JP2015168121A - Wiring mounting structure, liquid ejection head and liquid ejection device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring mounting structure suppressing short circuit and disconnection of connection wiring, and further to provide a liquid ejection head and a liquid ejection device.SOLUTION: A wiring mounting structure comprises: a first base substance 30 having a first principal surface 301, a second principal surface serving as a rear surface opposite to the first principal surface 301 and an inclined surface 321 formed between the first principal surface 301 and the second principal surface; a second base substance 10 having a third principal surface 101 bonded to the second principal surface of the first base substance 30 and a connection terminal 91 formed on the third principal surface 101; and connection wiring 33 continuously formed on the first principal surface 301 of the first base substance 30, on the inclined surface 321 of the first base substance 30 and on the connection terminal 91 of the third principal surface 101. A width of at least a boundary portion between the inclined surface 321 and the third principal surface 101 of the connection wiring 33 is greater than a width of the other portion on the inclined surface 321 of the connection wiring 33.

Description

本発明は、第1基体と、第2基体と、第1基体及び第2基体に亘って形成された接続配線とを有する配線実装構造、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置に関する。   The present invention relates to a wiring mounting structure, a liquid ejecting head, and a liquid ejecting apparatus having a first base, a second base, and a connection wiring formed across the first base and the second base.

液滴を噴射する液体噴射ヘッドとしては、ノズル開口に連通する圧力発生室が形成された流路形成基板(第2基体)と、流路形成基板の一方面側に設けられた圧電アクチュエーターと、流路形成基板の圧電アクチュエーター側に接合された保護基板(第1基体)とを具備し、圧電アクチュエーターによって圧力発生室内の液体に圧力変化を生じさせることで、ノズル開口から液体を噴射する。   As a liquid ejecting head for ejecting liquid droplets, a flow path forming substrate (second base) in which a pressure generating chamber communicating with a nozzle opening is formed, a piezoelectric actuator provided on one surface side of the flow path forming substrate, A protective substrate (first substrate) joined to the piezoelectric actuator side of the flow path forming substrate is provided, and the liquid is ejected from the nozzle opening by causing a pressure change in the liquid in the pressure generating chamber by the piezoelectric actuator.

このようなインクジェット式記録ヘッドでは、保護基板の流路形成基板に接合された面とは反対面に駆動回路(半導体素子)を設け、保護基板に開口部を形成して、開口部内に圧電アクチュエーターに接続された配線を露出させ、駆動回路と圧電アクチュエーターとを、保護基板の開口部の側壁上に設けられた接続配線を介して電気的に接続するようにしたものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In such an ink jet recording head, a drive circuit (semiconductor element) is provided on the surface of the protective substrate opposite to the surface bonded to the flow path forming substrate, an opening is formed in the protective substrate, and a piezoelectric actuator is formed in the opening. It has been proposed that the wiring connected to the terminal is exposed and the drive circuit and the piezoelectric actuator are electrically connected via the connection wiring provided on the side wall of the opening of the protective substrate (for example, , See Patent Document 1).

このようなインクジェット式記録ヘッドでは、流路形成基板と保護基板とを接着剤を介して接合した後、開口部の側壁上、接着剤の表面及び流路形成基板の表面に亘って接続配線を成膜した後、リソグラフィー法等によって所定形状にパターニングされる。   In such an ink jet recording head, the flow path forming substrate and the protective substrate are bonded via an adhesive, and then the connection wiring is formed on the side wall of the opening, the surface of the adhesive, and the surface of the flow path forming substrate. After film formation, it is patterned into a predetermined shape by a lithography method or the like.

また、側壁と流路形成基板の表面とに亘って絶縁性部材を設け、絶縁性部材上に接続配線を形成するようにした構成が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, a configuration has been proposed in which an insulating member is provided across the side wall and the surface of the flow path forming substrate, and a connection wiring is formed on the insulating member (for example, see Patent Document 2).

特開2007−290232号公報JP 2007-290232 A 特開2007−66965号公報JP 2007-66965 A

しかしながら、接続配線の斜面と流路形成基板の表面との境界部分に応力が集中し、断線が発生し易いという問題がある。   However, there is a problem in that stress concentrates on the boundary portion between the slope of the connection wiring and the surface of the flow path forming substrate, and disconnection is likely to occur.

特に、接続配線を高密度に配置する場合や、斜面に他の部品や開口部を設けるために接続配線を設ける領域に制限がある場合などには、接続配線同士が短絡しないように、接続配線の幅及び間隔には制限があるため、斜面と流路形成基板の表面との境界の接続配線が切断し易いという問題がある。   In particular, when connecting wirings are arranged at high density, or when there are restrictions on the area where connecting wiring is provided to provide other parts and openings on the slope, the connecting wirings should not be short-circuited. Since there is a limitation on the width and interval, there is a problem that the connection wiring at the boundary between the slope and the surface of the flow path forming substrate is easily cut.

なお、このような問題は液体噴射ヘッドだけではなく、他のデバイスに用いられる配線実装構造においても同様に存在する。   Such a problem exists not only in the liquid ejecting head but also in a wiring mounting structure used for other devices.

本発明はこのような事情に鑑み、接続配線の短絡や切断を抑制した配線実装構造、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供することを目的とする。   In view of such circumstances, it is an object of the present invention to provide a wiring mounting structure, a liquid ejecting head, and a liquid ejecting apparatus in which short-circuiting and cutting of connection wiring are suppressed.

上記課題を解決する本発明の態様は、第1主面と、前記第1主面と反対の裏面とされる第2主面と、前記第1主面と前記第2主面との間に形成された斜面と、を有する第1基体と、前記第1基体の前記第2主面と接合される第3主面と、前記第3主面上に形成された接続端子と、を有する第2基体と、前記第1基体の前記第1主面上と、前記第1基体の前記斜面上と、前記第3主面の前記接続端子上とに連続して形成された接続配線と、を備え、前記接続配線の少なくとも前記斜面と前記第3主面との境界部分の幅は、前記接続配線の前記斜面上の他の部分の幅よりも広いことを特徴とする配線実装構造にある。
かかる態様では、第1基体と第2基体との境界部分において、接続配線を幅広に形成することで、接続配線の剛性を向上して、接続配線の破壊等を抑制することができる。
An aspect of the present invention that solves the above problems includes a first main surface, a second main surface that is a back surface opposite to the first main surface, and the first main surface and the second main surface. A first base having a slope formed, a third main surface joined to the second main surface of the first base, and a connection terminal formed on the third main surface. Two bases, connection wiring formed continuously on the first main surface of the first base, on the slope of the first base, and on the connection terminals of the third main surface, And the width of at least the boundary between the slope and the third main surface of the connection wiring is wider than the width of the other portion on the slope of the connection wiring.
In such an embodiment, the connection wiring is formed wide at the boundary portion between the first base and the second base, so that the rigidity of the connection wiring can be improved and the destruction of the connection wiring can be suppressed.

ここで、前記斜面上において、前記接続配線の前記第3主面側の端部が第1のピッチで第1の方向に並設されていると共に、前記第1主面側の端部が前記第1のピッチよりも狭い第2のピッチで前記第1の方向に並設されており、前記他の部分が、前記接続配線の前記第1主面側の前記第2のピッチで形成された部分であることが好ましい。これによれば、第1のピッチで形成された部分に対して、広いピッチである第2のピッチで形成された部分の幅を広げることで、隣り合う接続配線のマイグレーション等の短絡を抑制することができる。   Here, on the slope, the end portion on the third main surface side of the connection wiring is arranged in parallel in the first direction at a first pitch, and the end portion on the first main surface side is arranged in the first direction. The second pitch is arranged in parallel in the first direction at a second pitch that is narrower than the first pitch, and the other portion is formed at the second pitch on the first main surface side of the connection wiring. A part is preferred. According to this, a short circuit such as migration of adjacent connection wirings is suppressed by expanding the width of the part formed at the second pitch which is a wide pitch with respect to the part formed at the first pitch. be able to.

また、前記斜面上の前記接続配線において、前記第2のピッチで形成された部分は、前記第1の方向に直交する方向に対して傾斜して設けられた傾斜部の端部であり、前記他の部分が、前記傾斜部であることが好ましい。これによれば、傾斜部によってピッチ変換を行うことができ、ピッチ変換した先に接続する配線や駆動回路等を小型化することができる。   Further, in the connection wiring on the slope, the portion formed at the second pitch is an end of an inclined portion provided to be inclined with respect to a direction orthogonal to the first direction, The other part is preferably the inclined part. According to this, pitch conversion can be performed by the inclined portion, and the wiring, the drive circuit, and the like connected to the tip after the pitch conversion can be reduced in size.

また、前記境界部分において幅が広く形成された当該接続配線が互いに隣り合う間隔は、前記他の部分で当該接続配線が互いに隣り合う間隔以上となっていることが好ましい。これによれば、互いに隣り合う接続配線の短絡を抑制することができる。   In addition, it is preferable that the interval between the connection wirings formed to be wide at the boundary portion is equal to or greater than the interval between the connection wires adjacent to each other in the other portion. According to this, it is possible to suppress a short circuit between adjacent connection wirings.

また、前記第1基体と前記第2基体とは、接着剤を介して接合されており、前記接着剤は、前記斜面と前記第1基体に覆われていない第3主面との境界に表面が露出されて設けられており、前記接続配線が、前記斜面と、前記接着剤の前記表面と、前記第3主面とに連続して形成されており、前記接着剤の前記表面上に形成された前記接続配線の幅が最も広いことが好ましい。これによれば、接着剤の膨張等による接続配線の破壊を抑制することができる。   In addition, the first base and the second base are bonded via an adhesive, and the adhesive has a surface at the boundary between the slope and the third main surface that is not covered by the first base. Is exposed, and the connection wiring is continuously formed on the slope, the surface of the adhesive, and the third main surface, and is formed on the surface of the adhesive. It is preferable that the width of the connection wiring formed is the widest. According to this, destruction of the connection wiring due to expansion of the adhesive or the like can be suppressed.

また、前記接続配線の幅を広げた部分は、前記他の部分よりも配線の厚さが厚いことが好ましい。これによれば、さらに第1基体と第2基体との境界部分における接続配線の剛性を向上して、接続配線の破壊を抑制することができる。   Moreover, it is preferable that the part where the width of the connection wiring is widened is thicker than the other part. According to this, the rigidity of the connection wiring at the boundary portion between the first base and the second base can be further improved, and destruction of the connection wiring can be suppressed.

さらに、本発明の他の態様は、第1主面と、前記第1主面と反対の裏面とされる第2主面と、前記第1主面と前記第2主面との間に形成された斜面と、を有する第1基体と、前記第1基体の前記第2主面と接合される第3主面と、液体を噴射するノズル開口に連通する流路と、前記流路に圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、前記第3主面上に形成された接続端子と、を有する第2基体と、前記第1基体の前記第1主面上と、前記第1基体の前記斜面上と、前記第3主面の前記接続端子上とに連続して形成された接続配線と、を備え、前記接続配線の少なくとも前記斜面と前記第3主面との境界部分の幅は、前記接続配線の前記斜面上の他の部分の幅よりも広いことを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、第1基体と第2基体との境界部分において、接続配線を幅広に形成することで、接続配線の剛性を向上して、接続配線の破壊等を抑制することができる。
Furthermore, another aspect of the present invention is formed between the first main surface, the second main surface that is the back surface opposite to the first main surface, and the first main surface and the second main surface. A first base having a sloped surface, a third main surface joined to the second main surface of the first base, a flow path communicating with a nozzle opening for injecting liquid, and pressure applied to the flow path A pressure generating means for causing a change; a second base having a connection terminal formed on the third main surface; the first main surface of the first base; and the inclined surface of the first base. And a connection wiring continuously formed on the connection terminal of the third main surface, and a width of a boundary portion between at least the slope of the connection wiring and the third main surface is In the liquid jet head, the width of the connection wiring is wider than that of the other part on the slope.
In such an embodiment, the connection wiring is formed wide at the boundary portion between the first base and the second base, so that the rigidity of the connection wiring can be improved and the destruction of the connection wiring can be suppressed.

また、本発明の他の態様は、上記態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
かかる態様では、接続配線の破壊を抑制して信頼性を向上した液体噴射装置を実現できる。
According to another aspect of the invention, there is provided a liquid ejecting apparatus including the liquid ejecting head according to the above aspect.
In this aspect, it is possible to realize a liquid ejecting apparatus that improves the reliability by suppressing the destruction of the connection wiring.

実施形態1に係る記録ヘッドの分解斜視図である。FIG. 3 is an exploded perspective view of the recording head according to the first embodiment. 実施形態1に係る記録ヘッドの平面図である。FIG. 3 is a plan view of the recording head according to the first embodiment. 実施形態1に係る記録ヘッドの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the recording head according to the first embodiment. 実施形態1に係る記録ヘッドの要部を拡大した断面図である。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the recording head according to the first embodiment. 実施形態1に係る記録ヘッドの要部平面図であるFIG. 3 is a plan view of a main part of the recording head according to the first embodiment. 実施形態1に係る接続配線を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing connection wiring according to the first embodiment. 実施形態2に係る接続配線を示す平面図である。6 is a plan view showing connection wiring according to Embodiment 2. FIG. 他の実施形態に係る接続配線を示す平面図である。It is a top view which shows the connection wiring which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る記録ヘッドの要部を拡大した断面図である。It is sectional drawing to which the principal part of the recording head concerning other embodiment was expanded. 本発明の一実施形態に係る記録装置の概略図である。1 is a schematic diagram of a recording apparatus according to an embodiment of the present invention.

以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図であり、図2は、インクジェット式記録ヘッドの平面図である。また、図3は図2のA−A′線断面図であり、図4は、図3の要部を拡大した図であり図5は、保護基板の平面図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is an exploded perspective view of an ink jet recording head that is an example of a liquid jet head according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the ink jet recording head. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 2, FIG. 4 is an enlarged view of the main part of FIG. 3, and FIG. 5 is a plan view of the protective substrate.

図示するように、本実施形態のインクジェット式記録ヘッド1は、流路形成基板10、連通板15、ノズルプレート20、保護基板30、コンプライアンス基板45等の複数の部材を備える。   As shown in the figure, the ink jet recording head 1 according to the present embodiment includes a plurality of members such as a flow path forming substrate 10, a communication plate 15, a nozzle plate 20, a protective substrate 30, and a compliance substrate 45.

流路形成基板10は、ステンレス鋼やNiなどの金属、ZrOあるいはAlを代表とするセラミック材料、ガラスセラミック材料、MgO、LaAlOのような酸化物などを用いることができる。本実施形態では、流路形成基板10は、シリコン単結晶基板からなる。この流路形成基板10には、一方面側から異方性エッチングすることにより、複数の隔壁によって区画された圧力発生室12がインクを吐出する複数のノズル開口21が並設される方向に沿って並設されている。以降、この方向を圧力発生室12の並設方向、又は第1の方向X(基準方向)と称する。また、流路形成基板10には、圧力発生室12が第1の方向Xに並設された列が複数列、本実施形態では、2列設けられている。この圧力発生室12が第1の方向Xに沿って形成された圧力発生室12の列が複数列設された列設方向を、以降、第2の方向Yと称する。さらに、第1の方向X及び第2の方向Yの双方に交差する方向を本実施形態では、第3の方向Zと称する。なお、本実施形態では、説明理解を容易にするために各方向(X、Y、Z)の関係を直交とするが、各構成の配置関係が必ずしも直交するものに限定されるべきものでないことを言及しておく。 For the flow path forming substrate 10, a metal such as stainless steel or Ni, a ceramic material typified by ZrO 2 or Al 2 O 3 , a glass ceramic material, an oxide such as MgO, LaAlO 3 , or the like can be used. In the present embodiment, the flow path forming substrate 10 is made of a silicon single crystal substrate. This flow path forming substrate 10 is anisotropically etched from one side so that the pressure generating chambers 12 partitioned by the plurality of partition walls are arranged in parallel with a plurality of nozzle openings 21 through which ink is ejected. Side by side. Hereinafter, this direction is referred to as a direction in which the pressure generating chambers 12 are arranged side by side, or a first direction X (reference direction). Further, the flow path forming substrate 10 is provided with a plurality of rows in which the pressure generation chambers 12 are arranged in parallel in the first direction X, and in this embodiment, two rows. An arrangement direction in which a plurality of rows of the pressure generation chambers 12 in which the pressure generation chambers 12 are formed along the first direction X is provided is hereinafter referred to as a second direction Y. Furthermore, a direction that intersects both the first direction X and the second direction Y is referred to as a third direction Z in the present embodiment. In this embodiment, the relationship between the directions (X, Y, Z) is orthogonal to facilitate understanding of the explanation, but the arrangement relationship of the components should not necessarily be limited to the orthogonal relationship. To mention.

また、流路形成基板10には、圧力発生室12の第2の方向Yの一端部側に、当該圧力発生室12よりも開口面積が狭く、圧力発生室12に流入するインクの流路抵抗を付与する供給路等が設けられていてもよい。   Further, the flow path forming substrate 10 has an opening area narrower than that of the pressure generation chamber 12 on one end portion side in the second direction Y of the pressure generation chamber 12, and the flow path resistance of ink flowing into the pressure generation chamber 12. A supply path or the like for providing the above may be provided.

また、流路形成基板10の一方面側(積層方向であって−Z方向)には、連通板15とノズルプレート20とが順次積層されている。すなわち、流路形成基板10の一方面に設けられた連通板15と、連通板15の流路形成基板10とは反対面側に設けられたノズル開口21を有するノズルプレート20と、を具備する。   In addition, the communication plate 15 and the nozzle plate 20 are sequentially stacked on one surface side (the stacking direction and the −Z direction) of the flow path forming substrate 10. That is, a communication plate 15 provided on one surface of the flow path forming substrate 10 and a nozzle plate 20 having a nozzle opening 21 provided on the opposite surface side of the communication plate 15 from the flow path forming substrate 10 are provided. .

連通板15には、圧力発生室12とノズル開口21とを連通するノズル連通路16が設けられている。連通板15は、流路形成基板10よりも大きな面積を有し、ノズルプレート20は流路形成基板10よりも小さい面積を有する。このように連通板15を設けることによってノズルプレート20のノズル開口21と圧力発生室12とを離せるため、圧力発生室12の中にあるインクは、ノズル開口21付近のインクで生じるインク中の水分の蒸発による増粘の影響を受け難くなる。また、ノズルプレート20は圧力発生室12とノズル開口21とを連通するノズル連通路16の開口を覆うだけで良いので、ノズルプレート20の面積を比較的小さくすることができ、コストの削減を図ることができる。なお、本実施形態では、ノズルプレート20のノズル開口21が開口されて、インク滴が吐出される面を液体噴射面20aと称する。   The communication plate 15 is provided with a nozzle communication path 16 that communicates the pressure generation chamber 12 and the nozzle opening 21. The communication plate 15 has a larger area than the flow path forming substrate 10, and the nozzle plate 20 has a smaller area than the flow path forming substrate 10. By providing the communication plate 15 in this manner, the nozzle opening 21 of the nozzle plate 20 and the pressure generating chamber 12 can be separated from each other, so that the ink in the pressure generating chamber 12 is contained in the ink generated by the ink near the nozzle opening 21. Less susceptible to thickening due to moisture evaporation. Further, since the nozzle plate 20 only needs to cover the opening of the nozzle communication passage 16 that communicates the pressure generating chamber 12 and the nozzle opening 21, the area of the nozzle plate 20 can be made relatively small, and the cost can be reduced. be able to. In the present embodiment, a surface on which the nozzle openings 21 of the nozzle plate 20 are opened and ink droplets are ejected is referred to as a liquid ejecting surface 20a.

また、連通板15には、マニホールド100の一部を構成する第1マニホールド部17と、第2マニホールド部(絞り流路、オリフィス流路)18とが設けられている。   Further, the communication plate 15 is provided with a first manifold portion 17 that constitutes a part of the manifold 100 and a second manifold portion (throttle channel, orifice channel) 18.

第1マニホールド部17は、連通板15を厚さ方向(連通板15と流路形成基板10との積層方向)に貫通して設けられている。   The first manifold portion 17 is provided through the communication plate 15 in the thickness direction (the stacking direction of the communication plate 15 and the flow path forming substrate 10).

また、第2マニホールド部18は、連通板15を厚さ方向に貫通することなく、連通板15のノズルプレート20側に開口して設けられている。   Further, the second manifold portion 18 is provided to open to the nozzle plate 20 side of the communication plate 15 without penetrating the communication plate 15 in the thickness direction.

さらに、連通板15には、圧力発生室12の第2の方向Yの一端部に連通する供給連通路19が、圧力発生室12毎に独立して設けられている。この供給連通路19は、第2マニホールド部18と圧力発生室12とを連通する。   Further, the communication plate 15 is provided with a supply communication passage 19 that communicates with one end portion in the second direction Y of the pressure generation chamber 12 for each pressure generation chamber 12. The supply communication path 19 communicates the second manifold portion 18 and the pressure generation chamber 12.

このような連通板15としては、ステンレスやNiなどの金属、またはジルコニウムなどのセラミックなどを用いることができる。なお、連通板15は、流路形成基板10と線膨張係数が同等の材料が好ましい。すなわち、連通板15として流路形成基板10と線膨張係数が大きく異なる材料を用いた場合、加熱や冷却されることで、流路形成基板10と連通板15との線膨張係数の違いにより反りが生じてしまう。本実施形態では、連通板15として流路形成基板10と同じ材料、すなわち、シリコン単結晶基板を用いることで、熱による反りや熱によるクラック、剥離等の発生を抑制することができる。   As the communication plate 15, a metal such as stainless steel or Ni, or a ceramic such as zirconium can be used. The communication plate 15 is preferably made of a material having the same linear expansion coefficient as the flow path forming substrate 10. That is, when a material having a linear expansion coefficient that is significantly different from that of the flow path forming substrate 10 is used as the communication plate 15, warping due to a difference in linear expansion coefficient between the flow path forming substrate 10 and the communication plate 15 due to heating or cooling. Will occur. In this embodiment, by using the same material as the flow path forming substrate 10 as the communication plate 15, that is, a silicon single crystal substrate, it is possible to suppress the occurrence of warping due to heat, cracking due to heat, peeling, and the like.

ノズルプレート20には、各圧力発生室12とノズル連通路16を介して連通するノズル開口21が形成されている。このようなノズル開口21は、第1の方向Xに並設され、この第1の方向Xに並設されたノズル開口21の列が第2の方向Yに2列形成されている。   In the nozzle plate 20, nozzle openings 21 communicating with the pressure generation chambers 12 through the nozzle communication passages 16 are formed. Such nozzle openings 21 are arranged in parallel in the first direction X, and two rows of nozzle openings 21 arranged in parallel in the first direction X are formed in the second direction Y.

このようなノズルプレート20としては、例えば、ステンレス鋼(SUS)等の金属、ポリイミド樹脂のような有機物、又はシリコン単結晶基板等を用いることができる。なお、ノズルプレート20としてシリコン単結晶基板を用いることで、ノズルプレート20と連通板15との線膨張係数を同等として、加熱や冷却されることによる反りや熱によるクラック、剥離等の発生を抑制することができる。   As such a nozzle plate 20, for example, a metal such as stainless steel (SUS), an organic substance such as a polyimide resin, a silicon single crystal substrate, or the like can be used. In addition, by using a silicon single crystal substrate as the nozzle plate 20, the linear expansion coefficients of the nozzle plate 20 and the communication plate 15 are made equal, and the occurrence of warpage due to heating or cooling, cracks due to heat, peeling, and the like are suppressed. can do.

一方、流路形成基板10の連通板15とは反対面側には、振動板50が形成されている。本実施形態では、振動板50として、流路形成基板10側に設けられた酸化シリコンからなる弾性膜51と、弾性膜51上に設けられた酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜52と、を設けるようにした。なお、圧力発生室12等の液体流路は、流路形成基板10を一方面側(ノズルプレート20が接合された面側)から異方性エッチングすることにより形成されており、圧力発生室12等の液体流路の他方面は、弾性膜51によって画成されている。   On the other hand, a diaphragm 50 is formed on the surface of the flow path forming substrate 10 opposite to the communication plate 15. In the present embodiment, an elastic film 51 made of silicon oxide provided on the flow path forming substrate 10 side and an insulator film 52 made of zirconium oxide provided on the elastic film 51 are provided as the diaphragm 50. I made it. The liquid flow path such as the pressure generation chamber 12 is formed by anisotropically etching the flow path forming substrate 10 from one side (the side where the nozzle plate 20 is bonded). The other surface of the liquid flow path is defined by the elastic film 51.

また、流路形成基板10の振動板50上には、本実施形態の圧力発生手段である、第1電極60と圧電体層70と第2電極80とを有する圧電アクチュエーター300が設けられている。なお、本実施形態の圧力発生手段である圧電アクチュエーター300が駆動素子に相当する。ここで、圧電アクチュエーター300は、第1電極60、圧電体層70及び第2電極80を含む部分をいう。一般的には、圧電アクチュエーター300の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極を圧力発生室12毎にパターニングして構成する。本実施形態では、第1電極60を複数の圧電アクチュエーター300に亘って連続して設けることで共通電極とし、第2電極80を圧電アクチュエーター300毎に独立して設けることで個別電極としている。もちろん、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。なお、上述した例では、振動板50が弾性膜51及び絶縁体膜52で構成されたものを例示したが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、振動板50として弾性膜51及び絶縁体膜52の何れか一方を設けたものであってもよく、また、振動板50として弾性膜51及び絶縁体膜52を設けずに、第1電極60のみが振動板として作用するようにしてもよい。また、圧電アクチュエーター300自体が実質的に振動板を兼ねるようにしてもよい。   In addition, a piezoelectric actuator 300 having a first electrode 60, a piezoelectric layer 70, and a second electrode 80, which is a pressure generating unit of the present embodiment, is provided on the vibration plate 50 of the flow path forming substrate 10. . In addition, the piezoelectric actuator 300 which is a pressure generation means of this embodiment corresponds to a drive element. Here, the piezoelectric actuator 300 refers to a portion including the first electrode 60, the piezoelectric layer 70, and the second electrode 80. In general, one electrode of the piezoelectric actuator 300 is used as a common electrode, and the other electrode is patterned for each pressure generation chamber 12. In the present embodiment, the first electrode 60 is continuously provided across the plurality of piezoelectric actuators 300 to be a common electrode, and the second electrode 80 is independently provided to each piezoelectric actuator 300 to be an individual electrode. Of course, there is no problem even if it is reversed for the convenience of the drive circuit and wiring. In the above-described example, the diaphragm 50 includes the elastic film 51 and the insulator film 52. However, the present invention is not limited to this. For example, the vibration film 50 includes the elastic film 51 and the insulating film. Any one of the body films 52 may be provided, and the elastic film 51 and the insulator film 52 are not provided as the vibration plate 50, and only the first electrode 60 acts as the vibration plate. Also good. Further, the piezoelectric actuator 300 itself may substantially serve as a diaphragm.

圧電体層70は、第1電極60上に形成される分極構造を有する酸化物の圧電材料からなり、例えば、一般式ABOで示されるペロブスカイト型酸化物からなることができ、鉛を含む鉛系圧電材料や鉛を含まない非鉛系圧電材料などを用いることができる。 The piezoelectric layer 70 is made of a piezoelectric material of the oxide having a polarization structure formed on the first electrode 60, for example, it may consist of a perovskite oxide represented by the general formula ABO 3, lead containing lead For example, a lead-based piezoelectric material or a lead-free piezoelectric material containing no lead can be used.

また、圧電アクチュエーター300の第2電極80の各々には、引き出し配線であるリード電極90の一端部が接続されている。リード電極90は、第2電極80の端部から振動板50上に引き出されており、他端部が第2の方向Yで隣り合う圧電アクチュエーター300の列の間に延設されている。ここで、引き出されたリード電極90の他端部が、詳しくは後述する半導体素子である駆動回路に接続される接続端子91となっている。本実施形態では、圧電アクチュエーター300の列毎に接続端子91が本実施形態の基準方向である第1の方向Xに並設された接続端子列91Aが形成されている。すなわち、接続端子91が第1の方向Xに並設されて構成された接続端子列91Aは、第2の方向Yに2列並設されている。本実施形態では、図6に示すように、接続端子91は、圧電アクチュエーター300のピッチと同じ第2のピッチd2で第1の方向Xに並設されている。なお、本実施形態の第2のピッチd2とは、第1の方向Xで隣り合う2つの接続端子91の中心線間の距離である。すなわち、本実施形態では、リード電極90は、圧電アクチュエーター300の端部から第1の方向Xに直線上に沿って延設されている。また、このように接続端子91が設けられた流路形成基板10が第2基体に相当し、流路形成基板10の保護基板30側の面、すなわち振動板50の保護基板30側の面を第3主面101と称する。   Each of the second electrodes 80 of the piezoelectric actuator 300 is connected to one end of a lead electrode 90 that is a lead wiring. The lead electrode 90 is drawn out from the end of the second electrode 80 onto the diaphragm 50, and the other end extends between the adjacent rows of piezoelectric actuators 300 in the second direction Y. Here, the other end portion of the lead electrode 90 drawn out serves as a connection terminal 91 connected to a drive circuit which is a semiconductor element described later in detail. In the present embodiment, a connection terminal row 91 </ b> A in which the connection terminals 91 are arranged in parallel in the first direction X, which is the reference direction of the present embodiment, is formed for each row of the piezoelectric actuators 300. That is, the connection terminal row 91 </ b> A formed by connecting the connection terminals 91 in the first direction X is arranged in two rows in the second direction Y. In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the connection terminals 91 are arranged in parallel in the first direction X at the second pitch d <b> 2 that is the same as the pitch of the piezoelectric actuator 300. In the present embodiment, the second pitch d2 is a distance between the center lines of the two connection terminals 91 adjacent in the first direction X. That is, in the present embodiment, the lead electrode 90 extends from the end portion of the piezoelectric actuator 300 along the straight line in the first direction X. Further, the flow path forming substrate 10 thus provided with the connection terminals 91 corresponds to the second base, and the surface of the flow path forming substrate 10 on the protective substrate 30 side, that is, the surface of the vibration plate 50 on the protective substrate 30 side. This is referred to as a third main surface 101.

また、流路形成基板10の圧電アクチュエーター300側の面には、流路形成基板10と略同じ大きさを有する保護基板30が接合されている。本実施形態では、保護基板30が第1基体に相当し、保護基板30の流路形成基板10と接合された面とは反対側の面を第1主面301と称し、流路形成基板10に接合される面を第2主面302と称する。すなわち、第2基体である流路形成基板10の第3主面101は、第1基体である保護基板30の第2主面302と接合されている。   A protective substrate 30 having substantially the same size as the flow path forming substrate 10 is bonded to the surface of the flow path forming substrate 10 on the piezoelectric actuator 300 side. In the present embodiment, the protective substrate 30 corresponds to a first base body, and the surface of the protective substrate 30 opposite to the surface bonded to the flow path forming substrate 10 is referred to as a first main surface 301. The surface to be joined to each other is referred to as a second main surface 302. That is, the third main surface 101 of the flow path forming substrate 10 that is the second base is joined to the second main surface 302 of the protective substrate 30 that is the first base.

このような保護基板30としては、流路形成基板10の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料等を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板10と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。また、流路形成基板10と保護基板30との接合方法は特に限定されず、例えば、本実施形態では、流路形成基板10と保護基板30とを接着剤35を介して接合されている。   As such a protective substrate 30, it is preferable to use substantially the same material as the coefficient of thermal expansion of the flow path forming substrate 10, for example, glass, ceramic material, etc. In this embodiment, the same material as the flow path forming substrate 10 is used. The silicon single crystal substrate was used. Moreover, the joining method of the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 is not particularly limited. For example, in the present embodiment, the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 are bonded via the adhesive 35.

また、保護基板30は、第2主面302の側に圧電アクチュエーター300を保護して収容するための空間である保持部31を有する。保持部31は、保護基板30を厚さ方向である第3の方向Zに貫通することなく、流路形成基板10側に開口する凹形状を有する。また、保持部31は、本実施形態では、第1の方向Xに並設された圧電アクチュエーター300の列毎に独立して設けられている。すなわち、保持部31は、圧電アクチュエーター300の第1の方向Xに並設された列に亘って連続して設けられており、圧電アクチュエーター300の列毎、すなわち2つが第2の方向Yに並設されている。このような保持部31は、圧電アクチュエーター300の運動を阻害しない程度の空間を有していればよく、当該空間は密封されていても、密封されていなくてもよい。   Further, the protective substrate 30 has a holding portion 31 that is a space for protecting and accommodating the piezoelectric actuator 300 on the second main surface 302 side. The holding part 31 has a concave shape that opens to the flow path forming substrate 10 side without penetrating the protective substrate 30 in the third direction Z that is the thickness direction. In the present embodiment, the holding unit 31 is provided independently for each row of the piezoelectric actuators 300 arranged in parallel in the first direction X. That is, the holding unit 31 is continuously provided over the rows of the piezoelectric actuators 300 arranged in parallel in the first direction X, and each row of the piezoelectric actuators 300, that is, two in parallel in the second direction Y. It is installed. Such a holding part 31 should just have the space of the grade which does not inhibit the motion of the piezoelectric actuator 300, and the said space may be sealed or may not be sealed.

また、保護基板30は、厚さ方向である第3の方向Zに貫通した本実施形態の開口部である貫通孔32を有する。貫通孔32は、第2の方向Yに並設された2つの保持部31の間に複数の圧電アクチュエーター300の並設方向である第1の方向Xに亘って連続して設けられている。すなわち、貫通孔32は、第1の方向Xに沿って溝状に形成されている。つまり、貫通孔32は、複数の圧電アクチュエーター300の並設方向に長辺を有した開口とされている。   Further, the protective substrate 30 has a through hole 32 that is an opening of the present embodiment that penetrates in the third direction Z that is the thickness direction. The through-hole 32 is continuously provided between the two holding portions 31 arranged in parallel in the second direction Y over the first direction X, which is the direction in which the plurality of piezoelectric actuators 300 are arranged in parallel. That is, the through hole 32 is formed in a groove shape along the first direction X. That is, the through hole 32 is an opening having a long side in the direction in which the plurality of piezoelectric actuators 300 are arranged.

このような貫通孔32の第2の方向Yの両側の壁面である第1側壁部321は、図4に示すように、第1主面301と第2主面302との間で傾斜して設けられた斜面となっている。すなわち、斜面である第1側壁部321は、基準方向である第1の方向Xに延在している。ここで、第1側壁部321が斜面になっているとは、第1主面301及び第2主面302に対して傾斜して設けられていることを言う。すなわち、第1側壁部321が第1主面301及び第2主面302と同じ面方向で形成されておらず、また、第1側壁部321が第1主面301及び第2主面302に直交する第3の方向Zと同じ面方向に設けられていないことを言う。つまり、第1側壁部321は、第3の方向Zに対しても傾斜して設けられている。このような第1側壁部321の傾斜角度は特に限定されないが、例えば、保護基板30をシリコン単結晶基板で形成した場合、シリコン単結晶基板の面方位にもよるが、例えば、第1側壁部321は、第2主面302に対して54.7度となる。また、第2の方向Yで相対向する2つの第1側壁部321の間隔は、第3の方向Zにおいて流路形成基板10とは離れる方向に向かって漸大して設けられている。   As shown in FIG. 4, the first side wall portion 321 that is the wall surface on both sides of the through hole 32 in the second direction Y is inclined between the first main surface 301 and the second main surface 302. It has a slope. That is, the first side wall part 321 that is a slope extends in the first direction X that is the reference direction. Here, the phrase “the first side wall portion 321 is an inclined surface” means that the first side wall portion 321 is inclined with respect to the first main surface 301 and the second main surface 302. That is, the first side wall portion 321 is not formed in the same plane direction as the first main surface 301 and the second main surface 302, and the first side wall portion 321 is formed on the first main surface 301 and the second main surface 302. That is, it is not provided in the same plane direction as the third direction Z orthogonal to each other. That is, the first side wall portion 321 is provided to be inclined with respect to the third direction Z. The inclination angle of the first side wall portion 321 is not particularly limited. For example, when the protective substrate 30 is formed of a silicon single crystal substrate, the first side wall portion may be, for example, depending on the plane orientation of the silicon single crystal substrate. 321 is 54.7 degrees with respect to the second major surface 302. In addition, the interval between the two first side wall portions 321 facing each other in the second direction Y is gradually increased in a direction away from the flow path forming substrate 10 in the third direction Z.

なお、本実施形態では、貫通孔32の第1の方向Xの両側の壁面である2つの第2側壁部322についても第1側壁部321と同様に第1主面301及び第2主面302に対して傾斜して設けられている。このように第1側壁部321と第2側壁部322とを傾斜して設けることにより、貫通孔32を例えばエッチングによって容易に高精度に形成することができる。   In the present embodiment, the first main surface 301 and the second main surface 302 are similar to the first side wall portion 321 with respect to the two second side wall portions 322 that are the wall surfaces on both sides of the through hole 32 in the first direction X. It is inclined with respect to. Thus, by providing the first side wall portion 321 and the second side wall portion 322 in an inclined manner, the through hole 32 can be easily formed with high accuracy by, for example, etching.

このような保護基板30に貫通孔32内には、流路形成基板(第2基体)10の第3主面101の一部(振動板50の一部)が露出され、その領域の中に圧電アクチュエーター300から引き出されたリード電極90の端部である接続端子91が露出して設けられている。   A part of the third main surface 101 (a part of the diaphragm 50) of the flow path forming substrate (second base) 10 is exposed in the through hole 32 of the protective substrate 30 and is exposed in the region. A connection terminal 91 that is an end portion of the lead electrode 90 drawn out from the piezoelectric actuator 300 is exposed.

具体的には、リード電極90の貫通孔32の内側の領域に導出されてに露出した部分が接続端子91となっている。流路形成基板10の第3主面101上に、第1の方向Xに並設された複数の接続端子91からなる群を接続端子列91Aと称する。本実施形態では、第3主面101の貫通孔32によって露出された部分(貫通孔32の内側の領域)において、2つの接続端子列91Aが第2の方向Yに並設されている。   Specifically, the exposed portion of the lead electrode 90 exposed to the inner region of the through-hole 32 serves as the connection terminal 91. A group consisting of a plurality of connection terminals 91 arranged in parallel in the first direction X on the third main surface 101 of the flow path forming substrate 10 is referred to as a connection terminal row 91A. In the present embodiment, two connection terminal rows 91 </ b> A are juxtaposed in the second direction Y in the portion exposed by the through hole 32 of the third main surface 101 (region inside the through hole 32).

ここで、流路形成基板10と保護基板30とを接着する接着剤35は、保護基板30の第2主面302と流路形成基板10の第3主面101との間の領域と、この領域から流路形成基板10の貫通孔32内の第3主面101上にまで突出して設けられている。   Here, the adhesive 35 that adheres the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 is formed in a region between the second main surface 302 of the protective substrate 30 and the third main surface 101 of the flow path forming substrate 10. It is provided so as to protrude from the region to the third main surface 101 in the through hole 32 of the flow path forming substrate 10.

このような接着剤35は、詳しくは後述する接続配線33の延設方向である第2の方向Yにおいて、その表面36の流路形成基板10の第3主面101との接触角θ1が、第1側壁部321と第3主面101とがなす基準角度θbよりも小さい。なお、基準角度θbは、本実施形態では、第1側壁部321と第3主面101との角度で示しているが、第3主面101と第2主面302とは平行する面であるため、基準角度θbは、第3主面102と第1側壁部321との角度と同じ角度となる。   Such an adhesive 35 has a contact angle θ1 of the surface 36 with the third main surface 101 of the flow path forming substrate 10 in the second direction Y, which is an extension direction of the connection wiring 33 described later in detail. It is smaller than the reference angle θb formed by the first side wall portion 321 and the third main surface 101. In the present embodiment, the reference angle θb is an angle between the first side wall portion 321 and the third main surface 101. However, the third main surface 101 and the second main surface 302 are parallel surfaces. Therefore, the reference angle θb is the same angle as the angle between the third main surface 102 and the first side wall portion 321.

ここで、接着剤35の表面36の第3主面101との接触角θ1とは、図示するように、接着剤35の表面36の第3主面101と接する境界部分と、第3主面101との角度のことである。つまり、接着剤35の表面36が曲面で形成されている場合には、接着剤35の表面36の第3主面101との接触角θ1とは、接着剤35の表面36の第3主面101との接点における接線方向と第3主面101との角度のことである。   Here, the contact angle θ1 of the surface 36 of the adhesive 35 with the third main surface 101 is, as shown in the figure, the boundary portion in contact with the third main surface 101 of the surface 36 of the adhesive 35, and the third main surface. It is an angle with 101. That is, when the surface 36 of the adhesive 35 is formed as a curved surface, the contact angle θ1 of the surface 36 of the adhesive 35 with the third main surface 101 is the third main surface of the surface 36 of the adhesive 35. 101 is an angle between the tangential direction at the contact point with 101 and the third main surface 101.

また、接着剤35は、本実施形態では、斜面である第1側壁部321上まで延設されており、接着剤35の表面36は、第1側壁部321の表面36に連続して設けられている。ここで、接着剤35の表面36が第1側壁部321の表面に連続しているとは、接着剤35の表面36と第1側壁部321の表面とが間に第2主面302を介在させずに直接接していることを言う。なお、本実施形態では、接着剤35を第1側壁部321上まで延設することで、接着剤35の表面36と第1側壁部321の表面とを連続させるようにしたが、特にこれに限定されず、接着剤35の表面36と第1側壁部321との表面とを面一として連続させてもよい。ただし、接着剤35の表面36を第1側壁部321の表面と面一となるように高精度に制御するのは困難であるため、接着剤35は第1側壁部321上にまで延設する方が好ましい。   Further, in the present embodiment, the adhesive 35 extends to the first side wall portion 321 that is a slope, and the surface 36 of the adhesive 35 is provided continuously to the surface 36 of the first side wall portion 321. ing. Here, the surface 36 of the adhesive 35 is continuous with the surface of the first side wall part 321. The surface 36 of the adhesive 35 and the surface of the first side wall part 321 have the second main surface 302 interposed therebetween. Say that they are in direct contact with each other. In the present embodiment, the surface of the adhesive 35 and the surface of the first side wall 321 are made continuous by extending the adhesive 35 over the first side wall 321. Without being limited thereto, the surface 36 of the adhesive 35 and the surface of the first side wall portion 321 may be flush with each other. However, since it is difficult to control the surface 36 of the adhesive 35 with high accuracy so as to be flush with the surface of the first side wall portion 321, the adhesive 35 extends to the first side wall portion 321. Is preferred.

このように第1側壁部321上に設けられた接着剤35の表面36は、第1側壁部321に連続する部分の第3主面101に対する角度θ2が、基準角度θbに比べて小さい角度となっている。   As described above, the surface 36 of the adhesive 35 provided on the first side wall portion 321 has an angle θ2 with respect to the third main surface 101 at a portion continuous with the first side wall portion 321 that is smaller than the reference angle θb. It has become.

そして、このような接着剤35の表面36は、接続配線33の延設方向である第2の方向Yにおける全ての領域において、第3主面101との角度が、基準角度であるθbよりも小さい。すなわち、接着剤35の表面は、第2の方向Yにおいて第3主面101に対して傾斜して設けられており、接着剤35の表面36の全ての領域において、接線方向と第3主面101との傾斜角度は、基準角度θbよりも小さい。つまり、接着剤35の表面36は、第1側壁部321と連続する領域及び第3主面101と連続する領域の間で、凸形状、すなわち、接続配線33側に突出して設けられておらず、直線上又は凹形状に形成されている。なお、接着剤35の表面36が凹形状に形成されているとは、接続配線33の延設方向である第2の方向Yに沿って凹形状に形成されていることを言い、角度の異なる直線が複数設けられた多角形状であっても、また、凹曲面状であってもよい。本実施形態では、接着剤35の表面36は、凹曲面状に形成されている。   The surface 36 of the adhesive 35 has an angle with the third main surface 101 that is greater than the reference angle θb in all regions in the second direction Y that is the extending direction of the connection wiring 33. small. That is, the surface of the adhesive 35 is provided to be inclined with respect to the third main surface 101 in the second direction Y, and the tangential direction and the third main surface in all regions of the surface 36 of the adhesive 35. The inclination angle with respect to 101 is smaller than the reference angle θb. That is, the surface 36 of the adhesive 35 is not provided in a convex shape, that is, protruding to the connection wiring 33 side, between the region continuous with the first side wall portion 321 and the region continuous with the third main surface 101. It is formed in a straight line or a concave shape. Note that the surface 36 of the adhesive 35 being formed in a concave shape means that it is formed in a concave shape along the second direction Y, which is the extending direction of the connection wiring 33, and the angle is different. It may be a polygonal shape provided with a plurality of straight lines or a concave curved surface. In the present embodiment, the surface 36 of the adhesive 35 is formed in a concave curved surface shape.

なお、このような接着剤35としては、特に限定されないが、例えば、エポキシ系接着剤を用いることができる。   The adhesive 35 is not particularly limited, and for example, an epoxy adhesive can be used.

また、保護基板30、流路形成基板10及び接着剤35上には、接続配線33が連続して形成されている。ここで、接続配線33について、さらに図6を参照して詳細に説明する。なお、図6は、接続配線を示す平面図である。   Further, the connection wiring 33 is continuously formed on the protective substrate 30, the flow path forming substrate 10 and the adhesive 35. Here, the connection wiring 33 will be described in detail with reference to FIG. FIG. 6 is a plan view showing the connection wiring.

接続配線33は、第1主面301上から第1側壁部321上を介して第3主面101上、すなわちリード電極90の接続端子91上にまで延設されている。具体的には、接続配線33は、リード電極90毎に設けられており、第1主面301に設けられた第1接続配線331と、第3主面101側に設けられて、リード電極90上に形成された第2接続配線332と、第1側壁部321及び接着剤35上に跨がって形成されて第1接続配線331と第2接続配線332とを接続する傾斜面配線333と、を具備する。   The connection wiring 33 extends from the first main surface 301 to the third main surface 101, that is, to the connection terminal 91 of the lead electrode 90 via the first side wall portion 321. Specifically, the connection wiring 33 is provided for each lead electrode 90, and is provided on the first connection wiring 331 provided on the first main surface 301 and the third main surface 101 side. A second connection wiring 332 formed on the upper surface, and an inclined surface wiring 333 formed over the first side wall portion 321 and the adhesive 35 to connect the first connection wiring 331 and the second connection wiring 332; Are provided.

接続配線33は、リード電極90の接続端子91列毎に第1の方向Xに複数並設されている。本実施形態では、リード電極90の接続端子列91Aが第2の方向Yに2列設けられているため、接続配線33は、貫通孔32の第2の方向Yの両側に、接続端子列91Aに対応してそれぞれ設けられている。   A plurality of connection wirings 33 are arranged in parallel in the first direction X for each row of connection terminals 91 of the lead electrode 90. In the present embodiment, since two connection terminal rows 91A of the lead electrode 90 are provided in the second direction Y, the connection wiring 33 is connected to both sides of the through hole 32 in the second direction Y on the connection terminal row 91A. Are provided corresponding to each.

ここで、第1接続配線331は、貫通孔32の第2の方向Yの両側の第1主面301上に第1の方向Xに並設されて設けられている。また、第1接続配線331は、第2の方向Yに直線上に延設されている。このような第1接続配線331の第1主面301上の一端部が、半導体素子である駆動回路200に電気的に接続される第1配線端子334となっている。第1配線端子334を有する第1接続配線331は、リード電極90の隣り合う接続端子91の第2のピッチd2よりも狭い第1のピッチd1で第1の方向Xに沿って並設されている。言い換えると、接続端子91の第2のピッチd2は、第1配線端子334の第1のピッチd1よりも広い。   Here, the first connection wiring 331 is provided side by side in the first direction X on the first main surface 301 on both sides of the through hole 32 in the second direction Y. The first connection wiring 331 extends in a straight line in the second direction Y. One end portion of the first connection wiring 331 on the first main surface 301 is a first wiring terminal 334 that is electrically connected to the drive circuit 200 that is a semiconductor element. The first connection wirings 331 having the first wiring terminals 334 are juxtaposed along the first direction X at a first pitch d1 narrower than the second pitch d2 of the connection terminals 91 adjacent to each other in the lead electrode 90. Yes. In other words, the second pitch d2 of the connection terminals 91 is wider than the first pitch d1 of the first wiring terminals 334.

第2接続配線332は、リード電極90上に、すなわち、リード電極90の流路形成基板10とは反対側の面に設けられて、リード電極90の接続端子91と電気的に接続されている。すなわち、第2接続配線332は、第2の方向Yに直線上に延設されており、リード電極90の接続端子91と第3の方向Zで対向配置されている。このような第2接続配線332は、リード電極90と同じ第2のピッチd2で第1の方向Xに並設されている。この第2接続配線332が、リード電極90の接続端子91と電気的に接続される第2配線端子となっている。ちなみに、本実施形態では、第2配線端子である第2接続配線332が、特許請求の範囲に記載の配線端子に相当する。   The second connection wiring 332 is provided on the lead electrode 90, that is, on the surface of the lead electrode 90 opposite to the flow path forming substrate 10, and is electrically connected to the connection terminal 91 of the lead electrode 90. . In other words, the second connection wiring 332 extends linearly in the second direction Y, and is disposed opposite to the connection terminal 91 of the lead electrode 90 in the third direction Z. Such second connection wirings 332 are arranged in parallel in the first direction X at the same second pitch d2 as the lead electrodes 90. The second connection wiring 332 is a second wiring terminal that is electrically connected to the connection terminal 91 of the lead electrode 90. Incidentally, in this embodiment, the 2nd connection wiring 332 which is a 2nd wiring terminal is equivalent to the wiring terminal as described in a claim.

傾斜面配線333は、第1接続配線331と第2接続配線332とを繋ぐように形成されている。傾斜面配線333は、第2接続配線332側に設けられた直線部333aと、直線部333aに連続して第1接続配線331側に設けられた傾斜部333bと、を具備する。このような直線部333aは、第2の方向Yに沿った直線上に延設されている。また、傾斜部333bは直線部333aに対して傾斜した、すなわち、第2の方向Yに対して角度θで傾斜した方向に直線上に延設されている。ここで、直線部333aは、第2のピッチd2で形成されており、傾斜部333bの第1接続配線331側の端部は、第1のピッチd1で形成されている。本実施形態では、全ての傾斜面配線333の傾斜部333bは、同じ傾斜角度で形成されており、直線部333aの第2の方向Yの長さを調整することで、直線部333aの第1のピッチd1を傾斜部333bの第1接続配線331側の端部、すなわち第1配線端子334の第2のピッチd2にピッチ変換している。   The inclined surface wiring 333 is formed so as to connect the first connection wiring 331 and the second connection wiring 332. The inclined surface wiring 333 includes a linear portion 333a provided on the second connection wiring 332 side and an inclined portion 333b provided on the first connection wiring 331 side continuously to the linear portion 333a. Such a straight line portion 333 a is extended on a straight line along the second direction Y. In addition, the inclined portion 333b is inclined with respect to the straight portion 333a, that is, extends linearly in a direction inclined at an angle θ with respect to the second direction Y. Here, the straight line portion 333a is formed at the second pitch d2, and the end portion of the inclined portion 333b on the first connection wiring 331 side is formed at the first pitch d1. In the present embodiment, the inclined portions 333b of all the inclined surface wirings 333 are formed at the same inclination angle, and the first portion of the linear portion 333a is adjusted by adjusting the length of the linear portion 333a in the second direction Y. The pitch d1 is converted to the end of the inclined portion 333b on the first connection wiring 331 side, that is, the second pitch d2 of the first wiring terminal 334.

このような第1接続配線331、第2接続配線332及び傾斜面配線333からなる接続配線33は、第1側壁部321と第3主面101との境界部分の幅が、第1側壁部321上の接続配線33である傾斜面配線333の他の部分よりも幅広となるように形成されている。   In the connection wiring 33 including the first connection wiring 331, the second connection wiring 332, and the inclined surface wiring 333, the width of the boundary portion between the first side wall portion 321 and the third main surface 101 is the first side wall portion 321. It is formed to be wider than other portions of the inclined surface wiring 333 which is the upper connection wiring 33.

具体的には、第1接続配線331、第2接続配線332及び傾斜面配線333は、基本的には同じ幅w1で形成されている。そして、接続配線33の第1側壁部321と第3主面101との境界部分、すなわち、第2接続配線332と傾斜面配線333とが連続する部分の幅w2が、第1側壁部321上の他の部分の幅w1よりも幅広となった幅広部335となっている。   Specifically, the first connection wiring 331, the second connection wiring 332, and the inclined surface wiring 333 are basically formed with the same width w1. The width w2 of the boundary portion between the first side wall portion 321 and the third main surface 101 of the connection wiring 33, that is, the portion where the second connection wiring 332 and the inclined surface wiring 333 are continuous is above the first side wall portion 321. The wide portion 335 is wider than the width w1 of the other portion.

なお、ここで言う接続配線33の幅とは、第1接続配線331、直線部333a、第2接続配線332については、第1の方向Xの幅であり、傾斜部333bについては、第2の方向Yに対して角度θで傾斜した傾斜方向に対して直交する方向の幅のことである。すなわち、接続配線33の幅とは、接続配線33の延設方向に直交する方向の幅のことである。   The width of the connection wiring 33 referred to here is the width in the first direction X for the first connection wiring 331, the straight line portion 333a, and the second connection wiring 332, and the second width for the inclined portion 333b. It is the width in the direction orthogonal to the direction of inclination inclined at an angle θ with respect to the direction Y. That is, the width of the connection wiring 33 is a width in a direction orthogonal to the extending direction of the connection wiring 33.

また、幅広部335は、第1側壁部321上の直線部333aからリード電極90上の第2接続配線332に至るまで形成されている。すなわち、本実施形態では、第1側壁部321とリード電極90との境界には、それぞれの表面に連続する表面36を有する接着剤35が形成されているが、幅広部335は、第1側壁部321上から接着剤35の表面36上を介して、リード電極90上に至るまで形成されている。つまり、幅広部335は、第1側壁部321と接着剤35の表面36上との境界と、表面36とリード電極90との境界と、に跨がって形成されている。   The wide portion 335 is formed from the straight portion 333 a on the first side wall portion 321 to the second connection wiring 332 on the lead electrode 90. In other words, in the present embodiment, the adhesive 35 having the surface 36 continuous with each surface is formed at the boundary between the first side wall portion 321 and the lead electrode 90, but the wide portion 335 has the first side wall portion. It is formed from the part 321 to the lead electrode 90 through the surface 36 of the adhesive 35. That is, the wide portion 335 is formed across the boundary between the first side wall portion 321 and the surface 36 of the adhesive 35 and the boundary between the surface 36 and the lead electrode 90.

このような幅広部335は、本実施形態では、最も広がった部分が接着剤35の表面36となるように形成されている。具体的には、本実施形態の幅広部335は、直線部333aの接着剤35側から接着剤35上に向かって幅w1が幅w2となるように徐々に広がって設けられている。また、幅広部335は、第2接続配線332の接着剤35側から接着剤35上に向かって幅w1が幅w2となるように徐々に広がって設けられている。そして、接続配線33は、接着剤35の表面36上の全ての部分において、幅w2となるように形成されている。   In the present embodiment, such a wide portion 335 is formed so that the most widened portion becomes the surface 36 of the adhesive 35. Specifically, the wide portion 335 of the present embodiment is provided so as to gradually widen so that the width w1 becomes the width w2 from the adhesive 35 side of the linear portion 333a toward the adhesive 35. Further, the wide portion 335 is provided so as to gradually widen from the adhesive 35 side of the second connection wiring 332 toward the adhesive 35 so that the width w1 becomes the width w2. The connection wiring 33 is formed so as to have a width w <b> 2 in all portions on the surface 36 of the adhesive 35.

また、幅広部335の幅w2を規定する他の部分とは、第1側壁部321上の幅広部335以外の他の部分のことである。本実施形態の他の部分は、傾斜部333bのことである。具体的には、本実施形態では、第1側壁部321上の傾斜面配線333は、直線部333aと傾斜部333bとを有する。そして、直線部333aの第3主面101側の端部は、第2接続配線332と同じ第1のピッチd1で第1の方向Xに並設されている。これに対して、傾斜部333bの第1主面301側の端部は、第1接続配線331と同じ第2のピッチd2で形成されている。そして、上述のように、第1のピッチd1よりも第2のピッチd2の方が狭くピッチ変換を行っているので、傾斜部333bの隣り合う間隔s1は、直線部333aの幅広部335以外の部分の間隔s2よりも狭くなる。したがって、幅広部335は、他の部分である傾斜部333bの幅w1よりも広い幅w2で形成することができる。ちなみに、第1の方向Xで互いに隣り合う幅広部335の間隔s3は、傾斜部333bの間隔s1以上とするのが好ましい。すなわち、幅広部335の幅w2は、間隔s3が最大で傾斜部の間隔s1となるまで広げるのが好ましい。これにより、傾斜部333bは、隣り合う接続配線33同士がマイグレーション等で短絡し難いように間隔s1が設計されているため、隣り合う幅広部335の間隔s3を間隔s1以上とすることで、幅広部335においても直線部333aと同様に隣り合う接続配線33のマイグレーション等による短絡を抑制することができる。   Further, the other part that defines the width w <b> 2 of the wide part 335 is a part other than the wide part 335 on the first side wall part 321. The other part of this embodiment is the inclined part 333b. Specifically, in the present embodiment, the inclined surface wiring 333 on the first side wall portion 321 has a straight portion 333a and an inclined portion 333b. The end portion of the straight portion 333a on the third main surface 101 side is arranged in parallel in the first direction X at the same first pitch d1 as that of the second connection wiring 332. On the other hand, the end of the inclined portion 333b on the first main surface 301 side is formed with the same second pitch d2 as the first connection wiring 331. As described above, since the second pitch d2 is narrower than the first pitch d1, pitch conversion is performed, so that the adjacent interval s1 of the inclined portion 333b is other than the wide portion 335 of the linear portion 333a. It becomes narrower than the interval s2. Therefore, the wide portion 335 can be formed with a width w2 wider than the width w1 of the inclined portion 333b which is another portion. Incidentally, the interval s3 between the wide portions 335 adjacent to each other in the first direction X is preferably equal to or greater than the interval s1 between the inclined portions 333b. That is, the width w2 of the wide portion 335 is preferably widened until the interval s3 is the maximum interval s1 of the inclined portions. Thereby, since the interval s1 is designed so that the adjacent connection wirings 33 are not easily short-circuited by migration or the like, the inclined portion 333b is widened by setting the interval s3 of the adjacent wide portions 335 to be equal to or greater than the interval s1. Also in the part 335, the short circuit by the migration etc. of the adjacent connection wiring 33 can be suppressed similarly to the linear part 333a.

なお、傾斜部333bの間隔s1は、図6に示すように、隣り合う傾斜部333b同士が最も近接する位置での間隔であり、本実施形態では、傾斜部333bの第2の方向Yに対して角度θで傾斜した傾斜方向に対して直交する方向の間隔のことである。   As shown in FIG. 6, the interval s1 between the inclined portions 333b is an interval at a position where adjacent inclined portions 333b are closest to each other. In this embodiment, the interval s1 is relative to the second direction Y of the inclined portion 333b. It is the interval in the direction orthogonal to the inclination direction inclined at an angle θ.

もちろん、本実施形態において、幅広部335を規定する他の部分は、傾斜部333bに限定されず、第1側壁部321上に傾斜部333bが設けられておらず、直線部333aのみが設けられている場合には、直線部333aの第1主面301側の部分を他の部分とすればよい。   Of course, in this embodiment, the other part which defines the wide part 335 is not limited to the inclined part 333b, the inclined part 333b is not provided on the first side wall part 321 and only the straight part 333a is provided. In such a case, the portion on the first main surface 301 side of the linear portion 333a may be set as another portion.

このように、接続配線33の第1側壁部321と第3主面101との境界部分に第1側壁部321上の他の部分よりも幅の広い幅広部335を設けることで、保護基板30と流路形成基板10との境界部分の接続配線33の剛性を向上することができるため、保護基板30と流路形成基板10との境界部分に応力が集中した際に接続配線33が断線するのを抑制することができる。   In this way, by providing the wide portion 335 wider than the other portions on the first side wall portion 321 at the boundary portion between the first side wall portion 321 and the third main surface 101 of the connection wiring 33, the protective substrate 30. Since the rigidity of the connection wiring 33 at the boundary portion between the protective substrate 30 and the flow path forming substrate 10 can be improved, the connection wiring 33 is disconnected when stress is concentrated on the boundary portion between the protective substrate 30 and the flow path forming substrate 10. Can be suppressed.

また、本実施形態のように、接続配線33を第1側壁部321上に高密度に配置する場合、接続配線33同士が短絡しないようにその幅w1には制限があるが、接続配線33の保護基板30と流路形成基板10との境界部分のみに幅広部335を設けることで、接続配線33同士が短絡し難くすることができる。特に、本実施形態では、幅広部335が隣り合う間隔s3を、高密度に配置された傾斜部333bの隣り合う間隔s1以上とすることで、幅広部335を形成しても、接続配線33同士が短絡し難くすることができる。   Further, when the connection wirings 33 are arranged on the first side wall portion 321 at a high density as in this embodiment, the width w1 is limited so that the connection wirings 33 are not short-circuited. By providing the wide portion 335 only at the boundary portion between the protective substrate 30 and the flow path forming substrate 10, it is possible to make it difficult for the connection wirings 33 to be short-circuited. In particular, in the present embodiment, the interval s3 where the wide portions 335 are adjacent to each other is equal to or larger than the adjacent interval s1 of the inclined portions 333b arranged at a high density, so that even if the wide portions 335 are formed, the connection wirings 33 are connected to each other. Can be difficult to short circuit.

また、接着剤35に含まれる不純物や、製造時の異物等によって、接着剤35上で隣り合う接続配線33には、マイグレーションによる短絡が発生し易いが、本実施形態では、幅広部335が隣り合う間隔s3を、高密度に配置された傾斜部333bの隣り合う間隔s1以上とすることで、マイグレーション等の短絡の発生を抑制することができる。   Further, a short circuit due to migration is likely to occur in the adjacent connection wiring 33 on the adhesive 35 due to impurities contained in the adhesive 35, foreign matters at the time of manufacture, and the like, but in this embodiment, the wide portion 335 is adjacent. By setting the matching interval s3 to be equal to or greater than the adjacent interval s1 of the inclined portions 333b arranged at high density, occurrence of a short circuit such as migration can be suppressed.

また、本実施形態では、接続配線33は、接着剤35の表面36に亘って略同じ厚さで形成されている。すなわち、本実施形態の接着剤35の表面36の角度θ1、θ2が基準角度θbよりも小さく、また、表面36の全ての接線方向と第3主面101との角度が基準角度θbよりも小さく、さらに、表面36が凹曲面状に形成された、所謂スロープ状となっているため、第1側壁部321上から第3主面101上であるリード電極90上に亘って接続配線33を成膜により形成した際に、その厚さは、略同じ厚さで形成される。これにより、接続配線33の接着剤35上での断線等をさらに抑制することができる。また、接着剤35の表面36がスロープ状に形成されているため、第1側壁部321上、接着剤35の表面36上及び第3主面101上であるリード電極90に亘って、基準角度θb以上の角部が形成されていない。このため、第1側壁部321上、接着剤35の表面36上及びリード電極90上に亘って連続して設けられた接続配線33にも基準角度θb以上の角度となる角部が形成されていないことから、接着剤35が膨張した際に接続配線33の角部に応力が集中することによる破壊を抑制することができる。本実施形態では、特に接着剤35の表面36を凹曲面状に形成したため、接着剤35上の接続配線33も凹曲面状に形成されて、接続配線33の角部等への応力集中を効果的に抑制することができる。   Further, in the present embodiment, the connection wiring 33 is formed with substantially the same thickness over the surface 36 of the adhesive 35. That is, the angles θ1 and θ2 of the surface 36 of the adhesive 35 of the present embodiment are smaller than the reference angle θb, and the angles between all tangential directions of the surface 36 and the third main surface 101 are smaller than the reference angle θb. Further, since the surface 36 has a so-called slope shape formed in a concave curved surface shape, the connection wiring 33 is formed from the first side wall portion 321 to the lead electrode 90 on the third main surface 101. When formed by a film, the thickness is formed with substantially the same thickness. Thereby, disconnection etc. on the adhesive 35 of the connection wiring 33 can be further suppressed. Further, since the surface 36 of the adhesive 35 is formed in a slope shape, the reference angle extends over the lead electrode 90 on the first side wall portion 321, the surface 36 of the adhesive 35, and the third main surface 101. No corners greater than θb are formed. Therefore, the connection wiring 33 provided continuously over the first side wall portion 321, the surface 36 of the adhesive 35, and the lead electrode 90 is also formed with a corner portion having an angle of the reference angle θb or more. Therefore, when the adhesive 35 expands, it is possible to suppress breakage due to stress concentration at the corners of the connection wiring 33. In the present embodiment, since the surface 36 of the adhesive 35 is formed in a concave curved surface, the connection wiring 33 on the adhesive 35 is also formed in a concave curved surface, and the stress concentration on the corners of the connection wiring 33 is effective. Can be suppressed.

また、本実施形態では、流路形成基板10と保護基板30とを接着する接着剤35をはみ出させてスロープ状に形成したため、接着剤35以外の充填剤等を用いる場合に比べて、製造工程を簡略化してコストを低減することができる。   Further, in the present embodiment, the adhesive 35 that bonds the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 is protruded and formed in a slope shape, so that the manufacturing process is compared with the case where a filler other than the adhesive 35 is used. Can be simplified to reduce the cost.

なお、このような接続配線33は、圧電アクチュエーター300及びリード電極90等が形成された流路形成基板10と、貫通孔32が形成された保護基板30とを接着剤35によって接着した後、接続配線33を成膜及びリソグラフィー法によって形成することができる。ちなみに、接続配線33の成膜は、スパッタリング法、蒸着法、めっき法等の何れであってもよい。また、保護基板30には、流路形成基板10と接着する前に接続配線33の一部を予め形成しておき、流路形成基板10と保護基板30とを接合した後、リード電極90上と接着剤35上とに亘って接続配線33の一部を成膜してリード電極90と接続配線33とを電気的に接続するようにしてもよい。何れの製造方法であっても、幅広部335は、容易に形成することができる。   The connection wiring 33 is formed by bonding the flow path forming substrate 10 on which the piezoelectric actuator 300, the lead electrode 90, and the like are formed and the protective substrate 30 on which the through hole 32 is formed, with an adhesive 35, and then connecting the connection wiring 33. The wiring 33 can be formed by film formation and lithography. Incidentally, the connection wiring 33 may be formed by any of sputtering, vapor deposition, plating, and the like. In addition, a part of the connection wiring 33 is formed in advance on the protective substrate 30 before bonding to the flow path forming substrate 10, and after the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 are bonded, A part of the connection wiring 33 may be formed over the adhesive 35 and the lead electrode 90 and the connection wiring 33 may be electrically connected. Regardless of the manufacturing method, the wide portion 335 can be easily formed.

また、接続配線33は、複数層を積層して形成してもよい。例えば、流路形成基板10及び保護基板30側に設けた密着層と、密着層の流路形成基板10及び保護基板30とは反対面側に設けられた導電層とを積層してもよい。ここで、密着層としては、例えば、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、ニッケルクロム(NiCr)、パラジウム(Pd)、チタン(Ti)、タングステン(W)、チタンタングステン(TiW)等が挙げられる。また、導電層としては、例えば、金(Au)や銅(Cu)等が挙げられる。もちろん、密着層及び導電層の間に他の層を介在させてもよく、また、上述した材料が混在する1つの層として形成してもよい。   The connection wiring 33 may be formed by stacking a plurality of layers. For example, a close contact layer provided on the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 side and a conductive layer provided on the opposite side of the close contact layer from the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 may be laminated. Here, examples of the adhesion layer include nickel (Ni), chromium (Cr), nickel chromium (NiCr), palladium (Pd), titanium (Ti), tungsten (W), titanium tungsten (TiW), and the like. . Examples of the conductive layer include gold (Au) and copper (Cu). Of course, another layer may be interposed between the adhesion layer and the conductive layer, or may be formed as one layer in which the above-described materials are mixed.

このような保護基板30の第1主面301には、本実施形態の半導体素子である駆動回路200が実装されている。駆動回路200は、保護基板30の第1主面301に、少なくとも貫通孔32の一部を覆って塞ぐように配置されている。すなわち、駆動回路200は、第3の方向Zにおいて貫通孔32に相対向する位置に設けられている。このような駆動回路200は、第2の方向Yの幅が貫通孔32の第1主面301の開口幅よりも大きく、貫通孔32を第2の方向Yに跨がって配置されている。また、本実施形態では、駆動回路200は、第1の方向Xの長さが貫通孔32の第1主面301の開口長さよりも短い。そして、駆動回路200は、第1の方向Xの両側に貫通孔32の一部が露出するように、貫通孔32の略中央に配置されている。   On the first main surface 301 of the protective substrate 30, the drive circuit 200 that is a semiconductor element of this embodiment is mounted. The drive circuit 200 is disposed on the first main surface 301 of the protective substrate 30 so as to cover and close at least a part of the through hole 32. That is, the drive circuit 200 is provided at a position facing the through hole 32 in the third direction Z. In such a drive circuit 200, the width in the second direction Y is larger than the opening width of the first main surface 301 of the through-hole 32, and the through-hole 32 is disposed across the second direction Y. . In the present embodiment, in the drive circuit 200, the length in the first direction X is shorter than the opening length of the first main surface 301 of the through hole 32. And the drive circuit 200 is arrange | positioned in the approximate center of the through-hole 32 so that a part of through-hole 32 may be exposed to the both sides of the 1st direction X. As shown in FIG.

この駆動回路200には、接続配線33の第1配線端子334に電気的に接続される端子201が設けられている。端子201は、駆動回路200の保護基板30側の面に設けられている。そして、端子201は、駆動回路200の第2の方向Yの両側に、第1の方向Xに並設されている。これにより、駆動回路200の端子201と第1配線端子334とは第3の方向Zにおいて相対向して接続されている。なお、駆動回路200の端子201には、金属バンプである接続部211が備えられており、接続部211と第1配線端子334との接続は、半田接続などの溶接、異方性導電性接着剤(ACP、ACF)、非導電性接着剤(NCP、NCF)を介在させて圧着することで確実に電気的な接続が図られる。   The drive circuit 200 is provided with a terminal 201 that is electrically connected to the first wiring terminal 334 of the connection wiring 33. The terminal 201 is provided on the surface of the drive circuit 200 on the protective substrate 30 side. The terminals 201 are arranged in parallel in the first direction X on both sides of the drive circuit 200 in the second direction Y. Accordingly, the terminal 201 of the drive circuit 200 and the first wiring terminal 334 are connected to face each other in the third direction Z. The terminal 201 of the drive circuit 200 is provided with a connection portion 211 that is a metal bump, and the connection between the connection portion 211 and the first wiring terminal 334 is performed by welding such as solder connection or anisotropic conductive adhesion. Electrical connection is reliably achieved by pressure bonding with an agent (ACP, ACF) and a non-conductive adhesive (NCP, NCF) interposed.

このように、本実施形態では、駆動回路200が、貫通孔32を第2の方向Yに跨がって配置されているため、保護基板30の第1主面301において、駆動回路200を配置するスペースをできる限り抑えることができる。これによりインクジェット式記録ヘッド1の小型化を図ることができる。   Thus, in this embodiment, since the drive circuit 200 is disposed across the through hole 32 in the second direction Y, the drive circuit 200 is disposed on the first main surface 301 of the protective substrate 30. Space can be reduced as much as possible. Thereby, the size of the ink jet recording head 1 can be reduced.

特に、本実施形態では、接続配線33によってピッチ変換を行っているため、駆動回路200を小型化することができる。したがって、保護基板30上の駆動回路200を配置するスペースをさらに減少させることができ、インクジェット式記録ヘッド1のさらなる小型化を図ることができる。   In particular, in this embodiment, since the pitch conversion is performed by the connection wiring 33, the drive circuit 200 can be reduced in size. Therefore, the space for disposing the drive circuit 200 on the protective substrate 30 can be further reduced, and the ink jet recording head 1 can be further downsized.

また、駆動回路200は、貫通孔32を第2の方向Yに跨がって設けられているため、貫通孔32によって剛性が低下した保護基板30を駆動回路200によって補強することができる。   Further, since the drive circuit 200 is provided across the through hole 32 in the second direction Y, the protection substrate 30 whose rigidity has been reduced by the through hole 32 can be reinforced by the drive circuit 200.

さらに、駆動回路200は、第1の方向Xにおいて、貫通孔32よりも短いため、第1の方向Xにおいて、駆動回路200の両側で貫通孔32が外部と連通して貫通孔32内の放熱を行うことができる。したがって、駆動回路200や接続配線33からの発熱が貫通孔32内にこもるのを抑制することができる。   Furthermore, since the drive circuit 200 is shorter than the through hole 32 in the first direction X, the through hole 32 communicates with the outside on both sides of the drive circuit 200 in the first direction X, and heat is dissipated in the through hole 32. It can be performed. Therefore, it is possible to suppress the heat generated from the drive circuit 200 and the connection wiring 33 from being accumulated in the through hole 32.

なお、このような流路形成基板10、保護基板30、連通板15及びノズルプレート20の接合体には、複数の圧力発生室12に連通するマニホールド100を形成するケース部材40が固定されている。ケース部材40は、平面視において上述した連通板15と略同一形状を有し、保護基板30に接合されると共に、上述した連通板15にも接合されている。具体的には、ケース部材40は、保護基板30側に流路形成基板10及び保護基板30が収容される深さの凹部41を有する。この凹部41は、保護基板30の流路形成基板10に接合された面よりも広い開口面積を有する。そして、凹部41に流路形成基板10等が収容された状態で凹部41のノズルプレート20側の開口面が連通板15によって封止されている。これにより、流路形成基板10及び保護基板30とケース部材40との間には第3マニホールド部42が画成されている。そして、連通板15に設けられた第1マニホールド部17及び第2マニホールド部18と、ケース部材40によって画成された第3マニホールド部42と、によって本実施形態のマニホールド100が構成されている。   A case member 40 that forms a manifold 100 communicating with the plurality of pressure generating chambers 12 is fixed to the joined body of the flow path forming substrate 10, the protective substrate 30, the communication plate 15, and the nozzle plate 20. . The case member 40 has substantially the same shape as the communication plate 15 described above in a plan view, and is bonded to the protective substrate 30 and is also bonded to the communication plate 15 described above. Specifically, the case member 40 has a recess 41 having a depth in which the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 are accommodated on the protective substrate 30 side. The concave portion 41 has an opening area larger than the surface of the protective substrate 30 bonded to the flow path forming substrate 10. The opening surface on the nozzle plate 20 side of the recess 41 is sealed by the communication plate 15 in a state where the flow path forming substrate 10 and the like are accommodated in the recess 41. As a result, a third manifold portion 42 is defined between the flow path forming substrate 10 and the protective substrate 30 and the case member 40. The first manifold portion 17 and the second manifold portion 18 provided on the communication plate 15 and the third manifold portion 42 defined by the case member 40 constitute the manifold 100 of the present embodiment.

なお、ケース部材40の材料としては、例えば、樹脂や金属等を用いることができる。ちなみに、ケース部材40として、樹脂材料を成形することにより、低コストで量産することができる。   In addition, as a material of case member 40, resin, a metal, etc. can be used, for example. Incidentally, the case member 40 can be mass-produced at low cost by molding a resin material.

また、連通板15の第1マニホールド部17及び第2マニホールド部18が開口する面には、コンプライアンス基板45が設けられている。このコンプライアンス基板45が、第1マニホールド部17と第2マニホールド部18の液体噴射面20a側の開口を封止している。このようなコンプライアンス基板45は、本実施形態では、封止膜46と、固定基板47と、を具備する。封止膜46は、可撓性を有する薄膜(例えば、ポリフェニレンサルファイド(PPS)やステンレス鋼(SUS)等により形成された厚さが20μm以下の薄膜)からなり、固定基板47は、ステンレス鋼(SUS)等の金属等の硬質の材料で形成される。この固定基板47のマニホールド100に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部48となっているため、マニホールド100の一方面は可撓性を有する封止膜46のみで封止された可撓部であるコンプライアンス部49となっている。   A compliance substrate 45 is provided on the surface of the communication plate 15 where the first manifold portion 17 and the second manifold portion 18 open. The compliance substrate 45 seals the openings of the first manifold portion 17 and the second manifold portion 18 on the liquid ejection surface 20a side. In this embodiment, the compliance substrate 45 includes a sealing film 46 and a fixed substrate 47. The sealing film 46 is made of a flexible thin film (for example, a thin film having a thickness of 20 μm or less formed of polyphenylene sulfide (PPS) or stainless steel (SUS)), and the fixed substrate 47 is made of stainless steel ( It is formed of a hard material such as a metal such as SUS. Since the region of the fixed substrate 47 facing the manifold 100 is an opening 48 that is completely removed in the thickness direction, one surface of the manifold 100 is sealed only with a flexible sealing film 46. The compliance portion 49 is a flexible portion.

なお、ケース部材40には、マニホールド100に連通して各マニホールド100にインクを供給するための導入路44が設けられている。また、ケース部材40には、保護基板30の第1主面301を露出させて駆動回路200を内部に収容する接続口43が設けられている。駆動回路200を駆動させる信号及び電源の外部からの供給は、可撓性基板等を接続口43内に挿入して実装し、接続口43内で駆動回路200と電気的に接続する、又は保護基板30上に形成された図示しない配線等を介して接続される。   The case member 40 is provided with an introduction path 44 that communicates with the manifold 100 and supplies ink to each manifold 100. The case member 40 is provided with a connection port 43 that exposes the first main surface 301 of the protective substrate 30 and accommodates the drive circuit 200 therein. A signal for driving the drive circuit 200 and supply of power from the outside are mounted by inserting a flexible board or the like into the connection port 43 and electrically connected to the drive circuit 200 in the connection port 43 or protection. The connection is made through a wiring or the like (not shown) formed on the substrate 30.

このような構成のインクジェット式記録ヘッド1では、インクを噴射する際に、インクが貯留された液体貯留手段から導入路44を介してインクを取り込み、マニホールド100からノズル開口21に至るまで流路内部をインクで満たす。その後、駆動回路200からの信号に従い、圧力発生室12に対応する各圧電アクチュエーター300に電圧を印加することにより、圧電アクチュエーター300と共に振動板50をたわみ変形させる。これにより、圧力発生室12内の圧力が高まり所定のノズル開口21からインク滴が噴射される。   In the ink jet recording head 1 having such a configuration, when ink is ejected, the ink is taken in from the liquid storage means in which the ink is stored through the introduction path 44, and the inside of the flow path extends from the manifold 100 to the nozzle opening 21. Fill with ink. Thereafter, in accordance with a signal from the drive circuit 200, a voltage is applied to each piezoelectric actuator 300 corresponding to the pressure generating chamber 12, so that the diaphragm 50 is bent together with the piezoelectric actuator 300. As a result, the pressure in the pressure generating chamber 12 is increased and ink droplets are ejected from the predetermined nozzle openings 21.

(実施形態2)
図7は、本発明の実施形態1に係る接続配線の拡大図である。なお、上述した実施形態1と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 7 is an enlarged view of the connection wiring according to the first embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member similar to Embodiment 1 mentioned above, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図7に示すように、接続配線33は、第1接続配線331と、第2接続配線332と、傾斜面配線333と、を具備する。   As shown in FIG. 7, the connection wiring 33 includes a first connection wiring 331, a second connection wiring 332, and an inclined surface wiring 333.

そして、幅広部335は、第1側壁部321上から第2接続配線332の端部に至るまで設けられている。   The wide portion 335 is provided from the first side wall portion 321 to the end of the second connection wiring 332.

このような構成であっても、第2接続配線332は、第2のピッチd2よりも広い第1のピッチd1で形成されているため、互いに隣り合う第2接続配線332同士が短絡するのを抑制することができる。   Even in such a configuration, since the second connection wiring 332 is formed with the first pitch d1 wider than the second pitch d2, the second connection wirings 332 adjacent to each other are short-circuited. Can be suppressed.

(他の実施形態)
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明の基本的な構成は上述したものに限定されるものではない。
(Other embodiments)
As mentioned above, although each embodiment of this invention was described, the fundamental structure of this invention is not limited to what was mentioned above.

例えば、上述した各実施形態では、接続配線33は、第1側壁部321上に形成された傾斜面配線333として、直線部333aと傾斜部333bとを具備する構成を例示したが、特にこれに限定されず、例えば、傾斜面配線333が直線部333aだけで構成されていてもよい。このような例を図8に示す。なお、図8は、他の実施形態に係る接続配線の拡大図である。   For example, in each of the above-described embodiments, the connection wiring 33 is exemplified by the configuration including the linear portion 333a and the inclined portion 333b as the inclined surface wiring 333 formed on the first side wall portion 321. Without being limited thereto, for example, the inclined surface wiring 333 may be configured by only the straight portion 333a. Such an example is shown in FIG. FIG. 8 is an enlarged view of a connection wiring according to another embodiment.

図8に示すように、接続配線33は、第1接続配線331と、第2接続配線332と、傾斜面配線333と、を具備する。   As shown in FIG. 8, the connection wiring 33 includes a first connection wiring 331, a second connection wiring 332, and an inclined surface wiring 333.

第1接続配線331は、第2の方向Yに対して傾斜して設けられている。また、傾斜面配線333は、直線部333aのみで形成されている。このような接続配線33であっても、第1側壁部321と第3主面101との境界部分に他の部分よりも幅が広い幅広部335を設けることで、接続配線33の破壊を抑制することができる。なお、図8に示す例では、幅広部335を規定する他の部分は、直線部333aの第1主面301側の部分のことである。   The first connection wiring 331 is provided to be inclined with respect to the second direction Y. Further, the inclined surface wiring 333 is formed only by the straight portion 333a. Even in such a connection wiring 33, destruction of the connection wiring 33 is suppressed by providing a wide portion 335 having a width wider than other portions at a boundary portion between the first side wall portion 321 and the third main surface 101. can do. In the example shown in FIG. 8, the other part that defines the wide part 335 is a part on the first main surface 301 side of the straight part 333a.

また、上述した各実施形態では、直線部333aを第3主面101側に設けるようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、傾斜部333bを第3主面101側に設けるようにしてもよい。この場合には、傾斜部333bに幅広部335を設ければよい。   In each of the above-described embodiments, the straight portion 333a is provided on the third main surface 101 side. However, the present invention is not particularly limited thereto. For example, the inclined portion 333b is provided on the third main surface 101 side. Also good. In this case, the wide portion 335 may be provided on the inclined portion 333b.

また、上述した各実施形態では、接着剤35を第1側壁部321上及びリード電極90上に連続する表面36を有する形状で形成したが、特にこれに限定されるものではない。ここで、接着剤の変形例を図9に示す。なお、図9は、他の実施形態に係るインクジェット式記録ヘッドの要部を拡大した断面図である。   Further, in each of the above-described embodiments, the adhesive 35 is formed in a shape having the surface 36 continuous on the first side wall portion 321 and the lead electrode 90, but is not particularly limited thereto. Here, a modification of the adhesive is shown in FIG. FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of a main part of an ink jet recording head according to another embodiment.

図9に示すように、接着剤35は、第2主面302と第3主面101との間だけに形成されており、第3主面101の貫通孔32内に突出して設けられていない。このような構成であっても、上述した実施形態1及び2と同様に、幅広部335を形成することで、接続配線33の断線を抑制することができる。   As shown in FIG. 9, the adhesive 35 is formed only between the second main surface 302 and the third main surface 101, and is not provided to protrude into the through hole 32 of the third main surface 101. . Even with such a configuration, disconnection of the connection wiring 33 can be suppressed by forming the wide portion 335 as in the first and second embodiments.

さらに、上述した各実施形態では、接続配線33の厚さを略同じ厚さで形成するようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、幅広部335の厚さを他の部分に比べて厚くしてもよい。これにより、幅広部335の剛性をさらに向上して幅広部335の破壊や断線を抑制することができる。   Further, in each of the above-described embodiments, the connection wiring 33 is formed with substantially the same thickness. However, the present invention is not particularly limited to this, and for example, the thickness of the wide portion 335 is compared with other portions. It may be thicker. Thereby, the rigidity of the wide part 335 can further be improved and the destruction and disconnection of the wide part 335 can be suppressed.

また、上述した各実施形態では、駆動回路200を保護基板30上に貫通孔32を跨いで実装するようにしたが、特にこれに限定されず、駆動回路200を保護基板30の貫通孔32の第2の方向Yの両側の何れか一方又は両側に実装するようにしてもよい。また、駆動回路200が実装されたフレキシブル基板やリジット基板等を保護基板30に実装するようにしてもよい。また、上述した各実施形態では、接続配線33として、第1接続配線331、第2接続配線332及び傾斜面配線333を形成したが、特にこれに限定されず、接続配線33は、少なくとも第2接続配線332及び傾斜面配線333を有するものであればよい。つまり、例えば、傾斜面配線333に駆動回路200等の実装部品が接続されていてもよい。   Further, in each of the above-described embodiments, the drive circuit 200 is mounted on the protective substrate 30 across the through hole 32. However, the present invention is not particularly limited thereto, and the drive circuit 200 is mounted on the through hole 32 of the protective substrate 30. You may make it mount in any one or both sides of the 2nd direction Y. Further, a flexible substrate, a rigid substrate, or the like on which the drive circuit 200 is mounted may be mounted on the protective substrate 30. In each of the above-described embodiments, the first connection wiring 331, the second connection wiring 332, and the inclined surface wiring 333 are formed as the connection wiring 33. However, the present invention is not particularly limited thereto, and the connection wiring 33 includes at least the second connection wiring 33. What is necessary is just to have the connection wiring 332 and the inclined surface wiring 333. That is, for example, a mounting component such as the drive circuit 200 may be connected to the inclined surface wiring 333.

また、例えば、上述した各実施形態では、保護基板30に貫通孔32を設け、貫通孔32内に斜面である第1側壁部321を設けるようにしたが、特にこれに限定されず、1つの流路形成基板10に対して、2つの保護基板30を離して設け、2つの保護基板30の相対向する端面を斜面としてもよい。   Further, for example, in each of the above-described embodiments, the through hole 32 is provided in the protective substrate 30, and the first side wall portion 321 that is a slope is provided in the through hole 32. The two protective substrates 30 may be provided separately from the flow path forming substrate 10 and the opposing end surfaces of the two protective substrates 30 may be inclined surfaces.

さらに、上述した各実施形態では、圧力発生室12に圧力変化を生じさせる圧力発生手段として、薄膜型の圧電アクチュエーター300を用いて説明したが、特にこれに限定されず、例えば、グリーンシートを貼付する等の方法により形成される厚膜型の圧電アクチュエーターや、圧電材料と電極形成材料とを交互に積層させて軸方向に伸縮させる縦振動型の圧電アクチュエーターなどを使用することができる。また、圧力発生手段として、圧力発生室内に発熱素子を配置して、発熱素子の発熱で発生するバブルによってノズル開口から液滴を吐出するものや、振動板と電極との間に静電気を発生させて、静電気力によって振動板を変形させてノズル開口から液滴を吐出させるいわゆる静電式アクチュエーターなどを使用することができる。   Further, in each of the embodiments described above, the thin film piezoelectric actuator 300 has been described as the pressure generating means for causing a pressure change in the pressure generating chamber 12, but the present invention is not particularly limited thereto. For example, a green sheet is attached. It is possible to use a thick film type piezoelectric actuator formed by such a method, a longitudinal vibration type piezoelectric actuator in which piezoelectric materials and electrode forming materials are alternately stacked and expanded and contracted in the axial direction. Also, as a pressure generating means, a heating element is arranged in the pressure generating chamber, and droplets are discharged from the nozzle opening by bubbles generated by the heat generated by the heating element, or static electricity is generated between the diaphragm and the electrode. Thus, a so-called electrostatic actuator that discharges liquid droplets from the nozzle openings by deforming the diaphragm by electrostatic force can be used.

また、これら各実施形態のインクジェット式記録ヘッド1は、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備するインクジェット式記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図10は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。   In addition, the ink jet recording head 1 of each of the embodiments constitutes a part of an ink jet recording head unit including an ink flow path communicating with an ink cartridge and the like, and is mounted on the ink jet recording apparatus. FIG. 10 is a schematic view showing an example of the ink jet recording apparatus.

図10に示すインクジェット式記録装置Iにおいて、インクジェット式記録ヘッド1は、液体貯留手段であるインクカートリッジ2が着脱可能に設けられ、インクジェット式記録ヘッド1を搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付けられたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられている。   In the ink jet recording apparatus I shown in FIG. 10, the ink jet recording head 1 is provided with an ink cartridge 2 that is a liquid storage means in a detachable manner, and the carriage 3 on which the ink jet recording head 1 is mounted is attached to the apparatus main body 4. The carriage shaft 5 is provided so as to be movable in the axial direction.

そして、駆動モーター6の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリッジ3に伝達されることで、インクジェット式記録ヘッド1を搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿って移動される。一方、装置本体4には搬送手段としての搬送ローラー8が設けられており、紙等の記録媒体である記録シートSが搬送ローラー8により搬送されるようになっている。なお、記録シートSを搬送する搬送手段は、搬送ローラーに限られずベルトやドラム等であってもよい。   Then, the driving force of the driving motor 6 is transmitted to the carriage 3 via a plurality of gears and a timing belt 7 (not shown), so that the carriage 3 on which the ink jet recording head 1 is mounted is moved along the carriage shaft 5. . On the other hand, the apparatus main body 4 is provided with a conveyance roller 8 as a conveyance means, and a recording sheet S which is a recording medium such as paper is conveyed by the conveyance roller 8. Note that the conveyance means for conveying the recording sheet S is not limited to the conveyance roller, and may be a belt, a drum, or the like.

なお、上述したインクジェット式記録装置Iでは、インクジェット式記録ヘッド1がキャリッジ3に搭載されて主走査方向に移動するものを例示したが、特にこれに限定されず、例えば、インクジェット式記録ヘッド1が固定されて、紙等の記録シートSを副走査方向に移動させるだけで印刷を行う、所謂ライン式記録装置にも本発明を適用することができる。   In the ink jet recording apparatus I described above, the ink jet recording head 1 is mounted on the carriage 3 and moved in the main scanning direction. However, the present invention is not particularly limited thereto. The present invention can also be applied to a so-called line type recording apparatus in which printing is performed simply by moving a recording sheet S such as paper in the sub-scanning direction.

また、上述した例では、インクジェット式記録装置Iは、液体貯留手段であるインクカートリッジ2がキャリッジ3に搭載された構成であるが、特にこれに限定されず、例えば、インクタンク等の液体貯留手段を装置本体4に固定して、貯留手段とインクジェット式記録ヘッド1とをチューブ等の供給管を介して接続してもよい。また、液体貯留手段がインクジェット式記録装置に搭載されていなくてもよい。   In the above-described example, the ink jet recording apparatus I has a configuration in which the ink cartridge 2 that is a liquid storage unit is mounted on the carriage 3, but is not particularly limited thereto, for example, a liquid storage unit such as an ink tank. May be fixed to the apparatus main body 4 and the storage means and the ink jet recording head 1 may be connected via a supply pipe such as a tube. Further, the liquid storage means may not be mounted on the ink jet recording apparatus.

さらに、本発明は、広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、例えば、プリンター等の画像記録装置に用いられる各種のインクジェット式記録ヘッド等の記録ヘッド、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ELディスプレイ、FED(電界放出ディスプレイ)等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオchip製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等にも適用することができる。   Furthermore, the present invention is intended for a wide range of liquid jet heads in general, for example, for manufacturing recording heads such as various ink jet recording heads used in image recording apparatuses such as printers, and color filters such as liquid crystal displays. The present invention can also be applied to a coloring material ejecting head, an organic EL display, an electrode material ejecting head used for forming electrodes such as an FED (field emission display), a bioorganic matter ejecting head used for biochip manufacturing, and the like.

また、本発明は、広く配線実装構造及びその製造方法全般を対称としたものであり、液体噴射ヘッド以外の他のデバイスに適用することができる。   In addition, the present invention broadly symmetrizes the wiring mounting structure and the overall manufacturing method thereof, and can be applied to devices other than the liquid jet head.

I インクジェット式記録装置(液体噴射装置)、 1 インクジェット式記録ヘッド(液体噴射ヘッド)、 10 流路形成基板(第2基体)、 101 第3主面、 15 連通板、 20 ノズルプレート、 20a 液体噴射面、 21 ノズル開口、 30 保護基板(第1基体)、 301 第1主面、 302 第2主面、 31 保持部、 32 貫通孔、 321 第1側壁部(斜面)、 322 第2側壁部、 33 接続配線、 331 第1接続配線、 332 第2接続配線(第2配線端子;配線端子)、 333 傾斜面配線、 333a 直線部、 333b傾斜部、 334 第1配線端子、 335 幅広部、 35 接着剤、 36 表面、 40 ケース部材、 45 コンプライアンス基板、 50 振動板、 60 第1電極、 70 圧電体層、 80 第2電極、 90 リード電極、 91 接続端子、 91A 接続端子列、 100 マニホールド、 200 駆動回路(半導体素子)、 201 端子、 211 接続部材、 300 圧電アクチュエーター   I ink jet recording apparatus (liquid ejecting apparatus), 1 ink jet recording head (liquid ejecting head), 10 flow path forming substrate (second base), 101 third main surface, 15 communication plate, 20 nozzle plate, 20a liquid ejecting Surface, 21 nozzle opening, 30 protective substrate (first base), 301 first main surface, 302 second main surface, 31 holding portion, 32 through hole, 321 first side wall (slope), 322 second side wall, 33 connection wiring, 331 first connection wiring, 332 second connection wiring (second wiring terminal; wiring terminal), 333 inclined surface wiring, 333a linear portion, 333b inclined portion, 334 first wiring terminal, 335 wide portion, 35 bonding Agent, 36 surface, 40 case member, 45 compliance substrate, 50 diaphragm, 60 first electrode, 70 Collector layer, 80 a second electrode, 90 lead electrodes, 91 connecting terminal, 91A connection terminal row, 100 manifolds, 200 drive circuit (semiconductor device), 201 terminal, 211 connecting member, 300 piezoelectric actuator

Claims (8)

第1主面と、前記第1主面と反対の裏面とされる第2主面と、前記第1主面と前記第2主面との間に形成された斜面と、を有する第1基体と、
前記第1基体の前記第2主面と接合される第3主面と、前記第3主面上に形成された接続端子と、を有する第2基体と、
前記第1基体の前記第1主面上と、前記第1基体の前記斜面上と、前記第3主面の前記接続端子上とに連続して形成された接続配線と、
を備え、
前記接続配線の少なくとも前記斜面と前記第3主面との境界部分の幅は、前記接続配線の前記斜面上の他の部分の幅よりも広いことを特徴とする配線実装構造。
A first base body having a first main surface, a second main surface which is a back surface opposite to the first main surface, and an inclined surface formed between the first main surface and the second main surface. When,
A second base having a third main surface joined to the second main surface of the first base, and a connection terminal formed on the third main surface;
Connection wiring continuously formed on the first main surface of the first base, on the slope of the first base, and on the connection terminal of the third main surface;
With
A wiring mounting structure, wherein a width of at least a boundary portion between the slope and the third main surface of the connection wiring is wider than a width of another portion on the slope of the connection wiring.
前記斜面上において、前記接続配線の前記第3主面側の端部が第1のピッチで第1の方向に並設されていると共に、前記第1主面側の端部が前記第1のピッチよりも狭い第2のピッチで前記第1の方向に並設されており、
前記他の部分が、前記接続配線の前記第1主面側の前記第2のピッチで形成された部分であることを特徴とする請求項1記載の配線実装構造。
On the slope, the end on the third main surface side of the connection wiring is juxtaposed in the first direction at a first pitch, and the end on the first main surface side is the first end. Juxtaposed in the first direction at a second pitch narrower than the pitch;
2. The wiring mounting structure according to claim 1, wherein the other portion is a portion formed at the second pitch on the first main surface side of the connection wiring.
前記斜面上の前記接続配線において、前記第2のピッチで形成された部分は、前記第1の方向に直交する方向に対して傾斜して設けられた傾斜部の端部であり、
前記他の部分が、前記傾斜部であることを特徴とする請求項2記載の配線実装構造。
In the connection wiring on the slope, the portion formed at the second pitch is an end of an inclined portion provided to be inclined with respect to a direction orthogonal to the first direction,
The wiring mounting structure according to claim 2, wherein the other portion is the inclined portion.
前記境界部分において幅が広く形成された当該接続配線が互いに隣り合う間隔は、前記他の部分で当該接続配線が互いに隣り合う間隔以上となっていることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の配線実装構造。   The interval between the connection wirings formed wide in the boundary portion is not less than the interval between the connection wires adjacent to each other in the other portion. The wiring mounting structure according to claim 1. 前記第1基体と前記第2基体とは、接着剤を介して接合されており、
前記接着剤は、前記斜面と前記第1基体に覆われていない第3主面との境界に表面が露出されて設けられており、
前記接続配線が、前記斜面と、前記接着剤の前記表面と、前記第3主面とに連続して形成されており、
前記接着剤の前記表面上に形成された前記接続配線の幅が最も広いことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の配線実装構造。
The first base and the second base are joined via an adhesive,
The adhesive is provided such that the surface is exposed at the boundary between the slope and the third main surface not covered by the first base,
The connection wiring is continuously formed on the slope, the surface of the adhesive, and the third main surface;
The wiring mounting structure according to claim 1, wherein a width of the connection wiring formed on the surface of the adhesive is the widest.
前記接続配線の幅を広げた部分は、前記他の部分よりも配線の厚さが厚いことを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の配線実装構造。   The wiring mounting structure according to any one of claims 1 to 5, wherein a portion where the width of the connection wiring is widened is thicker than the other portion. 第1主面と、前記第1主面と反対の裏面とされる第2主面と、前記第1主面と前記第2主面との間に形成された斜面と、を有する第1基体と、
前記第1基体の前記第2主面と接合される第3主面と、液体を噴射するノズル開口に連通する流路と、前記流路に圧力変化を生じさせる圧力発生手段と、前記第3主面上に形成された接続端子と、を有する第2基体と、
前記第1基体の前記第1主面上と、前記第1基体の前記斜面上と、前記第3主面の前記接続端子上とに連続して形成された接続配線と、
を備え、
前記接続配線の少なくとも前記斜面と前記第3主面との境界部分の幅は、前記接続配線の前記斜面上の他の部分の幅よりも広いことを特徴とする液体噴射ヘッド。
A first base body having a first main surface, a second main surface which is a back surface opposite to the first main surface, and an inclined surface formed between the first main surface and the second main surface. When,
A third main surface joined to the second main surface of the first base, a flow path communicating with a nozzle opening for injecting liquid, pressure generating means for causing a pressure change in the flow path, and the third A second base having a connection terminal formed on the main surface;
Connection wiring continuously formed on the first main surface of the first base, on the slope of the first base, and on the connection terminal of the third main surface;
With
The liquid ejecting head according to claim 1, wherein a width of at least a boundary portion between the slope of the connection wiring and the third main surface is wider than a width of another portion of the connection wiring on the slope.
請求項7記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
A liquid ejecting apparatus comprising the liquid ejecting head according to claim 7.
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