JP2015120884A - Resin sheet - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin sheet capable of adhering excellently onto an adherend at lamination, and suppressing gas discharge at heating.SOLUTION: A resin sheet has an adhesive resin layer. The adhesive resin layer satisfies a characteristic (A1): a gel fraction increases by heating at 120°C for 5 minutes; and a ratio (G/G) of a gel fraction G(%) after the heating to a gel fraction G(%) before the heating is within a range of 1.1-10,000.

Description

本発明は、樹脂シートに関する。   The present invention relates to a resin sheet.

粘着シートに代表される密着性の樹脂シートは、被着体への貼り付け作業性の良さ等から、種々の分野において幅広く利用されている。例えば、フレキシブル回路基板の製造において上記樹脂シートが用いられている。上記回路基板の製造は典型的には、ガラス等の硬質基板上に樹脂シートを積層し、該樹脂シート上に回路基板の基材フィルムを仮固定し、該基材フィルム上にて回路基板を形成した後、回路基板と樹脂シートとを分離することによって行われる。この種の従来技術を開示する先行技術文献として、特許文献1が挙げられる。特許文献2は、半導体ウエハに貼り付けて用いられる再剥離型粘着シートに関する技術文献である。   Adhesive resin sheets typified by pressure-sensitive adhesive sheets are widely used in various fields because of their good workability for application to adherends. For example, the resin sheet is used in the manufacture of flexible circuit boards. The circuit board is typically manufactured by laminating a resin sheet on a hard substrate such as glass, temporarily fixing a base film of the circuit board on the resin sheet, and mounting the circuit board on the base film. After forming, it is performed by separating the circuit board and the resin sheet. Patent document 1 is mentioned as a prior art document which discloses this kind of prior art. Patent Document 2 is a technical document related to a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet that is used by being attached to a semiconductor wafer.

特開2012−186315号公報JP 2012-186315 A 特開2005−53998号公報JP-A-2005-53998

上記特許文献1に開示されるような回路基板の製造において、例えばTFTのパターン形成は通常150℃以上の加熱条件で行われ得る。当該製造に用いられる樹脂シートは、上記のような高温に曝されると、当該シート中に存在する水分等が気化することによりガスを放出する。放出されたガスは、樹脂シートと被着体とが良好に密着していても、その界面に侵入して両者の密着性を低下させる。また、被着体と樹脂シートとの間に空隙が存在していると、加熱時に該空隙中のガス成分が膨張し接着面積を減少させるため、やはり密着性は低下する。密着性の低下は、不良品の発生を引き起こし歩留り低下の原因になるだけでなく、樹脂シートが脱離し工程停止を引き起こす虞があるため、その改善が求められていた。   In the manufacture of a circuit board as disclosed in Patent Document 1, for example, TFT pattern formation can be performed under heating conditions of 150 ° C. or higher. When the resin sheet used for the production is exposed to the high temperature as described above, the moisture and the like present in the sheet are vaporized to release gas. Even if the resin sheet and the adherend adhere well, the released gas enters the interface and lowers the adhesion between them. In addition, if there is a gap between the adherend and the resin sheet, the gas component in the gap expands during heating to reduce the adhesion area, so that the adhesion is also lowered. The decrease in adhesion not only causes generation of defective products and causes a decrease in yield, but also there is a possibility that the resin sheet may be detached and cause the process to stop, so that improvement has been demanded.

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、貼り合わせ時には被着体に良好に密着可能であり、加熱時にはガス放出が抑制された樹脂シートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a resin sheet that can be satisfactorily adhered to an adherend at the time of bonding and in which gas release is suppressed at the time of heating.

本発明によると、密着性樹脂層を備える樹脂シートが提供される。この密着性樹脂層は、特性(A1):120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇し、かつ前記加熱を行う前のゲル分率G(%)に対する該加熱を行った後のゲル分率G(%)の比(G/G)が1.1〜10000の範囲内である;を満たす。このように構成することで、貼り合わせ時には密着性樹脂層は被着体に良好に密着可能であり、かつ、加熱時にはゲル分率が速やかに上昇するので密着性樹脂層からのガス放出が抑制される。したがって、本発明によると、加熱に曝されても被着体との密着状態を良好に維持し得る樹脂シートが提供される。 According to the present invention, a resin sheet provided with an adhesive resin layer is provided. This adhesive resin layer has characteristics (A1): the gel fraction is increased by heating at 120 ° C. for 5 minutes, and after the heating to the gel fraction G A (%) before the heating is performed. The ratio of gel fraction G B (%) (G B / G A ) is in the range of 1.1 to 10,000; With this configuration, the adhesive resin layer can be satisfactorily adhered to the adherend at the time of bonding, and the gas fraction rapidly rises at the time of heating, thereby suppressing gas release from the adhesive resin layer. Is done. Therefore, according to the present invention, there is provided a resin sheet that can maintain a good adhesion state with an adherend even when exposed to heat.

また、本発明によると、密着性樹脂層を備える樹脂シートが提供される。この密着性樹脂層は、特性(A2):120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇し、かつ前記加熱を行った後のゲル分率Gが30%〜100%の範囲内である;を満たす。このように構成することで、貼り合わせ時には密着性樹脂層は被着体に良好に密着可能であり、かつ、加熱時にはゲル分率が速やかに所定以上になるので密着性樹脂層からのガス放出が抑制される。したがって、本発明によると、加熱に曝されても被着体との密着状態を良好に維持し得る樹脂シートが提供される。 Moreover, according to this invention, a resin sheet provided with an adhesive resin layer is provided. The adhesive resin layer, characteristics (A2): 120 ℃, the gel fraction is increased by heating for 5 minutes, and within the gel fraction G B is 30% to 100% after subjecting to the heating Yes; By comprising in this way, the adhesive resin layer can be satisfactorily adhered to the adherend at the time of bonding, and the gel fraction quickly exceeds a predetermined value at the time of heating, so that the gas release from the adhesive resin layer Is suppressed. Therefore, according to the present invention, there is provided a resin sheet that can maintain a good adhesion state with an adherend even when exposed to heat.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、樹脂シートは、特性(B):前記密着性樹脂層をガラス板に貼り付け、150℃で30分間加熱した後に測定される180度剥離強度が、0.05〜5.0N/20mmである;を満たす。特性(B)を満たす樹脂シートは、被着体を仮固定するのに適した接着力と優れた再剥離性とを併せ持つ再剥離性樹脂シートとなり得る。   In a preferred embodiment of the technology disclosed herein, the resin sheet has a characteristic (B): 180 degree peel strength measured after the adhesive resin layer is attached to a glass plate and heated at 150 ° C. for 30 minutes, 0.05 to 5.0 N / 20 mm; The resin sheet satisfying the characteristic (B) can be a releasable resin sheet having both an adhesive force suitable for temporarily fixing the adherend and excellent removability.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、前記密着性樹脂層におけるラジカル捕捉剤の含有率は1重量%以下である。ラジカル捕捉剤は加熱時のゲル分率上昇を抑制する成分となり得る。ラジカル捕捉剤の含有量を所定以下とすることで、上記ゲル分率を効率よく上昇させることができる。   In a preferred embodiment of the technique disclosed herein, the content of the radical scavenger in the adhesive resin layer is 1% by weight or less. The radical scavenger can be a component that suppresses an increase in the gel fraction during heating. By setting the content of the radical scavenger to a predetermined value or less, the gel fraction can be increased efficiently.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、前記密着性樹脂層には、炭素−炭素二重結合が存在している。このように構成することで、加熱時に上記樹脂層中の炭素−炭素二重結合(−C=C−)が反応してゲル分率が速やかに上昇する。また、前記密着性樹脂層における前記炭素−炭素二重結合の存在量は0.1〜2.0mmol/gであることが好ましい。これによって、加熱時におけるゲル分率上昇を好適に実現することができる。   In a preferred embodiment of the technology disclosed herein, a carbon-carbon double bond is present in the adhesive resin layer. By comprising in this way, the carbon-carbon double bond (-C = C-) in the said resin layer reacts at the time of a heating, and a gel fraction rises rapidly. Moreover, it is preferable that the abundance of the carbon-carbon double bond in the adhesive resin layer is 0.1 to 2.0 mmol / g. Thereby, an increase in the gel fraction during heating can be suitably realized.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、前記密着性樹脂層は、一般式(1):

Figure 2015120884
(上式中、Rは水素またはメチル基である。);で表わされる加熱反応性基を有する化合物を含む。このように構成することで、加熱時に上記化合物中の炭素−炭素二重結合が反応してゲル分率が速やかに上昇する。 In a preferred aspect of the technology disclosed herein, the adhesive resin layer has the general formula (1):
Figure 2015120884
(Wherein R is hydrogen or a methyl group); and a compound having a heat-reactive group represented by: By comprising in this way, the carbon-carbon double bond in the said compound reacts at the time of a heating, and a gel fraction rises rapidly.

ここに開示される技術の好ましい一態様では、樹脂シートは、前記密着性樹脂層を支持する樹脂フィルム基材をさらに備える。支持基材として樹脂フィルム基材を備える樹脂シートは、所定の剛性を有することから、加工性や取扱い性に優れたものとなり得る。   In a preferred aspect of the technology disclosed herein, the resin sheet further includes a resin film substrate that supports the adhesive resin layer. Since a resin sheet provided with a resin film substrate as a supporting substrate has a predetermined rigidity, it can be excellent in workability and handleability.

樹脂シートの一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows one structural example of a resin sheet typically. 樹脂シートの他の一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another structural example of the resin sheet. 樹脂シートの他の一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another structural example of the resin sheet. 樹脂シートの他の一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another structural example of the resin sheet. 樹脂シートの他の一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another structural example of the resin sheet. 樹脂シートの他の一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another structural example of the resin sheet.

以下、本発明の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。
なお、以下の図面において、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明することがあり、重複する説明は省略または簡略化することがある。また、図面に記載の実施形態は、本発明を明瞭に説明するために模式化されており、製品として実際に提供される樹脂シートのサイズや縮尺を必ずしも正確に表したものではない。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. Note that matters other than matters specifically mentioned in the present specification and necessary for the implementation of the present invention can be grasped as design matters of those skilled in the art based on the prior art in this field. The present invention can be carried out based on the contents disclosed in this specification and common technical knowledge in the field.
In the following drawings, members / parts having the same action may be described with the same reference numerals, and redundant descriptions may be omitted or simplified. In addition, the embodiment described in the drawings is schematically illustrated in order to clearly explain the present invention, and does not necessarily accurately represent the size and scale of a resin sheet actually provided as a product.

<樹脂シートの構成>
ここに開示される樹脂シートは密着性樹脂層を備える。この密着性樹脂層は、典型的には樹脂シートの少なくとも一方の表面(例えば両面)を構成している。樹脂シートは、上記密着性樹脂層を基材(支持体)の片面または両面に有する形態の基材付き樹脂シートであってもよく、上記密着性樹脂層が剥離ライナー(剥離面を備える基材としても把握され得る。)に保持された形態等の基材レスの樹脂シートであってもよい。この場合、樹脂シートは密着性樹脂層のみからなるものであり得る。ここでいう樹脂シートの概念には、粘着テープ、粘着ラベル、粘着フィルム等と称され得る粘着シートや、接着シート、接着フィルム等の粘接着シート類が包含され得る。また、上記密着性樹脂層は典型的には連続的に形成されるが、かかる形態に限定されるものではなく、例えば点状、ストライプ状等の規則的あるいはランダムなパターンに形成された密着性樹脂層であってもよい。また、本明細書により提供される樹脂シートは、ロール状であってもよく、枚葉状であってもよい。あるいは、さらに種々の形状に加工された形態の樹脂シートであってもよい。
<Configuration of resin sheet>
The resin sheet disclosed here includes an adhesive resin layer. This adhesive resin layer typically constitutes at least one surface (for example, both surfaces) of the resin sheet. The resin sheet may be a resin sheet with a substrate having the adhesive resin layer on one side or both sides of the substrate (support), and the adhesive resin layer is a release liner (a substrate having a release surface). Or a resin sheet without a base material such as a shape held in (5). In this case, the resin sheet may be composed only of the adhesive resin layer. The concept of the resin sheet here may include pressure-sensitive adhesive sheets that can be referred to as pressure-sensitive adhesive tapes, pressure-sensitive adhesive labels, pressure-sensitive adhesive films, and the like, and pressure-sensitive adhesive sheets such as adhesive sheets and adhesive films. The adhesive resin layer is typically formed continuously, but is not limited to such a form. For example, the adhesive resin layer is formed in a regular or random pattern such as a dot shape or a stripe shape. It may be a resin layer. Moreover, the resin sheet provided by this specification may be a roll shape, and may be a sheet form. Or the resin sheet of the form processed into various shapes may be sufficient.

ここに開示される樹脂シートは、例えば、図1〜図6に模式的に示される断面構造を有するものであり得る。このうち図1,図2は、両面接着タイプの基材付き樹脂シートの構成例である。図1に示す樹脂シート1は、基材10の各面(いずれも非剥離性)に密着性樹脂層21,22がそれぞれ設けられ、それらの密着性樹脂層が、少なくとも該密着性樹脂層側が剥離面となっている剥離ライナー31,32によってそれぞれ保護された構成を有している。図2に示す樹脂シート2は、基材10の各面(いずれも非剥離性)にそれぞれ密着性樹脂層21,22が設けられ、それらのうち一方の密着性樹脂層21が、両面が剥離面となっている剥離ライナー31により保護された構成を有している。この種の樹脂シート2は、該樹脂シートを巻回して他方の密着性樹脂層22を剥離ライナー31の裏面に当接させることにより、密着性樹脂層22もまた剥離ライナー31によって保護された構成とすることができる。   The resin sheet disclosed here may have, for example, a cross-sectional structure schematically shown in FIGS. Among these, FIG. 1, FIG. 2 is a structural example of the resin sheet with a base material of a double-sided adhesion type. In the resin sheet 1 shown in FIG. 1, adhesive resin layers 21 and 22 are respectively provided on each surface (both non-peelable) of a substrate 10, and these adhesive resin layers are at least on the adhesive resin layer side. Each has a configuration protected by release liners 31 and 32 serving as release surfaces. The resin sheet 2 shown in FIG. 2 is provided with adhesive resin layers 21 and 22 on each surface (both non-peelable) of the substrate 10, and one of the adhesive resin layers 21 is peeled on both surfaces. It has the structure protected by the release liner 31 which is the surface. This type of resin sheet 2 has a configuration in which the adhesive resin layer 22 is also protected by the release liner 31 by winding the resin sheet and bringing the other adhesive resin layer 22 into contact with the back surface of the release liner 31. It can be.

図3,図4は、基材レスの両面接着性樹脂シートの構成例である。図3に示す樹脂シート3は、基材レスの密着性樹脂層21の両面21A,21Bが、少なくとも該密着性樹脂層側が剥離面となっている剥離ライナー31,32によってそれぞれ保護された構成を有する。図4に示す樹脂シート4は、基材レスの密着性樹脂層21の一方の表面(密着面)21Aが、両面が剥離面となっている剥離ライナー31により保護された構成を有し、これを巻回すると、密着性樹脂層21の他方の表面(密着面)21Bが剥離ライナー31の背面に当接することにより、他面21Bもまた剥離ライナー31で保護された構成とできるようになっている。   3 and 4 are configuration examples of a baseless double-sided adhesive resin sheet. The resin sheet 3 shown in FIG. 3 has a configuration in which both surfaces 21A and 21B of a baseless adhesive resin layer 21 are protected by release liners 31 and 32, respectively, at least the adhesive resin layer side being a release surface. Have. The resin sheet 4 shown in FIG. 4 has a configuration in which one surface (adhesion surface) 21A of the baseless adhesive resin layer 21 is protected by a release liner 31 whose both surfaces are release surfaces. When the other surface 21B of the adhesive resin layer 21 is in contact with the back surface of the release liner 31, the other surface 21B can also be protected by the release liner 31. Yes.

図5,図6は、片面接着性の基材付き樹脂シートの構成例である。図5に示す樹脂シート5は、基材10の一面10A(非剥離性)に密着性樹脂層21が設けられ、その密着性樹脂層21の表面(密着面)21Aが、少なくとも該密着性樹脂層側が剥離面となっている剥離ライナー31で保護された構成を有する。図6に示す樹脂シート6は、基材10の一面10A(非剥離性)に密着性樹脂層21が設けられた構成を有する。基材10の他面10Bは剥離面となっており、樹脂シート6を巻回すると該他面10Bに密着性樹脂層21が当接して、該密着性樹脂層の表面(密着面)21Bが基材の他面10Bで保護されるようになっている。   5 and 6 are configuration examples of a resin sheet with a single-sided adhesive base material. The resin sheet 5 shown in FIG. 5 is provided with an adhesive resin layer 21 on one surface 10A (non-peelable) of the substrate 10, and the surface (adhesive surface) 21A of the adhesive resin layer 21 is at least the adhesive resin. It has a configuration protected by a release liner 31 whose layer side is a release surface. The resin sheet 6 shown in FIG. 6 has a configuration in which an adhesive resin layer 21 is provided on one surface 10A (non-peelable) of the substrate 10. The other surface 10B of the substrate 10 is a release surface. When the resin sheet 6 is wound, the adhesive resin layer 21 comes into contact with the other surface 10B, and the surface (adhesive surface) 21B of the adhesive resin layer is The other surface 10B of the substrate is protected.

<密着性樹脂層>
(ゲル分率)
ここに開示される密着性樹脂層は、120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇することによって特徴づけられる。上記の特徴を示す密着性樹脂層は、密着性樹脂層を被着体に貼り合わせるときには、相対的に低いゲル分率を有することから良好な接着性、追従性を発揮し、被着体表面に良好に密着することが可能である。例えば、凹凸を有する表面に対しても良好に密着することが可能である。密着性樹脂層が被着体表面に良好に密着することは、被着体界面に空隙が少ないことでもあり得るため、該空隙に存在するガス成分が加熱時に膨張することによって引き起こされる密着性低下を防止または抑制することができる。また、樹脂シートを所定以上の温度に加熱すると、密着性樹脂層のゲル分率は速やかに上昇する。具体的には、密着性樹脂層中のアウトガス成分が同加熱により気化膨張するよりも早く上記ゲル分率は上昇して、密着性樹脂層の弾性は上昇する。これにより、アウトガス成分の気化膨張が抑制され、密着性樹脂層からのガス放出が抑制される結果、加熱時のガス放出に起因する密着性低下が抑制される。要するに、ここに開示される技術は、貼り合わせ時の密着性と加熱時におけるガス放出抑制とによって、加熱後においても良好な密着性を維持することを実現する。上記のような樹脂シートによると、例えば、樹脂シートを貼り付けた状態で被着体を搬送する場合において、搬送時の振動等によって樹脂シートが脱落するような不具合が防止される。なお、アウトガス成分とは、典型的には、該樹脂層中に存在する水等の揮発成分や、該樹脂層中の空隙に存在する気体成分のことである。
<Adhesive resin layer>
(Gel fraction)
The adhesive resin layer disclosed herein is characterized by an increase in gel fraction by heating at 120 ° C. for 5 minutes. The adhesive resin layer exhibiting the above characteristics exhibits good adhesion and followability because it has a relatively low gel fraction when the adhesive resin layer is bonded to the adherend, and the adherend surface It is possible to adhere closely to. For example, it is possible to satisfactorily adhere to a surface having irregularities. Good adhesion of the adhesive resin layer to the adherend surface may be due to the fact that there are few voids at the adherend interface. Can be prevented or suppressed. Further, when the resin sheet is heated to a predetermined temperature or higher, the gel fraction of the adhesive resin layer is quickly increased. Specifically, the gel fraction increases faster than the outgas component in the adhesive resin layer vaporizes and expands by the same heating, and the elasticity of the adhesive resin layer increases. Thereby, the vaporization expansion | swelling of an outgas component is suppressed and the gas emission from an adhesive resin layer is suppressed, As a result, the adhesive fall resulting from the gas emission at the time of a heating is suppressed. In short, the technique disclosed here realizes maintaining good adhesion even after heating by adhesion at the time of bonding and gas release suppression at the time of heating. According to the resin sheet as described above, for example, when the adherend is transported in a state where the resin sheet is attached, a problem that the resin sheet falls off due to vibration or the like during transport is prevented. The outgas component is typically a volatile component such as water present in the resin layer or a gas component present in a void in the resin layer.

好ましい一態様に係る密着性樹脂層は、特性(A1):120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇し、かつ上記加熱(120℃、5分間の加熱)を行う前のゲル分率G(%)に対する該加熱を行った後のゲル分率G(%)の比(G/G)が1.1〜10000の範囲内である;を満たす。上述のように、密着性樹脂層は、貼り合わせ時にはゲル分率Gは相対的に低いので、被着体表面に良好に密着することが可能である。また、加熱時にはゲル分率が速やかに上昇して比(G/G)が1.1〜10000の範囲内となるので、密着性樹脂層からのガス放出が抑制される。 The adhesive resin layer according to a preferred embodiment has a characteristic (A1): gel fraction that is increased by heating at 120 ° C. for 5 minutes, and before the heating (heating at 120 ° C. for 5 minutes). The ratio (G B / G A ) of the gel fraction G B (%) after performing the heating with respect to G A (%) is in the range of 1.1 to 10,000; As described above, the adhesion resin layer at the time of bonding the gel fraction G A so relatively low, it is possible to satisfactorily close contact with the adherend surface. Also, during heating and the specific gel fraction is increased rapidly (G B / G A) is in the range of 1.1 to 10,000, gas release from adhesion resin layer is suppressed.

他の好ましい一態様に係る密着性樹脂層は、特性(A2):120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇し、かつ上記加熱(120℃、5分間の加熱)を行った後のゲル分率Gが30%〜100%の範囲内である;を満たす。上述のように、密着性樹脂層は、貼り合わせ時にはゲル分率Gが相対的に低いので、被着体表面に良好に密着することが可能である。また、加熱時にはゲル分率が速やかに上昇してゲル分率Gが30%以上となるので、密着性樹脂層からのガス放出が抑制される。 The adhesive resin layer according to another preferred embodiment has the following characteristics (A2): the gel fraction is increased by heating at 120 ° C. for 5 minutes, and the heating (heating at 120 ° C. for 5 minutes) is performed. gel fraction G B is in the range of 30% to 100%; meet. As described above, the adhesion resin layer is on attachment because a relatively low gel fraction G A, it is possible to satisfactorily close contact with the adherend surface. Further, at the time of heating because the gel fraction is rapidly increased to the gel fraction G B is 30% or more, the gas release from the adhesion resin layer is suppressed.

上述のように、ここに開示される技術は、貼り合わせ性(初期密着性)と加熱後密着性との両立の観点から、比(G/G)が1より大きいことを満たす密着性樹脂層を備える構成で実施される。貼り合わせ性と加熱後の特性(密着性や再剥離性等)を考慮して、上記比(G/G)は2以上(例えば5以上、典型的には10以上)であってもよく、あるいは、100以上(例えば1000以上、典型的には5000以上)であってもよい。比(G/G)の上限は特に限定されないが、加熱後の特性(例えば剥離強度)への影響を考慮して、通常は10000以下であることが適当であり、50以下(例えば20以下、典型的には15以下)とすることが好ましい。目的や用途に応じてゲル分率Gを比較的高めに設定する場合には、比(G/G)は5以下(例えば3以下、典型的には2以下)としてもよく、さらには1.5以下(典型的には1.2以下)としてもよい。なお、この明細書においては、Gが0%の場合は、Gが0%より大きければ比(G/G)>1を満たすこととする。 As discussed above, the art disclosed herein, from the viewpoint of compatibility between the heating after adhesion and bonding property (initial adhesion), the adhesion to satisfy a ratio (G B / G A) is greater than 1 It implements by the structure provided with a resin layer. Taking into account the bonding properties and properties after heating (adhesion and removability, etc.), the ratio (G B / G A) is 2 or more (e.g. 5 or more, typically 10 or more) even Alternatively, it may be 100 or more (for example, 1000 or more, typically 5000 or more). The upper limit is not particularly limited in the ratio (G B / G A), in consideration of the influence on the characteristic after heating (e.g., peel strength), usually is suitably not more than 10,000, 50 or less (e.g., 20 Hereinafter, typically, it is preferably 15 or less. To set the gel fraction G A relatively enhanced depending on the purpose and application, the ratio (G B / G A) is less than 5 (e.g. 3 or less, typically 2 or less) may be further May be 1.5 or less (typically 1.2 or less). In this specification, if G A is 0%, and to satisfy a ratio (G B / G A)> 1 If the G B greater than 0%.

ゲル分率Gはゲル分率Gより低い値であればよく、その限りにおいて特に限定されないが、ゲル分率Gが高すぎると、密着性樹脂層と被着体との密着性が低下する虞がある。より詳しくは、ゲル分率Gが高すぎると、貼り合わせ性が低下して密着性樹脂層と被着体との間に空隙が形成され得るため、加熱時に該空隙に存在するガスが膨張して密着性樹脂層と被着体との密着性が低下する虞がある。また、段差追従性が低下する傾向もある。そのような観点から、ゲル分率Gは90%以下であることが適当であり、好ましくは80%以下(例えば70%以下、典型的には60%以下)である。あるいは、ゲル分率Gは40%以下(例えば10%以下、典型的には5%以下)であってもよい。ゲル分率Gの下限値は0%であり得るが、通常は0.01%以上(例えば0.1%以上、典型的には1%以上)であり、2%以上であることが適当である。ゲル分率Gを高めることで、被着体に貼り付けた状態での流動性が制限され、例えば密着性樹脂層のズレや被着体端面からのはみ出し等の不具合の発生が抑制される。また、密着性樹脂層に適度な弾性を付与する観点から、ゲル分率Gは10%以上(例えば20%以上、典型的には30%以上)とすることが好ましく、ゲル分率Gは40%以上(例えば50%以上、あるいは60%以上)であってもよい。ゲル分率Gは後述の方法により測定される。後述の実施例におけるゲル分率Gについても同様である。 The gel fraction G A may be a value lower than the gel fraction G B, is not particularly limited insofar, the gel fraction G A is too high, the adhesion between the adhesion resin layer and the adherend is May decrease. More specifically, the gel fraction G A is too high, voids may be formed between the bonding property adhesion resin layer is reduced and the adherend, the gas present in said void upon heating expansion As a result, the adhesion between the adhesive resin layer and the adherend may be reduced. Further, there is a tendency that the step following ability is lowered. From this viewpoint, the gel fraction G A is suitably not more than 90%, preferably 80% or less (e.g., 70% or less, typically 60% or less). Alternatively, 40% gel fraction G A or less (e.g., 10% or less, typically less than 5%) may be used. The lower limit of the gel fraction G A may be 0%, but usually more than 0.01% (e.g. 0.1% or more, typically 1% or more) is suitably not less than 2% It is. By increasing the gel fraction G A, limits the flow of in a state of being attached to an adherend, the occurrence of defects protruding like from displacement or adherend end face of the adhesion resin layer is suppressed e.g. . From the viewpoint of imparting suitable elasticity to the adhesion resin layer, the gel fraction G A is 10% or more (e.g., more than 20%, typically 30% or more) preferably to a gel fraction G A May be 40% or more (for example, 50% or more, or 60% or more). Gel fraction G A is measured by the method described below. The same applies to the gel fraction G A in the examples below.

ゲル分率Gは、ゲル分率Gより高い値であればよく、その限りにおいて特に限定されないが、ゲル分率Gが低すぎると、加熱時におけるガス放出を押さえこみにくい傾向がある。そのような観点から、ゲル分率Gは、好ましくは30%以上であり、より好ましくは40%以上であり、さらに好ましくは50%以上(例えば60%以上、典型的には70%以上)である。加熱時のガス放出を強固に抑制する観点から、ゲル分率Gは80%以上(例えば90%以上、典型的には95%以上)であることが特に好ましい。ゲル分率Gの上限は100%であり得るが、通常は99.9%以下(例えば99%以下、典型的には98%以下)とすることが適当である。また、加熱後の特性(典型的には剥離強度)への影響を考慮して、ゲル分率Gは80%以下(例えば70%以下、典型的には65%以下)であってもよい。ゲル分率Gは後述の方法により測定される。後述の実施例におけるゲル分率Gについても同様である。 Gel fraction G B may be any value higher than the gel fraction G A, it is not particularly limited insofar, the gel fraction G B is too low, there is a tendency that hardly dent holding the outgassing during heating . From this viewpoint, the gel fraction G B is preferably 30% or more, more preferably 40% or more, more preferably 50% or more (e.g., 60% or more, and typically 70% or more) It is. From strongly suppressing outgassing upon heating, the gel fraction G B is less than 80% (e.g. 90%, typically 95% or more), especially preferably from. The upper limit of the gel fraction G B may be 100%, but is usually less 99.9% (e.g. 99% or less, typically 98% or less) which is suitable to be. Further, characteristics after heating (typically peel strength) in consideration of the influence on 80% or less gel fraction G B (e.g., 70% or less, typically 65% or less) may be . Gel fraction G B is measured by a method described later. The same applies to the gel fraction G B in the Examples below.

また、ここに開示される密着性樹脂層は、特性(A3):上記加熱(120℃、5分間の加熱)を行う前の該密着性樹脂層を1週間室温(25℃±5℃)で保管した場合において、当該保管後にゲル分率(%)の上昇が実質的に認められない;を満たすことが好ましい。この特性(A3)を満たす樹脂シートは、所定の加熱後にはゲル分率が上昇する特性を示す一方、上記加熱が行われない場合にはゲル分率は上昇しないため、初期の性能(例えば被着体との密着性)を継続的に保持することができる。つまり、保存性や取扱い性に優れる。   In addition, the adhesive resin layer disclosed herein is characteristic (A3): the adhesive resin layer before the above heating (120 ° C., 5 minutes heating) is performed at room temperature (25 ° C. ± 5 ° C.) for one week. In the case of storage, it is preferable that the increase in gel fraction (%) is not substantially observed after the storage; A resin sheet satisfying this characteristic (A3) exhibits a characteristic that the gel fraction increases after a predetermined heating, while the gel fraction does not increase when the heating is not performed. Adhesiveness with the adherend can be continuously maintained. That is, it is excellent in preservability and handleability.

上記特性(A3)は、保管開始前における密着性樹脂層のゲル分率G(%)と保管終了後におけるゲル分率G(%)とを測定し、これらを対比することにより決定すればよい。通常の条件ではゲル分率の低下は起こらないので、比(G/G)は1以上となる。また、「ゲル分率(%)の上昇が実質的に認められない」とは、典型的には比(G/G)=1を意味するが、測定誤差等を勘案して、比(G/G)が1.1未満であることを許容してもよい。比(G/G)は、例えば1.05未満(典型的には1.02未満)であり得る。なお、特性(A3)における保管条件は常圧(大気圧、便宜上1気圧としてもよい。)とする。ゲル分率G、Gは後述の方法により測定される。後述の実施例においても同様である。 The property (A3) is determined by measuring the gel fraction G C (%) of the adhesive resin layer before the start of storage and the gel fraction G D (%) after the storage and comparing them. That's fine. Since the gel fraction does not decrease under normal conditions, the ratio (G D / G C ) is 1 or more. In addition, “substantially no increase in gel fraction (%)” means typically the ratio (G D / G C ) = 1, but taking into account measurement errors etc. (G D / G C ) may be allowed to be less than 1.1. The ratio (G D / G C ) can be, for example, less than 1.05 (typically less than 1.02). Note that the storage condition in the characteristic (A3) is normal pressure (atmospheric pressure, may be 1 atm for convenience). The gel fractions G C and G D are measured by the method described later. The same applies to the embodiments described later.

[ゲル分率G,G,G,Gの測定方法]
約0.5gの密着性樹脂層サンプル(重量W1)を採取し、平均孔径0.2μmの多孔質ポリテトラフルオロエチレン膜(重量W2)で巾着状に包み、口をタコ糸(重量W3)で縛る。この包みをトルエン50mLに浸し、室温(典型的には25℃)で7日間保持して密着性樹脂層中のゾル成分のみを上記膜外に溶出させた後、上記包みを取り出して外表面に付着しているトルエンを拭き取り、該包みを130℃で2時間乾燥させ、該包みの重量(W4)を測定する。そして、各値を下式に代入することによりゲル分率を求める。
ゲル分率(%)=[(W4−W2−W3)/W1]×100
ゲル分率G,G,Gは、加熱処理(典型的には120℃、5分間の加熱)を施していない樹脂シートからの密着性樹脂層サンプルを用いて、上述のゲル分率測定方法により測定される。この樹脂シートは、典型的には密着性樹脂層を乾燥させて作製した後は、上記のような加熱が行われていない。
ゲル分率Gについては、下記の密着性樹脂層サンプルを用いて測定される。すなわち、密着剤樹脂層の表面が剥離ライナーにより保護された形態の樹脂シートを用意する。この樹脂シートを、予め120℃に加温したガラス板2枚の間に挟み、120℃で5分間の加熱を行う。当該加熱後の樹脂シートからの密着性樹脂層サンプルについて、上述のゲル分率測定方法によりゲル分率を測定する。
なお、多孔質ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜としては、日東電工(株)製「ニトフロンNTF1122」(平均孔径0.2μm、気孔率75%、厚さ85μm)またはその相当品を使用することが望ましい。また、ゲル分率Gの測定で用いられるガラス板は特に限定されず、公知または慣用のガラス板を使用すればよい。
[Gel fraction G A, G B, G C , method of measuring G D]
An adhesive resin layer sample (weight W1) of about 0.5 g was collected, wrapped in a purse-like shape with a porous polytetrafluoroethylene membrane (weight W2) having an average pore diameter of 0.2 μm, and the mouth was covered with an octopus thread (weight W3). Tie up. This package is soaked in 50 mL of toluene and kept at room temperature (typically 25 ° C.) for 7 days to elute only the sol component in the adhesive resin layer out of the membrane, and then the package is taken out to the outer surface. The adhering toluene is wiped off, the packet is dried at 130 ° C. for 2 hours, and the weight (W4) of the packet is measured. And a gel fraction is calculated | required by substituting each value to the following Formula.
Gel fraction (%) = [(W4-W2-W3) / W1] × 100
The gel fractions G A , G C , and G D are the above-mentioned gel fractions using an adhesive resin layer sample from a resin sheet that has not been subjected to heat treatment (typically 120 ° C., heating for 5 minutes). It is measured by the measuring method. This resin sheet is typically not heated as described above after being produced by drying the adhesive resin layer.
The gel fraction G B, is measured using the adhesion resin layer sample below. That is, a resin sheet having a form in which the surface of the adhesive resin layer is protected by the release liner is prepared. This resin sheet is sandwiched between two glass plates preheated to 120 ° C. and heated at 120 ° C. for 5 minutes. About the adhesive resin layer sample from the resin sheet after the said heating, a gel fraction is measured with the above-mentioned gel fraction measuring method.
As the porous polytetrafluoroethylene (PTFE) membrane, “Nitoflon NTF1122” (average pore diameter 0.2 μm, porosity 75%, thickness 85 μm) manufactured by Nitto Denko Corporation or its equivalent may be used. desirable. The glass plate used in the measurement of the gel fraction G B is not particularly limited, it may be used a known or conventional glass plate.

(炭素−炭素二重結合)
120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇する特性を示す密着性樹脂層を作製する方法は特に限定されない。例えば、樹脂シート中に炭素−炭素二重結合を存在させて、これを加熱時に反応させることでゲル分率を上昇させる方法が好適例として挙げられる。上記の方法によると、特性(A1)、(A2)および(A3)を満たす構成を好適に実現することができる。上記方法を採用する場合、密着性樹脂層には、炭素−炭素二重結合が存在している。この構成は、特性(A3)を満たすうえで特に有利である。その理由として、炭素−炭素二重結合は、工業的に適用され得る通常の保管環境では空気中の湿気や酸度等と反応せず化学的に安定であることが挙げられる。その一方で、例えば60℃以上の高温状態ではラジカルを発生して他の分子と反応(例えば重合反応や架橋反応)する。炭素−炭素二重結合が存在する密着性樹脂層を採用することで、樹脂シートは保管時には密着性樹脂層のゲル分率の上昇が起こらず取扱い性に優れる。また、所定の加熱条件においては密着性樹脂層のゲル分率上昇(以下、「加熱時ゲル分率上昇」と略記する場合がある。)が速やかに実現される。
(Carbon-carbon double bond)
There is no particular limitation on the method for producing the adhesive resin layer exhibiting the characteristic that the gel fraction is increased by heating at 120 ° C. for 5 minutes. For example, a method of increasing the gel fraction by causing a carbon-carbon double bond to be present in the resin sheet and reacting it at the time of heating is a preferred example. According to said method, the structure which satisfy | fills characteristic (A1), (A2) and (A3) is suitably realizable. When the above method is employed, a carbon-carbon double bond exists in the adhesive resin layer. This configuration is particularly advantageous in satisfying the characteristic (A3). The reason for this is that the carbon-carbon double bond is chemically stable without reacting with moisture or acidity in the air in a normal storage environment that can be industrially applied. On the other hand, for example, in a high temperature state of 60 ° C. or higher, radicals are generated and react with other molecules (for example, polymerization reaction or crosslinking reaction). By adopting an adhesive resin layer in which a carbon-carbon double bond is present, the resin sheet is excellent in handleability without causing an increase in the gel fraction of the adhesive resin layer during storage. Further, an increase in the gel fraction of the adhesive resin layer (hereinafter sometimes abbreviated as “increase in gel fraction during heating”) is quickly realized under predetermined heating conditions.

上記方法において、密着性樹脂層における炭素−炭素二重結合の存在形態は特に限定されない。上記炭素−炭素二重結合は、例えば、ポリマー(典型的には後述のベースポリマー)やオリゴマー、モノマー中に存在し得る。なかでも、密着性樹脂層中での移動性が相対的に低いポリマーが好ましい。上記ポリマーとしては、炭素−炭素二重結合を側鎖または主鎖に有するポリマーが挙げられる。ここで、炭素−炭素二重結合を主鎖に有するとは、ポリマーの主鎖骨格中に炭素−炭素二重結合が存在すること、主鎖末端に炭素−炭素二重結合が存在することを包含する。上記オリゴマーについても上記ポリマーと同様に、炭素−炭素二重結合を側鎖または主鎖(主鎖骨格中、主鎖末端)に有するオリゴマーが例示される。   In the above method, the presence form of the carbon-carbon double bond in the adhesive resin layer is not particularly limited. The carbon-carbon double bond may be present in, for example, a polymer (typically a base polymer described later), an oligomer, or a monomer. Among these, a polymer having relatively low mobility in the adhesive resin layer is preferable. As said polymer, the polymer which has a carbon-carbon double bond in a side chain or a principal chain is mentioned. Here, having a carbon-carbon double bond in the main chain means that a carbon-carbon double bond is present in the main chain skeleton of the polymer and a carbon-carbon double bond is present at the end of the main chain. Include. As for the oligomer, similarly to the polymer, an oligomer having a carbon-carbon double bond in a side chain or main chain (in the main chain skeleton, main chain end) is exemplified.

ポリマー、オリゴマーの側鎖に存在し得る炭素−炭素二重結合の形態や、モノマーに存在し得る炭素−炭素二重結合の形態は特に限定されず、例えば、ビニル基を含む基(典型的には有機基)の形態で炭素−炭素二重結合は存在し得る。ビニル基含有基は、ビニル基やアリル基、(メタ)アクリロイル基であってもよい。ポリマー、オリゴマーへの炭素−炭素二重結合の導入方法は特に限定されず、当業者に公知の方法のなかから適切な方法が選択され得る。分子設計等の観点から、ポリマーまたはオリゴマーの側鎖に炭素−炭素二重結合を導入する方法が好ましい。
なお、この明細書においてポリマーまたはオリゴマーの主鎖とは、当該ポリマーまたはオリゴマーの骨格をなす鎖状構造のことを指すものとする。また、ポリマーまたはオリゴマーの側鎖とは、上記主鎖と結合する基(ペンダント、側基)や、ペンダントとみなされ得る分子鎖を指すものとする。
The form of the carbon-carbon double bond that may be present in the side chain of the polymer or oligomer, or the form of the carbon-carbon double bond that may be present in the monomer is not particularly limited. For example, a group containing a vinyl group (typically May be present in the form of an organic group. The vinyl group-containing group may be a vinyl group, an allyl group, or a (meth) acryloyl group. The method for introducing the carbon-carbon double bond into the polymer or oligomer is not particularly limited, and an appropriate method can be selected from methods known to those skilled in the art. From the viewpoint of molecular design and the like, a method of introducing a carbon-carbon double bond into the side chain of the polymer or oligomer is preferred.
In this specification, the main chain of the polymer or oligomer refers to a chain structure forming the skeleton of the polymer or oligomer. The side chain of the polymer or oligomer refers to a group (pendant, side group) bonded to the main chain or a molecular chain that can be regarded as a pendant.

ここに開示される技術において、密着性樹脂層中に炭素−炭素二重結合を存在させる典型的方法として、次の方法が挙げられる。
(1)密着性樹脂層を構成するベースポリマーとして、炭素−炭素二重結合を有するポリマーを用いる方法。この方法は、具体的には、炭素−炭素二重結合を有するポリマーをベースポリマーとして密着性樹脂組成物に含ませて、該密着性樹脂組成物を用いて密着性樹脂層を形成する。
(2)密着性樹脂層中に、密着性樹脂層を構成するベースポリマーに加えて、炭素−炭素二重結合を有するポリマー、オリゴマーおよび/またはモノマーを含ませる方法。この方法は、具体的には、密着性樹脂組成物中に上記ポリマー、オリゴマーおよび/またはモノマーを適当量添加し、該密着性樹脂組成物を用いて密着性樹脂層を形成する。
上記(1)と(2)は併用してもよい。
In the technique disclosed here, the following method is exemplified as a typical method for causing a carbon-carbon double bond to exist in the adhesive resin layer.
(1) A method of using a polymer having a carbon-carbon double bond as the base polymer constituting the adhesive resin layer. Specifically, in this method, a polymer having a carbon-carbon double bond is included in the adhesive resin composition as a base polymer, and the adhesive resin layer is formed using the adhesive resin composition.
(2) A method in which a polymer, oligomer and / or monomer having a carbon-carbon double bond is included in the adhesive resin layer in addition to the base polymer constituting the adhesive resin layer. Specifically, in this method, an appropriate amount of the polymer, oligomer and / or monomer is added to the adhesive resin composition, and an adhesive resin layer is formed using the adhesive resin composition.
The above (1) and (2) may be used in combination.

炭素−炭素二重結合が存在する密着性樹脂層としては、例えば、炭素−炭素二重結合を有する基(加熱反応性基)が存在する構成の密着性樹脂層が挙げられる。密着性樹脂層中に加熱反応性基を存在させることで、該加熱反応性基が加熱時に反応して密着性樹脂層のゲル分率は上昇し得る。上記加熱反応性基は、加熱前の状態(例えば大気圧において40℃以下、典型的には室温)では実質的に不活性(非反応性)であることが好ましい。なお、加熱反応性基は、上記炭素−炭素二重結合を有する基に限定されるものではない。この点については後述する。   Examples of the adhesive resin layer in which a carbon-carbon double bond exists include an adhesive resin layer having a configuration in which a group having a carbon-carbon double bond (a heat-reactive group) exists. By allowing the heat-reactive group to be present in the adhesive resin layer, the heat-reactive group reacts during heating and the gel fraction of the adhesive resin layer can be increased. The heat-reactive group is preferably substantially inactive (non-reactive) in a state before heating (for example, 40 ° C. or lower at atmospheric pressure, typically room temperature). The heat-reactive group is not limited to the above group having a carbon-carbon double bond. This point will be described later.

炭素−炭素二重結合が存在する密着性樹脂層の好適例として、一般式(1):

Figure 2015120884
(上式中、Rは水素またはメチル基である。);で表わされる加熱反応性基((メタ)アクリロイル基)を有する化合物を含む密着性樹脂層が挙げられる。ここで上記化合物は、ポリマー(典型的にはベースポリマー)、オリゴマーおよびモノマーを包含する。上記化合物を含む密着性樹脂層は、該化合物中の上記反応性基中の炭素−炭素二重結合が加熱時に反応して密着性樹脂層のゲル分率が速やかに上昇する。上記化合物はポリマーであることが好ましい。 As a suitable example of the adhesive resin layer in which a carbon-carbon double bond is present, the general formula (1):
Figure 2015120884
(Wherein R is hydrogen or a methyl group); an adhesive resin layer containing a compound having a heat-reactive group ((meth) acryloyl group) represented by: Here, the compounds include polymers (typically base polymers), oligomers and monomers. In the adhesive resin layer containing the compound, the carbon-carbon double bond in the reactive group in the compound reacts upon heating, and the gel fraction of the adhesive resin layer rapidly increases. The compound is preferably a polymer.

上記化合物がポリマー(典型的にはベースポリマー)である場合、すなわち、ポリマー(典型的にはベースポリマー)が上記一般式(1)で表わされる加熱反応性基を有する場合、ポリマー(典型的にはベースポリマー)への上記加熱反応性基の導入方法は特に限定されず、当業者に公知の方法のなかから適切な方法が選択され得る。例えば、後述のアクリル系ポリマーへの加熱反応性基導入方法と同様の方法が好ましく採用され得る。上記化合物がオリゴマーの場合も、上記ポリマーの場合と同様の方法を採用して、オリゴマーに上記反応性基を導入すればよい。上記化合物がモノマーの場合には、上記反応性基を有するモノマーを入手または合成して、密着性樹脂層に含ませればよい。   When the compound is a polymer (typically a base polymer), that is, when the polymer (typically the base polymer) has a heat-reactive group represented by the general formula (1), the polymer (typically The method for introducing the heat-reactive group into the base polymer is not particularly limited, and an appropriate method can be selected from methods known to those skilled in the art. For example, a method similar to the method for introducing a heat-reactive group into an acrylic polymer described later can be preferably employed. In the case where the compound is an oligomer, the reactive group may be introduced into the oligomer by the same method as in the case of the polymer. When the compound is a monomer, a monomer having the reactive group may be obtained or synthesized and included in the adhesive resin layer.

炭素−炭素二重結合を有するポリマーとしては、特に限定されず、例えば後述のベースポリマーとして例示するもののなかから、密着性樹脂層の特性等を考慮して適当なポリマーを選択して用いることができる。上記ポリマーが炭素−炭素二重結合非含有ポリマーの場合には、該炭素−炭素二重結合非含有ポリマーに対して炭素−炭素二重結合を化学修飾等の方法によって導入したものが好ましく用いられ得る。   The polymer having a carbon-carbon double bond is not particularly limited. For example, among those exemplified as the base polymer described later, an appropriate polymer can be selected and used in consideration of the characteristics of the adhesive resin layer. it can. When the polymer is a carbon-carbon double bond-free polymer, a polymer in which a carbon-carbon double bond is introduced into the carbon-carbon double bond-free polymer by a method such as chemical modification is preferably used. obtain.

上記炭素−炭素二重結合のポリマーへの導入方法の具体例としては、ポリマーに官能基(以下「官能基A」ともいう。)を有するモノマーを共重合した後、この官能基Aと反応し得る官能基(以下「官能基B」ともいう。)と炭素−炭素二重結合とを有する化合物を、炭素−炭素二重結合が消失しないように反応(典型的には縮合、付加反応)させる方法が挙げられる。官能基Aと官能基Bとの組合せの例としては、カルボキシ基とエポキシ基との組合せ、カルボキシ基とアジリジル基との組合せ、水酸基とイソシアネート基との組合せ等が挙げられる。なかでも、反応追跡性の観点から、水酸基とイソシアネート基との組合せが好ましい。また、上記官能基A,Bの組合せは、炭素−炭素二重結合を有するポリマーが得られる組合せであれば、上記組合せ中における一方の官能基を官能基Aとし、他方を官能基Bとしてもよく、あるいは上記一方の官能基を官能基Bとし、上記他方を官能基Aとしてもよい。例えば、水酸基とイソシアネート基との組合せで説明すると、官能基Aは水酸基であってもよく(その場合、官能基Bがイソシアネート基となる。)、イソシアネート基であってもよい(その場合、官能基Bが水酸基となる。)。なかでも、ベースポリマーが水酸基を有し、上記化合物がイソシアネート基を有する組合せが好ましい。この組合せは、ベースポリマーがアクリル系ポリマーである場合に特に好ましい。   As a specific example of the method for introducing the carbon-carbon double bond into the polymer, a monomer having a functional group (hereinafter also referred to as “functional group A”) is copolymerized with the polymer, and then reacted with the functional group A. A compound having a functional group to be obtained (hereinafter also referred to as “functional group B”) and a carbon-carbon double bond is reacted (typically condensation or addition reaction) so that the carbon-carbon double bond does not disappear. A method is mentioned. Examples of the combination of the functional group A and the functional group B include a combination of a carboxy group and an epoxy group, a combination of a carboxy group and an aziridyl group, and a combination of a hydroxyl group and an isocyanate group. Of these, a combination of a hydroxyl group and an isocyanate group is preferable from the viewpoint of reaction traceability. In addition, the combination of the functional groups A and B may be one in which the functional group A is the functional group A and the other is the functional group B as long as a polymer having a carbon-carbon double bond is obtained. Alternatively, the one functional group may be the functional group B and the other functional group may be the functional group A. For example, in the case of a combination of a hydroxyl group and an isocyanate group, the functional group A may be a hydroxyl group (in this case, the functional group B becomes an isocyanate group) or an isocyanate group (in this case, a functional group). The group B becomes a hydroxyl group). Among these, a combination in which the base polymer has a hydroxyl group and the above compound has an isocyanate group is preferable. This combination is particularly preferred when the base polymer is an acrylic polymer.

また、上記ポリマーがビニルアルコール系ポリマー(典型的にはポリビニルアルコール)の場合には、ビニルアルコール系ポリマー(典型的には、炭素−炭素二重結合非含有のビニルアルコール系ポリマー)に、ビニルブロミド等のハロゲン化ビニルやアリルブロミド等のハロゲン化アリルを反応させる方法も好適例として挙げられる。この方法では、上記反応は適当な塩基性条件で行われ、該反応により、側鎖にビニル基を含有するビニルアルコール系ポリマーが得られる。また例えば、特許第4502363号公報に開示されるような重合体を産生する微生物を利用して、炭素−炭素二重結合を有するポリマーを調製する方法を採用してもよい。この方法における微生物種、微生物培養条件等の諸条件は上記特許公報に記載の条件を採用するか、当業者の技術常識の範囲内で適宜改変するなどして設定すればよい。   In addition, when the polymer is a vinyl alcohol polymer (typically polyvinyl alcohol), a vinyl bromide is added to the vinyl alcohol polymer (typically a vinyl alcohol polymer not containing a carbon-carbon double bond). A preferred example is a method in which an allyl halide such as vinyl halide or allyl bromide is reacted. In this method, the reaction is carried out under suitable basic conditions, and a vinyl alcohol polymer containing a vinyl group in the side chain is obtained by the reaction. Further, for example, a method for preparing a polymer having a carbon-carbon double bond using a microorganism producing a polymer as disclosed in Japanese Patent No. 4502363 may be adopted. Various conditions such as microbial species and microbial culture conditions in this method may be set by adopting the conditions described in the above-mentioned patent gazette or by appropriately modifying them within the scope of technical common knowledge of those skilled in the art.

上記官能基Aのモル(M)と官能基Bのモル(M)とのモル比(M/M)は、両者の反応性の観点から、通常は0.2〜10の範囲とすることが適当であり、0.5〜5.0(例えば0.7〜3.0、典型的には1.0〜2.5)の範囲とすることが好ましい。また、官能基Aと官能基Bとの接触機会を高める観点から、炭素−炭素二重結合を有する官能基B含有化合物を多めに配合してもよい。その場合、モル比(M/M)は1未満(例えば0.99未満、0.95未満)とすることが好ましい。官能基Bを有する化合物の配合量は、上述のモル比(M/M)を満たす範囲で、官能基Aを有するポリマー(典型的には、炭素−炭素二重結合が導入される前のポリマー)100重量部に対して、1重量部以上(例えば5重量部以上、典型的には10重量部以上)程度とすることが好ましく、40重量部以下(例えば30重量部以下、典型的には15重量部以下)程度とすることが好ましい。例えば、ベースポリマーとして後述のアクリル系ポリマーを用いる構成に対して、上述のモル比(M/M)や、炭素−炭素二重結合を有する官能基B含有化合物の配合量を好ましく適用することができる。 The molar ratio (M A / M B ) between the mole of the functional group A (M A ) and the mole of the functional group B (M B ) is usually in the range of 0.2 to 10 from the viewpoint of both reactivity. It is suitable to set it as 0.5-5.0 (for example, 0.7-3.0, typically 1.0-2.5). Further, from the viewpoint of increasing the contact opportunity between the functional group A and the functional group B, a large amount of the functional group B-containing compound having a carbon-carbon double bond may be blended. In that case, the molar ratio (M A / M B ) is preferably less than 1 (for example, less than 0.99 or less than 0.95). The amount of the compound having the functional group B is a range satisfying the molar ratio of the above-mentioned (M A / M B), the polymer (typically having a functional group A, a carbon - before carbon double bond is introduced 1 part by weight (for example, 5 parts by weight or more, typically 10 parts by weight or more), preferably 40 parts by weight or less (for example, 30 parts by weight or less, typical) Is preferably about 15 parts by weight or less). For example, the above-described molar ratio (M A / M B ) and the compounding amount of the functional group B-containing compound having a carbon-carbon double bond are preferably applied to the configuration using the acrylic polymer described later as the base polymer. be able to.

また、炭素−炭素二重結合を有するポリマーは、例えばジエン系ポリマー(典型的には共役ジエン系ポリマー)であってもよい。ジエン系ポリマー(典型的には共役ジエン系ポリマー)は、典型的にはジエン(典型的には共役ジエン)を重合または共重合して得られる重合体である。ジエン系ポリマー(典型的には共役ジエン系ポリマー)としては、ポリブタジエン、スチレンブタジエン共重合体等のブタジエン系ポリマー;ポリイソプレン、スチレンイソプレン共重合体等のイソプレン系ポリマー;ポリクロロプレン等のクロロプレン系ポリマー;等が挙げられる。   The polymer having a carbon-carbon double bond may be, for example, a diene polymer (typically a conjugated diene polymer). The diene polymer (typically conjugated diene polymer) is a polymer typically obtained by polymerizing or copolymerizing a diene (typically conjugated diene). Diene polymers (typically conjugated diene polymers) include butadiene polymers such as polybutadiene and styrene butadiene copolymers; isoprene polymers such as polyisoprene and styrene isoprene copolymers; chloroprene polymers such as polychloroprene. And the like.

また、炭素−炭素二重結合は、化学的活性が高いことから、内部二重結合よりも外部二重結合の方が好ましい。ここで内部二重結合とは、ポリマー、オリゴマーの主鎖の内部に組み込まれた状態で存在する二重結合のことを指す。この炭素−炭素二重結合は、その炭素原子の両方が主鎖を構成している。また外部二重結合とは、ポリマー、オリゴマーの分子鎖(例えば主鎖)の外部に存在する二重結合のことを指す。なお、ポリマー、オリゴマーの主鎖末端に炭素−炭素二重結合が存在する場合には、当該二重結合は外部二重結合である。   Moreover, since a carbon-carbon double bond has high chemical activity, an external double bond is more preferable than an internal double bond. Here, the internal double bond refers to a double bond existing in a state incorporated in the main chain of the polymer or oligomer. In this carbon-carbon double bond, both of its carbon atoms constitute the main chain. The external double bond refers to a double bond existing outside the molecular chain (for example, main chain) of the polymer or oligomer. In addition, when a carbon-carbon double bond is present at the end of the main chain of the polymer or oligomer, the double bond is an external double bond.

ここに開示される技術が、炭素−炭素二重結合を有するポリマー(典型的にはベースポリマー)を含む密着性樹脂層を備える態様で実施される場合、密着性樹脂層中における炭素−炭素二重結合を有するポリマー(典型的にはベースポリマー)の含有量は、目標とする加熱時のゲル分率上昇の程度に応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。例えば、後述の炭素−炭素二重結合の存在量を実現するように配合することが好ましい。   When the technology disclosed herein is implemented in an embodiment including an adhesive resin layer including a polymer having carbon-carbon double bonds (typically a base polymer), the carbon-carbon two in the adhesive resin layer is used. What is necessary is just to set suitably content of the polymer (typically base polymer) which has a heavy bond according to the grade of the gel fraction raise at the time of the target heating, and it does not specifically limit it. For example, it is preferable to blend so as to realize the abundance of carbon-carbon double bonds described later.

また、ここに開示される炭素−炭素二重結合を有するモノマーおよびオリゴマー(以下、単にモノマー/オリゴマーともいう。)としては、例えば、ウレタンオリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリロイル基含有化合物;該(メタ)アクリロイル基含有化合物の2〜5量体;等が挙げられる。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。炭素−炭素二重結合を有するオリゴマーはまた、ウレタン系オリゴマー、ポリエーテル系オリゴマー、ポリエステル系オリゴマー、ポリカーボネート系オリゴマー、ポリブタジエン系オリゴマー等のオリゴマーの1種または2種以上であってもよい。   Examples of the monomers and oligomers having a carbon-carbon double bond disclosed herein (hereinafter also simply referred to as monomers / oligomers) include urethane oligomers, urethane (meth) acrylates, and trimethylolpropane tri (meth). Acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1 (Meth) acryloyl group-containing compounds such as 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-butanediol di (meth) acrylate and polyethylene glycol di (meth) acrylate; ) 2-5 mer acryloyl group-containing compound; and the like. These can be used alone or in combination of two or more. The oligomer having a carbon-carbon double bond may be one or more of oligomers such as urethane oligomers, polyether oligomers, polyester oligomers, polycarbonate oligomers, and polybutadiene oligomers.

なお、この明細書においてオリゴマーとは、分子量が3.0×10未満の重合物を指す。上記オリゴマーの分子量は100以上であることが好ましく、1.0×10以下であることが好ましい。オリゴマーの分子量としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により求められる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)、または化学式から算出される分子量が採用される。 In this specification, the oligomer refers to a polymer having a molecular weight of less than 3.0 × 10 4 . The molecular weight of the oligomer is preferably 100 or more, and preferably 1.0 × 10 4 or less. As the molecular weight of the oligomer, a standard polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) determined by gel permeation chromatography (GPC) or a molecular weight calculated from a chemical formula is employed.

ここに開示される技術が、炭素−炭素二重結合を有するモノマー/オリゴマーを含む密着性樹脂層を備える態様で実施される場合、密着性樹脂層中における炭素−炭素二重結合を有するモノマー/オリゴマーの含有量は、目標とする加熱時のゲル分率上昇の程度に応じて適宜設定すればよい。   When the technique disclosed herein is implemented in an embodiment including an adhesive resin layer including a monomer / oligomer having a carbon-carbon double bond, the monomer / carbon double carbon bond in the adhesive resin layer / What is necessary is just to set oligomer content suitably according to the grade of the gel fraction raise at the time of the target heating.

密着性樹脂層における炭素−炭素二重結合の存在量は、目標とする加熱時のゲル分率上昇の程度に応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。密着性樹脂層における炭素−炭素二重結合の存在量は、加熱時ゲル分率上昇を確実に発現させる観点から、密着性樹脂層1g当たり0.01mmol(以下、mmol/gともいう。)以上とすることが適当であり、0.2mmol/g以上(例えば0.3mmol/g以上、典型的には0.5mmol/g以上)とすることがより好ましい。また、炭素−炭素二重結合の存在量が多すぎると、架橋密度が高くなりすぎて、被着体との密着性が過度に低下する虞がある。そのような観点から、炭素−炭素二重結合の存在量は、10.0mmol/g以下とすることが適当であり、5.0mmol/g以下(例えば3.0mmol/g以下、典型的には1.0mmol/g以下)とすることが好ましい。   The abundance of the carbon-carbon double bond in the adhesive resin layer may be appropriately set according to the target degree of increase in the gel fraction during heating, and is not particularly limited. The abundance of the carbon-carbon double bond in the adhesive resin layer is 0.01 mmol (hereinafter also referred to as mmol / g) or more per 1 g of the adhesive resin layer from the viewpoint of surely increasing the gel fraction during heating. It is suitable to be 0.2 mmol / g or more (for example, 0.3 mmol / g or more, typically 0.5 mmol / g or more). Moreover, when there are too many carbon-carbon double bonds, a crosslinking density will become high too much and there exists a possibility that adhesiveness with a to-be-adhered body may fall too much. From such a point of view, the amount of carbon-carbon double bonds is suitably 10.0 mmol / g or less, and is 5.0 mmol / g or less (eg, 3.0 mmol / g or less, typically 1.0 mmol / g or less).

炭素−炭素二重結合の存在量は、NMR(Nuclear Magnetic Resonance)法により測定される。具体的には、密着性樹脂層から適当量の試料を採取し、該試料を内部標準物質を所定量添加した測定溶媒に溶解したものにつき測定を行うことによって炭素−炭素二重結合の存在量は求められる。分析装置としては、フーリエ変換NMR装置(Bruker Biospin社製、「AVANCE III−600 with Cryo Probe」)またはその相当品を用いるとよい。測定条件としては、下記の条件が採用され得る。
[測定条件]
観測周波数:H 600 MHz
測定溶媒:CDCl
測定温度:300K
化学シフト基準:測定溶媒 H;7.25ppm
The abundance of the carbon-carbon double bond is measured by NMR (Nuclear Magnetic Resonance) method. Specifically, an abundance of carbon-carbon double bonds is obtained by taking an appropriate amount of sample from the adhesive resin layer and measuring the sample dissolved in a measurement solvent to which a predetermined amount of internal standard substance is added. Is required. As an analysis apparatus, a Fourier transform NMR apparatus (manufactured by Bruker Biospin, “AVANCE III-600 with Cryo Probe”) or an equivalent thereof may be used. The following conditions can be adopted as measurement conditions.
[Measurement condition]
Observation frequency: 1 H 600 MHz
Measuring solvent: CDCl 3
Measurement temperature: 300K
Chemical shift standard: Measurement solvent 1 H; 7.25 ppm

(ラジカル発生剤)
また、ここに開示される密着性樹脂層は、ラジカル発生剤を含むことが好ましい。炭素−炭素二重結合の有無にかかわらず、加熱を行うとポリマー等の分子結合の開裂や、空気中の酸素酸化等によってラジカルが生成することが知られている(「高分子劣化・崩壊の<樹脂別>トラブル対策と最新の改質・安定化技術」 高分子物性研究会 1981年発行)。したがって、加熱時に上記ラジカルが存在すると、ラジカル反応(例えば重合反応や架橋反応)が起こり、密着性樹脂シートのゲル分率は上昇すると考えられる。しかし、樹脂シートが使用時に曝され得る熱履歴を利用してゲル分率を上昇させようとした場合、当該熱履歴は、通常は凡そ60℃〜250℃、5時間程度までであるため、上記の熱履歴によってはラジカル反応は速やかに進行せず、密着性樹脂層からのガス放出は抑制されない。ここに開示される技術の好ましい一態様では、ラジカル発生剤を密着性樹脂層に積極的に含ませることで、上記反応の速やかな進行を確実なものとする。これにより、加熱時ゲル分率上昇を迅速に実現することができる。例えば、密着性樹脂層中に炭素−炭素二重結合が存在する場合には、加熱時にラジカル発生剤からフリーラジカルが生成し、これが上記炭素−炭素二重結合に付加することでラジカル反応が確実に行われ、密着性樹脂層のゲル分率がより速やかに上昇する。
(Radical generator)
Moreover, it is preferable that the adhesive resin layer disclosed here contains a radical generator. Regardless of the presence or absence of carbon-carbon double bonds, it is known that when heated, radicals are generated by the cleavage of molecular bonds such as polymers and oxygen oxidation in the air. <By resin> Trouble countermeasures and the latest reforming and stabilization technology "Polymer Properties Study Group, published in 1981). Therefore, it is considered that when the radical is present during heating, a radical reaction (for example, a polymerization reaction or a crosslinking reaction) occurs, and the gel fraction of the adhesive resin sheet is increased. However, when trying to increase the gel fraction using the heat history that the resin sheet can be exposed to in use, the heat history is usually about 60 ° C. to 250 ° C., up to about 5 hours, Depending on the heat history, the radical reaction does not proceed rapidly, and gas release from the adhesive resin layer is not suppressed. In a preferred embodiment of the technique disclosed herein, the radical reaction agent is positively included in the adhesive resin layer to ensure the rapid progress of the reaction. Thereby, the gel fraction increase at the time of a heating can be implement | achieved rapidly. For example, when a carbon-carbon double bond is present in the adhesive resin layer, free radicals are generated from the radical generator during heating, and this is added to the carbon-carbon double bond to ensure the radical reaction. To increase the gel fraction of the adhesive resin layer more rapidly.

この明細書において「ラジカル発生剤」とは、加熱時に自身が分解する等してフリーラジカルを発生させる剤のことをいう。典型的には、ラジカル重合に用いられる重合開始剤であり得る。上記ラジカル発生剤としては、例えば、ラジカル重合に用いられ得る重合開始剤である過酸化物系化合物(過酸化物系開始剤)、アゾ系化合物(アゾ系開始剤)が挙げられる。なかでも、水素引き抜き反応性を有する過酸化物系化合物が好ましい。例えば、水素引き抜き反応によりポリマー骨格中の水素が引き抜かれるとポリマーラジカルが生成する。このポリマーラジカル同士が反応(再結合)することで、ゲル分率は好適に上昇し得る。ラジカル発生剤は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   In this specification, the “radical generator” refers to an agent that generates free radicals by being decomposed during heating. Typically, it may be a polymerization initiator used for radical polymerization. Examples of the radical generator include peroxide compounds (peroxide initiators) and azo compounds (azo initiators), which are polymerization initiators that can be used for radical polymerization. Of these, peroxide compounds having hydrogen abstraction reactivity are preferred. For example, when hydrogen in the polymer skeleton is extracted by a hydrogen abstraction reaction, a polymer radical is generated. By the reaction (recombination) of the polymer radicals, the gel fraction can be suitably increased. A radical generator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

過酸化物系開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネート、モノパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ケトンパーオキサイド等の有機過酸化物や過酸化水素等が挙げられる。
ジアシルパーオキサイドとしては、ジベンゾイルパーオキサイド(BPO)、ジ−p−ニトロベンゾイルパーオキサイド、ジ−p−クロロベンゾイルパーオキサイド、ジ(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド、ジ−n−オクタノイルパーオキサイド、ジデカノイルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等が挙げられる。
パーオキシエステルとしては、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシアセテート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン等が挙げられる。
パーオキシジカーボネートとしては、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート等が挙げられる。
モノパーオキシカーボネートとしては、例えば、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート、t−アミルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルカーボネート等が挙げられる。
パーオキシケタールとしては、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレート等が挙げられる。
ジアルキルパーオキサイドとしては、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3等が挙げられる。
ハイドロパーオキサイドとしては、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルシクロヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド等が挙げられる。
ケトンパーオキサイドとしては、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等が挙げられる。
なかでも、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステルが好ましく、BPO、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートがより好ましい。過酸化物系開始剤は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the peroxide initiator include organic peroxides such as diacyl peroxide, peroxyester, peroxydicarbonate, monoperoxycarbonate, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, and ketone peroxide. And hydrogen peroxide.
Diacyl peroxide includes dibenzoyl peroxide (BPO), di-p-nitrobenzoyl peroxide, di-p-chlorobenzoyl peroxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, di-n. -Octanoyl peroxide, didecanoyl peroxide, dilauroyl peroxide, etc. are mentioned.
Peroxyesters include t-butyl peroxyneodecanoate, t-hexyl peroxypivalate, t-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexa Noate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, di (4-methylbenzoyl) peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, t -Butyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane and the like.
Examples of the peroxydicarbonate include di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butyl peroxydicarbonate, and the like.
Examples of monoperoxycarbonate include t-butyl peroxyisopropyl carbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl carbonate, t-amyl peroxyisopropyl carbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl carbonate, and the like. .
As peroxyketals, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) propane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, , 1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valate and the like.
Dialkyl peroxides include di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, α, α'-bis (t-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, 2,5-di- (T-butylperoxy) hexyne-3 and the like.
Examples of the hydroperoxide include cumene hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylcyclohexane-2,5-dihydroperoxide and the like.
Examples of the ketone peroxide include cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, and methyl ethyl ketone peroxide.
Of these, diacyl peroxide and peroxyester are preferable, and BPO, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate and t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate are more preferable. preferable. Peroxide initiators can be used singly or in combination of two or more.

過酸化物系開始剤の市販品としては、「パーメックシリーズ」、「パーヘキサシリーズ」、「パーブチルシリーズ」、「パーオクタシリーズ」、「パークミルシリーズ」、「パーロイルシリーズ」、「ナイパーシリーズ」、「パーヘキシルシリーズ」等(いずれも日油(株)製)が挙げられる。なかでも、「ナイパーシリーズ」や「パーオクタシリーズ」、「パーヘキシルシリーズ」が好ましい。   Commercially available peroxide-based initiators include "Permec Series", "Perhexa Series", "Perbutyl Series", "Perocta Series", "Park Mill Series", "Parroyl Series", "Nyper Series ”,“ Perhexyl Series ”and the like (both manufactured by NOF Corporation). Of these, “Nyper series”, “Perocta series” and “Perhexyl series” are preferable.

アゾ系開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2’−アゾビス[2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2’−アゾビス(N,N’−ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]ハイドレート、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)等が挙げられる。   Examples of the azo initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2′-azobis (2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2′-azobis (2- Amidinopropane) dihydrochloride, 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2′-azobis (N, N′-dimethyleneisobutylamidine) 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] hydrate, 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2 ′ -Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbon Bonitoriru), 2,2'-azobis (2,4,4-trimethylpentane), dimethyl-2,2'-azobis (2-methyl propionate), and the like.

また、ラジカル発生剤は、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩;フェニル置換エタン等の置換エタン系化合物;芳香族カルボニル化合物;過酸化物と還元剤との組合せによるレドックス系化合物(レドックス系開始剤);等の重合開始剤としても機能し得るものが挙げられる。レドックス系開始剤の例としては、過酸化物とアスコルビン酸との組合せ(過酸化水素水とアスコルビン酸との組合せ等)、過酸化物と鉄(II)塩との組合せ(過酸化水素水と鉄(II)塩との組合せ等)、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムとの組合せ等が挙げられる。   In addition, radical generators include persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate; substituted ethane compounds such as phenyl-substituted ethane; aromatic carbonyl compounds; redox compounds based on combinations of peroxides and reducing agents (redox compounds) And the like which can also function as a polymerization initiator. Examples of redox initiators include a combination of peroxide and ascorbic acid (such as a combination of hydrogen peroxide and ascorbic acid), a combination of peroxide and iron (II) salt (such as hydrogen peroxide and A combination of iron (II) salt and the like, and a combination of persulfate and sodium bisulfite.

また、ラジカル発生剤は、有機合成において公知の無機系または有機系の酸化剤であってもよい。上記酸化剤としては、例えば、上述のラジカル重合開始剤として用いられ得る過酸化物のほか、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過安息香酸、メタクロロ過安息香酸、モノペルオキシフタル酸、過ギ酸等の有機過酸(過カルボン酸)が挙げられる。なかでも、メタクロロ過安息香酸が好ましい。これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The radical generator may be an inorganic or organic oxidant known in organic synthesis. Examples of the oxidizing agent include peroxides that can be used as the above-described radical polymerization initiator, peracetic acid, trifluoroperacetic acid, perbenzoic acid, metachloroperbenzoic acid, monoperoxyphthalic acid, performic acid, and the like. An organic peracid (percarboxylic acid) is mentioned. Of these, metachloroperbenzoic acid is preferred. These can be used alone or in combination of two or more.

ここに開示される密着性樹脂層がラジカル発生剤を含む場合、添加方法は特に限定されない。例えば、ラジカル発生剤ともなり得る重合開始剤をベースポリマー重合時に添加する方法が好ましい。この方法では、重合開始剤は、重合後も所定量が残存するように添加される。重合開始剤の残存量(ラジカル発生剤の存在量)は、重合開始剤の添加量だけでなく、ポリマー重合条件や密着性樹脂層形成時の乾燥条件等によっても調整可能である。あるいは、密着性樹脂組成物中に、典型的にはベースポリマー含有液に添加混合してもよい。この方法では、ラジカル発生剤は、他の添加成分(例えば架橋剤等)とともに該組成物中に添加され得る。   When the adhesive resin layer disclosed herein contains a radical generator, the addition method is not particularly limited. For example, a method of adding a polymerization initiator that can also be a radical generator at the time of polymerizing the base polymer is preferable. In this method, the polymerization initiator is added so that a predetermined amount remains after polymerization. The remaining amount of the polymerization initiator (the amount of the radical generator present) can be adjusted not only by the addition amount of the polymerization initiator but also by the polymer polymerization conditions, the drying conditions when forming the adhesive resin layer, and the like. Or you may typically add and mix in a base polymer containing liquid in adhesive resin composition. In this method, the radical generator can be added to the composition together with other additive components (such as a crosslinking agent).

上記ラジカル発生剤の10時間半減期温度や活性化エネルギーは、使用時に曝される加熱条件や、目標とする加熱後特性等によって決定すればよく特に限定されない。例えば、10時間半減期温度が20℃〜107℃(典型的には50℃〜100℃)のラジカル発生剤や、活性化エネルギーが100〜150kJ/molのラジカル発生剤を好ましく用いることができる。なお、10時間半減期温度は、適当な溶剤(例えばベンゼン)を用いて測定された値を採用すればよい。   The 10-hour half-life temperature and activation energy of the radical generator are not particularly limited as long as they are determined by the heating conditions exposed during use, the target post-heating characteristics, and the like. For example, a radical generator having a 10-hour half-life temperature of 20 ° C. to 107 ° C. (typically 50 ° C. to 100 ° C.) and a radical generator having an activation energy of 100 to 150 kJ / mol can be preferably used. The 10-hour half-life temperature may be a value measured using an appropriate solvent (for example, benzene).

ここに開示される密着性樹脂層がラジカル発生剤を含む場合、ラジカル発生剤の存在量(含有量)は、加熱時におけるゲル分率上昇の程度に応じて適宜決定すればよく、特に限定されない。密着性樹脂層中におけるラジカル発生剤の存在量は、加熱時ゲル分率上昇の観点から、0.001重量%以上(例えば0.005重量%以上、典型的には0.01重量%以上)であることが好ましい。ラジカル発生剤の存在量の上限は、特に限定されず、5重量%以下(例えば3重量%以下、典型的には2重量%以下)とすることが適当である。また、架橋密度が高くなりすぎることを抑制する観点から、1重量%以下(例えば0.5重量%以下、典型的には0.2重量%以下)とすることが好ましい。   When the adhesive resin layer disclosed herein contains a radical generator, the abundance (content) of the radical generator may be appropriately determined according to the degree of increase in the gel fraction during heating, and is not particularly limited. . The amount of the radical generator present in the adhesive resin layer is 0.001% by weight or more (eg, 0.005% by weight or more, typically 0.01% by weight or more) from the viewpoint of increasing the gel fraction during heating. It is preferable that The upper limit of the abundance of the radical generator is not particularly limited, and is suitably 5% by weight or less (eg, 3% by weight or less, typically 2% by weight or less). From the viewpoint of suppressing the crosslinking density from becoming too high, the content is preferably 1% by weight or less (for example, 0.5% by weight or less, typically 0.2% by weight or less).

上記ラジカル発生剤の存在量は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)法により測定することができる。例えば、上記ラジカル発生剤(例えばBPO)の存在量は、下記の方法により測定することができる。後述の実施例におけるラジカル発生剤の存在量についても同様である。
密着性樹脂層サンプル約0.1gを採取し、酢酸エチルを加えて24時間振とうする。その後、アセトニトリル10mLを加えて、さらに3時間振とうする。得られた溶液を孔径0.2μmのメンブレンフィルタで濾過したものにつき、HPLCによりサンプル中のラジカル発生剤量を測定する。HPLC測定は、例えば分析装置としてDionex社製の商品名「UltiMate3000」を用いて下記の条件で行うことができる。
[測定条件]
カラム: ZORBAX Eclipse Plus(3.0mmφ×50mm、1.8μm)
溶離液: 蒸留水/アセトニトリル逆相グラジエント条件
流量: 0.8mL/min
検出器: PDA(190nm〜400nm)、230nm抽出
カラム温度: 40℃
注入量: 5μL
The abundance of the radical generator can be measured by a high performance liquid chromatography (HPLC) method. For example, the abundance of the radical generator (eg, BPO) can be measured by the following method. The same applies to the abundance of the radical generator in the examples described later.
About 0.1 g of the adhesive resin layer sample is collected, added with ethyl acetate, and shaken for 24 hours. Thereafter, 10 mL of acetonitrile is added and shaken for another 3 hours. About the obtained solution filtered through a membrane filter having a pore diameter of 0.2 μm, the amount of radical generator in the sample is measured by HPLC. The HPLC measurement can be performed under the following conditions using, for example, a trade name “Ultimate 3000” manufactured by Dionex as an analyzer.
[Measurement condition]
Column: ZORBAX Eclipse Plus (3.0 mmφ × 50 mm, 1.8 μm)
Eluent: Distilled water / acetonitrile reverse phase gradient Condition flow rate: 0.8 mL / min
Detector: PDA (190 nm to 400 nm), 230 nm extraction column temperature: 40 ° C.
Injection volume: 5 μL

(その他のゲル分率上昇成分)
また、ここに開示される密着性樹脂層は、エポキシ樹脂等のエポキシ系化合物を含んでもよい。これにより、加熱時においてエポキシ系化合物中のエポキシ基が開環し、エポキシ系化合物同士が反応することで密着性樹脂層のゲル分率は上昇し得る。なお、エポキシ系化合物には、分子中に加熱反応性基としてエポキシ基を少なくとも1つ有するポリマー、オリゴマーおよびモノマーが包含される。
(Other gel fraction increasing components)
Moreover, the adhesive resin layer disclosed herein may include an epoxy compound such as an epoxy resin. Thereby, the epoxy group in an epoxy-type compound is ring-opened at the time of a heating, and the gel fraction of an adhesive resin layer can rise because epoxy-type compounds react with each other. The epoxy compound includes polymers, oligomers and monomers having at least one epoxy group as a heat-reactive group in the molecule.

また、密着性樹脂層がエポキシ系化合物を含む態様において、エポキシ基と反応性を有する官能基(例えばカルボキシ基)を有するポリマーをベースポリマーとして用いることができる。これにより、加熱時に開環したエポキシ基が、ポリマー中の上記官能基(例えばカルボキシ基)と反応することで、密着性樹脂層のゲル分率は上昇し得る。ベースポリマーとしてアクリル系ポリマーを採用することで、アクリル系ポリマーによる特性(例えば被着体追従性や密着性)を得つつ、加熱時のゲル分率上昇を実現することができる。エポキシ系化合物の含有量は特に限定されず、当該分野の技術常識に基づき、実用上許容される保存安定性や、目標とする加熱時ゲル分率上昇を実現し得る適当な量を添加すればよい。   In an embodiment in which the adhesive resin layer contains an epoxy compound, a polymer having a functional group (for example, a carboxy group) having reactivity with an epoxy group can be used as the base polymer. Thereby, the gel fraction of the adhesive resin layer can be increased by the reaction of the epoxy group that is ring-opened during heating with the functional group (for example, carboxy group) in the polymer. By adopting the acrylic polymer as the base polymer, it is possible to achieve an increase in the gel fraction during heating while obtaining characteristics (for example, adherence followability and adhesion) due to the acrylic polymer. The content of the epoxy compound is not particularly limited, and based on the common general technical knowledge in the field, if an appropriate amount capable of realizing practically acceptable storage stability and the target gel fraction increase upon heating is added. Good.

なお、エポキシ系化合物は、湿気や温度等によって開環反応が徐々に進行する傾向があり、所定温度以上の加熱を行わない場合でも経時的にゲル分率が上昇する虞がある。そのため、密着性樹脂層がエポキシ系化合物を含む場合、保管環境に配慮する等の対策を行うことが望ましい。あるいは、ここに開示される技術は、保存性等を考慮して、エポキシ系化合物を実質的に含まない密着性樹脂層を備える態様で実施してもよい。   In addition, the epoxy-based compound has a tendency that the ring-opening reaction gradually proceeds depending on moisture, temperature, and the like, and the gel fraction may increase with time even when heating at a predetermined temperature or higher is not performed. Therefore, when the adhesive resin layer contains an epoxy compound, it is desirable to take measures such as considering the storage environment. Or you may implement the technique disclosed here in the aspect provided with the adhesive resin layer which does not contain an epoxy-type compound substantially in consideration of preservability etc.

また、ここに開示される密着性樹脂層には、加熱反応性基としてカルボキシ基および水酸基が存在していてもよい。密着性樹脂層中にカルボキシ基と水酸基とが存在することにより、これら官能基が加熱時に脱水反応して密着性樹脂層のゲル分率は上昇し得る。例えば、カルボキシ基を有する化合物(典型的にはポリマー)と水酸基を有する化合物(典型的にはポリマー)を含む構成や、カルボキシ基および水酸基を有する化合物(典型的にはポリマー)を含む構成の密着性樹脂層が挙げられる。上記化合物は、例えばアクリル系ポリマーであり得る。   Moreover, in the adhesive resin layer disclosed here, a carboxy group and a hydroxyl group may exist as a heat-reactive group. Due to the presence of carboxy groups and hydroxyl groups in the adhesive resin layer, these functional groups undergo a dehydration reaction during heating, and the gel fraction of the adhesive resin layer can be increased. For example, a structure containing a compound having a carboxy group (typically a polymer) and a compound having a hydroxyl group (typically a polymer) or a structure containing a compound having a carboxy group and a hydroxyl group (typically a polymer) A functional resin layer. The compound can be, for example, an acrylic polymer.

上記密着性樹脂層において、カルボキシ基のモル(M)と水酸基のモル(M)とのモル比(M/M)は、加熱時ゲル分率上昇の観点から、通常は0.1〜10の範囲であり、凡そ0.2〜5(例えば0.3〜3、典型的には0.5〜2)の範囲とすることが適当である。 In the above adhesive resin layer, the molar ratio (M C / M H ) between the mole of carboxy group (M C ) and the mole of hydroxyl group (M H ) is usually from the viewpoint of increasing the gel fraction during heating. The range is 1 to 10, and it is appropriate that the range is about 0.2 to 5 (for example, 0.3 to 3, typically 0.5 to 2).

(ベースポリマー)
ここに開示される密着性樹脂層は、ベースポリマーとして、粘着剤や接着剤の分野において公知のアクリル系ポリマー、ゴム系ポリマー(例えば、天然ゴム、クロロプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム等)、ポリエステル、ウレタン系ポリマー、ポリエーテル、シリコーン系ポリマー、ポリアミド、フッ素系ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系ポリマー、エポキシ系樹脂、塩化ビニル系ポリマー、シアノアクリレート系ポリマー、セルロース系ポリマー(ニトロセルロース系ポリマー等)、フェノール樹脂、ポリイミド、ポリオレフィン、スチレン系ポリマー、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラール、ポリベンズイミダゾール、メラミン樹脂、ユリア樹脂、レゾルシノール系ポリマー等の各種ポリマーの1種または2種以上を含むものであり得る。密着性やコスト等の観点から、アクリル系ポリマー、ゴム系ポリマー、ポリエステル、ウレタン系ポリマー、ポリエーテル、シリコーン系ポリマー、ポリアミド、フッ素系ポリマーが好ましく、アクリル系ポリマー、ゴム系ポリマーがより好ましく、アクリル系ポリマーが特に好ましい。
なお、密着性樹脂の「ベースポリマー」とは、該密着性樹脂に含まれるポリマーの主成分をいう。上記ポリマーは、室温付近の温度域においてゴム弾性を示すゴム状ポリマーであることが好ましい。また、この明細書において「主成分」とは、特記しない場合、50重量%を超えて含まれる成分を指す。
(Base polymer)
The adhesive resin layer disclosed herein has, as a base polymer, an acrylic polymer or rubber polymer known in the field of pressure-sensitive adhesive or adhesive (for example, natural rubber, chloroprene rubber, styrene-butadiene rubber, nitrile rubber, etc.) , Polyester, urethane polymer, polyether, silicone polymer, polyamide, fluorine polymer, ethylene-vinyl acetate polymer, epoxy resin, vinyl chloride polymer, cyanoacrylate polymer, cellulose polymer (nitrocellulose polymer, etc. ), Phenolic resin, polyimide, polyolefin, styrene polymer, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl butyral, polybenzimidazole, melamine resin, A resin may be one comprising one or more of various polymers such as resorcinol based polymer. From the viewpoints of adhesion and cost, acrylic polymers, rubber polymers, polyesters, urethane polymers, polyethers, silicone polymers, polyamides, and fluorine polymers are preferred, acrylic polymers and rubber polymers are more preferred, and acrylic polymers are preferred. A polymer is particularly preferred.
The “base polymer” of the adhesive resin refers to the main component of the polymer contained in the adhesive resin. The polymer is preferably a rubber-like polymer exhibiting rubber elasticity in a temperature range near room temperature. Further, in this specification, “main component” refers to a component contained in an amount exceeding 50% by weight unless otherwise specified.

また、上記ベースポリマーを含んで形成される密着性樹脂層(密着性樹脂)は、室温付近の温度域において柔らかい固体(粘弾性体)の状態を呈し、圧力により簡単に被着体に接着する性質を有する材料であることが好ましい。密着性樹脂の典型例としては粘着剤が挙げられる。ここでいう粘着剤は、「C. A. Dahlquist, “Adhesion : Fundamental and Practice”, McLaren & Sons, (1966) P. 143」に定義されているとおり、一般的に、複素引張弾性率E(1Hz)<10dyne/cmを満たす性質を有する材料(典型的には、25℃において上記性質を有する材料)である。 In addition, the adhesive resin layer (adhesive resin) formed including the base polymer is in the form of a soft solid (viscoelastic body) in the temperature range near room temperature, and is easily adhered to the adherend by pressure. A material having properties is preferable. A typical example of the adhesive resin is an adhesive. The adhesive here is generally defined as “CA Dahlquist,“ Adhesion: Fundamental and Practice ”, McLaren & Sons, (1966) P. 143”, and generally has a complex tensile modulus E * (1 Hz). <10 < 7 > dyne / cm < 2 > material (typically a material having the above properties at 25 [deg.] C.).

上記アクリル系ポリマーとしては、例えば、アルキル(メタ)アクリレートを主モノマーとして含み、該主モノマーと共重合性を有する副モノマーをさらに含み得るモノマー原料の重合物が好ましい。ここで主モノマーとは、上記モノマー原料におけるモノマー組成の50重量%超を占める成分をいう。
なお、「アクリル系ポリマー」とは、該ポリマーを構成するモノマー単位として、1分子中に少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を有するモノマーに由来するモノマー単位を含む重合物をいう。以下、1分子中に少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を有するモノマーを「アクリル系モノマー」ともいう。この明細書におけるアクリル系ポリマーは、アクリル系モノマーに由来するモノマー単位を含むポリマーとして定義される。かかるアクリル系ポリマーの典型例として、該アクリル系ポリマーのモノマー組成のうちアクリル系モノマーの割合が50重量%より多いアクリル系ポリマーが挙げられる。
また、「(メタ)アクリロイル」とは、アクリロイルおよびメタクリロイルを包括的に指す意味である。同様に、「(メタ)アクリレート」とはアクリレートおよびメタクリレートを、「(メタ)アクリル」とはアクリルおよびメタクリルを、それぞれ包括的に指す意味である。
As the acrylic polymer, for example, a polymer of a monomer raw material that includes alkyl (meth) acrylate as a main monomer and can further include a submonomer copolymerizable with the main monomer is preferable. Here, the main monomer means a component occupying more than 50% by weight of the monomer composition in the monomer raw material.
The “acrylic polymer” refers to a polymer containing a monomer unit derived from a monomer having at least one (meth) acryloyl group in one molecule as a monomer unit constituting the polymer. Hereinafter, a monomer having at least one (meth) acryloyl group in one molecule is also referred to as an “acrylic monomer”. The acrylic polymer in this specification is defined as a polymer containing monomer units derived from an acrylic monomer. A typical example of such an acrylic polymer is an acrylic polymer in which the proportion of the acrylic monomer in the monomer composition of the acrylic polymer is more than 50% by weight.
The term “(meth) acryloyl” means acryloyl and methacryloyl comprehensively. Similarly, “(meth) acrylate” means acrylate and methacrylate, and “(meth) acryl” generically means acrylic and methacryl.

アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば下記式(2)で表される化合物を好適に用いることができる。
CH=C(R)COOR (2)
ここで、上記式(2)中のRは水素原子またはメチル基である。また、Rは炭素原子数1〜20の鎖状アルキル基(以下、このような炭素原子数の範囲を「C1−20」と表すことがある。)である。密着性樹脂層の貯蔵弾性率等の観点から、RがC1−14(例えばC1−12、典型的にはC4−12)の鎖状アルキル基であるアルキル(メタ)アクリレートが好ましく、Rが水素原子でRがC5−14(例えばC6−14、典型的にはC8−12)の鎖状アルキル基であるアルキルアクリレート(以下、単にC5−14アルキルアクリレートともいう。)がより好ましい。
As the alkyl (meth) acrylate, for example, a compound represented by the following formula (2) can be preferably used.
CH 2 = C (R 1 ) COOR 2 (2)
Here, R 1 in the above formula (2) is a hydrogen atom or a methyl group. R 2 is a chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (hereinafter, such a range of the number of carbon atoms may be represented as “C 1-20 ”). From the viewpoint of the storage elastic modulus of the adhesive resin layer, an alkyl (meth) acrylate in which R 2 is a chain alkyl group of C 1-14 (for example, C 1-12 , typically C 4-12 ) is preferable. , An alkyl acrylate in which R 1 is a hydrogen atom and R 2 is a chain alkyl group of C 5-14 (eg, C 6-14 , typically C 8-12 ) (hereinafter, simply referred to as C 5-14 alkyl acrylate) More preferred).

がC1−20の鎖状アルキル基であるアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ノナデシル(メタ)アクリレート、エイコシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらアルキル(メタ)アクリレートは、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。好ましいアルキル(メタ)アクリレートとして、n−ブチルアクリレート(BA)、2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)、ラウリルアクリレート(LA)が挙げられる。適度な剥離強度を得る観点から、2EHA、LAが特に好ましい。 Examples of the alkyl (meth) acrylate in which R 2 is a C 1-20 chain alkyl group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and n-butyl. (Meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isopentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate , Octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) Acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, nonadecyl (meth) acrylate, And eicosyl (meth) acrylate. These alkyl (meth) acrylates can be used alone or in combination of two or more. Preferred alkyl (meth) acrylates include n-butyl acrylate (BA), 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), and lauryl acrylate (LA). From the viewpoint of obtaining an appropriate peel strength, 2EHA and LA are particularly preferable.

全モノマー成分中における主モノマーの配合割合は70重量%以上であることが好ましく、90重量%以上であることがより好ましく、95重量%以上であることがさらに好ましい。主モノマーの配合割合の上限は特に限定されないが、99.5重量%以下(例えば99重量%以下)とすることが好ましい。アクリル系重合体は実質的に主モノマーのみを重合したものであってもよい。また、主モノマーとして、C5−14アルキルアクリレートを含む場合、該C5−14アルキルアクリレートの主モノマー中における配合割合は、70重量%以上であることが好ましく、90重量%以上であることがより好ましく、95重量%以上(典型的には99〜100重量%)であることがさらに好ましい。ここに開示される技術は、上記モノマー原料におけるモノマー組成の50重量%以上(例えば70重量%以上、典型的には95重量%以上)が2EHAおよび/またはLAである態様で好ましく実施され得る。 The blending ratio of the main monomer in all monomer components is preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, and further preferably 95% by weight or more. The upper limit of the mixing ratio of the main monomer is not particularly limited, but is preferably 99.5% by weight or less (for example, 99% by weight or less). The acrylic polymer may be obtained by polymerizing only the main monomer. When the C 5-14 alkyl acrylate is included as the main monomer, the blending ratio of the C 5-14 alkyl acrylate in the main monomer is preferably 70% by weight or more, and 90% by weight or more. More preferably, it is 95% by weight or more (typically 99 to 100% by weight). The technique disclosed herein can be preferably implemented in an embodiment in which 50% by weight or more (eg, 70% by weight or more, typically 95% by weight or more) of the monomer composition in the monomer raw material is 2EHA and / or LA.

主モノマーであるアルキル(メタ)アクリレートと共重合性を有する副モノマーは、アクリル系ポリマーに架橋点を導入したり、アクリル系ポリマーの凝集力を高めたりするために役立ち得る。また、ここに開示される技術においては、後述する炭素−炭素二重結合含有モノマーの官能基(官能基B)と反応し得る官能基(官能基A)を有するモノマーを副モノマーとして採用することが好ましい。副モノマーとしては、例えば以下のような官能基含有モノマー成分を、1種のみを単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
カルボキシ基含有モノマー:例えばアクリル酸(AA)、メタクリル酸(MAA)、クロトン酸等のエチレン性不飽和モノカルボン酸;マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和ジカルボン酸およびその無水物(無水マレイン酸、無水イタコン酸等)。
水酸基含有モノマー:例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;ビニルアルコール、アリルアルコール等の不飽和アルコール類;2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングルコールモノビニルエーテル等のエーテル系化合物。
アミド基含有モノマー:例えば(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−メチロールプロパン(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド。
アミノ基含有モノマー:例えばアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、t−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート。
エポキシ基含有モノマー:例えばグリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル。
シアノ基含有モノマー:例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル。
ケト基含有モノマー:例えばジアセトン(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリレート、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、アリルアセトアセテート、ビニルアセトアセテート。
窒素原子含有環を有するモノマー:例えばN−ビニル−2−ピロリドン、N−メチルビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、N−ビニルピペリドン、N−ビニルピリミジン、N−ビニルピペラジン、N−ビニルピラジン、N−ビニルピロール、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾール、N−ビニルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、N−(メタ)アクリロイルモルホリン。
アルコキシシリル基含有モノマー:例えば3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン。
イソシアネート基含有モノマー:(メタ)アクリロイルイソシアネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、m−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート。
A submonomer having copolymerizability with the main monomer, alkyl (meth) acrylate, can be useful for introducing a crosslinking point into the acrylic polymer or increasing the cohesive strength of the acrylic polymer. In the technology disclosed herein, a monomer having a functional group (functional group A) capable of reacting with a functional group (functional group B) of a carbon-carbon double bond-containing monomer described later is employed as a submonomer. Is preferred. As the submonomer, for example, the following functional group-containing monomer components can be used alone or in combination of two or more.
Carboxy group-containing monomers: ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid (AA), methacrylic acid (MAA) and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, itaconic acid and citraconic acid and anhydrides thereof (Maleic anhydride, itaconic anhydride, etc.).
Hydroxyl group-containing monomer: For example, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; Unsaturated alcohols such as vinyl alcohol and allyl alcohol; ether compounds such as 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, and diethylene glycol monovinyl ether.
Amide group-containing monomer: For example, (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide, N-methylolpropane (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (Meth) acrylamide, N-butoxymethyl (meth) acrylamide.
Amino group-containing monomer: for example, aminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate.
Epoxy group-containing monomer: for example, glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether.
Cyano group-containing monomer: for example, acrylonitrile, methacrylonitrile.
Keto group-containing monomers: for example, diacetone (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylate, vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, allyl acetoacetate, vinyl acetoacetate.
Monomers having a nitrogen atom-containing ring: for example, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-methylvinylpyrrolidone, N-vinylpyridine, N-vinylpiperidone, N-vinylpyrimidine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrazine, N-vinyl Pyrrole, N-vinylimidazole, N-vinyloxazole, N-vinylmorpholine, N-vinylcaprolactam, N- (meth) acryloylmorpholine.
Alkoxysilyl group-containing monomer: For example, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxy Propylmethyldiethoxysilane.
Isocyanate group-containing monomer: (meth) acryloyl isocyanate, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, m-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate.

上記副モノマーとしては、凝集性向上の観点からは、カルボキシ基含有モノマーを用いることが好ましく、上記カルボキシ基含有モノマーは、AAまたはMAAであることがより好ましい。また、水酸基との反応により加熱時のゲル分率を上昇させる場合にも、上記カルボキシ基含有モノマーを用いることができる。あるいは、カルボキシ基との反応を目的として上記水酸基含有モノマーを用いてもよい。副モノマーとして、カルボキシ基含有モノマーと水酸基含有モノマーとを併用することも可能である。   As the submonomer, a carboxy group-containing monomer is preferably used from the viewpoint of improving cohesion, and the carboxy group-containing monomer is more preferably AA or MAA. In addition, the carboxy group-containing monomer can also be used when the gel fraction during heating is increased by reaction with a hydroxyl group. Alternatively, the above hydroxyl group-containing monomer may be used for the purpose of reaction with a carboxy group. A carboxy group-containing monomer and a hydroxyl group-containing monomer can be used in combination as a submonomer.

上記副モノマーの量は、所望の凝集力が実現されるように適宜選択すればよく、特に限定されない。通常は、凝集力と他の特性(例えば密着性)とをバランス良く両立させる観点から、副モノマー(好ましくはカルボキシ基含有モノマー)の量は、アクリル系ポリマーの全モノマー成分中の0.1重量%以上とすることが適当であり、好ましくは0.3重量%以上(例えば1重量%以上)である。また、副モノマー(好ましくはカルボキシ基含有モノマー)の量は、全モノマー成分中の30重量%以下が適当であり、好ましくは10重量%以下(例えば5重量%以下)である。   The amount of the submonomer may be appropriately selected so as to achieve a desired cohesive force, and is not particularly limited. Usually, from the viewpoint of achieving a good balance between cohesion and other properties (for example, adhesion), the amount of the secondary monomer (preferably a carboxy group-containing monomer) is 0.1% by weight in the total monomer components of the acrylic polymer. % Or more, preferably 0.3% by weight or more (for example, 1% by weight or more). Further, the amount of the secondary monomer (preferably carboxy group-containing monomer) is suitably 30% by weight or less, preferably 10% by weight or less (for example, 5% by weight or less) in all monomer components.

また、ベースポリマーとして、炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを用いる場合には、副モノマーとして、後述する炭素−炭素二重結合を有する化合物の官能基(官能基B)と反応し得る官能基(官能基A)を有する副モノマーを用いることが好ましい。かかる場合、副モノマーの種類は上記化合物種によって決定される。官能基Aを有する副モノマーとしては、例えば、カルボキシ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、水酸基含有モノマー、イソシアネート基含有モノマーが好ましく、水酸基含有モノマーが特に好ましい。副モノマーとして水酸基含有モノマーを用いることで、アクリル系ポリマーは水酸基を有する。これに対して、炭素−炭素二重結合を有する化合物として、イソシアネート基含有モノマーを用いることで、上記アクリル系ポリマーの水酸基と上記化合物のイソシアネート基とが反応し、上記化合物に由来する炭素−炭素二重結合がアクリル系ポリマーに導入される。   Further, when an acrylic polymer having a carbon-carbon double bond is used as the base polymer, it can react with a functional group (functional group B) of a compound having a carbon-carbon double bond, which will be described later, as a submonomer. It is preferable to use a submonomer having a functional group (functional group A). In such a case, the type of submonomer is determined by the compound type. As the submonomer having the functional group A, for example, a carboxy group-containing monomer, an epoxy group-containing monomer, a hydroxyl group-containing monomer, and an isocyanate group-containing monomer are preferable, and a hydroxyl group-containing monomer is particularly preferable. By using a hydroxyl group-containing monomer as a submonomer, the acrylic polymer has a hydroxyl group. On the other hand, by using an isocyanate group-containing monomer as a compound having a carbon-carbon double bond, the hydroxyl group of the acrylic polymer reacts with the isocyanate group of the compound, and the carbon-carbon derived from the compound. Double bonds are introduced into the acrylic polymer.

また、炭素−炭素二重結合を有する化合物との反応を目的として副モノマーを使用する場合、上記副モノマー(好ましくは水酸基含有モノマー)の量は、加熱時ゲル分率上昇の観点から、全モノマー成分中の1重量%以上(例えば5重量%以上、典型的には10重量%以上)とすることが好ましい。また、また、架橋密度が高くなりすぎることを抑制する観点から、40重量%以下(例えば30重量%以下、典型的には15重量%以下)とすることが好ましい。   Moreover, when using a submonomer for the purpose of reaction with a compound having a carbon-carbon double bond, the amount of the submonomer (preferably a hydroxyl group-containing monomer) is selected from the viewpoint of increasing the gel fraction during heating. The content is preferably 1% by weight or more (for example, 5% by weight or more, typically 10% by weight or more) in the components. In addition, from the viewpoint of suppressing the crosslinking density from becoming too high, it is preferably 40% by weight or less (for example, 30% by weight or less, typically 15% by weight or less).

また、アクリル系ポリマーの凝集力を高める等の目的で、上述した副モノマー以外の他の共重合成分を用いることができる。かかる共重合成分としては、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル系モノマー;スチレン、置換スチレン(α−メチルスチレン等)、ビニルトルエン等の芳香族ビニル化合物;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチルジ(メタ)アクリレート等、イソボルニル(メタ)アクリレート等のシクロアルキル(メタ)アクリレート;アリール(メタ)アクリレート(例えばフェニル(メタ)アクリレート)、アリールオキシアルキル(メタ)アクリレート(例えばフェノキシエチル(メタ)アクリレート)、アリールアルキル(メタ)アクリレート(例えばベンジル(メタ)アクリレート)等の芳香族性環含有(メタ)アクリレート;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン、イソブチレン等のオレフィン系モノマー;塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有モノマー;メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシ基含有モノマー;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル系モノマー;等が挙げられる。これら副モノマー以外の他の共重合成分は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。かかる他の共重合成分の量は、目的および用途に応じて適宜選択すればよく特に限定されないが、例えば、アクリル系ポリマーの全モノマー成分中の20重量%以下(例えば2〜20重量%、典型的には3〜10重量%)とすることが好ましい。   For the purpose of increasing the cohesive strength of the acrylic polymer, other copolymer components other than the above-mentioned secondary monomer can be used. Examples of such copolymer components include vinyl ester monomers such as vinyl acetate and vinyl propionate; aromatic vinyl compounds such as styrene, substituted styrene (α-methylstyrene, etc.), vinyltoluene; cyclohexyl (meth) acrylate, cyclopentyl di Cycloalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, etc .; aryl (meth) acrylate (eg, phenyl (meth) acrylate), aryloxyalkyl (meth) acrylate (eg, phenoxyethyl (meth) acrylate) Aromatic ring-containing (meth) acrylates such as arylalkyl (meth) acrylates (eg benzyl (meth) acrylate); olefins such as ethylene, propylene, isoprene, butadiene and isobutylene Monomers such as vinyl chloride and vinylidene chloride; alkoxy group-containing monomers such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate; vinyl ether monomers such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether; . Other copolymerization components other than these submonomers can be used alone or in combination of two or more. The amount of such other copolymerization component is not particularly limited as long as it is appropriately selected depending on the purpose and application. For example, it is 20% by weight or less (for example, 2 to 20% by weight, typical of all monomer components of the acrylic polymer). Specifically, it is preferably 3 to 10% by weight.

さらに、アクリル系ポリマーの架橋処理等を目的として、多官能性モノマーを共重合性成分として用いることができる。上記多官能性モノマーとして、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等の1種または2種以上を用いることができる。上記多官能性モノマーの量は、目的および用途に応じて適宜選択すればよく特に限定されないが、例えば、アクリル系ポリマーの全モノマー成分中の30重量%以下(例えば20重量%以下、典型的には10重量%以下)程度とすることが好ましい。   Furthermore, a polyfunctional monomer can be used as a copolymerizable component for the purpose of crosslinking treatment of an acrylic polymer. Examples of the multifunctional monomer include hexanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, and trimethylol. One or more of propanetri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate and the like can be used. The amount of the polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is appropriately selected depending on the purpose and application. For example, it is 30% by weight or less (for example, 20% by weight or less, typically 20% by weight or less in the total monomer component of the acrylic polymer). Is preferably about 10% by weight or less).

上記モノマー組成を有するアクリル系ポリマーを得る方法は特に限定されず、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、懸濁重合法等の、アクリル系ポリマーの合成手法として知られている各種の重合方法を適宜採用することができる。例えば、溶液重合法を好ましく採用することができる。溶液重合を行う際のモノマー供給方法としては、全モノマー原料を一度に供給する一括仕込み方式、連続供給(滴下)方式、分割供給(滴下)方式等を適宜採用することができる。溶液重合に用いる溶媒としては、トルエンや酢酸エチルなど公知または慣用の有機溶媒から適宜選択することができる。重合温度は、使用するモノマーおよび溶媒の種類、重合開始剤の種類等に応じて適宜選択することができ、例えば20℃〜120℃(典型的には40℃〜80℃)程度とすることができる。   The method for obtaining the acrylic polymer having the above monomer composition is not particularly limited, and various polymerizations known as synthetic methods for acrylic polymers such as solution polymerization method, emulsion polymerization method, bulk polymerization method, suspension polymerization method and the like. A method can be appropriately employed. For example, a solution polymerization method can be preferably employed. As a monomer supply method when performing solution polymerization, a batch charging method, a continuous supply (dropping) method, a divided supply (dropping) method, or the like that supplies all monomer raw materials at once can be appropriately employed. The solvent used for the solution polymerization can be appropriately selected from known or common organic solvents such as toluene and ethyl acetate. The polymerization temperature can be appropriately selected according to the type of monomer and solvent to be used, the type of polymerization initiator, and the like, for example, about 20 ° C. to 120 ° C. (typically 40 ° C. to 80 ° C.). it can.

重合に用いる開始剤は、重合方法の種類に応じて、公知または慣用の重合開始剤から適宜選択することができる。例えば、ラジカル発生剤として例示した重合開始剤の1種または2種以上を好ましく使用することができる。なかでも、過酸化物系開始剤が好ましく、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステルがより好ましく、BPO、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエートがさらに好ましい。重合開始剤を重合後も所定量残存させてラジカル発生剤として使用する場合には、ここに開示される重合開始剤とラジカル発生剤とは同種のものとなり得る。   The initiator used for the polymerization can be appropriately selected from known or commonly used polymerization initiators according to the type of polymerization method. For example, one or more polymerization initiators exemplified as the radical generator can be preferably used. Of these, peroxide initiators are preferable, diacyl peroxides and peroxyesters are more preferable, and BPO, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperper. More preferred is oxy-2-ethylhexanoate. When a predetermined amount of the polymerization initiator remains after polymerization and is used as a radical generator, the polymerization initiator and the radical generator disclosed herein can be the same type.

重合開始剤の使用量は、通常の使用量であればよく、例えば、全モノマー成分100重量部に対して0.005〜1重量部(典型的には0.01〜1重量部)程度の範囲から選択することができる。また、重合開始剤をラジカル発生剤としても利用する場合には、そのことを考慮して重合開始剤の使用量を設定すればよい。   The amount of the polymerization initiator used may be a normal amount, for example, about 0.005 to 1 part by weight (typically 0.01 to 1 part by weight) with respect to 100 parts by weight of all monomer components. You can choose from a range. Further, when the polymerization initiator is also used as a radical generator, the use amount of the polymerization initiator may be set in consideration of that.

(炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマー)
また、ここに開示されるアクリル系ポリマーは、加熱時ゲル分率上昇の観点から、炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーであることが好ましい。アクリル系ポリマーは、モノマー原料選択の自由度が高く、物性の制御が容易である点でも有利である。なお、上記炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを用いる方法は、上述の密着性樹脂層中に炭素−炭素二重結合を存在させる方法(1)に該当する。
(Acrylic polymer having a carbon-carbon double bond)
In addition, the acrylic polymer disclosed herein is preferably an acrylic polymer having a carbon-carbon double bond from the viewpoint of increasing the gel fraction during heating. Acrylic polymers are also advantageous in that they have a high degree of freedom in selecting monomer materials and can easily control physical properties. The method using an acrylic polymer having a carbon-carbon double bond corresponds to the method (1) in which a carbon-carbon double bond is present in the adhesive resin layer.

アクリル系ポリマーへの炭素−炭素二重結合の導入方法は特に限定されない。例えば、アクリル系ポリマー中に共重合によって導入された官能基(官能基A)と反応し得る官能基(官能基B)と炭素−炭素二重結合とを有する化合物を、炭素−炭素二重結合が消失しないように反応(典型的には縮合、付加反応)させる方法を好ましく採用することができる。官能基Aと官能基Bとの組合せの例としては、カルボキシ基とエポキシ基との組合せ、カルボキシ基とアジリジル基との組合せ、水酸基とイソシアネート基との組合せ等が挙げられる。なかでも、反応追跡性の観点から、水酸基とイソシアネート基との組合せが好ましい。ポリマー設計等の観点から、アクリル系ポリマーが水酸基を有し、上記化合物がイソシアネート基を有する組合せが特に好ましい。   The method for introducing a carbon-carbon double bond into the acrylic polymer is not particularly limited. For example, a compound having a functional group (functional group B) capable of reacting with a functional group (functional group A) introduced by copolymerization in an acrylic polymer and a carbon-carbon double bond is converted into a carbon-carbon double bond. A method of reaction (typically condensation or addition reaction) can be preferably employed so as not to disappear. Examples of the combination of the functional group A and the functional group B include a combination of a carboxy group and an epoxy group, a combination of a carboxy group and an aziridyl group, and a combination of a hydroxyl group and an isocyanate group. Of these, a combination of a hydroxyl group and an isocyanate group is preferable from the viewpoint of reaction traceability. From the viewpoint of polymer design and the like, a combination in which the acrylic polymer has a hydroxyl group and the above compound has an isocyanate group is particularly preferable.

上記炭素−炭素二重結合を有する化合物は、上述のように、官能基Aと反応し得る官能基Bを有し得る。そのような化合物の好適例として、例えば、アクリル系ポリマーの重合に用いられ得る副モノマーとして例示したイソシアネート基含有モノマー(イソシアネート基含有化合物)が挙げられる。なかでも、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートがより好ましい。炭素−炭素二重結合を有するイソシアネート基含有化合物のイソシアネート基とアクリル系ポリマーの水酸基とが反応して結合(典型的にはウレタン結合)することにより、炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーが好適に実現される。   The compound having a carbon-carbon double bond may have a functional group B that can react with the functional group A as described above. Preferable examples of such compounds include, for example, isocyanate group-containing monomers (isocyanate group-containing compounds) exemplified as submonomers that can be used for the polymerization of acrylic polymers. Of these, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate is more preferable. An acrylic polymer having a carbon-carbon double bond by reacting an isocyanate group of an isocyanate group-containing compound having a carbon-carbon double bond with a hydroxyl group of an acrylic polymer to form a bond (typically a urethane bond). Is preferably realized.

イソシアネート基含有モノマーの配合量は、上記官能基Aとしての水酸基との反応性の観点から、上述のモル比(M/M)を満たす範囲で適切に設定され得る。例えば、水酸基を有するアクリル系ポリマー(典型的には、炭素−炭素二重結合が導入される前のアクリル系ポリマー)100重量部に対して、1重量部以上(例えば5重量部以上、典型的には10重量部以上)程度とすることが好ましく、40重量部以下(例えば30重量部以下、典型的には15重量部以下)程度とすることが好ましい。 The amount of isocyanate group-containing monomer, from the viewpoint of reactivity with the hydroxyl group as the functional group A, can be appropriately set in a range satisfying the molar ratio of the above-mentioned (M A / M B). For example, 1 part by weight (for example, 5 parts by weight or more, typically 100 parts by weight of an acrylic polymer having a hydroxyl group (typically an acrylic polymer before a carbon-carbon double bond is introduced) 10 parts by weight or more), preferably about 40 parts by weight or less (for example, 30 parts by weight or less, typically 15 parts by weight or less).

また、アクリル系ポリマー中の水酸基を残存させて、この残存水酸基を他の反応性官能基(例えばカルボキシ基)と反応させることによって加熱時のゲル分率を上昇させる方法も好ましく採用される。この場合、官能基Aとしての水酸基と官能基Bとしてのイソシアネート基とのモル比(M/M)は、1を超えることが適当であり、1.1以上とすることが好ましい。 Moreover, the method of raising the gel fraction at the time of heating by making the hydroxyl group in an acrylic polymer remain and making this residual hydroxyl group react with another reactive functional group (for example, carboxy group) is also employ | adopted preferably. In this case, the molar ratio (M A / M B ) between the hydroxyl group as the functional group A and the isocyanate group as the functional group B is suitably more than 1, and is preferably 1.1 or more.

ここに開示される技術におけるベースポリマー(好適にはアクリル系ポリマー)は、その重量平均分子量(Mw)が小さすぎると、密着性樹脂層の凝集力が不足して被着体表面への糊残りを生じやすくなる場合があり得る。一方、Mwが大きすぎると、被着体に対する密着性が低下しやすくなることがあり得る。そのような観点から、Mwが10×10以上500×10以下の範囲にあるベースポリマー(好適にはアクリル系ポリマー)が好ましい。Mwが20×10以上100×10以下(例えば30×10以上70×10以下)のベースポリマー(好適にはアクリル系ポリマー)によると、より良好な結果が実現され得る。なお、この明細書においてMwとは、GPCにより得られた標準ポリスチレン換算の値をいう。 If the weight average molecular weight (Mw) of the base polymer (preferably an acrylic polymer) in the technology disclosed herein is too small, the cohesive force of the adhesive resin layer is insufficient and the adhesive remains on the adherend surface. May be likely to occur. On the other hand, when Mw is too large, the adhesion to the adherend may be easily lowered. From such a viewpoint, a base polymer (preferably an acrylic polymer) having a Mw in the range of 10 × 10 4 to 500 × 10 4 is preferable. With a base polymer (preferably an acrylic polymer) having an Mw of 20 × 10 4 or more and 100 × 10 4 or less (for example, 30 × 10 4 or more and 70 × 10 4 or less), better results can be realized. In addition, in this specification, Mw means the value of standard polystyrene conversion obtained by GPC.

(炭素−炭素二重結合を有するモノマー/オリゴマー)
また、ここに開示される技術は、炭素−炭素二重結合を有するモノマー/オリゴマーを含む密着性樹脂層を備える態様でも好ましく実施され得る。上記モノマー/オリゴマーとしては、上述のものを好ましく用いることができる。ベースポリマーとしてアクリル系ポリマーを用いる態様では、上述の(メタ)アクリロイル基含有化合物や、該(メタ)アクリロイル基含有化合物の多量体(例えば2〜5量体)の1種または2種以上を用いることが好ましい。上記多量体は、例えば多官能(典型的には2〜5官能)の化合物であり得る。なお、上記炭素−炭素二重結合を有するモノマー/オリゴマーを用いる方法は、上述の密着性樹脂層中に炭素−炭素二重結合を存在させる方法(2)に該当する。
(Monomer / oligomer having carbon-carbon double bond)
Moreover, the technique disclosed here can be preferably implemented also in the aspect provided with the adhesive resin layer containing the monomer / oligomer which has a carbon-carbon double bond. As the monomer / oligomer, those described above can be preferably used. In the embodiment using an acrylic polymer as the base polymer, one or more of the above-mentioned (meth) acryloyl group-containing compound and a multimer (for example, 2 to 5 mer) of the (meth) acryloyl group-containing compound are used. It is preferable. The multimer can be, for example, a polyfunctional (typically 2-5 functional) compound. The method using a monomer / oligomer having a carbon-carbon double bond corresponds to the method (2) in which a carbon-carbon double bond is present in the above-mentioned adhesive resin layer.

(光重合開始剤)
また、ここに開示される密着性樹脂層は、樹脂シートを再剥離する際に剥離を軽くすることを目的として、光重合開始剤を含むことが好ましい。樹脂シートを被着体から剥がす場合に、予め活性エネルギー線(例えば紫外線(UV))照射を行うことで、密着性樹脂層を硬化収縮させ、再剥離を容易に行うことができる。この構成は、被着体表面の損傷を防止する点でも有利である。上記の構成は、良好な再剥離性が要求され得る用途(例えば、フレキシブル回路基板を仮固定する用途や、半導体素子を固定・保護する用途)に特に適している。
(Photopolymerization initiator)
Moreover, it is preferable that the adhesive resin layer disclosed here contains a photopolymerization initiator for the purpose of lightening peeling when the resin sheet is peeled again. When the resin sheet is peeled off from the adherend, the adhesive resin layer is cured and shrunk by irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays (UV)) in advance, and re-peeling can be easily performed. This configuration is also advantageous in preventing damage to the adherend surface. The above configuration is particularly suitable for applications where good removability is required (for example, applications for temporarily fixing a flexible circuit board and applications for fixing / protecting a semiconductor element).

上記光重合開始剤としては、例えば、ケタール系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、α−ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤等の1種または2種以上を用いることができる。   Examples of the photopolymerization initiator include a ketal photopolymerization initiator, an acetophenone photopolymerization initiator, a benzoin ether photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide photopolymerization initiator, an α-ketol photopolymerization initiator, Aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiator, photoactive oxime photopolymerization initiator, benzoin photopolymerization initiator, benzyl photopolymerization initiator, benzophenone photopolymerization initiator, thioxanthone photopolymerization initiator, etc. Or 2 or more types can be used.

光重合開始剤は、分子中に水酸基を有するものが好ましい。そのような水酸基含有光重合開始剤としては、上記光重合開始剤のなかから水酸基を有するものを好ましく用いることができる。例えば、ベンゾフェノン誘導体やアルキルフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体が好適例として挙げられる。
ベンゾフェノン誘導体としては、例えば、o−アクリルオキシベンゾフェノン、p−アクリルオキシベンゾフェノン、o−メタクリルオキシベンゾフェノン、p−メタクリルオキシベンゾフェノン、p−(メタ)アクリルオキシエトキシベンゾフェノンが挙げられる。また、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリラート、1,2−エタンジオールモノ(メタ)アクリラート、1,8−オクタンジオールモノ(メタ)アクリラート等のアクリラートのベンゾフェノン−4−カルボン酸エステル等も用いることが可能である。アルキルフェノン誘導体としては、例えば、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンが挙げられる。アセトフェノン誘導体としては、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル−ケトン等が挙げられる。上記光重合開始剤は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、硬化速度や厚膜硬化性に優れるという理由から、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−1−{4−〔4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル〕フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オンが好ましい。
The photopolymerization initiator preferably has a hydroxyl group in the molecule. As such a hydroxyl group-containing photopolymerization initiator, those having a hydroxyl group among the above photopolymerization initiators can be preferably used. For example, benzophenone derivatives, alkylphenone derivatives, and acetophenone derivatives are preferable examples.
Examples of the benzophenone derivative include o-acryloxybenzophenone, p-acryloxybenzophenone, o-methacryloxybenzophenone, p-methacryloxybenzophenone, and p- (meth) acryloxyethoxybenzophenone. Also, benzophenone-4-carboxylic acid esters of acrylates such as 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 1,2-ethanediol mono (meth) acrylate, 1,8-octanediol mono (meth) acrylate, etc. It is possible to use. Examples of the alkylphenone derivatives include 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4 -(2-Hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-propan-1-one. Examples of the acetophenone derivative include 1-hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone. The said photoinitiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among them, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl, because of its excellent curing speed and thick film curability. Phenyl} -2-methyl-propan-1-one is preferred.

光重合開始剤の配合量は、ベースポリマー(好ましくはアクリル系ポリマー)100重量部に対して0.1〜10重量部程度とすることが適当であり、0.5〜5重量部とすることが好ましい。   The blending amount of the photopolymerization initiator is suitably about 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base polymer (preferably acrylic polymer), and 0.5 to 5 parts by weight. Is preferred.

ここに開示される密着性樹脂層がベースポリマーとしてアクリル系ポリマーを含む場合、アクリル系ポリマーに加えて上記アクリル系ポリマー以外のポリマーを含んでもよい。上記アクリル系ポリマー以外のポリマーとしては、上記ベースポリマーとして例示した各種ポリマーのうちアクリル系ポリマー以外のものが好適例として挙げられる。そのようなポリマーは、炭素−炭素二重結合を有するポリマーであり得る。ここに開示される密着性樹脂層がアクリル系ポリマーに加えて上記アクリル系ポリマー以外のポリマーを含む場合、該アクリル系ポリマー以外のポリマーの含有量は、アクリル系ポリマー100重量部に対して100重量部以下とすることが適当であり、50重量部以下が好ましく、30重量部以下がより好ましく、10重量部以下がさらに好ましい。アクリル系ポリマー以外のポリマーの含有量は、アクリル系ポリマー100重量部に対して5重量部以下であってもよく、1重量部以下であってもよい。ここに開示される技術は、例えば、ベースポリマーの99.5〜100重量%がアクリル系ポリマーである態様で好ましく実施され得る。   When the adhesive resin layer disclosed herein contains an acrylic polymer as a base polymer, it may contain a polymer other than the acrylic polymer in addition to the acrylic polymer. Examples of the polymer other than the acrylic polymer include those other than the acrylic polymer among the various polymers exemplified as the base polymer. Such a polymer can be a polymer having a carbon-carbon double bond. When the adhesive resin layer disclosed herein contains a polymer other than the acrylic polymer in addition to the acrylic polymer, the content of the polymer other than the acrylic polymer is 100 weights with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. The amount is suitably not more than 50 parts by weight, preferably not more than 50 parts by weight, more preferably not more than 30 parts by weight, and still more preferably not more than 10 parts by weight. The content of the polymer other than the acrylic polymer may be 5 parts by weight or less or 100 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. The technique disclosed herein can be preferably implemented in an embodiment in which, for example, 99.5 to 100% by weight of the base polymer is an acrylic polymer.

(架橋剤)
密着性樹脂層を形成するために用いられる密着性樹脂組成物は、密着性樹脂層の凝集性向上の観点から、上記ベースポリマーに加えて架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤の種類は特に制限されず、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、アミン系架橋剤等が挙げられる。これら架橋剤は、1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、イソシアネート系架橋剤、金属キレート系架橋剤が好ましい。
(Crosslinking agent)
The adhesive resin composition used for forming the adhesive resin layer preferably contains a crosslinking agent in addition to the base polymer from the viewpoint of improving the cohesiveness of the adhesive resin layer. The type of the crosslinking agent is not particularly limited. For example, an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent, a melamine crosslinking agent, a peroxide crosslinking agent, a urea crosslinking agent, a metal Examples thereof include alkoxide crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents, metal salt crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, and amine crosslinking agents. These crosslinking agents can be used alone or in combination of two or more. Of these, isocyanate crosslinking agents and metal chelate crosslinking agents are preferred.

また、密着性樹脂層が炭素−炭素二重結合を有するポリマーやオリゴマーを含む場合には、金属キレート系架橋剤を使用することが好ましい。金属キレート系架橋剤は配位結合性の架橋であるため、金属キレート系架橋剤による架橋後のポリマー、オリゴマーは、共有結合性の架橋の場合と比べて構造の自由度(例えば、変形等の自由度)を保ちやすい傾向がある。これにより、加熱時において上記炭素−炭素二重結合の反応機会(典型的には、重合反応や架橋反応の機会)が増加し、加熱時のゲル分率上昇を効率よく実現することができる。   Moreover, when the adhesive resin layer contains a polymer or oligomer having a carbon-carbon double bond, it is preferable to use a metal chelate crosslinking agent. Since the metal chelate crosslinking agent is a coordination bond, the polymer and oligomer after crosslinking with the metal chelate crosslinking agent have a structural freedom (for example, deformation, etc.) as compared with the case of covalent crosslinking. The degree of freedom) tends to be maintained. Thereby, the reaction opportunity (typically polymerization reaction and the opportunity of a crosslinking reaction) of the said carbon-carbon double bond increases at the time of a heating, and the gel fraction raise at the time of a heating can be implement | achieved efficiently.

金属キレート系架橋剤は、典型的には、多価金属が有機化合物と共有結合または配位結合した構造を有するものであり得る。上記多価金属原子としては、Al、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Ba、Mo、La、Sn、Ti等が挙げられる。なかでも、Al、Zr、Tiが好ましい。また、有機化合物としてはアルキルエステル、アルコール化合物、カルボン酸化合物、エーテル化合物、ケトン化合物等が挙げられる。金属キレート系架橋剤は、典型的には該有機化合物中における酸素原子が上記多価金属に結合(共有結合または配位結合)した構成の化合物であり得る。   The metal chelate-based crosslinking agent may typically have a structure in which a polyvalent metal is covalently or coordinated with an organic compound. Examples of the polyvalent metal atom include Al, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Ba, Mo, La, Sn, and Ti. Of these, Al, Zr, and Ti are preferable. Examples of the organic compound include alkyl esters, alcohol compounds, carboxylic acid compounds, ether compounds, and ketone compounds. The metal chelate-based crosslinking agent can typically be a compound having a configuration in which an oxygen atom in the organic compound is bonded (covalent bond or coordinate bond) to the polyvalent metal.

架橋剤を含ませる場合の上記密着性樹脂組成物中における架橋剤の含有量は特に限定されないが、凝集性と他の特性(例えば剥離強度)との両立の観点から、密着性樹脂層がアクリル系樹脂層の場合には、上記アクリル系ポリマー100重量部に対して0.01〜10重量部(例えば0.05〜5重量部)程度とすることが好ましい。   The content of the crosslinking agent in the adhesive resin composition when the crosslinking agent is included is not particularly limited, but the adhesive resin layer is acrylic from the viewpoint of coexistence of cohesiveness and other properties (for example, peel strength). In the case of a resin-based resin layer, the amount is preferably about 0.01 to 10 parts by weight (for example, 0.05 to 5 parts by weight) with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer.

(ラジカル捕捉剤)
ここに開示される密着性樹脂層は、保存安定性の観点から、酸化防止剤等のラジカル捕捉剤を含み得る。ラジカル捕捉剤は、文字どおり密着性樹脂層中のラジカルを捕捉する機能を発揮する剤であるため、例えば、密着性樹脂層中に炭素−炭素二重結合が存在する場合に、ラジカルが炭素−炭素二重結合に付加することを阻害し得る。ここに開示される技術が、炭素−炭素二重結合が存在する態様やラジカル発生剤を含む態様で実施される場合、ラジカル捕捉剤の量が多いと加熱時のゲル分率上昇が抑制される虞がある。そのような観点から、ここに開示される技術では、ラジカル捕捉剤の配合量を制限することが好ましい。
(Radical scavenger)
The adhesive resin layer disclosed herein may contain a radical scavenger such as an antioxidant from the viewpoint of storage stability. Since the radical scavenger is literally an agent that functions to trap radicals in the adhesive resin layer, for example, when a carbon-carbon double bond is present in the adhesive resin layer, the radical is carbon-carbon. Addition to a double bond may be inhibited. When the technique disclosed here is implemented in an embodiment in which a carbon-carbon double bond is present or an embodiment including a radical generator, an increase in the amount of radical scavenger suppresses an increase in gel fraction during heating. There is a fear. From such a viewpoint, in the technique disclosed herein, it is preferable to limit the blending amount of the radical scavenger.

ここに開示されるラジカル捕捉剤の概念には、老化防止剤や光安定剤が含まれ得るが、その典型例は酸化防止剤である。上記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系(フォスファイト系)酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等の、従来公知の各種酸化防止剤が挙げられる。酸化防止剤は1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The concept of the radical scavenger disclosed herein may include an antioxidant and a light stabilizer, and a typical example is an antioxidant. Examples of the antioxidant include various conventionally known antioxidants such as a phenol-based antioxidant, a phosphorus-based (phosphite-based) antioxidant, a sulfur-based antioxidant, and an amine-based antioxidant. . One antioxidant can be used alone, or two or more antioxidants can be used in combination.

フェノール系酸化防止剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール等のモノフェノール系酸化防止剤;2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)等のビスフェノール系酸化防止剤;1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン等の高分子フェノール系酸化防止剤;が挙げられる。   Examples of phenolic antioxidants include monophenolic antioxidants such as 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol and 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol; -Methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), Bisphenol antioxidants such as 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol); 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 1,1,3- Squirrel (2-methyl-4-hydroxy -5-t-butylphenyl) polymer phenolic antioxidant such as butane; and the like.

フェノール系酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系酸化防止剤であってもよい。上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリトール・テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、4,6−ビス(ドデシルチオメチル)−o−クレゾール、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの重縮合物(コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6テトラメチルピペリジン重縮合物)等が挙げられる。   The phenolic antioxidant may be a hindered phenolic antioxidant. Examples of the hindered phenol antioxidant include pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-). tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 4,6-bis (dodecylthiomethyl) -o-cresol, triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) Propionate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, polycondensate of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6 tetramethyl-1-piperidineethanol (succinic acid) Dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6 tetramethyl Piperidine polycondensate), and the like.

リン系酸化防止剤の例としては、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、トリス(ノニルフェニル)フォスファイト、トリフェニルフォスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト等が挙げられる。
硫黄系酸化防止剤の例としては、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオネート等が挙げられる。
アミン系酸化防止剤の例としては、フェニル−α−ナフチルアミン、ジフェニルアミン等が挙げられる。
Examples of phosphorus antioxidants include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, triphenyl phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, and the like. .
Examples of sulfur-based antioxidants include dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol tetra Examples include lauryl thiopropionate.
Examples of amine-based antioxidants include phenyl-α-naphthylamine and diphenylamine.

密着性樹脂層中におけるラジカル捕捉剤(典型的には酸化防止剤)の含有量は、上述の加熱時ゲル分率上昇の観点から、1重量%以下(例えば0.5重量%以下、典型的には0.1重量%以下)であることが好ましい。密着性樹脂層はラジカル捕捉剤(典型的には酸化防止剤)を含まなくてもよい。しかし、酸化防止剤等のラジカル捕捉剤が全く存在しないと、密着性樹脂層中の溶存酸素等により室温で酸化が進行する場合があるため、適当量のラジカル捕捉剤(典型的には酸化防止剤)を含むことが好ましい。そのような観点から、密着性樹脂層におけるラジカル捕捉剤の含有量は、0.001重量%以上(例えば0.005%以上、典型的には0.01%以上)とすることが好ましい。なお、ラジカル捕捉剤の存在量は、例えばラジカル発生剤の存在量の測定方法と同様の方法により測定することができる。   The content of the radical scavenger (typically antioxidant) in the adhesive resin layer is 1% by weight or less (eg, 0.5% by weight or less, typically from the viewpoint of increasing the gel fraction during heating as described above. Is preferably 0.1% by weight or less. The adhesive resin layer may not contain a radical scavenger (typically an antioxidant). However, if there is no radical scavenger such as an antioxidant at all, oxidation may proceed at room temperature due to dissolved oxygen in the adhesive resin layer, so an appropriate amount of radical scavenger (typically antioxidant) Agent). From such a viewpoint, the content of the radical scavenger in the adhesive resin layer is preferably 0.001% by weight or more (eg, 0.005% or more, typically 0.01% or more). The abundance of the radical scavenger can be measured, for example, by the same method as the method for measuring the abundance of the radical generator.

(その他の添加成分)
また、ここに開示される密着性樹脂組成物は、被着体(典型的にはガラス)への接着性を改善すること等を目的として、シランカップリング剤を含むことが好ましい。シランカップリング剤としては、ビニル基含有シラン化合物、エポキシ基含有シラン化合物、スチリル基含有シラン化合物、(メタ)アクリル基含有シラン化合物、アミノ基含有シラン化合物、ウレイド基含有シラン化合物、メルカプト基含有シラン化合物、イソシアネート基含有シラン化合物、シリル基含有スルフィド等の1種または2種以上を用いることができる。なかでも、保存安定性に優れるアミノ基含有シラン化合物が好ましい。
(Other additive components)
Moreover, it is preferable that the adhesive resin composition disclosed here contains a silane coupling agent for the purpose of improving adhesion to an adherend (typically glass). Examples of silane coupling agents include vinyl group-containing silane compounds, epoxy group-containing silane compounds, styryl group-containing silane compounds, (meth) acryl group-containing silane compounds, amino group-containing silane compounds, ureido group-containing silane compounds, and mercapto group-containing silanes. 1 type (s) or 2 or more types, such as a compound, an isocyanate group containing silane compound, a silyl group containing sulfide, can be used. Of these, amino group-containing silane compounds having excellent storage stability are preferred.

アミノ基含有シラン化合物としては、例えば、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。なかでも、3−アミノプロピルトリメトキシシランがより好ましい。   Examples of the amino group-containing silane compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N- (2-aminoethyl). Examples include 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltriethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, and γ-anilinopropyltriethoxysilane. Of these, 3-aminopropyltrimethoxysilane is more preferable.

シランカップリング剤の含有量は、シランカップリング剤の添加効果を十分に発現させる観点から、ベースポリマー(好適にはアクリル系ポリマー)100重量部に対して0.01重量部以上(例えば0.03重量部以上、典型的には0.05重量部以上)であることが好ましい。また、保存安定性の観点から、シランカップリング剤の含有量は、ベースポリマー(好適にはアクリル系ポリマー)100重量部に対して1.0重量部未満(例えば0.5重量部以下、典型的には0.3重量部以下)であることが好ましい。   The content of the silane coupling agent is 0.01 parts by weight or more (for example, 0. 03 parts by weight or more, typically 0.05 parts by weight or more). From the viewpoint of storage stability, the content of the silane coupling agent is less than 1.0 part by weight (for example, 0.5 part by weight or less, typically 100 parts by weight of the base polymer (preferably an acrylic polymer)). Specifically, it is preferably 0.3 parts by weight or less.

上記密着性樹脂組成物は、必要に応じて、粘着付与剤、レベリング剤、架橋助剤、可塑剤、軟化剤、充填剤、着色剤(顔料、染料等)、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤等の、密着性樹脂組成物の分野において一般的な各種の添加剤を含有するものであり得る。これらの各種添加剤については、従来公知のものを常法により使用することができ、特に本発明を特徴づけるものではないので、詳細な説明は省略する。   The adhesive resin composition may be a tackifier, a leveling agent, a crosslinking aid, a plasticizer, a softener, a filler, a colorant (pigment, dye, etc.), an antistatic agent, an ultraviolet absorber, if necessary. It may contain various additives that are common in the field of adhesive resin compositions, such as light stabilizers. About these various additives, conventionally well-known things can be used by a conventional method, and since it does not characterize this invention in particular, detailed description is abbreviate | omitted.

(密着性樹脂層の形成方法)
ここに開示される密着性樹脂層は、粘着剤から形成される層(粘着剤層)や、接着剤から形成される層(接着剤層)、表面に易接着性を有する樹脂層であり得る。ここに開示される技術における密着性樹脂層(密着性樹脂からなる層)は、水系密着性樹脂組成物、溶剤型密着性樹脂組成物、ホットメルト型密着性樹脂組成物、活性エネルギー線硬化型密着性樹脂組成物から形成された密着性樹脂層であり得る。水系密着性樹脂組成物とは、水を主成分とする溶媒(水系溶媒)中に密着性樹脂(密着性樹脂形成成分)を含む形態の密着性樹脂組成物のことをいい、ここでいう水系密着性樹脂組成物の概念には、水分散型の密着性樹脂組成物(密着性樹脂が水に分散した形態の組成物)、水溶性の密着性樹脂組成物(密着性樹脂が水に溶解した形態の組成物)等と称されるものが含まれ得る。また、溶剤型密着性樹脂組成物とは、有機溶媒中に密着性樹脂を含む形態の密着性樹脂組成物のことをいう。ここに開示される技術は、溶剤型密着性樹脂組成物から形成された密着性樹脂層を備える態様で好ましく実施され得る。
(Method for forming adhesive resin layer)
The adhesive resin layer disclosed herein can be a layer formed from a pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive layer), a layer formed from an adhesive (adhesive layer), or a resin layer having easy adhesion on the surface. . The adhesive resin layer (layer made of an adhesive resin) in the technology disclosed herein is an aqueous adhesive resin composition, a solvent-type adhesive resin composition, a hot-melt adhesive resin composition, or an active energy ray curable type. It can be an adhesive resin layer formed from an adhesive resin composition. The water-based adhesive resin composition refers to an adhesive resin composition having a form in which an adhesive resin (adhesive resin-forming component) is contained in a water-based solvent (aqueous solvent). The concept of the adhesive resin composition includes a water-dispersed adhesive resin composition (a composition in which the adhesive resin is dispersed in water) and a water-soluble adhesive resin composition (the adhesive resin is dissolved in water). In the form of a composition) or the like. The solvent-type adhesive resin composition refers to an adhesive resin composition in a form that includes an adhesive resin in an organic solvent. The technique disclosed here can be preferably implemented in an aspect including an adhesive resin layer formed from a solvent-type adhesive resin composition.

ここに開示される密着性樹脂層は、従来公知の方法によって形成することができる。例えば、剥離性を有する表面(剥離面)に密着性樹脂組成物を付与(典型的には塗付)して乾燥させることにより密着性樹脂層を形成する方法を好ましく採用することができる。また、基材に密着性樹脂組成物を直接付与(典型的には塗付)して乾燥させることにより密着性樹脂層を形成する方法(直接法)も好ましく採用することができる。さらに、剥離面に密着性樹脂組成物を付与して乾燥させることにより該表面上に密着性樹脂層を形成し、その密着性樹脂層を基材に転写する方法(転写法)を採用してもよい。上記剥離面としては、剥離ライナーの表面や、剥離処理された基材背面等を利用し得る。上記塗付は、グラビアロールコーター、リバースロールコーター等の公知または慣用のコーターを用いて行えばよい。   The adhesive resin layer disclosed herein can be formed by a conventionally known method. For example, a method of forming an adhesive resin layer by applying (typically applying) an adhesive resin composition to a peelable surface (peeling surface) and drying can be preferably employed. Moreover, the method (direct method) of forming the adhesive resin layer by directly applying (typically applying) the adhesive resin composition to the substrate and drying it can also be preferably employed. Furthermore, by adopting a method (transfer method) of forming an adhesive resin layer on the surface by applying an adhesive resin composition to the release surface and drying it, and transferring the adhesive resin layer to a substrate Also good. As the release surface, the surface of the release liner, the back surface of the substrate after the release treatment, or the like can be used. The coating may be performed using a known or conventional coater such as a gravure roll coater or a reverse roll coater.

架橋反応の促進、製造効率向上等の観点から、密着性樹脂組成物の乾燥は加熱下で行うことが好ましい。乾燥温度は、例えば40℃〜150℃程度とすることができ、通常は60℃〜130℃程度とすることが好ましい。例えば、100℃以下(典型的には80℃程度)の乾燥(例えば5分以下、典型的には3分程度の乾燥)では、溶媒の揮発が進行しているため、また乾燥は酸素存在下で行われ得るため、密着性樹脂層のゲル分率は実質的に上昇しないと考えられる。また、密着性樹脂組成物を乾燥させた後に、密着性樹脂層内における成分移行の調整、架橋反応の進行、基材や密着性樹脂層内に存在し得る歪の緩和等を目的としてエージングを行ってもよい。エージング条件は特に限定されず、例えば凡そ25℃〜70℃(典型的には40℃〜60℃)の温度で、10〜120時間(典型的には24〜48時間)のエージングとするのが適当である。   From the viewpoint of promoting the crosslinking reaction and improving the production efficiency, the adhesive resin composition is preferably dried under heating. The drying temperature can be, for example, about 40 ° C. to 150 ° C., and is usually preferably about 60 ° C. to 130 ° C. For example, in the case of drying at 100 ° C. or lower (typically about 80 ° C.) (for example, 5 minutes or lower, typically about 3 minutes), the solvent is being volatilized. Therefore, it is considered that the gel fraction of the adhesive resin layer does not substantially increase. In addition, after the adhesive resin composition is dried, aging is performed for the purpose of adjusting the component transfer in the adhesive resin layer, the progress of the crosslinking reaction, the relaxation of the strain that may exist in the base material or the adhesive resin layer, and the like. You may go. The aging conditions are not particularly limited. For example, aging is performed at a temperature of about 25 ° C. to 70 ° C. (typically 40 ° C. to 60 ° C.) for 10 to 120 hours (typically 24 to 48 hours). Is appropriate.

ここに開示される密着性樹脂層の厚さは特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。通常は、密着性樹脂層の厚さは5〜200μm程度が適当であり、密着性等の観点から、好ましくは10〜150μm(例えば15〜100μm、典型的には25〜80μm)程度である。ここに開示される樹脂シートが基材の両面に密着性樹脂層を備える両面接着性樹脂シートの場合、各密着性樹脂層の厚さは同じであってもよく、異なっていてもよい。   The thickness of the adhesive resin layer disclosed herein is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. Usually, the thickness of the adhesive resin layer is suitably about 5 to 200 μm, and preferably about 10 to 150 μm (for example, 15 to 100 μm, typically 25 to 80 μm) from the viewpoint of adhesion and the like. When the resin sheet disclosed here is a double-sided adhesive resin sheet provided with adhesive resin layers on both sides of the substrate, the thickness of each adhesive resin layer may be the same or different.

<基材>
片面粘着タイプまたは両面粘着タイプの基材付き樹脂シートにおいて、密着性樹脂層を支持(裏打ち)する基材として、各種のシート状基材を用いることができる。上記基材としては、樹脂フィルム、紙、布、ゴムシート、発泡体シート、金属箔、これらの複合体等を用いることができる。樹脂フィルムの例としては、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン製フィルム;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステルフィルム;塩化ビニル樹脂フィルム;酢酸ビニル樹脂フィルム;ポリイミド樹脂フィルム;ポリアミド樹脂フィルム;フッ素樹脂フィルム;セロハン;等が挙げられる。紙の例としては、和紙、クラフト紙、グラシン紙、上質紙、合成紙、トップコート紙等が挙げられる。布の例としては、各種繊維状物質の単独または混紡等による織布や不織布等が挙げられる。上記繊維状物質としては、綿、スフ、マニラ麻、パルプ、レーヨン、アセテート繊維、ポリエステル繊維、ポリビニルアルコール繊維、ポリアミド繊維、ポリオレフィン繊維等が例示される。ゴムシートの例としては、天然ゴムシート、ブチルゴムシート等が挙げられる。発泡体シートの例としては、発泡ポリウレタンシート、発泡ポリクロロプレンゴムシート等が挙げられる。金属箔の例としては、アルミニウム箔、銅箔等が挙げられる。
<Base material>
In the single-sided adhesive type or double-sided adhesive type resin sheet with a substrate, various sheet-like substrates can be used as a substrate for supporting (lining) the adhesive resin layer. As the substrate, a resin film, paper, cloth, rubber sheet, foam sheet, metal foil, a composite of these, or the like can be used. Examples of resin films include polyolefin films such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), and ethylene / propylene copolymers; polyester films such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); vinyl chloride resin films Vinyl acetate resin film; polyimide resin film; polyamide resin film; fluororesin film; cellophane; Examples of paper include Japanese paper, kraft paper, glassine paper, high quality paper, synthetic paper, top coat paper, and the like. Examples of the fabric include woven fabrics and non-woven fabrics made of various fibrous substances alone or by blending. Examples of the fibrous material include cotton, suf, manila hemp, pulp, rayon, acetate fiber, polyester fiber, polyvinyl alcohol fiber, polyamide fiber, polyolefin fiber and the like. Examples of rubber sheets include natural rubber sheets and butyl rubber sheets. Examples of the foam sheet include a foamed polyurethane sheet and a foamed polychloroprene rubber sheet. Examples of the metal foil include aluminum foil and copper foil.

好ましい一態様では、所定の剛性(強度)を有し、加工性、取扱い性に優れる樹脂フィルムを基材として用いる。剛性の高い樹脂フィルム基材を用いることで、被着体が薄厚の場合に、搬送時等における被着体の撓みや損傷を好適に防止することができる。同様の観点から、樹脂フィルム基材としてポリエステルフィルムを用いることが好ましい。なお、この明細書において「樹脂フィルム」とは、典型的には非多孔質のフィルムであって、いわゆる不織布や織布とは区別される概念である。基材として用いられ得る樹脂フィルムの密度は、凡そ0.85〜1.50g/cm(例えば0.90g/cm〜1.20g/cm、典型的には0.92g/cm〜1.05g/cm)程度であり得る。 In a preferred embodiment, a resin film having a predetermined rigidity (strength) and excellent workability and handleability is used as a substrate. By using a highly rigid resin film substrate, when the adherend is thin, it is possible to suitably prevent the adherend from being bent or damaged during transportation. From the same viewpoint, it is preferable to use a polyester film as the resin film substrate. In this specification, the “resin film” is typically a non-porous film and is a concept that is distinguished from a so-called nonwoven fabric or woven fabric. Density of the resin film may be used as the substrate, approximately 0.85~1.50g / cm 3 (e.g., 0.90g / cm 3 ~1.20g / cm 3 , typically 0.92 g / cm 3 ~ 1.05 g / cm 3 ).

なお、上記基材(例えば樹脂フィルム基材)には、必要に応じて、充填剤(無機充填剤、有機充填剤等)、老化防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、滑剤、可塑剤、着色剤(顔料、染料等)等の各種添加剤が配合されていてもよい。   In addition, for the above-mentioned base material (for example, resin film base material), a filler (inorganic filler, organic filler, etc.), an anti-aging agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a lubricant as necessary. Various additives such as plasticizers and colorants (pigments, dyes, etc.) may be blended.

上記基材(例えば樹脂フィルム基材やゴムシート基材、発泡体シート基材等)の密着性樹脂層が配置される面(密着性樹脂層側表面)には、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、酸処理、アルカリ処理、下塗り剤の塗付等の、公知または慣用の表面処理が施されていてもよい。このような表面処理は、基材と密着性樹脂層との密着性、言い換えると密着性樹脂層の基材への投錨性を向上させるための処理であり得る。基材の密着性樹脂層側表面に水酸基(−OH基)等の極性基が導入されるような表面処理を好ましく採用し得る。あるいはまた、ここに開示される樹脂シートと基材との密着性を高めることを目的として、樹脂シートと基材との間に従来公知の粘着剤層を設けてもよい。例えば、薄厚の被着体に貼り合わせる用途において、特許第4744262号公報や特許第5094832号公報に開示されるような粘着剤を樹脂シートと樹脂フィルム基材との間に配置することで、樹脂フィルム基材の剛性を利用して該被着体の撓みや破損を防止することが可能である。   On the surface (adhesive resin layer side surface) on which the adhesive resin layer of the substrate (for example, resin film substrate, rubber sheet substrate, foam sheet substrate, etc.) is disposed, corona discharge treatment, plasma treatment, Known or conventional surface treatments such as ultraviolet irradiation treatment, acid treatment, alkali treatment, and primer coating may be applied. Such a surface treatment may be a treatment for improving the adhesion between the substrate and the adhesive resin layer, in other words, the anchoring property of the adhesive resin layer to the substrate. A surface treatment in which a polar group such as a hydroxyl group (—OH group) is introduced into the surface of the substrate on the adhesive resin layer side can be preferably employed. Or you may provide a conventionally well-known adhesive layer between a resin sheet and a base material for the purpose of improving the adhesiveness of the resin sheet and base material disclosed here. For example, in an application to be bonded to a thin adherend, an adhesive as disclosed in Japanese Patent No. 4744262 and Japanese Patent No. 5094832 is disposed between a resin sheet and a resin film substrate, thereby It is possible to prevent bending and breakage of the adherend by utilizing the rigidity of the film substrate.

また、ここに開示される樹脂シートが基材の片面に密着性樹脂層が設けられた片面接着性の樹脂シートの場合、基材の密着性樹脂層非形成面(背面)には、剥離処理剤(背面処理剤)によって剥離処理が施されていてもよい。背面処理層の形成に用いられ得る背面処理剤としては、特に限定されず、シリコーン系背面処理剤やフッ素系背面処理剤、長鎖アルキル系背面処理剤その他の公知または慣用の処理剤を目的や用途に応じて用いることができる。   Moreover, when the resin sheet disclosed here is a single-sided adhesive resin sheet in which an adhesive resin layer is provided on one side of the substrate, a release treatment is performed on the non-adhesive resin layer-forming surface (back side) of the substrate. The peeling treatment may be performed with an agent (back treatment agent). The back treatment agent that can be used for the formation of the back treatment layer is not particularly limited, and the purpose is a silicone-based back treatment agent, a fluorine-based back treatment agent, a long-chain alkyl-based back treatment agent, or other known or commonly used treatment agents. It can be used according to the application.

基材の厚さは特に限定されず、目的に応じて適宜選択できるが、一般的には1〜800μmであり得る。加工性や取扱い性、作業性等の観点から、基材の厚さは2μm以上(例えば3μm以上、典型的には5μm以上)であることが好ましく、700μm以下(例えば500μm以下、典型的には200μm以下)であることが好ましい。   The thickness of the substrate is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose, but it can generally be 1 to 800 μm. From the viewpoints of processability, handleability, workability, etc., the thickness of the substrate is preferably 2 μm or more (for example, 3 μm or more, typically 5 μm or more), and is 700 μm or less (for example, 500 μm or less, typically 200 μm or less).

<剥離ライナー>
剥離ライナーとしては、慣用の剥離紙等を使用することができ、特に限定されない。例えば、樹脂フィルムや紙等のライナー基材の表面に剥離処理層を有する剥離ライナーや、フッ素系ポリマー(ポリテトラフルオロエチレン等)やポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロピレン等)の低接着性材料からなる剥離ライナー等を用いることができる。上記剥離処理層は、例えば、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離処理剤により上記ライナー基材を表面処理して形成されたものであり得る。
<Release liner>
A conventional release paper or the like can be used as the release liner, and is not particularly limited. For example, it consists of a release liner having a release treatment layer on the surface of a liner substrate such as a resin film or paper, or a low adhesive material such as a fluorine-based polymer (polytetrafluoroethylene, etc.) or a polyolefin resin (polyethylene, polypropylene, etc.). A release liner or the like can be used. The release treatment layer may be formed, for example, by surface-treating the liner base material with a release treatment agent such as silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, or molybdenum sulfide.

ここに開示される樹脂シート(密着性樹脂層と基材とを含み得るが、剥離ライナーは含まない。)の総厚は特に限定されず、凡そ5〜1000μmの範囲とすることが適当である。樹脂シートの総厚は、粘着特性等を考慮して10〜500μm(例えば15〜300μm、典型的には20〜200μm)程度とすることが好ましい。また、取扱い性等の観点から、樹脂シートの総厚は30μm以上(例えば50μm以上、典型的には70μm以上)であることがより好ましい。   The total thickness of the resin sheet disclosed here (which may include an adhesive resin layer and a substrate, but does not include a release liner) is not particularly limited, and is suitably in the range of about 5 to 1000 μm. . The total thickness of the resin sheet is preferably about 10 to 500 μm (for example, 15 to 300 μm, typically 20 to 200 μm) in consideration of adhesive properties and the like. Further, from the viewpoint of handleability and the like, the total thickness of the resin sheet is more preferably 30 μm or more (for example, 50 μm or more, typically 70 μm or more).

<密着性樹脂組成物>
この明細書によると、ここに開示される密着性樹脂層を形成するために用いられる密着性樹脂組成物が提供される。好ましい一態様では、密着性樹脂組成物は、特性(a1):上記樹脂組成物を剥離性支持体に付与して80℃で3分間乾燥することによって形成した厚さ30μmの密着性樹脂層のゲル分率をG(%)とし、該密着性樹脂層をさらに120℃で5分間加熱したときのゲル分率をG(%)としたとき、比(G/G)が1.1〜10000の範囲内である;を満たす。上記密着性樹脂組成物によると、貼り合わせ時には被着体に良好に密着可能であり、かつ、加熱時にはガス放出が抑制された密着性樹脂層が実現される。
<Adhesive resin composition>
According to this specification, the adhesive resin composition used in order to form the adhesive resin layer disclosed here is provided. In a preferred embodiment, the adhesive resin composition has the characteristics (a1): an adhesive resin layer having a thickness of 30 μm formed by applying the resin composition to a peelable support and drying at 80 ° C. for 3 minutes. When the gel fraction is G A (%), and the gel fraction when the adhesive resin layer is further heated at 120 ° C. for 5 minutes is G B (%), the ratio (G B / G A ) is 1. In the range of 1 to 10,000; According to the above adhesive resin composition, an adhesive resin layer that can be satisfactorily adhered to an adherend when bonded and that suppresses outgassing when heated is realized.

また、他の好ましい一態様では、密着性樹脂組成物は、特性(a2):上記樹脂組成物を剥離性支持体に付与して80℃で3分間乾燥することによって形成した厚さ30μmの密着性樹脂層のゲル分率をG(%)とし、該密着性樹脂層をさらに120℃で5分間加熱したときのゲル分率をG(%)としたとき、比(G/G)>1であり、かつゲル分率Gが30%〜100%の範囲内である;を満たす。上記密着性樹脂組成物によると、貼り合わせ時には被着体に良好に密着可能であり、かつ、加熱時にはガス放出が抑制された密着性樹脂層が実現される。 In another preferred embodiment, the adhesive resin composition has the characteristic (a2): 30 μm thick adhesive formed by applying the resin composition to a peelable support and drying at 80 ° C. for 3 minutes. the gel ratio of the sex resin layer and G a (%), when the gel fraction when heated for 5 minutes at further 120 ° C. the said seal adhesive resin layer was G B (%), the ratio (G B / G a)> 1, and a gel fraction G B is in the range of 30% to 100%; meet. According to the above adhesive resin composition, an adhesive resin layer that can be satisfactorily adhered to an adherend when bonded and that suppresses outgassing when heated is realized.

また、ここに開示される密着性樹脂組成物は、特性(a3):上記樹脂組成物を剥離性支持体に付与して80℃で3分間乾燥することによって形成した厚さ30μmの密着性樹脂層を1週間室温(25℃±5℃)で保管した場合において、当該保管後にゲル分率(%)の上昇が実質的に認められない;を満たすことが好ましい。なお、上記密着性樹脂層は、加熱(典型的には120℃、5分間の加熱)を行う前の密着性樹脂層である。   Further, the adhesive resin composition disclosed herein has characteristics (a3): an adhesive resin having a thickness of 30 μm formed by applying the resin composition to a peelable support and drying at 80 ° C. for 3 minutes. It is preferable that when the layer is stored at room temperature (25 ° C. ± 5 ° C.) for one week, no increase in gel fraction (%) is substantially observed after the storage. In addition, the said adhesive resin layer is an adhesive resin layer before performing heating (typically 120 degreeC, the heating for 5 minutes).

ここに開示される密着性樹脂組成物は、上述の密着性樹脂層に含まれ得る成分(ベースポリマー;炭素−炭素二重結合を有するポリマー、オリゴマー、モノマー;ラジカル発生剤;光重合開始剤;ラジカル捕捉剤;シランカップリング剤;その他の添加成分)を、好ましくは上述の配合割合で含み得る。上記ベースポリマーは、好ましくはアクリル系ポリマーである。また、密着性樹脂組成物には、密着性樹脂層の場合と同様、炭素−炭素二重結合が存在することが好ましい。これらの事項についての技術的意義は上述のとおりであるので、ここでは説明は繰り返さない。   The adhesive resin composition disclosed herein includes components that can be included in the above-described adhesive resin layer (base polymer; polymer, oligomer, monomer having a carbon-carbon double bond; radical generator; photopolymerization initiator; A radical scavenger; a silane coupling agent; and other additive components) may be preferably contained in the above-described blending ratio. The base polymer is preferably an acrylic polymer. Moreover, it is preferable that a carbon-carbon double bond exists in the adhesive resin composition as in the case of the adhesive resin layer. Since the technical significance of these matters is as described above, description thereof will not be repeated here.

<粘着シートの特性>
ここに開示される樹脂シートは、PENフィルムに対する180度剥離強度(対PEN剥離強度)が0.1N/20mm以上を示すことが好ましい。上記剥離強度を示す樹脂シートは被着体(典型的にはPEN製被着体)に対して良好に密着することができ、貼り合わせ性にも優れる。上記剥離強度は、0.2N/20mm以上(例えば0.3N/20mm以上、典型的には0.5N/20mm以上)であることがより好ましい。また、剥離強度が高すぎると、貼り直し作業性が低下する傾向があることから、上記剥離強度は5.0N/20mm以下(例えば3.0N/20mm以下、典型的には1.0N/20mm以下)であることが好ましい。なお、上記剥離強度は加熱(120℃、3分間の加熱)前に測定される剥離強度である。対PEN剥離強度は、下記の方法で測定することができる。
<Characteristics of adhesive sheet>
The resin sheet disclosed here preferably has a 180 degree peel strength (vs. PEN peel strength) with respect to the PEN film of 0.1 N / 20 mm or more. The resin sheet exhibiting the above-mentioned peel strength can adhere well to an adherend (typically an adherend made of PEN) and has excellent bonding properties. The peel strength is more preferably 0.2 N / 20 mm or more (for example, 0.3 N / 20 mm or more, typically 0.5 N / 20 mm or more). Also, if the peel strength is too high, the workability for reattachment tends to be reduced, so the peel strength is 5.0 N / 20 mm or less (eg, 3.0 N / 20 mm or less, typically 1.0 N / 20 mm). Or less). The peel strength is a peel strength measured before heating (heating at 120 ° C. for 3 minutes). The PEN peel strength can be measured by the following method.

[対PEN剥離強度の測定方法]
片面接着性の樹脂シートはそのままのものを、両面接着性の樹脂シートは一方の表面をPETフィルムに裏打ちしたものを、幅20mm、長さ100mmのサイズにカットして測定サンプルを作製する。23℃、50%RHの環境下にて、密着性樹脂層表面をPENフィルムの表面に2kgのゴムローラを1往復させて圧着する。これを同環境下に30分間放置した後、引張試験機を使用してJIS Z0237:2000に準じて、剥離角度180度、引張速度300mm/分の条件で剥離強度(N/20mm幅)を測定する。裏打ち用のPETフィルム基材としては、大三紙業(株)製のPETフィルム(厚さ75μm 薄赤ベタ印刷)を使用することができる。被着体としてのPENフィルムとしては、帝人デュポンフィルム(株)製の商品名「テオネックスQ65FA」を使用することができる。引張試験機としては、変角度ピール試験機(旭精工(株)製の商品名「山本式変角ピール測定機 YM−121」)を使用することができる。
[Measurement method for PEN peel strength]
A single-sided adhesive resin sheet is used as it is, and a double-sided adhesive resin sheet whose one surface is lined with a PET film is cut into a size of 20 mm in width and 100 mm in length to prepare a measurement sample. In an environment of 23 ° C. and 50% RH, the adhesive resin layer surface is pressure-bonded by reciprocating a 2 kg rubber roller to the surface of the PEN film. After leaving this in the same environment for 30 minutes, the peel strength (N / 20 mm width) is measured using a tensile tester in accordance with JIS Z0237: 2000 under conditions of a peel angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm / min. To do. As the PET film substrate for backing, a PET film (thickness 75 μm thin red solid printing) manufactured by Daisan Paper Industry Co., Ltd. can be used. As the PEN film as the adherend, a trade name “Teonex Q65FA” manufactured by Teijin DuPont Films Ltd. can be used. As the tensile tester, a variable-angle peel tester (trade name “Yamamoto-type variable-angle peel measuring machine YM-121” manufactured by Asahi Seiko Co., Ltd.) can be used.

ここに開示される樹脂シートは、段差追従性試験において、25μmの段差を有する被着体に貼り付けたときに形成される被着体界面における空隙の最大長さが1000μm以下を示すことが好ましい。上記樹脂シートは、貼り合わせ時における段差追従性に優れるので、表面に段差を有する被着体に対して良好に密着することができる。上記空隙の最大長さは、800μm以下(例えば600μm以下、典型的には300μm以下)であることがより好ましい。段差追従性試験は、後述の実施例に記載の方法で行われる。   The resin sheet disclosed here preferably has a maximum gap length of 1000 μm or less at the adherend interface formed when attached to an adherend having a step of 25 μm in a step following test. . Since the resin sheet is excellent in the step following property at the time of bonding, the resin sheet can be satisfactorily adhered to an adherend having a step on the surface. The maximum length of the void is more preferably 800 μm or less (for example, 600 μm or less, typically 300 μm or less). The step followability test is performed by the method described in Examples described later.

また、ここに開示される樹脂シートは、密着性樹脂層をガラス板に貼り付け、150℃で30分間加熱した後に測定される180度剥離強度(加熱後の剥離強度)が、0.05〜5.0N/20mmであることが好ましい(特性(B))。上記剥離強度が所定以上であることによって、樹脂シートは加熱後においても被着体に良好に密着し得る。上記剥離強度は0.2N/20mm以上であってもよい。一方、上記剥離強度が5.0N/20mmを超えると、再剥離性が低下し、使用後に被着体から剥がす際に被着体表面を損傷する等の不具合が生じる虞がある。そのような観点から、上記剥離強度は4.0N/20mm以下(例えば3.0N/20mm以下、典型的には1.5N/20mm以下)であることがより好ましい。上記加熱後の剥離強度が1.5N/20mm以下(例えば0.5N/20mm以下、典型的には0.3N/20mm以下)を示す樹脂シートは、凝集破壊が起こらず、糊残りが実質的に存在しないものとなり得るので特に好ましい。例えば、密着性樹脂層に光重合開始剤を含ませておき、樹脂シートを剥がす前に活性エネルギー線(例えばUV)を照射することで、上記剥離強度を好適に低下させることができる。なお、上記加熱後の剥離強度は、活性エネルギー線(例えばUV)照射等の易剥離処理を実施する前の値であってもよく、上記易剥離処理を実施した後の値であってもよい。上記易剥離処理を実施せずに上記加熱後の剥離強度を示す樹脂シートによると、UV照射等の易剥離処理を要することなく良好な加熱後密着性と再剥離性とを実現することができる。上記加熱後の剥離強度は、後述の実施例に記載の方法で測定される。   Moreover, the resin sheet disclosed here has a 180 degree peel strength (peel strength after heating) measured after sticking an adhesive resin layer on a glass plate and heating it at 150 ° C. for 30 minutes, from 0.05 to It is preferably 5.0 N / 20 mm (characteristic (B)). When the peel strength is not less than a predetermined value, the resin sheet can be well adhered to the adherend even after heating. The peel strength may be 0.2 N / 20 mm or more. On the other hand, when the peel strength exceeds 5.0 N / 20 mm, re-peelability is lowered, and there is a risk that problems such as damage to the adherend surface occur when peeled from the adherend after use. From such a viewpoint, the peel strength is more preferably 4.0 N / 20 mm or less (for example, 3.0 N / 20 mm or less, typically 1.5 N / 20 mm or less). The resin sheet having a peel strength after heating of 1.5 N / 20 mm or less (for example, 0.5 N / 20 mm or less, typically 0.3 N / 20 mm or less) does not cause cohesive failure and has substantially no adhesive residue. It is particularly preferable because it can be absent. For example, the peel strength can be suitably reduced by including a photopolymerization initiator in the adhesive resin layer and irradiating an active energy ray (for example, UV) before peeling the resin sheet. The peel strength after the heating may be a value before performing an easy peel treatment such as active energy ray (for example, UV) irradiation or a value after carrying out the easy peel treatment. . According to the resin sheet showing the peel strength after heating without carrying out the easy peel treatment, good post-heating adhesion and re-peelability can be realized without requiring easy peel treatment such as UV irradiation. . The peel strength after the heating is measured by the method described in Examples below.

また、ここに開示される樹脂シートは、加熱時の気泡発生評価試験において被着体界面に最大径が2.0mm以上の気泡が認められないことが好ましい。上記気泡発生評価試験は後述の実施例に記載の方法で測定される。   Moreover, it is preferable that the resin sheet disclosed here does not recognize bubbles having a maximum diameter of 2.0 mm or more at the adherend interface in the bubble generation evaluation test during heating. The bubble generation evaluation test is measured by the method described in Examples described later.

<用途>
ここに開示される樹脂シートの用途は特に限定されず、例えば、貼り付け後に60℃〜250℃(例えば100℃〜230℃、典型的には130℃〜200℃)の加熱に曝される環境で用いられる樹脂シートとして好ましく用いられ得る。上記加熱環境では、従来の粘着シートは、粘着シート中のアウトガス成分(典型的には、該樹脂層中に存在する水分等の揮発成分や、該樹脂層中の空隙に存在する気体成分)が同加熱により気化膨張して被着体界面で気泡となって現れ、被着体からの浮きや剥がれ等の不具合を引き起こし得る。ここに開示される樹脂シートは、そのようなアウトガス成分に由来するガス放出が抑制されているので、上記加熱条件に曝されても良好な密着性を維持することができる。
<Application>
The use of the resin sheet disclosed herein is not particularly limited. For example, the environment is exposed to heating at 60 ° C. to 250 ° C. (for example, 100 ° C. to 230 ° C., typically 130 ° C. to 200 ° C.) after pasting. It can be preferably used as a resin sheet used in. In the heating environment described above, the conventional pressure-sensitive adhesive sheet has an outgas component (typically, a volatile component such as moisture present in the resin layer or a gas component present in the void in the resin layer). It is vaporized and expanded by the same heating and appears as bubbles at the adherend interface, which may cause problems such as floating and peeling from the adherend. Since the resin sheet disclosed here suppresses the release of gas derived from such outgas components, it can maintain good adhesion even when exposed to the above heating conditions.

また、ここに開示される樹脂シートは、再剥離性に優れたものでもあり得るので、例えば上記加熱の後に剥がされる態様で使用される樹脂シートとして好適である。上記樹脂シートは、仮固定用シートや保護シートとして好ましく用いられ得る。   Moreover, since the resin sheet disclosed here may also be excellent in removability, it is suitable, for example, as a resin sheet used in a mode of being peeled after the heating. The resin sheet can be preferably used as a temporary fixing sheet or a protective sheet.

上記のような加熱に曝される用途としては、半導体素子製造用途が挙げられる。例えば半導体ウエハ加工(典型的にはシリコンウエハ加工)において該ウエハを固定板(例えばガラス板やアクリル板等の硬質基板)に固定するウエハ固定用シート(典型的にはレーザダイシング用シート)として好ましく用いられ得る。また、ここに開示される樹脂シートは、上記ウエハ加工において該ウエハ(例えば回路形成面)を保護する保護シートとしても好ましく用いられ得る。   Examples of the application exposed to the heating as described above include a semiconductor element manufacturing application. For example, it is preferable as a wafer fixing sheet (typically a laser dicing sheet) for fixing the wafer to a fixing plate (for example, a hard substrate such as a glass plate or an acrylic plate) in semiconductor wafer processing (typically silicon wafer processing). Can be used. Further, the resin sheet disclosed herein can be preferably used as a protective sheet for protecting the wafer (for example, a circuit forming surface) in the wafer processing.

上記シートには、上記製造における加工時や搬送時に被着体(典型的には半導体素子や硬質基板)から剥がれない程度の適度な密着性と、目的を達成した後に該被着体から良好に再剥離する性質が求められる。そして特に、上記シートは半導体素子の製造時における加熱に対して密着性等の特性の劣化が抑制されていることが重要である。例えば、半導体素子は、上記シートによって固定されたウエハに対してレーザダイシング加工を施した後、膜形成工程(例えば反射膜形成工程)等を経て製造され得る。上記レーザダイシングの際にはウエハや固定板は発熱する。レーザダイシングによる発熱量は、近年のウエハの大型化に伴って増大傾向にある。また、レーザダイシングの後に行われ得る膜形成工程(典型的には反射膜形成工程)は、通常130℃〜200℃の温度で2〜5時間程度実施される。ここに開示される樹脂シートは、上記のような加熱に対して良好な特性(典型的には密着性)を維持し得るので、例えばウエハ固定用シート(好適にはレーザダイシング用シート)として、レーザダイシング工程を含む半導体素子製造に好ましく用いられる。また、ここに開示される樹脂シートは、段差追従性に優れたものであり得るので、凹凸を有するウエハ表面(回路形成面)への密着性に優れたものとなり得る。さらに剥離の際には被着体表面を損傷しないものであり得る。   The above-mentioned sheet has an appropriate degree of adhesion so as not to be peeled off from an adherend (typically a semiconductor element or a hard substrate) at the time of processing or conveyance in the above-mentioned production, and is excellent from the adherend after achieving the purpose. Re-peeling properties are required. In particular, it is important that the sheet is prevented from being deteriorated in properties such as adhesion to heating during the production of a semiconductor element. For example, the semiconductor element can be manufactured through a film forming process (for example, a reflective film forming process) after performing laser dicing on the wafer fixed by the sheet. During the laser dicing, the wafer and the fixing plate generate heat. The amount of heat generated by laser dicing tends to increase with the recent increase in wafer size. In addition, a film forming process (typically a reflective film forming process) that can be performed after laser dicing is usually performed at a temperature of 130 ° C. to 200 ° C. for about 2 to 5 hours. Since the resin sheet disclosed here can maintain good characteristics (typically adhesion) to the heating as described above, for example, as a wafer fixing sheet (preferably a laser dicing sheet), It is preferably used for manufacturing a semiconductor device including a laser dicing process. Moreover, since the resin sheet disclosed here can be excellent in level | step difference followability, it can become the thing excellent in the adhesiveness to the wafer surface (circuit formation surface) which has an unevenness | corrugation. Furthermore, the surface of the adherend may not be damaged during peeling.

上述のように、ここに開示される樹脂シートは半導体素子の製造用途に好ましく適用される。したがって、この明細書によると、ここに開示される樹脂シートを用いた半導体素子の製造方法が提供される。好ましい一態様において、この製造方法は、固定板(典型的には硬質基板)表面に配置(例えば固定)された樹脂シートに半導体ウエハを固定する工程(固定工程)と;該半導体ウエハを加工する工程(加工工程)と;を含む。さらに好ましい一態様では、上記加工工程は、60℃以上(例えば130℃〜200℃)に加熱される工程(加熱工程)を含む。なお、上記加熱の際には、樹脂シートは典型的には両面が被着体に挟まれた状態であるので、雰囲気中の酸素による反応阻害が抑制され、密着性樹脂層のゲル分率上昇は好適に実現される。上記加熱工程は、例えばレーザダイシング工程および/または膜形成工程(典型的には反射膜形成工程)であり得る。   As described above, the resin sheet disclosed herein is preferably applied to the use of manufacturing semiconductor elements. Therefore, according to this specification, the manufacturing method of the semiconductor element using the resin sheet disclosed here is provided. In a preferred embodiment, the manufacturing method includes a step of fixing a semiconductor wafer to a resin sheet disposed (for example, fixed) on the surface of a fixing plate (typically a hard substrate) (fixing step); and processing the semiconductor wafer And a process (processing process). In a more preferred embodiment, the processing step includes a step (heating step) of heating to 60 ° C. or higher (eg, 130 ° C. to 200 ° C.). During the heating, since the resin sheet is typically in a state where both surfaces are sandwiched between adherends, reaction inhibition due to oxygen in the atmosphere is suppressed, and the gel fraction of the adhesive resin layer is increased. Is preferably realized. The heating process can be, for example, a laser dicing process and / or a film forming process (typically a reflective film forming process).

また、上記製造方法では、上記ダイシング工程によってダイシングされたチップは、エキスパンド工程を経てピックアップされ得る。つまり、上記製造方法は、上記加熱工程の後に樹脂シートを半導体ウエハから除去する工程(除去工程。典型的には剥離工程)を含み得る。好ましい一態様では、樹脂シートの剥離(再剥離)を軽くすることを目的として、上記除去工程の前に活性エネルギー線(典型的にはUV)照射工程を実施する。この工程を含む場合、密着性樹脂層中には光重合開始剤を含ませておくことが好ましい。なお、半導体素子の製造に必要なその他の技術的事項については、当該分野の技術常識に基づき当業者であれば実施可能であるので、ここでは特に説明しない。   In the manufacturing method, the chip diced by the dicing process can be picked up through the expanding process. That is, the manufacturing method may include a step of removing the resin sheet from the semiconductor wafer after the heating step (removal step, typically a peeling step). In a preferred embodiment, an active energy ray (typically UV) irradiation step is performed before the removing step for the purpose of reducing the peeling (re-peeling) of the resin sheet. When this process is included, it is preferable to include a photopolymerization initiator in the adhesive resin layer. Note that other technical matters necessary for manufacturing the semiconductor element can be implemented by those skilled in the art based on the common general technical knowledge in the field, and thus will not be particularly described here.

また、ここに開示される樹脂シートは、回路基板(典型的にはフレキシブル回路基板(FPC))、有機ELパネル、カラーフィルター、電子ペーパー、フレキシブルディスプレイ等の薄厚基板に製造に用いられる仮固定用シートとして好適である。ここでいう薄厚基板の厚さは5μm〜2mm(例えば10μm〜0.6mm)程度である。また、薄厚基板は、例えば、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリアミド、ポリノルボルネン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアラミド、ポリフェニレンサルファイド等の樹脂フィルムの少なくとも1層や、ステンレス鋼箔等を含むものであり得る。   The resin sheet disclosed herein is for temporary fixing used for manufacturing a thin substrate such as a circuit board (typically a flexible circuit board (FPC)), an organic EL panel, a color filter, electronic paper, and a flexible display. It is suitable as a sheet. The thickness of the thin substrate here is about 5 μm to 2 mm (for example, 10 μm to 0.6 mm). In addition, the thin substrate is, for example, a resin such as polyimide, polycarbonate, polyethersulfone, polyacrylate, polyamide, polynorbornene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyetheretherketone, polyamideimide, polyetherimide, polyaramid, polyphenylene sulfide, etc. It may contain at least one layer of film, stainless steel foil or the like.

上記仮固定用シートは、典型的には、一方の接着性表面をガラス等の硬質材料からなるキャリア基板に貼り合わせた後、他方の接着性表面に上記薄厚基板を仮固定する態様で用いられる。上記仮固定用シートには、薄厚基板の製造工程中にキャリア基板および薄厚基板から剥がれない程度の適度な密着性と、仮固定目的を達成した後に被着体から良好に剥離し得る再剥離性とが求められる。それに加えて、上記シートは該基板上へのパターン形成時の加熱に対して密着性等の特性の劣化が抑制されていることが重要である。具体的には、上記シートによって裏面が仮固定された薄厚基板は、その表面にパターンが形成されることによって製造される。パターン形成は、通常100℃〜230℃の温度で1〜3時間程度実施される。ここに開示される樹脂シートは、上記のような加熱に対して良好な特性(典型的には密着性)を維持し得るので、薄厚基板の製造に好ましく用いられる。   The temporary fixing sheet is typically used in a mode in which one adhesive surface is bonded to a carrier substrate made of a hard material such as glass and then the thin substrate is temporarily fixed to the other adhesive surface. . The temporary fixing sheet has an appropriate adhesiveness that does not peel off from the carrier substrate and the thin substrate during the manufacturing process of the thin substrate, and a removability that can be peeled well from the adherend after achieving the purpose of temporary fixing. Is required. In addition, it is important that the sheet is prevented from being deteriorated in properties such as adhesion to heating during pattern formation on the substrate. Specifically, a thin substrate whose back surface is temporarily fixed by the sheet is manufactured by forming a pattern on the surface. The pattern formation is usually performed at a temperature of 100 ° C. to 230 ° C. for about 1 to 3 hours. Since the resin sheet disclosed here can maintain good characteristics (typically adhesiveness) against the heating as described above, it is preferably used for the production of a thin substrate.

上述のように、ここに開示される樹脂シートは、回路基板(典型的にはFPC)等の薄厚基板の製造用途に好ましく適用される。したがって、この明細書によると、上記樹脂シートを用いた薄厚基板(例えば、回路基板(典型的にはFPC)、有機ELパネル、カラーフィルター、電子ペーパー、フレキシブルディスプレイ)の製造方法が提供される。好ましい一態様において、この製造方法は、キャリア基板表面に配置(例えば固定)された樹脂シートに薄厚基板(典型的には該基板の裏面)を固定する工程(固定工程)と;該薄厚基板の表面にパターンを形成する工程(パターン形成工程)と;を含む。さらに好ましい一態様では、上記パターン形成工程は、60℃以上(例えば100℃〜230℃)に加熱される工程(加熱工程)を含む。なお、上記加熱の際には、樹脂シートは典型的には両面が被着体に挟まれた状態であるので、雰囲気中の酸素による反応阻害が抑制され、密着性樹脂層のゲル分率上昇は好適に実現され得る。   As described above, the resin sheet disclosed herein is preferably applied to the use of manufacturing a thin substrate such as a circuit board (typically FPC). Therefore, according to this specification, a method for producing a thin substrate (for example, a circuit board (typically FPC), an organic EL panel, a color filter, electronic paper, a flexible display) using the resin sheet is provided. In a preferred embodiment, the manufacturing method includes a step (fixing step) of fixing a thin substrate (typically the back surface of the substrate) to a resin sheet disposed (for example, fixed) on the surface of the carrier substrate; Forming a pattern on the surface (pattern forming step). In a more preferred embodiment, the pattern forming step includes a step (heating step) of heating to 60 ° C. or higher (for example, 100 ° C. to 230 ° C.). During the heating, since the resin sheet is typically in a state where both surfaces are sandwiched between adherends, reaction inhibition due to oxygen in the atmosphere is suppressed, and the gel fraction of the adhesive resin layer is increased. Can be suitably realized.

また、上記製造方法は、上記加熱工程の後に樹脂シートを薄厚基板から除去する工程(除去工程。典型的には剥離工程)を含み得る。好ましい一態様では、樹脂シートの剥離(再剥離)を軽くすることを目的として、上記除去工程の前に活性エネルギー線(典型的にはUV)照射工程を実施する。この工程を含む場合、密着性樹脂層中には光重合開始剤を含ませておくことが好ましい。なお、FPC等の薄厚基板の製造に必要なその他の技術的事項については、当該分野の技術常識に基づき当業者であれば実施可能であるので、ここでは特に説明しない。   The manufacturing method may include a step of removing the resin sheet from the thin substrate after the heating step (removal step, typically a peeling step). In a preferred embodiment, an active energy ray (typically UV) irradiation step is performed before the removing step for the purpose of reducing the peeling (re-peeling) of the resin sheet. When this process is included, it is preferable to include a photopolymerization initiator in the adhesive resin layer. Note that other technical matters necessary for manufacturing a thin substrate such as an FPC can be implemented by those skilled in the art based on the common general technical knowledge in the field, and thus will not be described here.

以下、本発明に関するいくつかの実施例を説明するが、本発明をかかる実施例に示すものに限定することを意図したものではない。なお、以下の説明において「部」および「%」は、特に断りがない限り重量基準である。   Several examples relating to the present invention will be described below, but the present invention is not intended to be limited to those shown in the examples. In the following description, “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified.

<例1>
温度計、撹拌機、窒素導入管等を備えた反応容器に、2EHA96部と、AA4部と、重合開始剤としてのBPO(日油(株)製の商品名「ナイパーBW」)を0.3部と、重合溶媒としてのトルエンとを投入して、窒素ガス気流下60℃で重合反応を行い、重量平均分子量(Mw)が約60万のアクリル系ポリマーの45%トルエン溶液を得た。これを本例に係るアクリル系樹脂組成物として用いた。上記アクリル系樹脂組成物をPET製の剥離ライナー上に塗付して80℃で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層から構成された基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 1>
In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introducing tube, etc., 96 parts of 2EHA, 4 parts of AA, and BPO (trade name “NIPER BW” manufactured by NOF Corporation) as a polymerization initiator are 0.3. And toluene as a polymerization solvent were added and a polymerization reaction was performed at 60 ° C. under a nitrogen gas stream to obtain a 45% toluene solution of an acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of about 600,000. This was used as an acrylic resin composition according to this example. The acrylic resin composition is coated on a PET release liner, dried at 80 ° C. for 3 minutes, and further subjected to aging at 50 ° C. for 24 hours to form an adhesive resin layer having a thickness of 30 μm. A baseless resin sheet was prepared.

<例2>
アクリル系ポリマーのモノマー組成と重合開始剤使用量を表1に示す組成に変更した他は例1と同様にして、本例に係る基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 2>
A substrate-less resin sheet according to this example was produced in the same manner as in Example 1 except that the monomer composition of the acrylic polymer and the amount of polymerization initiator used were changed to those shown in Table 1.

<例3>
温度計、撹拌機、窒素導入管等を備えた反応容器に、2EHA100部と、2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)12.6部と、重合開始剤としてのBPO(日油(株)製の商品名「ナイパーBW」)を0.25部と、重合溶媒としてのトルエンとを投入して、窒素ガス気流下60℃で重合反応を行い、重量平均分子量(Mw)が約60万のアクリル系ポリマーの45%トルエン溶液を得た。これにメタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)13.5部を付加反応させ、炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを調製した。また、上記アクリル系ポリマーのトルエン溶液に、アクリルポリマーの固形分100部に対して、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業(株)製の商品名「コロネートL」)0.1部と、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名「イルガキュア127」(Irg127):2−ヒドロキシ−1−{4−〔4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル〕フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン)2部とを添加した。また、酸化防止剤(チバ・ジャパン(株)製の商品名「IRGANOX1010」;ペンタエリスリトール・テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート])を密着性樹脂層中に0.087%となる割合で添加した。このようにして、本例に係るアクリル系樹脂組成物を得た。
上記アクリル系樹脂組成物をPET製の剥離ライナー上に塗付して120℃で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層から構成された基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 3>
In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introduction tube, etc., 2EHA 100 parts, 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) 12.6 parts, BPO (a product made by NOF Corporation) as a polymerization initiator Acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of about 600,000 by introducing 0.25 parts of the name “Niper BW”) and toluene as a polymerization solvent and carrying out a polymerization reaction at 60 ° C. in a nitrogen gas stream. A 45% toluene solution was obtained. To this was added 13.5 parts of methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI) to prepare an acrylic polymer having a carbon-carbon double bond. In addition, 0.1 parts of an isocyanate-based crosslinking agent (trade name “Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and photopolymerization are carried out in a toluene solution of the above acrylic polymer with respect to 100 parts of solid content of the acrylic polymer. Initiator (trade name “Irgacure 127” (Irg127) manufactured by Ciba Specialty Chemicals): 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl}- 2-methyl-2-propan-1-one) was added. Further, an antioxidant (trade name “IRGANOX1010” manufactured by Ciba Japan Co., Ltd .; pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate]) is used as an adhesive resin. It added in the ratio used as 0.087% in a layer. In this way, an acrylic resin composition according to this example was obtained.
The acrylic resin composition is applied onto a release liner made of PET, dried at 120 ° C. for 3 minutes, and further subjected to aging at 50 ° C. for 24 hours to form an adhesive resin layer having a thickness of 30 μm. A baseless resin sheet was prepared.

<例4>
基材として、厚さ75μmのPETフィルム(大三紙業(株)製 薄赤ベタ印刷)を用意した。この基材に、例3で得たアクリル系樹脂組成物を塗付して120℃で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層がPETフィルム基材に支持された樹脂シートを作製した。
<Example 4>
As a substrate, a PET film having a thickness of 75 μm (light red solid printing manufactured by Daisan Paper Industry Co., Ltd.) was prepared. By applying the acrylic resin composition obtained in Example 3 to this base material, drying at 120 ° C. for 3 minutes, and further aging at 50 ° C. for 24 hours, an adhesive resin layer having a thickness of 30 μm is formed. A resin sheet supported on a PET film substrate was prepared.

<例5>
イソシアネート系架橋剤および光重合開始剤を使用しなかったこと、酸化防止剤の含有率を0.089%に変更したことの他は例3と同様にしてアクリル系樹脂組成物を調製した。このアクリル系樹脂組成物をPET製の剥離ライナー上に塗付して80℃で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層から構成された基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 5>
An acrylic resin composition was prepared in the same manner as in Example 3, except that the isocyanate-based crosslinking agent and the photopolymerization initiator were not used and the antioxidant content was changed to 0.089%. This acrylic resin composition is coated on a PET release liner, dried at 80 ° C. for 3 minutes, and further subjected to aging at 50 ° C. for 24 hours to form an adhesive resin layer having a thickness of 30 μm. A baseless resin sheet was prepared.

<例6>
温度計、撹拌機、窒素導入管等を備えた反応容器に、2EHA42.9部と、LA53.1部と、AA0.34部と、HEA11.0部と、重合開始剤としてのBPO(日油(株)製の商品名「ナイパーBW」)を0.2部と、重合溶媒としてのトルエンとを投入して、窒素ガス気流下60℃で重合反応を行い、重量平均分子量(Mw)が約60万のアクリル系ポリマーの45%トルエン溶液を得た。これに11.8部のMOIを付加反応させ、炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを調製した。また、上記アクリル系ポリマーのトルエン溶液に、アクリルポリマーの固形分100部に対して、アルミキレート系架橋剤(川崎ファインケミカル(株)製の商品名「アルミキレートAW」)3部と、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名「イルガキュア127」)2部と、シランカップリング剤(信越化学工業(株)製の商品名「KBM903」:3−アミノプロピルトリメトキシシラン)0.2部とを添加した。また、酸化防止剤(チバ・ジャパン(株)製の商品名「IRGANOX1010」)を密着性樹脂層中に0.095%となる割合で添加した。このようにして、本例に係るアクリル系樹脂組成物を得た。
上記アクリル系樹脂組成物をPET製の剥離ライナー上に塗付して80℃で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層から構成された基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 6>
In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introducing tube, etc., 22.9 parts of 2EHA, 53.1 parts of LA, 0.34 parts of AA, 11.0 parts of HEA, and BPO (NOF) as a polymerization initiator Co., Ltd. (trade name “Nyper BW”) 0.2 part and toluene as a polymerization solvent were added and a polymerization reaction was carried out at 60 ° C. under a nitrogen gas stream, and the weight average molecular weight (Mw) was about A 45% toluene solution of 600,000 acrylic polymer was obtained. An acrylic polymer having a carbon-carbon double bond was prepared by adding 11.8 parts of MOI thereto. Also, in the toluene solution of the acrylic polymer, 3 parts of an aluminum chelate crosslinking agent (trade name “Aluminum Chelate AW” manufactured by Kawasaki Fine Chemical Co., Ltd.) with respect to 100 parts of the solid content of the acrylic polymer, and photopolymerization started. 2 parts of an agent (trade name “Irgacure 127” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and a silane coupling agent (trade name “KBM903” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: 3-aminopropyltrimethoxysilane) 2 parts were added. Further, an antioxidant (trade name “IRGANOX1010” manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) was added to the adhesive resin layer at a ratio of 0.095%. In this way, an acrylic resin composition according to this example was obtained.
The acrylic resin composition is coated on a PET release liner, dried at 80 ° C. for 3 minutes, and further subjected to aging at 50 ° C. for 24 hours to form an adhesive resin layer having a thickness of 30 μm. A baseless resin sheet was prepared.

<例7>
アクリル系樹脂組成物の乾燥温度を120℃に変更した他は例6と同様にして本例に係る樹脂シートを作製した。
<Example 7>
A resin sheet according to this example was produced in the same manner as in Example 6 except that the drying temperature of the acrylic resin composition was changed to 120 ° C.

<例8>
温度計、撹拌機、窒素導入管等を備えた反応容器に、2EHA100部と、HEA4部と、重合開始剤としてのAIBNを0.2部と、重合溶媒としてのトルエンとを投入して、窒素ガス気流下60℃で重合反応を行い、重量平均分子量(Mw)が約60万のアクリル系ポリマーの45%トルエン溶液を得た。こアクリル系樹脂組成物を用いた他は例1と同様にして本例に係る樹脂シートを作製した。
<Example 8>
Into a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introducing tube, etc., 2EHA 100 parts, HEA 4 parts, AIBN 0.2 part as a polymerization initiator, and toluene as a polymerization solvent were charged, and nitrogen was added. A polymerization reaction was carried out at 60 ° C. in a gas stream to obtain a 45% toluene solution of an acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of about 600,000. A resin sheet according to this example was produced in the same manner as in Example 1 except that this acrylic resin composition was used.

<例9>
酸化防止剤の添加量を0.435%に変更した他は例3と同様にして本例に係る樹脂シートを作製した。
<Example 9>
A resin sheet according to this example was produced in the same manner as in Example 3 except that the addition amount of the antioxidant was changed to 0.435%.

<例10>
温度計、撹拌機、窒素導入管等を備えた反応容器に、2EHA100部と、HEA12.6部と、重合開始剤としてのBPO(日油(株)製の商品名「ナイパーBW」)を0.25部と、重合溶媒としてのトルエンとを投入して、窒素ガス気流下60℃で重合反応を行い、重量平均分子量(Mw)が約60万のアクリル系ポリマーの45%トルエン溶液を得た。これにMOI 13.5部を付加反応させ、炭素−炭素二重結合を有するアクリル系ポリマーを調製した。また、上記アクリル系ポリマーのトルエン溶液に、アクリルポリマーの固形分100部に対して、イソシアネート系架橋剤(日本ポリウレタン工業(株)製の商品名「コロネートL」)0.1部と、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の商品名「イルガキュア127」)2部と、BPO(日油(株)製の商品名「ナイパーBW」)2部とを添加した。また、酸化防止剤(チバ・ジャパン(株)製の商品名「IRGANOX1010」)を密着性樹脂層中に0.087%となる割合で添加した。このようにして、本例に係るアクリル系樹脂組成物を得た。
上記アクリル系樹脂組成物をPET製の剥離ライナー上に塗付して120℃で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層から構成された基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 10>
In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen introduction tube, etc., 0 parts of 2EHA, 12.6 parts of HEA, and BPO (trade name “Nyper BW” manufactured by NOF Corporation) as a polymerization initiator are 0. .25 parts and toluene as a polymerization solvent were added and a polymerization reaction was performed at 60 ° C. under a nitrogen gas stream to obtain a 45% toluene solution of an acrylic polymer having a weight average molecular weight (Mw) of about 600,000. . To this, 13.5 parts of MOI was subjected to an addition reaction to prepare an acrylic polymer having a carbon-carbon double bond. In addition, 0.1 parts of an isocyanate-based crosslinking agent (trade name “Coronate L” manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and photopolymerization are carried out in a toluene solution of the above acrylic polymer with respect to 100 parts of solid content of the acrylic polymer. 2 parts of an initiator (trade name “Irgacure 127” manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and 2 parts of BPO (trade name “Nyper BW” manufactured by NOF Corporation) were added. Further, an antioxidant (trade name “IRGANOX1010” manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) was added to the adhesive resin layer at a ratio of 0.087%. In this way, an acrylic resin composition according to this example was obtained.
The acrylic resin composition is applied onto a release liner made of PET, dried at 120 ° C. for 3 minutes, and further subjected to aging at 50 ° C. for 24 hours to form an adhesive resin layer having a thickness of 30 μm. A baseless resin sheet was prepared.

<例11>
アクリル系ポリマーのモノマー組成と重合開始剤使用量を表2に示す組成に変更した他は例3と同様にして、本例に係る基材レスの樹脂シートを作製した。なお、表2中、ACMOはN−アクリロイルモルホリンである。
<Example 11>
A substrate-less resin sheet according to this example was produced in the same manner as in Example 3 except that the monomer composition of the acrylic polymer and the amount of polymerization initiator used were changed to those shown in Table 2. In Table 2, ACMO is N-acryloylmorpholine.

<例12>
アクリル系ポリマーのモノマー組成と重合開始剤使用量を表2に示す組成に変更した他は例3と同様にして、本例に係る基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 12>
A substrate-less resin sheet according to this example was produced in the same manner as in Example 3 except that the monomer composition of the acrylic polymer and the amount of polymerization initiator used were changed to those shown in Table 2.

<例13>
重合開始剤をt−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(日油(株)製の商品名「パーヘキシルO」)に変更した他は例6と同様にして、本例に係る基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 13>
Substrate-less material according to this example is the same as Example 6 except that the polymerization initiator is changed to t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate (trade name “Perhexyl O” manufactured by NOF Corporation). A resin sheet was prepared.

<例14>
重合開始剤として、BPO(0.25部)に代えてAIBN(0.2部)を使用した他は例3と同様にして、本例に係る基材レスの樹脂シートを作製した。
<Example 14>
A substrate-less resin sheet according to this example was produced in the same manner as in Example 3 except that AIBN (0.2 part) was used instead of BPO (0.25 part) as a polymerization initiator.

各例に係る樹脂シートの概略(密着性樹脂層の組成、炭素−炭素二重結合存在量、乾燥条件、ラジカル発生剤の存在量、ゲル分率等)を表1、表2に示す。なお、炭素−炭素二重結合存在量は配合組成に基づき算出した値である。   Tables 1 and 2 show the outline of the resin sheet according to each example (composition of adhesive resin layer, carbon-carbon double bond abundance, drying conditions, abundance of radical generator, gel fraction, etc.). The carbon-carbon double bond abundance is a value calculated based on the composition.

[段差追従性]
各例に係る密着性樹脂組成物をPETフィルム基材(厚さ38μm)に塗付して所定の温度で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層がPETフィルム基材に支持された樹脂シートを作製した。乾燥温度は例1,2,5,6,8,13については80℃とし、例3,4,7,9〜12,14については120℃とした。作製した樹脂シートを幅20mm、長さ70mmのサイズにカットして測定サンプルを作製した。
ガラス板(松浪硝子工業(株)製のアルカリガラス板)上に厚さ25μmのPETフィルム(東レ(株)製の商品名「ルミラーS10」)を設置してガラス面に段差を設けた。23℃、50%RHの環境下にて、上記段差部分が測定サンプルの幅方向のほぼ中央となるように位置決めして、測定サンプルの密着性樹脂層側表面を被着体表面に2kgのゴムローラを1往復させて圧着した。圧着してから30分後に測定サンプルの貼り付けられた被着体の段差部分を真上から観察して、被着体界面において段差部分に存在する空隙のサイズ(最大長さ)を確認した。空隙サイズの確認は、光学顕微鏡(倍率:100倍)を用いて行い、段差部分に存在する空隙の最大径(最大長さ)を記録した。光学顕微鏡としては、オリンパス(株)製の「MX50」を使用した。結果を表1、表2に示す。
[Step following capability]
The adhesive resin composition according to each example was applied to a PET film substrate (thickness 38 μm), dried at a predetermined temperature for 3 minutes, and further subjected to aging at 50 ° C. for 24 hours, whereby a thickness of 30 μm was obtained. A resin sheet having an adhesive resin layer supported on a PET film substrate was prepared. The drying temperature was 80 ° C. for Examples 1, 2, 5, 6, 8, and 13, and 120 ° C. for Examples 3, 4, 7, 9-12, and 14. The produced resin sheet was cut into a size of 20 mm in width and 70 mm in length to produce a measurement sample.
A PET film (trade name “Lumirror S10” manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 25 μm was placed on a glass plate (an alkali glass plate manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd.) to provide a step on the glass surface. In an environment of 23 ° C. and 50% RH, the above step portion is positioned so as to be substantially in the center in the width direction of the measurement sample, and the adhesive resin layer side surface of the measurement sample is placed on the adherend surface with a 2 kg rubber roller. Was reciprocated once and crimped. 30 minutes after the pressure bonding, the stepped portion of the adherend to which the measurement sample was attached was observed from directly above, and the size (maximum length) of the void existing in the stepped portion at the adherend interface was confirmed. The gap size was confirmed using an optical microscope (magnification: 100 times), and the maximum diameter (maximum length) of the gap existing in the step portion was recorded. As the optical microscope, “MX50” manufactured by Olympus Corporation was used. The results are shown in Tables 1 and 2.

[加熱後の剥離強度]
各例に係る密着性樹脂組成物をPETフィルム基材(厚さ75μm)に塗付して所定の温度で3分間乾燥し、さらに50℃で24時間のエージングを行うことにより、厚さ30μmの密着性樹脂層がPETフィルム基材に支持された樹脂シートを作製した。乾燥温度は例1,2,5,6,8,13については80℃とし、例3,4,7,9〜12,14については120℃とした。
上記で作製した樹脂シートを幅20mm、長さ100mmのサイズにカットして測定サンプルを作製した。23℃、50%RHの環境下にて、測定サンプルの密着性樹脂層側表面をガラス板の表面に2kgのゴムローラを1往復させて圧着した。これを同環境下に30分間放置した後、乾燥器にて150℃で30分間の加熱を行った。その後、23℃、50%RHの環境下にて、引張試験機を使用してJIS Z0237:2000に準じて、剥離角度180度、引張速度300mm/分の条件で剥離強度(N/20mm幅)を測定した。例3,4,6,7,9〜14については、加熱後に、UV照射機(日東精機(株)製、商品名「NEL SYSTEM UM810」、高圧水銀灯光源)を用いて60mW/cm×10秒のUV照射を行った。
なお、PETフィルム基材としては、大三紙業(株)製のPETフィルム(厚さ75μm 薄赤ベタ印刷)を使用した。ガラス板としては、松浪硝子工業(株)製のアルカリガラス板(80mm×80mm×0.7mm)を使用した。引張試験機としては、変角度ピール試験機(旭精工(株)製の商品名「山本式変角ピール測定機 YM−121」)を使用した。結果を表1、表2に示す。
[Peel strength after heating]
The adhesive resin composition according to each example was applied to a PET film substrate (thickness: 75 μm), dried at a predetermined temperature for 3 minutes, and further subjected to aging at 50 ° C. for 24 hours to obtain a thickness of 30 μm. A resin sheet having an adhesive resin layer supported on a PET film substrate was prepared. The drying temperature was 80 ° C. for Examples 1, 2, 5, 6, 8, and 13, and 120 ° C. for Examples 3, 4, 7, 9-12, and 14.
The resin sheet produced above was cut into a size of 20 mm in width and 100 mm in length to produce a measurement sample. Under an environment of 23 ° C. and 50% RH, the adhesive resin layer side surface of the measurement sample was pressure-bonded by reciprocating a 2 kg rubber roller to the surface of the glass plate. This was left in the same environment for 30 minutes, and then heated at 150 ° C. for 30 minutes in a dryer. Then, in an environment of 23 ° C. and 50% RH, using a tensile tester, in accordance with JIS Z0237: 2000, peel strength (N / 20 mm width) at a peel angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm / min. Was measured. For Examples 3, 4, 6, 7, and 9-14, after heating, 60 mW / cm 2 × 10 using a UV irradiator (manufactured by Nitto Seiki Co., Ltd., trade name “NEL SYSTEM UM810”, high pressure mercury lamp light source). Second UV irradiation was performed.
In addition, as a PET film base material, the PET film (thickness 75 micrometer thin red solid printing) by Daisan Paper Industry Co., Ltd. was used. As the glass plate, an alkali glass plate (80 mm × 80 mm × 0.7 mm) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd. was used. As the tensile tester, a variable-angle peel tester (trade name “Yamamoto-type variable-angle peel measuring machine YM-121” manufactured by Asahi Seiko Co., Ltd.) was used. The results are shown in Tables 1 and 2.

[加熱時の気泡発生評価]
23℃、50%RHの環境下にて、各例に係る樹脂シートの密着性樹脂層側表面をガラス板の表面にハンドローラーを用いて貼り合わせた後、80mm×80mmのサイズにカットして測定サンプルを作製した。ガラス板としては、松浪硝子工業(株)製のアルカリガラス板(80mm×80mm×0.7mm)を使用した。これを同環境下に30分間放置した後、乾燥器にて150℃で30分間の加熱を行った。例1〜3,5〜8および例9〜14に係る基材レス樹脂シートについては、ガラス板側とは反対側の表面に厚さ125μmのPENフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製の商品名「テオネックスQ65FA」)を貼り合わせてから上記の加熱を行った。加熱後の外観変化(被着体界面における気泡発生の有無)を目視で観察し、下記の基準で評価した。結果を表1、表2に示す。
◎:気泡の存在は認められなかった。
〇:最大径が2.0mm未満の微小気泡が認められた。
×:最大径が2.0mm以上の気泡が認められた。
[Evaluation of bubble generation during heating]
In an environment of 23 ° C. and 50% RH, the adhesive resin layer side surface of the resin sheet according to each example was bonded to the surface of the glass plate using a hand roller, and then cut into a size of 80 mm × 80 mm. A measurement sample was prepared. As the glass plate, an alkali glass plate (80 mm × 80 mm × 0.7 mm) manufactured by Matsunami Glass Industry Co., Ltd. was used. This was left in the same environment for 30 minutes, and then heated at 150 ° C. for 30 minutes in a dryer. About the base material-less resin sheets according to Examples 1 to 3, 5 to 8 and Examples 9 to 14, a PEN film (trade name manufactured by Teijin DuPont Films Co., Ltd.) having a thickness of 125 μm on the surface opposite to the glass plate side. The above-mentioned heating was performed after bonding “Teonex Q65FA”). The appearance change after heating (the presence or absence of generation of bubbles at the adherend interface) was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 1 and 2.
A: The presence of bubbles was not recognized.
A: Microbubbles having a maximum diameter of less than 2.0 mm were observed.
X: Bubbles having a maximum diameter of 2.0 mm or more were observed.

Figure 2015120884
Figure 2015120884

Figure 2015120884
Figure 2015120884

表1,表2に示されるように、比(G/G)が1.1〜10000であった例1〜例7、例9〜例13に係る樹脂シートは、加熱時には気泡の発生が認められないか、最大径2.0mm未満の微小気泡しか発生しなかった。一方、比(G/G)が1.1未満であった例8、例14に係る樹脂シートは、加熱時には被着体との界面で気泡が発生し、全面で剥がれが認められた。これらの結果から、比(G/G)を1.1〜10000の範囲とすることで、加熱前には被着体に良好に密着して被着体界面における空隙が少ないこと、および加熱時には密着性樹脂層中のアウトガス成分の気化膨張より早く密着性樹脂層のゲル分率が上昇することにより、当該アウトガス成分の気化膨張を抑制し、浮きや剥がれ等の不具合の発生が防止されたことがわかる。
また別の観点から、例1〜例7、例9〜例13に係る樹脂シートによる加熱時の気泡抑制は、加熱前のゲル分率が相対的に低かったことと、加熱後のゲル分率Gが30〜100%の範囲内であったことによって実現されたと解釈することもできる。
さらに、例3〜例7、例9〜例11、例13に係る樹脂シートは、加熱時の気泡発生が顕著に抑制されており、また加熱後の剥離がより良好であったことから、加熱後においても良好な密着性を実現し、かつ再剥離性に優れることがわかる。特に例3〜例5、例9、例10に係る樹脂シートは、段差追従性にも優れていた。
Table 1, as shown in Table 2, the ratio (G B / G A) is Example 1 Example 7 was 1.1 to 10,000, the resin sheets of Examples 9 to Example 13, the generation of bubbles upon heating Was not observed, or only microbubbles having a maximum diameter of less than 2.0 mm were generated. On the other hand, the ratio (G B / G A) is Example 8 which was less than 1.1, the resin sheets of Examples 14, bubbles are generated at the interface between the adherend upon heating, peeling the entire surface was observed . From these results, by setting the ratio (G B / G A ) in the range of 1.1 to 10000, it adheres well to the adherend before heating and there are few voids at the adherend interface, and During heating, the gel fraction of the adhesive resin layer rises earlier than the vaporization and expansion of the outgas component in the adhesive resin layer, thereby suppressing the vaporization and expansion of the outgas component and preventing the occurrence of problems such as floating and peeling. I understand that.
From another viewpoint, the bubble suppression during heating by the resin sheets according to Examples 1 to 7 and Examples 9 to 13 was that the gel fraction before heating was relatively low, and the gel fraction after heating. G B can also be interpreted as being realized by ranged from 30% to 100%.
Furthermore, the resin sheets according to Example 3 to Example 7, Example 9 to Example 11, and Example 13 were remarkably suppressed in the generation of bubbles during heating, and the peeling after heating was more favorable. It can be seen that good adhesion can be achieved and the removability is excellent. In particular, the resin sheets according to Examples 3 to 5, Example 9, and Example 10 were excellent in the step following ability.

以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。   Specific examples of the present invention have been described in detail above, but these are merely examples and do not limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples illustrated above.

1,2,3,4,5,6 樹脂シート
10 基材
21,22 密着性樹脂層
31,32 剥離ライナー
1, 2, 3, 4, 5, 6 Resin sheet 10 Base material 21, 22 Adhesive resin layer 31, 32 Release liner

Claims (8)

特性(A1):120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇し、かつ前記加熱を行う前のゲル分率G(%)に対する該加熱を行った後のゲル分率G(%)の比(G/G)が1.1〜10000の範囲内である;を満たす密着性樹脂層を備える、樹脂シート。 Characteristic (A1): The gel fraction increases by heating at 120 ° C. for 5 minutes, and the gel fraction G B (% after the heating with respect to the gel fraction G A (%) before the heating is performed. ratio) (G B / G a) is in the range of from 1.1 to 10,000; comprising the adhesion resin layer satisfying the resin sheet. 特性(A2):120℃、5分間の加熱によってゲル分率が上昇し、かつ前記加熱を行った後のゲル分率Gが30%〜100%の範囲内である;を満たす密着性樹脂層を備える、樹脂シート。 Characteristics (A2): 120 ℃, the gel fraction is increased by heating for 5 minutes, and the gel fraction G B after the said heating is in the range of 30% to 100%; meet the adhesion resin A resin sheet comprising a layer. 特性(B):前記密着性樹脂層をガラス板に貼り付け、150℃で30分間加熱した後に測定される180度剥離強度が、0.05〜5.0N/20mmである;を満たす、請求項1または2に記載の樹脂シート。   Characteristic (B): 180 degree peel strength measured after affixing the adhesive resin layer on a glass plate and heating at 150 ° C. for 30 minutes is 0.05 to 5.0 N / 20 mm; Item 3. The resin sheet according to Item 1 or 2. 前記密着性樹脂層におけるラジカル捕捉剤の含有率は1重量%以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet as described in any one of Claims 1-3 whose content rate of the radical scavenger in the said adhesive resin layer is 1 weight% or less. 前記密着性樹脂層には、炭素−炭素二重結合が存在している、請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein a carbon-carbon double bond is present in the adhesive resin layer. 前記密着性樹脂層における前記炭素−炭素二重結合の存在量は0.1〜2.0mmol/gである、請求項5に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to claim 5, wherein the abundance of the carbon-carbon double bond in the adhesive resin layer is 0.1 to 2.0 mmol / g. 前記密着性樹脂層は、一般式(1):
Figure 2015120884
(上式中、Rは水素またはメチル基である。);で表わされる加熱反応性基を有する化合物を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹脂シート。
The adhesive resin layer has the general formula (1):
Figure 2015120884
(In said formula, R is hydrogen or a methyl group.) The resin sheet as described in any one of Claims 1-6 containing the compound which has a heat-reactive group represented by these.
前記密着性樹脂層を支持する樹脂フィルム基材をさらに備える、請求項1〜7のいずれか一項に記載の樹脂シート。   The resin sheet according to any one of claims 1 to 7, further comprising a resin film substrate that supports the adhesive resin layer.
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