JP2015107943A - Methane manufacturing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、水素と二酸化炭素を原料ガスとしてメタンを製造するメタン製造装置に関する。 The present invention relates to a methane production apparatus that produces methane using hydrogen and carbon dioxide as source gases.
水素(H2)と二酸化炭素(CO2)からメタン(CH4)を製造するメタン製造装置において遂行される反応(メタネーション反応)は、発熱反応である。したがって、メタネーション反応を促進するためには、反応場における温度上昇を抑制する必要がある。そこで、メタネーション反応を促進する触媒が収容され、直列に連通された複数の反応器を備え、1の反応器において生成された生成ガスが、当該1の反応器の次段に配される反応器に送出されるように構成し、反応器間で生成ガスを冷却することで次段の反応器における開始温度の上昇を抑制するメタン製造装置が利用されている(例えば、非特許文献1)。 A reaction (a methanation reaction) performed in a methane production apparatus for producing methane (CH 4 ) from hydrogen (H 2 ) and carbon dioxide (CO 2 ) is an exothermic reaction. Therefore, in order to promote the methanation reaction, it is necessary to suppress the temperature rise in the reaction field. Therefore, a reaction that contains a catalyst that promotes the methanation reaction and includes a plurality of reactors connected in series, and a product gas generated in one reactor is disposed in the next stage of the one reactor. A methane production apparatus is used that is configured to be sent to a reactor and suppresses the rise in the starting temperature in the reactor in the next stage by cooling the product gas between the reactors (for example, Non-Patent Document 1). .
また、反応器において生成された生成ガスの一部を抜き出し、当該生成ガスから水と二酸化炭素を除去してメタンリッチガスとし、当該メタンリッチガスを反応器に返送することで、反応器における熱容量を増大させて、反応器における反応場の温度上昇を抑制する技術も開示されている(例えば、特許文献1)。 Also, by extracting a part of the product gas generated in the reactor, removing water and carbon dioxide from the product gas to make methane rich gas, and returning the methane rich gas to the reactor, the heat capacity in the reactor is increased. Thus, a technique for suppressing the temperature rise of the reaction field in the reactor is also disclosed (for example, Patent Document 1).
しかし、特許文献1の技術では、メタンの製造効率に限界があった。したがって、上記直列に連通された複数の反応器を含んで構成されるメタン製造装置において、さらなるメタンの製造効率の向上が希求されている。 However, the technique of Patent Document 1 has a limitation in the production efficiency of methane. Therefore, further improvement in the production efficiency of methane is desired in the methane production apparatus including the plurality of reactors connected in series.
そこで本発明は、このような課題に鑑み、高効率にメタンを製造することが可能なメタン製造装置を提供することを目的としている。 Then, in view of such a subject, this invention aims at providing the methane manufacturing apparatus which can manufacture methane highly efficiently.
上記課題を解決するために、本発明のメタン製造装置は、水素と二酸化炭素を原料ガスとしてメタンを製造するメタン製造装置であって、原料ガスからメタンへの反応であるメタネーション反応を促進する触媒が収容された複数の反応器と、複数の反応器における隣り合う2つの反応器をそれぞれ連通し、前段の反応器において生成された生成ガスを後段の反応器に送出する複数の連通路と、複数の反応器のうち、最も前段の反応器に原料ガスを導入する原料ガス導入部と、連通路において、前段の反応器で生成された生成ガスを、メタネーション反応が開始する温度以上、メタネーション反応が停止する温度未満に冷却する冷却部と、を備え、原料ガス導入部は、最も前段の反応器に原料ガスとともに水蒸気を導入することを特徴とする。 In order to solve the above problems, the methane production apparatus of the present invention is a methane production apparatus for producing methane using hydrogen and carbon dioxide as raw material gas, and promotes the methanation reaction that is a reaction from raw material gas to methane. A plurality of reactors in which a catalyst is accommodated, and a plurality of communication passages for communicating two adjacent reactors in the plurality of reactors, respectively, and sending a product gas generated in the former reactor to the latter reactor , Among the plurality of reactors, the raw material gas introduction part that introduces the raw material gas into the most upstream reactor, and the product gas generated in the previous reactor in the communication path is equal to or higher than the temperature at which the methanation reaction starts, And a cooling section that cools below the temperature at which the methanation reaction stops, and the raw material gas introduction section introduces water vapor together with the raw material gas into the most upstream reactor.
また、原料ガス導入部が導入する水蒸気の量は、原料ガスの総量に対して、0倍より大きく1.2倍以下であるとしてもよい。 Further, the amount of water vapor introduced by the source gas introduction unit may be greater than 0 times and less than or equal to 1.2 times the total amount of source gas.
また、複数の反応器のうち、最も後段の反応器から送出された生成ガスの組成を測定するガス組成測定部と、ガス組成測定部による結果に基づいて、メタンの製造量が増加するように原料ガス導入部が導入する水蒸気量を制御する中央制御部と、をさらに備えとしてもよい。 Further, among the plurality of reactors, the amount of methane produced is increased based on the result of the gas composition measuring unit that measures the composition of the product gas sent from the reactor at the rearmost stage and the gas composition measuring unit. And a central control unit that controls the amount of water vapor introduced by the source gas introduction unit.
また、反応器の段数は、5以下であるとしてもよい。 Further, the number of stages of the reactor may be 5 or less.
また、少なくともいずれかの連通路のうち、冷却部と後段の反応器との間において、冷却部によって冷却された生成ガスから水を除去する水除去部をさらに備えるとしてもよい。 Moreover, it is good also as providing further the water removal part which removes water from the product gas cooled by the cooling part between a cooling part and the reactor of a back | latter stage among at least any one of the communicating paths.
本発明によれば、高効率にメタンを製造することが可能となる。 According to the present invention, methane can be produced with high efficiency.
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiments are merely examples for facilitating the understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.
原料ガス(水素および二酸化炭素)からメタンを製造する際に利用されるメタネーション反応(下記式(1))は発熱反応である。したがって、反応場を冷却(除熱)しない場合、メタネーション反応が進行し、反応場が予め定められた温度まで到達すると、メタネーション反応が平衡状態に達し(停止し)て、それ以上のメタンの製造は行われなくなる。
図1は、従来のメタン製造装置10を説明する図である。図1に示す、従来のメタン製造装置10では、複数の反応器12が連通路14によって直列に連通され、反応器12自体ではなく、隣り合う反応器12同士を連通する連通路14に冷却部16を配し、冷却部16(反応器12間)において生成ガスを冷却する。かかる構成により、次段に配される反応器12における反応場の温度を低下させ、メタンの製造効率(メタネーション反応の反応率)を上昇させている。
FIG. 1 is a diagram for explaining a conventional
従来のメタン製造装置10では、1の反応器12において生成された生成ガスが、次段の反応器12に送出され、当該次段の反応器12においてさらにメタネーション反応が進行されるため、反応器12の段数(個数)が増えるほど、反応率(原料ガスの導入量に対する、メタネーション反応によって消費された原料ガスの割合、転化率ともいう)が上昇する。以下、反応器12の段数と反応率との関係について具体的に説明する。
In the conventional
表1は、反応器12の段数と、反応率および平衡状態に到達する温度との関係を示す表である。図2は、反応器12の段数と、反応率および平衡状態に到達する温度との関係を説明する図であり、横軸に反応率(%)を、縦軸に平衡状態に到達する温度(℃)を示す。また、図2中、平衡状態に到達する温度と、反応率との関係を破線で、各反応器12における温度上昇を実線の矢印で、反応器12間において生成ガスを冷却することによる生成ガスの温度低下を一点鎖線の矢印で示す。なお、メタネーション反応が開始する最低の温度は200℃である。すなわち、200℃未満では、メタネーション反応が進行しない。したがって、1段目の反応器12に導入される原料ガスは200℃である。
表1および図2に示すように、例えば、1段目の反応器12は589℃まで上昇し、反応率は39.5%に留まる。つまり、589℃でメタネーション反応が平衡状態に到達する。そして、2段目の反応器12は、518℃まで上昇し、反応率は61.3%となり、3段目の反応器12は、440℃まで上昇し、反応率は78.3%となり、4段目の反応器12は、360℃まで上昇し、反応率は89.7%となり、5段目の反応器12は、287℃まで上昇し、反応率は95.7%となり、6段目の反応器12は、234℃まで上昇し、反応率は98.0%となり、7段目の反応器12は、210℃まで上昇し、反応率は98.7%となる。
As shown in Table 1 and FIG. 2, for example, the first-
上記表1および図2では、前段の反応器12において生成された生成ガスを、連通路14において200℃(メタネーション反応が開始する最低の温度)まで冷却した場合を想定している。なお、連通路14には、触媒が収容されていないため、冷却部16が連通路14において生成ガスを冷却する際には、メタネーション反応は進行されない。
In Table 1 and FIG. 2 described above, it is assumed that the product gas generated in the preceding
このように、反応器12の段数を増加させるほど、反応率は向上するが、上記式(1)に示すように、メタネーション反応は、発熱反応であるとともに平衡反応であるため、従来のメタン製造装置10においては、反応器12の段数に応じて、メタンの製造効率(反応率)が上記表1に示す値に決定されてしまう。本実施形態では、直列に連通された複数の反応器を含んで構成されるメタン製造装置において、新規の構成を追加することで、従来のメタン製造装置10と同じ段数の反応器を備える場合であってもメタンの製造効率を向上させる。以下、本実施形態にかかるメタン製造装置100について詳述する。
Thus, the reaction rate increases as the number of stages of the
(メタン製造装置100)
図3は、本実施形態にかかるメタン製造装置100の構成を説明するための図である。図3に示すように、メタン製造装置100は、複数の反応器110と、複数の連通路120と、原料ガス導入部130と、冷却部150と、ガス組成測定部170と、中央制御部180とを含んで構成される。図3中、物質の流れを実線の矢印で示し、信号の流れを破線の矢印で示す。
(Methane production apparatus 100)
FIG. 3 is a diagram for explaining the configuration of the
複数の反応器110における隣り合う2つの反応器は、連通路120によって連通されている。また、各反応器110には、原料ガス(水素、二酸化炭素)からメタンへの反応であるメタネーション反応を促進する触媒が収容されており、原料ガス導入部130によって、複数の反応器110のうち、最も前段の反応器110に原料ガスが導入されると、まず、最も前段の反応器110において生成ガスが生成される。なお、上述したように、連通路120は、複数の反応器110における隣り合う2つの反応器110をそれぞれ連通し、前段の反応器110において生成された生成ガスを後段の反応器110に送出するため、1の反応器110において生成された生成ガスは、連通路120を通じて当該1の反応器110の次段に配される反応器110に送出される。そして、次段に配される反応器110においてさらにメタネーション反応が進行し、前段の反応器110で生成された生成ガスよりもメタン濃度が高い生成ガスが生成されることとなる。
Two adjacent reactors in the plurality of
また、本実施形態において、原料ガス導入部130は、最も前段の反応器110(1段目の反応器110)に、原料ガスとともに水蒸気を導入する。
In the present embodiment, the raw material
図4は、水蒸気導入量と反応率(%)との関係を説明する図である。なお、図4中、X=2.0倍を四角で、X=0.8倍を丸で、X=0.2倍を三角で、X=0倍、すなわち、水蒸気を導入しない場合を菱形で示す。ここで、原料ガス導入部130が導入する、原料ガスの総量に対する水蒸気の総量の倍率を「X」とする。
FIG. 4 is a diagram for explaining the relationship between the amount of water vapor introduced and the reaction rate (%). In FIG. 4, X = 2.0 times is a square, X = 0.8 times is a circle, X = 0.2 times is a triangle, and X = 0 times, that is, when water vapor is not introduced It shows with. Here, the magnification of the total amount of water vapor with respect to the total amount of raw material gas introduced by the raw material
図4に示すように、反応器110が1個設けられる構成(1段構成)、2個設けられる構成(2段構成)、3個設けられる構成(3段構成)、4個設けられる構成(4段構成)では、Xが大きくなるにつれて、最後段の反応器110における反応率が向上する。これは、水蒸気を導入することにより、各反応器110における熱容量を増大させることができ、各反応器110における反応場の単位時間あたりの温度上昇を抑制することが可能となるためである。
As shown in FIG. 4, a configuration in which one
したがって、反応器110の段数が4以下の場合、原料ガス導入部130は、水蒸気の導入量を多くすれば、最後段の反応器110における反応率が向上する。
Therefore, when the number of stages of the
一方、図4に示すように、反応器110の段数が5段以上の場合、水蒸気の導入量を多くすると、最後段の反応器110における反応率が低下する。これは、水蒸気を導入したことで、メタネーション反応の平衡状態が崩れ、上記式(1)の右辺から左辺への反応が促進される(平衡が左に移動する)ことに起因すると考えられる。
On the other hand, as shown in FIG. 4, when the number of stages of the
図5は、反応器110の各段数における、Xと反応率(%)との関係を説明する図である。図5に示すように、反応器110が7個設けられる構成(7段構成)、および、反応器110が6個設けられる構成(6段構成)においては、Xが上昇するにつれて反応率が低下する。
FIG. 5 is a diagram illustrating the relationship between X and the reaction rate (%) in each stage number of the
一方、反応器110が5個設けられる構成(5段構成)においては、X=0.8までは、Xが上昇するにつれて反応率が上昇するものの、X>0.8となると、Xが上昇するにつれて徐々に反応率が低下し、X>2.0となると、水蒸気を導入しない場合(X=0)よりも反応率が低下する。
On the other hand, in the configuration in which five
同様に、反応器110が4個設けられる構成(4段構成)においては、X=1.2までは、Xが上昇するにつれて反応率が上昇するものの、X>1.2となると、Xが上昇するにつれて徐々に反応率が低下する。
Similarly, in the configuration in which four
したがって、メタン製造装置100における反応器110の段数は、少なくとも5以下(2〜5)であるとよい。
Therefore, the number of stages of the
また、上述したように、2〜5段構成のメタン製造装置100においては、所定の水蒸気量までは導入量を多くすれば、最後段の反応器110における反応率が向上する。しかし、X>1.2となると、反応器110の容量を大きくしなければならず、反応器110に要するコストが著しく上昇し、費用対効果が低くなってしまう。また、反応器110の占有体積が大きくなるため、メタン製造装置100自体の設置面積が大きくなってしまい、設置箇所が制限されるといった課題がある。
Further, as described above, in the
そこで、原料ガス導入部130が導入する水蒸気の量は、原料ガスの総量に対して、0倍より大きく1.2倍以下であるとよい。かかる構成により、反応器110の容量を最小限に抑えつつ、反応率を向上させることが可能となる。
Therefore, the amount of water vapor introduced by the source
図3に戻って説明すると、冷却部150は、連通路120において、前段の反応器で生成された生成ガスを、メタネーション反応が開始する温度(ここでは、200℃)まで冷却する。
Referring back to FIG. 3, the
冷却部150を備える構成により、次段に配される反応器110における反応場の温度を低下させることができ、メタンの製造効率(メタネーション反応の反応率)を上昇させることが可能となる。
With the configuration including the
ガス組成測定部170は、複数の反応器110のうち、最も後段の反応器110から送出された生成ガスの組成を測定する。
The gas
中央制御部180は、CPU(中央処理装置)を含む半導体集積回路で構成され、ROMからCPU自体を動作させるためのプログラムやパラメータ等を読み出し、ワークエリアとしてのRAMや他の電子回路と協働してメタン製造装置100全体を管理および制御する。
The
本実施形態において、中央制御部180は、ガス組成測定部170による測定結果に基づいて、メタンの製造量が増加するように原料ガス導入部130が導入する水蒸気量を制御する。かかる構成により、最終的に生成された生成ガス中のメタン含有率を向上させるように、適量の水蒸気を導入することが可能となる。
In the present embodiment, the
以上説明したように、本実施形態にかかるメタン製造装置100によれば、原料ガスとともに水蒸気を導入するといった簡易な構成で、高効率にメタンを製造することが可能となる。
As described above, according to the
また、水蒸気は、100℃未満で凝縮して液体とすることができるため、生成ガスから容易に分離することが可能となる。さらに、水蒸気は、炭素を含まないため、触媒に炭素が析出することがなく、触媒が劣化してしまう事態を回避することができる。 In addition, since water vapor can be condensed into a liquid at less than 100 ° C., it can be easily separated from the product gas. Furthermore, since water vapor does not contain carbon, carbon does not deposit on the catalyst, and a situation in which the catalyst deteriorates can be avoided.
(変形例)
上述したように、反応器110に水蒸気を導入すると、熱容量は増加するが、メタネーション反応の平衡状態が崩れ、上記式(1)の右辺から左辺への反応が促進される(平衡が左に移動する)。そこで、原料ガス導入部130によって反応器110に水蒸気を導入し、複数の反応器110によってある程度メタネーション反応を遂行させた後に、水を除去する。
(Modification)
As described above, when steam is introduced into the
図6は、変形例にかかるメタン製造装置200を説明するための図である。図6に示すように、メタン製造装置200は、複数の反応器110と、複数の連通路120と、原料ガス導入部130と、冷却部150と、ガス組成測定部170と、中央制御部180と、水除去部260と、加熱部270とを含んで構成される。図6中、物質の流れを実線の矢印で示し、信号の流れを破線の矢印で示す。
FIG. 6 is a diagram for explaining a
なお、上述したメタン製造装置100と実質的に等しい構成要素については、同一の符号を付して説明を省略し、ここでは、水除去部260および加熱部270について詳述する。
In addition, about the component substantially equivalent to the
最も後段の反応器110(N段目)と、N段目の反応器110より1つ前段の反応器110(N−1段目)とを連通する連通路120には、水除去部260および加熱部270が設けられている。水除去部260は、凝縮部262と、気液分離部264とを含んで構成される。凝縮部262は、N−1段目の反応器110で生成された生成ガスを、水の凝縮温度(露点)まで冷却して水を凝縮させる。気液分離部264は、凝縮部262によって冷却された生成ガスから凝縮した水を分離する。水除去部260の下流側に配される加熱部270は、気液分離部264によって、凝縮した水が除去された後の生成ガスである水除去後ガスを、メタネーション反応が開始する温度まで加熱する。
The
水除去部260を備える構成により、N−1段目の反応器110において生成された生成ガス中の水の量を減少させることができる。生成ガス中の水の量が減少すると、メタネーション反応の平衡状態が崩れ、上記式(1)の左辺から右辺への反応が促進される(平衡が右に移動する)こととなり、メタネーション反応の反応率(メタンの製造効率)を向上させることが可能となる。これにより、水除去部260を備えない構成と比較して、N段目の反応器110においてメタネーション反応をさらに促進させることができる。
With the configuration including the
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Is done.
例えば、上記実施形態において、原料ガス導入部130が、反応器110の熱容量を増加させるために、水蒸気を導入する構成について説明した。しかし、反応器110の熱容量を増加させることができ、また、200℃未満で凝縮すれば、原料ガス導入部130が導入するガスに限定はない。例えば、フロン等のハロゲン系ガスを利用してもよい。
For example, in the above embodiment, the configuration in which the raw material
また、上記実施形態において、原料ガス導入部130が導入する水蒸気の量が、原料ガスの総量に対して、0倍より大きく1.2倍以下である構成を例に挙げて説明した。しかし、原料ガス導入部130が導入する水蒸気量に限定はなく、原料ガスの総量に対して1.2倍より大きくてもよい。なお、この場合、反応器110の段数を2〜4段構成としたメタン製造装置100とするとよい。また、反応器110の段数を5段以上としたメタン製造装置100において、原料ガス導入部130が導入する水蒸気の量が、原料ガスの総量に対して1.2倍より大きい場合、水除去部260を備えるとよい。
Moreover, in the said embodiment, it demonstrated and demonstrated the structure which the quantity of the water vapor | steam which the raw material
また、上記実施形態において、メタン製造装置100を構成する反応器110の段数は、5以下が好ましいと説明した。しかし、メタン製造装置100における反応器110の段数に限定はなく、6段以上であってもよい。なお、この場合、水除去部260を備えるとよい。
Moreover, in the said embodiment, it demonstrated that the number of stages of the
また、上記実施形態において、冷却部150は、生成ガスを、メタネーション反応が開始する温度まで冷却する構成を例に挙げて説明した。しかし、冷却部150は、生成ガスを、メタネーション反応が開始する温度以上、メタネーション反応が停止する(メタネーション反応が平衡状態に到達する)温度未満まで冷却すればよい。
Further, in the above embodiment, the
また、上記実施形態において、ガス組成測定部170および中央制御部180を備える構成について説明したが、これらは必須の構成ではない。
Moreover, in the said embodiment, although the structure provided with the gas
また、上記変形例において、水除去部260が、最も後段の反応器110(N段目)と、N段目の反応器110より1つ前段の反応器110(N−1段目)とを連通する連通路120に設けられる構成について説明した。しかし、水除去部260の位置に限定はなく、水除去部260は、少なくともいずれかの連通路120のうち、冷却部150と後段の反応器110との間に設けられればよい。
Further, in the above modification, the
また、上記変形例において、凝縮部262と気液分離部264とで構成される水除去部260について説明したが、生成ガスから水を除去できれば、水除去部260の構成に限定はない。例えば、水除去部260を水分離膜等で構成してもよい。なお、水除去部260を、凝縮部262と気液分離部264とで構成する場合、凝縮部262が冷却部として機能するが、水除去部260を水分離膜等で構成する場合、別途冷却部を備えるとよい。
Moreover, in the said modification, although the
本発明は、水素と二酸化炭素を原料ガスとしてメタンを製造するメタン製造装置に利用することができる。 The present invention can be used in a methane production apparatus that produces methane using hydrogen and carbon dioxide as raw material gases.
100、200 メタン製造装置
110 反応器
120 連通路
130 原料ガス導入部
150 冷却部
170 ガス組成測定部
180 中央制御部
260 水除去部
270 加熱部
100, 200
Claims (5)
前記原料ガスから前記メタンへの反応であるメタネーション反応を促進する触媒が収容された複数の反応器と、
前記複数の反応器における隣り合う2つの反応器をそれぞれ連通し、前段の反応器において生成された生成ガスを後段の反応器に送出する複数の連通路と、
前記複数の反応器のうち、最も前段の前記反応器に前記原料ガスを導入する原料ガス導入部と、
前記連通路において、前記前段の反応器で生成された前記生成ガスを、前記メタネーション反応が開始する温度以上、該メタネーション反応が停止する温度未満に冷却する冷却部と、
を備え、
前記原料ガス導入部は、前記最も前段の反応器に前記原料ガスとともに水蒸気を導入することを特徴とするメタン製造装置。 A methane production apparatus for producing methane using hydrogen and carbon dioxide as source gases,
A plurality of reactors containing a catalyst for promoting a methanation reaction that is a reaction from the source gas to the methane;
A plurality of communication passages for communicating two adjacent reactors in the plurality of reactors, respectively, and sending the product gas generated in the former reactor to the latter reactor;
Of the plurality of reactors, a raw material gas introduction section for introducing the raw material gas into the most upstream reactor,
A cooling section that cools the product gas generated in the preceding reactor in the communication path to a temperature equal to or higher than a temperature at which the methanation reaction starts and lower than a temperature at which the methanation reaction stops;
With
The raw material gas introduction unit introduces water vapor together with the raw material gas into the foremost reactor.
前記ガス組成測定部による結果に基づいて、前記メタンの製造量が増加するように前記原料ガス導入部が導入する水蒸気量を制御する中央制御部と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載のメタン製造装置。 Of the plurality of reactors, a gas composition measuring unit for measuring the composition of the product gas sent from the most downstream reactor,
Based on the result by the gas composition measurement unit, a central control unit that controls the amount of water vapor introduced by the source gas introduction unit so that the production amount of the methane increases,
The methane production apparatus according to claim 1, further comprising:
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Cited By (7)
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