JP2015116662A - Flow rate adjustment device, liquid weighing device, and microchannel device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flow rate adjustment device which can easily perform the control of a liquid flow rate in a microchannel device and can be produced easily.SOLUTION: A flow rate adjustment device 1 is provided in a predetermined area E of a microchannel 2 and comprises an elastic film 6 and a gas generating film 7 made of a photoresponsive gas generating agent. A bottom surface of the microchannel 2 is composed of the elastic film 6. Gas is generated by irradiating the gas generating film 7 with light, and pressure by the gas is applied from the back surface side of the elastic film 6. Thereby, the elastic film 6 expands in the area E and closes the microchannel 2. When releasing the application of the pressure by the gas, the elastic film 6 returns to its original shape, and the microchannel 2 is opened.

Description

本発明は、流量調整デバイス、液体秤取デバイス、並びに、マイクロ流路デバイスに関する。本発明は、マイクロ流路を流れる微量液体の流量調整等に有用なものである。   The present invention relates to a flow rate adjusting device, a liquid weighing device, and a microchannel device. The present invention is useful for adjusting the flow rate of a small amount of liquid flowing through a microchannel.

微量の液体試料を取り扱うことができるマイクロ流路デバイス(マイクロデバイス、マイクロ流体デバイス)が知られている。例えば、手で容易に取り扱い得る大きさの基板(チップ)内に、液体試料等を搬送するためのマイクロ流路が形成され、必要に応じて、試料の導入部、試薬類の保持部、反応槽等が設けられたマイクロ流路デバイスが知られている(例えば、特許文献1,2)。   There are known microchannel devices (microdevices, microfluidic devices) that can handle a small amount of liquid sample. For example, a microchannel for transporting a liquid sample or the like is formed in a substrate (chip) that can be easily handled by hand. If necessary, the sample introduction part, reagent holding part, reaction A microchannel device provided with a tank or the like is known (for example, Patent Documents 1 and 2).

近年、マイクロ流路デバイスを用いた携帯性に優れる分析装置が、医療現場や環境測定の分野で用いられている。このマイクロ流路デバイスには、サンプル溶液の流量調整用の流量調整デバイスが用いられ、希釈、濃縮などを行い、血液や環境分析等を行うことができる。このような流量調整デバイスは、例えば、下記の特許文献3に開示されている。特許文献3に開示されている流量調整デバイスは、温度変化により膨張又は収縮して体積が変化する変形部を有し、当該変形部を変形させることで、マイクロ流路を流れる液体の流量を調整するものである。   In recent years, an analyzer having excellent portability using a microchannel device has been used in the medical field and the field of environmental measurement. A flow rate adjusting device for adjusting the flow rate of the sample solution is used for the microchannel device, and dilution, concentration, and the like can be performed for blood and environmental analysis. Such a flow rate adjusting device is disclosed in Patent Document 3 below, for example. The flow rate adjusting device disclosed in Patent Document 3 has a deformed portion that expands or contracts due to a temperature change and changes in volume, and deforms the deformed portion to adjust the flow rate of the liquid flowing through the microchannel. To do.

またマイクロ流路デバイスを用いて、一定体積の微量液体を秤取することができる技術が知られている(例えば、特許文献4)。   In addition, a technique that can weigh a small volume of liquid with a microchannel device is known (for example, Patent Document 4).

特開2012−132879号公報JP 2012-132879 A 特開2012−215535号公報JP 2012-215535 A 特開2012−31894号公報JP 2012-31894 A 特開2007−279068号公報JP 2007-279068 A

特許文献3に記載されている流量調整デバイスでは、デバイスの開閉に加熱部と冷却部の制御が必要となる。しかし、この構成では、熱の伝送の仕方によってはバルブ開閉に時間差が生じ、液体等の流体の制御が難しくなる。また、この流量調整デバイスでは、熱変化する材料をマイクロ流路内に別途配置する必要があり、マイクロ流体デバイス自体の作製も難しくなる。   In the flow rate adjustment device described in Patent Document 3, the heating unit and the cooling unit are required to open and close the device. However, in this configuration, a time difference occurs in opening and closing of the valve depending on how heat is transmitted, and it becomes difficult to control fluid such as liquid. Further, in this flow rate adjusting device, it is necessary to separately arrange a heat-changing material in the microchannel, and it becomes difficult to manufacture the microfluidic device itself.

上記現状に鑑み、本発明は、マイクロ流体デバイスにおいて液体の流量制御を容易に行うことができ、かつ作製も容易である流量調整デバイスと、当該流量調整デバイスを利用した液体秤取デバイス及びマイクロ流路デバイスを提供することを目的とする。   In view of the above situation, the present invention is capable of easily controlling the flow rate of a liquid in a microfluidic device and is easy to manufacture, a liquid weighing device using the flow rate adjusting device, and a microfluidic device. An object is to provide a road device.

上記した課題を解決するための本発明の1つの様相は、マイクロ流路における所定位置の流路断面積を変化させて、当該所定位置を流れる液体の流量を調整する流量調整デバイスであって、光を照射することによりガスを発生する光応答性ガス発生剤と、弾性を有するフィルムとを有し、前記フィルムが前記所定位置におけるマイクロ流路の内壁を構成しており、光応答性ガス発生剤から発生したガスによる圧力を、前記フィルムにおけるマイクロ流路の内壁とは反対側から前記フィルムに付与して前記フィルムを弾性変形させることにより、前記所定位置におけるマイクロ流路の内壁の形状を変化させ、流路断面積を変化させることを特徴とする流量調整デバイスである。   One aspect of the present invention for solving the above-described problem is a flow rate adjusting device that adjusts the flow rate of the liquid flowing through the predetermined position by changing the cross-sectional area of the predetermined position in the microchannel. A photoresponsive gas generating agent that generates gas by irradiating light and an elastic film, and the film constitutes the inner wall of the microchannel at the predetermined position. The shape of the inner wall of the microchannel at the predetermined position is changed by applying pressure to the film from the side opposite to the inner wall of the microchannel in the film and elastically deforming the film. The flow rate adjusting device is characterized in that the flow path cross-sectional area is changed.

本発明の流量調整デバイスは、マイクロ流路における所定位置の流路断面積を変化させて、当該所定位置を流れる液体の流量を調整するものである。本発明の流量調整デバイスは、光応答性ガス発生剤を有しており、当該光応答性ガス発生剤に光を照射することにより、ガスを発生させることができる。また本発明の流量調整デバイスは、弾性を有するフィルム有しており、当該フィルムが前記所定位置におけるマイクロ流路の内壁を構成している。そして、本発明の流量調整デバイスでは、光応答性ガス発生剤から発生したガスの圧力を、前記フィルムにおけるマイクロ流路の内壁とは反対側から前記フィルムに付与して前記フィルムに付与して弾性変形させることにより、所定位置におけるマイクロ流路の内壁の形状を変化させ、これにより流路断面積を変化させる。本発明の流量調整デバイスでは、光応答性ガス発生剤から発生したガスを利用するので、光を照射するだけの簡単な操作で流量調整を行うことができ、加熱や冷却といった操作を必要としない。さらに、マイクロ流路自体の内壁の形状を変化させることで液体の流量を調整するので、マイクロ流路内に別体を設置する必要がなく、製作が容易である。   The flow rate adjusting device of the present invention adjusts the flow rate of the liquid flowing through the predetermined position by changing the flow path cross-sectional area at the predetermined position in the micro flow path. The flow rate adjusting device of the present invention has a photoresponsive gas generating agent, and can generate gas by irradiating the photoresponsive gas generating agent with light. The flow rate adjusting device of the present invention has an elastic film, and the film constitutes the inner wall of the microchannel at the predetermined position. In the flow rate adjusting device of the present invention, the pressure of the gas generated from the photoresponsive gas generating agent is applied to the film from the side opposite to the inner wall of the microchannel in the film and applied to the film for elasticity. By deforming, the shape of the inner wall of the micro-channel at a predetermined position is changed, thereby changing the channel cross-sectional area. In the flow rate adjusting device of the present invention, since the gas generated from the photoresponsive gas generating agent is used, the flow rate can be adjusted by a simple operation only by irradiating light, and operations such as heating and cooling are not required. . Furthermore, since the flow rate of the liquid is adjusted by changing the shape of the inner wall of the microchannel itself, it is not necessary to install a separate body in the microchannel, and manufacturing is easy.

ここで「マイクロ流路」とは、流路を流れる液体に所謂マイクロ効果が発現する形状寸法に形成されている微細な流路をいう。具体的には、流路を流れる液体が表面張力と毛細管現象の影響を強く受け、通常の寸法の流路を流れる液体とは異なる挙動を示す形状寸法に形成されている微細な流路である。   Here, the “micro flow path” refers to a fine flow path that is formed in a shape and dimension that develops a so-called micro effect in the liquid flowing through the flow path. Specifically, it is a fine channel that is formed in a shape and dimension that exhibits a behavior different from that of a liquid that flows through a normal-sized channel because the liquid flowing through the channel is strongly influenced by surface tension and capillary action. .

好ましくは、前記フィルムが膨張することにより前記所定位置の流路断面積が小さくなり、前記フィルムが収縮することにより前記所定位置の流路断面積が大きくなる。   Preferably, the flow path cross-sectional area at the predetermined position is reduced by expansion of the film, and the flow path cross-sectional area at the predetermined position is increased by contraction of the film.

好ましくは、前記フィルムが膨張することにより前記所定位置においてマイクロ流路を閉鎖することができ、その後、前記フィルムが収縮することにより前記所定位置においてマイクロ流路を開放できる。   Preferably, the microchannel can be closed at the predetermined position by the expansion of the film, and then the microchannel can be opened at the predetermined position by the contraction of the film.

好ましくは、光の照射範囲を制限するマスクをさらに備え、当該マスクにより、前記光応答性ガス発生剤における前記所定位置に対応する領域に対して重点的に光を照射可能である。   Preferably, a mask for limiting the light irradiation range is further provided, and the mask can irradiate light mainly on a region corresponding to the predetermined position in the photoresponsive gas generating agent.

好ましくは、前記マイクロ流路は板状の基材に形成され、当該基材上に、前記フィルムと前記光応答性ガス発生剤がこの順番に積層されている。   Preferably, the microchannel is formed on a plate-like base material, and the film and the photoresponsive gas generating agent are laminated in this order on the base material.

好ましくは、前記フィルムに付与されたガスを排出するためのガス排出機構をさらに有する。   Preferably, it further has a gas discharge mechanism for discharging the gas applied to the film.

かかる構成により、流量調整用流路の閉鎖を容易に行うことができる。   With this configuration, the flow rate adjusting channel can be easily closed.

好ましくは、前記ガス排出機構は、ガス排出路と当該ガス排出路に設けられたバルブからなる。   Preferably, the gas discharge mechanism includes a gas discharge path and a valve provided in the gas discharge path.

好ましくは、前記バルブは、光を照射することにより自己剥離する光刺激剥離フィルムを利用したものである。   Preferably, the bulb uses a light-stimulated peeling film that self-peels when irradiated with light.

好ましくは、前記光応答性ガス発生剤は、アクリルバインダーと光増感剤をさらに含有させたものである。   Preferably, the photoresponsive gas generating agent further contains an acrylic binder and a photosensitizer.

好ましくは、未使用時には遮光フィルムで覆われており、使用時に前記遮光フィルムを取り除くものである。   Preferably, the light-shielding film is covered when not in use, and the light-shielding film is removed when in use.

本発明の他の様相は、マイクロチップに設けられ、一定体積の微量液体を量り取るための液体秤取デバイスであって、上記構成の流量調整デバイスと、一定体積を有する密閉空間とを有し、前記流量調整デバイスを通じて前記密閉空間に液体を導入することにより、一定体積の液体を秤取可能であることを特徴とする液体秤取デバイスである。   Another aspect of the present invention is a liquid weighing device that is provided on a microchip and for measuring a small volume of a small volume of liquid, and includes a flow rate adjusting device having the above-described configuration and a sealed space having a certain volume. The liquid weighing device is capable of weighing a fixed volume of liquid by introducing the liquid into the sealed space through the flow rate adjusting device.

本発明は液体秤取デバイスに係るものである。本発明の液体秤取デバイスは、上記構成の流量調整デバイスを有しており、流量調整デバイスを通じて一定体積を有する密閉空間に液体を量り取る。かかる構成により、より簡単な構成をもって一定体積の微量液体を秤取することができる。   The present invention relates to a liquid weighing device. The liquid weighing device of the present invention has the flow rate adjusting device having the above-described configuration, and measures the liquid in a sealed space having a constant volume through the flow rate adjusting device. With this configuration, it is possible to weigh a small volume of liquid with a simpler configuration.

本発明のさらに他の様相は、液体試料が移動する試料移動路を備えたマイクロ流路デバイスであって、上記構成の流量調整デバイスと、前記流量調整デバイスにおける光応答性ガス発生剤から発生したガスが供給されるガス供給路と、前記ガス供給路から分岐し、前記流量調整デバイスにおける弾性を有するフィルムに繋がるフィルム連通路と、前記ガス供給路と前記試料移動路との間に設置され、その開閉によって前記ガス供給路と前記試料移動路との間を連通又は閉鎖する弁と、前記流量調整デバイスにおけるマイクロ流路で構成され、一端が前記試料移動路に連通し、他端が外部に開放する外部連通路とを有し、前記光応答性ガス発生剤から発生したガスが前記フィルム連通路を通じて前記フィルムに供給されて、前記フィルムが弾性変形し、前記外部連通路を閉鎖可能であることを特徴とするマイクロ流路デバイスである。   Still another aspect of the present invention is a microchannel device having a sample movement path through which a liquid sample moves, and is generated from the flow rate adjustment device having the above-described configuration and the photoresponsive gas generating agent in the flow rate adjustment device. A gas supply path through which gas is supplied; a film communication path branched from the gas supply path and connected to the elastic film in the flow rate adjusting device; and installed between the gas supply path and the sample movement path, It consists of a valve that communicates or closes between the gas supply path and the sample movement path by opening and closing, and a micro flow path in the flow rate adjusting device, with one end communicating with the sample movement path and the other end externally. An external communication path that opens, and gas generated from the photoresponsive gas generating agent is supplied to the film through the film communication path, so that the film is elastic. And form a microchannel device, wherein the a of the external communication passage can be closed.

本発明は、液体試料が移動する試料移動路を備えたマイクロ流路デバイスに係るものであり、上記構成の流量調整デバイスを有している。さらに、本発明のマイクロ流路デバイスは、ガス供給路、フィルム連通路、弁、及び外部連通路を有している。そして、ガス供給路には、光応答性ガス発生剤から発生したガスが供給される。フィルム連通路は、ガス供給路から分岐しており、弾性を有するフィルムに繋がっている。弁は、ガス供給路と試料移動路との間に設置され、その開閉によってガス供給路と試料移動路との間を連通又は閉鎖する。外部連通路はマイクロ流路であり、その一端は試料移動路に連通し、他端は外部に開放している。そしてマイクロ流路デバイスでは、光応答性ガス発生剤から発生したガスがフィルム連通路を通じてフィルムに供給されて、フィルムが弾性変形し、外部連通路を閉鎖可能である。本発明のマイクロ流路デバイスによれば、光応答性ガス発生剤から発生したガスを利用して、流量調整デバイスを開閉できるとともに、試料移動路内の液体試料を移動させることができる。そのため、より簡単な構成をもって微量液体を取り扱うことができる。   The present invention relates to a micro-channel device having a sample moving path through which a liquid sample moves, and has the flow rate adjusting device having the above-described configuration. Furthermore, the microchannel device of the present invention has a gas supply path, a film communication path, a valve, and an external communication path. A gas generated from the photoresponsive gas generating agent is supplied to the gas supply path. The film communication path branches from the gas supply path and is connected to an elastic film. The valve is installed between the gas supply path and the sample movement path, and communicates or closes between the gas supply path and the sample movement path by opening and closing the valve. The external communication path is a micro flow path, one end of which communicates with the sample moving path, and the other end opens to the outside. In the microchannel device, the gas generated from the photoresponsive gas generating agent is supplied to the film through the film communication path, the film is elastically deformed, and the external communication path can be closed. According to the microchannel device of the present invention, the gas generated from the photoresponsive gas generating agent can be used to open and close the flow rate adjusting device and to move the liquid sample in the sample moving path. Therefore, a trace amount liquid can be handled with a simpler configuration.

本発明の流量調整デバイスによれば、より簡単な操作で微量液体の流量調整を行うことができる。また、マイクロ流路内に別体を設置する必要がなく、製作が容易である。   According to the flow rate adjusting device of the present invention, the flow rate of a trace amount liquid can be adjusted with a simpler operation. In addition, it is not necessary to install a separate body in the microchannel, and manufacturing is easy.

本発明の液体秤取デバイスによれば、マイクロチップ上において、より簡単な構成をもって一定体積の微量液体を秤取することができる。   According to the liquid weighing device of the present invention, it is possible to weigh a small volume of liquid with a simpler configuration on a microchip.

本発明のマイクロ流路デバイスによれば、より簡単な構成をもって微量液体を取り扱うことができる。   According to the microchannel device of the present invention, a trace amount liquid can be handled with a simpler configuration.

本発明の一実施形態に係る流量調整デバイスとマイクロ流路の基本構成を模式的に表す説明図である。It is explanatory drawing which represents typically the basic composition of the flow volume adjustment device and microchannel which concern on one Embodiment of this invention. マイクロ流路デバイスの積層構造とマイクロ流路を表す断面斜視図である。It is a section perspective view showing the lamination structure of a micro channel device, and a micro channel. 流量調整デバイスとマイクロ流路の部分のみを表す平面図である。It is a top view showing only the part of a flow control device and a micro channel. 図3のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 図3のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of FIG. 流量調整デバイスを表す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view showing a flow regulating device. 弾性体フィルムの変形の様子を表す断面図であり、(a)は未変形の状態、(b)は膨張部が成長している状態、(c)は膨張部がマイクロ流路を閉鎖した状態を表す。It is sectional drawing showing the mode of a deformation | transformation of an elastic film, (a) is an undeformed state, (b) is a state in which the expansion part is growing, (c) is a state in which the expansion part has closed the microchannel. Represents. ガス排出機構の基本構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the basic composition of a gas discharge mechanism. 図8のガス排出機構を作動させる例を表す説明図である。It is explanatory drawing showing the example which operates the gas discharge mechanism of FIG. 図8のガス排出機構を作動させる別の例を表す説明図である。It is explanatory drawing showing another example which operates the gas discharge mechanism of FIG. 遮光フィルムの設置例を表す断面図である。It is sectional drawing showing the example of installation of a light shielding film. 遮光フィルムの別の設置例を表す断面図である。It is sectional drawing showing another example of installation of a light shielding film. (a)と(b)はいずれも他の実施形態に係る弾性体フィルムを表す断面図である。(A) And (b) is sectional drawing showing the elastic body film which concerns on other embodiment. 本発明の一実施形態に係る液体秤取デバイスの基本構成を模式的に表す説明図である。It is explanatory drawing which represents typically the basic composition of the liquid weighing device which concerns on one Embodiment of this invention. (a)〜(c)は、図14の液体秤取デバイスの使用方法を表す説明図である。(A)-(c) is explanatory drawing showing the usage method of the liquid weighing device of FIG. 他の実施形態に係る流量調整デバイスの設置例を表す説明図である。It is explanatory drawing showing the example of installation of the flow volume adjustment device which concerns on other embodiment. 他の実施形態に係る流量調整デバイスの設置例を表す説明図であり、(a)と(b)は液体の流れる方向が異なる例を示す。It is explanatory drawing showing the example of installation of the flow volume adjustment device which concerns on other embodiment, (a) and (b) show the example from which the direction through which a liquid flows differs. 他の実施形態に係る流量調整デバイスの設置例を表す説明図であり、(a)と(b)は液体の流れる方向が異なる例を示す。It is explanatory drawing showing the example of installation of the flow volume adjustment device which concerns on other embodiment, (a) and (b) show the example from which the direction through which a liquid flows differs. 他の実施形態に係る流量調整デバイスの設置例を表す説明図であり、(a)と(b)は液体の流れる方向が異なる例を示す。It is explanatory drawing showing the example of installation of the flow volume adjustment device which concerns on other embodiment, (a) and (b) show the example from which the direction through which a liquid flows differs. 他の実施形態に係る流量調整デバイスの設置例を表す説明図であり、(a)と(b)は液体の流れる方向が異なる例を示す。It is explanatory drawing showing the example of installation of the flow volume adjustment device which concerns on other embodiment, (a) and (b) show the example from which the direction through which a liquid flows differs. 他の実施形態に係る流量調整デバイスの設置例を表す説明図であり、(a)と(b)は液体の流れる方向が異なる例を示す。It is explanatory drawing showing the example of installation of the flow volume adjustment device which concerns on other embodiment, (a) and (b) show the example from which the direction through which a liquid flows differs. 実施例12で用いた流量調整デバイスの構成を表す説明図である。It is explanatory drawing showing the structure of the flow volume adjustment device used in Example 12. FIG. 本発明の一実施形態に係るマイクロ流路デバイスの基本構成を模式的に表す説明図である。It is explanatory drawing which represents typically the basic composition of the microchannel device which concerns on one Embodiment of this invention. 図23のマイクロ流路デバイスの使用方法の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the usage method of the microchannel device of FIG.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら説明する。ただし、下記の実施形態は単なる例示であり、本発明は下記の実施形態に何ら限定されない。また、各実施形態において参照する図面は、模式的に記載されており、図面に描画された部材等の寸法の比率等は、実際の部材等の寸法の比率等とは異なる場合がある。具体的な部材等の寸法の比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。また、特に断らない限り、下記の説明における上下方向は、基材5が上側、マスク10が下側となる姿勢を基準とし、左右方向は、マイクロ流路2aが左側、マイクロ流路2bが右側となる姿勢を基準とする。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the following embodiment is merely an example, and the present invention is not limited to the following embodiment. Further, the drawings referred to in each embodiment are schematically described, and the ratio of dimensions of members and the like drawn in the drawings may be different from the ratio of dimensions of actual members and the like. Specific ratios of dimensions of members and the like should be determined in consideration of the following explanation. Unless otherwise specified, the vertical direction in the following description is based on the posture in which the base material 5 is on the upper side and the mask 10 is on the lower side, and in the horizontal direction, the microchannel 2a is on the left side and the microchannel 2b is on the right side. Based on the posture.

本発明の一実施形態に係る流量調整デバイス1は、図1に示すように、マイクロ流路2の所定の領域E(所定位置)に設けられ、領域Eを流れる液体の流量を調整するものである。マイクロ流路2は、流量調整デバイス1によってマイクロ流路2aとマイクロ流路2bに区分される。
図2に示すように、本実施形態では、流量調整デバイス1とマイクロ流路2(2a,2b)は、いずれも積層構造を有する平板状のマイクロ流路デバイス3内に設けられている。
マイクロ流路2の流路径(内径)は、好ましくは50μm以上かつ3mm以下である。マイクロ流路2の流路長さは、好ましくは1μm以上かつ1000μm以下である。
A flow rate adjusting device 1 according to an embodiment of the present invention is provided in a predetermined region E (predetermined position) of the micro flow path 2 and adjusts the flow rate of the liquid flowing through the region E as shown in FIG. is there. The micro flow channel 2 is divided into a micro flow channel 2 a and a micro flow channel 2 b by the flow rate adjusting device 1.
As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the flow rate adjusting device 1 and the microchannel 2 (2a, 2b) are both provided in a flat microchannel device 3 having a laminated structure.
The channel diameter (inner diameter) of the microchannel 2 is preferably 50 μm or more and 3 mm or less. The channel length of the microchannel 2 is preferably 1 μm or more and 1000 μm or less.

マイクロ流路デバイス3における流量調整デバイス1の部分は、図2〜図6に示すように、板状の基材5に、弾性体フィルム6、ガス発生フィルム(光応答性ガス発生剤)7、ガスバリア層8、及びマスク10がこの順番に積層された基本構造を有している。そして、基材5の一部と弾性体フィルム6の一部とで流量調整部12が構成され、一方、ガス発生フィルム7、ガスバリア層8、及びマスク10でガス発生部15が構成されている。流量調整部12の位置は領域Eと重なる。   As shown in FIGS. 2 to 6, the part of the flow rate adjusting device 1 in the micro-channel device 3 includes a plate-like base material 5, an elastic film 6, a gas generating film (photoresponsive gas generating agent) 7, The gas barrier layer 8 and the mask 10 have a basic structure laminated in this order. And the flow volume adjustment part 12 is comprised by a part of base material 5 and a part of elastic body film 6, On the other hand, the gas generation part 15 is comprised by the gas generation film 7, the gas barrier layer 8, and the mask 10. FIG. . The position of the flow rate adjustment unit 12 overlaps the region E.

基材5には、マイクロ流路2が形成されている。マイクロ流路2は断面が長方形の筒状であり、天面と両側面が基材5の一部で構成され、底面が弾性体フィルム6で構成されている。基材5を構成する材料としては、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。上記樹脂としては、有機シロキサン化合物、ポリメタクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。上記ポリオレフィン樹脂としては、環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。上記有機シロキサン化合物としては、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、ポリメチル水素シロキサン等が挙げられる。   The micro flow path 2 is formed in the base material 5. The microchannel 2 has a cylindrical shape with a rectangular cross section, the top surface and both side surfaces are configured by a part of the base material 5, and the bottom surface is configured by the elastic film 6. Examples of the material constituting the substrate 5 include resin, glass, and ceramics. Examples of the resin include organic siloxane compounds, polymethacrylate resins, polyolefin resins, and the like. Examples of the polyolefin resin include cyclic polyolefin resins. Examples of the organosiloxane compound include polydimethylsiloxane (PDMS) and polymethylhydrogensiloxane.

図2、図4〜図6に示すように、基材5の下面には、弾性体フィルム6が設けられている。弾性体フィルム6は基材5の下面の略全面に設けられている。これにより、弾性体フィルム6はマイクロ流路2の底面を構成している。弾性体フィルム6は弾性変形可能なものであり、例えば、後述するような膨張と収縮を繰り返すことができるものである。   As shown in FIGS. 2 and 4 to 6, an elastic film 6 is provided on the lower surface of the substrate 5. The elastic film 6 is provided on substantially the entire bottom surface of the substrate 5. Thereby, the elastic film 6 constitutes the bottom surface of the microchannel 2. The elastic film 6 can be elastically deformed, and can be repeatedly expanded and contracted as described later, for example.

弾性体フィルム6を構成する材料としては、ゴム、シリコン樹脂などが挙げられる。上記樹脂としては、天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ポリイソブチレン、エチレンプロピレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、アクリルゴム、フッ素ゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、ポリジメチルシロキサンなどの有機シロキサン化合物、などが挙げられる。また、弾性体フィルム6の厚みは、好ましくは1μm以上かつ200μm以下であり、より好ましくは3μm以上かつ100μm以下であり、さらに好ましく5μm以上かつ50μm以下である。   Examples of the material constituting the elastic film 6 include rubber and silicon resin. Examples of the resin include natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene / butadiene rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, polyisobutylene, ethylene propylene rubber, chlorosulfonated polyethylene, acrylic rubber, fluorine rubber, epichlorohydrin rubber, urethane rubber, silicone Examples thereof include organic siloxane compounds such as rubber and polydimethylsiloxane. The thickness of the elastic film 6 is preferably 1 μm or more and 200 μm or less, more preferably 3 μm or more and 100 μm or less, and further preferably 5 μm or more and 50 μm or less.

弾性体フィルム6の下面には、ガス発生フィルム(光応答性ガス発生剤)7が設けられている。ガス発生フィルム7は、光を照射することによりガスを発生する材料で構成されており、光を照射することによりガスを発生する。ガス発生フィルム7は、弾性体フィルム6の略全面か、少なくとも、マイクロ流路2における領域Eの直下をカバーする領域に設けられている。   A gas generating film (light-responsive gas generating agent) 7 is provided on the lower surface of the elastic film 6. The gas generating film 7 is made of a material that generates gas when irradiated with light, and generates gas when irradiated with light. The gas generating film 7 is provided on the substantially entire surface of the elastic film 6 or at least in a region covering the region directly below the region E in the microchannel 2.

ガス発生フィルム7の厚みとしては特に限定はないが、好ましくは5μm以上かつ5mm以下、より好ましくは10μm以上かつ500μm以下である。
ガス発生フィルム7を構成する材料の具体例等については後述する。
The thickness of the gas generating film 7 is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 5 mm or less, more preferably 10 μm or more and 500 μm or less.
Specific examples of materials constituting the gas generating film 7 will be described later.

ガス発生フィルム7の下面には、ガスバリア層8が設けられている。ガスバリア層8は、ガス発生フィルム7から発生したガスが弾性体フィルム6側のみに供給されるように、かつ背圧を抑えるために、設けられている。ガスバリア層8はガス透過性が低く、かつ光透過性である。またガスバリア層8の光透過性については、紫外線領域の光の減衰が起きにくい性質であることが好ましい
ガスバリア層8を構成する材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ガラス、石英ガラス及びパイレックスガラス等が挙げられる。
ガスバリア層8の厚みは、ガスバリア層8を構成する材料等によって適宜選択すればよく、特に限定はないが、好ましくは10μm以上かつ1mm以下、より好ましくは50μm以上かつ500μm以下である。
A gas barrier layer 8 is provided on the lower surface of the gas generating film 7. The gas barrier layer 8 is provided so that the gas generated from the gas generating film 7 is supplied only to the elastic film 6 side and to suppress the back pressure. The gas barrier layer 8 has low gas permeability and is light transmissive. Further, the light transmission property of the gas barrier layer 8 is preferably a property in which light in the ultraviolet region is not easily attenuated. The material constituting the gas barrier layer 8 is polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, glass, quartz. Examples thereof include glass and pyrex glass.
The thickness of the gas barrier layer 8 may be appropriately selected depending on the material constituting the gas barrier layer 8 and is not particularly limited, but is preferably 10 μm or more and 1 mm or less, more preferably 50 μm or more and 500 μm or less.

ガスバリア層8の下面には、マスク10が設けられている。マスク10は、領域Eの直下に対応する位置に円形の開口20を有している(図3、図6)。これにより、マスク10の下から光を照射した場合に、光の照射エリアが領域Eの直下部分に限定される。
マスク10を構成する材料としては、グラファイト含有ポリエチレンフィルム等が挙げられる。また、ガラスの表面に金を蒸着してマスクパターンが形成することにより、マスク10を構成することもできる。
A mask 10 is provided on the lower surface of the gas barrier layer 8. The mask 10 has a circular opening 20 at a position corresponding to a position immediately below the region E (FIGS. 3 and 6). Thereby, when light is irradiated from under the mask 10, the light irradiation area is limited to a portion immediately below the region E.
Examples of the material constituting the mask 10 include a graphite-containing polyethylene film. Moreover, the mask 10 can also be comprised by vapor-depositing gold | metal | money on the surface of glass and forming a mask pattern.

本実施形態の流量調整デバイス1では、ガス発生フィルム7から発生したガスを弾性体フィルム6の裏面側に供給する。具体的には、マスク10の開口20の直下に光源を設置し、開口20に向けて光を照射する。すると、光は開口20から入光して、ガスバリア層8を透過し、ガス発生フィルム7に到達する。ここで、本実施形態ではマスク10によって光の照射エリアを限定しているので、領域Eの直下位置に対して重点的に光が照射される。これにより、ガス発生フィルム7からガスが発生し、弾性体フィルム6の裏面側にガスが供給される。このとき、領域Eの直下部分に対して重点的にガスが供給される。これにより、弾性体フィルム6に対してガスによる圧力が付与され、特に領域Eの直下部分に対して重点的に圧力が付与される。   In the flow control device 1 of the present embodiment, the gas generated from the gas generating film 7 is supplied to the back side of the elastic film 6. Specifically, a light source is installed immediately below the opening 20 of the mask 10, and light is emitted toward the opening 20. Then, light enters from the opening 20, passes through the gas barrier layer 8, and reaches the gas generating film 7. Here, in the present embodiment, the light irradiation area is limited by the mask 10, so that light is radiated mainly on the position immediately below the region E. Thereby, gas is generated from the gas generating film 7, and the gas is supplied to the back surface side of the elastic film 6. At this time, the gas is intensively supplied to the portion immediately below the region E. Thereby, the pressure by gas is provided with respect to the elastic body film 6, and especially a pressure is mainly applied to the part directly under the area | region E. FIG.

本発明の流量調整デバイス1では、上記のようにして弾性体フィルム6に対してガスによる圧力を付与することにより、領域Eにおいて弾性体フィルム6が変形し、膨張する。これにより、領域Eにおける流路断面積を絞ることができ、最終的には閉鎖することができる。ここで、領域Eにおける弾性体フィルム6の形状変化と流路断面積の変化について、図7を参照しながら説明する。   In the flow rate adjusting device 1 of the present invention, the elastic film 6 is deformed and expanded in the region E by applying the gas pressure to the elastic film 6 as described above. Thereby, the flow-path cross-sectional area in the area | region E can be restrict | squeezed, and it can finally close. Here, the change in the shape of the elastic film 6 in the region E and the change in the flow path cross-sectional area will be described with reference to FIG.

図7(a)は、非使用時、すなわちガスによる圧力が付与されていない状態における弾性体フィルム6の様子を示している。非使用時においては、弾性体フィルム6は変形しておらず、領域Eにおけるマイクロ流路2の底面は平坦である。液体は領域Eを自由に通過することができる。
この状態から、弾性体フィルム6の裏面側(ガス発生フィルム7側)からガスを供給し、弾性体フィルム6にガスによる圧力を付与する。すると、弾性体フィルム6が領域Eにおいて膨張し始め、図7(b)に示すように、マイクロ流路2の内部に向かって小山のように盛り上がる(膨張部17)。これにより、領域Eの流路断面積が徐々に小さくなる。
さらに圧力を付与し続けると、膨張部17が成長してマイクロ流路2の全ての内壁に到達し、領域Eを閉鎖する(図7(c))。これにより、液体は領域Eを通過できなくなる。
このように、本実施形態の流量調整デバイス1では、弾性体フィルム6に対してガスによる圧力を付与することにより、弾性体フィルム6が膨張して膨張部17を形成し、膨張部17によりマイクロ流路2の所定位置を閉鎖することができる。これは、弾性体フィルム6の膨張部17が、流量調整用のバルブとして機能するということである。また、マイクロ流路2を構成する内壁の一部が、そのままバルブとして機能するということである。
Fig.7 (a) has shown the mode of the elastic body film 6 in the state which is not used, ie, the state by which the pressure by gas is not provided. When not in use, the elastic film 6 is not deformed, and the bottom surface of the microchannel 2 in the region E is flat. Liquid can freely pass through region E.
From this state, gas is supplied from the back surface side (gas generating film 7 side) of the elastic film 6, and pressure due to the gas is applied to the elastic film 6. Then, the elastic film 6 starts to expand in the region E, and rises like a small mountain toward the inside of the microchannel 2 as shown in FIG. Thereby, the channel cross-sectional area of the region E is gradually reduced.
When the pressure is further applied, the expansion portion 17 grows and reaches all the inner walls of the microchannel 2 to close the region E (FIG. 7C). As a result, the liquid cannot pass through the region E.
As described above, in the flow rate adjustment device 1 of the present embodiment, the elastic film 6 is expanded to form the expanded portion 17 by applying the gas pressure to the elastic film 6, and the expanded portion 17 forms the microscopic portion. A predetermined position of the flow path 2 can be closed. This means that the expansion portion 17 of the elastic film 6 functions as a flow rate adjusting valve. Further, a part of the inner wall constituting the microchannel 2 functions as a valve as it is.

なお、閉鎖された領域Eを再び開くためには、膨張部17を収縮させ、弾性体フィルム6を元の形状に戻せばよい。これにより、図7(a)に示す状態に戻すことができる。ここで、弾性体フィルム6は弾性変形するものであるから、容易に元の形状に戻すことができる。   In order to reopen the closed region E, it is only necessary to contract the expanding portion 17 and return the elastic film 6 to its original shape. Thereby, it can return to the state shown to Fig.7 (a). Here, since the elastic film 6 is elastically deformed, it can be easily returned to its original shape.

上記膨張部17の収縮は、ガスによる圧力付与を解除することにより行うことができる。例えば、弾性体フィルム6に供給されたガスを排出して、圧力付与を解除することができる。以下に、当該目的を達成するためのガス排出機構の例について説明する。   The expansion portion 17 can be contracted by releasing the pressure applied by the gas. For example, the gas supplied to the elastic film 6 can be discharged to release the pressure. Below, the example of the gas discharge mechanism for achieving the said objective is demonstrated.

図8に示すガス排出機構21は、ガス排出路22と封鎖用フィルム(バルブ)23によって構成されている。ガス排出路22の一端は、領域Eの直下であって弾性体フィルム6とガス発生フィルム7との間に位置している。ガス排出路22の他端は、マイクロ流路デバイス3の裏側から外部に開放している。そして、ガス排出路22の他端の開口25は、封鎖用フィルム23で塞がれている。このガス排出機構21によれば、封鎖用フィルム23を剥がすことにより、開口25からガスを排出し、圧力付与を解除することができる。   The gas discharge mechanism 21 shown in FIG. 8 includes a gas discharge path 22 and a sealing film (valve) 23. One end of the gas discharge path 22 is located immediately below the region E and between the elastic film 6 and the gas generation film 7. The other end of the gas discharge path 22 is open to the outside from the back side of the microchannel device 3. The opening 25 at the other end of the gas discharge path 22 is closed with a sealing film 23. According to this gas discharge mechanism 21, by peeling off the sealing film 23, the gas can be discharged from the opening 25, and the pressure application can be released.

封鎖用フィルム23を剥がすための方策の一例としては、封鎖用フィルム23を微粘着フィルムで構成することが挙げられる。微粘着フィルムを用いることにより、ガス排出路22に所定値以上の圧力が付与された時点で、封鎖用フィルム23が圧力に耐えられなくなり、開口25から剥がれる。具体的には、図9に示すように、マスク10の開口20から光を照射し続ける(矢印参照)ことにより、ガスを連続的に供給する。これにより、ガス排出路22内の圧力を所定値以上に高めることができ、微粘着フィルムで構成された封鎖用フィルム23を剥がすことができる。   An example of a measure for peeling off the blocking film 23 is to configure the blocking film 23 with a slightly adhesive film. By using the slightly adhesive film, the sealing film 23 cannot withstand the pressure and is peeled off from the opening 25 when a pressure equal to or higher than a predetermined value is applied to the gas discharge path 22. Specifically, as shown in FIG. 9, the gas is continuously supplied by continuing to irradiate light from the opening 20 of the mask 10 (see arrows). Thereby, the pressure in the gas discharge path 22 can be increased to a predetermined value or more, and the sealing film 23 composed of the slightly adhesive film can be peeled off.

別の例としては、封鎖用フィルム23を光刺激剥離フィルムで構成することが挙げられる。光刺激剥離フィルムは、光を照射することによりガスを発生し、その圧力で自己剥離するものである。具体的な操作としては、図10に示すように、封鎖用フィルム23に対して光を照射し続ける(矢印参照)。これにより、光刺激剥離フィルムで構成された封鎖用フィルム23がガスを発生し、その圧力で自己剥離する。
なお図9、図10では、基材5の図示を省略している。
As another example, the blocking film 23 may be composed of a light-stimulated release film. The photo-stimulated release film generates gas when irradiated with light, and self-releases at that pressure. As a specific operation, as shown in FIG. 10, the sealing film 23 is continuously irradiated with light (see arrows). Thereby, the film 23 for sealing comprised with the light stimulus peeling film generate | occur | produces gas, and self peels with the pressure.
In addition, in FIG. 9, FIG. 10, illustration of the base material 5 is abbreviate | omitted.

本実施形態の流量調整デバイス1については、未使用時には遮光フィルムで覆っておき、使用時に遮光フィルムを取り外して使用する構成を採用することができる。遮光フィルムで覆うことにより光を遮断し、非使用時における誤動作、例えば、意図しない弾性体フィルム6の膨張や、意図しない上記ガス排出機構21の作動を防ぐことができる。
遮光フィルムの設置例を図11、図12に示す。図11に示す例では、マスク10の裏面に遮光フィルム27が設けられている。図12に示す例では、ガスバリア層8とマスク10との間に遮光フィルム27が設けられている。
About the flow volume adjustment device 1 of this embodiment, the structure which covers with a light shielding film at the time of unused and removes a light shielding film at the time of use can be employ | adopted. By covering with a light shielding film, light can be blocked, and malfunction when not in use, for example, unintended expansion of the elastic film 6 and unintended operation of the gas discharge mechanism 21 can be prevented.
Examples of installation of the light shielding film are shown in FIGS. In the example shown in FIG. 11, a light shielding film 27 is provided on the back surface of the mask 10. In the example shown in FIG. 12, a light shielding film 27 is provided between the gas barrier layer 8 and the mask 10.

なお、ガス発生フィルム7や封鎖用フィルム23に光を照射するための光源は、発光ダイオード(LED)であることが好ましい。発光ダイオードは、応答速度が速い、発光効率が高い、発熱が少ない、消費電力が低い、小型で高密度実装が可能である、という多くの利点を有する。上記発光ダイオードとして、例えば、波長が330nm〜410nm程度の光を発し、発光出力が10mW〜400mW程度の紫外発光ダイオードを選んでもよい。このような特性の光は、光照射による上記ガス発生剤等の温度の上昇を抑えつつ、ガスを発生させることができる。
発光ダイオード以外の光源としては、レーザー、エレクトロルミネッセンス素子(EL素子)、プラズマ発光素子、外部電極形蛍光ランプ(EEFL)、マイクロハロゲンランプ、光ファイバー、並びに光セレクタの組み合わせにより取り出すことができる光源等が挙げられる。
また光源は、明滅を繰り返すことができるものが好ましい。
In addition, it is preferable that the light source for irradiating light to the gas generation film 7 or the film 23 for sealing is a light emitting diode (LED). Light emitting diodes have many advantages such as fast response speed, high luminous efficiency, low heat generation, low power consumption, small size and high density mounting. As the light emitting diode, for example, an ultraviolet light emitting diode that emits light having a wavelength of about 330 nm to 410 nm and a light output of about 10 mW to 400 mW may be selected. The light having such characteristics can generate gas while suppressing an increase in temperature of the gas generating agent or the like due to light irradiation.
Examples of light sources other than light emitting diodes include lasers, electroluminescent elements (EL elements), plasma light emitting elements, external electrode fluorescent lamps (EEFL), micro halogen lamps, optical fibers, and light sources that can be taken out by a combination of optical selectors. Can be mentioned.
The light source is preferably one that can repeat blinking.

上記した実施形態では、膨張部17によって領域Eを全開及び全閉することにより液体の流量調整を行う例を示したが、領域Eの開度を連続的又は段階的に変化させてもよい。例えば、ガス発生フィルム7からのガス供給量を調節することにより、膨張部17の膨張度合(体積)を調節し、これにより領域Eの開度を調節することができる。ガス供給量は、例えば、光の照射時間により調節することができる。   In the above-described embodiment, the example in which the flow rate of the liquid is adjusted by fully opening and closing the region E by the inflating unit 17 has been described, but the opening degree of the region E may be changed continuously or stepwise. For example, by adjusting the amount of gas supplied from the gas generating film 7, the degree of expansion (volume) of the expansion portion 17 can be adjusted, and thereby the opening degree of the region E can be adjusted. The gas supply amount can be adjusted by, for example, the light irradiation time.

本実施形態では、弾性体フィルム6を所定の位置で膨張させるための方策として、マスク10を用いて光の照射範囲を限定しているが、他の方策も考えられる。例えば、図13(a)に示すように、弾性体フィルム6に切り込み28を設けてもよい。これにより、切り込み28の部分に応力が集中し、切り込み28の部分から優先的に膨張が起こる。その他の例として、図13(b)に示すように、弾性体フィルム6の一部の厚みを小さくしてもよい。これにより、厚みが小さい部分から優先的に膨張が起こる。   In the present embodiment, as a measure for expanding the elastic film 6 at a predetermined position, the light irradiation range is limited using the mask 10, but other measures are also conceivable. For example, as shown in FIG. 13A, a cut 28 may be provided in the elastic film 6. As a result, stress concentrates on the portion of the notch 28, and expansion preferentially occurs from the portion of the notch 28. As another example, as shown in FIG. 13 (b), the thickness of a part of the elastic film 6 may be reduced. Thereby, expansion occurs preferentially from the portion where the thickness is small.

次に、本発明の液体秤取デバイスの実施形態について説明する。本発明の一実施形態に係る液体秤取デバイス30はマイクロチップに設けられるものであり、上記構成の流量調整デバイス1と同様の流量調整デバイスを2個備えている。図14に示すように、液体秤取デバイス30は、マイクロ流路2a、流量調整デバイス1a、密閉空間32、流量調整デバイス1b、及びマイクロ流路2bがこの順番に直列に連結された構造を有している。すなわち流量調整デバイス1a,1bは、密閉空間32の両端に設けられている。   Next, an embodiment of the liquid weighing device of the present invention will be described. A liquid weighing device 30 according to an embodiment of the present invention is provided on a microchip, and includes two flow rate adjusting devices similar to the flow rate adjusting device 1 having the above-described configuration. As shown in FIG. 14, the liquid weighing device 30 has a structure in which the micro flow path 2a, the flow rate adjusting device 1a, the sealed space 32, the flow rate adjusting device 1b, and the micro flow path 2b are connected in series in this order. doing. That is, the flow rate adjusting devices 1 a and 1 b are provided at both ends of the sealed space 32.

密閉空間32は、一定体積を有する空間である。本実施形態では、密閉空間32はマイクロ流路2a,2bと同様の細長い筒状である。なお密閉空間32は、マイクロ流路以外、例えば所謂マイクロチャンバーのような形状であってもよい。   The sealed space 32 is a space having a constant volume. In the present embodiment, the sealed space 32 has an elongated cylindrical shape similar to the microchannels 2a and 2b. The sealed space 32 may have a shape other than the microchannel, for example, a so-called microchamber.

密閉空間32には、ポンプ33が接続されている。ポンプ33により、密閉空間32に満たされた液体をマイクロ流路2a又はマイクロ流路2bへ移送することができる。上記ポンプ33としては特に限定されず、ダイヤグラム式のポンプ、電気浸透流式のポンプ、光や熱分解でガスを発生するポンプ、過酸化水素と過マンガン酸ナトリウムによる酸素の発生を利用した化学反応によるポンプ、などを採用することができる。   A pump 33 is connected to the sealed space 32. The liquid filled in the sealed space 32 can be transferred to the micro flow path 2a or the micro flow path 2b by the pump 33. The pump 33 is not particularly limited, and is a diagram type pump, an electroosmotic flow type pump, a pump that generates gas by light or thermal decomposition, or a chemical reaction utilizing generation of oxygen by hydrogen peroxide and sodium permanganate. A pump, etc. can be employed.

液体秤取デバイス30を用いて一定体積の液体を量り取る(秤取する)手順について説明する。
前準備として、流量調整デバイス1a,1bを閉鎖しておく。具体的には、流量調整デバイス1a,1bの下から光を照射してガスを発生させて、膨張部17を成長させ、領域Eを閉鎖する。
この状態で、まずマイクロ流路2aに秤取対象となる液体を導入する。導入量は、密閉空間32の体積以上とする(図15(a))。
次に、マイクロ流路2aに隣接する流量調整デバイス1aを開放し、密閉空間32に液体を移送する。具体的には、図8に示したガス排出機構21を作動させ、流量調整デバイス1aの領域Eを開放する。これにより、流量調整デバイス1aを通じて液体が密閉空間32に導入される。密閉空間32が液体で完全に満たされるまで、液体の移送を続ける(図15(b))。
A procedure for measuring (weighing) a fixed volume of liquid using the liquid weighing device 30 will be described.
As a preparation, the flow rate adjusting devices 1a and 1b are closed. Specifically, light is emitted from below the flow rate adjusting devices 1a and 1b to generate gas, grow the expansion portion 17, and close the region E.
In this state, first, a liquid to be weighed is introduced into the microchannel 2a. The amount of introduction is equal to or greater than the volume of the sealed space 32 (FIG. 15A).
Next, the flow rate adjusting device 1 a adjacent to the micro flow path 2 a is opened, and the liquid is transferred to the sealed space 32. Specifically, the gas discharge mechanism 21 shown in FIG. 8 is operated to open the region E of the flow rate adjustment device 1a. Thereby, the liquid is introduced into the sealed space 32 through the flow rate adjusting device 1a. The liquid transfer is continued until the sealed space 32 is completely filled with the liquid (FIG. 15B).

密閉空間32が液体で完全に満たされたら、流量調整デバイス1aを閉じる。具体的には、流量調整デバイス1aの下から光を照射してガスを発生させて、膨張部17を成長させ、領域Eを閉鎖する。これにより、一定体積の液体が密閉空間32に量り取られる。   When the sealed space 32 is completely filled with the liquid, the flow regulating device 1a is closed. Specifically, light is irradiated from below the flow control device 1a to generate gas, grow the inflatable portion 17, and close the region E. As a result, a fixed volume of liquid is weighed into the sealed space 32.

次に、マイクロ流路2bに隣接する流量調整デバイス1bを開放し、マイクロ流路2bに液体を移送する。具体的には、図8に示したガス排出機構21を作動させ、流量調整デバイス1bの領域Eを開放する。同時にポンプ33を作動させ、液体をマイクロ流路2b側に押し出す。これにより、流量調整デバイス1bを通じて液体がマイクロ流路2bに導入され、一定体積の液体がマイクロ流路2bに回収される(図15(c))。
このようにして、液体秤取デバイス30を用いて一定体積の液体を量り取ることができる。
Next, the flow rate adjusting device 1b adjacent to the microchannel 2b is opened, and the liquid is transferred to the microchannel 2b. Specifically, the gas discharge mechanism 21 shown in FIG. 8 is operated to open the area E of the flow rate adjusting device 1b. At the same time, the pump 33 is operated to push the liquid toward the micro flow path 2b. Thereby, the liquid is introduced into the micro flow path 2b through the flow rate adjusting device 1b, and a fixed volume of liquid is recovered into the micro flow path 2b (FIG. 15C).
In this way, a fixed volume of liquid can be weighed using the liquid weighing device 30.

上記した実施形態では、流量調整デバイス1がマイクロ流路2の途中に一体的に設置され、換言すれば、マイクロ流路2aとマイクロ流路2bの間に設置され、且つこれらが直列に連結されているが、他の実施形態も可能である。図16〜図21に他の実施形態を示す。図17〜図21において、(a)と(b)は液体の流れる方向(矢印)が異なるのみであり、構造自体は同じである。   In the above-described embodiment, the flow rate adjusting device 1 is integrally installed in the middle of the micro flow path 2, in other words, installed between the micro flow path 2a and the micro flow path 2b, and these are connected in series. However, other embodiments are possible. Another embodiment is shown in FIGS. In FIGS. 17-21, (a) and (b) differ only in the direction (arrow) in which a liquid flows, and the structure itself is the same.

図16は、流路断面積が異なる2つのマイクロ流路2c,2dの間に流量調整デバイス1を設けた例を示している。この例では、細いマイクロ流路2cの端面と、太いマイクロ流路2dの側面との間に流量調整デバイス1が接続されている。また流量調整デバイス1は、マイクロ流路2dの側面であって端部近傍に設けられている。   FIG. 16 shows an example in which the flow rate adjusting device 1 is provided between two microchannels 2c and 2d having different channel cross-sectional areas. In this example, the flow rate adjusting device 1 is connected between the end surface of the thin microchannel 2c and the side surface of the thick microchannel 2d. The flow rate adjusting device 1 is provided on the side surface of the microchannel 2d and in the vicinity of the end.

図17(a),17(b)も、流路断面積が異なる2つのマイクロ流路2c,2dの間に流量調整デバイス1を設けた例を示している。この例でも、細いマイクロ流路2cの端面と、太いマイクロ流路2dの側面との間に流量調整デバイス1が接続されているが、流量調整デバイス1はマイクロ流路2dの端部から離れた位置にある。   FIGS. 17A and 17B also show an example in which the flow rate adjusting device 1 is provided between two microchannels 2c and 2d having different channel cross-sectional areas. Also in this example, the flow rate adjusting device 1 is connected between the end surface of the thin microchannel 2c and the side surface of the thick microchannel 2d, but the flow rate adjusting device 1 is separated from the end of the microchannel 2d. In position.

図18(a),18(b)に示す例では、細いマイクロ流路2cと太いマイクロ流路2dとの間、並びに、細いマイクロ流路2eと太いマイクロ流路2dとの間に、流量調整デバイス1が1個ずつ設けられている。この例では、細いマイクロ流路2c,2eの端面と、太いマイクロ流路2dの側面との間に流量調整デバイス1が接続されている。また2個の流量調整デバイス1は、マイクロ流路2dの側面であって端部近傍に対向して設けられている。   In the example shown in FIGS. 18A and 18B, the flow rate is adjusted between the thin microchannel 2c and the thick microchannel 2d and between the thin microchannel 2e and the thick microchannel 2d. One device 1 is provided. In this example, the flow rate adjusting device 1 is connected between the end surfaces of the thin microchannels 2c and 2e and the side surface of the thick microchannel 2d. The two flow rate adjusting devices 1 are provided on the side surfaces of the micro flow path 2d so as to face each other in the vicinity of the end portion.

図19(a),19(b)に示す例でも、細いマイクロ流路2cと太いマイクロ流路2dとの間、並びに、細いマイクロ流路2eと太いマイクロ流路2dとの間に、流量調整デバイス1が1個ずつ設けられている。この例でも、細いマイクロ流路2c,2eの端面と、太いマイクロ流路2dの側面との間に流量調整デバイス1が接続され、かつこれらの流量調整デバイス1が対向して設けられているが、流量調整デバイス1はマイクロ流路2dの端部から離れた位置にある。   19 (a) and 19 (b), the flow rate is adjusted between the thin microchannel 2c and the thick microchannel 2d and between the thin microchannel 2e and the thick microchannel 2d. One device 1 is provided. Also in this example, the flow rate adjusting device 1 is connected between the end surfaces of the thin microchannels 2c and 2e and the side surface of the thick microchannel 2d, and these flow rate adjusting devices 1 are provided to face each other. The flow rate adjusting device 1 is located away from the end of the micro flow path 2d.

図20(a),20(b)に示す例では、細いマイクロ流路2cと太いマイクロ流路2dとの間、細いマイクロ流路2eと太いマイクロ流路2dとの間、並びに、細いマイクロ流路2fと太いマイクロ流路2dとの間に、流量調整デバイス1が1個ずつ設けられている。この例では、細いマイクロ流路2c,2eの端面と、太いマイクロ流路2dの側面との間に流量調整デバイス1が接続されている。さらに、細いマイクロ流路2fの端面と太いマイクロ流路2dの端面との間に流量調整デバイス1が接続されている。マイクロ流路2cとマイクロ流路2eに接続された流量調整デバイス1は、マイクロ流路2dの側面であって端部近傍に対向して設けられている。   In the example shown in FIGS. 20A and 20B, between the thin microchannel 2c and the thick microchannel 2d, between the thin microchannel 2e and the thick microchannel 2d, and the thin microchannel One flow rate adjusting device 1 is provided between the path 2f and the thick microchannel 2d. In this example, the flow rate adjusting device 1 is connected between the end surfaces of the thin microchannels 2c and 2e and the side surface of the thick microchannel 2d. Furthermore, the flow rate adjusting device 1 is connected between the end surface of the thin microchannel 2f and the end surface of the thick microchannel 2d. The flow rate adjusting device 1 connected to the micro flow path 2c and the micro flow path 2e is provided on the side surface of the micro flow path 2d and in the vicinity of the end portion.

図21(a),21(b)は、マイクロ流路とマイクロチャンバーとの間に流量調整デバイス1を設けた例である。この例では、1個のマイクロチャンバー35に複数のマイクロ流路2g〜2oが放射状に連結されている。そして、マイクロチャンバー35とマイクロ流路2g〜2oとの間に、それぞれ流量調整デバイス1が設けられている。なお、マイクロチャンバー35には、別のマイクロ流路36が直接接続されている。   FIGS. 21A and 21B are examples in which the flow rate adjusting device 1 is provided between a microchannel and a microchamber. In this example, a plurality of microchannels 2g to 2o are radially connected to one microchamber 35. And the flow volume adjustment device 1 is each provided between the micro chamber 35 and the micro flow paths 2g-2o. Note that another micro flow path 36 is directly connected to the micro chamber 35.

次に、本発明の流量調整デバイスを採用したマイクロ流路デバイスの実施形態について説明する。   Next, an embodiment of a microchannel device that employs the flow rate adjusting device of the present invention will be described.

図23は、本発明の一実施形態に係るマイクロ流路デバイス40の基本構成を模式的に表したものである。図23に示すマイクロ流路デバイス40は、試料移動路45を有するものである。すなわち、試料移動路45に導入された液体試料38が、試料移動路45に沿って移動可能である。   FIG. 23 schematically illustrates the basic configuration of a microchannel device 40 according to an embodiment of the present invention. A microchannel device 40 shown in FIG. 23 has a sample moving path 45. That is, the liquid sample 38 introduced into the sample moving path 45 can move along the sample moving path 45.

マイクロ流路デバイス40は例えば基板で構成されており、試料移動路45は例えば当該基板に形成されている。
試料移動路45は、上記した「マイクロ流路」の条件を満たすものである。すなわち、試料移動路45は、流れる液体に所謂マイクロ効果が発現する形状寸法に形成された微細な流路からなる。
The microchannel device 40 is constituted by a substrate, for example, and the sample moving path 45 is formed on the substrate, for example.
The sample moving path 45 satisfies the above-mentioned “microchannel” conditions. That is, the sample moving path 45 is composed of a fine flow path formed in a shape and dimension in which a so-called micro effect appears in the flowing liquid.

マイクロ流路デバイス40は、流量調整デバイス41を備えている。流量調整デバイス41の主要構成は、図1〜7で示した流量調整デバイス1の構成と共通している。すなわち、流量調整デバイス41は、マイクロ流路である外部連通路42と、弾性体フィルム(弾性を有するフィルム)46と、光応答性ガス発生剤47とで構成されている。
光応答性ガス発生剤47は、例えば上記したガス発生フィルム7と同様のフィルム状である。
弾性体フィルム46は、上記した弾性体フィルム6と同様の構成を有する。
The microchannel device 40 includes a flow rate adjustment device 41. The main configuration of the flow rate adjustment device 41 is common to the configuration of the flow rate adjustment device 1 shown in FIGS. That is, the flow rate adjusting device 41 includes an external communication path 42 that is a micro flow path, an elastic film (an elastic film) 46, and a photoresponsive gas generating agent 47.
The photoresponsive gas generating agent 47 has a film shape similar to that of the gas generating film 7 described above, for example.
The elastic film 46 has the same configuration as the elastic film 6 described above.

本実施形態の流量調整デバイス41では、弾性体フィルム46が、外部連通路(マイクロ流路)42の所定の領域Eにおいて、外部連通路42の内壁を構成している。そして、光応答性ガス発生剤47から発生したガスの圧力によって弾性体フィルム46が膨張し、領域Eを閉鎖することができる。またガスを排出することによって弾性体フィルム46が収縮し、領域Eを開放することができる。すなわち、外部連通路42の領域Eがバルブとして機能する。なお図23では、代表例として、弾性体フィルム46が膨張して領域Eを閉鎖している状態を模式的に示している。
また、ガスを排出する際には、例えば、図8〜10に示したガス排出機構21を採用することができる。
In the flow rate adjustment device 41 of the present embodiment, the elastic film 46 forms the inner wall of the external communication path 42 in a predetermined region E of the external communication path (micro flow path) 42. Then, the elastic film 46 is expanded by the pressure of the gas generated from the photoresponsive gas generating agent 47 and the region E can be closed. Further, by discharging the gas, the elastic film 46 contracts and the region E can be opened. That is, the area E of the external communication path 42 functions as a valve. In addition, in FIG. 23, the state which the elastic body film 46 expand | swells and has closed the area | region E is shown typically as a representative example.
Moreover, when discharging | emitting gas, the gas discharge mechanism 21 shown in FIGS. 8-10 is employable, for example.

マイクロ流路デバイス40は、さらに、ガス供給路48と、フィルム連通路50と、弁51を有する。そして、光応答性ガス発生剤47、ガス供給路48、弁51、及び試料移動路45が、この順番に並んでいる。以下の説明において、ガスが流れる方向に対応して、光応答性ガス発生剤47側を上流、試料移動路45を下流と定義する。   The microchannel device 40 further includes a gas supply path 48, a film communication path 50, and a valve 51. The photoresponsive gas generating agent 47, the gas supply path 48, the valve 51, and the sample moving path 45 are arranged in this order. In the following description, the photoresponsive gas generating agent 47 side is defined as upstream and the sample moving path 45 is defined as downstream, corresponding to the gas flow direction.

ガス供給路48の上流側の端部は、光応答性ガス発生剤47に繋がっている、これにより、光応答性ガス発生剤47から発生したガスは、ガス供給路48に供給される。   The upstream end of the gas supply path 48 is connected to the photoresponsive gas generating agent 47, whereby the gas generated from the photoresponsive gas generating agent 47 is supplied to the gas supply path 48.

フィルム連通路50は、ガス供給路48から分岐し、弾性体フィルム46に繋がっている。すなわち、フィルム連通路50の一端(上流側)はガス供給路48に繋がっており、他端(下流側)は弾性体フィルム46に繋がっている。これにより、ガス供給路48に供給されたガスは、フィルム連通路50を介して弾性体フィルム46の裏面側(外部連通路42の内壁とは反対側)に供給される。   The film communication path 50 branches from the gas supply path 48 and is connected to the elastic film 46. That is, one end (upstream side) of the film communication path 50 is connected to the gas supply path 48, and the other end (downstream side) is connected to the elastic film 46. As a result, the gas supplied to the gas supply path 48 is supplied to the back surface side of the elastic film 46 (the side opposite to the inner wall of the external communication path 42) via the film communication path 50.

ガス供給路48の下流側の端部には、弁51が設けられている。弁51はガス供給路48と試料移動路45との間に設置されている。換言すれば、ガス供給路48の下流側端部と試料移動路45の上流側端部とが、弁51を介して連結されている。弁51の開閉によって、ガス供給路48と試料移動路45との間が連通又は閉鎖する。これにより、弁51の開放時には、ガス供給路48に供給されたガスは、試料移動路45に供給される。   A valve 51 is provided at the downstream end of the gas supply path 48. The valve 51 is installed between the gas supply path 48 and the sample moving path 45. In other words, the downstream end of the gas supply path 48 and the upstream end of the sample moving path 45 are connected via the valve 51. By opening and closing the valve 51, the gas supply path 48 and the sample moving path 45 are communicated or closed. Thereby, when the valve 51 is opened, the gas supplied to the gas supply path 48 is supplied to the sample moving path 45.

試料移動路45から、流量調整デバイス41の一構成要素である外部連通路42が分岐している。すなわち、外部連通路42の一端は試料移動路45に連通している。一方、外部連通路42の他端は外部に開放している。これにより、流量調整デバイス41が開放することによって、具体的には領域Eが開放することによって、試料移動路45が外部と連通する。逆に、流量調整デバイス41が閉鎖することによって、具体的には領域Eが閉鎖することによって、試料移動路45が外部から遮断される。   An external communication path 42, which is a component of the flow rate adjustment device 41, branches off from the sample moving path 45. That is, one end of the external communication path 42 communicates with the sample moving path 45. On the other hand, the other end of the external communication path 42 is open to the outside. Thereby, when the flow rate adjustment device 41 is opened, specifically, when the region E is opened, the sample moving path 45 communicates with the outside. Conversely, when the flow rate adjustment device 41 is closed, specifically, when the region E is closed, the sample moving path 45 is blocked from the outside.

ガス供給路48とフィルム連通路50についても、上記した「マイクロ流路」の条件を満たす形状寸法とすることができる。   The gas supply path 48 and the film communication path 50 can also have a shape that satisfies the above-mentioned “micro flow path”.

マイクロ流路デバイス40を用いて液体試料38を移送する方法について説明する。
まず、所定量の液体試料38を試料移動路45に配置する。液体試料38は、例えば、外部連通路42を介して試料移動路45に導入することができる。
A method for transferring the liquid sample 38 using the microchannel device 40 will be described.
First, a predetermined amount of the liquid sample 38 is placed on the sample moving path 45. The liquid sample 38 can be introduced into the sample moving path 45 via the external communication path 42, for example.

続いて、光応答性ガス発生剤47に光を照射して、ガスを発生させる。このとき、発生したガスはガス供給路48に供給される。さらに、ガス供給路48に供給されたガスは、フィルム連通路50に流れ、弾性体フィルム46の裏面側に供給される。これにより、弾性体フィルム46が膨張し、フィルム連通路50の領域Eが閉鎖する。領域Eの閉鎖によって、試料移動路45が外部から遮断される。   Subsequently, the photoresponsive gas generating agent 47 is irradiated with light to generate gas. At this time, the generated gas is supplied to the gas supply path 48. Further, the gas supplied to the gas supply path 48 flows into the film communication path 50 and is supplied to the back side of the elastic film 46. Thereby, the elastic body film 46 expand | swells and the area | region E of the film communicating path 50 closes. By closing the region E, the sample moving path 45 is blocked from the outside.

ガス供給路48の圧力が上昇すると弁51が開放される。これにより、光応答性ガス発生剤47から発生したガスが、弁51を介して試料移動路45に供給される。このとき、供給されたガスの圧力が液体試料38に付与され、液体試料38が移動する。   When the pressure in the gas supply path 48 increases, the valve 51 is opened. Thereby, the gas generated from the photoresponsive gas generating agent 47 is supplied to the sample moving path 45 via the valve 51. At this time, the pressure of the supplied gas is applied to the liquid sample 38, and the liquid sample 38 moves.

すなわち本実施形態では、光応答性ガス発生剤47から発生したガスによる圧力を、流量調整デバイス41の開閉と、液体試料38を移動させる推進力の両方に利用している。   That is, in the present embodiment, the pressure generated by the gas generated from the photoresponsive gas generating agent 47 is used for both the opening / closing of the flow rate adjusting device 41 and the driving force for moving the liquid sample 38.

図24に示すように、本実施形態のマイクロ流路デバイス40を2つ組み合わせることにより、液体試料38を試料移動路45内で往復させることができる。図24に示す実施形態では、2つのマイクロ流路デバイス40a,40bが、試料移動路45を共有する形で繋がっている。そして、試料移動路45に液体試料38が配置されている。   As shown in FIG. 24, the liquid sample 38 can be reciprocated in the sample moving path 45 by combining two microchannel devices 40 of the present embodiment. In the embodiment shown in FIG. 24, the two microchannel devices 40a and 40b are connected so as to share the sample moving path 45. A liquid sample 38 is disposed in the sample moving path 45.

図24に示す実施形態において、液体試料38を左から右へ移動させる場合には、左側のマイクロ流路デバイス40aの光応答性ガス発生剤47aに光を照射してガスを発生させる。このとき、ガス抜きとして右側のマイクロ流路デバイス40bの流量調整デバイス41bが開放される。逆に、液体試料38を右から左へ移動させる場合には、右側のマイクロ流路デバイス40bの光応答性ガス発生剤47bに光を照射してガスを発生させる。このとき、ガス抜きとして左側のマイクロ流路デバイス40aの流量調整デバイス41aが開放される。   In the embodiment shown in FIG. 24, when the liquid sample 38 is moved from left to right, the photoresponsive gas generating agent 47a of the left microchannel device 40a is irradiated with light to generate gas. At this time, the flow rate adjustment device 41b of the right micro-channel device 40b is opened for degassing. On the other hand, when the liquid sample 38 is moved from right to left, the photoresponsive gas generating agent 47b of the right microchannel device 40b is irradiated with light to generate gas. At this time, the flow rate adjusting device 41a of the microchannel device 40a on the left side is opened for degassing.

このように、左側のマイクロ流路デバイス40aへの光照射と、右側のマイクロ流路デバイス40bへの光照射とを交互に繰り返すことにより、液体試料38を試料移動路45内で往復させることができる。この実施形態は、例えば、PCR法に代表される液体試料の昇温と降温を繰り返す核酸増幅反応を行う際に有用である。例えば、試料移動路45に複数の温度領域を設定しておく。そして、液体試料38を各温度領域の間で往復させることにより、液体試料38の昇温と降温を繰り返すことができる。   In this manner, the liquid sample 38 can be reciprocated in the sample moving path 45 by alternately repeating the light irradiation to the left microchannel device 40a and the light irradiation to the right microchannel device 40b. it can. This embodiment is useful, for example, when performing a nucleic acid amplification reaction in which the temperature of a liquid sample represented by the PCR method is repeatedly raised and lowered. For example, a plurality of temperature regions are set in the sample moving path 45. The liquid sample 38 can be repeatedly raised and lowered by reciprocating the liquid sample 38 between the temperature regions.

ここで、上記光応答性ガス発生剤を構成する材料について説明する。光照射によりガスを発生する当該材料(化合物)としては、アゾ化合物、アジド化合物及びポリオキシアルキレン化合物等が挙げられる。これらの化合物では、光照射により光分解反応が進行する。これらの化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記アゾ化合物としては、例えば、2,2’−アゾビス−(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)等が挙げられる。上記アジド化合物としては、3−アジドメチル−3−メチルオキセタン、グリシジルアジドポリマー等が挙げられる。
Here, the material which comprises the said photoresponsive gas generating agent is demonstrated. Examples of the material (compound) that generates gas by light irradiation include azo compounds, azide compounds, and polyoxyalkylene compounds. In these compounds, the photolysis reaction proceeds by light irradiation. As for these compounds, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
Examples of the azo compound include 2,2′-azobis- (N-butyl-2-methylpropionamide). Examples of the azide compound include 3-azidomethyl-3-methyloxetane and glycidyl azide polymer.

上記光応答性ガス発生剤は、バインダー樹脂を含んでいてもよい。上記バインダー樹脂は、光照射によりガスを発生する上記化合物を固定したり、上記ガス発生剤に粘着性を持たせたり、上記ガス発生剤に種々の機能を付加する役割を果たす。例えば、光照射によりガスを発生する化合物をバインダー樹脂に分散させたり、光照射によりガスを発生させる化合物を上記バインダー樹脂に相溶させたりして、上記ガス発生剤を用いることができる。上記バインダー樹脂の使用により、ガス発生剤を所望の形状に加工することが容易である。上記バインダー樹脂の使用により、例えば、フィルム状などの固形のガス発生材が容易に得られる。   The photoresponsive gas generating agent may contain a binder resin. The binder resin plays a role of fixing the compound that generates gas by light irradiation, imparting adhesiveness to the gas generating agent, and adding various functions to the gas generating agent. For example, the gas generating agent can be used by dispersing a compound that generates gas by light irradiation in a binder resin, or by dissolving a compound that generates gas by light irradiation in the binder resin. By using the binder resin, it is easy to process the gas generating agent into a desired shape. By using the binder resin, for example, a solid gas generating material such as a film can be easily obtained.

上記バインダー樹脂の好ましい例としては、アクリル系樹脂及びエポキシ系樹脂等が挙げられる。ただし、上記バインダー樹脂は、これらの樹脂に限定されない。上記バインダー樹脂自体が、光の照射によりガスを発生する性質を有していてもよい。上記バインダー樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Preferable examples of the binder resin include acrylic resins and epoxy resins. However, the binder resin is not limited to these resins. The binder resin itself may have a property of generating gas when irradiated with light. As for the said binder resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記バインダー樹脂は、粘着性を付与するために、例えば、粘接着剤樹脂を含んでいてもよい。上記ガス発生材は、上記粘接着剤樹脂を含んでいてもよい。上記ガス発生材が粘接着剤樹脂を含むことにより、ガス発生材と基材との粘着性及び接着性がより一層高くなる。上記粘接着剤樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The binder resin may contain, for example, an adhesive resin in order to impart tackiness. The gas generating material may contain the adhesive agent resin. When the gas generating material contains an adhesive resin, the tackiness and adhesiveness between the gas generating material and the substrate are further enhanced. As for the said adhesive agent resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

なお、上記粘接着剤樹脂は、光の照射により粘着性が低下しない性質を有することが好ましい。この場合には、ガス発生剤に対して光照射が開始された後でも、ガス発生材と基剤との高い粘接着性を維持可能である。また、上記粘接着剤樹脂は、例えば、光照射により、架橋しない性質を有することが好ましい。   In addition, it is preferable that the said adhesive agent resin has a property which adhesiveness does not fall by irradiation of light. In this case, high adhesiveness between the gas generating material and the base can be maintained even after light irradiation is started on the gas generating agent. Moreover, it is preferable that the said adhesive agent resin has a property which is not bridge | crosslinked, for example by light irradiation.

上記粘接着剤樹脂としては、例えば、ゴム系粘接着剤樹脂、(メタ)アクリル系粘接着剤樹脂、シリコーン系粘接着剤樹脂、ウレタン系粘接着剤樹脂、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体系粘接着剤樹脂、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体粘接着剤樹脂、エポキシ系粘接着剤樹脂及びイソシアネート系粘接着剤樹脂、等が挙げられる。
上記ガス発生剤は、光増感剤を含んでいてもよい。上記光増感剤としては、チオキサントン、ベンゾフェノン、アセトフェノン類及びポルフィリン等が挙げられる。
Examples of the adhesive resin include a rubber-based adhesive resin, a (meth) acrylic adhesive resin, a silicone-based adhesive resin, a urethane-based adhesive resin, and styrene-isoprene- Examples thereof include styrene copolymer-based adhesive resins, styrene-butadiene-styrene copolymer adhesive resins, epoxy-based adhesive resins, and isocyanate-based adhesive resins.
The gas generating agent may contain a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include thioxanthone, benzophenone, acetophenones, and porphyrin.

上記ガス発生剤は、上述した成分の他に、必要に応じて、種々の添加剤をさらに含んでいてもよい。上記添加剤としては、カップリング剤、可塑剤、界面活性剤、粘着付与剤、架橋剤、安定剤、等が挙げられる。また、上記添加剤の他の例としては、多孔質体、フィラー、金属箔、マイクロカプセル、及びその他の粒子等が挙げられる。上記ガス発生材に、多孔質体、フィラー、金属箔、マイクロカプセル及びその他の粒子が分散されていると、ガスの拡散がより一層早くなる。
光応答性ガス発生剤を構成する上記材料は、いずれも、光源の消灯と共に、速やかにガス発生反応が停止する。従って、上記材料は、応答性の良いガス発生剤として好適に用いられる。
The gas generating agent may further contain various additives as necessary in addition to the components described above. Examples of the additive include a coupling agent, a plasticizer, a surfactant, a tackifier, a crosslinking agent, and a stabilizer. Other examples of the additive include porous bodies, fillers, metal foils, microcapsules, and other particles. When the porous material, filler, metal foil, microcapsule and other particles are dispersed in the gas generating material, gas diffusion is further accelerated.
In any of the above-described materials constituting the photoresponsive gas generating agent, the gas generating reaction is quickly stopped when the light source is turned off. Therefore, the above material is suitably used as a gas generating agent with good response.

本発明の対象となる液体としては、水、油、生化学的緩衝液、血液、リンパ液、尿、土壌抽出水、水耕水、等が挙げられる。またマイクロ流路は微小な流路であることから、マイクロ流路内において、上記液体は、例えば液滴であってもよい。   Examples of the liquid that is an object of the present invention include water, oil, biochemical buffer, blood, lymph, urine, soil extraction water, hydroponic water, and the like. Further, since the microchannel is a minute channel, the liquid may be, for example, a droplet in the microchannel.

上記構成の流量調整デバイス1とマイクロ流路を組み合わせて、図15〜図20に示す構成からなるマイクロ流路デバイスを作製し、液体を流す実験を行った。
基材5は、ソフトリソグラフィーにより、シリコン樹脂(東レダウコーニング製、SILPOT 184)で作製した。細いマイクロ流路2c,2e,2fのサイズは、幅0.5mm、深さ0.5mmとした。太いマイクロ流路2dのサイズは幅0.8mm、深さ0.8mmとした。シリコン樹脂(東レダウコーニング製、SILPOT 184)を用いて、厚み0.05mmの弾性体フィルム6を作製した。
A microchannel device having the configuration shown in FIGS. 15 to 20 was fabricated by combining the flow rate adjusting device 1 having the above-described configuration and the microchannel, and an experiment for flowing a liquid was performed.
The base material 5 was made of silicon resin (manufactured by Toray Dow Corning, SILPOT 184) by soft lithography. The thin microchannels 2c, 2e, and 2f were 0.5 mm wide and 0.5 mm deep. The size of the thick microchannel 2d was 0.8 mm wide and 0.8 mm deep. An elastic film 6 having a thickness of 0.05 mm was produced using silicon resin (SILPOT 184, manufactured by Toray Dow Corning).

弾性体フィルム6を基材5に貼り付け、さらにガス発生フィルム7、ガスバリア層8、及びマスク10を貼り付けた。マスク10は、グラファイト含有のポリエチレンフィルムを直径6mmの円に打ち抜いて作製した。光照射用の光源として、LED(ナイトライドセミコンダクター製:NS375−5RFS)を用いた。   The elastic film 6 was affixed to the base material 5, and the gas generation film 7, the gas barrier layer 8, and the mask 10 were affixed. The mask 10 was produced by punching a graphite-containing polyethylene film into a circle having a diameter of 6 mm. As a light source for light irradiation, an LED (manufactured by Nitride Semiconductor: NS375-5RFS) was used.

(実施例1)
図16に示すマイクロ流路デバイスにおいて、マイクロ流路2cからマイクロ流路2dへの送液を行った。続いて、流量調整デバイス1に光を照射して閉鎖し、マイクロ流路2cからマイクロ流路2dへの送液を停止させた。
Example 1
In the microchannel device shown in FIG. 16, liquid feeding from the microchannel 2c to the microchannel 2d was performed. Subsequently, the flow rate adjusting device 1 was irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannel 2c to the microchannel 2d was stopped.

(実施例2)
図17(a)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2cとマイクロ流路2dに液体を流し、マイクロ流路2c内の液体をマイクロ流路dに合流させて混合した。その後、流量調整デバイス1に光を照射して閉鎖し、マイクロ流路2cからマイクロ流路2dへの送液を停止させた。
(Example 2)
In the microchannel device shown in FIG. 17A, the liquid is allowed to flow in the microchannel 2c and the microchannel 2d in the direction indicated by the arrows, and the liquid in the microchannel 2c is merged with the microchannel d and mixed. . Thereafter, the flow rate adjusting device 1 was irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannel 2c to the microchannel 2d was stopped.

(実施例3)
図17(b)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2dに液体を流し、同時にマイクロ流路2cにもマイクロ流路2dから枝分かれさせて、液体を流した。その後、流量調整デバイス1に光を照射して閉鎖し、マイクロ流路2dからマイクロ流路2cへの送液を停止させた。
(Example 3)
In the microchannel device shown in FIG. 17B, a liquid was caused to flow in the microchannel 2d in the direction indicated by the arrow, and at the same time, the liquid was allowed to branch from the microchannel 2d into the microchannel 2c. Thereafter, the flow rate adjusting device 1 was irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannel 2d to the microchannel 2c was stopped.

(実施例4)
図18(a)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2cとマイクロ流路2eに液体を流し、マイクロ流路2dへの送液を行った。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロ流路2c,2eからマイクロ流路2dへの送液を順次停止させた。
Example 4
In the microchannel device shown in FIG. 18A, a liquid was passed through the microchannel 2c and the microchannel 2e in the direction indicated by the arrow, and the liquid was fed to the microchannel 2d. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannels 2c and 2e to the microchannel 2d was sequentially stopped.

(実施例5)
図18(b)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2dに液体を流し、同時にマイクロ流路2c,2eにもマイクロ流路2dから枝分かれさせて、液体を流した。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロ流路2dからマイクロ流路2c,2eへの送液を順次停止させた。
(Example 5)
In the microchannel device shown in FIG. 18B, a liquid was allowed to flow in the microchannel 2d in the direction indicated by the arrow, and at the same time, the microchannels 2c and 2e were also branched from the microchannel 2d to flow the liquid. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannel 2d to the microchannels 2c and 2e was sequentially stopped.

(実施例6)
図19(a)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2c,2eとマイクロ流路2dに液体を流し、マイクロ流路2c,2e内の液体をマイクロ流路2dに合流させて混合した。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロ流路2c,2eからマイクロ流路2dへの送液を順次停止させた。
(Example 6)
In the microchannel device shown in FIG. 19 (a), liquid flows in the microchannels 2c and 2e and the microchannel 2d in the direction indicated by the arrows, and the liquid in the microchannels 2c and 2e merges into the microchannel 2d. Allowed to mix. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannels 2c and 2e to the microchannel 2d was sequentially stopped.

(実施例7)
図19(b)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2dに液体を流し、同時にマイクロ流路2c,2eにもマイクロ流路2dから枝分かれさせて、液体を流した。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロ流路2dからマイクロ流路2c,2eへの送液を順次停止させた。
(Example 7)
In the microchannel device shown in FIG. 19 (b), the liquid was caused to flow in the microchannel 2d in the direction indicated by the arrow, and at the same time, the liquid was allowed to branch from the microchannel 2d into the microchannels 2c and 2e. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannel 2d to the microchannels 2c and 2e was sequentially stopped.

(実施例8)
図20(a)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2c,2e,2fとマイクロ流路2dに液体を流し、マイクロ流路2c,2e,2f内の液体をマイクロ流路2dに合流させて混合した。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロ流路2c,2e,2fからマイクロ流路2dへの送液を順次停止させた。
(Example 8)
In the microchannel device shown in FIG. 20 (a), the liquid flows in the microchannels 2c, 2e, 2f and the microchannel 2d in the direction indicated by the arrows, and the liquid in the microchannels 2c, 2e, 2f flows into the microchannel. Combined in path 2d and mixed. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannels 2c, 2e, and 2f to the microchannel 2d was sequentially stopped.

(実施例9)
図20(b)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2dに液体を流し、同時にマイクロ流路2c,2e,2fにもマイクロ流路2dから枝分かれさせて、液体を流した。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロ流路2dからマイクロ流路2c,2e,2fへの送液を順次停止させた。
Example 9
In the microchannel device shown in FIG. 20B, the liquid is caused to flow in the microchannel 2d in the direction indicated by the arrow, and at the same time, the microchannels 2c, 2e, and 2f are branched from the microchannel 2d. did. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchannel 2d to the microchannels 2c, 2e, and 2f was sequentially stopped.

(実施例10)
図21(a)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、矢印で示す方向にマイクロ流路2g〜2oからマイクロチャンバー35に液体を流し、マイクロチャンバー35内で液体を混合した。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロ流路2g〜2oからマイクロチャンバー35への送液を順次停止させた。さらに、マイクロチャンバー35に集められた液体をマイクロ流路36を通じて系外部に移送した。
(Example 10)
In the microchannel device shown in FIG. 21A, a liquid was flowed from the microchannels 2g to 2o to the microchamber 35 in the direction indicated by the arrow, and the liquid was mixed in the microchamber 35. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the micro flow paths 2g to 2o to the micro chamber 35 was sequentially stopped. Further, the liquid collected in the microchamber 35 was transferred to the outside of the system through the microchannel 36.

(実施例11)
図21(b)に示すマイクロ流路デバイスにおいて、マイクロ流路36からマイクロチャンバー35に液体を導入しながら、矢印で示す方向にマイクロ流路2g〜2oに液体を流した。その後、各流量調整デバイス1に光を順番に照射して閉鎖し、マイクロチャンバー35からマイクロ流路2g〜2oへの送液を順次停止させた。
(Example 11)
In the microchannel device shown in FIG. 21 (b), the liquid was allowed to flow through the microchannels 2 g to 2 o in the direction indicated by the arrows while introducing the liquid from the microchannel 36 into the microchamber 35. Thereafter, each flow rate adjusting device 1 was sequentially irradiated with light and closed, and liquid feeding from the microchamber 35 to the microchannels 2g to 2o was sequentially stopped.

(実施例12)
図22に示すように、図16に示す構成にガス排出機構21を追加したマイクロ流路デバイスを作製した。封鎖用フィルム23として微粘着テープ(積水化学工業社製:品名624L)を用いた。光照射を続けてガスによる圧力を付与し続けることにより、封鎖用フィルム23が剥離し、ガスが排出された。これにより流量調整デバイス1が開放し、液体の移送を再開させた。
(Example 12)
As shown in FIG. 22, a microchannel device in which a gas discharge mechanism 21 was added to the configuration shown in FIG. 16 was produced. A slightly adhesive tape (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .: product name 624L) was used as the sealing film 23. By continuing the light irradiation and continuing to apply the pressure by the gas, the sealing film 23 was peeled off and the gas was discharged. As a result, the flow rate adjusting device 1 was opened and the liquid transfer was resumed.

封鎖用フィルム23として光刺激剥離フィルム(積水化学工業社製:品名SELFA)いる以外は実施例11と同様の構成のマイクロ流路デバイスを作製し、実験を行った。封鎖用フィルム23に光照射することにより、封鎖用フィルム23が自己剥離し、ガスが排出された。これにより、流量調整デバイス1が開放し、液体の移送を再開させた。   A microchannel device having the same configuration as in Example 11 was prepared and experimented except that a light-stimulated release film (product name: SELFA) was used as the blocking film 23. By irradiating the sealing film 23 with light, the sealing film 23 was peeled off and the gas was discharged. Thereby, the flow control device 1 was opened, and the liquid transfer was resumed.

1 流量調整デバイス
2,2a〜2o マイクロ流路
5 基材
6 弾性体フィルム(弾性を有するフィルム)
7 ガス発生フィルム(光応答性ガス発生剤)
12 流量調整部
15 ガス発生部
17 膨張部
21 ガス排出機構
22 ガス排出路
23 封鎖用フィルム(バルブ)
27 遮光フィルム
30 液体秤取デバイス
32 密閉空間
38 液体試料
40,40a,40b マイクロ流路デバイス
41,41a,41b 流量調整デバイス
42 外部連通路(マイクロ流路)
45 試料移動路
46 弾性体フィルム(弾性を有するフィルム)
47,47a,47b 光応答性ガス発生剤
48 ガス供給路
50 フィルム連通路
51 弁
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flow control device 2,2a-2o Micro flow path 5 Base material 6 Elastic body film (film which has elasticity)
7 Gas generating film (photoresponsive gas generating agent)
12 Flow Control Unit 15 Gas Generation Unit 17 Expansion Unit 21 Gas Discharge Mechanism 22 Gas Discharge Path 23 Sealing Film (Valve)
27 Light-shielding film 30 Liquid weighing device 32 Sealed space 38 Liquid sample 40, 40a, 40b Micro flow channel device 41, 41a, 41b Flow rate adjusting device 42 External communication channel (micro flow channel)
45 Sample moving path 46 Elastic film (elastic film)
47, 47a, 47b Photoresponsive gas generating agent 48 Gas supply path 50 Film communication path 51 Valve

Claims (12)

マイクロ流路における所定位置の流路断面積を変化させて、当該所定位置を流れる液体の流量を調整する流量調整デバイスであって、
光を照射することによりガスを発生する光応答性ガス発生剤と、弾性を有するフィルムとを有し、
前記フィルムが前記所定位置におけるマイクロ流路の内壁を構成しており、
光応答性ガス発生剤から発生したガスによる圧力を、前記フィルムにおけるマイクロ流路の内壁とは反対側から前記フィルムに付与して前記フィルムを弾性変形させることにより、前記所定位置におけるマイクロ流路の内壁の形状を変化させ、流路断面積を変化させることを特徴とする流量調整デバイス。
A flow rate adjustment device that adjusts the flow rate of the liquid flowing through the predetermined position by changing the flow path cross-sectional area at a predetermined position in the micro flow path,
A photoresponsive gas generating agent that generates gas by irradiating light, and an elastic film;
The film constitutes the inner wall of the microchannel in the predetermined position;
The pressure of the gas generated from the photoresponsive gas generating agent is applied to the film from the side opposite to the inner wall of the microchannel in the film to elastically deform the film, thereby A flow rate adjusting device characterized by changing the shape of the inner wall and changing the cross-sectional area of the flow path.
前記フィルムが膨張することにより前記所定位置の流路断面積が小さくなり、前記フィルムが収縮することにより前記所定位置の流路断面積が大きくなることを特徴とする請求項1に記載の流量調整デバイス。   2. The flow rate adjustment according to claim 1, wherein when the film expands, a flow path cross-sectional area at the predetermined position decreases, and when the film contracts, a flow path cross-sectional area at the predetermined position increases. device. 前記フィルムが膨張することにより前記所定位置においてマイクロ流路を閉鎖することができ、その後、前記フィルムが収縮することにより前記所定位置においてマイクロ流路を開放できることを特徴とする請求項2に記載の流量調整デバイス。   The microchannel can be closed at the predetermined position by the expansion of the film, and then the microchannel can be opened at the predetermined position by the contraction of the film. Flow control device. 光の照射範囲を制限するマスクをさらに備え、当該マスクにより、前記光応答性ガス発生剤における前記所定位置に対応する領域に対して重点的に光を照射可能であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の流量調整デバイス。   A mask for limiting a light irradiation range is further provided, and the mask can irradiate light mainly on a region corresponding to the predetermined position in the photoresponsive gas generating agent. The flow regulating device according to any one of 1 to 3. 前記マイクロ流路は板状の基材に形成され、当該基材上に、前記フィルムと前記光応答性ガス発生剤がこの順番に積層されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の流量調整デバイス。   The said microchannel is formed in a plate-shaped base material, The said film and the said photoresponsive gas generating agent are laminated | stacked in this order on the said base material. The flow adjustment device according to the above. 前記フィルムに付与されたガスを排出するためのガス排出機構をさらに有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の流量調整デバイス。   The flow rate adjusting device according to any one of claims 1 to 5, further comprising a gas discharge mechanism for discharging the gas applied to the film. 前記ガス排出機構は、ガス排出路と当該ガス排出路に設けられたバルブからなることを特徴とする請求項6に記載の流量調整デバイス。   The flow rate adjusting device according to claim 6, wherein the gas discharge mechanism includes a gas discharge path and a valve provided in the gas discharge path. 前記バルブは、光を照射することにより自己剥離する光刺激剥離フィルムを利用したものであることを特徴とする請求項7に記載の流量調整デバイス。   The flow rate adjusting device according to claim 7, wherein the valve uses a light-stimulated release film that self-peels when irradiated with light. 前記光応答性ガス発生剤は、アクリルバインダーと光増感剤をさらに含有させたものであることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の流量調整デバイス。   The flow rate adjusting device according to claim 1, wherein the photoresponsive gas generating agent further contains an acrylic binder and a photosensitizer. 未使用時には遮光フィルムで覆われており、使用時に前記遮光フィルムを取り除くものであることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の流量調整デバイス。   The flow rate adjusting device according to claim 1, wherein the flow rate adjusting device is covered with a light shielding film when not in use, and the light shielding film is removed at the time of use. マイクロチップに設けられ、一定体積の微量液体を量り取るための液体秤取デバイスであって、
請求項1〜10のいずれかに記載の流量調整デバイスと、一定体積を有する密閉空間とを有し、
前記流量調整デバイスを通じて前記密閉空間に液体を導入することにより、一定体積の液体を秤取可能であることを特徴とする液体秤取デバイス。
A liquid weighing device provided on a microchip for weighing a small volume of liquid,
The flow control device according to any one of claims 1 to 10, and a sealed space having a constant volume,
A liquid weighing device characterized in that a liquid of a constant volume can be weighed by introducing the liquid into the sealed space through the flow rate adjusting device.
液体試料が移動する試料移動路を備えたマイクロ流路デバイスであって、
請求項1に記載の流量調整デバイスと、
前記流量調整デバイスにおける光応答性ガス発生剤から発生したガスが供給されるガス供給路と、
前記ガス供給路から分岐し、前記流量調整デバイスにおける弾性を有するフィルムに繋がるフィルム連通路と、
前記ガス供給路と前記試料移動路との間に設置され、その開閉によって前記ガス供給路と前記試料移動路との間を連通又は閉鎖する弁と、
前記流量調整デバイスにおけるマイクロ流路で構成され、一端が前記試料移動路に連通し、他端が外部に開放する外部連通路とを有し、
前記光応答性ガス発生剤から発生したガスが前記フィルム連通路を通じて前記フィルムに供給されて、前記フィルムが弾性変形し、前記外部連通路を閉鎖可能であることを特徴とするマイクロ流路デバイス。
A microchannel device having a sample movement path through which a liquid sample moves,
A flow regulating device according to claim 1;
A gas supply path through which gas generated from the photoresponsive gas generating agent in the flow rate adjusting device is supplied;
A film communication path branched from the gas supply path and connected to a film having elasticity in the flow rate adjustment device;
A valve that is installed between the gas supply path and the sample movement path and communicates or closes between the gas supply path and the sample movement path by opening and closing;
Consists of a micro flow path in the flow rate adjustment device, one end communicates with the sample moving path, the other end has an external communication path that opens to the outside,
A microchannel device characterized in that gas generated from the photoresponsive gas generating agent is supplied to the film through the film communication path, the film is elastically deformed, and the external communication path can be closed.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111536273A (en) * 2020-04-30 2020-08-14 上海大学 Controllable soft valve using magnetic control and light control single input and multiple output and control method thereof

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002086399A (en) * 2000-06-20 2002-03-26 Kawamura Inst Of Chem Res Micro-device having lamination structure and manufacturing method for it
JP2004050401A (en) * 2002-05-28 2004-02-19 Jsr Corp Device for fluid processors, its fluid circulation route setting device and fluid processor
JP2006010340A (en) * 2004-06-22 2006-01-12 Sekisui Chem Co Ltd Micro total analysis system
JP2011047709A (en) * 2009-08-25 2011-03-10 Fujikura Kasei Co Ltd Liquid flow path device and method of manufacturing the same
JP2011072876A (en) * 2009-09-29 2011-04-14 Sekisui Chem Co Ltd Microfluid device
JP2012077753A (en) * 2011-11-11 2012-04-19 Sekisui Chem Co Ltd Micropump device and microfluid device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002086399A (en) * 2000-06-20 2002-03-26 Kawamura Inst Of Chem Res Micro-device having lamination structure and manufacturing method for it
JP2004050401A (en) * 2002-05-28 2004-02-19 Jsr Corp Device for fluid processors, its fluid circulation route setting device and fluid processor
JP2006010340A (en) * 2004-06-22 2006-01-12 Sekisui Chem Co Ltd Micro total analysis system
JP2011047709A (en) * 2009-08-25 2011-03-10 Fujikura Kasei Co Ltd Liquid flow path device and method of manufacturing the same
JP2011072876A (en) * 2009-09-29 2011-04-14 Sekisui Chem Co Ltd Microfluid device
JP2012077753A (en) * 2011-11-11 2012-04-19 Sekisui Chem Co Ltd Micropump device and microfluid device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111536273A (en) * 2020-04-30 2020-08-14 上海大学 Controllable soft valve using magnetic control and light control single input and multiple output and control method thereof
CN111536273B (en) * 2020-04-30 2021-05-04 上海大学 Controllable soft valve using magnetic control and light control single input and multiple output and control method thereof

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