JP2015049142A - Trank roller - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve problems, for example, when a trank roller is formed by processing a silicon material, if adjustment of inertia moment and a piece weight is required, it is impossible because silicon is a brittle material.SOLUTION: The trank roller body is formed by processing a substrate mainly formed of silicon. On at least one plane of the trank roller, a metal structure formed of a lower metal film which tightly contacts silicon, and an upper metal film which tightly contacts the lower metal film and is formed of a material different from that of the lower metal film, is provided. The metal structure can be formed into a columnar shape, a prismatic shape, a band shape or a ring shape, and plural metal structures can be provided. For adjusting inertia moment and a piece weight, the metal structure is removed.

Description

本発明は、機械式時計の調速機に用いられるてん輪に関する。   The present invention relates to a balance wheel used in a speed governor of a mechanical timepiece.

機械式時計においては、機械の運転を規則正しく一定の速度に保つために、ひげぜんまいとてん輪とで構成する調速機(てんぷ)が使われている。等時性のあるひげぜんまいの伸縮によりてん輪は規則正しく往復回転運動を行う。   In a mechanical timepiece, a speed governor composed of a hairspring and a balance wheel is used in order to keep the operation of the machine at a regular and constant speed. The balance wheel regularly reciprocates by the expansion and contraction of the isochronous balance spring.

てんぷには、がんぎ車とアンクルとで構成される脱進機という機構が接続されており、ひげぜんまいからこの脱進機を介してエネルギーが伝達されて、振動を持続するようになっている。   The balance with the escapement composed of escape wheel and ankle is connected to the balance, and energy is transmitted from the balance spring through this escapement to sustain the vibration. Yes.

近年、シリコン基板をエッチング加工することによって時計部品を製造する試みがなされている。従来の金属部品を用いる時計部品の製造に比べ軽量にできるという利点と、安価で大量生産ができる利点とがあると言われている。これにより、小型軽量の時計を製造することができると期待されている。   In recent years, attempts have been made to manufacture timepiece parts by etching a silicon substrate. It is said that it has the advantage that it can be made lighter than the manufacture of watch parts using conventional metal parts, and the advantage that it can be mass-produced at low cost. Thereby, it is expected that a small and lightweight watch can be manufactured.

シリコン基板をエッチングする際、近年ではドライエッチング技術である反応性イオンエッチング(Reactive Ion Etching:RIE)技術が進歩してきた。中でも、深堀りRIE(Deep RIE)技術が開発され、アスペクト比が高いエッチングが可能になってきた。   When etching a silicon substrate, a reactive ion etching (RIE) technique, which is a dry etching technique, has recently progressed. Among them, deep RIE (Deep RIE) technology has been developed, and etching with a high aspect ratio has become possible.

この技術によると、エッチングがフォトレジストでマスクした部分の下に回り込まないために、垂直深さ方向にマスクパターンを忠実に再現できるようになり、シリコン基板をエッチングする際に、時計部品を設計通りの形状で精度よく製造することが可能となってきた。   This technique allows the mask pattern to be faithfully reproduced in the vertical depth direction because the etching does not go under the portion masked with the photoresist, and when the silicon substrate is etched, the watch part is designed as designed. It has become possible to manufacture accurately with this shape.

シリコンは金属よりも温度特性が良いので、特に時計の調速機に適用すると好都合である。中でも、てんぷを構成するてん輪は規則正しく往復回転運動を行う必要があるから、シリコンでてん輪を構成すると、温度変化の影響を受けないという利点がある。   Since silicon has better temperature characteristics than metal, it is particularly advantageous when applied to a time governor. Above all, since the balance wheel constituting the balance must be regularly reciprocatingly rotated, if the balance wheel is composed of silicon, there is an advantage that it is not affected by temperature change.

しかし、シリコンは脆性材料のため機械加工が難しいことに加え、密度が低いという欠点を有するので、このままではてん輪として必要な慣性モーメントを得られない。   However, since silicon is a brittle material, it is difficult to machine, and has the disadvantage of low density, so that the moment of inertia necessary for a balance wheel cannot be obtained as it is.

そこで、シリコン製のてん輪に金属をリング状に堆積させるなどして、てん輪の慣性を高めようとする技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   Therefore, a technique for increasing the inertia of the balance wheel by depositing metal in a ring shape made of silicon is known (for example, see Patent Document 1).

特表2011−525614号公報(第6−8頁、図6−9)JP-T-2011-525614 (page 6-8, FIG. 6-9)

しかし、特許文献1におけるシリコン製のてん輪に直接堆積した金属層は、シリコンと熱膨張係数が異なるためにシリコンとの密着性がよくないという問題がある。   However, the metal layer directly deposited on the balance wheel made of silicon in Patent Document 1 has a problem that the adhesion with silicon is not good because the coefficient of thermal expansion is different from that of silicon.

このため、時計に組み込まれ、時計として稼働している間に金属層が剥がれ落ちてしま
うことがある。そうすると、剥がれた金属層が時計機構に入り込み、動作障害を起こす可能性があることがわかった。
For this reason, the metal layer may peel off while being incorporated in a watch and operating as a watch. Then, it was found that the peeled metal layer could enter the timepiece mechanism and cause a malfunction.

また、特許文献1に示した従来技術だけに言えることではないのだが、てん輪をシリコン製としたとき、仮にてん輪に片錘と呼ばれる重量バランスの偏りが生じたときに、それを調整することができないのである。これは前述の通り、シリコンが脆性材料でるため、機械加工が実質的にできないことがその理由である。   In addition, this is not only true for the prior art disclosed in Patent Document 1, but when the balance wheel is made of silicon, it is adjusted when there is a weight balance bias called a single spindle on the temporary balance wheel. It cannot be done. This is because, as described above, silicon is a brittle material and therefore cannot be machined substantially.

本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、シリコン製のてん輪であっても、てん輪として必要な慣性モーメントを有し、時計機構の動作障害を起こさない時計用調速機のてん輪を提供することにある。   In view of the above-mentioned problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a time governor for a timepiece that has a moment of inertia necessary for a balance wheel and does not cause an operation trouble of the timepiece mechanism even if it is a silicon balance wheel. To provide a balance wheel.

前述した目的を達成するための本発明におけるてん輪は、以下の構成を採用する。   The balance wheel according to the present invention for achieving the above-described object employs the following configuration.

時計用調速機を構成する回転軸に嵌合して共働するてん輪であって、回転軸と嵌合する嵌合部と外周部とが一体となる、シリコンを主成分とする基板で形成し、回転軸の軸方向と直交する基板の平面に金属構造体を備え、金属構造体は、基板と密着する下層金属膜とこの下層金属膜と密着すると共に異なる材質の上層金属膜とを積層してなることを特徴とする。   A balance wheel that engages and cooperates with a rotating shaft that constitutes a time governor for a watch, and is a substrate mainly composed of silicon in which a fitting portion that fits the rotating shaft and an outer peripheral portion are integrated. A metal structure is provided on the plane of the substrate perpendicular to the axial direction of the rotation axis, and the metal structure has a lower metal film in close contact with the substrate and an upper metal film of different materials in close contact with the lower metal film. It is characterized by being laminated.

このような構成にすれば、金属構造体はシリコンを主成分とする基板と密着性がよくなり、剥がれ落ちることはない。また、例えば片錘が生じるなどし、その調整のために金属構造体の一部を除去する必要が生じたときでも、この金属構造体は基板の平面に設けているから、容易にそれを行うことができる。金属構造体を意図的に除去すれば、てん輪の片錘の調整と慣性モーメントの調整とが可能になる。   With such a configuration, the metal structure has good adhesion to a substrate mainly composed of silicon and does not peel off. Further, even when, for example, a single weight is generated and it is necessary to remove a part of the metal structure for the adjustment, the metal structure is provided on the plane of the substrate. be able to. If the metal structure is intentionally removed, the balance of the balance wheel and the moment of inertia can be adjusted.

また、下層金属膜及び上層金属膜は、基板より比重の大きい金属で構成するとよい。   Further, the lower metal film and the upper metal film are preferably made of a metal having a specific gravity greater than that of the substrate.

このような構成にすれば、てん輪の慣性モーメントを簡単に高めることができる。   With this configuration, the moment of inertia of the balance wheel can be easily increased.

また、金属構造体は、バンプ形状であるとよい。   Further, the metal structure may be in a bump shape.

このような構成にすれば、複数個のバンプをてん輪の外周部に沿って配設することもできる。また、片錘の調整が生じたときなどに、この金属構造体を横から押すなどすれば除去することができるので、てん輪の片錘と慣性モーメントとの調整を容易に行うことができて便利である。   With such a configuration, a plurality of bumps can be disposed along the outer periphery of the balance wheel. Also, when adjustment of the single spindle occurs, it can be removed by pushing this metal structure from the side, etc., so the balance between the single spindle of the balance wheel and the moment of inertia can be adjusted easily. Convenient.

また、金属構造体は、帯形状であるとよい。   The metal structure is preferably in the shape of a band.

このような構成にすれば、例えば、てん輪の回転軸と嵌合する嵌合部と外周部との間に設けることもできるようになり、より大きな面積で金属構造体を形成できる。   With such a configuration, for example, a metal structure can be formed with a larger area because it can be provided between the fitting portion that fits with the rotation shaft of the balance wheel and the outer peripheral portion.

また、金属構造体は、回転軸を同心円とするリング形状であるとよい。   Further, the metal structure may have a ring shape having concentric rotation axes.

このような構成にすれば、例えば、てん輪の外周部に沿って設けることもできるようになり、さらに大きな面積で金属構造体を形成できる。   With such a configuration, for example, it can be provided along the outer peripheral portion of the balance wheel, and a metal structure can be formed with a larger area.

また、下層金属膜は、平面の表面全体に設けてもよい。   Moreover, you may provide a lower layer metal film in the whole surface of a plane.

このような構成にすれば、上層金属膜を任意の部分に設けるだけで金属構造体を形成できて便利である。   Such a configuration is convenient because a metal structure can be formed simply by providing an upper metal film in an arbitrary portion.

また、回転軸の中心を通る仮想直線を基板の平面に並行して引き、その平面の領域を分割したとき、分割された領域の金属構造体の重量が領域同士で同一であるとよい。   Further, when a virtual straight line passing through the center of the rotation axis is drawn in parallel to the plane of the substrate and the area of the plane is divided, the weight of the metal structure in the divided area may be the same between the areas.

このような構成にすれば、てん輪の片錘が無くなり、バランスが取れたてん輪を構成できる。   By adopting such a configuration, the balance wheel can be configured with no balance of the balance wheel.

本発明のてん輪は、シリコンを主成分とするてん輪であっても、てん輪として必要な慣性モーメントを有し、時計機構の動作障害を起こさず、また片錘を無くすことができる。
金属構造体は、除去しようとしたときには容易に除去できるので、てん輪の片錘の調整と慣性モーメントの調整とを行うことが可能になる。
Even if the balance wheel of the present invention is a balance wheel mainly composed of silicon, it has a moment of inertia necessary for a balance wheel, does not cause an operation trouble of the timepiece mechanism, and can eliminate a single weight.
Since the metal structure can be easily removed when attempting to remove it, it is possible to adjust the balance of the balance wheel and the moment of inertia.

本発明の第1の実施形態である時計用調速機のてん輪の平面図である。It is a top view of the balance wheel of the governor for timepieces which is the 1st Embodiment of this invention. 図1に示すてん輪の断面図である。It is sectional drawing of the balance wheel shown in FIG. 本発明の時計用調速機の構成を示す側面図である。It is a side view which shows the structure of the governor for timepieces of this invention. 本発明の第2の実施形態である時計用調速機のてん輪の平面図である。It is a top view of the balance wheel of the governor for timepieces which is the 2nd Embodiment of this invention. 図4に示すてん輪の断面図である。It is sectional drawing of the balance wheel shown in FIG. 本発明の第3の実施形態である金属構造体の形状を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the shape of the metal structure which is the 3rd Embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態である時計用調速機のてん輪について図面を参照して詳細に説明する。
説明にあっては、第1の実施形態として、金属構造体を構成する2つの金属膜が同じ形状を有する例を説明する。第2の実施形態として、2つの金属膜の形状が異なる例を説明する。第3の実施形態として、金属構造体のさらに異なる形状を説明する。
Hereinafter, a balance wheel of a time governor for a timepiece according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In the description, an example in which two metal films constituting a metal structure have the same shape will be described as the first embodiment. As a second embodiment, an example in which the shapes of two metal films are different will be described. As a third embodiment, a further different shape of the metal structure will be described.

[第1の実施形態のてん輪の構造説明:図1、図2]
まず、第1の実施形態におけるてん輪の構造について、図1及び図2を用いて説明する。
図1(a)は、通常知られているてん輪の形状であり、図示しない回転軸と嵌合する嵌合部2aと外周部2bとを接続部2cで繋ぐことにより、てん輪体2の平面に穴部2dを有するてん輪4を示す平面図である。
図1(b)は、穴部2dが無く、てん輪体2が一様な平面構造となるてん輪4を示す平面図である。
図2は、てん輪体2の中心を通る仮想直線L(二点鎖線)に沿って切断した断面を示す断面図であり、図2(a)は図1(a)に、図2(b)は図1(b)にそれぞれ対応する。
[Description of the structure of the balance wheel of the first embodiment: FIGS. 1 and 2]
First, the structure of the balance wheel in the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
FIG. 1A shows a shape of a balance wheel that is generally known. By connecting a fitting portion 2a and a peripheral portion 2b that are fitted to a rotating shaft (not shown) by a connecting portion 2c, the balance wheel body 2 is shown. It is a top view which shows the balance wheel 4 which has the hole 2d in a plane.
FIG.1 (b) is a top view which shows the balance wheel 4 which does not have the hole 2d and the balance ring body 2 becomes a uniform planar structure.
2 is a cross-sectional view showing a cross section cut along a virtual straight line L (two-dot chain line) passing through the center of the balance wheel body 2. FIG. 2 (a) is a cross-sectional view of FIG. ) Corresponds to FIG.

図1、図2に示すてん輪4は、シリコンを主成分とする半導体の基板をエッチング加工することによって形成されるてん輪体2に金属構造体3を設ける構成である。てん輪体2は、例えば、厚さ450μmである。金属構造体3は、てん輪体2と密着する下層金属膜3aと、この下層金属膜3aと密着する上層金属膜3bとで構成している。   The balance wheel 4 shown in FIGS. 1 and 2 has a structure in which a metal structure 3 is provided on a balance body 2 formed by etching a semiconductor substrate containing silicon as a main component. The balance wheel body 2 has a thickness of 450 μm, for example. The metal structure 3 includes a lower metal film 3a that is in close contact with the balance wheel body 2 and an upper metal film 3b that is in close contact with the lower metal film 3a.

図1(a)及び図2(a)に示す構成は、てん輪4の中心には図示しない回転軸と嵌合する孔である貫通孔4aを有する嵌合部2aがあり、外周部2bと接続部2cにより接続
されている。この例では接続部2cは4つある場合を示している。この形状を車の車輪に例えると、接続部2cはスポークに相当する。なお、もちろんこの接続部2cの数は任意に決めることができる。そして、接続部2cのない部分は穴部2dとなっている。
1 (a) and 2 (a) has a fitting portion 2a having a through hole 4a that is a hole fitting with a rotating shaft (not shown) at the center of the balance wheel 4, and an outer peripheral portion 2b. It is connected by the connection part 2c. In this example, a case where there are four connection portions 2c is shown. If this shape is compared to a wheel of a car, the connecting portion 2c corresponds to a spoke. Of course, the number of the connecting portions 2c can be arbitrarily determined. And the part without the connection part 2c becomes the hole 2d.

てん輪体2の外周部2bの一方の表面には、下層金属膜3aとして、例えば、厚さ1μmのクロム(Cr)を平面視で円形に形成している。下層金属膜3aの材料としては、シリコンに密着性の良好なクロムの他、例えば、アルミ(Al)、チタン(Ti)、タングステン(W)等やこれらの金属組成物が挙げられる。   On one surface of the outer peripheral portion 2b of the balance wheel body 2, for example, chromium (Cr) having a thickness of 1 μm is formed in a circular shape in plan view as the lower metal film 3a. Examples of the material for the lower layer metal film 3a include aluminum (Al), titanium (Ti), tungsten (W), and the like, as well as chromium having good adhesion to silicon.

この下層金属膜3aの上に、上層金属膜3bとして、例えば、厚さ200μmの金(Au)を形成している。これら金属膜は、てん輪体2を構成するシリコンよりも比重の大きい金属である。上層金属膜3bの材料としては、金の他、例えば、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、鉛(Pb)、スズ(Sn)等やこれらの金属組成物が挙げられる。   On the lower metal film 3a, for example, gold (Au) having a thickness of 200 μm is formed as the upper metal film 3b. These metal films are metals having a specific gravity larger than that of the silicon constituting the balance wheel body 2. Examples of the material for the upper metal film 3b include gold, for example, copper (Cu), nickel (Ni), lead (Pb), tin (Sn), and the like, and metal compositions thereof.

このような形状の金属構造体3は、円柱形状又は角柱形状の突起形状を有している。図1の例では円柱形状である。そして、公知の半導体装置のパッドに設ける接続電極の形成と同様な技術によって形成することができる。   The metal structure 3 having such a shape has a cylindrical or prismatic protrusion shape. In the example of FIG. And it can form by the technique similar to formation of the connection electrode provided in the pad of a well-known semiconductor device.

上層金属膜3bの上端面の形状はフラットであるが、半球形状の所謂ドーム形状としてもよい。そのような金属構造体3の形状を、バンプ形状と呼ぶことにする。   The shape of the upper end surface of the upper metal film 3b is flat, but may be a hemispherical so-called dome shape. Such a shape of the metal structure 3 is referred to as a bump shape.

図1(b)及び図2(b)に示す構成は、図1(a)に示す穴部2dが無くてん輪体2は円盤状の基板を用いている。てん輪4の中心には図示しない回転軸と嵌合する貫通孔4aがあるが、その周囲が嵌合部2aとなっているため、図1(b)にはこの嵌合部2aを分かり易くするため点線で示している。   The configuration shown in FIGS. 1B and 2B does not have the hole 2d shown in FIG. 1A, and the balance wheel body 2 uses a disk-shaped substrate. Although there is a through hole 4a that fits with a rotation shaft (not shown) at the center of the balance wheel 4, since the periphery thereof is a fitting portion 2a, the fitting portion 2a is easy to understand in FIG. This is indicated by a dotted line.

図1(b)に示すてん輪体2は、図1(a)に示す外周部2bに相当する一方の表面に、金属構造体3を配置している。   In the balance wheel body 2 shown in FIG. 1 (b), the metal structure 3 is arranged on one surface corresponding to the outer peripheral portion 2b shown in FIG. 1 (a).

図1(a)及び図1(b)に示すこのような金属構造体3は、複数設けてあり、てん輪体2の中心である嵌合部2aの貫通孔4aからの距離が異なる同心円上にそれぞれ等間隔に配設されている。金属構造体3の平面視での大きさは、てん輪体2の大きさにより任意に決めることができる。てん輪体2に設ける金属構造体3の数も任意であるが、てん輪4が片錘を起こさないようにするためにはバランスのよい配置がよく、そのためには金属構造体3の総数が偶数となるようにするのが好ましい。   A plurality of such metal structures 3 shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b) are provided on a concentric circle with different distances from the through holes 4 a of the fitting portion 2 a that is the center of the balance wheel body 2. Are arranged at equal intervals. The size of the metal structure 3 in plan view can be arbitrarily determined depending on the size of the balance wheel body 2. The number of metal structures 3 provided on the balance wheel body 2 is also arbitrary. However, in order to prevent the balance wheel 4 from causing a single spindle, a well-balanced arrangement is good. For this purpose, the total number of metal structures 3 is It is preferable to be an even number.

図1(a)及び図1(b)に示すように、平面視でてん輪体2の中心を通る仮想直線Lを規定したとき、この仮想直線Lによっててん輪体2の平面の領域を二分割したときに、分割された各々の領域にある金属構造体3の総重量が互いに等しくなるようにするとよい。   As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), when a virtual straight line L passing through the center of the balance wheel body 2 is defined in a plan view, the plane area of the balance wheel body 2 is divided into two areas by the virtual straight line L. When divided, the total weight of the metal structures 3 in each divided region may be equal to each other.

金属構造体3は、貫通孔4aからの距離が異なる同心円上に等間隔で配設されていなくてもよく、例えば、図1(a)の例では接続部2cの表面に、その長手方向に沿って設けるなどしてもよい。   The metal structures 3 do not have to be arranged at equal intervals on concentric circles having different distances from the through holes 4a. For example, in the example of FIG. You may provide along.

また、図1に示す例では、金属構造体3は平面視で円形であるが、多角形でもよいことは無論である。その際、仮想直線Lに対して対称にするなどすれば、バランスが崩れにくく好ましい。   In the example shown in FIG. 1, the metal structure 3 is circular in plan view, but may be polygonal. At this time, it is preferable to make the line symmetric with respect to the virtual straight line L so that the balance is not easily lost.

複数の金属構造体3は、それぞれ重量を変えてもよい。
例えば、体積を変えることで重量を変えるのである。その際は、例えば、下層金属膜3aや上層金属膜3bの膜厚を変えることでその高さを変え、体積を変えるのである。もちろん、平面視での大きさを変えることで体積を変えるようにしてもよい。
The plurality of metal structures 3 may vary in weight.
For example, changing the volume changes the weight. In that case, for example, by changing the film thickness of the lower metal film 3a and the upper metal film 3b, the height is changed and the volume is changed. Of course, the volume may be changed by changing the size in plan view.

また例えば、材質を変えることで重量を変えるのである。その際は、例えば、下層金属膜3aあるいは上層金属膜3b、又は両方の金属膜の材質を、金属構造体3の配置場所に応じて変えてもよい。例えば、貫通孔4aからの距離が遠い同心円上の金属構造体3は、近い金属構造体3に比べて、より比重の大きい金属を用いるのである。このようにすれば、より慣性モーメントを高めることができる。   For example, the weight is changed by changing the material. In that case, for example, the material of the lower metal film 3a or the upper metal film 3b or both of the metal films may be changed depending on the arrangement location of the metal structure 3. For example, the concentric metal structure 3 that is far from the through hole 4 a uses a metal having a higher specific gravity than the close metal structure 3. In this way, the moment of inertia can be further increased.

[時計用調速機の構成説明:図3]
ここで、説明したてん輪を有する調速機の構造について、図3を用いて説明する。
図3に示すように、時計用調速機1は、てん輪4と、てん輪4に嵌合するてん輪4の回転軸であるてん真5と、てん真5に組み合わされるひげぜんまい6とからなり、てん真5はてんぷ受7と地板8とに軸支されている。時計用調速機1は、図示しない脱進機からぜんまいのエネルギーを受けて規則正しい揺動運動をして、時計の歩度(一日の進み遅れの度合い)を一定に維持している。
[Description of the configuration of the time governor: FIG. 3]
Here, the structure of the governor having the described balance wheel will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 3, the time governor 1 for a timepiece includes a balance wheel 4, a balance spring 5 that is a rotating shaft of the balance wheel 4 fitted to the balance wheel 4, and a hairspring 6 combined with the balance spring 5. The balance stem 5 is pivotally supported by the balance 7 and the main plate 8. The time governor 1 for timepieces receives the energy of the mainspring from an escapement (not shown) and regularly swings to maintain the time rate of the timepiece (the degree of advance / delay of the day) constant.

図3に示す例では、てん輪4は、ひげぜんまい6と対向する方向とは反対の方向のてん輪体2の表面に金属構造体3を設けている。このような構成にすれば、ひげぜんまい6とてん輪4とのクリアランスを小さくすることができる。   In the example shown in FIG. 3, the balance wheel 4 is provided with the metal structure 3 on the surface of the balance wheel body 2 in the direction opposite to the direction facing the balance spring 6. With such a configuration, the clearance between the hairspring 6 and the balance wheel 4 can be reduced.

[てん輪の調整の説明:図1、図2、図3]
すでに説明したように、てん輪4は規則正しく往復回転運動を行う必要がある。てん輪体2はシリコン製半導体基板を加工してなるので、設計通りの形状に加工できるので形状の加工による調整は不要である。しかし、てん輪として調整が必要になる場合がある。
[Explanation of balance wheel adjustment: FIGS. 1, 2, and 3]
As already explained, the balance wheel 4 needs to reciprocally rotate in a regular manner. Since the balance wheel body 2 is formed by processing a silicon semiconductor substrate, it can be processed into a shape as designed, so that adjustment by processing the shape is unnecessary. However, it may be necessary to adjust the balance wheel.

例えば、てん輪体2に誤って金属構造体3が偏って配置されてしまった場合(金属構造体3を設置するときにずれてしまった場合)などに起因して、片錘が生じることがある。また、てん輪4を調速機として組み立てたとき、歩度の大きさに合わせ、慣性モーメントを調整する必要がある。   For example, when the metal structure 3 is mistakenly disposed on the balance wheel body 2 (when the metal structure 3 is displaced when the metal structure 3 is installed), a single weight may be generated. is there. Further, when the balance wheel 4 is assembled as a governor, it is necessary to adjust the moment of inertia according to the rate.

そのような場合でもてん輪が規則正しく往復回転運動を行えるように調整を行うことができる。その手法を以下に説明する。   Even in such a case, adjustment can be performed so that the balance wheel can regularly reciprocate. The method will be described below.

金属構造体3は、てん輪4に適正な慣性モーメントを付与するための錘の機能を果たしている。てん輪4の調整は、この金属構造体3を部分的に除去してなる。   The metal structure 3 functions as a weight for imparting an appropriate moment of inertia to the balance wheel 4. The balance wheel 4 is adjusted by partially removing the metal structure 3.

金属構造体3は、すでに説明したように、半導体装置のパッドに設ける接続電極と同様な形成技術により形成されている。例えば、マスクなどを用いて選択的に場所を決めて、金属膜を成膜するのである。金属構造体3の除去は、公知の接続電極の除去方法と同様に、固い金属などの棒状構造体(例えば、タングステン製のニードル)を側面方向から当てることで、てん輪体2から剥がすようにして行うことができる。   As already described, the metal structure 3 is formed by the same formation technique as the connection electrode provided on the pad of the semiconductor device. For example, the metal film is formed by selectively determining the location using a mask or the like. The metal structure 3 is removed from the balance wheel body 2 by applying a rod-like structure body (for example, a tungsten needle) made of hard metal or the like from the side surface in the same manner as the known connection electrode removal method. Can be done.

金属構造体3を構成する下層金属膜3aと上層金属膜3bとは密着しているが、これに抗って双方を引き剥がすこともできるので、下層金属膜3aのみを残すようにすることもできる。   The lower metal film 3a and the upper metal film 3b constituting the metal structure 3 are in close contact with each other, but both of them can be peeled against this, so that only the lower metal film 3a may be left. it can.

ところで、てん輪体2に設ける各々の金属構造体3の1個当たりの重量をどのくらいにするかは、予め実験やシミュレーションを行うことより求めることができる。
金属構造体3は、後述する調整作業により一部又は全部をてん輪体2から除去することができるので、予めそのことを見込んで、てん輪体2に設ける総数を決めておく。
By the way, how much the weight per each of the metal structures 3 provided on the balance wheel body 2 can be determined by conducting experiments and simulations in advance.
Since part or all of the metal structure 3 can be removed from the balance wheel body 2 by an adjustment operation to be described later, the total number provided in the balance wheel body 2 is determined in advance.

[片錘の調整]
てん輪4の片錘の調整を説明する。
まず、調整用の回転軸体又は図3に示す調速機を構成するてん真5を貫通孔4aに嵌合させる。
そして、回転軸体又はてん真5を水平に回転可能に保持した後に、てん輪4をゆっくり回転させて放置する。
すると、てん輪4に片錘が存在するとてん輪4は重い部分が最下点になった状態で停止するから、最下点に最も近いところにある金属構造体3を削除する。
その後、てん輪4の動きを確認して、てん輪4がどの位置にも停止するようになるまで、この作業を繰り返すことで、片錘は解消する。
[Adjustment of single spindle]
The adjustment of the single spindle of the balance wheel 4 will be described.
First, the balance 5 constituting the rotating shaft body for adjustment or the speed governor shown in FIG. 3 is fitted into the through hole 4a.
Then, after holding the rotary shaft body or the balance stem 5 to be horizontally rotatable, the balance wheel 4 is slowly rotated and left.
Then, if there is a single spindle on the balance wheel 4, the balance wheel 4 stops with the heavy part at the lowest point, so the metal structure 3 closest to the lowest point is deleted.
Thereafter, the movement of the balance wheel 4 is confirmed, and this operation is repeated until the balance wheel 4 stops at any position, thereby eliminating the single spindle.

[慣性モーメントの調整]
次に、てん輪4の慣性モーメントの調整作業を説明する。
まず、図3に示すようにてん輪4にひげぜんまい6を組み合わせて調速機を組み立てる。
実験的に時計の歩度を測定しながら、調整すべき歩度の大きさと、この大きさの歩度を調整するためにてん輪4から除去すべき金属構造体3の個数(即ち錘の重量)との関係を予め把握しておく。
なお、このとき、金属構造体3の1個当たりの重量をどのくらいにすべきかは、予め決めておく。
[Inertia moment adjustment]
Next, the adjustment work of the moment of inertia of the balance wheel 4 will be described.
First, a speed governor is assembled by combining the balance spring 6 with the balance wheel 4 as shown in FIG.
While experimentally measuring the rate of the watch, the magnitude of the rate to be adjusted and the number of metal structures 3 to be removed from the balance wheel 4 (ie the weight of the weight) to adjust the rate of this magnitude Know the relationship in advance.
At this time, the weight per metal structure 3 should be determined in advance.

そして、同じく調整すべき調速機を組み立て、歩度を測定して調整すべき歩度の大きさから、これに対応する除去すべき金属構造体3の数量(2n個:nは整数)が分かるから、複数の金属構造体3の中からどれかを選び、除去する。   Then, the speed governor to be adjusted is assembled, the rate of the rate to be adjusted by measuring the rate, and the number of metal structures 3 to be removed (2n: n is an integer) corresponding to this is known. Then, one of the plurality of metal structures 3 is selected and removed.

この際、例えば、図1に示す金属構造体3A、3A´というような、てん輪4の中心に対して対称の位置にある1対ずつの金属構造体3を選択しながら、目的の数量n個に達するまで、片錘の調整の場合と同様な方法によって除去する。つまり、バランスよく除去する。
このように、てん輪4の慣性モーメントの調整は、時計の歩度を合わせ込むことによって行う。
At this time, for example, while selecting a pair of metal structures 3 that are symmetrical with respect to the center of the balance wheel 4 such as the metal structures 3A and 3A ′ shown in FIG. It is removed by the same method as in the case of adjusting the single spindle until it reaches the individual. In other words, it is removed with a good balance.
In this way, the inertia moment of the balance wheel 4 is adjusted by adjusting the rate of the watch.

[第2の実施形態のてん輪の構造説明:図4、図5]
次に、第2の実施形態におけるてん輪の構造について、図4及び図5を用いて説明する。
図4(a)、図4(b)は図1と同様な方向から見たてん輪の平面図である。図5は図4(a)、図4(b)の仮想直線L(二点鎖線)で切断したときの断面図である。第2の実施形態の特徴は、金属構造体を構成する下層金属膜をより大きく形成し上層金属膜との形状が異なるという点である。
[Description of the structure of the balance wheel of the second embodiment: FIGS. 4 and 5]
Next, the structure of the balance wheel in the second embodiment will be described with reference to FIGS.
4 (a) and 4 (b) are plan views of the balance wheel viewed from the same direction as FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the imaginary straight line L (two-dot chain line) in FIGS. 4 (a) and 4 (b). A feature of the second embodiment is that the lower metal film constituting the metal structure is formed larger and the shape of the upper metal film is different.

図4(a)及び図5に示す例は、てん輪体12の一表面全体に、貫通孔14aを除き、金属構造体13を構成する下層金属膜13aを設けている。そして、この下層金属膜13aの上部であり、てん輪体12の外周部分に帯形状に上層金属膜13bを設けている。下層金属膜13aは、例えばクロムで構成し、上層金属膜13bは、例えば金で構成する。   In the example shown in FIGS. 4A and 5, a lower metal film 13 a constituting the metal structure 13 is provided on the entire surface of the balance wheel 12 except for the through holes 14 a. An upper metal film 13b is provided in a band shape on the outer periphery of the balance wheel body 12 above the lower metal film 13a. The lower metal film 13a is made of chromium, for example, and the upper metal film 13b is made of gold, for example.

図4(b)及び図5に示す例は、てん輪体12の一表面全体に下層金属膜13aを設け
ている点は同じであるが、その上部のてん輪体12の外周部分に設ける上層金属膜13bがリング形状である。この例も、下層金属膜13aは、例えばクロムで構成し、上層金属膜13bは、例えば金で構成する。
The example shown in FIGS. 4B and 5 is the same in that the lower layer metal film 13a is provided on the entire surface of the balance wheel body 12, but the upper layer provided on the outer peripheral portion of the balance wheel body 12 thereabove. The metal film 13b has a ring shape. Also in this example, the lower metal film 13a is made of, for example, chromium, and the upper metal film 13b is made of, for example, gold.

下層金属膜13aを構成するクロムの膜厚は、例えば、厚さ1μmであり、上層金属膜13bの金の膜厚は、例えば、厚さ300μmである。   The film thickness of chromium constituting the lower metal film 13a is, for example, 1 μm thick, and the gold film thickness of the upper metal film 13b is, for example, 300 μm thick.

このような構成とすれば、金属構造体13の重量をより重くすることができる。図4に示す例では、帯形状又はリング形状の上層金属膜13bを貫通孔14aに対して1つの同心円上に形成する場合を説明したが、異なる同心円状にさらに帯形状又はリング形状の上層金属膜13bを設けてもよい。   With such a configuration, the weight of the metal structure 13 can be increased. In the example shown in FIG. 4, the case where the band-shaped or ring-shaped upper layer metal film 13b is formed on one concentric circle with respect to the through hole 14a has been described. A film 13b may be provided.

この第2の実施形態における片錘や慣性モーメントの調整は、基本的には第1の実施形態と同様である。金属構造体13の除去も同様な手法で剥がし取ることができるが、下層金属膜13aがてん輪体12の表面全面にあるから、除去するのは上層金属膜13bとすると簡単でよい。   Adjustment of the half weight and the moment of inertia in the second embodiment is basically the same as in the first embodiment. The metal structure 13 can be removed by the same method. However, since the lower layer metal film 13a is on the entire surface of the balance ring body 12, the upper layer metal film 13b can be easily removed.

その場合、図4に示す例では、図4に示す金属構造体13B、13B´というような、てん輪14の中心に対して対称の位置にある1対ずつの金属構造体13を選択しながら、目的の数量に達するまで除去するとよい。
慣性モーメントの調整を例にすれば、時計の歩度を測定して除去すべき領域の重量mを求め、金属構造体13B、13B´をそれぞれm/2ずつ削り取るのである。
In that case, in the example shown in FIG. 4, while selecting a pair of metal structures 13 that are symmetrical with respect to the center of the balance wheel 14, such as the metal structures 13 </ b> B and 13 </ b> B ′ shown in FIG. 4. Remove until the desired quantity is reached.
Taking the adjustment of the moment of inertia as an example, the rate m of the watch is measured to determine the weight m of the area to be removed, and the metal structures 13B and 13B ′ are each scraped by m / 2.

なお、金属構造体13B、13B´は、図4にあっては説明しやすいように点線の円形で示したが、もちろん除去する分は円形に限定するものではない。矩形形状や帯形状に除去してもよい。   In FIG. 4, the metal structures 13B and 13B ′ are shown as dotted circles for ease of explanation, but of course, the amount to be removed is not limited to a circle. It may be removed in a rectangular shape or a band shape.

以上説明した第2の実施形態では、下層金属膜13aをてん輪体12の表面全体に一様に設ける例を示したが、これに限定はしない。部分的に下層金属膜13aを設けないようにしてもよいし、下層金属膜13aの膜厚を局所的に薄くしてもよいのである。そのような金属構造体13の形状は、てん輪14の大きさや重量などを鑑みて決めればよい。   In the second embodiment described above, the example in which the lower metal film 13a is uniformly provided on the entire surface of the balance wheel body 12 has been described, but the present invention is not limited to this. The lower metal film 13a may not be provided partially, or the lower metal film 13a may be locally thinned. The shape of the metal structure 13 may be determined in view of the size and weight of the balance wheel 14.

[第3の実施形態のてん輪の構造説明:図6]
次に、第3の実施形態におけるてん輪の構造について、図6を用いて説明する。
図6は図2や図5と同様な方向から見たてん輪の断面図であって、金属構造体部分を拡大した図である。
[Description of the structure of the balance wheel of the third embodiment: FIG. 6]
Next, the structure of the balance wheel in the third embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view of the balance wheel viewed from the same direction as in FIGS. 2 and 5 and is an enlarged view of the metal structure portion.

すでに説明した実施形態では、下層金属膜と上層金属膜とが同じ形状であったり、下層金属膜をてん輪体の表面全体に設ける例を示したが、第3の実施形態は、さらに異なる形状を説明する。図6に示すように、金属構造体23は、その除去の際に、固い金属などの棒状構造体が引っ掛かり易くする形状を有してもよいのである。   In the embodiment already described, the lower metal film and the upper metal film have the same shape, or an example in which the lower metal film is provided on the entire surface of the balance wheel, but the third embodiment has a different shape. Will be explained. As shown in FIG. 6, the metal structure 23 may have a shape that makes it easy for a rod-like structure such as a hard metal to be caught when the metal structure 23 is removed.

例えば、図6(a)に示すように、下層金属膜23aに対して上層金属膜23bを一回り大きく形成し、所謂マッシュルーム形状にしてもよい。このようにすれば、くびれ部分23cに棒状構造体が引っ掛かり、金属構造体23を除去しやすくなる。   For example, as shown in FIG. 6A, the upper metal film 23b may be formed to be slightly larger than the lower metal film 23a so as to have a so-called mushroom shape. If it does in this way, a rod-shaped structure will be caught in the constriction part 23c, and it will become easy to remove the metal structure 23. FIG.

また、図6(b)に示すように、金属構造体の上端面や側面に溝24を形成してもよいのである。このようにすれば、溝24に棒状構造体が引っ掛かり、金属構造体23を除去しやすくなる。   Further, as shown in FIG. 6B, a groove 24 may be formed on the upper end surface or side surface of the metal structure. If it does in this way, a rod-shaped structure will be caught in the groove | channel 24, and it will become easy to remove the metal structure 23. FIG.

以上説明した実施形態における金属構造体は、構成する下層金属膜及び上層金属膜の膜厚は、例示した数値に限定するものではないことは無論であるが、下層金属膜、上層金属膜は、説明に用いた例の他の材料も用いることができることは無論である。また、これら2つの金属膜を異なる金属膜の積層構造としてもよい。例えば、下層金属膜はチタンとタングステンの積層膜としてもよく、上層金属膜を金と白金(Pt)との積層膜としてもよいのである。   Of course, the thickness of the lower layer metal film and the upper layer metal film constituting the metal structure in the embodiment described above is not limited to the exemplified numerical values, but the lower layer metal film and the upper layer metal film are Of course, other materials from the examples used in the description can also be used. Further, these two metal films may have a laminated structure of different metal films. For example, the lower metal film may be a laminated film of titanium and tungsten, and the upper metal film may be a laminated film of gold and platinum (Pt).

また、以上説明した本発明の実施形態では、てん輪を調速機に載置したときに金属構造体がてん輪体の下面にくる例で説明したが、これをてん輪体の上面に向くようにしてもよい。その際は、ひげぜんまいとのクリアランスを規定通りにすることは無論である。   Further, in the embodiment of the present invention described above, the example in which the metal structure comes to the lower surface of the balance wheel body when the balance wheel is placed on the governor has been described, but this is directed to the upper surface of the balance wheel body. You may do it. In that case, it goes without saying that the clearance from the balance spring is made as specified.

また、金属構造体はてん輪体の両面に設けてもよいことは無論である。その際は、一方の面を図1に示すような構成とし、他方の面を図4に示すような構成としてもよい。調整のために金属構造体を除去する際に除去しやすいように考慮して、このように面ごとに配置の形態を変えてもよいことは無論である。このような場合も、てん輪の大きさや重量などを鑑みて決めればよい。   Of course, the metal structure may be provided on both sides of the balance wheel. In that case, one surface may be configured as shown in FIG. 1, and the other surface may be configured as shown in FIG. Of course, the arrangement form may be changed for each surface in consideration of easy removal when the metal structure is removed for adjustment. In such a case, it may be determined in view of the size and weight of the balance wheel.

この発明によれば、脆性材料であるシリコン製のてん輪を用いても片錘や慣性モーメントの調整ができるので、小型軽量の腕時計用の調速機として好適である。   According to the present invention, even if a silicon balance wheel, which is a brittle material, is used, the half weight and the moment of inertia can be adjusted. Therefore, it is suitable as a speed governor for a small and light wristwatch.

1 時計用調速機
2、12 てん輪体
2a 嵌合部
2b 外周部
2c 接続部
3、13、23 金属構造体
3a、13a、23a 下層金属膜(例えば、クロム)
3b、13b、23b 上層金属膜(例えば、金)
4、14 てん輪
4a、14a 貫通孔
5 てん真
6 ひげぜんまい
7 てんぷ受
8 地板
23c くびれ部分
24 溝
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Timepiece for timepieces 2, 12 Balance wheel body 2a Fitting part 2b Outer peripheral part 2c Connection part 3, 13, 23 Metal structure 3a, 13a, 23a Lower layer metal film (for example, chromium)
3b, 13b, 23b Upper metal film (for example, gold)
4, 14 Balance wheel 4a, 14a Through hole 5 Balance 6 Balance spring 7 Balance holder 8 Ground plate 23c Constricted portion 24 Groove

Claims (7)

時計用調速機を構成する、回転軸に嵌合して共働するてん輪であって、前記回転軸と嵌合する嵌合部と外周部とが一体となる、シリコンを主成分とする基板で形成し、前記回転軸の軸方向と直交する前記基板の平面に金属構造体を備え、前記金属構造体は、前記基板と密着する下層金属膜と該下層金属膜と密着すると共に異なる材質の上層金属膜とを積層してなることを特徴とするてん輪。   A balance wheel that fits and cooperates with a rotating shaft that constitutes a time governor for a watch, and has a fitting portion that fits on the rotating shaft and an outer peripheral portion, and is composed mainly of silicon. A metal structure is provided on a plane of the substrate that is formed of a substrate and is orthogonal to the axial direction of the rotation axis, and the metal structure is in close contact with the lower metal film and the lower metal film that are in close contact with the substrate, and different materials. A balance wheel characterized by being laminated with an upper metal film. 前記下層金属膜及び前記上層金属膜は、前記基板より比重の大きい金属で構成することを特徴とする請求項1に記載のてん輪。   The balance wheel according to claim 1, wherein the lower metal film and the upper metal film are made of a metal having a specific gravity greater than that of the substrate. 前記金属構造体は、バンプ形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載のてん輪。   The balance wheel according to claim 1, wherein the metal structure has a bump shape. 前記金属構造体は、帯形状であることを特徴とする請求項1又は2に記載のてん輪。   The balance wheel according to claim 1, wherein the metal structure has a band shape. 前記金属構造体は、前記回転軸を同心円とするリング形状であることを特徴とする請求項4に記載のてん輪。   The balance wheel according to claim 4, wherein the metal structure has a ring shape in which the rotation shaft is a concentric circle. 前記下層金属膜は、前記平面の表面全体に設けていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1つに記載のてん輪。   The balance wheel according to any one of claims 1 to 5, wherein the lower metal film is provided on the entire surface of the plane. 前記回転軸の中心を通る仮想直線を前記平面に並行して引き、前記平面の領域を分割したとき、分割された前記領域の前記金属構造体の重量が前記領域同士で同一であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1つに記載のてん輪。
When a virtual straight line passing through the center of the rotation axis is drawn in parallel to the plane, and the area of the plane is divided, the weight of the metal structure in the divided area is the same between the areas. The balance wheel according to any one of claims 1 to 6.
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