JP2015106133A - Mz optical modulator - Google Patents

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Hiroyasu Motai
宏泰 馬渡
柴田 泰夫
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a MZ optical modulator capable of realizing stable extinction characteristics.SOLUTION: A MZ optical modulator 1 includes: an optical input waveguide 11; a demultiplexer 12 demultiplexing a light ray input from the optical input waveguide 11 to two light rays; a pair of optical waveguides 13 for giving a phase difference between the two light rays obtained by demultiplexing by the demultiplexer 12; a multiplexer 14 multiplexing the two light rays having the phase difference given therebetween by the paired optical waveguides 13 by causing the two light rays to interfere with each other; and an optical output waveguide 15 outputting the light ray obtained by multiplexing by the multiplexer 14 from one of two output ports. The paired optical waveguides 13 each include a semiconductor multilayer structure, and each include a modulation signal electrode 16 to which a modulation signal voltage is applied; a phase adjustment electrode 17 to which a phase adjustment voltage is applied; and a SOA electrode 18 to which an injection current is applied for optical amplification. The injection currents applied to the respective SOA electrodes 18 are controlled independently, thereby exerting a control such that intensities of the light rays input from the optical waveguides 13 to the multiplexer 14 are equal to each other.

Description

本発明は、マッハツェンダー型(Mach-Zehnder:MZ)光変調器に関し、詳細には、半導体層構造を有するMZ光変調器に関する。   The present invention relates to a Mach-Zehnder (MZ) optical modulator, and more particularly to an MZ optical modulator having a semiconductor layer structure.

半導体光導波路型デバイスは、近年の結晶成長技術や高精度加工技術の進展によって、これまでの半導体レーザダイオードに代表される単機能素子から、光信号処理の機能を内蔵した、集積型のデバイスの開発が進展している。   Semiconductor optical waveguide devices are integrated devices that have built-in optical signal processing functions from single-function devices represented by conventional semiconductor laser diodes, due to recent progress in crystal growth technology and high-precision processing technology. Development is progressing.

半導体の機能素子を集積化したデバイスでは、それぞれ電気的、光学的に分離された機能素子間を、入出力光導波路で結合することによって形成される。このような光導波路では、導波光の合波、および分波によって、信号光の分配や、位相状態の干渉といった機能を有する。   A device in which semiconductor functional elements are integrated is formed by coupling electrically and optically separated functional elements with an input / output optical waveguide. Such an optical waveguide has functions such as signal light distribution and phase state interference by multiplexing and demultiplexing of guided light.

これらの機能を応用した光変調器の代表的なものとして、図1に示すマッハツェンダー型(MZ)光変調器がある。この動作原理の概略は以下のとおりである。MZ光変調器10は、一つの光入力導波路11から伝搬した光を、分波器12によって2つの干渉系導波路13へ分けて、それぞれの導波路13の屈折率を位相制御部21により位相制御することで、それぞれの導波路13を伝搬する光の位相状態を制御する。位相を制御するためには、位相制御部21に電界を印加する。その後、位相状態が制御された2つ光を、合波器14で干渉させて光出力導波路15から出力光を取り出す。   As a typical optical modulator to which these functions are applied, there is a Mach-Zehnder (MZ) optical modulator shown in FIG. The outline of this operation principle is as follows. The MZ optical modulator 10 divides the light propagated from one optical input waveguide 11 into two interference waveguides 13 by a duplexer 12, and the refractive index of each waveguide 13 is controlled by a phase controller 21. By controlling the phase, the phase state of the light propagating through each waveguide 13 is controlled. In order to control the phase, an electric field is applied to the phase controller 21. Thereafter, the two lights whose phase states are controlled are interfered by the multiplexer 14 and the output light is extracted from the optical output waveguide 15.

図1に示すMZ光変調器10では、合波器からの出力光強度を制御することで、光変調器としての動作が可能となる。すなわち2つの光が強め合うときがオンレベルに、弱め合うときがオフレベルになる。オンレベルとオフレベルの差が消光特性になり、差があるほうが消光特性がよいとされる。   The MZ optical modulator 10 shown in FIG. 1 can operate as an optical modulator by controlling the output light intensity from the multiplexer. That is, when the two lights strengthen each other, the level is on, and when the two lights are weak, the level is off. The difference between the on level and the off level is the extinction characteristic, and the difference is considered to be better.

理想的には、分波器の分岐比、および合波器の合波の割合はともに1:1であるのが望ましい。また理想的には位相制御部への電界の印加時に位相のみが変化して光強度が一切変化しないのが望ましく、さらに2つの干渉系導波路から合波器に光が入力される時点で、その2つの光の強度が等しいと消光特性がよくなる。   Ideally, it is desirable that both the branching ratio of the duplexer and the multiplexing ratio of the multiplexer are 1: 1. Ideally, when the electric field is applied to the phase control unit, it is desirable that only the phase changes and the light intensity does not change at all. Further, when light is input from the two interference waveguides to the multiplexer, When the intensity of the two lights is equal, the extinction characteristic is improved.

なお分波器は合波器としては、例えば多モード干渉型(multi−mode−interferometer:MMI)を用いる。   As the multiplexer, for example, a multi-mode interference type (multi-mode interferometer: MMI) is used.

C.Rolland、R.S.Moore、F.Shepherd、G.Hillier、“10Gbit/s,1.56μm MULTI QUANTUM WELL InP/InGaAsP MACH‐ZEHNDER OPTICAL MODULATOR”、ELECTRONICS LETTERS、1993年3月4日、Vol.29、No.5、p.471−472C. Rolland, R.A. S. Moore, F.M. Shepherd, G.M. Hillier, “10 Gbit / s, 1.56 μm MULTI QUANTUM WELL InP / InGaAsP MACH-ZEHNDER OPTICAL MODULATOR”, ELECTRONICS LETTERS, March 4, 1993, Vol. 29, no. 5, p. 471-472

しかしながら、実際の素子においては、干渉系へ光を分岐し伝搬する分波器の分岐比が、光の波長や素子温度によって1:1からずれる場合や、元々の光導波路の作製精度に依存した伝搬損失のばらつきが生じる場合がある。特に半導体光変調器の場合は、位相制御時の印加電界による光吸収損失の変動や信号光波長による光吸収損失の変動等が、光変調器としての動作条件を決める際に生じる場合があるため、これによっても干渉系光導波路から合波器へ伝搬される光強度が変動する可能性がある。   However, in an actual device, the branching ratio of the demultiplexer that branches and propagates the light to the interference system is deviated from 1: 1 depending on the wavelength of the light and the device temperature, or depends on the fabrication accuracy of the original optical waveguide. There may be variations in propagation loss. In particular, in the case of a semiconductor optical modulator, fluctuations in optical absorption loss due to an applied electric field during phase control and fluctuations in optical absorption loss due to signal light wavelength may occur when determining the operating conditions of the optical modulator. This may also change the intensity of light propagated from the interference optical waveguide to the multiplexer.

図2に印加電界強度と光吸収損失の関係例を示す。図2によれば、例えば位相制御時に6V/μmの電界強度が必要な場合、入力波長1530nmの場合には2dB、1540nmの場合には1dB、1550nmの場合でも0.3dBの光吸収損失が生じ、これによって消光特性が劣化する。   FIG. 2 shows an example of the relationship between the applied electric field strength and the light absorption loss. According to FIG. 2, for example, when an electric field strength of 6 V / μm is required at the time of phase control, an optical absorption loss of 0.3 dB occurs even when the input wavelength is 1530 nm, 2 dB, 1540 nm is 1 dB, and 1550 nm. As a result, the extinction characteristics deteriorate.

つまり、合波器への伝搬光強度が異なる場合、位相条件で干渉状態を制御しても、強度の弱い方の光強度に応じた位相状態制御になるため、強度の強い方の光成分は漏れ光としてオフレベルの強度増加とオンレベルの強度低下の原因となり、消光特性の悪化が生じることになる。   In other words, if the intensity of light propagating to the multiplexer is different, even if the interference state is controlled by the phase condition, phase state control is performed according to the light intensity of the weaker intensity. Leakage light causes an increase in off-level intensity and a decrease in on-level intensity, resulting in deterioration of extinction characteristics.

従って、優れた消光特性を得るには、2つの干渉系光導波路からMMI合波器へ入力される光強度を等しくすることが重要となる。これまで一般的に用いられているLN(ニオブ酸リチウム:LiNbO3)材料によるMZ光変調器では、入力側の分波器の分岐割合やその後の干渉導波路の伝搬損失等といった、合波器への入力光強度に影響を与える特性は、素子作製時にほぼ決まってしまうため、作製精度が重要であった。   Therefore, in order to obtain excellent extinction characteristics, it is important to equalize the light intensities input from the two interference optical waveguides to the MMI multiplexer. In an MZ optical modulator using an LN (lithium niobate: LiNbO3) material that has been generally used so far, a multiplexer such as a branching ratio of an input-side branching filter or a subsequent propagation loss of an interference waveguide is used. Since the characteristics that affect the input light intensity are almost determined at the time of device fabrication, fabrication accuracy is important.

一方、半導体光導波路MZ変調器においても、分波器の分岐割合やその後の導波路伝搬損失は(LN材料と同様に)作製精度の影響は大きい。さらに、変調器としての動作の際に屈折率を変化させるための電界を印加するため、これによる半導体の光吸収損失が変化することも導波路伝搬損失に影響を与える。特に、干渉系導波路間の光の位相を調整する際には、2つの導波路への印加電界は異なる値になるため、この電界印加による光吸収損失は、干渉系導波路間では異なる値になると思われる。したがって、これまでの半導体光導波路からなるMZ光変調器では、分波器や合波器の作製精度とともに、干渉系導波路への印加電界に対しても消光特性への影響を含めた設計が必要となり、動作条件に制約が出てしまう場合があった。   On the other hand, also in the semiconductor optical waveguide MZ modulator, the branching ratio of the branching filter and the subsequent waveguide propagation loss are greatly affected by the fabrication accuracy (similar to the LN material). Furthermore, since an electric field for changing the refractive index is applied during operation as a modulator, a change in the optical absorption loss of the semiconductor due to this also affects the waveguide propagation loss. In particular, when adjusting the phase of light between the interference waveguides, the electric fields applied to the two waveguides have different values. Therefore, the light absorption loss due to this electric field application varies between the interference waveguides. It seems to become. Therefore, conventional MZ optical modulators composed of semiconductor optical waveguides are designed to include the effects on the extinction characteristics for the electric field applied to the interference waveguide as well as the accuracy of manufacturing the duplexer and multiplexer. In some cases, the operating conditions are limited.

上述したように、半導体MZ光変調器においては、入力信号光を干渉系導波路へ分岐するための分波器の分岐比の1:1からのずれや、干渉系導波路内での光の伝搬損失、また印加電界による吸収損失の違いによって生じる、干渉系光導波路から合波器への光強度の差異は、強度変調時の消光特性を劣化させる。   As described above, in the semiconductor MZ optical modulator, the branching ratio of the demultiplexer for branching the input signal light to the interference waveguide is deviated from 1: 1, the light in the interference waveguide is A difference in light intensity from the interference optical waveguide to the multiplexer caused by a difference in propagation loss and absorption loss due to an applied electric field deteriorates the extinction characteristic at the time of intensity modulation.

本発明は上記従来の問題に鑑みなされたものであって、本発明の課題は、位相条件の制御によって強度変調を得る際の、消光特性を改善する機能を有し、これを連続動作時に制御することで長期の動作期間にわたって安定な消光特性を実現できるMZ光変調器を提供することにある。さらに本発明の他の課題は、光変調器で課題となる伝搬損失を解消し、増幅する機能も有するMZ変調器を提供する。   The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to have a function of improving the extinction characteristic when intensity modulation is obtained by controlling phase conditions, and this is controlled during continuous operation. An object of the present invention is to provide an MZ optical modulator capable of realizing a stable extinction characteristic over a long operation period. Furthermore, another object of the present invention is to provide an MZ modulator that has a function of eliminating and amplifying the propagation loss that is a problem in the optical modulator.

上記の課題を解決するために、一実施形態に記載された発明は、光入力導波路と、前記光入力導波路から入力された光を2つに分岐する分波器と、前記分波器で分岐された2つの光に対して位相差を与える1対の光導波路と、前記1対の光導波路で位相差を与えられた2つの光を干渉させることにより合波する合波器と、前記合波器において合波した光を2つの出力ポートのうちのいずれかから出力する光出力導波路とを備えたMZ光変調器であって、前記1対の光導波路は、スラブ型の半導体積層構造を有し、前記1対の光導波路の各々は、それぞれ、該光導波路を伝搬する光を変調する変調信号電圧を印加する変調信号電極と、該1対の光導波路の導波路長の相違を補償するための位相調整電圧を印加する位相調整電極と、該光導波路を伝搬する光を増幅する注入電流を印加するSOA電極とを有し、前記SOA電極のそれぞれに印加する注入電流を独立に制御することにより前記光導波路から合波器へ入力される光の光強度が等しくなるように制御することを特徴とするMZ光変調器である。   In order to solve the above-described problem, an invention described in an embodiment includes an optical input waveguide, a duplexer that splits light input from the optical input waveguide into two, and the duplexer. A pair of optical waveguides that give a phase difference to the two lights branched at, and a multiplexer that multiplexes the two lights given a phase difference by the pair of optical waveguides by interfering with each other, An MZ optical modulator comprising an optical output waveguide that outputs light combined in the multiplexer from one of two output ports, wherein the pair of optical waveguides is a slab type semiconductor Each of the pair of optical waveguides has a laminated structure, and each of the pair of optical waveguides has a modulation signal electrode that applies a modulation signal voltage that modulates light propagating through the optical waveguide, and a waveguide length of the pair of optical waveguides. A phase adjusting electrode for applying a phase adjusting voltage for compensating the difference, and the optical waveguide. And an SOA electrode for applying an injection current for amplifying the light to be carried, and by independently controlling the injection current applied to each of the SOA electrodes, the light intensity of light input from the optical waveguide to the multiplexer Are controlled so as to be equal to each other.

従来の半導体MZ光変調器の模式図である。It is a schematic diagram of a conventional semiconductor MZ light modulator. 半導体導波路構造での光吸収損失の波長依存性を示す図である。It is a figure which shows the wavelength dependence of the light absorption loss in a semiconductor waveguide structure. 第1の実施形態の半導体MZ光変調器の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the semiconductor MZ optical modulator of 1st Embodiment. 干渉系光導波路を構成するスラブ型の半導体積層構造を説明する図である。It is a figure explaining the slab type semiconductor laminated structure which comprises an interference type | system | group optical waveguide. 第2の実施形態の半導体MZ光変調器の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the semiconductor MZ optical modulator of 2nd Embodiment.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

本実施形態の半導体MZ光変調器は、光入力導波路と、光入力導波路から入力された光を2つに分岐する分波器と、分波器で分岐された2つの光に対して位相差を与える1対の光導波路と、1対の光導波路で位相差を与えられた2つの光を干渉させることにより合波する合波器と、合波器において合波した光を2つの出力ポートのうちのいずれかから出力する光出力導波路とを備えたMZ光変調器であって、2つの光導波路内にそれぞれ独立した光強度制御領域を形成し、この光強度制御領域によって干渉系導波路から合波器へ入力される光強度が等しくなるように制御する構成を備えている。光強度が等しい信号光の位相を制御して合波させることで、位相状態が干渉せずに出力されてしまう成分を減少させることが可能になる。その結果、強度変調時の消光特性の劣化を防止することができる。さらに本実施形態の半導体MZ光変調器では、それぞれ独立した2つの光強度制御領域の両方で増幅率を上げることにより、半導体MZ光変調器における伝搬損失を解消し、光増幅を行なうことができる。   The semiconductor MZ optical modulator according to the present embodiment is provided for an optical input waveguide, a duplexer that branches light input from the optical input waveguide into two, and two lights that are branched by the duplexer. A pair of optical waveguides that give a phase difference, a multiplexer that multiplexes two light beams that are given a phase difference by a pair of optical waveguides, and two lights that are combined in the multiplexer An MZ optical modulator having an optical output waveguide that outputs from any one of output ports, wherein independent optical intensity control regions are formed in the two optical waveguides, and interference is caused by the optical intensity control region. A configuration is provided in which the light intensity input from the system waveguide to the multiplexer is controlled to be equal. By controlling and multiplexing the phases of the signal lights having the same light intensity, it is possible to reduce components that are output without interference of the phase state. As a result, it is possible to prevent deterioration of the extinction characteristic during intensity modulation. Furthermore, in the semiconductor MZ optical modulator of the present embodiment, the propagation loss in the semiconductor MZ optical modulator can be eliminated and optical amplification can be performed by increasing the amplification factor in both of the two independent light intensity control regions. .

干渉系半導体導波路から出力側合波器へ伝搬する光の強度を制御する方法として、従来の屈折率を制御するための電界印加用の電極とは別に、信号光の波長に対して利得を持つpn接合構造から成る半導体光増幅器(semiconductor optical amplifier:SOA)を形成し、このSOAの電極に電流を注入してキャリアを発生させることで、半導体導波路を伝搬する信号光を増幅することが可能になる。   As a method of controlling the intensity of light propagating from the interference semiconductor waveguide to the output-side multiplexer, a gain is obtained with respect to the wavelength of the signal light separately from the conventional electrode for applying an electric field for controlling the refractive index. Forming a semiconductor optical amplifier (SOA) having a pn junction structure and a carrier is generated by injecting a current into an electrode of the SOA, thereby amplifying the signal light propagating through the semiconductor waveguide. It becomes possible.

ここで、それぞれの干渉系導波路を伝搬する光を独立に増幅し、等しい光強度となるように制御された信号光を合波することで、位相制御された光からの漏れ光成分を抑制できるため、オフレベルの光出力強度の低減と、オンレベルの光強度の増加によって、消光特性を改善することができる。また、合波された出力をモニタしながら消光特性が最大となるように、各SOAの注入電流を常時制御することを行えば、高い消光特性を長期連続動作に渡って、変動による劣化を生じることなく保持することが可能になる。   Here, the light propagating through each interference waveguide is independently amplified, and the signal light controlled to have the same light intensity is combined to suppress the leakage light component from the phase-controlled light. Therefore, the extinction characteristic can be improved by reducing the off-level light output intensity and increasing the on-level light intensity. Also, if the injection current of each SOA is always controlled so that the extinction characteristic is maximized while monitoring the combined output, the high extinction characteristic is deteriorated due to fluctuation over a long period of continuous operation. It becomes possible to hold without.

また、SOAで増幅された信号光強度は、干渉系導波路それぞれからSOA増幅信号強度モニタ用の分岐導波路とフォトダイオードを形成することで、その分岐光強度をそれぞれ直接検知することができる。検知した光強度が一致するようにSOAへの注入電流を制御することで、さらに簡易に高い消光特性が実現できる。   Further, the signal light intensity amplified by the SOA can be directly detected by forming a branch waveguide and a photodiode for monitoring the SOA amplified signal intensity from each interference waveguide. By controlling the injection current into the SOA so that the detected light intensities coincide with each other, a high extinction characteristic can be realized more easily.

また、伝搬光強度の制御を常時行うことで、実動作中に何らかの要因によって両干渉系導波路の伝搬光強度が変動した場合でも、SOAの増幅率を制御することで合波器への入力光強度を常に一定に保持することができるため、素子の長期連続動作時の特性安定化にも有効である。   Also, by always controlling the propagation light intensity, even if the propagation light intensity of both interference waveguides fluctuates due to some factor during actual operation, the input to the multiplexer can be controlled by controlling the amplification factor of the SOA. Since the light intensity can always be kept constant, it is also effective for stabilizing the characteristics during long-term continuous operation of the element.

また、光出力導波路からの出力光強度を観察して両方のSOAの注入電流を制御することも好ましい。半導体MZ変調器と、光ファイバ等の外部入出力用導波路との結合がずれ、半導体MZ変調器としての光損失が増加した場合にも、両方のSOAの増幅率を上げることで補償することができる。   It is also preferable to control the injection current of both SOAs by observing the output light intensity from the optical output waveguide. Even when the coupling between the semiconductor MZ modulator and the external input / output waveguide such as an optical fiber is shifted and the optical loss as the semiconductor MZ modulator is increased, compensation is performed by increasing the amplification factors of both SOAs. Can do.

(第1の実施形態)
まず、SOAを備えた半導体MZ光変調器について説明する。図3は、本実施形態の半導体MZ光変調器の概略構成を示す図である。本実施形態の光変調器1は、光入力導波路11と、分波器12と、1対の干渉系光導波路13と、合波器14と、光出力導波路15とが縦列接続されて構成されている。干渉系光導波路13は、変調信号電極16と、位相変調電極17と、SOA電極18とを有している。
(First embodiment)
First, a semiconductor MZ optical modulator having an SOA will be described. FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of the semiconductor MZ optical modulator of the present embodiment. In the optical modulator 1 of this embodiment, an optical input waveguide 11, a duplexer 12, a pair of interference optical waveguides 13, a multiplexer 14, and an optical output waveguide 15 are connected in cascade. It is configured. The interference optical waveguide 13 has a modulation signal electrode 16, a phase modulation electrode 17, and an SOA electrode 18.

光入力導波路11と、分波器12と、1対の干渉系光導波路13と、合波器14と、光出力導波路15とは、基板層の上に、光を導波するコア層と、コア層の上下において光を閉じ込めるクラッド層とが積層されたスラブ型の半導体積層構造を有している。この半導体積層構造では、光入力導波路11から入力された光が、分波器12で2分岐され、1対の干渉系光導波路13で2分岐した光に位相差が与えられた後、位相差が与えられた2つの光が合波器14で干渉させられることによって合波され、光出力導波路15の2つのポートのうちのいずれか一方から出力される。   The optical input waveguide 11, the duplexer 12, the pair of interference optical waveguides 13, the multiplexer 14, and the optical output waveguide 15 are a core layer that guides light on the substrate layer. And a slab-type semiconductor laminated structure in which a clad layer for confining light above and below the core layer is laminated. In this semiconductor laminated structure, the light input from the optical input waveguide 11 is branched into two by the branching filter 12 and a phase difference is given to the light branched into two by the pair of interference optical waveguides 13. The two lights given the phase difference are combined by being interfered by the multiplexer 14, and output from one of the two ports of the optical output waveguide 15.

図4は、干渉系光導波路の層構造を説明する図である。図4において、(a)は電極がない領域の干渉系光導波路を示し、(b)は変調信号電極または位相変調電極を有する領域の干渉系光導波路を示し、(c)はSOAを形成する干渉系光導波路を示す。   FIG. 4 is a diagram for explaining the layer structure of the interference optical waveguide. 4A shows an interference optical waveguide in a region where no electrode is provided, FIG. 4B shows an interference optical waveguide in a region having a modulation signal electrode or a phase modulation electrode, and FIG. 4C forms an SOA. An interference optical waveguide is shown.

干渉系光導波路13は、図4(a)に示すように、n−InP基板21上に、n−InGaAsPコンタクト層22と、n−InPクラッド層23と、i−MQWコア層24と、p−InPクラッド層25とが積層されて構成されている。   As shown in FIG. 4A, the interference optical waveguide 13 includes an n-InGaAsP contact layer 22, an n-InP clad layer 23, an i-MQW core layer 24, and a p-type layer on an n-InP substrate 21. The InP clad layer 25 is laminated.

変調信号電極16は、図4(b)に示すように、n−InGaAsPコンタクト層22上に設けられたn側電極28と、p−InPクラッド層25の上に積層されたp−InGaAsPコンタクト層26の上に設けられたP側電極27であり、干渉系光導波路13に沿って設けられた進行波型電極として構成される。変調信号電極16は、干渉系光導波路13に沿って流れる電気信号により干渉系光導波路13の屈折率を変化させることにより、干渉系光導波路13を伝搬する光の速度を変化する。このように電気信号の変化により光の伝搬速度が変化するので、変調信号電極16に入力された電気信号が、干渉系光導波路13を伝搬する光信号に変換されることとなる。1対の干渉系光導波路13のそれぞれに設けられた変調信号電極16において異なる変調信号電圧を印加することにより、1対の干渉系光導波路13を伝搬する2つの光信号に位相差を与えている。   As shown in FIG. 4B, the modulation signal electrode 16 includes an n-side electrode 28 provided on the n-InGaAsP contact layer 22 and a p-InGaAsP contact layer stacked on the p-InP clad layer 25. 26 is a P-side electrode 27 provided on 26, and is configured as a traveling wave electrode provided along the interference optical waveguide 13. The modulation signal electrode 16 changes the speed of light propagating through the interference optical waveguide 13 by changing the refractive index of the interference optical waveguide 13 by an electric signal flowing along the interference optical waveguide 13. Thus, since the propagation speed of light changes due to the change of the electric signal, the electric signal input to the modulation signal electrode 16 is converted into an optical signal propagating through the interference optical waveguide 13. By applying different modulation signal voltages at the modulation signal electrodes 16 provided in each of the pair of interference optical waveguides 13, a phase difference is given to the two optical signals propagating through the pair of interference optical waveguides 13. Yes.

位相変調電極17は、図4(b)に示すように、n−InGaAsPコンタクト層22上に設けられたn側電極と、p−InPクラッド層25上に設けられたp−InGaAsPコンタクト層26およびP側電極27とを設けることにより構成される。位相変調電極17は、1対の干渉系光導波路13の導波路長の相違を補償するための位相調整電圧を印加するための電極である。2つの位相変調電極17のいずれか一方に調整用の電圧を印加することにより、1対の干渉系光導波路13の長さの製造誤差を位相調整により微調整することができる。   As shown in FIG. 4B, the phase modulation electrode 17 includes an n-side electrode provided on the n-InGaAsP contact layer 22, a p-InGaAsP contact layer 26 provided on the p-InP cladding layer 25, and A P-side electrode 27 is provided. The phase modulation electrode 17 is an electrode for applying a phase adjustment voltage for compensating for a difference in waveguide length between the pair of interference optical waveguides 13. By applying a voltage for adjustment to one of the two phase modulation electrodes 17, the manufacturing error of the length of the pair of interference optical waveguides 13 can be finely adjusted by phase adjustment.

SOA電極18は、図4(c)に示すように、図4(a)に示す干渉系光導波路13の半導体積層構造におけるi−MQWコア層24がi−MQW活性層29として機能する光増幅器(SOA)の領域に電圧を印加するための電極27、28である。なお、p−InPクラッド層25にはp−InGaAsPコンタクト層26を介して電極27が設けられる。このSOA電極18を用いてpn接合構造を有する干渉系光導波路13に順方向電流を流すことにより干渉系光導波路13を光増幅器として機能させ、i−MQW活性層29を伝搬する光の強度を増幅することができる。   As shown in FIG. 4C, the SOA electrode 18 is an optical amplifier in which the i-MQW core layer 24 in the semiconductor laminated structure of the interference optical waveguide 13 shown in FIG. 4A functions as the i-MQW active layer 29. Electrodes 27 and 28 for applying a voltage to the (SOA) region. The p-InP cladding layer 25 is provided with an electrode 27 via a p-InGaAsP contact layer 26. By using the SOA electrode 18 to cause a forward current to flow through the interference optical waveguide 13 having a pn junction structure, the interference optical waveguide 13 functions as an optical amplifier, and the intensity of light propagating through the i-MQW active layer 29 is increased. Can be amplified.

図3に示す半導体MZ光変調器1において、入力側光導波路11から分波器12に入力された光は、2つの干渉系光導波路13に分岐されて伝搬する。その後、各干渉系導波路13に形成された電極16、17にバイアス電圧が印加されることで電界が印加され、屈折率が変化することで、実効的な光路長が変化する。その後信号光は、干渉系導波路13の合波器14側に形成されたSOA電極18に挟まれた干渉系光導波路13の部分を通過する際に、注入電流に応じた増幅率で増幅される。干渉系導波路13を通過した後は、このときの位相条件に基づいて合波器14によって合波される。   In the semiconductor MZ optical modulator 1 shown in FIG. 3, light input from the input-side optical waveguide 11 to the demultiplexer 12 is branched into two interference optical waveguides 13 and propagates. Thereafter, an electric field is applied by applying a bias voltage to the electrodes 16 and 17 formed in each interference waveguide 13, and the effective optical path length is changed by changing the refractive index. Thereafter, when the signal light passes through the portion of the interference optical waveguide 13 sandwiched between the SOA electrodes 18 formed on the multiplexer 14 side of the interference waveguide 13, the signal light is amplified at an amplification factor according to the injection current. The After passing through the interference waveguide 13, the light is multiplexed by the multiplexer 14 based on the phase condition at this time.

ここで、複数の光導波路から伝搬される光信号を合波するには、一般的にMMI(多モード干渉:Multi−Mode−Interferometer)合波器14が用いられる。MMIによる合波原理は、複数の入力側光導波路11から入射した光が、多モード導波路構造部分で互いに干渉し、これらの光の位相条件によって、光強度が強めあう位置(距離と方向)が決まるため、この位置に光出力導波路15を作成することで、光の合波出力光を取り出すことを可能にする。   Here, in order to multiplex optical signals propagated from a plurality of optical waveguides, an MMI (Multi-Mode-Interferometer) multiplexer 14 is generally used. The principle of multiplexing by MMI is the position (distance and direction) where light incident from a plurality of input-side optical waveguides 11 interferes with each other in the multimode waveguide structure part, and the light intensity increases depending on the phase condition of these lights. Therefore, by creating the light output waveguide 15 at this position, it becomes possible to take out the combined output light of the light.

したがって、一般的に用いられる2入力2出力のMMIの場合、2つのポートから構成される光出力導波路15のうちの一方は出力ポートとして機能させ、他方はモニタポートとして機能させることができる。出力光ポートと逆位相となる光がモニタポートに出力されるように設計される。この出力光とは逆位相となるモニタポートへの出力光強度を用いて、位相条件によるオン/オフ動作点の設定と、オフ点での消光特性および光出力強度の調整手順を以下に記す。   Therefore, in the case of a commonly used 2-input 2-output MMI, one of the optical output waveguides 15 composed of two ports can function as an output port, and the other can function as a monitor port. It is designed so that light having an opposite phase to the output optical port is output to the monitor port. Using the output light intensity to the monitor port having a phase opposite to that of the output light, the setting of the on / off operation point according to the phase condition, the extinction characteristic at the off point, and the adjustment procedure of the light output intensity are described below.

まず、変調信号電極16、位相調整電極17における干渉系導波路13の逆バイアス印加電圧によって、2つの伝搬光の位相差を制御し、モニタポートへの光出力が最大(出力ポートへの光出力が最小に相当)になるように調整する。次に、片側の干渉系導波路13内に形成されたSOAへの注入電流を制御し、モニタポートの出力が最大になるようにSOA電極18への注入電流を調整する。この時点で、干渉系導波路13からMMI合波器14への信号光強度が揃っている状態が得られる。さらに光変調器1からの光出力強度を大きくする場合は、両方の干渉系導波路13内のSOAへの注入電流を制御して所望の光出力が得られる条件に調整することが可能になる。   First, the phase difference between the two propagation lights is controlled by the reverse bias voltage applied to the interference waveguide 13 at the modulation signal electrode 16 and the phase adjustment electrode 17, and the optical output to the monitor port is maximized (the optical output to the output port). Is adjusted to the minimum). Next, the injection current to the SOA formed in the interference waveguide 13 on one side is controlled, and the injection current to the SOA electrode 18 is adjusted so that the output of the monitor port is maximized. At this point, a state is obtained in which the signal light intensities from the interference waveguide 13 to the MMI multiplexer 14 are uniform. Further, when the light output intensity from the optical modulator 1 is increased, it is possible to control the injection current to the SOA in both the interference waveguides 13 to adjust the condition to obtain a desired light output. .

この実施形態の半導体MZ光変調器1によれば、2つの干渉系導波路内のそれぞれに独立してSOAを形成することで、位相条件による消光特性を改善し、さらに利得を持つ光変調器としての動作も可能になる。また、位相変調機能とは独立したSOA端子を持つことで、干渉系導波路内の光の伝搬損失や吸収損失、また分波器の分岐比変動等に対しても補償制御可能になるため、光変調器の長期動作安定性にも寄与することができる。   According to the semiconductor MZ optical modulator 1 of this embodiment, the SOA is independently formed in each of the two interference waveguides, thereby improving the extinction characteristic due to the phase condition and further having a gain. It is also possible to operate as In addition, by having an SOA terminal independent of the phase modulation function, compensation control can be performed for propagation loss and absorption loss of light in the interference waveguide, and branching ratio fluctuation of the duplexer, etc. It can also contribute to the long-term operational stability of the optical modulator.

(第2の実施形態)
次に、第1の実施形態の半導体MZ光変調器の構成に加えて、SOAの出力をモニタする手段をさらに備えた半導体MZ光変調器について説明する。図5は、本実施形態の半導体MZ光変調器の概略構成を示す図である。本実施形態の光変調器2は、図5に示すように、合波器14の手前の1対の干渉系光導波路13のそれぞれの領域に、光カプラ導波路19とモニタPD20とを設けた構成である。
(Second Embodiment)
Next, in addition to the configuration of the semiconductor MZ optical modulator of the first embodiment, a semiconductor MZ optical modulator further provided with means for monitoring the output of the SOA will be described. FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of the semiconductor MZ optical modulator of the present embodiment. As shown in FIG. 5, the optical modulator 2 of the present embodiment is provided with an optical coupler waveguide 19 and a monitor PD 20 in each region of the pair of interference optical waveguides 13 before the multiplexer 14. It is a configuration.

本実施形態の光変調器2は、入力側光導波路から、干渉系導波路内のSOAを通過する際に信号光が増幅されるまでの構成は第1の実施形態の半導体MZ光変調器1と同様に構成できる。   The configuration of the optical modulator 2 of the present embodiment from the input side optical waveguide until the signal light is amplified when passing through the SOA in the interference waveguide is the semiconductor MZ optical modulator 1 of the first embodiment. It can be configured in the same way.

本実施形態の半導体MZ光変調器では、各干渉系導波路に形成されたSOAによって増幅された信号光強度を、それぞれモニタする手段を有することで、個別に干渉系導波路の光出力強度を制御することを可能にしている。   In the semiconductor MZ optical modulator of this embodiment, the optical output intensity of the interference waveguide is individually measured by having means for monitoring the signal light intensity amplified by the SOA formed in each interference waveguide. Making it possible to control.

これは、SOA電極18が設けられた干渉系光導波路13の領域で増幅されてからMMI合波器14に至るまでの部分に、半導体導波路からなる光カプラ19を形成し、分岐した光強度をフォトダイオード20で検知することを可能にしている。このような光カプラ19は、半導体MZ光変調器2の導波路部分13と同一の構造で形成可能であるため、実際の作製の際にも、フォトリソグラフィ―のマスクパターンに加工することで、新たに異なる装置を追加する手順なしに光カプラを形成することが可能である。   This is because an optical coupler 19 made of a semiconductor waveguide is formed in a portion from the amplification in the region of the interference optical waveguide 13 provided with the SOA electrode 18 to the MMI multiplexer 14, and the branched light intensity. Can be detected by the photodiode 20. Since such an optical coupler 19 can be formed with the same structure as the waveguide portion 13 of the semiconductor MZ optical modulator 2, it can be processed into a photolithographic mask pattern during actual fabrication, It is possible to form an optical coupler without the procedure of adding a new different device.

また、分岐した光強度をモニタするためのフォトダイオード20も、SOA電極18が設けられた干渉系光導波路13の領域と同じ半導体層構造として形成し、逆バイアスを印加することで十分な光吸収係数を得ることができる。したがって、フォトダイオード20も新たに異なる装置を追加する手順無しにフォトリソグラフィのマスクパターン加工によって形成可能である。モニタ用フォトダイオード20部分の半導体層構造は図4(c)に示す構成と同様の層構造を採用できる。この半導体構造では逆バイアス電圧で吸収係数を制御し、モニタ電流を調整することが可能になる。   The photodiode 20 for monitoring the branched light intensity is also formed as the same semiconductor layer structure as the region of the interference optical waveguide 13 provided with the SOA electrode 18, and sufficient light absorption is achieved by applying a reverse bias. A coefficient can be obtained. Therefore, the photodiode 20 can also be formed by mask pattern processing of photolithography without a procedure for newly adding a different apparatus. The semiconductor layer structure of the monitoring photodiode 20 can employ the same layer structure as that shown in FIG. In this semiconductor structure, the absorption coefficient can be controlled by the reverse bias voltage, and the monitor current can be adjusted.

またフォトダイオード20をSOAと同じ半導体構造で形成することもできる。この場合、ゼロバイアスでも(バイアス電圧印加回路を用いなくても)モニタ電流の検出が可能になる。   The photodiode 20 can also be formed with the same semiconductor structure as the SOA. In this case, the monitor current can be detected even at zero bias (without using a bias voltage application circuit).

通常の光変調器では、このように制御用のモニタ光強度を分岐することは出力光強度の低下を招くが、本実施形態ではSOAによる光増幅が可能であるため、このようなモニタ信号の分岐損も補償することが可能であるため、問題にはならない。さらに、第1の実施形態の半導体MZ光変調器1に比べてそれぞれのSOAによる増幅光強度を直接モニタすることが可能になるため、各干渉系導波路からの出力光強度を直接容易に測定制御することが可能になる。   In a normal optical modulator, branching the monitor light intensity for control in this way causes a reduction in output light intensity. However, in this embodiment, optical amplification by SOA is possible. Since branching loss can be compensated, it does not matter. Furthermore, compared to the semiconductor MZ optical modulator 1 of the first embodiment, it becomes possible to directly monitor the intensity of the amplified light by each SOA, so that the output light intensity from each interference waveguide can be measured directly and easily. It becomes possible to control.

この実施形態の半導体MZ光変調器によれば、第1の実施形態の半導体MZ光変調器による効果に加えて、さらに、増幅された伝搬光強度をそれぞれ観測できるモニタ端子を有することで、出力側合波器への入力光強度が等しくなるように動作させるとともに、出力光強度自体を制御することができる。   According to the semiconductor MZ optical modulator of this embodiment, in addition to the effects of the semiconductor MZ optical modulator of the first embodiment, the output of the semiconductor MZ optical modulator can be further increased by having the monitor terminal capable of observing the amplified propagation light intensity. While operating so that the input light intensity to the side multiplexer becomes equal, the output light intensity itself can be controlled.

以上の実施形態において、変調信号電極16、位相調整電極17、SOA電極18を干渉系光導波路13の入力側から順番に設ける構成としたが、この順番に限ることはなく、任意である。例えば図3の構成において、入力側から順に、変調信号電極16、SOA電極18、位相調整電極17とを設け、位相調整電極17には位相調整用の電圧を印加するとともに、電流(=受光電流)を測定できるようにしておくと位相調整電極17で1対の干渉系光導波路から前記合波器に入力される光の光強度のモニタも可能になる。   In the above embodiment, the modulation signal electrode 16, the phase adjustment electrode 17, and the SOA electrode 18 are provided in order from the input side of the interference optical waveguide 13. However, the order is not limited to this order and is arbitrary. For example, in the configuration of FIG. 3, a modulation signal electrode 16, an SOA electrode 18, and a phase adjustment electrode 17 are provided in order from the input side, and a voltage for phase adjustment is applied to the phase adjustment electrode 17 and a current (= light receiving current). ) Can be measured, the phase adjustment electrode 17 can monitor the light intensity of the light input from the pair of interference optical waveguides to the multiplexer.

また図3または図5の構成において、SOA電極18を変調信号電極16よりも入力側に設けることで、SOAには変調されていない光が入力されるようになる。これはSOAのパターン効果(信号波形によって増幅率が変化してしまう効果)を防ぐことができ、有効である。   Further, in the configuration of FIG. 3 or FIG. 5, by providing the SOA electrode 18 on the input side with respect to the modulation signal electrode 16, light that is not modulated is input to the SOA. This is effective because it can prevent the pattern effect of SOA (the effect of changing the amplification factor depending on the signal waveform).

分岐器・合波器としてはMMIをもとに説明したが、Y分岐、方向性結合器、MZカプラを用いても構わない。   The branching / multiplexing unit has been described based on the MMI, but a Y-branch, a directional coupler, and an MZ coupler may be used.

1、2 光変調器
11 光入力導波路
12 分波器
13 干渉系光導波路
14 合波器
15 光出力導波路
16 変調信号電極
17 位相変調電極
18 SOA電極
21 n−InP基板
22 n−InGaAsPコンタクト層
23 n−InPクラッド層
24 i−MQWコア層
25 p−InPクラッド層
26 p−InGaAsPコンタクト層
27 P側Au電極
28 n側AU電極
29 i−MQW活性層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Optical modulator 11 Optical input waveguide 12 Demultiplexer 13 Interference system optical waveguide 14 Multiplexer 15 Optical output waveguide 16 Modulation signal electrode 17 Phase modulation electrode 18 SOA electrode 21 n-InP substrate 22 n-InGaAsP contact Layer 23 n-InP cladding layer 24 i-MQW core layer 25 p-InP cladding layer 26 p-InGaAsP contact layer 27 P-side Au electrode 28 n-side AU electrode 29 i-MQW active layer

Claims (5)

光入力導波路と、
前記光入力導波路から入力された光を2つに分岐する分波器と、
前記分波器で分岐された2つの光に対して位相差を与える1対の光導波路と、
前記1対の光導波路で位相差を与えられた2つの光を干渉させることにより合波する合波器と、
前記合波器において合波した光を2つの出力ポートのうちのいずれかから出力する光出力導波路とを備えたMZ光変調器であって、
前記1対の光導波路は、スラブ型の半導体積層構造を有し、前記1対の光導波路の各々は、それぞれ、該光導波路を伝搬する光を変調する変調信号電圧を印加する変調信号電極と、該1対の光導波路の導波路長の相違を補償するための位相調整電圧を印加する位相調整電極と、該光導波路を伝搬する光を増幅する注入電流を印加するSOA電極とを有し、前記SOA電極のそれぞれに印加する注入電流を独立に制御することにより前記光導波路から合波器へ入力される光の光強度が等しくなるように制御することを特徴とするMZ光変調器。
An optical input waveguide;
A duplexer that splits the light input from the optical input waveguide into two;
A pair of optical waveguides that give a phase difference to the two lights branched by the duplexer;
A multiplexer that multiplexes the light by interfering two lights having a phase difference in the pair of optical waveguides;
An MZ optical modulator comprising an optical output waveguide that outputs the light combined in the multiplexer from one of two output ports;
The pair of optical waveguides has a slab type semiconductor laminated structure, and each of the pair of optical waveguides includes a modulation signal electrode that applies a modulation signal voltage that modulates light propagating through the optical waveguide; A phase adjusting electrode for applying a phase adjusting voltage for compensating for a difference in waveguide length between the pair of optical waveguides, and an SOA electrode for applying an injection current for amplifying light propagating through the optical waveguide. The MZ optical modulator is characterized in that the light intensity of the light input from the optical waveguide to the multiplexer is controlled to be equal by independently controlling the injection current applied to each of the SOA electrodes.
前記1対の光導波路から前記合波器に入力される光の光強度をモニタする手段を備えることを特徴とする請求項1に記載のMZ光変調器。   2. The MZ optical modulator according to claim 1, further comprising means for monitoring light intensity of light input to the multiplexer from the pair of optical waveguides. 前記位相調整電極において受光電流を測定することにより、前記1対の光導波路から前記合波器に入力される光の光強度をモニタすることを特徴とする請求項1または2に記載のMZ光変調器。   3. The MZ light according to claim 1, wherein the light intensity of light input to the multiplexer from the pair of optical waveguides is monitored by measuring a light receiving current at the phase adjustment electrode. 4. Modulator. 前記1対の光導波路から前記合波器に入力される光の光強度をモニタした結果に基づいて、前記1対の光導波路のいずれか一方に設けられたSOA電極に印加する注入電流を調整することにより前記合波器に入力される2つの光の光強度を一定に保つことを特徴とする請求項2または3に記載のMZ光変調器。   The injection current applied to the SOA electrode provided in one of the pair of optical waveguides is adjusted based on the result of monitoring the light intensity of the light input from the pair of optical waveguides to the multiplexer. 4. The MZ optical modulator according to claim 2, wherein the optical intensity of the two lights input to the multiplexer is kept constant. 前記光出力導波路から出力された光の光強度をモニタして、該モニタ結果に基づいて前記1対の光導波路に設けられたSOA電極の両方に印加する注入電流を調整する手段をさらに備えることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のMZ光変調器。   And means for monitoring the light intensity of the light output from the light output waveguide and adjusting the injection current applied to both of the SOA electrodes provided in the pair of optical waveguides based on the monitoring result. The MZ optical modulator according to claim 1, wherein
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011112873A (en) * 2009-11-26 2011-06-09 Furukawa Electric Co Ltd:The Multivalued optical phase modulator
JP2011247926A (en) * 2010-05-24 2011-12-08 Fujitsu Ltd Control method of mach-zehnder type modulator and optical module
JP2012018316A (en) * 2010-07-08 2012-01-26 Mitsubishi Electric Corp Optical modulator, optical transmitter, and method for adjusting bias
JP2012118293A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Sumitomo Electric Device Innovations Inc Manufacturing method of optical device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011112873A (en) * 2009-11-26 2011-06-09 Furukawa Electric Co Ltd:The Multivalued optical phase modulator
JP2011247926A (en) * 2010-05-24 2011-12-08 Fujitsu Ltd Control method of mach-zehnder type modulator and optical module
JP2012018316A (en) * 2010-07-08 2012-01-26 Mitsubishi Electric Corp Optical modulator, optical transmitter, and method for adjusting bias
JP2012118293A (en) * 2010-11-30 2012-06-21 Sumitomo Electric Device Innovations Inc Manufacturing method of optical device

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