JP2015114585A - Anisotropic light diffusion sheet and light diffusion method - Google Patents

Anisotropic light diffusion sheet and light diffusion method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide light diffusion means suitable for illumination and display devices that evenly irradiate rectangular or elliptical areas with light.SOLUTION: An anisotropic light diffusion sheet has a first concavo-convex pattern comprising a repetition of wavy protrusions and recesses formed on one surface of the sheet along one direction Y, and a second concavo-convex pattern comprising a repetition of wavy protrusions and recesses formed on a surface of the first concavo-convex pattern along the direction Y, where the first and second concavo-convex patterns look meandering when viewed from the front surface thereof. When light enters the anisotropic light diffusion sheet from the surface having the first and second concavo-convex patterns and exits from a surface opposite the surface with a dual concavo-convex pattern, a 1/10 value angle exceeds 80° in the direction Y and is 5-15° in a direction X perpendicular to the direction Y.

Description

本発明は、異方性光拡散性を有するシートおよび異方性光拡散シートを用いた光拡散方法に関する。   The present invention relates to an anisotropic light diffusing sheet and a light diffusing method using the anisotropic light diffusing sheet.

光を全方向に拡散照射するのではなく、ライン状に拡散照射する照明用装置として、特許文献1〜2に記載の照明装置が提案されている。   As an illumination device that diffuses and irradiates light in all directions instead of irradiating light in all directions, the illumination devices described in Patent Documents 1 and 2 have been proposed.

特許文献1の照明装置は、直線状に配列された複数の点光源の光を集光レンズにより点光源の配列方向と直交する方向に集光させ、更に集光させた光を光拡散部によりランダムに拡散する照明装置である。
特許文献2の照明装置は、直線状に配列された複数の点光源の光を集光レンズにより点光源の配列方向と直交する方向に集光させ、更に集光させた光のうち所望の照射範囲外へ照射される光を遮蔽手段によって遮る照明装置である。
The illumination device of Patent Document 1 condenses light from a plurality of point light sources arranged in a straight line in a direction perpendicular to the arrangement direction of the point light sources by a condensing lens, and further collects the condensed light by a light diffusion unit. It is a lighting device that diffuses randomly.
The illumination device of Patent Document 2 condenses light from a plurality of point light sources arranged in a straight line in a direction orthogonal to the arrangement direction of the point light sources by a condensing lens, and further performs desired irradiation of the condensed light. It is an illuminating device which shields the light irradiated out of the range by the shielding means.

特開2005−156600JP-A-2005-156600 特開2011−133347JP2011-133347A

特許文献1の照明装置はレンズで配列方向と直交する方向に集光させることによって照射範囲の制御を行っている。このような制御方法は、スキャナー光源のように細い線状に照射する場合は問題ない。しかし、長方形状や楕円状の範囲を照射する照明装置や表示装置に適用した場合、長手方向の中心部に光が集中してしまい、中心部と端部で明るさに差が生じてしまう。   The illumination device of Patent Document 1 controls the irradiation range by focusing light in a direction orthogonal to the arrangement direction with a lens. Such a control method has no problem when it is irradiated in a thin line like a scanner light source. However, when applied to a lighting device or a display device that irradiates a rectangular or elliptical range, the light concentrates in the central portion in the longitudinal direction, resulting in a difference in brightness between the central portion and the end portion.

また、特許文献2の照明装置のように遮蔽手段を用いた場合でも長手方向の中心部に光が集中する問題は解決されない。
更に、遮光手段を光吸収材料で構成した場合は、光の利用効率が低下する問題があり、遮光手段を光反射材料で構成した場合でも、明るさに斑が生じてしまう問題がある。
本発明は、長方形状や楕円状の範囲を斑なく照射する照明装置や表示装置に適した光拡散手段を得ることを目的としている。
Further, even when a shielding unit is used as in the illumination device of Patent Document 2, the problem of light concentration at the central portion in the longitudinal direction cannot be solved.
Further, when the light shielding means is made of a light absorbing material, there is a problem that the light utilization efficiency is lowered, and even when the light shielding means is made of a light reflecting material, there is a problem that unevenness occurs in brightness.
An object of the present invention is to obtain a light diffusing unit suitable for a lighting device or a display device that irradiates a rectangular or elliptical range without any spots.

本発明は、以下の態様を包含する。
[1] シートの片面に、一方向Yに沿って波状の凹凸が繰り返されることによって形成された第1凹凸パターンを有すると共に、第1凹凸パターンの表面に、前記方向Yに沿って波状の凹凸が繰り返されることによって形成された第2凹凸パターンを有し、前記第1および第2凹凸パターンが表面から見た場合に蛇行していることを特徴とする異方性拡散シートであって、前記異方性拡散シートの第1および第2凹凸パターンを有する面から光を入射し、前記第1凹凸パターンおよび第2凹凸パターンを有する面と反対の面から出射する時の1/10値角度が前記方向Yにおいて80°を超え、前記方向Yと直交するX方向において5〜15°であることを特徴とする異方性光拡散シート。
[2] 前記第1凹凸パターンの配向度が0.2〜0.5、且つ、前記第2凹凸パターンの配向度が0.2〜0.5である[1]に記載の異方性光拡散シート。
[3] 前記第1凹凸パターンの配向方向と前記第2凹凸パターンの配向方向との差が5°以内である[1]または[2]のいずれかに記載の異方性光拡散シート。
[4] 前記第1凹凸パターンの最頻ピッチが3〜20μm、前記第2凹凸パターンの最頻ピッチが0.3〜2.0μmである[1]〜[3]のいずれかに記載の異方性光拡散シート。
[5] 略平行光を[1]〜[4]のいずれかに記載の異方性光拡散シートの前記第1凹凸パターンが形成された面に入射し、前記第1凹凸パターンが形成されていない面から出射する光拡散方法。
[6] 前記異方性光拡散シートの面と前記略平行光の光軸の成す角度が、60〜90度の範囲となるように配置されている[5]に記載の光拡散方法。
The present invention includes the following aspects.
[1] It has a first uneven pattern formed by repeating wavy unevenness along one direction Y on one side of the sheet, and has a wavy uneven surface along the direction Y on the surface of the first uneven pattern. Is an anisotropic diffusion sheet having a second concavo-convex pattern formed by being repeated, wherein the first and second concavo-convex patterns meander when viewed from the surface, The 1/10 value angle when light is incident from the surface having the first and second uneven patterns of the anisotropic diffusion sheet and is emitted from the surface opposite to the surface having the first and second uneven patterns is An anisotropic light diffusing sheet characterized by being over 80 ° in the direction Y and 5 to 15 ° in the X direction orthogonal to the direction Y.
[2] The anisotropic light diffusion sheet according to [1], wherein the first concavo-convex pattern has an orientation degree of 0.2 to 0.5, and the second concavo-convex pattern has an orientation degree of 0.2 to 0.5. .
[3] The anisotropic light diffusion sheet according to any one of [1] and [2], wherein a difference between an orientation direction of the first uneven pattern and an orientation direction of the second uneven pattern is within 5 °.
[4] The difference according to any one of [1] to [3], wherein the most frequent pitch of the first uneven pattern is 3 to 20 μm, and the most frequent pitch of the second uneven pattern is 0.3 to 2.0 μm. Isotropic light diffusion sheet.
[5] Surface in which substantially parallel light is incident on the surface on which the first concavo-convex pattern is formed of the anisotropic light diffusing sheet according to any one of [1] to [4], and the first concavo-convex pattern is not formed. Light diffusing method of emitting from
[6] The light diffusion method according to [5], wherein an angle formed by a surface of the anisotropic light diffusion sheet and an optical axis of the substantially parallel light is in a range of 60 to 90 degrees.

本発明の異方性拡散シートにより、光エネルギーの利用効率が高く、長方形状または楕円状に均一に光を照射することができる照明装置を得ることができる。   With the anisotropic diffusion sheet of the present invention, it is possible to obtain an illuminating device that has high utilization efficiency of light energy and can irradiate light uniformly in a rectangular or elliptical shape.

本発明の異方性光拡散シートの一実施形態を示す拡大斜視図である。It is an expansion perspective view which shows one Embodiment of the anisotropic light-diffusion sheet of this invention. 図1の異方性光拡散シートを、第1凹凸パターンの凹凸が繰り返す方向(Y方向)に沿って切断した際の断面図である。It is sectional drawing at the time of cut | disconnecting the anisotropic light-diffusion sheet | seat of FIG. 1 along the direction (Y direction) in which the unevenness | corrugation of a 1st uneven | corrugated pattern repeats. 本発明の異方性光拡散シートの第1の凹凸パターンと、第2の凹凸パターンを、法線方向から撮影した電子顕微鏡写真の一例である。It is an example of the electron micrograph which image | photographed the 1st uneven | corrugated pattern and 2nd uneven | corrugated pattern of the anisotropic light-diffusion sheet of this invention from the normal line direction. 本発明の異方性光拡散シートの第1の凹凸パターンを、法線方向から撮影した電子顕微鏡写真の一例である。It is an example of the electron micrograph which image | photographed the 1st uneven | corrugated pattern of the anisotropic light-diffusion sheet of this invention from the normal line direction. 図4の電子顕微鏡写真のグレースケール画像をフーリエ変換した後の画像である。It is an image after carrying out the Fourier transform of the gray scale image of the electron micrograph of FIG. 図3の電子顕微鏡写真のグレースケール画像をフーリエ変換した後の画像である。FIG. 4 is an image after Fourier transform of the gray scale image of the electron micrograph of FIG. 3. 図5のフーリエ変換画像から得られた突条部11a間の距離(ピッチ)の頻度を縦軸に、中心からの距離を横軸にとって作成したグラフである。6 is a graph created with the frequency of the distance (pitch) between the ridges 11a obtained from the Fourier transform image of FIG. 5 as the vertical axis and the distance from the center as the horizontal axis. 図5のフーリエ変換像において、突条部11aのピッチの最大頻度DがX軸上を通るように、フーリエ変換像の中心部を軸として回転させたフーリエ変換画像である。In the Fourier transformed image of FIG. 5, so that the maximum frequency D 1 of the pitch of the protrusions 11a passes through the X-axis, a Fourier transform image obtained by rotating the center portion of the Fourier transformed image as an axis. 図8のフーリエ変画像から得られた補助線M上の周期の頻度を縦軸に、最大頻度Dからの距離を横軸にとって作成したグラフである。On the vertical axis the frequency of the cycle on the auxiliary line M 1 derived from the Fourier variable image of FIG. 8 is a graph that created the distance from the maximum frequency D 1 abscissa. 図5のフーリエ変換像において、フーリエ変換像の中心部以外で突条部11aのピッチの最大頻度を示す位置Dと、フーリエ変換像の中心部に引いた線Lとの成す角θを記した図面である。In the Fourier transform image of FIG. 5, an angle θ 1 formed by a position D 1 that indicates the maximum frequency of the pitch of the protrusion 11 a other than the center portion of the Fourier transform image and a line L 1 drawn at the center portion of the Fourier transform image. It is drawing which described. 光拡散性を評価するための照度曲線の説明に用いる図である。It is a figure used for description of the illumination intensity curve for evaluating light diffusivity. 本発明の異方性光拡散シートに略平行光を照射した場合の出射光の広がりを示す図である。It is a figure which shows the breadth of the emitted light at the time of irradiating substantially parallel light to the anisotropic light diffusion sheet of this invention. 本発明の異方性光拡散シートの実施例および比較例の評価方法を示す図である。It is a figure which shows the evaluation method of the Example of an anisotropic light-diffusion sheet of this invention, and a comparative example.

以下の説明において、図1などに示すXYZ直交座標系を適宜参照して、本発明の異方性光拡散シートの形状や配置などを説明する。本明細書では、このXYZ直交座標系において、Y方向および、X方向はXY平面に平行に存在するものとし、異方性光拡散シートの法線をZ軸方向として定義する。   In the following description, the shape and arrangement of the anisotropic light diffusion sheet of the present invention will be described with reference to the XYZ orthogonal coordinate system shown in FIG. In this specification, in this XYZ orthogonal coordinate system, the Y direction and the X direction are assumed to be parallel to the XY plane, and the normal line of the anisotropic light diffusion sheet is defined as the Z-axis direction.

(異方性光拡散シート)
本発明の異方性光拡散シートの一実施形態について説明する。
図1および図2に、本実施形態の異方性光拡散シートを示す。本実施形態の異方性光拡散シート1は、その少なくとも片面に凹凸パターン10を有する。ここで、凹凸パターン10は、第1の凹凸パターン11と、第1の凹凸パターン11の表面に形成された第2の凹凸パターン12とを有する。
(Anisotropic light diffusion sheet)
An embodiment of the anisotropic light diffusion sheet of the present invention will be described.
1 and 2 show an anisotropic light diffusion sheet of this embodiment. The anisotropic light diffusion sheet 1 of the present embodiment has an uneven pattern 10 on at least one surface thereof. Here, the concavo-convex pattern 10 includes a first concavo-convex pattern 11 and a second concavo-convex pattern 12 formed on the surface of the first concavo-convex pattern 11.

第1の凹凸パターン11は、異方性光拡散シート1の表面に、Y方向に沿って複数の突条が配列することによって形成される。以下、第1の凹凸パターン11の突条部の1つを「突条部11a」として、任意の隣り合う突条部11a間の凹部の谷底部分を「凹部11b」として説明する。   The first concavo-convex pattern 11 is formed by arranging a plurality of protrusions along the Y direction on the surface of the anisotropic light diffusion sheet 1. Hereinafter, one of the protrusions of the first concavo-convex pattern 11 will be described as “protrusion 11a”, and the valley bottom portion of the recess between any adjacent protrusions 11a will be described as “recess 11b”.

ここで、「突条」とは、シート面上を延伸する細長い突出部のことを意味する。
また、「隣り合う突条部」とは、Y方向において、任意の突条部11aと、そのすぐ横に配置されている突条部11aのことを指す。
また、第2の凹凸パターン12は、第1の凹凸パターン11の表面に複数の突条が、Y方向に対して配列することによって形成されている。以下、第2の凹凸パターン12の突条部の1つを「突条部12a」として、任意の隣り合う突条部12a間の凹部の谷底部分を「凹部12b」として説明する。
Here, the “protrusion” means an elongated protrusion extending on the sheet surface.
In addition, “adjacent ridges” refers to an arbitrary ridge 11a and a ridge 11a arranged immediately beside it in the Y direction.
The second concavo-convex pattern 12 is formed by arranging a plurality of protrusions on the surface of the first concavo-convex pattern 11 in the Y direction. Hereinafter, one of the protrusions of the second concavo-convex pattern 12 will be described as a “protrusion 12a”, and a valley bottom portion of a recess between any adjacent protrusions 12a will be described as a “recess 12b”.

本実施形態において、異方性光拡散シート1の凹凸パターン10を有する面を、法線方向から観察した際、突条部11aの稜線は、蛇行していることが好ましい。すなわち、突条部11aの各々の稜線は、X方向に対して延伸する進行軸を有しているが、この進行軸を中心に左右に蛇行していることが好ましい。同様に、異方性光拡散シート1の凹凸パターン10を有する面を、法線方向から観察した際、突条部12aの稜線は、蛇行していることが好ましい。   In the present embodiment, when the surface having the concavo-convex pattern 10 of the anisotropic light diffusing sheet 1 is observed from the normal direction, it is preferable that the ridge line of the protruding portion 11a meanders. That is, each ridge line of the ridge portion 11a has a traveling axis extending in the X direction, but it is preferable that the ridge line meanders from side to side about the traveling axis. Similarly, when the surface having the concavo-convex pattern 10 of the anisotropic light diffusing sheet 1 is observed from the normal direction, it is preferable that the ridge line of the protruding portion 12a meanders.

ここで、「突条部11aの稜線」とは、突条部11aの頂部をつないで続く線のことを意味する。また、「突条部12aの稜線」とは、突条部12aの頂部をつないで続く線のことを意味する。
また、突条部11aの稜線は、図4の電子顕微鏡写真において、白く見えるラインのことを指す。また、突条部12aの稜線は、図3の電子顕微鏡写真において、第1の凹凸パターン11の突条部11aの表面に、白く見えるラインのことを指す。
Here, the “ridge line of the protrusion 11a” means a line that connects the tops of the protrusion 11a. Further, the “ridge line of the ridge portion 12a” means a line that connects the top portions of the ridge portion 12a and continues.
Moreover, the ridgeline of the protrusion part 11a points out the line which looks white in the electron micrograph of FIG. In addition, the ridge line of the ridge portion 12a indicates a line that appears white on the surface of the ridge portion 11a of the first uneven pattern 11 in the electron micrograph of FIG.

本発明の1つの態様において、第1の凹凸パターン11を形成しているそれぞれの突条は、X方向において高低差を有していてもよい。また、第2の凹凸パターン12を形成しているそれぞれの突条は、X方向において高低差を有していてもよい。ここで、「X方向において高低差を有する」とは、異方性光拡散シート1を、Y方向に沿って切断した断面図(図2)において、突条部11aの高さ、及び突条部12aの高さが、X方向において変化していることを意味する。突条部11aの高さ、及び突条部12aの高さについては、後述する。   In one aspect of the present invention, each protrusion forming the first concavo-convex pattern 11 may have a height difference in the X direction. Moreover, each protrusion which forms the 2nd uneven | corrugated pattern 12 may have a height difference in the X direction. Here, “having a height difference in the X direction” means that the height of the ridge portion 11a and the ridge portion 12a in the cross-sectional view (FIG. 2) obtained by cutting the anisotropic light diffusion sheet 1 along the Y direction. It means that the height of is changing in the X direction. The height of the protrusion 11a and the height of the protrusion 12a will be described later.

本発明の1つの態様において、異方性光拡散シート1をY方向に沿って切断した際、その断面図は、図2に示すような形状を有している。すなわち、突条部11aの断面形状は、Y方向において不規則に変化しており、突条部11aの断面形状の輪郭線に沿って、突条部12aの波状の断面が複数形成されていることが好ましい。   In one aspect of the present invention, when the anisotropic light diffusion sheet 1 is cut along the Y direction, the cross-sectional view thereof has a shape as shown in FIG. In other words, the cross-sectional shape of the ridge portion 11a changes irregularly in the Y direction, and a plurality of wavy cross sections of the ridge portion 12a are formed along the outline of the cross-sectional shape of the ridge portion 11a. It is preferable.

図2に示すように、第1の凹凸パターン11を形成する複数の突条部11aの断面形状はそれぞれ異なっており、同一ではない。同様に、第2の凹凸パターン12を形成する突条部12aの断面形状もまた、それぞれに異なっており、同一ではない。本発明の一つの態様において、異方性光拡散シート1をY方向に沿って切断した際の、第1の凹凸パターン11を形成する突条部11aの断面形状、及び第2の凹凸パターン12を形成する突条部12aの断面形状は、ひだ状、または紡錘形の一部を有する形状、または、一方向に引き伸ばしたドーム状であることが好ましい。   As shown in FIG. 2, the cross-sectional shape of the some protrusion 11a which forms the 1st uneven | corrugated pattern 11 is different, respectively, and is not the same. Similarly, the cross-sectional shapes of the protrusions 12a forming the second uneven pattern 12 are also different from each other and are not the same. In one aspect of the present invention, when the anisotropic light diffusing sheet 1 is cut along the Y direction, the cross-sectional shape of the protrusion 11a that forms the first concavo-convex pattern 11 and the second concavo-convex pattern 12 are formed. The cross-sectional shape of the protruding ridge portion 12a is preferably a pleated shape, a shape having a part of a spindle shape, or a dome shape extended in one direction.

また、異方性光拡散シート1をY方向に沿って切断した際、突条部11aの断面の大きさ、及び形状の少なくとも1つが、X方向に沿って変化していることが好ましい。同様に、異方性光拡散シート1をY方向に沿って切断した際、突条部12aの断面の大きさ、及び形状の少なくとも1つが、X方向に沿って変化していることが好ましい。このような形状が、第1の凹凸パターン11、及び第2の凹凸パターン12を構成する突条の稜線の不規則性を生み出し、均一でフリンジパターンを発生しない異方性光拡散シートが得られる。
ここで、「フリンジパターン」とは、規則性のある凹凸パターンを有する光拡散シートを光が透過する際に発生する縞状のパターンを意味する。
In addition, when the anisotropic light diffusion sheet 1 is cut along the Y direction, it is preferable that at least one of the size and shape of the cross section of the protrusion 11a is changed along the X direction. Similarly, when the anisotropic light diffusing sheet 1 is cut along the Y direction, it is preferable that at least one of the size and shape of the cross section of the protrusion 12a is changed along the X direction. Such a shape produces irregularities in the ridges of the ridges constituting the first concavo-convex pattern 11 and the second concavo-convex pattern 12, and an anisotropic light diffusing sheet that is uniform and does not generate a fringe pattern is obtained.
Here, the “fringe pattern” means a striped pattern generated when light passes through a light diffusion sheet having a regular uneven pattern.

複数の突条部11aの稜線の間隔は、Y方向において不規則に変化している。また、隣り合う2つの突条部11aの稜線の間隔は、X方向において不規則に、かつ連続的に変化していることが好ましい。ただし、Y方向、及びX方向において、突条部11aの稜線の間隔が変化しない部分を含んでいてもよい。また、突条部11aの稜線は、その途中で任意の他の突条部11aの稜線に枝分かれしていてもよく、複数の突条部11aの稜線が重なっていてもよい。このような突条部11aの稜線の枝分かれ、又は合一が、突条部11aの稜線の間隔の不規則性を生み出す要因となっている。
ここで、「隣り合う2つの突条部11aの稜線の間隔」とは、Y方向に沿って隣り合う2つの突条部11aの、頂部と頂部の間隔(距離)のことを意味する。
The intervals between the ridge lines of the plurality of ridge portions 11a change irregularly in the Y direction. Moreover, it is preferable that the space | interval of the ridgeline of the two adjacent protrusion parts 11a is changing irregularly and continuously in the X direction. However, in the Y direction and the X direction, a portion where the interval between the ridge lines of the ridge portion 11a does not change may be included. Moreover, the ridgeline of the protrusion part 11a may be branched into the ridgeline of arbitrary other protrusion part 11a in the middle, and the ridgeline of the some protrusion part 11a may overlap. Such branching or unity of the ridges of the ridges 11a is a factor that produces irregularities in the intervals between the ridges of the ridges 11a.
Here, “the interval between the ridge lines of two adjacent ridges 11a” means the interval (distance) between the top and the top of the two ridges 11a adjacent in the Y direction.

図3は、異方性光拡散シート1の、第1の凹凸パターン11と第2の凹凸パターン12を、法線方向から撮影した電子顕微鏡写真の一例である。
図3に示すように、第2の凹凸パターン12は、第1の凹凸パターン11の表面に、複数の突条部12aが配列することによって形成されている。
複数の突条部12aの稜線の間隔は、Y方向において不規則に変化している。また、隣り合う2つの突条部12aの稜線の間隔は、X方向において不規則に、かつ連続的に変化していることが好ましい。ただし、Y方向、及びX方向において、突条部12aの稜線の間隔が変化しない部分を含んでいてもよい。また、突条部12aの稜線は、その途中で任意の他の突条部12aの稜線に枝分かれしていてもよく、複数の突条部12aの稜線が重なっていてもよい。
FIG. 3 is an example of an electron micrograph of the anisotropic light diffusing sheet 1 taken from the normal direction of the first concavo-convex pattern 11 and the second concavo-convex pattern 12.
As shown in FIG. 3, the second concavo-convex pattern 12 is formed by arranging a plurality of protrusions 12 a on the surface of the first concavo-convex pattern 11.
The intervals between the ridge lines of the plurality of ridge portions 12a change irregularly in the Y direction. Moreover, it is preferable that the space | interval of the ridgeline of the two adjacent protrusion parts 12a is changing irregularly and continuously in the X direction. However, in the Y direction and the X direction, a portion where the interval between the ridge lines of the ridge 12a does not change may be included. Moreover, the ridgeline of the ridge part 12a may be branched into the ridgeline of any other ridge part 12a in the middle, and the ridgeline of the some protrusion part 12a may overlap.

上述した通り、第1の凹凸パターン11の突条部11aの稜線の間隔、及び第2の凹凸パターン12の突条部12aの稜線の間隔は一定ではない。本発明の異方性光拡散シートの1つの態様において、隣り合う2つの突条部11aの稜線の間隔を表す「ピッチ」は、最頻ピッチPとして表すことができる。ここで、「最頻ピッチP」とは、隣り合う2つの突条部11aの稜線の間隔(稜線間距離)のうち、最も出現頻度が高い稜線間距離のことを意味する。 As described above, the interval between the ridge lines of the ridges 11a of the first concavo-convex pattern 11 and the interval between the ridge lines of the ridges 12a of the second concavo-convex pattern 12 are not constant. In one embodiment of the anisotropic light-diffusing sheet of the present invention, "pitch" representing the distance between the ridges of the two ridges 11a adjacent to each other, it can be expressed as the pitch P 1 most frequent. Here, the “most frequent pitch P 1 ” means a distance between ridge lines having the highest appearance frequency among ridge line intervals (distance between ridge lines) of two adjacent ridges 11a.

本発明の1つの態様において、第1の凹凸パターン11の最頻ピッチPは、3〜20μmであることが好ましく、5〜15μmであることがより好ましく、8〜13μmであることがさらに好ましい。最頻ピッチPが前記下限値未満、すなわち、3μm未満であっても、前記上限値を超えても、すなわち、20μmを超えても、光拡散性が損なわれる。 In one aspect of the present invention, the most frequent pitch P 1 of the first uneven pattern 11 is preferably 3 to 20 μm, more preferably 5 to 15 μm, and still more preferably 8 to 13 μm. . Even if the most frequent pitch P 1 is less than the lower limit, that is, less than 3 μm, or exceeds the upper limit, that is, exceeds 20 μm, the light diffusibility is impaired.

前記最頻ピッチPは、以下の式(1)から求められた値である。
最頻ピッチP=1/E ・・・(1)
具体的に、最頻ピッチPは異方性光拡散シートの電子顕微鏡画像より求めることができる。以下に、電子顕微鏡を用いた最頻ピッチの算出方法について説明する。
まず、異方性光拡散シート1の凹凸パターン10が形成されている面を、法線方向から電子顕微鏡で観察する。観察条件は、加速電圧15〜20kV、ワーキングディスタンス5〜15mm程度で行うことが好ましい。電子顕微鏡観察における観察倍率は、第1の凹凸パターン11の突条部11aの配列数が、20〜50列となるように適宜調整することが好ましい。
The most frequent pitch P 1 is a value obtained from the following equation (1).
Most frequent pitch P 1 = 1 / E 1 (1)
Specifically, the modal pitch P 1 can be obtained from an electron microscopic image of the anisotropic light-diffusing sheet. Below, the calculation method of the most frequent pitch using an electron microscope is demonstrated.
First, the surface on which the uneven pattern 10 of the anisotropic light diffusion sheet 1 is formed is observed with an electron microscope from the normal direction. The observation conditions are preferably an acceleration voltage of 15 to 20 kV and a working distance of about 5 to 15 mm. The observation magnification in the electron microscope observation is preferably adjusted as appropriate so that the number of arrangement of the protrusions 11a of the first concavo-convex pattern 11 is 20 to 50 rows.

次に、得られた電子顕微鏡写真(図4)を、2次元フーリエ変換してフーリエ変換画像(図5)を得る。ここで、得られた電子顕微鏡写真がJPEG等の圧縮画像である場合は、TIFF画像等のグレースケール画像に変換してから、2次元フーリエ変換を行うことが好ましい。なお、図5のフーリエ変換画像において、中心からの方位は、図4に存在する周期構造、すなわち、第1の凹凸パターン11を形成する突条部11aが配列する方向を意味し、中心からの距離は、図4に存在する周期構造の周期の逆数を意味する。   Next, the obtained electron micrograph (FIG. 4) is two-dimensionally Fourier transformed to obtain a Fourier transformed image (FIG. 5). Here, when the obtained electron micrograph is a compressed image such as JPEG, it is preferable to perform a two-dimensional Fourier transform after converting to a gray scale image such as a TIFF image. In the Fourier transform image of FIG. 5, the orientation from the center means the periodic structure existing in FIG. 4, that is, the direction in which the protrusions 11 a forming the first concavo-convex pattern 11 are arranged. The distance means the reciprocal of the period of the periodic structure existing in FIG.

また、図5の画像の濃淡は周期構造の頻度を表し、淡いほど、図4に含まれる周期構造の中で、対象となる周期構造の頻度が高いことを意味する。
続いて、観察条件はそのままで、第2の凹凸パターン12の電子顕微鏡観察を行う。観察倍率は、Y方向における突条部12aの配列数が、20〜50列になるように適宜変更する。得られた電子顕微鏡写真(図3参照)を、2次元フーリエ変換してフーリエ変換画像(図6)を得る。ここで、得られた電子顕微鏡写真がJPEG等の圧縮画像である場合は、TIFF画像等のグレースケール画像に変換してから、2次元フーリエ変換を行うことが好ましい。
Further, the shading of the image in FIG. 5 represents the frequency of the periodic structure, and the lighter the light, the higher the frequency of the target periodic structure in the periodic structure included in FIG.
Subsequently, the electron microscope observation of the second concavo-convex pattern 12 is performed with the observation conditions unchanged. The observation magnification is appropriately changed so that the number of arrangement of the protrusions 12a in the Y direction is 20 to 50 rows. The obtained electron micrograph (see FIG. 3) is two-dimensionally Fourier transformed to obtain a Fourier transformed image (FIG. 6). Here, when the obtained electron micrograph is a compressed image such as JPEG, it is preferable to perform a two-dimensional Fourier transform after converting to a gray scale image such as a TIFF image.

次に、図5のフーリエ変換画像の中心部以外で、突条部11aのピッチの最大頻度を示す位置Dを通るように直線Lを引き、直線L上の突条部11aのピッチの頻度を縦軸に、中心からの距離(周期の逆数)を横軸にグラフを作成する(図7)。図7のグラフにおいて頻度が最大となる距離Eの逆数から最頻ピッチPを求めることができる。 Then, other than the center of the Fourier transform image of FIG. 5, a straight line is drawn L 1 so as to pass through the position D 1 indicating the maximum frequency of the pitch of the protrusions 11a, the pitch of the protrusions 11a on the straight line L 1 A graph is created with the vertical axis as the frequency and the distance from the center (reciprocal of the period) as the horizontal axis (FIG. 7). In the graph of FIG. 7, the most frequent pitch P 1 can be obtained from the reciprocal of the distance E 1 at which the frequency is maximum.

また、第1の凹凸パターン11は、突条部11aのアスペクト比Aが0.1〜1.0であることが好ましく、0.2〜0.8であることがより好ましく、0.3〜0.6であることが更に好ましい。アスペクト比Aが前記下限値未満であると光拡散性が十分ではなく、Aが前記上限値を超えると凹凸が擦過等により破壊されるおそれがある。 The first uneven patterns 11 is preferably protrusions 11a aspect ratio A 1 of 0.1 to 1.0, more preferably 0.2 to 0.8, 0.3 More preferably, it is -0.6. Aspect ratio A 1 is less than the lower limit value and light diffusibility is not sufficient, there is a possibility that unevenness when A 1 exceeds the upper limit value is destroyed by abrasion and the like.

ここで、突条部11aのアスペクト比Aは、突条部11aの平均高さB/最頻ピッチPで求められる値である。
突条部11aの平均高さBは次のようにして求める。すなわち、異方性光拡散シート1の凹凸パターン10が形成された面を、法線方向から電子顕微鏡により観察し、その観察像からY方向に沿って切断した断面図(図2参照)を得る。ここで、電子顕微鏡の観察条件は、前述の最頻ピッチPを求める際に用いた条件と同じであってもよい。
Here, the aspect ratio A 1 of the protrusions 11a is a value determined by the average height B 1 / modal pitch P 1 of the ridge portion 11a.
Average height B 1 of the ridge portion 11a is determined as follows. That is, the surface of the anisotropic light diffusing sheet 1 on which the concave / convex pattern 10 is formed is observed with an electron microscope from the normal direction, and a cross-sectional view (see FIG. 2) cut along the Y direction is obtained from the observed image. Here, the observation conditions of the electron microscope may be the same as the conditions used in determining the most frequent pitch P 1 of the foregoing.

図2に示すように、第1凹凸パターン11を形成する突条部11aの高さは、両隣の2つの凹部11bから、突条部11aの頂部までの第3の方向の距離の和の1/2である。すなわち、第1の凹凸パターン11を形成する突条部11aの高さbは、突条部11aに対して一方側の凹部11bから計測した突条部11aの高さをL、他方側の凹部11bの底から計測した高さをRとした際に、b=(L+R)/2となる。このようにして各突条部11aの高さbを求める。そして、50個の突条部11aの高さRとLを測定して高さbを算出し、それらの高さを平均して平均高さBを求める。 As shown in FIG. 2, the height of the protrusion 11a forming the first uneven pattern 11 is 1 of the sum of the distances in the third direction from the two adjacent recesses 11b to the top of the protrusion 11a. / 2. That is, the height b i protrusions 11a for forming the first uneven patterns 11, the height of the ridges 11a measured from the recess 11b on one side of the ridge portion 11a L i, the other side When the height measured from the bottom of the concave portion 11b is R i , b i = (L i + R i ) / 2. In this way determine the height b i of each ridge 11a. Then, by measuring the height R i and L i of 50 protrusions 11a calculates the height b i, and averaging the height by determining the average height B 1.

本実施形態における第1凹凸パターン11は、異方性光拡散シート1を法線方向から観察して、突条部11aの稜線が蛇行している。本明細書では、第1凹凸パターン11の突条部11aの稜線の蛇行の程度を配向度Cという。この配向度Cの値が大きいほど、突条部11aの稜線が蛇行していることを意味する。ここで、「配向度C」は、突条部11aの稜線のX方向に対する蛇行の程度である。すなわち、「配向度Cの値が大きい」とは、突条部11aの稜線が、前述の進行軸を中心に左右に大きな振り幅で蛇行した状態にあることを意味する。 In the first concavo-convex pattern 11 in the present embodiment, the anisotropic light diffusing sheet 1 is observed from the normal direction, and the ridge line of the protruding portion 11a meanders. In this specification, the degree of meandering of the ridge protrusions 11a of the first uneven patterns 11 that the degree of orientation C 1. As the value of the orientation degree C 1 is large, the ridge line of the ridge portion 11a means that meanders. Here, the “degree of orientation C 1 ” is the degree of meandering with respect to the X direction of the ridge line of the ridge 11 a. In other words, the "value of orientation degree C 1 is large" ridge of the ridge portion 11a, means in the state in which meanders in a large swing width to the left and right about the traveling axis of the above.

第1の凹凸パターン11の配向度Cは0.2以上であることが好ましく、0.25以上であることがより好ましく、0.30以上であることが更に好ましい。配向度Cが前記下限値未満、すなわち、0.2未満であると、光拡散性が損なわれることがある。
一方、第1の凹凸パターン11の配向度Cは0.50以下であることが好ましく、0.45以下であることがより好ましく、0.40以下であることがさらに好ましい。配向度Cが前記上限値以下、すなわち、0.50以下であれば、光がX方向に比べてY方向に強く拡散する異方性光拡散特性が得られる。すなわち、第1の凹凸パターン11の配向度Cは、0.20〜0.50であることが好ましく、0.30〜0.40であることがより好ましい。
The degree of orientation C 1 of the first concavo-convex pattern 11 is preferably 0.2 or more, more preferably 0.25 or more, and further preferably 0.30 or more. Less than the degree of orientation C 1 is the lower limit, i.e., is less than 0.2, there is the light diffusing properties are impaired.
On the other hand, the degree of orientation C 1 of the first concavo-convex pattern 11 is preferably 0.50 or less, more preferably 0.45 or less, and further preferably 0.40 or less. Orientation degree C 1 is less than the upper limit, i.e., if 0.50 or less, the anisotropic light-diffusing property of light is diffused strongly in the Y direction than in the X direction is obtained. That is, the degree of orientation C 1 of the first uneven pattern 11 is preferably 0.20 to 0.50, and more preferably 0.30 to 0.40.

配向度Cは、以下の方法により求められる。
まず、最頻ピッチPを求める際に得た図5のフーリエ変換像を利用し、突条部11aのピッチの最大頻度Dが、X軸上を通るように、フーリエ変換像の中心部を軸として回転させたフーリエ変換像を作成する(図8)。ここで、「X軸」とは、フーリエ変換像の中心部を通り、画像に対して水平な線のことを指す。次いで、最大頻度Dを通り、Y方向に平行な補助線Mを引き、補助線M上の周期の頻度を縦軸に、最大頻度Dからの距離を横軸にとってグラフを作成する(図9)。図9のグラフから、得られたピークの半減値V(補助線M上の周期の頻度の値が、最大頻度Dの半分になる位置でのピークの幅)を求める。得られた値を以下の式(2)に当てはめて、配向度Cを求める。
配向度C=V/E ・・・(2)
Orientation degree C 1 is determined by the following method.
First, using the Fourier transform image of FIG. 5 obtained when obtaining the most frequent pitch P 1 , the center portion of the Fourier transform image is such that the maximum pitch frequency D 1 of the protrusion 11 a passes on the X axis. A Fourier transform image rotated about the axis is created (FIG. 8). Here, the “X axis” refers to a line that passes through the center of the Fourier transform image and is horizontal to the image. Then, through the maximum frequency D 1, drawn parallel auxiliary lines M 1 in the Y direction, the frequency of the cycle of the auxiliary lines M 1 on the vertical axis, to create a graph the distance from the maximum frequency D 1 abscissa (FIG. 9). From the graph of FIG. 9, the half value V 1 of the obtained peak (the width of the peak at a position where the frequency value of the period on the auxiliary line M 1 becomes half of the maximum frequency D 1 ) is obtained. The obtained value by applying the following equation (2) determines the degree of orientation C 1.
Degree of orientation C 1 = V 1 / E 1 (2)

本実施形態における第1の凹凸パターン11は、突条部11aの頂部および凹部11bが丸みを帯びており、突条部11aと凹部11bを含む波状の凹凸は、正弦波状になっている。ここで、「正弦波状」とは、第1の凹凸パターン11をY方向に沿って切断した断面図において、第1の凹凸パターン11の突条部11aの断面形状の接線の傾きと、凹部11bの断面形状の接線の傾きが、連続的に変化することを意味する。
第1の凹凸パターン11の突条部11aと凹部11bを含む波状の凹凸が正弦波状であると、光拡散性に優れたシートが得られるため好ましい。
In the first concavo-convex pattern 11 in the present embodiment, the top of the ridge portion 11a and the concave portion 11b are rounded, and the wavy concavo-convex shape including the ridge portion 11a and the concave portion 11b is sinusoidal. Here, “sinusoidal” is a cross-sectional view of the first concavo-convex pattern 11 cut along the Y direction, and the inclination of the tangent of the cross-sectional shape of the protrusion 11a of the first concavo-convex pattern 11 and the concave portion 11b. It means that the inclination of the tangent of the cross-sectional shape of the above changes continuously.
It is preferable that the wavy unevenness including the protrusions 11a and the recesses 11b of the first uneven pattern 11 is sinusoidal because a sheet having excellent light diffusibility can be obtained.

また、本実施形態において、第2の凹凸パターン12の最頻ピッチPは、0.3〜2.0μmであることが好ましく、0.4〜1.0μmであることがより好ましく、0.5〜0.8μmであることがさらに好ましい。最頻ピッチPが前記下限値未満であっても前記上限値を超えても、光拡散性が損なわれる。 In the present embodiment, the most frequent pitch P2 of the second uneven pattern 12 is preferably 0.3 to 2.0 μm, more preferably 0.4 to 1.0 μm, and More preferably, it is 5-0.8 micrometers. Also be a most frequent pitch P 2 is less than the lower limit value exceeds the upper limit, light diffusion is impaired.

最頻ピッチPは、以下の式(3)から求められた値である。
最頻ピッチP=1/E ・・・(3)
具体的に、最頻ピッチPは異方性光拡散シートの電子顕微鏡画像より求めることができる。最頻ピッチPは、図6のフーリエ変換画像を用いて、第1の凹凸パターン11の最頻ピッチPの算出方法と同様の方法にて、求めることができる。
Modal pitch P 2 is a value obtained from the following equation (3).
Most frequent pitch P 2 = 1 / E 2 (3)
Specifically, the modal pitch P 2 can be determined from an electron microscope image of the anisotropic light-diffusing sheet. Modal pitch P 2, using the Fourier transform image of FIG. 6, by the same method as the method of calculating the most frequent pitch P 1 of the first uneven patterns 11, can be obtained.

すなわち、図6のフーリエ変換画像の中心部以外で、突条部12aのピッチの最大頻度を示す位置を通るように直線を引き、前記直線状の突条部12aのピッチの頻度を縦軸に、中心からの距離(周期の逆数)を横軸にグラフを作成する。このグラフにおいて頻度が最大となる距離Eの逆数から最頻ピッチPを求めることができる。 That is, a straight line is drawn so as to pass through the position indicating the maximum frequency of the pitch of the ridges 12a other than the center of the Fourier transform image of FIG. 6, and the pitch frequency of the linear ridges 12a is plotted on the vertical axis. Create a graph with the horizontal axis representing the distance from the center (the reciprocal of the period). In this graph, the most frequent pitch P 2 can be obtained from the reciprocal of the distance E 2 with the maximum frequency.

また、第2の凹凸パターン12は、突条部12aのアスペクト比A2が0.10〜0.50であることが好ましく、0.20〜0.40であることがより好ましく、0.25〜0.35であることがさらに好ましい。アスペクト比Aを前記範囲とすることにより、良好な光拡散性が得られる。 Moreover, as for the 2nd uneven | corrugated pattern 12, it is preferable that aspect ratio A2 of the protrusion 12a is 0.10-0.50, It is more preferable that it is 0.20-0.40, 0.25- More preferably, it is 0.35. The aspect ratio A 2 by the above-described range, good light diffusion property is obtained.

ここで、突条部12aのアスペクト比Aは、突条部12aの平均高さB/最頻ピッチPで求められる値である。
突条部12aの平均高さBは次のようにして求める。すなわち、異方性光拡散シート1の凹凸パターン10が形成された面を、法線方向から電子顕微鏡により観察し、その観察像からY方向に沿って切断した断面図(図2参照)を得る。ここで、電子顕微鏡の観察条件は、前述の最頻ピッチPを求める際に用いた条件と同じであってもよい。
Here, the aspect ratio A 2 protrusions 12a is a value determined by the average height B 2 / modal pitch P 2 of the protrusions 12a.
Average height B 2 of the protrusions 12a is determined as follows. That is, the surface of the anisotropic light diffusing sheet 1 on which the concave / convex pattern 10 is formed is observed with an electron microscope from the normal direction, and a cross-sectional view (see FIG. 2) cut along the Y direction is obtained from the observed image. Here, the observation conditions of the electron microscope may be the same as the conditions used in determining the most frequent pitch P 1 of the foregoing.

図2に示すように、第2の凹凸パターン12を形成する突条部12aの高さは、両隣の2つの凹部12bから、突条部12aの頂部までの距離の和の1/2である。ここで、凹部12bから突条部12aの頂部までの距離は、突条部11aの頂部と、凹部11bを結ぶ線に平行であり、かつ突条部12aの頂部を通過する仮想線に対して垂直方向の距離である。すなわち、第2の凹凸パターン12を形成する突条部12aの高さは、突条部12aに対して一方側の凹部12bから計測した突条部12aの高さをL、他方側の凹部12bから計測した高さをRとした際に、b=(L+R)/2となる。このようにして各突条部12aの高さbを求める。そして、50個の突条部12aの高さRを測定し、それらの高さを平均して平均高さBを求める。 As shown in FIG. 2, the height of the protrusion 12a forming the second uneven pattern 12 is ½ of the sum of the distances from the two adjacent recesses 12b to the top of the protrusion 12a. . Here, the distance from the recess 12b to the top of the ridge 12a is parallel to the line connecting the top of the ridge 11a and the recess 11b, and the imaginary line passing through the top of the ridge 12a. The distance in the vertical direction. That is, the height of the protrusions 12a to form the second uneven patterns 12, the recess the height of the ridges 12a measured from the recess 12b on one side of the projecting portions 12a L S, the other side When the height measured from 12b is R S , b S = (L S + R S ) / 2. In this way, the height b S of each protrusion 12a is obtained. Then, by measuring the height R S of 50 protrusions 12a, and the average thereof height obtaining the average height B 2.

本実施形態における第2の凹凸パターン12も、異方性光拡散シート1を法線方向から観察して、突条部12aの稜線が蛇行している。本明細書では、突条部12aの稜線の、X方向に対する蛇行の程度を「配向度C」という。この配向度Cの値が大きいほど、突条部12aの稜線が蛇行していることを意味する。 The second concavo-convex pattern 12 in the present embodiment also has the ridge line of the ridge portion 12a meandering when the anisotropic light diffusion sheet 1 is observed from the normal direction. In the present specification, the degree of meandering of the ridge line of the ridge portion 12a in the X direction is referred to as “orientation degree C 2 ”. As the value of the orientation degree C 2 is large, the edge line of the ridge portion 12a means that meanders.

本発明の1つの態様において、配向度Cは、0.2以上であることが好ましく、0.25以上であることがより好ましく、0.30以上であることが更に好ましい。配向度Cが前記下限値未満、すなわち、0.2未満であると、光拡散性が損なわれることがある。 In one aspect of the present invention, the degree of orientation C 2 is preferably 0.2 or more, more preferably 0.25 or more, further preferably 0.30 or more. Less than the degree of orientation C 2 is the lower limit, i.e., is less than 0.2, there is the light diffusing properties are impaired.

また、第2の凹凸パターン12の配向度Cは0.50以下であることが好ましく、0.45以下であることがより好ましく、0.40以下であることがさらに好ましい。配向度Cが前記上限値以下、すなわち、0.50以下であれば、光がX方向に比べてY方向に強く拡散する異方性光拡散特性が得られる。すなわち、第2の凹凸パターン12の配向度Cは、0.20〜0.50であることが好ましく、0.30〜0.40であることがより好ましい。 In addition, the degree of orientation C2 of the second uneven pattern 12 is preferably 0.50 or less, more preferably 0.45 or less, and further preferably 0.40 or less. Orientation degree C 2 is less than the upper limit, i.e., if 0.50 or less, the anisotropic light-diffusing property of light is diffused strongly in the Y direction than in the X direction is obtained. That is, the degree of orientation C2 of the second uneven pattern 12 is preferably 0.20 to 0.50, and more preferably 0.30 to 0.40.

第2の凹凸パターン12の配向度Cは、最頻ピッチPを求める際に得たフーリエ変換像(図6)を用いて、第1の凹凸パターン11の配向度Cと同じ方法にて求めることができる。 The degree of orientation C 2 of the second concavo-convex pattern 12 is the same method as the degree of orientation C 1 of the first concavo-convex pattern 11 using the Fourier transform image (FIG. 6) obtained when determining the most frequent pitch P 2 . Can be obtained.

第1の凹凸パターン11の配向方向と第2の凹凸パターン12の配向方向との差(以下、単に「配向方向の差」と言うこともある)は、光拡散の異方性が高くなることから、できるだけ小さいことが好ましい。すなわち、配向方向の差が小さいと、光拡散の異方性が高くなり、第1の凹凸パターン11と第2の凹凸パターン12の異方性拡散の相乗効果が得られるため好ましい。本発明においては、配向方向の差が5°以内であることが好ましく、2°以内であることがより好ましい。また、配向方向の差は、1〜5°であることが好ましく、1〜2°であることがより好ましい。   The difference between the alignment direction of the first concavo-convex pattern 11 and the alignment direction of the second concavo-convex pattern 12 (hereinafter sometimes simply referred to as “difference in alignment direction”) is that the anisotropy of light diffusion is high. Therefore, it is preferable that it is as small as possible. That is, it is preferable that the difference in the orientation direction is small because the anisotropy of light diffusion is increased and a synergistic effect of anisotropic diffusion of the first uneven pattern 11 and the second uneven pattern 12 is obtained. In the present invention, the difference in orientation direction is preferably within 5 °, more preferably within 2 °. Further, the difference in orientation direction is preferably 1 to 5 °, and more preferably 1 to 2 °.

ここで、第1の凹凸パターン11の配向方向とは、第1の凹凸パターン11の蛇行した稜線の各箇所での方向を平均した方向を意味する。また、第2の凹凸パターン12の配向方向とは、第2の凹凸パターン12の蛇行した稜線の各箇所での方向を平均した方向を意味する。   Here, the orientation direction of the first concavo-convex pattern 11 means a direction obtained by averaging the directions at the portions of the meandering ridgeline of the first concavo-convex pattern 11. Further, the orientation direction of the second concavo-convex pattern 12 means a direction obtained by averaging the directions of the meandering ridge lines of the second concavo-convex pattern 12.

第1の凹凸パターン11の配向方向と、第2の凹凸パターン12の配向方向は、電子顕微鏡画像を元に算出することができる。
まず、上述の最頻ピッチPを求める際に得られた電子顕微鏡画像図3、及び図4において、これら画像に共通する突条の稜線方向を一致させる。
図4のフーリエ変換像である図5において、フーリエ変換像の中心部以外で、突条部11aのピッチの最大頻度を示す位置Dから、フーリエ変換像の中心部に引いた線Lと、X軸から構成される角度θを、第1の凹凸パターン11の配向方向とする(図10参照)。
次に、図3のフーリエ変換像である図6において、フーリエ変換像の中心部以外で、突条部12aのピッチの最大頻度を示す位置Dから、フーリエ変換像の中心部に引いた線Lと、X軸から構成される角度θを、第2の凹凸パターン12の配向方向とする。
得られたθとθとの差、すなわち、θ−θで表される角度から配向方向の差を求めることができる。
The orientation direction of the first concavo-convex pattern 11 and the orientation direction of the second concavo-convex pattern 12 can be calculated based on an electron microscope image.
First, an electron microscope image showing 3 obtained when determining the most frequent pitch P 1 described above, and in FIG. 4, to match the ridge line direction of the ridge common to these images.
In FIG. 5 which is the Fourier transform image of FIG. 4, a line L 1 drawn from the position D 1 indicating the maximum frequency of the pitch of the protrusion 11 a to the center of the Fourier transform image, other than the center of the Fourier transform image, The angle θ 1 formed from the X axis is taken as the orientation direction of the first concavo-convex pattern 11 (see FIG. 10).
Next, in FIG. 6 which is the Fourier transform image of FIG. 3, a line drawn from the position D 2 indicating the maximum frequency of the pitch of the ridge 12 a to the center of the Fourier transform image other than the center of the Fourier transform image. An angle θ 2 constituted by L 2 and the X axis is defined as the orientation direction of the second concavo-convex pattern 12.
The difference in orientation direction can be determined from the difference between the obtained θ 1 and θ 2 , that is, the angle represented by θ 1 −θ 2 .

また、本発明の異方性光拡散シート1の第1の凹凸パターン11と、第2の凹凸パターン12を有する面から光を入射した際の光の1/10値角度は、Y方向(主拡散方向)で80°を超え、X方向(副拡散方向)で5°〜15°であることが好ましい。また、1/10値角度が、Y方向で81〜100°、X方向で6°〜12°であることがより好ましく、Y方向で82〜95°、X方向で6.5°〜10°であることが更に好ましい。光の1/10値角度が前記の範囲であれば異方性光拡散性が優れるため好ましい。   Further, the 1/10 value angle of light when light is incident from the surface having the first uneven pattern 11 and the second uneven pattern 12 of the anisotropic light diffusion sheet 1 of the present invention is the Y direction (main diffusion direction). ) Exceeding 80 °, and preferably 5 ° to 15 ° in the X direction (sub-diffusion direction). Further, the 1/10 value angle is more preferably 81 to 100 ° in the Y direction, and 6 ° to 12 ° in the X direction, 82 to 95 ° in the Y direction, and 6.5 ° to 10 ° in the X direction. More preferably. If the 1/10 value angle of light is within the above range, it is preferable because anisotropic light diffusibility is excellent.

ここで、「光の1/10値角度」は、以下の方法により求めることができる。
まず、ゴニオメーター(型式:GENESIA Gonio/FFP、ジェネシア社製)を用いて透過散乱光を測定することにより、照度曲線を得る。具体的には、異方性光拡散シートから垂直に出射する光(この光の出光角度を0°とする。)の照度を1とした際の相対照度を、X方向またはY方向に沿って出光角度−90°から90°までの相対照度を1°間隔で測定して、照度曲線を得る。ここで、照度曲線とは、図11に示すような、横軸を出光角度とし、縦軸を相対照度として、プロットとした曲線である。
そして、得られた照度曲線から光の1/10値角度(図11中のW)を求める。
Here, the “1/10 value angle of light” can be obtained by the following method.
First, an illuminance curve is obtained by measuring transmitted scattered light using a goniometer (model: GENESIA Gonio / FFP, manufactured by Genesia). Specifically, the relative illuminance when the illuminance of light emitted perpendicularly from the anisotropic light diffusion sheet (the light emission angle of this light is 0 °) is 1, the light emission angle along the X direction or the Y direction. The relative illuminance from −90 ° to 90 ° is measured at 1 ° intervals to obtain an illuminance curve. Here, the illuminance curve is a curve plotted as shown in FIG. 11 with the horizontal axis as the light emission angle and the vertical axis as the relative illuminance.
Then, a 1/10 value angle of light (W 2 in FIG. 11) is obtained from the obtained illuminance curve.

なお、異方性光拡散シート1は、後述する異方性光拡散シートの製造方法により得られたシートそのものであってもよいし、異方性光拡散シートの製造方法により得られたシートを原版として複製した複製シートであってもよい。
異方性光拡散シート1が、後述する異方性光拡散シートの製造方法により得られたシートそのものである場合には、通常、断面から見た場合に蛇行変形した硬質層と表面が硬質層の変形に追従して変形した基材層の2層で構成される。また、複製シートである場合には、通常、表面に凹凸が転写された樹脂からなる1層または、表面に凹凸が一方の面に転写された凹凸形成層と前記凹凸形成層の凹凸が転写されていない面に積層された平坦な基材層の2層で構成される。
The anisotropic light diffusing sheet 1 may be a sheet itself obtained by a method for producing an anisotropic light diffusing sheet to be described later, or a duplicate sheet obtained by duplicating a sheet obtained by a method for producing an anisotropic light diffusing sheet as an original plate. It may be.
When the anisotropic light diffusing sheet 1 is a sheet itself obtained by the method for manufacturing an anisotropic light diffusing sheet described later, the hard layer that is meandering and the surface follow the deformation of the hard layer when viewed from the cross section. It is composed of two layers of the base material layer deformed. In the case of a duplication sheet, usually, a single layer made of a resin having irregularities transferred to the surface, or an irregularity forming layer having irregularities transferred to one surface and irregularities of the irregularity forming layer are transferred. It is composed of two layers of a flat base material layer laminated on the surface that is not.

本発明の異方性光拡散シートは、第1の凹凸パターンと、第1の凹凸パターンの表面に形成された第2の凹凸パターンを有し、第1の凹凸パターンおよび第2の凹凸パターンの形状および大きさを上記説明したように調整することにより、第1の凹凸パターンおよび第2の凹凸パターンを有する側から光源の光を入射したときの光の利用効率が高く、且つ所望する照射範囲に均一に光を拡散することができる。
また、本発明の異方性光拡散シートは、その表面形状を転写して異方性光拡散シートを製造するための原版シートとして使用することもできる。
The anisotropic light diffusion sheet of the present invention has a first concavo-convex pattern and a second concavo-convex pattern formed on the surface of the first concavo-convex pattern, and the shape of the first concavo-convex pattern and the second concavo-convex pattern, and By adjusting the size as described above, the light use efficiency is high when the light from the light source is incident from the side having the first concavo-convex pattern and the second concavo-convex pattern, and the desired irradiation range is uniform. Can diffuse light.
Moreover, the anisotropic light-diffusion sheet of this invention can also be used as an original plate sheet for manufacturing the anisotropic light-diffusion sheet by transferring the surface shape.

(異方性光拡散シートの製造方法)
次に、異方性光拡散シート1の製造方法の一実施形態について説明する。
本実施形態の異方性光拡散シート1の製造方法は、積層フィルム形成工程と加熱収縮工程とを有する。
(Method for producing anisotropic light diffusion sheet)
Next, an embodiment of a method for producing the anisotropic light diffusing sheet 1 will be described.
The manufacturing method of the anisotropic light-diffusion sheet 1 of this embodiment has a laminated | multilayer film formation process and a heat contraction process.

[積層フィルム形成工程]
本実施形態における積層フィルム形成工程は、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑で2種の樹脂からなる硬質層(以下、「表面平滑硬質層」という。)を少なくとも1層積層させて積層フィルムを得る工程である。ここで、表面平滑硬質層とは、JIS B0601に記載の方法により測定される中心線平均粗さが0.1μm以下の層であって、加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させる温度条件下で軟化しない層である。また、軟化しないとは、表面平滑層のヤング率が100MPa以上であることを意味する。
[Laminated film forming process]
In the laminated film forming step in the present embodiment, at least one hard layer (hereinafter referred to as “surface smooth hard layer”) having a smooth surface and comprising two kinds of resins is laminated on one surface of the heat-shrinkable resin film. This is a step of obtaining a laminated film. Here, the surface smooth hard layer is a layer having a center line average roughness of 0.1 μm or less as measured by the method described in JIS B0601, and does not soften under a temperature condition for shrinking the heat-shrinkable resin film. Is a layer. Moreover, not softening means that the Young's modulus of the surface smooth layer is 100 MPa or more.

加熱収縮性樹脂フィルムとは、80〜180℃の温度で加熱した際、特定の方向に収縮(シュリンク)するフィルムのことを意味する。このようなフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニリデン系シュリンクフィルムなどを用いることができる。このうち、耐熱性の観点から、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、又はポリスチレン系シュリンクフィルムを用いることが好ましい。   The heat-shrinkable resin film means a film that shrinks (shrinks) in a specific direction when heated at a temperature of 80 to 180 ° C. As such a film, for example, a polyethylene terephthalate shrink film, a polystyrene shrink film, a polyolefin shrink film, a polyvinyl chloride shrink film, a polyvinylidene chloride shrink film, or the like can be used. Among these, it is preferable to use a polyethylene terephthalate shrink film or a polystyrene shrink film from the viewpoint of heat resistance.

本実施形態では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、1軸延伸フィルムを用いることが好ましい。1軸延伸は、縦延伸、横延伸のいずれであってもよい。
また、加熱収縮性樹脂フィルムは、1.1〜15倍の延伸倍率で延伸されていることが好ましく、1.3〜10倍で延伸されていることがより好ましい。
In this embodiment, it is preferable to use a uniaxially stretched film as the heat-shrinkable resin film. Uniaxial stretching may be either longitudinal stretching or lateral stretching.
Further, the heat-shrinkable resin film is preferably stretched at a stretch ratio of 1.1 to 15 times, and more preferably stretched at 1.3 to 10 times.

また、加熱収縮性樹脂フィルムとしては、収縮率が好ましくは20〜90%、より好ましくは35〜75%のフィルムであることが好ましい。本明細書において、収縮率とは、(収縮率[%])={(収縮前のフィルムの長さ)−(収縮後のフィルムの長さ)}/(収縮前のフィルムの長さ)×100である(ただし、「フィルムの長さ」は加熱収縮性樹脂フィルムの収縮方向の長さのことを意味する)。収縮率が前記下限値以上、すなわち20%以上であれば、異方性光拡散シート1をより容易に製造できる。一方、収縮率が前記上限値を超える、すなわち、90%を超える加熱収縮性樹脂フィルムの製造は困難である。   Moreover, as a heat-shrinkable resin film, it is preferable that a shrinkage rate is 20 to 90%, More preferably, it is a film with 35 to 75%. In this specification, the shrinkage rate is (shrinkage rate [%]) = {(film length before shrinkage) − (length of film after shrinkage)} / (length of film before shrinkage) × 100 (where “the length of the film” means the length in the shrinking direction of the heat-shrinkable resin film). If the shrinkage rate is not less than the lower limit, that is, not less than 20%, the anisotropic light diffusion sheet 1 can be more easily produced. On the other hand, it is difficult to produce a heat-shrinkable resin film having a shrinkage ratio exceeding the upper limit, that is, exceeding 90%.

加熱収縮性樹脂フィルムの表面は、平坦であることが好ましい。加熱収縮性樹脂フィルムの表面が平坦であれば、その表面に、表面平滑硬質層を容易に形成できるため好ましい。ここで、「平坦」とは、JIS B0601に記載の方法により測定される中心線平均粗さが0.1μm以下であることを意味する。   The surface of the heat-shrinkable resin film is preferably flat. If the surface of the heat-shrinkable resin film is flat, it is preferable because the surface smooth hard layer can be easily formed on the surface. Here, “flat” means that the center line average roughness measured by the method described in JIS B0601 is 0.1 μm or less.

加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂(以下、「樹脂L」と記載する)のガラス転移温度Tgは40〜200℃であることが好ましく、60〜150℃であることがより好ましい。ガラス転移温度は示差熱分析等により測定できる。ガラス転移温度Tgが40〜200℃であれば、より容易に凹凸パターン10を形成できる。すなわち、樹脂Lのガラス転移温度Tgが、40〜200℃であれば、樹脂Lから構成される加熱収縮性樹脂フィルムを、80〜180℃の温度で加熱収縮させることができるため、より容易に凹凸パターン10を形成することができるため好ましい。 The glass transition temperature Tg 1 of the resin constituting the heat-shrinkable resin film (hereinafter referred to as “resin L”) is preferably 40 to 200 ° C., and more preferably 60 to 150 ° C. The glass transition temperature can be measured by differential thermal analysis or the like. If the glass transition temperature Tg 1 is 40 to 200 ° C., it can be formed more easily uneven pattern 10. That is, if the glass transition temperature Tg 1 of the resin L is 40 to 200 ° C., the heat-shrinkable resin film composed of the resin L can be heated and shrunk at a temperature of 80 to 180 ° C. Since the uneven | corrugated pattern 10 can be formed in this, it is preferable.

樹脂Lのヤング率は、加熱収縮工程の温度、すなわち、80〜180℃の温度範囲において0.01〜100MPaであることが好ましく、0.1〜10MPaであることがより好ましい。樹脂Lのヤング率が前記下限値以上であれば、基材として使用可能な硬さであり、前記上限値以下であれば、表面平滑硬質層が変形する際に同時に追従して変形可能な軟らかさである。
上述のようなガラス転移温度Tg、及びヤング率を有する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、及びポリ塩化ビニル系樹脂から選択される少なくとも1種であることが好ましい。
The Young's modulus of the resin L is preferably 0.01 to 100 MPa and more preferably 0.1 to 10 MPa in the temperature range of the heat shrinking step, that is, in the temperature range of 80 to 180 ° C. If the Young's modulus of the resin L is equal to or higher than the lower limit value, it is a hardness that can be used as a base material, and if it is equal to or lower than the upper limit value, it is soft enough to follow and deform simultaneously when the surface smooth hard layer is deformed. That's it.
The resin having the glass transition temperature Tg 1 and the Young's modulus as described above is preferably at least one selected from, for example, a polyethylene terephthalate resin, a polystyrene resin, and a polyvinyl chloride resin.

表面平滑硬質層を構成する2種の樹脂(以下、一方を「樹脂M」、他方を「樹脂N」として記載する)としては、各々、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。   As the two types of resins constituting the surface smooth hard layer (hereinafter, one is described as “resin M” and the other as “resin N”), for example, polyvinyl alcohol, polystyrene, acrylic resin, and styrene-acrylic resin are used. Polymers, styrene-acrylonitrile copolymers, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyethersulfone, fluororesin, and the like can be used.

また、樹脂Mおよび樹脂Nは、第2の凹凸パターン12を容易に形成できることから、ガラス転移温度が互いに異なることが好ましく、具体的には、樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mが樹脂Nのガラス転移温度Tg2Nよりも高いことが好ましい。さらには、(樹脂Mのガラス転移温度Tg2M)−(樹脂Nのガラス転移温度Tg2N)が10℃以上であることが好ましく、15℃以上であることがより好ましい。 Further, since the resin M and the resin N can easily form the second concavo-convex pattern 12, it is preferable that the glass transition temperatures are different from each other. Specifically, the glass transition temperature Tg 2M of the resin M is a glass of the resin N. It is preferable that the transition temperature is higher than Tg 2N . Furthermore, (glass transition temperature Tg 2M of resin M ) − (glass transition temperature Tg 2N of resin N) is preferably 10 ° C. or higher, more preferably 15 ° C. or higher.

一方、Tg2MとTg2Nとが離れすぎても、第2凹凸パターン12を形成しにくくなるため、Tg2M−Tg2Nが20℃以下であることが好ましく、19℃以下であることがより好ましい。すなわち、樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mと、樹脂Nのガラス転移温度Tg2Nの差は、10〜20℃であることが好ましく、11〜15℃であることがより好ましい。 On the other hand, since it becomes difficult to form the second uneven pattern 12 even if Tg 2M and Tg 2N are too far apart, Tg 2M -Tg 2N is preferably 20 ° C. or less, and more preferably 19 ° C. or less. . That is, the difference between the glass transition temperature Tg 2M of the resin M and the glass transition temperature Tg 2N of the resin N is preferably 10 to 20 ° C., and more preferably 11 to 15 ° C.

第1の凹凸パターン11および第2の凹凸パターン12からなる凹凸パターン10を容易に形成できる点では、樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mと樹脂Lのガラス転移温度Tgとの差(Tg2M−Tg)、樹脂Nのガラス転移温度Tg2Nと樹脂Lのガラス転移温度Tgとの差(Tg2N−Tg)が共に10℃以上であることが好ましく、15℃以上であることがより好ましく、20℃以上であることが特に好ましい。 The difference (Tg 2M −) between the glass transition temperature Tg 2M of the resin M and the glass transition temperature Tg 1 of the resin L is that the uneven pattern 10 composed of the first uneven pattern 11 and the second uneven pattern 12 can be easily formed. Tg 1 ), the difference (Tg 2N −Tg 1 ) between the glass transition temperature Tg 2N of the resin N and the glass transition temperature Tg 1 of the resin L is preferably 10 ° C. or more, more preferably 15 ° C. or more. It is preferably 20 ° C. or higher.

樹脂Mおよび樹脂Nのガラス転移温度Tg2M,Tg2Nは共に40〜400℃の範囲内にあることが好ましく、80〜250℃の範囲内にあることがより好ましい。Tg2M,Tg2Nが前記下限値以上且つ前記上限値以下、すなわち、40〜400℃の範囲であれば、より容易に凹凸パターン10を形成できる。 The glass transition temperatures Tg 2M and Tg 2N of the resin M and the resin N are both preferably in the range of 40 to 400 ° C., and more preferably in the range of 80 to 250 ° C. If Tg 2M and Tg 2N are not less than the lower limit and not more than the upper limit, that is, in the range of 40 to 400 ° C., the uneven pattern 10 can be more easily formed.

樹脂Mおよび樹脂Nのヤング率は、加熱収縮工程の温度、すなわち、80〜180℃の温度範囲において0.01〜300GPaの範囲内にあることが好ましく、0.1〜10GPaの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Mおよび樹脂Nのヤング率が0.01GPa以上であれば、凹凸パターン10の形状を維持するのに充分な硬さであり、ヤング率が前記上限値未満であれば、より容易に凹凸パターン10を形成できる。   The Young's modulus of the resin M and the resin N is preferably in the range of 0.01 to 300 GPa and in the range of 0.1 to 10 GPa in the temperature of the heat shrinking process, that is, in the temperature range of 80 to 180 ° C. It is more preferable. If the Young's modulus of the resin M and the resin N is 0.01 GPa or more, the hardness is sufficient to maintain the shape of the concavo-convex pattern 10, and if the Young's modulus is less than the upper limit value, the concavo-convex pattern is more easily obtained. 10 can be formed.

本発明の1つの態様において、樹脂Mとしては、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、又はスチレン−アクリル共重合体であることが好ましい。また、樹脂Nとしては、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、又はスチレン−アクリル共重合体であることが好ましい。これら樹脂Mと樹脂Nの組み合わせとしては、アクリル樹脂とアクリル樹脂、アクリル樹脂とスチレン−アクリル共重合体、又はアクリル樹脂とスチレン−アクリロニトリル共重合体の組み合わせが好ましく、アクリル樹脂とアクリル樹脂との組み合わせであることがより好ましい。   In one embodiment of the present invention, the resin M is preferably an acrylic resin, a styrene-acrylic copolymer, or a styrene-acrylic copolymer. Further, the resin N is preferably an acrylic resin, a styrene-acrylic copolymer, or a styrene-acrylic copolymer. The combination of the resin M and the resin N is preferably an acrylic resin and an acrylic resin, an acrylic resin and a styrene-acrylic copolymer, or a combination of an acrylic resin and a styrene-acrylonitrile copolymer, and a combination of an acrylic resin and an acrylic resin. It is more preferable that

表面平滑硬質層の厚さは、0.05μmを超え5.0μm以下とすることが好ましく、0.5〜3.0μmとすることがより好ましい。表面平滑硬質層の厚さを前記範囲にすることにより、最頻ピッチPが適切な範囲となり、光拡散性をより高くすることができる。
表面平滑硬質層の厚さは連続的に変化していても構わない。表面平滑硬質層の厚さが連続的に変化している場合には、圧縮後、すなわち、加熱収縮工程後に形成される第1の凹凸パターン11の突条部11aのピッチおよび高さが連続的に変化するようになる。
The thickness of the surface smooth hard layer is preferably more than 0.05 μm and not more than 5.0 μm, and more preferably 0.5 to 3.0 μm. When the thickness of the smooth surface hard layer on the range, the modal pitch P 1 is an appropriate range, it is possible to increase the light diffusion property.
The thickness of the surface smooth hard layer may be continuously changed. When the thickness of the surface smooth hard layer is continuously changing, the pitch and height of the protrusions 11a of the first uneven pattern 11 formed after compression, that is, after the heat shrinking step, are continuous. To change.

上述の樹脂M、及び樹脂Nで構成された表面平滑硬質層を、加熱収縮性樹脂フィルムの表面に積層させる方法としては、樹脂Mおよび樹脂Nを含む硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに連続的に塗工し、乾燥する方法が挙げられる。   As a method of laminating the surface smooth hard layer composed of the above-described resin M and resin N on the surface of the heat-shrinkable resin film, a heat-shrinkable resin film is used as a hard layer-forming coating material containing resin M and resin N. And a method of coating and drying continuously.

前記硬質層形成用塗料の調製方法としては、トルエン溶媒により希釈する方法等が挙げられる。また、前記硬質層形成用塗料の固形分濃度(樹脂Mと樹脂Nの濃度)は、塗料の総質量に対して、1〜15質量%であることが好ましく、5〜10質量%であることがより好ましい。   Examples of the method for preparing the hard layer forming paint include a method of diluting with a toluene solvent. Moreover, it is preferable that the solid content density | concentration (resin M and resin N density | concentration) of the said hard layer formation coating material is 1-15 mass% with respect to the total mass of a coating material, and it is 5-10 mass%. Is more preferable.

塗料の塗工方法としては、例えば、エアナイフコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、メイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、キャストコーティング、カーテンコーティング、ダイスロットコーティング、ゲートロールコーティング、サイズプレスコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等が挙げられる。   Examples of paint coating methods include air knife coating, roll coating, blade coating, Mayer bar coating, gravure coating, spray coating, cast coating, curtain coating, die slot coating, gate roll coating, size press coating, spin coating, Examples include dip coating.

乾燥方法としては、熱風、赤外線等を用いた加熱乾燥法が挙げられる。
加熱収縮性樹脂フィルムへの樹脂溶液の乾燥塗工量は、1〜10g/mにすることが好ましい。樹脂溶液の乾燥塗工量が1〜10g/mであれば、表面平滑硬質層の厚みを上述の好ましい範囲とすることができ、前記表面平滑硬質層に凹凸パターン10が形成されやすいため好ましい。
Examples of the drying method include a heat drying method using hot air, infrared rays, or the like.
The dry coating amount of the resin solution on the heat-shrinkable resin film is preferably 1 to 10 g / m 2 . If the dry coating amount of the resin solution is 1 to 10 g / m 2 , it is preferable because the thickness of the surface smooth hard layer can be within the above-mentioned preferable range, and the uneven pattern 10 is easily formed on the surface smooth hard layer. .

[加熱収縮工程]
加熱収縮工程は、上記積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、前記表面平滑硬質層を折り畳むように変形させて、加熱収縮性樹脂フィルムの表面に凹凸パターン10を形成する工程である。
[Heat shrinkage process]
In the heat-shrinking step, the laminated film is heated to shrink the heat-shrinkable resin film, thereby deforming the surface smooth hard layer so as to be folded, thereby forming the uneven pattern 10 on the surface of the heat-shrinkable resin film. It is a process.

加熱収縮工程では、40%以上の収縮率で積層フィルムを収縮させることが好ましい。収縮率が40%以上であれば、収縮不足の部分、すなわち、凹凸パターン10が形成されない、または形成されたとしても突条のアスペクト比が十分に大きくない部分を小さくすることができる。一方、収縮率を大きくしすぎると、得られる異方性光拡散シート1の面積が小さくなり、歩留まりが低くなるため、収縮率の上限は80%が好ましい。   In the heat shrinking step, the laminated film is preferably shrunk at a shrinkage rate of 40% or more. If the shrinkage rate is 40% or more, the portion where shrinkage is insufficient, that is, the portion where the uneven pattern 10 is not formed or the aspect ratio of the protrusions is not sufficiently large even if formed can be reduced. On the other hand, if the shrinkage rate is too large, the area of the anisotropic light diffusing sheet 1 to be obtained becomes small and the yield decreases, so the upper limit of the shrinkage rate is preferably 80%.

積層フィルムを加熱する方法としては、熱風、蒸気、熱水または遠赤外線中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱風に通す方法が好ましい。   Examples of the method of heating the laminated film include a method of passing it through hot air, steam, hot water, or far-infrared rays. Among them, a method of passing through hot air is preferable because it can be uniformly contracted.

加熱収縮性樹脂フィルムを熱収縮させる際の加熱温度は、使用する加熱収縮性樹脂フィルムの種類、目的とする第1の凹凸パターン11の最頻ピッチP、アスペクト比Aおよび配向度C、目的とする第2の凹凸パターン12の最頻ピッチPおよび配向度Cに応じて適宜選択することが好ましい。 The heating temperature at which the heat-shrinkable resin film is thermally shrunk includes the kind of heat-shrinkable resin film to be used, the most frequent pitch P 1 of the intended first concavo-convex pattern 11, the aspect ratio A 1, and the degree of orientation C 1. It is preferable to select appropriately according to the most frequent pitch P 2 and the degree of orientation C 2 of the target second uneven pattern 12.

また、加熱収縮温度は、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Lのガラス転移温度Tg以上の温度にすることが好ましい。Tg以上の温度で熱収縮させると、第1の凹凸パターン11を容易に形成できる。 Further, the heat shrinkage temperature is preferably set to a temperature equal to or higher than the glass transition temperature Tg 1 of the resin L constituting the heat shrinkable resin film. When the thermal contraction is performed at a temperature of Tg 1 or more, the first uneven pattern 11 can be easily formed.

また、樹脂Mのガラス転移温度Tg2Mが樹脂Nのガラス転移温度Tg2Nよりも高い場合には、加熱収縮温度は、(樹脂Mのガラス転移温度Tg2M+15℃)未満であることが好ましい。 When the glass transition temperature Tg 2M of the resin M is higher than the glass transition temperature Tg 2N of the resin N, the heat shrinkage temperature is preferably less than (glass transition temperature Tg 2M + 15 ° C. of the resin M).

すなわち、本発明の1つの態様において、加熱収縮工程は、前記工程で得られた積層フィルムを、80〜180℃、より好ましくは120〜170℃の熱風の中を通過させることにより、加熱樹脂収縮性フィルムと表面平滑硬質層を変形させて、凹凸パターン10が表面平滑硬質層の表面に形成されたシートを得る工程であることが好ましい。積層フィルムを熱風で加熱する時間は、1〜3分間であることが好ましく、1〜2分間であることがより好ましい。また、熱風の風速としては、1〜10m/sであること好ましく、2〜5m/sであることがより好ましい。 That is, in one aspect of the present invention, the heat shrinking step is performed by causing the laminated film obtained in the step to pass through hot air at 80 to 180 ° C., more preferably 120 to 170 ° C. It is preferable that it is a process of obtaining the sheet | seat in which the uneven | corrugated pattern 10 was formed in the surface of a surface smooth hard layer by deforming a property film and a surface smooth hard layer. The time for heating the laminated film with hot air is preferably 1 to 3 minutes, and more preferably 1 to 2 minutes. Moreover, as a wind speed of a hot air, it is preferable that it is 1-10 m / s, and it is more preferable that it is 2-5 m / s.

[凹凸パターン特性の調整]
上記製造方法の条件を調整することによって、Y方向およびX方向の1/10値角度、第1の凹凸パターン11の最頻ピッチP、突条部11aのアスペクト比A、および配向度C、第2の凹凸パターン12の最頻ピッチP、突条部12aのアスペクト比A、および配向度C、第1の凹凸パターン11の配向方向と第2の凹凸パターン12の配向方向の差を調整することができる。
[Adjustment of uneven pattern characteristics]
By adjusting the conditions of the above manufacturing method, the 1/10 value angle in the Y direction and the X direction, the most frequent pitch P 1 of the first concavo-convex pattern 11, the aspect ratio A 1 of the protrusion 11a, and the degree of orientation C 1 , the most frequent pitch P 2 of the second concavo-convex pattern 12, the aspect ratio A 2 of the protrusion 12 a, and the orientation degree C 2 , the orientation direction of the first concavo-convex pattern 11 and the orientation direction of the second concavo-convex pattern 12 The difference between can be adjusted.

1/10値角度を調整するためには、主たる拡散方向であるY方向については、加熱収縮工程において、積層フィルムのY方向の収縮率を40%〜60%に調整することで、Y方向の1/10値角度を80°を超える角度に調整することができる。またX方向については、X方向の収縮方向と反対方向に適度な張力を作用させながら加熱収縮を行えばよい。前記X方向の適度な張力により、X方向の収縮率を0.5〜10%、望ましくは1〜5%に調整することで、1/10値角度を5°〜15°に調整することができる。   In order to adjust the 1/10 value angle, with respect to the Y direction which is the main diffusion direction, in the heat shrinking step, the shrinkage rate in the Y direction of the laminated film is adjusted to 40% to 60%. The 1/10 value angle can be adjusted to an angle exceeding 80 °. In the X direction, heat shrinkage may be performed while applying an appropriate tension in a direction opposite to the shrinkage direction in the X direction. By adjusting the shrinkage rate in the X direction to 0.5 to 10%, preferably 1 to 5% by the appropriate tension in the X direction, the 1/10 value angle can be adjusted to 5 ° to 15 °. it can.

最頻ピッチPを調整するためには、ガラス転移温度が高い樹脂Mと低い樹脂Nの配合比率を変更すればよい。樹脂Mの配合比率が高い程、最頻ピッチPは、大きくなる傾向がある。すなわち、樹脂Mと樹脂Nの配合比率が、1:1〜1:3であれば、第1の凹凸パターン11の最頻ピッチPを、3〜20μmの範囲に調整することができる。 To adjust the modal pitch P 1 may be determined as the mixing ratio of the glass transition temperature is high resin M and low resin N. As the blending ratio of the resin M is higher, the most frequent pitch P 1 tends to increase. That is, if the blending ratio of the resin M and the resin N is 1: 1 to 1: 3, the most frequent pitch P1 of the first uneven pattern 11 can be adjusted to a range of 3 to 20 μm.

突条部11aのアスペクト比Aを上記所定、すなわち、0.2〜1.0の範囲にするためには、ガラス転移温度が高い樹脂Mと低い樹脂Nの配合比率を変更すればよい。樹脂Mの配合比率が高い程、アスペクト比Aは、小さくなる傾向がある。すなわち、樹脂Mと樹脂Nの配合比率が、1:1〜1:3であれば、突条部11aのアスペクト比A1を、0.2〜1.0の範囲に調整することができる。 The aspect ratio A 1 the predetermined protrusions 11a, i.e., to the range of 0.2 to 1.0 may be determined as the mixing ratio of the glass transition temperature is high resin M and low resin N. The higher the mixing ratio of the resin M, the aspect ratio A 1 is tend to be small. That is, if the compounding ratio of the resin M and the resin N is 1: 1 to 1: 3, the aspect ratio A1 of the protruding portion 11a can be adjusted to a range of 0.2 to 1.0.

配向度Cを上記所定、すなわち、0.20〜0.50の範囲にするためには、加熱収縮工程の収縮率を調整すればよい。収縮率が大きい程、配向度Cは、大きくなる傾向がある。すなわち、加熱収縮工程において、積層フィルムの収縮率が40〜60%であれば、配向度Cを0.20〜0.50の範囲に調整することができる。 The orientation degree C 1 the predetermined, i.e., to the range of 0.20 to 0.50 may be adjusted to shrinkage of the heat shrinking process. The degree of orientation C 1 tends to increase as the shrinkage rate increases. That is, in the heat shrinkage process shrinkage of the laminated film is equal 40% to 60%, it is possible to adjust the degree of orientation C 1 in the range of 0.20 to 0.50.

最頻ピッチPを調整するためには、ガラス転移温度が高い樹脂Mと低い樹脂Nの配合比率を変更すればよい。樹脂Mの配合比率が高い程、最頻ピッチPは、大きくなる傾向がある。すなわち、樹脂Mと樹脂Nの配合比率が、1:1〜1:3であれば、第2の凹凸パターン12の最頻ピッチPを、0.3〜2.0μmの範囲に調整することができる。 To adjust the modal pitch P 2 may be determined as the mixing ratio of the glass transition temperature is high resin M and low resin N. The higher the mixing ratio of the resin M, modal pitch P 2 tends to increase. That is, if the mixing ratio of the resin M and the resin N is 1: 1 to 1: 3, the most frequent pitch P2 of the second uneven pattern 12 is adjusted to a range of 0.3 to 2.0 μm. Can do.

突条部12aのアスペクト比Aを上記所定、すなわち、0.25〜0.35の範囲にするためには、加熱収縮工程の収縮率を調整すればよい。また、樹脂Mの配合比率が高い程、アスペクト比Aは、大きくなる傾向がある。すなわち、樹脂Mと樹脂Nの配合比率が、1:1〜1:3であれば、突条部12aのアスペクト比Aを、0.25〜0.35の範囲に調整することができる。また、加熱収縮工程において、積層フィルムの収縮率が40〜60%であれば、突条部12aのアスペクト比Aを、0.25〜0.35の範囲に調整することができる。 The aspect ratio A 2 protrusions 12a above a predetermined, i.e., to the range of 0.25 to 0.35 may be adjusted to shrinkage of the heat shrinking process. Also, the higher the mixing ratio of the resin M, the aspect ratio A 2 tends to increase. That is, the mixing ratio of the resin M and resin N is 1: 1 to 1: if 3, the aspect ratio A 2 protrusions 12a, can be adjusted in a range of 0.25 to 0.35. Further, in the heat shrinkage step, if the shrinkage ratio 40% to 60% of the laminated film, the aspect ratio A 2 protrusions 12a, can be adjusted in a range of 0.25 to 0.35.

配向度Cを上記所定の範囲、すなわち、0.20〜0.50にするためには、加熱収縮工程の収縮率を一定の範囲に調整すればよい。収縮率が大きい程、配向度Cは、大きくなる傾向がある。すなわち、加熱収縮工程において、積層フィルムの収縮率が40〜60%であれば、配向度Cを0.20〜0.50の範囲に調整することができる。 Range orientation degree C 2 of the predetermined, i.e., in order to 0.20 to 0.50, the shrinkage of the heat shrinking step may be adjusted within a certain range. The degree of orientation C 2 tends to increase as the shrinkage rate increases. That is, in the heat shrinkage process, shrinkage of the laminated film is equal 40% to 60%, it is possible to adjust the degree of orientation C 2 in the range of 0.20 to 0.50.

第1の凹凸パターン11の配向方向と第2の凹凸パターン12の配向方向の差を調整するためには、樹脂Mと樹脂Nの配合比率を調整した上で、加熱収縮工程の収縮率を調整すればよい。樹脂Mの配合比率が高い程、収縮率が大きい程、配向方向の差は、大きくなる傾向がある。すなわち、樹脂Mと樹脂Nの配合比率が、1:1〜1:3であり、加熱収縮工程における積層フィルムの収縮率が、40〜60%であれば、第1の凹凸パターン11の配向方向と第2の凹凸パターン12の配向方向の差を5°以内とすることができる。   In order to adjust the difference between the orientation direction of the first concavo-convex pattern 11 and the orientation direction of the second concavo-convex pattern 12, the shrinkage rate of the heat shrinking process is adjusted after adjusting the blending ratio of the resin M and the resin N. do it. The difference in the orientation direction tends to increase as the blending ratio of the resin M increases and the shrinkage rate increases. That is, if the blending ratio of the resin M and the resin N is 1: 1 to 1: 3 and the shrinkage rate of the laminated film in the heat shrinking process is 40 to 60%, the orientation direction of the first uneven pattern 11 And the difference in the orientation direction of the second concavo-convex pattern 12 can be within 5 °.

[他の製造方法]
上記の製造方法は、表面平滑硬質層が2種の樹脂から構成されたが、これに限定されるものではない。
また、異方性光拡散シートは、上記製造方法により得たものを原版シートとして用い、以下に示すような方法で他の素材に転写させることにより、製造することもできる。
原版シートには、異方性光拡散シート1を支持するための樹脂製または金属製の支持体が取り付けられてもよい。
[Other manufacturing methods]
In the above manufacturing method, the surface smooth hard layer is composed of two kinds of resins, but is not limited thereto.
The anisotropic light diffusing sheet can also be produced by using the one obtained by the above production method as an original sheet and transferring it to another material by the following method.
A resin or metal support for supporting the anisotropic light diffusion sheet 1 may be attached to the original sheet.

原版シートを用いて、新たな異方性光拡散シートを製造する具体的な方法としては、例えば、下記(a)〜(c)の方法が挙げられる。
(a)原版シートの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工する工程と、活性エネルギー線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を原版シートから剥離する工程とを有する方法。ここで、活性エネルギー線とは、通常、紫外線または電子線のことであるが、本発明では、可視光線、X線、イオン線等も含む。
Specific methods for producing a new anisotropic light diffusion sheet using the original sheet include, for example, the following methods (a) to (c).
(A) A step of applying an uncured active energy ray-curable resin to the surface of the original sheet on which the concavo-convex pattern is formed, and curing the curable resin by irradiating the active energy ray to cure the curable resin. And a step of peeling the coating film from the original sheet. Here, the active energy ray is usually an ultraviolet ray or an electron beam, but in the present invention, it includes a visible ray, an X-ray, an ion ray and the like.

(b)原版シートの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、前記液状熱硬化性樹脂を加熱して硬化させた後、硬化した塗膜を原版シートから剥離する工程とを有する方法。 (B) A step of applying an uncured liquid thermosetting resin to the surface of the original sheet on which the concavo-convex pattern is formed; and heating and curing the liquid thermosetting resin; And a step of peeling from the original sheet.

(c)原版シートの凹凸パターンが形成された面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、前記シート状の熱可塑性樹脂を原版シートに押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の熱可塑性樹脂を原版シートから剥離する工程とを有する方法。 (C) A step of bringing a sheet-like thermoplastic resin into contact with the surface of the original sheet on which the concave / convex pattern is formed, and the sheet-like thermoplastic resin is heated and softened while being pressed against the original sheet, and then cooled. And a step of peeling the cooled sheet-like thermoplastic resin from the original sheet.

また、原版シートを用いて2次工程用成形物を作製し、その2次工程用成形物を用いて、新たな異方性光拡散シートを製造することもできる。2次工程用成形物としては、例えば、2次工程シートが挙げられる。また、2次工程用成形物としては、原版シートを丸めて円筒の内側に貼り付け、その円筒の内側にロールを挿入した状態でめっきし、円筒からロールを取り出して得ためっきロールが挙げられる。
2次工程用成形物を用いる具体的な方法としては、下記(d)〜(f)の方法が挙げられる。
In addition, a molded article for the secondary process can be produced using the original sheet, and a new anisotropic light diffusion sheet can be produced using the molded article for the secondary process. Examples of the molded product for the secondary process include a secondary process sheet. In addition, as the molded product for the secondary process, there is a plating roll obtained by rolling the original sheet and attaching it to the inside of the cylinder, plating with the roll inserted inside the cylinder, and taking out the roll from the cylinder. .
Specific methods using the molded product for the secondary process include the following methods (d) to (f).

(d)原版シートの凹凸パターンが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層(凹凸パターン転写用材料)を積層する工程と、そのめっき層を原版シートから剥離して、金属製の2次工程用成形物を作製する工程と、次いで、2次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工する工程と、活性エネルギー線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を2次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。 (D) A step of performing metal plating such as nickel on the surface of the original sheet on which the concave / convex pattern is formed and laminating a plating layer (material for transferring the concave / convex pattern), and peeling the plating layer from the original sheet, A step of producing a molded product for a secondary process made of metal, and a step of applying an uncured active energy ray-curable resin to the surface on the side in contact with the concave-convex pattern of the molded product for the secondary process; And a step of irradiating active energy rays to cure the curable resin and then peeling the cured coating film from the molded product for the secondary process.

(e)原版シートの凹凸パターンが形成された面に、めっき層(凹凸パターン転写用材料)を積層する工程と、そのめっき層を原版シートから剥離して、金属製の2次工程用成形物を作製する工程と、前記2次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱により該樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜を2次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。 (E) A step of laminating a plating layer (a material for transferring a concavo-convex pattern) on the surface of the original sheet on which the concavo-convex pattern is formed, and a metal molded product for a secondary process by peeling the plating layer from the original sheet. And a step of applying an uncured liquid thermosetting resin to the surface that was in contact with the concave-convex pattern of the molded product for the secondary process, and after curing the resin by heating, And a step of peeling the cured coating film from the molded product for the secondary process.

(f)原版シートの凹凸パターンが形成された面に、めっき層(凹凸パターン転写用材料)を積層する工程と、そのめっき層を原版シートから剥離して、金属製の2次工程用成形物を作製する工程と、前記2次工程用成形物の凹凸パターンと接していた側の面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、前記シート状の熱可塑性樹脂を2次工程用成形物に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の熱可塑性樹脂を2次工程用成形物から剥離する工程とを有する方法。 (F) A step of laminating a plating layer (a material for transferring the concavo-convex pattern) on the surface of the original sheet on which the concavo-convex pattern is formed, and peeling the plating layer from the original sheet to form a metal secondary process molded product. A step of bringing the sheet-like thermoplastic resin into contact with the surface on the side in contact with the concave-convex pattern of the molded article for the secondary process, and molding the sheet-like thermoplastic resin for the secondary process A method comprising a step of heating and softening while pressing against an object and then cooling, and a step of peeling the cooled sheet-like thermoplastic resin from the molded product for the secondary process.

(a)の方法の具体例について説明する。まず、ウェブ状の原版シートの凹凸パターンが形成された面に、コーターにより未硬化の液状活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工する。次いで、前記硬化性樹脂を塗工した原版シートを、ロールを通すことにより押圧して、前記硬化性樹脂を原版シートの凹凸パターン内部に充填する。その後、活性エネルギー線照射装置により活性エネルギー線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、硬化後の活性エネルギー線硬化性樹脂を原版シートから剥離させることにより、ウェブ状の異方性光拡散シートを製造することができる。   A specific example of the method (a) will be described. First, an uncured liquid active energy ray-curable resin is applied to the surface of the web-shaped original sheet on which the concavo-convex pattern is formed by a coater. Next, the original sheet coated with the curable resin is pressed by passing it through a roll, and the curable resin is filled into the concave-convex pattern of the original sheet. Then, an active energy ray is irradiated with an active energy ray irradiation apparatus, and curable resin is bridge | crosslinked and hardened. And a web-like anisotropic light-diffusion sheet can be manufactured by peeling the active energy ray-curable resin after hardening from an original sheet.

(a)の方法において、原版シートの凹凸パターンが形成された面には、離型性を付与する目的で、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂塗工前に、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等からなる層を1〜10nm程度の厚さで設けてもよい。
原版シートの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工するコーターとしては、Tダイコーター、ロールコーター、バーコーター等が挙げられる。
In the method (a), the surface of the original sheet on which the concavo-convex pattern is formed is formed from a silicone resin, a fluororesin or the like before application of an uncured active energy ray-curable resin for the purpose of imparting releasability. The layer to be formed may be provided with a thickness of about 1 to 10 nm.
Examples of the coater that coats an uncured active energy ray-curable resin on the surface of the original sheet on which the uneven pattern is formed include a T-die coater, a roll coater, and a bar coater.

未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル/アクリレート、ポリエン/アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる1種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。 Uncured active energy ray-curable resins include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl / acrylate, polyene / acrylate, silicon acrylate, polybutadiene, and polystyrylmethyl. 1 selected from monomers such as prepolymers such as methacrylate, aliphatic acrylate, alicyclic acrylate, aromatic acrylate, hydroxyl group-containing acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxy group-containing acrylate, halogen-containing acrylate The thing containing the component more than a kind is mentioned. The uncured active energy ray-curable resin is preferably diluted with a solvent or the like.

また、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂を紫外線により硬化する場合には、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
Moreover, you may add a fluororesin, a silicone resin, etc. to uncured active energy ray hardening resin.
When the uncured active energy ray-curable resin is cured with ultraviolet rays, it is preferable to add a photopolymerization initiator such as acetophenones and benzophenones to the uncured active energy ray-curable resin.

未硬化の液状活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工した後には、樹脂、ガラス等からなる基材を貼り合わせてから活性エネルギー線を照射してもよい。活性エネルギー線の照射は、基材、原版シートの活性エネルギー線透過性を有するいずれか一方から行えばよい。   After the uncured liquid active energy ray-curable resin is applied, the active energy rays may be irradiated after a substrate made of resin, glass or the like is bonded. Irradiation of active energy rays may be performed from either one of the base material and the original sheet having active energy ray permeability.

硬化後の活性エネルギー線硬化性樹脂のシートの厚みは0.1〜100μm程度とすることが好ましい。硬化後の活性エネルギー線硬化性樹脂のシートの厚みが0.1μm以上であれば、充分な強度を確保でき、100μm以上であれば、充分な可撓性を確保できる。   The thickness of the cured active energy ray-curable resin sheet is preferably about 0.1 to 100 μm. If the thickness of the cured active energy ray-curable resin sheet is 0.1 μm or more, sufficient strength can be secured, and if it is 100 μm or more, sufficient flexibility can be secured.

上記に示す方法では、原版シートがウェブ状であったが、枚葉のシートであってもよい。ここで「枚葉」とは、印刷用紙の枚葉紙に準じ、一定寸法に裁断されたシートのことを意味する。   In the method shown above, the original sheet is web-shaped, but it may be a sheet. Here, “sheet” means a sheet cut into a certain size according to a sheet of printing paper.

枚葉のシートを用いる場合、枚葉のシートを平板状の型として使用するスタンプ法、枚葉のシートをロールに巻きつけて円筒状の型として使用するロールインプリント法等を適用できる。また、射出成形機の型の内側に枚葉の原版シートを配置させてもよい。   In the case of using a single sheet, a stamp method using a single sheet as a flat plate mold, a roll imprint method using a single sheet wound around a roll as a cylindrical mold, and the like can be applied. Moreover, you may arrange | position the sheet | seat original plate sheet inside the type | mold of an injection molding machine.

しかし、これら枚葉のシートを用いる方法において、異方性光拡散シートを大量生産するためには、凹凸パターンを形成する工程を多数回繰り返す必要がある。活性エネルギー線硬化性樹脂と原版シートとの離型性が低い場合には、多数回繰り返した際に凹凸パターンに目詰まりが生じ、凹凸パターンの転写が不完全になる傾向にある。   However, in the method using these single sheets, in order to mass-produce the anisotropic light diffusing sheet, it is necessary to repeat the process of forming the uneven pattern many times. When the releasability between the active energy ray-curable resin and the original sheet is low, clogging of the concavo-convex pattern occurs when repeated many times, and the transfer of the concavo-convex pattern tends to be incomplete.

これに対し、上記に示す方法(a)では、原版シートがウェブ状であるため、大面積で連続的に凹凸パターンを形成させることができる。そのため、異方性光拡散シートの繰り返し使用回数が少なくても、必要な量の異方性光拡散シートを短時間に製造できる。   On the other hand, in the method (a) shown above, since the original sheet is web-like, a concave / convex pattern can be continuously formed in a large area. Therefore, even if the number of times the anisotropic light diffusing sheet is repeatedly used is small, a necessary amount of the anisotropic light diffusing sheet can be produced in a short time.

(b)、(e)の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化の、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、(b)の方法における硬化温度は、原版シートのガラス転移温度より低いことが好ましい。硬化温度が原版シートのガラス転移温度以上であると、硬化時に原版シートの凹凸パターンが変形するおそれがあるからである。
In the methods (b) and (e), examples of the liquid thermosetting resin include uncured melamine resin, urethane resin, and epoxy resin.
The curing temperature in the method (b) is preferably lower than the glass transition temperature of the original sheet. This is because if the curing temperature is equal to or higher than the glass transition temperature of the original sheet, the concavo-convex pattern of the original sheet may be deformed during curing.

(c)、(f)の方法において、熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等が挙げられる。
シート状の熱可塑性樹脂を2次工程用成形物に押圧する際の圧力は1〜100MPaであることが好ましい。押圧時の圧力が1MPa以上であれば、凹凸パターン10を高い精度で転写させることができ、100MPa以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
In the methods (c) and (f), examples of the thermoplastic resin include acrylic resin, polyolefin, polyester, and the like.
The pressure when pressing the sheet-like thermoplastic resin against the molded product for the secondary process is preferably 1 to 100 MPa. If the pressure at the time of pressing is 1 MPa or more, the concavo-convex pattern 10 can be transferred with high accuracy, and if it is 100 MPa or less, excessive pressurization can be prevented.

また、(c)の方法における熱可塑性樹脂の加熱温度は、原版シートのガラス転移温度より低いことが好ましい。加熱温度が原版シートのガラス転移温度以上であると、加熱時に原版シートの凹凸パターン10が変形するおそれがあるからである。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターン10を高い精度で転写させることができることから、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
Moreover, it is preferable that the heating temperature of the thermoplastic resin in the method (c) is lower than the glass transition temperature of the original sheet. This is because if the heating temperature is equal to or higher than the glass transition temperature of the original sheet, the uneven pattern 10 of the original sheet may be deformed during heating.
The cooling temperature after heating is preferably less than the glass transition temperature of the thermoplastic resin because the uneven pattern 10 can be transferred with high accuracy.

(a)〜(c)の方法の中でも、加熱を省略でき、原版シートの凹凸パターンの変形を防止できる点で、活性エネルギー線硬化性樹脂を使用する(a)の方法が好ましい。   Among the methods (a) to (c), the method (a) using an active energy ray-curable resin is preferable in that heating can be omitted and deformation of the uneven pattern of the original sheet can be prevented.

(d)〜(f)の方法においては、金属製の2次工程用成形物の厚さを50〜500μm程度とすることが好ましい。金属製の2次工程用成形物の厚さが50μm以上であれば、2次工程用成形物が充分な強度を有し、500μm以下であれば、充分な可撓性を確保できる。
(d)〜(f)の方法では、熱による変形が小さい金属製シートを原版シートとして用いるため、異方性光拡散シート用の材料として、活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用できる。
In the methods (d) to (f), it is preferable that the thickness of the metallic secondary process molded product is about 50 to 500 μm. If the thickness of the metal secondary process molded product is 50 μm or more, the secondary process molded product has sufficient strength, and if it is 500 μm or less, sufficient flexibility can be secured.
In the methods (d) to (f), a metal sheet that is small in deformation due to heat is used as an original sheet, so that an active energy ray curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin is used as a material for an anisotropic light diffusion sheet. Either of these can be used.

なお、(d)〜(f)では原版シートの凹凸パターンを金属に転写させて2次工程用成形物を得たが、樹脂に転写させて2次工程用成形物を得てもよい。その場合に使用できる樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、(a)の方法で使用する活性エネルギー線硬化性樹脂などが挙げられる。活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合には、(a)の方法と同様に、活性エネルギー線硬化性樹脂の塗工、硬化、剥離を順次行って、2次工程用成形物を得る。   In addition, in (d)-(f), the uneven | corrugated pattern of the original plate sheet was transcribe | transferred to the metal, and the molding for secondary processes was obtained, However, you may transcribe | transfer to resin and may obtain the molding for secondary processes. Examples of the resin that can be used in this case include polycarbonate, polyacetal, polysulfone, and an active energy ray-curable resin used in the method (a). When the active energy ray-curable resin is used, the active energy ray-curable resin is sequentially applied, cured, and peeled in the same manner as in the method (a) to obtain a molded product for the secondary process.

また、上記の方法で製造された2次工程用成型物を原版として、さらに上記(d)〜(f)と同様の2次工程用成型物製造工程を1回以上繰り返して2次工程用成型物を複製し、得られた複製物を2次工程用成型物として上記(d)〜(f)と同様の方法で異方性拡散シートを製造することもできる。 In addition, using the molded product for the secondary process produced by the above method as the original plate, the molding process for the secondary process similar to the above (d) to (f) is repeated one or more times to mold the secondary process. An anisotropic diffusion sheet can also be manufactured by the method similar to said (d)-(f) by duplicating a thing and using the obtained duplicate as a molding for a secondary process.

(異方性光拡散シートの使用方法)
本発明の異方性光拡散シートの使用方法について説明する。図12はLED光源が線状に1列配列された照明に集光レンズおよび本発明の異方性光拡散シートを配置した場合の光の広がりを示す概念図である。図12−AはLED光源の配列方向が左右方向になる位置から見た場合の光の広がしを示しており、図12−BはLEDの配列方向が紙面手前−奥方向になる位置から見た場合の光の広がりを示している。
(How to use anisotropic light diffusion sheet)
The usage method of the anisotropic light-diffusion sheet of this invention is demonstrated. FIG. 12 is a conceptual diagram showing the spread of light when the condensing lens and the anisotropic light diffusion sheet of the present invention are arranged in illumination in which LED light sources are arranged in a line in a line. FIG. 12-A shows the spread of light when viewed from the position where the LED light source arrangement direction is the left-right direction, and FIG. 12-B is the position where the LED arrangement direction is the front-back direction of the page. It shows the spread of light when viewed.

LED光源13より出射した光は集光レンズ14により、照射角が狭められた略平行光に変換される。異方性光拡散シート1を、Y方向(第1の凹凸パターンの配向方向とほぼ同方向)とLED光源の配列方向が略一致するように集光レンズ上に配置し(図12参照)、前記略平行光を異方性光拡散シート1の第1および第2の凹凸パターンを有する面から入射させ、第1および第2の凹凸パターンのない面から出射させると、光は15のように異方性光拡散シート1がない場合(図12の点線)に比べて、Y方向にはかなり広く、また、X方向にも多少広く拡散する(図12の実線)。 Light emitted from the LED light source 13 is converted by the condenser lens 14 into substantially parallel light whose irradiation angle is narrowed. The anisotropic light diffusing sheet 1 is disposed on the condenser lens so that the Y direction (substantially the same direction as the first concavo-convex pattern orientation direction) and the arrangement direction of the LED light sources are substantially coincident (see FIG. 12). When the parallel light is incident from the surface having the first and second uneven patterns of the anisotropic light diffusion sheet 1 and is emitted from the surface without the first and second uneven patterns, the light is an anisotropic light diffusion sheet as 15. Compared to the case where there is no 1 (dotted line in FIG. 12), the diffusion is considerably wider in the Y direction and somewhat wider in the X direction (solid line in FIG. 12).

上記のような異方性光拡散特性を付与することで、検査機、スキャナーおよび道路照明等のように光をライン状から楕円状に拡散させたい用途に対して、不要な方向(この場合はX方向)への光の拡散によるロスを低減し、光を効率よく(照度を低下させずに)照射することが可能となる。
また、異方性光拡散シートに照射される光のフレネル反射を抑えるために、前記略平行光の照射軸と前記異方性光拡散シートの面のなす角度が60°〜90°の範囲となるようにLED光源、集光レンズおよび異方性光拡散シートを配置することが望ましい。
By applying the anisotropic light diffusion characteristics as described above, unnecessary directions (in this case, the X direction) are used for applications such as inspection machines, scanners, and road lighting where it is desired to diffuse light from lines to ellipses. ) To reduce the loss due to the diffusion of the light, and to efficiently irradiate the light (without reducing the illuminance).
Further, in order to suppress Fresnel reflection of light irradiated to the anisotropic light diffusion sheet, the LED is formed so that an angle formed by the irradiation axis of the substantially parallel light and the surface of the anisotropic light diffusion sheet is in a range of 60 ° to 90 °. It is desirable to arrange a light source, a condenser lens and an anisotropic light diffusion sheet.

次に、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these.

(実施例1)
ガラス転移温度128℃のアクリル樹脂(樹脂N)とガラス転移温度139℃のアクリル樹脂(樹脂M)を質量比1:1で混合し、トルエンに希釈して、硬質層形成用塗料(固形分濃度8質量%)を得た。この塗料を、主に一軸方向に収縮する加熱収縮性樹脂フィルム(ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、製品名SC807、東洋紡績社製、厚さ30μm)の片面に、バーコーターにより、乾燥後の厚さが2μmになるように塗工した。次いで、乾燥させることにより、表面平滑硬質層を形成して積層シートを得た。
(Example 1)
Acrylic resin (resin N) having a glass transition temperature of 128 ° C. and an acrylic resin (resin M) having a glass transition temperature of 139 ° C. are mixed at a mass ratio of 1: 1, diluted in toluene, and hard layer forming paint (solid content concentration). 8% by mass) was obtained. This coating is dried on a single side of a heat-shrinkable resin film (polyethylene terephthalate-based shrink film, product name SC807, manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 30 μm) that shrinks mainly in a uniaxial direction. Coating was carried out to 2 μm. Next, by drying, a surface smooth hard layer was formed to obtain a laminated sheet.

次いで、前記積層シートの主たる収縮方向に張力が掛かるように前記積層シートの両端をクランプで固定した。さらに、前記積層シートの主たる収縮方向と直交する方向にも張力が掛かるように、前記積層シートの主たる収縮方向と直交する方向の両端を、主たる収縮方向に沿って線状に並び同方向に移動可能な複数個のクリップで固定した。前記積層シートを170℃で1分間加熱すると共に、加熱後の積層シートの1軸収縮方向(=Y方向)の長さが、加熱前の積層シートの主たる収縮方向の長さの43%(すなわち、収縮率57%)となるように、また、X方向の長さが、加熱前の積層シートの97%(すなわち、収縮率3%)となるように、積層シートに掛かる張力を調整した。   Next, both ends of the laminated sheet were fixed with clamps so that tension was applied in the main shrinking direction of the laminated sheet. Furthermore, both ends of the direction orthogonal to the main shrinkage direction of the laminated sheet are arranged linearly along the main shrinkage direction and moved in the same direction so that tension is also applied in the direction orthogonal to the main shrinkage direction of the laminated sheet. Fixed with multiple possible clips. The laminated sheet is heated at 170 ° C. for 1 minute, and the length in the uniaxial shrinkage direction (= Y direction) of the laminated sheet after heating is 43% of the length in the main shrinking direction of the laminated sheet before heating (that is, The tension applied to the laminated sheet was adjusted such that the length in the X direction was 97% of the laminated sheet before heating (ie, the shrinkage was 3%).

これにより、表面平滑硬質層の表面に、複数の突条が収縮方向(Y方向)に沿って配列することにより形成された第1の凹凸パターンと、第1の凹凸パターンの表面に、複数の突条が前記Y方向に沿って配列することによって形成された第2の凹凸パターンとを含む凹凸パターンを形成して、異方性光拡散シートを得た。   Thereby, on the surface of the surface smooth hard layer, a plurality of protrusions are arranged along the contraction direction (Y direction), and a plurality of protrusions are formed on the surface of the first uneven pattern. A concavo-convex pattern including the second concavo-convex pattern formed by arranging the protrusions along the Y direction was formed to obtain an anisotropic light diffusion sheet.

上記の方法にて得られた異方性光拡散シートの凹凸パターン形成面に、離型剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂A(アクリレート系樹脂、総研化学社製)を厚さ20μmとなるように塗布し、その上に透明PET基材(東洋紡株式会社製A4300、厚さ188μm)を押し当て、前記透明PET基材の紫外線硬化性樹脂Aと接触していない側の面から紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂Aを硬化させた後、前記異方性光拡散シートを剥離して異方性光拡散シートの凹凸パターンが反転したパターンを有する1次転写品を得た。   An uncured ultraviolet curable resin A (acrylate resin, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) containing a release agent is formed to have a thickness of 20 μm on the concavo-convex pattern forming surface of the anisotropic light diffusion sheet obtained by the above method. A transparent PET substrate (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness: 188 μm) is pressed thereon and irradiated with ultraviolet rays from the surface of the transparent PET substrate that is not in contact with the ultraviolet curable resin A. After the ultraviolet curable resin A was cured, the anisotropic light diffusion sheet was peeled off to obtain a primary transfer product having a pattern in which the uneven pattern of the anisotropic light diffusion sheet was reversed.

次いで透明PET基材(東洋紡株式会社製A4300、厚さ188μm)の片面に未硬化の紫外線硬化性樹脂B(アクリレート系樹脂、ソニーケミカル社製)を厚さ20μmとなるように塗布し、塗布された紫外線硬化性樹脂Bに対して、1次転写品の反転パターンを有する面を押し当て、前記透明PET基材の紫外線硬化性樹脂Bと接触していない側の面から紫外線を照射して硬化させた。硬化後、1次転写品を剥離して、透明PET基材上に紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる表面層が形成された、異方性光拡散シートと同じ凹凸パターンを有する2次転写品を得た。   Next, an uncured UV curable resin B (acrylate resin, manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.) was applied to one side of a transparent PET substrate (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 188 μm) to a thickness of 20 μm. The surface having the reverse pattern of the primary transfer product is pressed against the ultraviolet curable resin B, and cured by irradiating ultraviolet rays from the surface of the transparent PET base material that is not in contact with the ultraviolet curable resin B. I let you. After curing, the primary transfer product is peeled off to obtain a secondary transfer product having the same uneven pattern as the anisotropic light diffusing sheet in which a surface layer made of a cured product of an ultraviolet curable resin is formed on a transparent PET substrate. It was.

(実施例2)
積層シートのX方向の長さが、加熱前の積層シートの93%(すなわち、収縮率7%)となるように、積層シートに掛かる張力を調整したこと以外は実施例1と同様の操作にて、異方性光拡散シートの2次転写品を得た。
(Example 2)
The same operation as in Example 1 except that the tension applied to the laminated sheet was adjusted so that the length in the X direction of the laminated sheet was 93% of the laminated sheet before heating (that is, the shrinkage rate was 7%). Thus, a secondary transfer product of the anisotropic light diffusion sheet was obtained.

(実施例3)
透明PET基材と紫外線硬化性樹脂Aの代わりに、ニッケル電鋳により異方性光拡散シートの凹凸パターンが反転したパターンを有するニッケル電鋳スタンパを作製し、前記ニッケル電鋳スタンパを一次転写品として使用する以外は実施例1と同様の操作にて、異方性光拡散シートの2次転写品を得た。
(Example 3)
In place of the transparent PET base material and the ultraviolet curable resin A, a nickel electroforming stamper having a pattern in which the uneven pattern of the anisotropic light diffusing sheet is reversed by nickel electroforming is used, and the nickel electroforming stamper is used as a primary transfer product. A secondary transfer product of an anisotropic light diffusion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that.

(比較例1)
硬質層形成用塗料を、ガラス転移温度128℃のアクリル樹脂をトルエンに希釈して得たものに変更した以外は実施例1と同様の操作にて、異方性光拡散シートの2次転写品を得た。
(Comparative Example 1)
A secondary transfer product of the anisotropic light diffusing sheet is obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard layer forming coating material is changed to one obtained by diluting an acrylic resin having a glass transition temperature of 128 ° C. with toluene. It was.

(比較例2)
硬質層形成用塗料を、ガラス転移温度139℃のアクリル樹脂をトルエンに希釈して得たものに変更した以外は実施例1と同様の操作にて、異方性光拡散シートの2次転写品を得た。
(Comparative Example 2)
A secondary transfer product of an anisotropic light diffusing sheet is obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard layer forming coating material is changed to one obtained by diluting an acrylic resin having a glass transition temperature of 139 ° C. with toluene. It was.

(比較例3)
積層シートの加熱温度を150℃に変更し、加熱後の積層シートの1軸収縮方向(=Y方向)の長さが、加熱前の積層シートの主たる収縮方向の長さの65%(すなわち、収縮率35%)となるように、積層シートに掛かる張力を調整したこと以外は実施例1と同様の操作にて、異方性光拡散シートの2次転写品を得た。
(Comparative Example 3)
The heating temperature of the laminated sheet is changed to 150 ° C., and the length in the uniaxial shrinkage direction (= Y direction) of the laminated sheet after heating is 65% of the length in the main shrinking direction of the laminated sheet before heating (that is, A secondary transfer product of the anisotropic light diffusion sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the tension applied to the laminated sheet was adjusted so that the shrinkage rate was 35%.

(比較例4)
積層シートのX方向の長さが、加熱前の積層シートと同一の長さ(すなわち、収縮率0%)となるように、積層シートに掛かる張力を調整したこと以外は実施例1と同様の操作にて、異方性光拡散シートの2次転写品を得た。
(Comparative Example 4)
The same as in Example 1 except that the tension applied to the laminated sheet was adjusted so that the length in the X direction of the laminated sheet was the same length as the laminated sheet before heating (that is, the shrinkage rate was 0%). By operation, a secondary transfer product of the anisotropic light diffusion sheet was obtained.

(比較例5)
積層シートのX方向の長さが、加熱前の積層シートの85%(すなわち、収縮率15%)となるように、積層シートに掛かる張力を調整したこと以外は実施例1と同様の操作にて、異方性光拡散シートの2次転写品を得た。
(Comparative Example 5)
The same operation as in Example 1 except that the tension applied to the laminated sheet was adjusted so that the length in the X direction of the laminated sheet was 85% of the laminated sheet before heating (that is, the shrinkage rate was 15%). Thus, a secondary transfer product of the anisotropic light diffusion sheet was obtained.

<凹凸パターンの表面特性>
実施例1〜3および比較例3〜5の異方性光拡散シートを顕微鏡観察したところ、第1の凹凸パターンの表面に第2の凹凸パターンが形成されていることが確認された。
比較例1および2の異方性光拡散シートを顕微鏡観察したところ、第1凹凸パターンの表面に第2凹凸パターンが形成されていないことが確認された。
<Surface characteristics of uneven pattern>
When the anisotropic light diffusion sheets of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 3 to 5 were observed with a microscope, it was confirmed that the second uneven pattern was formed on the surface of the first uneven pattern.
When the anisotropic light diffusion sheets of Comparative Examples 1 and 2 were observed with a microscope, it was confirmed that the second uneven pattern was not formed on the surface of the first uneven pattern.

また、各例における第1の凹凸パターンの最頻ピッチP、アスペクト比Aおよび配向度C、第2の凹凸パターンの最頻ピッチP、アスペクト比Aおよび配向度C、第1凹凸パターンの配向方向と第2凹凸パターンの配向方向との差(表中では「配向方向の差」と略す。)を、上述の方法により測定した。使用した電子顕微鏡の仕様、及び観察条件は以下の通りである。
電子顕微鏡:日立ハイテクノロジーズ社製S−3600N
分解能:3.0nm(2次電子像)、4.5nm(反射電子像)、
加速電圧:0.5〜30kV、倍率:12〜300,000
観察条件:加速電圧15kV、ワーキングディスタンス10mm
最頻ピッチ、アスペクト比および配向度、及び配向方向の差の測定結果を表1に示す。
In each example, the most frequent pitch P 1 , aspect ratio A 1 and orientation degree C 1 of the first uneven pattern, the most frequent pitch P 2 , aspect ratio A 2 and orientation degree C 2 of the second uneven pattern, The difference between the orientation direction of the first concavo-convex pattern and the orientation direction of the second concavo-convex pattern (abbreviated as “difference in orientation direction” in the table) was measured by the method described above. The specifications of the electron microscope used and the observation conditions are as follows.
Electron microscope: Hitachi High-Technologies S-3600N
Resolution: 3.0 nm (secondary electron image), 4.5 nm (reflected electron image),
Acceleration voltage: 0.5-30 kV, magnification: 12-300,000
Observation conditions: acceleration voltage 15 kV, working distance 10 mm
Table 1 shows the measurement results of the mode pitch, the aspect ratio, the degree of orientation, and the difference in orientation direction.

[最頻ピッチの測定]
上述した方法に沿って、最頻ピッチP及びPを算出した。
[Measurement of the most frequent pitch]
In accordance with the method described above, the most frequent pitches P 1 and P 2 were calculated.

[アスペクト比の測定]
上述した方法に沿って、アスペクト比A及びAを算出した。
[Aspect ratio measurement]
Along the above method was calculated aspect ratio A 1 and A 2.

[配向度の測定]
上述した方法に沿って、配向度C及びCを算出した。
[Measurement of degree of orientation]
The orientation degrees C 1 and C 2 were calculated according to the method described above.

[配向方向の差]
上述した方法に沿って、配向方向の差を算出した。
[Difference in orientation direction]
A difference in orientation direction was calculated along the method described above.

<1/10値角度の測定>
ゴニオメーター(型式:GENESIA Gonio/FFP、ジェネシア社製)を用いて透過散乱光を測定することにより、照度曲線を得た。具体的には、異方性光拡散シートの測定光を第1の凹凸パターンを有する方向から入射させ、第1の凹凸パターンを有する面と反対の面から出射させたときの、垂直に出射する光(この光の出光角度を0°とする。)の照度を1とした際の相対照度を、Y方向に沿って出光角度−90°から90°までの相対照度を1°間隔で測定して、照度曲線を得た。ここで、照度曲線とは、図11に示すような、横軸を出光角度とし、縦軸を相対照度として、プロットとした曲線である。
そして、照度曲線における1/10値角度(図11中のW)を求めた。
1/10値角度の測定結果を表1に示す。
<Measurement of 1/10 value angle>
An illuminance curve was obtained by measuring transmitted scattered light using a goniometer (model: GENESIA Gonio / FFP, manufactured by Genesia). Specifically, when the measurement light of the anisotropic light diffusing sheet is incident from the direction having the first concavo-convex pattern and emitted from the surface opposite to the surface having the first concavo-convex pattern, The relative illuminance when the illuminance of this light is 0 °) is set to 1, and the relative illuminance from the light emission angle of −90 ° to 90 ° along the Y direction is measured at intervals of 1 °. An illuminance curve was obtained. Here, the illuminance curve is a curve plotted as shown in FIG. 11 with the horizontal axis as the light emission angle and the vertical axis as the relative illuminance.
Then, a 1/10 value angle (W 2 in FIG. 11) in the illuminance curve was obtained.
Table 1 shows the measurement results of the 1/10 value angle.

<光拡散性の評価>
実施例および比較例の異方性光拡散シートの光拡散性の評価方法について説明する。
図13に示すように、LED光源(照射角度: 約120°)の出光部に集光レンズを配置し、集光レンズを通過し略平行光となった光を、異方性光拡散シートの第1の凹凸パターンを有する面から、略平行光の軸と異方性光拡散シート面が90°となるように入射させ、第1の凹凸パターンを有する面と反対の面から出射させ、前記出射光を床面に照射した。
<Evaluation of light diffusibility>
The evaluation method of the light diffusibility of the anisotropic light diffusion sheet of an Example and a comparative example is demonstrated.
As shown in FIG. 13, a condensing lens is disposed in the light output portion of the LED light source (irradiation angle: about 120 °), and the light that has passed through the condensing lens and becomes substantially parallel light is the first of the anisotropic light diffusion sheet. From the surface having the concavo-convex pattern, so that the axis of the substantially parallel light and the anisotropic light diffusion sheet surface are 90 °, and the light is emitted from the surface opposite to the surface having the first concavo-convex pattern, and the emitted light is emitted from the floor. Irradiated the surface.

ここで、図13−A、BおよびCは、異方性光拡散シートを通過した光の床面への照射状態を、それぞれX方向、Y方向およびZ方向から観察した場合の光の見え方の略図である。 Here, FIGS. 13A, 13B, and 13C are schematic views of how the light appears when the irradiation state of the light that has passed through the anisotropic light diffusion sheet is observed from the X direction, the Y direction, and the Z direction, respectively. It is.

次いで、図13−Cの位置G、HおよびIにおける照度を測定した。このとき、LED光源から異方性拡散シートまでの距離は20mm、異方性拡散シートから床面までの距離は2.5m、位置GはLED光源の照射軸と床面との交点、位置G−H間距離を2.5m、位置G−I間距離を0.5mとなるように、位置G、H、Iを設定した。
照度測定結果を表1に示す。ここで、表1の照度は、実施例1における位置Gでの照度を100としたときの相対値である。
Next, the illuminance at positions G, H, and I in FIG. 13-C was measured. At this time, the distance from the LED light source to the anisotropic diffusion sheet is 20 mm, the distance from the anisotropic diffusion sheet to the floor surface is 2.5 m, the position G is the intersection of the irradiation axis of the LED light source and the floor surface, position G The positions G, H, and I were set so that the distance between −H was 2.5 m and the distance between positions GI was 0.5 m.
The illuminance measurement results are shown in Table 1. Here, the illuminance in Table 1 is a relative value when the illuminance at the position G in Example 1 is 100.

Figure 2015114585
Figure 2015114585

図13−Cの楕円はLED光を照射したい領域であり、位置HおよびIの相対照度が共に45以上であれば、異方性拡散シートとしての性能が優れる。実施例1〜3の異方性光拡散シートを使用した場合、位置HおよびIでの相対照度が共に45以上であり、集光されたLED光を照射したいエリアに効率よく拡散させることができた。
これに対し、比較例1〜5の異方性光拡散シートを使用した場合は、位置HまたはIのいずれかの相対照度が45より小さくなり、LED光を照射させたいエリアに効率よく拡散させる性能が不十分であった。
The ellipse in FIG. 13-C is a region where it is desired to irradiate LED light. If the relative illuminance at positions H and I is 45 or more, the performance as an anisotropic diffusion sheet is excellent. When the anisotropic light diffusion sheets of Examples 1 to 3 were used, the relative illuminance at the positions H and I were both 45 or more, and the diffused LED light could be efficiently diffused to the area to be irradiated.
On the other hand, when the anisotropic light diffusing sheets of Comparative Examples 1 to 5 are used, the relative illuminance at either position H or I is less than 45, and the performance of efficiently diffusing to the area where the LED light is desired to be irradiated. It was insufficient.

本発明の異方性光拡散シートは、優れた光拡散特性を有するため、LED光源、集光レンズ等との組み合わせにより、ライン状または楕円状に光をロスなく照射させるために好ましく用いることができる。   Since the anisotropic light diffusing sheet of the present invention has excellent light diffusing properties, it can be preferably used for irradiating light in a line or ellipse shape without loss by combination with an LED light source, a condensing lens or the like.

1 異方性光拡散シート
10 凹凸パターン
11 第1の凹凸パターン
11a 突条部
11b 凹部
12 第2の凹凸パターン
12a 突条部
12b 凹部
13 LED光源
14 集光レンズ
15 光の広がり
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anisotropic light diffusing sheet 10 Concave / convex pattern 11 1st uneven | corrugated pattern 11a Projection part 11b Concave part 12 2nd uneven | corrugated pattern 12a Projection part 12b Concave part 13 LED light source 14 Condensing lens 15 Spread of light

Claims (6)

シートの片面に、一方向Yに沿って波状の凹凸が繰り返されることによって形成された第1凹凸パターンを有すると共に、第1凹凸パターンの表面に、前記方向Yに沿って波状の凹凸が繰り返されることによって形成された第2凹凸パターンを有し、前記第1および第2凹凸パターンが表面から見た場合に蛇行していることを特徴とする異方性拡散シートであって、前記異方性拡散シートの第1および第2凹凸パターンを有する面から光を入射し、前記第1凹凸パターンおよび第2凹凸パターンを有する面と反対の面から出射する時の1/10値角度が前記方向Yにおいて80°を超え、前記方向Yと直交するX方向において5〜15°であることを特徴とする異方性光拡散シート。 One side of the sheet has a first concavo-convex pattern formed by repeating undulations along one direction Y, and the undulations are repeated along the direction Y on the surface of the first concavo-convex pattern. An anisotropic diffusion sheet having a second concavo-convex pattern formed by meandering, wherein the first and second concavo-convex patterns meander when viewed from the surface, The 1/10 value angle when light enters from the surface having the first and second uneven patterns of the diffusion sheet and exits from the surface opposite to the surface having the first and second uneven patterns is the direction Y. An anisotropic light diffusing sheet characterized in that it exceeds 80 ° and is 5 to 15 ° in the X direction orthogonal to the direction Y. 前記第1凹凸パターンの配向度が0.2〜0.5、且つ、前記第2凹凸パターンの配向度が0.2〜0.5である請求項1に記載の異方性光拡散シート。 2. The anisotropic light diffusion sheet according to claim 1, wherein the first concavo-convex pattern has an orientation degree of 0.2 to 0.5, and the second concavo-convex pattern has an orientation degree of 0.2 to 0.5. 前記第1凹凸パターンの配向方向と前記第2凹凸パターンの配向方向との差が5°以内である請求項1または2のいずれかに記載の異方性光拡散シート。 The anisotropic light diffusion sheet according to claim 1, wherein a difference between the orientation direction of the first uneven pattern and the orientation direction of the second uneven pattern is within 5 °. 前記第1凹凸パターンの最頻ピッチが3〜20μm、前記第2凹凸パターンの最頻ピッチが0.3〜2.0μmである請求項1〜3のいずれかに記載の異方性光拡散シート。 The anisotropic light diffusion sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the mode pitch of the first concavo-convex pattern is 3 to 20 µm, and the mode pitch of the second concavo-convex pattern is 0.3 to 2.0 µm. 略平行光を請求項1〜4のいずれかに記載の異方性光拡散シートの前記第1凹凸パターンが形成された面に入射し、前記第1凹凸パターンが形成されていない面から出射する光拡散方法。 The light diffusion which injects substantially parallel light into the surface in which the said 1st uneven | corrugated pattern was formed of the anisotropic light diffusion sheet in any one of Claims 1-4, and radiate | emits from the surface in which the said 1st uneven | corrugated pattern is not formed Method. 前記異方性光拡散シートの面と前記略平行光の光軸の成す角度が、60〜90度の範囲となるように配置されている請求項5に記載の光拡散方法。 The light diffusing method according to claim 5, wherein an angle formed between a surface of the anisotropic light diffusing sheet and an optical axis of the substantially parallel light is in a range of 60 to 90 degrees.
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004524556A (en) * 2001-01-18 2004-08-12 マンソク キム Prism diffuser that diffracts and diffuses light
JP2009162831A (en) * 2007-12-28 2009-07-23 Oji Paper Co Ltd Rugged pattern sheet and method of manufacturing the same, method of manufacturing optical sheet, and optical apparatus
JP2010102324A (en) * 2008-09-25 2010-05-06 Oji Paper Co Ltd Rugged pattern formation sheet, light diffusing body, process sheet original plate for manufacturing the light diffusing body, and method for manufacturing them
JP2011519054A (en) * 2008-04-02 2011-06-30 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Method and system for fabricating an optical film having an overlaid mechanism
JP2012042820A (en) * 2010-08-20 2012-03-01 Oji Paper Co Ltd Anisotropic surface light-emitting unit and liquid crystal display device
JP2012181377A (en) * 2011-03-01 2012-09-20 Tomoegawa Paper Co Ltd Optical film
JP2013008520A (en) * 2011-06-23 2013-01-10 Oji Holdings Corp Lighting system, and detector using the same
JP2013109000A (en) * 2010-11-04 2013-06-06 Oji Holdings Corp Illumination device
JP2014041351A (en) * 2012-08-22 2014-03-06 Ubright Optronics Corp Optical film

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004524556A (en) * 2001-01-18 2004-08-12 マンソク キム Prism diffuser that diffracts and diffuses light
JP2009162831A (en) * 2007-12-28 2009-07-23 Oji Paper Co Ltd Rugged pattern sheet and method of manufacturing the same, method of manufacturing optical sheet, and optical apparatus
JP2011519054A (en) * 2008-04-02 2011-06-30 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Method and system for fabricating an optical film having an overlaid mechanism
JP2010102324A (en) * 2008-09-25 2010-05-06 Oji Paper Co Ltd Rugged pattern formation sheet, light diffusing body, process sheet original plate for manufacturing the light diffusing body, and method for manufacturing them
JP2012042820A (en) * 2010-08-20 2012-03-01 Oji Paper Co Ltd Anisotropic surface light-emitting unit and liquid crystal display device
JP2013109000A (en) * 2010-11-04 2013-06-06 Oji Holdings Corp Illumination device
JP2012181377A (en) * 2011-03-01 2012-09-20 Tomoegawa Paper Co Ltd Optical film
JP2013008520A (en) * 2011-06-23 2013-01-10 Oji Holdings Corp Lighting system, and detector using the same
JP2014041351A (en) * 2012-08-22 2014-03-06 Ubright Optronics Corp Optical film

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