JP2016011840A - 軽元素分析装置及び軽元素分析方法 - Google Patents
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軽元素分析に関連する技術として、例えば、次のようなものがある。
非特許文献5は、入射種としてイオンビームを用い、2次電子と2次イオンを利用する飛行時間分析による表面の軽元素分析に関する内容である。
非特許文献6は、イオンビームによるDIETと、フッ素イオンの脱離に関する内容である。
非特許文献7は、入射種としてイオンビームを用い、2次イオンを検出することで、表面を構成するイオン種の分布の分析に用いられる2次イオン質量分析法に関する内容である。
非特許文献10、11には、DIETによるフッ素分析が開示されている。
非特許文献12には、光や準安定原子によるDIETが開示されている。
特許文献2は、低エネルギーイオン照射による絶縁体中の軽元素分析・評価装置に関するものである。
これらのいずれの先進的な計測手法を用いても、軽元素を10nm以下の高空間分解能で検出することは容易ではなかった。
本発明は、以下の構成を有する。
(3) 前記2次イオン検出器に一面側と他面側を連通するようにビーム通過孔が設けられていることを特徴とする(2)に記載の軽元素分析装置。
(4) 前記2次イオン検出器が略半球ドーム状であり、略半球状の外形部に略半球状の凹部が設けられた形状であり、外面側と内面側を連通するようにビーム通過孔が設けられ、凹部の内壁面にイオン検出面が設けられていることを特徴とする(1)に記載の軽元素分析装置。
(7) 前記イオン強度の検出を行いながら、イオンビームを一方向に走査して、線状領域の軽元素量を算出することを特徴とする(6)に記載の軽元素分析方法。
(8) 前記イオン強度の検出を行いながら、イオンビームを一方向及びこれに垂直な方向に走査して、面状領域の軽元素量を算出することを特徴とする(6)に記載の軽元素分析方法。
(本発明の第1の実施形態)
まず、本発明の実施形態である軽元素分析装置の一例について説明する。
図1は、本発明の実施形態である軽元素分析装置の一例を説明する図であって、斜視図(a)、断面図(b)である。
図1(a)、(b)に示すように、本発明の実施形態である軽元素分析装置11は、イオン検出面23aを有する2次イオン検出器23と、電子検出面24aを有する電子検出器24と、分析対象部25aを有する試料25を配置可能な基板ホルダー26とを有して、概略構成されている。
軽元素分析装置11は、イオン顕微鏡筒先部22の先端側に配置される。
これにより、イオン顕微鏡筒先部22の他端側に配置されたイオンビーム源21から放射されたイオンビームを試料に照射することができる。
次に、本発明の実施形態である軽元素分析装置の別の一例について説明する。
図2は、本発明の実施形態である軽元素分析装置の別の一例を説明する斜視図である。
図2に示すように、本発明の実施形態である軽元素分析装置12は、2次イオン検出器33が略半球ドーム状とされている他は第1の実施形態と同様の構成とされている。
2次イオン検出器33は、略半球状の外形部33bに略半球状の凹部33cが設けられた略半球ドーム状とされている。凹部33cの内壁面にイオン検出面33aが設けられている。この構成により、2次イオンをよりもれなく検出できる。
次に、本発明の実施形態である軽元素分析装置の更に別の一例について説明する。
図3は、本発明の実施形態である軽元素分析装置の更に別の一例を説明する斜視図である。
図3に示すように、本発明の実施形態である軽元素分析装置13は、2次イオン検出器43が略円板状とされており、イオンビームの通過方向から離れて配置されている他は第1の実施形態と同様の構成とされている。
2次イオン検出器43には、略円状のイオン検出面43aが設けられている。イオン検出面43aを分析対象部25aに対向配置させる構成なので、2次イオンを検出できる。
(点状領域の軽元素分析)
次に、本発明の実施形態である軽元素分析方法について、本発明の第1の実施形態である軽元素分析装置11を用いて説明する。
本発明の実施形態である軽元素分析方法は、イオンビーム顕微鏡を用いた軽元素分析方法であって、試料配置工程S1と、イオンビーム照射工程S2と、電子検出工程S3と、2次イオン検出工程S4と、を有する。
まず、イオンビーム顕微鏡の鏡筒内に備えた基板ホルダー26上に試料25を配置する。
次に、基板ホルダー26の位置を水平・垂直・回転移動して、試料25の分析対象部25aを、イオン検出面23a及び電子検出面24aを対向配置する。なお、この際、鏡筒内を減圧してから、基板ホルダー26の配置をしてもよい。
次に、試料25の分析対象部25aから2次イオン検出器23のイオン検出面23aまでの最短距離D2次イオン飛行距離を12mm以上300mm以下とし、かつ、分析対象部25aから電子検出器24の電子検出面24aまでの最短距離D2次電子飛行距離を2mm以上100mm以下とする。
次に、減圧雰囲気下、イオンビーム顕微鏡のイオンビーム源21から放射したイオンビームを、ビーム通過孔23cを通過させて、分析対象部25aに照射する。
イオンビームはイオンビーム源21からイオン顕微鏡筒先部22の間の電圧調整部(図示略)で、ビーム方向を制御する。
DIETは固体内部でも起こりえるが、表面への脱出過程で中性化される結果原子となるので、検出される脱離イオン種は表面から由来するものに限られる。
次に、試料25の分析対象部25aから放射された電子を電子検出面24aで検出する。
分析対象部25aから放射された2次イオンをイオン検出面23aで検出する。
各軽元素イオンの2次イオン飛行時間はそれぞれ一定とされているためである。例えば、図4で示されるイオン検出器と試料の配置に於いて、15.0eVのLi+イオンについてのTOFLiイオンは約660nsであり、13.4eVのH+イオンについてのTOFHイオンは、約270nsである。
イオン強度の検出を行いながら、イオンビームを一方向に走査する他は先に記載の軽元素分析方法と同様にして、軽元素分析を行ってもよい。
これにより、分析対象部25aの線状領域の軽元素量を算出できる。
イオン強度の検出を行いながら、イオンビームを一方向及びこれに垂直な方向に走査する他は先に記載の軽元素分析方法と同様にして、軽元素分析を行ってもよい。
これにより、分析対象部25aの面状領域の軽元素量を算出できる。
以下に示す飛行時間分析法により、軽元素分析を行った。
図4は、本実施例で用いた軽元素分析装置を示す断面概略図である。
まず、この軽元素分析装置を、NIMSナノテクノロジープラットフォームに設置のカールツァイス社製ヘリウムイオン顕微鏡(Orion PLUS)の鏡筒内に設置した。
また、電子検出器(図示略)を2次イオン検出器の近傍に配置した。
次に、内部入力と外部入力の間で適当な電圧を選択入力して、ヘリウムイオンビームの照射位置を、試料表面の所望の位置に制御して、照射した。
試料をLiCoO2とした他は実施例1と同様にして、2次イオンの質量を分析した。
試料をSiとした他は実施例1と同様にして、2次イオンの質量を分析した。
試料をTaとした他は実施例1と同様にして、2次イオンの質量を分析した。
縦軸は2次イオンの強度(任意単位)であり、横軸は飛行時間(ns)である。TOFは2次電子と2次イオンの飛行時間差Δtに関連し、TOF=k−Δt(kは装置構成で決まる定数)である。
まず、一辺10mm角の板状のNb0.5%−SrTiO3試料の一部を金属ワイヤーでマスクして、露出部分にLiCoO2を蒸着して、LiCoO2(800nm)/Nb−SrTiO3試料を作製した。
図6は、LiCoO2(800nm)/Nb0.5%−SrTiO3試料の2次電子像である。右上の黒色でコントラストに乏しい領域は、LiCoO2を成膜中にNb0.5%−SrTiO3が金属ワイヤーでマスクされた部分であり、LiCoO2はこの領域に蒸着されていなかった。一方、左下の白黒のコントラストが現れている部分にはLiCoO2が蒸着されていた。
図7は、図6に示す2次電子像の白線位置に沿って、得られたリチウム分布分析結果を示すグラフである。図7は、図6中の白線を80分割して、飛行時間スペクトルを順に得て、最終的に各スペクトルにおけるリチウムイオンピークの積分強度を求め、ビーム照射位置の関数としてプロットしたものである。1ピクセルは350nmに相当し、各ピクセルにおける測定時間は10秒である。
Claims (8)
- イオン検出面を有する2次イオン検出器と、電子検出面を有する電子検出器と、分析対象部を有する試料を配置可能な基板ホルダーとを有する軽元素分析装置であって、
前記基板ホルダーの位置を、前記2次イオン検出器の位置及び前記電子検出器の位置に対して水平・垂直・回転移動可能とされており、
前記分析対象部を、前記イオン検出面及び前記電子検出面に対向配置可能とされており、
前記対向配置したときに、前記分析対象部から前記イオン検出面までの最短距離D2次イオン飛行距離が12mm以上300mm以下であり、かつ、前記分析対象部から前記電子検出面までの最短距離D2次電子飛行距離が2mm以上100mm以下であることを特徴とする軽元素分析装置。 - 前記2次イオン検出器が略板状であることを特徴とする請求項1に記載の軽元素分析装置。
- 前記2次イオン検出器に一面側と他面側を連通するようにビーム通過孔が設けられていることを特徴とする請求項2に記載の軽元素分析装置。
- 前記2次イオン検出器が略半球ドーム状であり、略半球状の外形部に略半球状の凹部が設けられた形状であり、外面側と内面側を連通するようにビーム通過孔が設けられ、凹部の内壁面にイオン検出面が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の軽元素分析装置。
- イオンビーム顕微鏡を用いた軽元素分析方法であって、
イオンビーム顕微鏡の鏡筒内に備えた基板ホルダー上に試料を配置し、前記基板ホルダーの位置を水平・垂直・回転移動して、前記試料の分析対象部を、前記イオン検出面及び前記電子検出面に対向配置してから、前記試料の分析対象部から2次イオン検出器のイオン検出面までの最短距離D2次イオン飛行距離を12mm以上300mm以下とし、かつ、前記分析対象部から電子検出器の電子検出面までの最短距離D2次電子飛行距離を2mm以上100mm以下とする工程と、
減圧雰囲気下、イオンビーム顕微鏡のイオンビーム源から放射したイオンビームを、前記分析対象部に照射する工程と、
前記分析対象部から放射された電子を前記電子検出面で検出する工程と、
前記分析対象部から放射された2次イオンを前記イオン検出面で検出する工程と、を有することを特徴とする軽元素分析方法。 - 前記電子検出面で最初に電子を検出した時間から各軽元素に応じた2次イオン飛行時間経過後のイオン強度を測定して、前記分析対象部での軽元素量を算出することを特徴とする請求項5に記載の軽元素分析方法。
- 前記イオン強度の検出を行いながら、前記イオンビームを一方向に走査して、線状領域の軽元素量を算出することを特徴とする請求項6に記載の軽元素分析方法。
- 前記イオン強度の検出を行いながら、前記イオンビームを一方向及びこれに垂直な方向に走査して、面状領域の軽元素量を算出することを特徴とする請求項6に記載の軽元素分析方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0582081A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | 収束イオンビーム質量分析方法及び収束イオンビーム質量分析複合装置 |
JPH09283072A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Hitachi Ltd | 2次荷電粒子検出方法及びそのシステム並びにイオンビーム加工装置 |
JP2009517844A (ja) * | 2005-12-02 | 2009-04-30 | アリス コーポレーション | イオン源、システム及び方法 |
US20110192973A1 (en) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Albrecht Glasmachers | Apparatus for transmission of energy and/or for transportation of an ion as well as a particle beam device having an apparatus such as this |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0582081A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | 収束イオンビーム質量分析方法及び収束イオンビーム質量分析複合装置 |
JPH09283072A (ja) * | 1996-04-15 | 1997-10-31 | Hitachi Ltd | 2次荷電粒子検出方法及びそのシステム並びにイオンビーム加工装置 |
JP2009517844A (ja) * | 2005-12-02 | 2009-04-30 | アリス コーポレーション | イオン源、システム及び方法 |
US20110192973A1 (en) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Albrecht Glasmachers | Apparatus for transmission of energy and/or for transportation of an ion as well as a particle beam device having an apparatus such as this |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114371213A (zh) * | 2022-01-05 | 2022-04-19 | 中国科学院物理研究所 | 磁性氦原子散射谱仪 |
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