JP2015227893A - Measuring method - Google Patents

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公平 冨田
Kohei Tomita
公平 冨田
佳央 高松
Yoshihisa Takamatsu
佳央 高松
隆一郎 高市
Ryuichiro Takaichi
隆一郎 高市
憲一 中宗
Kenichi Nakamune
憲一 中宗
長谷部 洋治
Yoji Hasebe
洋治 長谷部
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measuring method capable of evaluating surface wettability of an object, at high speed in a nondestructive manner.SOLUTION: A measuring method related to a certain situation includes: a step for irradiating an object OBJ with ultraviolet rays; a step for detecting fluorescence produced in the object OBJ; and a step for outputting a value showing the surface wettability of the object from intensity of the detected fluorescence. A separate measurement method related to another situation includes: a step for irradiating the object with the ultraviolet rays; a step for detecting the fluorescence produced in the object; and a step for outputting intensity of the fluorescence detected as a value showing the surface wettability of the object.

Description

本発明は、対象物のぬれ性を評価するための測定方法に関するものである。   The present invention relates to a measurement method for evaluating the wettability of an object.

たとえば、高分子フィルムや樹脂に対して、接着剤、塗装剤、コーティング剤などを塗布するようなプロセスにおいて、その表面(界面)における「ぬれ性」を高めるような前処理が行われている。一般的に、このような処理は「表面改質処理」などと称される。この表面改質処理は、たとえば、特定の雰囲気でのプラズマ処理やコロナ処理などによって実現される。   For example, in a process in which an adhesive, a coating agent, a coating agent, or the like is applied to a polymer film or resin, a pretreatment is performed so as to enhance “wetting” on the surface (interface). In general, such treatment is referred to as “surface modification treatment” or the like. This surface modification treatment is realized by, for example, plasma treatment or corona treatment in a specific atmosphere.

ところで、品質管理の面からは、このような表面改質処理によってぬれ性がどの程度改善しているのかを評価し、この評価結果に基づいて、関連するプロセスのパラメータ(設定値)を適宜見直すようなことが重要である。   By the way, from the aspect of quality control, how much wettability is improved by such surface modification treatment is evaluated, and related process parameters (setting values) are appropriately reviewed based on the evaluation result. It is important to

従来、このようなぬれ性を評価する手法としては、液滴法と称される計測方法が採用されてきた。この液滴法は、対象物の表面に所定量の液体(典型的には、純水)を滴下し、この液滴の接線と対象物表面との間に生じる角度(「接触角」または「ぬれ角」とも称される)を測定する方法である。この測定された接触角は、滴下された液体に生じる表面張力の大きさと相関関係にあり、この接触角の大きさが対象物のぬれ性を示すことになる。   Conventionally, a measurement method called a droplet method has been adopted as a method for evaluating such wettability. In this droplet method, a predetermined amount of liquid (typically pure water) is dropped on the surface of an object, and an angle (“contact angle” or “ It is also a method of measuring (wet angle). The measured contact angle has a correlation with the magnitude of the surface tension generated in the dropped liquid, and the magnitude of the contact angle indicates the wettability of the object.

たとえば、特許文献1(実用新案登録第3150529号公報)には、このような液滴法の原理を用いて接触角を測定するための接触角測定装置が開示されている。   For example, Patent Document 1 (Utility Model Registration No. 3150529) discloses a contact angle measuring device for measuring a contact angle using the principle of such a droplet method.

実用新案登録第3150529号公報Utility Model Registration No. 3150529

上述の特許文献1に開示されるような液滴法を用いた接触角測定装置では、インラインでぬれ性を評価することができない。すなわち、液滴法では、対象物に対して液体を滴下する必要があるので、原理的に破壊検査となる。そのため、ライン上を流れる対象物の抜き取り検査とならざるを得ず、対象物の全数検査は不可能であった。   In the contact angle measuring device using the droplet method as disclosed in Patent Document 1 described above, the wettability cannot be evaluated in-line. That is, in the droplet method, since it is necessary to drop a liquid on an object, a destructive inspection is performed in principle. For this reason, the inspection of the objects flowing on the line is unavoidable, and it is impossible to inspect all the objects.

また、液滴法では、測定環境(特に、振動)により測定結果が大きな影響を受けるため、測定装置を設置するために所定の条件を満した環境を用意する必要があった。さらに、液滴法では、原理的に小型化が難しいといった問題や、接触角が相対的に小さい範囲(すなわち、ぬれ性が高い状態)での測定精度を高めることができないといった問題があった。   Further, in the droplet method, the measurement result is greatly affected by the measurement environment (particularly vibration), and therefore it is necessary to prepare an environment satisfying predetermined conditions in order to install the measurement apparatus. Furthermore, the droplet method has a problem that it is difficult to reduce the size in principle, and a problem that the measurement accuracy cannot be increased in a range where the contact angle is relatively small (that is, a state with high wettability).

そこで、本発明は、これらの問題を解決するためになされたものであり、その目的は、対象物表面のぬれ性を高速かつ非破壊で評価することのできる測定方法を提供することである。   Therefore, the present invention has been made to solve these problems, and an object of the present invention is to provide a measurement method capable of evaluating the wettability of the surface of an object at high speed and nondestructively.

本発明のある局面に係る測定方法は、対象物に紫外線を照射するステップと、対象物で生じる蛍光を検出するステップと、検出された蛍光の強度から対象物の表面におけるぬれ
性を示す値を出力するステップとを含む。
A measuring method according to an aspect of the present invention includes a step of irradiating an object with ultraviolet light, a step of detecting fluorescence generated in the object, and a value indicating wettability on the surface of the object from the intensity of the detected fluorescence. Outputting.

好ましくは、出力するステップは、予め取得された対応関係に従って、検出された蛍光の強度に対応する接触角を算出するステップと、算出された接触角を出力するステップとを含む。   Preferably, the outputting step includes a step of calculating a contact angle corresponding to the detected fluorescence intensity and a step of outputting the calculated contact angle in accordance with the correspondence acquired in advance.

さらに好ましくは、予め取得された対応関係は、対象物の種類の別に取得される。
好ましくは、本測定方法は、対象物に対して表面改質処理を行うステップをさらに含み、出力するステップは、表面改質処理を行う前において対象物で生じる蛍光を検出した結果と、表面改質処理を行った後において対象物で生じる蛍光を検出した結果との差に基づいて、対象物の表面におけるぬれ性を示す値を算出するステップを含む。
More preferably, the correspondence acquired in advance is acquired for each type of object.
Preferably, the measurement method further includes a step of performing a surface modification treatment on the object, and the outputting step includes the result of detecting the fluorescence generated in the object before the surface modification treatment, and the surface modification. A step of calculating a value indicating wettability on the surface of the object based on a difference from a result of detecting the fluorescence generated in the object after performing the quality treatment.

さらに好ましくは、表面改質処理は、対象物の表面に、カルボキシル基およびカルボニル基の少なくとも一方を生じる処理を含む。   More preferably, the surface modification treatment includes a treatment for generating at least one of a carboxyl group and a carbonyl group on the surface of the object.

本発明の別の局面に係る測定方法は、対象物に紫外線を照射するステップと、対象物で生じる蛍光を検出するステップと、対象物の表面におけるぬれ性を示す値として検出された蛍光の強度を出力するステップとを含む。   A measurement method according to another aspect of the present invention includes a step of irradiating an object with ultraviolet light, a step of detecting fluorescence generated in the object, and an intensity of fluorescence detected as a value indicating wettability on the surface of the object. Output.

本発明のある局面によれば、対象物表面のぬれ性を高速かつ非破壊で評価することができる。   According to an aspect of the present invention, the wettability of the surface of an object can be evaluated at high speed and nondestructively.

本発明の実施の形態に係る測定原理を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the measurement principle which concerns on embodiment of this invention. プラズマ処理に用いられる装置の模式図である。It is a schematic diagram of the apparatus used for a plasma processing. プラズマ処理についての実験結果をプロットしたグラフを示す図である。It is a figure which shows the graph which plotted the experimental result about a plasma processing. 液滴法における接触角を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the contact angle in a droplet method. コロナ処理装置を含むコーティングプロセスの模式図である。It is a schematic diagram of the coating process containing a corona treatment apparatus. 本発明の実施の形態に係る測定装置の模式的な外観図である。It is a typical external view of the measuring apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る測定装置の光学的な構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the optical structure of the measuring apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る測定装置の電気的な構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the electrical structure of the measuring apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の第1変形例に係る測定装置の電気的な構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the electrical structure of the measuring apparatus which concerns on the 1st modification of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の第2変形例に係る測定装置の電気的な構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the electrical structure of the measuring apparatus which concerns on the 2nd modification of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の第3変形例に係る測定装置の光学的な構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the optical structure of the measuring apparatus which concerns on the 3rd modification of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の第4変形例に係る測定装置の光学的な構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the optical structure of the measuring apparatus which concerns on the 4th modification of embodiment of this invention. 図12に示す紫外線ランプ(メタルハライドランプ)の発光スペクトルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the emission spectrum of the ultraviolet lamp (metal halide lamp) shown in FIG. 図12に示す波長フィルタの特性の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the characteristic of the wavelength filter shown in FIG. 本発明の実施の形態に係る測定装置の制御構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the control structure of the measuring device which concerns on embodiment of this invention. 図3に示す実験結果を接触角と蛍光強度との関係についてプロットしたグラフを示す図である。It is a figure which shows the graph which plotted the experimental result shown in FIG. 3 about the relationship between a contact angle and fluorescence intensity. 本発明の実施の形態に係る測定装置の制御構造の変形例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the modification of the control structure of the measuring device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係るぬれ性評価処理(その1)の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the wettability evaluation process (the 1) which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係るぬれ性評価処理(その2)の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the wettability evaluation process (the 2) which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る表面改質プロセスの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the surface modification process which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る表面改質プロセスの調整処理の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the adjustment process of the surface modification process which concerns on embodiment of this invention.

本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中の同一または相当部分については、同一符号を付してその説明は繰返さない。   Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that the same or corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.

[A.測定原理]
まず、本願の実施の形態に係る測定原理について説明する。
[A. Measurement principle]
First, the measurement principle according to the embodiment of the present application will be described.

本願発明者らは、対象物を表面改質処理する場合に、その改質の程度(ぬれ性の度合い)との間に高い相関をもって、蛍光発生物質が生じることを発見した。すなわち、本願発明者らは、対象物に対して表面改質処理を行うことで、その表面改質の度合いに応じた強度をもつ蛍光が発生し得ることを見出した。本発明の実施の形態に係る測定方法は、このような新規に見出された物理/化学現象を利用したものである。   The inventors of the present application have found that when a surface modification treatment is performed on an object, a fluorescent substance is generated with a high correlation with the degree of modification (degree of wettability). That is, the inventors of the present application have found that fluorescence having an intensity corresponding to the degree of surface modification can be generated by subjecting an object to surface modification treatment. The measurement method according to the embodiment of the present invention utilizes such a newly found physical / chemical phenomenon.

図1は、本発明の実施の形態に係る測定原理を説明するための模式図である。図1を参照して、本願の実施の形態に係る測定方法についてより詳細に説明する。   FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the measurement principle according to the embodiment of the present invention. With reference to FIG. 1, the measurement method according to the embodiment of the present application will be described in more detail.

図1には、対象物OBJに対して、表面改質処理を行う場合を例示している。このような表面改質処理としては、典型的には、プラズマ処理やコロナ処理が知られており、図1には、プラズマを照射する場合を例示する。また、対象物OBJとしては、典型的には、樹脂基板やフィルムなどが想定される。図1には、一例として、ポリイミドを主原料とする対象物OBJを示す。   FIG. 1 illustrates a case where the surface modification process is performed on the object OBJ. As such surface modification treatment, typically, plasma treatment or corona treatment is known, and FIG. 1 illustrates the case of plasma irradiation. Moreover, as the object OBJ, a resin substrate, a film, or the like is typically assumed. FIG. 1 shows an object OBJ whose main material is polyimide as an example.

このようなフィルムには、C(炭素)原子やH(水素)原子を含んでおり、表面改質処理が行われることで、雰囲気中のO(酸素)とこれらの原子とが結合することで、主として、カルボキシル基(−COOH)、カルボニル基(>C=O)、ヒドロキシ基といった官能基が生じる。この他にも、パーオキサイドやエポキシ基なども生じ得る。このような官能基がより多く存在することで、対象物OBJのぬれ性が向上する。すなわち、表面改質処理は、カルボキシル基およびカルボニル基の少なくとも一方を生じる処理を含む。   Such a film contains C (carbon) atoms and H (hydrogen) atoms, and the surface modification treatment causes O (oxygen) in the atmosphere to bond with these atoms. Primarily, functional groups such as a carboxyl group (—COOH), a carbonyl group (> C═O), and a hydroxy group are generated. In addition, peroxides and epoxy groups can be generated. The presence of more such functional groups improves the wettability of the object OBJ. That is, the surface modification treatment includes treatment for generating at least one of a carboxyl group and a carbonyl group.

本願発明者らは、このような極性を有する官能基が増加することで、励起用の紫外線を照射することで対象物OBJから蛍光が発生すると考えた。   The inventors of the present application thought that the fluorescence generated from the object OBJ by irradiating the ultraviolet ray for excitation when the functional group having such polarity increases.

たとえば、カルボニル基が増加することで、HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital:最高被占軌道)−LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital:最低空軌
道)間ギャップが小さくなり、その結果、新たな低エネルギー遷移が生じる。
For example, an increase in the carbonyl group reduces the gap between HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital) and LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital), resulting in a new low energy transition. .

また、p軌道電子を有するのはC(炭素)原子だけではなく、O(酸素)原子およびN(窒素)原子などもp軌道電子を有し得る。そのため、これらのP軌道原子の間でπ結合を生じ得る。中でも、C=O二重結合は、原子間分極が比較的大きいため、主として、LUMOを大きく低下させる。その結果、炭化水素(CH)のみで構成される物質に比較して、より長波長の光を吸収しやすくなる。すなわち、紫外線照射に対する蛍光の発生量が増加する。   Further, not only C (carbon) atoms but also P (orbital) electrons may have p orbital electrons as well as O (oxygen) atoms and N (nitrogen) atoms. Therefore, a π bond can occur between these P orbital atoms. Among them, the C═O double bond mainly decreases LUMO largely because the interatomic polarization is relatively large. As a result, it becomes easier to absorb light having a longer wavelength than a substance composed of only hydrocarbon (CH). That is, the amount of fluorescence generated by ultraviolet irradiation increases.

したがって、測定装置100を用いて、対象物OBJに対して励起用の紫外線を照射(
UV照射)するとともに、その紫外線を受けて対象物OBJで生じる蛍光を検出することで、当該対象物OBJにおける表面改質処理後の状態(ぬれ性)を評価することができる。
Therefore, the measurement apparatus 100 is used to irradiate the object OBJ with ultraviolet light for excitation (
(UV irradiation) and detecting the fluorescence generated in the object OBJ upon receiving the ultraviolet rays, the state (wetting property) after the surface modification treatment on the object OBJ can be evaluated.

[B.実験例]
以下、本願発明者らが、プラズマ処理およびコロナ処理を用いてそれぞれ表面改質処理した場合に測定された蛍光量の変化について示す。
(1.プラズマ処理)
以下には、対象物OBJとしてPETフィルム(膜厚:25μm)に対して、プラズマ処理を用いた表面改質処理を適用した場合の測定例を示す。
[B. Experimental example]
Hereinafter, changes in the amount of fluorescence measured when the inventors of the present invention perform surface modification using plasma treatment and corona treatment will be described.
(1. Plasma treatment)
Below, the measurement example at the time of applying the surface modification process using a plasma process with respect to PET film (film thickness: 25 micrometers) as target object OBJ is shown.

図2は、プラズマ処理に用いられる装置の模式図である。図2を参照して、プラズマ処理装置200は、所定の間隔をもって対向配置された平面電極204および208を含む。平面電極204は、交流電圧源202と電気的に接続される。一方、平面電極208は、グランド212と電気的に接続される。したがって、平面電極204と平面電極208との間の空間214には、所定の交流電界が生じる。この交流電界が空間214における絶縁耐力より大きくなることで、プラズマが発生する。なお、交流電圧源202が発生する電圧値は、所定範囲で任意に変更可能とすることが好ましい。   FIG. 2 is a schematic diagram of an apparatus used for plasma processing. Referring to FIG. 2, plasma processing apparatus 200 includes planar electrodes 204 and 208 arranged to face each other at a predetermined interval. The planar electrode 204 is electrically connected to the AC voltage source 202. On the other hand, the planar electrode 208 is electrically connected to the ground 212. Therefore, a predetermined alternating electric field is generated in the space 214 between the planar electrode 204 and the planar electrode 208. When this alternating electric field becomes larger than the dielectric strength in the space 214, plasma is generated. It is preferable that the voltage value generated by the AC voltage source 202 can be arbitrarily changed within a predetermined range.

この空間214に対象物OBJが配置され、その表面にプラズマが照射される。なお、平面電極204および208の表面には、それぞれ誘電体206および210が配置される。   The object OBJ is placed in the space 214, and the surface is irradiated with plasma. Dielectric materials 206 and 210 are disposed on the surfaces of the planar electrodes 204 and 208, respectively.

また、空間214を密閉して実質的に真空状態(低圧状態)としたものを「真空プラズマ処理」とも称し、空間214を所定のガス雰囲気で満した状態としたものを「大気圧プラズマ処理」とも称する。   In addition, the space 214 that is substantially sealed in a vacuum state (low pressure state) is also referred to as “vacuum plasma processing”, and the space 214 that is filled with a predetermined gas atmosphere is “atmospheric pressure plasma processing”. Also called.

今回の実験例においては、株式会社魁半導体製の真空プラズマ処理装置(形式:YHS−360)を用いるとともに、対象物OBJから発生する蛍光量の測定には、株式会社センテック製の蛍光センサー(型式:OL221)を用いた。   In this experimental example, a vacuum plasma processing apparatus (type: YHS-360) manufactured by Sakai Semiconductor Co., Ltd. is used, and a fluorescence sensor (model) manufactured by Sentech Co., Ltd. is used for measuring the amount of fluorescence generated from the object OBJ. : OL221) was used.

なお、表面改質処理および蛍光量測定は、バッチ処理試験とした。
以下の表には、真空プラズマ処理の処理時間と各処理後の対象物OBJから測定された蛍光量の値とを対応付けて示す。なお、測定対象の蛍光波長は、280nmとした。また、同じ対象物を従来の液滴式の測定装置を用いて接触角を測定した結果を合わせて示す。
The surface modification treatment and the fluorescence amount measurement were batch treatment tests.
In the following table, the processing time of the vacuum plasma processing and the value of the fluorescence amount measured from the object OBJ after each processing are shown in association with each other. The fluorescence wavelength to be measured was 280 nm. In addition, the results of measuring the contact angle of the same object using a conventional droplet type measuring device are also shown.

Figure 2015227893
Figure 2015227893

図3は、プラズマ処理についての実験結果をプロットしたグラフを示す図である。図3に示すように、プラズマ処理時間の長さ(表面改質の度合い)と測定された蛍光強度との間には、強い相関関係があることがわかる。なお、プラズマ処理時間と接触角との関係から、処理時間が長いほど、対象物OBJの表面改質が進行していることがわかる。   FIG. 3 is a diagram showing a graph plotting experimental results for plasma processing. As shown in FIG. 3, it can be seen that there is a strong correlation between the length of the plasma treatment time (degree of surface modification) and the measured fluorescence intensity. It can be seen from the relationship between the plasma processing time and the contact angle that the surface modification of the object OBJ proceeds as the processing time increases.

ここで、図4を参照して接触角について説明する。
図4(a)に示すように、何らかの物体(固体)上に滴下された液体を考えると、その液体においては、分子間力により分子同士が引き合って凝縮する方向に力が発生する。その結果、当該液体においては、表面積が最も小さい球状になろうとする力(表面張力)が生じる。液体と固体との間の界面においては、固体の表面張力γ、液体の表面張力γ、および、固体と液体の界面張力γSLとの間に、以下のような関係式が成立する。
Here, the contact angle will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 4A, when a liquid dropped on an object (solid) is considered, in the liquid, a force is generated in a direction in which molecules are attracted and condensed by intermolecular force. As a result, in the liquid, a force (surface tension) that tends to be spherical with the smallest surface area is generated. At the interface between the liquid and the solid, the following relational expression is established among the surface tension γ S of the solid, the surface tension γ L of the liquid, and the interface tension γ SL of the solid and the liquid.

γ=γ・cosθ+γSL・・・(1)
(1)式において、θが接触角であり、γおよびγが不変であるとすると、固体と液体の界面張力γSLが小さければ(すなわち、ぬれ性の度合いが高ければ)、図4(b)に示すように、接触角θは小さく(すなわち、cosθの値が大きく)なる。
γ S = γ L · cos θ + γ SL (1)
In the equation (1), if θ is the contact angle and γ S and γ L are unchanged, the solid-liquid interfacial tension γ SL is small (that is, the wettability is high). As shown in (b), the contact angle θ is small (that is, the value of cos θ is large).

これに対して、図4(c)に示すように、固体と液体の界面張力γSLが大きければ(すなわち、ぬれ性の度合いが低ければ)、接触角θは大きく(すなわち、cosθの値が小さく)なる。 On the other hand, as shown in FIG. 4C, when the interfacial tension γ SL between the solid and the liquid is large (that is, when the degree of wettability is low), the contact angle θ is large (that is, the value of cos θ is Small).

このように、従来の液滴式の測定装置では、この接触角を測定することで、ぬれ性を評価する。
(2.コロナ処理)
次に、対象物OBJとしてPETフィルム(膜厚:25μm)に対して、コロナ処理を用いた表面改質処理を適用した場合の測定例を示す。なお、対象物OBJとしては、前処理としてシリコン処理がなされたものとそうでないものとの2種類を用意した。
Thus, in the conventional droplet type measuring device, the wettability is evaluated by measuring the contact angle.
(2. Corona treatment)
Next, a measurement example in the case where a surface modification treatment using corona treatment is applied to a PET film (film thickness: 25 μm) as the object OBJ will be described. In addition, as the object OBJ, two types were prepared, one that was subjected to silicon treatment as a pretreatment and the other that was not.

図5は、コロナ処理装置を含むコーティングプロセスの模式図である。図5を参照して、プロセス300は、処理対象の対象物OBJを順次供給するための供給ローラ302と、処理後の対象物OBJを巻き取るための巻取ローラ308とを含み、これらのローラ間に、コーターマシン310およびコロナ処理装置320が配置される。   FIG. 5 is a schematic diagram of a coating process including a corona treatment apparatus. Referring to FIG. 5, a process 300 includes a supply roller 302 for sequentially supplying a target object OBJ to be processed, and a winding roller 308 for winding the target object OBJ after processing. In between, the coater machine 310 and the corona treatment device 320 are arranged.

コーターマシン310は、主ローラ312と副ローラ314とを含み、両ローラの間に対象物OBJを通過させるとともに、対象物OBJの一方面または両面にコーティング剤316を連続的に塗布する。   The coater machine 310 includes a main roller 312 and a sub-roller 314. The coater machine 310 passes the object OBJ between both rollers, and continuously applies the coating agent 316 to one or both surfaces of the object OBJ.

コロナ処理装置320は、主ローラ322の表面に対向してコロナ放電を発生させるための電極群324が配置されており、この電極群324は高電圧を供給するための直流電源部326と電気的に接続されている。また、主ローラ322および電極群324を覆うように外筐体328が設けられている。なお、対象物OBJは、コロナ処理装置320の前段に配置された搬送ローラ304と、コロナ処理装置320の後段に配置された搬送ローラ306とによって、連続的に搬送される。   In the corona treatment device 320, an electrode group 324 for generating a corona discharge is disposed opposite to the surface of the main roller 322, and this electrode group 324 is electrically connected to a DC power supply unit 326 for supplying a high voltage. It is connected to the. An outer housing 328 is provided so as to cover the main roller 322 and the electrode group 324. The object OBJ is continuously transported by the transport roller 304 disposed in the front stage of the corona treatment device 320 and the transport roller 306 disposed in the rear stage of the corona processing device 320.

今回の実験例においては、株式会社ヒラノエンテック製のコンマコーター(登録商標)を用いるとともに、ソフタル社製のコロナ処理装置を用いた。そして、対象物OBJから発生する蛍光量の測定には、株式会社センテックの蛍光センサー(型式:OL221)を用いた。   In this experimental example, a comma coater (registered trademark) manufactured by Hirano Entec Co., Ltd. was used, and a corona treatment apparatus manufactured by Sophtal Co. was used. Then, a fluorescence sensor (model: OL221) manufactured by Sentech Co., Ltd. was used to measure the amount of fluorescence generated from the object OBJ.

なお、表面改質処理および蛍光量測定は、ロール・トゥ・ロール方式での試験とした。また、対象物OBJの幅は300mmとし、コーターマシン310でのコーティング幅は280mmとした。また、対象物OBJの搬送速度は、6m/minとした。   In addition, the surface modification treatment and the fluorescence amount measurement were conducted by a roll-to-roll method. The width of the object OBJ was 300 mm, and the coating width in the coater machine 310 was 280 mm. Moreover, the conveyance speed of the object OBJ was 6 m / min.

以下の表には、コロナ処理(コロナ放電)に用いた電圧値と各処理後の対象物OBJを測定した際の蛍光センサーの表示値を対応付けて示す。   In the following table, the voltage value used for corona treatment (corona discharge) and the display value of the fluorescence sensor when the object OBJ after each treatment is measured are shown in association with each other.

(a)PETフィルム(膜厚:25μm/シリコン処理なし)   (A) PET film (film thickness: 25 μm / no silicon treatment)

Figure 2015227893
Figure 2015227893

(b)PETフィルム(膜厚:25μm/シリコン処理あり)   (B) PET film (film thickness: 25 μm / with silicon treatment)

Figure 2015227893
Figure 2015227893

上述の測定結果によれば、コロナ処理装置320によるコロナ放電の放電電圧が大きくなるほど、より多くの蛍光が測定されていることがわかる。すなわち、コロナ放電の放電電圧が大きくなるほど、対象物OBJの表面改質の度合いは大きくなると考えられるので、対象物OBJの表面改質の度合い(ぬれ性)と測定された蛍光強度との間には、強い相関関係があるといえる。
(その他)
上述の例では、対象物OBJの典型例として、PETフィルムを用いた場合の実験例を示したが、他の材質、たとえば、プラスチックなどの樹脂材料、ガラスやシリコンなどの無機材料、金属材料などにも、本実施の形態に係る測定装置は適用可能である。
According to the measurement result described above, it can be seen that as the discharge voltage of the corona discharge by the corona treatment device 320 increases, more fluorescence is measured. That is, it is considered that the degree of surface modification of the object OBJ increases as the discharge voltage of the corona discharge increases. Therefore, the degree of surface modification (wetting) of the object OBJ and the measured fluorescence intensity. Can be said to have a strong correlation.
(Other)
In the above example, as a typical example of the object OBJ, an experimental example using a PET film has been shown. However, other materials, for example, a resin material such as plastic, an inorganic material such as glass and silicon, a metal material, etc. In addition, the measuring apparatus according to the present embodiment is applicable.

[C1.測定装置の構成(その1)]
図6は、本発明の実施の形態に係る測定装置100の模式的な外観図である。図7は、本発明の実施の形態に係る測定装置100の光学的な構造を示す模式図である。図8は、本発明の実施の形態に係る測定装置100の電気的な構造を示す模式図である。
[C1. Configuration of measuring device (1)]
FIG. 6 is a schematic external view of the measuring apparatus 100 according to the embodiment of the present invention. FIG. 7 is a schematic diagram showing an optical structure of measuring apparatus 100 according to the embodiment of the present invention. FIG. 8 is a schematic diagram showing an electrical structure of measuring apparatus 100 according to the embodiment of the present invention.

図6を参照して、測定装置100は、測定処理部102と、照射測定ヘッド部104とを含む。後述するように、照射測定ヘッド部104は、対象物OBJに対して紫外線を照射するための光学系と、対象物OBJで生じる蛍光を検出するための光学系とを有する。   Referring to FIG. 6, measurement apparatus 100 includes a measurement processing unit 102 and an irradiation measurement head unit 104. As will be described later, the irradiation measurement head unit 104 includes an optical system for irradiating the object OBJ with ultraviolet rays and an optical system for detecting fluorescence generated in the object OBJ.

測定処理部102は、照射測定ヘッド部104と接続されており、照射測定ヘッド部104に対して紫外線の照射指令を与えるとともに、照射測定ヘッド部104において検出
された蛍光強度を示す信号を処理して、各種の情報などを出力する。
The measurement processing unit 102 is connected to the irradiation measurement head unit 104, gives an irradiation command of ultraviolet rays to the irradiation measurement head unit 104, and processes a signal indicating the fluorescence intensity detected in the irradiation measurement head unit 104. Output various information.

なお、後述するように、対象物OBJに対して表面改質処理が実行される前後で蛍光を検出するような使用形態においては、1つの測定処理部102に対して、複数の照射測定ヘッド部104が接続されるようにしてもよい。たとえば、図5に示すコーティングプロセスにおいては、コロナ処理の前後を測定点としてもよい。   As will be described later, in a usage pattern in which fluorescence is detected before and after the surface modification process is performed on the object OBJ, a plurality of irradiation measurement head units are provided for one measurement processing unit 102. 104 may be connected. For example, in the coating process shown in FIG. 5, the measurement points may be before and after the corona treatment.

図7を参照して、照射測定ヘッド部104は、紫外線を発生するためのUV発光素子22と、ダイクロイックミラー24と、集光レンズ38と、対象物OBJからの蛍光を検出するためのフォトダイオード28とを含む。照射測定ヘッド部104においては、UV発光素子22、ダイクロイックミラー24、および集光レンズ38が光軸Ax1上に整列配置される。UV発光素子22で発生する蛍光励起用の紫外線は、集光レンズ38を通じて光軸Ax1に沿って伝搬した後、光軸Ax1上に配置される対象物OBJへ集光する。なお、蛍光励起用の紫外線の照射径(スポット径)は、対象物OBJのうち、ぬれ性を評価したい範囲に応じて適宜設定することが好ましい。   Referring to FIG. 7, the irradiation measurement head unit 104 includes a UV light emitting element 22 for generating ultraviolet rays, a dichroic mirror 24, a condenser lens 38, and a photodiode for detecting fluorescence from the object OBJ. 28. In the irradiation measurement head unit 104, the UV light emitting element 22, the dichroic mirror 24, and the condenser lens 38 are aligned on the optical axis Ax1. The ultraviolet light for fluorescence excitation generated in the UV light emitting element 22 propagates along the optical axis Ax1 through the condensing lens 38, and then condenses on the object OBJ arranged on the optical axis Ax1. In addition, it is preferable to set suitably the irradiation diameter (spot diameter) of the ultraviolet light for fluorescence excitation according to the range which wants to evaluate wettability among the target objects OBJ.

本実施の形態に係るUV発光素子22は、一例として、主発光ピークを365nmとする紫外線を発生する。なお、紫外線LEDであるUV発光素子22に代えて、紫外線ランプなどを用いてもよい。   For example, the UV light emitting element 22 according to the present embodiment generates ultraviolet rays having a main light emission peak of 365 nm. An ultraviolet lamp or the like may be used instead of the UV light emitting element 22 that is an ultraviolet LED.

対象物OBJに紫外線が照射されることで、上述したように、その表面にある官能基から蛍光が発生する。この対象物OBJで生じた蛍光の大部分は、励起用の紫外線と同一の経路(光軸Ax1)上を、励起用の紫外線の伝搬方向とは逆方向に伝搬してダイクロイックミラー24に入射する。   When the object OBJ is irradiated with ultraviolet rays, as described above, fluorescence is generated from the functional group on the surface. Most of the fluorescence generated by the object OBJ propagates on the same path (optical axis Ax1) as the excitation ultraviolet light in the direction opposite to the propagation direction of the excitation ultraviolet light and enters the dichroic mirror 24. .

ダイクロイックミラー24は、入射する光の波長成分に応じて、その伝搬方向を変化させる一種の光フィルタである。具体的には、ダイクロイックミラー24は、紫外線が光軸Ax1に沿って入射すると、その伝搬方向を維持したまま、入射した紫外線を透過させる。一方、ダイクロイックミラー24は、蛍光(可視光)が光軸Ax1に沿って入射すると、その伝搬方向を90°変化させた上で異なるポートから射出する。典型的には、ダイクロイックミラー24の反射面は、金属蒸着により形成される。本実施の形態に係るダイクロイックミラー24としては、たとえば、410nmより短い波長を透過域とし、かつ、410nmより長い波長を反射域とすることで、紫外線と蛍光(可視光)とを分離することができる。   The dichroic mirror 24 is a kind of optical filter that changes its propagation direction according to the wavelength component of incident light. Specifically, when ultraviolet rays are incident along the optical axis Ax1, the dichroic mirror 24 transmits the incident ultraviolet rays while maintaining its propagation direction. On the other hand, when fluorescence (visible light) is incident along the optical axis Ax1, the dichroic mirror 24 changes its propagation direction by 90 ° and then exits from a different port. Typically, the reflecting surface of the dichroic mirror 24 is formed by metal deposition. As the dichroic mirror 24 according to the present embodiment, for example, ultraviolet light and fluorescence (visible light) can be separated by using a wavelength shorter than 410 nm as a transmission region and a wavelength longer than 410 nm as a reflection region. it can.

そのため、対象物OBJで生じた蛍光の多くは、光軸Ax1に沿って紙面左側から紙面右側に伝搬した後、ダイクロイックミラー24においてその伝搬方向を紙面下側に曲げられる。そして、対象物OBJで生じた蛍光は、光軸Ax2に沿って紙面上側から紙面下側に伝搬して、フォトダイオード28に入射する。   Therefore, most of the fluorescence generated in the object OBJ propagates along the optical axis Ax1 from the left side of the drawing to the right side of the drawing, and then the propagation direction is bent downward by the dichroic mirror 24. Then, the fluorescence generated in the object OBJ propagates along the optical axis Ax2 from the upper side of the drawing to the lower side of the drawing and enters the photodiode 28.

なお、UV発光素子22の射出面から集光レンズ38までの距離Lと、集光レンズ38から対象物OBJまでの距離とは、略同一となるように構成することが好ましい。   It is preferable that the distance L from the exit surface of the UV light emitting element 22 to the condenser lens 38 and the distance from the condenser lens 38 to the object OBJ are substantially the same.

このように、図7に示す照射測定ヘッド部104においては、ダイクロイックミラー24が対象物OBJから受けた蛍光の伝搬方向を変更することで、同一の光軸Ax1上を伝搬する励起用の紫外線と検出対象の蛍光とを分離することができる。そのため、対象物OBJから発生する微弱な蛍光であっても、確実に検出できる。   As described above, in the irradiation measurement head unit 104 shown in FIG. 7, the dichroic mirror 24 changes the propagation direction of the fluorescence received from the object OBJ, so that the excitation ultraviolet ray propagating on the same optical axis Ax1 The fluorescence to be detected can be separated. Therefore, even weak fluorescence generated from the object OBJ can be reliably detected.

次に、図8を参照して、測定処理部102は、処理の実行主体となるCPU(Central Processing Unit)40と、表示部42と、設定ボタン44と、発振子52と、記憶部5
4と、電源装置56と、インターフェイス部58とを含む。
Next, with reference to FIG. 8, the measurement processing unit 102 includes a CPU (Central Processing Unit) 40 that is a process execution subject, a display unit 42, a setting button 44, an oscillator 52, and a storage unit 5.
4, a power supply device 56, and an interface unit 58.

CPU40は、予め格納されたプログラムなどに従ってコマンドを順次実行することで、測定装置100全体の処理を司る。具体的には、CPU40は、ユーザにより指定されたタイミング、および/または、対象物OBJの搬送位置などに応答して、照射測定ヘッド部104に対して励起用の紫外線の照射開始を指示するとともに、照射測定ヘッド部104により検出された対象物OBJからの蛍光の大きさを示す信号に基づいて、対象物OBJの表面におけるぬれ性を示す値(あるいは、検出された蛍光強度の生値)を算出および/または出力する。   The CPU 40 controls the entire measurement apparatus 100 by sequentially executing commands according to a program stored in advance. Specifically, the CPU 40 responds to the timing designated by the user and / or the transport position of the object OBJ, etc., and instructs the irradiation measurement head unit 104 to start irradiation with excitation ultraviolet rays. Based on a signal indicating the magnitude of fluorescence from the object OBJ detected by the irradiation measurement head unit 104, a value indicating wettability on the surface of the object OBJ (or a raw value of the detected fluorescence intensity) is obtained. Calculate and / or output.

表示部42は、一例として、LCD(Liquid Crystal Display)やCRT(Cathode-Ray tube)などのディスプレイ、セグメント表示器、あるいは、表示ランプといった通知手段を含む。測定処理部102の表示部42の一例として、図6に示す模式図においては、検出された蛍光強度や算出されたぬれ性を示す値を表示するためのセグメント表示器と、測定装置100の状態などを示すためのLED表示器とが例示されている。   The display unit 42 includes, for example, a display such as an LCD (Liquid Crystal Display) or a CRT (Cathode-Ray tube), a segment display, or a notification unit such as a display lamp. As an example of the display unit 42 of the measurement processing unit 102, in the schematic diagram shown in FIG. 6, the segment display for displaying the detected fluorescence intensity and the value indicating the calculated wettability, and the state of the measurement apparatus 100 The LED display for showing etc. is illustrated.

設定ボタン44は、各種のスイッチやボタンといった指示受付手段を含む。設定ボタン44は、ユーザによる操作を受付けて、その操作に応じたコマンドをCPU40へ出力する。図6に示す模式図においては、設定の変更/反映などを指示するためのボタンが例示されている。   The setting button 44 includes instruction receiving means such as various switches and buttons. The setting button 44 accepts an operation by the user and outputs a command corresponding to the operation to the CPU 40. In the schematic diagram shown in FIG. 6, buttons for instructing change / reflection of settings and the like are illustrated.

発振子52は、CPU40などが処理を実行する際の動作クロックを発生する。
記憶部54は、一例としてEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read only Memory)などからなり、CPU40で実行されるプログラムを格納したり、C
PU40で算出されたぬれ性を示す値および/または照射測定ヘッド部104により検出された値などを格納したりする。
The oscillator 52 generates an operation clock when the CPU 40 executes processing.
The storage unit 54 includes, for example, an E 2 PROM (Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory), and stores a program executed by the CPU 40 or C
A value indicating wettability calculated by the PU 40 and / or a value detected by the irradiation measurement head unit 104 are stored.

電源装置56は、駆動電源Vccなどを受けて、測定装置100の内部において必要な各種電圧値をもつ電源を生成して供給する。   The power supply device 56 receives the drive power supply Vcc and the like, and generates and supplies power having various voltage values required inside the measurement apparatus 100.

インターフェイス部58は、測定装置100の外部にある各種装置との間でデータの遣り取りを仲介する。一例として、インターフェイス部58は、対象物OBJにおける表面改質処理の良否を示す判定出力46と、対象物OBJからの蛍光量に基づいて算出される、従来の液滴法と互換性を保つための接触角を示す接触角アナログ出力48と、ユーザなどからの測定開始を指示するための測定開始入力50とを入出力する。なお、判定出力46および接触角アナログ出力48については、後述する。   The interface unit 58 mediates exchange of data with various devices outside the measuring apparatus 100. As an example, the interface unit 58 maintains compatibility with the conventional droplet method, which is calculated based on the determination output 46 indicating the quality of surface modification processing on the object OBJ and the amount of fluorescence from the object OBJ. A contact angle analog output 48 indicating the contact angle and a measurement start input 50 for instructing a measurement start from a user or the like are input / output. The determination output 46 and the contact angle analog output 48 will be described later.

なお、本明細書において「出力」とは、各種表示装置に目的とする情報(データ)を表示してユーザに通知すること、および、外部装置に目的とする情報(データ)を伝送することを含む。さらに、本明細書における「出力」には、測定装置100とプリンタなどを接続し、プリンタから情報が印刷された紙媒体を出力することも含む。   In this specification, “output” means displaying target information (data) on various display devices and notifying the user, and transmitting target information (data) to an external device. Including. Furthermore, “output” in this specification includes connecting the measuring apparatus 100 to a printer or the like and outputting a paper medium on which information is printed from the printer.

照射測定ヘッド部104は、励起用の紫外線を照射するためのUV投光部1042と、対象物OBJで生じる蛍光を検出するための蛍光受光部1041とを含む。   The irradiation measurement head unit 104 includes a UV light projecting unit 1042 for irradiating excitation ultraviolet rays and a fluorescence light receiving unit 1041 for detecting fluorescence generated in the object OBJ.

UV投光部1042は、上述したUV発光素子22に加えて、UV発光素子22を駆動するための投光駆動回路20を含む。投光駆動回路20には、駆動電力に加えて、CPU40からの制御信号が与えられる。この制御信号が活性化(ON)になると、投光駆動回路20からUV発光素子22に対して電力が供給され、UV発光素子22が励起用の紫外線の照射を開始する。   The UV light projecting unit 1042 includes a light projecting drive circuit 20 for driving the UV light emitting element 22 in addition to the UV light emitting element 22 described above. In addition to the drive power, the light projection drive circuit 20 is given a control signal from the CPU 40. When this control signal is activated (ON), power is supplied from the light projecting drive circuit 20 to the UV light emitting element 22, and the UV light emitting element 22 starts irradiating ultraviolet light for excitation.

また、蛍光受光部1041は、上述したフォトダイオード(PD)28に加えて、増幅回路32と、A/Dコンバータ36とを含む。増幅回路32は、フォトダイオード28から出力される電圧信号(検出された蛍光強度の大きさに比例)を所定の増幅率で増幅し、その増幅後の信号をA/D(Analog to Digital)コンバータ36へ出力する。A/Dコ
ンバータ36は、増幅回路32から入力されるアナログ信号を量子化することでデジタル信号を生成し、この生成されたデジタル信号をCPU40へ出力する。なお、A/Dコンバータ36は、電源装置56により供給される参照電圧VREFを電圧基準として、量子化を行う。
The fluorescent light receiving unit 1041 includes an amplifier circuit 32 and an A / D converter 36 in addition to the photodiode (PD) 28 described above. The amplification circuit 32 amplifies the voltage signal output from the photodiode 28 (proportional to the magnitude of the detected fluorescence intensity) with a predetermined amplification factor, and the amplified signal is an A / D (Analog to Digital) converter. To 36. The A / D converter 36 quantizes the analog signal input from the amplifier circuit 32 to generate a digital signal, and outputs the generated digital signal to the CPU 40. The A / D converter 36 performs quantization using the reference voltage VREF supplied from the power supply device 56 as a voltage reference.

[C2.測定装置の構成(その2)]
測定装置100の設置環境において、対象物OBJで生じる蛍光と同じ波長域を含む光源(照明装置)などが存在する場合には、この光源(照明装置)からの光が外乱となり得る。そのため、このような外乱を抑制するために、励起用の紫外線の強度を周期的に変化させる(一種の変調をする)ことが好ましい。
[C2. Configuration of measuring device (Part 2)]
If there is a light source (illumination device) including the same wavelength region as the fluorescence generated by the object OBJ in the installation environment of the measurement apparatus 100, the light from the light source (illumination device) can be a disturbance. Therefore, in order to suppress such disturbance, it is preferable to periodically change the intensity of the ultraviolet light for excitation (a kind of modulation).

図9は、本発明の実施の形態の第1変形例に係る測定装置100Aの電気的な構造を示す模式図である。図9に示す測定装置100Aは、図8に示す測定装置100に比較して、投光駆動回路20に対して所定周期のパルス信号を駆動信号として入力するように変更したUV投光部1044を採用するとともに、HPF(High Pass Filter)30および外乱光除去フィルタ34をさらに追加した蛍光受光部1043を採用したものである。   FIG. 9 is a schematic diagram showing an electrical structure of a measuring apparatus 100A according to a first modification of the embodiment of the present invention. The measurement apparatus 100A illustrated in FIG. 9 includes a UV light projecting unit 1044 that is changed to input a pulse signal having a predetermined cycle as a drive signal to the light projecting drive circuit 20 as compared with the measurement apparatus 100 illustrated in FIG. In addition to the adoption, a fluorescent light receiving unit 1043 to which an HPF (High Pass Filter) 30 and a disturbance light removal filter 34 are further added is adopted.

すなわち、UV投光部1044からは、投光駆動回路20に対して与えられるパルス信号(駆動信号)に対応して発生する、その強度が周期的に変化する紫外線が対象物OBJに対して照射される。その結果、紫外線強度の変化周期に同期して、対象物OBJで生じる蛍光強度も時間的に変化する。   That is, the UV light projecting unit 1044 irradiates the object OBJ with ultraviolet rays generated in response to a pulse signal (driving signal) given to the light projecting drive circuit 20 and whose intensity periodically changes. Is done. As a result, the fluorescence intensity generated in the object OBJ also changes with time in synchronization with the change period of the ultraviolet intensity.

一方、蛍光受光部1043においては、このように時間的に強度が変化する蛍光をフォトダイオード28により受光すると、その検出結果をHPF30に入力して、検出結果に含まれる交流成分を抽出する。この抽出された交流成分は、外乱光除去フィルタ34によって、投光駆動回路20に対して与えられるパルス信号の周期(周波数)と実質的に同じ周期成分が抽出される。より具体的には、外乱光除去フィルタ34では、増幅回路32により増幅された交流成分と紫外線に含まれる周期成分との間の相関値が順次算出される。この相関値が対象物OBJから発生した蛍光の強度を示す値となる。   On the other hand, in the fluorescence light receiving unit 1043, when the fluorescence whose intensity changes with time is received by the photodiode 28, the detection result is input to the HPF 30, and the AC component included in the detection result is extracted. The extracted alternating current component is extracted by the disturbance light removal filter 34 with a period component substantially the same as the period (frequency) of the pulse signal applied to the light projecting drive circuit 20. More specifically, the disturbance light removal filter 34 sequentially calculates a correlation value between the AC component amplified by the amplifier circuit 32 and the periodic component included in the ultraviolet rays. This correlation value is a value indicating the intensity of fluorescence generated from the object OBJ.

そして、外乱光除去フィルタ34からの出力信号(アナログ信号)がA/Dコンバータ36によって量子化されることで、デジタル信号が出力される。   Then, the output signal (analog signal) from the disturbance light removal filter 34 is quantized by the A / D converter 36, whereby a digital signal is output.

なお、外乱となる照明装置の光源(典型的には、蛍光灯)が特定の周期(たとえば、商用電源の周波数)で変動することが予め分かっているのであれば、励起用の紫外線の強度を変化させる周期としては、このような変動周期よりも短くすることが好ましい。   If it is known in advance that the light source (typically a fluorescent lamp) of the illuminating device that becomes a disturbance fluctuates in a specific cycle (for example, the frequency of a commercial power supply), the intensity of the ultraviolet light for excitation is reduced. The period to be changed is preferably shorter than such a fluctuation period.

その他の構成については、図7および図8を用いて説明した測定装置100と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since other configurations are the same as those of measurement apparatus 100 described with reference to FIGS. 7 and 8, detailed description thereof will not be repeated.

このように、本実施の形態の第1変形例に係る測定装置100Aによれば、その設置環境にある光源からの外乱に影響されず、対象物OBJから発生する蛍光強度(表面のぬれ性を示す値)を安定して測定することができる。   As described above, according to the measuring apparatus 100A according to the first modification of the present embodiment, the fluorescence intensity generated from the object OBJ (the surface wettability is not affected by the disturbance from the light source in the installation environment). Value) can be measured stably.

[C3.測定装置の構成(その3)]
測定装置100の周囲環境(温度など)に依存して、照射測定ヘッド部から照射される励起用の紫外線の強度が変動する場合が考えられる。この場合には、検出される蛍光強度の外乱となり得るので、対象物OBJに対して照射する紫外線の強度は一定とすることが望ましい。以下では、このような外乱を抑制するために、照射測定ヘッド部から照射される紫外線強度をモニタすることで、対象物OBJに照射される紫外線を一定に維持する構成について例示する。
[C3. Configuration of measuring device (Part 3)]
Depending on the surrounding environment (temperature, etc.) of the measuring apparatus 100, the case where the intensity of the ultraviolet ray for excitation irradiated from the irradiation measuring head unit varies can be considered. In this case, since the detected fluorescence intensity may be disturbed, it is desirable that the intensity of the ultraviolet rays applied to the object OBJ is constant. Below, in order to suppress such disturbance, the structure which maintains the ultraviolet-ray irradiated to the target object OBJ by monitoring the ultraviolet-ray intensity irradiated from an irradiation measurement head part is illustrated.

図10は、本発明の実施の形態の第2変形例に係る測定装置100Bの電気的な構造を示す模式図である。図10に示す測定装置100Bは、図9に示す測定装置100Aに比較して、投光量制御回路21と、モニタフォトダイオード(PD)25と、増幅回路26と、A/Dコンバータ27とをさらに含むように変更したUV投光部1046を採用したものである。   FIG. 10 is a schematic diagram showing an electrical structure of a measuring apparatus 100B according to a second modification of the embodiment of the present invention. A measurement apparatus 100B illustrated in FIG. 10 further includes a light projection amount control circuit 21, a monitor photodiode (PD) 25, an amplification circuit 26, and an A / D converter 27, as compared with the measurement apparatus 100A illustrated in FIG. The UV light projecting unit 1046 that has been modified so as to be included is adopted.

このUV投光部1046においては、UV発光素子22の照射面に隣接してモニタフォトダイオード25が配置され、UV発光素子22から対象物OBJへ照射される紫外線の強度を連続的に検知する。このモニタフォトダイオード25から出力される電圧信号(検出された紫外線強度の大きさに比例)は、増幅回路26へ入力されて、所定の増幅率で増幅される。この増幅後の電圧信号は、A/Dコンバータ27により量子化されてデジタル信号としてCPU40へ与えられる。   In the UV light projecting unit 1046, the monitor photodiode 25 is disposed adjacent to the irradiation surface of the UV light emitting element 22, and continuously detects the intensity of the ultraviolet light irradiated from the UV light emitting element 22 to the object OBJ. A voltage signal (proportional to the magnitude of the detected ultraviolet intensity) output from the monitor photodiode 25 is input to the amplifier circuit 26 and amplified at a predetermined amplification factor. The amplified voltage signal is quantized by the A / D converter 27 and applied to the CPU 40 as a digital signal.

CPU40は、A/Dコンバータ27からのデジタル信号を予め設定した基準値と比較することで、投光量制御回路21に対する制御指令を生成する。投光量制御回路21は、CPU40からの制御指令に従って、投光駆動回路20へ供給する電力を調整する。これにより、投光駆動回路20からUV発光素子22へ供給される電力がフィードバック制御される。その結果、UV発光素子22から対象物OBJに対して照射される励起用の紫外線の強度が一定に維持される。   The CPU 40 generates a control command for the light intensity control circuit 21 by comparing the digital signal from the A / D converter 27 with a preset reference value. The light projection amount control circuit 21 adjusts the power supplied to the light projection drive circuit 20 in accordance with a control command from the CPU 40. As a result, the power supplied from the light projecting drive circuit 20 to the UV light emitting element 22 is feedback controlled. As a result, the intensity of the ultraviolet light for excitation irradiated from the UV light emitting element 22 to the object OBJ is kept constant.

その他の構成については、図7および図8を用いて説明した測定装置100と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since other configurations are the same as those of measurement apparatus 100 described with reference to FIGS. 7 and 8, detailed description thereof will not be repeated.

このように、本実施の形態の第2変形例に係る測定装置100Bによれば、対象物OBJから発生する蛍光強度(表面のぬれ性を示す値)を安定して測定することができる。   Thus, according to measuring apparatus 100B according to the second modification of the present embodiment, it is possible to stably measure the fluorescence intensity (value indicating the wettability of the surface) generated from object OBJ.

[C4.測定装置の構成(その4)]
上述の測定装置の例では、励起用の紫外線と対象物OBJから発生する蛍光とが同一の光軸上を伝搬するような光学系について例示した。これに対して、励起用の紫外線の伝搬経路と対象物OBJから発生する蛍光の伝搬経路とを異ならせるようにしてもよい。
[C4. Configuration of measuring device (4)]
In the example of the measurement apparatus described above, an optical system in which the ultraviolet ray for excitation and the fluorescence generated from the object OBJ propagate on the same optical axis is illustrated. On the other hand, the propagation path of ultraviolet light for excitation and the propagation path of fluorescence generated from the object OBJ may be different.

図11は、本発明の実施の形態の第3変形例に係る測定装置100Cの光学的な構造を示す模式図である。図11に示す測定装置100Cにおいては、照射測定ヘッド部104Aは、励起用の紫外線を照射するためのUV投光部1047と、対象物OBJで生じる蛍光を検出するための蛍光受光部1048とを含む。   FIG. 11 is a schematic diagram showing an optical structure of a measuring apparatus 100C according to a third modification of the embodiment of the present invention. In the measurement apparatus 100C shown in FIG. 11, the irradiation measurement head unit 104A includes a UV light projecting unit 1047 for irradiating excitation ultraviolet rays and a fluorescence light receiving unit 1048 for detecting fluorescence generated in the object OBJ. Including.

UV投光部1047は、UV発光素子22と、集光レンズ38Aとを含む。UV発光素子22および集光レンズ38Aは、対象物OBJに対して所定の入射角をなす光軸Ax3上に整列配置される。したがって、UV発光素子22で発生する励起用の紫外線は、集光レンズ38Aを透過した後、光軸Ax3に沿って伝搬して対象物OBJに対して所定の入射角で入射する。   The UV light projecting unit 1047 includes a UV light emitting element 22 and a condenser lens 38A. The UV light emitting element 22 and the condensing lens 38A are aligned on an optical axis Ax3 that forms a predetermined incident angle with respect to the object OBJ. Therefore, the ultraviolet light for excitation generated by the UV light emitting element 22 passes through the condenser lens 38A, propagates along the optical axis Ax3, and enters the object OBJ at a predetermined incident angle.

対象物OBJにおいては、紫外線の入射角に対応する反射角で発生した蛍光が伝搬する
。すなわち、対象物OBJの垂直軸に関して、光軸Ax3と対称となる光軸Ax4に沿って、対象物OBJで発生した蛍光は伝搬する。
In the object OBJ, fluorescence generated at a reflection angle corresponding to the incident angle of ultraviolet light propagates. That is, with respect to the vertical axis of the object OBJ, the fluorescence generated in the object OBJ propagates along the optical axis Ax4 that is symmetric with the optical axis Ax3.

蛍光受光部1048においては、この光軸Ax4上に、波長フィルタ39、集光レンズ38Bおよびフォトダイオード28が整列配置される。波長フィルタ39は、UV投光部1047から照射される励起用の紫外線がフォトダイオード28へ直接的に入射することを抑制するための光フィルタである。すなわち、波長フィルタ39は、測定対象の蛍光が入射した場合には透過させる一方で、測定対象ではない紫外線が入射した場合にはカットするような特性を有する。   In the fluorescence light receiving unit 1048, the wavelength filter 39, the condensing lens 38B, and the photodiode 28 are aligned on the optical axis Ax4. The wavelength filter 39 is an optical filter for suppressing excitation ultraviolet rays emitted from the UV light projecting unit 1047 from directly entering the photodiode 28. In other words, the wavelength filter 39 has a characteristic of transmitting when the fluorescence to be measured is incident, and cutting it when ultraviolet rays that are not the measurement object are incident.

したがって、励起用の紫外線の照射によって対象物OBJで発生した蛍光は、波長フィルタ39を透過した後、集光レンズ38Bによって集光されて、フォトダイオード28で結像するようになっている。そして、フォトダイオード28が対象物OBJから発生した蛍光の強度を検出する。   Therefore, the fluorescence generated in the object OBJ due to the irradiation of excitation ultraviolet rays passes through the wavelength filter 39, and is then collected by the condenser lens 38B and imaged by the photodiode 28. The photodiode 28 detects the intensity of the fluorescence generated from the object OBJ.

なお、対象物OBJの種類に依存して、発生する蛍光の波長が異なる場合などには、測定対象の波長毎に、UV投光部1047および/または蛍光受光部1048を複数しておき、必要に応じて、適切なものを選択するようにしてもよい。   Depending on the type of the object OBJ, when the wavelength of generated fluorescence differs, a plurality of UV light projecting units 1047 and / or fluorescent light receiving units 1048 are provided for each wavelength to be measured. Depending on the case, an appropriate one may be selected.

その他の構成については、図7〜図10を用いて説明した測定装置と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since other configurations are the same as those of the measurement apparatus described with reference to FIGS. 7 to 10, detailed description will not be repeated.

[C5.測定装置の構成(その5)]
上述の測定装置の例では、紫外線LEDであるUV発光素子を用いて励起用の紫外線を発生する構成について例示したが、紫外線ランプなどを用いてもよい。以下、図11に示す測定装置の構成において、紫外線の発生源として、紫外線ランプを採用した構成について例示する。
[C5. Configuration of measuring device (part 5)]
In the example of the measurement apparatus described above, the configuration for generating the ultraviolet light for excitation using the UV light emitting element which is an ultraviolet LED is exemplified, but an ultraviolet lamp or the like may be used. Hereinafter, in the configuration of the measuring apparatus shown in FIG. 11, a configuration in which an ultraviolet lamp is used as an ultraviolet ray generation source will be exemplified.

図12は、本発明の実施の形態の第4変形例に係る測定装置100Dの光学的な構造を示す模式図である。図13は、図12に示す紫外線ランプ(メタルハライドランプ)の発光スペクトルの一例を示す図である。図14は、図12に示す波長フィルタの特性の一例を示す図である。   FIG. 12 is a schematic diagram showing an optical structure of a measuring apparatus 100D according to a fourth modification of the embodiment of the present invention. FIG. 13 is a diagram showing an example of an emission spectrum of the ultraviolet lamp (metal halide lamp) shown in FIG. FIG. 14 is a diagram illustrating an example of characteristics of the wavelength filter illustrated in FIG.

図12に示す測定装置100Dにおいては、照射測定ヘッド部104Bは、励起用の紫外線を照射するためのUV投光部1045と、対象物OBJで生じる蛍光を検出するための蛍光受光部1049とを含む。なお、蛍光受光部1049の構成については、上述の図11に示す蛍光受光部1049と同様である。   In the measurement apparatus 100D shown in FIG. 12, the irradiation measurement head unit 104B includes a UV light projecting unit 1045 for irradiating excitation ultraviolet rays and a fluorescence light receiving unit 1049 for detecting fluorescence generated in the object OBJ. Including. The configuration of the fluorescence light receiving unit 1049 is the same as that of the fluorescence light receiving unit 1049 shown in FIG.

UV投光部1045は、紫外線ランプ23と、集光レンズ38Aと、波長フィルタ39Aとを含む。紫外線ランプ23としては、典型的には、メタルハライドランプが用いられる。紫外線ランプ23、集光レンズ38A、および波長フィルタ39Aは、対象物OBJに対して所定の入射角をなす光軸Ax3上に整列配置される。   The UV light projecting unit 1045 includes an ultraviolet lamp 23, a condenser lens 38A, and a wavelength filter 39A. As the ultraviolet lamp 23, a metal halide lamp is typically used. The ultraviolet lamp 23, the condensing lens 38A, and the wavelength filter 39A are arranged in alignment on the optical axis Ax3 that forms a predetermined incident angle with respect to the object OBJ.

図13に示すように、紫外線ランプ23は、上述のUV発光素子とは異なり、比較的広い帯域にわたって紫外線を照射する。なお、紫外線ランプ23から照射される光には、可視光領域の波長成分も含み得る。そのため、紫外線ランプ23から照射される可視光を含む光のうち、紫外線成分のみを抽出して対象物OBJに照射する必要がある。なぜならば、可視光成分を含む光を照射すると、対象物OBJから生じる蛍光と混ざってしまい、蛍光強度を正確に測定することができないからである。   As shown in FIG. 13, the ultraviolet lamp 23 irradiates ultraviolet rays over a relatively wide band, unlike the above-described UV light emitting element. Note that the light emitted from the ultraviolet lamp 23 may include a wavelength component in the visible light region. Therefore, it is necessary to extract only the ultraviolet component from the light including visible light emitted from the ultraviolet lamp 23 and irradiate the object OBJ. This is because when light containing a visible light component is irradiated, it is mixed with the fluorescence generated from the object OBJ, and the fluorescence intensity cannot be measured accurately.

そこで、測定装置100DのUV投光部1045においては、紫外線ランプ23の照射方向に波長フィルタ39Aを配置して、対象物OBJからの蛍光強度の検出に必要な紫外線成分のみを抽出する。一方、測定装置100Dの蛍光受光部1049においては、対象物OBJから生じた蛍光のみを選択的に抽出するための波長フィルタ39Bが配置される。   Therefore, in the UV light projecting unit 1045 of the measuring apparatus 100D, the wavelength filter 39A is arranged in the irradiation direction of the ultraviolet lamp 23, and only the ultraviolet component necessary for detecting the fluorescence intensity from the object OBJ is extracted. On the other hand, in the fluorescence light receiving unit 1049 of the measuring apparatus 100D, a wavelength filter 39B for selectively extracting only the fluorescence generated from the object OBJ is disposed.

これらの波長フィルタ39Aおよび39Bの波長透過特性の一例を図14に示す。図14には、対象物OBJにおいて表面改質処理において生じる官能基の吸収スペクトルのピークが310nm付近に存在する場合の例を示す。   An example of the wavelength transmission characteristics of these wavelength filters 39A and 39B is shown in FIG. FIG. 14 shows an example of the case where the peak of the absorption spectrum of the functional group generated in the surface modification treatment in the object OBJ exists in the vicinity of 310 nm.

図14に示す例では、波長フィルタ39Aは、バンドパスフィルタ(BPF)またはローパスフィルタ(LPF)からなり、310nm付近を中心とした波長帯域の光を透過させるとともに、それ以外の波長成分を遮断する。すなわち、UV投光部1045の波長フィルタ39Aは、紫外線ランプ23から発生する波長成分のうち、目的の官能基の吸収スペクトルに対応する波長成分のみを抽出することを目的としている。   In the example shown in FIG. 14, the wavelength filter 39A is composed of a bandpass filter (BPF) or a lowpass filter (LPF), transmits light in a wavelength band centered around 310 nm, and blocks other wavelength components. . That is, the wavelength filter 39A of the UV light projecting unit 1045 is intended to extract only the wavelength component corresponding to the absorption spectrum of the target functional group among the wavelength components generated from the ultraviolet lamp 23.

一方、蛍光受光部1049の波長フィルタ39Bは、ハイパスフィルタ(HPF)またはバンドパスフィルタ(BPF)からなり、対象物OBJの表面に生じる目的の官能基から生じる蛍光以外の外乱となりうる成分を遮断する。特に、UV投光部1045から照射される励起用の紫外線が直接的または間接的にフォトダイオード28に入射することを抑制することを目的としている。そのため、図14に示すように、蛍光受光部1049の波長フィルタ39Bのカットオフ波長は、UV投光部1045の波長フィルタ39Aの透過波長帯域より長波長側に設定される。   On the other hand, the wavelength filter 39B of the fluorescence light receiving unit 1049 is composed of a high-pass filter (HPF) or a band-pass filter (BPF), and blocks components that may be disturbances other than fluorescence generated from a target functional group generated on the surface of the object OBJ. . In particular, it is intended to suppress the excitation ultraviolet light emitted from the UV light projecting unit 1045 from directly or indirectly entering the photodiode 28. Therefore, as shown in FIG. 14, the cutoff wavelength of the wavelength filter 39B of the fluorescence light receiving unit 1049 is set to a longer wavelength side than the transmission wavelength band of the wavelength filter 39A of the UV light projecting unit 1045.

第4変形例に係る測定装置100Dにおいては、対象物OBJの表面に生じる官能基の種類などに応じて、波長フィルタ39Aを変更することで、照射する紫外線の主波長成分を調整することができる。そのため、UV発光素子を使用する場合に比較して、汎用性を高めることができる。   In the measuring apparatus 100D according to the fourth modification, the main wavelength component of the irradiated ultraviolet light can be adjusted by changing the wavelength filter 39A according to the type of functional group generated on the surface of the object OBJ. . Therefore, versatility can be improved as compared with the case where a UV light emitting element is used.

さらに、波長透過特性が互いに異なる複数の波長フィルタ39Aおよび39Bを用意しておき、目的となる対象物OBJの材質(すなわち、その表面に生じる官能基の吸収波長および発生する蛍光の波長)に応じて、適切な波長フィルタを選択するようにしてもよい。   Further, a plurality of wavelength filters 39A and 39B having different wavelength transmission characteristics are prepared, and according to the material of the target object OBJ (that is, the absorption wavelength of the functional group generated on the surface and the wavelength of the generated fluorescence). Thus, an appropriate wavelength filter may be selected.

その他の構成については、図7〜図11を用いて説明した測定装置と同様であるので、詳細な説明は繰返さない。   Since other configurations are the same as those of the measurement apparatus described with reference to FIGS. 7 to 11, detailed description will not be repeated.

[D1.制御構造(その1)]
次に、本実施の形態に係る測定装置100における制御構造について説明する。
[D1. Control structure (1)]
Next, a control structure in measuring apparatus 100 according to the present embodiment will be described.

図15は、本発明の実施の形態に係る測定装置100の制御構造を示す模式図である。図15に示す制御構造は、基本的には、対象物OBJに対して表面改質処理を行った後においてのみ蛍光強度を検出する測定方法に適用される。すなわち、上述の実験例のうち、コロナ処理の例で示すように、表面改質処理があるレベルに達するまでは、表面から蛍光を発しない材質に適している。言い換えれば、図15に示す制御構造は、表面改質処理前における蛍光強度がゼロであるような対象物OBJを評価する場合に使用される。
図15を参照して、測定装置100は、その制御構造として、バッファ400と、表示データ生成部402と、判定部404と、換算部406と、データベース408とを含む。一例として、測定装置100は、照射測定ヘッド部104により検出された検出値(蛍光強度)を入力として、判定出力、蛍光強度、接触角を出力する。
FIG. 15 is a schematic diagram showing a control structure of measuring apparatus 100 according to the embodiment of the present invention. The control structure shown in FIG. 15 is basically applied to a measurement method for detecting the fluorescence intensity only after the surface modification process is performed on the object OBJ. That is, among the above experimental examples, as shown in the example of the corona treatment, it is suitable for a material that does not emit fluorescence from the surface until the surface modification treatment reaches a certain level. In other words, the control structure shown in FIG. 15 is used when evaluating an object OBJ whose fluorescence intensity before the surface modification treatment is zero.
Referring to FIG. 15, measuring apparatus 100 includes a buffer 400, a display data generation unit 402, a determination unit 404, a conversion unit 406, and a database 408 as its control structure. As an example, the measurement apparatus 100 outputs a determination output, a fluorescence intensity, and a contact angle by using a detection value (fluorescence intensity) detected by the irradiation measurement head unit 104 as an input.

なお、典型的には、表示データ生成部402、判定部404、換算部406は、CPU40がプログラムを実行することで実現され、バッファ400およびデータベース408は、記憶部54の所定領域に実現される。   Typically, the display data generation unit 402, the determination unit 404, and the conversion unit 406 are realized by the CPU 40 executing a program, and the buffer 400 and the database 408 are realized in a predetermined area of the storage unit 54. .

具体的には、計測開始トリガに応答して、バッファ400は、照射測定ヘッド部104からの検出値を取得して格納する。この計測開始トリガに同期して、照射測定ヘッド部104へは、紫外線の照射指令が与えられる。バッファ400に格納された検出値は、表示データ生成部402、判定部404、換算部406からそれぞれアクセス可能となっている。なお、バッファ400には、複数のサンプル時刻において検出された値を平均化した結果を格納してもよい。さらに、ノイズなどを除去するための各種の前処理(フィルタリング処理)を行ってもよい。   Specifically, in response to the measurement start trigger, the buffer 400 acquires and stores the detection value from the irradiation measurement head unit 104. In synchronization with this measurement start trigger, an irradiation command of ultraviolet rays is given to the irradiation measurement head unit 104. The detection values stored in the buffer 400 can be accessed from the display data generation unit 402, the determination unit 404, and the conversion unit 406, respectively. The buffer 400 may store the result of averaging values detected at a plurality of sample times. Furthermore, various preprocessing (filtering processing) for removing noise and the like may be performed.

表示データ生成部402は、バッファ400に格納された蛍光強度(検出値)を表示するためのデータ、典型的には、セグメント表示器を駆動するための信号を生成する。   The display data generation unit 402 generates data for displaying the fluorescence intensity (detection value) stored in the buffer 400, typically a signal for driving the segment display.

判定部404は、バッファ400に格納された蛍光強度(検出値)に基づいて、対象物OBJにおけるぬれ性の良否を判定する。具体的には、判定部404は、バッファ400に格納された蛍光強度の値としきい値とを比較して、蛍光強度の値がしきい値より大きければ、目的とする程度のぬれ性を確保できていると判断する。このしきい値は、対象物OBJの製造プロセスに応じて、必要なぬれ性の度合いに対応する値に設定される。   The determination unit 404 determines the wettability of the object OBJ based on the fluorescence intensity (detection value) stored in the buffer 400. Specifically, the determination unit 404 compares the fluorescence intensity value stored in the buffer 400 with a threshold value, and if the fluorescence intensity value is greater than the threshold value, secures a target wettability. Judge that it is done. This threshold value is set to a value corresponding to the required degree of wettability according to the manufacturing process of the object OBJ.

換算部406は、バッファ400に格納された蛍光強度(検出値)に基づいて、従来の液滴法を用いた接触角測定装置により算出される接触角と実質的に等価な値を算出する。すなわち、従来の液滴法を用いた接触角測定装置を本実施の形態に係る測定装置100にリプレースする場合などを想定すると、管理装置などとの間でインターフェイスされるデータに互換性があることが好ましい。そのため、本実施の形態に係る測定装置は、データベース408に、対象物OBJから検出される蛍光強度とそのときの接触角とを対応付けたテーブル410(あるいは、関係式または関数)などを用意しておき、換算部406が、対応するテーブル410を参照して、バッファ400に格納された蛍光強度を用いて、接触角を算出する。なお、上述の実験結果にも示すように、発生する蛍光強度は、対象物OBJの材質に依存するので、対象物OBJの材質(種類)の別にテーブル410を複数用意しておき、目的の対象物OBJの材質(種類)に応じたテーブル410を選択的に使用することが好ましい。   Based on the fluorescence intensity (detection value) stored in the buffer 400, the conversion unit 406 calculates a value substantially equivalent to the contact angle calculated by the contact angle measurement device using the conventional droplet method. That is, assuming that the contact angle measurement device using the conventional droplet method is replaced with the measurement device 100 according to the present embodiment, the data interfaced with the management device is compatible. Is preferred. Therefore, the measuring apparatus according to the present embodiment prepares a table 410 (or a relational expression or a function) that associates the fluorescence intensity detected from the object OBJ with the contact angle at that time in the database 408. The conversion unit 406 refers to the corresponding table 410 and calculates the contact angle using the fluorescence intensity stored in the buffer 400. As shown in the above experimental results, the intensity of the generated fluorescence depends on the material of the object OBJ. Therefore, a plurality of tables 410 are prepared according to the material (type) of the object OBJ. It is preferable to selectively use the table 410 according to the material (type) of the object OBJ.

図16は、図3に示す実験結果を接触角と蛍光強度との関係についてプロットしたグラフを示す図である。図16に示すように、接触角の大きさと蛍光強度との間にも、強い相関関係があることがわかる。そのため、図16に示すような対応関係を予め実験的に取得しておき、この対応関係を参照して、対象物OBJから検出される蛍光強度に対応付けられた蛍光強度を算出する。   FIG. 16 is a diagram showing a graph in which the experimental results shown in FIG. 3 are plotted with respect to the relationship between the contact angle and the fluorescence intensity. As shown in FIG. 16, it can be seen that there is also a strong correlation between the size of the contact angle and the fluorescence intensity. Therefore, a correspondence relationship as shown in FIG. 16 is experimentally acquired in advance, and the fluorescence intensity associated with the fluorescence intensity detected from the object OBJ is calculated with reference to this correspondence relationship.

ここで、図16に示すような対応関係、および、図15に示すテーブル410の作成方法について説明する。   Here, a correspondence relationship as shown in FIG. 16 and a method of creating the table 410 shown in FIG. 15 will be described.

基本的には、上述の実験例と同様に、目的の対象物OBJに対して様々な条件で表面改質処理を行う。なお、対象物OBJについては、均質な材料で複数のサンプルを用意することが好ましい。そして、それぞれ表面改質処理された後の対象物OBJに対して、本実施の形態に係る測定装置を用いて蛍光強度を検出するとともに、従来の接触角測定装置を用いて接触角を計測する。このように、複数の異なるぬれ性をもつように表面改質処理された対象物OBJについて、本実施の形態に係る測定装置100により検出された蛍光強
度と対応する接触角の測定値とを関連付けることにより、当該対象物OBJについての蛍光強度と接触角との対応関係(テーブル410)を生成することができる。
Basically, the surface modification treatment is performed on the target object OBJ under various conditions as in the above-described experimental example. In addition, about the target object OBJ, it is preferable to prepare a some sample with a homogeneous material. And with respect to the object OBJ after each surface modification process, while detecting the fluorescence intensity using the measuring apparatus which concerns on this Embodiment, a contact angle is measured using the conventional contact angle measuring apparatus. . As described above, with respect to the object OBJ that has been surface-modified so as to have a plurality of different wettability, the fluorescence intensity detected by the measurement apparatus 100 according to the present embodiment and the corresponding measurement value of the contact angle are associated with each other. Thereby, the correspondence (table 410) between the fluorescence intensity and the contact angle for the object OBJ can be generated.

[D2.制御構造(その2)]
上述の図15に示す制御構造においては、表面改質処理前の対象物OBJからは、実質的に蛍光が発生しない場合に適している。一方、上述の実験例のうち、プラズマ処理の例で示すように、対象物OBJの材質などによっては、表面改質処理前の状態であっても、対象物OBJからは、幾分かの蛍光が発する場合がある。このような場合には、処理前後において変化した蛍光強度の大きさに基づいて、対象物OBJにおけるぬれ性を評価することが好ましい。
[D2. Control structure (2)]
The control structure shown in FIG. 15 is suitable for a case where fluorescence is not substantially generated from the object OBJ before the surface modification treatment. On the other hand, among the above experimental examples, as shown in the plasma processing example, depending on the material of the object OBJ or the like, some fluorescence is emitted from the object OBJ even in the state before the surface modification process. May occur. In such a case, it is preferable to evaluate the wettability of the object OBJ based on the magnitude of the fluorescence intensity changed before and after the treatment.

図17は、本発明の実施の形態に係る測定装置100の制御構造の変形例を示す模式図である。図17参照して、測定装置100は、その変形例の制御構造として、バッファ411,412と、差分演算器414と、表示データ生成部402と、判定部404と、換算部416と、データベース408とを含む。   FIG. 17 is a schematic diagram showing a modification of the control structure of the measuring apparatus 100 according to the embodiment of the present invention. Referring to FIG. 17, the measurement apparatus 100 has buffers 411 and 412, a difference calculator 414, a display data generation unit 402, a determination unit 404, a conversion unit 416, and a database 408 as a modified control structure. Including.

典型的には、表示データ生成部402、判定部404、換算部416、差分演算器414は、CPU40がプログラムを実行することで実現され、バッファ411,412およびデータベース408は、記憶部54の所定領域に実現される。   Typically, the display data generation unit 402, the determination unit 404, the conversion unit 416, and the difference calculator 414 are realized by the CPU 40 executing a program, and the buffers 411 and 412 and the database 408 are stored in the storage unit 54 as predetermined. Realized in the area.

一例として、測定装置100は、表面改質処理前の対象物OBJから検出された蛍光強度と、表面改質処理後の対象物OBJから検出された蛍光強度との差分に基づいて、対象物OBJにおけるぬれ性を評価するための結果(判定出力、蛍光強度、接触角など)を出力する。   As an example, the measuring apparatus 100 detects the object OBJ based on the difference between the fluorescence intensity detected from the object OBJ before the surface modification process and the fluorescence intensity detected from the object OBJ after the surface modification process. The result (evaluation output, fluorescence intensity, contact angle, etc.) for evaluating the wettability is output.

具体的には、バッファ411には、照射測定ヘッド部104を用いて表面改質処理前の対象物OBJから検出された蛍光強度が格納され、バッファ412には、照射測定ヘッド部104を用いて表面改質処理後の対象物OBJから検出された蛍光強度が格納される。なお、単一の照射測定ヘッド部104を用いて、処理前後における蛍光強度を検出するようにしてもよいが、図1に示すように、表面改質処理前および表面改質処理後の位置にそれぞれ照射測定ヘッド部104を配置して、2つの照射測定ヘッド部104がそれぞれ検出する蛍光強度をバッファ411および412へそれぞれ格納するようにすることが好ましい。なお、この場合には、2つの照射測定ヘッド部104の間での校正を行う必要がある。   Specifically, the fluorescence intensity detected from the object OBJ before the surface modification processing is stored in the buffer 411 using the irradiation measurement head unit 104, and the buffer 412 is stored using the irradiation measurement head unit 104. The fluorescence intensity detected from the object OBJ after the surface modification treatment is stored. Note that the fluorescence intensity before and after the treatment may be detected using a single irradiation measurement head unit 104. However, as shown in FIG. It is preferable that the irradiation measurement head units 104 are arranged so that the fluorescence intensities detected by the two irradiation measurement head units 104 are stored in the buffers 411 and 412 respectively. In this case, it is necessary to perform calibration between the two irradiation measurement head units 104.

差分演算器414は、バッファ412に格納された検出値(処理後)からバッファ411に格納された検出値(処理前)を差し引いて、蛍光強度の差分を算出する。   The difference calculator 414 subtracts the detection value (before processing) stored in the buffer 411 from the detection value (after processing) stored in the buffer 412 to calculate a difference in fluorescence intensity.

表示データ生成部402は、差分演算器414で算出された蛍光強度の差分(蛍光強度の変化量)を表示するためのデータ、典型的には、セグメント表示器を駆動するための信号を生成する。   The display data generation unit 402 generates data for displaying the fluorescence intensity difference (fluorescence intensity change amount) calculated by the difference calculator 414, typically a signal for driving the segment display. .

判定部404は、差分演算器414で算出された蛍光強度の差分に基づいて、対象物OBJにおけるぬれ性の良否を判定する。具体的には、判定部404は、差分演算器414で算出された蛍光強度の差分としきい値とを比較して、蛍光強度の差分がしきい値より大きければ、目的とする表面改質処理が行われたと判断する。このしきい値は、対象物OBJの製造プロセスに応じて、必要な表面改質処理の度合いに対応する値に設定される。   The determination unit 404 determines the wettability of the object OBJ based on the difference in fluorescence intensity calculated by the difference calculator 414. Specifically, the determination unit 404 compares the fluorescence intensity difference calculated by the difference calculator 414 with a threshold value. If the fluorescence intensity difference is greater than the threshold value, the target surface modification process is performed. Is determined to have been performed. This threshold value is set to a value corresponding to the required degree of surface modification treatment according to the manufacturing process of the object OBJ.

換算部416は、図15に示す換算部406と同様に、バッファ411および412にそれぞれ格納された蛍光強度(検出値)に基づいて、従来の液滴法を用いた接触角測定装
置により算出される接触角と実質的に等価な接触角をそれぞれ算出する。さらに、換算部416は、それぞれの検出値から算出された接触角の間の差分をとり、接触角の変化量を出力する。このとき、換算部416は、対象物OBJから検出される蛍光強度とそのときの接触角とを対応付けたテーブル410(あるいは、関係式または関数)をデータベース408から読み出して、接触角を算出する。なお、換算部416は、表面改質処理前および表面改質処理後においてそれぞれ算出される接触角そのものを出力するようにしてもよい。
Similarly to the conversion unit 406 shown in FIG. 15, the conversion unit 416 is calculated by a contact angle measurement device using a conventional droplet method based on the fluorescence intensities (detection values) stored in the buffers 411 and 412 respectively. The contact angle substantially equivalent to the contact angle is calculated. Further, the conversion unit 416 takes the difference between the contact angles calculated from the respective detection values and outputs the amount of change in the contact angle. At this time, the conversion unit 416 reads the table 410 (or relational expression or function) in which the fluorescence intensity detected from the object OBJ and the contact angle at that time are associated with each other from the database 408, and calculates the contact angle. . Note that the conversion unit 416 may output the contact angle itself calculated before and after the surface modification process.

[E.処理手順]
以下、本実施の形態に係る測定処理の手順について説明する。
(1.ぬれ性評価処理(その1))
図18は、本発明の実施の形態に係るぬれ性評価処理(その1)の手順を示すフローチャートである。図18に示すぬれ性評価処理は、図15に示す制御構造に対応して実行されるものであり、基本的には、表面改質処理後の対象物OBJから測定された蛍光強度のみに基づいて、対象物OBJのぬれ性を評価する。
[E. Processing procedure]
Hereinafter, the procedure of the measurement process according to the present embodiment will be described.
(1. Wettability evaluation process (1))
FIG. 18 is a flowchart showing a procedure of wettability evaluation processing (No. 1) according to the embodiment of the present invention. The wettability evaluation process shown in FIG. 18 is executed corresponding to the control structure shown in FIG. 15, and is basically based only on the fluorescence intensity measured from the object OBJ after the surface modification process. Then, the wettability of the object OBJ is evaluated.

まず、ステップS100において、対象物OBJからの蛍光強度の測定タイミングであるか否かを判断する。より具体的には、対象物OBJについての表面改質処理がバッチ的に実行される場合には、そのバッチ処理が完了した場合に、測定タイミングであると判断される。あるいは、対象物OBJについての表面改質処理が連続的に実行される場合には、所定周期毎に測定タイミングが決定される。   First, in step S100, it is determined whether it is the measurement timing of the fluorescence intensity from the object OBJ. More specifically, when the surface modification process for the object OBJ is executed in batches, it is determined that the measurement timing is reached when the batch process is completed. Alternatively, when the surface modification process for the object OBJ is continuously performed, the measurement timing is determined every predetermined period.

蛍光強度の測定タイミングでなければ(ステップS100においてNO)、ステップS100の処理が繰返される。   If it is not the measurement timing of the fluorescence intensity (NO in step S100), the process of step S100 is repeated.

一方、蛍光強度の測定タイミングであれば(ステップS100においてYES)、処理はステップS102に進む。ステップS102において、測定開始指令を発行する。ステップS104において、測定開始指令に応答して、照射測定ヘッド部104から励起用の紫外線を対象物OBJに向けて照射する。ステップS106において、照射測定ヘッド部104において、対象物OBJで生じる蛍光を検出する。ステップS108において、検出された蛍光に対してノイズ除去処理(フィルタリング処理)を行った上で、蛍光強度(代表値)を取得する。   On the other hand, if it is the fluorescence intensity measurement timing (YES in step S100), the process proceeds to step S102. In step S102, a measurement start command is issued. In step S104, in response to the measurement start command, the irradiation measuring head unit 104 irradiates the object OBJ with excitation ultraviolet rays. In step S106, the irradiation measurement head unit 104 detects fluorescence generated in the object OBJ. In step S108, a noise removal process (filtering process) is performed on the detected fluorescence, and a fluorescence intensity (representative value) is acquired.

ステップS110において、取得した蛍光強度としきい値とを比較して、対象物OBJにおけるぬれ性の良否を判定する。続くステップS112において、対象物OBJの種類に応じた関係式(テーブル)を選択し、選択された関係式を用いて、取得した蛍光強度に対応する接触角を算出する。すなわち、ステップS112において、対象物の種類の別に予め取得された複数の対応関係のうち、選択された対応関係に従って、検出された蛍光強度に対応する接触角が算出される。   In step S110, the acquired fluorescence intensity is compared with a threshold value to determine whether or not the wettability of the object OBJ is good. In subsequent step S112, a relational expression (table) corresponding to the type of the object OBJ is selected, and a contact angle corresponding to the acquired fluorescence intensity is calculated using the selected relational expression. That is, in step S112, a contact angle corresponding to the detected fluorescence intensity is calculated according to the selected correspondence among a plurality of correspondences acquired in advance for each type of object.

そして、ステップS114において、出力処理を行う。具体的には、ステップS108において取得された蛍光強度、ステップS110において決定されたぬれ性の良否判定結果、および、ステップS112において算出された接触角の少なくとも1つを表示あるいは外部装置へ出力する。すなわち、ステップS114において、検出された蛍光強度から対象物OBJの表面におけるぬれ性を示す値を出力する。このとき、対象物OBJの表面におけるぬれ性を示す値として検出された蛍光強度が出力される。   In step S114, an output process is performed. Specifically, at least one of the fluorescence intensity acquired in step S108, the wettability determination result determined in step S110, and the contact angle calculated in step S112 is displayed or output to an external device. That is, in step S114, a value indicating the wettability on the surface of the object OBJ is output from the detected fluorescence intensity. At this time, the fluorescence intensity detected as a value indicating the wettability on the surface of the object OBJ is output.

ステップS116において、ぬれ性評価処理の終了が指示されたか否かを判断する。ぬれ性評価処理の終了が指示されていなければ(ステップS116においてNO)、ステップS100以下の処理が繰返される。一方、ぬれ性評価処理の終了が指示されていれば(
ステップS116においてYES)、ぬれ性評価処理は終了する。
In step S116, it is determined whether an instruction to end the wettability evaluation process is given. If the end of the wettability evaluation process is not instructed (NO in step S116), the processes in and after step S100 are repeated. On the other hand, if the end of the wettability evaluation process is instructed (
YES in step S116), the wettability evaluation process ends.

なお、図18に示すフローチャートにおいては、評価出力として、3つの結果(蛍光強度、ぬれ性の良否判定結果、接触角)を算出する場合の処理を例示するが、これらの3つの結果をすべて算出する必要はなく、適用されるプロセスなどに応じて、必要な結果を適宜選択してもよい。このことは、後述する図19に示すフローチャートにおいても同様である。
(2.ぬれ性評価処理(その2))
図19は、本発明の実施の形態に係るぬれ性評価処理(その2)の手順を示すフローチャートである。図19に示すぬれ性評価処理は、図17に示す制御構造に対応して実行されるものであり、基本的には、表面改質処理前の対象物OBJから検出された蛍光強度と表面改質処理後の対象物OBJから検出された蛍光強度とに基づいて、対象物OBJのぬれ性を評価する。
In the flowchart shown in FIG. 18, the processing in the case of calculating three results (fluorescence intensity, wettability determination result, contact angle) as the evaluation output is illustrated, but all these three results are calculated. There is no need to do so, and a necessary result may be appropriately selected according to the applied process. This also applies to the flowchart shown in FIG.
(2. Wettability evaluation process (2))
FIG. 19 is a flowchart showing a procedure of wettability evaluation processing (part 2) according to the embodiment of the present invention. The wettability evaluation process shown in FIG. 19 is executed corresponding to the control structure shown in FIG. 17, and basically the fluorescence intensity detected from the object OBJ before the surface modification process and the surface modification. The wettability of the object OBJ is evaluated based on the fluorescence intensity detected from the object OBJ after the quality treatment.

まず、ステップS200において、表面改質処理前の対象物OBJからの蛍光強度の測定が指示されたか否かを判断する。表面改質処理前の対象物OBJからの蛍光強度の測定が指示されていなければ(ステップS200においてNO)、ステップS200の処理が繰返される。   First, in step S200, it is determined whether or not the measurement of the fluorescence intensity from the object OBJ before the surface modification process is instructed. If the measurement of the fluorescence intensity from the object OBJ before the surface modification process is not instructed (NO in step S200), the process of step S200 is repeated.

表面改質処理前の対象物OBJからの蛍光強度の測定が指示されていれば(ステップS200においてYES)、処理はステップS202に進む。ステップS202において、第1回目の測定開始指令を発行する。続くステップS204において、測定開始指令に応答して、照射測定ヘッド部104から励起用の紫外線を表面改質処理前の対象物OBJに向けて照射する。ステップS206において、照射測定ヘッド部104において、対象物OBJで生じる蛍光を検出する。ステップS208において、検出された蛍光に対してノイズ除去処理(フィルタリング処理)を行った上で、表面改質処理前の対象物OBJについての蛍光強度(代表値)を取得する。   If the measurement of the fluorescence intensity from the object OBJ before the surface modification process is instructed (YES in step S200), the process proceeds to step S202. In step S202, a first measurement start command is issued. In subsequent step S204, in response to the measurement start command, the irradiation measuring head unit 104 irradiates the excitation ultraviolet ray toward the object OBJ before the surface modification treatment. In step S206, the irradiation measurement head unit 104 detects fluorescence generated in the object OBJ. In step S208, a noise removal process (filtering process) is performed on the detected fluorescence, and a fluorescence intensity (representative value) for the object OBJ before the surface modification process is acquired.

続くステップS210において、対象物OBJに対して、表面改質処理を実行する。そして、ステップS212において、表面改質処理後の対象物OBJからの蛍光強度の測定が指示されたか否かを判断する。表面改質処理後の対象物OBJからの蛍光強度の測定が指示されていなければ(ステップS212においてNO)、ステップS212の処理が繰返される。   In subsequent step S210, a surface modification process is performed on the object OBJ. In step S212, it is determined whether or not an instruction to measure fluorescence intensity from the object OBJ after the surface modification process has been issued. If the measurement of the fluorescence intensity from the object OBJ after the surface modification process is not instructed (NO in step S212), the process of step S212 is repeated.

表面改質処理後の対象物OBJからの蛍光強度の測定が指示されていれば(ステップS212においてYES)、処理はステップS214へ進む。   If measurement of the fluorescence intensity from the object OBJ after the surface modification process is instructed (YES in step S212), the process proceeds to step S214.

ステップS214において、第2回目の測定開始指令を発行する。続くステップS216において、測定開始指令に応答して、照射測定ヘッド部104から励起用の紫外線を表面改質処理後の対象物OBJに向けて照射する。ステップS218において、照射測定ヘッド部104において、対象物OBJで生じる蛍光を検出する。ステップS220において、検出された蛍光に対してノイズ除去処理(フィルタリング処理)を行った上で、表面改質処理後の対象物OBJについての蛍光強度(代表値)を取得する。   In step S214, a second measurement start command is issued. In subsequent step S216, in response to the measurement start command, the irradiation measuring head unit 104 irradiates the excitation ultraviolet ray toward the object OBJ after the surface modification treatment. In step S218, the irradiation measurement head unit 104 detects fluorescence generated in the object OBJ. In step S220, a noise removal process (filtering process) is performed on the detected fluorescence, and a fluorescence intensity (representative value) for the object OBJ after the surface modification process is acquired.

なお、図5に示すような連続プロセスにおいては、表面改質処理の前段および後段にそれぞれ照射測定ヘッド部104を配置することが好ましい。この場合には、第1回目の測定開始指令は、表面改質処理の前段に配置された照射測定ヘッド部104に与えられ、第2回目の測定開始指令は、表面改質処理の後段に配置された照射測定ヘッド部104に与えられることになる。   In the continuous process as shown in FIG. 5, it is preferable to arrange the irradiation measurement head unit 104 at the front stage and the rear stage of the surface modification treatment. In this case, the first measurement start command is given to the irradiation measurement head unit 104 arranged before the surface modification process, and the second measurement start command is arranged after the surface modification process. The irradiation measurement head unit 104 is provided.

その後、ステップS222において、表面改質処理前の対象物OBJから取得した蛍光強度と表面改質処理後の対象物OBJから取得した蛍光強度との差分を算出する。続くステップS224において、算出した蛍光強度の差分としきい値とを比較して、対象物OBJにおけるぬれ性の良否を判定する。   Thereafter, in step S222, the difference between the fluorescence intensity acquired from the object OBJ before the surface modification process and the fluorescence intensity acquired from the object OBJ after the surface modification process is calculated. In the subsequent step S224, the difference in the calculated fluorescence intensity is compared with a threshold value to determine whether or not the wettability of the object OBJ is good.

ステップS226において、対象物OBJの種類に応じた関係式(テーブル)を選択し、選択された関係式を用いて、表面改質処理前の対象物OBJから取得した蛍光強度および表面改質処理後の対象物OBJから取得した蛍光強度にそれぞれ対応する2つの接触角を算出する。続くステップS228において、算出した2つの接触角の間での差分を算出する。この算出した接触角の差分が表面改質処理によって、ぬれ性の改善度合いを示す。   In step S226, a relational expression (table) corresponding to the type of the object OBJ is selected, and using the selected relational expression, the fluorescence intensity acquired from the object OBJ before the surface modification process and after the surface modification process. Two contact angles respectively corresponding to the fluorescence intensities acquired from the object OBJ are calculated. In subsequent step S228, a difference between the calculated two contact angles is calculated. The calculated difference in contact angle indicates the degree of improvement in wettability by the surface modification process.

そして、ステップS230において、出力処理を行う。具体的には、ステップS220において取得された蛍光強度の差分、ステップS224において決定されたぬれ性の良否判定結果、および、ステップS228において算出された接触角の差分(変化量)の少なくとも1つを表示あるいは外部装置へ出力する。すなわち、表面改質処理前において対象物OBJで生じる蛍光を検出した結果と、表面改質処理後において対象物OBJで生じる蛍光を検出した結果との差に基づいて、対象物OBJの表面におけるぬれ性を示す値が算出される。このとき、対象物OBJの表面におけるぬれ性を示す値として検出された蛍光強度が出力される。   In step S230, output processing is performed. Specifically, at least one of the fluorescence intensity difference acquired in step S220, the wettability determination result determined in step S224, and the contact angle difference (change amount) calculated in step S228 is calculated. Display or output to external device. That is, wetting on the surface of the object OBJ based on the difference between the result of detecting the fluorescence generated in the object OBJ before the surface modification process and the result of detecting the fluorescence generated in the object OBJ after the surface modification process. A value indicating the sex is calculated. At this time, the fluorescence intensity detected as a value indicating the wettability on the surface of the object OBJ is output.

ステップS232において、ぬれ性評価処理の終了が指示されたか否かを判断する。ぬれ性評価処理の終了が指示されていなければ(ステップS232においてNO)、ステップS200以下の処理が繰返される。一方、ぬれ性評価処理の終了が指示されていれば(ステップS232においてYES)、ぬれ性評価処理は終了する。   In step S232, it is determined whether an instruction to end the wettability evaluation process is given. If the end of the wettability evaluation process is not instructed (NO in step S232), the processes in and after step S200 are repeated. On the other hand, if the end of the wettability evaluation process is instructed (YES in step S232), the wettability evaluation process ends.

[F.適用例]
上述のようなぬれ性の評価処理での結果に基づいて、表面改質プロセスで生じる変動を抑制するように調整してもよい。すなわち、ぬれ性の評価結果をフィードバックすることで、表面改質処理(プラズマ処理やコロナ処理)での各種条件を動的に調整するようにしてもよい。
[F. Application example]
You may adjust so that the fluctuation | variation which arises in a surface modification process may be suppressed based on the result in the above wettability evaluation processes. That is, various conditions in the surface modification treatment (plasma treatment or corona treatment) may be dynamically adjusted by feeding back the wettability evaluation result.

図20は、本発明の実施の形態に係る表面改質プロセス500の一例を示す模式図である。なお、図20には、典型例として、大気圧プラズマ処理の例を示す。   FIG. 20 is a schematic diagram showing an example of a surface modification process 500 according to an embodiment of the present invention. FIG. 20 shows an example of atmospheric pressure plasma treatment as a typical example.

図20を参照して、対象物OBJは、搬送手段の典型例である搬送コンベア502上に配置されて、紙面右方向から左方向へ順次搬送される。搬送コンベア502は、駆動ローラ504および506などによって駆動力が与えられる。これらの駆動ローラ504および506の回転数は、コンベアコントローラ508などによって制御される。コンベアコントローラ508は、典型的には、PLC(Programmable Logic Controller)によって
構成される。コンベアコントローラ508は、測定装置100からの指令に応じて、駆動ローラ504および506の回転数、すなわち、搬送コンベアの移動速度を調整する。
Referring to FIG. 20, the object OBJ is arranged on a transfer conveyor 502 that is a typical example of the transfer means, and is sequentially transferred from the right side to the left side of the drawing. The conveying conveyor 502 is given a driving force by driving rollers 504 and 506 or the like. The rotational speeds of these drive rollers 504 and 506 are controlled by a conveyor controller 508 or the like. The conveyor controller 508 is typically configured by a PLC (Programmable Logic Controller). The conveyor controller 508 adjusts the number of rotations of the drive rollers 504 and 506, that is, the moving speed of the conveyor, in accordance with a command from the measuring apparatus 100.

また、搬送コンベア502の上流側から順に、対象物OBJに対してプラズマ処理をするための反応器530および測定装置100が配置される。   In addition, a reactor 530 and a measuring apparatus 100 for performing plasma processing on the object OBJ are sequentially arranged from the upstream side of the transport conveyor 502.

反応器530には、混合器516およびバルブ518を通じて、プラズマ処理のガス雰囲気を形成するためのガスが供給される。混合器516は、酸素を保持するボンベ512およびアルゴンガスを保持するボンベ522に連結されている。ボンベ512と混合器516とを接続する経路には、バルブ514が設けられ、ボンベ512と混合器516とを接続する経路には、バルブ524が設けられる。バルブ514および524は、それぞれ
酸素およびアルゴンの供給量を調整可能となっている。そのため、バルブ514および524の開度を調整することで、反応器530へ供給されるガスの混合比が変更される。
A gas for forming a gas atmosphere for plasma treatment is supplied to the reactor 530 through a mixer 516 and a valve 518. The mixer 516 is connected to a cylinder 512 that holds oxygen and a cylinder 522 that holds argon gas. A valve 514 is provided in a path connecting the cylinder 512 and the mixer 516, and a valve 524 is provided in a path connecting the cylinder 512 and the mixer 516. The valves 514 and 524 can adjust the supply amounts of oxygen and argon, respectively. Therefore, the mixing ratio of the gas supplied to the reactor 530 is changed by adjusting the opening degree of the valves 514 and 524.

また、反応器530には、高周波電源532から高周波電圧が供給されており、ガス雰囲気内で放電が生じることでプラズマが発生する。この発生するプラズマにより、対象物OBJに対して表面改質処理がなされる。   The reactor 530 is supplied with a high-frequency voltage from a high-frequency power source 532, and plasma is generated when discharge occurs in a gas atmosphere. By this generated plasma, the surface modification process is performed on the object OBJ.

この表面改質処理がなされた後の対象物OBJは、照射測定ヘッド部104が配置された位置に移動された後、照射測定ヘッド部104から励起用の紫外線が照射され、蛍光強度が検出される。なお、対象物OBJが照射測定ヘッド部104の照射/測定位置に到着したことは、図示しないセンサーなどで検出され、この検出に応答して、測定開始指令が発行される。   The object OBJ after the surface modification treatment is moved to the position where the irradiation measurement head unit 104 is disposed, and then the irradiation measurement head unit 104 is irradiated with excitation ultraviolet rays, and the fluorescence intensity is detected. The The arrival of the object OBJ at the irradiation / measurement position of the irradiation measurement head unit 104 is detected by a sensor (not shown) or the like, and a measurement start command is issued in response to this detection.

照射測定ヘッド部104で検出された対象物OBJからの蛍光強度に基づいて、測定処理部102において、対象物OBJのぬれ性が評価される。また、測定処理部102では、ぬれ性の評価結果に基づいて、コンベアコントローラ508に対して、速度調整要求が与えられる。たとえば、反応器530によりプラズマ処理された後の対象物OBJの状態に応じて、各対象物OBJに対するプラズマ処理の時間をより長くすべきか、あるいは、より短くすべきかが判断され、この判断結果に基づいて、搬送コンベア502の搬送速度が調整される。すなわち、表面改質プロセス500においては、測定装置100により測定された対象物OBJにおけるぬれ性の評価結果がフィードバックされて、プラズマ処理が最適な状態に維持される。なお、後述するように、搬送コンベア502の搬送速度以外にも、各種の操業パラメータを動的に調整してもよい。   Based on the fluorescence intensity from the object OBJ detected by the irradiation measurement head unit 104, the measurement processing unit 102 evaluates the wettability of the object OBJ. In the measurement processing unit 102, a speed adjustment request is given to the conveyor controller 508 based on the wettability evaluation result. For example, according to the state of the object OBJ after the plasma processing by the reactor 530, it is determined whether the plasma processing time for each object OBJ should be longer or shorter. Based on this, the conveyance speed of the conveyance conveyor 502 is adjusted. That is, in the surface modification process 500, the wettability evaluation result of the object OBJ measured by the measuring device 100 is fed back, and the plasma treatment is maintained in an optimum state. As will be described later, various operation parameters may be dynamically adjusted in addition to the transport speed of the transport conveyor 502.

次に、上述のような表面改質プロセスにおいて、操業パラメータを動的に調整する方法について説明する。   Next, a method for dynamically adjusting operation parameters in the surface modification process as described above will be described.

図21は、本発明の実施の形態に係る表面改質プロセスの調整処理の手順を示すフローチャートである。   FIG. 21 is a flowchart showing the procedure for adjusting the surface modification process according to the embodiment of the present invention.

図21を参照して、まず、ステップS300において、図18や図19に示すようなぬれ性評価処理を用いて、対象物OBJについてのぬれ性の評価結果を取得する。続くステップS302において、ぬれ性の評価結果を取得した対象物OBJの数が規定数を超えたか否かを判断する。ぬれ性の評価結果を取得した対象物OBJの数が規定数を超えていなければ(ステップS302においてNO)、ステップS300の処理が繰返される。   Referring to FIG. 21, first, in step S300, the wettability evaluation result for the object OBJ is acquired using the wettability evaluation process as shown in FIG. 18 or FIG. In a succeeding step S302, it is determined whether or not the number of the objects OBJ for which the wettability evaluation result has been obtained exceeds a specified number. If the number of objects OBJ for which the wettability evaluation result has been acquired does not exceed the specified number (NO in step S302), the process of step S300 is repeated.

すなわち、ステップS300およびS302においては、対象の表面改質プロセスにおける全体的な挙動を観察するために、統計的に有意な数のサンプル(ぬれ性の評価結果)を取得する。   That is, in steps S300 and S302, a statistically significant number of samples (wetability evaluation results) are acquired in order to observe the overall behavior in the target surface modification process.

ぬれ性の評価結果を取得した対象物OBJの数が規定数を超えていれば(ステップS302においてYES)、処理はステップS304へ進む。ステップS304において、取得されたぬれ性の評価結果に対して統計処理を行う。続くステップS306において、統計処理の結果に基づいて、対象の表面改質プロセスでの変動の傾向を取得する。たとえば、対象物OBJに対する表面改質の度合いが過剰であるとか、表面改質の度合いが不足しているといった全体的な傾向などである。   If the number of objects OBJ for which the wettability evaluation result has been acquired exceeds the specified number (YES in step S302), the process proceeds to step S304. In step S304, statistical processing is performed on the acquired wettability evaluation result. In the subsequent step S306, the tendency of variation in the target surface modification process is acquired based on the result of the statistical processing. For example, there is an overall tendency that the degree of surface modification of the object OBJ is excessive or the degree of surface modification is insufficient.

そして、ステップS308において、取得した表面改質プロセスの傾向に基づいて、調整すべきパラメータの種類および/またはパラメータの変更量を決定する。たとえば、図20に示すような表面改質処理としてプラズマ処理を採用する場合には、(a)対象物O
BJの搬送速度(すなわち、処理時間)、(b)気体混合比、(c)気体流量、(d)高周波電源の電源電圧、(e)高周波電源の周波数などが調整対象のパラメータとなる。また、表面改質処理としてコロナ処理を採用する場合には、(f)コロナ処理の時間、(g)コロナ発生の電圧値、(h)対象物の搬送速度などが調整対象のパラメータとなる。
In step S308, the type of parameter to be adjusted and / or the amount of parameter change is determined based on the acquired tendency of the surface modification process. For example, when plasma treatment is adopted as the surface modification treatment as shown in FIG. 20, (a) the object O
BJ transport speed (that is, processing time), (b) gas mixture ratio, (c) gas flow rate, (d) power supply voltage of high-frequency power supply, (e) frequency of high-frequency power supply, and the like are parameters to be adjusted. When corona treatment is employed as the surface modification treatment, (f) corona treatment time, (g) corona generation voltage value, (h) conveyance speed of the object, and the like are parameters to be adjusted.

たとえば、過去の5回分のぬれ性を示す値の平均値が所定のしきい値より小さければ、すなわち、算出された接触角の値が所定値より大きければ、ぬれ性が悪化していると判断し、対象物OBJの搬送速度を遅くして、処理時間をより長くする。   For example, if the average value of the wettability values for the past five times is smaller than a predetermined threshold value, that is, if the calculated contact angle value is larger than a predetermined value, it is determined that the wettability has deteriorated. Then, the conveying speed of the object OBJ is slowed down and the processing time is made longer.

そして、ステップS310において、決定したパラメータを決定した変更量だけ変更する。その後、ステップS300における処理が繰返される。   In step S310, the determined parameter is changed by the determined change amount. Thereafter, the process in step S300 is repeated.

[F.作用効果]
本実施の形態に係る測定方法によれば、対象物に励起用の紫外線を照射し、この照射された紫外線によって発生する蛍光強度に基づいて、当該対象物におけるぬれ性が評価される。すなわち、励起用の紫外線が照射されるとほぼ同時に発生する蛍光を検出するだけで、対象物のぬれ性を評価することができる。また、対象物に励起用の紫外線を照射するだけでよいので、対象物に損傷などを与えない非破壊検査とすることができる。
[F. Effect]
According to the measurement method according to the present embodiment, the object is irradiated with excitation ultraviolet light, and the wettability of the object is evaluated based on the fluorescence intensity generated by the irradiated ultraviolet light. In other words, the wettability of the object can be evaluated only by detecting the fluorescence generated almost simultaneously with the irradiation of excitation ultraviolet rays. Further, since it is only necessary to irradiate the object with ultraviolet light for excitation, it is possible to perform a nondestructive inspection that does not damage the object.

そのため、本実施の形態によれば、対象物表面のぬれ性を高速かつ非破壊で評価することができ、これにより、インライン検査に適したものとなる。   Therefore, according to the present embodiment, the wettability of the surface of the object can be evaluated at high speed and non-destructively, which makes it suitable for in-line inspection.

また、本実施の形態に係る測定方法によれば、表面改質処理の良否および/または表面改質処理の効果の度合いなどに基づいて、表面改質処理のパラメータなどを動的に調整することもできる。そのため、周辺環境の変化や対象物のばらつきなどによって、表面改質処理の結果が目的とする状態からずれたとしても、それを修正しながら操業することができる。   Further, according to the measurement method according to the present embodiment, the parameters of the surface modification treatment are dynamically adjusted based on the quality of the surface modification treatment and / or the degree of the effect of the surface modification treatment. You can also. Therefore, even if the result of the surface modification process deviates from the target state due to changes in the surrounding environment, variations in the object, etc., the operation can be performed while correcting the result.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

20 投光駆動回路、21 投光量制御回路、22 発光素子、24 ダイクロイックミラー、25 モニタフォトダイオード、26 増幅回路、27 コンバータ、28 フォトダイオード、32 増幅回路、34 外乱光除去フィルタ、36 コンバータ、38,38A,38B 集光レンズ、39 波長フィルタ、40 CPU、42 表示部、44 設定ボタン、46 判定出力、48 接触角アナログ出力、50 測定開始入力、52 発振子、54 記憶部、56 電源装置、58 インターフェイス部、100,100A,100B,100C 測定装置、102 測定処理部、104,104A 照射測定ヘッド部、200 プラズマ処理装置、202 交流電圧源、204 平面電極、206 誘電体、208 平面電極、212 グランド、214 空間、300 プロセス、302 供給ローラ、304 搬送ローラ、306 搬送ローラ、308 巻取ローラ、310 コーターマシン、312 主ローラ、314 副ローラ、316 コーティング剤、320 コロナ処理装置、322 主ローラ、324 電極群、326 直流電源部、328 外筐体、400,411,412 バッファ、402 表示データ生成部、404 判定部、406 換算部、408 データベース、410 テーブル、414 差分演算器、416 換算部、500 表面改質プロセス、502 搬送コンベア、504,506 駆動ローラ、508 コンベアコントローラ、512,522 ボンベ、51
4,518,524 バルブ、516 混合器、530 反応器、532 高周波電源、1041,1043,1048,1049 蛍光受光部、1042,1044,1045,1046,1047 投光部。
20 Light Emitting Drive Circuit, 21 Light Emitting Light Control Circuit, 22 Light Emitting Element, 24 Dichroic Mirror, 25 Monitor Photodiode, 26 Amplifying Circuit, 27 Converter, 28 Photodiode, 32 Amplifying Circuit, 34 Disturbance Light Rejecting Filter, 36 Converter, 38 , 38A, 38B Condensing lens, 39 Wavelength filter, 40 CPU, 42 Display unit, 44 Setting button, 46 Judgment output, 48 Contact angle analog output, 50 Measurement start input, 52 Oscillator, 54 Storage unit, 56 Power supply unit, 58 Interface unit, 100, 100A, 100B, 100C Measuring device, 102 Measurement processing unit, 104, 104A Irradiation measurement head unit, 200 Plasma processing device, 202 AC voltage source, 204 Planar electrode, 206 Dielectric, 208 Planar electrode, 212 Grand, 214 spaces, 300 professionals Set, 302 Supply roller, 304 Conveying roller, 306 Conveying roller, 308 Winding roller, 310 Coater machine, 312 Main roller, 314 Sub roller, 316 Coating agent, 320 Corona treatment device, 322 Main roller, 324 Electrode group, 326 DC Power supply unit, 328 outer casing, 400, 411, 412 buffer, 402 display data generation unit, 404 determination unit, 406 conversion unit, 408 database, 410 table, 414 difference calculator, 416 conversion unit, 500 surface modification process, 502 Conveyor, 504, 506 Drive roller, 508 Conveyor controller, 512, 522 Cylinder, 51
4,518,524 Valve, 516 Mixer, 530 Reactor, 532 High frequency power supply, 1041, 1043, 1048, 1049 Fluorescent light receiving unit, 1042, 1044, 1045, 1046, 1047 Projecting unit.

Claims (6)

対象物に紫外線を照射するステップと、
前記対象物で生じる蛍光を検出するステップと、
検出された蛍光の強度から前記対象物の表面におけるぬれ性を示す値を出力するステップとを備える、測定方法。
Irradiating the object with ultraviolet rays;
Detecting fluorescence generated in the object;
Outputting a value indicating wettability on the surface of the object from the intensity of the detected fluorescence.
前記出力するステップは、
予め取得された対応関係に従って、検出された蛍光の強度に対応する接触角を算出するステップと、
算出された接触角を出力するステップとを含む、請求項1に記載の測定方法。
The outputting step includes:
Calculating a contact angle corresponding to the intensity of the detected fluorescence according to the correspondence acquired in advance;
The method according to claim 1, further comprising a step of outputting the calculated contact angle.
前記予め取得された対応関係は、対象物の種類の別に取得される、請求項2に記載の測定方法。   The measurement method according to claim 2, wherein the correspondence acquired in advance is acquired for each type of object. 前記対象物に対して表面改質処理を行うステップをさらに備え、
前記出力するステップは、
前記表面改質処理を行う前において前記対象物で生じる蛍光を検出した結果と、前記表面改質処理を行った後において前記対象物で生じる蛍光を検出した結果との差に基づいて、前記対象物の表面におけるぬれ性を示す値を算出するステップを含む、請求項1に記載の測定方法。
Further comprising performing a surface modification process on the object;
The outputting step includes:
Based on the difference between the result of detecting the fluorescence generated in the object before performing the surface modification treatment and the result of detecting the fluorescence generated in the object after performing the surface modification treatment, The measurement method according to claim 1, further comprising a step of calculating a value indicating wettability on the surface of the object.
前記表面改質処理は、前記対象物の表面に、カルボキシル基およびカルボニル基の少なくとも一方を生じる処理を含む、請求項4に記載の測定方法。   The measurement method according to claim 4, wherein the surface modification treatment includes treatment for generating at least one of a carboxyl group and a carbonyl group on the surface of the object. 対象物に紫外線を照射するステップと、
前記対象物で生じる蛍光を検出するステップと、
前記対象物の表面におけるぬれ性を示す値として検出された蛍光の強度を出力するステップとを備える、測定方法。
Irradiating the object with ultraviolet rays;
Detecting fluorescence generated in the object;
Outputting a fluorescence intensity detected as a value indicating wettability on the surface of the object.
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