A first light distribution film 358 and a second light distribution film 374 are interposed between the liquid crystal layer 380 and the pixel electrode 357 and between the liquid crystal layer 380 and the common electrode 373, respectively. The first light distribution layer 358 and the second light distribution layer 374 can uniformly align the initial alignment state and the alignment direction of the liquid crystal molecules.

但し、図面は、本発明に係る液晶表示パネルを簡素化して示したものとして、これに限定されるものない。例えば、図面上には1つの薄膜トランジスターで示したが、動作の特性に応じて、前記薄膜トランジスターは1つ以上の薄膜トランジスターの組合から構成することができる。   However, the drawings are not limited to the simplified liquid crystal display panel according to the present invention. For example, although a single thin film transistor is shown in the drawing, the thin film transistor may be composed of a combination of one or more thin film transistors depending on the characteristics of operation.

また、液晶分子の配列を調節する方式は、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード、IPS(In Plane Switching)モード及びFFS(Fringe Field Switching)モードなど多様に適用することができる。これによって、図面上には、画素電極357が第1基板301に形成され、共通電極373は第2基板302に形成される構成を図示したが、画素電極357及び共通電極373の構成も変更及び修正が可能である。IPS(In Plane Switching)モードまたはFFS(Fringe Field Switching)モードの場合、前記画素電極357と共通電極373は、前記第1基板301に形成される。   In addition, a method for adjusting the alignment of liquid crystal molecules can be applied in various ways such as a TN (Twisted Nematic) mode, a VA (Vertical Alignment) mode, an IPS (In Plane Switching) mode, and an FFS (Fringe Field Switching) mode. Accordingly, the configuration in which the pixel electrode 357 is formed on the first substrate 301 and the common electrode 373 is formed on the second substrate 302 is illustrated in the drawing, but the configurations of the pixel electrode 357 and the common electrode 373 are also changed. Correction is possible. In an IPS (In Plane Switching) mode or an FFS (Fringe Field Switching) mode, the pixel electrode 357 and the common electrode 373 are formed on the first substrate 301.

また、前記液晶表示パネル300は、薄膜トランジスター、カラーフィルタ層及びブラックマトリックスが第1基板301に形成され、第2基板302が液晶層を間に挟んで前記第1基板301と接着されるCOT(color filter on transistor)構造の液晶表示パネルからなることもできる。すなわち、前記第1基板301の上に薄膜トランジスターを形成し、前記薄膜トランジスターの上に保護膜を形成し、前記保護膜の上にカラーフィルタ層を形成することができる。また、前記第1基板301には、前記薄膜トランジスターと接触する画素電極を形成する。   In the liquid crystal display panel 300, a thin film transistor, a color filter layer, and a black matrix are formed on a first substrate 301, and a second substrate 302 is bonded to the first substrate 301 with a liquid crystal layer interposed therebetween. It can also consist of a liquid crystal display panel with a color filter on transistor) structure. That is, a thin film transistor may be formed on the first substrate 301, a protective film may be formed on the thin film transistor, and a color filter layer may be formed on the protective film. In addition, a pixel electrode in contact with the thin film transistor is formed on the first substrate 301.

このとき、開口率を向上させ、マスク工程を単純化するために、ブラックマトリックスを省略し、共通電極がブラックマトリックスの役割を兼ねるように、前記第1基板301に形成することもできる。   At this time, in order to improve the aperture ratio and simplify the mask process, the black matrix may be omitted, and the common electrode may be formed on the first substrate 301 so as to function as a black matrix.

すなわち、液晶表示パネル300は、図示されたものに限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で、薄膜トランジスターの構成などは多様な変更及び修正が可能である。   That is, the liquid crystal display panel 300 is not limited to the illustrated one, and various changes and modifications can be made to the configuration of the thin film transistor without departing from the technical idea of the present invention.

以下、図3を参照して、前記表示パネル300が有機電界発光表示パネルである場合を例に説明する。   Hereinafter, a case where the display panel 300 is an organic light emitting display panel will be described with reference to FIG.

図3を示すように、前記表示パネル300は、有機電界発光表示パネルである。前記有機電界発光表示パネル300は、薄膜トランジスター(TFT)及び前記薄膜トランジスター(TFT)と電気的に連結された有機発光素子(OL)が形成された第1基板301と、前記有機発光素子(OL)を保護するための第2基板302とを含む。前記第1基板301と前記第2基板302との間には、シール層324が形成される。図面上には、前記シール層324を単一層として図示したが、前記シール層324は、保護層及び接着層など多数の層から構成することができる。   As shown in FIG. 3, the display panel 300 is an organic light emitting display panel. The organic light emitting display panel 300 includes a first substrate 301 having a thin film transistor (TFT) and an organic light emitting device (OL) electrically connected to the thin film transistor (TFT), and the organic light emitting device (OL). ) To protect the second substrate 302. A seal layer 324 is formed between the first substrate 301 and the second substrate 302. Although the sealing layer 324 is illustrated as a single layer in the drawing, the sealing layer 324 may be composed of a number of layers such as a protective layer and an adhesive layer.

前記有機電界発光表示パネル300は、表示領域と非表示領域とに区分できる。前記有機電界発光表示パネル300の表示領域において、第1基板301上の一面には薄膜トランジスター(TFT)が形成される。前記薄膜トランジスター(TFT)は、半導体層311、ゲート電極313、ソース電極315及びドレーン電極316を含んで形成される。   The organic light emitting display panel 300 can be divided into a display area and a non-display area. A thin film transistor (TFT) is formed on one surface of the first substrate 301 in the display area of the organic light emitting display panel 300. The thin film transistor (TFT) includes a semiconductor layer 311, a gate electrode 313, a source electrode 315, and a drain electrode 316.

詳しくは、前記第1基板301の上に、ソース領域311a、チャネル領域311b及びドレイン領域311cを含む半導体層311が形成される。前記半導体層311の上にゲート絶縁膜312が形成され、前記ゲート絶縁膜312の上にゲート配線と前記ゲート配線から分岐されたゲート電極313とが形成される。前記ゲート配線及びゲート電極313上に層間絶縁膜314が形成される。   Specifically, a semiconductor layer 311 including a source region 311a, a channel region 311b, and a drain region 311c is formed on the first substrate 301. A gate insulating film 312 is formed on the semiconductor layer 311, and a gate wiring and a gate electrode 313 branched from the gate wiring are formed on the gate insulating film 312. An interlayer insulating layer 314 is formed on the gate line and gate electrode 313.

前記層間絶縁膜314を間に挟んでゲート配線と交差して画素領域を定義するデータ配線と、前記データ配線から分岐されたソース電極315及び前記ソース電極315から一定間隔離隔してドレーン電極316が形成される。このとき、前記ソース電極315及びドレーン電極316のそれぞれは、前記ゲート電極313上に形成された層間絶縁膜314とゲート絶縁膜312とを貫通して形成されたコンタクトホールを介して、前記半導体層311のソース領域311a及びドレイン領域311cとそれぞれ接触する。   A data line defining a pixel region intersecting the gate line with the interlayer insulating film 314 interposed therebetween, a source electrode 315 branched from the data line, and a drain electrode 316 spaced apart from the source electrode 315 by a certain distance. It is formed. At this time, each of the source electrode 315 and the drain electrode 316 is connected to the semiconductor layer through a contact hole formed through the interlayer insulating film 314 and the gate insulating film 312 formed on the gate electrode 313. 311 is in contact with the source region 311a and the drain region 311c.

前記ソース電極315及びドレーン電極316上には保護膜317が形成され、前記保護膜317には前記ドレーン電極316を露出するコンタクトホールが形成される。前記露出されたドレーン電極316は、前記保護膜317上に形成された連結電極318と電気的に連結される。前記薄膜トランジスター(TFT)を含む第1基板301前面に平坦化膜319が形成され、前記平坦化膜319には、前記連結電極318が露出するコンタクトホールが形成される。   A protective film 317 is formed on the source electrode 315 and the drain electrode 316, and a contact hole that exposes the drain electrode 316 is formed in the protective film 317. The exposed drain electrode 316 is electrically connected to a connection electrode 318 formed on the protective layer 317. A planarization film 319 is formed on the front surface of the first substrate 301 including the thin film transistor (TFT), and a contact hole in which the connection electrode 318 is exposed is formed in the planarization film 319.

前記平坦化膜319に形成されたコンタクトホールを介して薄膜トランジスター(TFT)と電気的に連結される有機発光素子(OL)が形成される。前記有機発光素子(OL)は、下部電極320、有機発光層322及び上部電極323からなる。   An organic light emitting device (OL) that is electrically connected to a thin film transistor (TFT) through a contact hole formed in the planarization layer 319 is formed. The organic light emitting device (OL) includes a lower electrode 320, an organic light emitting layer 322, and an upper electrode 323.

より詳しくは、前記露出された連結電極318の上に、有機発光素子(OL)の下部電極320が形成される。図面上には、有機発光素子(OL)の下部電極320と薄膜トランジスター(TFT)のドレーン電極316が連結電極318を介して連結されるように図示されているが、連結電極318が省略され、有機発光素子(OL)の下部電極320と薄膜トランジスター(TFT)のドレーン電極116とが、コンタクトホールが形成された平坦化膜319を介して直接接触するように形成することもできる。その分、前記保護膜317も前記有機電界発光表示パネル300から除去することができる。   More specifically, the lower electrode 320 of the organic light emitting device (OL) is formed on the exposed connection electrode 318. In the drawing, the lower electrode 320 of the organic light emitting device (OL) and the drain electrode 316 of the thin film transistor (TFT) are connected through the connection electrode 318, but the connection electrode 318 is omitted. The lower electrode 320 of the organic light emitting device (OL) and the drain electrode 116 of the thin film transistor (TFT) may be formed so as to be in direct contact with each other through the planarization film 319 in which the contact hole is formed. Accordingly, the protective layer 317 can be removed from the organic light emitting display panel 300.

前記下部電極320の上には、画素領域単位で前記下部電極320を露出するバンク(bank)パターン321が形成される。前記露出された下部電極320の上には有機発光層322が形成される。前記有機発光層322は、発光物質からなる単一層、または、発光効率を向上させるために正孔注入層(hole injection layer)、正孔輸送層(hole transporting layer)、発光層(emitting material layer)、電子輸送層(electron transporting layer)、及び電子注入層(electron injection layer)の多重層に構成することができる。   A bank pattern 321 is formed on the lower electrode 320 to expose the lower electrode 320 in pixel area units. An organic light emitting layer 322 is formed on the exposed lower electrode 320. The organic light emitting layer 322 may be a single layer made of a light emitting material, or a hole injection layer, a hole transporting layer, a light emitting layer (emitting material layer) to improve light emission efficiency. In addition, it can be configured as a multiple layer of an electron transporting layer and an electron injection layer.

前記有機発光層322の上に、上部電極323が形成される。前記下部電極320がアノード(anode)である場合、前記上部電極323はカソード(cathode)であり、前記下部電極320がカソード(cathode)である場合、前記上部電極はアノード(anode)である。   An upper electrode 323 is formed on the organic light emitting layer 322. When the lower electrode 320 is an anode, the upper electrode 323 is a cathode, and when the lower electrode 320 is a cathode, the upper electrode is an anode.

前記薄膜トランジスター(TFT)及び前記有機発光素子(OL)が形成された第1基板301の上には、密封部が形成される。例えば、前記上部電極323の上には、表示素子を保護するシール層324が形成される。前記シール層324は、多数の層からなることもでき、または第2基板302と接着することができる。前記第2基板302は、カプセル化(encapsulation)のための封止基板からなることができる。但し、前記第1基板301の上に配置される密封部は、前記シール層324及び前記第2基板302に限定されず、酸素または水分などの流入を防ぐために、周知の多様な形態の密封部を適用することができる。   A sealing part is formed on the first substrate 301 on which the thin film transistor (TFT) and the organic light emitting device (OL) are formed. For example, a seal layer 324 that protects the display element is formed on the upper electrode 323. The sealing layer 324 may include a plurality of layers or may be bonded to the second substrate 302. The second substrate 302 may be a sealing substrate for encapsulation. However, the sealing part disposed on the first substrate 301 is not limited to the sealing layer 324 and the second substrate 302, and various known sealing parts may be used to prevent inflow of oxygen or moisture. Can be applied.

また、本発明に係る有機電界発光表示装置の構成は、図示されたものに限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で、多様な変更及び修正が可能である。   In addition, the configuration of the organic light emitting display according to the present invention is not limited to that illustrated, and various changes and modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

次に、タッチパネル400について説明する。
前記タッチパネル400は、外装型(Add-on Type)タッチパネル400からなることができる。また、前記タッチパネル400は、内蔵型(Integrated Type)タッチパネル400からなることができる。
Next, the touch panel 400 will be described.
The touch panel 400 may be an add-on type touch panel 400. The touch panel 400 may include an integrated type touch panel 400.

前記タッチパネル400が外装型タッチパネル400である場合、前記タッチパネル400は、前記表示パネル300と区分される別途の構成からなることができる。前記タッチパネル400と前記表示パネル300との間には、透明接着層(未図示)が形成される。   When the touch panel 400 is an exterior touch panel 400, the touch panel 400 may have a separate configuration that is separated from the display panel 300. A transparent adhesive layer (not shown) is formed between the touch panel 400 and the display panel 300.

ここで、前記タッチパネル400は、カバー基板200と区分される別途の構成で形成、または、前記カバー基板200と一体形成される。前記タッチパネル400が前記カバー基板200と区分される別途の構成で形成される場合、前記タッチパネル400と前記カバー基板200との間に透明接着層(未図示)が形成される。前記タッチパネル400が前記カバー基板200と一体で形成される場合、前記カバー基板200の背面に感知電極などが形成される。すなわち、前記タッチパネル400と前記カバー基板200との間に別途の接着層が不必要となる。   Here, the touch panel 400 may be formed in a separate configuration separated from the cover substrate 200 or may be integrally formed with the cover substrate 200. When the touch panel 400 is formed with a separate configuration separated from the cover substrate 200, a transparent adhesive layer (not shown) is formed between the touch panel 400 and the cover substrate 200. When the touch panel 400 is formed integrally with the cover substrate 200, a sensing electrode or the like is formed on the back surface of the cover substrate 200. That is, a separate adhesive layer is unnecessary between the touch panel 400 and the cover substrate 200.

前記タッチパネル400が内蔵型タッチパネル400である場合、前記タッチパネル400は、前記表示パネル300と一体で形成される。すなわち、前記タッチパネル400と前記表示パネル300との間には別途の接着層が不必要となる。前記タッチパネル400は、オンセル型(On-cell Type)またはインセル型(In-cell Type)に形成することができる。   When the touch panel 400 is a built-in touch panel 400, the touch panel 400 is formed integrally with the display panel 300. That is, a separate adhesive layer is unnecessary between the touch panel 400 and the display panel 300. The touch panel 400 may be formed as an on-cell type or an in-cell type.

前記タッチパネル400がオンセル型(On-cell Type)である場合、前記表示パネル300の上面に感知電極などが形成される。詳しくは、前記表示パネル300の上部に配置された基板の上に、感知電極などが直接形成される。また、前記外装型タッチパネル400のように、前記タッチパネル400は、カバー基板200と区分される別途の構成で形成、または、前記カバー基板200と一体で形成される。   When the touch panel 400 is an on-cell type, a sensing electrode or the like is formed on the upper surface of the display panel 300. In detail, a sensing electrode and the like are directly formed on a substrate disposed on the display panel 300. In addition, like the exterior touch panel 400, the touch panel 400 is formed with a separate configuration separated from the cover substrate 200, or formed integrally with the cover substrate 200.

前記タッチパネル400がインセル型(In-cell Type)である場合、前記表示パネル300の第1基板と第2基板との間に感知電極などが形成される。すなわち、前記表示パネル300に素子が形成されるときに感知電極などが一緒に形成される。この時、前記カバー基板200は、前記タッチパネル400と区分される別途の構成で形成される。また、前記カバー基板200と前記表示パネル300との間に透明接着層が形成される。   When the touch panel 400 is an in-cell type, a sensing electrode or the like is formed between the first substrate and the second substrate of the display panel 300. That is, when an element is formed on the display panel 300, a sensing electrode and the like are formed together. At this time, the cover substrate 200 is formed in a separate configuration separated from the touch panel 400. In addition, a transparent adhesive layer is formed between the cover substrate 200 and the display panel 300.

以下、図4及び図5を参照して、前記タッチパネル400に対してより詳しく説明する。図4及び図5は、外装型タッチパネルのうち、カバー基板200と区分される別途の構成で形成される一例を図示したものとして、タッチパネル400の構成は、図示されたものに限定されない。前記タッチパネル400は、上記したように、外装型及び内蔵型タッチパネルを両方とも適用することができる。   Hereinafter, the touch panel 400 will be described in more detail with reference to FIGS. 4 and 5. 4 and 5 illustrate an example of an external touch panel formed with a separate configuration separated from the cover substrate 200, the configuration of the touch panel 400 is not limited to that illustrated. As described above, both the exterior type and the built-in type touch panel can be applied to the touch panel 400.

図4及び図5を示すように、前記タッチパネル400は、光が透過する表示領域(AA)及び光が透過しない非表示領域(IA)に区分できる。詳しくは、前記表示領域(AA)は、使用者のタッチ命令入力が可能な領域を意味し、前記非表示領域(IA)は、前記表示領域(AA)と反対となる概念として、使用者のタッチがなされた場合にも活性化しないので、タッチ命令入力が不可能な領域を意味する。   As shown in FIGS. 4 and 5, the touch panel 400 can be divided into a display area (AA) where light is transmitted and a non-display area (IA) where light is not transmitted. Specifically, the display area (AA) means an area where a user can input a touch command, and the non-display area (IA) is a concept opposite to the display area (AA). Since it is not activated even when a touch is made, it means an area where a touch command cannot be input.

図4を示すように、前記タッチパネル400は、タッチ基板401の一面に感知電極410及び配線420が配置される。前記タッチ基板401は、強化ガラス、半強化ガラス、ソーダライムガラス、強化プラスチックまたは軟性プラスチックを含むことができるが、これに限定されるものではない。   As shown in FIG. 4, the touch panel 400 includes a sensing electrode 410 and a wiring 420 disposed on one surface of a touch substrate 401. The touch substrate 401 may include tempered glass, semi-tempered glass, soda lime glass, tempered plastic, or soft plastic, but is not limited thereto.

前記感知電極410は、前記表示領域(AA)の上に配置され、前記配線420は、前記非表示領域(IA)の上に配置される。図示されないが、前記タッチ基板401の非表示領域(IA)には、印刷層がさらに形成される。また、前記印刷層の上に配線420が形成される。   The sensing electrode 410 is disposed on the display area (AA), and the wiring 420 is disposed on the non-display area (IA). Although not shown, a printed layer is further formed in the non-display area (IA) of the touch substrate 401. A wiring 420 is formed on the printed layer.

前記感知電極410は、伝導性物質を含むことができる。例えば、前記感知電極410は、透明伝導性物質、金属、ナノワイヤー、感光性ナノワイヤーフィルム、カーボンナノチューブ(CNT)、グラフェン(graphene)、伝導性ポリマー、及びこれらの組合からなる群れから選択されるいずれか1つを含むことができる。   The sensing electrode 410 may include a conductive material. For example, the sensing electrode 410 is selected from the group consisting of a transparent conductive material, metal, nanowire, photosensitive nanowire film, carbon nanotube (CNT), graphene, conductive polymer, and combinations thereof. Any one can be included.

前記感知電極410は、第1感知電極411及び第2感知電極412を含むことができる。前記第1感知電極411及び前記第2感知電極412は、相互に同じ物質または相互に異なる物質を含むことができる。また、前記第1感知電極411及び前記第2感知電極412は、第1タッチ基板401の同じ一面上に配置することができる。   The sensing electrode 410 may include a first sensing electrode 411 and a second sensing electrode 412. The first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may include the same material or different materials. In addition, the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may be disposed on the same surface of the first touch substrate 401.

前記第1感知電極411及び前記第2感知電極412がタッチ基板401の同じ一面上に配置される場合、前記第1感知電極411及び前記第2感知電極412が相互に接しないように形成する必要がある。このために、絶縁層とブリッジ電極とがさらに配置される。   When the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 are disposed on the same surface of the touch substrate 401, the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 need not be in contact with each other. There is. For this purpose, an insulating layer and a bridge electrode are further arranged.

詳しくは、前記第1感知電極411及び前記第2感知電極412のいずれか1つの感知電極は絶縁層の下部に配置され、他の1つは、前記絶縁層の上に形成された前記ブリッジ電極の両端に連結されて電気的に連結される。これによって、前記第1感知電極411と前記第2感知電極412とは、ブリッジ電極と絶縁層によって、ショートして短絡することなく、それぞれ電気的に連結される。   Specifically, one of the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 is disposed under the insulating layer, and the other is the bridge electrode formed on the insulating layer. Are electrically connected to both ends of each other. Accordingly, the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 are electrically connected to each other by the bridge electrode and the insulating layer without being short-circuited and short-circuited.

前記第1感知電極411及び前記第2感知電極412は、前記表示領域(AA)の上に配置されてタッチを感知するセンサーの役割をすることができる。詳しくは、前記第1感知電極411は、前記表示領域(AA)の上で一方向に延長配置され、前記第2感知電極412は、前記一方向と異なる方向に延長配置される。   The first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may be disposed on the display area AA and serve as a sensor that senses a touch. In detail, the first sensing electrode 411 extends in one direction on the display area AA, and the second sensing electrode 412 extends in a direction different from the one direction.

前記配線420は、第1配線421及び第2配線422を含むことができる。詳しくは、前記配線420は、前記第1感知電極411と連結される前記第1配線421及び前記第2感知電極412と連結される前記第2配線422を含むことができる。   The wiring 420 may include a first wiring 421 and a second wiring 422. In detail, the wiring 420 may include the first wiring 421 connected to the first sensing electrode 411 and the second wiring 422 connected to the second sensing electrode 412.

前記第1配線421及び前記第2配線422は、印刷回路基板(未図示)と連結される。詳しくは、前記第1配線421及び前記第2配線422は、前記第1感知電極411及び前記第2感知電極412から感知されるタッチ信号を、駆動チップ(未図示)が実装された前記印刷回路基板(未図示)に伝達してタッチ動作を実行する。前記印刷回路基板(未図示)は、例えば、フレキシブル印刷回路基板(FPCB)からなることができる。   The first wiring 421 and the second wiring 422 are connected to a printed circuit board (not shown). In detail, the first wiring 421 and the second wiring 422 may be configured such that the touch circuit sensed from the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 is a printed circuit on which a driving chip (not shown) is mounted. It is transmitted to a substrate (not shown) to execute a touch operation. The printed circuit board (not shown) may be a flexible printed circuit board (FPCB), for example.

前記第1配線421及び前記第2配線422は、伝導性物質を含むことができる。例えば、前記第1配線421及び前記第2配線422は、銀(Ag)または銅(Cu)等の金属物質を含むことができる。   The first wiring 421 and the second wiring 422 may include a conductive material. For example, the first wiring 421 and the second wiring 422 may include a metal material such as silver (Ag) or copper (Cu).

図示されないが、前記配線420の上には保護層(未図示)がさらに形成される。前記保護層(未図示)は、前記配線420を保護することができる。具体的に、前記保護層(未図示)は、前記配線420が酸素に露出されて酸化されたり、水分が浸透して信頼性が低下することを防止することができる。   Although not shown, a protective layer (not shown) is further formed on the wiring 420. The protective layer (not shown) can protect the wiring 420. Specifically, the protective layer (not shown) can prevent the wiring 420 from being exposed to oxygen and being oxidized, or moisture from penetrating and lowering reliability.

図5を示すように、前記タッチパネル400は、第1タッチ基板402と第2タッチ基板403とを含むことができる。前記第1タッチ基板402及び前記第2タッチ基板403は、強化ガラス、半強化ガラス、ソーダライムガラス、強化プラスチックまたは軟性プラスチックを含むことができるが、これに限定されるものではない。前記第1タッチ基板402及び前記第2タッチ基板403は、光学用透明接着剤(OCA)等の透明接着剤を用いて接着することができる。   As shown in FIG. 5, the touch panel 400 may include a first touch substrate 402 and a second touch substrate 403. The first touch substrate 402 and the second touch substrate 403 may include tempered glass, semi-tempered glass, soda lime glass, tempered plastic, or soft plastic, but are not limited thereto. The first touch substrate 402 and the second touch substrate 403 can be bonded using a transparent adhesive such as an optical transparent adhesive (OCA).

前記第1タッチ基板402の表示領域(AA)には、第1感知電極411が配置される。また、前記第1タッチ基板402の非表示領域(IA)には、前記第1感知電極411と連結される第1配線421が配置される。   A first sensing electrode 411 is disposed in the display area (AA) of the first touch substrate 402. In addition, a first wiring 421 connected to the first sensing electrode 411 is disposed in the non-display area (IA) of the first touch substrate 402.

前記第2タッチ基板403の表示領域(AA)には、第2感知電極412が配置される。また、前記第2タッチ基板403の非表示領域(IA)には、前記第2感知電極412と連結される第2配線422が配置される。また、前記第1配線421及び前記第2配線422は、それぞれ印刷回路基板(未図示)と電気的に連結される。   A second sensing electrode 412 is disposed in the display area (AA) of the second touch substrate 403. In addition, a second wiring 422 connected to the second sensing electrode 412 is disposed in the non-display area (IA) of the second touch substrate 403. The first wiring 421 and the second wiring 422 are electrically connected to a printed circuit board (not shown).

なお、タッチパネル400は図面及び上記説明に限定されず、指またはスタイラスペンなどを利用して表示装置の前面(front face)から接触する方式で入力できる入力装置であればよい。すなわち、前記タッチパネル400は、一般的に用いられるものであれば、制限されることなく適用することができる。   Note that the touch panel 400 is not limited to the drawings and the above description, and may be any input device that can input by using a finger or a stylus pen or the like from the front face of the display device. That is, the touch panel 400 can be applied without limitation as long as it is generally used.

以下、実施例によって本発明をより詳しく説明するが、以下の実施例は本発明を例示するものであり、本発明を制限するものではない。すなわち、本発明の実施例は、多様な形態に変形することができ、本発明の範囲が以下の実施例によって限定解釈されてはならない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, a following example illustrates this invention and does not restrict | limit this invention. In other words, the embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be limitedly interpreted by the following embodiments.

[実施例1]
ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)90重量%及びエチレンカーボネート10重量%を混合して形成された樹脂組成物を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Example 1]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using a resin composition formed by mixing 90% by weight of polymethylmethacrylate (PMMA) and 10% by weight of ethylene carbonate.

[実施例2]
ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)85重量%及びエチレンカーボネート15重量%を混合して形成された樹脂組成物を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Example 2]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using a resin composition formed by mixing 85% by weight of polymethylmethacrylate (PMMA) and 15% by weight of ethylene carbonate.

[実施例3]
ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)80重量%及びエチレンカーボネート20重量%を混合して形成された樹脂組成物を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Example 3]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using a resin composition formed by mixing 80% by weight of polymethylmethacrylate (PMMA) and 20% by weight of ethylene carbonate.

[比較例1]
ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)樹脂を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Comparative Example 1]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using polymethylmethacrylate (PMMA) resin.

[比較例2]
ポリメチルメタクリレートとスチレンの共重合体樹脂(ポリメチルメタクリレート:スチレン=60重量%:40重量%)を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Comparative Example 2]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using a copolymer resin of polymethyl methacrylate and styrene (polymethyl methacrylate: styrene = 60 wt%: 40 wt%).

[比較例3]
ポリメチルメタクリレート樹脂とポリカーボネート樹脂を共押出して、厚さ0.1mmのポリメチルメタクリレート層と、厚さ0.7mmのポリカーボネート層からなるカバー基板を製造した。
[Comparative Example 3]
A polymethyl methacrylate resin and a polycarbonate resin were coextruded to produce a cover substrate composed of a polymethyl methacrylate layer having a thickness of 0.1 mm and a polycarbonate layer having a thickness of 0.7 mm.

[比較例4]
ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)90重量%及びゴム(製品名:cis−1220)10重量%を混合して形成された樹脂組成物を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Comparative Example 4]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using a resin composition formed by mixing 90% by weight of polymethylmethacrylate (PMMA) and 10% by weight of rubber (product name: cis-1220). .

[比較例5]
ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)85重量%及びゴム(製品名:cis−1220)15重量%を混合して形成された樹脂組成物を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Comparative Example 5]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using a resin composition formed by mixing 85% by weight of polymethylmethacrylate (PMMA) and 15% by weight of rubber (product name: cis-1220). .

[比較例6]
ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)90重量%及びジルコニア(Zirconia、ZrO2)10重量%を混合して形成された樹脂組成物を利用して、厚さ0.8mmのカバー基板を製造した。
[Comparative Example 6]
A cover substrate having a thickness of 0.8 mm was manufactured using a resin composition formed by mixing 90% by weight of polymethylmethacrylate (PMMA) and 10% by weight of zirconia (Zirconia, ZrO 2 ).

[比較例7]
比較例1によって製造されたポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)の含有量が100重量%である基板の上に、AZO(Aluminum-doped Zinc Oxide)を0.5μmの厚さでコーティングして、カバー基板を製造した。
[Comparative Example 7]
A substrate having a polymethylmethacrylate (PMMA) content of 100% by weight manufactured according to Comparative Example 1 was coated with AZO (Aluminum-doped Zinc Oxide) at a thickness of 0.5 μm, and the cover was covered. A substrate was manufactured.

[実験例]
前記実施例1〜3及び比較例1〜7によって製造されたカバー基板の透過率、ヘイズ、誘電率、表面硬度、熱変形温度、高温高湿下での膨張率、柔軟性、及び耐久性を、以下のように測定した。測定結果は、以下の表1に示した。
[Experimental example]
The transmittance, haze, dielectric constant, surface hardness, thermal deformation temperature, expansion coefficient under high temperature and high humidity, flexibility, and durability of the cover substrates manufactured by Examples 1-3 and Comparative Examples 1-7. The measurement was performed as follows. The measurement results are shown in Table 1 below.

(1)透過率、ヘイズ
カバー基板試料を10mm×10mmの大きさに切り出し、デジタルヘーズメーター(モデル名:TC-HIIIDPK/III、Tokyo Denshoku製)を用いて全透過光、拡散光、平行光を測定した後、これによって透過率とヘイズを算出した。
(1) Transmittance, haze A cover substrate sample is cut into a size of 10 mm × 10 mm, and all transmitted light, diffused light, and parallel light are obtained using a digital haze meter (model name: TC-HIIIDPK / III, manufactured by Tokyo Denshoku). After the measurement, the transmittance and haze were calculated.

(2)誘電率
Precision impedance analyzer(モデル名:E4980A、日立製)を用いて、3V印加状態で周波数1KHz〜1MHzまでの誘電率を測定した。測定に使用された試料は、100mm〜900mmの大きさで上下面に厚さ20nm〜100nmのPtコーティング処理をした。測定方法としては、上下面のコーティング層に、それぞれのプローブ(probe)を接触させて電圧を印加し、電荷量を測定することで誘電率を算出する方法を用いた。
(2) Dielectric constant
Using a precision impedance analyzer (model name: E4980A, manufactured by Hitachi), a dielectric constant of a frequency from 1 KHz to 1 MHz was measured with 3 V applied. Samples used for measurement were the Pt coated thick 20nm~100nm the upper and lower surfaces with the size of 100mm 2 ~900mm 2. As a measurement method, a method was used in which a dielectric constant was calculated by measuring the amount of charge by applying a voltage by contacting each probe to the upper and lower coating layers.

(3)表面硬度
鉛筆先端をサンドペーパー400cWにて平坦化した後、鉛筆を試料表面に45度となるように調節して測定した。試料表面にスクラッチが発生していれば、測定に使用された鉛筆より一段階低い鉛筆硬度を表面硬度値とした。
(3) Surface hardness After the pencil tip was flattened with sandpaper 400cW, the pencil was adjusted to 45 degrees on the sample surface and measured. If scratches were generated on the sample surface, the pencil hardness one step lower than the pencil used for the measurement was taken as the surface hardness value.

(4)熱変形温度
熱変形温度は、DMA(Dynamic Mechanical Analysis)を利用して、昇温条件5℃/分、10g荷重下で、三点曲げ(3-point bending)方式によって測定した。
(4) Thermal deformation temperature The thermal deformation temperature was measured by a 3-point bending method using DMA (Dynamic Mechanical Analysis) under a temperature rising condition of 5 ° C./min and a load of 10 g.

(5)高温高湿下での膨張率
カバー基板を、温度70℃、相対湿度90%の条件下で96時間放置後、膨張率を測定した。膨張率は、以下の式によって計算した。
膨張率(%)={(放置後のカバー基板の長さ−放置前のカバー基板の長さ)/(放置前のカバー基板の長さ)}×100
(5) Expansion coefficient under high temperature and high humidity The expansion coefficient was measured after the cover substrate was allowed to stand for 96 hours under conditions of a temperature of 70 ° C. and a relative humidity of 90%. The expansion coefficient was calculated by the following formula.
Expansion rate (%) = {(length of the cover substrate after being left-length of the cover substrate before being left) / (length of the cover substrate before being left)} × 100

(6)柔軟性
コボ基板を100mm×30mmの大きさに切り出し、多様な曲率半径を有するドラムの上にカバー基板を付着した後、カバー基板が破損する直前のドラムの半径Rを屈曲度として、柔軟性を評価した。
(6) Flexibility After cutting the cobo substrate into a size of 100 mm × 30 mm and attaching the cover substrate onto a drum having various radii of curvature, the radius R of the drum immediately before the cover substrate is broken is defined as the degree of bending. Flexibility was evaluated.

(7)耐久性
22gのSUSボール(ball)を落下させ、破損現象が発生する高さを測定した。
(7) Durability A 22 g SUS ball was dropped, and the height at which breakage occurred was measured.

Figure 2016015138
Figure 2016015138

前記表1から、実施例1〜3及び比較例1〜5、7のカバー基板は、透過率が90%以上であり、ヘイズが1未満と低く、透明であることが分かる。これに比べて、比較例6の場合、透過率が90%以下であり、ヘイズが3.4と高く、表示装置には適していない。   From Table 1, it can be seen that the cover substrates of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 and 7 have a transmittance of 90% or more, a haze of less than 1, and are transparent. On the other hand, in the case of Comparative Example 6, the transmittance is 90% or less and the haze is as high as 3.4, which is not suitable for the display device.

また、前記表1から、実施例1〜3のカバー基板は、誘電率が4.0以上と高く、比較例1〜4及び7のカバー基板に比べて、タッチ感度及びタッチ性能の具現に有利であることが分かる。   Further, from Table 1, the cover substrates of Examples 1 to 3 have a high dielectric constant of 4.0 or higher, which is advantageous in realizing touch sensitivity and touch performance as compared with the cover substrates of Comparative Examples 1 to 4 and 7. It turns out that it is.

また、前記表1から、実施例1〜3のカバー基板は、表面硬度が9Hと高硬度であることが分かる。これに比べて、比較例2〜5及び7の場合、表面硬度が低く、カバー基板には適していない。   Moreover, it can be seen from Table 1 that the cover substrates of Examples 1 to 3 have a high surface hardness of 9H. In comparison, Comparative Examples 2 to 5 and 7 have low surface hardness and are not suitable for the cover substrate.

また、前記表1から、実施例1〜3のカバー基板は、熱変形温度が70℃を超えることを確認できた。一般的に、カバー基板は、印刷乾燥工程温度が70℃内外であるので、加工工程性を確保するためには、熱変形温度は70℃以上の温度で形成されなければならない。   Moreover, from Table 1, it was confirmed that the cover substrates of Examples 1 to 3 had a heat distortion temperature exceeding 70 ° C. In general, the cover substrate has a printing drying process temperature of 70 ° C. or outside, so that the heat deformation temperature must be formed at a temperature of 70 ° C. or higher in order to ensure the processability.

また、前記表1から、実施例1〜3のカバー基板は、高温高湿環境下でのサイズ変化率(膨張率)が0.01%として非常に低い反面、比較例1〜2、4〜7は実施例1〜3に比べて、サイズ変化率が高いことが分かる。   Moreover, from the said Table 1, although the cover substrate of Examples 1-3 is very low as 0.01% of the size change rate (expansion rate) in a high-temperature, high-humidity environment, Comparative Examples 1-2, 4- 7 shows that the size change rate is higher than that of Examples 1 to 3.

また、前記表1から、実施例1〜3のカバー基板は、屈曲度が45mm以下であるため成形性が優れている反面、比較例6は屈曲度が低く、フレキシブル基板への適用は困難であることが分かる。従って、実施例によると、誘電率が高く且つ屈曲度に優れたフレキシブル基板を作製することができる。   Further, from Table 1, the cover substrates of Examples 1 to 3 have excellent formability because the degree of bending is 45 mm or less, while Comparative Example 6 has a low degree of bending and is difficult to apply to a flexible substrate. I understand that there is. Therefore, according to the embodiment, a flexible substrate having a high dielectric constant and excellent flexibility can be produced.

以上の実施例に例示された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも1つの実施例に含まれ、必ず1つの実施例に限定されるものではない。また、各実施例で例示された特徴、構造、効果などは、実施例が属する分野で通常の知識を有する者によって、他の実施例に対して組合または変形して実施可能であり、このような組合と変形に係る内容は、本発明の範囲に含まれると解釈されるべきである。   Features, structures, effects, and the like exemplified in the above embodiments are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to one embodiment. In addition, the features, structures, effects, etc. exemplified in each embodiment can be implemented by combining or modifying other embodiments by a person having ordinary knowledge in the field to which the embodiment belongs. The contents relating to various combinations and modifications should be construed as being included in the scope of the present invention.

また、以上では実施例を中心に説明したが、これは単なる例示であり、本発明を限定するのではない。本発明が属する分野で通常の知識を有した者であれば、本実施例の本質的な特性を逸脱しない範囲内で、以上に例示されていない多様な変形と応用が可能であるは自明である。例えば、実施例に具体的に提示された各構成要素は、変形して実施することができる。そして、そのような変形と応用に係る差異点も、添付した請求の範囲で規定する本発明の範囲に含まれると解釈されるべきである。   In addition, the embodiment has been described mainly with reference to the embodiment, but this is merely an example and does not limit the present invention. It is obvious that a person having ordinary knowledge in the field to which the present invention belongs can make various modifications and applications not exemplified above without departing from the essential characteristics of the present embodiment. is there. For example, each component specifically presented in the embodiments can be modified and implemented. And the difference which concerns on such a deformation | transformation and application should be construed to be included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

Claims (10)

第1基板及び第2基板を含む表示パネルと、
前記表示パネルの上に配置され、カーボネート化合物を含むカバー基板と
を含み、
前記カーボネート化合物が、下記式:
Figure 2016015138
(式中、R〜Rは、それぞれ独立的に水素または炭素数1〜10のアルキルであり、点線は、単結合又は非結合を意味する)で表される化合物を含むことを特徴とする表示装置。
A display panel including a first substrate and a second substrate;
A cover substrate disposed on the display panel and including a carbonate compound;
The carbonate compound has the following formula:
Figure 2016015138
(Wherein R 1 to R 4 are each independently hydrogen or alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and the dotted line means a single bond or a non-bond). Display device.
前記R〜Rは、水素であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein R 2 to R 4 are hydrogen. 前記カーボネート化合物がエチレンカーボネートであることを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the carbonate compound is ethylene carbonate. 前記Rは、水素であることを特徴とする請求項1又は2に記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein R 1 is hydrogen. 前記カーボネート化合物は、前記カバー基板の5重量%〜30重量%で含まれることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the carbonate compound is included in an amount of 5 wt% to 30 wt% of the cover substrate. 前記カバー基板の誘電率は、4.0〜8.0であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein a dielectric constant of the cover substrate is 4.0 to 8.0. 前記カバー基板は、表面硬度が8H以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the cover substrate has a surface hardness of 8H or more. 前記カバー基板は、温度70℃、相対湿度90%の条件下で96時間放置した後に測定した膨張率が0.1%以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の表示装置。   8. The cover substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein the cover substrate has an expansion coefficient of 0.1% or less measured after being left for 96 hours under conditions of a temperature of 70 ° C. and a relative humidity of 90%. The display device described. 前記カバー基板は、屈曲度が45mm以下であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the cover substrate has a bending degree of 45 mm or less. 前記表示パネルは、フレキシブル表示パネル、有機電界発光表示パネル又は液晶表示パネルであることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the display panel is a flexible display panel, an organic electroluminescence display panel, or a liquid crystal display panel.
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