JP2015186787A - Production method of coating film and monitoring system of production method - Google Patents

Production method of coating film and monitoring system of production method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a coating film capable of reducing the number of bubbles contained in the coating film and a monitoring system of the production method.SOLUTION: A production method of a coating film is conducted with an adjusted condition based on a drying condition using a mass transfer coefficient kcalculated by a mathematical expression (1): k=D×(Sc/Pr)×h/k(1) and a calculated drying time tcalculated by a mathematical expression (2): t=k×d×μ (2) (where, kis the mass transfer coefficient (m/sec); D is the diffusion coefficient (m/sec) of a solvent in a gas under a dry atmosphere; h is a heat transfer coefficient (J/(mK sec)); kis the thermal conductivity (J/(m K sec)) of the gas under the dry atmosphere; Sc is a Schmidt number; Pr is a Prandtl number; tis the calculated drying time (sec); d is a coating thickness (m); μ is the viscosity (Pa sec) of a coating liquid; and k=(2/9)×10((m Pa))).

Description

本発明は、塗膜の製造方法、および製造方法監視システムに関する。   The present invention relates to a coating film manufacturing method and a manufacturing method monitoring system.

従来、塗工液の調製、塗布手段への塗工液の供給、塗工などの工程において、塗工液中に空気が混入し、乾燥後の塗膜に気泡が混入する場合がある。塗工液を基材に塗布する際は、塗工液の調製工程において気泡を脱泡している。
例えば、粘着剤のような粘度の高い塗工液の場合、気泡が製糊装置の釜の内部から気液界面まで浮上するまでに非常に長い時間を要する。そのため、塗工液の調製後、長時間放置して気泡が抜けるのを待つか、特殊な脱泡装置を使用して脱泡を行っている。例えば、特許文献1には、真空引きを行って脱泡を行う気泡除去装置が記載されている。
Conventionally, air may be mixed into the coating liquid and bubbles may be mixed into the dried coating film in processes such as preparation of the coating liquid, supply of the coating liquid to the coating means, and coating. When the coating liquid is applied to the substrate, bubbles are degassed in the coating liquid preparation process.
For example, in the case of a high-viscosity coating liquid such as an adhesive, it takes a very long time for the bubbles to rise from the inside of the kettle of the paste making apparatus to the gas-liquid interface. Therefore, after preparation of the coating liquid, it is left for a long time to wait for bubbles to escape, or is defoamed using a special defoaming device. For example, Patent Literature 1 describes a bubble removing device that performs degassing by evacuation.

特開平9−155105号公報JP-A-9-155105

しかしながら、特許文献1に記載されたような気泡除去装置を用いて調製された塗工液から気泡を除去したとしても、塗工液を塗布手段へ供給する際、あるいは塗工する際に新たに空気が混入する場合がある。基材上の塗工液に空気が混入したまま乾燥されると、気泡が混入した塗膜が製造されてしまう場合もある。   However, even when air bubbles are removed from the coating liquid prepared using the air bubble removing device described in Patent Document 1, when the coating liquid is supplied to the coating means or applied, it is newly added. Air may enter. If the coating liquid on the substrate is dried while air is mixed, a coating film in which bubbles are mixed may be produced.

本発明の目的は、塗膜中に含まれる気泡の数を減少させることのできる塗膜の製造方法、および製造方法監視システムを提供することである。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of a coating film which can reduce the number of the bubbles contained in a coating film, and a manufacturing method monitoring system.

本発明の一態様に係る塗膜の製造方法は、下記数式(1)で算出される物質移動係数kを利用した乾燥条件と、下記数式(2)で算出される算出乾燥時間tと、に基づいて調整された塗膜製造条件で行うことを特徴とする。
=D×(Sc/Pr)0.42×h/k …(1)
=k×d×μ …(2)
The method of manufacturing a coating film according to one embodiment of the present invention, the drying conditions using a mass transfer coefficient k m, which is calculated by the following equation (1), and the calculated drying time t i which is calculated by the following equation (2) It is characterized by performing under the coating-film manufacturing conditions adjusted based on these.
k m = D × (Sc / Pr) 0.42 × h / k a ... (1)
t i = k i × d × μ (2)

前記数式(1)において、
は、物質移動係数(単位は、m/sec)であり、
Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)であり、
hは、熱伝達係数(単位は、J/(m・K・sec))であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))であり、
Scは、下記数式(3)で算出されるシュミット数であり、
Prは、下記数式(4)で算出されるプラントル数である。
In the formula (1),
k m is the mass transfer coefficient (unit is m / sec) is,
D is the diffusion coefficient of the solvent in the gas under a dry atmosphere (unit: m 2 / sec),
h is a heat transfer coefficient (unit: J / (m 2 · K · sec)),
k a is the thermal conductivity of a gas in a dry atmosphere (unit: J / (m · K · sec)),
Sc is the Schmitt number calculated by the following mathematical formula (3),
Pr is the Prandtl number calculated by the following mathematical formula (4).

前記数式(3)において、
ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
ρは、乾燥雰囲気下の気体の密度(単位は、kg/m)であり、
Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)である。
In the formula (3),
η is the viscosity of the gas in a dry atmosphere (unit is Pa · sec),
ρ is the density of gas in a dry atmosphere (unit: kg / m 3 )
D is the diffusion coefficient (unit is m 2 / sec) of the solvent in the gas in a dry atmosphere.

前記数式(4)において、
ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の比熱(単位は、J/(kg・K))であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))である。
シュミット数とは、流体の動粘度と流体中における溶媒の拡散係数との比で表され、流体中の速度分布と濃度分布との比を示す値である。プラントル数とは、流体の動粘度と熱拡散率との比で表され、流体中の速度分布と温度分布との比を示す値である。
In the formula (4),
η is the viscosity of the gas in a dry atmosphere (unit is Pa · sec),
c p is the specific heat of the gas under a dry atmosphere (in, J / (kg · K) ) is,
k a is the thermal conductivity of a gas in a dry atmosphere (unit: J / (m · K · sec)).
The Schmitt number is represented by a ratio between the kinematic viscosity of the fluid and the diffusion coefficient of the solvent in the fluid, and is a value indicating the ratio between the velocity distribution and the concentration distribution in the fluid. The Prandtl number is represented by a ratio between the kinematic viscosity of the fluid and the thermal diffusivity, and is a value indicating the ratio between the velocity distribution and the temperature distribution in the fluid.

前記数式(2)において、
は、算出乾燥時間(単位は、sec)であり、
dは、塗布厚さ(単位は、m)であり、
μは、塗工液の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
=(2/9)×106(単位は、(m・Pa)−1)である。
In the formula (2),
t i is the calculated drying time (unit: sec),
d is the coating thickness (unit is m);
μ is the viscosity of the coating liquid (unit is Pa · sec),
k i = (2/9) × 10 6 (the unit is (m · Pa) −1 ).

本発明の一態様に係る製造方法監視システムは、塗布手段および乾燥手段を有する塗膜の製造工程を監視する製造方法監視システムであって、塗膜中の欠点を検出する欠点検出手段と、予め記憶させておいた欠点に関する閾値と、前記欠点検出手段によって検出された欠点に関する情報と、を対比する判別手段と、検出された欠点が前記閾値を超えたことが前記判別手段によって判定された場合に、前記閾値を超えない第二の塗膜製造条件を算出し、予め記憶させておいた第一の塗膜製造条件から前記第二の塗膜製造条件に変更して、前記塗膜の製造工程を制御する制御手段と、を備え、前記塗膜製造条件は、前記数式(1)で算出される物質移動係数kを利用した乾燥条件と、前記数式(2)で算出される算出乾燥時間tと、に基づいて調整された条件であることを特徴とする。 A manufacturing method monitoring system according to one aspect of the present invention is a manufacturing method monitoring system for monitoring a manufacturing process of a coating film having a coating means and a drying means, and includes a defect detection means for detecting a defect in the coating film, A discrimination means for comparing the threshold value relating to the stored defect with the information relating to the defect detected by the defect detection means, and the discrimination means determining that the detected defect has exceeded the threshold value The second coating film manufacturing conditions not exceeding the threshold value are calculated and changed from the first coating film manufacturing conditions stored in advance to the second coating film manufacturing conditions, thereby manufacturing the coating film. and a control means for controlling the process, and the coating film production conditions, and drying conditions using the substance transfer coefficient k m calculated the in equation (1), calculated dry calculated the in equation (2) and time t i, in based Characterized in that it is a condition adjusted Te.

本発明の一態様に係る塗膜の製造方法によれば、塗膜製造条件が、前記数式(1)で算出される物質移動係数kを利用した乾燥条件と、前記数式(2)で算出される算出乾燥時間tと、に基づいて調整される。具体的には、所定の物質移動係数kを満たすように乾燥条件を設定し、算出乾燥時間tに応じて実際の乾燥時間を設定し、当該乾燥条件下で塗膜の製造が行われる。その結果、塗工された塗工液中に気泡が混入していても、気泡が塗工液から抜け易くなる。ゆえに、本発明の一態様に係る塗膜の製造方法によれば、塗膜中に含まれる気泡の数を減少させることができる。 According to the manufacturing method of the coating film according to one embodiment of the present invention, the coating film manufacturing conditions, the drying conditions using a mass transfer coefficient k m, which is calculated by Equation (1), calculates the in Equation (2) and calculating the drying time t i to be is adjusted based on. Specifically, to set the drying conditions so as to satisfy a predetermined mass transfer coefficient k m, and sets the calculated drying time t actual drying time according to i, the production of the coating is carried out in the dry conditions . As a result, even if air bubbles are mixed in the applied coating liquid, the air bubbles easily escape from the coating liquid. Therefore, according to the coating film manufacturing method of one embodiment of the present invention, the number of bubbles contained in the coating film can be reduced.

本発明の一態様に係る製造方法監視システムによれば、塗膜中の欠点を欠点検出手段にて検出しながら、欠点に関する閾値を超えるか否か判別手段にて判定し、閾値を超えた場合には、制御手段にて当該閾値を超えない第二の塗膜製造条件に変更する。この第二の塗膜製造条件は、前述の本発明の一態様に係る塗膜の製造方法におけるものと同様の数式(1)、および数式(2)に基づいて調整される。その結果、本発明の一態様に係る製造方法監視システムによれば、塗膜中に含まれる気泡の数を減少させることができ、さらには塗膜の製造工程を適切に管理することができる。   According to the manufacturing method monitoring system according to one aspect of the present invention, when a defect in the coating film is detected by the defect detection unit, the determination unit determines whether or not the threshold value regarding the defect is exceeded, and the threshold value is exceeded. First, the control means changes the second coating film manufacturing condition so as not to exceed the threshold value. This second coating film manufacturing condition is adjusted based on the same formulas (1) and (2) as those in the coating film manufacturing method according to one aspect of the present invention. As a result, according to the manufacturing method monitoring system according to one aspect of the present invention, the number of bubbles contained in the coating film can be reduced, and further, the manufacturing process of the coating film can be appropriately managed.

本発明の一実施形態に係る塗膜の製造方法を実施する製造装置の概略図である。It is the schematic of the manufacturing apparatus which enforces the manufacturing method of the coating film which concerns on one Embodiment of this invention. 前記製造装置が有する乾燥手段の内部形状を表す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram showing the internal shape of the drying means which the said manufacturing apparatus has. 前記乾燥手段の有効幅と塗工液の塗布幅との関係を表す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic showing the relationship between the effective width | variety of the said drying means, and the application | coating width | variety of a coating liquid. 本発明の一実施形態に係る製造方法監視システムの構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the manufacturing method monitoring system which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実験例に係る塗膜中の欠点数と乾燥時間との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the number of the faults in the coating film which concerns on one experimental example of this invention, and drying time.

以下、本発明について実施形態を例に挙げて説明する。本発明は実施形態の内容に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to embodiments. The present invention is not limited to the contents of the embodiment.

図1には、本発明の一実施形態に係る塗膜製造装置100の概略図が示されている。
塗膜製造装置100は、長尺状の基材10に塗工液を塗布し、塗工液を乾燥させて塗膜11を製造することのできる装置である。
塗膜製造装置100は、基材10を繰り出す第一供給手段30と、塗工液41を塗布する塗工手段40と、塗工液を乾燥させる乾燥手段50と、製造方法監視システム20と、保護フィルム12を繰り出す第二供給手段60と、塗膜11に保護フィルム12を貼合する貼合部70と、保護フィルム12付き積層体1を巻き取る巻取手段80と、を備える。
FIG. 1 shows a schematic diagram of a coating film manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention.
The coating film manufacturing apparatus 100 is an apparatus capable of manufacturing the coating film 11 by applying a coating liquid to the long substrate 10 and drying the coating liquid.
The coating film manufacturing apparatus 100 includes a first supply means 30 for feeding out the substrate 10, a coating means 40 for applying the coating liquid 41, a drying means 50 for drying the coating liquid, a manufacturing method monitoring system 20, The 2nd supply means 60 which pays out the protective film 12, the bonding part 70 which bonds the protective film 12 to the coating film 11, and the winding means 80 which winds up the laminated body 1 with the protective film 12 are provided.

第一供給手段30は、駆動機器としての回動モータ31と、回動モータ31により回転可能に設けられた支持ローラ32と、を備える。支持ローラ32は、ロール状に巻回した長尺状の基材10を支持する。支持ローラ32から繰り出された基材10は、途中、ガイドローラによって搬送方向を案内されながら、塗工手段40へ供給される。   The first supply means 30 includes a rotation motor 31 as a drive device, and a support roller 32 that is rotatably provided by the rotation motor 31. The support roller 32 supports the long base material 10 wound in a roll shape. The base material 10 fed out from the support roller 32 is supplied to the coating means 40 while being guided in the conveyance direction by a guide roller.

本実施形態での基材10は、塗膜11である粘着層が形成され、塗膜11を支持する。基材10の材質は、特に限定されることはないが、例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレート等)、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂などの合成樹脂フィルムや、上質紙、含浸紙、グラシン紙、コート紙などの紙材や、不織布、木材や金属箔等のシート材料や板状材料を用いることができる。当該シート材料に必要に応じて剥離剤が塗布されていてもよく、当該剥離剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、長鎖アルキル樹脂などを用いることができる。基材10の形状は、特に限定されることはないが、正方形や長方形などの矩形状や三角形、五角形、六角形などの多角形状、円形状、楕円形状、不定形状、長尺のロール形状など最終製品の用途により様々選択されればよい。本実施形態では、長尺状の基材10に、塗膜11としての粘着剤層が積層された態様を例に挙げて説明する。
基材の厚さとしては、3μm以上5mm以下が好ましく、5μm以上3mm以下がさらに好ましく、10μm以上1mm以下が特に好ましい。基材の厚さが3μm未満だと、薄いために耐熱性及び引張強度が劣り、積層加工での熱処理や張力により伸びたり切れたりするおそれがあり、さらに基材のコシが弱いために加工工程でのハンドリングに劣る場合がある。基材の厚さが5mmを超えると、厚みが大きいためにロール状で巻き取る際に加工機の巻取り部のスペースにより巻取り径が制限され、必要な長さが得られなかったり、基材のコシが強く柔軟性に劣るために加工工程でのハンドリング性に支障が出たり、基材の反発によりきれいに巻き取れない場合がある。
The base material 10 in this embodiment is formed with an adhesive layer that is a coating film 11 and supports the coating film 11. The material of the substrate 10 is not particularly limited. For example, polyvinyl chloride resin, polyester resin (polyethylene terephthalate, etc.), acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylonitrile / butadiene / styrene resin, Use synthetic resin films such as polyimide resin, polyurethane resin, polystyrene resin, paper materials such as high-quality paper, impregnated paper, glassine paper, coated paper, sheet materials such as nonwoven fabric, wood and metal foil, and plate-like materials it can. A release agent may be applied to the sheet material as necessary, and as the release agent, a silicone resin, a fluororesin, a long-chain alkyl resin, or the like can be used. The shape of the substrate 10 is not particularly limited, but a rectangular shape such as a square or a rectangle, a polygonal shape such as a triangle, pentagon, or hexagon, a circular shape, an elliptical shape, an indefinite shape, a long roll shape, or the like. Various selections may be made depending on the use of the final product. In the present embodiment, an example in which an adhesive layer as a coating film 11 is laminated on a long base material 10 will be described as an example.
The thickness of the substrate is preferably 3 μm or more and 5 mm or less, more preferably 5 μm or more and 3 mm or less, and particularly preferably 10 μm or more and 1 mm or less. If the thickness of the base material is less than 3 μm, the heat resistance and tensile strength are inferior because it is thin, and there is a risk of stretching or breaking due to heat treatment or tension in the lamination process. It may be inferior to handling in When the thickness of the substrate exceeds 5 mm, the winding diameter is limited by the space of the winding portion of the processing machine when winding in a roll shape because the thickness is large, and the required length cannot be obtained, Since the stiffness of the material is strong and the flexibility is poor, the handling property in the processing process may be hindered or the substrate may not be wound up neatly due to the repulsion of the base material.

塗工手段40は、本実施形態では、粘着剤の構成成分、および溶媒を含んだ塗工液41を基材10に塗布する。塗工手段40としては、特に限定されないが、例えば、グラビアコーター、ナイフコーター、ロールコーター、ダイコーターなどを挙げることができ、ダイコーターとしては、複数の層を一度に形成できるストレートダイ、クロスヘッドダイ、フラットダイなどを用いることができる。本実施形態では、塗工手段40は、ナイフロール42、および塗工液41を溜める液ダム部43と、を備える。塗工液41は、事前に製糊装置等で調製されて液ダム部43へと供給される。塗工液41を調製し、脱泡装置にて脱泡した後に液ダム部43へ供給してもよい。
粘着剤の材質は、特に限定されず広く適用でき、例えば、ゴム系、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ウレタン系等の粘着剤を用いることができる。なお、粘着剤の種類は、用途や貼着される被着体の種類等を考慮して選択される。
塗工液41の塗布厚さは、特に限定されないが、それぞれ、積層体1における所望の粘着性質や、塗膜11としての粘着剤層の厚さに応じて適宜設定される。
In this embodiment, the coating means 40 applies a coating liquid 41 containing a constituent component of an adhesive and a solvent to the substrate 10. The coating means 40 is not particularly limited, and examples thereof include a gravure coater, a knife coater, a roll coater, a die coater, and the like. As the die coater, a straight die or a cross head capable of forming a plurality of layers at once. A die, a flat die, or the like can be used. In the present embodiment, the coating means 40 includes a knife roll 42 and a liquid dam portion 43 that stores the coating liquid 41. The coating liquid 41 is prepared in advance by a paste making apparatus or the like and supplied to the liquid dam portion 43. The coating liquid 41 may be prepared and defoamed with a defoaming apparatus, and then supplied to the liquid dam portion 43.
The material of the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited and can be widely applied. For example, rubber-based, acrylic-based, silicone-based, polyester-based, urethane-based pressure-sensitive adhesives can be used. In addition, the kind of adhesive is selected in consideration of the use, the kind of adherend to be attached, and the like.
The coating thickness of the coating liquid 41 is not particularly limited, and is appropriately set according to the desired adhesive property in the laminate 1 and the thickness of the adhesive layer as the coating film 11.

乾燥手段50は、塗工手段40にて塗工された所定幅の塗工液41に含まれる溶媒を乾燥および除去する。溶媒の除去により、塗膜11としての粘着層が基材10の上に形成された積層体1が得られる。
本実施形態では、塗工手段40と乾燥手段50の入口との間には、所定の間隔が設けられており、乾燥手段50の内部に入る前に、常温乾燥が施されている。
乾燥手段50は、一つの乾燥室で構成されていても、基材10の搬送方向に沿って複数の乾燥ゾーンに分割されていてもよい。乾燥手段が複数の乾燥ゾーンに分割されている場合、乾燥ゾーンごとに乾燥条件を設定することができる。
本実施形態では、乾燥手段50は、6つの乾燥ゾーンを有し、入口側から順に第一乾燥ゾーン51、第二乾燥ゾーン52、第三乾燥ゾーン53、第四乾燥ゾーン54、第五乾燥ゾーン55、および第六乾燥ゾーン56に区画されている。各乾燥ゾーン51〜56について乾燥条件の設定が可能である。乾燥手段50おける乾燥は、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性気体や空気などの雰囲気下で行われる。
The drying unit 50 dries and removes the solvent contained in the coating liquid 41 having a predetermined width applied by the coating unit 40. By removing the solvent, the laminate 1 in which the adhesive layer as the coating film 11 is formed on the substrate 10 is obtained.
In the present embodiment, a predetermined interval is provided between the coating unit 40 and the inlet of the drying unit 50, and normal temperature drying is performed before entering the inside of the drying unit 50.
The drying means 50 may be constituted by one drying chamber, or may be divided into a plurality of drying zones along the conveyance direction of the substrate 10. When the drying means is divided into a plurality of drying zones, the drying conditions can be set for each drying zone.
In the present embodiment, the drying means 50 has six drying zones, and the first drying zone 51, the second drying zone 52, the third drying zone 53, the fourth drying zone 54, and the fifth drying zone in this order from the inlet side. 55 and a sixth drying zone 56. The drying conditions can be set for each of the drying zones 51 to 56. Drying in the drying means 50 is performed in an atmosphere such as an inert gas such as nitrogen, argon, or helium, or air.

図2には、乾燥手段50の断面概略図が示されており、この断面は、基材10の搬送方向に沿う方向の断面である。
乾燥手段50の各乾燥ゾーン51〜56には、熱風を供給するためのノズル50aが複数備えられている。本実施形態では、ノズル50aは、スリットノズルであり、各ノズル50aは、基材10の幅方向に亘って熱風の供給が可能である。図2に示すように、ノズル50a同士の間隔は、X(単位は、m)で表され、ノズル50aの熱風吹出口先端50bから基材10までの最短距離は、S(単位は、m)で表され、熱風吹出口先端50bの幅(基材10の搬送方向に沿う方向の幅)は、W(単位は、m)で表される。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the drying means 50, and this cross-section is a cross-section in the direction along the conveyance direction of the substrate 10.
Each of the drying zones 51 to 56 of the drying means 50 is provided with a plurality of nozzles 50a for supplying hot air. In the present embodiment, the nozzles 50 a are slit nozzles, and each nozzle 50 a can supply hot air over the width direction of the substrate 10. As shown in FIG. 2, the interval between the nozzles 50a is represented by X (unit is m), and the shortest distance from the hot air outlet tip 50b of the nozzle 50a to the substrate 10 is S (unit is m). The width of the hot air outlet 50b (the width in the direction along the conveyance direction of the base material 10) is represented by W (unit is m).

図3にも、乾燥手段50の断面概略図が示されており、この断面は、基材10の幅方向に沿う方向の断面である。前述のとおり、ノズル50aは、スリットノズルである。図3には、当該スリットノズルについて、熱風吹出口先端50bから供給される熱風が塗工液へ有効に供給可能な幅(熱風有効幅)Wと、塗工液の塗布幅Wとの関係が断面概略図として表されている。塗布幅Wは、熱風有効幅Wよりも小さく、熱風が供給される範囲内に塗布幅が収まるようにすることが好ましい。基材10の幅も、熱風有効幅Wよりも小さい。 FIG. 3 also shows a schematic cross-sectional view of the drying means 50, and this cross-section is a cross-section in the direction along the width direction of the substrate 10. As described above, the nozzle 50a is a slit nozzle. 3 shows, for the slit nozzle, hot air supplied from the hot air outlet tip 50b and the effective suppliable width (hot air effective width) W H to the coating liquid, the coating width W C of the coating liquid The relationship is represented as a schematic cross section. Coating width W C is smaller than the hot air effective width W H, it is preferable that hot air to make the coating width is within the range specified supplied. The width of substrate 10 is also smaller than the hot air effective width W H.

ここで、塗膜の製造条件の調整方法について説明する。
本実施形態では、塗膜の製造条件は、下記数式(1)で算出される物質移動係数kを利用した乾燥条件と、下記数式(2)で算出される算出乾燥時間tと、に基づいて調整される。なお、物質移動係数の算出に関して、文献「Martin.H, Advances in Heat Transfer Volume 13, 1977, Pages 1-60」を参考とした。
Here, the adjustment method of the manufacturing conditions of a coating film is demonstrated.
In the present embodiment, manufacturing conditions of the coating, and drying conditions using a mass transfer coefficient k m, which is calculated by the following equation (1), and the calculated drying time t i which is calculated by the following equation (2), the Adjusted based on. For the calculation of the mass transfer coefficient, reference was made to the document “Martin. H, Advances in Heat Transfer Volume 13, 1977, Pages 1-60”.

=D×(Sc/Pr)0.42×h/k …(1)
=k×d×μ …(2)
k m = D × (Sc / Pr) 0.42 × h / k a ... (1)
t i = k i × d × μ (2)

前記数式(1)において、kは、物質移動係数(単位は、m/sec)であり、Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)であり、Scは、下記数式(3)で算出されるシュミット数であり、Prは、下記数式(4)で算出されるプラントル数であり、hは、熱伝達係数(単位は、J/(m・K・sec))であり、kは、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))である。 In Equation (1), k m is the mass transfer coefficient (unit is m / sec) is, D is the diffusion coefficient of the solvent in the gas in a dry atmosphere (in, m 2 / sec) at Yes, Sc is the Schmitt number calculated by the following formula (3), Pr is the Prandtl number calculated by the following formula (4), and h is the heat transfer coefficient (the unit is J / (m a 2 · K · sec)), k a is the thermal conductivity of the gas in a dry atmosphere (unit is J / (m · K · sec )).

前記数式(3)および(4)において、ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)であり、前記数式(3)において、ρは、乾燥雰囲気下の気体の密度(単位は、kg/m)であり、Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)であり、前記数式(4)において、cは、乾燥雰囲気下の気体の比熱(単位は、J/(kg・K))であり、kは、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))である。 In the mathematical formulas (3) and (4), η is the viscosity of the gas in the dry atmosphere (unit is Pa · sec), and in the mathematical formula (3), ρ is the density of the gas in the dry atmosphere ( unit is kg / m 3), D is the diffusion coefficient (unit of the solvent in the gas in a dry atmosphere is m 2 / sec), the in equation (4), c p is dried gas specific heat of the atmosphere (in, J / (kg · K) ) is, k a is the thermal conductivity of the gas in a dry atmosphere (in, J / (m · K · sec)) is .

前記数式(2)において、tは、算出乾燥時間(単位は、sec)であり、dは、塗布厚さ(単位は、m)であり、μは、塗工液の粘度(単位は、Pa・sec)であり、kは、係数であって、本実施形態では、k=(2/9)×106(単位は、(m・Pa)−1)である。なお、塗布厚さは、乾燥後の塗膜厚さを粘着剤に含まれる固形分の割合で除した値とした。 In Equation (2), t i is calculated drying time (in, sec) is, d is applied thickness (unit, m) is, mu is the viscosity (unit of the coating liquid, Pa · sec), and k i is a coefficient, and in this embodiment, k i = (2/9) × 10 6 (unit: (m · Pa) −1 ). In addition, application | coating thickness was taken as the value which remove | divided the coating-film thickness after drying by the ratio of the solid content contained in an adhesive.

前述の乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数Dは、下記数式(5)に基づいて算出される。なお、溶媒の拡散係数の算出に関して、文献「E. N. Fuller, P. D. Schettler, and J. C. Giddings, Ind. Eng. Chem. 58(5), 19 (1966).」を参考とした。   The diffusion coefficient D of the solvent in the gas under the dry atmosphere is calculated based on the following mathematical formula (5). Reference was made to the literature “E. N. Fuller, P. D. Schettler, and J. C. Giddings, Ind. Eng. Chem. 58 (5), 19 (1966)” for the calculation of the diffusion coefficient of the solvent.

前記数式(5)において、Tは、乾燥雰囲気下の気体の温度(単位は、K)であり、Mairは、乾燥雰囲気下の気体の分子量(単位は、kg/mol)であり、Msolventは、溶媒の分子量(単位は、kg/mol)であり、Pは、圧力(単位は、atm)であり、Vairは、乾燥雰囲気下の気体のモル体積(単位は、m/mol)であり、Vsolventは、溶媒のモル体積(単位は、m/mol)である。大気圧下であれば、Pは1atmである。
本実施形態において、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数Dは、乾燥手段50の各乾燥ゾーンにおける拡散係数の平均値とする。また、溶媒が、複数種類の溶媒が混合されてなる混合溶媒である場合、当該混合溶媒の拡散係数Dは、各溶媒の拡散係数の平均値とする。
In Equation (5), T is the temperature of the gas under a dry atmosphere (unit is K), M air is the molecular weight of the gas under the dry atmosphere (unit is kg / mol), and M solvent Is the molecular weight of the solvent (unit is kg / mol), P is the pressure (unit is atm), and V air is the molar volume of gas under dry atmosphere (unit is m 3 / mol) Vsolvent is the molar volume of the solvent (unit is m 3 / mol). Under atmospheric pressure, P is 1 atm.
In this embodiment, the diffusion coefficient D of the solvent in the gas in the dry atmosphere is the average value of the diffusion coefficients in each drying zone of the drying means 50. Moreover, when the solvent is a mixed solvent formed by mixing a plurality of types of solvents, the diffusion coefficient D of the mixed solvent is an average value of the diffusion coefficients of the respective solvents.

前述の熱伝達係数hは、下記数式(6)に基づいて算出される。   The aforementioned heat transfer coefficient h is calculated based on the following mathematical formula (6).

前記数式(6)において、
は、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))であり、
Wは、熱風吹出口先端50bの幅(単位は、m)であり、
Prは、プラントル数であり、
Reは、熱風吹出口先端50bから吹き出された熱風のレイノルズ数であり、
は、下記数式(7)に基づいて算出され、
Fは、下記数式(8)に基づいて算出される。
In the formula (6),
k a is the thermal conductivity of a gas in a dry atmosphere (unit: J / (m · K · sec)),
W is the width (unit is m) of the hot air outlet tip 50b,
Pr is the Prandtl number,
Re is the Reynolds number of the hot air blown from the hot air outlet 50b.
F 0 is calculated based on the following formula (7),
F is calculated based on the following mathematical formula (8).

F=W/X …(8)       F = W / X (8)

前記数式(7)において、
Sは、熱風吹出口先端50bから基材10までの最短距離(単位は、m)であり、
Wは、熱風吹出口先端50bの幅(単位は、m)であり、
前記数式(8)において、
Xは、ノズル50a同士の間隔(単位は、m)であり、
Wは、熱風吹出口先端50bの幅(単位は、m)である。
In the formula (7),
S is the shortest distance from the hot air outlet 50b to the base material 10 (unit is m),
W is the width (unit is m) of the hot air outlet tip 50b,
In the formula (8),
X is an interval between nozzles 50a (unit is m),
W is the width of the hot air outlet 50b (unit: m).

前記数式(6)におけるレイノルズ数Reは、下記数式(9)に基づいて算出される。   The Reynolds number Re in the equation (6) is calculated based on the following equation (9).

前記数式(9)において、
ρは、乾燥雰囲気下の気体の密度(単位は、kg/m)であり、
Vは、熱風吹出口先端50bから吹き出された熱風の風速(単位は、m/sec)であり、
Wは、熱風吹出口先端50bの幅(単位は、m)であり、
ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)である。
In the formula (9),
ρ is the density of gas in a dry atmosphere (unit: kg / m 3 )
V is the wind speed (unit: m / sec) of the hot air blown from the hot air outlet tip 50b.
W is the width (unit is m) of the hot air outlet tip 50b,
η is the viscosity of a gas in a dry atmosphere (unit: Pa · sec).

本実施形態において、物質移動係数kが、2.6×10−2(m/sec)以下に設定された乾燥条件の下で、連続した所定時間、乾燥が行われることが好ましい。物質移動係数kが、2.6×10−2(m/sec)以下の乾燥条件は、塗工液の塗布直後から所定時間、連続して保たれることが好ましい。なお、物質移動係数kは、乾燥手段や塗工液等に応じて設定されるので、本実施形態で例示した数値に限定されない。物質移動係数kは、2.5×10−2(m/sec)以下であることがより好ましく、2.4×10−2(m/sec)以下であることが更に好ましい。
塗工液の塗布直後から物質移動係数kが2.6×10−2(m/sec)以下の乾燥条件に保たれる時間tと、前記数式(2)に基づいて算出される算出乾燥時間tとの差Δtが、下記数式(10)で表される条件を満たすことが好ましく、下記数式(11)で表される条件を満たすことがより好ましく、下記数式(12)で表される条件を満たすことがさらに好ましく、下記数式(13)で表される条件を満たすことがさらに好ましい。なお、時間tは、換言すれば、塗工液の塗布直後から物質移動係数kが2.6×10−2(m/sec)を超えるまでの時間である。なお、本実施形態では、物質移動係数kが2.6×10−2(m/sec)を超えた後、再度、物質移動係数kが2.6×10−2(m/sec)以下の条件に戻ったとしても、その時間は時間tに含めない。
In this embodiment, the mass transfer coefficient k m is under the set drying conditions to 2.6 × 10 -2 (m / sec ) or less, the predetermined successive time, it is preferable that drying is carried out. Mass transfer coefficient k m is, 2.6 × 10 -2 (m / sec) The following drying conditions, predetermined time immediately after the application of the coating liquid is preferably maintained continuously. Note that mass transfer coefficient k m, so is set according to the drying means and the coating liquid, and the like numerals exemplified in the present embodiment. Mass transfer coefficient k m is more preferably 2.5 × 10 -2 (m / sec ) or less, and more preferably 2.4 × 10 -2 (m / sec ) or less.
And time t R of the mass transfer coefficient k m from immediately after the application of the coating liquid is kept at 2.6 × 10 -2 (m / sec ) following drying conditions, calculated calculated based the on Equation (2) difference Δt between the drying time t i is, it is preferable to satisfy the condition represented by the following equation (10), it is more preferable to satisfy the condition represented by the following equation (11), the table by the following mathematical formula (12) Is more preferable, and it is more preferable that the condition represented by the following formula (13) is satisfied. The time t R, in other words, the time from immediately after the application of the coating solution until the mass transfer coefficient k m exceeds 2.6 × 10 -2 (m / sec ). In the present embodiment, after the mass transfer coefficient k m exceeds 2.6 × 10 -2 (m / sec ) , again, the mass transfer coefficient k m is 2.6 × 10 -2 (m / sec ) even returned to the following conditions, the time is not included in the time t R.

Δt=t−t≧−100 …(10)
Δt=t−t≧−60 …(11)
Δt=t−t≧−30 …(12)
Δt=t−t≧0 …(13)
Δt = t R −t i ≧ −100 (10)
Δt = t R −t i ≧ −60 (11)
Δt = t R −t i ≧ −30 (12)
Δt = t R −t i ≧ 0 (13)

したがって、本実施形態では、塗工液の塗布直後から乾燥手段50の各乾燥ゾーン51〜56までの間において、時間tが、より長いことが好ましい。なお、差Δtの上限は、特に限定されないが、時間tが長すぎると、塗膜の製造効率が低下するため、欠点の発生状況と塗膜の製造効率との観点から、適宜、差Δtの上限が設定されることが好ましい。 Therefore, in this embodiment, it is preferable that the time t R is longer between the drying zones 51 to 56 of the drying means 50 immediately after the application of the coating liquid. The upper limit of the difference Δt is not particularly limited. However, if the time t R is too long, the production efficiency of the coating film is lowered. Therefore, the difference Δt is appropriately selected from the viewpoint of the occurrence of defects and the production efficiency of the coating film. It is preferable that the upper limit of is set.

図4には、本実施形態に係る製造方法監視システム20の構成を示すブロック図が示されている。
製造方法監視システム20は、塗膜の製造状況を監視するとともに、製造条件を制御する。製造方法監視システム20は、欠点検出手段21と、判別手段22と、警報手段23と、制御手段24と、を備える。製造方法監視システム20は、本実施形態では、乾燥手段50の下流側に配置されている。
FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the manufacturing method monitoring system 20 according to this embodiment.
The manufacturing method monitoring system 20 controls the manufacturing conditions while monitoring the manufacturing status of the coating film. The manufacturing method monitoring system 20 includes defect detection means 21, determination means 22, alarm means 23, and control means 24. In the present embodiment, the manufacturing method monitoring system 20 is disposed on the downstream side of the drying means 50.

欠点検出手段21は、塗膜11中の欠点を検出する。本実施形態では、塗膜11に含まれた気泡を欠点として検出する。
欠点検出手段21としては、例えば、塗膜11を撮像する撮像手段と、得られた画像を解析して所定サイズ以上の気泡の個数を計測可能な画像処理手段とを備えた構成が挙げられる。欠点検出手段21として、例えば、株式会社MEC製のLSC−4000シリーズ表面検査装置などを用いることができる。
欠点検出手段21は、検出した欠点に関する情報を、判別手段22へ供給する。欠点検出手段21は、塗膜製造装置100において長尺状の基材10に連続的に形成される塗膜11について、連続的に欠点を検出し、判別手段22に情報を供給してもよいし、所定時間毎に欠点を検出して、判別手段22に情報を供給してもよい。
The defect detection means 21 detects a defect in the coating film 11. In the present embodiment, bubbles contained in the coating film 11 are detected as defects.
Examples of the defect detection means 21 include a configuration including an imaging means for imaging the coating film 11 and an image processing means capable of analyzing the obtained image and measuring the number of bubbles having a predetermined size or more. As the defect detection means 21, for example, an LSC-4000 series surface inspection apparatus manufactured by MEC Co., Ltd. can be used.
The defect detection means 21 supplies information relating to the detected defect to the determination means 22. The defect detection means 21 may continuously detect defects in the coating film 11 continuously formed on the long substrate 10 in the coating film manufacturing apparatus 100 and supply information to the determination means 22. Alternatively, the defect may be detected every predetermined time and the information may be supplied to the determination unit 22.

判別手段22は、欠点検出手段21と接続されている。判別手段22は、予め記憶させておいた欠点に関する閾値と、欠点検出手段21から供給された欠点に関する情報と、を対比する。欠点に関する閾値としては、例えば、単位面積当たりの所定サイズ以上の気泡の個数や、基材10の所定長さ範囲に含まれる気泡の個数などが挙げられる。本実施形態では、単位面積当たりの所定サイズ以上の気泡の個数を、欠点に関する閾値とする。判別手段22は、例えば、第一記憶手段を備えていてもよく、この第一記憶手段に欠点に関する閾値を記憶させておくことができる。判別手段22は、本実施形態では、警報手段23および制御手段24に接続されている。判別手段22は、気泡の個数が、欠点に関する閾値を超えたと判定した場合は、その旨の情報を警報手段23および制御手段24それぞれに供給する。   The determination unit 22 is connected to the defect detection unit 21. The determination unit 22 compares the threshold value relating to the defect stored in advance with the information relating to the defect supplied from the defect detection unit 21. Examples of the threshold regarding the defect include the number of bubbles having a predetermined size or more per unit area, the number of bubbles included in the predetermined length range of the substrate 10, and the like. In the present embodiment, the number of bubbles having a predetermined size or more per unit area is set as a threshold for defects. The determination unit 22 may include, for example, a first storage unit, and a threshold value related to a defect can be stored in the first storage unit. The discrimination means 22 is connected to the alarm means 23 and the control means 24 in this embodiment. When the determination unit 22 determines that the number of bubbles has exceeded the threshold value regarding the defect, the determination unit 22 supplies information to that effect to the alarm unit 23 and the control unit 24.

警報手段23は、判別手段22から、気泡の個数が前述の閾値を超えた旨の情報が供給されると、警報を発する。警報手段23としては、例えば、表示灯やブザー等が挙げられ、警報が発せられていることを塗膜製造装置100のオペレーターに認知させ得る手段であればよい。警報手段23が発する警報は、オペレーターが手動で停止させてもよいし、判別手段22や制御手段24にて停止させてもよい。   The alarm unit 23 issues an alarm when information indicating that the number of bubbles exceeds the above-described threshold value is supplied from the determination unit 22. As the warning means 23, for example, an indicator lamp, a buzzer or the like can be cited, and any means may be used as long as it allows the operator of the coating film manufacturing apparatus 100 to recognize that the warning has been issued. The alarm issued by the alarm unit 23 may be manually stopped by the operator, or may be stopped by the determination unit 22 or the control unit 24.

制御手段24は、判別手段22から供給される情報に基づいて、塗膜11の製造工程を制御する。本実施形態では、判別手段22から、気泡の個数が欠点に関する閾値を超えた旨の情報が供給されると、制御手段24は、前述の閾値を超えた際の条件である第一の塗膜製造条件から、欠点に関する閾値を超えない第二の塗膜製造条件に変更する。制御手段24は、前述の塗膜製造条件の調整方法に基づいて、第二の塗膜製造条件を算出する。制御手段24は、例えば、第二記憶手段を備えていてもよく、この第二記憶手段に第一の塗膜製造条件、第二の塗膜製造条件、塗工液の組成や粘度、塗布厚さ、塗膜厚さ等を記憶させておくことができる。
制御手段24は、本実施形態では、第一供給手段30、塗工手段40、乾燥手段50、第二供給手段60、および巻取手段80と接続されており、算出した第二の塗膜製造条件に基づいて各手段を制御することが好ましい。例えば、第一の塗膜製造条件よりも塗膜の乾燥時間を長くする必要があれば、制御手段24にて、第一供給手段30、第二供給手段60、および巻取手段80による基材10や保護フィルム12の供給速度、および巻取速度を遅くするよう制御させてもよい。また、塗工液の粘度や塗布厚さの調整が必要である場合には、塗工手段40を制御させてもよい。また、制御手段24にて、乾燥手段50における熱風吹出口先端50bから吹き出される熱風の風速や、乾燥雰囲気下の気体の温度などを制御させてもよい。さらには、制御手段24にて第一供給手段30、塗工手段40、乾燥手段50、第二供給手段60、および巻取手段80を複合的に制御させてもよい。
The control unit 24 controls the manufacturing process of the coating film 11 based on the information supplied from the determination unit 22. In the present embodiment, when information indicating that the number of bubbles exceeds the threshold value regarding the defect is supplied from the determination unit 22, the control unit 24 causes the first coating film that is a condition when the threshold value is exceeded. The manufacturing condition is changed to the second coating film manufacturing condition that does not exceed the threshold for defects. The control means 24 calculates the second coating film manufacturing condition based on the aforementioned coating film manufacturing condition adjusting method. The control unit 24 may include, for example, a second storage unit, and the second storage unit includes a first coating film manufacturing condition, a second coating film manufacturing condition, a composition and viscosity of the coating liquid, and a coating thickness. In addition, the film thickness and the like can be stored.
In this embodiment, the control means 24 is connected to the first supply means 30, the coating means 40, the drying means 50, the second supply means 60, and the winding means 80, and the calculated second coating film production. It is preferable to control each means based on conditions. For example, if it is necessary to make the drying time of the coating film longer than the first coating film production conditions, the control unit 24 uses the first supply unit 30, the second supply unit 60, and the winding unit 80 to form the base material. 10 and the supply speed of the protective film 12 and the winding speed may be controlled to be slow. Further, when adjustment of the viscosity of the coating liquid and the coating thickness is necessary, the coating means 40 may be controlled. Further, the control means 24 may control the wind speed of the hot air blown from the hot air outlet tip 50b in the drying means 50, the temperature of the gas in the dry atmosphere, and the like. Furthermore, the first supply unit 30, the coating unit 40, the drying unit 50, the second supply unit 60, and the winding unit 80 may be controlled in a complex manner by the control unit 24.

第二供給手段60は、駆動機器としての回動モータ61と、回動モータ61により回転可能に設けられた支持ローラ62と、を備える。支持ローラ62は、ロール状に巻回した長尺状の保護フィルム12を支持する。支持ローラ62から繰り出された保護フィルム12は、貼合部70へ供給される。   The second supply means 60 includes a rotation motor 61 as a drive device, and a support roller 62 provided to be rotatable by the rotation motor 61. The support roller 62 supports the long protective film 12 wound in a roll shape. The protective film 12 fed out from the support roller 62 is supplied to the bonding unit 70.

貼合部70は、積層体1が架け回された第一貼合ロール71と、保護フィルム12が架け回された第二貼合ロール72と、を備える。積層体1と保護フィルム12とは、第一貼合ロール71および第二貼合ロール72の間を通過することで貼り合わされて、保護フィルム12付きの積層体1となる。保護フィルム12付きの積層体1は、第一貼合ロール71および第二貼合ロール72によって、巻取手段80が配置された下流側へと案内される。   The bonding unit 70 includes a first bonding roll 71 on which the laminate 1 is laid and a second bonding roll 72 on which the protective film 12 is laid. Laminate 1 and protective film 12 are pasted together by passing between first laminating roll 71 and second laminating roll 72 to form laminated body 1 with protective film 12. The laminated body 1 with the protective film 12 is guided by the first bonding roll 71 and the second bonding roll 72 to the downstream side where the winding means 80 is disposed.

巻取手段80は、駆動機器としての回動モータ81と、回動モータ81により回転可能に設けられた支持ローラ82と、を備える。支持ローラ82は、長尺状の保護フィルム12付きの積層体1をロール状に巻回して支持する。   The winding means 80 includes a rotation motor 81 as a drive device, and a support roller 82 that is rotatably provided by the rotation motor 81. The support roller 82 supports the laminated body 1 with the long protective film 12 wound in a roll shape.

ロール状に巻回された保護フィルム12付きの積層体1は、所定形状および所定寸法に裁断されて、例えば、保護フィルム12付きの粘着シートとして利用できる。この粘着シートは、保護フィルム12を剥がして粘着剤からなる塗膜11を露出させて、被着体(第一の被着体)に貼着される。基材10は、そのまま塗膜11の支持体としておいてもよいし、基材10を剥がして塗膜11を露出させ、粘着剤からなる塗膜11に別の被着体(第二の被着体)を貼着してもよい。   The laminated body 1 with the protective film 12 wound in a roll shape is cut into a predetermined shape and a predetermined dimension, and can be used as, for example, an adhesive sheet with the protective film 12. This adhesive sheet is attached to an adherend (first adherend) by peeling off the protective film 12 to expose the coating film 11 made of an adhesive. The base material 10 may be used as a support for the coating film 11 as it is, or the base material 10 is peeled off to expose the coating film 11, and another coating body (second coated body) is applied to the coating film 11 made of an adhesive. You may affix a kimono.

本実施形態に係る塗膜の製造方法は、前述の方法に基づいて調整された塗膜製造条件に基づいて実施される。また、本実施形態に係る塗膜の製造方法は、塗膜製造装置100を用いて実施することができる。   The manufacturing method of the coating film which concerns on this embodiment is implemented based on the coating-film manufacturing conditions adjusted based on the above-mentioned method. Moreover, the manufacturing method of the coating film which concerns on this embodiment can be implemented using the coating-film manufacturing apparatus 100. FIG.

本実施形態に係る塗膜の製造方法によれば、塗膜製造条件が、前記数式(1)で算出される物質移動係数kを利用した乾燥条件と、前記数式(2)で算出される算出乾燥時間tと、に基づいて調整される。具体的には、所定の物質移動係数kを満たすように乾燥条件を設定、好ましくは、物質移動係数kを2.6×10−2(m/sec)以下となるように乾燥条件を設定する。なお、物質移動係数kを2.6×10−2(m/sec)以下に設定することで、塗工液に含まれる溶媒の蒸発に伴う塗膜の粘度上昇が抑制され、塗工液に含まれる気泡が気液界面まで上昇する際の粘性抵抗が小さくなると考えられる。
そして、物質移動係数kが、2.6×10−2(m/sec)以下の乾燥条件に保たれる時間tと、前記数式(2)に基づいて算出される算出乾燥時間tとの差Δtが、前記数式(10)を満たすように、乾燥を行う。このような乾燥条件下で塗膜11の製造が行われるため、塗膜11中に含まれる気泡の数を減少させることができる。差Δtが、前記数式(11)を満たせば気泡の数をより減少させることができ、前記数式(12)を満たせば気泡の数をさらに減少させることができ、前記数式(13)を満たせば気泡の数をさらに減少させることができる。なお、前記数式(10)〜(13)を満たすように時間tを設定することで、塗膜中の気泡が浮力によって気液界面まで上昇するための時間が得られると考えられる。
According to the manufacturing method of the coating film according to the present embodiment, the coating film manufacturing conditions, the drying conditions using a mass transfer coefficient k m, which is calculated the in Equation (1), is calculated the by Equation (2) and calculating the drying time t i, it is adjusted based on. Specifically, setting the drying conditions so as to satisfy a predetermined mass transfer coefficient k m, preferably, the drying conditions to the mass transfer coefficient k m becomes 2.6 × 10 -2 (m / sec ) or less Set. Incidentally, by setting the mass transfer coefficient k m to 2.6 × 10 -2 (m / sec ) or less, the viscosity increase of the coating film due to evaporation of the solvent contained in the coating liquid is suppressed, the coating liquid It is considered that the viscosity resistance when bubbles contained in the gas rise to the gas-liquid interface is reduced.
The mass transfer coefficient k m is, 2.6 × 10 -2 (m / sec) or less of the time t R is kept in a dry condition, calculated drying time t i which are calculated on the basis of the in equation (2) Drying is performed such that the difference Δt satisfies the equation (10). Since the coating film 11 is manufactured under such dry conditions, the number of bubbles contained in the coating film 11 can be reduced. If the difference Δt satisfies the equation (11), the number of bubbles can be further reduced, and if the equation (12) is satisfied, the number of bubbles can be further reduced, and if the equation (13) is satisfied. The number of bubbles can be further reduced. Note that by setting the time t R so as to satisfy the equation (10) to (13), the time for the bubbles in the coating rises to the gas-liquid interface by buoyancy be obtained.

本実施形態に係る製造方法監視システム20によれば、塗膜11中の欠点を欠点検出手段21にて検出しながら、欠点に関する閾値を超えるか否か判別手段22にて判定し、閾値を超えた場合には、制御手段24にて当該閾値を超えない第二の塗膜製造条件に変更する。この第二の塗膜製造条件は、前記数式(1)および前記数式(2)に基づいて調整されるため、塗膜11中に含まれる気泡の数を減少させることができ、さらには、塗膜11の製造工程を適切に管理することができる。   According to the manufacturing method monitoring system 20 according to the present embodiment, the defect detection unit 21 determines whether or not the defect-related threshold value is exceeded while the defect detection unit 21 detects the defect in the coating film 11, and exceeds the threshold value. In the case where it is detected, the control means 24 changes the second coating film manufacturing condition so as not to exceed the threshold value. Since the second coating film production condition is adjusted based on the mathematical formula (1) and the mathematical formula (2), the number of bubbles contained in the coating film 11 can be reduced. The manufacturing process of the film | membrane 11 can be managed appropriately.

なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。   It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, etc. within a scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.

前記実施形態では、製造する塗膜が粘着剤である態様を例に挙げて説明したが、本発明はこのような態様に限定されない。例えば、塗膜としては、ハードコート層、表面保護層、インク受理層やインク印刷層等が挙げられる。   In the said embodiment, although the aspect which the coating film to manufacture was mentioned as an example and demonstrated, this invention is not limited to such an aspect. For example, examples of the coating film include a hard coat layer, a surface protective layer, an ink receiving layer, and an ink printing layer.

前記実施形態では、乾燥手段として熱風をスリットノズルから供給する態様を例に挙げて説明したが、本発明はこのような態様に限定されない。例えば、乾燥手段は、熱風の供給と、紫外線や電子線を照射する照射装置による照射とが可能な態様でもよい。この場合、例えば、紫外線硬化型の樹脂を含む塗工液を基材に塗布し、乾燥手段の入口側の乾燥ゾーンにて熱風を供給して溶媒を除去し、その後、紫外線を照射して樹脂を硬化させるなどの方法も採用できる。   In the said embodiment, although the aspect which supplies a hot air from a slit nozzle was mentioned as an example as a drying means, it demonstrated and this invention is not limited to such an aspect. For example, the drying unit may be configured to be capable of supplying hot air and irradiating with an irradiation device that irradiates ultraviolet rays or electron beams. In this case, for example, a coating liquid containing an ultraviolet curable resin is applied to the substrate, hot air is supplied in the drying zone on the inlet side of the drying means to remove the solvent, and then the resin is irradiated with ultraviolet rays. A method such as curing can also be adopted.

塗膜製造装置100は、さらに、厚さ測定手段を備えていてもよい。乾燥手段50の下流側に厚さ測定手段を配置し、製造方法監視システム20の制御手段24と接続することが好ましい。厚さ測定手段で得た塗膜厚さに関する情報を制御手段24に供給し、制御手段24にて記憶されていた塗布厚さと対比して、所望の膜厚で塗膜が製造されていることを判断する構成としてもよい。なお、厚さ測定手段で得た塗膜厚さに基づいて塗布厚さを算出するためのデータやプログラム等を、制御手段24に記憶させておいてもよい。   The coating film manufacturing apparatus 100 may further include a thickness measuring unit. It is preferable that a thickness measuring unit is disposed downstream of the drying unit 50 and connected to the control unit 24 of the manufacturing method monitoring system 20. Information relating to the coating thickness obtained by the thickness measuring means is supplied to the control means 24, and the coating film is manufactured with a desired film thickness as compared with the coating thickness stored in the control means 24. It is good also as a structure which judges. Data or a program for calculating the coating thickness based on the coating thickness obtained by the thickness measuring means may be stored in the control means 24.

〔実験例〕
以下に、実験例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの実験例に何ら限定されるものではない。
[Experimental example]
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to experimental examples, but the present invention is not limited to these experimental examples.

・塗工液の調製
塗膜としての粘着剤層を製造するため、粘着剤成分を含む塗工液を調製した。具体的には、アクリル共重合体と、酢酸エチルと、トルエンと、メチルエチルケトンとを、表1に示す配合量で配合して3種類の塗工液A〜Cを調製した。各塗工液の粘度は、表1に示す通りである。塗工液の粘度は、RheoSense社製のm−VROC微量サンプル粘度計を用いて測定した。
-Preparation of coating liquid In order to manufacture the adhesive layer as a coating film, the coating liquid containing an adhesive component was prepared. Specifically, an acrylic copolymer, ethyl acetate, toluene, and methyl ethyl ketone were blended in the blending amounts shown in Table 1 to prepare three types of coating liquids A to C. The viscosity of each coating solution is as shown in Table 1. The viscosity of the coating solution was measured using an m-VROC micro sample viscometer manufactured by RheoSense.

(実験例1)
塗工液Bを基材としての長尺状フィルム(厚さ38μm、幅1.3m、ポリエチレンテレフタレートフィルム)に100mの長さに亘って塗工し、塗膜の製造を行った。
粘度が2Pa・secの塗工液Bを、塗布厚さ153μmで塗布した。なお、塗布厚さは、本実験例では、乾燥後の塗膜厚さ58μmを、粘着剤Bの固形分としてのアクリル共重合体の割合0.381で除して、153μmと算出した。
算出乾燥時間tは、前記数式(2)に基づいて、68秒と算出された。
(Experimental example 1)
The coating liquid B was coated over a length of 100 m on a long film (thickness 38 μm, width 1.3 m, polyethylene terephthalate film) using the coating liquid B as a base material to produce a coating film.
A coating liquid B having a viscosity of 2 Pa · sec was applied at a coating thickness of 153 μm. In the present experimental example, the coating thickness was calculated to be 153 μm by dividing the coating thickness of 58 μm after drying by the ratio of acrylic copolymer as the solid content of the adhesive B, 0.381.
Calculated drying time t i, the based on the equation (2), was calculated to 68 seconds.

塗布した塗工液Bの乾燥は、前記実施形態で説明した6つの乾燥ゾーンを有する乾燥手段50にて行った。本実験例では、乾燥雰囲気は、空気とした。
本実験例では、各乾燥ゾーンの長さは、下記のとおり設定した。
第一乾燥ゾーン51 :3m
第二乾燥ゾーン52 :4.5m
第三乾燥ゾーン53 :4.5m
第四乾燥ゾーン54 :4.5m
第五乾燥ゾーン55 :4.5m
第六乾燥ゾーン56 :4.5m
The applied coating liquid B was dried by the drying means 50 having the six drying zones described in the above embodiment. In this experimental example, the dry atmosphere was air.
In this experimental example, the length of each drying zone was set as follows.
First drying zone 51: 3 m
Second drying zone 52: 4.5 m
Third drying zone 53: 4.5 m
Fourth drying zone 54: 4.5 m
Fifth drying zone 55: 4.5m
Sixth drying zone 56: 4.5 m

本実験例の各乾燥ゾーンにおける物質移動係数を前記数式(1)に基づいて算出し、算出結果を表2に示す。   The mass transfer coefficient in each drying zone of this experimental example was calculated based on the formula (1), and the calculation results are shown in Table 2.

本実験例では、物質移動係数kが2.60×10−2(m/sec)以下に設定された乾燥ゾーンは、第一乾燥ゾーン51から第六乾燥ゾーン56までであった。なお、塗工手段40で塗工された直後から第一乾燥ゾーン51に入るまでの時間も、物質移動係数kが2.60×10−2(m/sec)以下に設定されていた。塗工手段40で塗工された直後から第一乾燥ゾーン51に入るまで、2mの距離を設定した。 In this experimental example, the drying zone of the mass transfer coefficient k m is set to 2.60 × 10 -2 (m / sec ) or less, was from the first drying zone 51 to a sixth drying zone 56. Incidentally, the time from immediately after being coated with the coating means 40 until it enters the first drying zone 51, the mass transfer coefficient k m is set to 2.60 × 10 -2 (m / sec ) or less. A distance of 2 m was set from immediately after coating by the coating means 40 until entering the first drying zone 51.

塗膜の製造条件を表3に示す。表3に示すように、本実験例では塗工速度を12(m/min)とした。塗工手段40で塗工された後から第六乾燥ゾーン56まで通過するのに要する時間は、{2+(3+4.5×5)}×60/12=137.5秒(=約138秒)であった。そうすると、本実験例では、物質移動係数kが2.60×10−2(m/sec)以下に設定された乾燥条件の下で、t=138秒間の乾燥が基材上の塗工液に対して施されたことになる。
そして、本実験例は、Δt=t−t=138−68=70秒という条件で塗工液の乾燥を行い、塗膜の製造を行ったことになる。
Table 3 shows the production conditions of the coating film. As shown in Table 3, in this experimental example, the coating speed was set to 12 (m / min). It takes {2+ (3 + 4.5 × 5)} × 60/12 = 137.5 seconds (= about 138 seconds) to pass to the sixth drying zone 56 after being coated by the coating means 40. Met. Then, in this experimental example, under dry conditions the mass transfer coefficient k m is set to 2.60 × 10 -2 (m / sec ) or less, the coating on the t R = 138 seconds drying substrate It is applied to the liquid.
In this experimental example, the coating liquid was dried under the condition of Δt = t R −t i = 138−68 = 70 seconds, and the coating film was manufactured.

欠点(気泡)の検出は、株式会社MEC製のLSC−4000シリーズ表面検査装置を用いて行った。本実験例では、当該表面検査装置にて、径が50μm以上である気泡を検出させた。本実験例に係る塗膜中の気泡の数は、幅1.3m、長さ100mのフィルムにおいて、4つであった。表4に、t、t、Δt、および欠点数を示す。 Detection of defects (bubbles) was performed using an LSC-4000 series surface inspection device manufactured by MEC. In the present experimental example, bubbles having a diameter of 50 μm or more were detected by the surface inspection apparatus. The number of bubbles in the coating film according to this experimental example was four in a film having a width of 1.3 m and a length of 100 m. Table 4 shows t R , t i , Δt, and the number of defects.

実験例2〜18は、それぞれ、塗工液の種別、塗布厚さ、塗工速度および物質移動係数を表3に示す条件に変更したこと以外は、実験例1と同様にして塗膜の製造を行った。実験例2〜18のt、t、Δt、および欠点数を表4に示す。
また、表3中で示された各実験例の各乾燥ゾーンにおける物質移動係数kの算出結果を、表5〜表9に示す。実験例2〜18の第一乾燥ゾーンにおける物質移動係数kは、実験例1と同様であった。
Experimental Examples 2 to 18 were the same as in Experimental Example 1 except that the coating liquid type, coating thickness, coating speed, and mass transfer coefficient were changed to the conditions shown in Table 3. Went. Table 4 shows t R , t i , Δt, and the number of defects in Experimental Examples 2 to 18.
Further, the calculation result of the mass transfer coefficient k m in each drying zone of each experimental examples shown in Table 3, shown in Tables 5 to 9. Mass transfer coefficient k m in the first drying zone of the experimental examples 2-18 were the same as in Experimental Example 1.

図5には、実験例1〜18において製造した塗膜について、塗膜中の欠点数と乾燥時間との関係を示すグラフが示されている。なお、図5のグラフの縦軸(欠点の数)は、対数目盛となっている。
実験例1〜17は、物質移動係数kが、2.60×10−2(m/sec)以下に設定された乾燥条件下、算出乾燥時間tに基づいて調整された塗膜製造条件で行われた。具体的には、物質移動係数kが2.60×10−2(m/sec)以下に設定された乾燥が、前記数式(10)の条件を満たすように連続的に施された。その結果、実験例1〜17によれば、塗膜に含まれる気泡の数を減少させることができた。さらに、実験例1〜16によれば、前記数式(11)の条件を満たすように連続的に乾燥が施され、気泡の数をより減少させることができ、実験例1〜15によれば、前記数式(12)の条件を満たすように連続的に乾燥が施され、気泡の数をさらに減少させることができ、実験例1〜8によれば、前記数式(13)の条件を満たすように連続的に乾燥が施され、気泡の数をさらに減少させることができた。
一方、実験例18では、物質移動係数kが2.60×10−2(m/sec)以下に設定された乾燥が50秒間だったため、前記数式(2)に基づいて算出される算出乾燥時間tよりも、150秒以上短く、塗膜に含まれる気泡の数が実験例1〜17に比べて多くなった。
FIG. 5 shows a graph showing the relationship between the number of defects in the coating film and the drying time for the coating films produced in Experimental Examples 1-18. The vertical axis (number of defects) in the graph of FIG. 5 is a logarithmic scale.
Experimental Examples 1 to 17, mass transfer coefficient k m is, 2.60 × 10 -2 (m / sec) set dry conditions below, calculated dry adjusted based on the time t i the coating film production conditions Made in Specifically, the mass transfer coefficient k m dry set to 2.60 × 10 -2 (m / sec ) or less, continuously subjected to satisfy the condition of Equation (10). As a result, according to Experimental Examples 1 to 17, the number of bubbles contained in the coating film could be reduced. Furthermore, according to Experimental Examples 1 to 16, drying is continuously performed so as to satisfy the condition of Equation (11), and the number of bubbles can be further reduced. According to Experimental Examples 1 to 15, Continuous drying is performed so as to satisfy the condition of Equation (12), and the number of bubbles can be further reduced. According to Experimental Examples 1 to 8, the condition of Equation (13) is satisfied. Continuous drying was performed and the number of bubbles could be further reduced.
On the other hand, in Example 18, for drying the mass transfer coefficient k m is set to 2.60 × 10 -2 (m / sec ) or less was 50 seconds, calculated dry calculated based on the equation (2) than the time t i, or 150 seconds short, the number of bubbles contained in the coating film becomes greater than the experimental examples 1-17.

11…塗膜、20…製造方法監視システム、21…欠点検出手段、22…判別手段、23…警報手段、24…制御手段。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Coating film, 20 ... Manufacturing method monitoring system, 21 ... Defect detection means, 22 ... Discrimination means, 23 ... Alarm means, 24 ... Control means.

Claims (2)

下記数式(1)で算出される物質移動係数kを利用した乾燥条件と、下記数式(2)で算出される算出乾燥時間tと、に基づいて調整された塗膜製造条件で行うことを特徴とする塗膜の製造方法。
=D×(Sc/Pr)0.42×h/k …(1)
=k×d×μ …(2)
(前記数式(1)において、
は、物質移動係数(単位は、m/sec)であり、
Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)であり、
hは、熱伝達係数(単位は、J/(m・K・sec))であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))であり、
Scは、下記数式(3)で算出されるシュミット数であり、
Prは、下記数式(4)で算出されるプラントル数である。)
(前記数式(3)において、
ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
ρは、乾燥雰囲気下の気体の密度(単位は、kg/m)であり、
Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)である。)
(前記数式(4)において、
ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の比熱(単位は、J/(kg・K))であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))であり、
前記数式(2)において、
は、算出乾燥時間(単位は、sec)であり、
dは、塗布厚さ(単位は、m)であり、
μは、塗工液の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
=(2/9)×106(単位は、(m・Pa)−1)である。)
And drying conditions using a mass transfer coefficient k m, which is calculated by the following equation (1), calculated drying time and t i, be carried out in a coating film production conditions are adjusted based on the calculated by the following equation (2) The manufacturing method of the coating film characterized by these.
k m = D × (Sc / Pr) 0.42 × h / k a ... (1)
t i = k i × d × μ (2)
(In the formula (1),
k m is the mass transfer coefficient (unit is m / sec) is,
D is the diffusion coefficient of the solvent in the gas under a dry atmosphere (unit: m 2 / sec),
h is a heat transfer coefficient (unit: J / (m 2 · K · sec)),
k a is the thermal conductivity of a gas in a dry atmosphere (unit: J / (m · K · sec)),
Sc is the Schmitt number calculated by the following mathematical formula (3),
Pr is the Prandtl number calculated by the following mathematical formula (4). )
(In the formula (3),
η is the viscosity of the gas in a dry atmosphere (unit is Pa · sec),
ρ is the density of gas in a dry atmosphere (unit: kg / m 3 )
D is the diffusion coefficient (unit is m 2 / sec) of the solvent in the gas in a dry atmosphere. )
(In the formula (4),
η is the viscosity of the gas in a dry atmosphere (unit is Pa · sec),
c p is the specific heat of the gas under a dry atmosphere (in, J / (kg · K) ) is,
k a is the thermal conductivity of a gas in a dry atmosphere (unit: J / (m · K · sec)),
In the formula (2),
t i is the calculated drying time (unit: sec),
d is the coating thickness (unit is m);
μ is the viscosity of the coating liquid (unit is Pa · sec),
k i = (2/9) × 10 6 (the unit is (m · Pa) −1 ). )
塗布手段および乾燥手段を有する塗膜の製造工程を監視する製造方法監視システムであって、
塗膜中の欠点を検出する欠点検出手段と、
予め記憶させておいた欠点に関する閾値と、前記欠点検出手段によって検出された欠点に関する情報と、を対比する判別手段と、
検出された欠点が前記閾値を超えたことが前記判別手段によって判定された場合に、前記閾値を超えない第二の塗膜製造条件を算出し、予め記憶させておいた第一の塗膜製造条件から前記第二の塗膜製造条件に変更して、前記塗膜の製造工程を制御する制御手段と、を備え、
前記塗膜製造条件は、下記数式(1)で算出される物質移動係数kを利用した乾燥条件と、下記数式(2)で算出される算出乾燥時間tと、に基づいて調整された条件であることを特徴とする製造方法監視システム。
=D×(Sc/Pr)0.42×h/k …(1)
=k×d×μ …(2)
(前記数式(1)において、
は、物質移動係数(単位は、m/sec)であり、
Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)であり、
hは、熱伝達係数(単位は、J/(m・K・sec))であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))であり、
Scは、下記数式(3)で算出されるシュミット数であり、
Prは、下記数式(4)で算出されるプラントル数であり、
前記数式(3)において、
ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
ρは、乾燥雰囲気下の気体の密度(単位は、kg/m)であり、
Dは、乾燥雰囲気下の気体中での溶媒の拡散係数(単位は、m/sec)であり、
前記数式(4)において、
ηは、乾燥雰囲気下の気体の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の比熱(単位は、J/(kg・K))であり、
は、乾燥雰囲気下の気体の熱伝導率(単位は、J/(m・K・sec))であり、
前記数式(2)において、
は、算出乾燥時間(単位は、sec)であり、
dは、塗布厚さ(単位は、m)であり、
μは、塗工液の粘度(単位は、Pa・sec)であり、
=(2/9)×106(単位は、(m・Pa)−1)である。)
A production method monitoring system for monitoring a production process of a coating film having a coating means and a drying means,
A defect detection means for detecting defects in the coating film;
A discriminating means for comparing the threshold value relating to the defect stored in advance with the information relating to the defect detected by the defect detecting means;
When it is determined by the determining means that the detected defect has exceeded the threshold value, the second coating film manufacturing condition not exceeding the threshold value is calculated and stored in advance. Changing from the conditions to the second coating film manufacturing conditions, and controlling means for controlling the manufacturing process of the coating film,
The coating film production conditions, and drying conditions using a mass transfer coefficient k m, which is calculated by the following equation (1), and the calculated drying time t i which is calculated by the following equation (2), which is adjusted based on A manufacturing method monitoring system characterized by being a condition.
k m = D × (Sc / Pr) 0.42 × h / k a ... (1)
t i = k i × d × μ (2)
(In the formula (1),
k m is the mass transfer coefficient (unit is m / sec) is,
D is the diffusion coefficient of the solvent in the gas under a dry atmosphere (unit: m 2 / sec),
h is a heat transfer coefficient (unit: J / (m 2 · K · sec)),
k a is the thermal conductivity of a gas in a dry atmosphere (unit: J / (m · K · sec)),
Sc is the Schmitt number calculated by the following mathematical formula (3),
Pr is the Prandtl number calculated by the following mathematical formula (4),
In the formula (3),
η is the viscosity of the gas in a dry atmosphere (unit is Pa · sec),
ρ is the density of gas in a dry atmosphere (unit: kg / m 3 )
D is the diffusion coefficient of the solvent in the gas under a dry atmosphere (unit: m 2 / sec),
In the formula (4),
η is the viscosity of the gas in a dry atmosphere (unit is Pa · sec),
c p is the specific heat of the gas under a dry atmosphere (in, J / (kg · K) ) is,
k a is the thermal conductivity of a gas in a dry atmosphere (unit: J / (m · K · sec)),
In the formula (2),
t i is the calculated drying time (unit: sec),
d is the coating thickness (unit is m);
μ is the viscosity of the coating liquid (unit is Pa · sec),
k i = (2/9) × 10 6 (the unit is (m · Pa) −1 ). )
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