JP2015201344A - microwave heating device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、試料にマイクロ波を照射して加熱するマイクロ波加熱装置に関するものである。 The present invention relates to a microwave heating apparatus that heats a sample by irradiating it with microwaves.
マイクロ波伝送技術の分野においては、例えば太陽発電衛星(Solar Power Satellite,SPS)の実現に向けて、高効率伝送技術やアクティブフェーズドアレーアンテナ(Active Phased Array Antenna,APAA)によるビーム制御技術などに関する様々な研究開発が行われている。 In the field of microwave transmission technology, for example, various technologies related to high-efficiency transmission technology and beam control technology using an active phased array antenna (APAA) for the realization of a solar power satellite (SPS). R & D is underway.
また、これらのマイクロ波伝送技術を工業用のアプリケーションに応用する動向もみられる。例えば、特許文献1及び特許文献2には、原料にマイクロ波を照射して加熱することで溶融銑鉄を製造する製鉄システムが開示されている。また、非特許文献1には、マイクロ波を用いた製鉄システムにおいて、マイクロ波放射源をフェーズドアレーアンテナで構成する技術について開示されている。さらに、最近では、マイクロ波を化学反応に応用することで化学反応時間を短縮する技術も注目されている。
There is also a trend to apply these microwave transmission technologies to industrial applications. For example,
現状、マイクロ波伝送技術は小規模な装置に適用される例が多い。しかしながら、例えば製鉄システムのように、大規模かつ大電力の装置の開発も求められている。 At present, microwave transmission technology is often applied to small-scale devices. However, development of large-scale and high-power devices such as an iron manufacturing system is also demanded.
特許文献1、特許文献2及び非特許文献1に開示された従来の製鉄システムは、反応炉の周囲にマイクロ波放射源を円周状に配列している。このため、特定のマイクロ波放射源(以下「第1マイクロ波放射源」という)が放射したマイクロ波のうち、加熱対象の試料で吸収されなかったマイクロ波は、この試料で反射されて、反応炉を介して第1マイクロ波放射源と対峙したマイクロ波放射源(以下「第2マイクロ波放射源」という)に照射される。これにより、第2マイクロ波放射源の故障が発生する課題があった。
The conventional iron manufacturing systems disclosed in
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、マイクロ波放射源の故障を防ぐことができるマイクロ波加熱装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a microwave heating apparatus that can prevent a failure of a microwave radiation source.
この発明のマイクロ波加熱装置は、反応炉に収容され、かつ試料載置面を有する試料台と、試料載置面と対向配置された主反射鏡と、主反射鏡と対向して反応炉の周囲に配置され、かつ試料載置面にマイクロ波を照射する複数のマイクロ波放射源とを具備し、マイクロ波放射源は、反応炉を介して対峙する位置からずらした位置に他のマイクロ波放射源を配置してなるものである。 A microwave heating apparatus according to the present invention includes a sample stage housed in a reaction furnace and having a sample mounting surface, a main reflecting mirror disposed opposite to the sample mounting surface, and a main reflecting mirror facing the main reflecting mirror. A plurality of microwave radiation sources arranged around and irradiating the sample mounting surface with microwaves, and the microwave radiation sources are located at positions shifted from positions facing each other through the reactor. A radiation source is arranged.
この発明のマイクロ波加熱装置によれば、マイクロ波放射源の故障を防ぐことができる。 According to the microwave heating apparatus of the present invention, failure of the microwave radiation source can be prevented.
実施の形態1.
図1及び図2を参照して、この発明の実施の形態1のマイクロ波加熱装置について説明する。
図中、1は反応炉である。反応炉1は、開口部11を有し、その内部に試料台2が収容されている。試料台2には、加熱対象の試料21が載置されるようになっている。
With reference to FIG.1 and FIG.2, the microwave heating apparatus of
In the figure, 1 is a reactor. The
試料21の載置面(試料載置面)22と対向して、主反射鏡3が配置されている。主反射鏡3の形状は、B−B’線に沿う中心軸に対して回転対称な形状になっている。
The main reflecting
主反射鏡3と対向した複数のマイクロ波放射源4が、反応炉1の周囲に設けられている。マイクロ波放射源4は、反応炉1を介して対峙する位置からずらした位置に他のマイクロ波放射源4を配置している。
A plurality of
主反射鏡3と対向した複数の副反射鏡5が、反応炉1の周囲に設けられている。副反射鏡5は、反応炉1を介してマイクロ波放射源4と対峙する位置に配置されている。
A plurality of
ここで、マイクロ波放射源4は、反応炉1を中心部とする円周上に配置されている。副反射鏡5は、マイクロ波放射源4を配置した円周上のマイクロ波放射源4間に配置されている。すなわち、図1に示す如く、円周の直径に沿うA−A’線において、一端部にマイクロ波放射源4が配置され、かつ他端部に対となる副反射鏡5が配置されている。
Here, the
図2を参照して、このようにして構成されたマイクロ波加熱装置100の動作について説明する。
まず、実線の矢印で示す如く、マイクロ波放射源4が主反射鏡3に向けてマイクロ波Iを放射する。主反射鏡3は、放射されたマイクロ波Iを反射して、試料台2の載置面22の中央部23に収束させる。これにより、載置面22に置かれた試料21にマイクロ波Iが照射され、試料21が加熱される。
With reference to FIG. 2, the operation of the
First, as indicated by a solid arrow, the
このとき、試料21に照射されたマイクロ波Iの一部は、試料21での加熱反応により吸収される。吸収されなかった残余のマイクロ波IIは、主反射鏡3の中心軸に対してマイクロ波Iと線対称な方向に向けて反射される。
At this time, a part of the microwave I irradiated to the
マイクロ波IIは、主反射鏡3で反射されて、副反射鏡5に入射する。副反射鏡5は、入射したマイクロ波IIを入射方向と同じ方向に向けて反射する。反射されたマイクロ波IIIは、主反射鏡3で反射されて、試料台2の載置面22の中央部23に収束する。これにより、載置面22に置かれた試料21にマイクロ波IIIが再び照射され、試料21を更に加熱することができる。
The microwave II is reflected by the main reflecting
このとき、試料21で吸収されなかったマイクロ波IIIの一部が、試料21で反射して、再びマイクロ波放射源4に戻る場合がある。しかしながら、試料21における2回の吸収、及びマイクロ波放射源4と副反射鏡5間を往復する伝搬経路における伝搬損失により、マイクロ波放射源4に戻るマイクロ波の電力は十分に小さくなっている。これにより、マイクロ波放射源4の故障を防ぐことができる。
At this time, a part of the microwave III that has not been absorbed by the
以上のように、この実施の形態1のマイクロ波加熱装置100は、反応炉1を中心部とする円周上に、複数のマイクロ波放射源4を設けている。マイクロ波放射源4は、反応炉1を介して対峙する位置からずらした位置に他のマイクロ波放射源4を配置している。
マイクロ波放射源4と反応炉1を介して対峙する位置に他のマイクロ波放射源4が配置されている場合、試料21で反射したマイクロ波IIが他のマイクロ波放射源4を故障させてしまう。これに対し、マイクロ波加熱装置100のように、対峙する位置からずらした位置に他のマイクロ波放射源4を配置することにより、他のマイクロ波放射源4の故障を防ぐことができる。
As described above, the
When another
また、マイクロ波放射源4を配置した円周上のマイクロ波放射源4間に、複数の副反射鏡5を設けている。副反射鏡5は、反応炉1を介してマイクロ波放射源4と対峙する位置に配置している。
この結果、試料21で吸収されずに反射されたマイクロ波IIを副反射鏡5で反射して試料21に再び照射することで、マイクロ波放射源4の故障を防ぐとともに、マイクロ波のエネルギーを試料21の加熱に効率良く用いることができる。
A plurality of
As a result, the microwave II reflected without being absorbed by the
なお、マイクロ波放射源4の配置数は、図1に示す15個に限定されるものではない。任意の個数のマイクロ波放射源4を配置したものとしてよい。また、マイクロ波放射源4は、任意の種類のアンテナ等を用いて構成したものとしてよい。また、マイクロ波放射源4が放射するマイクロ波の周波数は、試料21の材質や加熱する温度に応じて任意の周波数としてよい。
In addition, the number of arrangement | positioning of the
また、主反射鏡3の形状は、図1及び図2に示す回転対称な形状に限定されるものではない。マイクロ波I及びマイクロ波IIIを載置面22の所定の部位に収束させるものであれば、任意の形状のものを用いてよい。また、主反射鏡3の枚数は、図1及び図2に示す1枚に限定されるものではない。マイクロ波I及びマイクロ波IIIを載置面22の所定の部位に収束させるものであれば、任意の枚数のものを用いてよい。
Further, the shape of the main reflecting
また、反応炉1の形状は、図1及び図2に示す有底状の形状に限定されるものではない。試料21の形状や温度特性に応じて、図1及び図2では断面が矩形状のものを示しているが、例えば円形状又は多角形状など、任意の形状のものを用いてよい。
Moreover, the shape of the
また、副反射鏡5の形状は、図1及び図2に示す形状に限定されるものではない。マイクロ波IIの入射方向と同じ方向にマイクロ波IIIを反射するものであれば、任意の形状のものを用いてよい。
Further, the shape of the
また、マイクロ波放射源4及び副反射鏡5の配置は、副反射鏡5がマイクロ波放射源4と反応炉1を介して対峙したものであればよく、図1に示す如く円周上に交互に設けた配置に限定されるものではない。例えば、図3又は図4に示す如く、複数のマイクロ波放射源4を隣接して円周上に配置するとともに、複数の副反射鏡5を隣接して円周上に配置したものとしてもよい。
Further, the arrangement of the
また、反応炉1、試料台2、主反射鏡3及び副反射鏡5は、任意の構成材料を用いて構成したものとしてよい。
Moreover, the
実施の形態2.
図5及び図6を参照して、マイクロ波放射源及び副反射鏡を正奇数角形上に配置したマイクロ波加熱装置について説明する。図5では、正奇数角形の一例として正十五角形を描画している。なお、実施の形態1と同様の構成部材には同一符号を付して説明を省略する。
With reference to FIG.5 and FIG.6, the microwave heating apparatus which has arrange | positioned the microwave radiation source and the sub-reflecting mirror on the positive / odd square shape is demonstrated. In FIG. 5, a regular pentagon is drawn as an example of a regular odd-odd square. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structural member similar to
マイクロ波放射源4は、反応炉1を中心部とする正十五角形の頂点にそれぞれ配置されている。副反射鏡5は、マイクロ波放射源4を配置した正十五角形の頂点間の辺上にそれぞれ配置されている。
The
一般に、正奇数角形においては、対角線が正奇数角形の中心を通らないようになっている。したがって、正十五角形の頂点に配置されたマイクロ波放射源4は、反応炉1を介して対峙する位置からずらした位置に他のマイクロ波放射源4が配置されている。
Generally, in a regular odd-odd square, the diagonal line does not pass through the center of the regular odd-odd square. Therefore, the
また、正奇数角形においては、頂点と、頂点間の辺の中点とを結ぶ線が正奇数角形の中心を通るようになっている。したがって、正十五角形の頂点間の辺上に配置された副反射鏡5は、この正十五角形の頂点に配置された対となるマイクロ波放射源4と、反応炉1を介して対峙する位置に配置されている。
In the case of a positive odd-numbered square, a line connecting the vertex and the midpoint of the side between the vertexes passes through the center of the positive-odd square. Accordingly, the
このようにして構成されたマイクロ波加熱装置200は、以下のように実施の形態1のマイクロ波加熱装置100と同様に動作する。
すなわち、マイクロ波放射源4が放射したマイクロ波Iは、試料21に照射される。試料21で反射されたマイクロ波IIは、副反射鏡5に入射する。副反射鏡5でマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIは、試料21に再び照射される。
The
In other words, the
副反射鏡5でマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIが、試料21に再び照射されることにより、マイクロ波IIIのエネルギーも試料21の加熱に用いることができる。また、マイクロ波放射源4に戻るマイクロ波の電力は十分に小さくなっているため、マイクロ波放射源4の故障を防ぐことができる。
By irradiating the
以上のように、この実施の形態2のマイクロ波加熱装置200は、反応炉1を中心部とする正十五角形の頂点に複数のマイクロ波放射源4をそれぞれ配置している。
マイクロ波放射源4と反応炉1を介して対峙する位置に他のマイクロ波放射源4が配置されている場合、試料21で反射したマイクロ波IIが他のマイクロ波放射源4を故障させてしまう。これに対し、マイクロ波加熱装置200のように、正奇数角形の頂点に他のマイクロ波放射源4を配置することにより、他のマイクロ波放射源4の故障を防ぐことができる。
As described above, in the
When another
また、マイクロ波放射源4を配置した正十五角形の頂点間の辺上に副反射鏡5を配置している。
この結果、試料21で吸収されずに反射されたマイクロ波IIを副反射鏡5で反射して試料21に再び照射することで、マイクロ波放射源4の故障を防ぐとともに、マイクロ波のエネルギーを試料21の加熱に効率よく用いることができる。
Further, the
As a result, the microwave II reflected without being absorbed by the
なお、マイクロ波放射源4の配置数は、図5に示す15個に限定されるものではない。反応炉1を中心部とする任意の正奇数角形の頂点にマイクロ波放射源4を配置し、かつこの正奇数角形の頂点間の辺上に副反射鏡5を配置したものとしてよい。
In addition, the number of arrangement | positioning of the
また、図7に示す如く、反応炉1を中心部とする正奇数角形の頂点に副反射鏡5を配置し、かつこの正奇数角形の頂点間の辺上にマイクロ波放射源4を配置したものとしてもよい。
Further, as shown in FIG. 7, the
実施の形態3.
図8〜図10を参照して、副反射鏡をいわゆる「3面コーナーリフレクタ」で構成したマイクロ波加熱装置について説明する。なお、実施の形態1と同様の構成部材には同一符号を付して説明を省略する。
With reference to FIGS. 8-10, the microwave heating apparatus which comprised the sub-reflection mirror with what is called a "three-surface corner reflector" is demonstrated. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structural member similar to
図8に示す如く、マイクロ波を反射する直角三角形状の3枚の平面鏡51a〜51cを、互いに直交する3平面(x−z平面、x−y平面及びy−z平面)にそれぞれ沿うように組み合わせることで、3面コーナーリフレクタの副反射鏡5aが構成されている。副反射鏡5aは、白抜きの矢印で示す如く、入射したマイクロ波IIを平面鏡51a〜51cで各々1回ずつ(すなわち合計3回)反射して、最終的にマイクロ波IIの入射方向と同じ方向にマイクロ波IIIを反射するものである。
As shown in FIG. 8, three plane mirrors 51 a to 51 c each having a right triangle shape that reflects microwaves are respectively along three planes (xz plane, xy plane, and yz plane) orthogonal to each other. By combining them, the
副反射鏡5aは、主反射鏡3と対向して反応炉1の周囲に設けられている。副反射鏡5aは、反応炉1を介してマイクロ波放射源4と対峙する位置に配置されている。
The
このようにして構成されたマイクロ波加熱装置300は、以下のように実施の形態1のマイクロ波加熱装置100と同様に動作する。
すなわち、マイクロ波放射源4が放射したマイクロ波Iは、試料21に照射される。試料21で反射されたマイクロ波IIは、副反射鏡5aに入射する。副反射鏡5aでマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIは、試料21に再び照射される。
The
In other words, the
副反射鏡5aでマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIが、試料21に再び照射されることにより、マイクロ波IIIのエネルギーも試料21の加熱に用いることができる。また、マイクロ波放射源4に戻るマイクロ波の電力は十分に小さくなっているため、マイクロ波放射源4の故障を防ぐことができる。
By irradiating the
以上のように、この実施の形態3のマイクロ波加熱装置300は、3面コーナーリフレクタで構成した副反射鏡5aを有している。
この結果、試料21で吸収されずに反射されたマイクロ波IIを副反射鏡5aで反射して試料21に再び照射することで、マイクロ波放射源4の故障を防ぐとともに、マイクロ波のエネルギーを試料21の加熱に効率良く用いることができる。
As described above, the
As a result, the microwave II reflected without being absorbed by the
なお、副反射鏡5aは、任意の構成材料及び寸法の3面コーナーリフレクタを用いて構成したものとしてよい。
The
また、マイクロ波放射源4及び副反射鏡5aの配置は、図9に示す円周上の配置に限定されるものではない。図5又は図7に示す如く、正奇数角形上に配置したものとしてもよい。
Further, the arrangement of the
実施の形態4.
図11及び図12を参照して、マイクロ波放射源をいわゆる「アクティブフェーズドアレーアンテナ」で構成したマイクロ波加熱装置について説明する。なお、実施の形態1と同様の構成部材には同一符号を付して説明を省略する。
With reference to FIG.11 and FIG.12, the microwave heating apparatus which comprised the microwave radiation source by what is called an "active phased array antenna" is demonstrated. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structural member similar to
図中、41はアレーアンテナ部である。アレーアンテナ部41は、複数のアンテナ素子を配列してなるサブアレーを複数配列して構成されている。各々のサブアレーと図示しない給電部との間に、増幅器42と移相器43とが直列に接続されている。アレーアンテナ部41、増幅器42及び移相器43によって、アクティブフェーズドアレーアンテナのマイクロ波放射源4aが構成されている。
In the figure,
このようにして構成されたマイクロ波放射源4aは、増幅器42の増幅量を調整することで、対応するサブアレーが放射するマイクロ波の振幅が変化するものである。また、移相器43の移相量を調整することで、対応するサブアレーが放射するマイクロ波の位相が変化するものである。
The
マイクロ波放射源4aは、主反射鏡3と対向して反応炉1の周囲に設けられている。マイクロ波放射源4aは、反応炉1を介して対峙する位置からずらした位置に他のマイクロ波放射源4aを配置している。
The
このようにして構成されたマイクロ波加熱装置400は、以下のように実施の形態1のマイクロ波加熱装置100と同様に動作する。
すなわち、マイクロ波放射源4aが放射したマイクロ波Iは、試料21に照射される。試料21で反射されたマイクロ波IIは、副反射鏡5に入射する。副反射鏡5でマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIは、試料21に再び照射される。
The
That is, the microwave I emitted from the
副反射鏡5でマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIが、試料21に再び照射されることにより、マイクロ波IIIのエネルギーも試料21の加熱に用いることができる。また、マイクロ波放射源4aに戻るマイクロ波の電力は十分に小さくなっているため、マイクロ波放射源4aの故障を防ぐことができる。
By irradiating the
さらに、各々のサブアレーに対応した増幅器42の増幅量及び移相器43の移相量を調整することで、試料21に照射されるマイクロ波Iの照射分布を制御することができる。
Furthermore, by adjusting the amplification amount of the
以上のように、この実施の形態4のマイクロ波加熱装置400は、アクティブフェーズドアレーアンテナで構成したマイクロ波放射源4aを有している。
この結果、試料21で吸収されずに反射されたマイクロ波IIを副反射鏡5で反射して試料21に再び照射することで、マイクロ波放射源4aの故障を防ぐとともに、マイクロ波のエネルギーを試料21の加熱に効率良く用いることができる。
また、増幅器42の増幅量及び移相器43の移相量を調整することで、試料21に照射されるマイクロ波Iの照射分布をフレキシブルに制御することができる。
As described above, the
As a result, the microwave II reflected without being absorbed by the
Further, by adjusting the amplification amount of the
なお、増幅器42及び移相器43は、各々のサブアレーと給電部間に代えて、各々のアンテナ素子と給電部間に接続したものとしてもよい。
The
また、マイクロ波放射源4a及び副反射鏡5の配置は、図11に示す円周上の配置に限定されるものではない。図5又は図7に示す如く、正奇数角形上に配置したものとしてもよい。
Further, the arrangement of the
また、副反射鏡5は、図8に示す3面コーナーリフレクタを用いて構成したものとしてもよい。
Further, the
実施の形態5.
図13及び図14を参照して、反応炉の外部に加熱手段を設けたマイクロ波加熱装置について説明する。なお、実施の形態1と同様の構成部材には同一符号を付して説明を省略する。
With reference to FIG.13 and FIG.14, the microwave heating apparatus which provided the heating means outside the reaction furnace is demonstrated. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the structural member similar to
反応炉1の外部に、加熱手段7が設けられている。加熱手段7は、反応炉1に外部から熱を加えるものであり、例えば加熱装置又は燃焼装置で構成されている。
A heating means 7 is provided outside the
このようにして構成されたマイクロ波加熱装置500は、以下のように実施の形態1のマイクロ波加熱装置100と同様に動作する。
すなわち、マイクロ波放射源4が放射したマイクロ波Iは、試料21に照射される。試料21で反射されたマイクロ波IIは、副反射鏡5に入射する。副反射鏡5でマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIは、試料21に再び照射される。
The
In other words, the
副反射鏡5でマイクロ波IIの入射方向と同じ方向に反射されたマイクロ波IIIが、試料21に再び照射されることにより、マイクロ波IIIのエネルギーも試料21の加熱に用いることができる。また、マイクロ波放射源4に戻るマイクロ波の電力は十分に小さくなっているため、マイクロ波放射源4の故障を防ぐことができる。
By irradiating the
さらに、試料21にマイクロ波I及びマイクロ波IIIを照射することに加えて、加熱手段7によって反応炉1に外部から加熱することで、反応炉1の内部の温度を上昇させて、試料21の加熱反応の反応速度を速めることができる。
Furthermore, in addition to irradiating the
以上のように、この実施の形態5のマイクロ波加熱装置500は、反応炉1の外部に加熱手段7を設けている。
この結果、試料21で吸収されずに反射されたマイクロ波IIを副反射鏡5で反射して試料21に再び照射することで、マイクロ波放射源4の故障を防ぐとともに、マイクロ波のエネルギーを試料21の加熱に効率良く用いることができる。
さらに、加熱手段7によって反応炉1に外部から加熱することで、反応炉1の内部の温度を上昇させて、試料21を更に効率良く加熱することができる。
As described above, the
As a result, the microwave II reflected without being absorbed by the
Furthermore, by heating the
なお、加熱手段7は、反応炉1の内部の温度が十分に上昇するものであれば、任意の装置又は手段によって構成したものとしてよい。
The heating means 7 may be constituted by any device or means as long as the temperature inside the
また、マイクロ波放射源4及び副反射鏡5の配置は、図13に示す円周上の配置に限定されるものではない。図5又は図7に示す如く、正奇数角形上に配置したものとしてもよい。
Further, the arrangement of the
また、副反射鏡5は、図8に示す3面コーナーリフレクタを用いて構成したものとしてもよい。
Further, the
また、マイクロ波放射源4は、アクティブフェーズドアレーアンテナを用いて構成したものとしてもよい。
The
なお、本願発明はその発明の範囲内において、各実施の形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施の形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施の形態において任意の構成要素の省略が可能である。 In the present invention, within the scope of the invention, any combination of the embodiments, or any modification of any component in each embodiment, or omission of any component in each embodiment is possible. .
1 反応炉、2 試料台、3 主反射鏡、4,4a マイクロ波放射源、5,5a 副反射鏡、7 加熱手段、11 開口部、21 試料、22 載置面(試料載置面)、23 中央部、41 アレーアンテナ部、42 増幅器、43 移相器、51a,51b,51c 平面鏡、100,200,300,400,500 マイクロ波加熱装置。
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記試料載置面と対向配置された主反射鏡と、
前記主反射鏡と対向して前記反応炉の周囲に配置され、かつ前記試料載置面にマイクロ波を照射する複数のマイクロ波放射源とを具備し、
前記マイクロ波放射源は、前記反応炉を介して対峙する位置からずらした位置に他の前記マイクロ波放射源を配置してなる
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 A sample stage housed in a reaction furnace and having a sample mounting surface;
A main reflector disposed opposite to the sample mounting surface;
A plurality of microwave radiation sources that are disposed around the reactor facing the main reflector and irradiate the sample mounting surface with microwaves;
The microwave heating apparatus, wherein the microwave radiation source is formed by disposing another microwave radiation source at a position shifted from a position facing the reactor through the reaction furnace.
前記副反射鏡は、前記円周上の前記マイクロ波放射源間に配置してなる
ことを特徴とする請求項2記載のマイクロ波加熱装置。 The microwave radiation source is disposed on a circumference centered on the reactor,
The microwave heating device according to claim 2, wherein the sub-reflecting mirror is disposed between the microwave radiation sources on the circumference.
前記副反射鏡は、前記正奇数角形の前記頂点間の辺上に配置してなる
ことを特徴とする請求項2記載のマイクロ波加熱装置。 The microwave radiation source is arranged at the apex of positive and odd squares with the reactor as a central part,
The microwave heating device according to claim 2, wherein the sub-reflecting mirror is disposed on a side between the vertices of the regular odd-odd square.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014079525A JP2015201344A (en) | 2014-04-08 | 2014-04-08 | microwave heating device |
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