JP2015157396A - Metal foil pattern laminate and solar cell module - Google Patents

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実 川▲崎▼
松政 健司
Kenji Matsusei
健司 松政
茂樹 工藤
Shigeki Kudo
茂樹 工藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal foil pattern laminate in which formation of wrinkles in a metal foil pattern is suppressed.SOLUTION: A metal foil pattern laminate 1A includes a substrate 11 formed into a sheet state, a substrate-side adhesive layer 12 laminated on one surface 11a of the substrate 11, a reinforcement pattern 13 laminated on an opposite side of the substrate-side adhesive layer 12 to the substrate 11, and a metal foil pattern 15 laminated on an opposite side of the reinforcement pattern 13 to the substrate-side adhesive layer 12. When the laminate is viewed along a thickness direction D of the substrate 11, the reinforcement pattern 13 and the metal foil pattern 15 are formed into the same pattern feature and overlapped.

Description

本発明は、パターン状に形成された金属箔を有する金属箔パターン積層体、及びこの金属箔パターン積層体を備える太陽電池モジュールに関する。   The present invention relates to a metal foil pattern laminate having a metal foil formed in a pattern, and a solar cell module including the metal foil pattern laminate.

従来、大面積の金属箔を任意の形状にパターニングして金属箔パターンを形成する手法として、エッチングによる腐食加工が用いられてきた。この手法では、金属箔上に耐エッチング性のあるレジスト材料等をパターニングし、その後でエッチング液等に浸漬することで、レジスト材料の無い部分の金属箔を除去することができる。一方で、この手法ではレジスト材料をパターニングする必要があり、金属箔の大面積化にともないレジスト材料のパターニングが困難となる課題があった。また、金属箔を腐食させるエッチング液を大量に使用するため、対応する設備の設置および環境対策等のために多大なコストが必要となる。   Conventionally, corrosion processing by etching has been used as a technique for forming a metal foil pattern by patterning a metal foil of a large area into an arbitrary shape. In this method, a resist material having etching resistance is patterned on the metal foil, and then immersed in an etching solution or the like, whereby the metal foil in a portion without the resist material can be removed. On the other hand, in this method, it is necessary to pattern the resist material, and there is a problem that it becomes difficult to pattern the resist material as the metal foil has a large area. In addition, since a large amount of an etching solution that corrodes the metal foil is used, a great amount of cost is required for installation of corresponding equipment and environmental measures.

この問題を解決するための他の金属箔のパターニング手法として、例えば、特許文献1に記載された共振タグの製造方法では、表面に熱接着性樹脂被膜(接着層)が塗布された金属箔を、粘着剤によってキャリヤーシートに貼り合わせた積層体を用いる。
この積層体に、打ち抜き加工により熱接着性樹脂被膜から金属箔に達する切り込みを加える。このように構成した積層体の熱接着性樹脂被膜側を、プラスチックフィルム製の支持体(基材)に重ね、金型でキャリヤーシート側からパターン部を加熱圧縮する。その後、積層体を剥がすと、加熱された回路パターン部の金属箔のみが支持体に転写され、支持体上に、パターン化された熱接着性樹脂被膜を介して金属箔が積層された共振タグが製造される。
As another metal foil patterning method for solving this problem, for example, in the method for manufacturing a resonance tag described in Patent Document 1, a metal foil having a surface coated with a thermal adhesive resin film (adhesive layer) is used. A laminated body bonded to a carrier sheet with an adhesive is used.
The laminated body is cut by punching to reach the metal foil from the heat-adhesive resin film. The heat-adhesive resin film side of the laminate thus configured is placed on a plastic film support (base material), and the pattern portion is heated and compressed from the carrier sheet side with a mold. After that, when the laminate is peeled off, only the metal foil of the heated circuit pattern portion is transferred to the support, and the resonance tag in which the metal foil is laminated on the support via the patterned thermal adhesive resin film Is manufactured.

特許第3116209号公報Japanese Patent No. 3116209

この共振タグと同様に、基材上に接着層を介して金属箔パターンが積層された、太陽電池用の金属箔パターン積層体を製造することが検討されている。
しかしながら、この構成だと、接着層が硬化したときに収縮(シュリンク)し、金属箔パターンと接着層との線膨張率の違いにより、金属箔パターンにしわが形成される恐れがある。金属箔パターンにしわが形成されると、金属箔パターンの形状が所期の形状から変わってしまい、所望の電気特性が得られない恐れがある。
また、キャリヤーシートを使用することによりコストが嵩み、経済的でない。
Similar to this resonance tag, it has been studied to manufacture a metal foil pattern laminate for solar cells in which a metal foil pattern is laminated on a base material via an adhesive layer.
However, with this configuration, when the adhesive layer is cured, it shrinks (shrinks), and wrinkles may be formed in the metal foil pattern due to the difference in linear expansion coefficient between the metal foil pattern and the adhesive layer. If wrinkles are formed in the metal foil pattern, the shape of the metal foil pattern changes from the intended shape, and there is a possibility that desired electrical characteristics cannot be obtained.
Further, the use of the carrier sheet increases the cost and is not economical.

本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであって、金属箔パターンにしわが形成されるのを抑制した金属箔パターン積層体、及びこの金属箔パターン積層体を備える低コストの太陽電池モジュールを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and a metal foil pattern laminate that suppresses formation of wrinkles in a metal foil pattern, and a low-cost solar equipped with the metal foil pattern laminate. An object is to provide a battery module.

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の金属箔パターン積層体は、シート状に形成された基材と、前記基材の一方の面に積層された基材側接着層と、前記基材側接着層の前記基材とは反対側に積層された補強パターンと、前記補強パターンの前記基材側接着層とは反対側に積層された金属箔パターンと、を備え、前記基材の厚さ方向に見たときに、前記補強パターン及び前記金属箔パターンは、互いに同一のパターン形状に形成されるとともに重なることを特徴としている。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
The metal foil pattern laminate of the present invention includes a base material formed in a sheet shape, a base material side adhesive layer laminated on one surface of the base material, and the base material of the base material side adhesive layer. A reinforcing pattern laminated on the opposite side; and a metal foil pattern laminated on the opposite side of the reinforcing pattern to the substrate-side adhesive layer, when viewed in the thickness direction of the substrate, The reinforcing pattern and the metal foil pattern are formed in the same pattern shape and overlap each other.

また、上記の金属箔パターン積層体において、前記金属箔パターンは、金属箔側接着層パターンを介して前記補強パターンに積層されていることがより好ましい。
また、上記の金属箔パターン積層体において、前記金属箔側接着層パターンよりも前記基材側接着層の方が厚いことがより好ましい。
また、上記の金属箔パターン積層体において、前記基材における前記一方の面の部分、及び前記補強パターンは、ポリエチレンテレフタレートで形成されていることがより好ましい。
Moreover, in said metal foil pattern laminated body, it is more preferable that the said metal foil pattern is laminated | stacked on the said reinforcement pattern via the metal foil side contact bonding layer pattern.
Moreover, in said metal foil pattern laminated body, it is more preferable that the said base material side contact bonding layer is thicker than the said metal foil side contact bonding layer pattern.
Moreover, in said metal foil pattern laminated body, it is more preferable that the said one surface part in the said base material and the said reinforcement pattern are formed with the polyethylene terephthalate.

また、上記の金属箔パターン積層体において、前記金属箔パターンは、アルミニウム箔で形成されていることがより好ましい。
また、本発明の太陽電池モジュールは、上のいずれかに記載の金属箔パターン積層体を備えることを特徴としている。
In the metal foil pattern laminate, the metal foil pattern is more preferably formed of an aluminum foil.
Moreover, the solar cell module of this invention is equipped with the metal foil pattern laminated body in any one of the above.

本発明の金属箔パターン積層体及び太陽電池モジュールによれば、金属箔パターンにしわが形成されるのを抑制することができる。   According to the metal foil pattern laminate and the solar cell module of the present invention, it is possible to suppress the formation of wrinkles in the metal foil pattern.

本発明の一実施形態の金属箔パターン積層体の側面の断面図である。It is sectional drawing of the side surface of the metal foil pattern laminated body of one Embodiment of this invention. 同金属箔パターン積層体の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body. 同金属箔パターン積層体の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body. 同金属箔パターン積層体の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body. 同金属箔パターン積層体の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body. 同金属箔パターン積層体の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body. 同金属箔パターン積層体の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body. 同金属箔パターン積層体の製造方法を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body. 同金属箔パターン積層体を用いた太陽電池モジュールの側面の断面図である。It is sectional drawing of the side surface of the solar cell module using the metal foil pattern laminated body. 本発明の変形例の実施形態における金属箔パターン積層体の側面の断面図である。It is sectional drawing of the side surface of the metal foil pattern laminated body in embodiment of the modification of this invention.

以下、本発明に係る金属箔パターン積層体の一実施形態を、図1から図9を参照しながら説明する。
図1に示すように、本金属箔パターン積層体1は、シート状に形成された基材11と、基材11の一方の面11aに積層された基材側接着層12と、基材側接着層12の基材11とは反対側に積層された補強パターン13と、補強パターン13の基材側接着層12とは反対側に積層された金属箔側接着層パターン14と、金属箔側接着層パターン14の補強パターン13とは反対側に積層された金属箔パターン15とを備えている。
Hereinafter, an embodiment of a metal foil pattern laminate according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9.
As shown in FIG. 1, the metal foil pattern laminate 1 includes a base material 11 formed in a sheet shape, a base material side adhesive layer 12 stacked on one surface 11 a of the base material 11, and a base material side. The reinforcing pattern 13 laminated on the side opposite to the base material 11 of the adhesive layer 12, the metal foil side adhesive layer pattern 14 laminated on the side opposite to the base material side adhesive layer 12 of the reinforcing pattern 13, and the metal foil side The metal foil pattern 15 laminated | stacked on the opposite side to the reinforcement pattern 13 of the contact bonding layer pattern 14 is provided.

基材11は、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の延伸ポリエステルやポリイミド等の耐熱性を有する材料でフィルム状に形成されている。本実施形態では、基材11はポリエチレンテレフタレートで形成されている。
断熱性や弾力性や光学特性の制御のため、必要に応じて、基材11中に有機又は無機フィラー等を混入することも可能である。
The base material 11 is formed into a film shape with a heat-resistant material such as stretched polyester such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN) or polyimide. In this embodiment, the base material 11 is formed of polyethylene terephthalate.
An organic or inorganic filler or the like can be mixed into the base material 11 as necessary for the purpose of controlling heat insulation, elasticity and optical properties.

基材側接着層12は、例えば熱硬化性樹脂であるウレタン、アクリル、エポキシ、ポリイミド、オレフィン、またはこれらを共重合した電気的な絶縁性を有する基材側接着剤を硬化させたものを使用することができる。基材側接着剤に紫外線を照射することが困難であるため、基材側接着剤を加熱により硬化させることが好ましい。
基材側接着層12は、金属箔側接着層パターン14の基材11の一方の面11aに沿って隣り合う部分の間にも残存するため、絶縁性を有することが好ましい。基材側接着層12の厚さは、20μm(マイクロメートル)以上であることが望ましい。
As the base material side adhesive layer 12, for example, urethane, acrylic, epoxy, polyimide, olefin, which is a thermosetting resin, or a material obtained by curing a base material side adhesive having an electrical insulating property obtained by copolymerizing these is used. can do. Since it is difficult to irradiate the base material side adhesive with ultraviolet rays, it is preferable to cure the base material side adhesive by heating.
Since the base material side adhesive layer 12 remains also between the parts adjacent along the one surface 11a of the base material 11 of the metal foil side adhesive layer pattern 14, it is preferable to have insulation. The thickness of the base material side adhesive layer 12 is desirably 20 μm (micrometers) or more.

補強パターン13は、例えば櫛歯状などの所定の配線パターンの形状に形成されている。補強パターン13としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチレンなどの汎用の樹脂材料をフィルム状に形成したものを用いることができる。補強パターン13の耐久性を向上させるために、補強パターン13に耐加水分解ポリエチレンテレフタレートや、フッ素フィルムを用いてもよい。
本実施形態では、補強パターン13はポリエチレンテレフタレートで形成されている。
The reinforcing pattern 13 is formed in a predetermined wiring pattern shape such as a comb shape. As the reinforcing pattern 13, for example, a general-purpose resin material such as polyethylene terephthalate, polyester, polyamide, polyimide, polypropylene, or polyethylene formed in a film shape can be used. In order to improve the durability of the reinforcing pattern 13, hydrolysis-resistant polyethylene terephthalate or a fluorine film may be used for the reinforcing pattern 13.
In the present embodiment, the reinforcing pattern 13 is made of polyethylene terephthalate.

金属箔側接着層パターン14は、例えば熱もしくは紫外線硬化性樹脂であるウレタン、アクリル、エポキシ、ポリイミド、オレフィン、又はこれらを共重合した金属箔側接着剤を硬化させて前述の所定の配線パターンの形状に形成したものである。金属箔側接着剤の硬化には、加熱もしくは紫外線照射等の手段を用いることができる。金属箔側接着層パターン14の厚さは、例えば1μmから10μm程度である。
金属箔側接着層パターン14よりも、基材側接着層12、すなわち基材側接着層12が硬化する前の後述する基材側接着剤12Aの方が厚い。つまり、基材11の厚さ方向Dに直交する面における単位面積当たりの接着力は、基材側接着層12、すなわち基材側接着剤12Aよりも金属箔側接着層パターン14の方が強い。
基材側接着層12は絶縁性を確保するとともに、後述する金属箔パターン積層体1の製造工程において刃型Bの刃先端B1を、基材側接着剤12Aの層内で止めるために厚くなっている。この基材側接着剤12Aが厚くなっていることによっても、基材側接着剤12Aの接着力が金属箔側接着層パターン14の接着力よりも弱くなっている。
The metal foil side adhesive layer pattern 14 is made of, for example, urethane, acrylic, epoxy, polyimide, olefin, which is a heat or ultraviolet curable resin, or a metal foil side adhesive obtained by copolymerizing these to cure the predetermined wiring pattern described above. It is formed into a shape. For curing of the metal foil side adhesive, means such as heating or ultraviolet irradiation can be used. The thickness of the metal foil side adhesive layer pattern 14 is, for example, about 1 μm to 10 μm.
The base material side adhesive layer 12, that is, the base material side adhesive 12A described later before the base material side adhesive layer 12 is cured is thicker than the metal foil side adhesive layer pattern 14. That is, the adhesive force per unit area on the surface orthogonal to the thickness direction D of the base material 11 is stronger in the metal foil side adhesive layer pattern 14 than in the base material side adhesive layer 12, that is, the base material side adhesive 12A. .
The base material side adhesive layer 12 is thick in order to secure insulation and stop the blade tip B1 of the blade mold B within the layer of the base material side adhesive 12A in the manufacturing process of the metal foil pattern laminate 1 described later. ing. Even when the base material side adhesive 12A is thick, the adhesive force of the base material side adhesive 12A is weaker than the adhesive force of the metal foil side adhesive layer pattern 14.

金属箔パターン15は、アルミニウム箔又は銅箔を前述の所定の配線パターンの形状に形成したものである。金属箔パターン15をアルミニウム箔又は銅箔で形成することで、加工が容易になるとともに製造コストを抑えることができる。本実施形態では、金属箔パターン15は、アルミニウム箔で形成されている。
金属箔パターン積層体1の全製造コストのうち金属箔パターン15の製造コストの占める割合が高いため、金属箔パターン15の導電性を犠牲にしない範囲で、金属箔パターン15は薄く形成することが好ましい。
The metal foil pattern 15 is formed by forming an aluminum foil or a copper foil in the shape of the predetermined wiring pattern described above. By forming the metal foil pattern 15 with an aluminum foil or a copper foil, the processing becomes easy and the manufacturing cost can be reduced. In the present embodiment, the metal foil pattern 15 is formed of an aluminum foil.
Since the ratio of the manufacturing cost of the metal foil pattern 15 to the total manufacturing cost of the metal foil pattern laminate 1 is high, the metal foil pattern 15 can be formed thin as long as the conductivity of the metal foil pattern 15 is not sacrificed. preferable.

基材11の厚さ方向Dに見たときに、補強パターン13、金属箔側接着層パターン14、及び金属箔パターン15は、互いに同一のパターン形状に形成されるとともに重なる。補強パターン13、金属箔側接着層パターン14、及び金属箔パターン15の厚さは互いに異なっていてもよい。
補強パターン13、金属箔側接着層パターン14、及び金属箔パターン15にパターンを形成する方法としては、安価な金属打抜き工法(ハーフカット工法)が好ましい。
When viewed in the thickness direction D of the substrate 11, the reinforcing pattern 13, the metal foil side adhesive layer pattern 14, and the metal foil pattern 15 are formed in the same pattern shape and overlap each other. The thicknesses of the reinforcing pattern 13, the metal foil side adhesive layer pattern 14, and the metal foil pattern 15 may be different from each other.
As a method of forming the pattern on the reinforcing pattern 13, the metal foil side adhesive layer pattern 14, and the metal foil pattern 15, an inexpensive metal punching method (half-cut method) is preferable.

なお、基材11は、一方の面11aとは反対側となる他方の面11bに、バックシートを備えてもよい。バックシートは、例えば、「フッ素/ポリエチレンテレフタレート/フッ素」、又は、「耐加水分解ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレンテレフタレート/アンカーコート」のように構成することができる。バックシートは、要求品質に合わせて、防湿のためのアルミニウム箔やアルミナやシリカ等の無機酸化物の蒸着フィルムを構成に加えることもできる。   In addition, the base material 11 may be provided with a back sheet on the other surface 11b opposite to the one surface 11a. The back sheet can be configured as, for example, “fluorine / polyethylene terephthalate / fluorine” or “hydrolysis-resistant polyethylene terephthalate / polyethylene terephthalate / anchor coat”. The back sheet can be added with a moisture-proof aluminum foil or a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as alumina or silica according to the required quality.

次に、以上のように構成された金属箔パターン積層体1の製造方法について説明する。
なお、図示はしないが公知のロール・ツー・ロール方式により後述する補強フィルム13Aなどを適宜巻き取りながら、金属箔パターン積層体1が製造される。
Next, the manufacturing method of the metal foil pattern laminated body 1 comprised as mentioned above is demonstrated.
In addition, although not shown in figure, the metal foil pattern laminated body 1 is manufactured, winding up suitably the reinforcement film 13A etc. which are mentioned later by a well-known roll-to-roll system.

まず、図2に示すように、補強フィルム13Aの一方の面13aに前述の金属箔側接着剤14Aを塗布する。補強フィルム13Aは、補強パターン13に前述の所定の配線パターンが形成される前のシート状のものである。金属箔側接着剤14Aは、金属箔側接着層パターン14が硬化し所定の配線パターンが形成される前のものである。
金属箔側接着剤14Aの塗布にはグラビア印刷、マイクログラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷など、一般的な印刷法を使用することができる。補強フィルム13Aには、金属箔側接着剤14Aとの密着性を向上させるために、片面もしくは両面にコロナ処理などの易接着処理を施してもよい。
First, as shown in FIG. 2, the aforementioned metal foil side adhesive 14A is applied to one surface 13a of the reinforcing film 13A. The reinforcing film 13 </ b> A has a sheet shape before the predetermined wiring pattern is formed on the reinforcing pattern 13. The metal foil side adhesive 14A is the one before the metal foil side adhesive layer pattern 14 is cured and a predetermined wiring pattern is formed.
For the application of the metal foil side adhesive 14A, a general printing method such as gravure printing, micro gravure printing, screen printing, flexographic printing, and offset printing can be used. In order to improve the adhesion to the metal foil side adhesive 14A, the reinforcing film 13A may be subjected to easy adhesion treatment such as corona treatment on one side or both sides.

次に、図3に示すように、金属箔側接着剤14Aの補強フィルム13Aとは反対側に金属箔15Aを積層する。金属箔15Aは、金属箔パターン15に所定の配線パターンが形成される前のシート状のものである。金属箔15Aの積層にはドライラミネート、真空圧着、加熱ラミネートなど、任意の積層法を用いることができる。   Next, as shown in FIG. 3, the metal foil 15A is laminated on the side opposite to the reinforcing film 13A of the metal foil side adhesive 14A. The metal foil 15 </ b> A has a sheet shape before a predetermined wiring pattern is formed on the metal foil pattern 15. For the lamination of the metal foil 15A, any lamination method such as dry lamination, vacuum pressure bonding, and heating lamination can be used.

続いて、図4に示すように、金属箔側接着剤14Aを硬化して金属箔側接着層14Bを形成する。金属箔側接着剤14Aの硬化には、加熱、紫外線照射、レーザー照射など、金属箔側接着剤14Aに適応した任意の手法をとることができる。加熱を用いる場合、金属箔15Aと補強フィルム13Aとの熱膨張率の差に留意する必要がある。具体的には、補強フィルム13Aの軟化温度以下の温度で加熱することが望ましい。   Subsequently, as shown in FIG. 4, the metal foil side adhesive 14A is cured to form the metal foil side adhesive layer 14B. For curing the metal foil side adhesive 14A, any method suitable for the metal foil side adhesive 14A, such as heating, ultraviolet irradiation, and laser irradiation, can be used. When heating is used, it is necessary to pay attention to the difference in thermal expansion coefficient between the metal foil 15A and the reinforcing film 13A. Specifically, it is desirable to heat at a temperature below the softening temperature of the reinforcing film 13A.

次に、図5に示すように、補強フィルム13Aの他方の面13bに前述の基材側接着剤12Aを塗布する。基材側接着剤12Aの塗布にはグラビア印刷、マイクログラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷など、一般的な印刷法を使用することができる。   Next, as shown in FIG. 5, the base material side adhesive 12A is applied to the other surface 13b of the reinforcing film 13A. A general printing method such as gravure printing, microgravure printing, screen printing, flexographic printing, offset printing, or the like can be used to apply the base material side adhesive 12A.

続いて、図6に示すように、基材側接着剤12Aの補強フィルム13Aとは反対側に基材11を積層する。基材11の積層にはドライラミネート、真空圧着、加熱ラミネートなど、任意の積層法を用いることができる。
この段階では基材側接着剤12Aは完全に硬化しておらず、基材11を加熱ラミネートで積層する場合、基材側接着剤12Aが硬化しない低温とすることが望ましい。加熱ラミネートを行う具体的な温度は、基材側接着剤12Aの硬化温度に基づいて決められる。
Then, as shown in FIG. 6, the base material 11 is laminated | stacked on the opposite side to the reinforcement film 13A of the base material side adhesive agent 12A. Arbitrary lamination methods, such as dry lamination, vacuum pressure bonding, and heating lamination, can be used for lamination of the substrate 11.
At this stage, the substrate-side adhesive 12A is not completely cured, and when the substrate 11 is laminated by heating lamination, it is desirable that the temperature be low so that the substrate-side adhesive 12A is not cured. The specific temperature at which the heat lamination is performed is determined based on the curing temperature of the base-side adhesive 12A.

次に、図7に示すように、金属箔15Aの表面から刃型Bを押し当てて打抜き、補強フィルム13A、金属箔側接着層14B及び金属箔15Aを積層させた予備積層体20を切断するハーフカット工法を行う。刃型Bを押し当てたときに、刃型Bの刃先端B1は基材側接着剤12Aの層内で止め、基材11を切断しないことが望ましい。刃型Bは、厚さ方向Dに押し当てる。
予備積層体20の全厚さにわたり刃型Bで切断することで、予備積層体20を、金属箔パターン積層体1に用いる積層体必要領域R1と、金属箔パターン積層体1に用いない積層体不要領域R2とに切断して分離する。
Next, as shown in FIG. 7, the blade mold B is pressed from the surface of the metal foil 15A and punched out, and the preliminary laminate 20 in which the reinforcing film 13A, the metal foil side adhesive layer 14B, and the metal foil 15A are laminated is cut. Perform half-cut method. When the blade mold B is pressed, it is desirable that the blade tip B1 of the blade mold B is stopped in the layer of the base material side adhesive 12A and the base material 11 is not cut. The blade mold B is pressed against the thickness direction D.
By cutting with the blade mold B over the entire thickness of the preliminary laminate 20, the preliminary laminate 20 is used as a laminate required region R <b> 1 used for the metal foil pattern laminate 1 and a laminate not used for the metal foil pattern laminate 1. It cuts and isolate | separates into the unnecessary area | region R2.

続いて、図8に示すように、基材側接着剤12Aから積層体不要領域R2を剥離して除去する。金属箔側接着層14Bよりも基材側接着剤12Aの方が厚く、基材側接着剤12Aよりも金属箔側接着層14Bの方が接着力が強いため、より接着力の弱い基材側接着剤12Aと積層体不要領域R2との界面で剥離が発生する。積層体必要領域R1および積層体不要領域R2のいずれにおいても、金属箔15Aは金属箔側接着層14Bを介して補強フィルム13Aに接着されているため、積層体不要領域R2を剥離する際に金属箔15Aが破断断線するのが防止される。
なお、積層体必要領域R1における補強フィルム13A、金属箔側接着層14B、及び金属箔15Aは、刃型Bにより所定の配線パターンに切断されることで、それぞれ補強パターン13、金属箔側接着層パターン14、及び金属箔パターン15となる。厚さ方向Dに押し当てられる刃型Bにより切断することで、補強パターン13、金属箔側接着層パターン14、及び金属箔パターン15が厚さ方向Dに見たときに互いに同一のパターン形状に形成されるとともに重なる。
Subsequently, as shown in FIG. 8, the laminate unnecessary region R <b> 2 is peeled off and removed from the base material side adhesive 12 </ b> A. The base material side adhesive 12A is thicker than the metal foil side adhesive layer 14B, and the metal foil side adhesive layer 14B has a stronger adhesive force than the base material side adhesive 12A. Peeling occurs at the interface between the adhesive 12A and the laminate unnecessary region R2. In both the laminate required region R1 and the laminate unnecessary region R2, the metal foil 15A is bonded to the reinforcing film 13A via the metal foil side adhesive layer 14B. The foil 15A is prevented from breaking.
In addition, the reinforcing film 13A, the metal foil side adhesive layer 14B, and the metal foil 15A in the laminated body required region R1 are cut into predetermined wiring patterns by the blade mold B, so that the reinforcing pattern 13 and the metal foil side adhesive layer are respectively obtained. The pattern 14 and the metal foil pattern 15 are obtained. By cutting with the blade mold B pressed in the thickness direction D, the reinforcing pattern 13, the metal foil side adhesive layer pattern 14, and the metal foil pattern 15 have the same pattern shape when viewed in the thickness direction D. Forms and overlaps.

次に、図1に示すように、基材側接着剤12Aを硬化して基材側接着層12を形成する。基材側接着剤12Aの硬化には、加熱、紫外線照射、レーザー照射など、基材側接着剤12Aに適応した任意の手法をとることができる。基材側接着剤12Aの硬化に加熱を用いる場合、金属箔パターン15と補強パターン13ならびに基材11の熱膨張率の差に留意する必要がある。具体的には、補強パターン13及び基材11の軟化温度以下の温度で加熱することが望ましい。   Next, as shown in FIG. 1, the base material side adhesive 12 </ b> A is cured to form the base material side adhesive layer 12. For curing the base-side adhesive 12A, any method suitable for the base-side adhesive 12A, such as heating, ultraviolet irradiation, or laser irradiation, can be used. When heating is used to cure the base material side adhesive 12A, it is necessary to pay attention to the difference in thermal expansion coefficient between the metal foil pattern 15, the reinforcing pattern 13, and the base material 11. Specifically, it is desirable to heat at a temperature equal to or lower than the softening temperature of the reinforcing pattern 13 and the substrate 11.

基材側接着剤12Aを硬化して基材側接着層12を形成するときに、基材側接着剤12Aが収縮して基材側接着層12に接続された補強パターン13に圧縮応力を作用させる。この場合であっても、基材側接着層12と金属箔パターン15との間に補強パターン13が配置されていることで、補強パターン13が作用する応力を補強パターン13が支持し、金属箔パターン15が圧縮されることを抑える。
基材11及び補強パターン13がともにポリエチレンテレフタレートで形成されていることで、基材11及び補強パターン13の線膨張率がほぼ等しくなり、基材側接着層12が作用する応力が基材側接着層12を厚さ方向Dに挟むように配置された基材11及び補強パターン13により均等に緩和され、金属箔パターン15にしわが形成されるのがより確実に抑制される。
以上の工程を行うことで、金属箔パターン積層体1が製造される。
When the base material side adhesive 12A is cured to form the base material side adhesive layer 12, the base material side adhesive 12A contracts and acts on the reinforcing pattern 13 connected to the base material side adhesive layer 12 to exert a compressive stress. Let Even in this case, the reinforcing pattern 13 supports the stress acting on the reinforcing pattern 13 by arranging the reinforcing pattern 13 between the base-side adhesive layer 12 and the metal foil pattern 15, and the metal foil The pattern 15 is prevented from being compressed.
Since the base material 11 and the reinforcing pattern 13 are both formed of polyethylene terephthalate, the linear expansion coefficients of the base material 11 and the reinforcing pattern 13 are substantially equal, and the stress acting on the base material side adhesive layer 12 is applied to the base material side adhesion. The base material 11 and the reinforcing pattern 13 arranged so as to sandwich the layer 12 in the thickness direction D are alleviated evenly, and the formation of wrinkles in the metal foil pattern 15 is more reliably suppressed.
The metal foil pattern laminated body 1 is manufactured by performing the above process.

以上説明したように、本実施形態の金属箔パターン積層体1によれば、基材側接着層12が作用する圧縮応力を補強パターン13が支持するため、金属箔パターン15の変形が抑えられて金属箔パターン15にしわが形成されるのを抑制することができる。厚さ方向Dに見たときに補強パターン13及び金属箔パターン15が互いに同一のパターン形状に形成されるとともに重なることで、金属箔パターン15のいずれの部分においても、しわが形成されるのを確実に抑制することができる。
金属箔パターン15を補強パターン13で補強することで、金属箔パターン15の厚さを薄くし、金属箔パターン15を形成するアルミニウムの使用量を低減させることができる。
金属箔側接着層パターン14よりも、基材側接着層12の方が厚いため、積層体不要領域R2を剥離するときに、補強フィルム13Aと金属箔側接着層14B、金属箔側接着層14Bと金属箔15Aの間が剥離するのを抑え、積層体不要領域R2が一体になることで金属箔15Aが破断断線するのを防止することができる。
As described above, according to the metal foil pattern laminate 1 of the present embodiment, since the reinforcing pattern 13 supports the compressive stress acting on the base-side adhesive layer 12, deformation of the metal foil pattern 15 is suppressed. The formation of wrinkles in the metal foil pattern 15 can be suppressed. When viewed in the thickness direction D, the reinforcing pattern 13 and the metal foil pattern 15 are formed in the same pattern shape and overlap each other, so that wrinkles are formed in any part of the metal foil pattern 15. It can be surely suppressed.
By reinforcing the metal foil pattern 15 with the reinforcing pattern 13, the thickness of the metal foil pattern 15 can be reduced, and the amount of aluminum used to form the metal foil pattern 15 can be reduced.
Since the base material side adhesive layer 12 is thicker than the metal foil side adhesive layer pattern 14, the reinforcing film 13A, the metal foil side adhesive layer 14B, and the metal foil side adhesive layer 14B are peeled off when the laminate unnecessary region R2 is peeled off. It is possible to prevent the metal foil 15A from being broken and broken by suppressing the separation between the metal foil 15A and the laminated body unnecessary region R2.

基材11及び補強パターン13がともにポリエチレンテレフタレートで形成されていることで、基材側接着層12が作用する応力が基材11及び補強パターン13により均等に緩和され、基材側接着層12が作用する応力をより確実に抑制することができる。
金属箔パターン15がアルミニウム箔で形成されていることで、金属箔パターンが銅箔で形成されている場合に比べて製造コストを抑えることができる。
Since the base material 11 and the reinforcing pattern 13 are both formed of polyethylene terephthalate, the stress acting on the base material side adhesive layer 12 is evenly relieved by the base material 11 and the reinforcing pattern 13, and the base material side adhesive layer 12 is The acting stress can be more reliably suppressed.
Manufacturing cost can be held down compared with the case where the metal foil pattern is formed with copper foil because the metal foil pattern 15 is formed with aluminum foil.

なお、本実施形態では、基材11全体がポリエチレンテレフタレートで形成されているとしたが、基材11における一方の面11aの部分のみがポリエチレンテレフタレートで形成されているとしてもよい。   In the present embodiment, the entire base material 11 is made of polyethylene terephthalate, but only one surface 11a of the base material 11 may be made of polyethylene terephthalate.

このように構成され製造された金属箔パターン積層体1を用いて構成された本実施形態の太陽電池モジュール2の一例を図9に示す。
太陽電池モジュール2は、金属箔パターン積層体1と、バックコンタクト方式の太陽電池セル31に設けられたセル電極31aとの間に導電性接続部材32を設け、封止材33、透光性材料で形成されるフロントパネル34を組合せて、加熱・真空ラミネートを行って一体化して構成したものである。
FIG. 9 shows an example of the solar cell module 2 of the present embodiment configured using the metal foil pattern laminate 1 configured and manufactured in this manner.
In the solar cell module 2, a conductive connection member 32 is provided between the metal foil pattern laminate 1 and the cell electrode 31a provided in the back contact type solar cell 31, and a sealing material 33, a translucent material is provided. The front panel 34 formed in (1) is combined and heated and vacuum laminated to be integrated.

セル電極31aは、P極やN極の電子を取出すために太陽電池セル31の裏面に設けられたものである。
導電性接続部材32は、半田ペーストや銀ペーストを用いることができ、太陽電池セル31のセル電極31aと金属箔パターン積層体1の金属箔パターン15とを電気的に接続している。
The cell electrode 31a is provided on the back surface of the solar battery cell 31 in order to take out P-pole and N-pole electrons.
For the conductive connection member 32, a solder paste or a silver paste can be used, and the cell electrode 31 a of the solar battery cell 31 and the metal foil pattern 15 of the metal foil pattern laminate 1 are electrically connected.

封止材33は、この例では、太陽電池セル31のセル電極31aよりもフロントパネル34側に設けられた表側透明封止材33aと、表側透明封止材33aと基材側接着層12との間に設けられた裏側封止材33bとを有している。
表側透明封止材33aは、従来のEVA(エチレン−酢酸ビニル共重合体)系の封止材や、EMAA(エチレン−メタクリル酸共重合体)、EAA(エチルアクリレート共重合体)、アイオノマー、ポリプロピレン等のオレフィンタイプ、PVB(ポリビニルブチラール)、シリコーン樹脂等の透明タイプの材料を使用することができる。
表側透明封止材33aの厚さは、100μmから1000μmであることが好ましい。表側透明封止材33aの厚さが100μmよりも薄いと太陽電池セル31が割れる恐れがあり、1000μmよりも厚いと経済的でない。
In this example, the sealing material 33 includes a front-side transparent sealing material 33a provided on the front panel 34 side of the cell electrode 31a of the solar battery cell 31, a front-side transparent sealing material 33a, the base material-side adhesive layer 12, and the like. And a back-side sealing material 33b provided between the two.
The front transparent sealing material 33a is a conventional EVA (ethylene-vinyl acetate copolymer) based sealing material, EMAA (ethylene-methacrylic acid copolymer), EAA (ethyl acrylate copolymer), ionomer, polypropylene. A transparent type material such as olefin type such as PVB (polyvinyl butyral) or silicone resin can be used.
The thickness of the front transparent sealing material 33a is preferably 100 μm to 1000 μm. If the thickness of the front transparent sealing material 33a is thinner than 100 μm, the solar battery cell 31 may be broken, and if it is thicker than 1000 μm, it is not economical.

裏側封止材33bは、基本的に表側透明封止材33aと同一の材料を使用することができる。
表側透明封止材33aに加えて裏側封止材33bに要求される品質としては、「金属箔パターン積層体1を紫外線から守るためのUV吸収剤等の添加」、「配線パターンである金属箔パターン15と太陽電池セル31のセル電極31aとの短絡を防ぐために、中間層に耐熱フィルムあるいはスペーサを追加すること」等が考えられる。
裏側封止材33bの厚さは、30μmから1000μmであることが好ましい。裏側封止材33bを薄くすることで、比較的高価な導電性接続部材32の半田ペーストや銀ペーストの使用量を低減させることができる。裏側封止材33bの厚さが30μmよりも薄いと配線パターン、すなわち前述の積層体必要領域R1の段差を埋められず、1000μmを超えると経済的でない。
The back side sealing material 33b can basically use the same material as the front side transparent sealing material 33a.
As the quality required for the back side sealing material 33b in addition to the front side transparent sealing material 33a, “addition of UV absorber or the like for protecting the metal foil pattern laminate 1 from ultraviolet rays”, “metal foil as a wiring pattern” In order to prevent a short circuit between the pattern 15 and the cell electrode 31 a of the solar battery cell 31, it is conceivable to add a heat resistant film or a spacer to the intermediate layer.
The thickness of the back side sealing material 33b is preferably 30 μm to 1000 μm. By thinning the back side sealing material 33b, it is possible to reduce the amount of solder paste or silver paste used for the relatively expensive conductive connection member 32. If the thickness of the back-side sealing material 33b is less than 30 μm, the wiring pattern, that is, the step of the laminate required region R1 cannot be filled, and if it exceeds 1000 μm, it is not economical.

フロントパネル34を形成する透光性材料としては、太陽電池セル31の発電に必要な波長の光を透過する材料が用いられ、例えばガラス、樹脂が挙げられる。   As the translucent material forming the front panel 34, a material that transmits light having a wavelength necessary for power generation of the solar battery cell 31 is used, and examples thereof include glass and resin.

このように構成された本実施形態の太陽電池モジュール2によれば、金属箔パターン積層体1を太陽電池セル31のセル電極を接続する配線シートとして用いることで、金属箔パターン15のしわによる配線の変形が抑制することができるため、信頼性の高い太陽電池モジュールを安価に製造することができる。   According to the solar cell module 2 of the present embodiment configured as described above, the metal foil pattern laminate 1 is used as a wiring sheet for connecting the cell electrodes of the solar cells 31, so that wiring due to wrinkles of the metal foil pattern 15 is performed. Therefore, a highly reliable solar cell module can be manufactured at low cost.

以上、本発明の一実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の構成の変更、組み合わせ、削除なども含まれる。
例えば、図10に示す金属箔パターン積層体1Aのように、金属箔パターン積層体1の各構成に対して金属箔側接着層パターン14を備えないようにしてもよい。この場合、金属箔上に押出し加工やコーティング加工により補強フィルムを形成した後でハーフカット工法等により金属箔および補強フィルムをパターン化して補強パターン13および金属箔パターン15を形成する。補強パターン13と金属箔パターン15とは、押出し加工やコーティング加工により直接接触するように構成される。
As mentioned above, although one embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the specific configuration is not limited to this embodiment, and modifications, combinations, and deletions within a scope that does not depart from the gist of the present invention. Etc. are also included.
For example, like the metal foil pattern laminate 1A shown in FIG. 10, the metal foil side adhesive layer pattern 14 may not be provided for each component of the metal foil pattern laminate 1. In this case, after forming a reinforcing film on the metal foil by extrusion or coating, the metal foil and the reinforcing film are patterned by a half-cut method or the like to form the reinforcing pattern 13 and the metal foil pattern 15. The reinforcing pattern 13 and the metal foil pattern 15 are configured to be in direct contact with each other by extrusion processing or coating processing.

押出し加工を用いる場合には、金属箔パターン15がアルミニウム箔で形成される場合には厚さが30〜200μmとなる。補強パターン13は押出し樹脂層となり厚さは5〜100μm、基材側接着層12の厚さは1〜100μmとなる。補強パターン13としては、ポリオレフィン系樹脂、及びポリエステル系樹脂を少なくとも1種以上含む押出し加工可能な樹脂を用いることが好ましい。
コーティング加工をいる場合には、グラビア印刷やバーコート等を用いることができる。補強パターン13は、強化被膜となる。金属箔パターン15がアルミニウム箔で形成される場合には厚さが30〜200μmとなる。補強パターン13の厚さは5〜100μm、基材側接着層12の厚さは1〜100μmとなる。補強パターン13としては、溶剤希釈された樹脂、UV硬化性樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、及びアクリル樹脂等を用いることが好ましい。
When the extrusion process is used, the thickness is 30 to 200 μm when the metal foil pattern 15 is formed of an aluminum foil. The reinforcing pattern 13 becomes an extruded resin layer, the thickness is 5 to 100 μm, and the thickness of the base material side adhesive layer 12 is 1 to 100 μm. As the reinforcing pattern 13, it is preferable to use an extrudable resin containing at least one polyolefin resin and at least one polyester resin.
When coating is performed, gravure printing, bar coating, or the like can be used. The reinforcing pattern 13 becomes a reinforced film. When the metal foil pattern 15 is formed of an aluminum foil, the thickness is 30 to 200 μm. The thickness of the reinforcing pattern 13 is 5 to 100 μm, and the thickness of the base-side adhesive layer 12 is 1 to 100 μm. As the reinforcing pattern 13, it is preferable to use a solvent diluted resin, a UV curable resin, a polyester resin, an epoxy resin, a phenol resin, a urethane resin, an acrylic resin, or the like.

(実施例)
以下では、実施例及び比較例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
以下に説明する実施例1から3、比較例1及び2の金属箔パターン積層体のサンプルを作成した。
(Example)
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
Samples of metal foil pattern laminates of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 described below were prepared.

(実施例1)
厚さ250μmのPETフィルム(品名:S10、東レ製)に、厚さ25μmのPVF(ポリフッ化ビニル樹脂)フィルム(品名:PV2111、デュポン社製)を、2液硬化型ウレタン系接着剤(品名:A511/A50、三井化学社製)を用いてドライラミネート法により貼合わせを行った。乾燥時のウレタン接着剤の厚さは、5g/mであった。すなわち、PETフィルムとPVFフィルムとをウレタン接着剤で貼合わせて、基材を構成した。
この基材とは別に、厚さ35μmの金属箔である銅箔(電解銅箔)と、厚さ25μmの補強フィルムである延伸PETフィルムとを、前述のウレタン接着剤を用いてドライラミネート法により貼合わせを行った。乾燥時のウレタン接着剤の厚さは、5g/mであった。
Example 1
A 250 μm thick PET film (product name: S10, manufactured by Toray) and a 25 μm thick PVF (polyvinyl fluoride resin) film (product name: PV2111, manufactured by DuPont) are used as a two-component curable urethane adhesive (product name: A511 / A50, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was used for bonding by a dry laminating method. The thickness of the urethane adhesive at the time of drying was 5 g / m 2 . That is, a PET film and a PVF film were bonded with a urethane adhesive to constitute a base material.
Separately from this base material, a copper foil (electrolytic copper foil) which is a metal foil having a thickness of 35 μm and a stretched PET film which is a reinforcing film having a thickness of 25 μm are dry-laminated using the aforementioned urethane adhesive. Lamination was performed. The thickness of the urethane adhesive at the time of drying was 5 g / m 2 .

「PV2111/PET」の積層体と、「PET/銅箔」の積層体とのPET面同士を、前述のウレタン接着剤を用いてドライラミネート法により貼合わせを行った。乾燥時のウレタン接着剤の厚さは、5g/mであった。ウレタン接着剤が架橋して強度が上昇する前に、「PET/銅箔」の積層体のみにハーフカット工法を行い、「PET/銅箔」の積層体の不要部分(積層体不要領域)を除去した。
除去後に、厚さ30μmの未処理のポリエチレンフィルムを保護フィルムとして積層体に重ねて巻き取り、エージングを行った。エージング後、保護フィルムを取り除き、金属箔パターン積層体のサンプルを作成した。
The PET surfaces of the laminate of “PV2111 / PET” and the laminate of “PET / copper foil” were bonded together by the dry laminating method using the urethane adhesive described above. The thickness of the urethane adhesive at the time of drying was 5 g / m 2 . Before the urethane adhesive crosslinks and strength increases, the half-cut method is applied only to the “PET / copper foil” laminate, and unnecessary portions (laminate unnecessary areas) of the “PET / copper foil” laminate are removed. Removed.
After the removal, an untreated polyethylene film having a thickness of 30 μm was wound on the laminate as a protective film and subjected to aging. After aging, the protective film was removed, and a sample of the metal foil pattern laminate was created.

(実施例2)
以下の実施例2及び3、比較例1及び2では、実施例1とは異なる部分のみ説明する。
実施例1の銅箔に代えて、厚さ50μmの金属箔であるアルミニウム箔を用いた。
「PV2111/PET」の積層体と、「PET/アルミニウム箔」の積層体とのPET面同士を、厚さ35μmのEMAA系樹脂(品名:N1108C、三井デュポンポリケミカル社製)を用いてエクストルーダー加工により貼合わせを行った。
エクストルーダー加工をした直後には、EMAA系樹脂のラミネート強度が弱いことを利用し、経時でラミネート強度が上昇する前に「PET/アルミニウム箔」の積層体のみにハーフカット工法を行い、「PET/アルミニウム箔」の積層体の不要部分(積層体不要領域)を除去した。
除去後に、常温でエージングを48時間行い、「PV2111/PET」の積層体と「PET/アルミニウム箔」の積層体とを完全に接着させて金属箔パターン積層体のサンプルを作成した。
(Example 2)
In the following Examples 2 and 3, and Comparative Examples 1 and 2, only portions different from Example 1 will be described.
Instead of the copper foil of Example 1, an aluminum foil which is a metal foil having a thickness of 50 μm was used.
Extruder between PET surfaces of a laminate of “PV2111 / PET” and a laminate of “PET / aluminum foil” using EMAA resin (product name: N1108C, manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.) having a thickness of 35 μm Lamination was performed by processing.
Immediately after the extrusion process, the half-cut method is applied only to the “PET / aluminum foil” laminate before the laminate strength increases over time, taking advantage of the weak laminate strength of EMAA resin. Unnecessary portion (laminated body unnecessary region) of the laminated body of “/ aluminum foil” was removed.
After the removal, aging was performed at room temperature for 48 hours, and a laminate of “PV2111 / PET” and a laminate of “PET / aluminum foil” were completely bonded to prepare a sample of a metal foil pattern laminate.

(実施例3)
「PV2111/PET」の積層体のPETフィルムにエクストルーダー加工により、厚さ25μmの前述のEMAA系樹脂を加工した。
前述の「PET/銅箔」の積層体にパンチング加工を施して配線パターンを形成した。
EMAA系樹脂上に、パンチング加工した「PET/銅箔」の積層体を配置した。、熱ラミネート加工により、「PV2111/PET」の積層体とパンチング加工した「PET/銅箔」とをEMAA系樹脂を介して完全に接着し、金属箔パターン積層体のサンプルを作成した。パンチング加工した「PET/銅箔」の積層体を配置するのには、例えば、静電吸着ステージを用いることができる。
(Example 3)
The above-mentioned EMAA resin having a thickness of 25 μm was processed on the PET film of the laminate of “PV2111 / PET” by extruder processing.
The aforementioned “PET / copper foil” laminate was punched to form a wiring pattern.
A punched “PET / copper foil” laminate was placed on the EMAA resin. Then, the laminate of “PV2111 / PET” and the punched “PET / copper foil” were completely bonded via an EMAA resin by heat laminating to prepare a sample of a metal foil pattern laminate. For example, an electrostatic adsorption stage can be used to arrange the punched “PET / copper foil” laminate.

(比較例1)
「PV2111/PET」の積層体のPETフィルムに、厚さ35μmの金属箔である銅箔(電解銅箔)を、前述のウレタン接着剤を用いてドライラミネート法により貼合わせを行った。乾燥時のウレタン接着剤の厚さは、5g/mであった。
ウレタン接着剤が架橋して強度が上昇する前に銅箔のみにハーフカット工法を行い、銅箔の不要部分を除去した。
除去後に、実施例1と同様に、保護フィルムを積層体に重ねて巻き取り、エージングを行った。エージング後、保護フィルムを取り除き、比較例1の金属箔パターン積層体のサンプルを作成した。
(Comparative Example 1)
A copper foil (electrolytic copper foil), which is a metal foil having a thickness of 35 μm, was bonded to the PET film of the laminate of “PV2111 / PET” by the dry lamination method using the urethane adhesive described above. The thickness of the urethane adhesive at the time of drying was 5 g / m 2 .
Before the urethane adhesive was cross-linked and the strength increased, a half-cut method was performed only on the copper foil, and unnecessary portions of the copper foil were removed.
After the removal, in the same manner as in Example 1, the protective film was overlaid on the laminate and wound up to perform aging. After the aging, the protective film was removed, and a sample of the metal foil pattern laminate of Comparative Example 1 was prepared.

(比較例2)
比較例1と同様に、「PV2111/PET」の積層体のPETフィルムに、厚さ35μmの金属箔である銅箔(電解銅箔)を、前述のウレタン接着剤を用いてドライラミネート法により貼合わせを行った。
フォトレジスト法により銅箔上に配線パターンを形成し、エッチングにより銅箔の不要部分を溶解し除去した。銅箔上のエッチングレジストを除去し、比較例2の金属箔パターン積層体のサンプルを作成した。
すなわち、比較例1及び2の金属箔パターン積層体は、実施例の金属箔パターン積層体に対して、補強パターン及び金属箔側接着層パターンを備えていない。
(Comparative Example 2)
As in Comparative Example 1, a copper foil (electrolytic copper foil), which is a metal foil having a thickness of 35 μm, is applied to a PET film of a laminate of “PV2111 / PET” by the dry lamination method using the above-described urethane adhesive. Combined.
A wiring pattern was formed on the copper foil by a photoresist method, and unnecessary portions of the copper foil were dissolved and removed by etching. The etching resist on the copper foil was removed, and a sample of the metal foil pattern laminate of Comparative Example 2 was created.
That is, the metal foil pattern laminated body of Comparative Examples 1 and 2 does not include the reinforcing pattern and the metal foil side adhesive layer pattern as compared with the metal foil pattern laminated body of the example.

実施例1から3、比較例1及び2のサンプルを用いて、下記の方法により太陽電池モジュールを作成した。
金属箔パターン積層体の配線における、バックコンタクト方式の太陽電池セルのセル電極に対応する位置に、メタルマスクを用いて銀ペーストを印刷する。
前述のセル電極に対応する位置にパンチング加工等により貫通孔を開けた厚さ200μmのEVA系封止材を、金属箔パターン積層体の配線である金属箔パターン上に配置し、金属箔パターン積層体の金属箔パターンと太陽電池セルとが電気的に接続できるようにしておく。
EVA系封止材の上に太陽電池セルを配置し、厚さ400μmの透明なEVA系封止材、ガラスの順番に配置し、モジュールラミネータによりモジュールラミネートを行い、太陽電池モジュールを作成した。モジュールラミネートの条件は、150℃で5分間真空状態にし、2分間加圧し、加圧を除去した状態を15分間保持した。
Using the samples of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, solar cell modules were prepared by the following method.
A silver paste is printed using a metal mask at a position corresponding to the cell electrode of the back contact solar cell in the wiring of the metal foil pattern laminate.
A 200 μm-thick EVA sealing material having a through-hole formed by punching or the like at a position corresponding to the above-described cell electrode is disposed on the metal foil pattern that is the wiring of the metal foil pattern laminate, and the metal foil pattern laminate The metal foil pattern of the body and the solar battery cell are electrically connected.
A solar battery cell was placed on the EVA-based sealing material, a transparent EVA-based sealing material having a thickness of 400 μm and glass were placed in this order, and module lamination was performed with a module laminator to prepare a solar battery module. The module lamination conditions were as follows: vacuum at 150 ° C. for 5 minutes, pressurizing for 2 minutes, and maintaining the state where the pressure was removed for 15 minutes.

実施例1から3、比較例1及び2のサンプルの評価結果を表1に示す。なお、表1中には、前述の実施例1から3、比較例1及び2のサンプルの作成手順で説明した主な特徴、配線のパターニング方法についても記載した。
すなわち、実施例1から3のサンプルは配線パターンである金属箔パターンが補強パターンにより補強されている。これに対して、比較例1及び2のサンプルには補強パターンは備えられていない。
Table 1 shows the evaluation results of the samples of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2. Table 1 also describes the main features and wiring patterning methods described in the sample preparation procedures of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 described above.
That is, in the samples of Examples 1 to 3, the metal foil pattern as the wiring pattern is reinforced by the reinforcing pattern. In contrast, the samples of Comparative Examples 1 and 2 are not provided with a reinforcing pattern.

Figure 2015157396
Figure 2015157396

「配線のパターニング加工適正」の項目は、加工適正が良いものの評価を「○」とし、加工適正が悪いものの評価を「×」とした。
実施例1から3では補強パターンを備えていて金属箔パターンが切れにくく加工しやすいため、評価は「○」とした。比較例1では、補強パターンを備えていないため金属箔パターンが切れやすくて加工しにくく、評価は「×」とした。比較例2では、補強パターンを備えていないが、金属箔パターンを単体で扱って操作することがないため、評価は「○」とした。
For the item “wiring patterning processing appropriateness”, the evaluation of “good” for processing suitability was “◯”, and the evaluation for poor processing suitability was “x”.
In Examples 1 to 3, since the reinforcing pattern was provided and the metal foil pattern was hard to cut and easy to process, the evaluation was “◯”. In Comparative Example 1, since the reinforcing pattern was not provided, the metal foil pattern was easily cut and difficult to process, and the evaluation was “x”. In Comparative Example 2, the reinforcing pattern was not provided, but the metal foil pattern was not handled and operated alone, so the evaluation was “◯”.

「トータルコスト」の項目は、製造コストが低いものの評価を「○」とし、製造コストが高いものの評価を「×」とした。製造コストが低いものの中でも、製造コストをより抑えられるものの評価を「◎」とした。
実施例1から3では補強パターンを備えているため金属箔パターンが切れにくくパターニングを高速で行え、製造に要する時間が短くできる。実施例1及び3では、評価は「○」とした。実施例2では、さらに金属箔パターンが銅箔に比べて安いアルミニウム箔で形成されているため、評価は「◎」とした。比較例1では、補強パターンを備えていないため金属箔パターンが切れやすくパターニングを高速で行えない。製造に時間がかかるので評価は「×」とした。比較例2では、エッチングの工程コストが高いため、評価は「×」とした。
In the item of “total cost”, the evaluation of a product with a low manufacturing cost was “◯”, and the evaluation of a product with a high manufacturing cost was “x”. Among those with low manufacturing costs, the evaluation of those that can further suppress the manufacturing costs was given as “◎”.
In Examples 1 to 3, since the reinforcing pattern is provided, the metal foil pattern is difficult to cut and patterning can be performed at high speed, and the time required for manufacturing can be shortened. In Examples 1 and 3, the evaluation was “◯”. In Example 2, since the metal foil pattern was further formed of an aluminum foil cheaper than the copper foil, the evaluation was “と し た”. In Comparative Example 1, since the reinforcing pattern is not provided, the metal foil pattern is easily cut and patterning cannot be performed at high speed. Since the production takes time, the evaluation was “x”. In Comparative Example 2, since the etching process cost was high, the evaluation was “x”.

「金属箔が薄い場合の対応」の項目は、金属箔が薄い場合でも加工適正が良いものの評価を「○」とし、金属箔が薄い場合に加工適正が悪くなるものの評価を「×」とした。
実施例1から3では補強パターンを備えているため金属箔パターンが薄くても切れにくく、評価は「○」とした。比較例1では、補強パターンを備えていないため金属箔パターンが薄いとさらに切れやすくなり、評価は「×」とした。比較例2では、補強パターンを備えていないが、金属箔パターンを単体で扱って操作することがないため、評価は「○」とした。
In the item of “Corresponding when the metal foil is thin”, the evaluation of “good” is good even when the metal foil is thin, and “×” is evaluation of the poor processing suitability when the metal foil is thin .
In Examples 1 to 3, since the reinforcing pattern was provided, it was difficult to cut even if the metal foil pattern was thin, and the evaluation was “◯”. In Comparative Example 1, since the reinforcing pattern was not provided, the metal foil pattern was more easily cut when it was thin, and the evaluation was “x”. In Comparative Example 2, the reinforcing pattern was not provided, but the metal foil pattern was not handled and operated alone, so the evaluation was “◯”.

以上、「配線のパターニング加工適正」、「トータルコスト」及び「金属箔が薄い場合の対応」の各項目を総合的に評価した「総合評価」の項目は、全ての項目の評価が「○」以上のものの評価を「○」とし、評価を「×」の項目が1つでもあるものの評価を「×」とした。評価が「○」のものの中でもより優れているものの評価を「◎」とした。
実施例1の評価は「○」となった。同様に、「総合評価」の項目は、実施例2、実施例3の評価はそれぞれ「◎」、「○」となり、比較例1及び2の評価は「×」となった。
As described above, the items of “Comprehensive evaluation” that comprehensively evaluated each item of “Appropriate patterning processing of wiring”, “Total cost” and “Corresponding when metal foil is thin” are evaluated as “○”. Evaluation of the above thing was set to "(circle)", and evaluation of what has the item of "x" at least one was set to "x". Among the items with an evaluation of “◯”, the evaluation of the better one was designated as “◎”.
The evaluation of Example 1 was “◯”. Similarly, in the item of “overall evaluation”, the evaluations of Example 2 and Example 3 were “◎” and “◯”, respectively, and the evaluations of Comparative Examples 1 and 2 were “x”.

1、1A 金属箔パターン積層体
2 太陽電池モジュール
11 基材
11a 一方の面
12 基材側接着層
13 補強パターン
14 金属箔側接着層パターン
15 金属箔パターン
D 厚さ方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A Metal foil pattern laminated body 2 Solar cell module 11 Base material 11a One side 12 Base material side adhesive layer 13 Reinforcement pattern 14 Metal foil side adhesive layer pattern 15 Metal foil pattern D Thickness direction

Claims (6)

シート状に形成された基材と、
前記基材の一方の面に積層された基材側接着層と、
前記基材側接着層の前記基材とは反対側に積層された補強パターンと、
前記補強パターンの前記基材側接着層とは反対側に積層された金属箔パターンと、
を備え、
前記基材の厚さ方向に見たときに、前記補強パターン及び前記金属箔パターンは、互いに同一のパターン形状に形成されるとともに重なることを特徴とする金属箔パターン積層体。
A base material formed into a sheet,
A base material side adhesive layer laminated on one surface of the base material;
A reinforcing pattern laminated on the side opposite to the base of the base-side adhesive layer;
A metal foil pattern laminated on the side opposite to the substrate-side adhesive layer of the reinforcing pattern;
With
When viewed in the thickness direction of the substrate, the reinforcing pattern and the metal foil pattern are formed in the same pattern shape and overlap each other.
前記金属箔パターンは、金属箔側接着層パターンを介して前記補強パターンに積層されていることを特徴とする請求項1に記載の金属箔パターン積層体。   The said metal foil pattern is laminated | stacked on the said reinforcement pattern via the metal foil side contact bonding layer pattern, The metal foil pattern laminated body of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記金属箔側接着層パターンよりも前記基材側接着層の方が厚いことを特徴とする請求項2に記載の金属箔パターン積層体。   The metal foil pattern laminate according to claim 2, wherein the base material side adhesive layer is thicker than the metal foil side adhesive layer pattern. 前記基材における前記一方の面の部分、及び前記補強パターンは、ポリエチレンテレフタレートで形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の金属箔パターン積層体。   4. The metal foil pattern laminate according to claim 1, wherein the one surface portion of the substrate and the reinforcing pattern are formed of polyethylene terephthalate. 5. 前記金属箔パターンは、アルミニウム箔で形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の金属箔パターン積層体。   The said metal foil pattern is formed with the aluminum foil, The metal foil pattern laminated body as described in any one of Claim 1 to 4 characterized by the above-mentioned. 請求項1から4のいずれか一項に記載の金属箔パターン積層体を備えることを特徴とする太陽電池モジュール。   A solar cell module comprising the metal foil pattern laminate according to any one of claims 1 to 4.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109326535A (en) * 2017-07-31 2019-02-12 株式会社斯库林集团 Substrate processing method using same and substrate board treatment
JP2019067877A (en) * 2017-09-29 2019-04-25 日亜化学工業株式会社 Printed board, light-source device and semiconductor device, and manufacturing methods thereof
WO2022124094A1 (en) * 2020-12-09 2022-06-16 日東電工株式会社 Method for producing metal pattern laminated substrate

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