JP2015060145A - Data compensation method, data conversion method, data compensation device, data conversion device, image drawing system, and program - Google Patents

Data compensation method, data conversion method, data compensation device, data conversion device, image drawing system, and program Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To execute a high-precision compensation within a short time.SOLUTION: A data compensation device 72 generates, by compensating vector data of a pattern element provided as element input data, compensated data. On an occasion for prompting a subsidiary point setting unit 724 to set, amidst the compensation, subsidiary points for sides of the pattern element, a first strain vector, a second strain vector, and a third strain vector respectively expressing strains of first, second, and third points set atop the sides of the pattern element are calculated based on the strain of the arrangement region of the pattern element acquired by a strain acquisition unit 722. Only in a case where the first component length or second component length of the side strain vector calculated based on the first strain vector, second strain vector, and third strain vector is equal to or greater than a strain threshold set in advance, the second point is set as a subsidiary point, and the position thereof is compensated by a position compensation unit 725. It accordingly becomes possible to compensate, in a high precision within a brief time, the respective element input data included within the input data.

Description

本発明は、基板上にパターンを描画する描画装置にて利用される描画データの生成において、図形要素に対応するベクトルデータを補正する技術に関する。   The present invention relates to a technique for correcting vector data corresponding to a graphic element in generating drawing data used in a drawing apparatus that draws a pattern on a substrate.

従来より、半導体基板やプリント基板、あるいは、プラズマ表示装置や液晶表示装置用のガラス基板等(以下、「基板」という。)に形成された感光材料に光を照射することにより、パターンの描画が行われている。近年、パターンの高精細化に伴い、感光材料上にて光ビームを走査してパターンを直接描画するパターン描画装置が利用されている。   Conventionally, a pattern can be drawn by irradiating a photosensitive material formed on a semiconductor substrate, a printed circuit board, a glass substrate for a plasma display device or a liquid crystal display device (hereinafter referred to as “substrate”) with light. Has been done. 2. Description of the Related Art In recent years, with high definition of patterns, pattern drawing apparatuses that directly draw a pattern by scanning a light beam on a photosensitive material are used.

このようなパターンは、設計段階では通常、CADデータ等のベクトルデータにより表現されており、パターン描画装置によるパターンの描画に際して、当該ベクトルデータを、パターン描画装置が利用可能なランレングスデータ等のラスタデータに変換する処理(RIP:Raster Image Processing)が行われる。   Such a pattern is usually expressed by vector data such as CAD data at the design stage. When the pattern is drawn by the pattern drawing apparatus, the vector data is converted into a raster such as run-length data that can be used by the pattern drawing apparatus. Processing for converting into data (RIP: Raster Image Processing) is performed.

上述のようなパターン描画装置では、基板や基板上に既に形成されているパターン(いわゆる、下地)に歪みが生じている場合、歪みが生じている領域上に描画を行う際にパターンが歪みに合わせて補正される。例えば、特許文献1では、ベクトルデータであるパターンデータがラスタデータである初期描画データに変換され、当該初期描画データが、マトリクス状に配置された複数のメッシュ領域に分割される。そして、基板の変形に応じて複数のメッシュ領域が再配置される。その後、複数のメッシュ領域が合成されることにより、基板の変形に応じた描画データが生成される。   In the pattern drawing apparatus as described above, if a substrate or a pattern already formed on the substrate (so-called base) is distorted, the pattern is distorted when drawing on the distorted region. It is corrected together. For example, in Patent Document 1, pattern data that is vector data is converted into initial drawing data that is raster data, and the initial drawing data is divided into a plurality of mesh regions arranged in a matrix. A plurality of mesh regions are rearranged according to the deformation of the substrate. Thereafter, a plurality of mesh regions are combined to generate drawing data corresponding to the deformation of the substrate.

また、特許文献2では、ワーク上に格子状に設けられたアライメントマークを利用して、所定の大きさの矩形の補正領域がマトリクス状に設定される。続いて、ベクトルデータである配線パターンが、マトリクス状に配置された複数の補正領域に分割され、複数の補正領域に跨る図形要素が、補正領域の境界線にて複数の分割図形要素に分割される。そして、各補正領域内の分割図形要素が、補正領域毎の補正係数を用いて補正された後、補正領域毎にラスタデータに変換される。その後、各補正領域のラスタデータが合成されることにより露光パターンが生成される。   In Patent Document 2, rectangular correction regions having a predetermined size are set in a matrix using alignment marks provided in a grid on the workpiece. Subsequently, the wiring pattern, which is vector data, is divided into a plurality of correction areas arranged in a matrix, and a graphic element straddling the plurality of correction areas is divided into a plurality of divided graphic elements at the boundary line of the correction area. The Then, the divided graphic elements in each correction area are corrected using the correction coefficient for each correction area, and then converted into raster data for each correction area. Thereafter, the exposure pattern is generated by combining the raster data of each correction area.

特開2010−204421号公報JP 2010-204421 A 特開2011−28182号公報JP 2011-28182 A

ところで、特許文献1のように、ベクトルデータであるパターンデータをラスタデータに変換した後に、基板の変形等に対応する補正を行うと、補正に要する時間を短くすることはできるが、補正品質の向上に限界がある。一方、特許文献2のように、ベクトルデータを補正した後にラスタデータに変換すると、ラスタデータに補正を行う場合に比べて精度良く補正を行うことができる。   By the way, if the correction corresponding to the deformation of the substrate is performed after converting the pattern data, which is vector data, into the raster data as in Patent Document 1, the time required for the correction can be shortened, but the correction quality is improved. There is a limit to improvement. On the other hand, when the vector data is corrected and converted to raster data as in Patent Document 2, the correction can be performed with higher accuracy than when the raster data is corrected.

しかしながら、特許文献2のように、配線パターンを所定の大きさの複数の補正領域に分割すると、基板が変形していない領域上の図形要素も複数の図形要素に分割されてしまう。このため、補正処理に要する時間、および、ラスタデータである露光パターンへの変換に要する時間が増大する。また、特許文献2では、各補正領域の補正係数は、補正領域の4つの頂点に位置するアライメントマークの位置に基づいて求められる。すなわち、補正係数は、1つの補正領域内において基板の変形が一様であることを前提として決定される。このため、1つの補正領域内において基板の変形が一様でない場合、例えば、1つの補正領域内の一部が凹状に変形し、他の部位が凸状に変形している場合、当該変形に対応した高精度な補正を行うことはできない。   However, as in Patent Document 2, when the wiring pattern is divided into a plurality of correction areas of a predetermined size, the graphic elements on the area where the substrate is not deformed are also divided into a plurality of graphic elements. For this reason, the time required for the correction process and the time required for conversion to the exposure pattern which is raster data are increased. Further, in Patent Document 2, the correction coefficient of each correction area is obtained based on the positions of the alignment marks located at the four vertices of the correction area. That is, the correction coefficient is determined on the assumption that the deformation of the substrate is uniform within one correction area. For this reason, when the deformation of the substrate is not uniform within one correction area, for example, when a part of one correction area is deformed into a concave shape and another part is deformed into a convex shape, Corresponding high-precision correction cannot be performed.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、高精度な補正を短時間で行うことを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to perform highly accurate correction in a short time.

請求項1に記載の発明は、基板上にパターンを描画する描画装置にて利用される描画データの生成において、図形要素を含む領域を第1の方向を向く直線にて予め定められたアドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する際に、前記図形要素に対応するベクトルデータである要素入力データを補正するデータ補正方法であって、a)それぞれが直線である複数の辺にて囲まれた図形要素を表す要素入力データを準備する工程と、b)前記基板上に設けられた複数の目印の基準位置からのずれ量に基づいて、前記基板上の前記図形要素が配置される配置領域の歪みを取得する工程と、c)前記複数の目印の基準位置からのずれ量、および、前記アドレスピッチに基づいて、単位距離を決定する工程と、d)前記図形要素の前記複数の辺のうち一の辺について、一方の端点を第1点とし、前記第1点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第2点とし、前記第2点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第3点とする工程と、e)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記第1点における歪みを示す第1歪みベクトル、前記第2点における歪みを示す第2歪みベクトル、および、前記第3点における歪みを示す第3歪みベクトルを求める工程と、f)前記第2歪みベクトルと前記第1歪みベクトルとの差である第1仮差分ベクトル、および、前記第3歪みベクトルと前記第2歪みベクトルとの差である第2仮差分ベクトルを求め、前記第2仮差分ベクトルと前記第1仮差分ベクトルとの差である差分ベクトルを求める工程と、g)前記差分ベクトルの前記辺の法線方向成分である辺歪みベクトルを求める工程と、h)前記辺歪みベクトルの前記第1の方向成分の長さである第1成分長さ、または、前記辺歪みベクトルの前記第1の方向に垂直な第2の方向成分の長さである第2成分長さが、前記アドレスピッチ以下にて予め定められた歪み閾値以上である場合、前記第2点を補助点として設定する工程と、i)前記h)工程において、前記第1成分長さまたは前記第2成分長さが前記歪み閾値以上である場合、前記補助点、前記第3点、および、前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第1点、第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返し、前記第1成分長さおよび前記第2成分長さが前記歪み閾値よりも小さい場合、前記第3点および前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返す工程と、j)前記複数の辺のそれぞれについて、前記d)工程ないし前記i)工程を行う工程と、k)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記複数の辺上の端点および補助点の位置を補正する工程とを備える。   According to the first aspect of the present invention, in the generation of drawing data used in a drawing apparatus that draws a pattern on a substrate, an area including a graphic element is defined in advance by an address pitch that is a straight line facing the first direction. Element input that is vector data corresponding to the graphic element when generating element output data that is run-length data representing the graphic element as a substantial set of run lengths of each divided area A data correction method for correcting data, comprising: a) preparing element input data representing graphic elements each surrounded by a plurality of sides, each of which is a straight line; and b) a plurality of data provided on the substrate. Obtaining a distortion of an arrangement region on which the graphic element is arranged on the substrate based on a deviation amount of the mark from the reference position; c) a deviation amount of the plurality of marks from the reference position; And a step of determining a unit distance based on the address pitch, and d) one end of the plurality of sides of the graphic element as a first point, and the side from the first point to the side A point separated by the unit distance in the direction facing the second point as a second point, and a point separated from the second point by the unit distance in the direction toward the side as a third point; e) the step b) The first distortion vector indicating the distortion at the first point, the second distortion vector indicating the distortion at the second point, and the second distortion vector indicating the distortion at the third point, based on the distortion of the arrangement region acquired in step S1. A step of obtaining three distortion vectors; f) a first temporary difference vector that is a difference between the second distortion vector and the first distortion vector; and a difference between the third distortion vector and the second distortion vector. Second temporary difference vector Obtaining a difference vector that is a difference between the second temporary difference vector and the first temporary difference vector; and g) obtaining an edge distortion vector that is a normal direction component of the edge of the difference vector; H) a first component length that is the length of the first direction component of the side distortion vector, or a length of a second direction component that is perpendicular to the first direction of the side distortion vector. When the second component length is equal to or greater than a predetermined distortion threshold value below the address pitch, in the step of setting the second point as an auxiliary point, and i) in the step h), the first component length Or when the second component length is greater than or equal to the distortion threshold, the auxiliary point, the third point, and a point separated from the third point by the unit distance in the direction in which the side faces are newly added. As the first point, the second point and the third point, As long as three points exist on the side, the steps e) to h) are repeated, and when the first component length and the second component length are smaller than the distortion threshold, the third point and As long as the third point exists on the side, a point separated by the unit distance in the direction in which the side is directed from the third point is newly set as the second point and the third point. ) Step of repeating the step, j) step d) to step i) for each of the plurality of sides, k) based on the distortion of the arrangement region acquired in step b), And correcting the positions of the end points and auxiliary points on the plurality of sides.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のデータ補正方法であって、前記c)工程が、c1)前記複数の目印のうち2つの目印の各組み合わせについて、前記2つの目印に対応する2つの基準位置の間の距離をL1とし、一方の目印に対応する一方の基準位置から前記一方の目印へと向かう第1目印歪みベクトルと他方の目印に対応する他方の基準位置から前記他方の目印へと向かう第2目印歪みベクトルとの差分ベクトルの長さをL2とし、前記アドレスピッチをPとし、L1・P/L2を仮単位距離閾値として求める工程と、c2)前記単位距離を、前記各組み合わせの仮単位距離閾値のうち最小の仮単位距離閾値以下の値に決定する工程とを備える。   Invention of Claim 2 is the data correction method of Claim 1, Comprising: The said c) process respond | corresponds to said two marks about each combination of two marks among c1) said several marks The distance between two reference positions is L1, and the first mark distortion vector from one reference position corresponding to one mark to the one mark and the other reference position corresponding to the other mark are set to the other A length of a difference vector from the second landmark distortion vector toward the landmark of L2 is set to L2, the address pitch is set to P, and L1 · P / L2 is determined as a temporary unit distance threshold; c2) the unit distance is And determining a value equal to or smaller than a minimum temporary unit distance threshold value among the temporary unit distance threshold values of each combination.

請求項3に記載の発明は、請求項1または2に記載のデータ補正方法であって、前記歪み閾値が前記アドレスピッチに等しい。   A third aspect of the present invention is the data correction method according to the first or second aspect, wherein the distortion threshold is equal to the address pitch.

請求項4に記載の発明は、要素入力データを変換して要素出力データを生成するデータ変換方法であって、前記要素入力データを、請求項1ないし3のいずれかに記載のデータ補正方法により補正して補正済みデータを生成する工程と、前記補正済みデータが表す図形要素を含む領域を、前記第1の方向を向く直線にて前記アドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する工程とを備える。   The invention according to claim 4 is a data conversion method for converting element input data to generate element output data, wherein the element input data is converted by the data correction method according to any one of claims 1 to 3. A step of generating corrected data by correction, and a region including the graphic element represented by the corrected data is divided for each address pitch by a straight line facing the first direction, and the run of each divided region is Generating element output data which is run-length data representing the graphic element as a substantial set of lengths.

請求項5に記載の発明は、基板上にパターンを描画する描画装置にて利用される描画データの生成において、図形要素を含む領域を第1の方向を向く直線にて予め定められたアドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する際に、前記図形要素に対応するベクトルデータである要素入力データを補正するデータ補正装置であって、それぞれが直線である複数の辺にて囲まれた図形要素を表す要素入力データを記憶する記憶部と、前記基板上に設けられた複数の目印の基準位置からのずれ量に基づいて、前記基板上の前記図形要素が配置される配置領域の歪みを取得する歪み取得部と、前記複数の目印の基準位置からのずれ量、および、前記アドレスピッチに基づいて、単位距離を決定する単位距離決定部と、前記複数の辺のそれぞれに補助点を設定する補助点設定部と、前記歪み取得部により取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記複数の辺上の端点および補助点の位置を補正する位置補正部とを備え、前記補助点設定部による補助点の設定が、a)前記図形要素の前記複数の辺のうち一の辺について、一方の端点を第1点とし、前記第1点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第2点とし、前記第2点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第3点とする工程と、b)前記歪み取得部により取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記第1点における歪みを示す第1歪みベクトル、前記第2点における歪みを示す第2歪みベクトル、および、前記第3点における歪みを示す第3歪みベクトルを求める工程と、c)前記第2歪みベクトルと前記第1歪みベクトルとの差である第1仮差分ベクトル、および、前記第3歪みベクトルと前記第2歪みベクトルとの差である第2仮差分ベクトルを求め、前記第2仮差分ベクトルと前記第1仮差分ベクトルとの差である差分ベクトルを求める工程と、d)前記差分ベクトルの前記辺の法線方向成分である辺歪みベクトルを求める工程と、e)前記辺歪みベクトルの前記第1の方向成分の長さである第1成分長さ、または、前記辺歪みベクトルの前記第1の方向に垂直な第2の方向成分の長さである第2成分長さが、前記アドレスピッチ以下にて予め定められた歪み閾値以上である場合、前記第2点を補助点として設定する工程と、f)前記e)工程において、前記第1成分長さまたは前記第2成分長さが前記歪み閾値以上である場合、前記補助点、前記第3点、および、前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第1点、第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記b)工程ないし前記e)工程を繰り返し、前記第1成分長さおよび前記第2成分長さが前記歪み閾値よりも小さい場合、前記第3点および前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記b)工程ないし前記e)工程を繰り返す工程と、g)前記複数の辺のそれぞれについて、前記a)工程ないし前記f)工程を行う工程とを備える。   According to a fifth aspect of the present invention, in the generation of drawing data used in a drawing apparatus that draws a pattern on a substrate, an area including a graphic element is defined in advance by an address pitch that is a straight line that faces the first direction. Element input that is vector data corresponding to the graphic element when generating element output data that is run-length data representing the graphic element as a substantial set of run lengths of each divided area A data correction device for correcting data, a storage unit for storing element input data representing graphic elements each surrounded by a plurality of sides each being a straight line, and a reference for a plurality of marks provided on the substrate A distortion acquisition unit that acquires distortion of an arrangement region in which the graphic element is arranged on the substrate based on a deviation amount from a position; a deviation amount from a reference position of the plurality of landmarks; and Based on the address pitch, a unit distance determination unit that determines a unit distance, an auxiliary point setting unit that sets an auxiliary point for each of the plurality of sides, and distortion of the placement region acquired by the distortion acquisition unit And a position correction unit that corrects the positions of the end points and auxiliary points on the plurality of sides, and setting of auxiliary points by the auxiliary point setting unit is a) one of the plurality of sides of the graphic element. One end point of the side is a first point, a point separated from the first point by the unit distance in the direction of the side is a second point, and the unit is in a direction of the side from the second point. A step of setting a point separated by a distance as a third point; and b) a first distortion vector indicating a distortion at the first point based on the distortion of the arrangement region acquired by the distortion acquisition unit, the second point Second distortion vector showing distortion in And a step of obtaining a third distortion vector indicating a distortion at the third point, c) a first temporary difference vector that is a difference between the second distortion vector and the first distortion vector, and the third distortion. Obtaining a second temporary difference vector that is a difference between the vector and the second distortion vector, and obtaining a difference vector that is a difference between the second temporary difference vector and the first temporary difference vector; and d) the difference vector. E) obtaining a side distortion vector that is a normal direction component of the side, e) a first component length that is a length of the first direction component of the side distortion vector, or the side distortion vector of the side distortion vector When the second component length, which is the length of the second direction component perpendicular to the first direction, is equal to or greater than a predetermined distortion threshold value below the address pitch, the second point is set as an auxiliary point. And f ) In the step e), when the first component length or the second component length is greater than or equal to the distortion threshold, the side points from the auxiliary point, the third point, and the third point. The steps b) to e) are repeated as long as the third point exists on the side, with the points separated by the unit distance as the first point, the second point, and the third point. When the first component length and the second component length are smaller than the distortion threshold value, a second point that is separated from the third point and the third point by the unit distance in the direction in which the side faces is newly added. As a third point, as long as the third point exists on the side, the step b) to the step e) are repeated, and g) the step a) to the f for each of the plurality of sides. And a step of performing a step.

請求項6に記載の発明は、請求項5に記載のデータ補正装置であって、前記単位距離決定部による前記単位距離の決定が、h)前記複数の目印のうち2つの目印の各組み合わせについて、前記2つの目印に対応する2つの基準位置の間の距離をL1とし、一方の目印に対応する一方の基準位置から前記一方の目印へと向かう第1目印歪みベクトルと他方の目印に対応する他方の基準位置から前記他方の目印へと向かう第2目印歪みベクトルとの差分ベクトルの長さをL2とし、前記アドレスピッチをPとし、L1・P/L2を仮単位距離閾値として求める工程と、i)前記単位距離を、前記各組み合わせの仮単位距離閾値のうち最小の仮単位距離閾値以下の値に決定する工程とを備える。   The invention according to claim 6 is the data correction apparatus according to claim 5, wherein the unit distance is determined by the unit distance determining unit. H) For each combination of two marks among the plurality of marks. The distance between the two reference positions corresponding to the two marks is L1, and the first mark distortion vector heading from the one reference position corresponding to the one mark to the one mark and the other mark Obtaining a length of a difference vector from a second reference position from the other reference position to the second landmark distortion vector as L2, L2 as the address pitch, and L1 · P / L2 as a temporary unit distance threshold; i) determining the unit distance to a value equal to or smaller than a minimum temporary unit distance threshold value among the temporary unit distance threshold values of each combination.

請求項7に記載の発明は、請求項5または6に記載のデータ補正装置であって、前記歪み閾値が前記アドレスピッチに等しい。   The invention according to claim 7 is the data correction apparatus according to claim 5 or 6, wherein the distortion threshold is equal to the address pitch.

請求項8に記載の発明は、要素入力データを変換して要素出力データを生成するデータ変換装置であって、前記要素入力データを補正して補正済みデータを生成する請求項5ないし7のいずれかに記載のデータ補正装置と、前記補正済みデータが表す図形要素を含む領域を、前記第1の方向を向く直線にて前記アドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成するランレングス生成部とを備える。   The invention according to claim 8 is a data converter for converting element input data to generate element output data, wherein the element input data is corrected to generate corrected data. The data correction device according to claim 1 and a region including the graphic element represented by the corrected data are divided for each address pitch by a straight line facing the first direction, and the run length of each divided region is substantially A run-length generating unit that generates element output data that is run-length data representing the graphic elements as a general set.

請求項9に記載の発明は、基板上にパターンを描画する描画システムであって、請求項8に記載のデータ変換装置と、前記データ変換装置により生成された前記要素出力データに基づいて基板上にパターンを描画する描画装置とを備え、前記描画装置が、前記基板を保持する基板保持部と、前記基板に光を照射する光変調素子と、前記光変調素子から導かれた光の前記基板上における照射位置を、前記基板上における前記第1の方向に対応する方向に前記基板に対して相対的に移動する照射位置移動機構と、前記要素出力データに基づいて前記光変調素子からの光の変調を制御する光変調素子制御部とを備える。   The invention described in claim 9 is a drawing system for drawing a pattern on a substrate, wherein the data converter according to claim 8 and the element output data generated by the data converter are on the substrate. A drawing device that draws a pattern on the substrate, wherein the drawing device holds the substrate, a light modulation element that irradiates light to the substrate, and the substrate of light guided from the light modulation device An irradiation position moving mechanism for moving the irradiation position relative to the substrate in a direction corresponding to the first direction on the substrate, and light from the light modulation element based on the element output data A light modulation element control unit for controlling the modulation of the light.

請求項10に記載の発明は、基板上にパターンを描画する描画装置にて利用される描画データの生成において、図形要素を含む領域を第1の方向を向く直線にて予め定められたアドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する際に、前記図形要素に対応するベクトルデータである要素入力データを補正するプログラムであって、前記プログラムのコンピュータによる実行は、前記コンピュータに、a)それぞれが直線である複数の辺にて囲まれた図形要素を表す要素入力データを準備する工程と、b)前記基板上に設けられた複数の目印の基準位置からのずれ量に基づいて、前記基板上の前記図形要素が配置される配置領域の歪みを取得する工程と、c)前記複数の目印の基準位置からのずれ量、および、前記アドレスピッチに基づいて、単位距離を決定する工程と、d)前記図形要素の前記複数の辺のうち一の辺について、一方の端点を第1点とし、前記第1点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第2点とし、前記第2点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第3点とする工程と、e)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記第1点における歪みを示す第1歪みベクトル、前記第2点における歪みを示す第2歪みベクトル、および、前記第3点における歪みを示す第3歪みベクトルを求める工程と、f)前記第2歪みベクトルと前記第1歪みベクトルとの差である第1仮差分ベクトル、および、前記第3歪みベクトルと前記第2歪みベクトルとの差である第2仮差分ベクトルを求め、前記第2仮差分ベクトルと前記第1仮差分ベクトルとの差である差分ベクトルを求める工程と、g)前記差分ベクトルの前記辺の法線方向成分である辺歪みベクトルを求める工程と、h)前記辺歪みベクトルの前記第1の方向成分の長さである第1成分長さ、または、前記辺歪みベクトルの前記第1の方向に垂直な第2の方向成分の長さである第2成分長さが、前記アドレスピッチ以下にて予め定められた歪み閾値以上である場合、前記第2点を補助点として設定する工程と、i)前記h)工程において、前記第1成分長さまたは前記第2成分長さが前記歪み閾値以上である場合、前記補助点、前記第3点、および、前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第1点、第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返し、前記第1成分長さおよび前記第2成分長さが前記歪み閾値よりも小さい場合、前記第3点および前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返す工程と、j)前記複数の辺のそれぞれについて、前記d)工程ないし前記i)工程を行う工程と、k)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記複数の辺上の端点および補助点の位置を補正する工程とを実行させる。   According to a tenth aspect of the present invention, in the generation of drawing data used in a drawing apparatus that draws a pattern on a substrate, an area including graphic elements is defined in advance by an address pitch that is a straight line facing the first direction. Element input that is vector data corresponding to the graphic element when generating element output data that is run-length data representing the graphic element as a substantial set of run lengths of each divided area A program for correcting data, the computer executing the program includes: a) preparing element input data representing graphic elements surrounded by a plurality of sides, each of which is a straight line; b ) Based on the amount of deviation from the reference position of the plurality of marks provided on the substrate, the distortion of the arrangement area in which the graphic element on the substrate is arranged C) a step of determining a unit distance based on a shift amount from a reference position of the plurality of marks and the address pitch; and d) one side of the plurality of sides of the graphic element. , One end point is a first point, a point separated from the first point by the unit distance in the direction of the side is a second point, and the unit distance is in the direction of the side from the second point. A step of setting a distant point as a third point; and e) a first distortion vector indicating a distortion at the first point based on the distortion of the arrangement region acquired in the step b), and a distortion at the second point. And a step of obtaining a third distortion vector indicating distortion at the third point, and f) a first temporary difference vector that is a difference between the second distortion vector and the first distortion vector, And the third strain Obtaining a second temporary difference vector that is a difference between the vector and the second distortion vector, and obtaining a difference vector that is a difference between the second temporary difference vector and the first temporary difference vector; and g) the difference vector. Obtaining a side distortion vector that is a normal direction component of the side of h, and h) a first component length that is a length of the first direction component of the side distortion vector or the side distortion vector of the side distortion vector When the second component length, which is the length of the second direction component perpendicular to the first direction, is equal to or greater than a predetermined distortion threshold value below the address pitch, the second point is set as an auxiliary point. And i) in the step h), when the first component length or the second component length is equal to or greater than the distortion threshold, from the auxiliary point, the third point, and the third point The unit distance in the direction in which the side faces As long as the third point exists on the side, the points e) to h) are repeated as the first point, the second point, and the third point as new points, and the first component length is repeated. When the length and the second component length are smaller than the distortion threshold, the second point and the third point are newly defined by separating the third point and the third point by the unit distance in the direction in which the side faces. As long as the third point exists on the side, the steps e) to h) are repeated, and j) the steps d) to i) are performed for each of the plurality of sides. And k) correcting the positions of the end points and auxiliary points on the plurality of sides based on the distortion of the arrangement region acquired in the step b).

本発明では、高精度な補正を短時間で行うことができる。   In the present invention, highly accurate correction can be performed in a short time.

一の実施の形態に係る描画システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the drawing system which concerns on one embodiment. 描画装置の側面図である。It is a side view of a drawing apparatus. 描画装置の平面図である。It is a top view of a drawing apparatus. 空間光変調器を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows a spatial light modulator. 光変調素子の断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section of a light modulation element. 光変調素子の断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section of a light modulation element. データ変換装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a data converter. データ変換の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of data conversion. データ変換の流れの一部を示す図である。It is a figure which shows a part of flow of data conversion. データ変換の流れの一部を示す図である。It is a figure which shows a part of flow of data conversion. データ変換の流れの一部を示す図である。It is a figure which shows a part of flow of data conversion. 図形要素を示す図である。It is a figure which shows a graphical element. 基板の一部を示す図である。It is a figure which shows a part of board | substrate. 図形要素を示す図である。It is a figure which shows a graphical element. 歪みベクトルおよび仮差分ベクトルを示す図である。It is a figure which shows a distortion vector and a temporary difference vector. 歪みベクトルおよび仮差分ベクトルを示す図である。It is a figure which shows a distortion vector and a temporary difference vector. 差分ベクトルおよび辺歪みベクトルを示す図である。It is a figure which shows a difference vector and a side distortion vector. 図形要素を示す図である。It is a figure which shows a graphical element. 図形要素を示す図である。It is a figure which shows a graphical element. 図形要素を示す図である。It is a figure which shows a graphical element. 図形要素を示す図である。It is a figure which shows a graphical element. 図形要素を示す図である。It is a figure which shows a graphical element. 補正済み図形要素を示す図である。It is a figure which shows the corrected figure element. 補正済み図形要素を示す図である。It is a figure which shows the corrected figure element.

図1は、本発明の一の実施の形態に係る描画システム100の構成を示す図である。描画システム100は、液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に「基板」という。)上の感光材料に光を利用してパターンを描画するシステムである。図1に示すように、描画システム100は、データ変換装置7と、描画装置1とを備える。データ変換装置7は、パターンを示すベクトルデータである入力データを、ランレングスデータである出力データに変換する(すなわち、ラスタライズを行う)。描画装置1は、データ変換装置7により生成された出力データに基づいて、基板上にパターンを描画する。図1では、データ変換装置7の各機能も併せて示している。以下では、描画装置1について説明した後、データ変換装置7およびデータ変換装置7にて取り扱われるデータについて説明する。   FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a drawing system 100 according to an embodiment of the present invention. The drawing system 100 is a system that draws a pattern on a photosensitive material on a glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) for a liquid crystal display device by using light. As shown in FIG. 1, the drawing system 100 includes a data conversion device 7 and a drawing device 1. The data converter 7 converts input data, which is vector data indicating a pattern, into output data, which is run-length data (that is, performs rasterization). The drawing device 1 draws a pattern on the substrate based on the output data generated by the data conversion device 7. In FIG. 1, each function of the data converter 7 is also shown. In the following, after describing the drawing device 1, the data conversion device 7 and the data handled by the data conversion device 7 will be described.

図2および図3はそれぞれ、描画装置1の側面図および平面図である。図2および図3に示すように、描画装置1は、保持部移動機構2と、基板保持部3と、光照射部4と、撮像部5と、フレーム12とを備える。基板保持部3は、(+Z)側の主面91(以下、「上面91」という。)上に感光材料の層が形成された基板9を保持する。保持部移動機構2は、基台11上に設けられ、基板保持部3をZ方向に垂直なX方向およびY方向に移動する。フレーム12は、基板保持部3および保持部移動機構2を跨ぐように基台11に固定される。光照射部4および撮像部5は、フレーム12に取り付けられる。光照射部4は、基板9上の感光材料に変調された光を照射する。撮像部5は、基板9のX方向の全幅に亘って設けられ、基板9の上面91を撮像する。また、描画装置1は、図2に示すように、保持部移動機構2、光照射部4および撮像部5等の各構成を制御する制御部6を備える。   2 and 3 are a side view and a plan view of the drawing apparatus 1, respectively. As shown in FIGS. 2 and 3, the drawing apparatus 1 includes a holding unit moving mechanism 2, a substrate holding unit 3, a light irradiation unit 4, an imaging unit 5, and a frame 12. The substrate holding unit 3 holds the substrate 9 on which a layer of a photosensitive material is formed on the (+ Z) side main surface 91 (hereinafter referred to as “upper surface 91”). The holding unit moving mechanism 2 is provided on the base 11 and moves the substrate holding unit 3 in the X direction and the Y direction perpendicular to the Z direction. The frame 12 is fixed to the base 11 so as to straddle the substrate holding unit 3 and the holding unit moving mechanism 2. The light irradiation unit 4 and the imaging unit 5 are attached to the frame 12. The light irradiation unit 4 irradiates the photosensitive material on the substrate 9 with modulated light. The imaging unit 5 is provided over the entire width of the substrate 9 in the X direction, and images the upper surface 91 of the substrate 9. Moreover, the drawing apparatus 1 is provided with the control part 6 which controls each structure, such as the holding | maintenance part moving mechanism 2, the light irradiation part 4, and the imaging part 5, as shown in FIG.

図2および図3に示すように、基板保持部3は、ステージ31と、ステージ回転機構32と、支持プレート33とを備える。基板9は、ステージ31上に載置される。支持プレート33は、ステージ31を回転可能に支持する。ステージ回転機構32は、支持プレート33上において、基板9の上面91に垂直な回転軸321を中心としてステージ31を回転する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the substrate holding unit 3 includes a stage 31, a stage rotating mechanism 32, and a support plate 33. The substrate 9 is placed on the stage 31. The support plate 33 supports the stage 31 rotatably. The stage rotation mechanism 32 rotates the stage 31 about a rotation axis 321 perpendicular to the upper surface 91 of the substrate 9 on the support plate 33.

保持部移動機構2は、副走査機構23と、ベースプレート24と、主走査機構25とを備える。副走査機構23は、基板保持部3を図2および図3中のX方向(以下、「副走査方向」という。)に移動する。ベースプレート24は、副走査機構23を介して支持プレート33を支持する。主走査機構25は、基板保持部3をベースプレート24と共にX方向に垂直なY方向(以下、「主走査方向」という。)に移動する。描画装置1では、保持部移動機構2により、基板9の上面91に平行な主走査方向および副走査方向に基板保持部3が移動される。   The holding unit moving mechanism 2 includes a sub-scanning mechanism 23, a base plate 24, and a main scanning mechanism 25. The sub-scanning mechanism 23 moves the substrate holder 3 in the X direction (hereinafter referred to as “sub-scanning direction”) in FIGS. 2 and 3. The base plate 24 supports the support plate 33 via the sub scanning mechanism 23. The main scanning mechanism 25 moves the substrate holder 3 together with the base plate 24 in the Y direction perpendicular to the X direction (hereinafter referred to as “main scanning direction”). In the drawing apparatus 1, the holding unit moving mechanism 2 moves the substrate holding unit 3 in the main scanning direction and the sub-scanning direction parallel to the upper surface 91 of the substrate 9.

図2および図3に示すように、副走査機構23は、リニアモータ231と、1対のリニアガイド232とを備える。リニアモータ231は、支持プレート33の下側(すなわち、(−Z)側)において、ステージ31の主面に平行、かつ、主走査方向に垂直な副走査方向に伸びる。1対のリニアガイド232は、リニアモータ231の(+Y)側および(−Y)側において副走査方向に伸びる。主走査機構25は、リニアモータ251と、1対のエアスライダ252とを備える。リニアモータ251は、ベースプレート24の下側において、ステージ31の主面に平行な主走査方向に伸びる。1対のエアスライダ252は、リニアモータ251の(+X)側および(−X)側において主走査方向に伸びる。   As shown in FIGS. 2 and 3, the sub-scanning mechanism 23 includes a linear motor 231 and a pair of linear guides 232. The linear motor 231 extends in the sub-scanning direction parallel to the main surface of the stage 31 and perpendicular to the main scanning direction on the lower side (that is, the (−Z) side) of the support plate 33. The pair of linear guides 232 extends in the sub-scanning direction on the (+ Y) side and (−Y) side of the linear motor 231. The main scanning mechanism 25 includes a linear motor 251 and a pair of air sliders 252. The linear motor 251 extends in the main scanning direction parallel to the main surface of the stage 31 below the base plate 24. The pair of air sliders 252 extends in the main scanning direction on the (+ X) side and (−X) side of the linear motor 251.

図3に示すように、光照射部4は、副走査方向に沿って等ピッチにて配列されてフレーム12に取り付けられる複数(本実施の形態では、8つ)の光学ヘッド41を備える。また、光照射部4は、図2に示すように、各光学ヘッド41に接続される光源光学系42、並びに、紫外光を出射するUV光源43および光源駆動部44を備える。UV光源43は固体レーザである。光源駆動部44が駆動されることにより、UV光源43から波長355nmの紫外光が出射され、光源光学系42を介して光学ヘッド41へと導かれる。   As shown in FIG. 3, the light irradiation unit 4 includes a plurality (eight in the present embodiment) of optical heads 41 arranged at an equal pitch along the sub-scanning direction and attached to the frame 12. As shown in FIG. 2, the light irradiation unit 4 includes a light source optical system 42 connected to each optical head 41, a UV light source 43 that emits ultraviolet light, and a light source driving unit 44. The UV light source 43 is a solid state laser. By driving the light source driving unit 44, ultraviolet light having a wavelength of 355 nm is emitted from the UV light source 43 and guided to the optical head 41 through the light source optical system 42.

各光学ヘッド41は、出射部45と、光学系451,47と、空間光変調器46とを備える。出射部45は、UV光源43からの光を下方に向けて出射する。光学系451は、出射部45からの光を反射して空間光変調器46へと導く。空間光変調器46は、光学系451を介して照射された出射部45からの光を変調しつつ反射する。光学系47は、空間光変調器46からの変調された光を、基板9の上面91に設けられた感光材料上へと導く。   Each optical head 41 includes an emitting unit 45, optical systems 451 and 47, and a spatial light modulator 46. The emitting unit 45 emits light from the UV light source 43 downward. The optical system 451 reflects the light from the emitting part 45 and guides it to the spatial light modulator 46. The spatial light modulator 46 modulates and reflects the light from the emitting part 45 irradiated through the optical system 451. The optical system 47 guides the modulated light from the spatial light modulator 46 onto the photosensitive material provided on the upper surface 91 of the substrate 9.

図4は、空間光変調器46を拡大して示す図である。図4に示すように、空間光変調器46は、出射部45を介して照射されたUV光源43(図2参照)からの光を基板9の上面91へと導く回折格子型の複数の光変調素子461を備える。光変調素子461は半導体装置製造技術を利用して製造され、格子の深さを変更することができる回折格子となっている。光変調素子461には複数の可撓リボン461aおよび複数の固定リボン461bが交互に平行に配列形成され、複数の可撓リボン461aは背後の基準面に対して個別に昇降移動可能とされ、複数の固定リボン461bは基準面に対して固定される。回折格子型の光変調素子としては、例えば、GLV(Grating Light Valve:グレーチング・ライト・バルブ)(シリコン・ライト・マシーンズ(サニーベール、カリフォルニア)の登録商標)が知られている。   FIG. 4 is an enlarged view showing the spatial light modulator 46. As shown in FIG. 4, the spatial light modulator 46 has a plurality of diffraction grating type lights that guide light from the UV light source 43 (see FIG. 2) irradiated through the emitting unit 45 to the upper surface 91 of the substrate 9. A modulation element 461 is provided. The light modulation element 461 is manufactured using a semiconductor device manufacturing technique, and is a diffraction grating capable of changing the depth of the grating. In the light modulation element 461, a plurality of flexible ribbons 461a and a plurality of fixed ribbons 461b are alternately arranged in parallel. The plurality of flexible ribbons 461a can be individually moved up and down with respect to the reference plane on the back. The fixed ribbon 461b is fixed to the reference plane. As a diffraction grating type light modulation element, for example, GLV (Grating Light Valve) (registered trademark of Silicon Light Machines (Sunnyvale, Calif.)) Is known.

図5.Aおよび図5.Bは、可撓リボン461aおよび固定リボン461bに対して垂直な面における光変調素子461の断面を示す図である。図5.Aに示すように可撓リボン461aおよび固定リボン461bが基準面461cに対して同じ高さに位置する(すなわち、可撓リボン461aが撓まない)場合には、光変調素子461の表面は面一となり、入射光L1の反射光が0次光L2として導出される。一方、図5.Bに示すように可撓リボン461aが固定リボン461bよりも基準面461c側に撓む場合には、可撓リボン461aが回折格子の溝の底面となり、入射光L1が入射した光変調素子461から1次回折光L3(さらには、高次回折光)が導出され、0次光は消滅する。このように、光変調素子461は回折格子を利用した光変調を行う。   FIG. A and FIG. B is a view showing a cross section of the light modulation element 461 in a plane perpendicular to the flexible ribbon 461a and the fixed ribbon 461b. FIG. As shown in A, when the flexible ribbon 461a and the fixed ribbon 461b are located at the same height with respect to the reference surface 461c (that is, the flexible ribbon 461a does not flex), the surface of the light modulation element 461 is a surface. The reflected light of the incident light L1 is derived as the 0th-order light L2. On the other hand, FIG. When the flexible ribbon 461a bends to the reference surface 461c side of the fixed ribbon 461b as shown in B, the flexible ribbon 461a becomes the bottom surface of the groove of the diffraction grating, and the incident light L1 is incident on the light modulation element 461. First-order diffracted light L3 (and higher-order diffracted light) is derived, and zero-order light disappears. As described above, the light modulation element 461 performs light modulation using a diffraction grating.

図2に示す光照射部4では、UV光源43からの光が光源光学系42により線状光(光束断面が線状の光)とされ、出射部45を介して空間光変調器46のライン状に配列された複数の可撓リボン461aおよび固定リボン461b(図5.Aおよび図5.B参照)上に照射される。光変調素子461では、隣接する各1本の可撓リボン461aおよび固定リボン461bを1つのリボン対とすると、3つ以上のリボン対が描画されるパターンの1つの画素に対応する。   In the light irradiation unit 4 shown in FIG. 2, the light from the UV light source 43 is converted into linear light (light having a light beam cross-section linear) by the light source optical system 42, and the line of the spatial light modulator 46 passes through the emission unit 45. Irradiation is performed on a plurality of flexible ribbons 461a and fixed ribbons 461b (see FIG. 5.A and FIG. 5.B) arranged in a shape. In the light modulation element 461, when each adjacent one flexible ribbon 461a and fixed ribbon 461b is one ribbon pair, three or more ribbon pairs correspond to one pixel of a pattern to be drawn.

光変調素子461では、各空間光変調器46に接続される光変調素子制御部61からの信号に基づいてパターンの各画素に対応するリボン対の可撓リボン461aがそれぞれ制御され、各画素に対応するリボン対が0次光(正反射光)を出射する図5.Aに示す状態と、非0次回折光(主として1次回折光((+1)次回折光および(−1)次回折光))を出射する図5.Bに示す状態との間で遷移可能とされる。また、光変調素子461は、可撓リボン461aが図5.Aに示す状態と図5.Bに示す状態との間の状態まで撓むことにより、図5.Aに示す状態よりも強度が小さい0次光を出射する状態とされる。   In the light modulation element 461, the flexible ribbon 461a of the ribbon pair corresponding to each pixel of the pattern is controlled based on the signal from the light modulation element control unit 61 connected to each spatial light modulator 46, and each pixel is controlled. 5. Corresponding ribbon pair emits 0th order light (regular reflection light). A state shown in A and non-zero order diffracted light (mainly first order diffracted light ((+1) order diffracted light and (−1) order diffracted light)) Transition to the state shown in B is possible. The light modulating element 461 has a flexible ribbon 461a as shown in FIG. A state shown in FIG. By bending to a state between that shown in B, FIG. A state in which 0th-order light having a lower intensity than the state shown in A is emitted.

光変調素子461から出射される0次光は光学系47へと導かれ、1次回折光は光学系47とは異なる方向へと導かれる。なお、迷光となることを防止するために1次回折光は図示を省略する遮光部により遮光される。光変調素子461からの0次光は、光学系47を介して基板9の上面91へと導かれ、これにより、基板9の上面91上においてX方向(すなわち、副走査方向)に並ぶ複数の照射位置のそれぞれに変調された光が照射される。   The 0th-order light emitted from the light modulation element 461 is guided to the optical system 47, and the first-order diffracted light is guided in a direction different from that of the optical system 47. In order to prevent stray light from being generated, the first-order diffracted light is shielded by a light shielding unit (not shown). The zero-order light from the light modulation element 461 is guided to the upper surface 91 of the substrate 9 through the optical system 47, and thereby a plurality of light beams arranged in the X direction (that is, the sub-scanning direction) on the upper surface 91 of the substrate 9. The modulated light is irradiated to each irradiation position.

図2および図3に示す描画装置1では、保持部移動機構2の主走査機構25により主走査方向に移動される基板9に対し、光照射部4の光変調素子461から変調された光が照射される。換言すれば、主走査機構25は、光変調素子461から基板9へと導かれた光の基板9上における照射位置を、基板9に対して主走査方向に相対的に移動する照射位置移動機構となっている。なお、描画装置1では、例えば、基板9を移動することなく、光変調素子461が主走査方向に移動することにより基板9上の照射位置が主走査方向に移動されてもよい。描画装置1では、基板9を主走査方向に移動しつつ、図2に示す制御部6の光変調素子制御部61により、光変調素子461からの光の変調がデータ変換装置7から描画装置1へと出力された出力データに基づいて制御されることにより、データ変換装置7に入力された入力データが示すパターンが基板9上に描画される。   In the drawing apparatus 1 shown in FIGS. 2 and 3, the light modulated from the light modulation element 461 of the light irradiation unit 4 is applied to the substrate 9 moved in the main scanning direction by the main scanning mechanism 25 of the holding unit moving mechanism 2. Irradiated. In other words, the main scanning mechanism 25 moves the irradiation position on the substrate 9 of the light guided from the light modulation element 461 to the substrate 9 relative to the substrate 9 in the main scanning direction. It has become. In the drawing apparatus 1, for example, the irradiation position on the substrate 9 may be moved in the main scanning direction by moving the light modulation element 461 in the main scanning direction without moving the substrate 9. In the drawing apparatus 1, while the substrate 9 is moved in the main scanning direction, the light modulation element control unit 61 of the control unit 6 shown in FIG. 2 modulates the light from the light modulation element 461 from the data conversion apparatus 7 to the drawing apparatus 1. As a result, the pattern indicated by the input data input to the data converter 7 is drawn on the substrate 9.

次に、データ変換装置7について説明する。図6は、データ変換装置7の構成を示す図である。データ変換装置7は、通常のコンピュータと同様に、各種演算処理を行うCPU701、実行されるプログラムを記憶したり演算処理の作業領域となるRAM702、基本プログラムを記憶するROM703、各種情報を記憶する固定ディスク704、作業者に各種情報を表示するディスプレイ705、および、キーボードやマウス等の入力部706等を接続した構成となっている。固定ディスク704内には、データ変換装置7により実行されるプログラム707が記憶される。プログラム707は、基板上に描画される予定のパターンを示すベクトルデータである入力データを、ランレングスデータである出力データに変換する(すなわち、ラスタライズを行う)プログラムである。   Next, the data conversion device 7 will be described. FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the data conversion device 7. As with a normal computer, the data conversion device 7 includes a CPU 701 that performs various arithmetic processes, a RAM 702 that stores programs to be executed and a work area for arithmetic processes, a ROM 703 that stores basic programs, and a fixed memory that stores various information. The disk 704, a display 705 for displaying various information to the worker, and an input unit 706 such as a keyboard or a mouse are connected. A program 707 executed by the data converter 7 is stored in the fixed disk 704. The program 707 is a program that converts input data, which is vector data indicating a pattern to be drawn on a substrate, into output data, which is run-length data (that is, performs rasterization).

図1では、データ変換装置7のCPU701(図6参照)等がプログラム707に従って演算処理等を行うことにより(すなわち、プログラム707がデータ変換装置7により実行されることにより)実現される機能をブロックにて示している。図1中のデータ受付部71と、データ補正装置72と、ランレングス生成部73と、フォーマット変換部74と、データ出力部75とが、CPU701等により実現される機能に相当する。なお、これらの機能は複数台のコンピュータにより実現されてもよい。データ補正装置72は、記憶部721と、歪み取得部722と、単位距離決定部723と、補助点設定部724と、位置補正部725とを備える。   In FIG. 1, functions realized by the CPU 701 (see FIG. 6) or the like of the data conversion device 7 performing arithmetic processing or the like according to the program 707 (that is, by executing the program 707 by the data conversion device 7) are blocked. Is shown. The data reception unit 71, the data correction device 72, the run length generation unit 73, the format conversion unit 74, and the data output unit 75 in FIG. 1 correspond to functions realized by the CPU 701 and the like. Note that these functions may be realized by a plurality of computers. The data correction device 72 includes a storage unit 721, a distortion acquisition unit 722, a unit distance determination unit 723, an auxiliary point setting unit 724, and a position correction unit 725.

次に、データ変換装置7による入力データから出力データへのデータ変換について説明する。図7、図8、図9.Aおよび図9.Bは、データ変換装置7によるデータ変換の流れを示す図である。データ変換装置7では、まず、図1に示すデータ受付部71によりベクトルデータである入力データが受け付けられる。   Next, data conversion from input data to output data by the data converter 7 will be described. 7, FIG. 8, FIG. A and FIG. B is a diagram showing a flow of data conversion by the data conversion device 7. In the data converter 7, first, input data that is vector data is received by the data receiving unit 71 shown in FIG.

図10は、入力データにより表されるパターンの一部を示す図である。入力データでは、所定の描画領域80に描画されるパターンを複数の図形要素として捉えた上で、複数の図形要素のそれぞれが、各図形要素の形状や基板9上における位置等を示すベクトルデータの集合であるデータ要素として表現される。図10では、当該パターンに含まれる1つの図形要素81を示す。実際のデータ変換装置7では、後述する処理が、入力データに含まれる複数の図形要素に対応するデータ要素に対して行われるが、以下の説明では、理解を容易とするために、図形要素そのものを処理の取扱対象として説明する。なお、実際の入力データは通常、多種類かつ多様な形状の多数の図形要素を示すデータ要素を含む。   FIG. 10 is a diagram illustrating a part of a pattern represented by input data. In the input data, the pattern drawn in the predetermined drawing area 80 is regarded as a plurality of graphic elements, and each of the plurality of graphic elements is vector data indicating the shape of each graphic element, the position on the substrate 9 and the like. Expressed as a data element that is a set. FIG. 10 shows one graphic element 81 included in the pattern. In the actual data conversion device 7, processing described later is performed on data elements corresponding to a plurality of graphic elements included in the input data. However, in the following description, for easy understanding, the graphic elements themselves are used. Will be described as a handling target of processing. Actual input data usually includes data elements indicating a large number of graphic elements of various types and various shapes.

以下では、1つの図形要素81について、当該図形要素81に対応するベクトルデータである要素入力データを、図形要素81を表すランレングスデータである要素出力データに変換する際のデータ変換方法の流れについて説明する。実際には、データ変換装置7では、複数の図形要素に対して同様のデータ変換が行われ、複数の図形要素のベクトルデータを含む入力データが、複数の図形要素のランレングスデータを含む出力データに変換される。   In the following, for one graphic element 81, the flow of a data conversion method when converting element input data that is vector data corresponding to the graphic element 81 into element output data that is run-length data representing the graphic element 81 explain. Actually, in the data converter 7, the same data conversion is performed on a plurality of graphic elements, and the input data including vector data of the plurality of graphic elements is output data including run-length data of the plurality of graphic elements. Is converted to

図形要素81の要素入力データは、それぞれが直線である複数の辺にて囲まれた図形要素81を表す。図10に示す図形要素81は矩形であり、4つの辺にて囲まれる。具体的には、図形要素81の要素入力データには、図形要素81の4つの頂点の座標および4つの辺を示す情報が含まれる。上述のデータ受付部71により受け付けられた入力データは、データ補正装置72の記憶部721に記憶される。これにより、図形要素81の要素入力データが記憶部721に記憶されて準備される(ステップS11)。   The element input data of the graphic element 81 represents the graphic element 81 surrounded by a plurality of sides, each of which is a straight line. The graphic element 81 shown in FIG. 10 is rectangular and is surrounded by four sides. Specifically, the element input data of the graphic element 81 includes information indicating the coordinates of four vertices and four sides of the graphic element 81. The input data received by the data receiving unit 71 described above is stored in the storage unit 721 of the data correction device 72. Thereby, the element input data of the graphic element 81 is stored and prepared in the storage unit 721 (step S11).

図10では、図中の上側から下側へと向かう方向(以下、「第1の方向」という。)が、図2および図3に示す描画装置1における(+Y)側から(−Y)側へと向かう主走査方向に対応し、図中の左側から右側に向かう方向(すなわち、第1の方向に垂直な方向であり、以下、「第2の方向」という。)が、描画装置1における(+X)側から(−X)側へと向かう副走査方向に対応する。図11ないし図22においても同様である。   10, the direction from the upper side to the lower side in the drawing (hereinafter referred to as “first direction”) is the (−Y) side from the (+ Y) side in the drawing apparatus 1 shown in FIGS. 2 and 3. The direction from the left side to the right side in the drawing (ie, the direction perpendicular to the first direction, hereinafter referred to as “second direction”) corresponds to the main scanning direction toward the drawing. This corresponds to the sub-scanning direction from the (+ X) side to the (−X) side. The same applies to FIGS. 11 to 22.

続いて、描画装置1の撮像部5により、基板9の上面91が撮像される。図11に黒丸にて示すように、基板9の上面91には、パターンの描画に利用される複数の目印(以下、「アライメントマーク82」という。)が設けられており、上記撮像により、基板9上の複数のアライメントマーク82の位置が取得される。基板9では、例えば、縦横9つずつ(合計81個)のアライメントマーク82が格子状に配置される。撮像部5を介して取得された複数のアライメントマーク82の位置(以下、「読取位置」という。)は、図1に示すデータ変換装置7の歪み取得部722に送られる。   Subsequently, the upper surface 91 of the substrate 9 is imaged by the imaging unit 5 of the drawing apparatus 1. As shown by black circles in FIG. 11, a plurality of marks (hereinafter referred to as “alignment marks 82”) used for drawing a pattern are provided on the upper surface 91 of the substrate 9. 9 are obtained. On the substrate 9, for example, nine vertical and horizontal alignment marks 82 (a total of 81) are arranged in a lattice pattern. The positions of the plurality of alignment marks 82 acquired through the imaging unit 5 (hereinafter referred to as “reading positions”) are sent to the distortion acquisition unit 722 of the data converter 7 shown in FIG.

データ変換装置7では、複数のアライメントマーク82の設計上の位置である基準位置が、記憶部721に予め記憶されている。図11では、アライメントマーク82の基準位置を破線の円にて示す。歪み取得部722では、複数のアライメントマーク82の読取位置の基準位置からのずれ量が求められ、当該ずれ量に基づいて基板9上の図形要素81が配置される予定の配置領域810の歪みが取得される(ステップS12)。歪みがない状態の配置領域である基準配置領域810aは、例えば、第1の方向および第2の方向において隣接する4つのアライメントマーク82の基準位置を頂点とする矩形状の領域である。本実施の形態では、基板9の歪み等により、配置領域810は、図11に示すように第1の方向の一方側に凸となるように歪んでいる。図11では、配置領域810および基準配置領域810aを二点鎖線にて示す。   In the data conversion device 7, reference positions that are design positions of the plurality of alignment marks 82 are stored in the storage unit 721 in advance. In FIG. 11, the reference position of the alignment mark 82 is indicated by a broken-line circle. In the distortion acquisition unit 722, a deviation amount from the reference position of the reading positions of the plurality of alignment marks 82 is obtained, and the distortion of the arrangement region 810 where the graphic element 81 on the substrate 9 is to be arranged is based on the deviation amount. Obtained (step S12). The reference arrangement area 810a, which is an arrangement area without distortion, is a rectangular area having apexes at the reference positions of the four alignment marks 82 adjacent in the first direction and the second direction, for example. In the present embodiment, due to the distortion of the substrate 9 or the like, the arrangement region 810 is distorted so as to protrude toward one side in the first direction as shown in FIG. In FIG. 11, the arrangement area 810 and the reference arrangement area 810a are indicated by a two-dot chain line.

配置領域810の歪みは、例えば、基板9上のアライメントマーク82の全てを利用し、全アライメントマーク82の基準位置が読取位置に一致するように基準位置を変換する行列、すなわち、描画領域80の各位置における歪みを示す変換行列として求められる。この場合、配置領域810の各位置における歪みは、各位置の設計上の座標である基準座標に当該変換行列を適用して求めた実際の座標から基準座標を減算することにより求められる。なお、配置領域810の歪みの算出には、基板9上の複数のアライメントマーク82のうち、配置領域810近傍の一部のアライメントマーク82のみが用いられてもよい。   The distortion of the arrangement area 810 is, for example, a matrix that uses all of the alignment marks 82 on the substrate 9 and converts the reference positions so that the reference positions of all the alignment marks 82 coincide with the reading positions, that is, the drawing area 80. It is obtained as a transformation matrix indicating the distortion at each position. In this case, the distortion at each position in the arrangement area 810 is obtained by subtracting the reference coordinates from the actual coordinates obtained by applying the transformation matrix to the reference coordinates that are design coordinates of each position. For calculating the distortion of the arrangement region 810, only a part of the alignment marks 82 in the vicinity of the arrangement region 810 among the plurality of alignment marks 82 on the substrate 9 may be used.

次に、単位距離決定部723により、ステップS12において求められた複数のアライメントマーク82の読取位置の基準位置からのずれ量、および、予め定められたアドレスピッチに基づいて、後述する補助点の設定に利用される単位距離が決定される(ステップS13)。アドレスピッチは、描画装置1における描画の分解能に基づいて決定される距離である。アドレスピッチは、また、後述するランレングス生成部73によるランレングスデータの生成の際に、図形要素を含む領域を分割する単位となる距離である。ランレングスデータの生成の際には、例えば、図10に示す図形要素81が配置される描画領域80が、第1の方向を向く複数の直線(以下、「走査線801」という。)にてアドレスピッチ毎に分割される。これにより、第2の方向に配列された複数の単位領域800が設定される。分割された各単位領域800の第2の方向の幅は、アドレスピッチに等しい。   Next, setting of auxiliary points, which will be described later, is performed by the unit distance determination unit 723 based on the deviation amounts of the reading positions of the plurality of alignment marks 82 obtained in step S12 from the reference position and a predetermined address pitch. A unit distance to be used is determined (step S13). The address pitch is a distance determined based on the drawing resolution in the drawing apparatus 1. The address pitch is a distance that is a unit for dividing an area including a graphic element when run-length data is generated by a run-length generator 73 described later. When generating run-length data, for example, the drawing area 80 in which the graphic element 81 shown in FIG. 10 is arranged is a plurality of straight lines (hereinafter referred to as “scanning lines 801”) facing the first direction. Divided for each address pitch. Thereby, a plurality of unit regions 800 arranged in the second direction are set. The width of each divided unit region 800 in the second direction is equal to the address pitch.

ステップS13の具体例について、図8および図11を参照しつつ説明する。単位距離決定部723では、まず、ステップS12にて歪みの取得に利用された複数のアライメントマーク82のうち、2つのアライメントマーク82の組み合わせが抽出される。そして、当該アライメントマーク82の組み合わせに対応する仮単位距離閾値LTVが、LTV=L1・P/L2として求められる。 A specific example of step S13 will be described with reference to FIGS. In the unit distance determination unit 723, first, a combination of two alignment marks 82 is extracted from the plurality of alignment marks 82 used for acquiring distortion in step S12. Then, the temporary unit distance threshold L TV corresponding to the combination of the alignment marks 82 is obtained as L TV = L1 · P / L2.

L1は、抽出された2つのアライメントマーク82に対応する基準位置の間の距離である。Pは、上述のアドレスピッチである。L2は、上記2つのアライメントマーク82に係る第1目印歪みベクトルと第2目印歪みベクトルとの差分ベクトルの長さである。第1目印歪みベクトルは、上記2つのアライメントマーク82のうち一方のアライメントマーク82に対応する一方の基準位置から当該一方のアライメントマーク82の読取位置へと向かうベクトルである。第2目印歪みベクトルは、上記2つのアライメントマーク82のうち他方のアライメントマーク82に対応する他方の基準位置から当該他方のアライメントマーク82の読取位置へと向かうベクトルである。   L1 is the distance between the reference positions corresponding to the two extracted alignment marks 82. P is the address pitch described above. L2 is the length of the difference vector between the first mark distortion vector and the second mark distortion vector related to the two alignment marks 82. The first mark distortion vector is a vector from one reference position corresponding to one of the two alignment marks 82 to the reading position of the one alignment mark 82. The second mark distortion vector is a vector from the other reference position corresponding to the other alignment mark 82 to the reading position of the other alignment mark 82 among the two alignment marks 82.

単位距離決定部723では、ステップS12にて利用された複数のアライメントマーク82のうち2つのアライメントマーク82の各組み合わせについて、上記と同様に、仮単位距離閾値LTVが求められる(ステップS131)。そして、単位距離が、上述の2つのアライメントマーク82の各組み合わせの仮単位距離閾値LTVのうち、最小の仮単位距離閾値LTV以下の値として決定される(ステップS132)。本実施の形態では、単位距離は、上述の最小の仮単位距離閾値LTVに等しい値に決定される。 In the unit distance determining unit 723, the temporary unit distance threshold L TV is obtained for each combination of two alignment marks 82 among the plurality of alignment marks 82 used in step S12 (step S131). The unit distance is, among the provisional unit distance threshold L TV for each combination of two alignment marks 82 described above, is determined as the minimum of the temporary unit distance threshold L TV following values (step S132). In the present embodiment, the unit distance is determined to be equal to the minimum provisional unit distance threshold L TV described above.

上述のように仮単位距離閾値LTVを決定することにより、2つのアライメントマーク82の間を結ぶ直線上において、当該2つのアライメントマーク82に対応する仮単位距離閾値LTV以下の距離だけ離れた2点間では、第1の方向および第2の方向においてアドレスピッチよりも大きい歪みは存在しない。したがって、ステップS132において、単位距離が最小の仮単位距離閾値LTV以下の値として決定されることにより、複数のアライメントマーク82のうち、いずれの2つのアライメントマーク82を結ぶ直線上においても、単位距離だけ離れた2点間では、第1の方向および第2の方向においてアドレスピッチよりも大きい歪みは存在しない。 By determining the provisional unit distance threshold L TV as described above, on a straight line connecting the two alignment marks 82, apart provisional unit distance threshold L TV following distances corresponding to the two alignment marks 82 Between the two points, there is no distortion larger than the address pitch in the first direction and the second direction. Accordingly, in step S132, by the unit distance is determined as the minimum of the temporary unit distance threshold L TV following values, among the plurality of alignment marks 82, even on a straight line connecting any two alignment marks 82, the unit Between two points separated by a distance, there is no distortion larger than the address pitch in the first direction and the second direction.

単位距離が決定されると、補助点設定部724により、図形要素81の複数の辺のそれぞれに補助点が設定される(ステップS14)。補助点設定部724による補助点の設定は、具体的には、図9.Aおよび図9.Bに示すステップS141〜S151により行われる。まず、図12に示すように、図形要素81の複数の辺811のうち1つの辺811について、一方の端点83(図12では、左側の端点83)が第1点813に設定される。また、第1点813から辺811が向く方向(本実施の形態では、図12中の右方向)に上述の単位距離だけ離れた点が第2点814に設定される。さらに、第2点814から辺811が向く方向に単位距離だけ離れた点が第3点815に設定される(ステップS141)。図12では、端点83を丸印にて囲み、第1点813、第2点814および第3点815をX印(十字印)にて示す(図16ないし図21においても同様)。なお、本実施の形態では、配置領域810に1つの図形要素81が配置されるものとして説明するが、配置領域810内に複数の図形要素が配置されてもよい。   When the unit distance is determined, the auxiliary point setting unit 724 sets auxiliary points for each of the plurality of sides of the graphic element 81 (step S14). Specifically, the auxiliary point setting by the auxiliary point setting unit 724 is performed as shown in FIG. A and FIG. This is performed by steps S141 to S151 shown in FIG. First, as shown in FIG. 12, one end point 83 (left end point 83 in FIG. 12) is set as the first point 813 for one side 811 among the plurality of sides 811 of the graphic element 81. Further, the second point 814 is set to a point that is separated from the first point 813 in the direction in which the side 811 faces (in the present embodiment, the right direction in FIG. 12) by the unit distance described above. Furthermore, a point separated by a unit distance from the second point 814 in the direction in which the side 811 faces is set as the third point 815 (step S141). In FIG. 12, the end point 83 is surrounded by a circle, and the first point 813, the second point 814, and the third point 815 are indicated by an X mark (cross mark) (the same applies to FIGS. 16 to 21). In the present embodiment, description is given assuming that one graphic element 81 is arranged in the arrangement area 810, but a plurality of graphic elements may be arranged in the arrangement area 810.

続いて、ステップS12において歪み取得部722により取得された配置領域810の歪みに基づいて、第1点813における歪みを示す第1歪みベクトルd1が求められる。また、第2点814における歪みを示す第2歪みベクトルd2、および、第3点815における歪みを示す第3歪みベクトルd3も、第1歪みベクトルd1と同様に、配置領域810の歪みに基づいて求められる(ステップS142)。図12では、第1歪みベクトルd1、第2歪みベクトルd2および第3歪みベクトルd3を、第1点813、第2点814および第3点815から延びる矢印として示す。第1歪みベクトルd1は、例えば、ステップS12にて求められた変換行列を第1点813の座標に適用することにより求められる。第2歪みベクトルd2および第3歪みベクトルd3も同様に、上記変換行列を第2点814の座標および第3点815の座標にそれぞれ適用することにより求められる。   Subsequently, based on the distortion of the arrangement region 810 acquired by the distortion acquisition unit 722 in step S12, a first distortion vector d1 indicating the distortion at the first point 813 is obtained. Similarly to the first distortion vector d1, the second distortion vector d2 indicating the distortion at the second point 814 and the third distortion vector d3 indicating the distortion at the third point 815 are also based on the distortion of the arrangement region 810. It is obtained (step S142). In FIG. 12, the first distortion vector d1, the second distortion vector d2, and the third distortion vector d3 are shown as arrows extending from the first point 813, the second point 814, and the third point 815. The first distortion vector d1 is obtained, for example, by applying the transformation matrix obtained in step S12 to the coordinates of the first point 813. Similarly, the second distortion vector d2 and the third distortion vector d3 are obtained by applying the transformation matrix to the coordinates of the second point 814 and the coordinates of the third point 815, respectively.

次に、図13に示すように、第2歪みベクトルd2から第1歪みベクトルd1が減算されることにより、第2歪みベクトルd2と第1歪みベクトルd1との差である第1仮差分ベクトルd21が求められる。また、図14に示すように、第3歪みベクトルd3から第2歪みベクトルd2が減算されることにより、第3歪みベクトルd3と第2歪みベクトルd2との差である第2仮差分ベクトルd32が求められる。そして、図15に示すように、第2仮差分ベクトルd32から第1仮差分ベクトルd21が減算されることにより、第2仮差分ベクトルd32と第1仮差分ベクトルd21との差である差分ベクトルd0が求められる(ステップS143)。   Next, as shown in FIG. 13, by subtracting the first distortion vector d1 from the second distortion vector d2, a first temporary difference vector d21 which is the difference between the second distortion vector d2 and the first distortion vector d1. Is required. Further, as shown in FIG. 14, by subtracting the second distortion vector d2 from the third distortion vector d3, a second temporary difference vector d32 that is a difference between the third distortion vector d3 and the second distortion vector d2 is obtained. Desired. Then, as shown in FIG. 15, by subtracting the first temporary difference vector d21 from the second temporary difference vector d32, a difference vector d0 that is the difference between the second temporary difference vector d32 and the first temporary difference vector d21. Is obtained (step S143).

差分ベクトルd0が求められると、差分ベクトルd0の辺811の法線方向成分である辺歪みベクトルdnが求められる(ステップS144)。図15に示す例では、辺811の法線方向は、図15中の上下方向である第1の方向に平行であり、辺歪みベクトルdnも第1の方向に平行である。   When the difference vector d0 is obtained, an edge distortion vector dn that is a normal direction component of the edge 811 of the difference vector d0 is obtained (step S144). In the example shown in FIG. 15, the normal direction of the side 811 is parallel to the first direction which is the vertical direction in FIG. 15, and the side distortion vector dn is also parallel to the first direction.

辺歪みベクトルdnが求められると、辺歪みベクトルdnの第1の方向成分の長さである第1成分長さ、および、辺歪みベクトルdnの第2の方向成分の長さである第2成分長さが求められる。図15に示す例では、第1成分長さは辺歪みベクトルdnの長さに等しく、第2成分長さはゼロである。続いて、辺歪みベクトルdnの第1成分長さおよび第2成分長さが、記憶部721に予め記憶されている歪み閾値と比較される(ステップS145)。歪み閾値は、上述のアドレスピッチ以下にて予め定められた値である。本実施の形態では、歪み閾値はアドレスピッチに等しい。   When the side distortion vector dn is obtained, the first component length that is the length of the first direction component of the side distortion vector dn and the second component that is the length of the second direction component of the side distortion vector dn. Length is required. In the example shown in FIG. 15, the first component length is equal to the length of the edge distortion vector dn, and the second component length is zero. Subsequently, the first component length and the second component length of the side distortion vector dn are compared with a distortion threshold value stored in advance in the storage unit 721 (step S145). The distortion threshold is a predetermined value below the address pitch described above. In the present embodiment, the distortion threshold is equal to the address pitch.

補助点設定部724では、辺歪みベクトルdnの第1成分長さまたは第2成分長さが、歪み閾値以上であるため、第2点814が補助点84として設定される(ステップS146)。図12では、補助点84を三角印にて囲む(図16ないし図22においても同様)。そして、図12中の補助点84および第3点815が、図16に示すように、新たに第1点813および第2点814として設定される。また、図12中の第3点815から辺811が向く方向に上述の単位距離だけ離れた点(すなわち、図12中の第3点815から第2点814の反対側に単位距離だけ離れた点)が、図16に示すように、新たに第3点815として設定される(ステップS147)。   The auxiliary point setting unit 724 sets the second point 814 as the auxiliary point 84 because the first component length or the second component length of the side distortion vector dn is greater than or equal to the distortion threshold value (step S146). In FIG. 12, the auxiliary points 84 are surrounded by triangular marks (the same applies to FIGS. 16 to 22). Then, the auxiliary point 84 and the third point 815 in FIG. 12 are newly set as the first point 813 and the second point 814 as shown in FIG. Also, a point separated from the third point 815 in FIG. 12 by the unit distance in the direction in which the side 811 faces (ie, a point separated from the third point 815 in FIG. 12 by the unit distance on the opposite side of the second point 814). As shown in FIG. 16, a point) is newly set as a third point 815 (step S147).

新たな第3点815が設定されると(ステップS149)、ステップS142に戻り、ステップS142〜S149が繰り返される。これにより、図17に示すように、辺811の左側の部位に複数の補助点84が設定される。   When a new third point 815 is set (step S149), the process returns to step S142, and steps S142 to S149 are repeated. As a result, as shown in FIG. 17, a plurality of auxiliary points 84 are set in the left part of the side 811.

続いて、図17に示す第1点813、第2点814および第3点815についてステップS142〜S145が行われる。これにより、第1歪みベクトルd1、第2歪みベクトルd2および第3歪みベクトルd3に基づいて辺歪みベクトルが求められ、当該辺歪みベクトルの第1成分長さおよび第2成分長さが、アドレスピッチに等しい上述の歪み閾値と比較される。図17に示す例では、辺歪みベクトルの第1成分長さおよび第2成分長さが歪み閾値よりも小さいため、補助点は設定されず、図17中の第3点815および第3点815から辺811が向く方向に上述の単位距離だけ離れた点が、図18に示すように、新たに第2点814および第3点815として設定される(ステップS148)。ステップS148では、第1点813は変更されない。新たな第3点815が設定されると(ステップS149)、ステップS142に戻り、ステップS142〜S149が繰り返される。これにより、第3点815が、辺811の他方の端点83(すなわち、図18中の右側の端点83)に近づく。   Subsequently, Steps S142 to S145 are performed for the first point 813, the second point 814, and the third point 815 shown in FIG. Thereby, an edge distortion vector is obtained based on the first distortion vector d1, the second distortion vector d2, and the third distortion vector d3, and the first component length and the second component length of the edge distortion vector are determined by the address pitch. Compared to the above-described distortion threshold equal to. In the example shown in FIG. 17, since the first component length and the second component length of the side distortion vector are smaller than the distortion threshold, auxiliary points are not set, and the third point 815 and the third point 815 in FIG. As shown in FIG. 18, the points that are apart from each other in the direction in which the side 811 faces are newly set as the second point 814 and the third point 815 (step S148). In step S148, the first point 813 is not changed. When a new third point 815 is set (step S149), the process returns to step S142, and steps S142 to S149 are repeated. Thereby, the third point 815 approaches the other end point 83 of the side 811 (that is, the right end point 83 in FIG. 18).

補助点設定部724では、ステップS147またはステップS148において新たな第3点815が設定される限り、すなわち、第3点815が辺811上に存在する限り、ステップS142〜S149が繰り返される。これにより、図19に示すように、辺811上に複数の補助点84が設定される。   In the auxiliary point setting unit 724, steps S142 to S149 are repeated as long as a new third point 815 is set in step S147 or step S148, that is, as long as the third point 815 exists on the side 811. Thereby, as shown in FIG. 19, a plurality of auxiliary points 84 are set on the side 811.

1つの辺811に対する補助点84の設定が終了すると、次の辺811が選択され(ステップS150,S151)、ステップS141に戻り、新たな辺811に対してステップS141〜S149が繰り返される。補助点設定部724では、図形要素81の複数の辺811のそれぞれについて、ステップS141〜S149が行われ、図20に示すように、補助点84が設定される。補助点設定部724では、配置領域810の歪みの程度、および、図形要素81の辺811の向き等に応じて、辺811上に設定される補助点84の数は様々に変更される。また、辺811上に補助点84が設定されない場合もある。   When the setting of the auxiliary point 84 for one side 811 is completed, the next side 811 is selected (steps S150 and S151), the process returns to step S141, and steps S141 to S149 are repeated for the new side 811. In the auxiliary point setting unit 724, steps S141 to S149 are performed for each of the plurality of sides 811 of the graphic element 81, and an auxiliary point 84 is set as shown in FIG. In the auxiliary point setting unit 724, the number of auxiliary points 84 set on the side 811 is variously changed according to the degree of distortion of the arrangement region 810, the direction of the side 811 of the graphic element 81, and the like. Further, the auxiliary point 84 may not be set on the side 811.

補助点84の設定が終了すると、位置補正部725により、ステップS12において取得された配置領域810の歪みに基づいて、図21に示すように、複数の辺811上の端点83および補助点84の位置が補正される(図7:ステップS15)。端点83および補助点84の補正は、例えば、端点83の座標および補助点84の座標に上述の変換行列を適用することにより行われる。図21では、補正前の図形要素81を二点鎖線にて示す。   When the setting of the auxiliary points 84 is completed, the position correction unit 725 determines the end points 83 and the auxiliary points 84 on the plurality of sides 811 based on the distortion of the arrangement area 810 acquired in step S12 as shown in FIG. The position is corrected (FIG. 7: Step S15). The end point 83 and the auxiliary point 84 are corrected by, for example, applying the above-described transformation matrix to the coordinates of the end point 83 and the auxiliary point 84. In FIG. 21, the graphic element 81 before correction is indicated by a two-dot chain line.

図21に示す補正後の図形要素である補正済み図形要素81aは、位置補正後の複数の端点83および複数の補助点84、並びに、これらの端点83および補助点84を結ぶ複数の辺により表される。以下、補正済み図形要素81aを表す端点83、補助点84および辺等の情報を含むベクトルデータを「補正済みデータ」と呼ぶ。データ補正装置72では、ステップS11〜S15が行われることにより、図形要素81を表す要素入力データが補正されて、補正済み図形要素81aを表す補正済みデータが生成される。   A corrected graphic element 81a which is a corrected graphic element shown in FIG. 21 is represented by a plurality of end points 83 and a plurality of auxiliary points 84 after position correction, and a plurality of sides connecting these end points 83 and the auxiliary points 84. Is done. Hereinafter, vector data including information such as end points 83, auxiliary points 84, and sides representing the corrected graphic element 81a is referred to as “corrected data”. In the data correction device 72, by performing steps S11 to S15, the element input data representing the graphic element 81 is corrected, and corrected data representing the corrected graphic element 81a is generated.

補正済みデータが生成されると、ランレングス生成部73により、図22に示すように、補正済み図形要素81aを含む配置領域810が、第1の方向を向く複数の走査線801にてアドレスピッチ毎に分割される。続いて、分割された各領域である各単位領域800について、各単位領域800における補正済み図形要素81aのランレングスを示す単位ランレングスが生成される。そして、これらの単位ランレングスと、対応する単位領域800の位置を示すデータとが関連づけられることにより、各単位領域800のランレングスの実質的な集合として補正済み図形要素81aを表すランレングスデータである要素出力データが生成される(ステップS16)。   When the corrected data is generated, the run length generation unit 73 causes the arrangement area 810 including the corrected graphic element 81a to be addressed by a plurality of scanning lines 801 facing the first direction as shown in FIG. It is divided every time. Subsequently, a unit run length indicating a run length of the corrected graphic element 81a in each unit region 800 is generated for each unit region 800 that is each divided region. Then, these unit run lengths are associated with data indicating the position of the corresponding unit region 800, so that run length data representing the corrected graphic element 81a as a substantial set of run lengths of each unit region 800 is obtained. Certain element output data is generated (step S16).

図1に示すデータ変換装置7では、データ受付部71により受け付けられた入力データに含まれる全ての図形要素について、上述と同様に、要素入力データ(ベクトルデータ)から要素出力データ(ランレングスデータ)への変換が行われ、全ての図形要素の要素出力データの集合である出力データが生成される。そして、当該出力データが、フォーマット変換部74により描画装置1における処理に適合するフォーマットにフォーマット変換される。フォーマット変換後のデータは、描画装置1においてパターンの描画に利用される描画データである。   In the data conversion device 7 shown in FIG. 1, for all graphic elements included in the input data received by the data receiving unit 71, the element output data (vector data) to the element output data (run-length data) are the same as described above. Is converted to output data that is a set of element output data of all graphic elements. Then, the output data is subjected to format conversion by the format conversion unit 74 into a format suitable for processing in the drawing apparatus 1. The data after the format conversion is drawing data used for pattern drawing in the drawing apparatus 1.

データ変換装置7において生成された描画データは、データ出力部75により描画装置1へと出力される。描画装置1では、描画データに基づいて、図2に示す制御部6の光変調素子制御部61から各空間光変調器46へと信号が送られるとともに、主走査機構25により基板9が主走査方向(すなわち、基板9上における上記第1の方向に対応する方向)に移動する。これにより、データ変換装置7に入力された入力データが示すパターンが基板9上の感光材料に描画される。   The drawing data generated in the data conversion device 7 is output to the drawing device 1 by the data output unit 75. In the drawing apparatus 1, a signal is sent from the light modulation element control unit 61 of the control unit 6 shown in FIG. 2 to each spatial light modulator 46 based on the drawing data, and the substrate 9 is main-scanned by the main scanning mechanism 25. It moves in a direction (that is, a direction corresponding to the first direction on the substrate 9). As a result, the pattern indicated by the input data input to the data converter 7 is drawn on the photosensitive material on the substrate 9.

以上に説明したように、上述のデータ変換装置7のデータ補正装置72では、図形要素81のベクトルデータである要素入力データが、上述のステップS11〜S15のデータ補正方法により補正され、ベクトルデータである補正済みデータが生成される。補助点設定部724によるステップS14の補助点84の設定では、ステップS12において歪み取得部722により取得された配置領域810の歪みに基づいて、図形要素81の辺811上に設定された第1点813、第2点814および第3点815の歪みをそれぞれ示す第1歪みベクトルd1、第2歪みベクトルd2および第3歪みベクトルd3が求められる。そして、第1歪みベクトルd1、第2歪みベクトルd2および第3歪みベクトルd3に基づいて求められる辺歪みベクトルdnの第1成分長さまたは第2成分長さが、歪み閾値以上である場合のみ、第2点814が補助点84として設定される。   As described above, in the data correction device 72 of the data conversion device 7 described above, the element input data, which is the vector data of the graphic element 81, is corrected by the data correction method in steps S11 to S15 described above, and is converted into vector data. Some corrected data is generated. In the setting of the auxiliary point 84 in step S14 by the auxiliary point setting unit 724, the first point set on the side 811 of the graphic element 81 based on the distortion of the arrangement area 810 acquired by the distortion acquisition unit 722 in step S12. A first distortion vector d1, a second distortion vector d2, and a third distortion vector d3 indicating the distortion at 813, the second point 814, and the third point 815, respectively, are obtained. Only when the first component length or the second component length of the side distortion vector dn obtained based on the first distortion vector d1, the second distortion vector d2, and the third distortion vector d3 is equal to or greater than the distortion threshold value, The second point 814 is set as the auxiliary point 84.

仮に、上述のステップS14において、各図形要素の各辺上に単位距離毎に補助点を設定したとすると、ステップS15における補助点の位置の補正に要する時間が増大する。その結果、データ変換装置における入力データから出力データへのデータ変換の効率が低下する。一方、上述のステップS14における補助点の設定を行わないと仮定した場合、ステップS15において図形要素の端点の位置のみが補正されるため、高精度な補正を行うことはできない。例えば、矩形状の図形要素の補正を行った場合、補正後の図形要素は四角形以外の形状を取り得ない。   If it is assumed in step S14 that auxiliary points are set for each unit distance on each side of each graphic element, the time required for correcting the position of the auxiliary point in step S15 increases. As a result, the efficiency of data conversion from input data to output data in the data converter decreases. On the other hand, when it is assumed that the auxiliary point is not set in step S14 described above, only the position of the end point of the graphic element is corrected in step S15, so that high-precision correction cannot be performed. For example, when a rectangular graphic element is corrected, the corrected graphic element cannot take a shape other than a square.

これに対し、本実施の形態に係るデータ変換装置7のデータ補正装置72では、上述のように、辺歪みベクトルdnの第1成分長さまたは第2成分長さが歪み閾値以上である場合のみ、補助点84が設定される。このため、図形要素81において、辺811の法線方向における歪みが比較的大きく、かつ、当該歪みに対応して辺811を変形させた場合の変形部の傾きの変化が比較的大きい(例えば、曲線状に変形させた場合の曲率半径が比較的大きい)部位に、補助点84が設定され、他の領域には補助点が設定されない。換言すれば、図形要素81において、歪みによる変形の程度が大きく変化するため補助点が必要な部位のみに補助点84が設定され、歪みによる変形が一様な部位や歪みによる変形が生じていない部位(すなわち、補助点が不要な部位)には、無駄な補助点が設定されない。これにより、データ補正装置72では、入力データに含まれる各要素入力データに対する高精度な補正を短時間で行うことができる。その結果、データ変換装置7における入力データから出力データへのデータ変換の効率を向上することができ、描画システム100におけるパターンの描画に要する時間を短縮することができる。   On the other hand, in the data correction device 72 of the data conversion device 7 according to the present embodiment, as described above, only when the first component length or the second component length of the side distortion vector dn is greater than or equal to the distortion threshold value. An auxiliary point 84 is set. For this reason, in the graphic element 81, the distortion in the normal direction of the side 811 is relatively large, and the change in the inclination of the deformed portion when the side 811 is deformed corresponding to the distortion is relatively large (for example, Auxiliary points 84 are set in regions where the radius of curvature is relatively large when deformed into a curved shape, and no auxiliary points are set in other regions. In other words, since the degree of deformation due to distortion greatly changes in the graphic element 81, the auxiliary point 84 is set only in the part where the auxiliary point is necessary, and the deformation due to distortion is uniform and no deformation due to distortion occurs. A useless auxiliary point is not set in a part (that is, a part that does not require an auxiliary point). Thereby, in the data correction apparatus 72, highly accurate correction | amendment with respect to each element input data contained in input data can be performed in a short time. As a result, the efficiency of data conversion from input data to output data in the data converter 7 can be improved, and the time required for pattern drawing in the drawing system 100 can be shortened.

データ補正装置72では、ステップS13においてステップS131,S132が行われることにより、上述のように、ステップS12にて利用された複数のアライメントマーク82のうち、いずれの2つのアライメントマーク82を結ぶ直線上においても、単位距離だけ離れた2点間では、第1の方向および第2の方向においてアドレスピッチよりも大きい歪みは存在しない。したがって、図形要素81の各辺811上において、単位距離毎に補助点84の設定の要否を検討することにより、各辺811上においてアドレスピッチ以上の変形が生じる部位(すなわち、要素出力データにおいてランレングスに変更が生じる部位)を容易に検出することができる。そして、当該部位に補助点84を設定することにより、各要素入力データに対する補正の精度を向上することができる。   In the data correction device 72, by performing steps S131 and S132 in step S13, as described above, among the plurality of alignment marks 82 used in step S12, on the straight line connecting any two alignment marks 82. However, there is no distortion larger than the address pitch in the first direction and the second direction between two points separated by a unit distance. Therefore, on each side 811 of the graphic element 81, by examining whether or not the auxiliary point 84 needs to be set for each unit distance, a part where deformation more than the address pitch occurs on each side 811 (that is, in the element output data) A site where the run length is changed) can be easily detected. And the precision of correction | amendment with respect to each element input data can be improved by setting the auxiliary | assistant point 84 to the said site | part.

また、データ補正装置72では、ステップS145において利用される歪み閾値が、アドレスピッチに等しい。これにより、要素出力データにおいてランレングスに変更が生じる部位を高確率にて検出して当該部位に補助点84を設定することができるとともに、補助点84の設定数の増大を抑制することができる。その結果、各要素入力データに対する補正精度を高く維持しつつ補正に要する時間をさらに短くすることができる。   In the data correction device 72, the distortion threshold used in step S145 is equal to the address pitch. As a result, it is possible to detect a portion where the run length is changed in the element output data with high probability and set the auxiliary point 84 at the portion, and to suppress an increase in the number of set auxiliary points 84. . As a result, it is possible to further shorten the time required for correction while maintaining high correction accuracy for each element input data.

上述の描画システム100では、様々な変更が可能である。   Various changes can be made in the drawing system 100 described above.

データ補正装置72では、ステップS12,S13は、ステップS14よりも前に行われるのであれば、ステップS11よりも前に行われてもよく、ステップS11と並行して行われてもよい。   In the data correction device 72, as long as steps S12 and S13 are performed before step S14, they may be performed before step S11 or may be performed in parallel with step S11.

ステップS12におけるアライメントマーク82の撮像は、描画装置1以外の装置にて行われてもよい。この場合、描画装置1から撮像部5は省略されてよい。また、複数のアライメントマーク82の読取位置の基準位置からのずれ量も、他の装置にて求められた上でデータ変換装置7のデータ補正装置72へと送られてもよい。   Imaging of the alignment mark 82 in step S12 may be performed by an apparatus other than the drawing apparatus 1. In this case, the imaging unit 5 may be omitted from the drawing device 1. Further, the deviation amounts of the reading positions of the plurality of alignment marks 82 from the reference position may be obtained by another device and then sent to the data correction device 72 of the data conversion device 7.

ステップS13における単位距離の決定は、必ずしもステップS131,S132の方法により行われる必要はなく、複数のアライメントマーク82の基準位置からのずれ量、および、アドレスピッチに基づいて様々な方法により行われてよい。例えば、複数のアライメントマーク82の基準位置からのずれ量と単位距離との関係が、アドレスピッチに基づいて予め決定されており、ステップS12におけるアライメントマーク82の撮像結果と当該関係とに基づいて単位距離が決定されてもよい。   The determination of the unit distance in step S13 is not necessarily performed by the methods of steps S131 and S132, and is performed by various methods based on the deviation amounts of the plurality of alignment marks 82 from the reference position and the address pitch. Good. For example, the relationship between the amount of deviation from the reference position of the plurality of alignment marks 82 and the unit distance is determined in advance based on the address pitch, and the unit based on the imaging result of the alignment mark 82 in step S12 and the relationship. A distance may be determined.

上述のステップS145において利用される歪み閾値は、必ずしもアドレスピッチに等しい必要はなく、アドレスピッチ以下であれば様々に変更されてよい。例えば、歪み閾値は、アドレスピッチの半分に等しい値であってもよい。これにより、各要素入力データに対する補正精度をさらに向上することができる。   The distortion threshold used in step S145 described above is not necessarily equal to the address pitch, and may be changed variously as long as it is equal to or smaller than the address pitch. For example, the distortion threshold may be a value equal to half of the address pitch. Thereby, the correction accuracy with respect to each element input data can be further improved.

データ変換装置7では、入力データに含まれる図形要素は、複数のサブ図形要素を含むサブ図形要素群であってもよい。入力データは、一の図形要素が他の図形要素を参照する階層構造とされてもよい。また、データ変換装置7では、入力データの容量が大きい場合等、入力データの一部を展開して上述の補正やランレングスデータへの変換等の処理が行われ、当該処理を繰り返すことにより出力データが生成されてもよい。これにより、データ変換装置7のメモリ消費や中間ファイルの生成を抑制することができる。その結果、入力データから出力データへの変換効率を向上することができる。   In the data converter 7, the graphic elements included in the input data may be a sub graphic element group including a plurality of sub graphic elements. The input data may have a hierarchical structure in which one graphic element refers to another graphic element. Further, in the data conversion device 7, when the capacity of the input data is large, a part of the input data is expanded and the processing such as the above-described correction and conversion to run-length data is performed, and output is performed by repeating the processing. Data may be generated. Thereby, memory consumption of the data conversion device 7 and generation of an intermediate file can be suppressed. As a result, the conversion efficiency from input data to output data can be improved.

描画システム100では、データ変換装置7において出力データがフォーマット変換されることなく描画装置1へと出力され、描画装置1においてフォーマット変換が行われてもよい。   In the drawing system 100, the output data may be output to the drawing apparatus 1 without being subjected to format conversion in the data conversion apparatus 7, and format conversion may be performed in the drawing apparatus 1.

データ変換装置7により出力データに変換される入力データは、必ずしも液晶表示装置用のガラス基板上に描画されるパターンを示すデータには限定されず、例えば、プラズマ表示装置等の他のフラットパネル表示装置またはフォトマスク用のガラス基板上に描画されるパターンを示すデータであってもよく、LSI用のパターンデータであってもよい。また、他の様々な目的に利用される入力データがデータ変換装置により出力データに変換されてもよい。   Input data converted into output data by the data converter 7 is not necessarily limited to data indicating a pattern drawn on a glass substrate for a liquid crystal display device. For example, other flat panel displays such as a plasma display device It may be data indicating a pattern drawn on a glass substrate for an apparatus or a photomask, or may be pattern data for LSI. Further, input data used for various other purposes may be converted into output data by a data converter.

描画装置1は、上述の構造を備えるものには限定されず、ランレングスデータである出力データに基づいて描画を行う装置であればよい。例えば、描画装置1の光照射部4は、GLV以外の他の光変調素子を備える空間光変調器を備えてもよい。   The drawing apparatus 1 is not limited to the one having the above-described structure, and may be any apparatus that performs drawing based on output data that is run-length data. For example, the light irradiation unit 4 of the drawing apparatus 1 may include a spatial light modulator including a light modulation element other than the GLV.

上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。   The configurations in the above-described embodiments and modifications may be combined as appropriate as long as they do not contradict each other.

1 描画装置
3 基板保持部
7 データ変換装置
9 基板
25 主走査機構
61 光変調素子制御部
72 データ補正装置
73 ランレングス生成部
81 図形要素
81a 補正済み図形要素
82 アライメントマーク
83 端点
84 補助点
100 描画システム
461 光変調素子
707 プログラム
721 記憶部
722 歪み取得部
723 単位距離決定部
724 補助点設定部
725 位置補正部
800 単位領域
801 走査線
810 配置領域
811 辺
813 第1点
814 第2点
815 第3点
d0 差分ベクトル
d1 第1歪みベクトル
d2 第2歪みベクトル
d3 第3歪みベクトル
d21 第1仮差分ベクトル
d32 第2仮差分ベクトル
dn 辺歪みベクトル
S11〜S16,S131,S132,S141〜S151 ステップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Drawing apparatus 3 Board | substrate holding part 7 Data converter 9 Board | substrate 25 Main scanning mechanism 61 Light modulation element control part 72 Data correction apparatus 73 Run length production | generation part 81 Graphic element 81a Corrected graphic element 82 Alignment mark 83 End point 84 Auxiliary point 100 Drawing System 461 Light modulation element 707 Program 721 Storage unit 722 Distortion acquisition unit 723 Unit distance determination unit 724 Auxiliary point setting unit 725 Position correction unit 800 Unit region 801 Scan line 810 Arrangement region 811 Side 813 First point 814 Second point 815 Third Point d0 Difference vector d1 First distortion vector d2 Second distortion vector d3 Third distortion vector d21 First temporary difference vector d32 Second temporary difference vector dn Side distortion vectors S11 to S16, S131, S132, S141 to S151 Steps

Claims (10)

基板上にパターンを描画する描画装置にて利用される描画データの生成において、図形要素を含む領域を第1の方向を向く直線にて予め定められたアドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する際に、前記図形要素に対応するベクトルデータである要素入力データを補正するデータ補正方法であって、
a)それぞれが直線である複数の辺にて囲まれた図形要素を表す要素入力データを準備する工程と、
b)前記基板上に設けられた複数の目印の基準位置からのずれ量に基づいて、前記基板上の前記図形要素が配置される配置領域の歪みを取得する工程と、
c)前記複数の目印の基準位置からのずれ量、および、前記アドレスピッチに基づいて、単位距離を決定する工程と、
d)前記図形要素の前記複数の辺のうち一の辺について、一方の端点を第1点とし、前記第1点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第2点とし、前記第2点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第3点とする工程と、
e)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記第1点における歪みを示す第1歪みベクトル、前記第2点における歪みを示す第2歪みベクトル、および、前記第3点における歪みを示す第3歪みベクトルを求める工程と、
f)前記第2歪みベクトルと前記第1歪みベクトルとの差である第1仮差分ベクトル、および、前記第3歪みベクトルと前記第2歪みベクトルとの差である第2仮差分ベクトルを求め、前記第2仮差分ベクトルと前記第1仮差分ベクトルとの差である差分ベクトルを求める工程と、
g)前記差分ベクトルの前記辺の法線方向成分である辺歪みベクトルを求める工程と、
h)前記辺歪みベクトルの前記第1の方向成分の長さである第1成分長さ、または、前記辺歪みベクトルの前記第1の方向に垂直な第2の方向成分の長さである第2成分長さが、前記アドレスピッチ以下にて予め定められた歪み閾値以上である場合、前記第2点を補助点として設定する工程と、
i)前記h)工程において、前記第1成分長さまたは前記第2成分長さが前記歪み閾値以上である場合、前記補助点、前記第3点、および、前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第1点、第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返し、前記第1成分長さおよび前記第2成分長さが前記歪み閾値よりも小さい場合、前記第3点および前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返す工程と、
j)前記複数の辺のそれぞれについて、前記d)工程ないし前記i)工程を行う工程と、
k)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記複数の辺上の端点および補助点の位置を補正する工程と、
を備えることを特徴とするデータ補正方法。
In the generation of drawing data used in a drawing apparatus that draws a pattern on a substrate, an area including a graphic element is divided at a predetermined address pitch by a straight line facing the first direction, This is a data correction method for correcting element input data, which is vector data corresponding to a graphic element, when generating element output data, which is run-length data representing the graphic element, as a substantial set of region run lengths. And
a) preparing element input data representing a graphic element surrounded by a plurality of sides each of which is a straight line;
b) obtaining a distortion of an arrangement region in which the graphic element on the substrate is arranged based on a deviation amount from a reference position of a plurality of marks provided on the substrate;
c) determining a unit distance based on an amount of deviation from a reference position of the plurality of landmarks and the address pitch;
d) For one side of the plurality of sides of the graphic element, one end point is defined as a first point, and a point separated from the first point in the direction in which the side is directed by the unit distance is defined as a second point, A point that is separated from the second point by the unit distance in the direction in which the side faces is a third point;
e) based on the distortion of the arrangement region acquired in the step b), a first distortion vector indicating distortion at the first point, a second distortion vector indicating distortion at the second point, and the third Obtaining a third strain vector indicative of the strain at the point;
f) obtaining a first temporary difference vector that is a difference between the second distortion vector and the first distortion vector, and a second temporary difference vector that is a difference between the third distortion vector and the second distortion vector; Obtaining a difference vector that is a difference between the second temporary difference vector and the first temporary difference vector;
g) obtaining an edge distortion vector which is a normal direction component of the edge of the difference vector;
h) a first component length that is a length of the first direction component of the side distortion vector or a length of a second direction component that is perpendicular to the first direction of the side distortion vector; A step of setting the second point as an auxiliary point when a two-component length is equal to or greater than a predetermined distortion threshold below the address pitch;
i) In the step h), when the first component length or the second component length is equal to or greater than the distortion threshold, the side points from the auxiliary point, the third point, and the third point. Repeat steps e) to h) as long as the third point exists on the side, with the points separated by the unit distance in the direction as the first point, the second point, and the third point. When the first component length and the second component length are smaller than the distortion threshold, a second point that is separated from the third point and the third point by the unit distance in the direction in which the side faces is newly added. As long as the third point exists on the side as a point and a third point, the step e) to the step h) are repeated.
j) performing the steps d) to i) for each of the plurality of sides;
k) correcting the positions of the end points and auxiliary points on the plurality of sides based on the distortion of the arrangement area acquired in the step b);
A data correction method comprising:
請求項1に記載のデータ補正方法であって、
前記c)工程が、
c1)前記複数の目印のうち2つの目印の各組み合わせについて、前記2つの目印に対応する2つの基準位置の間の距離をL1とし、一方の目印に対応する一方の基準位置から前記一方の目印へと向かう第1目印歪みベクトルと他方の目印に対応する他方の基準位置から前記他方の目印へと向かう第2目印歪みベクトルとの差分ベクトルの長さをL2とし、前記アドレスピッチをPとし、L1・P/L2を仮単位距離閾値として求める工程と、
c2)前記単位距離を、前記各組み合わせの仮単位距離閾値のうち最小の仮単位距離閾値以下の値に決定する工程と、
を備えることを特徴とするデータ補正方法。
The data correction method according to claim 1,
Step c)
c1) For each combination of two marks among the plurality of marks, the distance between two reference positions corresponding to the two marks is set to L1, and the one mark from one reference position corresponding to one mark The length of the difference vector between the first landmark distortion vector going to the second landmark distortion vector going from the other reference position corresponding to the other landmark to the other landmark, and L is the address pitch, Obtaining L1 · P / L2 as a temporary unit distance threshold;
c2) determining the unit distance to a value equal to or less than a minimum temporary unit distance threshold value among the temporary unit distance threshold values of each combination;
A data correction method comprising:
請求項1または2に記載のデータ補正方法であって、
前記歪み閾値が前記アドレスピッチに等しいことを特徴とするデータ補正方法。
The data correction method according to claim 1 or 2,
A data correction method, wherein the distortion threshold is equal to the address pitch.
要素入力データを変換して要素出力データを生成するデータ変換方法であって、
前記要素入力データを、請求項1ないし3のいずれかに記載のデータ補正方法により補正して補正済みデータを生成する工程と、
前記補正済みデータが表す図形要素を含む領域を、前記第1の方向を向く直線にて前記アドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する工程と、
を備えることを特徴とするデータ変換方法。
A data conversion method for generating element output data by converting element input data,
Correcting the element input data by the data correction method according to claim 1 to generate corrected data;
An area including the graphic element represented by the corrected data is divided for each address pitch by a straight line facing the first direction, and the graphic element is represented as a substantial set of run lengths of the divided areas. Generating element output data which is run-length data;
A data conversion method comprising:
基板上にパターンを描画する描画装置にて利用される描画データの生成において、図形要素を含む領域を第1の方向を向く直線にて予め定められたアドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する際に、前記図形要素に対応するベクトルデータである要素入力データを補正するデータ補正装置であって、
それぞれが直線である複数の辺にて囲まれた図形要素を表す要素入力データを記憶する記憶部と、
前記基板上に設けられた複数の目印の基準位置からのずれ量に基づいて、前記基板上の前記図形要素が配置される配置領域の歪みを取得する歪み取得部と、
前記複数の目印の基準位置からのずれ量、および、前記アドレスピッチに基づいて、単位距離を決定する単位距離決定部と、
前記複数の辺のそれぞれに補助点を設定する補助点設定部と、
前記歪み取得部により取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記複数の辺上の端点および補助点の位置を補正する位置補正部と、
を備え、
前記補助点設定部による補助点の設定が、
a)前記図形要素の前記複数の辺のうち一の辺について、一方の端点を第1点とし、前記第1点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第2点とし、前記第2点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第3点とする工程と、
b)前記歪み取得部により取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記第1点における歪みを示す第1歪みベクトル、前記第2点における歪みを示す第2歪みベクトル、および、前記第3点における歪みを示す第3歪みベクトルを求める工程と、
c)前記第2歪みベクトルと前記第1歪みベクトルとの差である第1仮差分ベクトル、および、前記第3歪みベクトルと前記第2歪みベクトルとの差である第2仮差分ベクトルを求め、前記第2仮差分ベクトルと前記第1仮差分ベクトルとの差である差分ベクトルを求める工程と、
d)前記差分ベクトルの前記辺の法線方向成分である辺歪みベクトルを求める工程と、
e)前記辺歪みベクトルの前記第1の方向成分の長さである第1成分長さ、または、前記辺歪みベクトルの前記第1の方向に垂直な第2の方向成分の長さである第2成分長さが、前記アドレスピッチ以下にて予め定められた歪み閾値以上である場合、前記第2点を補助点として設定する工程と、
f)前記e)工程において、前記第1成分長さまたは前記第2成分長さが前記歪み閾値以上である場合、前記補助点、前記第3点、および、前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第1点、第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記b)工程ないし前記e)工程を繰り返し、前記第1成分長さおよび前記第2成分長さが前記歪み閾値よりも小さい場合、前記第3点および前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記b)工程ないし前記e)工程を繰り返す工程と、
g)前記複数の辺のそれぞれについて、前記a)工程ないし前記f)工程を行う工程と、
を備えることを特徴とするデータ補正装置。
In the generation of drawing data used in a drawing apparatus that draws a pattern on a substrate, an area including a graphic element is divided at a predetermined address pitch by a straight line facing the first direction, A data correction apparatus that corrects element input data that is vector data corresponding to a graphic element when generating element output data that is run-length data representing the graphic element as a substantial set of region run lengths. And
A storage unit for storing element input data representing a graphic element surrounded by a plurality of sides each of which is a straight line;
A distortion acquisition unit that acquires distortion of an arrangement region in which the graphic element on the substrate is arranged based on a deviation amount from a reference position of a plurality of marks provided on the substrate;
A unit distance determining unit that determines a unit distance based on the amount of deviation from a reference position of the plurality of landmarks and the address pitch;
An auxiliary point setting unit for setting auxiliary points on each of the plurality of sides;
A position correction unit that corrects positions of end points and auxiliary points on the plurality of sides based on the distortion of the arrangement region acquired by the distortion acquisition unit;
With
Setting of auxiliary points by the auxiliary point setting unit is
a) For one side of the plurality of sides of the graphic element, one end point is defined as a first point, and a point separated from the first point by the unit distance in a direction toward the side is defined as a second point, A point that is separated from the second point by the unit distance in the direction in which the side faces is a third point;
b) a first distortion vector indicating a distortion at the first point, a second distortion vector indicating a distortion at the second point, and the third based on the distortion of the arrangement region acquired by the distortion acquisition unit; Obtaining a third strain vector indicative of the strain at the point;
c) obtaining a first temporary difference vector that is a difference between the second distortion vector and the first distortion vector, and a second temporary difference vector that is a difference between the third distortion vector and the second distortion vector; Obtaining a difference vector that is a difference between the second temporary difference vector and the first temporary difference vector;
d) obtaining an edge distortion vector which is a normal direction component of the edge of the difference vector;
e) a first component length that is a length of the first direction component of the side distortion vector or a length of a second direction component that is perpendicular to the first direction of the side distortion vector; A step of setting the second point as an auxiliary point when a two-component length is equal to or greater than a predetermined distortion threshold below the address pitch;
f) In the step e), when the first component length or the second component length is equal to or greater than the distortion threshold, the side points from the auxiliary point, the third point, and the third point. Repeat steps b) to e) as long as the third point exists on the side, with the points separated by the unit distance in the direction as the first point, the second point, and the third point. When the first component length and the second component length are smaller than the distortion threshold, a second point that is separated from the third point and the third point by the unit distance in the direction in which the side faces is newly added. As long as the third point exists on the side as a point and a third point, the step b) to the step e) are repeated;
g) performing the steps a) to f) for each of the plurality of sides;
A data correction apparatus comprising:
請求項5に記載のデータ補正装置であって、
前記単位距離決定部による前記単位距離の決定が、
h)前記複数の目印のうち2つの目印の各組み合わせについて、前記2つの目印に対応する2つの基準位置の間の距離をL1とし、一方の目印に対応する一方の基準位置から前記一方の目印へと向かう第1目印歪みベクトルと他方の目印に対応する他方の基準位置から前記他方の目印へと向かう第2目印歪みベクトルとの差分ベクトルの長さをL2とし、前記アドレスピッチをPとし、L1・P/L2を仮単位距離閾値として求める工程と、
i)前記単位距離を、前記各組み合わせの仮単位距離閾値のうち最小の仮単位距離閾値以下の値に決定する工程と、
を備えることを特徴とするデータ補正装置。
The data correction apparatus according to claim 5, wherein
Determination of the unit distance by the unit distance determination unit is
h) For each combination of two marks among the plurality of marks, the distance between the two reference positions corresponding to the two marks is L1, and the one mark from one reference position corresponding to the one mark The length of the difference vector between the first landmark distortion vector going to the second landmark distortion vector going from the other reference position corresponding to the other landmark to the other landmark, and L is the address pitch, Obtaining L1 · P / L2 as a temporary unit distance threshold;
i) determining the unit distance to a value equal to or less than a minimum temporary unit distance threshold value among the temporary unit distance threshold values of each combination;
A data correction apparatus comprising:
請求項5または6に記載のデータ補正装置であって、
前記歪み閾値が前記アドレスピッチに等しいことを特徴とするデータ補正装置。
The data correction apparatus according to claim 5 or 6, wherein
A data correction apparatus, wherein the distortion threshold is equal to the address pitch.
要素入力データを変換して要素出力データを生成するデータ変換装置であって、
前記要素入力データを補正して補正済みデータを生成する請求項5ないし7のいずれかに記載のデータ補正装置と、
前記補正済みデータが表す図形要素を含む領域を、前記第1の方向を向く直線にて前記アドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成するランレングス生成部と、
を備えることを特徴とするデータ変換装置。
A data converter for converting element input data to generate element output data,
The data correction device according to any one of claims 5 to 7, wherein corrected data is generated by correcting the element input data;
An area including the graphic element represented by the corrected data is divided for each address pitch by a straight line facing the first direction, and the graphic element is represented as a substantial set of run lengths of the divided areas. A run-length generator that generates element output data that is run-length data;
A data conversion device comprising:
基板上にパターンを描画する描画システムであって、
請求項8に記載のデータ変換装置と、
前記データ変換装置により生成された前記要素出力データに基づいて基板上にパターンを描画する描画装置と、
を備え、
前記描画装置が、
前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板に光を照射する光変調素子と、
前記光変調素子から導かれた光の前記基板上における照射位置を、前記基板上における前記第1の方向に対応する方向に前記基板に対して相対的に移動する照射位置移動機構と、
前記要素出力データに基づいて前記光変調素子からの光の変調を制御する光変調素子制御部と、
を備えることを特徴とする描画システム。
A drawing system for drawing a pattern on a substrate,
A data conversion device according to claim 8,
A drawing device for drawing a pattern on a substrate based on the element output data generated by the data conversion device;
With
The drawing device is
A substrate holder for holding the substrate;
A light modulation element for irradiating the substrate with light;
An irradiation position moving mechanism for moving an irradiation position on the substrate of the light guided from the light modulation element relative to the substrate in a direction corresponding to the first direction on the substrate;
A light modulation element control unit that controls modulation of light from the light modulation element based on the element output data;
A drawing system comprising:
基板上にパターンを描画する描画装置にて利用される描画データの生成において、図形要素を含む領域を第1の方向を向く直線にて予め定められたアドレスピッチ毎に分割し、分割された各領域のランレングスの実質的な集合として前記図形要素を表すランレングスデータである要素出力データを生成する際に、前記図形要素に対応するベクトルデータである要素入力データを補正するプログラムであって、前記プログラムのコンピュータによる実行は、前記コンピュータに、
a)それぞれが直線である複数の辺にて囲まれた図形要素を表す要素入力データを準備する工程と、
b)前記基板上に設けられた複数の目印の基準位置からのずれ量に基づいて、前記基板上の前記図形要素が配置される配置領域の歪みを取得する工程と、
c)前記複数の目印の基準位置からのずれ量、および、前記アドレスピッチに基づいて、単位距離を決定する工程と、
d)前記図形要素の前記複数の辺のうち一の辺について、一方の端点を第1点とし、前記第1点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第2点とし、前記第2点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を第3点とする工程と、
e)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記第1点における歪みを示す第1歪みベクトル、前記第2点における歪みを示す第2歪みベクトル、および、前記第3点における歪みを示す第3歪みベクトルを求める工程と、
f)前記第2歪みベクトルと前記第1歪みベクトルとの差である第1仮差分ベクトル、および、前記第3歪みベクトルと前記第2歪みベクトルとの差である第2仮差分ベクトルを求め、前記第2仮差分ベクトルと前記第1仮差分ベクトルとの差である差分ベクトルを求める工程と、
g)前記差分ベクトルの前記辺の法線方向成分である辺歪みベクトルを求める工程と、
h)前記辺歪みベクトルの前記第1の方向成分の長さである第1成分長さ、または、前記辺歪みベクトルの前記第1の方向に垂直な第2の方向成分の長さである第2成分長さが、前記アドレスピッチ以下にて予め定められた歪み閾値以上である場合、前記第2点を補助点として設定する工程と、
i)前記h)工程において、前記第1成分長さまたは前記第2成分長さが前記歪み閾値以上である場合、前記補助点、前記第3点、および、前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第1点、第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返し、前記第1成分長さおよび前記第2成分長さが前記歪み閾値よりも小さい場合、前記第3点および前記第3点から前記辺が向く方向に前記単位距離だけ離れた点を新たに第2点および第3点として、前記第3点が前記辺上に存在する限り、前記e)工程ないし前記h)工程を繰り返す工程と、
j)前記複数の辺のそれぞれについて、前記d)工程ないし前記i)工程を行う工程と、
k)前記b)工程において取得された前記配置領域の歪みに基づいて、前記複数の辺上の端点および補助点の位置を補正する工程と、
を実行させることを特徴とするプログラム。
In the generation of drawing data used in a drawing apparatus that draws a pattern on a substrate, an area including a graphic element is divided at a predetermined address pitch by a straight line facing the first direction, A program for correcting element input data that is vector data corresponding to the graphic element when generating element output data that is run-length data representing the graphic element as a substantial set of region run lengths, Execution of the program by the computer is performed on the computer,
a) preparing element input data representing a graphic element surrounded by a plurality of sides each of which is a straight line;
b) obtaining a distortion of an arrangement region in which the graphic element on the substrate is arranged based on a deviation amount from a reference position of a plurality of marks provided on the substrate;
c) determining a unit distance based on an amount of deviation from a reference position of the plurality of landmarks and the address pitch;
d) For one side of the plurality of sides of the graphic element, one end point is defined as a first point, and a point separated from the first point in the direction in which the side is directed by the unit distance is defined as a second point, A point that is separated from the second point by the unit distance in the direction in which the side faces is a third point;
e) based on the distortion of the arrangement region acquired in the step b), a first distortion vector indicating distortion at the first point, a second distortion vector indicating distortion at the second point, and the third Obtaining a third strain vector indicative of the strain at the point;
f) obtaining a first temporary difference vector that is a difference between the second distortion vector and the first distortion vector, and a second temporary difference vector that is a difference between the third distortion vector and the second distortion vector; Obtaining a difference vector that is a difference between the second temporary difference vector and the first temporary difference vector;
g) obtaining an edge distortion vector which is a normal direction component of the edge of the difference vector;
h) a first component length that is a length of the first direction component of the side distortion vector or a length of a second direction component that is perpendicular to the first direction of the side distortion vector; A step of setting the second point as an auxiliary point when a two-component length is equal to or greater than a predetermined distortion threshold below the address pitch;
i) In the step h), when the first component length or the second component length is equal to or greater than the distortion threshold, the side points from the auxiliary point, the third point, and the third point. Repeat steps e) to h) as long as the third point exists on the side, with the points separated by the unit distance in the direction as the first point, the second point, and the third point. When the first component length and the second component length are smaller than the distortion threshold, a second point that is separated from the third point and the third point by the unit distance in the direction in which the side faces is newly added. As long as the third point exists on the side as a point and a third point, the step e) to the step h) are repeated.
j) performing the steps d) to i) for each of the plurality of sides;
k) correcting the positions of the end points and auxiliary points on the plurality of sides based on the distortion of the arrangement area acquired in the step b);
A program characterized by having executed.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006309200A (en) * 2005-03-31 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Plotting point data acquisition method and device, and plotting method and device
JP2007199385A (en) * 2006-01-26 2007-08-09 Hitachi Via Mechanics Ltd Drawing device for printed circuit board
JP2012204422A (en) * 2011-03-24 2012-10-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Position detection method, pattern drawing method, pattern drawing apparatus, and computer program
JP2012212722A (en) * 2011-03-30 2012-11-01 Fujifilm Corp Thin film transistor manufacturing apparatus, manufacturing method of the same and program

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006309200A (en) * 2005-03-31 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd Plotting point data acquisition method and device, and plotting method and device
JP2007199385A (en) * 2006-01-26 2007-08-09 Hitachi Via Mechanics Ltd Drawing device for printed circuit board
JP2012204422A (en) * 2011-03-24 2012-10-22 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Position detection method, pattern drawing method, pattern drawing apparatus, and computer program
JP2012212722A (en) * 2011-03-30 2012-11-01 Fujifilm Corp Thin film transistor manufacturing apparatus, manufacturing method of the same and program

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