JP2015216336A - Chip electronic component and manufacturing method for the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip electronic component and a manufacturing method for the same that can minutely control an inductance value as a target even when coil conductors of the same design are provided.SOLUTION: A chip electronic component has a magnetic body having a coil conductor and an internal core part existing inside the coil conductor, a first capacitance determining part that has a through-hole at the center thereof and adjusts the volume of the internal core portion, the coil conductor being disposed on at least one surface of the first capacitance determining part, a second capacitance determining part that covers the coil conductor and adjusts the volume of the internal core portion, and an external electrode that is disposed on at least one surface of the magnetic body and is connected to the coil conductor. The first capacitance determining part adjusts the area of the through-hole to adjust the volume of the internal core part, and the second capacitance determining part adjusts the coating thickness at the internal core part side to adjust the volume of the internal core part. A method of manufacturing the chip electronic component is also provided.

Description

本発明は、チップ電子部品及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a chip electronic component and a manufacturing method thereof.

チップ電子部品の一つであるインダクタ(inductor)は、コイル導体で誘導された磁束が通るコイル導体内部の磁路面積によってインダクタンスが変わる。 An inductor, which is one of chip electronic components, has an inductance that varies depending on a magnetic path area inside the coil conductor through which a magnetic flux induced by the coil conductor passes.

従来の積層型インダクタは、複数の磁性体シート上にコイル形態の導体パターンを形成し、導体パターンが形成された複数の磁性体シートを積層した構造を有する。上記導体パターンは、各磁性体シートに形成されたビア電極を介して順に接続され、積層方向に沿って重なって螺旋構造のコイルをなす。この際、積層型インダクタの場合、導体パターンを異ならせることにより、コイル導体内部の磁路面積を調節した。 A conventional multilayer inductor has a structure in which a coil-shaped conductor pattern is formed on a plurality of magnetic sheets, and a plurality of magnetic sheets on which the conductor patterns are formed are stacked. The conductor patterns are sequentially connected via via electrodes formed on the magnetic sheets, and overlap in the stacking direction to form a spiral coil. At this time, in the case of the multilayer inductor, the magnetic path area inside the coil conductor was adjusted by changing the conductor pattern.

また、従来の巻線型インダクタは、磁性体コア(core)にコイルを巻回した構造であって、磁性体コアのサイズを調整することで内部の磁路面積を調節し、インダクタンスを調節した。 The conventional wound inductor has a structure in which a coil is wound around a magnetic core, and the internal magnetic path area is adjusted by adjusting the size of the magnetic core, thereby adjusting the inductance.

なお、薄膜型インダクタは、絶縁基板上にコイル形態の導体パターンをめっきにより形成し、磁性体との接触を防止するためにコイル導体を被覆する絶縁膜を形成した後、絶縁基板の上部及び下部に磁性体シートを積層及び圧着して製造する。 The thin-film inductor is formed by forming a coil-shaped conductor pattern on an insulating substrate by plating, forming an insulating film covering the coil conductor to prevent contact with a magnetic material, and then upper and lower portions of the insulating substrate. A magnetic material sheet is laminated and pressure-bonded to the substrate.

薄膜型インダクタの場合、従来は、目標とするターゲット(Target)インダクタンスを実現するために、コイル導体などの全体的な再設計が必要であった。ターゲットインダクタンスを実現するために再設計する場合、工数及びリードタイム(Lead time)が急激に増加するという問題があった。 In the case of a thin film type inductor, conventionally, it has been necessary to redesign the coil conductor and the like as a whole in order to realize a target inductance. When redesigning to realize the target inductance, there is a problem that man-hours and lead time increase rapidly.

特開2005−210010号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-210010 特開2008−166455号公報JP 2008-166455 A

本発明の一実施形態は、内部コア部の体積を調節することにより、同一設計のコイル導体を有する場合にも、目標とするインダクタンス値を微細に制御することができるチップ電子部品及びその製造方法を提供することをその目的とする。 According to one embodiment of the present invention, a chip electronic component capable of finely controlling a target inductance value even when having a coil conductor of the same design by adjusting the volume of an inner core portion, and a manufacturing method thereof The purpose is to provide.

本発明の一実施形態によると、第1容量決定部の少なくとも一面にコイル導体を形成し、上記第1容量決定部の中央に貫通孔を形成する段階と、上記コイル導体を被覆する第2容量決定部を形成する段階と、上記コイル導体の上部及び下部に磁性体層を積層及び圧着することにより、上記コイル導体の内部に内部コア部が備えられた磁性体本体を形成する段階と、上記磁性体本体の少なくとも一面に、上記コイル導体と接続されるように外部電極を形成する段階と、を含み、上記第1容量決定部の中央に形成される上記貫通孔の面積を調節することにより上記内部コア部の体積を調節し、上記第2容量決定部の上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さを調節することにより上記内部コア部の体積を調節する、チップ電子部品の製造方法が提供される。 According to an embodiment of the present invention, a step of forming a coil conductor on at least one surface of the first capacity determining unit, forming a through hole in the center of the first capacity determining unit, and a second capacitor covering the coil conductor. Forming a determining portion; forming a magnetic body having an inner core portion inside the coil conductor by laminating and crimping a magnetic layer on the upper and lower portions of the coil conductor; and Forming an external electrode on at least one surface of the magnetic body so as to be connected to the coil conductor, and adjusting the area of the through-hole formed in the center of the first capacitance determining unit Adjusting the volume of the inner core part by adjusting the volume of the inner core part by adjusting the inner core part side covering thickness that covers the inner core part side of the coil conductor of the second capacitance determining part; Chip electric Method for manufacturing a component is provided.

上記内部コア部は磁性体で充填され、上記内部コア部の体積を調節することにより、上記コイル導体の内部に充填された磁性体の体積を調節することができる。 The inner core portion is filled with a magnetic material, and the volume of the magnetic material filled in the coil conductor can be adjusted by adjusting the volume of the inner core portion.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さと、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さと、が異なるように形成することができる。 The second capacity determining unit may be formed such that an upper coating thickness that covers an upper portion of the coil conductor is different from an inner core portion-side coating thickness that covers the inner core portion side of the coil conductor.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さをa、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さをbとしたとき、0.01≦a/b≦50を満たすように形成することができる。 The second capacity determining unit has an upper coating thickness that covers the upper portion of the coil conductor as a, and an inner core portion side coating thickness that covers the inner core portion side of the coil conductor as 0.01. It can be formed to satisfy ≦ a / b ≦ 50.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、上記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さと、最下部の被覆厚さと、が異なるように形成することができる。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, the uppermost covering thickness of the inner core part side covering part, the lowermost covering thickness, Can be formed differently.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、上記内部コア部側被覆部は、下部から上部に向かって被覆厚さが次第に厚くなるように形成することができる。 The second capacity determination unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and the inner core part side covering part gradually increases in thickness from the lower part toward the upper part. Can be formed.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、上記内部コア部側被覆部の最下部の被覆厚さをc、上記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さをdとしたとき、0.01≦c/d≦50を満たすように形成することができる。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and c is a coating thickness of a lowermost part of the inner core part side covering part, and the inner core part side When the coating thickness of the uppermost part of the coating portion is d, it can be formed so as to satisfy 0.01 ≦ c / d ≦ 50.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側の被覆厚さが10μm〜200μmを満たすように形成することができる。 The second capacity determining unit can be formed so that the coating thickness on the inner core side of the coil conductor satisfies 10 μm to 200 μm.

本発明の他の実施形態によると、コイル導体、及び上記コイル導体の内側に存在する内部コア部を有する磁性体本体と、少なくとも一面に上記コイル導体が配置され、中央に貫通孔が備えられ、上記内部コア部の体積を決定する第1容量決定部と、上記コイル導体を被覆し、上記内部コア部の体積を決定する第2容量決定部と、上記磁性体本体の少なくとも一面に配置され、上記コイル導体と接続される外部電極と、を含み、上記第1容量決定部は上記貫通孔の面積に応じて上記内部コア部の体積を決定し、上記第2容量決定部は上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さに応じて上記内部コア部の体積を決定する、チップ電子部品が提供される。 According to another embodiment of the present invention, a magnetic body having a coil conductor and an inner core portion existing inside the coil conductor, the coil conductor is disposed on at least one surface, and a through hole is provided in the center. A first capacity determining section for determining the volume of the inner core section; a second capacity determining section for covering the coil conductor and determining the volume of the inner core section; and at least one surface of the magnetic body. An external electrode connected to the coil conductor, wherein the first capacity determining unit determines a volume of the inner core part according to an area of the through hole, and the second capacity determining unit is There is provided a chip electronic component that determines the volume of the inner core part according to the inner core part side coating thickness covering the inner core part side.

上記内部コア部は磁性体で充填され、上記内部コア部の体積に応じて上記コイル導体の内部に充填された磁性体の体積が決定されることができる。 The inner core portion may be filled with a magnetic material, and the volume of the magnetic material filled in the coil conductor may be determined according to the volume of the inner core portion.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さと、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さと、が異なるように備えられることができる。 The second capacity determining unit may be provided such that an upper coating thickness that covers an upper portion of the coil conductor and an inner core portion-side coating thickness that covers the inner core portion side of the coil conductor are different.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さをa、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さをbとしたとき、0.01≦a/b≦50を満たすことができる。 The second capacity determining unit has an upper coating thickness that covers the upper portion of the coil conductor as a, and an inner core portion side coating thickness that covers the inner core portion side of the coil conductor as 0.01. <= A / b <= 50 can be satisfy | filled.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、上記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さと、最下部の被覆厚さと、が異なるように備えられることができる。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, the uppermost covering thickness of the inner core part side covering part, the lowermost covering thickness, Can be provided differently.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、上記内部コア部側被覆部は、下部から上部に向かって被覆厚さが次第に厚くなるように形成されることができる。 The second capacity determination unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and the inner core part side covering part gradually increases in thickness from the lower part toward the upper part. Can be formed as follows.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、上記内部コア部側被覆部の最下部の被覆厚さをc、上記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さをdとしたとき、0.01≦c/d≦50を満たすことができる。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and c is a coating thickness of a lowermost part of the inner core part side covering part, and the inner core part side When the coating thickness of the uppermost part of the coating part is d, 0.01 ≦ c / d ≦ 50 can be satisfied.

上記第2容量決定部は、上記コイル導体の内部コア部側の被覆厚さが10μm〜200μmを満たすように備えられることができる。 The second capacity determining unit may be provided such that a coating thickness on the inner core side of the coil conductor satisfies 10 μm to 200 μm.

本発明の一実施形態のチップ電子部品及びその製造方法によると、内部コア部の体積を調節することにより、同一設計のコイル導体を有する場合にも、目標とするインダクタンス値を微細に制御することができる。 According to the chip electronic component and the manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention, by adjusting the volume of the inner core portion, the target inductance value can be finely controlled even when the coil conductor has the same design. Can do.

これにより、目標インダクタンスを実現するための再設計工数を減少させ、生産性を最大限にすることができる。 Thereby, the redesign man-hour for realizing the target inductance can be reduced and the productivity can be maximized.

本発明の一実施形態によるチップ電子部品のコイル導体が現れるように示した概略斜視図である。It is the schematic perspective view shown so that the coil conductor of the chip electronic component by one Embodiment of this invention might appear. 図1のI−I’線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the I-I 'line of FIG. 図2aの本発明の一実施形態によるチップ電子部品の概略平面図である。FIG. 2b is a schematic plan view of a chip electronic component according to the embodiment of the present invention of FIG. 2a. 本発明の一実施形態によるチップ電子部品のLT方向の断面図である。It is sectional drawing of the LT direction of the chip electronic component by one Embodiment of this invention. 図3aの本発明の一実施形態によるチップ電子部品の概略平面図である。FIG. 3b is a schematic plan view of the chip electronic component according to the embodiment of the present invention of FIG. 3a. 本発明の他の一実施形態によるチップ電子部品のLT方向の断面図である。It is sectional drawing of the LT direction of the chip electronic component by other one Embodiment of this invention. 本発明の他の一実施形態によるチップ電子部品のLT方向の断面図である。It is sectional drawing of the LT direction of the chip electronic component by other one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態によるチップ電子部品の製造方法を示した工程図である。It is process drawing which showed the manufacturing method of the chip electronic component by one Embodiment of this invention.

以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. In addition, the embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for a clearer description.

チップ電子部品
以下、本発明の一実施形態によるチップ電子部品を説明するにあたり、特に薄膜型インダクタを例として説明するが、これに制限されるものではない。
Chip electronic component Hereinafter, a chip electronic component according to an embodiment of the present invention will be described using a thin film inductor as an example, but the present invention is not limited thereto.

図1は本発明の一実施形態によるチップ電子部品のコイル導体が現れるように示した概略斜視図である。 FIG. 1 is a schematic perspective view showing a coil conductor of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention.

図1を参照すると、チップ電子部品の一例として、電源供給回路の電源ラインに用いられる薄膜型インダクタ100が開示される。上記チップ電子部品は、チップインダクタの他にも、チップビーズ(chip bead)、チップフィルタ(chip filter)などに適切に応用されることができる。 Referring to FIG. 1, a thin film inductor 100 used for a power supply line of a power supply circuit is disclosed as an example of a chip electronic component. In addition to the chip inductor, the chip electronic component can be appropriately applied to a chip bead, a chip filter, and the like.

上記薄膜型インダクタ100は、コイル導体40が埋め込まれた磁性体本体50と、上記コイル導体40と接続されるように磁性体本体50の両端面に配置された外部電極80と、を含むことができる。 The thin film inductor 100 includes a magnetic body 50 in which the coil conductor 40 is embedded, and external electrodes 80 disposed on both end surfaces of the magnetic body 50 so as to be connected to the coil conductor 40. it can.

磁性体本体50は、薄膜型インダクタ100の外観をなし、磁気特性を示す材料であれば制限されないが、例えば、フェライトまたは金属系軟磁性材料が充填されて形成されることができる。 The magnetic body 50 is not limited as long as it is a material that has the appearance of the thin-film inductor 100 and exhibits magnetic properties, but can be formed by filling with ferrite or a metallic soft magnetic material, for example.

上記フェライトとしては、Mn−Zn系フェライト、Ni−Zn系フェライト、Ni−Zn−Cu系フェライト、Mn−Mg系フェライト、Ba系フェライト、Li系フェライトなどの公知のフェライトを用いることができる。 As the ferrite, known ferrites such as Mn—Zn ferrite, Ni—Zn ferrite, Ni—Zn—Cu ferrite, Mn—Mg ferrite, Ba ferrite and Li ferrite can be used.

また、上記金属系軟磁性材料としては、Fe、Si、Cr、Al、及びNiからなる群より選択されたいずれか一つ以上を含む合金を用いることができる。例えば、Fe−Si−B−Cr系非晶質金属粒子を用いることができるが、これに制限されるものではない。 Moreover, as said metal type soft magnetic material, the alloy containing any one or more selected from the group which consists of Fe, Si, Cr, Al, and Ni can be used. For example, Fe—Si—B—Cr amorphous metal particles can be used, but the present invention is not limited thereto.

上記金属系軟磁性材料の粒子直径は0.1μm〜30μmであり、エポキシ(epoxy)樹脂またはポリイミド(polyimide)などの高分子上に分散された形態に含まれることができる。 The particle diameter of the metal-based soft magnetic material is 0.1 μm to 30 μm, and may be included in a form dispersed on a polymer such as an epoxy resin or a polyimide.

磁性体本体50は六面体形状であることができる。本発明の実施形態を明確に説明するために六面体の方向を定義すると、図1に示されたL、W、及びTは、それぞれ長さ方向、幅方向、厚さ方向を示す。 The magnetic body 50 may have a hexahedral shape. In order to clearly describe the embodiments of the present invention, hexahedral directions are defined. L, W, and T shown in FIG. 1 indicate a length direction, a width direction, and a thickness direction, respectively.

コイル導体40の内部には、フェライトまたは金属系軟磁性材料などの磁性体で充填された内部コア部55が存在することができる。磁性体で充填された内部コア部55を備えることにより、インダクタンス(Inductance、Ls)を向上させることができる。 Inside the coil conductor 40, there can be an inner core portion 55 filled with a magnetic material such as ferrite or a metallic soft magnetic material. By including the inner core portion 55 filled with a magnetic material, inductance (Inductance, Ls) can be improved.

上記コイル導体40は、第1容量決定部20の少なくとも一面に配置されることができる。 The coil conductor 40 may be disposed on at least one surface of the first capacity determining unit 20.

第1容量決定部20は、対向する第1面及び第2面を含み、上記第1面上にコイル形状のパターンを有する第1コイル導体41が配置され、上記第2面上にコイル形状のパターンを有する第2コイル導体42が配置されることができる。 The first capacitance determining unit 20 includes a first surface and a second surface facing each other, a first coil conductor 41 having a coil-shaped pattern is disposed on the first surface, and a coil-shaped pattern is formed on the second surface. A second coil conductor 42 having a pattern may be disposed.

上記第1及び第2コイル導体41、42は、スパイラル(spiral)形状のパターンに形成されることができる。また、第1コイル導体41と第2コイル導体42とは、上記第1容量決定部20に形成されたビア電極(不図示)を介して電気的に連結されることができる。 The first and second coil conductors 41 and 42 may be formed in a spiral pattern. Further, the first coil conductor 41 and the second coil conductor 42 can be electrically connected via via electrodes (not shown) formed in the first capacitance determining unit 20.

上記コイル導体40及びビア電極は、電気伝導性に優れた金属を含有して形成されることができる。例えば、上記コイル導体40及びビア電極は、銀(Ag)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、金(Au)、銅(Cu)、白金(Pt)、またはこれらの合金などで形成されることができる。 The coil conductor 40 and the via electrode can be formed containing a metal having excellent electrical conductivity. For example, the coil conductor 40 and the via electrode are made of silver (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), nickel (Ni), titanium (Ti), gold (Au), copper (Cu), platinum (Pt). Or an alloy thereof.

上記第1容量決定部20は、第1及び第2コイル導体41、42を支持し、且つ絶縁させることができるものであれば特に制限されないが、例えば、ポリプロピレングリコール(PPG)基板、フェライト基板、または金属系軟磁性基板などで形成されることができる。 The first capacity determining unit 20 is not particularly limited as long as it can support and insulate the first and second coil conductors 41 and 42. For example, a polypropylene glycol (PPG) substrate, a ferrite substrate, Alternatively, it can be formed of a metal-based soft magnetic substrate.

図2aは図1のI−I’線に沿った断面図であり、図2bは図2aの本発明の一実施形態によるチップ電子部品の概略平面図であり、図3aは本発明の一実施形態によるチップ電子部品のLT方向の断面図であり、図3bは図3aの本発明の一実施形態によるチップ電子部品の概略平面図である。 2a is a sectional view taken along line II ′ of FIG. 1, FIG. 2b is a schematic plan view of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention of FIG. 2a, and FIG. 3a is an embodiment of the present invention. FIG. 3B is a schematic cross-sectional view of the chip electronic component according to the embodiment of the present invention of FIG. 3A.

図2a、図2b、図3a、及び図3bを参照すると、第1容量決定部20の中央には貫通孔70が備えられ、上記貫通孔70の面積に応じて上記内部コア部55の体積が決定されることができる。 Referring to FIGS. 2 a, 2 b, 3 a, and 3 b, a through hole 70 is provided at the center of the first capacity determining unit 20, and the volume of the inner core part 55 is set according to the area of the through hole 70. Can be determined.

また、上記内部コア部55は磁性体で充填されるため、内部コア部55の体積を調節することにより、上記コイル導体40の内部に充填された磁性体の体積を調節することができる。 Further, since the inner core portion 55 is filled with a magnetic material, the volume of the magnetic material filled in the coil conductor 40 can be adjusted by adjusting the volume of the inner core portion 55.

したがって、第1容量決定部20の貫通孔70の面積を調節して内部コア部55の体積を決定することにより、同一設計のコイル導体40を有する場合にも、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 Therefore, by adjusting the area of the through hole 70 of the first capacity determining unit 20 and determining the volume of the inner core unit 55, the target inductance (Ls) can be reduced even when the coil conductor 40 has the same design. It can be finely controlled.

図2a及び図2bの実施形態による薄膜型インダクタ100は、貫通孔70の面積を大きく形成することにより、内部コア部55の体積を増加させ、より高いインダクタンス(Ls)を実現することができる。 The thin-film inductor 100 according to the embodiment of FIGS. 2A and 2B can increase the volume of the inner core portion 55 and increase the inductance (Ls) by forming the through hole 70 with a large area.

一方、図3a及び図3bの実施形態による薄膜型インダクタ100は、貫通孔70の面積を小さく形成することにより、内部コア部55の体積を減少させ、より低いインダクタンス(Ls)を実現することができる。 On the other hand, the thin-film inductor 100 according to the embodiment of FIGS. 3A and 3B can reduce the volume of the inner core portion 55 and realize a lower inductance (Ls) by forming the through hole 70 with a small area. it can.

上記貫通孔70は、ドリル、レーザー、サンドブラスト、パンチング加工などの工程を用いることにより、所望の面積に容易に調節して形成することができる。したがって、コイル導体などを再設計しなくても、上記第1容量決定部20の貫通孔70の面積を容易に調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The through-hole 70 can be easily adjusted to a desired area by using a process such as drilling, laser, sandblasting, punching, or the like. Therefore, the target inductance (Ls) can be finely controlled by easily adjusting the area of the through hole 70 of the first capacity determining unit 20 without redesigning the coil conductor or the like.

上記コイル導体40は、第2容量決定部30により被覆されることができる。 The coil conductor 40 may be covered with the second capacity determining unit 30.

上記第2容量決定部30は、コイル導体40と磁性体との接触による漏れ電流の発生を防止することができる絶縁材料であれば特に制限されないが、例えば、エポキシ系樹脂などで形成されることができる。 The second capacity determination unit 30 is not particularly limited as long as it is an insulating material that can prevent the occurrence of leakage current due to contact between the coil conductor 40 and the magnetic body, but is formed of, for example, an epoxy resin or the like. Can do.

第2容量決定部30の上記コイル導体40の内部コア部側の被覆厚さに応じて、内部コア部55の体積が決定されることができる。 The volume of the inner core portion 55 can be determined according to the coating thickness of the second capacitance determining portion 30 on the inner core portion side of the coil conductor 40.

したがって、第2容量決定部30のコイル導体40の内部コア部側の被覆厚さを調節して内部コア部55の体積を決定することにより、同一設計のコイル導体40を有する場合にも、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 Therefore, even if it has the coil conductor 40 of the same design by adjusting the coating thickness by the side of the inner core part of the coil conductor 40 of the 2nd capacity | capacitance determination part 30 and determining the volume of the inner core part 55, even if it has the coil conductor 40 of the same design, It is possible to finely control the inductance (Ls).

図4は本発明の他の一実施形態によるチップ電子部品のLT方向の断面図である。 FIG. 4 is a cross-sectional view in the LT direction of a chip electronic component according to another embodiment of the present invention.

図4を参照すると、コイル導体40の上部を被覆する上部被覆厚さaと、コイル導体40の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さbと、が異なるように第2容量決定部30を形成することにより、内部コア部55の体積を決定することができる。 Referring to FIG. 4, the second capacitance is determined so that the upper coating thickness a covering the upper portion of the coil conductor 40 and the inner core portion side coating thickness b covering the inner core portion side of the coil conductor 40 are different. By forming the portion 30, the volume of the inner core portion 55 can be determined.

コイル導体40の上部被覆厚さaは、コイル導体40が十分に絶縁される程度のみに形成し、コイル導体40の内部コア部側被覆厚さbを、目標とするインダクタンス(Ls)に応じて調節して形成することができる。 The upper covering thickness a of the coil conductor 40 is formed only to the extent that the coil conductor 40 is sufficiently insulated, and the inner core portion side covering thickness b of the coil conductor 40 is set according to the target inductance (Ls). It can be formed by adjusting.

図4のように、コイル導体40の上部被覆厚さaに比べてコイル導体40の内部コア部側被覆厚さbを厚く形成するほど、内部コア部55の体積が減少し、より低いインダクタンス(Ls)を実現するようになる。 As shown in FIG. 4, the volume of the inner core portion 55 decreases as the inner core portion side coating thickness b of the coil conductor 40 is made thicker than the upper coating thickness a of the coil conductor 40, and the lower inductance ( Ls) is realized.

上記第2容量決定部30は、コイル導体40の内部コア部側被覆厚さbが10μm〜200μmを満たすように備えられることができる。内部コア部側被覆厚さbを10μm〜200μmの範囲に調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The second capacitance determining unit 30 may be provided such that the inner core portion side coating thickness b of the coil conductor 40 satisfies 10 μm to 200 μm. The target inductance (Ls) can be finely controlled by adjusting the inner core portion side coating thickness b to a range of 10 μm to 200 μm.

上記第2容量決定部30は、コイル導体40の上部被覆厚さa及びコイル導体40の内部コア部側被覆厚さbが0.01≦a/b≦50を満たすように備えられることができる。a/bを0.01〜50の範囲に調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The second capacity determining unit 30 may be provided such that the upper covering thickness a of the coil conductor 40 and the inner core portion side covering thickness b of the coil conductor 40 satisfy 0.01 ≦ a / b ≦ 50. . By adjusting a / b in the range of 0.01 to 50, the target inductance (Ls) can be finely controlled.

図5は本発明の他の一実施形態によるチップ電子部品のLT方向の断面図である。 FIG. 5 is a cross-sectional view in the LT direction of a chip electronic component according to another embodiment of the present invention.

図5を参照すると、第2容量決定部30は、コイル導体40の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部35を含むことができる。上記内部コア部側被覆部35の最下部の被覆厚さcと、最上部の被覆厚さdと、が異なるように第2容量決定部30を形成することにより、内部コア部55の体積を決定することができる。 Referring to FIG. 5, the second capacity determination unit 30 may include an inner core part side covering part 35 that covers the inner core part side of the coil conductor 40. By forming the second capacity determining unit 30 so that the lowermost coating thickness c and the uppermost coating thickness d of the inner core portion side coating portion 35 are different, the volume of the inner core portion 55 is reduced. Can be determined.

上記内部コア部側被覆部35は、下部から上部に向かって被覆厚さが次第に厚くなる形状を有することができる。この際、下部から上部に向かって次第に厚くなる程度を、目標とするインダクタンス(Ls)に応じて調節して形成することができる。 The inner core portion side covering portion 35 may have a shape in which the covering thickness gradually increases from the lower portion toward the upper portion. At this time, the degree of gradually increasing thickness from the bottom to the top can be adjusted according to the target inductance (Ls).

上記第2容量決定部30の内部コア部側被覆部35は、最下部の被覆厚さc及び最上部の被覆厚さdが0.01≦c/d≦50を満たすように備えられることができる。c/dを0.01〜50の範囲に調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The inner core portion side covering portion 35 of the second capacity determining portion 30 is provided so that the lowermost covering thickness c and the uppermost covering thickness d satisfy 0.01 ≦ c / d ≦ 50. it can. By adjusting c / d within the range of 0.01 to 50, the target inductance (Ls) can be finely controlled.

上記第1コイル導体41の一端部及び第2コイル導体42の一端部は、上記磁性体本体50の対向する両端面にそれぞれ露出することができる。また、磁性体本体50の両端面には、磁性体本体50の両端面に露出する上記第1及び第2コイル導体41、42の引出部とそれぞれ接続されるように、外部電極80が形成されることができる。 One end of the first coil conductor 41 and one end of the second coil conductor 42 can be exposed at opposite end surfaces of the magnetic body 50, respectively. Further, external electrodes 80 are formed on both end surfaces of the magnetic body 50 so as to be connected to the lead portions of the first and second coil conductors 41 and 42 exposed on both end surfaces of the magnetic body 50, respectively. Can.

上記外部電極80は、磁性体本体50の両端面に形成され、磁性体本体50の厚さ方向の上面及び下面、及び/または幅方向の両側面に延びて形成されることができる。 The external electrode 80 may be formed on both end surfaces of the magnetic body 50 and extend to the upper and lower surfaces in the thickness direction and / or both side surfaces in the width direction.

上記外部電極80は、電気伝導性に優れた金属を含有して形成されることができ、例えば、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、スズ(Sn)、または銀(Ag)などの単独またはこれらの合金などで形成されることができる。 The external electrode 80 can be formed by containing a metal having excellent electrical conductivity. For example, nickel (Ni), copper (Cu), tin (Sn), or silver (Ag) alone or These alloys can be formed.

チップ電子部品の製造方法
図6は本発明の一実施形態によるチップ電子部品の製造方法を示した工程図である。
Chip Electronic Component Manufacturing Method FIG. 6 is a process diagram illustrating a chip electronic component manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

図6を参照すると、先ず、第1容量決定部20の少なくとも一面にコイル導体40を形成し、第1容量決定部20の中央に貫通孔70を形成することができる。 Referring to FIG. 6, first, the coil conductor 40 may be formed on at least one surface of the first capacitance determining unit 20, and the through hole 70 may be formed in the center of the first capacitance determining unit 20.

上記第1容量決定部20は、第1及び第2コイル導体41、42を支持し、且つ絶縁させることができるものであれば特に制限されないが、例えば、ポリプロピレングリコール(PPG)基板、フェライト基板、または金属系軟磁性基板などで形成することができる。 The first capacity determining unit 20 is not particularly limited as long as it can support and insulate the first and second coil conductors 41 and 42. For example, a polypropylene glycol (PPG) substrate, a ferrite substrate, Alternatively, it can be formed of a metal-based soft magnetic substrate.

上記コイル導体40の形成方法としては、例えば、電気めっき法が挙げられるが、これに制限されるものではない。コイル導体40は、電気伝導性に優れた金属を含有して形成することができ、例えば、銀(Ag)、パラジウム(Pd)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、金(Au)、銅(Cu)、白金(Pt)、またはこれらの合金などを用いることができる。 Examples of the method of forming the coil conductor 40 include an electroplating method, but are not limited thereto. The coil conductor 40 can be formed by containing a metal having excellent electrical conductivity. For example, silver (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), nickel (Ni), titanium (Ti), gold (Au), copper (Cu), platinum (Pt), or an alloy thereof can be used.

第1容量決定部20の一部に孔を形成した後、伝導性物質を充填してビア電極(不図示)を形成することができる。第1容量決定部20の第1面に形成した第1コイル導体41と、第1容量決定部20の第2面に形成した第2コイル導体42と、が上記ビア電極を介して電気的に連結されることができる。 After forming a hole in a part of the first capacitance determining unit 20, a via electrode (not shown) can be formed by filling a conductive material. The first coil conductor 41 formed on the first surface of the first capacitance determination unit 20 and the second coil conductor 42 formed on the second surface of the first capacitance determination unit 20 are electrically connected via the via electrode. Can be linked.

第1容量決定部20の中央に形成される貫通孔70の面積を調節することにより、上記コイル導体40の内部に形成される内部コア部55の体積を調節することができる。 By adjusting the area of the through hole 70 formed in the center of the first capacity determining unit 20, the volume of the inner core unit 55 formed in the coil conductor 40 can be adjusted.

また、内部コア部55は磁性体で充填されるため、内部コア部55の体積を調節することにより、コイル導体40の内部に充填される磁性体の体積を調節することができる。 Further, since the inner core portion 55 is filled with a magnetic material, the volume of the magnetic material filled in the coil conductor 40 can be adjusted by adjusting the volume of the inner core portion 55.

したがって、第1容量決定部20の貫通孔70の面積を調節して内部コア部55の体積を決定することにより、同一設計のコイル導体40を有する場合にも、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 Therefore, by adjusting the area of the through hole 70 of the first capacity determining unit 20 and determining the volume of the inner core unit 55, the target inductance (Ls) can be reduced even when the coil conductor 40 has the same design. It can be finely controlled.

貫通孔70の面積を大きく形成すると、内部コア部55の体積が増加し、これにより、より高いインダクタンス(Ls)を実現することができるようになる。 When the area of the through hole 70 is increased, the volume of the inner core portion 55 is increased, and thereby a higher inductance (Ls) can be realized.

また、貫通孔70の面積を小さく形成すると、内部コア部55の体積が減少し、これにより、より低いインダクタンス(Ls)を実現することができるようになる。 Moreover, when the area of the through-hole 70 is made small, the volume of the inner core portion 55 is reduced, whereby a lower inductance (Ls) can be realized.

上記貫通孔70は、ドリル、レーザー、サンドブラスト、パンチング加工などの工程を用いることにより、所望の面積に容易に調節して形成することができる。したがって、コイル導体などを再設計しなくても、容易に上記第1容量決定部20の貫通孔70の面積を調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The through-hole 70 can be easily adjusted to a desired area by using a process such as drilling, laser, sandblasting, punching, or the like. Therefore, the target inductance (Ls) can be finely controlled by easily adjusting the area of the through hole 70 of the first capacity determining unit 20 without redesigning the coil conductor or the like.

次に、上記コイル導体40を被覆する第2容量決定部30を形成することができる。 Next, the second capacity determining unit 30 that covers the coil conductor 40 can be formed.

上記第2容量決定部30は、スクリーン印刷法、フォトレジスト(photo resist、PR)の露光、現像を用いた工程、スプレー(spray)塗布工程など、公知の方法で形成することができるが、これに制限されない。 The second capacity determining unit 30 may be formed by a known method such as a screen printing method, a photo resist (PR) exposure, a process using development, or a spray coating process. Not limited to.

上記第2容量決定部30は、コイル導体40と磁性体との接触による漏れ電流の発生を防止することができる絶縁材料であれば特に制限されないが、例えば、エポキシ系樹脂などで形成することができる。 The second capacity determining unit 30 is not particularly limited as long as it is an insulating material that can prevent generation of leakage current due to contact between the coil conductor 40 and the magnetic body, but may be formed of, for example, an epoxy resin or the like. it can.

第2容量決定部30の上記コイル導体40の内部コア部側被覆厚さを調節することにより、コイル導体40の内部に形成される内部コア部55の体積を調節することができる。 By adjusting the inner core portion side coating thickness of the coil conductor 40 of the second capacitance determining unit 30, the volume of the inner core portion 55 formed inside the coil conductor 40 can be adjusted.

したがって、第2容量決定部30の内部コア部側の被覆厚さを調節して内部コア部55の体積を調節することにより、同一設計のコイル導体40を有する場合にも、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 Accordingly, by adjusting the coating thickness on the inner core portion side of the second capacity determining unit 30 to adjust the volume of the inner core portion 55, even when the coil conductor 40 has the same design, the target inductance ( Ls) can be finely controlled.

コイル導体40の上部を被覆する上部被覆厚さaと、コイル導体40の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さbと、が異なるように第2容量決定部30を形成することにより、内部コア部55の体積を調節することができる。 The second capacitance determining unit 30 is formed so that the upper coating thickness a covering the upper portion of the coil conductor 40 and the inner core portion side coating thickness b covering the inner core portion side of the coil conductor 40 are different. Thus, the volume of the inner core portion 55 can be adjusted.

コイル導体40の上部被覆厚さaは、コイル導体40が十分に絶縁される程度のみに形成し、コイル導体40の内部コア部側被覆厚さbを、目標とするインダクタンス(Ls)に応じて調節して形成することができる。 The upper covering thickness a of the coil conductor 40 is formed only to the extent that the coil conductor 40 is sufficiently insulated, and the inner core portion side covering thickness b of the coil conductor 40 is set according to the target inductance (Ls). It can be formed by adjusting.

コイル導体40の上部被覆厚さaに比べてコイル導体40の内部コア部側被覆厚さbを厚く形成するほど、内部コア部55の体積が減少し、より低いインダクタンス(Ls)を実現するようになる。 As the inner core portion side coating thickness b of the coil conductor 40 is formed thicker than the upper coating thickness a of the coil conductor 40, the volume of the inner core portion 55 is reduced and a lower inductance (Ls) is realized. become.

上記第2容量決定部30は、コイル導体40の内部コア部側被覆厚さbが10μm〜200μmを満たすように備えられることができる。内部コア部側被覆厚さbを10μm〜200μmの範囲に調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The second capacitance determining unit 30 may be provided such that the inner core portion side coating thickness b of the coil conductor 40 satisfies 10 μm to 200 μm. The target inductance (Ls) can be finely controlled by adjusting the inner core portion side coating thickness b to a range of 10 μm to 200 μm.

上記第2容量決定部30は、コイル導体40の上部被覆厚さa及びコイル導体40の内部コア部側被覆厚さbが0.01≦a/b≦50を満たすように備えられることができる。a/bを0.01〜50の範囲に調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The second capacity determining unit 30 may be provided such that the upper covering thickness a of the coil conductor 40 and the inner core portion side covering thickness b of the coil conductor 40 satisfy 0.01 ≦ a / b ≦ 50. . By adjusting a / b in the range of 0.01 to 50, the target inductance (Ls) can be finely controlled.

第2容量決定部30は、コイル導体40の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部35を含むことができる。上記内部コア部側被覆部35の最下部の被覆厚さcと、最上部の被覆厚さdと、が異なるように第2容量決定部30を形成することにより、内部コア部55の体積を調節することができる。 The second capacity determination unit 30 can include an inner core part side covering part 35 that covers the inner core part side of the coil conductor 40. By forming the second capacity determining unit 30 so that the lowermost coating thickness c and the uppermost coating thickness d of the inner core portion side coating portion 35 are different, the volume of the inner core portion 55 is reduced. Can be adjusted.

上記内部コア部側被覆部35は、下部から上部に向かって被覆厚さが次第に厚くなる形状を有することができる。この際、下部から上部に向かって次第に厚くなる程度を、目標とするインダクタンス(Ls)に応じて調節して形成することができる。 The inner core portion side covering portion 35 may have a shape in which the covering thickness gradually increases from the lower portion toward the upper portion. At this time, the degree of gradually increasing thickness from the bottom to the top can be adjusted according to the target inductance (Ls).

上記第2容量決定部30の内部コア部側被覆部35は、最下部の被覆厚さc及び最上部の被覆厚さdが0.01≦c/d≦50を満たすように備えられることができる。c/dを0.01〜50の範囲に調節することにより、目標とするインダクタンス(Ls)を微細に制御することができる。 The inner core portion side covering portion 35 of the second capacity determining portion 30 is provided so that the lowermost covering thickness c and the uppermost covering thickness d satisfy 0.01 ≦ c / d ≦ 50. it can. By adjusting c / d within the range of 0.01 to 50, the target inductance (Ls) can be finely controlled.

その後、上記コイル導体40が形成された第1容量決定部20の上部及び下部に磁性体層を積層及び圧着することにより、上記コイル導体40の内部に内部コア部55が備えられた磁性体本体50を形成することができる。 Thereafter, the magnetic body is provided with the inner core portion 55 inside the coil conductor 40 by laminating and press-bonding magnetic layers on the upper and lower portions of the first capacitance determining unit 20 where the coil conductor 40 is formed. 50 can be formed.

磁性体層を積層し、ラミネート法や静水圧プレス法で圧着することにより、磁性体本体50を形成することができる。 The magnetic body 50 can be formed by laminating the magnetic layers and pressing them by a laminating method or an isostatic pressing method.

この際、上記第1容量決定部20の貫通孔70の面積及び/または第2容量決定部30の内部コア部側被覆厚さに応じて、形成される内部コア部55の体積が調節されることができる。これにより、インダクタンス(Ls)を多様に実現することができる。 At this time, the volume of the inner core part 55 to be formed is adjusted according to the area of the through hole 70 of the first capacity determining part 20 and / or the inner core part side covering thickness of the second capacity determining part 30. be able to. Thereby, various inductances (Ls) can be realized.

続いて、磁性体本体50の少なくとも一面に、上記コイル導体40と接続されるように外部電極80を形成することができる。 Subsequently, the external electrode 80 can be formed on at least one surface of the magnetic body 50 so as to be connected to the coil conductor 40.

上記第1コイル導体41の一端部及び第2コイル導体42の一端部は、上記磁性体本体50の対向する両端面にそれぞれ露出することができる。また、磁性体本体50の両端面には、磁性体本体50の両端面に露出する上記第1及び第2コイル導体41、42の引出部とそれぞれ接続されるように、外部電極80を形成することができる。 One end of the first coil conductor 41 and one end of the second coil conductor 42 can be exposed at opposite end surfaces of the magnetic body 50, respectively. Further, external electrodes 80 are formed on both end surfaces of the magnetic body 50 so as to be connected to the lead portions of the first and second coil conductors 41 and 42 exposed on both end surfaces of the magnetic body 50, respectively. be able to.

上記外部電極80は、電気伝導性に優れた金属を含有するペーストを用いて形成することができ、例えば、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、スズ(Sn)、または銀(Ag)などの単独またはこれらの合金などを含有する伝導性ペーストで形成することができる。 The external electrode 80 can be formed using a paste containing a metal having excellent electrical conductivity. For example, nickel (Ni), copper (Cu), tin (Sn), or silver (Ag) is used. It can be formed of a conductive paste containing alone or an alloy thereof.

外部電極80の形成方法としては、外部電極80の形状に応じて、印刷法だけでなくディッピング(dipping)法などを用いて形成することができる。 As a method for forming the external electrode 80, not only a printing method but also a dipping method can be used depending on the shape of the external electrode 80.

その他に、上述の本発明の一実施形態によるチップ電子部品の特徴と同一の部分についての説明は省略する。 In addition, the description of the same parts as those of the chip electronic component according to the embodiment of the present invention is omitted.

以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。 The embodiment of the present invention has been described in detail above, but the scope of the present invention is not limited to this, and various modifications and variations can be made without departing from the technical idea of the present invention described in the claims. It will be apparent to those having ordinary knowledge in the art.

100 薄膜型インダクタ
20 第1容量決定部
30 第2容量決定部
35 内部コア部側被覆部
40 コイル導体
41 第1コイル導体
42 第2コイル導体
50 磁性体本体
55 内部コア部
70 貫通孔
80 外部電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Thin film type inductor 20 1st capacity | capacitance determination part 30 2nd capacity | capacitance determination part 35 Inner core part side coating | coated part 40 Coil conductor 41 1st coil conductor 42 2nd coil conductor 50 Magnetic body 55 Internal core part 70 Through-hole 80 External electrode

Claims (16)

第1容量決定部の少なくとも一面にコイル導体を形成し、前記第1容量決定部の中央に貫通孔を形成する段階と、
前記コイル導体を被覆する第2容量決定部を形成する段階と、
前記コイル導体の上部及び下部に磁性体層を積層及び圧着することにより、前記コイル導体の内部に内部コア部が備えられた磁性体本体を形成する段階と、
前記磁性体本体の少なくとも一面に、前記コイル導体と接続されるように外部電極を形成する段階と、を含み、
前記第1容量決定部の中央に形成される前記貫通孔の面積を調節することにより前記内部コア部の体積を調節し、前記第2容量決定部の前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さを調節することにより前記内部コア部の体積を調節する、チップ電子部品の製造方法。
Forming a coil conductor on at least one surface of the first capacitance determining portion and forming a through hole in the center of the first capacitance determining portion;
Forming a second capacitance determining unit covering the coil conductor;
Forming a magnetic body having an inner core portion inside the coil conductor by laminating and crimping a magnetic layer on top and bottom of the coil conductor; and
Forming an external electrode on at least one surface of the magnetic body to be connected to the coil conductor,
The volume of the inner core portion is adjusted by adjusting the area of the through hole formed in the center of the first capacitance determining portion, and the inner core portion side of the coil conductor of the second capacitance determining portion is covered. A method of manufacturing a chip electronic component, wherein the volume of the inner core part is adjusted by adjusting the inner core part side coating thickness.
前記内部コア部は磁性体で充填され、前記内部コア部の体積を調節することにより、前記コイル導体の内部に充填された磁性体の体積を調節する、請求項1に記載のチップ電子部品の製造方法。 2. The chip electronic component according to claim 1, wherein the inner core portion is filled with a magnetic material, and the volume of the magnetic material filled in the coil conductor is adjusted by adjusting a volume of the inner core portion. Production method. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さと、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さと、が異なるように形成する、請求項1に記載のチップ電子部品の製造方法。 The said 2nd capacity | capacitance determination part is formed so that the upper coating thickness which coat | covers the upper part of the said coil conductor, and the inner core part side coating thickness which coat | covers the inner core part side of the said coil conductor may differ. The manufacturing method of the chip electronic component as described in 2. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さをa、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さをbとしたとき、0.01≦a/b≦50を満たすように形成する、請求項1に記載のチップ電子部品の製造方法。 The second capacity determining unit has an upper coating thickness that covers the upper portion of the coil conductor as a, and an inner core portion side coating thickness that covers the inner core portion side of the coil conductor as 0.01. The method for manufacturing a chip electronic component according to claim 1, wherein the chip electronic component is formed so as to satisfy ≦ a / b ≦ 50. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、前記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さと、最下部の被覆厚さと、が異なるように形成する、請求項1に記載のチップ電子部品の製造方法。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and an uppermost covering thickness of the inner core part side covering part, a lowermost covering thickness, The method of manufacturing a chip electronic component according to claim 1, wherein the chip electronic components are formed to be different from each other. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、前記内部コア部側被覆部は、下部から上部に向かって被覆厚さが次第に厚くなるように形成する、請求項1に記載のチップ電子部品の製造方法。 The second capacity determination unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and the inner core part side covering part gradually increases in thickness from the lower part toward the upper part. The method of manufacturing a chip electronic component according to claim 1, formed as described above. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、前記内部コア部側被覆部の最下部の被覆厚さをc、前記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さをdとしたとき、0.01≦c/d≦50を満たすように形成する、請求項1に記載のチップ電子部品の製造方法。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and c is a coating thickness of a lowermost part of the inner core part side covering part, and the inner core part side 2. The method for manufacturing a chip electronic component according to claim 1, wherein the thickness is formed so as to satisfy 0.01 ≦ c / d ≦ 50, where d is the thickness of the uppermost portion of the covering portion. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側の被覆厚さが10μm〜200μmを満たすように形成する、請求項1に記載のチップ電子部品の製造方法。 2. The method for manufacturing a chip electronic component according to claim 1, wherein the second capacitance determining unit is formed so that a coating thickness on an inner core side of the coil conductor satisfies 10 μm to 200 μm. コイル導体、及び前記コイル導体の内側に存在する内部コア部を有する磁性体本体と、
少なくとも一面に前記コイル導体が配置され、中央に貫通孔が備えられ、前記内部コア部の体積を決定する第1容量決定部と、
前記コイル導体を被覆し、前記内部コア部の体積を決定する第2容量決定部と、
前記磁性体本体の少なくとも一面に配置され、前記コイル導体と接続される外部電極と、を含み、
前記第1容量決定部は前記貫通孔の面積に応じて前記内部コア部の体積を決定し、前記第2容量決定部は前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さに応じて前記内部コア部の体積を決定する、チップ電子部品。
A magnetic body having a coil conductor and an inner core portion existing inside the coil conductor;
The coil conductor is disposed on at least one surface, a through hole is provided in the center, and a first capacity determining unit that determines a volume of the inner core unit;
A second capacity determining unit that covers the coil conductor and determines a volume of the inner core unit;
An external electrode disposed on at least one surface of the magnetic body and connected to the coil conductor;
The first capacity determining unit determines the volume of the inner core part according to the area of the through hole, and the second capacity determining unit is an inner core part side covering thickness that covers the inner core part side of the coil conductor. A chip electronic component that determines the volume of the inner core part according to the above.
前記内部コア部は磁性体で充填され、前記内部コア部の体積に応じて前記コイル導体の内部に充填された磁性体の体積が決定される、請求項9に記載のチップ電子部品。 The chip electronic component according to claim 9, wherein the inner core portion is filled with a magnetic material, and a volume of the magnetic material filled in the coil conductor is determined according to a volume of the inner core portion. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さと、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さと、が異なるように備えられる、請求項9に記載のチップ電子部品。 The second capacity determining unit is provided so that an upper coating thickness covering an upper portion of the coil conductor and an inner core portion side coating thickness covering an inner core portion side of the coil conductor are different from each other. The chip electronic component as described in. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の上部を被覆する上部被覆厚さをa、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆厚さをbとしたとき、0.01≦a/b≦50を満たす、請求項9に記載のチップ電子部品。 The second capacity determining unit has an upper coating thickness that covers the upper portion of the coil conductor as a, and an inner core portion side coating thickness that covers the inner core portion side of the coil conductor as 0.01. The chip electronic component according to claim 9, wherein ≦ a / b ≦ 50 is satisfied. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、前記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さと、最下部の被覆厚さと、が異なるように備えられる、請求項9に記載のチップ電子部品。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and an uppermost covering thickness of the inner core part side covering part, a lowermost covering thickness, The chip electronic component according to claim 9, wherein the chip electronic components are provided differently. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、前記内部コア部側被覆部は、下部から上部に向かって被覆厚さが次第に厚くなる、請求項9に記載のチップ電子部品。 The second capacity determination unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and the inner core part side covering part gradually increases in thickness from the lower part toward the upper part. The chip electronic component according to claim 9. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側を被覆する内部コア部側被覆部を含み、前記内部コア部側被覆部の最下部の被覆厚さをc、前記内部コア部側被覆部の最上部の被覆厚さをdとしたとき、0.01≦c/d≦50を満たす、請求項9に記載のチップ電子部品。 The second capacity determining unit includes an inner core part side covering part that covers the inner core part side of the coil conductor, and c is a coating thickness of a lowermost part of the inner core part side covering part, and the inner core part side 10. The chip electronic component according to claim 9, wherein 0.01 ≦ c / d ≦ 50 is satisfied, where d is a coating thickness of the uppermost portion of the coating portion. 前記第2容量決定部は、前記コイル導体の内部コア部側の被覆厚さが10μm〜200μmを満たすように備えられる、請求項9に記載のチップ電子部品。 10. The chip electronic component according to claim 9, wherein the second capacitance determining unit is provided such that a coating thickness on the inner core side of the coil conductor satisfies 10 μm to 200 μm.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017199798A (en) * 2016-04-27 2017-11-02 Tdk株式会社 Coil component and power circuit unit
JP2018074144A (en) * 2016-10-28 2018-05-10 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Coil component
JP2018148200A (en) * 2017-03-07 2018-09-20 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Coil electronic component and manufacturing method thereof
JP2019004142A (en) * 2017-06-13 2019-01-10 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Coil component
JP2019041017A (en) * 2017-08-25 2019-03-14 Tdk株式会社 Coil component
KR20190035262A (en) * 2017-09-26 2019-04-03 삼성전기주식회사 Coil component
JP2021174799A (en) * 2020-04-20 2021-11-01 Tdk株式会社 Coil component

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101762024B1 (en) 2015-11-19 2017-07-26 삼성전기주식회사 Coil component and board for mounting the same
KR101762023B1 (en) 2015-11-19 2017-08-04 삼성전기주식회사 Coil component and and board for mounting the same
KR102380835B1 (en) * 2016-01-22 2022-03-31 삼성전기주식회사 Coil component
KR102419961B1 (en) * 2016-02-18 2022-07-13 삼성전기주식회사 Inductor
KR102404332B1 (en) * 2016-02-18 2022-06-07 삼성전기주식회사 Coil component and manufacturing method for the same
CN109087775B (en) * 2017-06-13 2020-11-27 三星电机株式会社 Coil component

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01313908A (en) * 1988-06-13 1989-12-19 Taiyo Yuden Co Ltd Laminated electronic part and adjusting method of inductance thereof
JPH02310905A (en) * 1989-05-26 1990-12-26 Murata Mfg Co Ltd Inductor
JP2009009985A (en) * 2007-06-26 2009-01-15 Sumida Corporation Coil component
JP2013201374A (en) * 2012-03-26 2013-10-03 Tdk Corp Planar coil element
JP2014022724A (en) * 2012-07-18 2014-02-03 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Magnetic module for power inductor, power inductor, and method for manufacturing the same
JP2014049753A (en) * 2012-08-29 2014-03-17 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Coil component

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005210010A (en) * 2004-01-26 2005-08-04 Tdk Corp Coil substrate, manufacturing method thereof, and surface-mounting coil element
JP2006310716A (en) * 2005-03-31 2006-11-09 Tdk Corp Planar coil element
JP2007067214A (en) * 2005-08-31 2007-03-15 Taiyo Yuden Co Ltd Power inductor
JP5115691B2 (en) * 2006-12-28 2013-01-09 Tdk株式会社 Coil device and method of manufacturing coil device
JP5381956B2 (en) * 2010-10-21 2014-01-08 Tdk株式会社 Coil parts
US9236171B2 (en) * 2010-10-21 2016-01-12 Tdk Corporation Coil component and method for producing same
JP5970716B2 (en) * 2012-06-08 2016-08-17 株式会社村田製作所 Electronic component and manufacturing method thereof
KR101983136B1 (en) * 2012-12-28 2019-09-10 삼성전기주식회사 Power inductor and manufacturing method thereof
KR101983137B1 (en) * 2013-03-04 2019-05-28 삼성전기주식회사 Power inductor and manufacturing method thereof
KR101442404B1 (en) * 2013-03-29 2014-09-17 삼성전기주식회사 Inductor and method for manufacturing the same
KR101994731B1 (en) * 2014-01-27 2019-07-01 삼성전기주식회사 Chip electronic component and manufacturing method thereof

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01313908A (en) * 1988-06-13 1989-12-19 Taiyo Yuden Co Ltd Laminated electronic part and adjusting method of inductance thereof
JPH02310905A (en) * 1989-05-26 1990-12-26 Murata Mfg Co Ltd Inductor
JP2009009985A (en) * 2007-06-26 2009-01-15 Sumida Corporation Coil component
JP2013201374A (en) * 2012-03-26 2013-10-03 Tdk Corp Planar coil element
JP2014022724A (en) * 2012-07-18 2014-02-03 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Magnetic module for power inductor, power inductor, and method for manufacturing the same
JP2014049753A (en) * 2012-08-29 2014-03-17 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Coil component

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10679785B2 (en) 2016-04-27 2020-06-09 Tdk Corporation Coil component and power supply circuit unit
JP2017199798A (en) * 2016-04-27 2017-11-02 Tdk株式会社 Coil component and power circuit unit
JP2018074144A (en) * 2016-10-28 2018-05-10 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Coil component
JP2018195841A (en) * 2016-10-28 2018-12-06 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Coil component
JP7056926B2 (en) 2016-10-28 2022-04-19 サムソン エレクトロ-メカニックス カンパニーリミテッド. Coil parts
US11270829B2 (en) 2016-10-28 2022-03-08 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil component
US10504644B2 (en) 2016-10-28 2019-12-10 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil component
JP2018148200A (en) * 2017-03-07 2018-09-20 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Coil electronic component and manufacturing method thereof
US10755847B2 (en) 2017-03-07 2020-08-25 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil electronic component
JP2019004142A (en) * 2017-06-13 2019-01-10 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Coil component
US11205539B2 (en) 2017-06-13 2021-12-21 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Coil component
JP2019041017A (en) * 2017-08-25 2019-03-14 Tdk株式会社 Coil component
JP7073650B2 (en) 2017-08-25 2022-05-24 Tdk株式会社 Coil parts
KR101998269B1 (en) 2017-09-26 2019-09-27 삼성전기주식회사 Coil component
KR20190035262A (en) * 2017-09-26 2019-04-03 삼성전기주식회사 Coil component
JP2021174799A (en) * 2020-04-20 2021-11-01 Tdk株式会社 Coil component
JP7443907B2 (en) 2020-04-20 2024-03-06 Tdk株式会社 coil parts

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