JP2015065267A - Material for organic thin film solar battery elements, and use thereof - Google Patents

Material for organic thin film solar battery elements, and use thereof Download PDF

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美智子 玉野
二郎 千阪
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二郎 千阪
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material for photoelectric conversion elements which enables a film formation by deposition or spin coating and allows a high photoelectric conversion efficiency to be achieved when used for a photoelectric conversion element.SOLUTION: A material for organic thin film solar battery elements comprises a compound expressed by the general formula below. [General formula] (In the formula, X represents -O- or -S-; and Rto Rrepresent a substituent group.)

Description

本発明は、新規な有機薄膜太陽電池素子(以下光電変換素子と略記)用材料およびその用途に関する。さらに詳しくは、光電変換素子に用いた場合、蒸着やスピンコートにより製膜が可能であり、かつ優れた性能(高い光電気変換効率)を発揮し、特に光電変換材料に好適に用いることができる光電変換素子用材料に関する。   The present invention relates to a novel material for an organic thin film solar cell element (hereinafter abbreviated as a photoelectric conversion element) and its use. More specifically, when used in a photoelectric conversion element, it can be formed by vapor deposition or spin coating, and exhibits excellent performance (high photoelectric conversion efficiency), and can be suitably used particularly for a photoelectric conversion material. The present invention relates to a material for a photoelectric conversion element.

近年、光電変換素子は、太陽光を直接電力に変換でき、さらにはその発電の過程で有害ガス等を全く発生しないクリーンな省エネルギーソースであり、注目を集めている。これまでは、シリコンや化合物半導体を用いたものが開発、実用化されている。中でも、シリコンを用いたものは、製造過程で高純度シリコンが必要とされ、製造工程は高温プロセスからなり、製造に要するエネルギーを考慮すると、光電変換素子として必ずしも省エネルギー技術に十分貢献しているとは言えなかった。また、これらデバイスはその性質上、固く、もろいといった特徴を持っている。さらに、高温プロセスが必要となり、基材には、ガラスを用いることが必要条件となっている。   In recent years, photoelectric conversion elements are attracting attention because they are a clean energy-saving source that can directly convert sunlight into electric power and that does not generate harmful gases at all in the process of power generation. Until now, silicon and compound semiconductors have been developed and put to practical use. Among them, silicon-based materials require high-purity silicon in the manufacturing process, the manufacturing process consists of a high-temperature process, and considering the energy required for manufacturing, the photoelectric conversion element does not necessarily contribute sufficiently to energy-saving technology. I could not say. In addition, these devices are characterized by their characteristics of being hard and fragile. Furthermore, a high temperature process is required, and it is a necessary condition to use glass for the substrate.

近年の技術開発により、これら問題点を解決すべく、製造時の省エネルギー化が期待で
き、高温プロセスを用いず大面積化が用意な( 塗布) プロセスが適応できる有機材料を用いた太陽電池が注目されている。(特許文献1)さらに、低温でデバイスが作製できるため、基材にプラスチックなどを利用することも可能で、軽量且つフレキシブルなデバイスの実現も可能であり、新たな応用用途が期待されている。
With recent technological developments, to solve these problems, solar cells using organic materials that can be expected to save energy during manufacturing and that can be applied to processes that require a large area without using high-temperature processes (application) are attracting attention. Has been. (Patent Document 1) Furthermore, since a device can be manufactured at a low temperature, it is possible to use a plastic or the like as a base material, and it is possible to realize a lightweight and flexible device, and a new application is expected.

有機薄膜太陽電池素子においては、高い光電変換効率と長寿命化が求められている。光電変換層にベンゾポルフィリンやフタロシアニン、共役系ポリマー等の有機p型半導体と、ペリレンジイミドやフラーレン誘導体等の有機n型半導体からなる薄膜を挟んだ素子構造を有する有機薄膜太陽電池の実用化検討はなされているが、現状では、光電変換効率は未だ2〜3% と低く、更なる効率向上が課題となっている。一方、有機薄膜太陽電池の光電変換効率向上を解決する手段として、例えば(非特許文献1)では、有機半導体材料として、ポルフィリンやフタロシアニン誘導体の他に、潜在顔料としてジケロピロロピロールが報告されている。(非特許文献2)   In organic thin-film solar cell elements, high photoelectric conversion efficiency and long life are required. The practical application of organic thin-film solar cells with an element structure in which an organic p-type semiconductor such as benzoporphyrin, phthalocyanine, or a conjugated polymer and a thin film composed of an organic n-type semiconductor such as perylene diimide or fullerene derivative are sandwiched between photoelectric conversion layers However, at present, the photoelectric conversion efficiency is still as low as 2 to 3%, and further improvement in efficiency is an issue. On the other hand, as a means for solving the photoelectric conversion efficiency improvement of the organic thin film solar cell, for example, (Non-Patent Document 1) reports diceropyrrolopyrrole as a latent pigment in addition to porphyrin and phthalocyanine derivatives as organic semiconductor materials. Yes. (Non-Patent Document 2)

その中で、フラン環を含有するジケロピロロピロール誘導体は、吸収波長が長波長化すると考えられているフラン環を含有する化合物に注目すると、ポリマー材料が多く報告されている。(非特許文献3〜7)しかし、ポリマー材料である場合、いずれも素子の寿命は短く、実用的な材料とはいい難いという欠点があった。   Among them, as for the diceropyrrolopyrrole derivative containing a furan ring, many polymer materials have been reported when attention is paid to a compound containing a furan ring, which is considered to have a long absorption wavelength. (Non-Patent Documents 3 to 7) However, in the case of a polymer material, the lifetime of the device is short, and there is a drawback that it is difficult to say that it is a practical material.

また、フラン環を含有するジケロピロロピロール誘導体として、低分子材料が開示されている。(特許文献2)しかしながら、N原子上に置換基が無い(本願実施例における化合物(A)参照)為、吸収波長が短く、かつ、結晶性が高い為、素子の寿命が短く、実用的な材料とはいい難いという欠点があった。   Moreover, a low molecular weight material is disclosed as a diceropyrrolopyrrole derivative containing a furan ring. (Patent Document 2) However, since there is no substituent on the N atom (see compound (A) in the examples of the present application), the absorption wavelength is short and the crystallinity is high, so that the lifetime of the device is short and practical. There was a drawback that it was difficult to use the material.

また、チオフェン環を含有するジケロピロロピロールのポリマー誘導体が開示されている。(特許文献3)しかし、いずれも素子の寿命は短く、実用的な材料とはいい難いという欠点があった。   Also disclosed is a polymer derivative of diceropyrrolopyrrole containing a thiophene ring. (Patent Document 3) However, all have shortcomings that the lifetime of the element is short and it is difficult to say that it is a practical material.

また、チオフェン環を含有するジケロピロロピロール誘導体が開示されている(特許文献4)。しかしながら、フラン環を含有するジケロピロロピロール誘導体について記載された特許文献は無い。   In addition, a diceropyrrolopyrrole derivative containing a thiophene ring is disclosed (Patent Document 4). However, there is no patent document describing a diceropyrrolopyrrole derivative containing a furan ring.

また、一般に有機デバイスは、熱、光、水分、酸素などの外的要因により有機材料そのものが劣化し、無機デバイスに比べて寿命が短いといった特性がある。さらに、光電変換素子は、実用化には、光電変換効率を向上させる必要がある。   In general, an organic device has a characteristic that the organic material itself deteriorates due to external factors such as heat, light, moisture, oxygen, and the life is shorter than that of an inorganic device. Furthermore, the photoelectric conversion element needs to improve the photoelectric conversion efficiency for practical use.

また、光電変換材料は一般的に薄膜として使用されるため、薄膜の経時安定性がデバイスの寿命に大きな影響を与える。さらに、塗布プロセスを応用するためには、汎用の溶媒に対して、高い溶解性が必要とされている。   In addition, since the photoelectric conversion material is generally used as a thin film, the temporal stability of the thin film greatly affects the lifetime of the device. Furthermore, in order to apply the coating process, high solubility is required for general-purpose solvents.

特開2004-335737号公報JP 2004-335737 A 特開2010-192782号公報JP 2010-192782 JP 特開2009-541548号公報JP 2009-541548 特開2011-501743号公報JP 2011-501743 A

松尾豊著 有機薄膜太陽電池の科学 化学同人 2011年発行 53〜94頁Yutaka Matsuo Science of organic thin-film solar cells J.S.Zambounis,Z.Hao,A.Iqbal,Nature,388,131(1997)J.S.Zambounis, Z.Hao, A.Iqbal, Nature, 388,131 (1997) Phys. Chem. Chem. Phys., 2012, 14, 7162-7169Phys. Chem. Chem. Phys., 2012, 14, 7162-7169 J. Mater. Chem., 2012, 22, 4425-4435J. Mater. Chem., 2012, 22, 4425-4435 J. Mater. Chem., 2011, 21, 1600-1606J. Mater. Chem., 2011, 21, 1600-1606 J.Am.Chem.Soc.2010,132,15547-15549J.Am.Chem.Soc.2010,132,15547-15549 J.Am.Chem.Soc.2012,134,2180-2185J.Am.Chem.Soc. 2012,134,2180-2185

本発明の課題は、光電変換素子用材料に有用で、蒸着、および塗布製膜が可能であり、且つ、高い光電変換効率を示す、ジケトピロロピロールを基本骨格とする化合物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a compound having diketopyrrolopyrrole as a basic skeleton that is useful as a material for a photoelectric conversion element, can be deposited and formed into a film, and exhibits high photoelectric conversion efficiency. is there.

本発明者らは、前記諸問題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have arrived at the present invention.

すなわち本発明は、下記一般式[1]で表される化合物、および/または下記一般式[2]で表される化合物を含んでなる有機薄膜太陽電池素子用材料に関する。
一般式[1]

Figure 2015065267

(式中、Xは、−O−、または、−S−を表し、
1およびR2は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、または、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシカルボニル基を表し、
3〜R5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[3]で表される基を表す。ただし、R3〜R5の少なくとも1つは下記一般式[3]で表される基である。
6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[4]で表される基を表す。ただし、R6〜R8の少なくとも1つは下記一般式[4]で表される基である。)
一般式[2]
Figure 2015065267

(式中、Xは、−O−、または、−S−を表し、
9およびR10は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、または、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシカルボニル基を表し、
11〜R13は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[3]で表される基を表す。ただし、R11〜R13の少なくとも1つは下記一般式[3]で表される基である。
14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[4]で表される基を表す。ただし、R14〜R16の少なくとも1つは下記一般式[4]で表される基である。)
一般式[3]
Figure 2015065267

(式中、Yは、直接結合、置換もしくは未置換の2価の芳香族炭化水素基、または、置換もしくは未置換の2価の芳香族複素環基を表す。)
一般式[4]
Figure 2015065267


(式中、Zは、直接結合、置換もしくは未置換の2価の芳香族炭化水素基、または、置換もしくは未置換の2価の芳香族複素環基を表し、
17〜R26は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、または、置換アミノ基を表し、R17〜R21、R22〜R26、および、R21とR22は、隣り合う置換基どうしで環を形成しても良い。) That is, the present invention relates to a material for an organic thin film solar cell element comprising a compound represented by the following general formula [1] and / or a compound represented by the following general formula [2].
General formula [1]
Figure 2015065267

(In the formula, X represents -O- or -S-,
R 1 and R 2 each independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group;
R 3 to R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [3] Represents a group. However, at least one of R 3 to R 5 is a group represented by the following general formula [3].
R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [4] Represents a group. However, at least one of R 6 to R 8 is a group represented by the following general formula [4]. )
General formula [2]
Figure 2015065267

(In the formula, X represents -O- or -S-,
R 9 and R 10 each independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group;
R 11 to R 13 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [3] Represents a group. However, at least one of R 11 to R 13 is a group represented by the following general formula [3].
R 14 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [4] Represents a group. However, at least one of R 14 to R 16 is a group represented by the following general formula [4]. )
General formula [3]
Figure 2015065267

(In the formula, Y represents a direct bond, a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group, or a substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic group.)
General formula [4]
Figure 2015065267


(In the formula, Z represents a direct bond, a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group, or a substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic group,
R 17 to R 26 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, or a substituted amino group, R 17 to R 21 , R 22 to R 26 , and R 21 and R 22 may form a ring with adjacent substituents. )

また、本発明は、一対の電極間に光電変換層を含む有機層を形成してなる有機薄膜太陽電池素子において、光電変換層が、上記有機薄膜太陽電池素子用材料を含んでなる有機薄膜太陽電池素子に関する。   Further, the present invention provides an organic thin film solar cell element in which an organic layer including a photoelectric conversion layer is formed between a pair of electrodes, wherein the photoelectric conversion layer includes the organic thin film solar cell element material. The present invention relates to a battery element.

また、本発明は、光電変換層に、n型半導体材料としてフラーレン誘導体を含むことを特徴とする上記有機薄膜太陽電池素子に関する。   Moreover, this invention relates to the said organic thin film solar cell element characterized by including a fullerene derivative as a n-type semiconductor material in a photoelectric converting layer.

また、本発明は、光電変換層に、n型半導体材料として無機半導体を含むことを特徴とする上記有機薄膜太陽電池素子に関する。   Moreover, this invention relates to the said organic thin film solar cell element characterized by including an inorganic semiconductor as a n-type semiconductor material in a photoelectric converting layer.

また、本発明は、光電変換層が塗布により成膜されてなる請求項4〜6いずれか記載の有機薄膜太陽電池素子に関する。   Moreover, this invention relates to the organic thin-film solar cell element in any one of Claims 4-6 in which a photoelectric converting layer is formed into a film by application | coating.

また、本発明は、上記有機薄膜太陽電池素子用材料と有機溶剤からなる有機薄膜太陽電池素子用インキ組成物に関する。   Moreover, this invention relates to the ink composition for organic thin film solar cell elements which consists of the said organic thin film solar cell element material and an organic solvent.

本発明の光電変換素子用材料を用いた光電変換素子は、高い光電変換効率を示し、かつ、長寿命であるため、表示板、標識灯の電源としても使用可能である。   A photoelectric conversion element using the photoelectric conversion element material of the present invention exhibits high photoelectric conversion efficiency and has a long lifetime, and therefore can be used as a power source for a display board and a marker lamp.

以下、詳細にわたって本発明を説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

まず、一般式[1]におけるR1およびR2、ならびに、一般式[2]におけるR9およびR10は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、または、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシカルボニル基を表す。 First, R 1 and R 2 in the general formula [1] and R 9 and R 10 in the general formula [2] are each independently a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted alkoxy. A carbonyl group or a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group is represented.

1およびR2、ならびに、R9およびR10における脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基を指し、そのようなものとしては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group for R 1 and R 2 , and R 9 and R 10 refers to an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, such as an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group. Group and a cycloalkyl group.

ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基といった炭素数1〜18のアルキル基が挙げられる。   Here, as the alkyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group , An alkyl group having 1 to 18 carbon atoms such as a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, and an octadecyl group.

また、アルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−オクテニル基、1−デセニル基、1−オクタデセニル基といった炭素数2〜18のアルケニル基が挙げられる。   Examples of the alkenyl group include vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, isopropenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-octenyl group, 1-decenyl group, 1 -C2-C18 alkenyl groups, such as an octadecenyl group, are mentioned.

また、アルキニル基としては、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−オクチニル基、1−デシニル基、1−オクタデシニル基といった炭素数2〜18のアルキニル基が挙げられる。   Examples of the alkynyl group include ethynyl group, 1-propynyl group, 2-propynyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-octynyl group, 1-decynyl group and 1-octadecynyl group. Examples include alkynyl groups having 2 to 18 carbon atoms.

また、シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロオクタデシル基といった炭素数3〜18のシクロアルキル基が挙げられる。   Examples of the cycloalkyl group include cycloalkyl groups having 3 to 18 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and a cyclooctadecyl group.

1およびR2、ならびに、R9およびR10におけるアルコキシカルボニル基としては、炭素数2〜14のアルコキシカルボニル基が好ましい。このようなものとして、以下の例には限定されないが、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基が挙げられる。 The alkoxycarbonyl group in R 1 and R 2 and R 9 and R 10 is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 14 carbon atoms. Examples of such include, but are not limited to, the following examples: methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, and benzyloxycarbonyl group.

1およびR2、ならびに、R9およびR10におけるアリ−ルオキシカルボニル基としては、炭素数2〜14のアリ−ルオキシカルボニル基が好ましい。このようなものとして、以下の例には限定されないが、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基が挙げられる。 As the aryloxycarbonyl group for R 1 and R 2 , and R 9 and R 10, an aryloxycarbonyl group having 2 to 14 carbon atoms is preferable. As such, although not limited to the following examples, a phenoxycarbonyl group and a naphthyloxycarbonyl group are exemplified.

次に、一般式[1]におけるR3〜R5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、一般式[3]で表される基を表す。ただし、R3〜R5の少なくとも1つは一般式[3]で表される基である。
6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、一般式[4]で表される基を表す。ただし、R6〜R8の少なくとも1つは一般式[4]で表される基である。
Next, R 3 to R 5 in the general formula [1] are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or An unsubstituted aliphatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or Represents a group represented by the general formula [3]. However, at least one of R 3 to R 5 is a group represented by the general formula [3].
R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or a general formula [4] Represents a group. However, at least one of R 6 to R 8 is a group represented by the general formula [4].

また、一般式[2]におけるR11〜R13は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、一般式[3]で表される基を表す。ただし、R11〜R13の少なくとも1つは一般式[3]で表される基である。
14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、一般式[4]で表される基を表す。ただし、R14〜R16の少なくとも1つは一般式[4]で表される基である。
In the general formula [2], R 11 to R 13 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted group. A substituted aliphatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or The group represented by General Formula [3] is represented. However, at least one of R 11 to R 13 is a group represented by the general formula [3].
R 14 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or a general formula [4] Represents a group. However, at least one of R 14 to R 16 is a group represented by the general formula [4].

3〜R8、ならびに、R11〜R16におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the halogen atom in R 3 to R 8 and R 11 to R 16 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

3〜R8、ならびに、R11〜R16における脂肪族炭化水素基は、R1およびR2における脂肪族炭化水素基と同義である。 The aliphatic hydrocarbon group for R 3 to R 8 and R 11 to R 16 has the same meaning as the aliphatic hydrocarbon group for R 1 and R 2 .

3〜R8、ならびに、R11〜R16における芳香族炭化水素基としては、単環、縮合環、環集合炭化水素基が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon group in R 3 to R 8 and R 11 to R 16 include a single ring, a condensed ring, and a ring assembly hydrocarbon group.

ここで、単環芳香族炭化水素基としては、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、2,4−キシリル基、p−クメニル基、メシチル基等の炭素数6〜18の単環芳香族炭化水素基が挙げられる。   Here, the monocyclic aromatic hydrocarbon group has 6 carbon atoms such as phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 2,4-xylyl group, p-cumenyl group and mesityl group. -18 monocyclic aromatic hydrocarbon groups.

また、縮合環炭化水素基としては、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アンスリル基、2−アンスリル基、5−アンスリル基、1−フェナンスリル基、9−フェナンスリル基、1−アセナフチル基、2−アズレニル基、1−ピレニル基、2−トリフェニレル基等の炭素数10〜18の縮合環炭化水素基が挙げられる。   Examples of the condensed ring hydrocarbon group include 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, 5-anthryl group, 1-phenanthryl group, 9-phenanthryl group, 1-acenaphthyl group, Examples thereof include condensed ring hydrocarbon groups having 10 to 18 carbon atoms such as 2-azurenyl group, 1-pyrenyl group and 2-triphenylyl group.

また、環集合炭化水素基としては、o−ビフェニリル基、m−ビフェニリル基、p−ビフェニリル基等の炭素数12〜18の環集合炭化水素基が挙げられる。   Examples of the ring assembly hydrocarbon group include ring assembly hydrocarbon groups having 12 to 18 carbon atoms such as an o-biphenylyl group, an m-biphenylyl group, and a p-biphenylyl group.

3〜R8、ならびに、R11〜R16における脂肪族複素環基としては、2−ピラゾリノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、2−モルホリニル基といった炭素数3〜18の脂肪族複素環基が挙げられる。 Examples of the aliphatic heterocyclic group represented by R 3 to R 8 and R 11 to R 16 include an aliphatic heterocyclic group having 3 to 18 carbon atoms such as a 2-pyrazolino group, a piperidino group, a morpholino group, and a 2-morpholinyl group. Can be mentioned.

3〜R8、ならびに、R11〜R16における芳香族複素環基としては、トリアゾリル基、3−オキサジアゾリル基、2−フラニル基、3−フラニル基、2−フリル基、3−フリル基、2−チエニル基、3−チエニル基、1−ピロ−リル基、2−ピロ−リル基、3−ピロ−リル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−ピラジル基、2−オキサゾリル基、3−イソオキサゾリル基、2−チアゾリル基、3−イソチアゾリル基、2−イミダゾリル基、3−ピラゾリル基、2−キノリル基、3−キノリル基、4−キノリル基、5−キノリル基、6−キノリル基、7−キノリル基、8−キノリル基、1−イソキノリル基、2−キノキサリニル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチエニル基、N−インドリル基、N−カルバゾリル基、N−アクリジニル基、2−チオフェニル基、3−チオフェニル基、ビピリジル基、フェナントロリル基といった炭素数2〜18の芳香族複素環基が挙げられる。 Examples of the aromatic heterocyclic group in R 3 to R 8 and R 11 to R 16 include a triazolyl group, a 3-oxadiazolyl group, a 2-furanyl group, a 3-furanyl group, a 2-furyl group, a 3-furyl group, 2-thienyl group, 3-thienyl group, 1-pyrrolyl group, 2-pyrrolyl group, 3-pyrrolyl group, 2-pyridyl group, 3-pyridyl group, 4-pyridyl group, 2-pyrazyl group 2-oxazolyl group, 3-isoxazolyl group, 2-thiazolyl group, 3-isothiazolyl group, 2-imidazolyl group, 3-pyrazolyl group, 2-quinolyl group, 3-quinolyl group, 4-quinolyl group, 5-quinolyl group 6-quinolyl group, 7-quinolyl group, 8-quinolyl group, 1-isoquinolyl group, 2-quinoxalinyl group, 2-benzofuryl group, 2-benzothienyl group, N-indolyl group, N-carbazolyl And an aromatic heterocyclic group having 2 to 18 carbon atoms such as a group, N-acridinyl group, 2-thiophenyl group, 3-thiophenyl group, bipyridyl group, and phenanthroyl group.

3〜R8、ならびに、R11〜R16における置換シリル基としては、置換もしくは未置換のアルキル基、または、置換もしくは未置換のアリール基によって置換されたシリル基であり、モノアルキルシリル基、モノアリールシリル基、ジアルキルシリル基、ジアリールシリル基、トリアルキルシリル基、トリアリールシリル基等といった置換シリル基が挙げられる。 The substituted silyl group in R 3 to R 8 and R 11 to R 16 is a substituted or unsubstituted alkyl group, or a silyl group substituted by a substituted or unsubstituted aryl group, and a monoalkylsilyl group And substituted silyl groups such as monoarylsilyl group, dialkylsilyl group, diarylsilyl group, trialkylsilyl group, triarylsilyl group and the like.

ここで、モノアルキルシリル基としては、モノメチルシリル基、モノエチルシリル基、モノブチルシリル基、モノイソプロピルシリル基、モノデカンシリル、モノイコサンシリル基、モノトリアコンタンシリル基等のモノアルキルシリル基が挙げられる。   Here, as the monoalkylsilyl group, a monoalkylsilyl group such as a monomethylsilyl group, a monoethylsilyl group, a monobutylsilyl group, a monoisopropylsilyl group, a monodecanesilyl, a monoicosanesilyl group, or a monotriacontanesilyl group Is mentioned.

また、モノアリールシリル基としては、モノフェニルシリル基、モノトリルシリル基、モノナフチルシリル基、モノアンスリルシリル基等のモノアリールシリルが挙げられる。   Examples of the monoarylsilyl group include monoarylsilyl such as monophenylsilyl group, monotolylsilyl group, mononaphthylsilyl group, and monoanthrylsilyl group.

また、ジアルキルシリル基としては、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、ジイソプロピルシリル基、ジブチルシリル基、ジオクチルシリル基、ジデカンシリル基等のジアルキルシリル基が挙げられる。   Examples of the dialkylsilyl group include dialkylsilyl groups such as dimethylsilyl group, diethylsilyl group, dimethylethylsilyl group, diisopropylsilyl group, dibutylsilyl group, dioctylsilyl group, and didecanesilyl group.

また、ジアリールシリル基としては、ジフェニルシリル基、ジトリルシリル基等のジアリールシリルが挙げられる。   Examples of the diarylsilyl group include diarylsilyl such as diphenylsilyl group and ditolylsilyl group.

また、トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリブチルシリル基、トリオクチルシリル基等のトリアルキルシリル基が挙げられる。   Examples of the trialkylsilyl group include trialkylsilyl groups such as trimethylsilyl group, triethylsilyl group, dimethylethylsilyl group, triisopropylsilyl group, tributylsilyl group, and trioctylsilyl group.

また、トリアリールシリル基としては、トリフェニルシリル基、トリトリルシリル基等のトリアリールシリル基が挙げられる。   Examples of the triarylsilyl group include triarylsilyl groups such as a triphenylsilyl group and a tolylsilylsilyl group.

3〜R8、ならびに、R11〜R16におけるアルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、tert−ブトキシ基、オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基といった炭素数1〜8のアルコキシル基が挙げられる。 Examples of the alkoxyl group in R 3 to R 8 and R 11 to R 16 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a tert-butoxy group, an octyloxy group, and a tert-octyloxy group. 8 alkoxyl groups.

3〜R8、ならびに、R11〜R16におけるアリ−ルオキシ基としては、フェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、9−アンスリルオキシ基といった炭素数6〜14のアリ−ルオキシ基が挙げられる。 As an aryloxy group in R 3 to R 8 and R 11 to R 16 , a phenoxy group, a 4-tert-butylphenoxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 9-anthryloxy group And an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms.

3〜R5、ならびに、R11〜R16における置換アミノ基としては、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジイソプロピルアミノ基、N,N−ジブチルアミノ基、N−ベンジルアミノ基、N,N−ジベンジルアミノ基、N−フェニルアミノ基、N−フェニル−N−メチルアミノ基、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ビス(m−トリル)アミノ基、N,N−ビス(p−トリル)アミノ基、N,N−ビス(p−ビフェニリル)アミノ基、ビス[4−(4−メチル)ビフェニリル]アミノ基、N−α−ナフチル−N−フェニルアミノ基、N−β−ナフチル−N−フェニルアミノ基等の炭素数2〜26の置換アミノ基が挙げられる。 Examples of the substituted amino group in R 3 to R 5 and R 11 to R 16 include N-methylamino group, N-ethylamino group, N, N-diethylamino group, N, N-diisopropylamino group, N, N -Dibutylamino group, N-benzylamino group, N, N-dibenzylamino group, N-phenylamino group, N-phenyl-N-methylamino group, N, N-diphenylamino group, N, N-bis ( m-tolyl) amino group, N, N-bis (p-tolyl) amino group, N, N-bis (p-biphenylyl) amino group, bis [4- (4-methyl) biphenylyl] amino group, N-α Examples thereof include substituted amino groups having 2 to 26 carbon atoms such as naphthyl-N-phenylamino group and N-β-naphthyl-N-phenylamino group.

一般式[3]におけるYは、置換もしくは未置換の2価の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の2価の芳香族複素環基、あるいはそれらの組み合わせ、または直接結合を表す。   Y in the general formula [3] represents a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic group, a combination thereof, or a direct bond.

Yにおける2価の芳香族炭化水素基としては、一般式[1]のR3〜R8で説明した芳香族炭化水素基から1個の水素原子を除いてできる2価の基を挙げることができる。 Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group for Y include a divalent group formed by removing one hydrogen atom from the aromatic hydrocarbon group described in R 3 to R 8 in the general formula [1]. it can.

Yにおける2価の芳香族複素環基としては、一般式[1]のR3〜R8で説明した芳香族複素環基から1個の水素原子を除いてできる2価の基を挙げることができる。 Examples of the divalent aromatic heterocyclic group for Y include a divalent group formed by removing one hydrogen atom from the aromatic heterocyclic group described in R 3 to R 8 in the general formula [1]. it can.

次に、一般式[4]におけるZは、置換もしくは未置換2価の芳香族炭化水素基、または、置換もしくは未置換の2価の芳香族複素環基、あるいはそれらの組み合わせ、または直接結合を表し、
17〜R26は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、または、置換アミノ基を表し、R17〜R21、R22〜R26、および、R21とR22は、隣り合う置換基どうしで環を形成しても良い。
Next, Z in the general formula [4] represents a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic group, a combination thereof, or a direct bond. Represent,
R 17 to R 26 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, or a substituted amino group, R 17 to R 21 , R 22 to R 26 , and R 21 and R 22 may form a ring with adjacent substituents.

Zにおける2価の芳香族炭化水素基としては、一般式[1]のR3〜R8で説明した芳香族炭化水素基から1個の水素原子を除いてできる2価の基を挙げることができる。 Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group in Z include a divalent group formed by removing one hydrogen atom from the aromatic hydrocarbon group described in R 3 to R 8 in the general formula [1]. it can.

Zにおける2価の芳香族複素環基としては、一般式[1]のR3〜R8で説明した芳香族複素環基から1個の水素原子を除いてできる2価の基を挙げることができる。 Examples of the divalent aromatic heterocyclic group in Z include a divalent group formed by removing one hydrogen atom from the aromatic heterocyclic group described in R 3 to R 8 in the general formula [1]. it can.

17〜R26におけるハロゲン原子としては、R3〜R8におけるハロゲン原子と同義である。 The halogen atom in R 17 to R 26 has the same meaning as the halogen atom in R 3 to R 8 .

17〜R26における脂肪族炭化水素基としては、R1およびR2における脂肪族炭化水素基と同義である。 The aliphatic hydrocarbon group for R 17 to R 26 has the same meaning as the aliphatic hydrocarbon group for R 1 and R 2 .

17〜R26における芳香族炭化水素基としては、R3〜R8における芳香族炭化水素基と同義である。 The aromatic hydrocarbon group for R 17 to R 26 has the same meaning as the aromatic hydrocarbon group for R 3 to R 8 .

17〜R26における脂肪族複素環基としては、R3〜R8における脂肪族複素環基と同義である。 The aliphatic heterocyclic group for R 17 to R 26 has the same meaning as the aliphatic heterocyclic group for R 3 to R 8 .

17〜R26における芳香族複素環基としては、R3〜R8における芳香族複素環基と同義である。 The aromatic heterocyclic group for R 17 to R 26 has the same meaning as the aromatic heterocyclic group for R 3 to R 8 .

17〜R26における置換シリル基としては、R3〜R8における置換シリル基と同義である。 The substituted silyl group for R 17 to R 26 has the same meaning as the substituted silyl group for R 3 to R 8 .

17〜R26におけるアルコキシル基としては、R3〜R8におけるアルコキシル基と同義である。 The alkoxyl group for R 17 to R 26, the same meaning as alkoxy group in R 3 to R 8.

17〜R26におけるアリ−ルオキシ基としては、R3〜R8におけるアリ−ルオキシ基と同義である。 The aryloxy group for R 17 to R 26 has the same meaning as the aryloxy group for R 3 to R 8 .

17〜R26における置換アミノ基としては、R3〜R8における置換アミノ基と同義である。 The substituted amino group for R 17 to R 26 has the same meaning as the substituted amino group for R 3 to R 8 .

これら、脂肪族炭化水素基、アルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基、芳香族炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アルコキシル基、アリ−ルオキシ基、2価の芳香族炭化水素基、2価の芳香族複素環基は、さらに他の置換基によって置換されていても良い。そのような置換基としては、前述の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基が挙げられる。   These, aliphatic hydrocarbon group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aromatic hydrocarbon group, aliphatic heterocyclic group, aromatic heterocyclic group, alkoxyl group, aryloxy group, divalent aromatic The hydrocarbon group and the divalent aromatic heterocyclic group may be further substituted with other substituents. Examples of such a substituent include the above-described aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group, aliphatic heterocyclic group, and aromatic heterocyclic group.

以上、一般式[1]で表される化合物および一般式[2]で表される化合物について説明した。これらの化合物を光電変換素子用材料として蒸着法によって光電変換素子を作成する場合、光電変換素子用材料の分子量としては、1500以下が好ましく、1200以下がより好ましく、1000以下がさらに好ましく、800以下が特に好ましい。この理由として、分子量が大きいと、蒸着による素子の作製が困難になる懸念があるためである。   The compound represented by the general formula [1] and the compound represented by the general formula [2] have been described above. When producing a photoelectric conversion element by vapor deposition using these compounds as a photoelectric conversion element material, the molecular weight of the photoelectric conversion element material is preferably 1500 or less, more preferably 1200 or less, still more preferably 1000 or less, and further preferably 800 or less. Is particularly preferred. This is because, when the molecular weight is large, there is a concern that it is difficult to produce an element by vapor deposition.

しかし、塗布法により光電変換素子を作成する場合は、この限りではない。この場合、分子量よりも、使用する溶媒に対する溶解性と塗布膜のアモルファス性が重要となる。   However, this is not the case when a photoelectric conversion element is formed by a coating method. In this case, the solubility in the solvent used and the amorphous nature of the coating film are more important than the molecular weight.

更に、詳細に説明すると、本発明の光電変換素子用材料は、ジケトピロロピロール環のN原子に置換基(具体例:R1及びR2、R6及びR7)が水素原子である場合、分子間水素結合により塗工溶媒への溶解性が低下し、塗布による光電変換素子作成が困難となる。 More specifically, in the photoelectric conversion element material of the present invention, the substituent (specific examples: R 1 and R 2 , R 6 and R 7 ) is a hydrogen atom on the N atom of the diketopyrrolopyrrole ring. In addition, the solubility in a coating solvent is reduced by intermolecular hydrogen bonding, and it becomes difficult to produce a photoelectric conversion element by coating.

本発明の光電変換素子用材料の代表例を、以下の表1に示すが、本発明は、この代表例に限定されるものではない。   Although the typical example of the material for photoelectric conversion elements of this invention is shown in the following Table 1, this invention is not limited to this representative example.

Figure 2015065267
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本発明における、n型半導体の例としては、フラーレン(C60、C70、C76等)化合物; オクタアザポルフィリン、上記p型半導体のパーフルオロ体、ナフタレンテトラカルボン酸無水物、ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド、ペリレンテトラカルボン酸無水物、ペリレンテトラカルボン酸ジイミド等の芳香族カルボン酸無水物やそのイミド化物;及び、これらの化合物を骨格として含む誘導体などが挙げられる。その中でも好ましくはフラーレン化合物であり、さらに好ましくはインデン類が付加されたフラーレン化合物である。インデン類が付加されたフラーレン化合物は、特段の制限はないが、例えば国際公開第2008/018931号に記載のものが挙げられる。   Examples of n-type semiconductors in the present invention include fullerene (C60, C70, C76, etc.) compounds; octaazaporphyrins, perfluoro compounds of the above p-type semiconductors, naphthalenetetracarboxylic anhydride, naphthalenetetracarboxylic acid diimide, perylene Examples thereof include aromatic carboxylic acid anhydrides such as tetracarboxylic acid anhydride and perylene tetracarboxylic acid diimide and imidized products thereof; and derivatives containing these compounds as a skeleton. Among them, a fullerene compound is preferable, and a fullerene compound to which indenes are added is more preferable. The fullerene compound to which indene is added is not particularly limited, and examples thereof include those described in International Publication No. 2008/018931.

次に、n型半導体として用いられるフラーレン誘導体の代表例を、以下の表2に示すが、本発明は、この代表例に限定されるものではない。   Next, representative examples of fullerene derivatives used as n-type semiconductors are shown in Table 2 below, but the present invention is not limited to these representative examples.

Figure 2015065267
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Figure 2015065267
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次に、n型半導体として用いられる無機半導体の代表例を、以下の表3に示すが、本発明は、この代表例に限定されるものではない。   Next, representative examples of inorganic semiconductors used as n-type semiconductors are shown in Table 3 below, but the present invention is not limited to these representative examples.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

n型半導体として用いられる無機半導体は、単結晶、多結晶、アモルファス、または、これらの混合状態で用いることが出来る。光電変換効率の観点で見ると、電子移動度が高い単結晶や多結晶が好ましく、単結晶が特に好ましい。   The inorganic semiconductor used as the n-type semiconductor can be used in a single crystal, polycrystal, amorphous, or a mixed state thereof. From the viewpoint of photoelectric conversion efficiency, single crystals and polycrystals with high electron mobility are preferable, and single crystals are particularly preferable.

次に、p型半導体の例として、テトラベンゾポルフィリン、テトラベンゾ銅ポルフィリン、テトラベンゾ亜鉛ポルフィリン等のポルフィリン化合物、フタロシアニン、銅フタロシアニン、亜鉛フタロシアニン等のフタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、テトラセンやペンタセンのポリアセン、セキシチオフェン等のオリゴチオフェンおよびこれら化合物を骨格として含む誘導体が挙げられる。さらに、ポリ(3−アルキルチオフェン) などを含むポリチオフェン、ポリフルオレン、ポリフェニレンビニレン、ポリトリアリルアミン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリピロール等の高分子等を用いることもできる。   Next, as examples of p-type semiconductors, porphyrin compounds such as tetrabenzoporphyrin, tetrabenzocopper porphyrin, tetrabenzozinc porphyrin, phthalocyanine compounds such as phthalocyanine, copper phthalocyanine, zinc phthalocyanine, naphthalocyanine compounds, tetracene and pentacene polyacene, sexi Examples include oligothiophenes such as thiophene and derivatives containing these compounds as a skeleton. Furthermore, polymers such as polythiophene, polyfluorene, polyphenylene vinylene, polytriallylamine, polyacetylene, polyaniline, polypyrrole and the like including poly (3-alkylthiophene) can also be used.

光電変換層は、n型半導体及びp型半導体を含有する。少なくともp型半導体および
n型半導体が含有されていれば、光電変換層の具体的な構成は任意である。すなわち光電変換層は、単層の膜のみによって構成されていてもよく、2以上の積層膜によって構成されていてもよい。例えば、n型半導体とp型半導体とを別々の膜に含有させるようにしても良く、n型半導体とp型半導体とを同じ膜に含有させても良い。また、n型半導体及びp型半導体は、それぞれ、1種の半導体材料で構成されていてもよく、任意の2種以上の半導体材料を任意の比率で併用しても良い。
The photoelectric conversion layer contains an n-type semiconductor and a p-type semiconductor. As long as at least a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are contained, the specific configuration of the photoelectric conversion layer is arbitrary. That is, the photoelectric conversion layer may be constituted by only a single layer film or may be constituted by two or more laminated films. For example, the n-type semiconductor and the p-type semiconductor may be contained in separate films, or the n-type semiconductor and the p-type semiconductor may be contained in the same film. Each of the n-type semiconductor and the p-type semiconductor may be composed of one kind of semiconductor material, and any two or more kinds of semiconductor materials may be used in an arbitrary ratio.

具体例として、光電変換層は、p型半導体とn型半導体とが層内で相分離した層(i層)を有するバルクヘテロ接合型であってもよい。また光電変換層は、p型半導体を含む層( p層)とn型半導体を含む層(n層)との間の界面を有する積層型(ヘテロpn接合型)であってもよい。さらには、光電変換層はショットキー型であってもよく、以上の種類の組み合わせであってもよい。これらの中でもバルクへテロ接合型、およびバルクへテロ接合型と積層型とを組み合わせた形式(p−i−n接合型)が、高い性能を示すことから好ましい。   As a specific example, the photoelectric conversion layer may be a bulk heterojunction type having a layer (i layer) in which a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are phase-separated within the layer. The photoelectric conversion layer may be a stacked type (hetero pn junction type) having an interface between a layer containing a p-type semiconductor (p layer) and a layer containing an n-type semiconductor (n layer). Further, the photoelectric conversion layer may be a Schottky type or a combination of the above types. Among these, a bulk heterojunction type, and a combination of a bulk heterojunction type and a stacked type (p-i-n junction type) are preferable because they exhibit high performance.

光電変換層のp層、i層、n層各層の厚みに制限はないが、好ましくは3nm以上、さらに好ましくは10nm以上であり、また、好ましくは200nm以下、さらに好ましくは100nm以下である。層厚を厚くすることにより、膜の均一性が高まる傾向がある。また、層厚を薄くすることで透過率が向上し、直列抵抗が低下する傾向がある。   Although there is no restriction | limiting in the thickness of each layer of p layer of a photoelectric converting layer, i layer, and n layer, Preferably it is 3 nm or more, More preferably, it is 10 nm or more, Preferably it is 200 nm or less, More preferably, it is 100 nm or less. By increasing the layer thickness, the uniformity of the film tends to increase. Further, by reducing the layer thickness, the transmittance is improved and the series resistance tends to decrease.

電極は導電性を有する任意の材料により形成することが可能である。電極の材料の例を挙げると、白金、金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケル、銅、チタン、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ナトリウム等の金属あるいはそれらの合金; 酸化インジウムや酸化錫等の金属酸化物、あるいはこれらの合金(ITO)、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアセチレン等の導電性高分子、前記導電性高分子に、塩酸、硫酸、スルホン酸等の酸、FeCI3 等のルイス酸、ヨウ素等のハロゲン原子、ナトリウム、カリウム等の金属原子などのドーパントを含有させた金属粒子、カーボンブラック、フラーレン、カーボンナノチューブ等の導電性粒子をポリマーバインダー等のマトリクスに分散した導電性の複合材料、などが挙げられる。なかでも、正孔を捕集する電極には、Au 、ITO等の高い仕事関数を有する材料が好ましい。一方、電子を捕集する電極には、Alのような低い仕事関数を有する材料が好ましい。仕事関数を最適化することにより、光吸収により生じた正孔及び電子を良好に捕集することができる。 The electrode can be formed of any material having conductivity. Examples of electrode materials include metals such as platinum, gold, silver, aluminum, chromium, nickel, copper, titanium, magnesium, calcium, barium, sodium, and alloys thereof; metal oxides such as indium oxide and tin oxide Or conductive alloys such as these alloys (ITO), polyaniline, polypyrrole, polythiophene, polyacetylene, etc., and acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, sulfonic acid, Lewis acids such as FeCI 3 , iodine, etc. Examples include metal particles containing dopants such as metal atoms such as halogen atoms, sodium and potassium, and conductive composite materials in which conductive particles such as carbon black, fullerene and carbon nanotubes are dispersed in a matrix such as a polymer binder. It is done. Among them, a material having a high work function such as Au and ITO is preferable for the electrode for collecting holes. On the other hand, for the electrode for collecting electrons, a material having a low work function such as Al is preferable. By optimizing the work function, holes and electrons generated by light absorption can be collected well.

尚、本発明における、湿式成膜法とは、塗布法、インクジェット法、ディップコート法、ダイコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコーター法、湿漬塗布法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷、スクリーン印刷法、LB法等などにより、組成物を塗布して成膜するものである。   In the present invention, the wet film forming method is a coating method, an inkjet method, a dip coating method, a die coating method, a spray coating method, a spin coating method, a roll coater method, a dipping coating method, a screen printing method, flexographic printing, The composition is applied to form a film by a screen printing method, an LB method, or the like.

光電変換素子用材料は、高純度の材料が要求されるが、本発明の化合物は、昇華精製法や再結晶法、再沈殿法、ゾーンメルティング法、カラム精製法、吸着法など、あるいはこれら方法を組み合わせて行うことができる。これら精製法の中でも再結晶法によるのが好ましい。昇華性を有する化合物においては、昇華精製法によることが好ましい。昇華精製においては、目的化合物が昇華する温度より低温で昇華ボートを維持し、昇華する不純物を予め除去する方法を採用するのが好ましい。また昇華物を採集する部分に温度勾配を施し、昇華物が不純物と目的物に分散するようにするのが望ましい。以上のような昇華精製は不純物を分離するような精製であり、本発明に適用しうるものである。また、昇華精製を行うことにより、材料の蒸着性の難易度を予測するのに役立つ。   High-purity materials are required for materials for photoelectric conversion elements, but the compounds of the present invention can be obtained by sublimation purification method, recrystallization method, reprecipitation method, zone melting method, column purification method, adsorption method, etc. A combination of methods can be performed. Of these purification methods, the recrystallization method is preferred. For compounds having sublimation properties, it is preferable to employ a sublimation purification method. In the sublimation purification, it is preferable to employ a method in which the sublimation boat is maintained at a temperature lower than the temperature at which the target compound sublimates, and the sublimation impurities are removed in advance. In addition, it is desirable to apply a temperature gradient to the portion where the sublimate is collected so that the sublimate is dispersed in the impurities and the target product. Sublimation purification as described above is purification that separates impurities, and can be applied to the present invention. In addition, sublimation purification is useful for predicting the difficulty of the material vapor deposition.

次に、光電変換素子用インキ組成物について説明する。   Next, the ink composition for photoelectric conversion elements will be described.

本発明における光電変換素子用インキ組成物は、少なくとも本発明の光電変換素子用材料と溶剤を含有する。   The ink composition for photoelectric conversion elements in the present invention contains at least the material for photoelectric conversion elements of the present invention and a solvent.

上記、光電変換素子用インキ組成物に含まれる溶剤としては種々の溶剤が適用可能であり、特に限定されない。例えば、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素。クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素。1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール等の芳香族エーテル。酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル。シクロヘキサノン、シクロオクタノン等の脂環を有するケトン。メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン。メチルエチルケトン、シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環を有するアルコール。ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール。エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル。酢酸エチル、酢酸n−ブチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル等の脂肪族エステル等が挙げられる。   Various solvents are applicable as the solvent contained in the above-described ink composition for photoelectric conversion elements, and are not particularly limited. For example, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, and tetralin. Halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene. Aromatics such as 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethylanisole ether. Aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and n-butyl benzoate. Ketone having an alicyclic ring such as cyclohexanone or cyclooctanone. Aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone. Alcohol having an alicyclic ring such as methyl ethyl ketone, cyclohexanol or cyclooctanol. Aliphatic alcohols such as butanol and hexanol. Aliphatic ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA). Examples thereof include aliphatic esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, ethyl lactate, and n-butyl lactate.

これらのうち、水の溶解度が低い点、容易には変質しない点で、ジクロロベンゼン、クロロベンゼン、トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素が好ましい。   Of these, aromatic hydrocarbons such as dichlorobenzene, chlorobenzene, toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, tetralin and the like are preferable because they have low water solubility and are not easily altered.

また、これらの溶媒は単独で使用しても複数混合して用いてもよい。尚、使用可能な溶媒はこれらに限定されるものではない。   These solvents may be used alone or in combination. In addition, the solvent which can be used is not limited to these.

光電変換素子には、陰極等の水分により著しく劣化する材料が多く使用されているため、組成物中の水分の存在は、乾燥後の膜中に水分が残留し、素子の特性を低下させる可能性が考えられ好ましくない。   Since many materials that deteriorate significantly due to moisture such as cathodes are used for photoelectric conversion elements, the presence of moisture in the composition may cause moisture to remain in the film after drying, thereby reducing the characteristics of the element. It is not preferable because of the nature.

また、湿式成膜時における組成物からの溶剤蒸発による、成膜安定性の低下を低減するためには、光電変換素子用組成物の溶剤として、沸点が100℃以上、好ましくは沸点が150℃以上の溶剤を用いることが効果的である。   In addition, in order to reduce a decrease in film formation stability due to solvent evaporation from the composition during wet film formation, the boiling point is 100 ° C. or more, preferably 150 ° C. as a solvent for the composition for photoelectric conversion elements. It is effective to use the above solvents.

本発明の光電変換素子用インキ組成物は、光電変換材料が低分子材料であって、湿式成膜法によりこの光電変換材料を含有する層が形成される光電変換発光素子に用いられることが好ましい。   The ink composition for a photoelectric conversion element of the present invention is preferably used for a photoelectric conversion light-emitting element in which a photoelectric conversion material is a low-molecular material and a layer containing the photoelectric conversion material is formed by a wet film formation method. .

本発明の光電変換素子用インキ組成物は、主に、光電変換材料を含有させ、光電変換層を形成するために用いられるが、他の層に用いてもよい。   The ink composition for photoelectric conversion elements of the present invention is mainly used to contain a photoelectric conversion material and form a photoelectric conversion layer, but may be used for other layers.

本発明の材料は、特に湿式成膜法での薄膜作製に適している。湿式成膜で薄膜を作製するためには、上記で挙げた溶媒等に材料が溶解することが必要であるが、単に溶解するだけでは不十分である。通常、乾式成膜法で薄膜を作製する材料でも、溶媒にある程度溶解させることができる。しかし、湿式成膜法では、材料を溶媒に溶解させて薄膜にした後で、溶媒が蒸発して薄膜が形成する過程があり、湿式成膜法に適さない材料は結晶性が高いものが多いため、この過程で結晶化してしまい良好な薄膜を形成させることが困難である。本発明の材料は、このような結晶化が起こりにくい点でも優れている。   The material of the present invention is particularly suitable for forming a thin film by a wet film forming method. In order to produce a thin film by wet film formation, it is necessary for the material to be dissolved in the above-described solvent or the like, but it is not sufficient to simply dissolve the material. Usually, even a material for forming a thin film by a dry film forming method can be dissolved to some extent in a solvent. However, in the wet film formation method, there is a process in which the material is dissolved in a solvent to form a thin film, and then the solvent evaporates to form a thin film. Many materials that are not suitable for the wet film formation method have high crystallinity. Therefore, it is difficult to form a good thin film due to crystallization in this process. The material of the present invention is also excellent in that crystallization hardly occurs.

光電変換層を作製する際、本発明の材料は、単独であっても、他の材料と一緒に用いても良い。さらに、発生したキャリア( ホールまたは電子) を電極まで効率よく運ぶため、あるいは、電極へのキャリアの注入障壁を軽減させるために、有機半導体層と電極の間に電荷輸送層を形成しても良い。   When producing the photoelectric conversion layer, the material of the present invention may be used alone or together with other materials. Furthermore, a charge transport layer may be formed between the organic semiconductor layer and the electrode in order to efficiently transport the generated carriers (holes or electrons) to the electrode or to reduce the barrier for carrier injection into the electrode. .

その際に用いることができる電子供与性有機材料としては、フェニレンビニレン、フルオレン、カルバゾール、インドール、ピレン、ピロール、ピコリン、チオフェン、アセチレン、ジアセチレン等の重合体や、その誘導体が用いられる。また、高分子に限定されるものではなく、例えばポルフィン、テトラフェニルポルフィン銅、フタロシアニン、銅フタロシアニン、チタニウムフタロシアニンオキサイド等のポリフィリン化合物や、1,1− ビス{4−(ジ−P−トリルアミノ)フェニル}シクロヘキサン、4,4’,4’’−トリメチルトリフェニルアミン、N,N,N’,N’−テトラキス(P−トリル)−P−フェニレンジアミン、1−(N,N−ジ−P−トリルアミノ)ナフタレン、4,4’−ビス( ジメチルアミノ)−2−2’−ジメチルトリフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノビフェニル、N、N’−ジフェニル−N、N’−ジ−m−トリル−4、4’− ジアミノビフェニル、N−フェニルカルバゾ−ル等の芳香族第三級アミンや、4−ジ−P−トリルアミノスチルベン、4−(ジ−P−トリルアミノ)−4’−〔4−(ジ−P−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン等のスチルベン化合物や、トリアゾール誘導体や、オキサジザゾール誘導体や、イミダゾール誘導体や、ポリアリールアルカン誘導体や、ピラゾリン誘導体や、ピラゾロン誘導体や、フェニレンジアミン誘導体や、アニールアミン誘導体や、アミノ置換カルコン誘導体や、オキサゾール誘導体や、スチリルアントラセン誘導体や、フルオレノン誘導体や、ヒドラゾン誘導体や、シラザン誘導体や、ポリシラン系アニリン系共重合体や、高分子オリゴマーや、スチリルアミン化合物や、芳香族ジメチリディン系化合物や、ポリ(3−メチルチオフェン)等も用いられる。   As the electron-donating organic material that can be used in this case, polymers such as phenylene vinylene, fluorene, carbazole, indole, pyrene, pyrrole, picoline, thiophene, acetylene, diacetylene, and derivatives thereof are used. Moreover, it is not limited to a polymer, for example, porphyrin compounds such as porphine, tetraphenylporphine copper, phthalocyanine, copper phthalocyanine, titanium phthalocyanine oxide, and 1,1-bis {4- (di-P-tolylamino) phenyl } Cyclohexane, 4,4 ′, 4 ″ -trimethyltriphenylamine, N, N, N ′, N′-tetrakis (P-tolyl) -P-phenylenediamine, 1- (N, N-di-P— Tolylamino) naphthalene, 4,4′-bis (dimethylamino) -2-2′-dimethyltriphenylmethane, N, N, N ′, N′-tetraphenyl-4,4′-diaminobiphenyl, N, N ′ Aromatic compounds such as -diphenyl-N, N'-di-m-tolyl-4,4'-diaminobiphenyl, N-phenylcarbazole Stilbene compounds such as secondary amines, 4-di-P-tolylaminostilbene, 4- (di-P-tolylamino) -4 ′-[4- (di-P-tolylamino) styryl] stilbene, triazole derivatives, Oxazizazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, annealed amine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, Further, hydrazone derivatives, silazane derivatives, polysilane aniline copolymers, polymer oligomers, styrylamine compounds, aromatic dimethylidin compounds, poly (3-methylthiophene), and the like are also used.

本発明においては、本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により光電変換層に本発明のインキ組成物に、他の公知の材料を含有させても良く、また、本発明の組成物を湿式成膜法により成膜した光電変換層に、他の公知の光電変換材料を含む光電変換層を積層しても良い。尚、この場合、他の公知の光電変換材料を含む光電変換層は真空蒸着法等の乾式法で形成してもよい。   In the present invention, as long as the object of the present invention is not impaired, other known materials may be incorporated into the ink composition of the present invention in the photoelectric conversion layer as desired. A photoelectric conversion layer containing another known photoelectric conversion material may be stacked on the photoelectric conversion layer formed by a wet film formation method. In this case, the photoelectric conversion layer containing other known photoelectric conversion materials may be formed by a dry method such as a vacuum deposition method.

一般に光電変換素子は透光性の基板上に作製する。ここでいう透光性基板は光電変換素子を支持する基板であり、400〜700nmの可視領域の光の透過率が50%以上で、平滑な基板が好ましい。   In general, a photoelectric conversion element is manufactured over a light-transmitting substrate. Here, the light-transmitting substrate is a substrate that supports the photoelectric conversion element, and is preferably a smooth substrate having a light transmittance in the visible region of 400 to 700 nm of 50% or more.

具体的には、ガラス板、ポリマー板等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等が挙げられる。またポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。   Specifically, a glass plate, a polymer plate, etc. are mentioned. Examples of the glass plate include soda lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone.

本発明の光電変換素子用インキ組成物は、本発明の光電変換素子用材料の含有量が0.5wt%以上であることが好ましい。通常、光電変換素子の光電変換層膜厚は10〜100nmであるが、一般的には50nm以上の場合が多い。50nmよりも薄い膜厚になると光電変換性能の低下等の不具合を生じてしまう。50nm以上の膜厚を容易に形成するには0.5wt%以上の溶液濃度であることが好ましい。0.5wt%よりも濃度が低い場合は厚膜形成が困難となる。   In the ink composition for photoelectric conversion elements of the present invention, the content of the material for photoelectric conversion elements of the present invention is preferably 0.5 wt% or more. Usually, the thickness of the photoelectric conversion layer of the photoelectric conversion element is 10 to 100 nm, but in general, it is often 50 nm or more. When the film thickness is thinner than 50 nm, problems such as a decrease in photoelectric conversion performance occur. In order to easily form a film thickness of 50 nm or more, the solution concentration is preferably 0.5 wt% or more. When the concentration is lower than 0.5 wt%, it is difficult to form a thick film.

本発明の光電変換素子用インキ組成物には、上述した光電変換素子用材料と溶剤の他に、必要に応じて公知の添加剤を添加してもよい。   A known additive may be added to the ink composition for a photoelectric conversion element of the present invention, if necessary, in addition to the above-described photoelectric conversion element material and solvent.

添加剤として、有機薄膜層に樹脂バインダーを用いることも可能である。有機薄膜層の樹脂バインダーとしては、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリシロキサン、ポリスルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、セルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン等の絶縁性ポリマーおよびこれらの共重合体、ポリビニルカルバゾール、ポリシラン等の光伝導性ポリマー、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリパラフェニレンビニレン等の導電性ポリマーを挙げることができる。樹脂バインダーは、単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。薄膜の機械的強度を考慮するとガラス転移温度の高い樹脂バインダーが好ましく、電荷移動度を考慮すると極性基を含まない構造の樹脂バインダーや光伝導性ポリマー、導電性ポリマーが好ましい。この樹脂バインダーは使わない方が有機半導体の特性上好ましいが、目的によっては使用することもある。この場合の樹脂バインダーの使用量は、特に制限はないが、有機半導体薄膜層中、好ましくは0.05〜20質量% で用いられる。   As an additive, it is also possible to use a resin binder in the organic thin film layer. Examples of the resin binder for the organic thin film layer include insulating polymers such as polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyester, polyamide, polyimide, polyurethane, polysiloxane, polysulfone, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, cellulose, polyethylene, polypropylene, and the like. And a conductive polymer such as polythiophene, polypyrrole, polyaniline, and polyparaphenylenevinylene. The resin binder may be used alone or in combination. Considering the mechanical strength of the thin film, a resin binder having a high glass transition temperature is preferable, and considering the charge mobility, a resin binder, a photoconductive polymer, or a conductive polymer having a structure not containing a polar group is preferable. Although it is preferable not to use this resin binder in terms of the characteristics of the organic semiconductor, it may be used depending on the purpose. The amount of the resin binder used in this case is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 20% by mass in the organic semiconductor thin film layer.

本発明の光電変換素子用インキ組成物は、公知の湿式成膜法、例えば、塗布法、インクジェット法、ディップコート法、ダイコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコーター法、湿漬塗布法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷、スクリーン印刷法、LB法等により成膜できる。   The ink composition for photoelectric conversion elements of the present invention is a known wet film forming method, for example, coating method, inkjet method, dip coating method, die coating method, spray coating method, spin coating method, roll coater method, dipping coating method. The film can be formed by screen printing, flexographic printing, screen printing, LB method, or the like.

ここで、本発明の光電変換素子用材料を用いて作成することができる光電変換素子について詳細に説明する。   Here, the photoelectric conversion element that can be prepared using the photoelectric conversion element material of the present invention will be described in detail.

一般的に、有機光電変換素子は、一対の電極と有機半導体層から構成される。光電変換
効率の向上などを目的に、電極と有機半導体のエネルギー的なマッチングや有機半導体層
の作製法方などによってさまざまな形の素子構造が提案されている。
Generally, an organic photoelectric conversion element is composed of a pair of electrodes and an organic semiconductor layer. For the purpose of improving the photoelectric conversion efficiency, various types of element structures have been proposed depending on the energy matching between the electrode and the organic semiconductor and the method for producing the organic semiconductor layer.

1 .ショットキー型光電変換素子
電子供与性(p型) または電子受容性(n型) の有機半導体と電極との界面において形
成されるショットキー障壁を利用し、光起電力を得る光電変換素子である。例えば、p型
の光電変換層を用いた場合には、一対の電極のうち仕事関数が小さいほうの電極との界面
にショットキー障壁が形成され、その界面に電荷分離が生じ光電変換が行われる。
1. A Schottky photoelectric conversion element is a photoelectric conversion element that uses a Schottky barrier formed at the interface between an electron-donating (p-type) or electron-accepting (n-type) organic semiconductor and an electrode to obtain photovoltaic power. . For example, when a p-type photoelectric conversion layer is used, a Schottky barrier is formed at the interface with the electrode having the smaller work function of the pair of electrodes, and charge separation occurs at the interface to perform photoelectric conversion. .

2 .バイレイヤーヘテロ接合型光電変換素子
一対の電極の間に、電子供与性(p型) および電子受容性(n型) の有機半導体層を個
々に形成し、pn接合界面に光電荷分離を生じさせ光電流を得る光電変換素子である。
2. Bi-layer heterojunction photoelectric conversion element An electron-donating (p-type) and electron-accepting (n-type) organic semiconductor layer is individually formed between a pair of electrodes, and photocharge separation occurs at the pn junction interface. It is a photoelectric conversion element that obtains a photocurrent.

3 .バルクヘテロ接合型光電変換素子
一対の電極の間に、電子供与性(p型)および電子受容性(n型)の有機半導体材料を
任意の比率で混合させ有機半導体層を形成する。この際、p型及びn型の材料は均一に分
散していても、不均一であっても構わない。個々のp型材料、n型材料が形成する界面で
光電荷分離が起こるため、バイレイヤーヘテロ接合型よりもpn接合を広く形成させるこ
とが出来る。
3. An organic semiconductor layer is formed by mixing an electron-donating (p-type) and electron-accepting (n-type) organic semiconductor material at an arbitrary ratio between a pair of electrodes of a bulk heterojunction photoelectric conversion element. At this time, the p-type and n-type materials may be uniformly dispersed or non-uniform. Since photocharge separation occurs at the interface formed by each p-type material and n-type material, a pn junction can be formed wider than the bilayer heterojunction type.

本発明における化合物はいずれの素子構造にも適応することが可能である。   The compound in the present invention can be applied to any device structure.

光電変換素子を構成する一対の電極のうち、少なくとも一つは光を透過する必要がある。この際、光の透過率は光電変換効率に大きな影響を与える。   At least one of the pair of electrodes constituting the photoelectric conversion element needs to transmit light. At this time, the light transmittance greatly affects the photoelectric conversion efficiency.

具体的な例としては、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO)等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、白金、クロム、ニッケル、リチウム、イ
ンジウム、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム等の金属、さらにこれらの金属と導
電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリ
アニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、シリコン化合物および
これらとITOとの積層物などが挙げられる。
Specific examples include conductive metal oxides such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and indium tin oxide (ITO), or gold, silver, platinum, chromium, nickel, lithium, indium, aluminum, calcium, and magnesium. In addition, a mixture or laminate of these metals and conductive metal oxides, inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide, organic conductive materials such as polyaniline, polythiophene and polypyrrole, silicon compounds and these And a laminate of ITO and the like.

電極の形状としては、フラットな形状が一般的である。エネルギー変換効率を向上させるために、波型、ピラミッド型、くし型当の凹凸を故意に形成させることもある。これら電極の形成方法としては、一般的な電極の形成方法を用いることができ、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のPVD法、CVD法、化学反応法( ゾルゲル法など) 、キャスト法、スプレーコーティング法、インクジェット法、スピンコート法などを挙げることができる。   The shape of the electrode is generally a flat shape. In order to improve energy conversion efficiency, irregularities such as corrugations, pyramids, and combs may be intentionally formed. As a method for forming these electrodes, a general electrode forming method can be used. For example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a PVD method such as an ion plating method, a CVD method, a chemical reaction method (such as a sol-gel method), Examples thereof include a casting method, a spray coating method, an ink jet method, and a spin coating method.

光電変換素子は、前記の各層以外に、その他の構成部材を備えていても良い。例えば、紫外線を透過させない光学膜(フィルタ)を備えていても良い。紫外線は、エネルギーが高いため有機材料を劣化させる一因となる。この紫外線を遮断することにより、素子を長寿命化させることが出来る。   The photoelectric conversion element may include other constituent members in addition to the above layers. For example, an optical film (filter) that does not transmit ultraviolet light may be provided. Ultraviolet rays contribute to the deterioration of organic materials due to their high energy. By blocking this ultraviolet light, the life of the device can be extended.

外部からの衝撃に対して光電変換層を保護する目的で、保護膜を備えていても良い。保護膜は、例えば、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレンポリビニルアルコール共重合体等のポリマー膜、酸化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化膜や窒化膜、アルミニウム等の金属板もしくは金属箔、あるいはこれらの積層膜などにより構成することができる。なお、これらの保護膜の材料は、1種のみを用いてもよく、2種以上をも良い。   A protective film may be provided for the purpose of protecting the photoelectric conversion layer against external impact. The protective film is, for example, a polymer film such as styrene resin, epoxy resin, acrylic resin, polyurethane, polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinylidene fluoride, polyethylene polyvinyl alcohol copolymer, or inorganic oxide film such as silicon oxide, silicon nitride, or aluminum oxide. Or a metal plate such as a nitride film, aluminum, or a metal foil, or a laminated film thereof. In addition, only 1 type may be used for the material of these protective films, and 2 or more types may be sufficient as it.

一般に有機デバイスは、空気中の水分や酸素により劣化を招くといわれている。それを防ぐため、バリア膜を備えていても良い。例えば、金属または無機酸化物が好ましく、Ti、Al、Mg、Zr、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化窒化珪素、酸化窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化カルシウム等を挙げることができる。これら各種機能性膜を積層させる順番は特になく、これらの機能を併せ持つ機能性膜を用いても良い。   In general, it is said that organic devices are deteriorated by moisture and oxygen in the air. In order to prevent this, a barrier film may be provided. For example, a metal or an inorganic oxide is preferable, Ti, Al, Mg, Zr, silicon oxide, aluminum oxide, silicon oxynitride, aluminum oxynitride, magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, yttrium oxide, boron oxide, Calcium oxide etc. can be mentioned. The order of laminating these various functional films is not particularly limited, and functional films having these functions may be used.

まず、本発明の合成例を説明するが、本発明はこれら合成例になんら限定されるものではない。   First, synthesis examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these synthesis examples.

合成例1
化合物(1)の合成方法
反応式1〜反応式2に従って化合物(1)を合成した。
Synthesis example 1
Synthesis Method of Compound (1) Compound (1) was synthesized according to Reaction Formula 1 to Reaction Formula 2.

反応式1

Figure 2015065267
Reaction formula 1
Figure 2015065267

以下、反応式1を参照しながら合成方法を説明する。窒素雰囲気下、tert-ペンチルアルコール300ml中、攪拌下に水素化ナトリウム(60%)21.5g( 0.54mol) 及
び2−シアノフラン50g ( 0.54mol) を室温で添加する。その後、100℃ まで加熱昇温し、この温度においてコハク酸ジイソプロピル36.2g( 0.18mol)を滴下した。滴下中、反応物の温度は100℃に維持した。滴下終了後、副生するイソプロピルアルコールを系外に除去しながら、同温度において3時間攪拌を行った。その後60℃ まで冷却し、この温度において酢酸43g及びメタノール300gの混合液を滴下し、滴下終了後、0.5時間60℃加熱を施した。次にろ過し、メタノールにより洗浄した後に60℃ で乾燥した。更にメタノール中、60℃ において30分間加熱した後に熱時ろ過し、メタノール洗浄を施した。60℃ で乾燥することにより暗赤色粉末(III)を48g得た。
Hereinafter, the synthesis method will be described with reference to Reaction Scheme 1. Under a nitrogen atmosphere, 21.5 g (0.54 mol) of sodium hydride (60%) and 50 g (0.54 mol) of 2-cyanofuran are added at room temperature in 300 ml of tert-pentyl alcohol with stirring. Thereafter, the temperature was raised to 100 ° C., and 36.2 g (0.18 mol) of diisopropyl succinate was added dropwise at this temperature. During the addition, the temperature of the reaction product was maintained at 100 ° C. After completion of the dropwise addition, stirring was performed for 3 hours at the same temperature while removing by-produced isopropyl alcohol out of the system. Thereafter, the mixture was cooled to 60 ° C., and at this temperature, a mixed solution of 43 g of acetic acid and 300 g of methanol was added dropwise. It was then filtered, washed with methanol and dried at 60 ° C. Further, the mixture was heated in methanol at 60 ° C. for 30 minutes, filtered while hot, and washed with methanol. 48g of dark red powder (III) was obtained by drying at 60 degreeC.

反応式2

Figure 2015065267
Reaction formula 2
Figure 2015065267

以下、反応式2を参照しながら合成方法を説明する。
窒素雰囲気下、上記の方法により得られた(III) で表される化合物23gをジメチルアセトアミド600g中に懸濁し、攪拌下に50℃ まで加熱する。この温度においてtert− ブトキシナトリウム25g を添加し、50℃ において30分間攪拌する。次に、1−ブロモ−2−エチルヘキサン83gを滴下し、滴下終了後、50℃ において2時間攪拌を行なう。反応液を室温まで冷却し、水1000gとメタノール800gの混合液中に徐々に注入すると暗赤色の個体が析出し、懸濁状態となる。室温下に1時間攪拌を行ない、ろ過、水洗浄、メタノール洗浄を施したのち乾燥を行ない、暗赤色粉末24gを得た。
Hereinafter, the synthesis method will be described with reference to Reaction Scheme 2.
Under a nitrogen atmosphere, 23 g of the compound represented by (III) obtained by the above method is suspended in 600 g of dimethylacetamide and heated to 50 ° C. with stirring. At this temperature, 25 g of sodium tert-butoxy are added and stirred at 50 ° C. for 30 minutes. Next, 83 g of 1-bromo-2-ethylhexane is added dropwise, and after completion of the addition, stirring is performed at 50 ° C. for 2 hours. When the reaction solution is cooled to room temperature and gradually poured into a mixed solution of 1000 g of water and 800 g of methanol, a dark red solid precipitates and becomes suspended. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour, filtered, washed with water, washed with methanol and dried to obtain 24 g of a dark red powder.

反応式3

Figure 2015065267
Reaction formula 3
Figure 2015065267

以下、反応式3を参照しながら合成方法を説明する。
窒素雰囲気下、上記の方法により得られた(V) で表される化合物13gをクロロホルム500g中に懸濁し、攪拌下に0℃ まで冷却する。この温度においてN−ブロモスクシニックイミド(NBS)15g を添加し、室温に戻し12時間攪拌する。反応液を室温まで冷却し、水1000gとメタノール800gの混合液中に徐々に注入すると暗赤紫色の個体が析出し、懸濁状態となる。室温下に1時間攪拌を行ない、ろ過、水洗浄、メタノール洗浄を施したのち乾燥を行ない、暗赤紫色粉末7gを得た。
Hereinafter, the synthesis method will be described with reference to Reaction Scheme 3.
Under a nitrogen atmosphere, 13 g of the compound represented by (V) obtained by the above method is suspended in 500 g of chloroform, and cooled to 0 ° C. with stirring. At this temperature, 15 g of N-bromosuccinimide (NBS) is added, and the mixture is returned to room temperature and stirred for 12 hours. When the reaction solution is cooled to room temperature and gradually poured into a mixed solution of 1000 g of water and 800 g of methanol, a dark red-purple solid is precipitated and becomes a suspended state. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour, filtered, washed with water, washed with methanol and dried to obtain 7 g of a dark red-purple powder.

反応式4

Figure 2015065267
Reaction formula 4
Figure 2015065267

以下、反応式4を参照しながら合成方法を説明する。
窒素雰囲気下、上記の方法により得られた(VI) で表される化合物0.64g(1mmol)、[4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]ジフェニルアミン0.20g(0.5mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.05g、炭酸カリウム(2M水溶液)5g、キシレン30gを4つ口フラスコに加え、5時間加熱還流した。その後、反応液をメタノール400ml中に注入し、析出した固体を濾取し、熱真空乾燥させて、粗生成物として(VII)が0.32g得られた。得られた粗成生物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。
Hereinafter, the synthesis method will be described with reference to Reaction Scheme 4.
0.64 g (1 mmol) of the compound represented by (VI) 2 obtained by the above method under a nitrogen atmosphere, [4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2 -Il) phenyl] diphenylamine 0.20 g (0.5 mmol), tetrakis (triphenylphosphine) palladium 0.05 g, potassium carbonate (2M aqueous solution) 5 g, and xylene 30 g were added to a four-necked flask and heated to reflux for 5 hours. Thereafter, the reaction solution was poured into 400 ml of methanol, and the precipitated solid was collected by filtration and dried in a hot vacuum to obtain 0.32 g of (VII) as a crude product. The resulting crude product was purified by silica gel column chromatography.

反応式5

Figure 2015065267
Reaction formula 5
Figure 2015065267

以下、反応式5を参照しながら合成方法を説明する。
窒素雰囲気下、上記の方法により得られた(VII) で表される化合物0.32g(0.4mmol)、2−アセチル−5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)チオフェン0.20g(0.5mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.05g、炭酸カリウム(2M水溶液)5g、キシレン30gを4つ口フラスコに加え、5時間加熱還流した。その後、反応液をメタノール400ml中に注入し、析出した固体を濾取し、熱真空乾燥させて、粗生成物として(VIII)が0.40g得られた。得られた粗成生物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。
Hereinafter, the synthesis method will be described with reference to Reaction Scheme 5.
0.32 g (0.4 mmol) of the compound represented by (VII) 2 obtained by the above method under a nitrogen atmosphere, 2-acetyl-5- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3, 2-Dioxaborolan-2-yl) thiophene 0.20 g (0.5 mmol), tetrakis (triphenylphosphine) palladium 0.05 g, potassium carbonate (2M aqueous solution) 5 g, and xylene 30 g are added to a four-necked flask and heated for 5 hours. Refluxed. Thereafter, the reaction solution was poured into 400 ml of methanol, and the precipitated solid was collected by filtration and dried in a hot vacuum to obtain 0.40 g of (VIII) as a crude product. The resulting crude product was purified by silica gel column chromatography.

反応式6

Figure 2015065267
Reaction formula 6
Figure 2015065267

以下、反応式6を参照しながら合成方法を説明する。
窒素雰囲気下、上記の方法により得られた(VIII) で表される化合物0.40g(0.45mmol)、マロノニトリル0.8g(10mmol)、ピリジン2g、クロロホルム20gを4つ口フラスコに加え、5時間反応した。その後、反応液をメタノール400ml中に注入し、析出した固体を濾取し、熱真空乾燥させて、粗生成物として化合物(1)が0.38g得られた。得られた粗成生物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物(1)は、マススペクトル(ブルカーダルトニクス社製、AutoflexII)、 1H‐NMR、および13C‐NMR(日本電子製、ECX−400P)によって同定した。
Hereinafter, the synthesis method will be described with reference to Reaction Scheme 6.
Under a nitrogen atmosphere, 0.40 g (0.45 mmol) of the compound (VIII) obtained by the above method, 0.8 g (10 mmol) of malononitrile, 2 g of pyridine, and 20 g of chloroform were added to a four-necked flask. Reacted for hours. Thereafter, the reaction solution was poured into 400 ml of methanol, and the precipitated solid was collected by filtration and dried in a hot vacuum to obtain 0.38 g of Compound (1) as a crude product. The resulting crude product was purified by silica gel column chromatography. Compound (1) was identified by mass spectrum (manufactured by Bruker Daltonics, Autoflex II), 1 H-NMR, and 13 C-NMR (manufactured by JEOL, ECX-400P).

尚、化合物(1)の合成に使用した[4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]ジフェニルアミン、2−アセチル−5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)チオフェンは、市販の試薬を用いた。
合成例2〜44
以下に示す反応式(5)〜(13)を組み合わせて、表1中の化合物を合成した。
In addition, [4- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) phenyl] diphenylamine, 2-acetyl-5- (4) used for the synthesis of compound (1) , 4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl) thiophene used a commercially available reagent.
Synthesis Examples 2 to 44
The compounds in Table 1 were synthesized by combining the following reaction formulas (5) to (13).

反応式7

Figure 2015065267
Reaction formula 7
Figure 2015065267

反応式5中、Xは、−O−、−S−を表し、R3〜R5、およびR6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基である。 In Reaction Scheme 5, X represents —O— or —S—, and R 3 to R 5 and R 6 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic carbonization. Hydrogen group, substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted silyl group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxyl group A substituted or unsubstituted aryloxy group or a substituted amino group.

反応式6

Figure 2015065267
Reaction formula 6
Figure 2015065267

反応式6中、Xは、−O−、−S−を表し、R1は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
3〜R5、およびR6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基である。
In Reaction Scheme 6, X represents —O— or —S—, and each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or aryloxy. Represents a carbonyl group,
R 3 to R 5 and R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted An aliphatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, and a substituted amino group.

反応式7

Figure 2015065267
Reaction formula 7
Figure 2015065267

反応式7中、Xは、−O−、−S−を表し、R1は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
3〜R5、およびR6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基である。
In Reaction Scheme 7, X represents —O— or —S—, and each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or aryloxy. Represents a carbonyl group,
R 3 to R 5 and R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted An aliphatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, and a substituted amino group.

反応式8

Figure 2015065267
Reaction formula 8
Figure 2015065267

反応式8中、Xは、−O−、−S−を表し、R1は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
3〜R5、およびR6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基を表し、R3は一般式[3]で表される置換基である。
In Reaction Scheme 8, X represents —O— or —S—, and each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or aryloxy. Represents a carbonyl group,
R 3 to R 5 and R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted An aliphatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, and a substituted amino group; 3 is a substituent represented by the general formula [3].

反応式9

Figure 2015065267
Reaction formula 9
Figure 2015065267

反応式9中、Xは、−O−、−S−を表し、R1は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
3〜R5、およびR6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基を表し、R3は一般式[3]で表される置換基である。R6は一般式[4]で表される置換基のアルデヒド体である。
In Reaction Scheme 9, X represents —O— or —S—, and each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or aryloxy. Represents a carbonyl group,
R 3 to R 5 and R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted An aliphatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, and a substituted amino group; 3 is a substituent represented by the general formula [3]. R 6 is an aldehyde form of the substituent represented by the general formula [4].

反応式10

Figure 2015065267
Reaction formula 10
Figure 2015065267

反応式9中、Xは、−O−、−S−を表し、R1は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
3〜R5、およびR6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基を表し、R3は一般式[3]で表される置換基である。R6は一般式[4]で表される置換基である。
In Reaction Scheme 9, X represents —O— or —S—, and each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or aryloxy. Represents a carbonyl group,
R 3 to R 5 and R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted An aliphatic heterocyclic group, a substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, and a substituted amino group; 3 is a substituent represented by the general formula [3]. R 6 is a substituent represented by the general formula [4].

反応式11

Figure 2015065267
Reaction formula 11
Figure 2015065267

反応式11中、Xは、−O−、−S−を表し、R11〜R13、およびR14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基である。 In Reaction Formula 11, X represents —O— or —S—, and R 11 to R 13 and R 14 to R 16 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic carbonization. Hydrogen group, substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted silyl group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxyl group A substituted or unsubstituted aryloxy group or a substituted amino group.

反応式12

Figure 2015065267
Reaction formula 12
Figure 2015065267

反応式12中、R9は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
Xは、−O−、−S−を表し、R11〜R13、およびR14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基である。
In Reaction Scheme 12, each R 9 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group,
X represents —O— or —S—, and each of R 11 to R 13 and R 14 to R 16 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or Unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted silyl group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted An aryloxy group and a substituted amino group.

反応式13

Figure 2015065267
Reaction formula 13
Figure 2015065267

反応式13中、R9は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
Xは、−O−、−S−を表し、R11〜R13、およびR14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基である。
In Reaction Scheme 13, each R 9 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group,
X represents —O— or —S—, and each of R 11 to R 13 and R 14 to R 16 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or Unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted silyl group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted An aryloxy group and a substituted amino group.

反応式14

Figure 2015065267
Reaction formula 14
Figure 2015065267

反応式14中、R9は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
Xは、−O−、−S−を表し、R11〜R13、およびR14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基を表し、R12は一般式[3]で表される置換基である。
In Reaction Scheme 14, each R 9 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group,
X represents —O— or —S—, and each of R 11 to R 13 and R 14 to R 16 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or Unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted silyl group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted R 12 is a substituent represented by the general formula [3].

反応式15

Figure 2015065267
Reaction formula 15
Figure 2015065267

反応式15中、R9は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
Xは、−O−、−S−を表し、R11〜R13、およびR14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基を表し、R12は一般式[3]で表される置換基である。R15は一般式[4]で表される置換基のアルデヒド体である。
In Reaction Scheme 15, each R 9 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group,
X represents —O— or —S—, and each of R 11 to R 13 and R 14 to R 16 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or Unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted silyl group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted R 12 is a substituent represented by the general formula [3]. R 15 is an aldehyde form of the substituent represented by the general formula [4].

反応式16

Figure 2015065267
Reaction formula 16
Figure 2015065267

反応式16中、R9は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、アリ−ルオキシカルボニル基を表し、
Xは、−O−、−S−を表し、R11〜R13、およびR14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基を表し、R12は一般式[3]で表される置換基である。R15は一般式[4]で表される置換基である。
In Reaction Scheme 16, each R 9 independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or an aryloxycarbonyl group,
X represents —O— or —S—, and each of R 11 to R 13 and R 14 to R 16 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or Unsubstituted aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, substituted silyl group, cyano group, substituted or unsubstituted alkoxyl group, substituted or unsubstituted R 12 is a substituent represented by the general formula [3]. R 15 is a substituent represented by the general formula [4].

以上の反応式(5)〜(16)を組み合わせて得られた本発明の化合物の構造については、合成例1と同様、マススペクトル、1H−NMR、13C−NMRによって同定した。合成した化合物のマススペクトルの測定結果を表4に示す。尚、化合物番号は本明細書中の表1に記載したものと同じである。 The structure of the compound of the present invention obtained by combining the above reaction formulas (5) to (16) was identified by mass spectrum, 1 H-NMR and 13 C-NMR as in Synthesis Example 1. Table 4 shows the mass spectrum measurement results of the synthesized compounds. The compound numbers are the same as those described in Table 1 in this specification.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

以下、本発明の光電変換素子用材料を用いた光電変換素子について下記実施例により説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。実施例においては、特に断りのない限り、混合比は全て重量比を示す。蒸着(真空蒸着)は10-6Torrの真空中にて、基板の加熱や冷却といった温度制御はしない条件下で行った。また、素子の光電変換効率は、面積2mm×2mmの光電変換素子を用いて特性を測定した。 Hereinafter, although the following example demonstrates the photoelectric conversion element using the photoelectric conversion element material of this invention, this invention is not limited to the following example. In the examples, all mixing ratios are weight ratios unless otherwise specified. Vapor deposition (vacuum deposition) was performed in a vacuum of 10 −6 Torr under conditions where temperature control such as heating and cooling of the substrate was not performed. The photoelectric conversion efficiency of the element was measured using a photoelectric conversion element having an area of 2 mm × 2 mm.

ここで、光電変換効率は、ORIEL社製ソーラーシュミレーター(#8116)をエアマスフィルターと組み合わせ、光量計で100 mW/cm2の光量に調整して測定用光源とし、前記のように作成した光電変換セルに光照射をしながら、KEITHLEYMODEL2400ソースメーターを使用してI‐Vカーブ特性を測定し算出した。   Here, the photoelectric conversion efficiency is obtained by combining the solar simulator (# 8116) manufactured by ORIEL with an air mass filter and adjusting the light amount to 100 mW / cm 2 with a light meter to obtain a light source for measurement. The IV curve characteristics were measured and calculated using a KEITHLEYMODEL 2400 source meter while irradiating with light.

実施例1
洗浄したITO電極付きガラス板上に、電荷注入バッファー層としてPEDOT:PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Bayer社製BAYTRON P)をスピンコート法にて膜厚60nm製膜した。次いで、表(1)の化合物(1)と表(2)の化合物(n−3)を5:4の割合で混合し、1.8wt%の濃度でクロロホルムに溶解させた。これをスピンコート法で100nmの膜厚で成膜し、光電変換層を得た。さらにその上に、Alを100nm蒸着して電極を形成して光電変換素子を得た。得られた素子を大気に曝すことなく水分濃度および酸素濃度が1ppm以下のグローブボックス内に移して封止処理を施した。封止した素子をグローブボックスから取り出し、100℃のほっとプレート上で20分間熱処理を行った。熱処理後の素子について、光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表5に示す。
Example 1
A spin coating method of PEDOT: PSS (poly (3,4-ethylenedioxy) -2,5-thiophene / polystyrene sulfonic acid, BAYTRON P manufactured by Bayer) as a charge injection buffer layer on the cleaned glass plate with ITO electrode The film thickness was 60 nm. Subsequently, the compound (1) of Table (1) and the compound (n-3) of Table (2) were mixed at a ratio of 5: 4 and dissolved in chloroform at a concentration of 1.8 wt%. This was formed into a film with a thickness of 100 nm by a spin coat method to obtain a photoelectric conversion layer. Furthermore, 100 nm of Al was vapor-deposited thereon to form an electrode to obtain a photoelectric conversion element. The obtained device was transferred to a glove box having a moisture concentration and an oxygen concentration of 1 ppm or less without being exposed to the atmosphere, and sealed. The sealed element was taken out from the glove box and heat-treated on a plate at 100 ° C. for 20 minutes. The photoelectric conversion efficiency was measured about the element after heat processing. In addition, the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment was measured. The results are shown in Table 5.

実施例2〜42
化合物(1)および、化合物(n−3)の代わりに表(5)に示す化合物を用いて光電変換層を作成した以外は実施例1と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表5に示す。
Examples 2-42
A device was prepared in the same manner as in Example 1 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compound (1) and the compound shown in Table (5) instead of the compound (n-3). The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 5.

比較例1
以下に示す化合物(A)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例1と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表5に示す。
Comparative Example 1
A device was prepared in the same manner as in Example 1 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compound (A) shown below. The photoelectric conversion efficiency of this element and the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment were measured. The results are shown in Table 5.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

Figure 2015065267
Figure 2015065267

Figure 2015065267
Figure 2015065267

表5から明らかなように、本発明の光電変換素子用材料を用いた素子はいずれも、比較例1で作成した素子よりも、長寿命で且つ、高い光電変換効率が得られた。   As is clear from Table 5, all the elements using the photoelectric conversion element material of the present invention had a longer lifetime and higher photoelectric conversion efficiency than the element prepared in Comparative Example 1.

実施例43
洗浄したITO電極付きガラス板に真空中で酸素プラズマによる洗浄を1分間行った。
酸素プラズマ洗浄後に、表1の化合物(1)を蒸着して20nmの膜厚で製膜し、次いで、表1の化合物(1)と表2の化合物n−1を1:1の重量比で共蒸着して30nmの膜厚で製膜し、その上に、表2の化合物n−1を蒸着し30nmの膜厚で製膜することで、pin構造の光電変換層を形成した。さらに、BCP(2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン)を蒸着して10nmの膜厚で製膜した。その上に、Alを100nm蒸着して電極を形成して光電変換素子を得た。得られた素子を大気に曝すことなく水分濃度および酸素濃度が1ppm以下のグローブボックス内に移して封止処理を施した。封止した素子をグローブボックスから取り出し、光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表6に示す。
Example 43
The cleaned glass plate with an ITO electrode was cleaned with oxygen plasma in a vacuum for 1 minute.
After the oxygen plasma cleaning, the compound (1) in Table 1 is deposited to form a film having a thickness of 20 nm, and then the compound (1) in Table 1 and the compound n-1 in Table 2 are mixed at a weight ratio of 1: 1. Co-evaporated to form a film with a thickness of 30 nm, and then a compound n-1 in Table 2 was vapor-deposited to form a film with a thickness of 30 nm, thereby forming a photoelectric conversion layer having a pin structure. Further, BCP (2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline) was deposited to form a film having a thickness of 10 nm. On top of that, Al was deposited to a thickness of 100 nm to form an electrode to obtain a photoelectric conversion element. The obtained device was transferred to a glove box having a moisture concentration and an oxygen concentration of 1 ppm or less without being exposed to the atmosphere, and sealed. The sealed element was taken out from the glove box and the photoelectric conversion efficiency was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 6.

実施例44〜60
化合物(1)および、化合物n−1の代わりに表6に示す化合物を用いて光電変換層を作成した以外は実施例43と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表6に示す。
Examples 44-60
A device was produced in the same manner as in Example 43 except that a photoelectric conversion layer was produced using the compound (1) and the compound shown in Table 6 instead of the compound n-1. The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 6.

比較例2
化合物(A)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例43と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表6に示す。
Comparative Example 2
A device was prepared in the same manner as in Example 43 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compound (A). The photoelectric conversion efficiency of this element and the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment were measured. The results are shown in Table 6.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

表6から明らかなように、本発明の光電変換素子用材料を用いた素子はいずれも、比較例2で作成した素子よりも、長寿命で且つ、高い光電変換効率が得られた。   As is clear from Table 6, all the elements using the photoelectric conversion element material of the present invention had a longer lifetime and higher photoelectric conversion efficiency than the element prepared in Comparative Example 2.

実施例61
表1の化合物(3)を1.0wt%の濃度でクロロホルムに溶解させた。さらに、CdSeナノ粒子のトルエン分散溶液(Sigma−Aldrich社 コア型LumidotTM CdSe520、固形分濃度:5mg/ml)を、化合物(3)のクロロホルム溶液に対して加えて光電変換層用塗布溶液を得た。このとき、化合物(3)のクロロホルム溶液の固形分とCdSeナノ粒子のトルエン分散溶液の固形分の重量比が1:1となる比率で加えた。
洗浄したITO電極付きガラス板上に、電荷注入バッファー層としてPEDOT:PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Bayer社製BAYTRON P)をスピンコート法にて膜厚60nm製膜した。次いで、光電変換層用塗布溶液をスピンコート法で100nmの膜厚で成膜し、光電変換層を得た。さらにその上に、Alを100nm蒸着して電極を形成して光電変換素子を得た。得られた素子を大気に曝すことなく水分濃度および酸素濃度が1ppm以下のグローブボックス内に移して封止処理を施した。封止した素子をグローブボックスから取り出し、100℃のほっとプレート上で20分間熱処理を行った。熱処理後の素子について、光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表7に示す。
Example 61
Compound (3) in Table 1 was dissolved in chloroform at a concentration of 1.0 wt%. Further, a toluene dispersion solution of CdSe nanoparticles (Sigma-Aldrich, core type Lumidot CdSe520, solid content concentration: 5 mg / ml) was added to the chloroform solution of compound (3) to obtain a coating solution for a photoelectric conversion layer. It was. At this time, the weight ratio of the solid content of the chloroform solution of compound (3) and the solid content of the toluene dispersion solution of CdSe nanoparticles was added at a ratio of 1: 1.
A spin coating method of PEDOT: PSS (poly (3,4-ethylenedioxy) -2,5-thiophene / polystyrene sulfonic acid, BAYTRON P manufactured by Bayer) as a charge injection buffer layer on the cleaned glass plate with ITO electrode The film thickness was 60 nm. Subsequently, the coating solution for photoelectric conversion layers was formed into a film with a film thickness of 100 nm by the spin coat method, and the photoelectric conversion layer was obtained. Furthermore, 100 nm of Al was vapor-deposited thereon to form an electrode to obtain a photoelectric conversion element. The obtained device was transferred to a glove box having a moisture concentration and an oxygen concentration of 1 ppm or less without being exposed to the atmosphere, and sealed. The sealed element was taken out from the glove box and heat-treated on a plate at 100 ° C. for 20 minutes. The photoelectric conversion efficiency was measured about the element after heat processing. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 7.

実施例62〜68
化合物(3)のかわりに表7中に示す化合物を用いて光電変換層を作成した以外は実施例61と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表7に示す。
Examples 62-68
A device was prepared in the same manner as in Example 61 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compounds shown in Table 7 instead of the compound (3). The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 7.

比較例3
化合物(A)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例61と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表7に示す。
Comparative Example 3
A device was prepared in the same manner as in Example 61 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compound (A). The photoelectric conversion efficiency of this element and the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment were measured. The results are shown in Table 7.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

表7から明らかなように、本発明の光電変換素子用材料を用いた素子はいずれも、比較例3で作成した素子よりも、長寿命で且つ、高い光電変換効率が得られた。   As is clear from Table 7, all the elements using the photoelectric conversion element material of the present invention had a longer lifetime and higher photoelectric conversion efficiency than the element prepared in Comparative Example 3.

実施例69
化合物(3)のかわりに化合物(7)を、CdSeナノ粒子のトルエン分散溶液(Sigma−Aldrich社 コア型LumidotTM CdSe520、固形分濃度:5mg/ml)の代わりにCdSナノ粒子のトルエン分散溶液(Sigma−Aldrich社 コア型LumidotTM CdS480、固形分濃度:5mg/ml)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例61と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表8に示す。
Example 69
Instead of the compound (3), the compound (7) was replaced with a toluene dispersion solution of CdSe nanoparticles instead of a toluene dispersion solution of CdSe nanoparticles (Sigma-Aldrich core type Lumidot CdSe520, solid content concentration: 5 mg / ml). A device was produced in the same manner as in Example 61 except that a photoelectric conversion layer was produced using Sigma-Aldrich core type Lumidot CdS480 (solid content concentration: 5 mg / ml). The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 8.

実施例70〜76
化合物(7)のかわりに表8中に示す化合物を用いて光電変換層を作成した以外は実施例69と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表8に示す。
Examples 70-76
A device was prepared in the same manner as in Example 69 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compounds shown in Table 8 instead of the compound (7). The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 8.

比較例4
化合物(A)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例69と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表8に示す。
Comparative Example 4
A device was produced in the same manner as in Example 69 except that a photoelectric conversion layer was produced using the compound (A). The photoelectric conversion efficiency of this element and the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment were measured. The results are shown in Table 8.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

表8から明らかなように、本発明の光電変換素子用材料を用いた素子はいずれも、比較例4で作成した素子よりも、長寿命で且つ、高い光電変換効率が得られた。   As is apparent from Table 8, all the elements using the photoelectric conversion element material of the present invention had a longer lifetime and higher photoelectric conversion efficiency than the element prepared in Comparative Example 4.

実施例77
表1の化合物(8)を1.0wt%の濃度でクロロホルムに溶解させた。さらに、ジエチル亜鉛のトルエン溶液(Sigma−Aldrich社 濃度:約1M)をTHFで希釈して約0.4Mの溶液とし、化合物(8)のクロロホルム溶液に対して加えて光電変換層用塗布溶液を得た。このとき、化合物(8)のクロロホルム溶液の固形分とジエチル亜鉛溶液の固形分の重量比が5:7となる比率で加えた。
洗浄したITO電極付きガラス板上に、電荷注入バッファー層としてPEDOT:PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Bayer社製BAYTRON P)をスピンコート法にて膜厚60nm製膜した。次いで、光電変換層用塗布溶液をスピンコート法で100nmの膜厚で成膜し、光電変換層を得た。さらにその上に、Alを100nm蒸着して電極を形成して光電変換素子を得た。得られた素子を大気に曝すことなく水分濃度および酸素濃度が1ppm以下のグローブボックス内に移して封止処理を施した。封止した素子をグローブボックスから取り出し、100℃のほっとプレート上で20分間熱処理を行った。熱処理後の素子について、光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表9に示す。
Example 77
Compound (8) in Table 1 was dissolved in chloroform at a concentration of 1.0 wt%. Further, a toluene solution of diethyl zinc (Sigma-Aldrich concentration: about 1M) is diluted with THF to obtain a solution of about 0.4M, and added to the chloroform solution of compound (8) to obtain a coating solution for the photoelectric conversion layer. Obtained. At this time, the weight ratio of the solid content of the chloroform solution of compound (8) and the solid content of the diethyl zinc solution was added at a ratio of 5: 7.
A spin coating method of PEDOT: PSS (poly (3,4-ethylenedioxy) -2,5-thiophene / polystyrene sulfonic acid, BAYTRON P manufactured by Bayer) as a charge injection buffer layer on the cleaned glass plate with ITO electrode The film thickness was 60 nm. Subsequently, the coating solution for photoelectric conversion layers was formed into a film with a film thickness of 100 nm by the spin coat method, and the photoelectric conversion layer was obtained. Furthermore, 100 nm of Al was vapor-deposited thereon to form an electrode to obtain a photoelectric conversion element. The obtained device was transferred to a glove box having a moisture concentration and an oxygen concentration of 1 ppm or less without being exposed to the atmosphere, and sealed. The sealed element was taken out from the glove box and heat-treated on a plate at 100 ° C. for 20 minutes. The photoelectric conversion efficiency was measured about the element after heat processing. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 9.

実施例78〜84
化合物(8)のかわりに表9中に示す化合物を用いて光電変換層を作成した以外は実施例77と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表9に示す。
Examples 78-84
A device was prepared in the same manner as in Example 77 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compounds shown in Table 9 instead of the compound (8). The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 9.

比較例5
化合物(A)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例77と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表9に示す。
Comparative Example 5
A device was prepared in the same manner as in Example 77 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compound (A). The photoelectric conversion efficiency of this element and the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment were measured. The results are shown in Table 9.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

表9から明らかなように、本発明の光電変換素子用材料を用いた素子はいずれも、比較例5で作成した素子よりも、長寿命で且つ、高い光電変換効率が得られた。   As is apparent from Table 9, all the elements using the photoelectric conversion element material of the present invention had a longer life and higher photoelectric conversion efficiency than the element prepared in Comparative Example 5.

実施例85
1−ヘキサノール27g、2−アセチルシクロヘキサノン9gにチタンアセチルアセトナート(Ti(acac)3)を混合し、日本アエロジル社製酸化チタンP−25(平均粒子径 24nm、平均粒子径は動的光散乱法を測定原理に用いたナノトラック粒度分析計装置UPA−EX(日機装株式会社製)にて測定)を36.6g加え、ジルコニアビーズと混合し、ペイントシェーカーを用いて分散しTiO2分散溶液を得た。
表1の化合物(10)を1.0wt%の濃度でクロロホルムに溶解させた。さらに、TiO2分散溶液を、化合物(10)のクロロホルム溶液に対して加えて光電変換層用塗布溶液を得た。このとき、化合物(10)のクロロホルム溶液の固形分とTiO2分散溶液の固形分の重量比が1:1となる比率で加えた。
洗浄したITO電極付きガラス板上に、電荷注入バッファー層としてPEDOT:PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Bayer社製BAYTRON P)をスピンコート法にて膜厚60nm製膜した。次いで、光電変換層用塗布溶液をスピンコート法で100nmの膜厚で成膜し、光電変換層を得た。さらにその上に、Alを100nm蒸着して電極を形成して光電変換素子を得た。得られた素子を大気に曝すことなく水分濃度および酸素濃度が1ppm以下のグローブボックス内に移して封止処理を施した。封止した素子をグローブボックスから取り出し、100℃のホットプレート上で20分間熱処理を行った。熱処理後の素子について、光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表10に示す。
Example 85
Titanium acetylacetonate (Ti (acac) 3 ) is mixed with 27 g of 1-hexanol and 9 g of 2-acetylcyclohexanone, and titanium oxide P-25 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (average particle size: 24 nm, average particle size is calculated by dynamic light scattering method) 36.6 g of Nanotrac particle size analyzer UPA-EX (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) used for the measurement principle is added, mixed with zirconia beads, and dispersed using a paint shaker to obtain a TiO 2 dispersion solution. It was.
Compound (10) in Table 1 was dissolved in chloroform at a concentration of 1.0 wt%. Further, the TiO 2 dispersion solution was added to the chloroform solution of the compound (10) to obtain a coating solution for a photoelectric conversion layer. At this time, the weight ratio of the solid content of the chloroform solution of compound (10) and the solid content of the TiO 2 dispersion solution was added at a ratio of 1: 1.
A spin coating method of PEDOT: PSS (poly (3,4-ethylenedioxy) -2,5-thiophene / polystyrene sulfonic acid, BAYTRON P manufactured by Bayer) as a charge injection buffer layer on the cleaned glass plate with ITO electrode The film thickness was 60 nm. Subsequently, the coating solution for photoelectric conversion layers was formed into a film with a film thickness of 100 nm by the spin coat method, and the photoelectric conversion layer was obtained. Furthermore, 100 nm of Al was vapor-deposited thereon to form an electrode to obtain a photoelectric conversion element. The obtained device was transferred to a glove box having a moisture concentration and an oxygen concentration of 1 ppm or less without being exposed to the atmosphere, and sealed. The sealed element was taken out from the glove box and subjected to heat treatment on a hot plate at 100 ° C. for 20 minutes. The photoelectric conversion efficiency was measured about the element after heat processing. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 10.

実施例86〜92
化合物(10)のかわりに表10中に示す化合物を用いて光電変換層を作成した以外は実施例85と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表10に示す。
Examples 86-92
A device was prepared in the same manner as in Example 85 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compound shown in Table 10 instead of the compound (10). The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 10.

比較例6
化合物(A)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例85と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表10に示す。
Comparative Example 6
A device was prepared in the same manner as in Example 85 except that a photoelectric conversion layer was prepared using the compound (A). The photoelectric conversion efficiency of this element and the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment were measured. The results are shown in Table 10.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

表10から明らかなように、本発明の光電変換素子用材料を用いた素子はいずれも、比較例6で作成した素子よりも、長寿命で且つ、高い光電変換効率が得られた。   As is clear from Table 10, all the elements using the photoelectric conversion element material of the present invention had a longer life and higher photoelectric conversion efficiency than the element prepared in Comparative Example 6.

実施例93
1−ヘキサノール27g、2−アセチルシクロヘキサノン9gにチタンアセチルアセトナート(Ti(acac)3)を混合し、日本アエロジル社製酸化チタンP−25(平均粒子径 24nm、平均粒子径は動的光散乱法を測定原理に用いたナノトラック粒度分析計装置UPA−EX(日機装株式会社製)にて測定)を36.6g加え、ジルコニアビーズと混合し、ペイントシェーカーを用いて分散しTiO2分散溶液を得た。
洗浄したITO電極付きガラス板上に、上記、TiO2分散溶液をスピンコート法にて膜厚30nm製膜した。次いで、表1の化合物(6)と表2の化合物n−3を5:4の割合で混合し、1.8wt%の濃度でクロロホルムに溶解させた。これをスピンコート法で100nmの膜厚で成膜し、光電変換層を得た。その上に、PEDOT:PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Bayer社製BAYTRON P)をスピンコート法にて膜厚60nm製膜した。さらにその上に、Alを100nm蒸着して電極を形成して光電変換素子を得た。得られた素子を大気に曝すことなく水分濃度および酸素濃度が1ppm以下のグローブボックス内に移して封止処理を施した。封止した素子をグローブボックスから取り出し、100℃のホットプレート上で20分間熱処理を行った。熱処理後の素子について、光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表11に示す。
Example 93
Titanium acetylacetonate (Ti (acac) 3 ) is mixed with 27 g of 1-hexanol and 9 g of 2-acetylcyclohexanone, and titanium oxide P-25 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (average particle size: 24 nm, average particle size is calculated by dynamic light scattering method) 36.6 g of Nanotrac particle size analyzer UPA-EX (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) used for the measurement principle is added, mixed with zirconia beads, and dispersed using a paint shaker to obtain a TiO 2 dispersion solution. It was.
On the cleaned glass plate with an ITO electrode, the above TiO 2 dispersion solution was formed into a film having a thickness of 30 nm by a spin coating method. Next, the compound (6) in Table 1 and the compound n-3 in Table 2 were mixed at a ratio of 5: 4 and dissolved in chloroform at a concentration of 1.8 wt%. This was formed into a film with a thickness of 100 nm by a spin coat method to obtain a photoelectric conversion layer. Further, PEDOT: PSS (poly (3,4-ethylenedioxy) -2,5-thiophene / polystyrene sulfonic acid, BAYTRON P manufactured by Bayer) was formed into a film with a thickness of 60 nm by a spin coating method. Furthermore, 100 nm of Al was vapor-deposited thereon to form an electrode to obtain a photoelectric conversion element. The obtained device was transferred to a glove box having a moisture concentration and an oxygen concentration of 1 ppm or less without being exposed to the atmosphere, and sealed. The sealed element was taken out from the glove box and subjected to heat treatment on a hot plate at 100 ° C. for 20 minutes. The photoelectric conversion efficiency was measured about the element after heat processing. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 11.

実施例94〜100
化合物(6)のかわりに表11中に示す化合物を用いて光電変換層を作成した以外は実施例93と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率を測定した。また、80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換を測定した。結果を表11に示す。
Examples 94-100
A device was produced in the same manner as in Example 93 except that a photoelectric conversion layer was produced using the compounds shown in Table 11 instead of the compound (6). The photoelectric conversion efficiency of this element was measured. Further, photoelectric conversion after being continuously driven for 100 hours in an environment of 80 ° C. was measured. The results are shown in Table 11.

比較例7
化合物(A)を用いて光電変換層を作成した以外は実施例93と同様に素子を作成した。この素子の光電変換効率、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の光電変換効率を測定した。結果を表11に示す。
Comparative Example 7
A device was produced in the same manner as in Example 93 except that a photoelectric conversion layer was produced using the compound (A). The photoelectric conversion efficiency of this element and the photoelectric conversion efficiency after 100 hours of continuous driving in an 80 ° C. environment were measured. The results are shown in Table 11.

Figure 2015065267
Figure 2015065267

表11から明らかなように、本発明の光電変換素子用材料を用いた素子はいずれも、比較例7で作成した素子よりも、長寿命で且つ、高い光電変換効率が得られた。   As is clear from Table 11, all the elements using the photoelectric conversion element material of the present invention had a longer lifetime and higher photoelectric conversion efficiency than the element prepared in Comparative Example 7.

以上のように、本発明の光電変換素子用材料を用いることにより、高い光電変換性能を有する有機薄膜太陽電池素子が作成できる。比較化合物に対して格段に高い性能が発揮されることは明らかであり、光電変換素子の高い変換効率、長寿命化が達成できた。

As mentioned above, the organic thin-film solar cell element which has high photoelectric conversion performance can be created by using the material for photoelectric conversion elements of this invention. It is clear that remarkably high performance is exhibited with respect to the comparative compound, and high conversion efficiency and long life of the photoelectric conversion element were achieved.

Claims (6)

下記一般式[1]で表される化合物、および/または下記一般式[2]で表される化合物を含んでなる有機薄膜太陽電池素子用材料。
一般式[1]
Figure 2015065267


(式中、Xは、−O−、または、−S−を表し、
1およびR2は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、または、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシカルボニル基を表し、
3〜R5は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[3]で表される基を表す。ただし、R3〜R5の少なくとも1つは下記一般式[3]で表される基である。
6〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[4]で表される基を表す。ただし、R6〜R8の少なくとも1つは下記一般式[4]で表される基である。)
一般式[2]
Figure 2015065267


(式中、Xは、−O−、または、−S−を表し、
9およびR10は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換のアルコキシカルボニル基、または、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシカルボニル基を表し、
11〜R13は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[3]で表される基を表す。ただし、R11〜R13の少なくとも1つは下記一般式[3]で表される基である。
14〜R16は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、置換アミノ基、または、下記一般式[4]で表される基を表す。ただし、R14〜R16の少なくとも1つは下記一般式[4]で表される基である。)
一般式[3]
Figure 2015065267


(式中、Yは、置換もしくは未置換の2価の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の2価の芳香族複素環基、あるいはそれらの組み合わせ、または直接結合を表す。)
一般式[4]
Figure 2015065267



(式中、Zは、置換もしくは未置換の2価の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の2価の芳香族複素環基、あるいはそれらの組み合わせ、または直接結合を表し、
17〜R26は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは未置換の芳香族炭化水素基、置換もしくは未置換の脂肪族複素環基、置換もしくは未置換の芳香族複素環基、置換シリル基、シアノ基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリ−ルオキシ基、または、置換アミノ基を表し、R17〜R21、R22〜R26、および、R21とR22は、隣り合う置換基どうしで環を形成しても良い。)
An organic thin film solar cell element material comprising a compound represented by the following general formula [1] and / or a compound represented by the following general formula [2].
General formula [1]
Figure 2015065267


(In the formula, X represents -O- or -S-,
R 1 and R 2 each independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group;
R 3 to R 5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [3] Represents a group. However, at least one of R 3 to R 5 is a group represented by the following general formula [3].
R 6 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [4] Represents a group. However, at least one of R 6 to R 8 is a group represented by the following general formula [4]. )
General formula [2]
Figure 2015065267


(In the formula, X represents -O- or -S-,
R 9 and R 10 each independently represents a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, or a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group;
R 11 to R 13 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [3] Represents a group. However, at least one of R 11 to R 13 is a group represented by the following general formula [3].
R 14 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted amino group, or the following general formula [4] Represents a group. However, at least one of R 14 to R 16 is a group represented by the following general formula [4]. )
General formula [3]
Figure 2015065267


(In the formula, Y represents a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic group, a combination thereof, or a direct bond.)
General formula [4]
Figure 2015065267



(In the formula, Z represents a substituted or unsubstituted divalent aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic group, or a combination thereof, or a direct bond;
R 17 to R 26 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aliphatic heterocyclic group, A substituted or unsubstituted aromatic heterocyclic group, a substituted silyl group, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkoxyl group, a substituted or unsubstituted aryloxy group, or a substituted amino group, R 17 to R 21 , R 22 to R 26 , and R 21 and R 22 may form a ring with adjacent substituents. )
一対の電極間に光電変換層を含む有機層を形成してなる有機薄膜太陽電池素子において、光電変換層が、請求項1記載の有機薄膜太陽電池素子用材料を含んでなる有機薄膜太陽電池素子。  An organic thin film solar cell element in which an organic layer including a photoelectric conversion layer is formed between a pair of electrodes, wherein the photoelectric conversion layer comprises the organic thin film solar cell element material according to claim 1. . 光電変換層に、n型半導体材料としてフラーレン誘導体を含むことを特徴とする請求項2記載の有機薄膜太陽電池素子。   The organic thin-film solar cell element according to claim 2, wherein the photoelectric conversion layer contains a fullerene derivative as an n-type semiconductor material. 光電変換層に、n型半導体材料として無機半導体を含むことを特徴とする請求項2または3記載の有機薄膜太陽電池素子。   The organic thin film solar cell element according to claim 2 or 3, wherein the photoelectric conversion layer contains an inorganic semiconductor as an n-type semiconductor material. 光電変換層が塗布により成膜されてなる請求項2〜4いずれか記載の有機薄膜太陽電池素子。   The organic thin-film solar cell element according to any one of claims 2 to 4, wherein the photoelectric conversion layer is formed by coating. 請求項1記載の有機薄膜太陽電池素子用材料と有機溶剤からなる有機薄膜太陽電池素子用インキ組成物。   An ink composition for an organic thin-film solar cell element comprising the organic thin-film solar cell element material according to claim 1 and an organic solvent.
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