JP2015176315A - touch panel sensor - Google Patents

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JP2015176315A
JP2015176315A JP2014051922A JP2014051922A JP2015176315A JP 2015176315 A JP2015176315 A JP 2015176315A JP 2014051922 A JP2014051922 A JP 2014051922A JP 2014051922 A JP2014051922 A JP 2014051922A JP 2015176315 A JP2015176315 A JP 2015176315A
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JP2014051922A
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誠司 滝澤
Seiji Takizawa
誠司 滝澤
伊藤 大
Masaru Ito
大 伊藤
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel sensor capable of avoiding visual recognition of a light-shielding material used as an auxiliary wiring by a user and simultaneously maintaining a low wiring resistance of an electrode.SOLUTION: The touch panel sensor comprises a transparent base film including a first surface having a first electrode part and a second surface having a second electrode part. The first electrode part includes a plurality of first conductors juxtaposed and arranged in a first direction and a plurality of first lead-out conductors, and the second electrode part includes a plurality of second conductors juxtaposed and arranged in a second direction and a plurality of second lead-out conductors. The first direction intersects the second direction, and each of the first and second conductors has a plurality of line parts and a plurality of extension parts. A distance between an active area being the minimum area including all extension parts of the first and second conductors and a wiring area being the minimum area including all the first and second lead-out conductors is 0.1-6.0 mm.

Description

本発明は、所定のパターンをそれぞれ有した第1電極部および第2電極部を含むタッチパネルセンサに関する。   The present invention relates to a touch panel sensor including a first electrode portion and a second electrode portion each having a predetermined pattern.

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびFPC(フレキシブルプリント基板)を含む。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの表示装置が組み込まれた種々の装置(たとえば、券売機、ATM装置、携帯電話、ゲーム機)における入力手段として、用いられている。このような装置において、タッチパネルセンサは表示装置の表示面上に配置され、これにより、タッチパネル装置は表示画像に対応した極めて直感的な入力を可能にする。表示装置の表示領域に対面するタッチパネルセンサの領域は透明になっている。タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置(接近位置)を検出し得るアクティブエリアを構成する。   Today, touch panel devices are widely used as input means. The touch panel device includes a touch panel sensor, a control circuit that detects a contact position on the touch panel sensor, wiring, and an FPC (flexible printed circuit board). In many cases, touch panel devices are used as input means in various devices (for example, ticket machines, ATM devices, mobile phones, game machines) in which display devices such as liquid crystal displays and plasma displays are incorporated. In such a device, the touch panel sensor is disposed on the display surface of the display device, whereby the touch panel device enables extremely intuitive input corresponding to the display image. The area of the touch panel sensor facing the display area of the display device is transparent. This area of the touch panel sensor constitutes an active area where the contact position (approach position) can be detected.

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置(接近位置)を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別され得る。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていることなどの理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式のタッチパネル装置に位置を検知されるべき外部導体(典型的には、指)が誘電体を介してタッチセンサに接触(接近)する際に、外部導体による奇生容量が新たに発生し、静電容量が変化する。この静電容量の変化を利用して、タッチパネルセンサ上の外部導体の位置を検出する。容量結合方式は、表面型と投影型とにさらに分類される。マルチタッチの認識(多点認識)への対応に適していることから、投影型容量結合方式が注目を浴びている(たとえば、特許文献1参照)。   The touch panel device can be classified into various types based on the principle of detecting a contact position (approach position) on the touch panel sensor. In recent years, capacitively coupled touch panel devices have attracted attention because they are optically bright, have good design properties, have a simple structure, and are functionally superior. When an external conductor (typically a finger) whose position is to be detected by a capacitively coupled touch panel device contacts (approaches) the touch sensor via a dielectric, a new strange capacitance is generated by the external conductor. The capacitance changes. The position of the external conductor on the touch panel sensor is detected using this change in capacitance. The capacitive coupling method is further classified into a surface type and a projection type. Since it is suitable for multi-touch recognition (multi-point recognition), the projected capacitive coupling method is attracting attention (see, for example, Patent Document 1).

投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、誘電体と、誘電体の一方の面に形成された第1電極部と、誘電体の他方の面に形成され、第1電極部となるパターンを有する第2電極部とを有する(たとえば、特許文献2参照)。典型的には、第1電極部および第2電極部は、それぞれ格子状に配列された導電体を有し、外部導体(典型的には、指)がタッチパネルセンサに接触または接近した際に生じる静電容量の変化に基いて、導電体の位置を検出する。   The projected capacitively coupled touch panel sensor includes a dielectric, a first electrode portion formed on one surface of the dielectric, and a first electrode portion formed on the other surface of the dielectric and having a pattern serving as the first electrode portion. 2 electrode portions (see, for example, Patent Document 2). Typically, each of the first electrode portion and the second electrode portion has conductors arranged in a lattice pattern, and is generated when an external conductor (typically a finger) contacts or approaches the touch panel sensor. Based on the change in capacitance, the position of the conductor is detected.

このような投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、一般的に、第1電極部が形成された第1基材フィルムと、第2電極部が形成された第2基材フィルムとを、接着層により接合することによって作製されている。   Such a projected capacitive coupling type touch panel sensor generally has an adhesive layer comprising a first base film on which a first electrode part is formed and a second base film on which a second electrode part is formed. It is produced by joining.

また、特開2010−198103号公報および特開2010−238052号公報は、単一の基材フィルムの一方の面に第1電極部を形成し、他方の面に第2電極部を形成するにあたって、各電極部のパターニングに用いるレジスト(感光層)の間に遮光層を設けることによって、両面のレジストの同時露光を可能にする方法を提案している(特許文献3および4参照)。さらに、特開2010−238052号公報は、導電性を有する遮光層を透明導電層に接触させ、遮光層を補助配線として用いることを提案している(特許文献4参照)。   Japanese Patent Laid-Open Nos. 2010-198103 and 2010-238052 disclose that the first electrode portion is formed on one surface of a single base film and the second electrode portion is formed on the other surface. In addition, a method has been proposed in which a light-shielding layer is provided between resists (photosensitive layers) used for patterning each electrode portion, thereby enabling simultaneous exposure of resists on both sides (see Patent Documents 3 and 4). Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-238052 proposes that a light shielding layer having conductivity is brought into contact with a transparent conductive layer and the light shielding layer is used as an auxiliary wiring (see Patent Document 4).

特表2007−533044号公報Special table 2007-533044 gazette 特開平4−264613号公報JP-A-4-264613 特開2010−198103号公報JP 2010-198103 A 特開2010−238052号公報JP 2010-238052 A

ところで、昨今においては、タッチパネルセンサの膜厚の減少および光学特性の向上が要望されている。しかしながら、上述した作製方法で作製されるタッチパネルセンサにおいては、2枚のフィルムが貼り合わされるため、膜厚が大きくなるだけでなく、透過光に対して光学的作用を及ぼし得る界面の数を増やしてしまう。この結果、表示装置からの映像光の透過率を低下させてしまうとともに、表示装置が表示する映像の画質を劣化させてしまう。   By the way, in recent years, reduction of the film thickness of a touch panel sensor and improvement of optical characteristics are desired. However, in the touch panel sensor manufactured by the above-described manufacturing method, since two films are bonded to each other, not only the film thickness increases, but also the number of interfaces that can exert an optical effect on transmitted light is increased. End up. As a result, the transmittance of the image light from the display device is lowered, and the image quality of the image displayed by the display device is deteriorated.

また、投影型容量結合方式のタッチパネルセンサにおいて接触位置(接近位置)の検出精度を向上させるためには、第1電極部および第2電極部を互いに対して精度良く位置決めすることも必要となる。しかしながら、上述した作製方法で作製されるタッチパネルセンサ、すなわち、電極部を形成された二枚のフィルムを貼り合わせることによって作製されるタッチパネルセンサにおいては、第1基材フィルムおよび第2基材フィルムを互いに対して精度良く位置決めすることは困難である。   Further, in order to improve the detection accuracy of the contact position (approach position) in the projected capacitive coupling type touch panel sensor, it is also necessary to accurately position the first electrode portion and the second electrode portion with respect to each other. However, in the touch panel sensor manufactured by the manufacturing method described above, that is, in the touch panel sensor manufactured by bonding two films on which the electrode portions are formed, the first base film and the second base film are used. It is difficult to accurately position each other.

これに対して、1枚の基材フィルムの両面に、フォトリソグラフィー技術を用いて、それぞれ所望のパターンの電極部を形成する方法が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。この方法では、基材フィルムの両側に形成されたレジスト膜を露光するための光として、基材フィルムを透過しない遠紫外線を採用するとともに、基材フィルムとして遠紫外線を遮光する機能を有したフィルムが用いられている。これにより、2つのレジスト膜を互いに異なるパターンで同時露光することが可能となり、1枚の基材フィルムの両面に異なるパターンの電極部を形成することが可能となっている。   On the other hand, a method has been proposed in which electrode portions having a desired pattern are formed on both surfaces of a single base film using a photolithography technique (see, for example, Patent Document 1). In this method, as the light for exposing the resist film formed on both sides of the base film, a far ultraviolet ray that does not pass through the base film is adopted, and a film having a function of shielding the deep ultraviolet ray as the base film Is used. Thereby, two resist films can be simultaneously exposed in different patterns, and electrode parts having different patterns can be formed on both surfaces of one base film.

ところが、実際の生産において用いられている露光光源から照射される光は、基材フィルムを透過し得る光、すなわち、遠紫外線以外の波長成分の光も多く含まれている。また、通常の生産において使用されているレジスト膜は、遠紫外線だけでなく、遠紫外線以外の波長成分の光(たとえば、紫外光および/または可視光)に対する感光性も有している。したがって、前述の方法を採用する場合、現実的には、遠紫外線光のみがレジスト膜に照射されるようにするための特別な対策を取らなければならない。さもなければ、基材フィルムを透過し得る遠紫外線以外の光によって、2枚のレジスト膜に異なるパターンを精度良く形成することができなくなる。   However, the light emitted from the exposure light source used in actual production includes a lot of light that can be transmitted through the base film, that is, light having a wavelength component other than far ultraviolet rays. In addition, the resist film used in normal production has sensitivity not only to far ultraviolet rays but also to light having a wavelength component other than far ultraviolet rays (for example, ultraviolet light and / or visible light). Therefore, when adopting the above-described method, practically, a special measure must be taken to irradiate the resist film with only far ultraviolet light. Otherwise, it becomes impossible to accurately form different patterns on the two resist films by light other than far ultraviolet rays that can pass through the base film.

遠紫外線光のみがレジスト膜に照射されるようにするための対策は、遠紫外線以外の波長成分の光を遮断するフィルタを露光光源とともに用いること、および遠紫外線のみを発光するエキシマレーザ等の特殊な光源を用いることを含む。しかしながら、遠紫外線以外の波長成分の光を遮断するフィルタを用いた場合、露光光源から照射される光の一部のみしか利用することができなくなる。このため、露光光源のエネルギ効率の低下、および/または露光時間の増大により、生産効率が低下する。一方、遠紫外線のみを発光する特殊な光源は、極め高精度のパターニングを行うために用いられるものであって、極めて高価である。   Measures to ensure that only the far ultraviolet light is applied to the resist film include the use of a filter that blocks light of wavelength components other than far ultraviolet light together with the exposure light source, and special excimer lasers that emit only far ultraviolet light. Using a simple light source. However, when a filter that blocks light of wavelength components other than far ultraviolet rays is used, only a part of the light emitted from the exposure light source can be used. For this reason, production efficiency falls by the fall of the energy efficiency of an exposure light source, and / or the increase in exposure time. On the other hand, a special light source that emits only far ultraviolet rays is used for patterning with extremely high accuracy and is extremely expensive.

以上のことから、現状においては、遠紫外線のみを照射して、基材フィルムの両側にそれぞれ設けられた2つのレジスト層に対する、高精度での互いに異なる所望のパターンの形成を安価に実現させることは難しい。つまり、市販されるタッチパネルセンサの実生産には、製造コスト上の問題から、前述の方法を適用することは難しい。   From the above, under the present circumstances, only far ultraviolet rays are irradiated, and the formation of desired patterns different from each other with high accuracy can be realized at low cost for the two resist layers respectively provided on both sides of the base film. Is difficult. That is, it is difficult to apply the above-described method to actual production of a commercially available touch panel sensor due to problems in manufacturing cost.

一般的に、タッチパネルセンサ内の電極は、使用者から視認されないことが望ましい。しかしながら、電極の配線抵抗を低下させるために、タッチパネルセンサ内の電極の少なくとも一部に金属などの遮光性材料からなる補助配線を用いられている。したがって、本発明は、補助配線として用いられる遮光性材料の使用者による視認を回避すると同時に、タッチパネルセンサ内の電極の低い配線抵抗を維持することができる構造を提供することを目的とする。   Generally, it is desirable that the electrode in the touch panel sensor is not visually recognized by the user. However, in order to reduce the wiring resistance of the electrodes, auxiliary wiring made of a light shielding material such as metal is used for at least part of the electrodes in the touch panel sensor. Therefore, an object of the present invention is to provide a structure capable of avoiding visual recognition by a user of a light-shielding material used as an auxiliary wiring and at the same time maintaining a low wiring resistance of an electrode in a touch panel sensor.

本発明の1つの態様に係るタッチパネルセンサは、第1面および第2面を有し、アクティブエリアおよび配線エリアを有する透明な基材フィルムと、前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、前記基材フイルムの第2面上の第2電極部とを含み、前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、前記第1導電体および前記第2導電体のそれぞれは、複数のライン部および複数の拡張部を有し、前記アクティブエリアは、前記第1導電体および前記第2導電体の全ての拡張部を包含する最小の領域であり、前記配線エリアは、前記第1取出導電体および第2取出導電体の全てを包含する最小の領域であり、前記アクティブエリアと前記配線エリアとの間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内であることを特徴とする。   A touch panel sensor according to an aspect of the present invention includes a transparent base film having a first surface and a second surface, an active area and a wiring area, and a first electrode on the first surface of the base film. And a second electrode part on the second surface of the base film, wherein the first electrode part is arranged side by side in a first direction, and a plurality of first conductors made of a transparent conductive layer, and transparent A plurality of first extraction conductors, each of which is formed of a laminate of a conductive layer and a light-shielding conductive layer and connected in a one-to-one relationship with the first conductor, and the second electrode portion is arranged in a second direction. A second conductor made of a transparent conductive layer, and a plurality of second extraction conductors made of a laminate of the transparent conductive layer and the light-shielding conductive layer and connected to the second conductor in a one-to-one relationship. The first direction is a direction intersecting the second direction, and the first conductor and the front Each of the second conductors has a plurality of line portions and a plurality of extension portions, and the active area is a minimum region including all the extension portions of the first conductor and the second conductor. The wiring area is a minimum area including all of the first extraction conductor and the second extraction conductor, and the distance between the active area and the wiring area is 0.1 to 6.0 mm. It is within the range.

本発明の別の態様に係るタッチパネルセンサは、第1面および第2面を有し、第1境界および第2境界を有する透明な基材フィルムと、前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、前記基材フイルムの第2面上の第2電極部とを含み、前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、前記第1導電体および前記第2導電体のそれぞれは、複数のライン部および複数の拡張部を有し、前記第1境界は、前記第1導電体および前記第2導電体の最外周に位置する拡張部のそれぞれの最外周の点により画定され、前記第2境界は、前記第1取出導電体と前記第1導電体との接続点および前記第2取出導電体と前記第2導電体との接続点により画定され、前記第1境界と前記第2境界との間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内であることを特徴とする。   A touch panel sensor according to another aspect of the present invention includes a transparent base film having a first surface and a second surface, having a first boundary and a second boundary, and a first surface on the first surface of the base film. 1 electrode part and the 2nd electrode part on the 2nd surface of the base film, The 1st electrode part is arranged side by side in the 1st direction, and a plurality of 1st electric conductors which consist of a transparent conductive layer, A plurality of first extraction conductors, each of which is formed of a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer and connected in a one-to-one relationship with the first conductor, and the second electrode portion extends in a second direction. A plurality of second extraction conductors arranged side by side, each of which is composed of a transparent conductor layer and a laminated body of the transparent conductor layer and the light-shielding conductive layer and is connected to the second conductor in a one-to-one relationship; The first direction is a direction intersecting the second direction, and the first conductor and the second conductor Each has a plurality of line portions and a plurality of extension portions, and the first boundary is defined by the outermost peripheral points of the extension portions located on the outermost periphery of the first conductor and the second conductor. The second boundary is defined by a connection point between the first extraction conductor and the first conductor and a connection point between the second extraction conductor and the second conductor; and The distance from the second boundary is in the range of 0.1 to 6.0 mm.

本発明のさらに別の態様に係るタッチパネルセンサは、第1面および第2面を有し、アクティブエリアおよび配線エリアを有する透明な基材フィルムと、前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、前記基材フイルムの第2面上の第2電極部とを含み、前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、線幅Wを有し、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、前記第2導電体は、Wよりも大きな線幅Wを有する部分を含み、前記アクティブエリアは、前記第2導電体の線幅Wを有する部分の全てを包含する最小の領域であり、前記配線エリアは、前記第1取出導電体および第2取出導電体の全てを包含する最小の領域であり、前記アクティブエリアと前記配線エリアとの間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内であることを特徴とする。 A touch panel sensor according to still another aspect of the present invention includes a transparent base film having a first surface and a second surface, an active area and a wiring area, and a first surface on the first surface of the base film. includes an electrode portion and a second electrode portion on the second surface of the substrate film, the first electrode portion are arranged side by side in the first direction, have a line width W 1, a transparent conductive layer The second electrode includes a plurality of first conductors, a plurality of first extraction conductors made of a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer, and connected to the first conductors in a one-to-one relationship. The portions are arranged side by side in the second direction, and are formed of a second conductor made of a transparent conductive layer and a laminate of the transparent conductive layer and the light-shielding conductive layer, and are connected to the second conductor in a one-to-one relationship. The second extraction conductor, and the first direction is a direction intersecting the second direction, Serial second conductor includes a portion having a large line width W 2 than W 1, the active area is located in the smallest area encompassing all parts having a line width W 2 of the second conductor The wiring area is a minimum area including all of the first extraction conductor and the second extraction conductor, and the distance between the active area and the wiring area is 0.1 to 6.0 mm. It is within the range.

本発明のさらに別の態様に係るタッチパネルセンサは、第1面および第2面を有し、第1境界および第2境界を有する透明な基材フィルムと、前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、前記基材フイルムの第2面上の第2電極部とを含み、前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、線幅Wを有し、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、前記第2導電体は、Wよりも大きな線幅Wを有する部分を含み、前記第1境界は、前記第2導電体の線幅Wを有する部分の最外周の辺により画定され、前記第2境界は、前記第1取出導電体と前記第1導電体との接続点および前記第2取出導電体と前記第2導電体との接続点により画定され、前記第1境界と前記第2境界との間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内であることを特徴とする。 A touch panel sensor according to yet another aspect of the present invention has a first surface and a second surface, a transparent base film having a first boundary and a second boundary, and a first surface of the base film. includes a first electrode portion and a second electrode portion on the second surface of the substrate film, the first electrode portion are arranged side by side in the first direction, have a line width W 1, the transparent conductive layer A plurality of first conductors, and a plurality of first extraction conductors that are connected to the first conductors in a one-to-one relationship. The two electrode portions are arranged side by side in the second direction, and are formed of a second conductor made of a transparent conductive layer and a laminate of the transparent conductive layer and the light-shielding conductive layer, and are connected to the second conductor in a one-to-one relationship. A plurality of second extraction conductors, wherein the first direction is a direction intersecting the second direction, and the second conductivity The body includes a portion having a line width W 2 larger than W 1 , and the first boundary is defined by an outermost side of the portion having the line width W 2 of the second conductor, and the second boundary Is defined by a connection point between the first extraction conductor and the first conductor and a connection point between the second extraction conductor and the second conductor, and between the first boundary and the second boundary. The distance between them is in the range of 0.1 to 6.0 mm.

前述の構成を採用することによって、補助配線として用いられる遮光性材料の使用者による視認を回避すると同時に、タッチパネルセンサ内の電極の低い配線抵抗を維持することができる。   By adopting the above-described configuration, it is possible to avoid the visual recognition by the user of the light-shielding material used as the auxiliary wiring, and at the same time maintain the low wiring resistance of the electrodes in the touch panel sensor.

本発明の1つの実施形態に係るタッチパネル装置を表示装置ともに示す断面図である。It is sectional drawing which shows the touchscreen apparatus which concerns on one Embodiment of this invention with a display apparatus. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサを示す上面図である。It is a top view which shows the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention. 図2の切断線III−IIIに沿ったタッチパネルセンサの配線エリアの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a wiring area of a touch panel sensor along a cutting line III-III in FIG. 2. 基材フィルムの構成例を示す断面図であり、(a)はインデックスマッチング膜を有する基材フィルムの断面図であり、(b)は低屈折率膜を有する基材フィルムの断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of a base film, (a) is sectional drawing of the base film which has an index matching film | membrane, (b) is sectional drawing of the base film which has a low refractive index film | membrane. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明の1つの実施形態に係るタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図であり、(a)は図2の切断線V−Vに沿った断面図であり、(b)は上面図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touchscreen sensor which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is sectional drawing along the cutting line VV of FIG. 2, (b) is a top view. is there. 本発明のタッチパネルセンサの電極部の別の構成例を示す上面図である。It is a top view which shows another structural example of the electrode part of the touchscreen sensor of this invention.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、縮尺および縦横の寸法比を、実物のそれらから適宜変更している。   In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale and vertical / horizontal dimensional ratios are appropriately changed from those of the actual ones.

また、本件において、「シート」、「フィルム」、「板」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、たとえば、「シート」は、フィルム、板などとも呼ばれ得るような部材や部分も含む概念である。   Further, in the present case, the terms “sheet”, “film”, and “plate” are not distinguished from each other based only on the difference in names. Therefore, for example, the “sheet” is a concept including members and parts that can also be called films, plates, and the like.

図1〜図16は本発明による1つの実施形態を説明するための図である。図1はタッチパネル装置を表示装置とともに示す断面図であり、図2はタッチパネルセンサを示す上面図であり、図3はタッチパネルセンサの配線エリアA2を示す断面図であり、図4はタッチパネルセンサの基材フィルムの構成例を示す断面図である。また、図5〜図16は、本実施形態のタッチパネルセンサの製造方法を説明するための図である。さらに、図17は、本発明のタッチパネルセンサの電極部の別の構成例を示す上面図である。   FIGS. 1-16 is a figure for demonstrating one embodiment by this invention. 1 is a cross-sectional view showing the touch panel device together with the display device, FIG. 2 is a top view showing the touch panel sensor, FIG. 3 is a cross-sectional view showing a wiring area A2 of the touch panel sensor, and FIG. It is sectional drawing which shows the structural example of a material film. 5-16 is a figure for demonstrating the manufacturing method of the touch-panel sensor of this embodiment. Furthermore, FIG. 17 is a top view showing another configuration example of the electrode portion of the touch panel sensor of the present invention.

図1に示されたタッチパネル装置は、投影型の容量結合方式の装置として構成され、タッチパネル装置への外部導体(たとえば、人間の指)の接触位置を検出可能に構成されている。なお、投影型容量結合方式のタッチパネル装置の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネル装置に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。このような現象に鑑みて、本明細書における「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。   The touch panel device shown in FIG. 1 is configured as a projection-type capacitive coupling device, and is configured to be able to detect a contact position of an external conductor (for example, a human finger) to the touch panel device. In addition, when the detection sensitivity of the projection capacitive coupling type touch panel device is excellent, it is possible to detect which region of the touch panel device the external conductor is approaching just by approaching the external conductor. it can. In view of such a phenomenon, the “contact position” in the present specification is a concept including an approach position that is not actually in contact but can be detected.

図1に示すように、タッチパネル装置は、表示装置15(たとえば液晶表示装置)とともに組み合わせられて用いられ、入出力装置を構成する。表示装置15は、表示面を有した表示パネルと、表示パネルに接続された表示制御部とを有する。表示パネルは、映像を表示することができる表示領域と、表示領域を取り囲むようにして表示領域の外側に配置された非表示領域とを含む。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネルを駆動する。表示パネルは、表示制御部の制御信号により、所定の映像を表示面に表示するようになる。すなわち、表示装置15は、文字、図などの情報を映像として出力する出力装置として役割を担っている。   As shown in FIG. 1, the touch panel device is used in combination with a display device 15 (for example, a liquid crystal display device) to constitute an input / output device. The display device 15 includes a display panel having a display surface and a display control unit connected to the display panel. The display panel includes a display area where an image can be displayed, and a non-display area disposed outside the display area so as to surround the display area. The display control unit processes information regarding the video to be displayed and drives the display panel based on the video information. The display panel displays a predetermined image on the display surface in accordance with a control signal from the display control unit. That is, the display device 15 plays a role as an output device that outputs information such as characters and figures as video.

一方、タッチパネル装置20は、タッチパネルセンサ30と、タッチパネルセンサ30に接続された検出制御部とを有する。タッチパネルセンサ30は、表示装置の表示面上に配置される。たとえば、タッチパネルセンサ30は、表示装置の表示面上に接着層を介して接着される。上述したように、タッチパネル装置は、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成されており、情報を入力する入力装置としての役割を担っている。   On the other hand, the touch panel device 20 includes a touch panel sensor 30 and a detection control unit connected to the touch panel sensor 30. The touch panel sensor 30 is disposed on the display surface of the display device. For example, the touch panel sensor 30 is bonded to the display surface of the display device via an adhesive layer. As described above, the touch panel device is configured as a projected capacitively coupled touch panel device, and plays a role as an input device for inputting information.

また、図1に示すように、タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ30の観察者側(すなわち、表示装置とは反対の側)に、誘電体として機能する透光性を有した保護カバー12をさらに有してもよい。保護カバー12は、タッチパネルセンサ30上に接着層14を介して接着されている。この保護カバー12は、タッチパネル装置への入力面(タッチ面、接触面)として機能するようになる。つまり、保護カバー12に導体(たとえば人間の指5)を接触させることにより、タッチパネル装置に対して外部から情報を入力することができる。また、保護カバー12は、入出力装置の観察者側の最表面をなしており、入出力装置において、タッチパネル装置および表示装置15を外部から保護するカバーとしも機能する。   Further, as shown in FIG. 1, the touch panel device further includes a protective cover 12 having translucency that functions as a dielectric on the viewer side of the touch panel sensor 30 (that is, the side opposite to the display device). May be. The protective cover 12 is bonded onto the touch panel sensor 30 via the adhesive layer 14. The protective cover 12 functions as an input surface (touch surface, contact surface) to the touch panel device. That is, by bringing a conductor (for example, a human finger 5) into contact with the protective cover 12, information can be input from the outside to the touch panel device. The protective cover 12 forms the outermost surface of the input / output device on the viewer side, and also functions as a cover for protecting the touch panel device and the display device 15 from the outside in the input / output device.

なお、上述した接着層14および19は、種々の接着性を有した材料を用いて形成することができる。また、本明細書において、「接着(層)」は粘着(層)をも含む概念として用いる。   Note that the adhesive layers 14 and 19 described above can be formed using materials having various adhesive properties. In this specification, “adhesion (layer)” is used as a concept including adhesion (layer).

タッチパネル装置の検出制御部は、タッチパネルセンサ30に接続され、保護カバー12を介して入力された情報を処理する。具体的には、検出制御部は、保護カバー12へ導体(典型的には、人間の指5)が接触している際に、保護カバー12への導体の接触位置を特定し得るように構成された回路(検出回路)を含む。また、検出制御部を表示装置の表示制御部に接続して、処理した入力情報を表示制御部へ送信することもできる。この際、表示制御部は、入力情報に基づいた映像情報を作成し、入力情報に対応した映像を表示パネルに表示させることができる。   The detection control unit of the touch panel device is connected to the touch panel sensor 30 and processes information input via the protective cover 12. Specifically, the detection control unit is configured to be able to specify the contact position of the conductor to the protective cover 12 when the conductor (typically a human finger 5) is in contact with the protective cover 12. Circuit (detection circuit). In addition, the detection control unit can be connected to the display control unit of the display device, and the processed input information can be transmitted to the display control unit. At this time, the display control unit can create video information based on the input information and display a video corresponding to the input information on the display panel.

なお、「容量結合」方式および「投影型」の容量結合方式との用語は、タッチパネルの技術分野で用いられる際の意味と同様の意味を有するものとして、本明細書においても用いている。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式または「静電容量結合」方式とも呼ばれている。本明細書では、「容量結合」方式の用語を、これらの「静電容量」方式および「静電容量結合」方式と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネル装置は導電体層を含んでおり、外部の導体(典型的には人間の指)がタッチパネルに接触することにより、外部の導体とタッチパネル装置の導電体層との間でコンデンサ(静電容量)が形成される。そして、このコンデンサの形成にともなった電気的な状態の変化に基づき、タッチパネル上において外部導体が接触している位置の位置座標が特定される。また、「投影型」の容量結合方式は、タッチパネルの技術分野において「投影式」の容量結合方式等とも呼ばれており、本明細書では、「投影型」および「投影式」の用語を、同義の用語として取り扱う。「投影型」の容量結合方式の装置は、典型的には格子状に配列された電極を有し、膜状の電極を有する「表面型」の容量結合方式の装置と対比され得る。   Note that the terms “capacitive coupling” and “projection type” capacitive coupling have the same meaning as that used in the technical field of touch panels, and are used in this specification. The “capacitive coupling” method is also referred to as “capacitance” method or “capacitive coupling” method in the technical field of touch panels. In the present specification, the term “capacitive coupling” is treated as a term synonymous with these “capacitance” and “capacitive coupling”. A typical capacitively coupled touch panel device includes a conductor layer, and an external conductor (typically a human finger) comes into contact with the touch panel, whereby the external conductor and the conductor layer of the touch panel device are contacted. A capacitor (capacitance) is formed between the two. Based on the change in the electrical state accompanying the formation of the capacitor, the position coordinates of the position where the external conductor is in contact with the touch panel are specified. In addition, the “projection type” capacitive coupling method is also called “projection type” capacitive coupling method in the technical field of touch panels, and in this specification, the terms “projection type” and “projection type” Treat as synonymous terms. A “projection type” capacitive coupling device typically has electrodes arranged in a grid and can be contrasted with a “surface type” capacitive coupling device having membrane electrodes.

図1に示されているように、タッチパネルセンサ30は、基材フィルム32と、基材フィルム32の第1面(観察者側の面)32a上に設けられた第1電極部40と、基材フィルム32の第2面(表示装置15の側の面)32b上に設けられた第2電極部45とを有する。タッチパネルセンサ30は、表示装置15の表示パネル上に配置される。基材フィルム32、第1導電体41および第2導電体46は、透光性を有しており、観察者は、これらを介して、表示装置に表示された映像を観察することができる。   As shown in FIG. 1, the touch panel sensor 30 includes a base film 32, a first electrode portion 40 provided on a first surface (observer side surface) 32 a of the base film 32, and a base And a second electrode portion 45 provided on the second surface (surface on the display device 15 side) 32b of the material film 32. The touch panel sensor 30 is disposed on the display panel of the display device 15. The base film 32, the first conductor 41, and the second conductor 46 have translucency, and an observer can observe the image displayed on the display device through these.

基材フィルム32は、タッチパネルセンサ20において誘電体として機能し、たとえば、PETフィルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム)から構成され得る。   The base film 32 functions as a dielectric in the touch panel sensor 20 and can be made of, for example, a PET film (polyethylene terephthalate film).

本実施の形態において、基材フィルム32は、単一フィルムであることが好ましい。ここで「単一フィルム」とは、2以上に分離不可能なフィルムを意味している。したがって、単一フィルムとは、接着層を介して接合された複数枚の自立フィルムの接合体を含まない。その一方で、フィルム本体と、フィルム本体の一方または両方の面上に分離不可能(ただし、除去は可能)に形成された非自立性の機能膜とを含む基材フィルムは、本明細書における「単一フィルム」に該当する。機能膜は、たとえばスパッタ法によって形成することができる。図4(a)および図4(b)には、フィルム本体33と機能膜とからなる基材フィルム32の一例が示されている。   In the present embodiment, the base film 32 is preferably a single film. Here, “single film” means a film that cannot be separated into two or more. Therefore, a single film does not include a joined body of a plurality of self-supporting films joined via an adhesive layer. On the other hand, a base film comprising a film body and a non-self-supporting functional film formed inseparably (but can be removed) on one or both surfaces of the film body is herein Corresponds to “single film”. The functional film can be formed by sputtering, for example. FIG. 4A and FIG. 4B show an example of a base film 32 composed of a film main body 33 and a functional film.

図4(a)に示す例において、基材フィルム32は、樹脂(たとえば、PET)からなるフィルム本体33と、フィルム本体33の一方または両方の面上に形成されたインデックスマッチング膜34とを有する。インデックスマッチング膜34は、交互に配置された複数の高屈折率膜34aおよび低屈折率膜34bを含んでいる。このインデックスマッチング膜34を設けることによって、基材フィルム32のフィルム本体33と第1電極部40および第2電極部45との屈折率が大きく異なっていたとしても、基材フィルム32上の電極部40,45が設けられている領域と設けられていない領域とで、反射率が大きく変化することを防止することができる。   In the example shown in FIG. 4A, the base film 32 includes a film main body 33 made of a resin (for example, PET) and an index matching film 34 formed on one or both surfaces of the film main body 33. . The index matching film 34 includes a plurality of high refractive index films 34a and low refractive index films 34b arranged alternately. By providing the index matching film 34, even if the refractive index of the film body 33 of the base film 32 and the first electrode part 40 and the second electrode part 45 are greatly different, the electrode part on the base film 32 It is possible to prevent the reflectance from changing greatly between the area where 40 and 45 are provided and the area where the areas 40 and 45 are not provided.

また、図4(b)に示す例において、基材フィルム32は、樹脂(たとえば、PET)からなるフィルム本体33と、フィルム本体33の一方または両方の面上に形成された低屈折率膜35とを有する。この低屈折率膜35を設けることによって、基材フィルム32のフィルム本体33と第1電極部40および第2電極部45との屈折率が大きく異なっていたとしても、基材フィルム32上の第1電極部40および第2電極部45が設けられている領域と設けられていない領域とで、透過率のスペクトル特性が大きく変化することを防止し、各波長域で均一な透過率を実現することが可能となる。   In the example shown in FIG. 4B, the base film 32 includes a film main body 33 made of a resin (for example, PET) and a low refractive index film 35 formed on one or both surfaces of the film main body 33. And have. By providing this low refractive index film 35, even if the refractive index of the film body 33 of the base film 32 and the first electrode part 40 and the second electrode part 45 are greatly different, The spectral characteristics of the transmittance are prevented from changing greatly between the region where the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 are provided and the region where the second electrode portion 45 is not provided, and uniform transmittance is realized in each wavelength region. It becomes possible.

図2に示すように、タッチパネルセンサ30は、基材フィルム32の第1面32a上に形成される第1電極部40と、基材フィルム32の第2面32b上に形成される第2電極部45とを有する。第1電極部40は、複数の第1導電体41と、第1導電体41と1対1の関係で接続される、複数の第1取出導電体43とを含む。同様に、第2電極部45は、複数の第2導電体46と、第2導電体46と1対1の関係で接続される、複数の第2取出導電体48とを含む。また、タッチパネルセンサ30は、外部導体の接触または接近を検知することができるアクティブエリアA1と、アクティブエリアA1を包囲し、外部取出配線などを収容する配線エリアA2と、アクティブエリアA1と配線エリアA2との間の接続エリアA3を含む。アクティブエリアA1と接続エリアA3との間に第1境界B1が存在し、接続エリアA3と配線エリアA2との間に第2境界B2が存在する。複数の第1導電体41および複数の第2導電体46は、アクティブエリアA1および接続エリアA3内に存在する。一方、複数の第1取出導電体43および複数の第2取出導電体48は、配線エリアA2内に存在する。   As shown in FIG. 2, the touch panel sensor 30 includes a first electrode portion 40 formed on the first surface 32 a of the base film 32 and a second electrode formed on the second surface 32 b of the base film 32. Part 45. The first electrode unit 40 includes a plurality of first conductors 41 and a plurality of first extraction conductors 43 connected to the first conductors 41 in a one-to-one relationship. Similarly, the second electrode portion 45 includes a plurality of second conductors 46 and a plurality of second extraction conductors 48 connected to the second conductors 46 in a one-to-one relationship. Further, the touch panel sensor 30 includes an active area A1 that can detect contact or approach of an external conductor, a wiring area A2 that surrounds the active area A1 and accommodates external extraction wiring, and the like, and the active area A1 and the wiring area A2. A connection area A3 between and. A first boundary B1 exists between the active area A1 and the connection area A3, and a second boundary B2 exists between the connection area A3 and the wiring area A2. The plurality of first conductors 41 and the plurality of second conductors 46 exist in the active area A1 and the connection area A3. On the other hand, the plurality of first extraction conductors 43 and the plurality of second extraction conductors 48 exist in the wiring area A2.

第1導電体41および第2導電体46は、導電性材料から形成され、外部導体5の保護カバー12への接触位置を検出するように構成された検出制御部の検出回路に電気的に接続されている。用いることができる導電性材料は、透明導電性金属酸化物を含む。用いることができる透明導電性金属酸化物は、酸化インジウムスズ(ITO)などを含む。図2に示すように、複数の第1導電体41は、基材フィルム32のフィルム面に沿った第1方向に並べて配列される。また、複数の第2導電体46は、基材フィルム32のフィルム面に沿った第2方向に並べて配列される。ここで、第2方向は、第1方向と交差する方向である。本実施の形態において、第1方向と第2方向とは、基材フィルム32のフィルム面上において直交している。   The first conductor 41 and the second conductor 46 are formed of a conductive material and are electrically connected to a detection circuit of a detection control unit configured to detect a contact position of the outer conductor 5 with the protective cover 12. Has been. Conductive materials that can be used include transparent conductive metal oxides. Transparent conductive metal oxides that can be used include indium tin oxide (ITO) and the like. As shown in FIG. 2, the plurality of first conductors 41 are arranged side by side in a first direction along the film surface of the base film 32. The plurality of second conductors 46 are arranged side by side in the second direction along the film surface of the base film 32. Here, the second direction is a direction intersecting the first direction. In the present embodiment, the first direction and the second direction are orthogonal to each other on the film surface of the base film 32.

図2に示すように、第1電極部40に含まれる第1導電体41のそれぞれは、その配列方向(第1方向)と交差する方向に線状に延びている。同様に、第2電極部45に含まれる第2導電体46のそれぞれは、その配列方向(第2方向)と交差する方向に線状に延びている。特に図示する例において、第1電極部40に含まれる第1導電体41のそれぞれは、その配列方向(第1方向)と直交する方向(第2方向)に沿って直線状に延びており、第2電極部45に含まれる第2導電体46のそれぞれは、その配列方向(第2方向)と直交する方向(第1方向)に沿って直線状に延びている。   As shown in FIG. 2, each of the first conductors 41 included in the first electrode portion 40 extends linearly in a direction intersecting with the arrangement direction (first direction). Similarly, each of the second conductors 46 included in the second electrode portion 45 extends linearly in a direction intersecting with the arrangement direction (second direction). In particular, in the illustrated example, each of the first conductors 41 included in the first electrode unit 40 extends linearly along a direction (second direction) orthogonal to the arrangement direction (first direction), Each of the second conductors 46 included in the second electrode portion 45 extends linearly along a direction (first direction) orthogonal to the arrangement direction (second direction).

本実施形態において、第1電極部40に含まれる第1導電体41は、直線状に延びるライン部42aと、ライン部42aから拡張した拡張部42bとを有する。図示する例において、ライン部42aは、第1導電体41の配列方向(第1方向)と交差する方向に沿って直線状に延びている。拡張部42bは、基材フィルム32のフィルム面に沿ってライン部42aから拡張している部分である。したがって、第1導電体41の幅は、拡張部42bが設けられている部分において太くなっている。図2に示すように、本実施の形態において、第1導電体41は、上面視(すなわち、基材フィルム32のフィルム面の法線方向から観察した場合)において、略正方形形状の外輪郭を有する拡張部42bを有する。   In this embodiment, the 1st conductor 41 contained in the 1st electrode part 40 has the line part 42a extended linearly, and the extended part 42b extended from the line part 42a. In the illustrated example, the line portion 42 a extends linearly along a direction that intersects with the arrangement direction (first direction) of the first conductors 41. The extended portion 42 b is a portion that extends from the line portion 42 a along the film surface of the base film 32. Therefore, the width of the first conductor 41 is thicker at the portion where the extended portion 42b is provided. As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the first conductor 41 has a substantially square outer contour in a top view (that is, when observed from the normal direction of the film surface of the base film 32). It has the extended part 42b which has.

第2電極部45に含まれる第2導電体46も、第1電極部40に含まれる第1導電体41と同様に構成されている。すなわち、第2電極部45に含まれる第2導電体46は、直線状に延びるライン部47aと、ライン部47aから拡張した拡張部47bとを有する。図示する例において、ライン部47aは、第2導電体46の配列方向(第2方向)と交差する方向に沿って直線状に延びている。拡張部47bは、基材フィルム32のフィルム面に沿ってライン部47aから拡張している部分である。したがって、第2導電体46の幅は、拡張部47bが設けられている部分において太くなっている。図2に示すように、本実施の形態において、第2導電体46は、略正方形形状の外輪郭を有する拡張部47bを有する。   The second conductor 46 included in the second electrode portion 45 is configured similarly to the first conductor 41 included in the first electrode portion 40. That is, the 2nd conductor 46 contained in the 2nd electrode part 45 has the line part 47a extended linearly, and the expansion part 47b extended from the line part 47a. In the example shown in the drawing, the line portion 47a extends linearly along a direction that intersects with the arrangement direction (second direction) of the second conductors 46. The extended portion 47 b is a portion that extends from the line portion 47 a along the film surface of the base film 32. Therefore, the width of the second conductor 46 is thicker at the portion where the extended portion 47b is provided. As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the second conductor 46 has an extended portion 47b having a substantially square outer contour.

なお、図2に示すように、上面視において、第1電極部40に含まれる第1導電体41のそれぞれは、第2電極部45に含まれる多数の第2導電体46と交差している。そして、図2に示すように、第1電極部40の拡張部42bは、第1導電体41と第2導電体46との交差点の隣接する2つの間に配置されている。同様に、上面視において、第2電極部45に含まれる第2導電体46のそれぞれは、第1電極部40に含まれる多数の第1導電体41と交差している。そして、第2電極部45の拡張部47bも、第2導電体46と第1導電体41との交差点の隣接する2つの間に配置されている。さらに、本実施形態において、第1電極部40に含まれる第1導電体41の拡張部42bと、第2電極部45に含まれる第2導電体46の拡張部47bとは、上面視において重ならないように配置されている。言い換えると、上面視において、第1電極部40に含まれる第1導電体41と第2電極部45に含まれる第2導電体46とは、各導電体41および46のライン部42aおよび47aのみにおいて交差する。   As shown in FIG. 2, each of the first conductors 41 included in the first electrode portion 40 intersects with a large number of second conductors 46 included in the second electrode portion 45 in a top view. . As shown in FIG. 2, the extended portion 42 b of the first electrode portion 40 is disposed between two adjacent intersections of the first conductor 41 and the second conductor 46. Similarly, in the top view, each of the second conductors 46 included in the second electrode portion 45 intersects with a large number of first conductors 41 included in the first electrode portion 40. The extended portion 47 b of the second electrode portion 45 is also disposed between two adjacent intersections of the second conductor 46 and the first conductor 41. Furthermore, in the present embodiment, the extended portion 42b of the first conductor 41 included in the first electrode portion 40 and the extended portion 47b of the second conductor 46 included in the second electrode portion 45 are overlapped in a top view. It is arranged not to become. In other words, the first conductor 41 included in the first electrode portion 40 and the second conductor 46 included in the second electrode portion 45 are only the line portions 42a and 47a of the respective conductors 41 and 46 in a top view. Intersect at

図2に示す構成において、アクティブエリアA1は、第1導電体41の拡張部42bおよび第2導電体46の拡張部47bの全てを包含する最小の領域として定義される。言い換えると、最外周に位置する拡張部42bまたは拡張部47bが、アクティブエリアA1と接続エリアA3との間の第1境界B1を画定する。例えば、図2に示す構成においては、紙面の最上方の第1導電体41の拡張部42bのそれぞれにおいて最も上方に位置する点、紙面の最下方の第1導電体41の拡張部42bのそれぞれにおいて最も下方に位置する点、それぞれの第1導電体41において最も左方に位置する拡張部42bの最も左方に位置する点、ならびにそれぞれの第1導電体41において最も右方に位置する拡張部42bの最も右方に位置する点によって、第1境界B1が画定される。また、配線エリアA2は、第1取出導電体43および第2取出導電体48の全てを包含する最小の領域である。言い換えると、第1取出導電体43と第1導電体41との接続点、および第2取出導電体48と第2導電体46との接続点が、配線エリアA2と接続エリアA3との間の第2境界B2を画定する。接続エリアA3は、アクティブエリアA1と配線エリアA2との間の領域であり、第1導電体41のライン部42aおよび第2導電体46のライン部47aが存在する。接続エリアA3には、第1導電体41の拡張部42b、第2導電体46の拡張部47b、第1取出導電体43および第2取出導電体48が存在しない。   In the configuration shown in FIG. 2, the active area A <b> 1 is defined as a minimum region that includes all of the extended portion 42 b of the first conductor 41 and the extended portion 47 b of the second conductor 46. In other words, the extended portion 42b or the extended portion 47b located on the outermost periphery defines the first boundary B1 between the active area A1 and the connection area A3. For example, in the configuration shown in FIG. 2, the uppermost point in each of the extended portions 42 b of the first conductor 41 on the uppermost surface of the paper, and the extended portions 42 b of the first electric conductor 41 on the lowermost surface of the paper. , The point located on the lowermost side, the point located on the leftmost side of the extended portion 42b located on the leftmost side in each first conductor 41, and the extension located on the rightmost side in each first conductor 41 The first boundary B1 is defined by the point located on the rightmost side of the portion 42b. The wiring area A <b> 2 is a minimum region that includes all of the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48. In other words, the connection point between the first extraction conductor 43 and the first conductor 41 and the connection point between the second extraction conductor 48 and the second conductor 46 are between the wiring area A2 and the connection area A3. A second boundary B2 is defined. The connection area A3 is a region between the active area A1 and the wiring area A2, and the line portion 42a of the first conductor 41 and the line portion 47a of the second conductor 46 exist. In the connection area A3, the extended portion 42b of the first conductor 41, the extended portion 47b of the second conductor 46, the first extraction conductor 43, and the second extraction conductor 48 do not exist.

本実施形態において、アクティブエリアA1と配線エリアA2との間の距離、すなわち、接続エリアA3の幅は、0.1〜6.0mmの範囲内である。この範囲内の距離を有することによって、第1透明導電層52aまたは第2透明導電層52bのみで構成される接続エリアA3内のライン部42aおよび47aが長くなることによる電気抵抗値の上昇を防止し、かつ第1遮光導電層54aまたは第2透明導電層54bを含む第1取出導電体43および第2取出導電体48の外部からの視認を防止することができる。   In the present embodiment, the distance between the active area A1 and the wiring area A2, that is, the width of the connection area A3 is in the range of 0.1 to 6.0 mm. By having a distance within this range, it is possible to prevent an increase in the electrical resistance value due to the length of the line portions 42a and 47a in the connection area A3 configured only by the first transparent conductive layer 52a or the second transparent conductive layer 52b. In addition, the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 including the first light-shielding conductive layer 54a or the second transparent conductive layer 54b can be prevented from being visually recognized from the outside.

また、図2に示すように、基材フィルム32の第1面32aおよび第2面32bに、導電性を有する第1取出導電体43および第2取出導電体48が形成されている。接触位置の検出方法に応じて、第1導電体41のそれぞれに対して1つまたは2つの第1取出導電体43を接続することができる。同様に、第2導電体46のそれぞれに対して1つまたは2つの第2取出導電体46を接続することができる。本発明において、第1取出導電体43および第2取出導電体48は、透明導電性材料および遮光導電性材料の積層構造を有する。好ましくは、第1取出導電体43および第2取出導電体48を構成する透明導電性材料は、第1導電体41および第2導電体46を構成する材料と同一である。第1取出導電体43および第2取出導電体48を構成する遮光導電性材料は、高い導電性を有する金属を含む。また、第1取出導電体43および第2取出導電体48は、外部導体の接触位置を検出するための検出制御部の検出回路に電気的に接続されている。すなわち、第1電極部40の第1導電体41および第2電極部45の第2導電体46は、それぞれ第1取出導電体43および第2取出導電体48を介して、検出回路に電気的に接続されている。なお、第1取出導電体43および第2取出導電体48は、基材フィルム32上の配線エリアA2内に配置され、アクティブエリアA1および接続エリアA3内に存在しない。なお、図2においては、第1取出導電体43および第2取出導電体48の末端が基材フィルム32の上辺に配置される構成を示したが、これに限定されるものではない。たとえば、第1取出導電体43および第2取出導電体48の両方が屈曲部を含まず、第1取出導電体43の末端が基材フィルム32の上辺に配置され、第2取出導電体48の末端が基材フィルム32の左辺に配置されてもよい。その他の構成も可能である。   In addition, as shown in FIG. 2, the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 having conductivity are formed on the first surface 32 a and the second surface 32 b of the base film 32. Depending on the detection method of the contact position, one or two first extraction conductors 43 can be connected to each of the first conductors 41. Similarly, one or two second extraction conductors 46 can be connected to each of the second conductors 46. In the present invention, the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 have a laminated structure of a transparent conductive material and a light shielding conductive material. Preferably, the transparent conductive material constituting the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 is the same as the material constituting the first conductor 41 and the second conductor 46. The light-shielding conductive material constituting the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 includes a metal having high conductivity. Moreover, the 1st extraction conductor 43 and the 2nd extraction conductor 48 are electrically connected to the detection circuit of the detection control part for detecting the contact position of an external conductor. That is, the first conductor 41 of the first electrode unit 40 and the second conductor 46 of the second electrode unit 45 are electrically connected to the detection circuit via the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48, respectively. It is connected to the. In addition, the 1st extraction conductor 43 and the 2nd extraction conductor 48 are arrange | positioned in the wiring area A2 on the base film 32, and do not exist in the active area A1 and the connection area A3. In addition, in FIG. 2, although the terminal of the 1st extraction conductor 43 and the 2nd extraction conductor 48 showed the structure arrange | positioned at the upper side of the base film 32, it is not limited to this. For example, both the first take-out conductor 43 and the second take-out conductor 48 do not include a bent portion, the end of the first take-out conductor 43 is disposed on the upper side of the base film 32, and the second take-out conductor 48 The end may be disposed on the left side of the base film 32. Other configurations are possible.

次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ30の製造方法を、図5〜図16を参照しながら説明する。なお、図5〜図16の各図において、分図(a)は、作製中のタッチパネルセンサ(積層体)を、図2におけるV−V線に沿った断面に対応する断面において示している。また、図5〜図16の各図において、分図(b)は、作製中のタッチパネルセンサ(積層体)を、第1面32a側から観察した上面図である。   Next, a method for manufacturing the touch panel sensor 30 having the above configuration will be described with reference to FIGS. 5A to 16B, the partial diagram (a) shows the touch panel sensor (laminated body) being produced in a cross section corresponding to the cross section taken along the line V-V in FIG. Moreover, in each figure of FIGS. 5-16, fractional drawing (b) is the top view which observed the touch panel sensor (laminated body) in preparation from the 1st surface 32a side.

まず、図5に示すように、タッチパネルセンサ30を製造するための積層体(ブランクスとも呼ばれる)50を準備する。この積層体50に層の形成およびパターニングなどの処理(加工)を行っていくことにより、タッチパネルセンサ30を製造する。   First, as shown in FIG. 5, a laminate (also referred to as blanks) 50 for manufacturing the touch panel sensor 30 is prepared. The touch panel sensor 30 is manufactured by performing processing (processing) such as layer formation and patterning on the stacked body 50.

図5(a)に示すように、本実施の形態において準備される積層体50は、透光性を有する基材フィルム32と、基材フィルム32の第1面32a上に積層され、透光性を有する第1透明導電層52aと、基材フィルム32の第2面32b上に積層され、透光性を有する第2透明導電層52bと、第1透明導電層52a上に積層され、遮光性を有する第1遮光導電層54aと、第2透明導電層52b上に積層され、遮光性を有する第2遮光導電層54bとを有する。   As shown to Fig.5 (a), the laminated body 50 prepared in this Embodiment is laminated | stacked on the 1st surface 32a of the base film 32 which has translucency, and the base film 32, and is light-transmitting. The first transparent conductive layer 52a having the property and the second surface 32b of the base film 32 are laminated, and the second transparent conductive layer 52b having the light transmitting property and the first transparent conductive layer 52a are laminated to block the light. A first light-shielding conductive layer 54a having a light-shielding property and a second light-shielding conductive layer 54b having a light-shielding property laminated on the second transparent conductive layer 52b.

前述のように、基材フィルム32として、PETフィルムなどの樹脂フィルムを用いることができる。また、図4(a)および図4(b)に示すように、基材フィルムは、PETなどの樹脂製のフィルム本体33と、フィルム本体33の一方の面または両方の面上に形成された機能膜34または35とを含んでもよい。   As described above, a resin film such as a PET film can be used as the base film 32. 4A and 4B, the base film was formed on a film main body 33 made of a resin such as PET and one or both surfaces of the film main body 33. The functional film 34 or 35 may be included.

第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bは、後述するように、それぞれパターニングされて、第1電極部40および第2電極部45を形成する。第1電極部40の第1導電体41および第2電極部45の第2導電体46に透明性を付与するために、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bは、透光性および導電性を有する材料から形成される。具体例として、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bは、ITOなどの透明導電性金属酸化物を用いて形成される。第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bは、スパッタ法によって基材フィルム32の第1面32aおよび第2面32bに透明導電性金属酸化物を堆積することによって、形成することができる。   The first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b are patterned to form the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45, as will be described later. In order to provide transparency to the first conductor 41 of the first electrode portion 40 and the second conductor 46 of the second electrode portion 45, the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b are translucent. And formed of a conductive material. As a specific example, the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b are formed using a transparent conductive metal oxide such as ITO. The first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b can be formed by depositing a transparent conductive metal oxide on the first surface 32a and the second surface 32b of the base film 32 by sputtering. .

また、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、後述する第1感光層56aおよび第2感光層56bのパターニングに用いられる光を遮断する層である。ただし、本実施形態においては、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、第1感光層56aおよび第2感光層56bのパターニング光に対してのみでなく、その他の波長域の光を遮断してもよい。より具体的には、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、自然光に含まれ得る可視光、紫外線、赤外線などを遮断してもよい。このような広い遮光性を有する材料を用ることによって、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bによるパターニング光のより確実な遮断を期待することができる。また、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの材料は、透明導電性金属酸化物よりも高い導電性を有することが望ましい。材料のコストおよび加工容易性を考慮すると、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの形成に用いることができる材料は、アルミニウム、モリブデン、銀、クロム、銅などの金属材料を含む。第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、スパッタ法によって第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bの上に金属材料を堆積することによって、形成することができる。   The first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are layers that block light used for patterning the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b described later. However, in the present embodiment, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are not only for the patterning light of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b, but also for light in other wavelength ranges. May be blocked. More specifically, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b may block visible light, ultraviolet light, infrared light, and the like that may be included in natural light. By using such a light-shielding material, it is possible to expect more reliable blocking of patterning light by the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b. Moreover, it is desirable that the materials of the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b have higher conductivity than the transparent conductive metal oxide. In consideration of the cost and ease of processing of materials, materials that can be used for forming the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b include metal materials such as aluminum, molybdenum, silver, chromium, and copper. The first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b can be formed by depositing a metal material on the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b by sputtering.

積層体50は、枚葉状であってもよいし、細長いウェブ状であってもよい。あるいはまた、積層体50は、たとえばロールに巻き取られたウェブ状であってもよい。生産効率を考慮すると、ロールに巻き取られたウェブ状の積層体50を準備することが好ましい。なぜなら、ロールに巻き取られたウェブ状の積層体50は、以下の工程を行う場所とは異なる場所で作製することができるからである。また、ロールに巻き取られたウェブ状の積層体50を巻き戻すことによって供給されるウェブ状の積層体50を、以下の工程に用いることが可能となる。ここで、以下の工程のいくつかを適用したウェブ状の中間積層体を、一旦、ロールに巻き取り、改めてロールに巻き取られたウェブ状の中間積層体を巻き戻して、引き続く工程を適用してもよい。   The laminated body 50 may be in the form of a sheet or may be in the form of an elongated web. Or the laminated body 50 may be the web shape wound up by the roll, for example. In consideration of production efficiency, it is preferable to prepare a web-shaped laminate 50 wound around a roll. This is because the web-like laminate 50 wound around the roll can be produced at a place different from the place where the following steps are performed. Moreover, it becomes possible to use the web-shaped laminated body 50 supplied by unwinding the web-shaped laminated body 50 wound up by the roll for the following processes. Here, a web-like intermediate laminate to which some of the following steps are applied is temporarily wound on a roll, and the web-like intermediate laminate that has been wound around a roll is rewound, and the subsequent steps are applied. May be.

次に、図6に示すように、積層体50の第1面50a上に第1感光層56aを形成するとともに、積層体50の第2面50b上に第2感光層56bを形成する。第1感光層56aおよび第2感光層56bは、特定波長域の光(たとえば紫外線)に対する感光性を有する。具体的には、積層体50の表面上にコーターを用いて感光性材料をコーティングすることによって、第1感光層56aおよび第2感光層56bを形成することができる。   Next, as shown in FIG. 6, the first photosensitive layer 56 a is formed on the first surface 50 a of the multilayer body 50, and the second photosensitive layer 56 b is formed on the second surface 50 b of the multilayer body 50. The first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b have photosensitivity to light in a specific wavelength range (for example, ultraviolet rays). Specifically, the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b can be formed by coating a photosensitive material on the surface of the laminate 50 using a coater.

その後、図7に示すように、第1感光層56aおよび第2感光層56bを同時に露光する。具体的には、まず、図7(a)に示すように、第1感光層56a上に第1マスク58aを配置するとともに、第2感光層56b上に第2マスク58bを配置する。図7(b)に示すように、第1マスク58aは、形成されるべき第1電極部40の第1導電体41のパターンに対応した所定のパターンを有し、第2マスク58bは、形成されるべき第2電極部45の第2導電体46のパターンに対応した所定のパターンを有する。また、第1マスク58aのパターンおよび第2マスク58bのパターンは、互いに異なるパターンとなっている。   Thereafter, as shown in FIG. 7, the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are simultaneously exposed. Specifically, first, as shown in FIG. 7A, the first mask 58a is disposed on the first photosensitive layer 56a, and the second mask 58b is disposed on the second photosensitive layer 56b. As shown in FIG. 7B, the first mask 58a has a predetermined pattern corresponding to the pattern of the first conductor 41 of the first electrode portion 40 to be formed, and the second mask 58b is formed. It has a predetermined pattern corresponding to the pattern of the second conductor 46 of the second electrode portion 45 to be formed. The pattern of the first mask 58a and the pattern of the second mask 58b are different from each other.

次に、図7(a)に示すように、この状態で、第1感光層58aおよび第2感光層58bの感光特性に対応したパターニング光(たとえば、紫外線)を、第1マスク58aおよび第2マスク58bを通して、それぞれ、第1感光層56aおよび第2感光層56bに照射する。この結果、第1感光層56aおよび第2感光層56bが互いに異なるパターンで同時に露光される。   Next, as shown in FIG. 7A, in this state, patterning light (for example, ultraviolet rays) corresponding to the photosensitive characteristics of the first photosensitive layer 58a and the second photosensitive layer 58b is applied to the first mask 58a and the second mask 58a. The first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are irradiated through the mask 58b, respectively. As a result, the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are simultaneously exposed in different patterns.

図示された例において、第1感光層56aおよび第2感光層56bは、ポジ型の感光層となっている。したがって、第1感光層56aにおいては、第1電極部40の第1導電体41を形成するためにエッチングで除去される領域がパターニング光に暴露される。第1感光層56aに照射されたパターニング光は、第1感光層56aを通過して、第1遮光導電層54aにおいて遮断される。よって、第1感光層56aを通過したパターニング光は、第2感光層56bには到達しない。   In the illustrated example, the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are positive photosensitive layers. Therefore, in the first photosensitive layer 56a, a region removed by etching to form the first conductor 41 of the first electrode unit 40 is exposed to patterning light. The patterning light applied to the first photosensitive layer 56a passes through the first photosensitive layer 56a and is blocked by the first light-shielding conductive layer 54a. Therefore, the patterning light that has passed through the first photosensitive layer 56a does not reach the second photosensitive layer 56b.

同様に、第2感光層56bにおいては、第2電極部45の第2導電体46を形成するためにエッチングで除去される領域がパターニング光に暴露される。第2感光層56bに照射されたパターニング光は、第2感光層56bを通過して、第2遮光導電層54bにおいて遮断される。よって、第2感光層56aを通過したパターニング光は、第1感光層56aには到達しない。この結果、本工程において、第1感光層56aおよび第2感光層56bのそれぞれを、所望の異なるパターンで精度良く同時に露光することができる。   Similarly, in the second photosensitive layer 56b, a region that is removed by etching to form the second conductor 46 of the second electrode portion 45 is exposed to patterning light. The patterning light applied to the second photosensitive layer 56b passes through the second photosensitive layer 56b and is blocked by the second light-shielding conductive layer 54b. Therefore, the patterning light that has passed through the second photosensitive layer 56a does not reach the first photosensitive layer 56a. As a result, in this step, each of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b can be simultaneously exposed with a desired different pattern with high accuracy.

次に、図8に示すように、露光された第1感光層56aおよび第2感光層56bを現像する。具体的には、第1感光層56aおよび第2感光層56bに対応した現像液に露光された積層体を浸漬することにより、第1感光層56aおよび第2感光層56bを現像する。これにより、図8(a)および(b)に示すように、第1感光層56aおよび第2感光層56bのうちの、第1マスク58aおよび第2マスク58bによって遮光されることなくパターニング光を照射された部分が除去され、第1感光層56aおよび第2感光層56bが所定のパターンにパターニングされる。   Next, as shown in FIG. 8, the exposed first photosensitive layer 56a and second photosensitive layer 56b are developed. Specifically, the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are developed by immersing the exposed laminate in a developer corresponding to the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b. Thereby, as shown in FIGS. 8A and 8B, the patterning light is not blocked by the first mask 58a and the second mask 58b out of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b. The irradiated portion is removed, and the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are patterned into a predetermined pattern.

その後、図9に示すように、パターニングされた第1感光層56aおよび第2感光層56bをマスクとして、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bをエッチングする。図9(a)および図9(b)に示すように、このエッチングにより、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bが、それぞれ、第1感光層56aおよび第2感光層56bのパターンと略同一のパターンにパターニングされる。たとえば、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bがアルミニウムまたはモリブデンからなる場合には、エッチング液は、燐酸、硝酸、酢酸および水を5:5:5:1の割合で含むことができる。また、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bが銀からなる場合には、エッチング液は、燐酸、硝酸、酢酸、および水を4:1:4:4の割合で含むことができる。さらに、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bがクロムからなる場合には、エッチング液は、硝酸セリウムアンモニウム、過塩素酸、および水を17:4:70の割合で含むことができる。   Thereafter, as shown in FIG. 9, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are etched using the patterned first photosensitive layer 56a and second photosensitive layer 56b as a mask. As shown in FIGS. 9A and 9B, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are formed into the patterns of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b, respectively, by this etching. Are patterned in substantially the same pattern. For example, when the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are made of aluminum or molybdenum, the etching solution may contain phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, and water in a ratio of 5: 5: 5: 1. it can. When the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are made of silver, the etching solution can contain phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, and water in a ratio of 4: 1: 4: 4. . Further, when the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are made of chromium, the etching solution can contain cerium ammonium nitrate, perchloric acid, and water in a ratio of 17: 4: 70. .

次に、図10に示すように、パターニングされた第1感光層56aおよび第1遮光導電層54aの積層体をマスクとして、第1透明導電層52aをエッチングする。同時に、パターニングされた第2感光層56bおよび第2遮光導電層54bの積層体をマスクとして、第2透明導電層52bをエッチングする。図10(a)および図10(b)に示すように、たとえば塩化第二鉄(FeCl)水溶液を用いるエッチングにより、ITOからなる第1透明導電層52aが、第1感光層56aおよび第1遮光導電層54aのパターンと略同一のパターンにパターニングされるとともに、ITOからなる第2透明導電層52bが第2感光層56bおよび第2遮光導電層54bのパターンと略同一のパターンにパターニングされる。すなわち、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bが両面同時にエッチングされる。 Next, as shown in FIG. 10, the first transparent conductive layer 52a is etched using the patterned first photosensitive layer 56a and first light-shielding conductive layer 54a as a mask. At the same time, the second transparent conductive layer 52b is etched using the patterned second photosensitive layer 56b and second light-shielding conductive layer 54b as a mask. As shown in FIGS. 10A and 10B, the first transparent conductive layer 52a made of ITO is formed by etching using a ferric chloride (FeCl 3 ) aqueous solution, for example, to form the first photosensitive layer 56a and the first photosensitive layer 56a. The second transparent conductive layer 52b made of ITO is patterned into substantially the same pattern as the patterns of the second photosensitive layer 56b and the second light shielding conductive layer 54b. . That is, both the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b are simultaneously etched.

その後、図11に示すように、第1遮光導電層54a上に残留している第1感光層56a、および第2遮光導電層54bに残留している第2感光層56bを除去する。図11(a)および図11(b)に示すように、たとえば2%水酸化カリウムなどのアルカリ性水溶液を用いることにより、第1感光層56aおよび第2感光層56bが除去され、パターニングされた第1遮光導電層54および第2遮光導電層54bが露出する。   Thereafter, as shown in FIG. 11, the first photosensitive layer 56a remaining on the first light-shielding conductive layer 54a and the second photosensitive layer 56b remaining on the second light-shielding conductive layer 54b are removed. As shown in FIGS. 11A and 11B, the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are removed and patterned by using an alkaline aqueous solution such as 2% potassium hydroxide, for example. The first light-shielding conductive layer 54 and the second light-shielding conductive layer 54b are exposed.

次に、図12(a)および(b)に示すように、パターニングされた第1遮光導電層54aの上に第3感光層56cを形成し、第2遮光導電層54bの上に第4の感光層56dを形成する。第3感光層56cおよび第4感光層56dは、第1感光層56aおよび第2感光層56bと同様に、特定波長域の光(たとえば紫外線)に対する感光性を有する。また、第1感光層56aおよび第2感光層56bと同様に、積層体50の表面上にコーターを用いて感光性材料をコーティングすることによって、第3感光層56cおよび第4感光層56dを形成することができる。   Next, as shown in FIGS. 12A and 12B, a third photosensitive layer 56c is formed on the patterned first light-shielding conductive layer 54a, and a fourth light-shielding conductive layer 54b is provided with a fourth. A photosensitive layer 56d is formed. Similar to the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d have photosensitivity to light (for example, ultraviolet rays) in a specific wavelength range. Similarly to the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b, a third photosensitive layer 56c and a fourth photosensitive layer 56d are formed by coating a photosensitive material on the surface of the laminate 50 using a coater. can do.

その後、図13に示すように、第3感光層56cおよび第4感光層56dを同時に露光する。最初に、図13(a)および図13(b)に示すように、第3感光層56cおよび第4感光層56dの上に、それぞれ第3マスク58cおよび第4マスク58dを配置する。第3マスク58cは、第1取出導電体43を形成するために第1遮光導電層54aを除去するべき領域に対応した所定のパターンを有する。第4マスク58dは、第2取出導電体48を形成するために第1遮光導電層54aを除去するべき領域に対応した所定のパターンを有する。図13の構成において、第3マスク58cは、アクティブエリアA1および接続エリアA3に対応して形成されたパターンを有する。また、第4マスク58dは、第3マスク58cと同一のパターンを有する。言い換えると、第3マスク58cおよび第4マスク58dの内周は、第2境界B2に相当する位置にある。   Thereafter, as shown in FIG. 13, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are simultaneously exposed. First, as shown in FIGS. 13A and 13B, a third mask 58c and a fourth mask 58d are disposed on the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d, respectively. The third mask 58c has a predetermined pattern corresponding to a region where the first light-shielding conductive layer 54a is to be removed in order to form the first extraction conductor 43. The fourth mask 58d has a predetermined pattern corresponding to a region where the first light-shielding conductive layer 54a is to be removed in order to form the second extraction conductor 48. In the configuration of FIG. 13, the third mask 58c has a pattern formed corresponding to the active area A1 and the connection area A3. The fourth mask 58d has the same pattern as the third mask 58c. In other words, the inner periphery of the third mask 58c and the fourth mask 58d is at a position corresponding to the second boundary B2.

なお、第3マスク58cの位置決めは、基材フィルム32上に形成されたアライメントマークを基準として実施することができる。基材フィルム32の第1面および第2面のそれぞれの上に、好ましくは2つ以上のアライメントマークを形成することができる。アライメントマークは、たとえば、前述の第1遮光導電層54aのパターニングの際に形成することができる。この場合、アライメントマークは、第1遮光導電層54aの材料で形成される。この方法によれば、第1遮光導電層54aおよび第1透明導電層52aのパターンに対して、第3マスク58cを高精度に位置決めすることができる。また、同様の位置決め方法を第4マスク58dの位置決めに採用することができる。これにより、第2遮光導電層54bおよび第2透明導電層52bのパターンに対して、第4マスク58dを高精度に位置決めすることができる。   The positioning of the third mask 58c can be performed with reference to the alignment mark formed on the base film 32. Preferably, two or more alignment marks can be formed on each of the first surface and the second surface of the base film 32. The alignment mark can be formed, for example, when the first light-shielding conductive layer 54a is patterned. In this case, the alignment mark is formed of the material of the first light-shielding conductive layer 54a. According to this method, the third mask 58c can be positioned with high accuracy with respect to the patterns of the first light-shielding conductive layer 54a and the first transparent conductive layer 52a. A similar positioning method can be employed for positioning the fourth mask 58d. Accordingly, the fourth mask 58d can be positioned with high accuracy with respect to the patterns of the second light-shielding conductive layer 54b and the second transparent conductive layer 52b.

次に、図13(a)に示すように、第3マスク58cおよび第4マスク58dを配置した状態で、第3感光層56cおよび第4感光層56dの感光特性に対応したパターニング光(たとえば、紫外線)を、第3および第4マスク58cおよび58dを通して第3感光層56cおよび第4感光層56dに照射する。この結果、第3感光層56cおよび第4感光層56dが同一のパターンで同時に露光される。図示された例においては、第3感光層56cおよび第3感光層56dがポジ型の感光層である。そして、第3マスク58cおよび第4マスク58dは、アクティブエリアA1および接続エリアA3に対面する領域を含む透光領域を有する。したがって、アクティブエリアA1および接続エリアA3において、第3感光層56cおよび第4感光層56dはパターニング光に暴露される。図13(a)に示すように、第3感光層56cに照射されるパターニング光のパターンは、第4感光層56dに照射されるパターニング光のパターンと同一である。したがって、第3感光層56cおよび第4感光層56dを予定したパターンで精度良く同時に露光することができる。   Next, as shown in FIG. 13A, with the third mask 58c and the fourth mask 58d disposed, patterning light (for example, corresponding to the photosensitive characteristics of the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d). UV light is applied to the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d through the third and fourth masks 58c and 58d. As a result, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are simultaneously exposed in the same pattern. In the illustrated example, the third photosensitive layer 56c and the third photosensitive layer 56d are positive photosensitive layers. And the 3rd mask 58c and the 4th mask 58d have a translucent area | region including the area | region which faces the active area A1 and the connection area A3. Therefore, in the active area A1 and the connection area A3, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are exposed to the patterning light. As shown in FIG. 13A, the patterning light pattern irradiated to the third photosensitive layer 56c is the same as the patterning light pattern irradiated to the fourth photosensitive layer 56d. Therefore, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d can be simultaneously exposed with a predetermined pattern with high accuracy.

次に、図14(a)および図14(b)に示すように、露光された第3感光層56cおよび第4感光層56dを現像する。具体的には、第3感光層56cおよび第4感光層56dに対応した現像液を用いて、第3感光層56cおよび第4感光層56dを現像する。これにより、図14(a)および図14(b)に示すように、第3感光層56cおよび第4感光層56dの露光部分が除去される。すなわち、第3感光層56cおよび第4感光層56dのうちの、アクティブエリアA1および接続エリアA3が除去され、第3感光層56cおよび第4感光層56dは配線エリアA2のみに残留するようになる。   Next, as shown in FIGS. 14A and 14B, the exposed third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are developed. Specifically, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are developed using a developer corresponding to the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d. Thereby, as shown in FIGS. 14A and 14B, the exposed portions of the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are removed. That is, the active area A1 and the connection area A3 of the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are removed, and the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d remain only in the wiring area A2. .

その後、図15(a)および図15(b)に示すように、パターニングされた第3感光層56cおよび第4感光層56dをマスクとして、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bをエッチングする。この工程では、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bに対する浸食性を有し、かつ、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bに対する浸食性を有さない、または浸食性が弱いエッチング液を用いる。第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bを除去することによって露出する第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bのパターンを、損なわないようにするためである。すなわち、この工程で用いられるエッチング液は、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bのみを選択的にエッチングし得るように選択される。具体例として、図9で示す工程で用いられるエッチング液を用いることが好ましい。   Thereafter, as shown in FIGS. 15A and 15B, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are formed using the patterned third photosensitive layer 56c and fourth photosensitive layer 56d as a mask. Etch. In this step, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are erodible and the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b are not erodible or erodible. A weak etchant is used. This is because the pattern of the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b exposed by removing the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b is not damaged. That is, the etchant used in this step is selected so that only the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b can be selectively etched. As a specific example, it is preferable to use an etching solution used in the step shown in FIG.

この工程のエッチングにより、アクティブエリアA1および接続エリアA3内に位置する第1遮光導電層54aが除去される。同様に、アクティブエリアA1および接続エリアA3内に位置する第2遮光導電層54bが除去される。これにより、図15(b)に示すように、基材フィルム32および第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bのみがアクティブエリアA1および接続エリアA3に残留するようになり、アクティブエリアA1および接続エリアA3はその全領域に亘って透光性を有するようになる。   By the etching in this step, the first light-shielding conductive layer 54a located in the active area A1 and the connection area A3 is removed. Similarly, the second light-shielding conductive layer 54b located in the active area A1 and the connection area A3 is removed. As a result, as shown in FIG. 15B, only the base film 32, the first transparent conductive layer 52a, and the second transparent conductive layer 52b remain in the active area A1 and the connection area A3, and the active area A1. And connection area A3 comes to have translucency over the whole area | region.

このようにして、第1遮光導電層54aのうちの第3感光層56cによって覆われていない部分が除去されることにより、第1透明導電層52aが露出する。露出した第1透明導電層52aは、アクティブエリアA1および接続エリアA3に位置している。アクティブエリアA1内に位置する第1透明導電層52aは、第1導電体41のライン部42aおよび拡張部42bを形成する。接続エリアA3内に露出した第1透明導電層52aは、第1導電体41のライン部42aの一部分を形成する。   In this manner, the portion of the first light-shielding conductive layer 54a that is not covered by the third photosensitive layer 56c is removed, so that the first transparent conductive layer 52a is exposed. The exposed first transparent conductive layer 52a is located in the active area A1 and the connection area A3. The first transparent conductive layer 52a located in the active area A1 forms the line part 42a and the extended part 42b of the first conductor 41. The first transparent conductive layer 52a exposed in the connection area A3 forms a part of the line portion 42a of the first conductor 41.

同様に、第2遮光導電層54bのうちの第4感光層56dによって覆われていない部分が除去されることにより、第2透明導電層52bが露出する。露出した第2透明導電層52bは、アクティブエリアA1および接続エリアA3に位置している。アクティブエリアA1内に位置する第2透明導電層52bは、第2導電体46のライン部47aおよび拡張部47bを形成する。接続エリアA3内に露出した第2透明導電層52bは、第2導電体46のライン部47aの一部分を形成する。   Similarly, the second transparent conductive layer 52b is exposed by removing the portion of the second light-shielding conductive layer 54b that is not covered by the fourth photosensitive layer 56d. The exposed second transparent conductive layer 52b is located in the active area A1 and the connection area A3. The second transparent conductive layer 52b located in the active area A1 forms a line portion 47a and an extended portion 47b of the second conductor 46. The second transparent conductive layer 52b exposed in the connection area A3 forms part of the line portion 47a of the second conductor 46.

次に、図16(a)および図16(b)に示すように、第3感光層56cおよび第4感光層56bを除去する。たとえば、図11に示す工程で用いたアルカリ液によって、残留している第3感光層56cおよび第4感光層56bを除去して、配線エリアA2内の第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bを露出させることができる。   Next, as shown in FIGS. 16A and 16B, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56b are removed. For example, the remaining third photosensitive layer 56c and fourth photosensitive layer 56b are removed by the alkaline solution used in the step shown in FIG. 11, and the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer in the wiring area A2 are removed. Layer 54b can be exposed.

露出した第1遮光導電層54aは、配線エリアA2内で第1透明導電層52aと積層されており、第1取出導電体43を形成する。配線エリアA2内の第1取出導電体43とアクティブエリアA1内の第1導電体41の拡張部42bとは、接続エリアA3内に第1透明導電層52aから形成された第1導電体41のライン部42aによって接続される。また、図3に示すように、配線エリアA2において、第1遮光導電層54aは、第1透明導電層52aの上面のみに存在し、第1透明導電層52aの側面を覆っていない。言い換えると、第1遮光導電層54aは基材フィルム32の第1面32aに接触していない。同様に、露出した第2遮光導電層54bは、配線エリアA2内で第2透明導電層52bと積層されており、第2取出導電体48を形成する。配線エリアA2内の第1取出導電体48とアクティブエリアA1内の第2導電体46の拡張部とは、接続エリアA3内に第2透明導電層52bから形成された第2導電体46のライン部47aによって接続される。また、配線エリアA2において、第2遮光導電層54bは、第2透明導電層52bの上面のみに存在し、第2透明導電層52bの側面を覆っていない。言い換えると、第2遮光導電層54bは、基材フィルム32の第2面32bに接触していない   The exposed first light-shielding conductive layer 54 a is laminated with the first transparent conductive layer 52 a in the wiring area A <b> 2 to form the first extraction conductor 43. The first extraction conductor 43 in the wiring area A2 and the extended portion 42b of the first conductor 41 in the active area A1 are formed of the first conductor 41 formed from the first transparent conductive layer 52a in the connection area A3. It is connected by the line part 42a. As shown in FIG. 3, in the wiring area A2, the first light-shielding conductive layer 54a exists only on the upper surface of the first transparent conductive layer 52a and does not cover the side surface of the first transparent conductive layer 52a. In other words, the first light-shielding conductive layer 54 a is not in contact with the first surface 32 a of the base film 32. Similarly, the exposed second light-shielding conductive layer 54b is laminated with the second transparent conductive layer 52b in the wiring area A2 to form the second extraction conductor 48. The first extraction conductor 48 in the wiring area A2 and the extended portion of the second conductor 46 in the active area A1 are lines of the second conductor 46 formed from the second transparent conductive layer 52b in the connection area A3. Connected by the part 47a. In the wiring area A2, the second light-shielding conductive layer 54b exists only on the upper surface of the second transparent conductive layer 52b and does not cover the side surface of the second transparent conductive layer 52b. In other words, the second light-shielding conductive layer 54b is not in contact with the second surface 32b of the base film 32.

以上のようにして前述の構成のタッチパネルセンサ30を得ることができる。   The touch panel sensor 30 having the above-described configuration can be obtained as described above.

なお、前述のように、基材フィルム32、積層体50、あるいは、中間積層体がロールに巻き取られたウェブ形態である場合には、完成されたウェブ状のタッチパネルセンサ30をロールに巻き取ってもよい。あるいはまた、取り扱い(搬送、出荷など)の便宜上、ウェブ状のタッチパネルセンサ30を保護用の合紙と重ね合わせて、ロールに巻き取ってもよい。必要に応じて、ロールに巻き取られたタッチパネルセンサ30を巻き戻して、枚葉状に断裁することができる。ウェブ状のタッチパネルセンサ30をロールに巻き取る際には、ウェブ状のタッチパネルセンサ30の両側に合紙を配置して巻き取ってもよい。あるいはまた、ウェブ状のタッチパネルセンサ30の片側だけに合紙を配置して巻き取ってもよい。   As described above, when the base film 32, the laminated body 50, or the intermediate laminated body is in the form of a web wound on a roll, the completed web-shaped touch panel sensor 30 is wound on the roll. May be. Alternatively, for convenience of handling (conveying, shipping, etc.), the web-like touch panel sensor 30 may be overlapped with a protective slip sheet and wound on a roll. If necessary, the touch panel sensor 30 wound on the roll can be rewound and cut into a sheet. When the web-shaped touch panel sensor 30 is wound on a roll, a slip sheet may be arranged on both sides of the web-shaped touch panel sensor 30 and wound. Alternatively, a slip sheet may be arranged and wound only on one side of the web-like touch panel sensor 30.

以上に説明した製造方法によれば、第1感光層56aおよび第2感光層56bが同時に露光される。これらの感光層の両面同時露光プロセスにおいては、第1マスク58aおよび第2マスク58bのそれぞれにアライメントマーク(不図示)を設けておくことにより、第1マスク58aおよび第2マスク58bを互いに対して、極めて高い精度(たとえばミクロン単位のオーダー)で、かつ極めて容易に(したがって、短時間で)位置決めすることが可能となる。ここで、第1マスク58aおよび第2マスク58bのそれぞれに、2つ以上のアライメントマークを設けることが好ましい。この結果、タッチパネルセンサ30において、第1電極部40および第2電極部45の両方が、基材フィルム32上に極めて精度良く効率的に位置決めされる。これに対して、第1感光層56aおよび第2感光層56bのそれぞれを別個に露光する場合には、高精度で位置決めされた第1電極部40および第2電極部45を容易に作製することができない。第1電極部40および第2電極部45の両方を高い精度で作製しようとすると、第1電極部40および第2電極部45の一方を形成する際にアライメントマークを基材フィルム32上に形成し、その後、この基材フィルム32上に形成されたアライメントマークに対し、第1電極部40および第2電極部45の他方の形成に用いられるマスクを位置決めすることになる。すなわち、少なくとも露光工程および現像工程を、第1感光層56aおよび第2感光層56bのそれぞれに対して別個に行う必要が生じる。このため、第1電極部40および第2電極部45を効率良く短時間で容易に形成することができない。また、アライメントマークを用いることなく、たとえば基材フィルム32の端部を基準として第1マスク58aおよび第2マスク58bを位置決めすることも可能である。この方法によれば、第1感光層56aおよび第2感光層56bに対する露光工程および現像工程を同時に行うことができる。しかしながら、第1電極部40および第2電極部45の位置決め精度は、基材フィルム32の外形の精度に依存する。一般的に、この方法によれば、第1電極部40および第2電極部45の位置決め精度は、最高でも数十ミクロンオーダーに過ぎない。   According to the manufacturing method described above, the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b are exposed simultaneously. In the double-sided simultaneous exposure process of these photosensitive layers, an alignment mark (not shown) is provided on each of the first mask 58a and the second mask 58b, so that the first mask 58a and the second mask 58b are placed on each other. It is possible to position with extremely high accuracy (eg on the order of microns) and very easily (and therefore in a short time). Here, it is preferable to provide two or more alignment marks in each of the first mask 58a and the second mask 58b. As a result, in the touch panel sensor 30, both the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 are positioned on the base film 32 with high accuracy and efficiency. On the other hand, when each of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b is separately exposed, the first electrode part 40 and the second electrode part 45 positioned with high accuracy can be easily manufactured. I can't. If it is going to produce both the 1st electrode part 40 and the 2nd electrode part 45 with high precision, when forming one of the 1st electrode part 40 and the 2nd electrode part 45, an alignment mark is formed on substrate film 32 Then, the mask used for forming the other of the first electrode part 40 and the second electrode part 45 is positioned with respect to the alignment mark formed on the base film 32. That is, at least the exposure process and the development process need to be performed separately for each of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b. For this reason, the 1st electrode part 40 and the 2nd electrode part 45 cannot be formed easily efficiently in a short time. Further, for example, the first mask 58a and the second mask 58b can be positioned with reference to the end portion of the base film 32 without using the alignment mark. According to this method, the exposure process and the development process for the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b can be performed simultaneously. However, the positioning accuracy of the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 depends on the accuracy of the outer shape of the base film 32. Generally, according to this method, the positioning accuracy of the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 is only on the order of several tens of microns.

これらのことから、以上に説明してきた本実施の形態の製造方法によれば、第1電極部40および第2電極部45を互いに対して容易かつ精度良く位置決めすることができる。具体的には、本実施の形態によれば、タッチパネルセンサ30の上面視において、第1電極部40の略正方形形状からなる拡張部42bと、第2電極部45の略正方形形状からなる拡張部47bとの互いに平行な外輪郭の隙間G(パターンギャップとも呼ばれる、図2参照)を、安定して100μm以下とすることができた。その一方で、従来の2枚のフィルムを貼り合わせる方法では、このパターンギャップGは、200μm以上となってしまう。この結果、本実施の形態によれば、上面視において、アクティブエリアA1内で第1導電体41および第2導電体46の少なくとも一方が配置されている領域の面積のアクティブエリア総面積に対する比を、95%以上にすることができた。なお、本実施の形態にように、タッチパネルセンサ30が表示装置の表示面上に配置されて用いられる場合には、タッチパネルセンサ30のアクティブエリアA1は、通常、表示装置の表示領域に対面する領域として設定される。   From these things, according to the manufacturing method of this Embodiment demonstrated above, the 1st electrode part 40 and the 2nd electrode part 45 can be positioned easily and accurately with respect to each other. Specifically, according to the present embodiment, when the touch panel sensor 30 is viewed from above, the extended portion 42b of the first electrode portion 40 made of a substantially square shape and the extended portion of the second electrode portion 45 made of a substantially square shape. A gap G (also referred to as a pattern gap, see FIG. 2) having an outer contour parallel to 47b could be stably set to 100 μm or less. On the other hand, in the conventional method of bonding two films, the pattern gap G is 200 μm or more. As a result, according to the present embodiment, the ratio of the area of the region where at least one of the first conductor 41 and the second conductor 46 is arranged in the active area A1 to the total area of the active area is shown in the top view. 95% or more. When the touch panel sensor 30 is used on the display surface of the display device as in the present embodiment, the active area A1 of the touch panel sensor 30 is usually an area facing the display area of the display device. Set as

以上のようにして得られたタッチパネルセンサ30を、接着層19を用いて表示装置に接合すること、および保護カバー12を、接着層1を用いてタッチパネルセンサ30に接合することにより、入出力装置が得られる。次に、この入出力装置を使用する際の作用について説明する。   By joining the touch panel sensor 30 obtained as described above to the display device using the adhesive layer 19, and joining the protective cover 12 to the touch panel sensor 30 using the adhesive layer 1, the input / output device Is obtained. Next, the operation when using this input / output device will be described.

まず、このような入出力装置においては、表示装置の表示パネルによって映像を表示することによって、観察者は、保護カバー12およびタッチパネルセンサ30を介して映像を観察することができる。   First, in such an input / output device, an observer can observe an image via the protective cover 12 and the touch panel sensor 30 by displaying the image on the display panel of the display device.

また、この入出力装置において、タッチパネルセンサ30および保護カバー12がタッチパネル装置の一部分を構成し、外部導体(典型的には人間の指5)が保護カバー12上に接触(接近)したこと、ならびにその接触(接近)位置を検出することができる。   In this input / output device, the touch panel sensor 30 and the protective cover 12 constitute a part of the touch panel device, and an external conductor (typically a human finger 5) is in contact with (approaching) the protective cover 12. The contact (approach) position can be detected.

具体的には、まず、外部導体(たとえば、人間の指5)が保護カバー12に接触すると、当該外部導体5と、外部導体5による保護カバー12への接触位置の近傍に位置する第1導電体41および第2導電体46が電極として機能し、電界が形成される。この際、外部導体5と第1導電体41および第2導電体46との間に位置する保護カバー12、基材フィルム32などは誘電体として機能する。すなわち、外部導体5が保護カバー12に接触することにより、外部導体5と第1電極部40および第2電極部45とを電極とするコンデンサが形成される。   Specifically, first, when an outer conductor (for example, a human finger 5) contacts the protective cover 12, the first conductor located near the outer conductor 5 and a position where the outer conductor 5 contacts the protective cover 12. The body 41 and the second conductor 46 function as electrodes, and an electric field is formed. At this time, the protective cover 12, the base film 32, and the like positioned between the outer conductor 5, the first conductor 41, and the second conductor 46 function as a dielectric. That is, when the outer conductor 5 comes into contact with the protective cover 12, a capacitor having the outer conductor 5, the first electrode portion 40, and the second electrode portion 45 as electrodes is formed.

タッチパネル装置20の検出制御部の検出回路は、第1導電体41および第2導電体46に接続され、第1導電体41および第2導電体46と外部導体との間の静電容量を検出することができる。そして、検出制御部が、第1導電体41および第2導電体46と外部導体との間の静電容量の変化を検出することによって、外部導体の近傍に位置する第1導電体41および第2導電体46を特定することができる。すなわち、検出制御部の検出回路は、第1方向に並べて配列された第1導電体41のうちの外部導体の近傍に位置する線状導電体を特定することによって、第1方向に延びる座標軸上における外部導体の位置を特定することができる。同様に、検出制御部の検出回路は、第2方向に並べて配列された第2導電体46のうちの外部導体の近傍に位置する線状導電体を特定することによって、第2方向に延びる座標軸上における外部導体の位置を特定することができる。このようにして、タッチパネル装置(保護カバー12)への外部導体の接触位置を二つの方向において検出することにより、外部導体5のタッチパネル装置の表面への接触位置の位置座標を、タッチパネル装置の表面上で精度良く特定することができる。なお、投影型容量結合方式のタッチパネルにおいて接触位置を検出する様々な方法(原理)が、種々の文献に開示されており、本明細書では、これ以上の説明を省略する。   The detection circuit of the detection control unit of the touch panel device 20 is connected to the first conductor 41 and the second conductor 46, and detects the capacitance between the first conductor 41 and the second conductor 46 and the external conductor. can do. Then, the detection control unit detects a change in capacitance between the first conductor 41 and the second conductor 46 and the outer conductor, whereby the first conductor 41 and the first conductor 41 located in the vicinity of the outer conductor Two conductors 46 can be specified. That is, the detection circuit of the detection control unit specifies a linear conductor located in the vicinity of the outer conductor among the first conductors 41 arranged side by side in the first direction, and thus on the coordinate axis extending in the first direction. The position of the outer conductor can be specified. Similarly, the detection circuit of the detection control unit has a coordinate axis extending in the second direction by specifying a linear conductor located in the vicinity of the outer conductor among the second conductors 46 arranged side by side in the second direction. The position of the outer conductor on the top can be specified. In this way, by detecting the contact position of the outer conductor to the touch panel device (protective cover 12) in two directions, the position coordinates of the contact position of the outer conductor 5 to the surface of the touch panel device are obtained. It can be identified with high accuracy. Note that various methods (principle) for detecting a contact position in a projected capacitively coupled touch panel are disclosed in various documents, and further description is omitted in this specification.

上述の製造方法にしたがって作製される本発明のタッチパネルセンサ30においては、第1電極部40および第2電極部45が、単一フィルムである基材フィルム32の両側に形成されている。すなわち、接着剤などによって接合された複数枚のフィルムの接合体などを基材フィルム32として用いていない。この結果、タッチパネルセンサ30全体としての透光率を向上させることができる。さらに、本発明のタッチパネルセンサ30は、表示装置によって表示される映像のコントラストを向上させることができる。なぜなら、本発明のタッチパネルセンサ30は、照明などの環境光(外光)および表示装置から発せられる映像光を反射し得る界面の数を減じることができるからである。これらにより、タッチパネルセンサ30を表示装置の表示面上に配置した場合に、表示装置の表示画像を大きく劣化させてしまうことを防止することができる。さらに、タッチパネルセンサ30および入出力装置の総厚みを減じることができる。   In the touch panel sensor 30 of the present invention manufactured according to the above-described manufacturing method, the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 are formed on both sides of the base film 32 that is a single film. That is, a joined body of a plurality of films joined by an adhesive or the like is not used as the base film 32. As a result, the transmissivity of the touch panel sensor 30 as a whole can be improved. Furthermore, the touch panel sensor 30 of the present invention can improve the contrast of the video displayed by the display device. This is because the touch panel sensor 30 of the present invention can reduce the number of interfaces that can reflect ambient light (external light) such as illumination and image light emitted from the display device. Thus, when the touch panel sensor 30 is arranged on the display surface of the display device, it is possible to prevent the display image of the display device from being greatly deteriorated. Furthermore, the total thickness of the touch panel sensor 30 and the input / output device can be reduced.

また、図1に示すように、タッチパネルセンサ30(保護カバー12)の法線方向において、第1電極部40および第2電極部45は、異なる深さに配置されている。具体的には、第2電極部45と保護カバー12との距離は、第1電極部40と保護カバー12との距離よりも、基材フィルム32の膜厚だけ大きい。しかしながら、本実施の形態において、基材フィルム32は単一フィルムである。そして、この基材フィルム32は、遠紫外線遮光機能などの特別な機能を要求されていないため、その膜厚を小さくすることができる。したがって、外部導体が保護カバー12へ接触した際に、当該外部導体5と第2電極部45の第2導電体46との間でコンデンサを安定して形成することができるようになる。これにより、外部導体の保護カバー12への接触(接近)位置を、第1電極部40の第1導電体41だけでなく、第2電極部45の第2導電体46によっても、極めて高い感度で正確に検出することが可能となる。   Moreover, as shown in FIG. 1, the 1st electrode part 40 and the 2nd electrode part 45 are arrange | positioned in the different depth in the normal line direction of the touch panel sensor 30 (protective cover 12). Specifically, the distance between the second electrode part 45 and the protective cover 12 is larger than the distance between the first electrode part 40 and the protective cover 12 by the film thickness of the base film 32. However, in the present embodiment, the base film 32 is a single film. And since this base film 32 is not requested | required of special functions, such as a far ultraviolet light shielding function, the film thickness can be made small. Therefore, when the outer conductor comes into contact with the protective cover 12, a capacitor can be stably formed between the outer conductor 5 and the second conductor 46 of the second electrode portion 45. Thereby, the contact (approach) position of the outer conductor to the protective cover 12 is very high sensitivity not only by the first conductor 41 of the first electrode portion 40 but also by the second conductor 46 of the second electrode portion 45. It becomes possible to detect accurately.

また、本実施形態によれば、図2に示すように、第1電極部40の第1導電体41はライン部42aと拡張部42bとを有し、第2電極部45の第2導電体46はライン部47aと拡張部47bとを有する。第1導電体41および第2導電体46において、拡張部42bおよび47bの幅は、ライン部42aおよび47aの幅よりも非常に大きい。そして、前述のように、第1導電体41の拡張部42bと、第2導電体46の拡張部47bとは、上面視において重ならないように配置されている。このため、外部導体5と第2電極部45の第2導電体46との間に、接触位置の検出精度に影響を与え得る程度の広い面積の第1導電体41が介在することはない。このことによって、外部導体と第2電極部45との間で、コンデンサを有効に形成することができる。   Further, according to the present embodiment, as shown in FIG. 2, the first conductor 41 of the first electrode portion 40 has the line portion 42 a and the extended portion 42 b, and the second conductor of the second electrode portion 45. 46 has the line part 47a and the expansion part 47b. In the first conductor 41 and the second conductor 46, the widths of the extended portions 42b and 47b are much larger than the widths of the line portions 42a and 47a. As described above, the extended portion 42b of the first conductor 41 and the extended portion 47b of the second conductor 46 are arranged so as not to overlap each other when viewed from above. Therefore, the first conductor 41 having a large area that can affect the detection accuracy of the contact position is not interposed between the outer conductor 5 and the second conductor 46 of the second electrode portion 45. As a result, a capacitor can be effectively formed between the outer conductor and the second electrode portion 45.

さらに、上述したように、表示装置15の表示制御部とタッチパネル装置の検出制御部とは接続されている。検出制御部は、外部導体が保護カバー12上の所定の位置に接触することによって入力された情報を、表示制御部へ送信することができる。表示制御部は、検出制御部で読み取られた入力情報に基づいて、当該入力情報に対応した映像を表示装置15の表示パネルに表示することもできる。すなわち、出力手段としての表示機能および入力手段としてのタッチ位置検出機能により、入出力装置の使用者(操作者)と当該入出力装置との間で、対話形式での情報の直接的なやりとり(たとえば、使用者の表示装置に対する指示および表示装置による当該指示の実行)を実現することができる。   Furthermore, as described above, the display control unit of the display device 15 and the detection control unit of the touch panel device are connected. The detection control unit can transmit information input by the outer conductor contacting a predetermined position on the protective cover 12 to the display control unit. The display control unit can also display an image corresponding to the input information on the display panel of the display device 15 based on the input information read by the detection control unit. That is, by the display function as the output means and the touch position detection function as the input means, direct exchange of information between the user (operator) of the input / output device and the input / output device ( For example, it is possible to realize a user's instruction to the display device and execution of the instruction by the display device).

そして、前述のように、第1電極部40および第2電極部45が同時露光プロセスを経て基材フィルム32上にパターニングされている場合、第1電極部40の第1導電体41のそれぞれと第2電極部45の第2導電体46のそれぞれとが、互いに対して高い精度で位置決めされる。結果として、第1電極部40の第1導電体41、および第2電極部45の第2導電体46の両方を、表示装置15に対しても高い精度で位置決めすることが可能となる。この場合、外部導体の保護カバー12への接触位置を表示装置15を基準として高い精度で検出することができる。この結果、表示装置15に表示される映像情報に対応した入力を高分解能かつ高精度で検出することができる。これにより、当該入出力装置とその使用者(操作者)との間での対話形式での情報交換を、極めて円滑に実施することができる。   As described above, when the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 are patterned on the base film 32 through the simultaneous exposure process, each of the first conductors 41 of the first electrode portion 40 and Each of the second conductors 46 of the second electrode portion 45 is positioned with high accuracy with respect to each other. As a result, both the first conductor 41 of the first electrode unit 40 and the second conductor 46 of the second electrode unit 45 can be positioned with high accuracy with respect to the display device 15. In this case, the contact position of the external conductor to the protective cover 12 can be detected with high accuracy using the display device 15 as a reference. As a result, the input corresponding to the video information displayed on the display device 15 can be detected with high resolution and high accuracy. Thereby, the information exchange in the interactive format between the input / output device and the user (operator) can be performed very smoothly.

以上のような本実施の形態によれば、第1感光層56aおよび第2感光層56bとの間に、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bが配置されている。したがって、第1感光層56aおよび第2感光層56bを、異なるパターンで高精度に露光することにより、互いに異なる所望のパターンで極めて高精度にパターニングすることができる。また、第1感光層56aおよび第2感光層56bの露光は、第1マスク58aを第1感光層56a上に配置するとともに第2マスク58bを第2感光層56b上に配置した状態で行われる。この場合、第1マスク58aおよび第2マスク58bを互いに対して容易に精度良く位置決めすることができる。これにより、第1感光層56aのパターンおよび第2感光層56bのパターンを互いに対して極めて精度良く位置決めすることができる。結果として、得られたタッチパネルセンサ30の第1電極部40および第2電極部45を、高精度に位置決めされた所望のパターンで形成することができる。したがって、このタッチパネルセンサ30を用いることにより、外部導体が接近または接触した平面上の位置を精度良く検出することができる。   According to the present embodiment as described above, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are disposed between the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b. Therefore, by exposing the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b with different patterns with high accuracy, they can be patterned with different desired patterns with extremely high accuracy. The exposure of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b is performed with the first mask 58a disposed on the first photosensitive layer 56a and the second mask 58b disposed on the second photosensitive layer 56b. . In this case, the first mask 58a and the second mask 58b can be easily and accurately positioned with respect to each other. Thereby, the pattern of the 1st photosensitive layer 56a and the pattern of the 2nd photosensitive layer 56b can be positioned very accurately with respect to each other. As a result, the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 of the obtained touch panel sensor 30 can be formed with a desired pattern positioned with high accuracy. Therefore, by using the touch panel sensor 30, it is possible to accurately detect the position on the plane where the external conductor approaches or contacts.

また、第1マスク58aおよび第2マスク58bを互いに対して容易に位置決めすることができるとともに、第1感光層56aおよび第2感光層56bの露光および現像を同時に行うことができる。したがって、タッチパネルセンサ30を極めて効率的に製造することができ、これにより、タッチパネルセンサ30の製造コストを大幅に低下させることができる。   Further, the first mask 58a and the second mask 58b can be easily positioned with respect to each other, and the exposure and development of the first photosensitive layer 56a and the second photosensitive layer 56b can be performed simultaneously. Therefore, the touch panel sensor 30 can be manufactured extremely efficiently, and thereby the manufacturing cost of the touch panel sensor 30 can be significantly reduced.

さらに、本発明においては、基材フィルム32に特別な機能(たとえば、特定波長域の光を遮断する機能)を要求しない。したがって、基材フィルム32として、表示装置等に用いられている通常の単一フィルムを用いることができる。基材フィルム32として、膜厚の大きなフィルム、および接着剤などを介して接合された複数枚のフィルムの積層体を用いる必要がない。これにより、第1電極部40と第2電極部45との距離が短くなるので、第1電極部40(第1導電体41)だけでなく、第2電極部45(第2導電体46)による接触位置または接近位置の検出感度を向上させることができる。また、タッチパネルセンサ30の透光率を向上させることができる。これにより、タッチパネルセンサ30を表示装置15の表示面上に配置した場合に、表示装置15の表示画像を大きく劣化させてしまうことを防止することができる。   Furthermore, in this invention, the special function (For example, the function which interrupts | blocks the light of a specific wavelength range) is not requested | required of the base film 32. FIG. Therefore, a normal single film used for a display device or the like can be used as the base film 32. As the base film 32, there is no need to use a film having a large film thickness and a laminate of a plurality of films bonded via an adhesive or the like. As a result, the distance between the first electrode portion 40 and the second electrode portion 45 is shortened, so that not only the first electrode portion 40 (first conductor 41) but also the second electrode portion 45 (second conductor 46). The detection sensitivity of the contact position or approach position due to can be improved. Further, the light transmittance of the touch panel sensor 30 can be improved. Thereby, when the touch panel sensor 30 is arranged on the display surface of the display device 15, it is possible to prevent the display image of the display device 15 from being greatly deteriorated.

さらに、前述の実施形態において、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52b上に配置され、同一のマスク(第1マスク58aおよび第2マスク58b)を用いてパターニングされる。続いて、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bのアクティブエリアA1および接続エリアA3内の部分を除去して、透光性を有する第1導電体41および第2導電体46がアクティブエリアA1および接続エリアA3内に形成される。配線エリアA2内では、第1透明導電層52aと第1遮光導電層54aとの積層体が第1取出導電体43を構成し、第2透明導電層52bと第2遮光導電層54bとの積層体が第2取出導電体48を構成する。   Furthermore, in the above-described embodiment, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are disposed on the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b, and the same mask (first mask 58a and Patterning is performed using a second mask 58b). Subsequently, portions of the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b in the active area A1 and the connection area A3 are removed, so that the first conductor 41 and the second conductor 46 having translucency are active. It is formed in area A1 and connection area A3. In the wiring area A2, a laminated body of the first transparent conductive layer 52a and the first light shielding conductive layer 54a constitutes the first extraction conductor 43, and a laminated body of the second transparent conductive layer 52b and the second light shielding conductive layer 54b. The body constitutes the second extraction conductor 48.

このような方法で作製された第1取出導電体43および第2取出導電体48は、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの存在によって、高い導電率を有する。また、スクリーン印刷などで作製された従来の取出配線とは異なり、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bの上面に配置され、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bの側面には存在しない。これにより、第1取出導電体43および第2取出導電体48の線幅を大幅に小さくすることができる。さらに、本実施形態によれば、スクリーン印刷などの従来の作製方法とは異なりフォトリソグラフィー技術を用いることによって、安定して高精度で所望のパターンの第1取出導電体43および第2取出導電体48を作製することが可能となる。これにより、エレクトロマイグレーションの可能性も大幅に低下させることができる。以上のことから、本実施形態によれば、細い線幅の第1取出導電体43および第2取出導電体48を短ピッチで並べて形成することが可能となり、これにより、第1取出導電体43および第2取出導電体48を配置するために必要となる領域の面積、すなわち、配線エリアA2の面積を格段に小さくすることができる。   The first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 manufactured by such a method have high conductivity due to the presence of the first light shielding conductive layer 54a and the second light shielding conductive layer 54b. Further, unlike the conventional extraction wiring produced by screen printing or the like, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are disposed on the upper surfaces of the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b. The first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b are not present on the side surfaces. Thereby, the line width of the 1st extraction conductor 43 and the 2nd extraction conductor 48 can be made small significantly. Furthermore, according to the present embodiment, unlike the conventional manufacturing method such as screen printing, the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor having a desired pattern stably and with high accuracy by using a photolithography technique. 48 can be produced. Thereby, the possibility of electromigration can be greatly reduced. From the above, according to the present embodiment, it is possible to form the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 with a narrow line width side by side at a short pitch, whereby the first extraction conductor 43 is formed. And the area of the area | region required in order to arrange | position the 2nd extraction conductor 48, ie, the area of wiring area A2, can be made remarkably small.

また、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、低い密着力しか呈し得ない基材フィルム32には接触しておらず、高い密着力を呈し得る第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bにしか接合していない。このため、タッチパネルセンサ30が使用中に変形したとしても、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bがタッチパネルセンサ30から剥離する起点が形成されにくくすることができる。また、接続エリアA3において、配線エリアA2内の第1取出導電体43および第2取出導電体48は、ライン部42aおよび47を介して、アクティブエリアA1内の第1導電体41および第2導電体46と接続されている。接続エリアA3内のライン部42aおよび47aが第1透明導電層52aまたは第2透明導電層52bのみで形成されているため、ライン部42aおよび47aの変形に対する拘束は弱い。したがって、タッチパネル30の変形の際に、接続エリアA3内のライン部42aおよび47aは、基材フィルム32の変形に追従して変形することができる。これによって、第1取出導電体43中の第1遮光導電層54aおよび第2取出導電体中の第2遮光導電層54bが基材フィルム32から剥離すること、ならびに、第1取出導電体43および第2取出導電体48とともにライン部42aおよび47が基材フィルム32から剥離することを効果的に抑制することができる。結果として、タッチパネルセンサ30の検出機能の信頼性を大幅に向上させることができる。   In addition, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are not in contact with the base film 32 that can exhibit only a low adhesion, and the first transparent conductive layer 52a and the second light-shielding conductive layer 54a that can exhibit a high adhesion. 2 is bonded only to the transparent conductive layer 52b. For this reason, even if the touch panel sensor 30 is deformed during use, it is difficult to form a starting point at which the first light-shielding conductive layer 54 a and the second light-shielding conductive layer 54 b are separated from the touch panel sensor 30. In the connection area A3, the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 in the wiring area A2 are connected to the first conductor 41 and the second conductivity in the active area A1 via the line portions 42a and 47, respectively. It is connected to the body 46. Since the line portions 42a and 47a in the connection area A3 are formed of only the first transparent conductive layer 52a or the second transparent conductive layer 52b, the constraint on the deformation of the line portions 42a and 47a is weak. Therefore, when the touch panel 30 is deformed, the line portions 42a and 47a in the connection area A3 can be deformed following the deformation of the base film 32. As a result, the first light-shielding conductive layer 54a in the first extraction conductor 43 and the second light-shielding conductive layer 54b in the second extraction conductor are separated from the base film 32, and the first extraction conductor 43 and It can suppress effectively that the line parts 42a and 47 peel from the base film 32 with the 2nd extraction conductor 48. FIG. As a result, the reliability of the detection function of the touch panel sensor 30 can be greatly improved.

さらに、第1取出導電体43および第2取出導電体48の形成に用いられる第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bは、図7に示す両面同時露光工程において遮光層として用いられる。このような作製方法によれば、前述のように優れた性能を有するタッチパネルセンサ30を、極めて効率的かつ安価に作製することが可能となる。   Furthermore, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b used for forming the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 are used as a light-shielding layer in the double-sided simultaneous exposure step shown in FIG. According to such a manufacturing method, the touch panel sensor 30 having excellent performance as described above can be manufactured extremely efficiently and inexpensively.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、変形のいくつかの例について説明する。   Note that various modifications can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, some examples of modification will be described.

たとえば、前述の実施の形態において、図15に示す第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの一部分を除去する工程において、アクティブエリアA1および接続エリアA3全体において、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bが除去される例を示した。しかしながら、アクティブエリアA1および接続エリアA3の透光性を確保するために第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bを除去するといった観点からすれば、アクティブエリアA1および接続エリアA3内に位置する第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bのみを除去することができる。このような例によれば、タッチパネルセンサ30のアクティブエリアA1および接続エリアA3における透明性を確保すると同時に、第1取出導電体43および第2取出導電体48が配置される領域を拡大して、第1取出導電体43および第2取出導電体48の導電率を増大させることができる。ただし、第3感光層56cおよび第4感光層56dの露光および現像の寛容度を拡大し、タッチパネルセンサ30の信頼性を向上させるという観点からは、前述の実施形態の方が優れている。なお、当然に、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの除去される部分を変更する場合には、第3マスク58cおよび第4マスク58dの透過領域のパターンを変更しなければならない。   For example, in the above-described embodiment, in the step of removing a part of the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b shown in FIG. 15, the first light-shielding conductive layer 54a in the entire active area A1 and connection area A3. In addition, an example in which the second light-shielding conductive layer 54b is removed is shown. However, from the viewpoint of removing the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b in order to ensure the translucency of the active area A1 and the connection area A3, they are located in the active area A1 and the connection area A3. Only the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b can be removed. According to such an example, while ensuring the transparency in the active area A1 and the connection area A3 of the touch panel sensor 30, the area where the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 are arranged is enlarged, The conductivity of the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 can be increased. However, from the viewpoint of increasing the latitude of exposure and development of the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d and improving the reliability of the touch panel sensor 30, the above-described embodiment is superior. Needless to say, when the portions where the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b are removed are changed, the patterns of the transmission regions of the third mask 58c and the fourth mask 58d must be changed. .

また、上述した実施の形態において、図14に示す第3感光層56cおよび第4感光層56dを現像してパターニングする工程において、配線エリアA2全体に、第3感光層56cおよび第4感光層56dを残す例を示した。しかしながら、第1取出導電体43および第2取出導電体に相当する領域のみに第3感光層56cおよび第4感光層56dを残すように、第3感光層56cおよび第4感光層56dをパターニングしてもよい。このような場合においても、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bが、異なる側から照射されるパターニング光を遮断するので、第3感光層56cおよび第4感光層56dを異なるパターンでの高精度に両面同時露光することができる。ただし、第3感光層56cおよび第4感光層56dの露光および現像の寛容度を拡大し、タッチパネルセンサ30の信頼性を向上させるという観点からは、前述の実施形態の方が優れている。   In the above-described embodiment, in the step of developing and patterning the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d shown in FIG. 14, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are formed over the entire wiring area A2. An example to leave. However, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are patterned so that the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d are left only in the regions corresponding to the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor. May be. Even in such a case, since the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b block the patterning light irradiated from different sides, the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d have different patterns. Both sides can be exposed simultaneously with high accuracy. However, from the viewpoint of increasing the latitude of exposure and development of the third photosensitive layer 56c and the fourth photosensitive layer 56d and improving the reliability of the touch panel sensor 30, the above-described embodiment is superior.

また、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bをアニール処理して、透明導電性金属酸化物の結晶化(微結晶化)を促進する工程を、途中に設けてもよい。通常、ITOなどの透明導電性金属酸化物は、スパッタ法などによる形成時の温度を適宜調節することによって、結晶化が促進されている。すなわち、一般的に、タッチパネルセンサ30を作製するための積層体(ブランクス)に含まれる第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bは、既に結晶化が進められており、良好な耐薬品性を有している。ただし、その一方で、アモルファス状態の透明導電性金属酸化物で第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bを形成し、形成後に140℃程度の温度でアニール処理を施して、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bを結晶化することも可能である。   In addition, a step of annealing the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b to promote crystallization (microcrystallization) of the transparent conductive metal oxide may be provided in the middle. Usually, crystallization of a transparent conductive metal oxide such as ITO is promoted by appropriately adjusting the temperature at the time of formation by sputtering or the like. That is, in general, the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b included in the laminate (blanks) for producing the touch panel sensor 30 have already been crystallized and have good chemical resistance. It has sex. However, on the other hand, the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b are formed from a transparent conductive metal oxide in an amorphous state, and after the formation, annealing is performed at a temperature of about 140 ° C. It is also possible to crystallize the conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b.

第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bをアニールする工程は、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bをパターニングする工程よりも後で、かつ第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの一部分を除去する工程よりも前に実施することが好ましい。たとえば、第3感光層58cおよび第4感光層58dを現像する工程と、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの一部分を除去する工程との間に、アニール工程を実施することができる。たとえば、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの耐薬品性が低く、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bをパターニングする工程において、既にパターニングされている第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bがエッチングされる可能性がある場合に、アニール工程を追加することは有効である。具体的には、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bをパターニングする工程において、耐薬品性の低いアモルファス状の第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bを、浸食性の低いエッチング液(たとえば、シュウ酸)でエッチングする。浸食性の弱いエッチング液を用いることにより、耐薬品性の低い材料(たとえば銀)からなる第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bが、横方向(すなわち、基材フィルム32のシート面に沿った方向)に浸食されることを防止することができる。これにより、第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bを極めて高精度にパターニングすることができるようになる。そして、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの一部分を除去する工程の前に、アニール処理によって第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bの耐薬品性を向上させることにより、第1遮光導電層54aおよび第2遮光導電層54bの一部分を除去する際に、所望の形状にパターニングされた第1透明導電層52aおよび第2透明導電層52bのパターンが損なわれてしまうことを効果的に防止することができる。   The step of annealing the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b is after the step of patterning the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b, and the first light-shielding conductive layer 54a and the second transparent conductive layer 52b. It is preferable to carry out before the step of removing a part of the two light-shielding conductive layers 54b. For example, an annealing step may be performed between the step of developing the third photosensitive layer 58c and the fourth photosensitive layer 58d and the step of removing a part of the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b. it can. For example, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b have low chemical resistance, and in the step of patterning the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b, the first light-shielding conductive already patterned. When the layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b may be etched, it is effective to add an annealing process. Specifically, in the step of patterning the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b, the amorphous first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b having low chemical resistance are eroded. Etch with a low etchant (eg, oxalic acid). By using an etching solution having a weak erosion property, the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b made of a material having low chemical resistance (for example, silver) are arranged in the lateral direction (that is, the sheet surface of the base film 32). It is possible to prevent erosion in the direction along As a result, the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b can be patterned with extremely high accuracy. Then, before the step of removing a part of the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b, the chemical resistance of the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b is improved by annealing treatment. When removing a part of the first light-shielding conductive layer 54a and the second light-shielding conductive layer 54b, the patterns of the first transparent conductive layer 52a and the second transparent conductive layer 52b patterned into a desired shape are damaged. Can be effectively prevented.

さらに、上述した実施の形態において、第1電極部40の第1導電体41はライン部42aと拡張部42bとを有し、第2電極部45の第2導電体46はライン部47aと拡張部47bとを有している例を示した。また、前述の実施形態において、拡張部42bおよび47bが上面視で略正方形形状に形成されている例を示した。しかしながら、拡張部42bおよび47bの形状は、略正方形形状に限定されるものではなく、上面視において、正方形以外の菱形等の四角形形状、正六角形などの多角形形状、円形状であってもよい。   Further, in the above-described embodiment, the first conductor 41 of the first electrode portion 40 includes the line portion 42a and the extended portion 42b, and the second conductor 46 of the second electrode portion 45 extends to the line portion 47a. The example which has the part 47b was shown. Further, in the above-described embodiment, an example in which the extended portions 42b and 47b are formed in a substantially square shape when viewed from above is shown. However, the shapes of the extended portions 42b and 47b are not limited to a substantially square shape, and may be a quadrangular shape such as a rhombus other than a square, a polygonal shape such as a regular hexagon, or a circular shape in a top view. .

上述した実施形態において、第1電極部40の第1導電体41と、第2電極部45の第2導電体46とが、同一形状である構成される例を示した。しかしながら、たとえば、図17に示すように、第2電極部45の第2導電体46の線幅Wを、保護カバー12により近い第1電極部40の第1導電体41の線幅Wよりも大きくしてもよい。この線幅の拡大によって、外部導体が保護カバー12へ接触した際に、保護カバー12からより遠い第2電極部45の第2導電体46と当該外部導体5との間で、コンデンサを安定して形成することができる。また、外部導体と第1電極部40の第1導電体41との間で形成されるコンデンサの静電容量と比較して、外部導体と第2電極部45の第2導電体46との間で形成されるコンデンサの静電容量が小さくなることを防止できる。これにより、外部導体の保護カバー12への接触(接近)位置を、第1電極部40の第1導電体41だけでなく、第2電極部45の第2導電体46によっても、極めて高感度で、かつ正確に検出することが可能となる。 In the above-described embodiment, the example in which the first conductor 41 of the first electrode unit 40 and the second conductor 46 of the second electrode unit 45 have the same shape has been described. However, for example, as shown in FIG. 17, the line width W 1 of the second conductor 46 of the second electrode portion 45 is set to be the line width W 1 of the first conductor 41 of the first electrode portion 40 closer to the protective cover 12. May be larger. This expansion of the line width stabilizes the capacitor between the second conductor 46 of the second electrode portion 45 farther from the protective cover 12 and the outer conductor 5 when the outer conductor contacts the protective cover 12. Can be formed. Further, compared with the capacitance of the capacitor formed between the outer conductor and the first conductor 41 of the first electrode portion 40, it is between the outer conductor and the second conductor 46 of the second electrode portion 45. It is possible to prevent the capacitance of the capacitor formed by Thereby, the contact (approach) position of the outer conductor to the protective cover 12 is extremely sensitive not only by the first conductor 41 of the first electrode portion 40 but also by the second conductor 46 of the second electrode portion 45. And it becomes possible to detect accurately.

図17の形態において、アクティブエリアA1は、第2導電体46の線幅Wを有する部分の全てを包含する最小の領域として定義される。言い換えると、第2導電体46の線幅Wを有する部分の最外周の辺が、アクティブエリアA1と接続エリアA3との間の第1境界B1を画定する。図17の形態においては、紙面の最も上方に質する第2導電体46の線幅Wを有する部分の上辺、紙面の最も下方に質する第2導電体46の線幅Wを有する部分の下辺、ならびに、それぞれの第2導電体46の線幅Wを有する部分の左端および右端によって、第1境界B1が画定される。また、配線エリアA2は、第1取出導電体43および第2取出導電体48の全てを包含する最小の領域である。言い換えると、第1取出導電体43と第1導電体41との接続点、および第2取出導電体48と第2導電体46との接続点が、配線エリアA2と接続エリアA3との間の第1境界B2を画定する。接続エリアA3は、アクティブエリアA1と配線エリアA2との間の領域である。接続エリアA3には、第1導電体41の線幅Wの部分、第2導電体46の線幅Wの部分、第1取出導電体43および第2取出導電体48が存在しない。 In the embodiment of FIG 17, the active area A1 is defined as the smallest area encompassing all parts having a line width W 2 of the second conductor 46. In other words, the outermost periphery of the side portion having a line width W 2 of the second conductor 46 defines a first boundary B1 between the connecting area A3 and the active area A1. In the embodiment of FIG. 17, the portion having a line width W 2 of the second conductor 46 to quality upper, the lowermost paper portion having a line width W 2 of the second conductor 46 to uppermost quality of the paper lower side of, and, by the left and right ends of the portion having a line width W 2 of each of the second conductor 46, the first boundary B1 are defined. The wiring area A <b> 2 is a minimum region that includes all of the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48. In other words, the connection point between the first extraction conductor 43 and the first conductor 41 and the connection point between the second extraction conductor 48 and the second conductor 46 are between the wiring area A2 and the connection area A3. A first boundary B2 is defined. The connection area A3 is a region between the active area A1 and the wiring area A2. The connection area A3, part of the line width W 2 of the first conductor 41, the portion of the line width W 2 of the second conductor 46, not the first extraction conductor 43, and second extraction conductor 48 is present.

図17の形態においても、アクティブエリアA1と配線エリアA2との間の距離、すなわち、接続エリアA3の幅は、0.1〜6.0mmの範囲内である。この範囲内の距離を有することによって、第1透明導電層52aまたは第2透明導電層52bのみで構成される接続エリアA3内の第1導電体41および第2導電体46が長くなることによる電気抵抗値の上昇を防止し、かつ第1遮光導電層54aまたは第2透明導電層54bを含む第1取出導電体43および第2取出導電体48の外部からの視認を防止することができる。   Also in the form of FIG. 17, the distance between the active area A1 and the wiring area A2, that is, the width of the connection area A3 is in the range of 0.1 to 6.0 mm. By having a distance within this range, the first conductor 41 and the second conductor 46 in the connection area A3 constituted only by the first transparent conductive layer 52a or the second transparent conductive layer 52b become longer. It is possible to prevent the resistance value from increasing and to prevent the first extraction conductor 43 and the second extraction conductor 48 including the first light-shielding conductive layer 54a or the second transparent conductive layer 54b from being visually recognized from the outside.

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although the some modification with respect to embodiment mentioned above was demonstrated above, naturally, it is also possible to apply combining several modifications suitably.

15 表示装置
30 タッチパネルセンサ
32 基材フィルム
32a 第1面
32b 第2面
33 フィルム本体
34 機能膜(インデックスマッチング膜)
34a 高屈折率膜
34b 低屈折率膜
35 機能膜(低屈折率膜)
40 第1電極部
41 第1導電体
42a ライン部
42b 拡張部
43 第1取出導電体
45 第2電極部
46 第2導電体
47a ライン部
47b 拡張部
48 第2取出導電体
50 積層体(ブランクス)
52a 第1透明導電層
52b 第2透明導電層
54a 第1遮光導電層
54b 第2遮光導電層
56a 第1感光層
56b 第2感光層
56c 第3感光層
56d 第4感光層
58a 第1マスク
58b 第2マスク
58c 第3マスク
58d 第4マスク
15 Display device 30 Touch panel sensor 32 Base film 32a First surface 32b Second surface 33 Film body 34 Functional film (index matching film)
34a High refractive index film 34b Low refractive index film 35 Functional film (low refractive index film)
40 1st electrode part 41 1st conductor 42a Line part 42b Expansion part 43 1st extraction conductor 45 2nd electrode part 46 2nd conductor 47a Line part 47b Expansion part 48 2nd extraction conductor 50 Laminate (blanks)
52a First transparent conductive layer 52b Second transparent conductive layer 54a First light-shielding conductive layer 54b Second light-shielding conductive layer 56a First photosensitive layer 56b Second photosensitive layer 56c Third photosensitive layer 56d Fourth photosensitive layer 58a First mask 58b First 2 mask 58c 3rd mask 58d 4th mask

Claims (4)

第1面および第2面を有し、アクティブエリアおよび配線エリアを有する透明な基材フィルムと、
前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、
前記基材フイルムの第2面上の第2電極部と
を含み、
前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、
前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、
前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、
前記第1導電体および前記第2導電体のそれぞれは、複数のライン部および複数の拡張部を有し、
前記アクティブエリアは、前記第1導電体および前記第2導電体の全ての拡張部を包含する最小の領域であり、
前記配線エリアは、前記第1取出導電体および第2取出導電体の全てを包含する最小の領域であり、
前記アクティブエリアと前記配線エリアとの間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内である
ことを特徴とするタッチパネルセンサ。
A transparent base film having a first surface and a second surface, and having an active area and a wiring area;
A first electrode portion on the first surface of the base film;
A second electrode portion on the second surface of the base film,
The first electrode portion is arranged side by side in a first direction and includes a plurality of first conductors made of a transparent conductive layer, a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer, and a pair with the first conductor. A plurality of first extraction conductors connected at 1;
The second electrode portion is arranged side by side in the second direction, and includes a second conductor made of a transparent conductive layer and a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer, and has a one-to-one correspondence with the second conductor. A plurality of second extraction conductors connected,
The first direction is a direction intersecting the second direction;
Each of the first conductor and the second conductor has a plurality of line portions and a plurality of extended portions,
The active area is a minimum area including all the extensions of the first conductor and the second conductor;
The wiring area is a minimum area including all of the first extraction conductor and the second extraction conductor;
The touch panel sensor, wherein a distance between the active area and the wiring area is in a range of 0.1 to 6.0 mm.
第1面および第2面を有し、第1境界および第2境界を有する透明な基材フィルムと、
前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、
前記基材フイルムの第2面上の第2電極部と
を含み、
前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、
前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、
前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、
前記第1導電体および前記第2導電体のそれぞれは、複数のライン部および複数の拡張部を有し、
前記第1境界は、前記第1導電体および前記第2導電体の最外周に位置する拡張部のそれぞれの最外周の点により画定され、
前記第2境界は、前記第1取出導電体と前記第1導電体との接続点および前記第2取出導電体と前記第2導電体との接続点により画定され、
前記第1境界と前記第2境界との間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内である
ことを特徴とするタッチパネルセンサ。
A transparent substrate film having a first surface and a second surface, having a first boundary and a second boundary;
A first electrode portion on the first surface of the base film;
A second electrode portion on the second surface of the base film,
The first electrode portion is arranged side by side in a first direction and includes a plurality of first conductors made of a transparent conductive layer, a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer, and a pair with the first conductor. A plurality of first extraction conductors connected at 1;
The second electrode portion is arranged side by side in the second direction, and includes a second conductor made of a transparent conductive layer and a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer, and has a one-to-one correspondence with the second conductor. A plurality of second extraction conductors connected,
The first direction is a direction intersecting the second direction;
Each of the first conductor and the second conductor has a plurality of line portions and a plurality of extended portions,
The first boundary is defined by a point on the outermost periphery of each of the extensions located on the outermost periphery of the first conductor and the second conductor;
The second boundary is defined by a connection point between the first extraction conductor and the first conductor and a connection point between the second extraction conductor and the second conductor;
The touch panel sensor, wherein a distance between the first boundary and the second boundary is in a range of 0.1 to 6.0 mm.
第1面および第2面を有し、アクティブエリアおよび配線エリアを有する透明な基材フィルムと、
前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、
前記基材フイルムの第2面上の第2電極部と
を含み、
前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、線幅Wを有し、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、
前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、
前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、
前記第2導電体は、Wよりも大きな線幅Wを有する部分を含み、
前記アクティブエリアは、前記第2導電体の線幅Wを有する部分の全てを包含する最小の領域であり、
前記配線エリアは、前記第1取出導電体および第2取出導電体の全てを包含する最小の領域であり、
前記アクティブエリアと前記配線エリアとの間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内である
ことを特徴とするタッチパネルセンサ。
A transparent base film having a first surface and a second surface, and having an active area and a wiring area;
A first electrode portion on the first surface of the base film;
A second electrode portion on the second surface of the base film,
The first electrode portion are arranged side by side in the first direction, have a line width W 1, a plurality of first conductor formed of a transparent conductive layer made of a laminate of a transparent conductive layer and the light-shielding conductive layer, A plurality of first extraction conductors connected in a one-to-one relationship with the first conductor;
The second electrode portion is arranged side by side in the second direction, and includes a second conductor made of a transparent conductive layer and a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer, and has a one-to-one correspondence with the second conductor. A plurality of second extraction conductors connected,
The first direction is a direction intersecting the second direction;
It said second conductor includes a portion than W 1 having a large line width W 2,
The active area is the smallest area encompassing all parts having a line width W 2 of the second conductor,
The wiring area is a minimum area including all of the first extraction conductor and the second extraction conductor;
The touch panel sensor, wherein a distance between the active area and the wiring area is in a range of 0.1 to 6.0 mm.
第1面および第2面を有し、第1境界および第2境界を有する透明な基材フィルムと、
前記基材フィルムの第1面上の第1電極部と、
前記基材フイルムの第2面上の第2電極部と
を含み、
前記第1電極部は、第1方向に並べて配置され、線幅Wを有し、透明導電層からなる複数の第1導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第1導電体と1対1で接続される複数の第1取出導電体とを含み、
前記第2電極部は、第2方向に並べて配置され、透明導電層からなる第2導電体と、透明導電層と遮光導電層との積層体からなり、前記第2導電体と1対1で接続される複数の第2取出導電体とを含み、
前記第1方向は、前記第2方向と交差する方向であり、
前記第2導電体は、Wよりも大きな線幅Wを有する部分を含み、
前記第1境界は、前記第2導電体の線幅Wを有する部分の最外周の辺により画定され、
前記第2境界は、前記第1取出導電体と前記第1導電体との接続点および前記第2取出導電体と前記第2導電体との接続点により画定され、
前記第1境界と前記第2境界との間の距離は0.1〜6.0mmの範囲内である
ことを特徴とするタッチパネルセンサ。
A transparent substrate film having a first surface and a second surface, having a first boundary and a second boundary;
A first electrode portion on the first surface of the base film;
A second electrode portion on the second surface of the base film,
The first electrode portion are arranged side by side in the first direction, have a line width W 1, a plurality of first conductor formed of a transparent conductive layer made of a laminate of a transparent conductive layer and the light-shielding conductive layer, A plurality of first extraction conductors connected in a one-to-one relationship with the first conductor;
The second electrode portion is arranged side by side in the second direction, and includes a second conductor made of a transparent conductive layer and a laminate of a transparent conductive layer and a light-shielding conductive layer, and has a one-to-one correspondence with the second conductor. A plurality of second extraction conductors connected,
The first direction is a direction intersecting the second direction;
It said second conductor includes a portion than W 1 having a large line width W 2,
The first boundary is defined by the outermost periphery of the side portion having a line width W 2 of the second conductor,
The second boundary is defined by a connection point between the first extraction conductor and the first conductor and a connection point between the second extraction conductor and the second conductor;
The touch panel sensor, wherein a distance between the first boundary and the second boundary is in a range of 0.1 to 6.0 mm.
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CN114976605A (en) * 2021-02-23 2022-08-30 北京京东方技术开发有限公司 Thin film sensor, thin film sensor array, and electronic device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114976605A (en) * 2021-02-23 2022-08-30 北京京东方技术开发有限公司 Thin film sensor, thin film sensor array, and electronic device
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