JP2015194750A - Image forming apparatus and process cartridge - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関する。 The present invention relates to an image forming apparatus and a process cartridge.
電子写真法による画像の形成は、感光体表面を全体に帯電させた後、この感光体表面に、画像情報に応じたレーザ光により露光して静電潜像を形成し、次いでこの静電潜像を、トナーを含む現像剤で現像してトナー像を形成し、最後にこのトナー像を記録媒体表面に転写及び定着することにより行われる。 In the formation of an image by electrophotography, after the entire surface of the photosensitive member is charged, an electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive member by exposure with a laser beam corresponding to the image information. The image is developed with a developer containing toner to form a toner image, and finally this toner image is transferred and fixed on the surface of the recording medium.
電子写真法による画像形成装置に適用される感光体としては、例えば、特許文献1には、「導電性支持体上に、少なくとも電荷発生層、電荷輸送層の順に積層する電子写真感光体において、該電荷輸送層が少なくとも2層以上積層した電荷輸送層であり、かつ、該電子写真感光体における、該電荷輸送層塗工液に用いる溶媒の残留溶媒量が40000ppm以下であることを特徴とする電子写真感光体」が開示されている。 As a photoreceptor applied to an image forming apparatus using an electrophotographic method, for example, in Patent Document 1, “in an electrophotographic photoreceptor in which at least a charge generation layer and a charge transport layer are laminated in this order on a conductive support, The charge transport layer is a charge transport layer in which at least two layers are laminated, and the residual solvent amount of the solvent used in the charge transport layer coating solution in the electrophotographic photosensitive member is 40000 ppm or less. An “electrophotographic photoreceptor” is disclosed.
また、特許文献2には、「導電性支持体上に少なくとも電荷発生層、電荷輸送物質とポリカーボネート樹脂から構成される電荷輸送層を順次積層した構成を有する電子写真感光体を用い、且つ該電子写真感光体の摩耗率(電荷輸送層の摩耗量/感光体走行距離)が1.50×10−11以下である画像形成方法において、該電荷輸送層用塗工液溶剤がトルエンであり、該電荷輸送層中に残留するトルエン量が、8000ppm以下であることを特徴とする電子写真感光体。」が開示されている。 Patent Document 2 discloses that “an electrophotographic photosensitive member having a structure in which at least a charge generation layer, a charge transport layer composed of a charge transport material and a polycarbonate resin are sequentially laminated on a conductive support, and the electron In the image forming method in which the wear rate of the photographic photoreceptor (amount of wear of the charge transport layer / photoreceptor travel distance) is 1.50 × 10 −11 or less, the coating solution solvent for the charge transport layer is toluene, An electrophotographic photoreceptor, wherein the amount of toluene remaining in the charge transport layer is 8000 ppm or less, is disclosed.
本発明の課題は、電子写真感光体表面における残留物によるスジの発生を抑制しうる画像形成装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide an image forming apparatus capable of suppressing the generation of streaks due to residues on the surface of an electrophotographic photosensitive member.
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項1に係る発明は、
下記条件(1)を満たす電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
下記条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、該クリーニングブレードを前記電子写真感光体の表面に接触させて当該電子写真感光体の表面の残留物を除去するクリーニング手段と、
を備える画像形成装置である。
条件(1):表面層として、下記一般式(A)で表される構造単位及び下記一般式(B)で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含み、残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下である電荷輸送層を有すること
条件(2):支持部材上に、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントを有するポリウレタンゴムを含有し、硬さがA82以上であって、前記電子写真感光体の電荷輸送層に接触する接触層を有すること
The above problem is solved by the following means. That is,
The invention according to claim 1
An electrophotographic photoreceptor satisfying the following condition (1);
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to the surface of the recording medium;
A cleaning unit that satisfies the following condition (2), and a cleaning unit that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member to remove residues on the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An image forming apparatus.
Condition (1): As a surface layer, a polycarbonate copolymer having a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B) is included, and the residual solvent ratio is 0.1. It has a charge transport layer that is not less than mass% and not more than 5.0 mass%. Condition (2): A polyurethane rubber having a hard segment including a structural unit derived from polyester polyol is contained on a support member, and the hardness is A82. It is above and has a contact layer which contacts the charge transport layer of the electrophotographic photosensitive member
(一般式(A)及び一般式(B)中、R1、R2、R3、及びR4は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数5以上7以下のシクロアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基を表す。Xは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。) (In General Formula (A) and General Formula (B), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon number. Represents a cycloalkyl group having 5 or more and 7 or less, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and X represents a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a linear or branched alkylene group, or a cycloalkylene group.
請求項2に係る発明は、
前記クリーニング手段におけるクリーニングブレードが、前記電子写真感光体の下方から接触するように配置される請求項1に記載の画像形成装置である。
The invention according to claim 2
The image forming apparatus according to claim 1, wherein a cleaning blade in the cleaning unit is disposed so as to contact from below the electrophotographic photosensitive member.
請求項3に係る発明は、
下記条件(1)を満たす電子写真感光体と、
下記条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、該クリーニングブレードを前記電子写真感光体の表面に接触させて当該電子写真感光体の表面の残留物を除去するクリーニング手段と、
を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジである。
条件(1):表面層として、下記一般式(A)で表される構造単位及び下記一般式(B)で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含み、残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下である電荷輸送層を有すること
条件(2):支持部材上に、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントを有するポリウレタンゴムを含有し、硬さがA82以上であって、前記電子写真感光体の電荷輸送層に接触する接触層を有すること
The invention according to claim 3
An electrophotographic photoreceptor satisfying the following condition (1);
A cleaning unit that satisfies the following condition (2), and a cleaning unit that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member to remove residues on the surface of the electrophotographic photosensitive member;
And a process cartridge that is detachably attached to the image forming apparatus.
Condition (1): As a surface layer, a polycarbonate copolymer having a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B) is included, and the residual solvent ratio is 0.1. It has a charge transport layer that is not less than mass% and not more than 5.0 mass%. Condition (2): A polyurethane rubber having a hard segment including a structural unit derived from polyester polyol is contained on a support member, and the hardness is A82. It is above and has a contact layer which contacts the charge transport layer of the electrophotographic photosensitive member
(一般式(A)及び一般式(B)中、R1、R2、R3、及びR4は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数5以上7以下のシクロアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基を表す。Xは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。) (In General Formula (A) and General Formula (B), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon number. Represents a cycloalkyl group having 5 or more and 7 or less, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and X represents a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a linear or branched alkylene group, or a cycloalkylene group.
請求項1、3に係る発明によれば、電荷輸送層の残留溶剤比率が0質量%であるか、5.0質量%を超えている、又は、クリーニングブレードの接触層の硬さがA82未満の場合と比較して、電子写真感光体表面における残留物によるスジの発生を抑制しうる画像形成装置、プロセスカートリッジが提供される。
請求項2に係る発明によれば、クリーニング手段におけるクリーニングブレードが、前記電子写真感光体の上方から接触する場合に比べて発生し易い、電子写真感光体表面における残留物によるスジを、抑制しうる画像形成装置が提供される。
According to the first and third aspects of the invention, the residual solvent ratio of the charge transport layer is 0% by mass or exceeds 5.0% by mass, or the hardness of the contact layer of the cleaning blade is less than A82. As compared with the above, an image forming apparatus and a process cartridge capable of suppressing the generation of streaks due to the residue on the surface of the electrophotographic photosensitive member are provided.
According to the second aspect of the present invention, it is possible to suppress the streak caused by the residue on the surface of the electrophotographic photosensitive member, which is more likely to occur than when the cleaning blade in the cleaning unit contacts from above the electrophotographic photosensitive member. An image forming apparatus is provided.
以下、本発明の画像形成装置、及びプロセスカートリッジについて、一例である実施形態を示し詳細に説明する。
本実施形態に係る画像形成装置は、下記条件(1)を満たす電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、下記条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、該クリーニングブレードを前記電子写真感光体の表面に接触させて当該電子写真感光体の表面の残留物を除去するクリーニング手段と、を備える。
条件(1):表面層として、一般式(A)で表される構造単位及び一般式(B)で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含み、残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下である電荷輸送層を有すること
条件(2):支持部材上に、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントを有するポリウレタンゴムを含有し、硬さがA82以上であって、前記電子写真感光体の電荷輸送層に接触する接触層を有すること
Hereinafter, an image forming apparatus and a process cartridge of the present invention will be described in detail by showing an embodiment as an example.
The image forming apparatus according to this embodiment includes an electrophotographic photosensitive member that satisfies the following condition (1), a charging unit that charges the surface of the electrophotographic photosensitive member, and an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member. An electrostatic latent image forming means for forming; a developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner; and a toner image on the recording medium. Cleaning having a transfer means for transferring to the surface and a cleaning blade satisfying the following condition (2), and removing the residue on the surface of the electrophotographic photosensitive member by bringing the cleaning blade into contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member Means.
Condition (1): As a surface layer, a polycarbonate copolymer having a structural unit represented by the general formula (A) and a structural unit represented by the general formula (B) is included, and the residual solvent ratio is 0.1% by mass. It has a charge transport layer that is not less than 5.0% by mass. Condition (2): The support member contains polyurethane rubber having a hard segment containing a structural unit derived from polyester polyol, and the hardness is A82 or more. And having a contact layer in contact with the charge transport layer of the electrophotographic photoreceptor.
ここで、従来、電子写真感光体(以降、単に「感光体」と称して説明する場合がある)としては、電子写真特性に優れるといった点から、電荷を発生する電荷発生層と電荷を輸送する電荷輸送層とを積層させた機能分離型の有機感光体が種々提案されており、実用化されている。
また、上記のような感光体としては、長寿命化のために、表面層に低摩耗樹脂を用いることも検討されている。
Here, conventionally, as an electrophotographic photoreceptor (hereinafter, sometimes simply referred to as a “photoreceptor”), the charge is transported to and from a charge generation layer that generates charges from the viewpoint of excellent electrophotographic characteristics. Various function-separated organic photoreceptors in which a charge transport layer is laminated have been proposed and put into practical use.
Further, as the above-mentioned photoconductor, use of a low-abrasion resin for the surface layer has been studied in order to extend the life.
一方、画像形成装置内には、電子写真感光体の表面に残留するトナー等の残留物を除去するために、クリーニングブレードを備えたクリーニング手段が電子写真感光体に対して接触配置されている。
このクリーニング手段に、高硬度な接触層を持つクリーニングブレードを適用した場合、感光体の表面層に低摩耗性の樹脂が用いられていると、感光体とクリーニングブレードとの間の摩擦力が増大し、ブレードエッジが摩滅してしまいクリーニング不良に至ることがある。その際、感光体表面には残留物によるスジが発生し、このスジに起因した画像欠陥として顕在化してしまうこともあった。
特に、省スペース化のため、排紙位置及び転写ユニット位置を画像形成ユニットに対し上方に設置した画像形成装置では、クリーニングブレードが感光体に対し下方から接する構成となるため、感光体とクリーニングブレードとの間に、潤滑成分として働くトナーや外添剤が供給、保持され難く、上記のような課題が特に顕在化し易いといえる。
On the other hand, in the image forming apparatus, a cleaning unit including a cleaning blade is disposed in contact with the electrophotographic photosensitive member in order to remove residual toner and the like remaining on the surface of the electrophotographic photosensitive member.
When a cleaning blade having a contact layer with high hardness is applied to this cleaning means, if a low-abrasion resin is used for the surface layer of the photoreceptor, the frictional force between the photoreceptor and the cleaning blade increases. However, the blade edge may be worn out, resulting in poor cleaning. At that time, streaks due to the residue are generated on the surface of the photosensitive member, and may be manifested as image defects due to the streaks.
In particular, in order to save space, in an image forming apparatus in which the paper discharge position and the transfer unit position are installed above the image forming unit, the cleaning blade comes into contact with the photoconductor from below. In the meantime, it is difficult to supply and hold the toner and the external additive acting as a lubricating component, and it can be said that the above-described problems are particularly easily manifested.
上記の課題に対し、本発明者らは、前述した条件(1)を満たす感光体と、前述した条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、該クリーニングブレードを感光体の表面に接触させて感光体の表面の残留物を除去するクリーニング手段と、を組み合わせることで、感光体表面の残留物によるスジの発生を抑制し、その結果として、かかるスジに起因した画像欠陥をも抑制しうることを見出した。 In response to the above problems, the present inventors have a photoreceptor that satisfies the above-described condition (1) and a cleaning blade that satisfies the above-described condition (2), and the cleaning blade is brought into contact with the surface of the photoreceptor. In combination with a cleaning means for removing the residue on the surface of the photoconductor, the generation of streaks due to the residue on the surface of the photoconductor can be suppressed, and as a result, image defects caused by the streaks can also be suppressed. I found.
具体的にいえば、前述した条件(2)のように、高硬度の接触層を有するクリーニングブレードを感光体の表面に接触させた構成であっても、前述した条件(1)のように、低摩耗性のカーボネート共重合体を含みつつ、残留溶剤比率を0.1質量%以上5.0質量%以下とした電荷輸送層を備えた感光体を組み合わせることで、その作用は明確ではないが、接触層と電荷輸送層との間の摩擦力が緩和され、ブレードエッジの摩耗の低減がなされて、クリーニング不良を抑制しうる。
その結果として、感光体表面の残留物によるスジの発生は抑制され、このスジに起因した画像欠陥をも抑制される。
Specifically, even if the cleaning blade having a high hardness contact layer is in contact with the surface of the photoreceptor as in the condition (2) described above, By combining a photoconductor with a charge transport layer having a residual solvent ratio of 0.1% by mass or more and 5.0% by mass or less while containing a low-abrasion carbonate copolymer, the effect is not clear. The frictional force between the contact layer and the charge transport layer is alleviated and the wear of the blade edge is reduced, so that defective cleaning can be suppressed.
As a result, the generation of streaks due to the residue on the surface of the photoreceptor is suppressed, and image defects due to the streaks are also suppressed.
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置;トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置;電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。 The image forming apparatus according to the present embodiment includes an apparatus having fixing means for fixing a toner image transferred to the surface of a recording medium; direct transfer for directly transferring the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the recording medium Type apparatus; intermediate transfer in which the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member is primarily transferred onto the surface of the intermediate transfer member, and the toner image transferred onto the surface of the intermediate transfer member is secondarily transferred onto the surface of the recording medium. System apparatus; an apparatus equipped with a charge eliminating means for irradiating the surface of the image holding member with charge removing light after the toner image is transferred and before charging; for increasing the temperature of the electrophotographic photosensitive member and reducing the relative temperature A known image forming apparatus such as an apparatus provided with an electrophotographic photosensitive member heating member is applied.
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。 In the case of an intermediate transfer type apparatus, the transfer means includes, for example, an intermediate transfer body on which a toner image is transferred to the surface, and a primary transfer that primarily transfers the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the surface of the intermediate transfer body. A configuration including a transfer unit and a secondary transfer unit that secondarily transfers the toner image transferred onto the surface of the intermediate transfer member onto the surface of the recording medium is applied.
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式(液体現像剤を利用した現像方式)の画像形成装置のいずれであってもよい。 The image forming apparatus according to the present embodiment may be either a dry developing type image forming apparatus or a wet developing type (developing type using a liquid developer).
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造(プロセスカートリッジ)であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、前記条件(1)を満たす電子写真感光体と、前記条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、クリーニングブレードを電子写真感光体の表面に接触させて電子写真感光体の表面の残留物を除去するクリーニング手段と、を備えるプロセスカートリッジ(本実施形態に係るプロセスカートリッジ)が好適に用いられる。なお、このプロセスカートリッジには、電子写真感光体及びクリーニング手段以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも1つの手段を備えてもよい。 Note that in the image forming apparatus according to the present embodiment, for example, the portion including the electrophotographic photosensitive member may have a cartridge structure (process cartridge) that is detachable from the image forming apparatus. As the process cartridge, for example, an electrophotographic photosensitive member satisfying the condition (1) and a cleaning blade satisfying the condition (2) are provided, and the cleaning blade is brought into contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member to provide the electrophotographic photosensitive member. A process cartridge (a process cartridge according to the present embodiment) including a cleaning unit that removes residues on the surface is preferably used. In addition to the electrophotographic photosensitive member and the cleaning unit, the process cartridge may include at least one unit selected from the group consisting of a charging unit, an electrostatic latent image forming unit, a developing unit, and a transfer unit. Good.
以下、図1を参照して、本実施形態に係る画像形成装置の一例を具体的に説明する。
ここで、図1は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
Hereinafter, an example of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIG.
Here, FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an image forming apparatus according to the present embodiment. In addition, the main part shown to a figure is demonstrated and the description is abbreviate | omitted about others.
図1に示す画像形成装置200は中間転写方式の画像形成装置であり、ハウジング400内において4つの感光体1a,1b,1c,1dが中間転写ベルト409に沿って相互に並列に配置されている。例えば、感光体1aがイエロー、感光体1bがマゼンタ、感光体1cがシアン、感光体1dがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成する。 An image forming apparatus 200 shown in FIG. 1 is an intermediate transfer type image forming apparatus, and four photoconductors 1 a, 1 b, 1 c, and 1 d are arranged in parallel with each other along an intermediate transfer belt 409 in a housing 400. . For example, an image is formed in which the photoreceptor 1a is yellow, the photoreceptor 1b is magenta, the photoreceptor 1c is cyan, and the photoreceptor 1d is black.
ここで、画像形成装置200に搭載されている感光体1a,1b,1c,1dは、それぞれ、前述した条件(1)を満たす電子写真感光体である。
感光体1a,1b,1c,1dは、それぞれ一方向(紙面上は反時計回り)に回転し、その回転方向に沿って帯電ロール(帯電手段)402a,402b,402c,402d、現像装置(現像手段)404a,404b,404c,404d、一次転写ロール(転写手段)410a,410b,410c,410d、クリーニングブレード100a,100b,100c,100dが配置されている。
また、一次転写ロール410a,410b,410c,410dはそれぞれ中間転写ベルト409を介して感光体1a,1b,1c,1dに接している。
Here, the photoreceptors 1a, 1b, 1c, and 1d mounted on the image forming apparatus 200 are electrophotographic photoreceptors that satisfy the above-described condition (1).
Each of the photoreceptors 1a, 1b, 1c, and 1d rotates in one direction (counterclockwise on the paper surface), and along the rotation direction, charging rolls (charging means) 402a, 402b, 402c, and 402d, and a developing device (developing) Means) 404a, 404b, 404c, 404d, primary transfer rolls (transfer means) 410a, 410b, 410c, 410d, and cleaning blades 100a, 100b, 100c, 100d are arranged.
Further, the primary transfer rolls 410a, 410b, 410c, and 410d are in contact with the photoreceptors 1a, 1b, 1c, and 1d through the intermediate transfer belt 409, respectively.
ここで、画像形成装置200は、図1に示すように、一次転写ロール410a,410b,410c,410dを含む転写ユニットが、感光体1a,1b,1c,1d、帯電ロール402a,402b,402c,402d、及び、現像装置404a,404b,404c,404dを含む画像形成ユニットに対し、上方に設置された構成を有する。
更に、一次転写ロール410a,410b,410c,410dが、感光体1a,1b,1c,1dの上方にあることから、クリーニングブレード100a,100b,100c,100dは、感光体1a,1b,1c,1dの下方から接触するように配置されている。
なお、本明細書において、「上方」及び「下方」とは、重力方向における「上方」及び「下方」を意味する。
ここで、画像形成装置200に搭載されているクリーニングブレード100a,100b,100c,100dは、それぞれ、前述した条件(2)を満たすクリーニングブレードである。
Here, in the image forming apparatus 200, as shown in FIG. 1, the transfer unit including the primary transfer rolls 410a, 410b, 410c, and 410d includes photoconductors 1a, 1b, 1c, and 1d, charging rolls 402a, 402b, 402c, and the like. 402d and an image forming unit including the developing devices 404a, 404b, 404c, and 404d.
Further, since the primary transfer rolls 410a, 410b, 410c, 410d are above the photoreceptors 1a, 1b, 1c, 1d, the cleaning blades 100a, 100b, 100c, 100d are photoreceptors 1a, 1b, 1c, 1d. It arrange | positions so that it may contact from the downward direction.
In the present specification, “upward” and “downward” mean “upward” and “downward” in the direction of gravity.
Here, the cleaning blades 100a, 100b, 100c, and 100d mounted on the image forming apparatus 200 are cleaning blades that satisfy the above-described condition (2).
図1に示すように、ハウジング400内には、更に、トナーカートリッジ405a,405b,405c,405d、及びレーザ光源(静電潜像形成手段)403が設置されている。
トナーカートリッジ405a,405b,405c,405dはそれぞれブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの4色のトナーを収容しており、この4色のトナーは現像装置404a,404b,404c,404dにより、感光体1a,1b,1c,1dのそれぞれに対し供給される。
また、レーザ光源403から出射されたレーザ光は、帯電後の感光体1a,1b,1c,1dの表面を照射する。
As shown in FIG. 1, toner cartridges 405 a, 405 b, 405 c, and 405 d and a laser light source (electrostatic latent image forming unit) 403 are further installed in the housing 400.
The toner cartridges 405a, 405b, 405c, and 405d contain toners of four colors, black, yellow, magenta, and cyan, respectively. The four color toners are developed by the developing devices 404a, 404b, 404c, and 404d. Supplied to each of 1b, 1c, 1d.
The laser light emitted from the laser light source 403 irradiates the surfaces of the charged photoreceptors 1a, 1b, 1c, and 1d.
画像形成装置200では、感光体1a,1b,1c,1dの回転に伴い、帯電、露光(静電潜像形成)、現像、一次転写、クリーニング(トナー等の異物、残留物の除去)の各工程が順次行われる。
この各工程が、感光体1a,1b,1c,1dのそれぞれで行われることで、各色のトナー像が中間転写ベルト409上に重ねて転写される。
ここで、中間転写ベルト409は、駆動ロール406、背面ロール408及び支持ロール407によって張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転する。
In the image forming apparatus 200, each of charging, exposure (electrostatic latent image formation), development, primary transfer, and cleaning (removal of foreign matters such as toner and residues) is performed with the rotation of the photoreceptors 1a, 1b, 1c, and 1d. The steps are performed sequentially.
Each process is performed on each of the photoreceptors 1a, 1b, 1c, and 1d, so that the toner images of the respective colors are transferred onto the intermediate transfer belt 409 in an overlapping manner.
Here, the intermediate transfer belt 409 is supported with tension by the drive roll 406, the back roll 408, and the support roll 407, and rotates without causing deflection due to the rotation of these rolls.
図1に示すように、ハウジング400内には、加えて、記録媒体Pを収容する容器411、記録媒体Pを移送する移送ロール412、二次転写ロール413、及び定着ロール対414が設置されている。
容器411内に収容されている紙などの記録媒体Pは、移送ロール412により中間転写ベルト409と二次転写ロール413との間、更には相互に接する2個ロールからなる定着ロール対414の間に順次移送された後、ハウジング400の外部に排出される。
図1からも明らかなように、画像形成装置200においては、記録媒体Pの排出位置(排紙位置)は、感光体1a,1b,1c,1d、帯電ロール402a,402b,402c,402d、及び、現像装置404a,404b,404c,404dを含む画像形成ユニットに対し、上方に設置された構成を有する。
As shown in FIG. 1, a container 411 that accommodates the recording medium P, a transfer roll 412 that transfers the recording medium P, a secondary transfer roll 413, and a fixing roll pair 414 are additionally installed in the housing 400. Yes.
A recording medium P such as paper accommodated in the container 411 is transferred between the intermediate transfer belt 409 and the secondary transfer roll 413 by the transfer roll 412 and between the fixing roll pair 414 composed of two rolls in contact with each other. Are sequentially transferred to the outside of the housing 400.
As is apparent from FIG. 1, in the image forming apparatus 200, the discharge positions (discharge positions) of the recording medium P are the photoreceptors 1a, 1b, 1c, 1d, the charging rolls 402a, 402b, 402c, 402d, and The image forming unit including the developing devices 404a, 404b, 404c, and 404d has a configuration installed above.
二次転写ロール413は、中間転写ベルト409を介して背面ロール408と接するように配置されている。
背面ロール408と二次転写ロール413との間を通った中間転写ベルト409は、例えば、駆動ロール406の近傍に配置されたクリーニングブレード416により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
The secondary transfer roll 413 is disposed so as to be in contact with the back roll 408 via the intermediate transfer belt 409.
The intermediate transfer belt 409 that has passed between the back roll 408 and the secondary transfer roll 413 is cleaned by, for example, a cleaning blade 416 disposed in the vicinity of the drive roll 406, and then repeated for the next image forming process. Provided.
続いて、画像形成装置における主な構成部材である、感光体、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段、中間転写体、及びクリーニング手段についてより具体的に説明する。
なお、符号は省略して説明する。
Subsequently, the photosensitive member, the charging unit, the electrostatic latent image forming unit, the developing unit, the transfer unit, the intermediate transfer member, and the cleaning unit, which are main components in the image forming apparatus, will be described in more detail.
Note that the reference numerals are omitted.
〔感光体〕
本実施形態における感光体は、条件(1)を満たしていれば、その他の構成は限定されないが、例えば、導電性基体上に、下引層と電荷発生層と電荷輸送層と、をこの順に有し、必要に応じて中間層等を有する構成が挙げられる。
以下、図2を参照して、本実施形態における電子写真感光体の構成について説明する。
ここで、図2は本実施形態における電子写真感光体の一部の断面を示した概略図である。
[Photoconductor]
The other configurations of the photoreceptor in the present embodiment are not limited as long as the condition (1) is satisfied. For example, an undercoat layer, a charge generation layer, and a charge transport layer are arranged in this order on a conductive substrate. The structure which has and has an intermediate | middle layer etc. as needed is mentioned.
Hereinafter, with reference to FIG. 2, the configuration of the electrophotographic photoreceptor in the present exemplary embodiment will be described.
Here, FIG. 2 is a schematic view showing a cross section of a part of the electrophotographic photosensitive member in the present embodiment.
図2によれば、電子写真感光体1は、電荷発生層5と電荷輸送層6とが別個に設けられた機能分離型の感光層3を備えるもので、導電性基体2上に、下引層4、電荷発生層5、及び電荷輸送層6がこの順序で積層された構造を有している。
図2では導電性基体2上に下引層4を介して電荷発生層5を設けた態様を示したが、下引層4がない態様であってもよい。
According to FIG. 2, the electrophotographic photoreceptor 1 includes a function-separated type photosensitive layer 3 in which a charge generation layer 5 and a charge transport layer 6 are separately provided. The layer 4, the charge generation layer 5, and the charge transport layer 6 have a structure in which they are stacked in this order.
Although FIG. 2 shows an embodiment in which the charge generation layer 5 is provided on the conductive substrate 2 via the undercoat layer 4, an embodiment without the undercoat layer 4 may be used.
本実施形態において、絶縁性とは、体積抵抗率で1012Ωcm以上の範囲を意味する。一方、導電性とは、体積抵抗率で1010Ωcm以下の範囲を意味する。
以下、電子写真感光体を構成する各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。
In the present embodiment, the insulating property means a range of 10 12 Ωcm or more in volume resistivity. On the other hand, the conductivity means a range of 10 10 Ωcm or less in volume resistivity.
Hereinafter, each element constituting the electrophotographic photosensitive member will be described. Note that the reference numerals are omitted.
(導電性基体)
導電性基体としては、例えば、金属(アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等)又は合金(ステンレス鋼等)を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物(例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等)、金属(例えばアルミニウム、パラジウム、金等)又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。
(Conductive substrate)
Examples of the conductive substrate include metal plates (eg, aluminum, copper, zinc, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum, etc.) or alloys (stainless steel, etc.), metal drums, metal belts, etc. Is mentioned. In addition, as the conductive substrate, for example, paper, resin film, belt, etc. coated, vapor-deposited or laminated with a conductive compound (for example, conductive polymer, indium oxide, etc.), metal (for example, aluminum, palladium, gold, etc.) or an alloy, etc. Also mentioned.
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。 When the electrophotographic photosensitive member is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate has a center line average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0.5 μm for the purpose of suppressing interference fringes generated when laser light is irradiated. The surface is preferably roughened below. When non-interfering light is used as a light source, roughening for preventing interference fringes is not particularly required, but it is suitable for extending the life because it suppresses generation of defects due to irregularities on the surface of the conductive substrate.
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。 As a roughening method, for example, wet honing performed by suspending an abrasive in water and spraying it on a support, centerless grinding in which a conductive substrate is pressed against a rotating grindstone, and grinding is continuously performed, Anodizing treatment etc. are mentioned.
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。 As a roughening method, without roughening the surface of the conductive substrate, conductive or semiconductive powder is dispersed in the resin to form a layer on the surface of the conductive substrate. The method of roughening by the particle | grains disperse | distributed in a layer is also mentioned.
陽極酸化による粗面化処理は、金属製(例えばアルミニウム製)の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。 In the roughening treatment by anodic oxidation, a metal (for example, aluminum) conductive substrate is used as an anode, and an oxide film is formed on the surface of the conductive substrate by anodizing in an electrolyte solution. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is, easily contaminated, and has a large resistance fluctuation due to the environment. Therefore, the pores of the oxide film are blocked by the volume expansion due to the hydration reaction in pressurized water vapor or boiling water (a metal salt such as nickel may be added) against the porous anodic oxide film, and more stable hydration oxidation It is preferable to perform a sealing treatment for changing to a product.
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、0.3μm以上15μm以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。 The thickness of the anodized film is preferably, for example, 0.3 μm or more and 15 μm or less. When this film thickness is within the above range, the barrier property against implantation tends to be exhibited, and the increase in residual potential due to repeated use tends to be suppressed.
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲がよい。処理温度は例えば42℃以上48℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
The conductive substrate may be treated with an acidic treatment liquid or boehmite treatment.
The treatment with the acidic treatment liquid is performed as follows, for example. First, an acidic treatment liquid containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is, for example, in the range of 10% by mass to 11% by mass of phosphoric acid, in the range of 3% by mass to 5% by mass of chromic acid, The concentration of these acids is preferably in the range of 13.5% by mass or more and 18% by mass or less. The treatment temperature is preferably 42 ° C. or higher and 48 ° C. or lower, for example. The film thickness is preferably from 0.3 μm to 15 μm.
ベーマイト処理は、例えば90℃以上100℃以下の純水中に5分から60分間浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分から60分間接触させて行う。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が好ましい。これを更にアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。 The boehmite treatment is performed, for example, by immersing in pure water of 90 ° C. or higher and 100 ° C. or lower for 5 minutes to 60 minutes, or by contacting with heated steam of 90 ° C. or higher and 120 ° C. or lower for 5 minutes to 60 minutes. The film thickness is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This may be further anodized using an electrolyte solution with low film solubility such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. Good.
(下引層)
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
(Undercoat layer)
The undercoat layer is, for example, a layer containing inorganic particles and a binder resin.
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗(体積抵抗率)102Ωcm以上1011Ωcm以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
Examples of the inorganic particles include inorganic particles having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ωcm or more and 10 11 Ωcm or less.
Among these, as the inorganic particles having the resistance value, for example, metal oxide particles such as tin oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, and zirconium oxide particles are preferable, and zinc oxide particles are particularly preferable.
無機粒子のBET法による比表面積は、例えば、10m2/g以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、50nm以上2000nm以下(好ましくは60nm以上1000nm以下)がよい。
The specific surface area of the inorganic particles by the BET method is preferably 10 m 2 / g or more, for example.
The volume average particle diameter of the inorganic particles is, for example, preferably from 50 nm to 2000 nm (preferably from 60 nm to 1000 nm).
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが好ましく、より好ましくは40質量%以上80質量%以下である。 For example, the content of the inorganic particles is preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less with respect to the binder resin.
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを2種以上混合して用いてもよい。 The inorganic particles may be subjected to a surface treatment. Two or more inorganic particles having different surface treatments or particles having different particle diameters may be mixed and used.
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。 Examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, and a surfactant. In particular, a silane coupling agent is preferable and a silane coupling agent having an amino group is preferable.
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the silane coupling agent having an amino group include 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2- (aminoethyl) -3-amino. Examples include, but are not limited to, propylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, and the like.
シランカップリング剤は、2種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Two or more silane coupling agents may be used in combination. For example, a silane coupling agent having an amino group and another silane coupling agent may be used in combination. Other silane coupling agents include, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycol. Sidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, and the like, but are not limited thereto. It is not a thing.
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。 The surface treatment method using the surface treatment agent may be any method as long as it is a known method, and may be either a dry method or a wet method.
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が好ましい。 The treatment amount of the surface treatment agent is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the inorganic particles, for example.
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物(アクセプター化合物)を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。 Here, the undercoat layer may contain an electron-accepting compound (acceptor compound) together with the inorganic particles from the viewpoint of enhancing the long-term stability of the electric characteristics and the carrier blocking property.
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物;2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;キサントン系化合物;チオフェン化合物;3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物;等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
Examples of the electron accepting compound include quinone compounds such as chloranil and bromoanil; tetracyanoquinodimethane compounds; 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, and the like. 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4- Oxadiazole compounds such as oxadiazole and 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,3,4 oxadiazole; xanthone compounds; thiophene compounds; 3,3 ′, 5,5 ′ tetra- electron transporting substances such as diphenoquinone compounds such as t-butyldiphenoquinone;
In particular, the electron-accepting compound is preferably a compound having an anthraquinone structure. As the compound having an anthraquinone structure, for example, a hydroxyanthraquinone compound, an aminoanthraquinone compound, an aminohydroxyanthraquinone compound, and the like are preferable, and specifically, for example, anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthralfin, and purpurin are preferable.
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。 The electron-accepting compound may be dispersed and included in the undercoat layer together with the inorganic particles, or may be included in a state of being attached to the surface of the inorganic particles.
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。 Examples of the method for attaching the electron accepting compound to the surface of the inorganic particles include a dry method and a wet method.
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。 In the dry method, for example, while stirring inorganic particles with a mixer having a large shearing force or the like, an electron-accepting compound dissolved directly or in an organic solvent is dropped and sprayed with dry air or nitrogen gas. It is a method of adhering to the surface of inorganic particles. When the electron-accepting compound is dropped or sprayed, it is preferably performed at a temperature not higher than the boiling point of the solvent. After dropping or spraying the electron-accepting compound, baking may be performed at 100 ° C. or higher. The baking is not particularly limited as long as it is a temperature and time for obtaining electrophotographic characteristics.
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。 In the wet method, for example, an electron-accepting compound is added while dispersing inorganic particles in a solvent by stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., and after stirring or dispersing, the solvent is removed to remove electrons. This is a method of attaching a receptive compound to the surface of inorganic particles. The solvent removal method is distilled off by filtration or distillation, for example. After removing the solvent, baking may be performed at 100 ° C. or higher. The baking is not particularly limited as long as it is a temperature and time for obtaining electrophotographic characteristics. In the wet method, the water content of the inorganic particles may be removed before adding the electron-accepting compound. Examples thereof include a method of removing while stirring and heating in a solvent, and a method of removing by azeotropic distillation with a solvent. Can be mentioned.
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。 The attachment of the electron-accepting compound may be performed before or after the surface treatment with the surface treatment agent is performed on the inorganic particles, or may be performed simultaneously with the attachment of the electron-accepting compound and the surface treatment with the surface treatment agent.
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下がよく、好ましくは0.01質量%以上10質量%以下である。 The content of the electron-accepting compound is, for example, from 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the inorganic particles, and preferably from 0.01% by mass to 10% by mass.
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物;ジルコニウムキレート化合物;チタニウムキレート化合物;アルミニウムキレート化合物;チタニウムアルコキシド化合物;有機チタニウム化合物;シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂(例えばポリアニリン等)等も挙げられる。
Examples of the binder resin used for the undercoat layer include acetal resins (eg, polyvinyl butyral), polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, casein resins, polyamide resins, cellulose resins, gelatin, polyurethane resins, polyester resins, and unsaturated polyesters. Resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, Known polymer compounds such as urethane resin, alkyd resin, epoxy resin; zirconium chelate compound; titanium chelate compound; aluminum chelate compound; titanium alkoxide compound ; Organic titanium compounds; known materials silane coupling agent, and the like.
Examples of the binder resin used for the undercoat layer include a charge transport resin having a charge transport group, a conductive resin (for example, polyaniline) and the like.
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
Among these, as the binder resin used for the undercoat layer, a resin insoluble in the upper coating solvent is preferable, and in particular, a urea resin, a phenol resin, a phenol-formaldehyde resin, a melamine resin, a urethane resin, and an unsaturated polyester. Thermosetting resins such as resins, alkyd resins, and epoxy resins; at least one resin selected from the group consisting of polyamide resins, polyester resins, polyether resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, and polyvinyl acetal resins; Resins obtained by reaction with curing agents are preferred.
When these binder resins are used in combination of two or more, the mixing ratio is set as necessary.
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
The undercoat layer may contain various additives for improving electrical characteristics, improving environmental stability, and improving image quality.
Additives include known materials such as electron transport pigments such as polycyclic condensation systems and azo systems, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, and silane coupling agents. It is done. The silane coupling agent is used for the surface treatment of the inorganic particles as described above, but may be further added to the undercoat layer as an additive.
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent as the additive include vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (Aminoethyl) -3-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。 Examples of the zirconium chelate compound include zirconium butoxide, zirconium zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl acetoacetate butoxide, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, methacrylate zirconium butoxide, stearate zirconium butoxide, isostearate zirconium butoxide and the like.
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。 Examples of the titanium chelate compound include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt. , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamate, polyhydroxy titanium stearate and the like.
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。 Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxy aluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) and the like.
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。 These additives may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.
下引層は、ビッカース硬度が35以上であることがよい。
下引層の表面粗さ(十点平均粗さ)は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの1/4n(nは上層の屈折率)から1/2λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
The undercoat layer preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
The surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer is adjusted from 1 / 4n (n is the refractive index of the upper layer) to 1 / 2λ of the exposure laser wavelength λ used to suppress moire images. It should be done.
Resin particles or the like may be added to the undercoat layer for adjusting the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and cross-linked polymethyl methacrylate resin particles. Further, the surface of the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. Examples of the polishing method include buffing, sandblasting, wet honing, and grinding.
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。 There is no particular limitation on the formation of the undercoat layer, and a well-known formation method is used. For example, a coating film for forming an undercoat layer in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. And heating as necessary.
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
Solvents for preparing the coating solution for forming the undercoat layer include known organic solvents such as alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents. Examples include solvents and ester solvents.
Specific examples of these solvents include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, Examples include ordinary organic solvents such as n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene.
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。 Examples of the dispersion method of the inorganic particles when preparing the coating liquid for forming the undercoat layer include known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker.
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of the method for applying the coating liquid for forming the undercoat layer onto the conductive substrate include, for example, a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method. The usual methods, such as these, are mentioned.
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上50μm以下の範囲内に設定される。 The thickness of the undercoat layer is, for example, preferably set in the range of 15 μm or more, more preferably 20 μm or more and 50 μm or less.
(中間層)
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層を更に設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
(Middle layer)
Although illustration is omitted, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer.
An intermediate | middle layer is a layer containing resin, for example. Examples of the resin used for the intermediate layer include an acetal resin (for example, polyvinyl butyral), polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, casein resin, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, Polymer compounds such as polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, and the like can be given.
The intermediate layer may be a layer containing an organometallic compound. Examples of the organometallic compound used for the intermediate layer include organometallic compounds containing metal atoms such as zirconium, titanium, aluminum, manganese, and silicon.
The compounds used for these intermediate layers may be used alone or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。 Among these, the intermediate layer is preferably a layer containing an organometallic compound containing a zirconium atom or a silicon atom.
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
The formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. For example, a coating film of an intermediate layer forming coating solution in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried and necessary. It is performed by heating according to.
As the coating method for forming the intermediate layer, usual methods such as a dip coating method, a push-up coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method, and a curtain coating method are used.
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上3μm以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。 For example, the thickness of the intermediate layer is preferably set in a range of 0.1 μm to 3 μm. An intermediate layer may be used as the undercoat layer.
(電荷発生層)
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、LED(Light Emitting Diode)、有機EL(Electro−Luminescence)イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
(Charge generation layer)
The charge generation layer is, for example, a layer containing a charge generation material and a binder resin. The charge generation layer may be a vapor deposition layer of a charge generation material. The vapor-deposited layer of the charge generation material is suitable when an incoherent light source such as an LED (Light Emitting Diode) or an organic EL (Electro-Luminescence) image array is used.
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料;ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;ペリレン顔料;ピロロピロール顔料;フタロシアニン顔料;酸化亜鉛;三方晶系セレン等が挙げられる。 Examples of the charge generating material include azo pigments such as bisazo and trisazo; fused aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; perylene pigments; pyrrolopyrrole pigments; phthalocyanine pigments; zinc oxide;
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン;特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン;特開平5−140472号公報、特開平5−140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン;特開平4−189873号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。 Among these, in order to cope with near-infrared laser exposure, it is preferable to use a metal phthalocyanine pigment or a metal-free phthalocyanine pigment as the charge generation material. Specifically, for example, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007, JP-A-5-279591, etc .; chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181; More preferred are dichlorotin phthalocyanines disclosed in JP-A No. 140472, JP-A No. 5-140473 and the like; and titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A No. 4-189873.
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;チオインジゴ系顔料;ポルフィラジン化合物;酸化亜鉛;三方晶系セレン;特開2004−78147号公報、特開2005−181992号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。 On the other hand, in order to cope with laser exposure in the near-ultraviolet region, as the charge generation material, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; thioindigo pigments; porphyrazine compounds; zinc oxide; trigonal selenium; Bisazo pigments and the like disclosed in 2004-78147 and JP-A-2005-181992 are preferred.
450nm以上780nm以下に発光の中心波長があるLED,有機ELイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を20μm以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のp−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。 The above-described charge generation material may also be used in the case of using an incoherent light source such as an LED having a central wavelength of light emission of 450 nm to 780 nm and an organic EL image array. However, from the viewpoint of resolution, the photosensitive layer is 20 μm or less. When the thin film is used, the electric field strength in the photosensitive layer is increased, and a charge reduction due to charge injection from the base material, so-called image defects called black spots are likely to occur. This becomes conspicuous when a charge generating material that easily generates a dark current is used in a p-type semiconductor such as trigonal selenium or a phthalocyanine pigment.
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のn−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。n−型の電荷発生材料としては、例えば、特開2012−155282号公報の段落[0288]〜[0291]に記載された化合物(CG−1)〜(CG−27)が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、n−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをn−型とする。
On the other hand, when an n-type semiconductor such as a condensed ring aromatic pigment, perylene pigment, azo pigment or the like is used as the charge generation material, dark current hardly occurs and even a thin film can suppress image defects called black spots. . Examples of the n-type charge generation material include compounds (CG-1) to (CG-27) described in paragraphs [0288] to [0291] of JP2012-155282A. It is not limited.
The n-type determination is performed by using a time-of-flight method that is usually used, and is determined by the polarity of the flowing photocurrent, and an n-type is more likely to flow electrons as carriers than holes.
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノール類と芳香族2価カルボン酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が1013Ωcm以上であることをいう。
これらの結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いられる。
The binder resin used for the charge generation layer is selected from a wide range of insulating resins, and the binder resin is selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinyl anthracene, polyvinyl pyrene, and polysilane. You may choose.
As the binder resin, for example, polyvinyl butyral resin, polyarylate resin (polycondensate of bisphenol and aromatic divalent carboxylic acid, etc.), polycarbonate resin, polyester resin, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Examples thereof include polyamide resin, acrylic resin, polyacrylamide resin, polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, and the like. Here, “insulating” means that the volume resistivity is 10 13 Ωcm or more.
These binder resins are used singly or in combination of two or more.
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で10:1から1:10までの範囲内であることが好ましい。 The mixing ratio of the charge generation material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10 by mass ratio.
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 In addition, the charge generation layer may contain a known additive.
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。 The formation of the charge generation layer is not particularly limited, and a known formation method is used. For example, a coating film of a charge generation layer forming coating solution in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried. And heating as necessary. The charge generation layer may be formed by vapor deposition of a charge generation material. Formation of the charge generation layer by vapor deposition is particularly suitable when a condensed ring aromatic pigment or perylene pigment is used as the charge generation material.
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いる。 Solvents for preparing the charge generation layer forming coating solution include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, n-acetate. -Butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more.
電荷発生層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、更に好ましくは0.15μm以下にすることが有効である。
Examples of a method for dispersing particles (for example, a charge generation material) in a coating solution for forming a charge generation layer include, for example, a media disperser such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, a stirring, an ultrasonic disperser, etc. Medialess dispersers such as roll mills and high-pressure homogenizers are used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which a dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state, and a penetration method in which a fine flow path is dispersed in a high pressure state.
In this dispersion, it is effective that the average particle size of the charge generation material in the coating solution for forming the charge generation layer is 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.15 μm or less. .
電荷発生層形成用塗布液を下引層上(又は中間層上)に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of methods for applying the charge generation layer forming coating solution on the undercoat layer (or on the intermediate layer) include blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, and air knife coating. And usual methods such as a curtain coating method.
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上5.0μm以下、より好ましくは0.2μm以上2.0μm以下の範囲内に設定される。 The film thickness of the charge generation layer is, for example, preferably set in the range of 0.1 μm to 5.0 μm, more preferably 0.2 μm to 2.0 μm.
(電荷輸送層)
本実施形態における感光体は、表面層として、下記一般式(A)で表される構造単位及び下記一般式(B)で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体(以下、「特定ポリカーボネート樹脂」と称する)を含み、残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下である電荷輸送層を有する(条件(1))。
かかる電荷輸送層は、特定ポリカーボネート樹脂を含む結着樹脂中に電荷輸送材料が分散してなる層である。
(Charge transport layer)
The photoreceptor in the present exemplary embodiment includes a surface-layer polycarbonate copolymer having a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B) (hereinafter referred to as “specific polycarbonate resin”). And a charge transport layer having a residual solvent ratio of 0.1% by mass or more and 5.0% by mass or less (condition (1)).
Such a charge transport layer is a layer in which a charge transport material is dispersed in a binder resin containing a specific polycarbonate resin.
−残留溶剤比率について−
本実施形態における電荷輸送層は、残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下である。
残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下であることで、後述するような高硬度のクリーニングブレードに接触する電荷輸送層の粘性及び弾性のバランスが保たれ、クリーニングブレードの接触層と電荷輸送層との間の摩擦力が緩和される。その結果、クリーニングブレードのエッジの摩耗の低減がなされて、クリーニング不良を抑制しうると考えられる。
電荷輸送層の残留溶剤比率は、長期に渡るクリーニング安定性の点から、0.5質量%以上3.0質量%以下の範囲がより好ましい。
-Residual solvent ratio-
The charge transport layer in the present embodiment has a residual solvent ratio of 0.1% by mass or more and 5.0% by mass or less.
When the residual solvent ratio is 0.1% by mass or more and 5.0% by mass or less, the balance between the viscosity and elasticity of the charge transport layer contacting the high-hardness cleaning blade as described later is maintained, and the cleaning blade contact The frictional force between the layer and the charge transport layer is relaxed. As a result, it is considered that the wear of the edge of the cleaning blade is reduced and the cleaning failure can be suppressed.
The residual solvent ratio in the charge transport layer is more preferably in the range of 0.5% by mass or more and 3.0% by mass or less from the viewpoint of long-term cleaning stability.
なお、電荷輸送層の残留溶剤比率は、以下の方法にて測定する。
測定しようとする電荷輸送層と同じ電荷輸送層形成用塗布液、同じ条件にて、同じ厚さの単層の電荷輸送層を、導電性基体(例えばアルミニウム基材)上に形成する。
形成された単層の電荷輸送層を、ガスクロマトグラフシステム(HP6890serieise、Hewlett Packard社製)を用い、残留溶剤量の求め、得られた残留溶剤量から、電荷輸送層中に含まれる残留溶剤の比率を算出する。
In addition, the residual solvent ratio of the charge transport layer is measured by the following method.
A single charge transport layer having the same thickness is formed on a conductive substrate (for example, an aluminum substrate) under the same charge transport layer forming coating solution and the same conditions as the charge transport layer to be measured.
Using the gas chromatograph system (HP6890 series, manufactured by Hewlett Packard) to determine the amount of residual solvent, the ratio of the residual solvent contained in the charge transport layer was determined from the obtained residual solvent amount. Is calculated.
残留溶剤比率の制御方法としては、特に制限されないが、電荷輸送層形成用塗布液中の溶剤について、種類や使用量、混合物であれば混合比率を調整する方法、また、感光体作製時の乾燥条件(特に、電荷輸送層形成の際の乾燥時の温度、乾燥時間等)を調整する方法などで制御することが好ましい。 The method for controlling the residual solvent ratio is not particularly limited, but for the solvent in the coating solution for forming the charge transport layer, the method of adjusting the mixing ratio if it is a type, amount used, or mixture, and drying during photoconductor production It is preferable to control by a method of adjusting the conditions (particularly, the temperature during drying and the drying time when forming the charge transport layer).
−特定ポリカーボネート樹脂−
電荷輸送層は、結着樹脂として、下記一般式(A)で表される構造単位及び下記一般式(B)で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体(特定ポリカーボネート樹脂)を含む。
-Specific polycarbonate resin-
The charge transport layer includes, as a binder resin, a polycarbonate copolymer (specific polycarbonate resin) having a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B).
一般式(A)及び一般式(B)中、R1、R2、R3、及びR4は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数5以上7以下のシクロアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基を表す。Xは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基(好ましくは炭素数1以上12以下)、又はシクロアルキレン基(好ましくは炭素数3以上12以下)を表す。
R1、R2、R3、及びR4としては、水素原子、炭素数1以上6以下のアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基が好ましく、水素原子、メチル基、又はフェニル基が更に好ましい。
また、Xで表される直鎖若しくは分岐アルキレン基としては、−CR5R6−基(但し、R5及びR6は、各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数1以上6以下のアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基を表す。)が好ましい。
In General Formula (A) and General Formula (B), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 5 carbon atoms. It represents a cycloalkyl group having 7 or less or a aryl group having 6 to 12 carbon atoms. X represents a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a linear or branched alkylene group (preferably having 1 to 12 carbon atoms), or a cycloalkylene group (preferably having 3 to 12 carbon atoms).
R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group Is more preferable.
In addition, as the linear or branched alkylene group represented by X, a —CR 5 R 6 — group (where R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a trifluoromethyl group, a carbon number of 1 or more, 6 The following alkyl groups or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms are preferred.
一般式(A)においては、R1及びR2が、共に水素原子である、共に炭素数1以上6以下のアルキル基である、又は共に炭素数6以上12以下のアリール基であることが好ましく、中でも、R1及びR2が、共に水素原子である、共にメチル基である、又は共にフェニル基であることがより好ましい。 In the general formula (A), it is preferable that R 1 and R 2 are both hydrogen atoms, both alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, or both aryl groups having 6 to 12 carbon atoms. Among them, it is more preferable that R 1 and R 2 are both hydrogen atoms, both methyl groups, or both phenyl groups.
一般式(A)で表される構造単位として、具体的には、下記構造式(A1)で表される構造単位であることが望ましい。 Specifically, the structural unit represented by the general formula (A) is preferably a structural unit represented by the following structural formula (A1).
一般式(B)においては、R2及びR4が、共に水素原子である、共に炭素数1以上6以下のアルキル基である、又は共に炭素数6以上12以下のアリール基であることが好ましく、中でも、R2及びR4が、共に水素原子である、共にメチル基である、又は共にフェニル基であることがより好ましい。 In general formula (B), R 2 and R 4 are preferably both hydrogen atoms, both alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms. Among them, it is more preferable that R 2 and R 4 are both hydrogen atoms, both methyl groups, or both phenyl groups.
一般式(B)において、Xは、−CR5R6−基(但し、R5及びR6は、各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数1以上6以下のアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基を表す。)、炭素数5以上11以下の1,1−シクロアルキレン基、炭素数2以上10以下のα,ω−アルキレン基であることが好ましく、−CR5R6−基、炭素数5以上11以下の1,1−シクロアルキレン基がより好ましく、−CR5R6−基が更に望ましい。 In the general formula (B), X is a —CR 5 R 6 — group (wherein R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, a trifluoromethyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or An aryl group having 6 to 12 carbon atoms), a 1,1-cycloalkylene group having 5 to 11 carbon atoms, and an α, ω-alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, preferably —CR A 5 R 6 — group and a 1,1-cycloalkylene group having 5 to 11 carbon atoms are more preferred, and a —CR 5 R 6 — group is more desirable.
また、−CR5R6−基中のR5及びR6は、各々独立に、炭素数1以上6以下のアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基が望ましく、その中でもメチル基、又はフェニル基がより望ましく、メチル基が特に望ましい。 In addition, R 5 and R 6 in the —CR 5 R 6 — group are each independently preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, among which a methyl group, Or a phenyl group is more desirable, and a methyl group is particularly desirable.
一般式(B)で表される構造単位として、具体的には、下記構造式(B1)〜(B3)で表される構造単位であることが望ましい。 Specifically, the structural unit represented by the general formula (B) is preferably a structural unit represented by the following structural formulas (B1) to (B3).
ここで、一般式(A)で表される構造単位と、一般式(B)で表される構造単位と、を含む共重合体であるポリカーボネート樹脂は、例えば、下記一般式(2A)で表される4,4’−ジヒドロキシビフェニル化合物、及び下記一般式(2B)で表されるビスフェノール化合物を原料として用い、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物との重縮合又はビスアリールカーボネートとのエステル交換反応等の方法によって得られる。 Here, the polycarbonate resin which is a copolymer including the structural unit represented by the general formula (A) and the structural unit represented by the general formula (B) is represented by the following general formula (2A), for example. 4,4′-dihydroxybiphenyl compound and bisphenol compound represented by the following general formula (2B) as raw materials, polycondensation with carbonate ester-forming compounds such as phosgene or transesterification reaction with bisaryl carbonate It is obtained by such a method.
一般式(2A)及び(2B)中、R1、R2、R3、R4、及びXは、一般式(A)及び一般式(B)中のものと同義である。 In general formulas (2A) and (2B), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and X have the same meanings as in general formula (A) and general formula (B).
ここで、一般式(2A)で表される4,4’−ジヒドロキシビフェニル化合物として具体的には、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジシクロヘキシルビフェニル、3,3’−ジフルオロ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジフェニルビフェニル等が挙げられる。これら4,4’−ジヒドロキシビフェニル化合物は、1種単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。 Here, as the 4,4′-dihydroxybiphenyl compound represented by the general formula (2A), specifically, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-dihydroxy-3,3′-dimethylbiphenyl, 4 , 4'-dihydroxy-2,2'-dimethylbiphenyl, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dicyclohexylbiphenyl, 3,3'-difluoro-4,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxy -3,3'-diphenylbiphenyl and the like. These 4,4'-dihydroxybiphenyl compounds may be used alone or in combination.
一方、一般式(2B)で表されるビスフェノール化合物として具体的には、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘプタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1−ジフェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2,2−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(2−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)イソブタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ヘプタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−1−フェニルメタン、1,1−ビス(2−tert−アミル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシ−5−クロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)エーテル、1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン等が挙げられる。これらビスフェノール化合物は、1種単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。 On the other hand, specific examples of the bisphenol compound represented by the general formula (2B) include bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, and 1,2-bis (4-hydroxy). Phenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2 -Bis (4-hydroxyphenyl) octane, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) heptane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxy) Phenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylmethane, bis (4-hydroxyphenyl) A Bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2 -Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2- (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2- (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, bis (3-methyl-4-hydroxy) Phenyl) sulfide, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2,2 -Bis (2-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (2-butyl-4-hydroxy) Loxy-5-methylphenyl) butane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-3-methylphenyl) ethane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5) Methylphenyl) propane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) butane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) isobutane 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) heptane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -1-phenylmethane 1,1-bis (2-tert-amyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) butane, bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) methane Bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-bromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-difluoro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dichloro-4-) Hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-bromo-4-hydroxy-5-chlorophenyl) propane, 2,2-bis ( 3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) butane, 1-phenyl-1,1-bis 3-fluoro-4-hydroxyphenyl) ethane, bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) ether, 1,1-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane. These bisphenol compounds may be used alone or in combination.
特定ポリカーボネート樹脂において、一般式(A)で表される構造単位の共重合比は、特定ポリカーボネート樹脂を構成する全構造単位に対して5モル%以上95モル%以下の範囲がよく、望ましくは5モル%以上50モル%以下の範囲、更に望ましくは15モル%以上25モル%以下の範囲である。 In the specific polycarbonate resin, the copolymerization ratio of the structural unit represented by the general formula (A) is preferably in the range of 5 mol% to 95 mol% with respect to all the structural units constituting the specific polycarbonate resin, preferably 5 The range is from mol% to 50 mol%, more preferably from 15 mol% to 25 mol%.
また、特定ポリカーボネート樹脂において、一般式(A)で表される構造単位と一般式(B)で表される構造単位との共重合モル比(下記例示化合物におけるm:n比に相当)は、例えば、一般式(A):一般式(B)=95:5以上5:95以下の範囲がよく、望ましくは50:50以上5:95以下の範囲、更に望ましくは30:70以上10:90以下の範囲である。
また、特定ポリカーボネート樹脂は、一般式(A)で表される構造単位及び一般式(B)で表される構造単位のみで構成されていてもよいが、その他の構造単位を含んでいてもよい。
In the specific polycarbonate resin, the copolymerization molar ratio between the structural unit represented by the general formula (A) and the structural unit represented by the general formula (B) (corresponding to the m: n ratio in the following exemplary compounds) is: For example, the general formula (A): the general formula (B) is preferably in the range of 95: 5 to 5:95, preferably in the range of 50:50 to 5:95, and more preferably in the range of 30:70 to 10:90. The range is as follows.
The specific polycarbonate resin may be composed of only the structural unit represented by the general formula (A) and the structural unit represented by the general formula (B), but may include other structural units. .
特定ポリカーボネート樹脂の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、例示化合物中、m、nは共重合モル比を示す。 Specific examples of the specific polycarbonate resin include, but are not limited to, the following. In the exemplified compounds, m and n represent copolymerization molar ratios.
特定ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量としては、20000以上1200000以下の範囲が望ましく、40000以上100000以下の範囲がより望ましく、60000以上80000以下の範囲が更に望ましい。 As a viscosity average molecular weight of specific polycarbonate resin, the range of 20000 or more and 1200000 or less is desirable, the range of 40000 or more and 100000 or less is more desirable, and the range of 60000 or more and 80000 or less is still more desirable.
なお、特定ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量の測定は、以下の方法で行われる。
即ち、樹脂1gをメチレンクロライド100cm3に溶解し、25℃の測定環境下でウベローデ粘度計にて、その比粘度ηspを測定し、ηsp/c=〔η〕+0.45〔η〕2cの関係式(ただしcは濃度(g/cm3)より極限粘度〔η〕(cm3/g)を求め、H.Schnellによって与えられている式、〔η〕=1.23×10−4Mv0.83の関係式より粘度平均分子量Mvをもとめる一点測定法が用いられる。
In addition, the measurement of the viscosity average molecular weight of specific polycarbonate resin is performed with the following method.
That is, 1 g of resin was dissolved in 100 cm 3 of methylene chloride, and its specific viscosity ηsp was measured with an Ubbelohde viscometer under a measurement environment of 25 ° C., and ηsp / c = [η] +0.45 [η] 2 c Relational formula (where c is the intrinsic viscosity [η] (cm 3 / g) from the concentration (g / cm 3 ) and is given by H. Schnell, [η] = 1.23 × 10 −4 Mv0 A one-point measurement method for obtaining the viscosity average molecular weight Mv from the relational equation of .83 is used.
−その他の結着樹脂−
電荷輸送層は、結着樹脂として、前記した特定ポリカーボネート樹脂以外にも、公知の樹脂を使用してもよい。
その他の結着樹脂としては、例えば、特定ポリカーボネート樹脂以外の例えばビスフェノールAタイプ或いはビスフェノールZタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。
-Other binder resins-
The charge transport layer may use a known resin as the binder resin in addition to the specific polycarbonate resin described above.
Other binder resins include, for example, polycarbonate resins other than specific polycarbonate resins such as bisphenol A type or bisphenol Z type, acrylic resins, methacrylic resins, polyarylate resins, polyester resins, polyvinyl chloride resins, polystyrene resins, acrylonitrile. -Styrene copolymer resin, acrylonitrile-butadiene copolymer resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl formal resin, polysulfone resin, styrene-butadiene copolymer resin, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate- Insulating resins such as maleic anhydride resin, silicone resin, phenol-formaldehyde resin, polyacrylamide resin, polyamide resin, chlorine rubber, and polyvinylcarbazo , Polyvinyl anthracene, organic photoconductive polymers such as polyvinyl pyrene, and the like.
電荷輸送層に含まれる全結着樹脂のうち、特定ポリカーボネート樹脂の含有割合は、全結着樹脂に対して、5モル%以上90モル%以下の範囲がよく、好ましくは5モル%以上50モル%以下の範囲であり、より好ましくは15モル%以上30モル%以下の範囲である。
電荷輸送層に含まれる結着樹脂は、特定ポリカーボネートをはじめ、単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。
Of the total binder resin contained in the charge transport layer, the content ratio of the specific polycarbonate resin is preferably in the range of 5 mol% to 90 mol%, preferably 5 mol% to 50 mol, based on the total binder resin. % Or less, and more preferably 15 mol% or more and 30 mol% or less.
The binder resin contained in the charge transport layer may be used alone, including a specific polycarbonate, or may be used in combination of two or more.
−電荷輸送材料−
本実施形態では、電荷輸送材料として下記一般式(1)で表されるブタジエン構造を有する化合物を用いることが、感度を向上させ、高画質化を目的とした電荷輸送能向上の観点から好ましい。
-Charge transport material-
In the present embodiment, it is preferable to use a compound having a butadiene structure represented by the following general formula (1) as the charge transport material from the viewpoint of improving the charge transport ability for the purpose of improving the sensitivity and improving the image quality.
一般式(1)中、R11、R12、R13、R14、R15、及びR16は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上20以下のアルキル基、炭素数1以上20以下のアルコキシ基、又は炭素数6以上30以下のアリール基を表す。m及びnは、各々独立に、0又は1を表す。 In general formula (1), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. It represents an alkoxy group having 20 or less or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms. m and n each independently represents 0 or 1.
前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、これらの中でもフッ素、塩素が望ましい。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、オクタデシル基などの直鎖のものや、イソプロピル基、t−ブチル基などの分岐鎖が挙げられ、これらの中でもメチル基、エチル基、イソプロピル基が望ましい。
前記アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基などが挙げられ、これらの中でもメトキシ基が望ましい。
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニリル基などが挙げられ、これらの中でもフェニル基、ナフチル基が望ましい。
Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Among these, fluorine and chlorine are preferable.
Examples of the alkyl group include straight chain groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an octyl group, and an octadecyl group, and branched chains such as an isopropyl group and a t-butyl group. Of these, a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group are preferable.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group, and among these, a methoxy group is desirable.
Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, and a biphenylyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are preferable.
また、前記アルキル基、アルコキシ基、及びアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、上記に例示したハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、アリール基が挙げられる。 The alkyl group, alkoxy group, and aryl group each may have a substituent. Examples of such a substituent include the halogen atoms, alkoxy groups, alkyl groups, and aryl groups exemplified above.
なお、R11、R12、R13、R14、R15、及びR16の置換位置としては、p位又はm位が好ましい。 Incidentally, R 11, R 12, R 13, R 14, R 15, and substituting position of R 16 is, p-position or m-position.
一般式(1)において、R11、R12、R13、R14、R15、及びR16としては、上記の中でも、水素原子、アルキル基、又は、アルコキシル基が好ましく、水素原子、炭素数1以上3以下のアルキル基、又は炭素数1以上3以下のアルコキシル基がより好ましく、水素原子、メチル基、メトキシ基が更に好ましい。 In the general formula (1), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxyl group among the above, a hydrogen atom, a carbon number An alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkoxyl group having 1 to 3 carbon atoms is more preferable, and a hydrogen atom, a methyl group, and a methoxy group are still more preferable.
m及びnは、各々独立に、0又は1を表すが、mは0又は1が好ましく、nは0が好ましい。特に、m及びnが共に1であることが好ましい。 m and n each independently represents 0 or 1, but m is preferably 0 or 1, and n is preferably 0. In particular, both m and n are preferably 1.
ここで、一般式(1)で表される化合物における各基の好ましい具体例として、例示化合物1−1乃至1−20を以下に示すが、実施形態はこれら化合物に限定されるものではない。
下記の表記中、置換基に記載されている数値は置換位置を表し、例えば「4−Me」とはメチル基が4位に置換していることを表し、「4−MeO」とはメトキシ基が4位に置換していることを表す。
Here, as preferred specific examples of each group in the compound represented by the general formula (1), exemplary compounds 1-1 to 1-20 are shown below, but the embodiment is not limited to these compounds.
In the following notation, the numerical value described in the substituent represents a substitution position. For example, “4-Me” represents that a methyl group is substituted at the 4-position, and “4-MeO” represents a methoxy group. Is substituted at the 4-position.
一般式(1)で表される化合物は、電荷輸送層の全固形分に対する含有比率が20質量%以上80質量%以下であることがよく、好ましくは40質量%以上60質量%以下である。 The content of the compound represented by the general formula (1) with respect to the total solid content of the charge transport layer may be 20% by mass or more and 80% by mass or less, and preferably 40% by mass or more and 60% by mass or less.
電荷輸送層には、一般式(1)で表される化合物以外にも、他の電荷輸送材料を併用してもよい。また、他の電荷輸送材料として高分子電荷輸送材料を併用してもよい。以下、他の電荷輸送材料について説明する。 In addition to the compound represented by the general formula (1), other charge transport materials may be used in the charge transport layer. In addition, a polymer charge transport material may be used in combination as another charge transport material. Hereinafter, other charge transport materials will be described.
他の電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物;キサントン系化合物;ベンゾフェノン系化合物;シアノビニル系化合物;エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。
また、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。
これらの電荷輸送材料は1種を単独で用いてもよいし、2種以上で用いてもよい。
Other charge transport materials include quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl and anthraquinone; tetracyanoquinodimethane compounds; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone; xanthone compounds; benzophenone Electron transport compounds such as cyanovinyl compounds, ethylene compounds, and the like.
Further, hole transporting compounds such as triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, and hydrazone compounds are also included.
One of these charge transport materials may be used alone, or two or more thereof may be used.
他の電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体が好ましい。 As other charge transport materials, from the viewpoint of charge mobility, a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2) are preferable.
構造式(a−1)中、ArT1、ArT2、及びArT3は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−C6H4−C(RT4)=C(RT5)(RT6)、又は−C6H4−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)を示す。RT4、RT5、RT6、RT7、及びRT8は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In Structural Formula (a-1), Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 are each independently a substituted or unsubstituted aryl group, —C 6 H 4 —C (R T4 ) ═C (R T5 ) (R T6), or -C 6 H 4 -CH = CH- CH = C (R T7) shows the (R T8). R T4 , R T5 , R T6 , R T7 , and R T8 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
Examples of the substituent for each group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the substituent of each group also include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
構造式(a−2)中、RT91及びRT92は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、又は炭素数1以上5以下のアルコキシ基を示す。RT101、RT102、RT111及びRT112は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数1以上2以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−C(RT12)=C(RT13)(RT14)、又は−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)を示し、RT12、RT13、RT14、RT15及びRT16は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Tm1、Tm2、Tn1及びTn2は各々独立に0以上2以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In Structural Formula (a-2), R T91 and R T92 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. R T101 , R T102 , R T111 and R T112 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. A substituted amino group, a substituted or unsubstituted aryl group, —C (R T12 ) ═C (R T13 ) (R T14 ), or —CH═CH— CH═C (R T15 ) (R T16 ), R T12 , R T13 , R T14 , R T15 and R T16 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Tm1, Tm2, Tn1, and Tn2 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less.
Examples of the substituent for each group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Examples of the substituent of each group also include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
ここで、構造式(a−1)で示されるトリアリールアミン誘導体、及び構造式(a−2)で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−C6H4−CH=CH−CH=C(RT7)(RT8)」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−CH=CH−CH=C(RT15)(RT16)」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。 Here, among the triarylamine derivative represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivative represented by the structural formula (a-2), in particular, “—C 6 H 4 —CH═CH—CH═C A triarylamine derivative having “(R T7 ) (R T8 )” and a benzidine derivative having “—CH═CH— CH═C (R T15 ) (R T16 )” are preferable from the viewpoint of charge mobility.
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平8−176293号公報、特開平8−208820号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。 As the polymer charge transporting material, known materials having charge transporting properties such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, polyester-based polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293, JP-A-8-208820 and the like are particularly preferable.
他の電荷輸送材料の具体例としては、例えば、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、N,N’−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン、トリ(p−メチルフェニル)アミニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3−(4’−ジメチルアミノフェニル)−5,6−ジ−(4’−メトキシフェニル)−1,2,4−トリアジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノンジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。 Specific examples of other charge transport materials include, for example, oxadiazole derivatives such as 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,3,5-triphenyl- Pyrazoline, pyrazoline derivatives such as 1- [pyridyl- (2)]-3- (p-diethylaminostyryl) -5- (p-diethylaminostyryl) pyrazoline, triphenylamine, N, N′-bis (3,4 Aromatic tertiary amino compounds such as dimethylphenyl) biphenyl-4-amine, tri (p-methylphenyl) aminyl-4-amine, dibenzylaniline, N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, Aromatic tertiary diamino compounds such as N′-diphenylbenzidine, 3- (4′-dimethylaminophenyl) -5,6-di- (4′-methoxyphenyl) 1,2,4-triazine derivatives such as 1,2,4-triazine, hydrazone derivatives such as 4-diethylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone, quinazoline derivatives such as 2-phenyl-4-styryl-quinazoline, Benzofuran derivatives such as hydroxy-2,3-di (p-methoxyphenyl) benzofuran, α-stilbene derivatives such as p- (2,2-diphenylvinyl) -N, N-diphenylaniline, enamine derivatives, N-ethylcarbazole Carbazole derivatives such as poly-N-vinylcarbazole and derivatives thereof, quinone compounds such as chloranil and bromoanthraquinone, tetracyanoquinone dimethane compounds, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2 , 4,5,7-tetranitro-9-fluoreno And fluorenone compounds such as xanthone, electron transport materials such as xanthone compounds and thiophene compounds, and polymers having a group consisting of the above-described compounds in the main chain or side chain.
一般式(1)で表される化合物と他の電荷輸送材料とを併用する場合の、一般式(1)で表される化合物と他の電荷輸送材料との質量比としては、例えば、1:5から5:1の範囲が挙げられる。 The mass ratio of the compound represented by the general formula (1) to the other charge transporting material when the compound represented by the general formula (1) and the other charge transporting material are used in combination is, for example, 1: A range of 5 to 5: 1 is mentioned.
電荷輸送層中における結着樹脂と電荷輸送材料との質量比としては、例えば、2:8から8:2の範囲がよい。
また、電荷輸送層全体に対する電荷輸送材料の含有量としては、例えば、20質量%以上80質量%以下の範囲が挙げられ、40質量%以上60質量%以下の範囲であってもよい。
The mass ratio of the binder resin and the charge transport material in the charge transport layer is preferably in the range of 2: 8 to 8: 2, for example.
Moreover, as content of the charge transport material with respect to the whole charge transport layer, the range of 20 mass% or more and 80 mass% or less is mentioned, for example, The range of 40 mass% or more and 60 mass% or less may be sufficient.
−添加剤−
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
電荷輸送層は、例えば、フッ素粒子を含んでもよい。
フッ素粒子としては、例えば、フッ素樹脂の粒子が挙げられ、フッ素樹脂としては、フッ化エチレン樹脂、3フッ化塩化エチレン樹脂、6フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、2フッ化2塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体等が挙げられる。これらの中でも特に、4フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
-Additives-
In addition, the charge transport layer may contain a known additive.
The charge transport layer may include, for example, fluorine particles.
Examples of the fluorine particles include fluororesin particles. Examples of the fluororesin include a fluoroethylene resin, a trifluorinated ethylene resin, a hexafluoropropylene resin, a vinyl fluoride resin, a vinylidene fluoride resin, and a two fluorocarbon resin. And a diethylene chloride resin and a copolymer thereof. Among these, tetrafluoroethylene resin and vinylidene fluoride resin are particularly preferable.
フッ素粒子の一次粒径としては、例えば、0.05μm以上1μm以下の範囲が挙げられ、好ましくは0.1μm以上0.5μm以下の範囲である。 As a primary particle size of a fluorine particle, the range of 0.05 micrometer or more and 1 micrometer or less is mentioned, for example, Preferably it is the range of 0.1 micrometer or more and 0.5 micrometer or less.
電荷輸送層中におけるフッ素粒子の含有量としては、例えば、2質量%以上15質量%以下の範囲がよい。 As content of the fluorine particle in a charge transport layer, the range of 2 mass% or more and 15 mass% or less is good, for example.
−電荷輸送層の形成−
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を調製し、この塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
-Formation of charge transport layer-
The formation of the charge transport layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. For example, a coating solution for forming a charge transport layer in which the above components are added to a solvent is prepared, and a coating film of this coating solution is formed. The coating film is dried and heated as necessary.
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、2−ブタノン等のケトン類;塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は2種以上混合して用いる。
なお、本実施形態では、前記した特定ポリカーボネート樹脂の溶解性や、電荷輸送材料の溶解性、感光体の作製時の成膜性等の点から、溶剤としてトルエンを含むことが好ましく、特に、トルエンとテトラヒドロフランとの混合物であることが好ましい。
溶剤が、トルエンとテトラヒドロフランとの混合物である場合、その混合割合(質量割合)は、前記した残留溶剤比率を制御するためにも、トルエンとテトラヒドロフランとの混合物中、トルエンが7割以上含まれることが好ましく、9割以上含まれることがより好ましい。
Solvents for preparing the coating solution for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; ketones such as acetone and 2-butanone; methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Halogenated aliphatic hydrocarbons: Usual organic solvents such as cyclic or linear ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether. These solvents are used alone or in combination of two or more.
In the present embodiment, it is preferable to contain toluene as a solvent from the viewpoints of the solubility of the specific polycarbonate resin, the solubility of the charge transport material, the film forming property at the time of producing the photoreceptor, and in particular, toluene. It is preferable that it is a mixture of water and tetrahydrofuran.
When the solvent is a mixture of toluene and tetrahydrofuran, the mixing ratio (mass ratio) includes 70% or more of toluene in the mixture of toluene and tetrahydrofuran in order to control the residual solvent ratio described above. It is more preferable that 90% or more is included.
電荷輸送層形成用塗布液中にフッ素粒子を含有させる場合、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー等のメディアレス分散機を利用して、弗素粒子を分散させる方法が用いられる。
更に、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが採用されてもよい。
When fluorine particles are included in the coating liquid for forming the charge transport layer, for example, a media disperser such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor or a sand mill, a medium such as a stirrer, an ultrasonic disperser, a roll mill, a high pressure homogenizer, or a nanomizer. A method of dispersing fluorine particles using a loess disperser is used.
Furthermore, as a high-pressure homogenizer, a collision method that disperses the dispersion liquid by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high-pressure state, a penetration method that disperses the fine-fluid through a high-pressure state, or the like may be adopted. Good.
また、電荷輸送層形成用塗布液は、フッ素粒子の分散安定剤として、例えば、フッ素系界面活性剤や、フッ素系グラフトポリマーを含有していてもよい。フッ素系グラフトポリマーとしては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、スチレン化合物等からなるマクロモノマー及びパーフルオロアルキルエチルメタクリレートよりグラフト重合された樹脂等が挙げられる。
フッ素系界面活性剤やフッ素系グラフトポリマーの添加量としては、例えば、フッ素粒子の質量に対して1質量%以上5質量%以下の質量が挙げられる。
The coating solution for forming a charge transport layer may contain, for example, a fluorine-based surfactant or a fluorine-based graft polymer as a dispersion stabilizer for fluorine particles. Examples of the fluorine-based graft polymer include a macromonomer composed of an acrylic ester compound, a methacrylic ester compound, a styrene compound, and a resin graft-polymerized from perfluoroalkylethyl methacrylate.
As addition amount of a fluorine-type surfactant and a fluorine-type graft polymer, the mass of 1 mass% or more and 5 mass% or less is mentioned with respect to the mass of a fluorine particle, for example.
電荷輸送層形成用塗布液を、下層である電荷発生層上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Coating methods for coating the charge transport layer forming coating solution on the lower charge generation layer include blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, and air knife coating. And usual methods such as a curtain coating method.
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは20μm以上50μm以下、より好ましくは20μm以上40μm以下の範囲内に設定される。 The film thickness of the charge transport layer is, for example, preferably set in a range of 20 μm to 50 μm, more preferably 20 μm to 40 μm.
(感光層への添加剤)
前述した電荷発生層及び電荷輸送層からなる感光層に対しては、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、或いは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
(Additive to photosensitive layer)
For the photosensitive layer comprising the charge generation layer and the charge transport layer described above, an antioxidant, for the purpose of preventing deterioration of the photoreceptor due to ozone, oxidizing gas, or light or heat generated in the image forming apparatus, Additives such as a light stabilizer and a heat stabilizer may be added.
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。 Examples of the antioxidant include hindered phenol, hindered amine, paraphenylenediamine, arylalkane, hydroquinone, spirochroman, spiroidanone and their derivatives, organic sulfur compounds, and organic phosphorus compounds.
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、スチレン化フェノール、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−t−ブチル−6−(3’−t−ブチル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチル−フェノール)、4,4’−チオ−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート]−メタン、3,9−ビス[2−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンなどが挙げられる。
ヒンダードアミン系化合物では、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、1−[2−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]エチル]−4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、8−ベンジル−7,7,9,9−テトラメチル−3−オクチル−1,3,8−トリアザスピロ[4,5]ウンデカン−2,4−ジオン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイミル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,3,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}]、2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン−2,4−ビス[N−ブチル−N−(1,2,2,6,6,−ペンタメチル−4ピペリジル)アミノ]−6−クロロ−1,3,5−トリアジン縮合物などが挙げられる。
有機硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピオネート)、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオネート、2−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。
有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−フォスフィートなどが挙げられる。
As specific examples of antioxidants, phenolic antioxidants include 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, styrenated phenol, n-octadecyl-3- (3 ′, 5′- Di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-t-butyl-6- (3'-t- Butyl-5'-methyl-2'-hydroxybenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-tert-butyl-phenol), 4,4'-thio- Bis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,3,5-tris (4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-dimethylbenzyl) isocyanurate, tetrakis- [methylene-3- ( 3 ', 5 '-Di-t-butyl-4'-hydroxy-phenyl) propionate] -methane, 3,9-bis [2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane and the like.
Among hindered amine compounds, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 1- [2- [ 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2 , 2,6,6-tetramethylpiperidine, 8-benzyl-7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] undecane-2,4-dione, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine succinate Condensate, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diimyl} {(2,2,6,6-tetramethyl- 4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,3,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2- n-Butylmalonate bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), N, N′-bis (3-aminopropyl) ethylenediamine-2,4-bis [N-butyl-N— (1,2,2,6,6, -pentamethyl-4piperidyl) amino] -6-chloro-1,3,5-triazine condensate and the like.
Examples of organic sulfur-based antioxidants include dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis. -(Β-lauryl-thiopropionate), ditridecyl-3,3′-thiodipropionate, 2-mercaptobenzimidazole and the like.
Examples of the organophosphorus antioxidant include trisnonylphenyl phosfte, triphenyl phosfte, tris (2,4-di-t-butylphenyl) -phosfte and the like.
有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は2次酸化防止剤と言われ、フェノール系或いはアミン系などの1次酸化防止剤と併用することにより相乗効果が得られる。 The organic sulfur-based and organic phosphorus-based antioxidants are called secondary antioxidants, and a synergistic effect can be obtained by using them together with primary antioxidants such as phenolic or amine-based antioxidants.
光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。 Examples of the light stabilizer include derivatives such as benzophenone, benzotriazole, dithiocarbamate, and tetramethylpiperidine.
光安定剤の具体的な化合物例として、ベンゾフェノン系光安定剤では、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、2−(−2’−ヒドロキシ−5’メチルフェニル−)−ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(3’’,4’’,5’’,6’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル)−5’−メチルフェニル]−ベンゾトリアゾール、2−(−2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル−)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル−)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−t−ブチルフェニル−)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−アミルフェニル−)−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
その他の化合物としては、2,4,ジ−t−ブチルフェニル−3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等がある。
Specific examples of the light stabilizer include benzophenone-based light stabilizers such as 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, and 2,2′-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone. Etc.
Examples of the benzotriazole light stabilizer include 2-(-2′-hydroxy-5′methylphenyl-)-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ′). ', 6''-tetra-hydrophthalimido-methyl)-5'-methylphenyl] -benzotriazole, 2-(-2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl-)-5 Chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl-)-5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-butyl) Phenyl-)-benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) -benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amylphenyl-)- Such as benzotriazole. .
Other compounds include 2,4, di-t-butylphenyl-3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzoate, nickel dibutyl-dithiocarbamate, and the like.
また、電子受容性物質を感光層に含有させてもよい。
電子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸などが挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Cl、CN、NO2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
Further, an electron accepting substance may be contained in the photosensitive layer.
Examples of the electron accepting substance include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene. , Chloranil, dinitroanthraquinone, trinitrofluorenone, picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, phthalic acid and the like. Of these, fluorenone-based, quinone-based, and benzene derivatives having electron-withdrawing substituents such as Cl, CN, NO 2 are particularly preferable.
また、電荷輸送層及び電荷発生層を形成する際に用いる塗布液には、塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを添加してもよい。 Further, silicone oil may be added as a leveling agent for improving the smoothness of the coating film to the coating liquid used when forming the charge transport layer and the charge generation layer.
〔帯電手段〕
帯電手段としては、図1に示すように、画像形成装置200においては、帯電ロール402a,402b,402c,402dを用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
帯電手段の他の例としては、例えば、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用されてもよい。
また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等が用いられてもよい。
(Charging means)
As the charging means, as shown in FIG. 1, the image forming apparatus 200 uses charging rolls 402a, 402b, 402c, and 402d. However, the embodiment is not limited to this.
As another example of the charging unit, for example, a contact charger using a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a charging tube, or the like may be used.
In addition, a non-contact type roller charger, a known charger such as a scorotron charger using a corona discharge or a corotron charger may be used.
〔静電潜像形成手段〕
露光手段としては、例えば、電子写真感光体の表面に、定められた像様の静電潜像を形成しうる光学系機器等が挙げられる。
図1に示すように、画像形成装置200においては、レーザ光源403を静電潜像形成手段として用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
静電潜像形成手段としては、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の露光光源が用いられる。
光源の波長は、電子写真感光体の分光感度領域内とする。
半導体レーザ光の波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
[Electrostatic latent image forming means]
Examples of the exposure means include optical system equipment that can form a predetermined image-like electrostatic latent image on the surface of the electrophotographic photosensitive member.
As shown in FIG. 1, in the image forming apparatus 200, the laser light source 403 is used as an electrostatic latent image forming unit, but the embodiment is not limited to this.
As the electrostatic latent image forming means, an exposure light source such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light is used.
The wavelength of the light source is within the spectral sensitivity region of the electrophotographic photosensitive member.
As the wavelength of the semiconductor laser light, near infrared having an oscillation wavelength near 780 nm is the mainstream. However, the present invention is not limited to this wavelength, and an oscillation wavelength laser in the 600 nm range or a laser having an oscillation wavelength of 400 nm to 450 nm as a blue laser may be used. In addition, a surface-emitting type laser light source that can output a multi-beam is also effective for color image formation.
〔現像手段〕
現像手段としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。
現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも、現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
[Development means]
As the developing means, for example, a general developing device that performs development by bringing a developer into contact or non-contact with the developer can be used.
The developing device is not particularly limited as long as it has the functions described above, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of attaching a one-component developer or a two-component developer to an electrophotographic photosensitive member using a brush, a roller, or the like can be used. Among these, those using a developing roller holding a developer on the surface are preferable.
ここで、現像手段(現像装置)に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。 Here, the developer used in the developing means (developing device) may be a single component developer of toner alone or a two component developer containing toner and carrier. Further, the developer may be magnetic or non-magnetic. A well-known thing is applied for these developers.
〔転写手段〕
転写手段としては、図1に示すように、画像形成装置200においては、中間転写体を用いた中間転写方式が採用され、一次転写ロール410a,410b,410c,410d、及び、二次転写ロール413を用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
転写手段の他の例としては、例えば、転写コロトロンや転写ロール等を用いた直接転写方式、記録媒体を静電的に吸着して搬送し感光体上のトナー像を転写する転写ベルト方式を利用した転写手段などが挙げられる。
転写手段には、例えば、ロールの他、ベルト、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が使用される。
[Transfer means]
As the transfer means, as shown in FIG. 1, the image forming apparatus 200 employs an intermediate transfer method using an intermediate transfer member, and includes primary transfer rolls 410a, 410b, 410c, 410d, and secondary transfer rolls 413. However, the embodiment is not limited to this.
Other examples of transfer means include, for example, a direct transfer method using a transfer corotron, a transfer roll, or the like, or a transfer belt method in which a recording medium is electrostatically attracted and conveyed to transfer a toner image on a photosensitive member. Transfer means.
As the transfer means, for example, a contact type transfer charger using a belt, a film, a rubber blade or the like in addition to a roll, a known transfer charger such as a scorotron transfer charger using a corona discharge or a corotron transfer charger. Is used.
〔中間転写体〕
中間転写体としては、図1に示すように、画像形成装置200においては、中間転写ベルト409を用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
中間転写ベルトとしては、半導電性を付与した、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むものが使用される。
また、中間転写体の形態としては、ベルト状に限定されず、ドラム状のものを用いてもよい。
[Intermediate transfer member]
As shown in FIG. 1, the intermediate transfer belt 409 is used as the intermediate transfer member in the image forming apparatus 200, but the embodiment is not limited to this.
As the intermediate transfer belt, a belt containing polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber or the like having semiconductivity is used.
Further, the form of the intermediate transfer member is not limited to a belt shape, and a drum shape may be used.
〔クリーニング手段〕
本実施形態におけるクリーニング手段は、下記条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、該クリーニングブレードを電子写真感光体の表面に接触させて当該電子写真感光体の表面の残留物を除去するものである。
条件(2):支持部材上に、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントを有するポリウレタンゴムを含有し、硬さがA82以上であって、電子写真感光体の電荷輸送層に接触する接触層を有すること
[Cleaning means]
The cleaning means in this embodiment has a cleaning blade that satisfies the following condition (2), and removes the residue on the surface of the electrophotographic photosensitive member by bringing the cleaning blade into contact with the surface of the electrophotographic photosensitive member. is there.
Condition (2): Contact comprising a polyurethane rubber having a hard segment including a structural unit derived from polyester polyol on a support member, having a hardness of A82 or more and contacting the charge transport layer of the electrophotographic photosensitive member Having a layer
本実施形態におけるクリーニング手段について、図3を参照して説明する。
ここで、図3は、本実施形態におけるクリーニング手段(ドラムクリーナ)の一例を示す概略構成図である。
図3に示されるクリーニング手段は、図1に示される画像形成装置200における感光体1aに対し設けられたものであって、回転する感光体1aの表面に接触し、転写後の残留トナー等の残留物を除去するクリーニングブレード100a、回収されたトナー等を回収ボックス(不図示)に搬出する回収オーガ300を備えている。
また、クリーニングブレード100aは、支持部材110上に弾性層140が接合された構成を有しており、該弾性層140は、下地層120と、下地層120よりも硬さが大きく、感光体1aの表面(電荷輸送層の表面)に接触する接触層130と、からなる積層体である。
The cleaning means in this embodiment will be described with reference to FIG.
Here, FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a cleaning unit (drum cleaner) in the present embodiment.
The cleaning unit shown in FIG. 3 is provided for the photoconductor 1a in the image forming apparatus 200 shown in FIG. 1, and is in contact with the surface of the rotating photoconductor 1a to remove residual toner and the like after transfer. A cleaning blade 100a for removing residues and a recovery auger 300 for carrying out recovered toner and the like to a recovery box (not shown) are provided.
The cleaning blade 100a has a configuration in which an elastic layer 140 is bonded onto the support member 110. The elastic layer 140 is harder than the base layer 120 and the base layer 120, and the photoreceptor 1a. And a contact layer 130 in contact with the surface (the surface of the charge transport layer).
かかるクリーニング手段は、接触層130の感光体1aに接する角度Aが7.0°以上15.5°以下に設定されることが好ましい。
また、クリーニング手段の感光体1aに対する押し付け圧Nは、0.6gf/mm2以上6.0gf/mm2以下に設定されることが好ましい。
ここで、上記角度Aとは、具体的には、図3に示すように、感光体1aの回転軸方向から見て、クリーニングブレード100aの接触層130が感光体1aと向き合う側の面と、クリーニングブレード100aの接触層130が感光体1aに接する位置における接線Lの回転方向上流側との成す角度(°)である。
また、上記押し付け圧Nとは、図3に示すように、クリーニングブレード100aの接触層130が感光体1aに接する位置において感光体1aの中心に向けて押し付ける圧力(gf/mm2)である。
In such cleaning means, it is preferable that the angle A of the contact layer 130 contacting the photoreceptor 1a is set to 7.0 ° or more and 15.5 ° or less.
In addition, the pressing pressure N of the cleaning unit against the photosensitive member 1a is preferably set to 0.6 gf / mm 2 or more and 6.0 gf / mm 2 or less.
Here, the angle A specifically refers to the surface on the side where the contact layer 130 of the cleaning blade 100a faces the photoreceptor 1a when viewed from the rotational axis direction of the photoreceptor 1a, as shown in FIG. This is an angle (°) between the contact layer 130 of the cleaning blade 100a and the upstream side in the rotation direction of the tangent L at a position where the contact layer 130 contacts the photoreceptor 1a.
Further, the pressing pressure N is a pressure (gf / mm 2 ) pressing toward the center of the photoreceptor 1a at a position where the contact layer 130 of the cleaning blade 100a contacts the photoreceptor 1a as shown in FIG.
なお、本実施形態におけるクリーニングブレードは、図3に示すような、クリーニングブレード100aのように、板状形状が好ましく、弾性層140(下地層120及び接触層130)は、遠心成形、押し出し成形、型成形等を利用して形成すればよい。 Note that the cleaning blade in the present embodiment is preferably plate-like like the cleaning blade 100a as shown in FIG. 3, and the elastic layer 140 (the base layer 120 and the contact layer 130) is formed by centrifugal molding, extrusion molding, What is necessary is just to form using mold forming.
−支持部材−
支持部材110は、下地層120及び接触層130を支持すると共に、接触層130を感光体1aに対し、上記の押し付け圧で押し付ける部材である。
支持部材110を構成する材料としては、アルミニウム、ステンレス等の金属が挙げられる。
-Support member-
The support member 110 is a member that supports the base layer 120 and the contact layer 130 and presses the contact layer 130 against the photoreceptor 1a with the above-described pressing pressure.
Examples of the material constituting the support member 110 include metals such as aluminum and stainless steel.
−下地層−
下地層120は、接着剤等を用いた支持部材110に接合する層であって、弾性層である。
下地層120は、エネルギーを吸収し、振動を抑える等の点から、接触層130に比べて硬度が小さいものが好ましい。
下地層120を構成する材料としては、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、アクリルゴム、アクリロニトリルゴム、ブタジエン系ゴム、スチレン系ゴム、クロロプレンゴム、或いはこれらの複合材が挙げられる。
下地層120の厚さとしては、0.5mm以上3.0mm以下の範囲がよく、より好ましくは1.0mm以上3.0mm以下の範囲であり、更に好ましくは1.0mm以上2.0mm以下の範囲である。
-Underlayer-
The underlayer 120 is a layer bonded to the support member 110 using an adhesive or the like, and is an elastic layer.
The underlayer 120 preferably has a lower hardness than the contact layer 130 in terms of absorbing energy and suppressing vibration.
Examples of the material constituting the base layer 120 include polyurethane rubber, silicone rubber, acrylic rubber, acrylonitrile rubber, butadiene rubber, styrene rubber, chloroprene rubber, or a composite material thereof.
The thickness of the underlayer 120 is preferably in the range of 0.5 mm to 3.0 mm, more preferably in the range of 1.0 mm to 3.0 mm, and still more preferably in the range of 1.0 mm to 2.0 mm. It is a range.
−接触層−
接触層130は、前記条件(2)にもあるように、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントを有するポリウレタンゴムを含有する。
つまり、接触層130に含有されるポリウレタンゴムは、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントと、ソフトセグメントと、を含むポリウレタンゴムであることになる。
ここで、「ハードセグメント」及び「ソフトセグメント」とは、ポリウレタンゴム中で、前者を構成する材料の方が、後者を構成する材料よりも相対的に硬いセグメントを意味し、後者を構成する材料の方が、前者を構成する材料よりも相対的に柔らかいセグメントを意味する。
-Contact layer-
The contact layer 130 contains a polyurethane rubber having a hard segment including a structural unit derived from a polyester polyol as in the condition (2).
That is, the polyurethane rubber contained in the contact layer 130 is a polyurethane rubber containing a hard segment including a structural unit derived from a polyester polyol and a soft segment.
Here, the “hard segment” and the “soft segment” mean a segment in the polyurethane rubber in which the material constituting the former is relatively harder than the material constituting the latter, and the material constituting the latter Means a relatively softer segment than the material constituting the former.
本実施形態では、ハードセグメントを得る材料(ハードセグメント材料)としてポリエステルポリオールが用いられる。
ポリエステルポリオールとしては、ポリカプロラクトンポリオール、1,10−デカンジオール、1,11−ウンデカンジオール等のジオールとシュウ酸、マロン酸、コハク酸等のジカルボン酸を縮合させたものなどが挙げられる。
ハードセグメント材料の重量平均分子量は、1000以上5000以下の範囲内であることが好ましく、1000以上3000以下の範囲内であることがより好ましい。
ハードセグメント材料であるポリエステルポリオールとしては、例えば、株式会社ダイセル製の、プラクセル205、プラクセル240などが挙げられる。
In this embodiment, a polyester polyol is used as a material for obtaining a hard segment (hard segment material).
Examples of the polyester polyol include those obtained by condensing diols such as polycaprolactone polyol, 1,10-decanediol, and 1,11-undecanediol with dicarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, and succinic acid.
The weight average molecular weight of the hard segment material is preferably in the range of 1000 or more and 5000 or less, and more preferably in the range of 1000 or more and 3000 or less.
Examples of the polyester polyol that is a hard segment material include Plaxel 205 and Plaxel 240 manufactured by Daicel Corporation.
上記のようなハードセグメント材料に組み合わせるソフトセグメントを得る材料(ソフトセグメント材料)としては、イソシアネート基に対して反応する官能基を有する樹脂を用いることが好ましい。
また、ソフトセグメント材料としては、柔軟性のある樹脂であることが望ましく、柔軟性の点から直鎖構造を有する脂肪族系の樹脂であることがより望ましい。具体例としては、2つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂や、2つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂、2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂等を用いることが望ましい。
As a material (soft segment material) for obtaining a soft segment to be combined with the hard segment material as described above, it is preferable to use a resin having a functional group that reacts with an isocyanate group.
The soft segment material is preferably a flexible resin, and more preferably an aliphatic resin having a linear structure from the viewpoint of flexibility. As a specific example, it is desirable to use an acrylic resin containing two or more hydroxyl groups, a polybutadiene resin containing two or more hydroxyl groups, an epoxy resin having two or more epoxy groups, and the like.
2つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂としては、例えば、綜研化学社製のアクトフロー(グレード:UMB−2005B、UMB−2005P、UMB−2005、UME−2005等)が挙げられ、2つ以上のヒドロキシル基を含むポリブタジエン樹脂としては、例えば、出光興産社製、R−45HT等が挙げられる。 Examples of the acrylic resin containing two or more hydroxyl groups include Act Flow (grade: UMB-2005B, UMB-2005P, UMB-2005, UME-2005, etc.) manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. Examples of the polybutadiene resin containing a hydroxyl group include R-45HT manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.
また、2つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、従来の一般的なエポキシ樹脂のように硬くて脆い性質を有するものではなく、従来のエポキシ樹脂よりも柔軟強靭性であるものが好ましい。
このようなエポキシ樹脂としては、例えば、分子構造の面では、その主鎖構造中に、主鎖の可動性が高くなるような構造(柔軟性骨格)を有するものが好適であり、柔軟性骨格としては、アルキレン骨格や、シクロアルカン骨格、ポリオキシアルキレン骨格等が挙げられるが、特にポリオキシアルキレン骨格が好適である。
また、物性面では、従来のエポキシ樹脂と比べて、分子量に比して粘度が低いエポキシ樹脂が好適である。具体的には、重量平均分子量が900±100の範囲内程度であり、25℃における粘度が15000±5000mPa・sの範囲内であることが好ましく、15000±3000mPa・sの範囲内であることがより好ましい。このような特性を有するエポキシ樹脂としては、例えば、DIC社製、EPLICON EXA−4850−150等が挙げられる。
Moreover, as an epoxy resin which has two or more epoxy groups, it is not what has a hard and brittle property like the conventional general epoxy resin, and what is flexible toughness rather than the conventional epoxy resin is preferable.
As such an epoxy resin, for example, in terms of molecular structure, an epoxy resin having a structure (flexible skeleton) that increases the mobility of the main chain is preferable in the main chain structure. Examples thereof include an alkylene skeleton, a cycloalkane skeleton, a polyoxyalkylene skeleton, and the like, and a polyoxyalkylene skeleton is particularly preferable.
In terms of physical properties, an epoxy resin having a lower viscosity than the molecular weight of the conventional epoxy resin is preferable. Specifically, the weight average molecular weight is approximately in the range of 900 ± 100, the viscosity at 25 ° C. is preferably in the range of 15000 ± 5000 mPa · s, and is preferably in the range of 15000 ± 3000 mPa · s. More preferred. As an epoxy resin which has such a characteristic, the product made by DIC, EPLICON EXA-4850-150, etc. are mentioned, for example.
ここで、ハードセグメント材料及びソフトセグメント材料の総量に対するハードセグメントを構成する材料の質量比(以下、「ハードセグメント材料比」と称す場合がある)としては、46質量%以上96質量%以下の範囲内であることが好ましく、50質量%以上90質量%以下の範囲内であることがより好ましく、60質量%以上85質量%以下の範囲内であることが更に好ましい。 Here, the mass ratio of the material constituting the hard segment to the total amount of the hard segment material and the soft segment material (hereinafter sometimes referred to as “hard segment material ratio”) ranges from 46 mass% to 96 mass%. It is preferably within the range, more preferably within the range of 50% by mass to 90% by mass, and still more preferably within the range of 60% by mass to 85% by mass.
接触層130に含まれるポリウレタンゴムの合成に用いられるポリイソシアネートとしては、例えば、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、2,6−トルエンジイソシアネート(TDI)、1,6−ヘキサンジイソシアネート(HDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)及び3,3−ジメチルフェニル−4,4−ジイソシアネート(TODI)などが挙げられる。 Examples of the polyisocyanate used for the synthesis of the polyurethane rubber contained in the contact layer 130 include 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 2,6-toluene diisocyanate (TDI), and 1,6-hexane diisocyanate (HDI). 1,5-naphthalene diisocyanate (NDI), 3,3-dimethylphenyl-4,4-diisocyanate (TODI), and the like.
ポリイソシアネートの含有量は、ポリウレタンゴムの全重合成分に対して、5モル%以上30モル%以下がよく、望ましくは8モル%以上20モル%以下である。
この範囲であると、ハードセグメント及びソフトセグメントのバランスに優れ、後述するような硬度を有する接触層130が得られる。
The content of the polyisocyanate is preferably 5 mol% or more and 30 mol% or less, and preferably 8 mol% or more and 20 mol% or less with respect to all the polymerization components of the polyurethane rubber.
Within this range, the contact layer 130 having an excellent balance between the hard segment and the soft segment and having hardness as described later can be obtained.
また、ポリウレタンゴムの合成に際し、架橋剤を用いてもよい。
架橋剤としては、前述したハードセグメント材料及びソフトセグメント材料とは異なる、低分子の、ジオール(2官能)、トリオール(3官能)、テトラオール(4官能)等が挙げられる。また、架橋剤としてアミン系化合物を用いてもよい。
なお、ジオールとしては、1,4−ブタンジオール、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール等が挙げられ、トリオールとしては、例えば、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリイソプロパノールアミン等が挙げられる。
In the synthesis of polyurethane rubber, a crosslinking agent may be used.
Examples of the crosslinking agent include low molecular weight diol (bifunctional), triol (trifunctional), tetraol (tetrafunctional), and the like, which are different from the hard segment material and soft segment material described above. An amine compound may be used as a crosslinking agent.
Examples of the diol include 1,4-butanediol, ethylene glycol, 1,3-propanediol, and examples of the triol include trimethylolpropane, glycerin, triisopropanolamine, and the like.
架橋剤の配合量は、イソシアネート基に対して反応し得る官能基を有する材料(ポリエステルポリオール(ハードセグメント材料)及びソフトセグメント材料)に対し、2質量%未満とすることが好ましい。架橋剤の上記配合量が2質量%未満であれば、分子運動が化学架橋で拘束され難く、熟成によるウレタン結合由来のハードセグメントが大きく成長し、十分な硬度が得られ易い。 The blending amount of the crosslinking agent is preferably less than 2% by mass with respect to materials having a functional group capable of reacting with isocyanate groups (polyester polyol (hard segment material) and soft segment material). When the blending amount of the crosslinking agent is less than 2% by mass, the molecular motion is not easily restrained by chemical crosslinking, and the hard segment derived from the urethane bond by aging grows large, and sufficient hardness is easily obtained.
接触層130は、前記条件(2)にもあるように、硬さがA82以上(より好ましくはA82以上A89以下)の弾性層である。
ここで、硬さ(以下「JIS−A硬度」という場合がある)は、JIS K 7311に示される硬さ試験法に従い、JIS K 7215に規定されるタイプAデュプロメータを用いて測定された値をいう。
JIS−A硬度がA82以上であると、高硬度であって、感光体表面の残留物の除去性に優れる。
The contact layer 130 is an elastic layer having a hardness of A82 or more (more preferably A82 or more and A89 or less) as in the condition (2).
Here, the hardness (hereinafter sometimes referred to as “JIS-A hardness”) is a value measured using a type A duprometer specified in JIS K 7215 in accordance with the hardness test method shown in JIS K 7311. Say.
When the JIS-A hardness is A82 or higher, the hardness is high and the removability of the residue on the surface of the photoreceptor is excellent.
また、接触層130は、反発弾性が35%以上45%以下であることが好ましい。
反発弾性の測定は、JIS K6255加硫ゴム及び熱可塑性ゴムの反発弾性試験方法のリュプケ式反発弾性試験に準ずるものである。
反発弾性の測定に際しては、測定対象となる測定試料が、測定時の測定条件の温度になっているように、予め当該温度下(23℃における反発弾性を測定する場合には、23℃環境下)に、試料を十分に放置しておくことが望ましい。
The contact layer 130 preferably has a resilience of 35% or more and 45% or less.
The measurement of impact resilience is in accordance with the Lübke impact resilience test of the impact resilience test method for JIS K6255 vulcanized rubber and thermoplastic rubber.
At the time of measuring the impact resilience, the measurement sample to be measured is in advance at the temperature of the measurement conditions at the time of measurement (when the impact resilience at 23 ° C. is measured, in the environment of 23 ° C. It is desirable to leave the sample sufficiently.
更に、接触層130は、100%モジュラスが6.5Mpa以上であることが好ましく、7.0Mpa以上であることがより好ましく、9.0MPa以上であることが更に好ましい。
接触層130の100%モジュラスが6.5MPa以上であると、接触層130の動的なたわみが大きくならず、感光体の偏磨耗を生じさせ難い。
一方、100%モジュラスは、感光体に対する追従性の低下を抑制するために、19.6MPa以下であることが好ましく、15.0MPa以下であることがより好ましい。
Furthermore, the contact layer 130 preferably has a 100% modulus of 6.5 MPa or more, more preferably 7.0 MPa or more, and even more preferably 9.0 MPa or more.
When the 100% modulus of the contact layer 130 is 6.5 MPa or more, the dynamic deflection of the contact layer 130 does not increase and it is difficult to cause uneven wear of the photoreceptor.
On the other hand, the 100% modulus is preferably 19.6 MPa or less, and more preferably 15.0 MPa or less, in order to suppress a decrease in followability to the photoreceptor.
加えて、接触層130は、その破断伸びが250%以上であることが好ましく、300%以上であることがより好ましく、350%以上であることが更に好ましい。
破断伸びが250%以上であると、感光体表面の残留物とクリーニングブレード100aの先端とが強い力で衝突した際に、クリーニングブレード100aの先端が追従変形し、エッジ部の欠けの発生を抑制しうる。
一方、クリーニングブレード100aの磨耗抑制の観点から、接触層130の破断伸びは500%以下であることが好ましく、450%以下であることがより好ましく、400%以下であることが更に好ましい。
In addition, the contact layer 130 preferably has an elongation at break of 250% or more, more preferably 300% or more, and still more preferably 350% or more.
When the elongation at break is 250% or more, when the residue on the surface of the photoreceptor collides with the tip of the cleaning blade 100a with a strong force, the tip of the cleaning blade 100a is deformed following, and the occurrence of chipping at the edge portion is suppressed. Yes.
On the other hand, from the viewpoint of suppressing wear of the cleaning blade 100a, the breaking elongation of the contact layer 130 is preferably 500% or less, more preferably 450% or less, and still more preferably 400% or less.
なお、100%モジュラス及び破断伸びはいずれも、J1S K 6251に準拠して測定されるものである。
即ち、ダンベル状3号形試験片を用い、引張速度500mm/minで計測して応力−歪み曲線を得(環境温度23℃)、この曲線を基に得られるものである。なお、測定装置は、東洋精機(株)製、ストログラフAEエラストマーを用いる。
The 100% modulus and elongation at break are both measured according to J1SK 6251.
That is, a dumbbell-shaped No. 3 test piece is used and measured at a tensile speed of 500 mm / min to obtain a stress-strain curve (ambient temperature 23 ° C.), which is obtained based on this curve. In addition, the measuring apparatus uses the Toyo Seiki Co., Ltd. product and the strograph AE elastomer.
以上、接触層130における、JIS−A硬度、反発弾性、100%モジュラス、及び破断時伸びについて説明したが、これらの物性は、接触層130とその下層である下地層120との積層体である弾性層140としての物性であってもよい。
即ち、前述した、JIS−A硬度、反発弾性、100%モジュラス、及び破断時伸びにおける各々の好ましい範囲は、弾性層140(接触層130と下地層120との積層体)の好ましい範囲であってもよい。
The JIS-A hardness, impact resilience, 100% modulus, and elongation at break have been described in the contact layer 130. These physical properties are a laminate of the contact layer 130 and the underlying layer 120 that is the lower layer. The physical properties of the elastic layer 140 may be used.
That is, the preferable ranges of the JIS-A hardness, the impact resilience, the 100% modulus, and the elongation at break described above are the preferable ranges of the elastic layer 140 (a laminate of the contact layer 130 and the underlayer 120). Also good.
以上、図面を参照して、本実施形態に係る画像形成装置について一例を挙げて説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。
例えば、本実施形態に係る画像形成装置は、転写ユニット及び排紙位置が、感光体を含む画像形成ユニットに対し下方に設置され、クリーニングブレードが感光体の上方から接触するように配置されている構成であってもよい。
The image forming apparatus according to this embodiment has been described above with reference to the drawings, but the embodiment is not limited thereto.
For example, in the image forming apparatus according to the present embodiment, the transfer unit and the paper discharge position are disposed below the image forming unit including the photoconductor, and the cleaning blade is disposed so as to contact from above the photoconductor. It may be a configuration.
以下、実施例を挙げて本実施形態を具体的に説明するが、本実施形態は以下に示す実施例にのみ限定されるものではない。なお、実施例中において「部」及び「%」は、特に断りのない限り「質量部」及び「質量%」を意味する。 Hereinafter, although an example is given and this embodiment is explained concretely, this embodiment is not limited only to an example shown below. In the examples, “parts” and “%” mean “parts by mass” and “% by mass” unless otherwise specified.
<感光体の作製>
〔感光体1−1、1−2の作製〕
酸化亜鉛(平均粒子径:70nm、テイカ社製、比表面積値:15m2/g)100質量部をメタノール500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、KBM603(信越化学工業社製)0.75質量部を添加し、2時間攪拌した。その後、メタノールを減圧蒸留にて留去し、120℃で3時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
<Production of photoconductor>
[Preparation of Photoreceptors 1-1 and 1-2]
100 parts by mass of zinc oxide (average particle size: 70 nm, manufactured by Teika, specific surface area value: 15 m 2 / g) is stirred and mixed with 500 parts by mass of methanol, and KBM603 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0 is used as a silane coupling agent. .75 parts by mass was added and stirred for 2 hours. Thereafter, methanol was distilled off under reduced pressure, and baking was performed at 120 ° C. for 3 hours to obtain silane coupling agent surface-treated zinc oxide particles.
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子60質量部と、下記構造の電子受容性化合物(4−エトキシ−1,2−ジヒドロキシアントラキノン)を1.2質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート(スミジュール3173、住友バイエルンウレタン社製)13.5質量部と、ブチラール樹脂(エスレックBM−1、積水化学工業社製)15質量部とを、メチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部と、メチルエチルケトン25質量部とを混合し、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート0.005質量部と、シリコーン樹脂粒子(トスパール145、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製)4.0質量部とを添加し、下引層形成用塗布液を得た。下引層形成用塗布液の塗布温度(24℃)における粘度は235mPa・sであった。
この塗布液を、浸漬塗布法にて塗布速度220mm/minで直径30mmのアルミニウム基材上に塗布し、180℃、40分の乾燥硬化を行い厚さ25μmの下引層を得た。
60 parts by mass of the surface-treated zinc oxide particles, 1.2 parts by mass of an electron-accepting compound (4-ethoxy-1,2-dihydroxyanthraquinone) having the following structure, and blocked isocyanate (Sumidule) as a curing agent 3173, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane Co., Ltd.) 13.5 parts by mass and 38 parts by mass of methylethylketone 25 parts obtained by dissolving 15 parts by mass of butyral resin (Esreck BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and methyl ethyl ketone 25 The dispersion was obtained by mixing 4 parts with a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm. To the obtained dispersion, 0.005 parts by mass of dioctyltin dilaurate and 4.0 parts by mass of silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK) are added as a catalyst. A layer forming coating solution was obtained. The viscosity of the coating solution for forming the undercoat layer at the coating temperature (24 ° C.) was 235 mPa · s.
This coating solution was applied on an aluminum substrate having a diameter of 30 mm at a coating speed of 220 mm / min by a dip coating method, followed by drying and curing at 180 ° C. for 40 minutes to obtain an undercoat layer having a thickness of 25 μm.
次に、電荷発生材料として、CuKα特性X線に対するブラッグ角(2θ±0.2゜)の少なくとも7.5゜、9.9゜、12.5゜、16.3゜、18.6゜、25.1゜及び28.3゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶15質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂(VMCH、日本ユニオンカーバイト社製)10質量部及びn−ブチルアルコール300質量部からなる混合物を、直径1mmのガラスビーズを用いてサンドミルにて4時間分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。電荷発生層形成用塗布液の塗布温度(24℃)における粘度は1.8mPa・sであった。この塗布液を前記下引層上に浸漬塗布法にて塗布速度65mm/minで浸漬塗布し、150℃で10分間乾燥して電荷発生層を得た。 Next, as a charge generation material, at least 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 °, 18.6 °, Bragg angle (2θ ± 0.2 °) with respect to CuKα characteristic X-ray, 15 parts by mass of hydroxygallium phthalocyanine crystals having strong diffraction peaks at 25.1 ° and 28.3 °, 10 parts by mass of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by Nippon Union Carbide) and n-butyl alcohol A mixture of 300 parts by mass was dispersed for 4 hours with a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm to obtain a coating solution for forming a charge generation layer. The viscosity at the coating temperature (24 ° C.) of the coating solution for forming a charge generation layer was 1.8 mPa · s. This coating solution was dip-coated on the undercoat layer by a dip coating method at a coating speed of 65 mm / min and dried at 150 ° C. for 10 minutes to obtain a charge generation layer.
次に、4フッ化エチレン樹脂粒子8質量部(平均粒径:0.2μm)と、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー(重量平均分子量30000)0.01質量部とを、テトラヒドロフラン4質量部、トルエン1質量部とともに20℃の液温に保ち、48時間攪拌混合し、4フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液Aを得た。
次に、電荷輸送物質として、下記構造式1で示される化合物(一般式(1)において、n=1、m=1、R1、R2、R3、R4、R5、及びR6が全てHのもの、トリス[4−(4,4−ジフェニル−1,3−ブタジエニル)フェニル]アミン)を1.6質量部、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニルベンジジンを3質量部、結着樹脂として、下記構造式2で示される構造単位及び下記構造式3で示される構造単位からなるポリカーボネート共重合体(粘度平均分子量53000)6質量部、酸化防止剤として2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール0.1質量部を混合して、テトラヒドロフラン24質量部及びトルエン11質量部を混合溶解して、混合溶解液Bを得た。
このB液に前記A液を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー(吉田機械興行株式会社製)を用いて、500kgf/cm2まで昇圧しての分散処理を6回繰り返した液に、エーテル変性シリコーンオイル(商品名:KP340、信越化学工業社製)を5ppm添加し、十分に撹拌して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に40μmの厚さで塗布して115℃で25分間乾燥して電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体を得た。
上記のようにして、2つの電子写真感光体を作製し、これを感光体1−1、1−2とした。
Next, 8 parts by mass of tetrafluoroethylene resin particles (average particle size: 0.2 μm) and 0.01 parts by mass of a fluorinated alkyl group-containing methacrylic copolymer (weight average molecular weight 30000), 4 parts by mass of tetrahydrofuran, toluene The mixture was kept at a liquid temperature of 20 ° C. together with 1 part by mass and stirred for 48 hours to obtain a tetrafluoroethylene resin particle suspension A.
Next, as a charge transport material, a compound represented by the following structural formula 1 (in the general formula (1), n = 1, m = 1, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 Are all H, 1.6 parts by mass of tris [4- (4,4-diphenyl-1,3-butadienyl) phenyl] amine), N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N 3 parts by mass of '-diphenylbenzidine, as a binder resin, 6 parts by mass of a polycarbonate copolymer (viscosity average molecular weight 53000) composed of a structural unit represented by the following structural formula 2 and a structural unit represented by the following structural formula 3, As an inhibitor, 0.1 part by mass of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol was mixed, and 24 parts by mass of tetrahydrofuran and 11 parts by mass of toluene were mixed and dissolved to obtain a mixed solution B.
After the A liquid was added to the B liquid and stirred and mixed, the pressure was increased to 500 kgf / cm 2 using a high-pressure homogenizer (manufactured by Yoshida Kikai Kogyo Co., Ltd.) equipped with a through-type chamber having a fine flow path. 5 ppm of ether-modified silicone oil (trade name: KP340, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to the solution obtained by repeating the dispersion treatment six times, and the mixture was sufficiently stirred to obtain a coating solution for forming a charge transport layer. This coating solution was applied onto the charge generation layer to a thickness of 40 μm and dried at 115 ° C. for 25 minutes to form a charge transport layer, thereby obtaining the intended electrophotographic photosensitive member.
As described above, two electrophotographic photoreceptors were produced, and designated as photoreceptors 1-1 and 1-2.
〔感光体2の作製〕
感光体1の作製において、前記構造式2と前記構造式3とのモル共重合比が1:4であるポリカーボネート共重合体を用いた以外は、感光体1と同様にして感光体2を作製した。
[Preparation of Photoreceptor 2]
Photoreceptor 2 was produced in the same manner as Photoreceptor 1 except that a polycarbonate copolymer having a molar copolymerization ratio of Structural Formula 2 and Structural Formula 3 of 1: 4 was used. did.
〔感光体3の作製〕
感光体1の作製において、電荷輸送層を形成する際の乾燥温度を115℃から130℃に代えた以外は、感光体1と同様にして感光体3を作製した。
[Preparation of Photoreceptor 3]
Photoconductor 3 was prepared in the same manner as photoconductor 1, except that the drying temperature for forming the charge transport layer was changed from 115 ° C. to 130 ° C. in the preparation of photoconductor 1.
〔感光体4の作製〕
感光体1の作製において、電荷輸送層を形成する際の乾燥温度を115℃から143℃に代えた以外は、感光体1と同様にして感光体4を作製した。
[Preparation of Photoreceptor 4]
Photoreceptor 4 was produced in the same manner as Photoreceptor 1 except that the drying temperature for forming the charge transport layer was changed from 115 ° C. to 143 ° C. in production of Photoreceptor 1.
〔感光体5の作製〕
感光体1の作製において、電荷輸送層を形成する際の乾燥温度を115℃から100℃に代えた以外は、感光体1と同様にして感光体5を作製した。
[Preparation of Photoreceptor 5]
Photoreceptor 5 was produced in the same manner as Photoreceptor 1 except that the drying temperature for forming the charge transport layer was changed from 115 ° C. to 100 ° C. in production of Photoreceptor 1.
<電荷輸送層の残留溶剤比率の測定>
上記のようにして得られた感光体の電荷輸送層の残留溶剤比率を、前述のようにして測定した。
測定結果を表1に示す。
<Measurement of residual solvent ratio in charge transport layer>
The residual solvent ratio of the charge transport layer of the photoreceptor obtained as described above was measured as described above.
The measurement results are shown in Table 1.
<クリーニングブレードの作製>
〔ブレードAの作製〕
ポリカプロラクトンポリオール(株式会社ダイセル製、プラクセル205、平均分子量529、水酸基価212KOHmg/g)と、ポリカプロラクトンポリオール(株式会社ダイセル製、プラクセル240、平均分子量4155、水酸基価27KOHmg/g)とを、ポリオール成分のハードセグメント材料として用いた。
また、2つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂(綜研化学株式会社製、アクトフローUMB−2005B)を、ソフトセグメント材料として用いた。
上記ハードセグメント材料と上記ソフトセグメント材料とを、8:2(質量比)の割合で混合した。
<Production of cleaning blade>
[Production of blade A]
Polycaprolactone polyol (manufactured by Daicel Corporation, Plaxel 205, average molecular weight 529, hydroxyl value 212 KOHmg / g) and polycaprolactone polyol (manufactured by Daicel Corporation, Plaxel 240, average molecular weight 4155, hydroxyl value 27 KOHmg / g) Used as component hard segment material.
In addition, an acrylic resin containing 2 or more hydroxyl groups (Act Flow UMB-2005B, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was used as the soft segment material.
The hard segment material and the soft segment material were mixed at a ratio of 8: 2 (mass ratio).
次に、このハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物100質量部に対して、イソシアネート化合物として4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業株式会社製、ミリオネートMT)を6.26質量部加え、窒素雰囲気下で70℃、3時間反応させた。なお、この反応で使用したイソシアネート化合物量は、反応系に含まれる水酸基に対するイソシアネート基の比(イソシアネート基/水酸基)が0.5となるように選択したものである。 Next, 6.26 parts by mass of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Millionate MT) as an isocyanate compound is added to 100 parts by mass of the mixture of the hard segment material and the soft segment material. The reaction was performed at 70 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. The amount of the isocyanate compound used in this reaction is selected so that the ratio of isocyanate group to hydroxyl group (isocyanate group / hydroxyl group) contained in the reaction system is 0.5.
続いて、上記イソシアネート化合物を更に34.3質量部加え、窒素雰囲気下で70℃、3時間反応させて、プレポリマーを得た。プレポリマーの使用に際して利用したイソシアネート化合物の全量は40.56質量部であった。 Subsequently, 34.3 parts by mass of the isocyanate compound was further added and reacted at 70 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere to obtain a prepolymer. The total amount of isocyanate compound used in the use of the prepolymer was 40.56 parts by mass.
次に、このプレポリマーを100℃に昇温し、減圧下で1時間脱泡した。その後、プレポリマー100質量部に対して、1,4−ブタンジオールとトリメチロールプロパンとの混合物(質量比=60/40)を7.14質量部加え、3分間泡が混入しないように充分に混合した。この混合物を、金型を調整した遠心成形機にて140℃で10分硬化させ、接触層用材料を得た。 Next, this prepolymer was heated to 100 ° C. and degassed for 1 hour under reduced pressure. Then, 7.14 parts by mass of a mixture of 1,4-butanediol and trimethylolpropane (mass ratio = 60/40) is added to 100 parts by mass of the prepolymer so that bubbles do not mix for 3 minutes. Mixed. This mixture was cured at 140 ° C. for 10 minutes with a centrifugal molding machine with an adjusted mold to obtain a contact layer material.
その後、ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物の代わりに、ポリオール成分としてコロネート4086(日本ポリウレタン工業株式会社製)を用い、ポリオール成分100質量部に対して、イソシアネート化合物としてニッポラン4038(日本ポリウレタン工業株式会社製)を6.8質量部用いて、上記と同様に処理した下地層用材料を得た。
下地層(厚さ:1.8mm)の上に接触層用材料を付与して1時間硬化させることで接触層(厚さ:0.2mm)を形成し、これにより2層構造の平板を得た。この平板を110℃で24時間加熱して架橋反応を進行させた後、冷却し、予め定めた寸法にカットして、厚さ2mm、幅333mmのブレードAを得た。
Then, instead of the mixture of the hard segment material and the soft segment material, Coronate 4086 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was used as the polyol component, and Nippon Runa 4038 (Nippon Polyurethane Industry) as the isocyanate compound with respect to 100 parts by mass of the polyol component. Using 6.8 parts by mass, a base layer material treated in the same manner as described above was obtained.
A contact layer material is applied on the base layer (thickness: 1.8 mm) and cured for 1 hour to form a contact layer (thickness: 0.2 mm), thereby obtaining a flat plate having a two-layer structure. It was. This flat plate was heated at 110 ° C. for 24 hours to allow the crosslinking reaction to proceed, then cooled and cut into predetermined dimensions to obtain blade A having a thickness of 2 mm and a width of 333 mm.
〔ブレードBの作製〕
ブレードAの作製において、接触層用材料を得る際の硬化時間を25分とした以外は、ブレードAと同様にしてブレードBを作製した。
[Production of Blade B]
In the production of blade A, blade B was produced in the same manner as blade A, except that the curing time for obtaining the contact layer material was 25 minutes.
〔ブレードCの作製〕
ポリオール成分としてコロネート4086(日本ポリウレタン工業株式会社製)を用い、ポリオール成分100質量部に対して、イソシアネート化合物としてニッポラン4038(日本ポリウレタン工業株式会社製)を6.8質量部用いて、ブレードAの作製における接触層用材料を得る際と同様に処理した下地層用材料を得た。
この下地用材料を厚さ2.1mmの単層構造の平板とし、この平板を110℃で24時間加熱して架橋反応を進行させた後、冷却し、予め定めた寸法にカットして厚さ2.1mm、幅333mmのブレードCを得た。
[Production of blade C]
Coronate 4086 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was used as the polyol component, and 6.8 parts by mass of Nippon Run 4038 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was used as the isocyanate compound with respect to 100 parts by mass of the polyol component. An underlayer material treated in the same manner as in obtaining the contact layer material in the production was obtained.
This base material is a 2.1 mm thick single-layer flat plate, and this flat plate is heated at 110 ° C. for 24 hours to proceed with the crosslinking reaction, then cooled, cut into a predetermined dimension, and thickened. A blade C having a width of 2.1 mm and a width of 333 mm was obtained.
<接触層のJIS−A硬度の測定>
上記のようにして得られたブレードについて、前述のようにして、JIS−A硬度を測定した。
測定結果を表1に示す。
<Measurement of JIS-A hardness of contact layer>
The JIS-A hardness of the blade obtained as described above was measured as described above.
The measurement results are shown in Table 1.
<クリーニングブレードの作製>
上記のようにして得られたブレードA〜Cをホットメルト接着剤によって厚さ2mmの亜鉛メッキ鋼板製からなる板金ホルダーに接着して使用した。
<Production of cleaning blade>
The blades A to C obtained as described above were used by being bonded to a sheet metal holder made of a galvanized steel sheet having a thickness of 2 mm with a hot melt adhesive.
<画像形成装置とその評価>
上記のようにして得られた感光体及びクリーニングブレードを、表1に記載の組み合わせにて、DocuCentre−IV C5570(富士ゼロックス社製)改造機(クリーニングブレードが上向きに設置される装置)に搭載した。
<Image forming apparatus and its evaluation>
The photoreceptor and the cleaning blade obtained as described above were mounted in a modified DocuCentre-IV C5570 (manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd.) (an apparatus in which the cleaning blade is installed upward) in the combinations shown in Table 1. .
〔スジの評価〕
上記の改造機を用いて、画像密度1%のランダムチャートを10,000枚出力した後、画像密度100%のA3画像を1枚出力した。
A3画像の出力直後に、改造機内の感光体表面に残留した残留物によるスジを観察し、このスジ本数をカウントすることで評価を行った。
評価基準は以下の通りである。
−評価基準−
G1:スジ未発生
G2:2本以下のスジ発生
G3:3本以上5本以下のスジ発生
G4:全面に多数のスジ発生
結果を表1に示す。
[Evaluation of streaks]
Using the above-described modified machine, 10,000 random charts having an image density of 1% were output, and then one A3 image having an image density of 100% was output.
Immediately after the output of the A3 image, the streaks due to the residue remaining on the surface of the photoreceptor in the modified machine were observed, and the evaluation was performed by counting the number of streaks.
The evaluation criteria are as follows.
-Evaluation criteria-
G1: No streaking G2: Two or fewer streaks G3: Three or more and five or fewer streaks G4: Many streaks are generated on the entire surface Table 1 shows the results.
〔ブレードの摩耗評価〕
上記の改造機を用いて、画像密度5%のランダムチャートを10,000枚出力した後、以下のようにしてブレードの摩耗量を測定した。
ブレードの摩耗量は、クリーニングブレードの断面側からキーエンス社製、レーザ顕微鏡VK−8510により観察した時に確認される、感光体表面へと接触する側のエッジ欠落部の最大深さとした。
−評価基準−
G1:摩耗量が10μm以下
G2:摩耗量が10μmを超え20μm以下
G3:摩耗量が20μmを超え40μm以下
G4:摩耗量が40μmを超える
結果を表1に示す。
[Blade wear evaluation]
Using the above-described modified machine, 10,000 random charts with an image density of 5% were output, and the amount of blade wear was measured as follows.
The amount of wear of the blade was the maximum depth of the edge missing portion on the side in contact with the surface of the photoreceptor, which was confirmed when observed with a laser microscope VK-8510 manufactured by Keyence Corporation from the cross section side of the cleaning blade.
-Evaluation criteria-
G1: Wear amount is 10 μm or less G2: Wear amount exceeds 10 μm and 20 μm or less G3: Wear amount exceeds 20 μm and 40 μm or less G4: Wear amount exceeds 40 μm The results are shown in Table 1.
〔感光体の摩耗評価〕
上記の改造機を用いて、画像密度5%のランダムチャートを10,000枚出力した後、感光体表面の膜厚を測定し、予め測定しておいた使用前の感光体の膜厚との差を求め、摩耗の評価を行った。
膜厚の測定には、渦電流式膜厚測定装置(フィッシャー・インストルメンツ社製)を用いた。
評価指標は以下の通りである。
−評価基準−
G1:摩耗量が1μm未満
G2:摩耗量が1μm以上3μm以下
G3:摩耗量が3μmを超える
結果を表1に示す。
[Evaluation of photoconductor wear]
Using the above-mentioned remodeling machine, after outputting 10,000 random charts with an image density of 5%, the film thickness of the surface of the photoconductor is measured, and the film thickness of the photoconductor before use that has been measured in advance is measured. The difference was determined and the wear was evaluated.
For measurement of the film thickness, an eddy current film thickness measuring device (manufactured by Fischer Instruments) was used.
The evaluation index is as follows.
-Evaluation criteria-
G1: Wear amount is less than 1 μm G2: Wear amount is 1 μm or more and 3 μm or less G3: Wear amount exceeds 3 μm Table 1 shows the results.
上記結果から、実施例の画像形成装置は、比較例に比べ、残留物によるスジの発生が少ないことが分かる。
なお、上記表1中、「特定PC」は特定ポリカーボネート樹脂を意味し、設置方向の「上向き」は、クリーニングブレードが(上向きにて)感光体に対して下方から接触していることを意味する。
また、表1中、比較例2の各評価における「−」は、感光体5が、感光体としての品質が悪く、いずれも評価できないことを意味する。
From the above results, it can be seen that the image forming apparatus of the example is less likely to cause streaks than the comparative example.
In Table 1 above, “specific PC” means a specific polycarbonate resin, and “upward” in the installation direction means that the cleaning blade is in contact with the photoconductor (upward) from below. .
In Table 1, “−” in each evaluation of Comparative Example 2 means that the photoconductor 5 has poor quality as a photoconductor and cannot be evaluated at all.
1,1a,1b,1c,1d 電子写真感光体、2 導電性基体、3 感光層、4 下引層、5 電荷発生層、6 電荷輸送層、100a,100b,100c,100d クリーニングブレード、110 支持部材、120 下地層、130 接触層、140 弾性層、200 画像形成装置、300 回収オーガ、402a,402b,402c,402d 帯電ロール(帯電手段)、403 レーザ光源(静電潜像形成手段)、404a,404b,404c,404d 現像装置(現像手段)、405a,405b,405c,405d トナーカートリッジ、409 中間転写ベルト、414 定着ロール対 1, 1a, 1b, 1c, 1d Electrophotographic photoreceptor, 2 conductive substrate, 3 photosensitive layer, 4 undercoat layer, 5 charge generation layer, 6 charge transport layer, 100a, 100b, 100c, 100d cleaning blade, 110 support Member, 120 Underlayer, 130 Contact layer, 140 Elastic layer, 200 Image forming apparatus, 300 Collection auger, 402a, 402b, 402c, 402d Charging roll (charging means), 403 Laser light source (electrostatic latent image forming means), 404a , 404b, 404c, 404d Developing device (developing means), 405a, 405b, 405c, 405d Toner cartridge, 409 Intermediate transfer belt, 414 Fixing roll pair
Claims (3)
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
下記条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、該クリーニングブレードを前記電子写真感光体の表面に接触させて当該電子写真感光体の表面の残留物を除去するクリーニング手段と、
を備える画像形成装置。
条件(1):表面層として、下記一般式(A)で表される構造単位及び下記一般式(B)で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含み、残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下である電荷輸送層を有すること
条件(2):支持部材上に、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントを有するポリウレタンゴムを含有し、硬さがA82以上であって、前記電子写真感光体の電荷輸送層に接触する接触層を有すること
(一般式(A)及び一般式(B)中、R1、R2、R3、及びR4は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数5以上7以下のシクロアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基を表す。Xは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。) An electrophotographic photoreceptor satisfying the following condition (1);
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member;
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image;
Transfer means for transferring the toner image to the surface of the recording medium;
A cleaning unit that satisfies the following condition (2), and a cleaning unit that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member to remove residues on the surface of the electrophotographic photosensitive member;
An image forming apparatus comprising:
Condition (1): As a surface layer, a polycarbonate copolymer having a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B) is included, and the residual solvent ratio is 0.1. It has a charge transport layer that is not less than mass% and not more than 5.0 mass%. Condition (2): A polyurethane rubber having a hard segment including a structural unit derived from polyester polyol is contained on a support member, and the hardness is A82. It is above and has a contact layer which contacts the charge transport layer of the electrophotographic photosensitive member
(In General Formula (A) and General Formula (B), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon number. Represents a cycloalkyl group having 5 or more and 7 or less, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and X represents a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a linear or branched alkylene group, or a cycloalkylene group.
下記条件(2)を満たすクリーニングブレードを有し、該クリーニングブレードを前記電子写真感光体の表面に接触させて当該電子写真感光体の表面の残留物を除去するクリーニング手段と、
を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
条件(1):表面層として、下記一般式(A)で表される構造単位及び下記一般式(B)で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含み、残留溶剤比率が0.1質量%以上5.0質量%以下である電荷輸送層を有すること
条件(2):支持部材上に、ポリエステルポリオールに由来する構造単位を含むハードセグメントを有するポリウレタンゴムを含有し、硬さがA82以上であって、前記電子写真感光体の電荷輸送層に接触する接触層を有すること
(一般式(A)及び一般式(B)中、R1、R2、R3、及びR4は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上6以下のアルキル基、炭素数5以上7以下のシクロアルキル基、又は炭素数6以上12以下のアリール基を表す。Xは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。) An electrophotographic photoreceptor satisfying the following condition (1);
A cleaning unit that satisfies the following condition (2), and a cleaning unit that contacts the surface of the electrophotographic photosensitive member to remove residues on the surface of the electrophotographic photosensitive member;
And a process cartridge that is detachably attached to the image forming apparatus.
Condition (1): As a surface layer, a polycarbonate copolymer having a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B) is included, and the residual solvent ratio is 0.1. It has a charge transport layer that is not less than mass% and not more than 5.0 mass%. Condition (2): A polyurethane rubber having a hard segment including a structural unit derived from polyester polyol is contained on a support member, and the hardness is A82. It is above and has a contact layer which contacts the charge transport layer of the electrophotographic photosensitive member
(In General Formula (A) and General Formula (B), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon number. Represents a cycloalkyl group having 5 or more and 7 or less, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and X represents a phenylene group, a biphenylene group, a naphthylene group, a linear or branched alkylene group, or a cycloalkylene group.
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