JP2015195140A - Method for manufacturing flexible organic el display device - Google Patents

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Tatsunori Sakano
竜則 坂野
健太郎 三浦
Kentaro Miura
健太郎 三浦
上田 知正
Tomomasa Ueda
知正 上田
信美 斉藤
Nobumi Saito
信美 斉藤
慎太郎 中野
Shintaro Nakano
慎太郎 中野
雄也 前田
Yuya Maeda
雄也 前田
山口 一
Hajime Yamaguchi
一 山口
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate the manufacture of a flexible organic EL display device, having an adopted top emission structure, capable of displaying a color image.SOLUTION: A method for manufacturing the flexible organic EL display device includes the steps of: irradiating a laminated structure 2 with a laser beam LB from the transparent substrate 21 side, to thereby cause interlayer exfoliation between a resin layer 23 and a metal layer 22 to separate a laminate 2a from a laminate 2b; oxidizing the metal layer 22 of the laminate 2a to obtain the laminate 2a having the oxidized metal layer 22 as a color filter substrate 2a; and positioning, on a transparent substrate, the laminate structure having the formed metal layer, a plastic substrate and an organic EL device with the color filter substrate 2a, in a state that the organic EL device and the oxidized metal layer 22 are disposed to face each other.

Description

本発明の実施形態は、フレキシブル有機EL表示装置の製造方法に関する。   Embodiments described herein relate generally to a method for manufacturing a flexible organic EL display device.

アクティブマトリクス駆動方式の有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置は、各々が薄膜トランジスタ(TFT)等の回路素子を含んだ画素回路がマトリクス状に配列したTFT基板上に有機EL素子などを設けた構造を有している。そのような表示装置に、発光層からの発光をTFT基板とは反対側から取り出す構造(トップエミッション構造)を採用すると、発光層からの発光がTFT基板の配線によって遮られることがない。従って、この構造を採用すると、高い開口率を達成することが可能である。   2. Description of the Related Art An active matrix driving type organic electroluminescence (EL) display device has a structure in which organic EL elements are provided on a TFT substrate in which pixel circuits each including circuit elements such as thin film transistors (TFTs) are arranged in a matrix. doing. When such a display device adopts a structure (top emission structure) in which light emitted from the light emitting layer is extracted from the side opposite to the TFT substrate, light emitted from the light emitting layer is not blocked by the wiring of the TFT substrate. Therefore, when this structure is employed, a high aperture ratio can be achieved.

近年、有機EL表示装置には、大面積化及び軽量化などの要求に加え、長期信頼性に優れ、形状の自由度が高いこと、例えば、曲面表示が可能なことが要求されている。そこで、フレキシブル有機EL表示装置、即ち、基材として、重くて割れやすく大面積化が困難なガラス基板に代えて、透明プラスチックなどからなるプラスチック基板を使用した有機EL表示装置が注目を集めている。   In recent years, organic EL display devices have been required to have long-term reliability and a high degree of freedom in shape, for example, curved display, in addition to demands for large area and light weight. Therefore, a flexible organic EL display device, that is, an organic EL display device using a plastic substrate made of a transparent plastic or the like instead of a glass substrate that is heavy, easily broken, and difficult to increase in area is attracting attention. .

そのような有機EL表示装置は、例えば、以下の方法により得られる。先ず、ガラス基板などの支持基板の上に、金属層及びプラスチック基板を順次形成する。次いで、プラスチック基板上に、回路及び有機EL素子などを形成する。その後、支持基板側から金属層へレーザビームを照射して、プラスチック基板を、回路及び有機EL素子などとともに、支持基板上の金属層から剥離する。   Such an organic EL display device is obtained by the following method, for example. First, a metal layer and a plastic substrate are sequentially formed on a support substrate such as a glass substrate. Next, a circuit, an organic EL element, and the like are formed on the plastic substrate. Thereafter, the metal layer is irradiated with a laser beam from the support substrate side, and the plastic substrate is peeled off from the metal layer on the support substrate together with the circuit and the organic EL element.

特開2011−48374号公報JP 2011-48374 A

本発明が解決しようとする課題は、トップエミッション構造を採用した、カラー画像を表示可能なフレキシブル有機EL表示装置の製造を容易にすることにある。   The problem to be solved by the present invention is to facilitate the manufacture of a flexible organic EL display device that employs a top emission structure and can display a color image.

実施形態によれば、第1透明基板、前記第1透明基板上に形成された第1金属層、前記第1金属層上に形成された第1プラスチック基板、及び前記第1プラスチック基板上に形成された有機EL素子を備え、少なくとも前記第1金属層を間に挟んで前記第1透明基板と向き合うように第1アライメントマークが設けられた第1積層構造を形成する工程と、第2透明基板、前記第2透明基板上に形成された樹脂層、前記樹脂層上に形成された第2金属層、前記第2金属層上に形成されたカラーフィルタ層、及び前記カラーフィルタ層上に形成された第2プラスチック基板を備え、少なくとも前記樹脂層を間に挟んで前記第2透明基板と向き合うように第2アライメントマークが設けられた第2積層構造を形成する工程と、前記第2積層構造に、前記第2透明基板側からレーザビームを照射することにより、前記樹脂層と前記第2金属層との間で層間剥離を生じさせて、前記第2金属層、前記カラーフィルタ層、及び前記第2プラスチック基板を備え、前記第2アライメントマークが設けられた第1積層体を得るとともに、この第1積層体を、前記第2透明基板及び前記樹脂層を供えた第2積層体から分離する工程と、前記第1積層体の前記第2金属層を酸化させて、前記第2金属層が酸化された前記第1積層体をカラーフィルタ基板として得る工程と、前記第1積層構造と前記カラーフィルタ基板とを、前記有機EL素子と酸化された前記第2金属層とが向き合うように配置した状態で、前記第1及び第2アライメントマークを利用して互いに対して位置合わせする工程と、位置合わせした前記第1積層構造と前記カラーフィルタ基板とを貼り合せる工程と、その後、前記第1積層構造に前記第1透明基板側からレーザビームを照射することにより、前記第1プラスチック基板と前記第1金属層との間で層間剥離を生じさせて、前記第1プラスチック基板、前記有機EL素子及び前記カラーフィルタ基板を備えた第3積層体を、前記第1透明基板及び前記第1金属層を備えた第4積層体から分離する工程とを含んだフレキシブル有機EL表示装置の製造方法が提供される。   According to the embodiment, the first transparent substrate, the first metal layer formed on the first transparent substrate, the first plastic substrate formed on the first metal layer, and formed on the first plastic substrate. Forming a first laminated structure provided with a first alignment mark so as to face the first transparent substrate with at least the first metal layer interposed therebetween, and a second transparent substrate A resin layer formed on the second transparent substrate; a second metal layer formed on the resin layer; a color filter layer formed on the second metal layer; and a color filter layer formed on the color filter layer. Forming a second laminated structure provided with a second alignment mark so as to face at least the second transparent substrate with at least the resin layer interposed therebetween; and , By irradiating a laser beam from the second transparent substrate side, delamination occurs between the resin layer and the second metal layer, and the second metal layer, the color filter layer, and the second Obtaining a first laminate including a plastic substrate and provided with the second alignment mark, and separating the first laminate from the second laminate provided with the second transparent substrate and the resin layer; Oxidizing the second metal layer of the first laminate to obtain the first laminate obtained by oxidizing the second metal layer as a color filter substrate; the first laminate structure and the color filter substrate; And aligning with respect to each other using the first and second alignment marks in a state where the organic EL element and the oxidized second metal layer face each other. Bonding the first laminated structure and the color filter substrate, and then irradiating the first laminated structure with a laser beam from the first transparent substrate side, thereby the first plastic substrate and the first Delamination occurs between the metal layer and the third laminate including the first plastic substrate, the organic EL element, and the color filter substrate, and the first transparent substrate and the first metal layer. And a method of manufacturing a flexible organic EL display device including a step of separating from the fourth laminate.

実施形態に係る第1積層構造の一例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically an example of the 1st laminated structure which concerns on embodiment. 実施形態に係る第2積層構造の一例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically an example of the 2nd laminated structure which concerns on embodiment. 図2の第2積層構造において生じさせる層間剥離の一例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows roughly an example of the delamination produced in the 2nd laminated structure of FIG. 実施形態に係るカラーフィルタ基板の一例を概略的に示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a color filter substrate according to the embodiment. 図1の第1積層構造と図4のカラーフィルタ基板とを貼り合せることによって得られる第3積層構造の一例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows roughly an example of the 3rd laminated structure obtained by bonding the 1st laminated structure of FIG. 1 and the color filter substrate of FIG. 図5の第3積層構造において生じさせる層間剥離の一例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows roughly an example of the delamination produced in the 3rd laminated structure of FIG.

以下、実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には全ての図面を通じて同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the same referential mark is attached | subjected to the component which exhibits the same or similar function through all drawings, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

ここで説明する方法によって製造する有機EL表示装置は、トップエミッション構造及びアクティブマトリクス駆動方式を採用した、カラー画像を表示可能なフレキシブル有機EL表示装置である。この方法では、先ず、図1に示す第1積層構造1と、図2に示す第2積層構造2とを準備する。   The organic EL display device manufactured by the method described here is a flexible organic EL display device that can display a color image and employs a top emission structure and an active matrix driving method. In this method, first, a first laminated structure 1 shown in FIG. 1 and a second laminated structure 2 shown in FIG. 2 are prepared.

第1積層構造1は、図1に示すように、第1透明基板11、第1金属層12、第1プラスチック基板13、回路層14、発光素子層15、及び第1アライメントマーク17を含んでいる。   As shown in FIG. 1, the first laminated structure 1 includes a first transparent substrate 11, a first metal layer 12, a first plastic substrate 13, a circuit layer 14, a light emitting element layer 15, and a first alignment mark 17. Yes.

第1透明基板11は、フレキシブル有機EL表示装置の製造過程において、最終製品が含む層の一部又は全部を支持する役割を果たす。第1透明基板11は、最終製品であるフレキシブル有機EL表示装置には含まれない。   The first transparent substrate 11 plays a role of supporting part or all of the layers included in the final product in the manufacturing process of the flexible organic EL display device. The first transparent substrate 11 is not included in the flexible organic EL display device that is the final product.

第1透明基板11は、第1プラスチック基板13と比較して硬質である。第1透明基板11は、例えば、ガラス基板であるか、又は、第1プラスチック基板13と比較して硬質なプラスチック基板である。   The first transparent substrate 11 is harder than the first plastic substrate 13. The first transparent substrate 11 is, for example, a glass substrate or a plastic substrate that is harder than the first plastic substrate 13.

第1金属層12は、第1透明基板11上に形成されている。第1金属層12は、第1透明基板11や第1プラスチック基板と比較して、後述するレーザビームに対して高い吸収率を示す。   The first metal layer 12 is formed on the first transparent substrate 11. The first metal layer 12 exhibits a higher absorptance with respect to a laser beam to be described later than the first transparent substrate 11 and the first plastic substrate.

第1金属層12は、例えば、単体金属又は合金からなる。第1金属層12の材料としては、例えば、アルミニウム、ガリウム、インジウム、チタン、モリブデン、タングステン、亜鉛、又はそれらの組み合わせを使用することができる。   The first metal layer 12 is made of, for example, a single metal or an alloy. As a material of the first metal layer 12, for example, aluminum, gallium, indium, titanium, molybdenum, tungsten, zinc, or a combination thereof can be used.

第1金属層12の厚さは、例えば、10nm乃至300nmの範囲内とする。第1金属層12が薄いと、レーザビームを第1金属層12に高い効率で吸収させることが難しくなる。また、第1金属層12が薄すぎると、レーザビームが第1金属層12を透過して、デバイス側へレーザビームが入射し、素子がダメージを受ける可能性がある。   The thickness of the first metal layer 12 is, for example, in the range of 10 nm to 300 nm. When the first metal layer 12 is thin, it becomes difficult to cause the first metal layer 12 to absorb the laser beam with high efficiency. On the other hand, if the first metal layer 12 is too thin, the laser beam may pass through the first metal layer 12, and the laser beam may enter the device side, possibly causing damage to the element.

第1プラスチック基板13は、第1金属層12上に形成されている。第1プラスチック基板13は、最終製品であるフレキシブル有機EL表示装置において、フレキシブル基板としての役割を果たす。   The first plastic substrate 13 is formed on the first metal layer 12. The first plastic substrate 13 serves as a flexible substrate in the flexible organic EL display device that is the final product.

第1プラスチック基板13は、耐熱性高分子などのプラスチックからなる。このプラスチックとしては、例えば、ポリイミド、アラミド、シクロオレフィン、ポリアミドイミド、ポリカーボネイト、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)、液晶ポリマー、ポリエーテルスルホン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂を使用することができる。   The first plastic substrate 13 is made of a plastic such as a heat resistant polymer. As this plastic, for example, polyimide, aramid, cycloolefin, polyamideimide, polycarbonate, PMMA (polymethyl methacrylate), liquid crystal polymer, polyethersulfone, acrylic resin, and epoxy resin can be used.

第1プラスチック基板13の厚さは、例えば、0.5μm乃至100μmの範囲内とする。第1プラスチック基板13が薄いと、有機EL表示装置の強度が不十分になることがある。第1プラスチック基板13が厚いと、有機EL表示装置のフレキシビリティが不十分になることがある。   The thickness of the first plastic substrate 13 is, for example, in the range of 0.5 μm to 100 μm. If the first plastic substrate 13 is thin, the strength of the organic EL display device may be insufficient. If the first plastic substrate 13 is thick, the flexibility of the organic EL display device may be insufficient.

第1プラスチック基板13の表面は、例えば、酸化珪素や窒化珪素などの無機化合物からなるバリア層で被覆してもよい。バリア層は、第1プラスチック基板13から回路層14への物質移動を妨げる。また、バリア層上には、平坦化膜としての樹脂層を設けてもよい。   The surface of the first plastic substrate 13 may be covered with a barrier layer made of an inorganic compound such as silicon oxide or silicon nitride, for example. The barrier layer prevents mass transfer from the first plastic substrate 13 to the circuit layer 14. Further, a resin layer as a planarizing film may be provided on the barrier layer.

回路層14は、第1プラスチック基板13上に形成されている。回路層14は、図示しない有機EL素子への電力の供給を制御する。回路層14は、電源線、走査信号線及び映像信号線などの各種配線と、それら配線を互いから電気的に絶縁する層間絶縁膜と、回路素子、例えば、駆動素子又はスイッチ素子として使用する薄膜トランジスタ及びキャパシタとを含んでいる。なお、回路層14を形成するのに先立って、平坦化膜、バリア層及び第1プラスチック基板13にコンタクトホールを設けておくと、これらコンタクトホールを介して、上記の配線と外部回路とを電気的に接続することができる。   The circuit layer 14 is formed on the first plastic substrate 13. The circuit layer 14 controls the supply of power to an organic EL element (not shown). The circuit layer 14 includes various wirings such as a power supply line, a scanning signal line, and a video signal line, an interlayer insulating film that electrically insulates these wirings from each other, and a thin film transistor used as a circuit element, for example, a driving element or a switching element. And a capacitor. Prior to the formation of the circuit layer 14, if contact holes are provided in the planarization film, the barrier layer, and the first plastic substrate 13, the wiring and the external circuit are electrically connected via the contact holes. Can be connected.

発光素子層15は、回路層14上に形成されている。発光素子層15は、第1電極、隔壁、有機物層、第2電極及び封止層を含んでいる。第1電極、有機物層及び第2電極は、有機EL素子、例えば、白色に発光する有機EL素子を構成している。   The light emitting element layer 15 is formed on the circuit layer 14. The light emitting element layer 15 includes a first electrode, a partition, an organic layer, a second electrode, and a sealing layer. The first electrode, the organic material layer, and the second electrode constitute an organic EL element, for example, an organic EL element that emits white light.

第1電極は、回路層14上に形成されている。第1電極は、画素に対応して配列している。これら第1電極は、互いから電気的に絶縁されている。各第1電極は、1つ以上の薄膜トランジスタを介して電源線に電気的に接続されている。第1電極は、例えば陽極である。   The first electrode is formed on the circuit layer 14. The first electrodes are arranged corresponding to the pixels. These first electrodes are electrically insulated from each other. Each first electrode is electrically connected to a power supply line via one or more thin film transistors. The first electrode is, for example, an anode.

第1電極は、例えば、金属層を含んだ反射層である。第1電極は、透明導電層であってもよい。この場合、典型的には、第1電極と第1プラスチック基板13との間に反射層を設置する。   The first electrode is, for example, a reflective layer including a metal layer. The first electrode may be a transparent conductive layer. In this case, typically, a reflective layer is provided between the first electrode and the first plastic substrate 13.

隔壁は、回路層14上に形成された絶縁層である。隔壁は、第1電極の位置で開口している。   The partition wall is an insulating layer formed on the circuit layer 14. The partition wall is opened at the position of the first electrode.

有機物層は、発光層を含んでいる。有機物層は、発光層以外の層、例えば、正孔輸送層及び電子輸送層などの電化輸送層、正孔注入層及び電子注入層などの電荷注入層、並びに、正孔ブロック層及び電子ブロック層などの電荷ブロック層を更に含むことができる。   The organic layer includes a light emitting layer. The organic layer is a layer other than the light emitting layer, for example, a charge transport layer such as a hole transport layer and an electron transport layer, a charge injection layer such as a hole injection layer and an electron injection layer, and a hole block layer and an electron block layer. And a charge blocking layer.

第2電極は、第1電極及び隔壁上に形成されている。第2電極は、典型的には、連続膜であって、共通電極としての役割を果たす。   The second electrode is formed on the first electrode and the partition wall. The second electrode is typically a continuous film and serves as a common electrode.

第2電極は、例えば陰極である。第2電極は、可視光透過性を有している。有機物層において生じさせた光は、第2電極に透過させて、表示に利用する。   The second electrode is, for example, a cathode. The second electrode has visible light permeability. The light generated in the organic layer is transmitted through the second electrode and used for display.

封止層は、第2電極上に形成されている。封止層は、有機EL素子への水分等の進入を防止する役割を担っている。封止層の材料としては、例えば、窒化珪素、酸化珪素又はパリレンを使用することができる。   The sealing layer is formed on the second electrode. The sealing layer plays a role of preventing moisture and the like from entering the organic EL element. As a material for the sealing layer, for example, silicon nitride, silicon oxide, or parylene can be used.

第1アライメントマーク17は、第1プラスチック基板13を間に挟んで第1金属層12と向き合っている。ここでは、第1アライメントマーク17は、第1プラスチック基板13と発光素子層15との間に設けられている。この場合、第1アライメントマーク17は、例えば、回路層14が含んでいる配線と同じ材料で構成すれば、配線を形成する工程において、配線の形成と同時に形成することができる。この場合、第1アライメントマーク17の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、モリブデン、タンタル、チタン、タングステン、又はそれらの組み合わせを使用することができる。   The first alignment mark 17 faces the first metal layer 12 with the first plastic substrate 13 interposed therebetween. Here, the first alignment mark 17 is provided between the first plastic substrate 13 and the light emitting element layer 15. In this case, if the first alignment mark 17 is made of, for example, the same material as the wiring included in the circuit layer 14, it can be formed simultaneously with the formation of the wiring in the process of forming the wiring. In this case, as a material of the first alignment mark 17, for example, aluminum, copper, molybdenum, tantalum, titanium, tungsten, or a combination thereof can be used.

封止層上には、樹脂フィルム上にバリア膜を設けてなるバリアフィルムを、接着剤を介して貼り付けてもよい。バリアフィルムを使用すると、封止能が向上するのに加え、剥離の際に有機EL素子などがダメージを受けるのを抑制することができる。   On the sealing layer, a barrier film in which a barrier film is provided on a resin film may be attached via an adhesive. When the barrier film is used, in addition to improving the sealing ability, it is possible to suppress the organic EL element from being damaged during peeling.

第2積層構造2は、図2に示すように、第2透明基板21と、樹脂層23と、第2金属層22と、カラーフィルタ層24と、第2アライメントマーク27とを含んでいる。   As shown in FIG. 2, the second laminated structure 2 includes a second transparent substrate 21, a resin layer 23, a second metal layer 22, a color filter layer 24, and a second alignment mark 27.

第2透明基板21は、後述する第2プラスチック基板26と比較して硬質である。第2透明基板21は、例えば、ガラス基板であるか、又は、第2プラスチック基板26と比較して硬質なプラスチック基板である。   The second transparent substrate 21 is harder than a second plastic substrate 26 described later. The second transparent substrate 21 is, for example, a glass substrate or a hard plastic substrate compared to the second plastic substrate 26.

樹脂層23は、第2透明基板21上に形成されている。樹脂層23は、後述する層間剥離を促進する役割を担っている。樹脂層23の材料としては、例えば、第1プラスチック基板13について上述したのと同様の材料を使用することができる。   The resin layer 23 is formed on the second transparent substrate 21. The resin layer 23 plays a role of promoting delamination described later. As the material of the resin layer 23, for example, the same material as described above for the first plastic substrate 13 can be used.

第2金属層22は、樹脂層23上に形成されている。第2金属層22は、第2透明基板21や樹脂層23と比較して、後述するレーザビームに対して高い吸収率を示す。   The second metal layer 22 is formed on the resin layer 23. The second metal layer 22 exhibits higher absorptance with respect to a laser beam to be described later, compared to the second transparent substrate 21 and the resin layer 23.

第2金属層22は、金属を含んでおり、酸化することにより、可視光に対する透過率が高まる。典型的には、第2金属層22は、酸化することにより無色になる。   The second metal layer 22 contains a metal and, when oxidized, increases the transmittance for visible light. Typically, the second metal layer 22 becomes colorless by oxidation.

第2金属層22は、例えば、単体金属又は合金からなる。第2金属層22の材料としては、例えば、チタン、アルミニウム、ガリウム、インジウム、チタン、モリブデン、タングステン、亜鉛、又はそれらの組み合わせを使用することができる。   The second metal layer 22 is made of, for example, a single metal or an alloy. As a material of the second metal layer 22, for example, titanium, aluminum, gallium, indium, titanium, molybdenum, tungsten, zinc, or a combination thereof can be used.

第2金属層22の厚さは、例えば、10nm乃至300nmの範囲内とする。第2金属層22が薄いと、レーザビームを第2金属層22に高い効率で吸収させることが難しくなる。第2金属層22が厚いと、その全体を酸化することが難しくなる。   The thickness of the second metal layer 22 is, for example, in the range of 10 nm to 300 nm. When the second metal layer 22 is thin, it is difficult to cause the second metal layer 22 to absorb the laser beam with high efficiency. When the second metal layer 22 is thick, it becomes difficult to oxidize the whole.

カラーフィルタ層24は、第2金属層22上に形成されている。カラーフィルタ層24は、例えば、青色着色層、緑色着色層、赤色着色層、及びブラックマトリクスを含んでいる。   The color filter layer 24 is formed on the second metal layer 22. The color filter layer 24 includes, for example, a blue colored layer, a green colored layer, a red colored layer, and a black matrix.

第2アライメントマーク27は、第2金属層22と向き合っている。ここでは、第2アライメントマーク27は、第2金属層22とカラーフィルタ層24との間に設けられている。この場合、第2アライメントマーク27は、例えば、カラーフィルタ層24が含んでいるブラックマトリクスと同じ材料で構成すれば、カラーフィルタ層24を形成する工程において、ブラックマトリクスの形成と同時に形成することができる。   The second alignment mark 27 faces the second metal layer 22. Here, the second alignment mark 27 is provided between the second metal layer 22 and the color filter layer 24. In this case, for example, if the second alignment mark 27 is made of the same material as the black matrix included in the color filter layer 24, the second alignment mark 27 can be formed simultaneously with the formation of the black matrix in the step of forming the color filter layer 24. it can.

第2積層構造2は、図3に示す第2プラスチック基板26(図2では省略)を更に含んでいる。第2プラスチック基板26は、カラーフィルタ層24上に形成されている。第2プラスチック基板26は、最終製品であるフレキシブル有機EL表示装置において、フレキシブル基板としての役割を果たす。   The second laminated structure 2 further includes a second plastic substrate 26 (not shown in FIG. 2) shown in FIG. The second plastic substrate 26 is formed on the color filter layer 24. The second plastic substrate 26 serves as a flexible substrate in the flexible organic EL display device that is the final product.

第2プラスチック基板26は、耐熱性高分子などのプラスチックからなる。このプラスチックとしては、例えば、アラミド、シクロオレフィン、ポリアミドイミド、ポリカーボネイト、PMMA(ポリメタクリル酸メチル)、ポリエーテルスルホン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂を使用することができる。なお、有機EL素子が放出した光が観察者に到達するまでの光路にポリイミド層が存在している場合、ポリイミド層に起因した着色やリタデーションの問題を生じることがある。上述した材料を使用した場合には、これらの問題を生じることはない。   The second plastic substrate 26 is made of a plastic such as a heat resistant polymer. As this plastic, for example, aramid, cycloolefin, polyamideimide, polycarbonate, PMMA (polymethyl methacrylate), polyethersulfone, acrylic resin, and epoxy resin can be used. In addition, when the polyimide layer exists in the optical path until the light emitted from the organic EL element reaches the observer, there may be a problem of coloring or retardation due to the polyimide layer. When the above-described materials are used, these problems do not occur.

第2プラスチック基板の厚さは、例えば、第1プラスチック基板13について上述したのと同様の範囲内とする。第2プラスチック基板が薄いと、有機EL表示装置の強度が不十分になることがある。第2プラスチック基板が厚いと、有機EL表示装置のフレキシビリティが不十分になることがある。   The thickness of the second plastic substrate is, for example, in the same range as described above for the first plastic substrate 13. If the second plastic substrate is thin, the strength of the organic EL display device may be insufficient. If the second plastic substrate is thick, the flexibility of the organic EL display device may be insufficient.

この第2積層構造2には、レーザビームを照射して、第2金属層22と樹脂層23との間で層間剥離を生じさせる。具体的には、図3に示すように、第2積層構造2に、第2透明基板21側からレーザビームLBを照射して、樹脂層23と第2金属層22との間で層間剥離を生じさせる。具体的には、レーザビームLBを、第2金属層22の位置に収束させ(ビームウエストを第2金属層22に位置させ)たまま、第2金属層22の全面に亘って走査させる。これにより、第2積層構造2を、第2金属層22、カラーフィルタ層24、第2プラスチック基板26及びアライメントマーク27を含んだ積層体2aと、第2透明基板21及び樹脂層23を含んだ積層体2bとに分離する。   The second laminated structure 2 is irradiated with a laser beam to cause delamination between the second metal layer 22 and the resin layer 23. Specifically, as shown in FIG. 3, the second laminated structure 2 is irradiated with a laser beam LB from the second transparent substrate 21 side, and delamination is performed between the resin layer 23 and the second metal layer 22. Cause it to occur. Specifically, the laser beam LB is scanned over the entire surface of the second metal layer 22 while converging on the position of the second metal layer 22 (the beam waist is positioned on the second metal layer 22). Accordingly, the second laminated structure 2 includes the laminated body 2a including the second metal layer 22, the color filter layer 24, the second plastic substrate 26, and the alignment mark 27, and the second transparent substrate 21 and the resin layer 23. It isolate | separates into the laminated body 2b.

ここで、レーザビームの照射によって上記の層間剥離が生じる理由を説明する。なお、ここでは、一例として、第2透明基板21はガラスからなり、樹脂層23はポリイミド樹脂からなるとする。   Here, the reason why the above delamination occurs due to laser beam irradiation will be described. Here, as an example, the second transparent substrate 21 is made of glass, and the resin layer 23 is made of polyimide resin.

ポリイミド樹脂は、ポリアミドイミド、ポリベンズイミダゾール、ポリイミドエステル、ポリエーテルイミド、ポリシロキサンイミド等に代表されるように、その構造中にイミド基を有する耐熱性高分子である。ポリイミド樹脂は、ジアミンと酸無水物とを溶媒の存在下で反応させて、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミド酸の樹脂溶液を得た後、ポリアミド酸をイミド化することによって得ることができる。   The polyimide resin is a heat-resistant polymer having an imide group in its structure, as represented by polyamideimide, polybenzimidazole, polyimide ester, polyetherimide, polysiloxaneimide and the like. The polyimide resin can be obtained by reacting diamine and acid anhydride in the presence of a solvent to obtain a polyamic acid resin solution that is a precursor of the polyimide resin, and then imidizing the polyamic acid.

このポリアミド酸溶液が含んでいる溶媒や水に関する透明基板21及び第2金属層22の透湿度は、樹脂層23と透明基板21及び第2金属層22との密着性に、換言すれば、剥離性に影響を及ぼす。即ち、ポリアミド酸溶液が含んでいる有機溶剤やポリアミド酸のイミド化に伴って生じる水の一部は、樹脂層23中に残留する。樹脂層に隣接した層の透湿性が低い場合、樹脂層23中に残留している有機溶剤や水が、隣接層との界面近傍に集中し、樹脂層と隣接層との密着性を低下させる。   The moisture permeability of the transparent substrate 21 and the second metal layer 22 with respect to the solvent and water contained in the polyamic acid solution is the adhesion between the resin layer 23 and the transparent substrate 21 and the second metal layer 22, in other words, peeling. Affects sex. That is, a part of the water generated by imidization of the organic solvent or polyamic acid contained in the polyamic acid solution remains in the resin layer 23. When the moisture permeability of the layer adjacent to the resin layer is low, the organic solvent or water remaining in the resin layer 23 concentrates in the vicinity of the interface with the adjacent layer, thereby reducing the adhesion between the resin layer and the adjacent layer. .

第2透明基板21及び第2金属層22は、透湿性が低い。そのため、第2積層構造2において、樹脂層23と透明基板21との密着性及び樹脂層23と第2金属層22との密着性は、何れも低い。   The second transparent substrate 21 and the second metal layer 22 have low moisture permeability. Therefore, in the second laminated structure 2, the adhesion between the resin layer 23 and the transparent substrate 21 and the adhesion between the resin layer 23 and the second metal layer 22 are both low.

但し、第2金属層22は、第2透明基板21や樹脂層や23と比較してレーザビームLBを高い効率で吸収する。また、ここでは、レーザビームLBを、第2金属層22の位置に収束させる(ビームウエストを第2金属層22に位置させる)。それ故、樹脂層23と第2金属層22との界面は、樹脂層23と透明基板21との界面と比較して高い温度に加熱され、樹脂層23が含んでいる有機溶剤や水は、樹脂層23と第2金属層22との界面近傍において主に気化する。その結果、層間剥離は、第2透明基板21と樹脂層23との間では生じずに、樹脂層23と第2金属層22との間で生じる。   However, the second metal layer 22 absorbs the laser beam LB with higher efficiency than the second transparent substrate 21, the resin layer, and 23. Further, here, the laser beam LB is converged to the position of the second metal layer 22 (the beam waist is positioned on the second metal layer 22). Therefore, the interface between the resin layer 23 and the second metal layer 22 is heated to a higher temperature than the interface between the resin layer 23 and the transparent substrate 21, and the organic solvent and water contained in the resin layer 23 are Vaporization occurs mainly in the vicinity of the interface between the resin layer 23 and the second metal layer 22. As a result, delamination does not occur between the second transparent substrate 21 and the resin layer 23 but occurs between the resin layer 23 and the second metal layer 22.

なお、レーザビームLBとして、収束ビームの代わりに、平行ビームを使用してもよい。但し、収束ビームを利用したほうが、第2透明基板21と樹脂層23との間で層間剥離が生じるのをより確実に防止できる。また、収束ビームを利用すると、小さな領域のみを加熱することができるため、カラーフィルタ層等へダメージが少ない。   As the laser beam LB, a parallel beam may be used instead of the convergent beam. However, using the convergent beam can more reliably prevent delamination between the second transparent substrate 21 and the resin layer 23. In addition, when a convergent beam is used, only a small area can be heated, so that there is little damage to the color filter layer and the like.

以上のようにして積層体2aを積層体2bから分離した後、積層体2aの第2金属層22を酸化させて、図4に示す金属酸化物層22’とする。第2金属層22の酸化は、例えば、光により加熱する方法(レーザアニール、赤外線による加熱、フラッシュランプアニール)、加熱により酸化する方法(オーブンによるアニール、炉によるアニール)、電流によって加熱する方法(ジュール熱を利用)より行う。   After separating the stacked body 2a from the stacked body 2b as described above, the second metal layer 22 of the stacked body 2a is oxidized to form a metal oxide layer 22 'shown in FIG. The second metal layer 22 is oxidized by, for example, a method of heating by light (laser annealing, heating by infrared rays, flash lamp annealing), a method of oxidizing by heating (annealing by oven, annealing by furnace), or a method of heating by current ( Using Joule heat).

金属酸化物層22’は、第2金属層22と比較して、可視光に対して高い透過率を示す。従って、積層体2aは、カラーフィルタ基板として利用可能になる。なお、金属酸化物層22’は、カラーフィルタ層24を保護する保護層や、層間での物質移動を抑制するバリア層としての役割を果たす。   The metal oxide layer 22 ′ has a higher transmittance for visible light than the second metal layer 22. Therefore, the laminate 2a can be used as a color filter substrate. The metal oxide layer 22 ′ serves as a protective layer for protecting the color filter layer 24 and a barrier layer for suppressing mass transfer between the layers.

次いで、図1に示す第1積層構造1と、図4に示すカラーフィルタ基板2aとを、有機EL素子がカラーフィルタ基板2aと向き合うように配置する。例えば、第1積層構造1とカラーフィルタ基板2aとを、有機EL素子が金属酸化物層22’と向き合うように配置する。   Next, the first laminated structure 1 shown in FIG. 1 and the color filter substrate 2a shown in FIG. 4 are arranged so that the organic EL element faces the color filter substrate 2a. For example, the first laminated structure 1 and the color filter substrate 2a are arranged so that the organic EL element faces the metal oxide layer 22 '.

続いて、この状態で、第1アライメントマーク17及び第2アライメントマーク27を利用して互いに対して位置合わせする。具体的には、カラーフィルタ基板2aとカラーフィルタ基板2aとを向き合うように配置した状態で、それらをカラーフィルタ基板2a側から照明し、カラーフィルタ基板2a側から撮像する。カラーフィルタ基板2aは、透過率が低い第2金属層22を含んでいないので、上記の照明及び撮像を妨げない。従って、高い精度での位置合わせが可能である。   Subsequently, in this state, the first alignment mark 17 and the second alignment mark 27 are used to align each other. Specifically, in a state where the color filter substrate 2a and the color filter substrate 2a are arranged so as to face each other, they are illuminated from the color filter substrate 2a side and imaged from the color filter substrate 2a side. Since the color filter substrate 2a does not include the second metal layer 22 having a low transmittance, the illumination and imaging are not hindered. Therefore, alignment with high accuracy is possible.

その後、図5に示すように、位置合わせした第1積層構造1とカラーフィルタ基板2aとを貼り合せる。これにより、第3積層構造3を得る。   Thereafter, as shown in FIG. 5, the aligned first laminated structure 1 and the color filter substrate 2a are bonded together. Thereby, the third laminated structure 3 is obtained.

この貼り合わせには、例えば、接着剤を利用する。この場合、第1積層構造1及びカラーフィルタ基板2aの少なくとも一方の対向面に、接着剤層を予め設けておく。ここでは、一例として、接着剤として、粘着性を有している光硬化性又は熱硬化性樹脂を使用することとする。また、光硬化性又は熱硬化性樹脂の硬化は、後述する層間剥離を終えた後に行うこととする。   For this bonding, for example, an adhesive is used. In this case, an adhesive layer is provided in advance on at least one facing surface of the first laminated structure 1 and the color filter substrate 2a. Here, as an example, a photocurable or thermosetting resin having tackiness is used as the adhesive. Further, the curing of the photocurable or thermosetting resin is performed after the delamination described later is finished.

次いで、図6に示すように、第1積層構造LBに第1透明基板11側からレーザビームLBを照射して、第1プラスチック基板13と第1金属層12との間で層間剥離を生じさせる。具体的には、レーザビームLBを、第1金属層12の全面に亘って走査させる。ここで使用するレーザビームLBは、収束ビームであってもよく、平行ビームであってもよい。レーザビームLBとして収束ビームを使用する場合は、レーザビームLBは、第1金属層12の位置に収束させる(ビームウエストを第1金属層12に位置させる)。   Next, as shown in FIG. 6, the first laminated structure LB is irradiated with the laser beam LB from the first transparent substrate 11 side to cause delamination between the first plastic substrate 13 and the first metal layer 12. . Specifically, the laser beam LB is scanned over the entire surface of the first metal layer 12. The laser beam LB used here may be a convergent beam or a parallel beam. When a convergent beam is used as the laser beam LB, the laser beam LB is converged at the position of the first metal layer 12 (the beam waist is positioned at the first metal layer 12).

これにより、第3積層構造3を、第1プラスチック基板13、回路層14、発光素子層15、金属酸化物層22’(図6では省略)、カラーフィルタ層24、第2プラスチック基板26、第1アライメントマーク17及び第2アライメントマーク27を含んだ積層体3aと、第1透明基板11及び第1金属層12を含んだ積層体3bとに分離する。   As a result, the third laminated structure 3 is divided into the first plastic substrate 13, the circuit layer 14, the light emitting element layer 15, the metal oxide layer 22 ′ (not shown in FIG. 6), the color filter layer 24, the second plastic substrate 26, the first The laminate 3a including the first alignment mark 17 and the second alignment mark 27 and the laminate 3b including the first transparent substrate 11 and the first metal layer 12 are separated.

次いで、光硬化性又は熱硬化性樹脂を硬化させる。光硬化性又は熱硬化性樹脂を硬化してなる接着剤層は、高いバリア性を示す。   Next, the photocurable or thermosetting resin is cured. An adhesive layer formed by curing a photocurable or thermosetting resin exhibits high barrier properties.

なお、光硬化性又は熱硬化性樹脂の硬化をこの段階で行うのは、層間剥離を生じさせる際に、有機EL素子へ応力が集中するのを避けるためである。有機EL素子は、層間の密着性が低く、応力が集中するとその膜剥がれが発生する。膜剥がれを生じた有機EL素子は、発光しないため、滅点となる。光硬化性又は熱硬化性樹脂の硬化をこの段階で行えば、滅点が生じる可能性を低く抑えることができる。   The reason for curing the photocurable or thermosetting resin at this stage is to avoid stress concentration on the organic EL element when delamination occurs. The organic EL element has low adhesion between layers, and when the stress is concentrated, the film peels off. The organic EL element in which film peeling has occurred does not emit light and thus becomes a dark spot. If the photo-curing or thermosetting resin is cured at this stage, the possibility of a dark spot occurring can be kept low.

その後、必要に応じて、第1プラスチック基板13に樹脂フィルムを貼り付ける。これにより、この樹脂フィルムとバリアフィルムとで有機EL素子等を挟み、曲げに強い構造とする。以上のようにして、フレキシブル有機EL表示装置を得る。   Then, a resin film is affixed on the 1st plastic substrate 13 as needed. Thereby, an organic EL element etc. are pinched | interposed with this resin film and a barrier film, and it is set as a structure strong against a bending. As described above, the flexible organic EL display device is obtained.

第1積層構造1に照射するレーザビームLB及び第2積層構造2に照射するレーザビームLBとしては、例えば、赤外レーザビーム、XeClエキシマレーザビーム、又はYAG:THGレーザビームを使用することができる。これらの中でも、赤外レーザビームを使用することが好ましい。   For example, an infrared laser beam, a XeCl excimer laser beam, or a YAG: THG laser beam can be used as the laser beam LB irradiated on the first stacked structure 1 and the laser beam LB irradiated on the second stacked structure 2. . Among these, it is preferable to use an infrared laser beam.

XeClエキシマレーザビームの中心波長は308nmであり、YAG:THGレーザビームの中心波長は355nmである。即ち、これらレーザビームの中心波長は、ポリイミドが高い吸収率を示す波長域にある。しかしながら、XeClエキシマレーザやYAG:THGレーザは、装置コスト及びランニングコストが高い。また、第2積層構造2に照射するレーザビームLBは、樹脂層23による吸収が少ないことが望ましい。   The center wavelength of the XeCl excimer laser beam is 308 nm, and the center wavelength of the YAG: THG laser beam is 355 nm. That is, the center wavelength of these laser beams is in a wavelength region where polyimide exhibits a high absorption rate. However, the XeCl excimer laser and the YAG: THG laser have high apparatus cost and running cost. Further, it is desirable that the laser beam LB with which the second laminated structure 2 is irradiated is less absorbed by the resin layer 23.

赤外レーザ、例えば赤外ファイバレーザは、XeClエキシマレーザやYAG:THGレーザと比較して、装置コスト及びランニングコストが低い。また、赤外レーザビームは、ポリイミドによる吸収が少ない。   Infrared lasers, for example, infrared fiber lasers, have lower apparatus costs and running costs than XeCl excimer lasers and YAG: THG lasers. An infrared laser beam is less absorbed by polyimide.

以上の説明から明らかなように、実施形態に係る方法では、第1金属層12及び第2金属層22を使用することにより、比較的低いエネルギーで層間剥離を生じさせることができる。また、層間剥離を生じさせるために設ける樹脂層23は、最終製品には含まれないため、これが表示に悪影響を及ぼすことはない。そして、第2金属層22は、酸化させることによって、可視光透過率がより高い金属酸化物層22’とするため、第2金属層22の利用に伴って、第1積層構造1とカラーフィルタ基板2aとの位置合わせが困難になることはなく、また、表示が悪影響を受けることもない。従って、この方法によると、トップエミッション構造を採用した、カラー画像を表示可能なフレキシブル有機EL表示装置の製造が容易になる。   As is clear from the above description, in the method according to the embodiment, delamination can be generated with relatively low energy by using the first metal layer 12 and the second metal layer 22. In addition, since the resin layer 23 provided for causing delamination is not included in the final product, this does not adversely affect the display. The second metal layer 22 is oxidized to form a metal oxide layer 22 ′ having a higher visible light transmittance. Accordingly, the first stacked structure 1 and the color filter are used with the use of the second metal layer 22. Positioning with the substrate 2a does not become difficult, and the display is not adversely affected. Therefore, according to this method, it becomes easy to manufacture a flexible organic EL display device that employs a top emission structure and can display a color image.

なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

1…第1積層構造1、2…第2積層構造、2a…積層体、2b…積層体、3…第3積層構造、3a…積層体、3b…積層体、11…第1透明基板、12…第1金属層、13…第1プラスチック基板、14…回路層、15…発光素子層、17…第1アライメントマーク、21…第2透明基板、22…第2金属層、22’…金属酸化物層、23…樹脂層、24…カラーフィルタ層、26…第2プラスチック基板、27…第2アライメントマーク、LB…レーザビーム。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... 1st laminated structure 1, 2 ... 2nd laminated structure, 2a ... laminated body, 2b ... laminated body, 3 ... 3rd laminated structure, 3a ... laminated body, 3b ... laminated body, 11 ... 1st transparent substrate, 12 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1st metal layer, 13 ... 1st plastic substrate, 14 ... Circuit layer, 15 ... Light emitting element layer, 17 ... 1st alignment mark, 21 ... 2nd transparent substrate, 22 ... 2nd metal layer, 22 '... Metal oxidation Material layer, 23 ... resin layer, 24 ... color filter layer, 26 ... second plastic substrate, 27 ... second alignment mark, LB ... laser beam.

Claims (7)

第1透明基板、前記第1透明基板上に形成された第1金属層、前記第1金属層上に形成された第1プラスチック基板、及び前記第1プラスチック基板上に形成された有機EL素子を備え、少なくとも前記第1金属層を間に挟んで前記第1透明基板と向き合うように第1アライメントマークが設けられた第1積層構造を形成する工程と、
第2透明基板、前記第2透明基板上に形成された樹脂層、前記樹脂層上に形成された第2金属層、前記第2金属層上に形成されたカラーフィルタ層、及び前記カラーフィルタ層上に形成された第2プラスチック基板を備え、少なくとも前記樹脂層を間に挟んで前記第2透明基板と向き合うように第2アライメントマークが設けられた第2積層構造を形成する工程と、
前記第2積層構造に、前記第2透明基板側からレーザビームを照射することにより、前記樹脂層と前記第2金属層との間で層間剥離を生じさせて、前記第2金属層、前記カラーフィルタ層、及び前記第2プラスチック基板を備え、前記第2アライメントマークが設けられた第1積層体を得るとともに、この第1積層体を、前記第2透明基板及び前記樹脂層を供えた第2積層体から分離する工程と、
前記第1積層体の前記第2金属層を酸化させて、前記第2金属層が酸化された前記第1積層体をカラーフィルタ基板として得る工程と、
前記第1積層構造と前記カラーフィルタ基板とを、前記有機EL素子と酸化された前記第2金属層とが向き合うように配置した状態で、前記第1及び第2アライメントマークを利用して互いに対して位置合わせする工程と、
位置合わせした前記第1積層構造と前記カラーフィルタ基板とを貼り合せる工程と、
その後、前記第1積層構造に前記第1透明基板側からレーザビームを照射することにより、前記第1プラスチック基板と前記第1金属層との間で層間剥離を生じさせて、前記第1プラスチック基板、前記有機EL素子及び前記カラーフィルタ基板を備えた第3積層体を、前記第1透明基板及び前記第1金属層を備えた第4積層体から分離する工程と
を含んだフレキシブル有機EL表示装置の製造方法。
A first transparent substrate, a first metal layer formed on the first transparent substrate, a first plastic substrate formed on the first metal layer, and an organic EL element formed on the first plastic substrate Forming a first laminated structure provided with a first alignment mark so as to face the first transparent substrate with at least the first metal layer interposed therebetween;
A second transparent substrate; a resin layer formed on the second transparent substrate; a second metal layer formed on the resin layer; a color filter layer formed on the second metal layer; and the color filter layer Forming a second laminated structure including a second plastic substrate formed thereon, and having a second alignment mark so as to face at least the second transparent substrate with the resin layer interposed therebetween;
By irradiating the second laminated structure with a laser beam from the second transparent substrate side, delamination occurs between the resin layer and the second metal layer, and the second metal layer, the collar A first laminate including a filter layer and the second plastic substrate and provided with the second alignment mark is obtained, and the first laminate is provided with the second transparent substrate and the resin layer. Separating from the laminate,
Oxidizing the second metal layer of the first laminate to obtain the first laminate obtained by oxidizing the second metal layer as a color filter substrate;
The first laminated structure and the color filter substrate are arranged with respect to each other using the first and second alignment marks in a state where the organic EL element and the oxidized second metal layer face each other. The process of aligning and
Bonding the aligned first laminated structure and the color filter substrate;
Thereafter, a laser beam is irradiated onto the first laminated structure from the first transparent substrate side, thereby causing delamination between the first plastic substrate and the first metal layer, and thereby the first plastic substrate. And a step of separating the third laminate including the organic EL element and the color filter substrate from the fourth laminate including the first transparent substrate and the first metal layer. Manufacturing method.
前記第2積層構造には、第2金属層22の位置に収束するように前記レーザビームを照射する請求項1に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the second stacked structure is irradiated with the laser beam so as to converge at a position of the second metal layer 22. 前記第1積層構造に照射する前記レーザビーム及び前記第2積層構造に照射する前記レーザビームは赤外レーザビームである請求項1又は2に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the laser beam applied to the first stacked structure and the laser beam applied to the second stacked structure are infrared laser beams. 前記第2金属層の材料は、チタン、アルミニウム、ガリウム、インジウム、モリブデン、タングステン及び亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも1つである請求項1乃至3の何れか1項に記載の製造方法。   4. The manufacturing method according to claim 1, wherein the material of the second metal layer is at least one selected from the group consisting of titanium, aluminum, gallium, indium, molybdenum, tungsten, and zinc. 前記第2プラスチック基板の材料は、アラミド、シクロオレフィン、ポリアミドイミド、ポリカーボネイト、ポリメタクリル酸メチル、ポリエーテルスルホン、アクリル樹脂及びエポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つである請求項1乃至4の何れか1項に記載の製造方法。   The material of the second plastic substrate is at least one selected from the group consisting of aramid, cycloolefin, polyamideimide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyethersulfone, acrylic resin, and epoxy resin. The manufacturing method of any one of Claims 1. 前記第1プラスチック基板の材料及び前記樹脂層の材料はポリイミドである請求項1乃至5の何れか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein a material of the first plastic substrate and a material of the resin layer are polyimide. 第1積層構造とカラーフィルタ基板とを互いに対して位置合わせする工程であって、
前記第1積層構造は、第1透明基板、前記第1透明基板上に形成された第1金属層、前記第1金属層上に形成された第1プラスチック基板、及び前記第1プラスチック基板上に形成された有機EL素子を備え、少なくとも前記第1金属層を間に挟んで前記第1透明基板と向き合うように第1アライメントマークが設けられ、
前記カラーフィルタ基板は、第2透明基板、前記第2透明基板上に形成された樹脂層、前記樹脂層上に形成された第2金属層、前記第2金属層上に形成されたカラーフィルタ層、及び前記カラーフィルタ層上に形成された第2プラスチック基板を備え、少なくとも前記樹脂層を間に挟んで前記第2透明基板と向き合うように第2アライメントマークが設けられた第2積層構造を形成し、前記第2積層構造に、前記第2透明基板側からレーザビームを照射することにより、前記樹脂層と前記第2金属層との間で層間剥離を生じさせて、前記第2金属層、前記カラーフィルタ層、及び前記第2プラスチック基板を備え、前記第2アライメントマークが設けられた第1積層体を得るとともに、この第1積層体を、前記第2透明基板及び前記樹脂層を供えた第2積層体から分離し、前記第1積層体の前記第2金属層を酸化させることにより得られる、前記第2金属層が酸化された前記第1積層体であり、
前記第1積層構造と前記カラーフィルタ基板との位置合わせは、前記有機EL素子と酸化された前記第2金属層とが向き合うように配置した状態で、前記第1及び第2アライメントマークを利用して行う工程と、
位置合わせした前記第1積層構造と前記カラーフィルタ基板とを貼り合せる工程と、
その後、前記第1積層構造に前記第1透明基板側からレーザビームを照射することにより、前記第1プラスチック基板と前記第1金属層との間で層間剥離を生じさせて、前記第1プラスチック基板、前記有機EL素子及び前記カラーフィルタ基板を備えた第3積層体を、前記第1透明基板及び前記第1金属層を備えた第4積層体から分離する工程と
を含んだフレキシブル有機EL表示装置の製造方法。
A step of aligning the first laminated structure and the color filter substrate with respect to each other;
The first laminated structure includes a first transparent substrate, a first metal layer formed on the first transparent substrate, a first plastic substrate formed on the first metal layer, and on the first plastic substrate. A first alignment mark is provided so as to face the first transparent substrate with at least the first metal layer interposed between the organic EL elements formed,
The color filter substrate includes a second transparent substrate, a resin layer formed on the second transparent substrate, a second metal layer formed on the resin layer, and a color filter layer formed on the second metal layer. And a second plastic substrate formed on the color filter layer, and forming a second laminated structure provided with a second alignment mark so as to face the second transparent substrate with at least the resin layer interposed therebetween Then, by irradiating the second laminated structure with a laser beam from the second transparent substrate side, delamination occurs between the resin layer and the second metal layer, and the second metal layer, A first laminated body including the color filter layer and the second plastic substrate and provided with the second alignment mark is obtained, and the first laminated body is formed of the second transparent substrate and the resin layer. Separated from the second stack was example, can be obtained by oxidizing the second metal layer of the first laminate, the second metal layer is a first laminate is oxidized,
The first laminated structure and the color filter substrate are aligned using the first and second alignment marks in a state where the organic EL element and the oxidized second metal layer are arranged to face each other. Steps to be performed,
Bonding the aligned first laminated structure and the color filter substrate;
Thereafter, a laser beam is irradiated onto the first laminated structure from the first transparent substrate side, thereby causing delamination between the first plastic substrate and the first metal layer, and thereby the first plastic substrate. And a step of separating the third laminate including the organic EL element and the color filter substrate from the fourth laminate including the first transparent substrate and the first metal layer. Manufacturing method.
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