JP2015044794A - Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device - Google Patents

Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2015044794A
JP2015044794A JP2014153069A JP2014153069A JP2015044794A JP 2015044794 A JP2015044794 A JP 2015044794A JP 2014153069 A JP2014153069 A JP 2014153069A JP 2014153069 A JP2014153069 A JP 2014153069A JP 2015044794 A JP2015044794 A JP 2015044794A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal composition
electrode layer
film
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2014153069A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015044794A5 (en
Inventor
桃子 嘉藤
Momoko Kato
桃子 嘉藤
泰裕 新倉
Yasuhiro Niikura
泰裕 新倉
石谷 哲二
Tetsuji Ishitani
哲二 石谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority to JP2014153069A priority Critical patent/JP2015044794A/en
Publication of JP2015044794A publication Critical patent/JP2015044794A/en
Publication of JP2015044794A5 publication Critical patent/JP2015044794A5/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel organic compound that can be used in a variety of liquid crystal devices or a liquid crystal composition containing the novel organic compound.SOLUTION: An organic compound represented by General Formula (G1) is provided. A novel liquid crystal composition containing the organic compound is provided. In General Formula (G1), Arrepresents any of a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 4 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having 4 to 12 carbon atoms. In addition, m represents an integer of 1 or more and 3 or less. Rrepresents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 11 carbon atoms.

Description

本発明は、物、方法、または、製造方法に関する。または、本発明は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関する。また、本発明の一態様は、半導体装置、表示装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法に関する。特に、本発明の一態様は、新規有機化合物、該新規有機化合物を含む液晶組成物、液晶素子、及び液晶表示装置、並びにこれらの作製方法に関する。 The present invention relates to an object, a method, or a manufacturing method. Or this invention relates to a process, a machine, a manufacture, or a composition (composition of matter). One embodiment of the present invention relates to a semiconductor device, a display device, a driving method thereof, or a manufacturing method thereof. In particular, one embodiment of the present invention relates to a novel organic compound, a liquid crystal composition including the novel organic compound, a liquid crystal element, a liquid crystal display device, and methods for manufacturing these.

近年、液晶は多様なデバイスに応用されており、特に薄型、軽量の特徴を持つ液晶表示装置(液晶ディスプレイ)は幅広い分野のディスプレイにおいて用いられている。 In recent years, liquid crystals have been applied to various devices, and particularly liquid crystal display devices (liquid crystal displays) having thin and light features are used in displays in a wide range of fields.

動画解像度を向上させ、いわゆる動作ボケの少ない液晶表示装置を可能とするため、液晶の応答速度の高速化が求められており、開発が進められている(例えば、特許文献1参照)。 In order to improve the resolution of moving images and enable a liquid crystal display device with less so-called motion blur, an increase in response speed of liquid crystal is required and development is underway (see, for example, Patent Document 1).

高速応答可能な液晶の表示モードとして、ブルー相を発現する液晶を用いる表示モードが挙げられる。ブルー相を発現する液晶を使用するモードは、高速応答が図れるうえ、配向膜が不要であり、且つ広視野角化が可能であるため、実用化に向けてより研究がおこなわれている(例えば、特許文献2参照)。 As a liquid crystal display mode capable of high-speed response, a display mode using a liquid crystal exhibiting a blue phase is given. In the mode using a liquid crystal that develops a blue phase, a high-speed response is achieved, an alignment film is unnecessary, and a wide viewing angle can be obtained. , See Patent Document 2).

特開2008−303381号公報JP 2008-303381 A 国際公開第2005−090520号International Publication No. 2005-090520

そこで、本発明の一態様は、多様な液晶デバイスに用いることができる新規有機化合物を提供することを課題の一とする。 Thus, an object of one embodiment of the present invention is to provide a novel organic compound that can be used for a variety of liquid crystal devices.

または、該新規有機化合物を含む液晶組成物を提供することを課題の一とする。または、該新規有機化合物を含み、ブルー相を発現可能な液晶組成物を提供することを課題の一とする。 Another object is to provide a liquid crystal composition including the novel organic compound. Another object is to provide a liquid crystal composition including the novel organic compound and capable of developing a blue phase.

または、該新規有機化合物を含む液晶組成物を用いた液晶素子を提供することを課題の一とする。 Another object is to provide a liquid crystal element using a liquid crystal composition including the novel organic compound.

または、該新規有機化合物を含む液晶組成物を用いた液晶表示装置を提供することを課題の一とする。または、該新規有機化合物を含む液晶組成物を用い、コントラストの高い液晶表示装置を提供することを課題の一とする。 Another object is to provide a liquid crystal display device using a liquid crystal composition including the novel organic compound. Another object is to provide a liquid crystal display device with high contrast by using a liquid crystal composition including the novel organic compound.

なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。本発明の一態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。また、上記以外の課題は、明細書等の記載から自ずと明らかになるものであり、明細書等の記載から上記以外の課題を抽出することが可能である。 Note that the description of these problems does not disturb the existence of other problems. In one embodiment of the present invention, it is not necessary to solve all of these problems. Problems other than those described above are naturally clarified from the description of the specification and the like, and problems other than the above can be extracted from the description of the specification and the like.

本発明の一態様は、下記一般式(G1)で表される有機化合物である。 One embodiment of the present invention is an organic compound represented by General Formula (G1) below.

一般式(G1)において、Arは置換若しくは無置換の炭素数6乃至12のアリール基、置換若しくは無置換の炭素数3乃至12のシクロアルキル基、又は、置換若しくは無置換の炭素数3乃至12のシクロアルケニル基のいずれかを表す。また、mは1以上3以下の整数である。また、Rは置換又は無置換の炭素数1乃至11のアルキレン基を表す。 In General Formula (G1), Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon group having 3 to 12 carbon atoms. Represents any of the 12 cycloalkenyl groups. M is an integer of 1 to 3. R 1 represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 11 carbon atoms.

また、本発明の他の一態様は、上記一般式(G1)で表される有機化合物を含有する液晶組成物である。 Another embodiment of the present invention is a liquid crystal composition including the organic compound represented by the general formula (G1).

また、本発明の一態様は、上記一般式(G1)で表される有機化合物及びカイラル剤を含有し、ブルー相を発現する液晶組成物である。なお、ブルー相は、捩れ力の強い液晶組成物で発現し、二重捩れ構造を有する。また、ブルー相を発現可能な液晶組成物は、条件によりコレステリック相、コレステリックブルー相、等方相等を示す。 Another embodiment of the present invention is a liquid crystal composition that includes the organic compound represented by the above general formula (G1) and a chiral agent and exhibits a blue phase. Note that the blue phase is expressed in a liquid crystal composition having a strong twisting power and has a double twisted structure. A liquid crystal composition capable of developing a blue phase exhibits a cholesteric phase, a cholesteric blue phase, an isotropic phase, or the like depending on conditions.

また、本発明の一態様は、上記液晶組成物としてブルー相を発現し、且つ反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下である液晶組成物である。 Another embodiment of the present invention is a liquid crystal composition that expresses a blue phase as the liquid crystal composition and has a diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in a reflection spectrum of 500 nm or less.

回折波長はブルー相を発現する温度にて液晶組成物の反射スペクトルを測定し、回折波長が短波長にあるほど、ブルー相の結晶格子が小さく、捩れ力が強い液晶組成物ということを意味する。液晶組成物の捩れ力が強いと、電圧無印加時(印加電圧が0Vのとき)における液晶組成物の透過率を低く抑えることができるため該液晶組成物を用いた液晶表示装置の高コントラスト化が可能となる。 The diffraction wavelength means that the reflection spectrum of the liquid crystal composition is measured at a temperature at which the blue phase is developed, and the shorter the diffraction wavelength, the smaller the blue phase crystal lattice and the stronger the twisting power. . When the twisting force of the liquid crystal composition is strong, the transmittance of the liquid crystal composition can be kept low when no voltage is applied (when the applied voltage is 0 V), so that the liquid crystal display device using the liquid crystal composition has high contrast. Is possible.

なお、液晶組成物の捩れ力の強さの指標としては、螺旋ピッチ、選択反射波長、HTP(Helical Twisting Power)、回折波長が挙げられるが、このうち螺旋ピッチ、選択反射波長、HTPはコレステリック相での評価となる。一方、回折波長はブルー相でのみ評価可能であるため、ブルー相の捩れ力の評価に有効である。 In addition, as an index of the strength of the twisting force of the liquid crystal composition, there are a helical pitch, a selective reflection wavelength, HTP (Helical Twisting Power), and a diffraction wavelength. Of these, the helical pitch, the selective reflection wavelength, and HTP are cholesteric phases. It becomes evaluation in. On the other hand, since the diffraction wavelength can be evaluated only in the blue phase, it is effective for evaluating the twisting force of the blue phase.

また、本発明の他の一態様は、上記液晶組成物を用いる液晶素子である。 Another embodiment of the present invention is a liquid crystal element using the above liquid crystal composition.

また、本発明の他の一態様は、上記液晶組成物を用いる液晶表示装置である。なお、該液晶表示装置は、有機樹脂を含んでいてもよい。 Another embodiment of the present invention is a liquid crystal display device using the above liquid crystal composition. The liquid crystal display device may contain an organic resin.

本発明の一態様により、液晶デバイスに適用可能な新規有機化合物を提供することができる。 According to one embodiment of the present invention, a novel organic compound applicable to a liquid crystal device can be provided.

または、本発明の一態様により、新規有機化合物を含む液晶組成物を提供することができる。または、本発明の一態様により、新規有機化合物を含み、ブルー相を発現可能な液晶組成物を提供することができる。 Alternatively, according to one embodiment of the present invention, a liquid crystal composition including a novel organic compound can be provided. Alternatively, according to one embodiment of the present invention, a liquid crystal composition including a novel organic compound and capable of developing a blue phase can be provided.

または、該新規有機化合物を含む液晶組成物を用いた液晶素子を提供することができる。 Alternatively, a liquid crystal element using a liquid crystal composition including the novel organic compound can be provided.

または、該新規有機化合物を含む液晶組成物を用いた液晶表示装置を提供することができる。または、該新規有機化合物を含む液晶組成物を用い、コントラストの高い液晶表示装置を提供することができる。 Alternatively, a liquid crystal display device using a liquid crystal composition including the novel organic compound can be provided. Alternatively, a liquid crystal display device with high contrast can be provided by using a liquid crystal composition including the novel organic compound.

液晶素子及び液晶表示装置の一態様を説明する図。4A and 4B illustrate one embodiment of a liquid crystal element and a liquid crystal display device. 液晶表示装置の一態様を説明する図。8A and 8B illustrate one embodiment of a liquid crystal display device. 液晶表示装置の電極構成の一態様を説明する図。3A and 3B each illustrate one embodiment of an electrode structure of a liquid crystal display device. 液晶表示モジュールを説明する図。FIG. 6 illustrates a liquid crystal display module. 電子機器を説明する図。10A and 10B each illustrate an electronic device. BM−3−EPPFFFのH NMRチャート図。 1 H NMR chart of BM-3-EPPFFF. BM−5−EPPFFFのH NMRチャート図。 1 H NMR chart of BM-5-EPPFFF. 実施例で作製した液晶素子の波長と反射光強度の関係を説明する図。6A and 6B illustrate a relationship between a wavelength of a liquid crystal element manufactured in an example and reflected light intensity.

以下に、開示する発明の実施の形態及び実施例について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本明細書に開示する発明は、以下の説明に限定されず、その形態及び詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。また、本明細書に開示する発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する構成において、同一部分又は同様の機能を有する部分については同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。 Hereinafter, embodiments and examples of the disclosed invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the invention disclosed in this specification is not limited to the following description, and it is easily understood by those skilled in the art that modes and details can be variously changed. Further, the invention disclosed in this specification is not construed as being limited to the description of the embodiments below. Note that in the structures described below, the same portions or portions having similar functions are denoted by the same reference numerals in different drawings, and description thereof is not repeated.

また、本明細書等において、液晶表示装置とは、画像表示デバイス、表示デバイス、若しくは光源(照明装置を含む)を指す。また、コネクター、例えばFPC(Flexible printed circuit)又はTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または表示素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも全て液晶表示装置に含むものとする。また、本明細書等における液晶表示装置としては、液晶特性を利用した電子機器を全て含むものとし、例えば、表示機能を有していない液晶電気光学装置もその範疇に含むものとする。 In this specification and the like, a liquid crystal display device refers to an image display device, a display device, or a light source (including a lighting device). In addition, a connector, for example, a module in which an FPC (Flexible printed circuit) or TCP (Tape Carrier Package) is attached, a module in which a printed wiring board is provided at the end of TCP, or a display element is formed by a COG (Chip On Glass) method. All modules on which (integrated circuit) is directly mounted are also included in the liquid crystal display device. The liquid crystal display device in this specification and the like includes all electronic devices using liquid crystal characteristics, and includes, for example, a liquid crystal electro-optical device having no display function.

なお、以下において、「第1」、「第2」等として付される序数詞は、便宜上用いるものであり、工程順又は積層順を示すものではない。そのため、例えば、「第1の」を「第2の」又は「第3の」などと適宜置き換えて説明することができる。また、本明細書等に記載されている序数詞と、本発明の一態様を特定するために用いられる序数詞は一致しない場合がある。 In the following, the ordinal numbers given as “first”, “second”, etc. are used for convenience and do not indicate the order of steps or the order of lamination. Therefore, for example, the description can be made by appropriately replacing “first” with “second” or “third”. In addition, the ordinal numbers described in this specification and the like may not match the ordinal numbers used to specify one embodiment of the present invention.

なお、本明細書において、反射スペクトルにおける回折波長のピークとは、最も長波長側のピークの最大値(ピークの頂点における値)を指す。よって、反射スペクトルに複数のピークを有する場合は最も長波長側に出現するピークの最大値を回折波長のピークとし、肩(ショルダー)を有する(段差や小さなピークを有する)ピークであっても該ピークの最大値を回折波長のピークとする。 In the present specification, the peak of the diffraction wavelength in the reflection spectrum refers to the maximum value of the peak on the longest wavelength side (value at the peak apex). Therefore, when there are a plurality of peaks in the reflection spectrum, the maximum value of the peak appearing on the longest wavelength side is the peak of the diffraction wavelength, and even a peak having a shoulder (having a step or a small peak) The maximum value of the peak is taken as the peak of the diffraction wavelength.

(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様に係る新規有機化合物について説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, a novel organic compound according to one embodiment of the present invention will be described.

本発明の一態様に係る新規有機化合物は、下記一般式(G1)で表される有機化合物である。 The novel organic compound according to one embodiment of the present invention is an organic compound represented by General Formula (G1) below.

一般式(G1)中、Arは置換若しくは無置換の炭素数6乃至12のアリール基、置換若しくは無置換の炭素数4乃至12のシクロアルキル基、又は、置換若しくは無置換の炭素数3乃至12のシクロアルケニル基のいずれかを表す。また、mは1以上3以下の整数である。また、Rは置換又は無置換の炭素数1乃至11のアルキレン基を表す。 In General Formula (G1), Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 4 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon atom having 3 to 3 carbon atoms. Represents any of the 12 cycloalkenyl groups. M is an integer of 1 to 3. R 1 represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 11 carbon atoms.

一般式(G1)において、Ar又はRに結合可能な置換基としては、例えば、フッ素(F)、臭素(Br)、塩素(Cl)、ヨウ素(I)、シアノ基(CN)、トリフルオロメチル基(CF)、トリフルオロメチルスルホニル基(SOCF)、ニトロ基(NO)、イソチオシアネート基(NCS)、チオシアネート基(SCN)、及びペンタフルオロスルファニル基(SF)等の電子吸引性の置換基が挙げられる。 In the general formula (G1), examples of the substituent that can be bonded to Ar 1 or R 1 include fluorine (F), bromine (Br), chlorine (Cl), iodine (I), cyano group (CN), Fluoromethyl group (CF 3 ), trifluoromethylsulfonyl group (SO 2 CF 3 ), nitro group (NO 2 ), isothiocyanate group (NCS), thiocyanate group (SCN), pentafluorosulfanyl group (SF 5 ), etc. And an electron-withdrawing substituent.

一般式(G1)で表される有機化合物の具体例としては、構造式(100)〜構造式(109)で表される構造を挙げることができる。ただし、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the organic compound represented by General Formula (G1) include structures represented by Structural Formula (100) to Structural Formula (109). However, the present invention is not limited to these.

本実施の形態の一般式(G1)で表される有機化合物の合成方法としては、種々の反応の適用が可能である。 As a method for synthesizing the organic compound represented by the general formula (G1) in this embodiment, various reactions can be applied.

例えば、下記合成スキーム(A−1)によって、一般式(G1)に係る有機化合物を合成することができる。 For example, the organic compound according to General Formula (G1) can be synthesized by the following synthesis scheme (A-1).

合成スキーム(A−1)に示すように、アルカンジカルボン酸(化合物1)とヒドロキシアリール誘導体(化合物2)とのエステル化反応を行うことにより、本発明の一態様の一般式(G1)で表される有機化合物を合成することができる。 As shown in the synthesis scheme (A-1), an esterification reaction between an alkanedicarboxylic acid (compound 1) and a hydroxyaryl derivative (compound 2) is performed, and the compound is represented by the general formula (G1) of one embodiment of the present invention. Organic compounds can be synthesized.

エステル化反応としては、酸触媒を用いた脱水縮合によるエステル化反応(付加脱離反応)が挙げられる。脱水縮合反応を行う場合、濃硫酸やパラ−トルエンスルホン酸等の酸触媒や、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸塩(略称:EDC)や、ジシクロヘキシルカルボジイミド(略称:DCC)を用いることができる。 Examples of the esterification reaction include an esterification reaction (addition / elimination reaction) by dehydration condensation using an acid catalyst. When the dehydration condensation reaction is performed, an acid catalyst such as concentrated sulfuric acid or para-toluenesulfonic acid, 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide / hydrochloride (abbreviation: EDC), dicyclohexylcarbodiimide (abbreviation: DCC) can be used.

合成スキーム(A−1)中、Arは置換若しくは無置換の炭素数6乃至12のアリール基、置換若しくは無置換の炭素数3乃至12のシクロアルキル基、又は、置換若しくは無置換の炭素数3乃至12のシクロアルケニル基のいずれかを表す。また、mは1以上3以下の整数である。また、Rは置換又は無置換の炭素数1乃至11のアルキレン基を表す。 In Synthesis Scheme (A-1), Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon number. It represents any of 3 to 12 cycloalkenyl groups. M is an integer of 1 to 3. R 1 represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 11 carbon atoms.

以上によって得られる本実施の形態の一般式(G1)で表される有機化合物は、液晶組成物の材料として適用することが可能である。 The organic compound represented by the general formula (G1) in this embodiment obtained as described above can be used as a material for a liquid crystal composition.

本発明の一態様の液晶組成物は、一般式(G1)で表される有機化合物に加えてカイラル剤を含有してなるものである。また、一般式(G1)で表される有機化合物に加えて、他の液晶性化合物、及び/又は非液晶性化合物を含有してもよい。 The liquid crystal composition of one embodiment of the present invention includes a chiral agent in addition to the organic compound represented by the general formula (G1). Further, in addition to the organic compound represented by the general formula (G1), other liquid crystalline compounds and / or non-liquid crystalline compounds may be contained.

また、本発明の一態様の液晶組成物は、一般式(G1)で表される有機化合物に加えてカイラル剤を含有してなり、ブルー相を発現するものである。 In addition, the liquid crystal composition of one embodiment of the present invention contains a chiral agent in addition to the organic compound represented by the general formula (G1), and exhibits a blue phase.

カイラル剤は、液晶組成物の捩れを誘起し、液晶組成物を螺旋構造に配向させブルー相を発現させるために用いる。カイラル剤は、不斉中心を有する化合物であり、液晶組成物に対する相溶性が良く、かつ捩れ力の強い化合物を用いる。また、カイラル剤は光学活性体であり、光学純度が高いほど好ましく99%以上が最も好ましい。 The chiral agent is used to induce twist of the liquid crystal composition, to align the liquid crystal composition in a spiral structure and to develop a blue phase. The chiral agent is a compound having an asymmetric center, and a compound having a good compatibility with the liquid crystal composition and a strong twisting power is used. Further, the chiral agent is an optically active substance, and the higher the optical purity, the more preferable it is 99% or more.

一般式(G1)で表される有機化合物を含有する液晶組成物は、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下と短波長にすることが可能であり、捩れ力が強い。したがって、添加するカイラル剤の量を低減することができる。 The liquid crystal composition containing the organic compound represented by the general formula (G1) can have a diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in the reflection spectrum as short as 500 nm or less, and has a strong twisting power. Therefore, the amount of the chiral agent to be added can be reduced.

以上、本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。 As described above, this embodiment can be implemented in appropriate combination with the structures described in the other embodiments.

(実施の形態2)
本実施の形態では、実施の形態1で示した一般式(G1)で表される有機化合物、又は該有機化合物を含有する液晶組成物を適用した液晶素子及び液晶表示装置について、図面を参照して説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, a liquid crystal element and a liquid crystal display device to which the organic compound represented by the general formula (G1) described in Embodiment 1 or a liquid crystal composition containing the organic compound is applied are described with reference to drawings. I will explain.

本発明の一態様に係る液晶組成物は、実施の形態1で示した一般式(G1)で表される有機化合物及びカイラル剤を含み、ブルー相を発現する液晶組成物である。 The liquid crystal composition according to one embodiment of the present invention includes the organic compound represented by the general formula (G1) described in Embodiment 1 and a chiral agent, and develops a blue phase.

上記液晶組成物は反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下であり、捩れ力が強い液晶組成物である。液晶組成物の捩れ力が強いと、電圧無印加時(印加電圧が0V時)における液晶組成物の透過率を低く抑えることができるため、該液晶組成物を用いた液晶表示装置の高コントラスト化が可能となる。 The liquid crystal composition is a liquid crystal composition having a strong twisting power with a diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in the reflection spectrum being 500 nm or less. When the twisting force of the liquid crystal composition is strong, the transmittance of the liquid crystal composition when no voltage is applied (when the applied voltage is 0 V) can be kept low, so that the liquid crystal display device using the liquid crystal composition has high contrast. Is possible.

本実施の形態に係る液晶組成物は、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下と短波長であり、捩れ力が強いため、添加するカイラル剤の量を低減することができる。例えば、カイラル剤が上記液晶組成物中に含まれる割合を10wt%以下とすればよい。液晶組成物の捩れ力を向上させるためにカイラル剤を多量に添加すると、液晶組成物を駆動するための駆動電圧が上昇してしまう。添加するカイラル剤の量が低減できると、駆動電圧を低く抑えることができるため、低消費電力化が可能となる。 In the liquid crystal composition according to this embodiment, the peak of the diffraction wavelength on the longest wavelength side in the reflection spectrum is as short as 500 nm or less, and the twisting power is strong, so that the amount of the chiral agent to be added can be reduced. . For example, the ratio of the chiral agent contained in the liquid crystal composition may be 10 wt% or less. When a large amount of chiral agent is added to improve the twisting power of the liquid crystal composition, the driving voltage for driving the liquid crystal composition is increased. If the amount of the chiral agent to be added can be reduced, the driving voltage can be kept low, so that power consumption can be reduced.

本発明の一態様に係る液晶素子及び液晶表示装置の例を図1に示す。 Examples of a liquid crystal element and a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention are illustrated in FIGS.

図1は、第1の基板200と第2の基板201とが、ブルー相を発現する液晶組成物を用いた液晶組成物208を間に挟持して対向するように配置された液晶表示装置である。第1の基板200と液晶組成物208との間には画素電極層230と、共通電極層232が隣接して設けられている。 FIG. 1 shows a liquid crystal display device in which a first substrate 200 and a second substrate 201 are arranged so as to face each other with a liquid crystal composition 208 using a liquid crystal composition expressing a blue phase interposed therebetween. is there. A pixel electrode layer 230 and a common electrode layer 232 are provided adjacent to each other between the first substrate 200 and the liquid crystal composition 208.

ブルー相を発現する液晶組成物を用いた液晶表示装置において、基板に概略平行(すなわち水平な方向)な電界を生じさせて、基板と平行な面内で液晶分子を動かして、階調を制御する方式を用いることができる。 In a liquid crystal display device using a liquid crystal composition that develops a blue phase, an electric field that is roughly parallel to the substrate (that is, a horizontal direction) is generated, and liquid crystal molecules are moved in a plane parallel to the substrate to control gradation. Can be used.

なお、本明細書等において、液晶素子とは、液晶の光学的変調作用により光の透過または非透過を制御する素子であり、一対の電極層及びその間に挟持された液晶組成物を少なくとも含んで構成される。本実施の形態において液晶素子は、少なくとも一対の電極層(電位の異なる画素電極層230及び共通電極層232)の間に、一般式(G1)で表される有機化合物及びカイラル剤を含有し、ブルー相を発現可能な液晶組成物208を有する。ブルー相は光学的に等方であるため視野角依存性がなく、配向膜を形成しなくとも良いため、表示画像の質の向上及びコスト削減が可能である。 Note that in this specification and the like, a liquid crystal element is an element that controls transmission or non-transmission of light by an optical modulation action of liquid crystal, and includes at least a pair of electrode layers and a liquid crystal composition sandwiched therebetween. Composed. In this embodiment, the liquid crystal element includes an organic compound and a chiral agent represented by the general formula (G1) between at least a pair of electrode layers (the pixel electrode layer 230 and the common electrode layer 232 having different potentials), A liquid crystal composition 208 capable of exhibiting a blue phase is included. Since the blue phase is optically isotropic, it does not depend on the viewing angle, and it is not necessary to form an alignment film, so that the quality of the display image can be improved and the cost can be reduced.

液晶組成物208の厚さ(膜厚)の最大値は1μm以上20μm以下とすることが好ましい。 The maximum value of the thickness (film thickness) of the liquid crystal composition 208 is preferably 1 μm or more and 20 μm or less.

液晶組成物208を形成する方法として、ディスペンサ法(滴下法)や、第1の基板200と第2の基板201とを貼り合わせてから毛細管現象等を用いて液晶を注入する注入法を用いることができる。 As a method for forming the liquid crystal composition 208, a dispenser method (a dropping method) or an injection method in which liquid crystal is injected using a capillary phenomenon after the first substrate 200 and the second substrate 201 are bonded to each other is used. Can do.

なお、液晶表示装置において、ブルー相の発現する温度範囲を広くするために、液晶組成物に、重合性モノマーを添加し、高分子安定化処理を行うことが好ましい。重合性モノマーとしては、ビニルモノマーのみならず、例えば、熱により重合が進行する熱重合性(熱硬化性)オリゴマー、光により重合が進行する光重合性(光硬化性)オリゴマーなどを用いることができる。 In the liquid crystal display device, it is preferable to add a polymerizable monomer to the liquid crystal composition and perform polymer stabilization treatment in order to widen the temperature range in which the blue phase appears. As the polymerizable monomer, not only a vinyl monomer but also, for example, a thermopolymerizable (thermosetting) oligomer that undergoes polymerization by heat, a photopolymerizable (photocurable) oligomer that undergoes polymerization by light, or the like is used. it can.

重合性ビニルモノマーは、アクリレート、メタクリレートなどの単官能モノマーでもよく、ジアクリレート、トリアクリレート、ジメタクリレート、トリメタクリレートなどの多官能モノマーでもよく、これらを混合させたものでもよい。また、液晶性のものでも非液晶性のものでもよく、両者を混合させてもよい。 The polymerizable vinyl monomer may be a monofunctional monomer such as acrylate or methacrylate, may be a polyfunctional monomer such as diacrylate, triacrylate, dimethacrylate, or trimethacrylate, or may be a mixture of these. Further, it may be liquid crystalline or non-liquid crystalline, and both may be mixed.

高分子安定化の際、液晶組成物へ重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤は、光照射あるいは加熱によってラジカルを発生させるラジカル重合開始剤でもよく、酸を発生させる酸発生剤でもよく、塩基を発生させる塩基発生剤でもよい。 When the polymer is stabilized, a polymerization initiator may be added to the liquid crystal composition. The polymerization initiator may be a radical polymerization initiator that generates radicals by light irradiation or heating, an acid generator that generates acid, or a base generator that generates a base.

例えば、液晶組成物に、重合性モノマー、及び光重合開始剤を添加し、光を照射して高分子安定化処理を行うことができる。 For example, a polymeric monomer and a photopolymerization initiator can be added to the liquid crystal composition, and polymer stabilization treatment can be performed by irradiating light.

高分子安定化処理は、等方相を示す状態で行ってもよいし、温度制御してブルー相を発現した状態で行ってもよい。なお、昇温時にブルー相から等方相に転移する温度又は降温時に等方相からブルー相に相転移する温度をブルー相と等方相間の相転移温度という。高分子安定化処理の一例としては、光重合性モノマーを添加した液晶組成物を等方相まで加熱した後、徐々に降温させてブルー相にまで相転移させ、ブルー相が発現する温度を保持した状態で光を照射して行うことができる。 The polymer stabilization treatment may be performed in a state showing an isotropic phase, or may be performed in a state where a temperature is controlled and a blue phase is developed. The temperature at which the blue phase is changed to the isotropic phase when the temperature is raised or the temperature at which the isotropic phase is changed to the blue phase when the temperature is lowered is called a phase transition temperature between the blue phase and the isotropic phase. As an example of polymer stabilization treatment, after heating the liquid crystal composition to which the photopolymerizable monomer has been added to the isotropic phase, the temperature is gradually lowered to the blue phase to maintain the temperature at which the blue phase appears. In this state, light irradiation can be performed.

高分子安定化処理後の液晶組成物208は、ポリマーを含有する。換言すると、本発明の一態様に係る液晶組成物には、有機樹脂が含まれてもよい。 The liquid crystal composition 208 after the polymer stabilization treatment contains a polymer. In other words, the liquid crystal composition according to one embodiment of the present invention may include an organic resin.

画素電極層230と共通電極層232との間に電界を形成することで、液晶を制御する。液晶には水平方向の電界が形成されるため、その電界を用いて液晶分子を制御できる。 A liquid crystal is controlled by forming an electric field between the pixel electrode layer 230 and the common electrode layer 232. Since a horizontal electric field is formed in the liquid crystal, the liquid crystal molecules can be controlled using the electric field.

本実施の形態で示す上記液晶組成物は反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下であり、捩れ力が強い液晶組成物である。液晶組成物の捩れ力が強いと、電圧無印加時(印加電圧が0V時)における液晶組成物の透過率を低く抑えることができるため、該液晶組成物を用いた液晶表示装置は高コントラストとすることができる。高いコントラスト化により、視認性のよい高画質な液晶表示装置を提供することができる。 The liquid crystal composition described in this embodiment is a liquid crystal composition having a diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in a reflection spectrum of 500 nm or less and a strong twisting power. If the twisting force of the liquid crystal composition is strong, the transmittance of the liquid crystal composition when no voltage is applied (when the applied voltage is 0 V) can be kept low. Therefore, a liquid crystal display device using the liquid crystal composition has high contrast and can do. With high contrast, a high-quality liquid crystal display device with high visibility can be provided.

また、ブルー相を発現する液晶組成物は、高速応答が可能であるため、液晶表示装置の高性能化が可能になる。 In addition, since the liquid crystal composition exhibiting a blue phase can respond at high speed, the performance of the liquid crystal display device can be improved.

例えば、高速応答が可能であるため、バックライト装置にRGBの発光ダイオード(LED)等を配置し、時分割によりカラー表示する継時加法混色法(フィールドシーケンシャル法)や、時分割により左目用の映像と右目用の映像を交互に見るシャッター眼鏡方式による3次元表示方式に好適に採用できる。 For example, since a high-speed response is possible, an RGB light emitting diode (LED) or the like is arranged in the backlight device, and a continuous additive color mixing method (field sequential method) in which color display is performed by time division, or for left eye by time division. The present invention can be suitably applied to a three-dimensional display method using a shutter glasses method in which images and right-eye images are alternately viewed.

また、図1では図示しないが、偏光板、位相差板、反射防止膜などの光学フィルムなどは適宜設ける。例えば、偏光板及び位相差板による円偏光を用いてもよい。また、光源としてバックライトなどを用いることができる。 Although not shown in FIG. 1, an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, and an antireflection film is provided as appropriate. For example, circularly polarized light using a polarizing plate and a retardation plate may be used. Further, a backlight or the like can be used as the light source.

本明細書では、半導体素子(例えばトランジスタ)、画素電極層、及び共通電極層が形成されている基板を素子基板(第1の基板)といい、該素子基板と液晶組成物を介して対向する基板を対向基板(第2の基板)という。 In this specification, a substrate on which a semiconductor element (eg, a transistor), a pixel electrode layer, and a common electrode layer are formed is referred to as an element substrate (first substrate), and faces the element substrate with a liquid crystal composition interposed therebetween. The substrate is referred to as a counter substrate (second substrate).

本明細書に開示するブルー相を発現する液晶組成物を液晶表示装置に用いて、光源の光を透過することによって表示を行う透過型の液晶表示装置、入射する光を反射することによって表示を行う反射型の液晶表示装置、又は透過型と反射型を両方有する半透過型の液晶表示装置を提供することができる。 A transmissive liquid crystal display device that performs display by transmitting light from a light source using a liquid crystal composition that expresses a blue phase disclosed in this specification for a liquid crystal display device, and displays by reflecting incident light. A reflective liquid crystal display device or a transflective liquid crystal display device having both a transmissive type and a reflective type can be provided.

透過型の液晶表示装置の場合、光が透過する画素領域に存在する第1の基板、第2の基板、その他の絶縁膜、導電膜などは可視光の波長領域の光に対して透光性とする。画素電極層、共通電極層においては透光性が好ましいが、開口パターンを有する場合は形状によっては金属膜などの非透光性材料を用いてもよい。 In the case of a transmissive liquid crystal display device, the first substrate, the second substrate, other insulating films, conductive films, and the like that exist in a pixel region through which light is transmitted are transparent to light in the visible wavelength region. And The pixel electrode layer and the common electrode layer are preferably translucent. However, in the case of having an opening pattern, a non-translucent material such as a metal film may be used depending on the shape.

一方反射型の液晶表示装置の場合、液晶組成物に対して視認側と反対側には液晶組成物を透過した光を反射する反射性の部材(反射性を有する膜や基板など)を設ければよい。なお、本明細書で透光性とは少なくとも可視光の波長領域の光を透過する性質をいう。 On the other hand, in the case of a reflective liquid crystal display device, a reflective member (such as a reflective film or substrate) that reflects light transmitted through the liquid crystal composition is provided on the side opposite to the viewing side with respect to the liquid crystal composition. That's fine. In this specification, translucency refers to a property of transmitting at least light in the visible wavelength region.

画素電極層230、共通電極層232は、インジウム錫酸化物、酸化インジウムに酸化亜鉛(ZnO)を混合した導電材料、酸化インジウムに酸化シリコン(SiO)を混合した導電材料、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、グラフェン、またはタングステン(W)、モリブデン(Mo)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)等の金属、又はその合金、若しくはその金属窒化物から一つ、又は複数種を用いて形成することができる。 The pixel electrode layer 230 and the common electrode layer 232 include indium tin oxide, a conductive material in which zinc oxide (ZnO) is mixed in indium oxide, a conductive material in which silicon oxide (SiO 2 ) is mixed in indium oxide, and indium containing tungsten oxide. Oxide, indium zinc oxide including tungsten oxide, indium oxide including titanium oxide, indium tin oxide including titanium oxide, graphene, tungsten (W), molybdenum (Mo), zirconium (Zr), hafnium (Hf) ), Vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta), chromium (Cr), cobalt (Co), nickel (Ni), titanium (Ti), platinum (Pt), aluminum (Al), copper (Cu ), A metal such as silver (Ag), an alloy thereof, or a metal nitride thereof, or It can be formed using several.

第1の基板200、第2の基板201にはバリウムホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板、石英基板、プラスチック基板などを用いることができる。 As the first substrate 200 and the second substrate 201, a glass substrate such as barium borosilicate glass or alumino borosilicate glass, a quartz substrate, a plastic substrate, or the like can be used.

本発明の一態様のブルー相を発現する液晶組成物を用いて、高いコントラスト化を達成する液晶表示装置を提供することができる。 A liquid crystal display device that achieves high contrast can be provided using the liquid crystal composition exhibiting a blue phase of one embodiment of the present invention.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。 This embodiment can be implemented in appropriate combination with the structures described in the other embodiments.

(実施の形態3)
本発明の一形態に係る液晶表示装置として、パッシブマトリクス型の液晶表示装置、アクティブマトリクス型の液晶表示装置を提供することができる。本実施の形態は、本発明の一形態に係るアクティブマトリクス型の液晶表示装置の例を、図2及び図3を用いて説明する。
(Embodiment 3)
As a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention, a passive matrix liquid crystal display device and an active matrix liquid crystal display device can be provided. In this embodiment, an example of an active matrix liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図2(A)は液晶表示装置の平面図であり1画素分の画素を示している。図2(B)は図2(A)の線X1−X2における断面図である。 FIG. 2A is a plan view of the liquid crystal display device and shows one pixel. FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line X1-X2 in FIG.

図2(A)において、複数のソース配線層(配線層405aを含む)が互いに平行(図中上下方向に延伸)かつ互いに離間した状態で配置されている。複数のゲート配線層(ゲート電極層401を含む)は、ソース配線層に略直交する方向(図中左右方向)に延伸し、かつ互いに離間するように配置されている。共通配線層408は、複数のゲート配線層それぞれに隣接する位置に配置されており、ゲート配線層に概略平行な方向、つまり、ソース配線層に概略直交する方向(図中左右方向)に延伸している。ソース配線層と、共通配線層408及びゲート配線層とによって、略長方形の空間が囲まれているが、この空間に液晶表示装置の画素電極層及び共通電極層が配置されている。画素電極層を駆動するトランジスタ420は、図中左上の角に配置されている。画素電極層及びトランジスタは、マトリクス状に複数配置されている。 In FIG. 2A, a plurality of source wiring layers (including the wiring layer 405a) are arranged in parallel to each other (extending in the vertical direction in the drawing) and separated from each other. The plurality of gate wiring layers (including the gate electrode layer 401) extend in a direction substantially orthogonal to the source wiring layer (the left-right direction in the drawing) and are arranged so as to be separated from each other. The common wiring layer 408 is disposed at a position adjacent to each of the plurality of gate wiring layers, and extends in a direction substantially parallel to the gate wiring layer, that is, a direction substantially orthogonal to the source wiring layer (the left-right direction in the drawing). ing. A substantially rectangular space is surrounded by the source wiring layer, the common wiring layer 408, and the gate wiring layer, and the pixel electrode layer and the common electrode layer of the liquid crystal display device are disposed in this space. The transistor 420 for driving the pixel electrode layer is arranged at the upper left corner in the drawing. A plurality of pixel electrode layers and transistors are arranged in a matrix.

図2の液晶表示装置において、トランジスタ420に電気的に接続する第1の電極層447が画素電極層として機能し、共通配線層408と電気的に接続する第2の電極層446が共通電極層として機能する。なお、第1の電極層と共通配線層によって容量が形成されている。共通電極層はフローティング状態(電気的に孤立した状態)として動作させることも可能だが、固定電位、好ましくはデータとして送られる画像信号の中間電位近傍でフリッカーの生じないレベルに設定してもよい。 In the liquid crystal display device in FIG. 2, the first electrode layer 447 electrically connected to the transistor 420 functions as a pixel electrode layer, and the second electrode layer 446 electrically connected to the common wiring layer 408 is a common electrode layer. Function as. Note that a capacitor is formed by the first electrode layer and the common wiring layer. The common electrode layer can be operated in a floating state (electrically isolated state), but may be set to a fixed potential, preferably a level at which no flicker occurs in the vicinity of an intermediate potential of an image signal sent as data.

基板に概略平行(すなわち水平な方向)な電界を生じさせて、基板と平行な面内で液晶分子を動かして、階調を制御する方式を用いることができる。このような方式として、図2及び図3に示すようなIPSモードで用いる電極構成が適用できる。 A method can be used in which an electric field substantially parallel (that is, in a horizontal direction) is generated on the substrate and liquid crystal molecules are moved in a plane parallel to the substrate to control gradation. As such a system, an electrode configuration used in the IPS mode as shown in FIGS. 2 and 3 can be applied.

IPSモードなどに示される横電界モードは、例えば、液晶組成物の下方に開口パターンを有する第1の電極層(例えば各画素別に電圧が制御される画素電極層)及び第2の電極層(例えば全画素に共通の電圧が供給される共通電極層)を配置する。よって第1の基板441上には、一方が画素電極層であり、他方が共通電極層である第1の電極層447及び第2の電極層446が形成され、少なくとも第1の電極層及び第2の電極層の一方が絶縁膜上に形成されている。第1の電極層447及び第2の電極層446は、様々な形状を有し、例えば開口部、屈曲部、枝分かれした部分、あるいは櫛歯状の部分を含む。第1の電極層447と第2の電極層446の間に基板に概略平行な電界を発生させるため、同形状で、かつ完全に重なる配置は避ける。 The transverse electric field mode shown in the IPS mode or the like includes, for example, a first electrode layer having an opening pattern below the liquid crystal composition (for example, a pixel electrode layer in which a voltage is controlled for each pixel) and a second electrode layer (for example, A common electrode layer to which a common voltage is supplied to all pixels. Accordingly, a first electrode layer 447 and a second electrode layer 446, one of which is a pixel electrode layer and the other is a common electrode layer, are formed over the first substrate 441, and at least the first electrode layer and the second electrode layer 446 are formed. One of the two electrode layers is formed on the insulating film. The first electrode layer 447 and the second electrode layer 446 have various shapes and include, for example, an opening, a bent portion, a branched portion, or a comb-like portion. Since an electric field substantially parallel to the substrate is generated between the first electrode layer 447 and the second electrode layer 446, an arrangement with the same shape and completely overlapping is avoided.

また、第1の電極層447及び第2の電極層446としてFFSモードで用いる構成を適用してもよい。FFSモードに示される横電界モードは、液晶組成物の下方に開口パターンを有する第1の電極層(例えば各画素別に電圧が制御される画素電極層)及びさらにその開口パターンの下方に平板状の第2の電極層(例えば全画素に共通の電圧が供給される共通電極層)を配置する。この場合、第1の基板441上には、一方が画素電極層であり、他方が共通電極層である第1の電極層及び第2の電極層が形成され、画素電極層と共通電極層とは絶縁膜(又は層間絶縁層)を介して積層するように配置される。画素電極層及び共通電極層のいずれか一方は、絶縁膜(又は層間絶縁層)の下方に形成され、かつ平板状であり、他方は絶縁膜(又は層間絶縁層)の上方に形成され、かつ様々な形状を有する。たとえば開口部、屈曲部、枝分かれした部分、あるいは櫛歯状の部分を含む。第1の電極層447及び第2の電極層446はその電極間に基板に対して斜め方向の電界を発生させるため、同形状で完全に重なる配置は避ける。 Alternatively, a structure used in the FFS mode may be applied as the first electrode layer 447 and the second electrode layer 446. The transverse electric field mode shown in the FFS mode is a first electrode layer having an opening pattern below the liquid crystal composition (for example, a pixel electrode layer in which voltage is controlled for each pixel) and a flat plate below the opening pattern. A second electrode layer (for example, a common electrode layer to which a common voltage is supplied to all pixels) is disposed. In this case, a first electrode layer and a second electrode layer, one of which is a pixel electrode layer and the other is a common electrode layer, are formed over the first substrate 441. The pixel electrode layer, the common electrode layer, Are arranged so as to be laminated via an insulating film (or an interlayer insulating layer). One of the pixel electrode layer and the common electrode layer is formed below the insulating film (or interlayer insulating layer) and has a flat plate shape, and the other is formed above the insulating film (or interlayer insulating layer), and It has various shapes. For example, it includes an opening, a bent portion, a branched portion, or a comb-like portion. Since the first electrode layer 447 and the second electrode layer 446 generate an electric field in an oblique direction with respect to the substrate between the electrodes, an arrangement with the same shape and completely overlapping is avoided.

液晶組成物444に、実施の形態1で示した一般式(G1)で表される有機化合物を含有する液晶組成物を用いる。好ましくは、実施の形態1で示した一般式(G1)とカイラル剤を含み、ブルー相を発現する液晶組成物を用いる。より好ましくは、実施の形態1で示した一般式(G1)とカイラル剤を含み、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下であり、ブルー相を発現する液晶組成物を用いる。また、液晶組成物444には、有機樹脂が含まれてもよい。本実施の形態では、液晶組成物444はブルー相を発現している状態で高分子安定化処理を行うことによって形成することができる。 As the liquid crystal composition 444, a liquid crystal composition containing the organic compound represented by the general formula (G1) described in Embodiment 1 is used. Preferably, a liquid crystal composition including the general formula (G1) described in Embodiment 1 and a chiral agent and exhibiting a blue phase is used. More preferably, a liquid crystal composition including the general formula (G1) shown in Embodiment Mode 1 and a chiral agent, having a diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in the reflection spectrum of 500 nm or less and expressing a blue phase is used. . In addition, the liquid crystal composition 444 may include an organic resin. In this embodiment, the liquid crystal composition 444 can be formed by performing polymer stabilization treatment in a state where a blue phase is developed.

第1の電極層447と第2の電極層446との間に水平方向の電界を形成することで、液晶組成物444の液晶を制御する。 By forming an electric field in the horizontal direction between the first electrode layer 447 and the second electrode layer 446, the liquid crystal of the liquid crystal composition 444 is controlled.

第1の電極層447及び第2の電極層446の他の例を図3に示す。図3(A)乃至(D)の上面図に示すように、第1の電極層447a乃至447d及び第2の電極層446a乃至446dが互い違いとなるように形成されており、図3(A)では第1の電極層447a及び第2の電極層446aは波状の開口部を有しており、図3(B)では第1の電極層447b及び第2の電極層446bは同心円状の開口部を有する形状であり、図3(C)では第1の電極層447c及び第2の電極層446cは櫛歯状であり一部重なっている形状であり、図3(D)では第1の電極層447d及び第2の電極層446dは櫛歯状であり電極同士がかみ合うような形状である。なお、図3(A)乃至(C)のように、第1の電極層447a、447b、447c、と第2の電極層446a、446b、446cとが重なる場合は、第1の電極層447と第2の電極層446との間には絶縁膜を形成し、異なる膜上に第1の電極層447と第2の電極層446とをそれぞれ形成する。 Another example of the first electrode layer 447 and the second electrode layer 446 is illustrated in FIG. As shown in the top views of FIGS. 3A to 3D, the first electrode layers 447a to 447d and the second electrode layers 446a to 446d are formed to be staggered, and FIG. In FIG. 3B, the first electrode layer 447a and the second electrode layer 446a have corrugated openings, and in FIG. 3B, the first electrode layer 447b and the second electrode layer 446b are concentric openings. In FIG. 3C, the first electrode layer 447c and the second electrode layer 446c are comb-shaped and partly overlapped. In FIG. 3D, the first electrode layer The layer 447d and the second electrode layer 446d are comb-shaped and have shapes in which the electrodes are engaged with each other. 3A to 3C, when the first electrode layers 447a, 447b, and 447c overlap with the second electrode layers 446a, 446b, and 446c, the first electrode layer 447 and An insulating film is formed between the second electrode layer 446 and a first electrode layer 447 and a second electrode layer 446 are formed over different films.

なお、第2の電極層446は、開口パターンを有する形状であるために、図2(B)の断面図においては分断された複数の電極層として示されている。これは本明細書の他の図面においても同様である。 Note that since the second electrode layer 446 has a shape having an opening pattern, the second electrode layer 446 is illustrated as a plurality of divided electrode layers in the cross-sectional view of FIG. The same applies to the other drawings of this specification.

トランジスタ420は逆スタガ型の薄膜トランジスタであり、絶縁表面を有する基板である第1の基板441上に形成され、ゲート電極層401、ゲート絶縁層402、半導体層403、ソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線層405a、配線層405bを含む。 The transistor 420 is an inverted staggered thin film transistor which is formed over a first substrate 441 which is a substrate having an insulating surface and serves as a gate electrode layer 401, a gate insulating layer 402, a semiconductor layer 403, and a source electrode layer or a drain electrode layer. A wiring layer 405a and a wiring layer 405b that function are included.

本明細書に開示する液晶表示装置に適用できるトランジスタの構造は特に限定されず、例えばトップゲート構造、又はボトムゲート構造のスタガ型及びプレーナ型などを用いることができる。また、トランジスタはチャネル形成領域が一つ形成されるシングルゲート構造でも、2つ形成されるダブルゲート構造もしくは3つ形成されるトリプルゲート構造であっても良い。また、チャネル領域の上下にゲート絶縁層を介して配置された2つのゲート電極層を有する、デュアルゲート型でもよい。 There is no particular limitation on the structure of the transistor that can be applied to the liquid crystal display device disclosed in this specification. For example, a staggered type or a planar type with a top gate structure or a bottom gate structure can be used. The transistor may have a single gate structure in which one channel formation region is formed, a double gate structure in which two channel formation regions are formed, or a triple gate structure in which three channel formation regions are formed. Alternatively, a dual gate type having two gate electrode layers arranged above and below the channel region with a gate insulating layer interposed therebetween may be used.

トランジスタ420を覆い、半導体層403に接する絶縁膜407、絶縁膜409が設けられ、絶縁膜409上に層間膜413が積層されている。 An insulating film 407 and an insulating film 409 which cover the transistor 420 and are in contact with the semiconductor layer 403 are provided, and an interlayer film 413 is stacked over the insulating film 409.

層間膜413の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スピンコート、ディップ、スプレー塗布、液滴吐出法(インクジェット法)、スクリーン印刷、オフセット印刷等、ロールコート、カーテンコート、ナイフコート等を用いることができる。 The formation method of the interlayer film 413 is not particularly limited, and depending on the material, spin coating, dipping, spray coating, droplet discharge method (inkjet method), screen printing, offset printing, roll coating, curtain coating, knife, etc. A coat or the like can be used.

第1の基板441と対向基板である第2の基板442とを、液晶組成物444を間に挟持させてシール材で固着する。液晶組成物444を形成する方法として、ディスペンサ法(滴下法)や、第1の基板441と第2の基板442とを貼り合わせてから毛細管現象等を用いて液晶を注入する注入法を用いることができる。 The first substrate 441 and the second substrate 442 which is a counter substrate are fixed to each other with a sealant with the liquid crystal composition 444 interposed therebetween. As a method for forming the liquid crystal composition 444, a dispenser method (a dropping method) or an injection method in which liquid crystal is injected using a capillary phenomenon after the first substrate 441 and the second substrate 442 are bonded to each other is used. Can do.

シール材としては、代表的には可視光硬化性、紫外線硬化性又は熱硬化性の樹脂を用いるのが好ましい。代表的には、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アミン樹脂などを用いることができる。また、フィラー、カップリング剤を含んでもよい。 As the sealing material, it is typically preferable to use a visible light curable resin, an ultraviolet curable resin, or a thermosetting resin. Typically, an acrylic resin, an epoxy resin, an amine resin, or the like can be used. Moreover, a filler and a coupling agent may be included.

液晶組成物がブルー相を発現する場合、液晶組成物を第1の基板441と第2の基板442の間の間隙に充填後、光を照射して高分子安定化処理を行い、液晶組成物444を形成することが好ましい。光は、液晶組成物444として用いられる液晶組成物に含まれる重合性モノマー、及び光重合開始剤が反応する波長の光とする。この光照射による高分子安定化処理により、液晶組成物444がブルー相を発現する温度範囲を広く改善することができる。 In the case where the liquid crystal composition exhibits a blue phase, the liquid crystal composition is filled in the gap between the first substrate 441 and the second substrate 442 and then irradiated with light to perform polymer stabilization treatment. Preferably, 444 is formed. The light is light having a wavelength at which the polymerizable monomer contained in the liquid crystal composition used as the liquid crystal composition 444 and the photopolymerization initiator react. By this polymer stabilization treatment by light irradiation, the temperature range in which the liquid crystal composition 444 develops a blue phase can be widely improved.

シール材に紫外線などの光硬化樹脂を用い、滴下法で液晶組成物を形成する場合など、高分子安定化処理の光照射工程によってシール材の硬化も行ってもよい。 The sealing material may be cured by a light irradiation process of polymer stabilization treatment, for example, when a photocurable resin such as ultraviolet rays is used for the sealing material and a liquid crystal composition is formed by a dropping method.

本実施の形態では、第1の基板441の外側(液晶組成物444と反対側)に偏光板443aを、第2の基板442の外側(液晶組成物444と反対側)に偏光板443bを設ける。また、偏光板の他、位相差板、反射防止膜などの光学フィルムなどを設けてもよい。例えば、偏光板及び位相差板による円偏光板を用いてもよい。以上の工程で、液晶表示装置を完成させることができる。 In this embodiment, a polarizing plate 443a is provided outside the first substrate 441 (on the side opposite to the liquid crystal composition 444), and a polarizing plate 443b is provided outside the second substrate 442 (on the side opposite to the liquid crystal composition 444). . In addition to the polarizing plate, an optical film such as a retardation plate or an antireflection film may be provided. For example, you may use the circularly-polarizing plate by a polarizing plate and a phase difference plate. Through the above steps, a liquid crystal display device can be completed.

また、大型の基板を用いて複数の液晶表示装置を作製する場合(所謂多面取り)、その分断工程は、高分子安定化処理の前か、偏光板を設ける前に行うことができる。分断工程による液晶組成物への影響(分断工程時にかかる力などによる配向乱れなど)を考慮すると、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせた後、高分子安定化処理の前が好ましい。 In the case where a plurality of liquid crystal display devices are manufactured using a large substrate (so-called multi-cavity), the dividing step can be performed before the polymer stabilization treatment or before the polarizing plate is provided. Considering the influence on the liquid crystal composition by the dividing step (alignment disorder due to force applied during the dividing step), it is preferable that the first substrate and the second substrate are bonded together and before the polymer stabilization treatment. .

図示しないが、光源としてバックライト、サイドライトなどを用いればよい。光源は素子基板である第1の基板441側から、視認側である第2の基板442へと透過するように設置される。 Although not shown, a backlight, a sidelight, or the like may be used as the light source. The light source is installed so as to transmit from the first substrate 441 side which is an element substrate to the second substrate 442 which is the viewing side.

第1の電極層447、及び第2の電極層446は、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物、グラフェンなどの透光性を有する導電性材料を用いることができる。 The first electrode layer 447 and the second electrode layer 446 include indium oxide containing tungsten oxide, indium zinc oxide containing tungsten oxide, indium oxide containing titanium oxide, indium tin oxide containing titanium oxide, A light-transmitting conductive material such as indium tin oxide, indium zinc oxide, indium tin oxide to which silicon oxide is added, or graphene can be used.

また、第1の電極層447、及び第2の電極層446はタングステン(W)、モリブデン(Mo)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)等の金属、又はその合金、若しくはその金属窒化物から一つ、又は複数種を用いて形成することができる。 The first electrode layer 447 and the second electrode layer 446 are formed using tungsten (W), molybdenum (Mo), zirconium (Zr), hafnium (Hf), vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta). ), Chromium (Cr), cobalt (Co), nickel (Ni), titanium (Ti), platinum (Pt), aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), or an alloy thereof, or The metal nitride can be formed using one or more kinds.

また、第1の電極層447、及び第2の電極層446として、導電性ポリマーを含む導電性組成物を用いて形成することができる。導電性組成物を用いて形成した画素電極は、シート抵抗が10000Ω/□以下、波長550nmにおける透光率が70%以上であることが好ましい。また、導電性組成物に含まれる導電性高分子の抵抗率が0.1Ω・cm以下であることが好ましい。 Alternatively, the first electrode layer 447 and the second electrode layer 446 can be formed using a conductive composition containing a conductive polymer. The pixel electrode formed using the conductive composition preferably has a sheet resistance of 10,000 Ω / □ or less and a light transmittance of 70% or more at a wavelength of 550 nm. Moreover, it is preferable that the resistivity of the conductive polymer contained in the conductive composition is 0.1 Ω · cm or less.

導電性高分子としては、いわゆるπ共役系導電性高分子が用いることができる。例えば、ポリアニリン又はその誘導体、ポリピロール又はその誘導体、ポリチオフェン又はその誘導体、若しくはアニリン、ピロールおよびチオフェンの2種以上からなる共重合体若しくはその誘導体などがあげられる。 As the conductive polymer, a so-called π-conjugated conductive polymer can be used. For example, polyaniline or a derivative thereof, polypyrrole or a derivative thereof, polythiophene or a derivative thereof, a copolymer of two or more of aniline, pyrrole, and thiophene or a derivative thereof can be given.

下地膜となる絶縁膜を第1の基板441とゲート電極層401の間に設けてもよい。下地膜は、第1の基板441からの不純物元素の拡散を防止する機能があり、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、又は酸化窒化シリコン膜から選ばれた一又は複数の膜による単層、又は積層構造により形成することができる。ゲート電極層401は、モリブデン、チタン、クロム、タンタル、タングステン、アルミニウム、銅、ネオジム、スカンジウム等の金属材料又はこれらを主成分とする合金材料を用いて、単層で又は積層して形成することができる。また、ゲート電極層401としてリン等の不純物元素をドーピングした多結晶シリコン膜に代表される半導体膜、ニッケルシリサイドなどのシリサイド膜を用いてもよい。ゲート電極層401に遮光性を有する導電膜を用いると、バックライトからの光(第1の基板441から入射する光)が、半導体層403へ入射することを防止することができる。 An insulating film serving as a base film may be provided between the first substrate 441 and the gate electrode layer 401. The base film has a function of preventing diffusion of an impurity element from the first substrate 441 and is formed using one or a plurality of films selected from a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon nitride oxide film, and a silicon oxynitride film. A single layer or a stacked structure can be used. The gate electrode layer 401 is formed as a single layer or a stacked layer using a metal material such as molybdenum, titanium, chromium, tantalum, tungsten, aluminum, copper, neodymium, or scandium, or an alloy material containing any of these materials as its main component. Can do. As the gate electrode layer 401, a semiconductor film typified by a polycrystalline silicon film doped with an impurity element such as phosphorus, or a silicide film such as nickel silicide may be used. When a light-shielding conductive film is used for the gate electrode layer 401, light from the backlight (light which enters from the first substrate 441) can be prevented from entering the semiconductor layer 403.

例えば、ゲート電極層401の2層の積層構造としては、アルミニウム層上にモリブデン層が積層された2層の積層構造、又は銅層上にモリブデン層を積層した2層構造、又は銅層上に窒化チタン層若しくは窒化タンタル層を積層した2層構造、窒化チタン層とモリブデン層とを積層した2層構造とすることが好ましい。3層の積層構造としては、タングステン層又は窒化タングステン層と、アルミニウムとシリコンの合金層又はアルミニウムとチタンの合金層と、窒化チタン層又はチタン層とを積層した積層構造とすることが好ましい。 For example, the two-layer structure of the gate electrode layer 401 includes a two-layer structure in which a molybdenum layer is stacked over an aluminum layer, a two-layer structure in which a molybdenum layer is stacked over a copper layer, or a copper layer. A two-layer structure in which a titanium nitride layer or a tantalum nitride layer is stacked, or a two-layer structure in which a titanium nitride layer and a molybdenum layer are stacked is preferable. The three-layer structure is preferably a stacked structure in which a tungsten layer or a tungsten nitride layer, an aluminum / silicon alloy layer or an aluminum / titanium alloy layer, and a titanium nitride layer or a titanium layer are stacked.

ゲート絶縁層402は、プラズマCVD法又はスパッタリング法等を用いて、酸化シリコン膜、酸化ガリウム膜、酸化アルミニウム膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化シリコン膜等を用いて形成することができる。又は、ゲート絶縁層402の材料として酸化ハフニウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、ハフニウムシリケート(HfSi(x>0、y>0))、ハフニウムアルミネート(HfAl(x>0、y>0))、窒素が添加されたハフニウムシリケート、窒素が添加されたハフニウムアルミネートなどのhigh−k材料を用いてもよい。これらのhigh−k材料を用いることでゲートリーク電流を低減できる。 The gate insulating layer 402 is formed using a silicon oxide film, a gallium oxide film, an aluminum oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, an aluminum oxynitride film, a silicon nitride oxide film, or the like by a plasma CVD method, a sputtering method, or the like. Can be formed. Alternatively, as the material of the gate insulating layer 402, hafnium oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, hafnium silicate (HfSi x O y (x> 0, y> 0)), hafnium aluminate (HfAl x O y (x> 0, y) > 0)), high-k materials such as nitrogen-added hafnium silicate and nitrogen-added hafnium aluminate may be used. The gate leakage current can be reduced by using these high-k materials.

酸化シリコン膜は、有機シランガスを用いたCVD法により形成することも可能である。有機シランガスとしては、テトラエトキシシラン(TEOS:化学式Si(OC)、テトラメチルシラン(TMS:化学式Si(CH)、テトラメチルシクロテトラシロキサン(TMCTS)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(OMCTS)、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、トリエトキシシラン(SiH(OC)、トリスジメチルアミノシラン(SiH(N(CH)等のシリコン含有化合物を用いることができる。なお、ゲート絶縁層402は、単層構造としてもよいし、積層構造としてもよい。 The silicon oxide film can also be formed by a CVD method using an organosilane gas. Examples of the organic silane gas include tetraethoxysilane (TEOS: chemical formula Si (OC 2 H 5 ) 4 ), tetramethylsilane (TMS: chemical formula Si (CH 3 ) 4 ), tetramethylcyclotetrasiloxane (TMCTS), octamethylcyclotetra Use of silicon-containing compounds such as siloxane (OMCTS), hexamethyldisilazane (HMDS), triethoxysilane (SiH (OC 2 H 5 ) 3 ), trisdimethylaminosilane (SiH (N (CH 3 ) 2 ) 3 ) Can do. Note that the gate insulating layer 402 may have a single-layer structure or a stacked structure.

半導体層403に用いる材料は特に限定されず、トランジスタ420に要求される特性に応じて適宜設定すればよい。半導体層403に用いることのできる材料の例を説明する。 The material used for the semiconductor layer 403 is not particularly limited and may be set as appropriate depending on characteristics required for the transistor 420. Examples of materials that can be used for the semiconductor layer 403 are described.

半導体層403を形成する材料としては、シランやゲルマンに代表される半導体材料ガスを用いた化学気相成長法やスパッタリング法等の物理気相成長法で作製される非晶質(アモルファスともいう。)半導体、該非晶質半導体を光エネルギーや熱エネルギーを利用して結晶化させた多結晶半導体、或いは微細な結晶相とアモルファス相が混在した微結晶半導体などを用いることができる。 As a material for forming the semiconductor layer 403, an amorphous material (also referred to as an amorphous material) manufactured by a physical vapor deposition method such as a chemical vapor deposition method or a sputtering method using a semiconductor material gas typified by silane or germane is used. ) A semiconductor, a polycrystalline semiconductor obtained by crystallizing the amorphous semiconductor using light energy or thermal energy, or a microcrystalline semiconductor in which a fine crystalline phase and an amorphous phase are mixed can be used.

アモルファス半導体としては、代表的には水素化アモルファスシリコン、結晶性半導体としては代表的にはポリシリコンなどがあげられる。ポリシリコン(多結晶シリコン)には、800℃以上のプロセス温度を経て形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂高温ポリシリコンや、600℃以下のプロセス温度で形成されるポリシリコンを主材料として用いた所謂低温ポリシリコン、また結晶化を促進する元素などを用いて、非晶質シリコンを結晶化させたポリシリコンなどを含んでいる。もちろん、前述したように、微結晶半導体又は半導体層の一部に結晶相を含む半導体を用いることもできる。 A typical example of an amorphous semiconductor is hydrogenated amorphous silicon, and a typical example of a crystalline semiconductor is polysilicon. Polysilicon (polycrystalline silicon) is mainly made of so-called high-temperature polysilicon using polysilicon formed through a process temperature of 800 ° C. or higher as a main material, or polysilicon formed at a process temperature of 600 ° C. or lower. And so-called low-temperature polysilicon, and polysilicon obtained by crystallizing amorphous silicon using an element that promotes crystallization. Needless to say, as described above, a microcrystalline semiconductor or a semiconductor including a crystalline phase in part of a semiconductor layer can be used.

また、半導体層403として酸化物半導体膜を用いてもよく、酸化物半導体膜としては、少なくともインジウム(In)、特にInと亜鉛(Zn)を含むことが好ましい。また、該酸化物半導体膜を用いたトランジスタの電気特性のばらつきを減らすためのスタビライザーとして、それらに加えてガリウム(Ga)を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてスズ(Sn)を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてハフニウム(Hf)を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてアルミニウム(Al)を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてジルコニウム(Zr)を有することが好ましい。 An oxide semiconductor film may be used as the semiconductor layer 403, and the oxide semiconductor film preferably contains at least indium (In), particularly In and zinc (Zn). In addition, it is preferable that gallium (Ga) be included in addition to the stabilizer for reducing variation in electrical characteristics of the transistor including the oxide semiconductor film. Moreover, it is preferable to have tin (Sn) as a stabilizer. Moreover, it is preferable to have hafnium (Hf) as a stabilizer. Moreover, it is preferable to have aluminum (Al) as a stabilizer. Moreover, it is preferable to have a zirconium (Zr) as a stabilizer.

また、他のスタビライザーとして、ランタノイドである、ランタン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、サマリウム(Sm)、ユウロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、ルテチウム(Lu)のいずれか一種あるいは複数種を有してもよい。 As other stabilizers, lanthanoids such as lanthanum (La), cerium (Ce), praseodymium (Pr), neodymium (Nd), samarium (Sm), europium (Eu), gadolinium (Gd), terbium (Tb) , Dysprosium (Dy), holmium (Ho), erbium (Er), thulium (Tm), ytterbium (Yb), or lutetium (Lu).

例えば、酸化物半導体として、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、In−Zn系酸化物、In−Mg系酸化物、In−Ga系酸化物、In−Ga−Zn系酸化物(IGZOとも表記する)、In−Al−Zn系酸化物、In−Sn−Zn系酸化物、In−Hf−Zn系酸化物、In−La−Zn系酸化物、In−Ce−Zn系酸化物、In−Pr−Zn系酸化物、In−Nd−Zn系酸化物、In−Sm−Zn系酸化物、In−Eu−Zn系酸化物、In−Gd−Zn系酸化物、In−Tb−Zn系酸化物、In−Dy−Zn系酸化物、In−Ho−Zn系酸化物、In−Er−Zn系酸化物、In−Tm−Zn系酸化物、In−Yb−Zn系酸化物、In−Lu−Zn系酸化物、In−Sn−Ga−Zn系酸化物、In−Hf−Ga−Zn系酸化物、In−Al−Ga−Zn系酸化物、In−Sn−Al−Zn系酸化物、In−Sn−Hf−Zn系酸化物、In−Hf−Al−Zn系酸化物を用いることができる。 For example, as an oxide semiconductor, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, an In—Zn-based oxide, an In—Mg-based oxide, an In—Ga-based oxide, an In—Ga—Zn-based oxide (IGZO) ), In—Al—Zn oxide, In—Sn—Zn oxide, In—Hf—Zn oxide, In—La—Zn oxide, In—Ce—Zn oxide, In—Pr -Zn oxide, In-Nd-Zn oxide, In-Sm-Zn oxide, In-Eu-Zn oxide, In-Gd-Zn oxide, In-Tb-Zn oxide In-Dy-Zn-based oxide, In-Ho-Zn-based oxide, In-Er-Zn-based oxide, In-Tm-Zn-based oxide, In-Yb-Zn-based oxide, In-Lu- Zn-based oxide, In-Sn-Ga-Zn-based oxide, In-Hf-Ga- An n-based oxide, an In-Al-Ga-Zn-based oxide, an In-Sn-Al-Zn-based oxide, an In-Sn-Hf-Zn-based oxide, or an In-Hf-Al-Zn-based oxide is used. be able to.

なお、ここで、例えば、In−Ga−Zn系酸化物とは、InとGaとZnを主成分として有する酸化物という意味であり、InとGaとZnの比率は問わない。また、InとGaとZn以外の金属元素が入っていてもよい。 Note that here, for example, an In—Ga—Zn-based oxide means an oxide containing In, Ga, and Zn as its main components, and there is no limitation on the ratio of In, Ga, and Zn. Moreover, metal elements other than In, Ga, and Zn may be contained.

また、酸化物半導体として、InMO(ZnO)(m>0、且つ、mは整数でない)で表記される材料を用いてもよい。なお、Mは、Ga、Fe、Mn及びCoから選ばれた一の金属元素または複数の金属元素を示す。また、酸化物半導体として、InSnO(ZnO)(n>0、且つ、nは整数)で表記される材料を用いてもよい。 Alternatively, a material represented by InMO 3 (ZnO) m (m> 0 is satisfied, and m is not an integer) may be used as the oxide semiconductor. Note that M represents one metal element or a plurality of metal elements selected from Ga, Fe, Mn, and Co. Alternatively, a material represented by In 2 SnO 5 (ZnO) n (n> 0 is satisfied, and n is an integer) may be used as the oxide semiconductor.

例えば、In:Ga:Zn=1:1:1、In:Ga:Zn=2:2:1、あるいはIn:Ga:Zn=3:1:2の原子数比のIn−Ga−Zn系酸化物やその組成の近傍の酸化物を用いることができる。あるいは、In:Sn:Zn=1:1:1、In:Sn:Zn=2:1:3あるいはIn:Sn:Zn=2:1:5の原子数比のIn−Sn−Zn系酸化物やその組成の近傍の酸化物を用いるとよい。 For example, In: Ga: Zn = 1: 1: 1, In: Ga: Zn = 2: 2: 1, or In: Ga: Zn = 3: 1: 2 atomic ratio In—Ga—Zn-based oxidation Or an oxide in the vicinity of the composition can be used. Alternatively, In: Sn: Zn = 1: 1: 1, In: Sn: Zn = 2: 1: 3, or In: Sn: Zn = 2: 1: 5 atomic ratio In—Sn—Zn-based oxide Or an oxide in the vicinity of the composition may be used.

しかし、酸化物半導体は、これらに限られず、必要とする半導体特性(移動度、しきい値、ばらつき等)に応じて適切な組成のものを用いればよい。また、必要とする半導体特性を得るために、キャリア濃度や不純物濃度、欠陥密度、金属元素と酸素の原子数比、原子間距離、密度等を適切なものとすることが好ましい。 However, the oxide semiconductor is not limited thereto, and an oxide semiconductor having an appropriate composition may be used depending on required semiconductor characteristics (mobility, threshold value, variation, and the like). In order to obtain the required semiconductor characteristics, it is preferable that the carrier concentration, the impurity concentration, the defect density, the atomic ratio between the metal element and oxygen, the interatomic distance, the density, and the like are appropriate.

例えば、In−Sn−Zn系酸化物では比較的容易に高い移動度が得られる。しかしながら、In−Ga−Zn系酸化物でも、バルク内欠陥密度を低くすることにより移動度を上げることができる。 For example, high mobility can be obtained relatively easily with an In—Sn—Zn-based oxide. However, mobility can be increased by reducing the defect density in the bulk also in the case of using an In—Ga—Zn-based oxide.

以下では、酸化物半導体膜の構造について説明する。 Hereinafter, the structure of the oxide semiconductor film is described.

酸化物半導体膜は、単結晶酸化物半導体膜と非単結晶酸化物半導体膜とに大別される。非単結晶酸化物半導体膜とは、非晶質酸化物半導体膜、微結晶酸化物半導体膜、多結晶酸化物半導体膜、CAAC−OS(C Axis Aligned Crystalline Oxide Semiconductor)膜などをいう。 An oxide semiconductor film is classified roughly into a single crystal oxide semiconductor film and a non-single crystal oxide semiconductor film. The non-single-crystal oxide semiconductor film refers to an amorphous oxide semiconductor film, a microcrystalline oxide semiconductor film, a polycrystalline oxide semiconductor film, a CAAC-OS (C Axis Crystalline Oxide Semiconductor) film, or the like.

非晶質酸化物半導体膜は、膜中における原子配列が不規則であり、結晶成分を有さない酸化物半導体膜である。微小領域においても結晶部を有さず、膜全体が完全な非晶質構造の酸化物半導体膜が典型である。 An amorphous oxide semiconductor film is an oxide semiconductor film having an irregular atomic arrangement in the film and having no crystal component. An oxide semiconductor film which has no crystal part even in a minute region and has a completely amorphous structure as a whole is typical.

微結晶酸化物半導体膜は、例えば、1nm以上10nm未満の大きさの微結晶(ナノ結晶ともいう。)を含む。従って、微結晶酸化物半導体膜は、非晶質酸化物半導体膜よりも原子配列の規則性が高い。そのため、微結晶酸化物半導体膜は、非晶質酸化物半導体膜よりも欠陥準位密度が低いという特徴がある。 The microcrystalline oxide semiconductor film includes a microcrystal (also referred to as nanocrystal) with a size greater than or equal to 1 nm and less than 10 nm, for example. Therefore, the microcrystalline oxide semiconductor film has higher regularity of atomic arrangement than the amorphous oxide semiconductor film. Therefore, a microcrystalline oxide semiconductor film has a feature that the density of defect states is lower than that of an amorphous oxide semiconductor film.

CAAC−OS膜は、複数の結晶部を有する酸化物半導体膜の一つであり、ほとんどの結晶部は、一辺が100nm未満の立方体内に収まる大きさである。従って、CAAC−OS膜に含まれる結晶部は、一辺が10nm未満、5nm未満または3nm未満の立方体内に収まる大きさの場合も含まれる。CAAC−OS膜は、微結晶酸化物半導体膜よりも欠陥準位密度が低いという特徴がある。以下、CAAC−OS膜について詳細な説明を行う。 The CAAC-OS film is one of oxide semiconductor films having a plurality of crystal parts, and most of the crystal parts are large enough to fit in a cube whose one side is less than 100 nm. Therefore, the case where a crystal part included in the CAAC-OS film fits in a cube whose one side is less than 10 nm, less than 5 nm, or less than 3 nm is included. The CAAC-OS film is characterized by having a lower density of defect states than a microcrystalline oxide semiconductor film. Hereinafter, the CAAC-OS film is described in detail.

CAAC−OS膜を透過型電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)によって観察すると、結晶部同士の明確な境界、即ち結晶粒界(グレインバウンダリーともいう。)を確認することができない。そのため、CAAC−OS膜は、結晶粒界に起因する電子移動度の低下が起こりにくいといえる。 When the CAAC-OS film is observed with a transmission electron microscope (TEM), a clear boundary between crystal parts, that is, a grain boundary (also referred to as a grain boundary) cannot be confirmed. Therefore, it can be said that the CAAC-OS film is unlikely to decrease in electron mobility due to crystal grain boundaries.

CAAC−OS膜を、試料面と概略平行な方向からTEMによって観察(断面TEM観察)すると、結晶部において、金属原子が層状に配列していることを確認できる。金属原子の各層は、CAAC−OS膜の膜を形成する面(被形成面ともいう。)または上面の凹凸を反映した形状であり、CAAC−OS膜の被形成面または上面と平行に配列する。 When the CAAC-OS film is observed by TEM (cross-sectional TEM observation) from a direction substantially parallel to the sample surface, it can be confirmed that metal atoms are arranged in layers in the crystal part. Each layer of metal atoms has a shape reflecting unevenness of a surface (also referred to as a formation surface) or an upper surface on which the CAAC-OS film is formed, and is arranged in parallel with the formation surface or the upper surface of the CAAC-OS film. .

一方、CAAC−OS膜を、試料面と概略垂直な方向からTEMによって観察(平面TEM観察)すると、結晶部において、金属原子が三角形状または六角形状に配列していることを確認できる。しかしながら、異なる結晶部間で、金属原子の配列に規則性は見られない。 On the other hand, when the CAAC-OS film is observed by TEM (planar TEM observation) from a direction substantially perpendicular to the sample surface, it can be confirmed that metal atoms are arranged in a triangular shape or a hexagonal shape in the crystal part. However, there is no regularity in the arrangement of metal atoms between different crystal parts.

断面TEM観察および平面TEM観察より、CAAC−OS膜の結晶部は配向性を有していることがわかる。 From the cross-sectional TEM observation and the planar TEM observation, it is found that the crystal part of the CAAC-OS film has orientation.

CAAC−OS膜に対し、X線回折(XRD:X−Ray Diffraction)装置を用いて構造解析を行うと、例えばInGaZnOの結晶を有するCAAC−OS膜のout−of−plane法による解析では、回折角(2θ)が31°近傍にピークが現れる場合がある。このピークは、InGaZnOの結晶の(009)面に帰属されることから、CAAC−OS膜の結晶がc軸配向性を有し、c軸が被形成面または上面に概略垂直な方向を向いていることが確認できる。 When structural analysis is performed on a CAAC-OS film using an X-ray diffraction (XRD) apparatus, for example, in the analysis of a CAAC-OS film having an InGaZnO 4 crystal by an out-of-plane method, A peak may appear when the diffraction angle (2θ) is around 31 °. Since this peak is attributed to the (009) plane of the InGaZnO 4 crystal, the CAAC-OS film crystal has c-axis orientation, and the c-axis is in a direction substantially perpendicular to the formation surface or the top surface. Can be confirmed.

一方、CAAC−OS膜に対し、c軸に概略垂直な方向からX線を入射させるin−plane法による解析では、2θが56°近傍にピークが現れる場合がある。このピークは、InGaZnOの結晶の(110)面に帰属される。InGaZnOの単結晶酸化物半導体膜であれば、2θを56°近傍に固定し、試料面の法線ベクトルを軸(φ軸)として試料を回転させながら分析(φスキャン)を行うと、(110)面と等価な結晶面に帰属されるピークが6本観察される。これに対し、CAAC−OS膜の場合は、2θを56°近傍に固定してφスキャンした場合でも、明瞭なピークが現れない。 On the other hand, when the CAAC-OS film is analyzed by an in-plane method in which X-rays are incident from a direction substantially perpendicular to the c-axis, a peak may appear when 2θ is around 56 °. This peak is attributed to the (110) plane of the InGaZnO 4 crystal. In the case of a single crystal oxide semiconductor film of InGaZnO 4 , when 2θ is fixed in the vicinity of 56 ° and analysis (φ scan) is performed while rotating the sample with the normal vector of the sample surface as the axis (φ axis), Six peaks attributed to the crystal plane equivalent to the (110) plane are observed. On the other hand, in the case of a CAAC-OS film, a peak is not clearly observed even when φ scan is performed with 2θ fixed at around 56 °.

以上のことから、CAAC−OS膜では、異なる結晶部間ではa軸およびb軸の配向は不規則であるが、c軸配向性を有し、かつc軸が被形成面または上面の法線ベクトルに平行な方向を向いていることがわかる。従って、前述の断面TEM観察で確認された層状に配列した金属原子の各層は、結晶のab面に平行な面である。 From the above, in the CAAC-OS film, the orientation of the a-axis and the b-axis is irregular between different crystal parts, but the c-axis is aligned, and the c-axis is a normal line of the formation surface or the top surface. It can be seen that the direction is parallel to the vector. Therefore, each layer of metal atoms arranged in a layer shape confirmed by the above-mentioned cross-sectional TEM observation is a plane parallel to the ab plane of the crystal.

なお、結晶部は、CAAC−OS膜を成膜した際、または加熱処理などの結晶化処理を行った際に形成される。上述したように、結晶のc軸は、CAAC−OS膜の被形成面または上面の法線ベクトルに平行な方向に配向する。従って、例えば、CAAC−OS膜の形状をエッチングなどによって変化させた場合、結晶のc軸がCAAC−OS膜の被形成面または上面の法線ベクトルと平行にならないこともある。 Note that the crystal part is formed when a CAAC-OS film is formed or when crystallization treatment such as heat treatment is performed. As described above, the c-axis of the crystal is oriented in a direction parallel to the normal vector of the formation surface or the top surface of the CAAC-OS film. Therefore, for example, when the shape of the CAAC-OS film is changed by etching or the like, the c-axis of the crystal may not be parallel to the normal vector of the formation surface or the top surface of the CAAC-OS film.

また、CAAC−OS膜中の結晶化度が均一でなくてもよい。例えば、CAAC−OS膜の結晶部が、CAAC−OS膜の上面近傍からの結晶成長によって形成される場合、上面近傍の領域は、被形成面近傍の領域よりも結晶化度が高くなることがある。また、CAAC−OS膜に不純物を添加する場合、不純物が添加された領域の結晶化度が変化し、部分的に結晶化度の異なる領域が形成されることもある。 Further, the crystallinity in the CAAC-OS film is not necessarily uniform. For example, in the case where the crystal part of the CAAC-OS film is formed by crystal growth from the vicinity of the top surface of the CAAC-OS film, the region near the top surface can have a higher degree of crystallinity than the region near the formation surface. is there. In addition, in the case where an impurity is added to the CAAC-OS film, the crystallinity of a region to which the impurity is added changes, and a region having a different degree of crystallinity may be formed.

なお、InGaZnOの結晶を有するCAAC−OS膜のout−of−plane法による解析では、2θが31°近傍のピークの他に、2θが36°近傍にもピークが現れる場合がある。2θが36°近傍のピークは、CAAC−OS膜中の一部に、c軸配向性を有さない結晶が含まれることを示している。CAAC−OS膜は、2θが31°近傍にピークを示し、2θが36°近傍にピークを示さないことが好ましい。 Note that when the CAAC-OS film including an InGaZnO 4 crystal is analyzed by an out-of-plane method, a peak may also appear when 2θ is around 36 ° in addition to the peak where 2θ is around 31 °. A peak at 2θ of around 36 ° indicates that a crystal having no c-axis alignment is included in part of the CAAC-OS film. The CAAC-OS film preferably has a peak at 2θ of around 31 ° and no peak at 2θ of around 36 °.

CAAC−OS膜を用いたトランジスタは、可視光や紫外光の照射による電気特性の変動が小さい。よって、当該トランジスタは、信頼性が高い。 In a transistor using a CAAC-OS film, change in electrical characteristics due to irradiation with visible light or ultraviolet light is small. Therefore, the transistor has high reliability.

なお、酸化物半導体膜は、例えば、非晶質酸化物半導体膜、微結晶酸化物半導体膜、CAAC−OS膜のうち、二種以上を有する積層膜であってもよい。 Note that the oxide semiconductor film may be a stacked film including two or more of an amorphous oxide semiconductor film, a microcrystalline oxide semiconductor film, and a CAAC-OS film, for example.

なお、本明細書において、「平行」とは、二つの直線が−10°以上10°以下の角度で配置されている状態をいう。従って、−5°以上5°以下の場合も含まれる。また、「垂直」とは、二つの直線が80°以上100°以下の角度で配置されている状態をいう。従って、85°以上95°以下の場合も含まれる。 In this specification, “parallel” refers to a state in which two straight lines are arranged at an angle of −10 ° to 10 °. Therefore, the case of −5 ° to 5 ° is also included. “Vertical” refers to a state in which two straight lines are arranged at an angle of 80 ° to 100 °. Therefore, the case of 85 ° to 95 ° is also included.

また、本明細書において、結晶が三方晶または菱面体晶である場合、六方晶系として表す。 In this specification, when a crystal is trigonal or rhombohedral, it is represented as a hexagonal system.

ソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線層405a、配線層405bの材料としては、Al、Cr、Ta、Ti、Mo、Wから選ばれた元素、又は上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜等が挙げられる。また、熱処理を行う場合には、この熱処理に耐える耐熱性を導電膜に持たせることが好ましい。例えば、Al単体では耐熱性が劣り、また腐蝕しやすい等の問題点があるので耐熱性導電性材料と組み合わせて形成する。Alと組み合わせる耐熱性導電性材料としては、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、ネオジム(Nd)、スカンジウム(Sc)から選ばれた元素、又は上述した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金膜、又は上述した元素を成分とする窒化物で形成する。 As a material of the wiring layer 405a and the wiring layer 405b functioning as the source electrode layer or the drain electrode layer, an element selected from Al, Cr, Ta, Ti, Mo, W, or an alloy containing the above-described element as a component, Examples thereof include an alloy film in which the above-described elements are combined. In the case where heat treatment is performed, it is preferable that the conductive film has heat resistance enough to withstand the heat treatment. For example, Al alone is inferior in heat resistance and easily corroded, so it is formed in combination with a heat resistant conductive material. The heat-resistant conductive material combined with Al is an element selected from titanium (Ti), tantalum (Ta), tungsten (W), molybdenum (Mo), chromium (Cr), neodymium (Nd), and scandium (Sc). Or an alloy containing the above element as a component, an alloy film combining the above elements, or a nitride containing the above element as a component.

ゲート絶縁層402、半導体層403、ソース電極層又はドレイン電極層として機能する配線層405a、配線層405bを大気に触れさせることなく連続的に形成してもよい。大気に触れさせることなく連続成膜することで、大気成分や大気中に含まれる不純物元素に汚染されることなく各積層界面を形成することができるので、トランジスタ特性のばらつきを低減することができる。 The gate insulating layer 402, the semiconductor layer 403, the wiring layer 405a functioning as a source or drain electrode layer, and the wiring layer 405b may be formed successively without exposure to the air. By continuously forming the film without being exposed to the atmosphere, each stacked interface can be formed without being contaminated by atmospheric components or impurity elements contained in the atmosphere, so that variation in transistor characteristics can be reduced. .

なお、半導体層403は一部のみがエッチングされ、溝部(凹部)を有する半導体層である。 Note that the semiconductor layer 403 is a semiconductor layer which is etched only partly and has a groove (concave portion).

トランジスタ420を覆う絶縁膜407、絶縁膜409は、乾式法や湿式法で形成される無機絶縁膜、有機絶縁膜を用いることができる。例えば、CVD法やスパッタリング法などを用いて得られる窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、酸化タンタル膜などを用いることができる。また、低誘電率材料(low−k材料)、シロキサン系樹脂、PSG(リンガラス)、BPSG(リンボロンガラス)等を用いることができる。また、絶縁膜407として酸化ガリウム膜を用いてもよい。また、ポリイミド、アクリル樹脂、ベンゾシクロブテン系樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂等の有機材料を用いることができる。 As the insulating film 407 and the insulating film 409 which cover the transistor 420, an inorganic insulating film or an organic insulating film formed by a dry method or a wet method can be used. For example, a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, an aluminum oxide film, a tantalum oxide film, or the like obtained by a CVD method, a sputtering method, or the like can be used. Further, a low dielectric constant material (low-k material), a siloxane resin, PSG (phosphorus glass), BPSG (phosphorus boron glass), or the like can be used. Alternatively, a gallium oxide film may be used as the insulating film 407. Alternatively, an organic material such as polyimide, acrylic resin, benzocyclobutene resin, polyamide, or epoxy resin can be used.

なおシロキサン系樹脂とは、シロキサン系材料を出発材料として形成されたSi−O−Si結合を含む樹脂に相当する。シロキサン系樹脂は置換基としては有機基(例えばアルキル基やアリール基)やフッ素を用いても良い。また、有機基はフッ素を有していても良い。シロキサン系樹脂は塗布法により成膜し、焼成することによって絶縁膜407として用いることができる。 Note that the siloxane-based resin corresponds to a resin including a Si—O—Si bond formed using a siloxane-based material as a starting material. Siloxane resins may use organic groups (for example, alkyl groups and aryl groups) and fluorine as substituents. The organic group may have fluorine. A siloxane-based resin can be used as the insulating film 407 by forming a film by a coating method and baking it.

なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁膜407、絶縁膜409を形成してもよい。例えば、無機絶縁膜上に有機樹脂膜を積層する構造としてもよい。 Note that the insulating film 407 and the insulating film 409 may be formed by stacking a plurality of insulating films formed using these materials. For example, an organic resin film may be stacked on the inorganic insulating film.

また、多階調マスクにより形成した複数(代表的には二種類)の厚さの領域を有するレジストマスクを用いると、レジストマスクの数を減らすことができるため、工程簡略化、低コスト化が図れる。 In addition, when a resist mask having a plurality of (typically two types) thickness regions formed using a multi-tone mask is used, the number of resist masks can be reduced, which simplifies processes and reduces costs. I can plan.

以上のように、一般式(G1)で表される有機化合物及びカイラル剤を有する液晶組成物は、ブルー相を発現可能であるため、該液晶組成物を用いた液晶表示装置は、高速応答及び広視野角化が可能である。また、本発明の一態様に係る液晶組成物は、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下である、ブルー相を発現する液晶組成物とすることが可能である。該液晶組成物を用いた液晶表示装置は、高いコントラスト化が可能であるため、視認性のよい高画質な液晶表示装置を提供することができる。 As described above, since a liquid crystal composition having an organic compound represented by the general formula (G1) and a chiral agent can exhibit a blue phase, a liquid crystal display device using the liquid crystal composition has a high-speed response and Wide viewing angle is possible. In addition, the liquid crystal composition according to one embodiment of the present invention can be a liquid crystal composition exhibiting a blue phase whose diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in a reflection spectrum is 500 nm or less. Since a liquid crystal display device using the liquid crystal composition can have high contrast, a high-quality liquid crystal display device with high visibility can be provided.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。 This embodiment can be implemented in appropriate combination with the structures described in the other embodiments.

(実施の形態4)
トランジスタを画素部、さらには駆動回路に用いて表示機能を有する液晶表示装置を作製することができる。また、駆動回路の一部又は全体を、画素部と同じ基板上に一体形成し、システムオンパネルを形成することができる。
(Embodiment 4)
A liquid crystal display device having a display function can be manufactured using the transistor in the pixel portion and further in the driver circuit. In addition, part or all of the driver circuit can be formed over the same substrate as the pixel portion to form a system-on-panel.

液晶表示装置は表示素子として液晶素子(液晶表示素子ともいう)を含む。 A liquid crystal display device includes a liquid crystal element (also referred to as a liquid crystal display element) as a display element.

また、液晶表示装置は、表示素子が封止された状態にあるパネルと、該パネルにコントローラを含むIC等を実装した状態にあるモジュールとを含む。さらに、該液晶表示装置を作製する過程における、表示素子が完成する前の一形態に相当する素子基板に関し、該素子基板は、電流を表示素子に供給するための手段を複数の各画素に備える。素子基板は、具体的には、表示素子の画素電極のみが形成された状態であっても良いし、画素電極となる導電膜を成膜した後であって、エッチングして画素電極を形成する前の状態であってもよいし、あらゆる形態があてはまる。 Further, the liquid crystal display device includes a panel in which the display element is sealed, and a module in which an IC or the like including a controller is mounted on the panel. Furthermore, in the process of manufacturing the liquid crystal display device, an element substrate corresponding to one embodiment before the display element is completed, the element substrate includes means for supplying current to the display element in each of the plurality of pixels. . Specifically, the element substrate may be in a state where only the pixel electrode of the display element is formed, or after the conductive film to be the pixel electrode is formed, the pixel electrode is formed by etching. The previous state may be used, and all forms are applicable.

液晶表示装置の一形態に相当する液晶表示パネルの外観及び断面について、図4を用いて説明する。図4(A1)(A2)は、第1の基板4001上に形成されたトランジスタ4010、4011、及び液晶素子4013を、第2の基板4006との間にシール材4005によって封止した、パネルの上面図であり、図4(B)は、図4(A1)(A2)のM−Nにおける断面図に相当する。 The appearance and a cross section of a liquid crystal display panel, which is an embodiment of a liquid crystal display device, will be described with reference to FIGS. 4A1 and 4A2 illustrate a panel in which the transistors 4010 and 4011 and the liquid crystal element 4013 formed over the first substrate 4001 are sealed with a sealant 4005 between the second substrate 4006 and FIGS. 4B is a top view, and FIG. 4B corresponds to a cross-sectional view taken along line MN in FIGS. 4A1 and 4A2.

第1の基板4001上に設けられた画素部4002と、走査線駆動回路4004とを囲むようにして、シール材4005が設けられている。また画素部4002と、走査線駆動回路4004の上に第2の基板4006が設けられている。よって画素部4002と、走査線駆動回路4004とは、第1の基板4001とシール材4005と第2の基板4006とによって、液晶組成物4008と共に封止されている。 A sealant 4005 is provided so as to surround the pixel portion 4002 provided over the first substrate 4001 and the scan line driver circuit 4004. A second substrate 4006 is provided over the pixel portion 4002 and the scan line driver circuit 4004. Therefore, the pixel portion 4002 and the scan line driver circuit 4004 are sealed together with the liquid crystal composition 4008 by the first substrate 4001, the sealant 4005, and the second substrate 4006.

また、図4(A1)は第1の基板4001上のシール材4005によって囲まれている領域とは異なる領域に、別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路4003が実装されている。なお、図4(A2)は信号線駆動回路の一部を第1の基板4001上に設けられたトランジスタで形成する例であり、第1の基板4001上に信号線駆動回路4003bが形成され、かつ別途用意された基板上に単結晶半導体膜又は多結晶半導体膜で形成された信号線駆動回路4003aが実装されている。 4A1 is formed using a single crystal semiconductor film or a polycrystalline semiconductor film over a separately prepared substrate in a region different from the region surrounded by the sealant 4005 over the first substrate 4001. A signal line driver circuit 4003 is mounted. 4A2 illustrates an example in which part of the signal line driver circuit is formed using a transistor provided over the first substrate 4001. The signal line driver circuit 4003b is formed over the first substrate 4001. In addition, a signal line driver circuit 4003a formed of a single crystal semiconductor film or a polycrystalline semiconductor film is mounted on a separately prepared substrate.

なお、別途形成した駆動回路の接続方法は、特に限定されるものではなく、COG方法、ワイヤボンディング方法、或いはTAB方法などを用いることができる。図4(A1)は、COG方法により信号線駆動回路4003を実装する例であり、図4(A2)は、TAB方法により信号線駆動回路4003を実装する例である。 Note that a connection method of a driver circuit which is separately formed is not particularly limited, and a COG method, a wire bonding method, a TAB method, or the like can be used. 4A1 illustrates an example in which the signal line driver circuit 4003 is mounted by a COG method, and FIG. 4A2 illustrates an example in which the signal line driver circuit 4003 is mounted by a TAB method.

また第1の基板4001上に設けられた画素部4002と、走査線駆動回路4004は、トランジスタを複数有しており、図4(B)では、画素部4002に含まれるトランジスタ4010と、走査線駆動回路4004に含まれるトランジスタ4011とを例示している。トランジスタ4010、4011上には絶縁層4020、層間膜4021が設けられている。 The pixel portion 4002 and the scan line driver circuit 4004 provided over the first substrate 4001 include a plurality of transistors. In FIG. 4B, the transistor 4010 included in the pixel portion 4002 and the scan line The transistor 4011 included in the driver circuit 4004 is illustrated. An insulating layer 4020 and an interlayer film 4021 are provided over the transistors 4010 and 4011.

また、層間膜4021、又は絶縁層4020上において、駆動回路用のトランジスタ4011の半導体層のチャネル形成領域と重なる位置に導電層を設けてもよい。導電層は、電位がトランジスタ4011のゲート電極層と同じでもよいし、異なっていても良く、第2のゲート電極層として機能させることもできる。 Alternatively, a conductive layer may be provided over the interlayer film 4021 or the insulating layer 4020 so as to overlap with a channel formation region of the semiconductor layer of the transistor 4011 for the driver circuit. The potential of the conductive layer may be the same as or different from that of the gate electrode layer of the transistor 4011, and the conductive layer can function as a second gate electrode layer.

また、層間膜4021上に画素電極層4030及び共通電極層4031が形成され、画素電極層4030はトランジスタ4010と電気的に接続されている。液晶素子4013は、画素電極層4030、共通電極層4031及び液晶組成物4008を含む。なお、第1の基板4001、第2の基板4006の外側にはそれぞれ偏光板4032a、偏光板4032bが設けられている。 In addition, a pixel electrode layer 4030 and a common electrode layer 4031 are formed over the interlayer film 4021, and the pixel electrode layer 4030 is electrically connected to the transistor 4010. The liquid crystal element 4013 includes a pixel electrode layer 4030, a common electrode layer 4031, and a liquid crystal composition 4008. Note that a polarizing plate 4032a and a polarizing plate 4032b are provided outside the first substrate 4001 and the second substrate 4006, respectively.

液晶組成物4008に、実施の形態1で示した一般式(G1)で表される有機化合物を含む液晶組成物を用いる。また、液晶組成物4008として設けられる該液晶組成物には、有機樹脂が含まれてもよい。 As the liquid crystal composition 4008, a liquid crystal composition including the organic compound represented by General Formula (G1) described in Embodiment 1 is used. The liquid crystal composition provided as the liquid crystal composition 4008 may include an organic resin.

画素電極層4030及び共通電極層4031には、実施の形態2で示したような画素電極層及び共通電極層の構成を適用することができる。 For the pixel electrode layer 4030 and the common electrode layer 4031, the structure of the pixel electrode layer and the common electrode layer as described in Embodiment Mode 2 can be applied.

本実施の形態では、液晶組成物4008は実施の形態1で示した一般式(G1)で表される有機化合物及びカイラル剤を有し、ブルー相を発現する液晶組成物を用い高分子安定化処理によって、ブルー相を発現している状態(ブルー相を呈す状態、又はブルー相を示す状態ともいう)で液晶表示装置に設けられる。よって、本実施の形態では、実施の形態2の図1、実施の形態3の図3で示したような画素電極層4030及び共通電極層4031が開口パターンを有する形状である。 In this embodiment, the liquid crystal composition 4008 includes the organic compound represented by the general formula (G1) and the chiral agent described in Embodiment 1, and uses a liquid crystal composition that exhibits a blue phase to stabilize the polymer. By the treatment, the liquid crystal display device is provided in a state where a blue phase is developed (a state exhibiting a blue phase or a state exhibiting a blue phase). Therefore, in this embodiment mode, the pixel electrode layer 4030 and the common electrode layer 4031 as illustrated in FIG. 1 of Embodiment Mode 2 and FIG. 3 of Embodiment Mode 3 have a shape having an opening pattern.

画素電極層4030と共通電極層4031との間に電界を形成することで、液晶組成物4008の液晶を制御する。液晶には水平方向の電界が形成されるため、その電界を用いて液晶分子を制御できる。 By forming an electric field between the pixel electrode layer 4030 and the common electrode layer 4031, the liquid crystal of the liquid crystal composition 4008 is controlled. Since a horizontal electric field is formed in the liquid crystal, the liquid crystal molecules can be controlled using the electric field.

液晶組成物4008は反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下であることが好ましい。このような液晶組成物は、捩れ力が強い液晶組成物である。液晶組成物の捩れ力が強いと、電圧無印加時(印加電圧が0V時)における液晶組成物の透過率を低く抑えることができるため、該液晶組成物を液晶組成物4008に用いた液晶表示装置の高コントラスト化が可能となる。 The liquid crystal composition 4008 preferably has a diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in the reflection spectrum of 500 nm or less. Such a liquid crystal composition is a liquid crystal composition having a strong twisting force. When the twisting force of the liquid crystal composition is strong, the transmittance of the liquid crystal composition when no voltage is applied (when the applied voltage is 0 V) can be kept low. Therefore, a liquid crystal display using the liquid crystal composition as the liquid crystal composition 4008 It is possible to increase the contrast of the apparatus.

なお、第1の基板4001、第2の基板4006としては、透光性を有するガラス、プラスチックなどを用いることができる。プラスチックとしては、PVF(ポリビニルフルオライド)フィルム、ポリエステルフィルム又はアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをPVFフィルムやポリエステルフィルムで挟んだ構造のシートや、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)板を用いることもできる。 Note that the first substrate 4001 and the second substrate 4006 can be formed using light-transmitting glass, plastic, or the like. As the plastic, a PVF (polyvinyl fluoride) film, a polyester film, or an acrylic resin film can be used. Alternatively, a sheet having a structure in which an aluminum foil is sandwiched between PVF films or polyester films, or an FRP (Fiberglass-Reinforced Plastics) plate can be used.

また4035は絶縁膜を選択的にエッチングすることで得られる柱状のスペーサであり、液晶組成物4008の膜厚(セルギャップ)を制御するために設けられている。なお球状のスペーサを用いていても良い。液晶組成物4008を用いる液晶表示装置において液晶組成物の厚さであるセルギャップは1μm以上20μm以下とすることが好ましい。なお、本明細書においてセルギャップの厚さとは、液晶組成物の厚さ(膜厚)の最大値とする。 Reference numeral 4035 denotes a columnar spacer obtained by selectively etching the insulating film, and is provided for controlling the film thickness (cell gap) of the liquid crystal composition 4008. A spherical spacer may be used. In a liquid crystal display device using the liquid crystal composition 4008, the cell gap, which is the thickness of the liquid crystal composition, is preferably 1 μm to 20 μm. In the present specification, the thickness of the cell gap is the maximum value of the thickness (film thickness) of the liquid crystal composition.

なお図4は透過型液晶表示装置の例であるが、本発明は半透過型液晶表示装置でも、反射型液晶表示装置でも適用できる。 Although FIG. 4 shows an example of a transmissive liquid crystal display device, the present invention can be applied to either a transflective liquid crystal display device or a reflective liquid crystal display device.

また、図4の液晶表示装置では、第1の基板4001と第2の基板4006の外側に偏光板を設ける例を示すが、偏光板は基板の内側に設けてもよい。偏光板の材料や作製工程条件によって適宜設定すればよい。また、ブラックマトリクスとして機能する遮光層を設けてもよい。 4 illustrates an example in which a polarizing plate is provided outside the first substrate 4001 and the second substrate 4006, the polarizing plate may be provided inside the substrate. What is necessary is just to set suitably according to the material and preparation process conditions of a polarizing plate. Further, a light shielding layer functioning as a black matrix may be provided.

層間膜4021の一部としてカラーフィルタ層や遮光層を形成してもよい。図4においては、トランジスタ4010、4011上方を覆うように遮光層4034が第2の基板4006側に設けられている例である。遮光層4034を設けることにより、さらにコントラスト向上やトランジスタの安定化の効果を高めることができる。 A color filter layer or a light shielding layer may be formed as part of the interlayer film 4021. FIG. 4 illustrates an example in which a light-blocking layer 4034 is provided on the second substrate 4006 side so as to cover the upper portions of the transistors 4010 and 4011. By providing the light-blocking layer 4034, the effects of improving contrast and stabilizing the transistor can be further increased.

トランジスタの保護膜として機能する絶縁層4020で覆う構成としてもよいが、特に限定されない。 A structure covered with an insulating layer 4020 functioning as a protective film of the transistor may be employed, but is not particularly limited.

なお、保護膜は、大気中の有機物や金属物、水蒸気などの不純物の侵入を防ぐためのものであり、緻密な膜が好ましい。保護膜は、スパッタリング法を用いて、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸化窒化アルミニウム膜、又は窒化酸化アルミニウム膜の単層、又は積層で形成すればよい。 Note that the protective film is for preventing intrusion of impurities such as organic substances, metal substances, and water vapor in the atmosphere, and a dense film is preferable. The protective film is formed by a sputtering method using a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon oxynitride film, a silicon nitride oxide film, an aluminum oxide film, an aluminum nitride film, an aluminum oxynitride film, or an aluminum nitride oxide film, Alternatively, a stacked layer may be formed.

また、平坦化絶縁膜として透光性の絶縁層をさらに形成する場合、ポリイミド、アクリル、ベンゾシクロブテン系樹脂、ポリアミド、エポキシ等の、耐熱性を有する有機材料を用いることができる。また上記有機材料の他に、低誘電率材料(low−k材料)、シロキサン系樹脂、PSG(リンケイ酸ガラス)、BPSG(ボロンリンケイ酸ガラス)等を用いることができる。なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁層を形成してもよい。 In the case where a light-transmitting insulating layer is further formed as the planarizing insulating film, a heat-resistant organic material such as polyimide, acrylic, benzocyclobutene resin, polyamide, or epoxy can be used. In addition to the above organic materials, a low dielectric constant material (low-k material), a siloxane resin, PSG (phosphosilicate glass), BPSG (boron phosphosilicate glass), or the like can be used. Note that the insulating layer may be formed by stacking a plurality of insulating films formed using these materials.

積層する絶縁層の形成法は、特に限定されず、その材料に応じて、スパッタリング法、スピンコート、ディップ法、スプレー塗布法、液滴吐出法(インクジェット法)、スクリーン印刷、オフセット印刷等、ロールコート、カーテンコート、ナイフコート等を用いることができる。 The method of forming the insulating layer to be laminated is not particularly limited, and depending on the material, a sputtering method, spin coating, dipping method, spray coating method, droplet discharge method (inkjet method), screen printing, offset printing, rolls, etc. A coat, a curtain coat, a knife coat, etc. can be used.

画素電極層4030及び共通電極層4031は、酸化タングステンを含むインジウム酸化物、酸化タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、酸化チタンを含むインジウム酸化物、酸化チタンを含むインジウム錫酸化物、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化ケイ素を添加したインジウム錫酸化物、グラフェンなどの透光性を有する導電性材料を用いることができる。 The pixel electrode layer 4030 and the common electrode layer 4031 include indium oxide containing tungsten oxide, indium zinc oxide containing tungsten oxide, indium oxide containing titanium oxide, indium tin oxide containing titanium oxide, indium tin oxide, A light-transmitting conductive material such as indium zinc oxide, indium tin oxide to which silicon oxide is added, or graphene can be used.

また、画素電極層4030及び共通電極層4031はタングステン(W)、モリブデン(Mo)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、チタン(Ti)、白金(Pt)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、銀(Ag)等の金属、又はその合金、若しくはその金属窒化物から一つ、又は複数種を用いて形成することができる。 The pixel electrode layer 4030 and the common electrode layer 4031 include tungsten (W), molybdenum (Mo), zirconium (Zr), hafnium (Hf), vanadium (V), niobium (Nb), tantalum (Ta), chromium (Cr ), Cobalt (Co), nickel (Ni), titanium (Ti), platinum (Pt), aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), or a metal thereof, an alloy thereof, or a metal nitride thereof One or a plurality of types can be used.

また、画素電極層4030及び共通電極層4031として、導電性高分子(導電性ポリマーともいう)を含む導電性組成物を用いて形成することができる。 The pixel electrode layer 4030 and the common electrode layer 4031 can be formed using a conductive composition including a conductive high molecule (also referred to as a conductive polymer).

また別途形成された信号線駆動回路4003と、走査線駆動回路4004又は画素部4002に与えられる各種信号及び電位は、FPC4018から供給されている。 In addition, a variety of signals and potentials are supplied to the signal line driver circuit 4003 which is formed separately, the scan line driver circuit 4004, or the pixel portion 4002 from an FPC 4018.

また、トランジスタは静電気などにより破壊されやすいため、ゲート線又はソース線に対して、駆動回路保護用の保護回路を同一基板上に設けることが好ましい。保護回路は、非線形素子を用いて構成することが好ましい。 Further, since the transistor is easily broken by static electricity or the like, it is preferable to provide a protective circuit for protecting the driver circuit over the same substrate for the gate line or the source line. The protection circuit is preferably configured using a non-linear element.

図4では、接続端子電極4015が、画素電極層4030と同じ導電膜から形成され、端子電極4016は、トランジスタ4010、4011のソース電極層及びドレイン電極層と同じ導電膜で形成されている。 In FIG. 4, the connection terminal electrode 4015 is formed using the same conductive film as the pixel electrode layer 4030, and the terminal electrode 4016 is formed using the same conductive film as the source and drain electrode layers of the transistors 4010 and 4011.

接続端子電極4015は、FPC4018が有する端子と、異方性導電膜4019を介して電気的に接続されている。 The connection terminal electrode 4015 is electrically connected to a terminal included in the FPC 4018 through an anisotropic conductive film 4019.

また図4においては、信号線駆動回路4003を別途形成し、第1の基板4001に実装している例を示しているが、この構成に限定されない。走査線駆動回路を別途形成して実装しても良いし、信号線駆動回路の一部又は走査線駆動回路の一部のみを別途形成して実装しても良い。 FIG. 4 illustrates an example in which the signal line driver circuit 4003 is formed separately and mounted on the first substrate 4001; however, the present invention is not limited to this structure. The scan line driver circuit may be separately formed and then mounted, or only part of the signal line driver circuit or part of the scan line driver circuit may be separately formed and then mounted.

以上のように、一般式(G1)で表される有機化合物及びカイラル剤を有する液晶組成物は、ブルー相を発現可能であるため、該液晶組成物を用いた液晶表示装置は、高速応答及び広視野角化が可能である。また、本発明の一態様に係る液晶組成物は、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下である、ブルー相を発現する液晶組成物とすることが可能である。該液晶組成物を用いた液晶表示装置は、高いコントラスト化が可能であるため、視認性のよい高画質な液晶表示装置を提供することができる。 As described above, since a liquid crystal composition having an organic compound represented by the general formula (G1) and a chiral agent can exhibit a blue phase, a liquid crystal display device using the liquid crystal composition has a high-speed response and Wide viewing angle is possible. In addition, the liquid crystal composition according to one embodiment of the present invention can be a liquid crystal composition exhibiting a blue phase whose diffraction wavelength peak on the longest wavelength side in a reflection spectrum is 500 nm or less. Since a liquid crystal display device using the liquid crystal composition can have high contrast, a high-quality liquid crystal display device with high visibility can be provided.

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。 This embodiment can be implemented in appropriate combination with the structures described in the other embodiments.

(実施の形態5)
本明細書に開示する液晶表示装置は、さまざまな電子機器(遊技機も含む)に適用することができる。電子機器としては、例えば、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。
(Embodiment 5)
The liquid crystal display device disclosed in this specification can be applied to a variety of electronic devices (including game machines). Examples of the electronic device include a television device (also referred to as a television or a television receiver), a monitor for a computer, a digital camera, a digital video camera, a digital photo frame, a mobile phone (also referred to as a mobile phone or a mobile phone device). ), Large game machines such as portable game machines, portable information terminals, sound reproducing devices, and pachinko machines.

図5(A)は、ノート型のパーソナルコンピュータであり、本体3001、筐体3002、表示部3003、キーボード3004などによって構成されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部3003に適用することにより、高コントラストで視認性がよく、信頼性の高いノート型のパーソナルコンピュータとすることができる。 FIG. 5A illustrates a laptop personal computer, which includes a main body 3001, a housing 3002, a display portion 3003, a keyboard 3004, and the like. By applying the liquid crystal display device described in the above embodiment to the display portion 3003, a laptop personal computer with high contrast, high visibility, and high reliability can be provided.

図5(B)は、携帯情報端末(PDA)であり、本体3021には表示部3023と、外部インターフェイス3025と、操作ボタン3024等が設けられている。また操作用の付属品としてスタイラス3022がある。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部3023に適用することにより、高コントラストで視認性がよく、信頼性の高い携帯情報端末(PDA)とすることができる。 FIG. 5B illustrates a personal digital assistant (PDA). A main body 3021 is provided with a display portion 3023, an external interface 3025, operation buttons 3024, and the like. There is a stylus 3022 as an accessory for operation. By applying the liquid crystal display device described in the above embodiment to the display portion 3023, a highly portable personal digital assistant (PDA) with high contrast, high visibility, and high reliability can be provided.

図5(C)は、電子書籍であり、筐体2701および筐体2703の2つの筐体で構成されている。筐体2701および筐体2703は、軸部2711により一体とされており、該軸部2711を軸として開閉動作を行うことができる。このような構成により、紙の書籍のような動作を行うことが可能となる。 FIG. 5C illustrates an electronic book, which includes two housings, a housing 2701 and a housing 2703. The housing 2701 and the housing 2703 are integrated with a shaft portion 2711 and can be opened / closed using the shaft portion 2711 as an axis. With such a configuration, an operation like a paper book can be performed.

筐体2701には表示部2705が組み込まれ、筐体2703には表示部2707が組み込まれている。表示部2705および表示部2707は、続き画面を表示する構成としてもよいし、異なる画面を表示する構成としてもよい。異なる画面を表示する構成とすることで、例えば右側の表示部(図5(C)では表示部2705)に文章を表示し、左側の表示部(図5(C)では表示部2707)に画像を表示することができる。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部2705、表示部2707に適用することにより、高コントラストで視認性がよく、信頼性の高い電子書籍とすることができる。表示部2705として半透過型、又は反射型の液晶表示装置を用いる場合、比較的明るい状況下での使用も予想されるため、太陽電池を設け、太陽電池による発電、及びバッテリーでの充電を行えるようにしてもよい。なおバッテリーとしては、リチウムイオン電池を用いると、小型化を図れる等の利点がある。 A display portion 2705 and a display portion 2707 are incorporated in the housing 2701 and the housing 2703, respectively. The display unit 2705 and the display unit 2707 may be configured to display a continuous screen or may be configured to display different screens. By adopting a configuration in which different screens are displayed, for example, text is displayed on the right display unit (display unit 2705 in FIG. 5C) and an image is displayed on the left display unit (display unit 2707 in FIG. 5C). Can be displayed. By applying the liquid crystal display device described in the above embodiment to the display portion 2705 and the display portion 2707, an electronic book with high contrast, high visibility, and high reliability can be provided. In the case where a transflective or reflective liquid crystal display device is used as the display portion 2705, it is expected to be used in a relatively bright situation. Therefore, a solar cell is provided, and power generation by the solar cell and charging with the battery can be performed. You may do it. In addition, when a lithium ion battery is used as a battery, there exists an advantage, such as achieving size reduction.

また、図5(C)では、筐体2701に操作部などを備えた例を示している。例えば、筐体2701において、電源2721、操作キー2723、スピーカー2725などを備えている。操作キー2723により、頁を送ることができる。なお、筐体の表示部と同一面にキーボードやポインティングデバイスなどを備える構成としてもよい。また、筐体の裏面や側面に、外部接続用端子(イヤホン端子、USB端子など)、記録媒体挿入部などを備える構成としてもよい。さらに、電子書籍は、電子辞書としての機能を持たせた構成としてもよい。 FIG. 5C illustrates an example in which the housing 2701 is provided with an operation portion and the like. For example, the housing 2701 is provided with a power supply 2721, operation keys 2723, a speaker 2725, and the like. Pages can be turned with the operation keys 2723. Note that a keyboard, a pointing device, or the like may be provided on the same surface as the display portion of the housing. In addition, an external connection terminal (such as an earphone terminal or a USB terminal), a recording medium insertion portion, or the like may be provided on the rear surface or side surface of the housing. Further, the electronic book may have a structure as an electronic dictionary.

また、電子書籍は、無線で情報を送受信できる構成としてもよい。無線により、電子書籍サーバから、所望の書籍データなどを購入し、ダウンロードする構成とすることも可能である。 Further, the electronic book may have a configuration capable of transmitting and receiving information wirelessly. It is also possible to adopt a configuration in which desired book data or the like is purchased and downloaded from an electronic book server wirelessly.

図5(D)は、携帯電話であり、筐体2800及び筐体2801の二つの筐体で構成されている。筐体2801には、表示パネル2802、スピーカー2803、マイクロフォン2804、ポインティングデバイス2806、カメラ用レンズ2807、外部接続端子2808などを備えている。また、筐体2800には、携帯電話の充電を行う太陽電池セル2810、外部メモリスロット2811などを備えている。また、アンテナは筐体2801内部に内蔵されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示パネル2802に適用することにより、高コントラストで視認性がよく、信頼性の高い携帯電話とすることができる。 FIG. 5D illustrates a mobile phone, which includes two housings, a housing 2800 and a housing 2801. The housing 2801 is provided with a display panel 2802, a speaker 2803, a microphone 2804, a pointing device 2806, a camera lens 2807, an external connection terminal 2808, and the like. The housing 2800 is provided with a solar cell 2810 for charging the mobile phone, an external memory slot 2811, and the like. An antenna is incorporated in the housing 2801. By applying the liquid crystal display device described in the above embodiment to the display panel 2802, the mobile phone can have high contrast, high visibility, and high reliability.

また、表示パネル2802はタッチパネルを備えており、図5(D)には映像表示されている複数の操作キー2805を点線で示している。なお、太陽電池セル2810で出力される電圧を各回路に必要な電圧に昇圧するための昇圧回路も実装している。 In addition, the display panel 2802 is provided with a touch panel. A plurality of operation keys 2805 that are displayed as images is illustrated by dashed lines in FIG. Note that a booster circuit for boosting the voltage output from the solar battery cell 2810 to a voltage required for each circuit is also mounted.

表示パネル2802は、使用形態に応じて表示の方向が適宜変化する。また、表示パネル2802と同一面上にカメラ用レンズ2807を備えているため、テレビ電話が可能である。スピーカー2803及びマイクロフォン2804は音声通話に限らず、テレビ電話、録音、再生などが可能である。さらに、筐体2800と筐体2801は、スライドし、図5(D)のように展開している状態から重なり合った状態とすることができ、携帯に適した小型化が可能である。 In the display panel 2802, the display direction can be appropriately changed depending on a usage pattern. In addition, since the camera lens 2807 is provided on the same surface as the display panel 2802, a videophone can be used. The speaker 2803 and the microphone 2804 can be used for videophone calls, recording and playing sound, and the like as well as voice calls. Further, the housing 2800 and the housing 2801 can be slid to be in an overlapped state from the deployed state as illustrated in FIG. 5D, and thus can be reduced in size suitable for carrying.

外部接続端子2808はACアダプタ及びUSBケーブルなどの各種ケーブルと接続可能であり、充電及びパーソナルコンピュータなどとのデータ通信が可能である。また、外部メモリスロット2811に記録媒体を挿入し、より大量のデータ保存及び移動に対応できる。 The external connection terminal 2808 can be connected to an AC adapter and various types of cables such as a USB cable, and charging and data communication with a personal computer are possible. Further, a recording medium can be inserted into the external memory slot 2811 so that a larger amount of data can be stored and moved.

また、上記機能に加えて、赤外線通信機能、テレビ受信機能などを備えたものであってもよい。 In addition to the above functions, an infrared communication function, a television reception function, or the like may be provided.

図5(E)は、デジタルビデオカメラであり、本体3051、表示部(A)3057、接眼部3053、操作スイッチ3054、表示部(B)3055、バッテリー3056などによって構成されている。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部(A)3057、表示部(B)3055に適用することにより、高コントラストで視認性がよく、信頼性の高いデジタルビデオカメラとすることができる。 FIG. 5E illustrates a digital video camera which includes a main body 3051, a display portion (A) 3057, an eyepiece portion 3053, operation switches 3054, a display portion (B) 3055, a battery 3056, and the like. By applying the liquid crystal display device described in the above embodiment to the display portion (A) 3057 and the display portion (B) 3055, a digital video camera with high contrast, high visibility, and high reliability can be obtained. it can.

図5(F)は、テレビジョン装置であり、筐体9601や表示部9603などによって構成されている。表示部9603により、映像を表示することが可能である。また、ここでは、スタンド9605により筐体9601を支持した構成を示している。先の実施の形態で示した液晶表示装置を表示部9603に適用することにより、高コントラストで視認性がよく、信頼性の高いテレビジョン装置とすることができる。 FIG. 5F illustrates a television device, which includes a housing 9601, a display portion 9603, and the like. Images can be displayed on the display portion 9603. Here, a structure in which the housing 9601 is supported by a stand 9605 is illustrated. By applying the liquid crystal display device described in the above embodiment to the display portion 9603, a television device with high contrast, high visibility, and high reliability can be provided.

テレビジョン装置の操作は、筐体9601が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機により行うことができる。また、リモコン操作機に、当該リモコン操作機から出力する情報を表示する表示部を設ける構成としてもよい。 The television device can be operated with an operation switch provided in the housing 9601 or a separate remote controller. Further, the remote controller may be provided with a display unit that displays information output from the remote controller.

なお、テレビジョン装置は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線又は無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)又は双方向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。 Note that the television device is provided with a receiver, a modem, and the like. General TV broadcasts can be received by a receiver, and connected to a wired or wireless communication network via a modem, so that it can be unidirectional (sender to receiver) or bidirectional (sender and receiver). It is also possible to perform information communication between each other or between recipients).

本実施の形態は、他の実施の形態に記載した構成と適宜組み合わせて実施することが可能である。 This embodiment can be implemented in appropriate combination with the structures described in the other embodiments.

本実施例では、実施の形態1において構造式(101)で表される1,5−ペンタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル](略称;BM−3−EPPFFF)を合成する例を示す。 In this example, bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] 1,5-pentanedioic acid represented by the structural formula (101) in Embodiment Mode 1 (abbreviation: BM-3- An example of synthesizing (EPPFFF) is shown.

<ステップ1:3,4,5−トリフルオロ−4’−ヒドロキシビフェニルの合成>
11g(63mmol)の4−ブロモフェノールと、10g(58mmol)の3,4,5−トリフルオロフェニルボロン酸と、0.97g(3.2mmol)のトリス(2−メチルフェニル)ホスフィンと、158mLのトルエンと、158mLのエタノールと、63mLの2M炭酸カリウム水溶液をフラスコに加え、減圧下で撹拌しながら脱気し、脱気後フラスコ内の雰囲気を窒素置換した。この混合物に0.14g(0.63mmol)の酢酸パラジウム(II)を加え、90℃で6時間攪拌した。
<Step 1: Synthesis of 3,4,5-trifluoro-4'-hydroxybiphenyl>
11 g (63 mmol) 4-bromophenol, 10 g (58 mmol) 3,4,5-trifluorophenylboronic acid, 0.97 g (3.2 mmol) tris (2-methylphenyl) phosphine, 158 mL Toluene, 158 mL of ethanol, and 63 mL of 2M potassium carbonate aqueous solution were added to the flask, and the mixture was deaerated while being stirred under reduced pressure. After degassing, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen. To this mixture, 0.14 g (0.63 mmol) of palladium (II) acetate was added and stirred at 90 ° C. for 6 hours.

得られた混合物に酢酸エチルと水を加え、有機層を取り出し、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液と有機層を合わせ、水と、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過により濾別し、濾液を濃縮してセライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)、アルミナ、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)を通して吸引ろ過した。この混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)により精製した。得られたフラクションを濃縮し真空乾燥して、目的物である3,4,5−トリフルオロ−4’−ヒドロキシビフェニルの白色固体を収量8.5g、収率66%で得た。以上のステップ1の合成スキームを、下記(E1−1)に示す。 Ethyl acetate and water were added to the obtained mixture, the organic layer was taken out, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. The obtained extracted solution and the organic layer were combined, washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. This mixture was separated by natural filtration, and the filtrate was concentrated to obtain Celite (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., catalog number: 531-1855), alumina, Florisil (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., catalog number: 540-00135). And filtered through suction. This mixture was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1). The obtained fraction was concentrated and vacuum-dried to obtain 8.5 g of a target white solid of 3,4,5-trifluoro-4'-hydroxybiphenyl in a yield of 66%. The synthesis scheme of Step 1 above is shown in (E1-1) below.

<ステップ2:1,5−ペンタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル]の合成>
1.2g(8.9mmol)のグルタル酸と、4.0g(18mmol)の3,4,5−トリフルオロ−4’−ヒドロキシビフェニルと、0.33g(2.7mmol)のN,N−ジメチル−N−(4−ピリジニル)アミンと、8.9mLのジクロロメタンを50mLのナスフラスコに加え、攪拌した。この混合物に3.8g(20mmol)の1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を加え、大気下、室温で24時間攪拌した。得られた混合物にジクロロメタンと水を加え、有機層を取り出し、水層をジクロロメタンで抽出した。
<Step 2: Synthesis of bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] 1,5-pentanedioate>
1.2 g (8.9 mmol) glutaric acid, 4.0 g (18 mmol) 3,4,5-trifluoro-4′-hydroxybiphenyl, 0.33 g (2.7 mmol) N, N-dimethyl -N- (4-pyridinyl) amine and 8.9 mL of dichloromethane were added to a 50 mL eggplant flask and stirred. To this mixture, 3.8 g (20 mmol) of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. Dichloromethane and water were added to the resulting mixture, the organic layer was taken out, and the aqueous layer was extracted with dichloromethane.

得られた抽出溶液と有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過し、濾液を濃縮して白色固体を得た。この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;クロロホルム)により精製した。得られたフラクションを濃縮し、白色固体を得た。この固体を高速液体カラムクロマトグラフィー(HPLC)(展開溶媒;クロロホルム)により精製した。 The extracted solution and the organic layer were combined, washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. The mixture was gravity filtered, and the filtrate was concentrated to give a white solid. This solid was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: chloroform). The obtained fraction was concentrated to obtain a white solid. This solid was purified by high performance liquid column chromatography (HPLC) (developing solvent; chloroform).

得られたフラクションを濃縮して、目的物である白色固体を収量4.2g、収率88%で得た。この固体をトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、圧力2.6Pa、アルゴン流量10mL/minの条件で、白色固体を199℃で加熱して行った。昇華精製後、目的物である1,5−ペンタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル]の白色固体を収量3.5g、回収率83%で得た。以上のステップ2の合成スキームを、下記(E1−2)に示す。 The obtained fraction was concentrated to obtain 4.2 g of a target white solid in a yield of 88%. This solid was purified by sublimation by a train sublimation method. The sublimation purification was performed by heating the white solid at 199 ° C. under the conditions of a pressure of 2.6 Pa and an argon flow rate of 10 mL / min. After purification by sublimation, a white solid of bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] 1,5-pentanedioic acid, which was the object, was obtained in a yield of 3.5 g and a recovery rate of 83%. The synthesis scheme of Step 2 above is shown in (E1-2) below.

核磁気共鳴法(NMR)によって、この化合物が目的物である1,5−ペンタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル](略称:BM−3−EPPFFF)であることを確認した。 According to nuclear magnetic resonance (NMR), this compound is the target 1,5-pentanedioic acid bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] (abbreviation: BM-3-EPPFFF). I confirmed that there was.

得られた物質(BM−3−EPPFFF)のH NMRデータを以下に示す。また、図6にNMRチャートを示す。なお、図6(B)は、図6(A)における0ppm〜5.0ppmの範囲を拡大して表したチャートである。また、図6(C)は、図6(A)における5.0ppm〜10ppmの範囲を拡大して表したチャートである。 1 H NMR data of the obtained substance (BM-3-EPPFFF) are shown below. FIG. 6 shows an NMR chart. Note that FIG. 6B is a chart in which the range of 0 ppm to 5.0 ppm in FIG. FIG. 6C is a chart in which the range of 5.0 ppm to 10 ppm in FIG.

H NMR(CDCl、300MHz):δ(ppm)=2.19−2.28(m、2H)、2.78(t、4H)、7.12−7.22(m、8H)、7.50(d、4H)。 1 H NMR (CDCl 3 , 300 MHz): δ (ppm) = 2.19-2.28 (m, 2H), 2.78 (t, 4H), 7.12-7.22 (m, 8H), 7.50 (d, 4H).

本実施例では、実施の形態1において構造式(102)で表される1,7−ヘプタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル](略称;BM−5−EPPFFF)を合成する例を示す。 In this example, bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] 1,7-heptanedioate represented by Structural Formula (102) in Embodiment Mode 1 (abbreviation: BM-5 An example of synthesizing (EPPFFF) is shown.

<ステップ1:3,4,5−トリフルオロ−4’−ヒドロキシビフェニルの合成>
11g(63mmol)の4−ブロモフェノールと、10g(58mmol)の3,4,5−トリフルオロフェニルボロン酸と、0.97g(3.2mmol)のトリス(2−メチルフェニル)ホスフィンと、158mLのトルエンと、158mLのエタノールと、63mLの2M炭酸カリウム水溶液をフラスコに加え、減圧下で撹拌しながら脱気し、脱気後フラスコ内の雰囲気を窒素置換した。この混合物に0.14g(0.63mmol)の酢酸パラジウム(II)を加え、90℃で6時間攪拌した。
<Step 1: Synthesis of 3,4,5-trifluoro-4'-hydroxybiphenyl>
11 g (63 mmol) 4-bromophenol, 10 g (58 mmol) 3,4,5-trifluorophenylboronic acid, 0.97 g (3.2 mmol) tris (2-methylphenyl) phosphine, 158 mL Toluene, 158 mL of ethanol, and 63 mL of 2M potassium carbonate aqueous solution were added to the flask, and the mixture was deaerated while being stirred under reduced pressure. After degassing, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen. To this mixture, 0.14 g (0.63 mmol) of palladium (II) acetate was added and stirred at 90 ° C. for 6 hours.

得られた混合物に酢酸エチルと水を加え、有機層を取り出し、水層を酢酸エチルで抽出した。得られた抽出溶液と有機層を合わせ、水と、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過により濾別し、濾液を濃縮してセライト、アルミナ、フロリジールを通して吸引ろ過した。この混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=5:1)により精製した。得られたフラクションを濃縮し真空乾燥して、目的物である3,4,5−トリフルオロ−4’−ヒドロキシビフェニルの白色固体を収量8.5g、収率66%で得た。以上のステップ1の合成スキームを、下記(E2−1)に示す。 Ethyl acetate and water were added to the obtained mixture, the organic layer was taken out, and the aqueous layer was extracted with ethyl acetate. The obtained extracted solution and the organic layer were combined, washed with water and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. This mixture was separated by gravity filtration, and the filtrate was concentrated and suction filtered through Celite, alumina, and Florisil. This mixture was purified by silica gel column chromatography (developing solvent; hexane: ethyl acetate = 5: 1). The obtained fraction was concentrated and vacuum-dried to obtain 8.5 g of a target white solid of 3,4,5-trifluoro-4'-hydroxybiphenyl in a yield of 66%. The synthesis scheme of Step 1 is shown in (E2-1) below.

<ステップ2:1,7−ヘプタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル]の合成>
1.4g(8.9mmol)のピメリン酸と、4.0g(18mmol)の3,4,5−トリフルオロ−4’−ヒドロキシビフェニルと、0.33g(2.7mmol)のN,N−ジメチル−N−(4−ピリジニル)アミンと、8.9mLのジクロロメタンを50mLのナスフラスコに加え、攪拌した。この混合物に3.8g(20mmol)の1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を加え、大気下、室温で24時間攪拌した。得られた混合物にジクロロメタンと水を加え、有機層を取り出し、水層をジクロロメタンで抽出した。
<Step 2: Synthesis of bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] 1,7-heptanedioic acid>
1.4 g (8.9 mmol) pimelic acid, 4.0 g (18 mmol) 3,4,5-trifluoro-4′-hydroxybiphenyl, 0.33 g (2.7 mmol) N, N-dimethyl -N- (4-pyridinyl) amine and 8.9 mL of dichloromethane were added to a 50 mL eggplant flask and stirred. To this mixture, 3.8 g (20 mmol) of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. Dichloromethane and water were added to the resulting mixture, the organic layer was taken out, and the aqueous layer was extracted with dichloromethane.

得られた抽出溶液と有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。この混合物を自然濾過し、濾液を濃縮して白色固体を得た。この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;クロロホルム)により精製した。得られたフラクションを濃縮し、白色固体を得た。この固体を高速液体カラムクロマトグラフィー(HPLC)(展開溶媒;クロロホルム)により精製した。得られたフラクションを濃縮して、目的物である白色固体を収量4.3g、収率84%で得た。この固体をトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製は、圧力2.6Pa、アルゴン流量10mL/minの条件で、白色固体を234℃で加熱して行った。昇華精製後、目的物である1,7−ヘプタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル]の白色固体を収量3.4g、回収率79%で得た。以上のステップ2の合成スキームを、下記(E2−2)に示す。 The extracted solution and the organic layer were combined, washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, and dried over magnesium sulfate. The mixture was gravity filtered, and the filtrate was concentrated to give a white solid. This solid was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: chloroform). The obtained fraction was concentrated to obtain a white solid. This solid was purified by high performance liquid column chromatography (HPLC) (developing solvent; chloroform). The obtained fraction was concentrated to obtain a target white solid in a yield of 4.3 g and a yield of 84%. This solid was purified by sublimation by a train sublimation method. The sublimation purification was performed by heating the white solid at 234 ° C. under the conditions of a pressure of 2.6 Pa and an argon flow rate of 10 mL / min. After sublimation purification, a white solid of bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] 1,7-heptanedioic acid, which was the target product, was obtained in a yield of 3.4 g and a recovery rate of 79%. The synthesis scheme of Step 2 above is shown in (E2-2) below.

核磁気共鳴法(NMR)によって、この化合物が目的物である1,7−ヘプタン二酸ビス[4−(3,4,5−トリフルオロフェニル)フェニル](略称:BM−5−EPPFFF)であることを確認した。 By nuclear magnetic resonance (NMR), this compound is the target 1,7-heptanedioic acid bis [4- (3,4,5-trifluorophenyl) phenyl] (abbreviation: BM-5-EPPFFF). I confirmed that there was.

得られた物質(BM−5−EPPFFF)のH NMRデータを以下に示す。また、図7にNMRチャートを示す。なお、図7(B)は、図7(A)における0ppm〜5.0ppmの範囲を拡大して表したチャートである。また、図7(C)は、図7(A)における5.0ppm〜10ppmの範囲を拡大して表したチャートである。 1 H NMR data of the obtained substance (BM-5-EPPFFF) are shown below. FIG. 7 shows an NMR chart. Note that FIG. 7B is a chart in which the range of 0 ppm to 5.0 ppm in FIG. FIG. 7C is a chart in which the range of 5.0 ppm to 10 ppm in FIG.

H NMR(CDCl、300MHz):δ(ppm)=1.55−1.63(m、2H)、1.81−1.91(m、4H)、2.64(t、4H)、7.10−7.19(m、8H)、7.49(d、4H)。 1 H NMR (CDCl 3 , 300 MHz): δ (ppm) = 1.5-1.63 (m, 2H), 1.81-1.91 (m, 4H), 2.64 (t, 4H), 7.10-7.19 (m, 8H), 7.49 (d, 4H).

本実施例では、実施例1及び実施例2で合成した本発明の一態様に係る有機化合物を含む液晶組成物と、比較例として本発明に係る有機化合物を添加しない液晶組成物をそれぞれ用いた液晶素子を作製し、その特性の評価を行った。 In this example, a liquid crystal composition containing the organic compound according to one embodiment of the present invention synthesized in Example 1 and Example 2 and a liquid crystal composition not containing the organic compound according to the present invention were used as comparative examples. A liquid crystal element was produced and its characteristics were evaluated.

本実施例では、実施例1で合成した構造式(101)で表されるBM−3−EPPFFFを含有する液晶組成物を用いた液晶素子(実施例試料1)、実施例2で合成した構造式(102)で表されるBM−5−EPPFFFを含有する液晶組成物を用いた液晶素子(実施例試料2)、及び、本発明に係る有機化合物を添加しない液晶組成物を用いた液晶素子(比較例試料1)を作製した。実施例試料1に用いた液晶組成物の構成を表1に、実施例試料2に用いた液晶組成物の構成を表2に、比較例試料1に用いた液晶組成物の構成を表3にそれぞれ示す。なお、表1乃至表3では、割合(混合比)はすべて重量比で表している。 In this example, a liquid crystal element (Example Sample 1) using the liquid crystal composition containing BM-3-EPPFFF represented by Structural Formula (101) synthesized in Example 1 and the structure synthesized in Example 2 were used. Liquid crystal element using the liquid crystal composition containing BM-5-EPPFFF represented by the formula (102) (Example sample 2), and liquid crystal element using the liquid crystal composition to which no organic compound according to the present invention is added (Comparative Example Sample 1) was produced. The configuration of the liquid crystal composition used in Example Sample 1 is shown in Table 1, the configuration of the liquid crystal composition used in Example Sample 2 is shown in Table 2, and the configuration of the liquid crystal composition used in Comparative Example Sample 1 is shown in Table 3. Each is shown. In Tables 1 to 3, all ratios (mixing ratios) are expressed as weight ratios.

実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1において、液晶として、混合液晶E−8(株式会社LCC製)、4−(trans−4−n−プロピルシクロヘキシル)−3’,4’−ジフルオロ−1,1’−ビフェニル(略称:CPP−3FF)、3−フルオロ−4−シアノフェノールシアノフェニル(略称:PEP−5CNF)、カイラル剤として1,4:3,6−ジアンヒドロ−2,5−ビス[4−(n−ヘキシル−1−オキシ)安息香酸]ソルビトール(略称:ISO−(6OBA))(みどり化学株式会社製)、重合性モノマーとして1,4−ビス−[4−(4−アクリロイロキシ−n−へキシル−1−オキシ)ベンゾイロキシ]−2−メチルベンゼン(略称:RM257−O6)(シントンケミカルズ株式会社製)、非液晶性モノマーとしてメタクリル酸ドデシル(略称:DMeAc)(東京化成工業株式会社製)、重合開始剤としてDMPAP(略称)(東京化成工業株式会社製)を用いた。 In Example Sample 1, Example Sample 2, and Comparative Sample 1, mixed liquid crystal E-8 (manufactured by LCC Co., Ltd.), 4- (trans-4-n-propylcyclohexyl) -3 ′, 4′- was used as the liquid crystal. Difluoro-1,1′-biphenyl (abbreviation: CPP-3FF), 3-fluoro-4-cyanophenol cyanophenyl (abbreviation: PEP-5CNF), 1,4: 3,6-dianhydro-2,5 as a chiral agent -Bis [4- (n-hexyl-1-oxy) benzoic acid] sorbitol (abbreviation: ISO- (6OBA) 2 ) (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), 1,4-bis- [4- ( 4-acryloyloxy-n-hexyl-1-oxy) benzoyloxy] -2-methylbenzene (abbreviation: RM257-O6) (manufactured by Synton Chemicals Co., Ltd.), non-liquid crystalline mono Over as dodecyl methacrylate (abbreviation: DMeAc) (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), was used DMPAP (abbreviation) (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a polymerization initiator.

さらに、実施例試料1では液晶として、構造式(101)で表されるBM−3−EPPFFFを用い、実施例試料2では液晶として、構造式(102)で表されるBM−5−EPPFFFをそれぞれ用いた。 Further, Example Sample 1 uses BM-3-EPPFFF represented by Structural Formula (101) as the liquid crystal, and Example Sample 2 uses BM-5-EPPFFF represented by Structural Formula (102) as the liquid crystal. Each was used.

本実施例の液晶組成物に用いた有機化合物の構造式を下記に示す。 The structural formula of the organic compound used in the liquid crystal composition of this example is shown below.

実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1は、画素電極層及び共通電極層が図3(D)のように櫛歯状に形成されたガラス基板と、対向基板となるガラス基板とを間に空隙(4μm)を有してシール材によって貼り合わせた後、注入法によって等方相の状態で攪拌した各液晶組成物を基板間に注入し作製した。 Example Sample 1, Example Sample 2, and Comparative Example Sample 1 are composed of a glass substrate in which a pixel electrode layer and a common electrode layer are formed in a comb-like shape as shown in FIG. After being bonded together with a sealing material with a gap (4 μm) in between, each liquid crystal composition stirred in an isotropic phase was injected between the substrates by an injection method.

画素電極層及び共通電極層は酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)を用いてスパッタリング法にて形成した。なお、その膜厚は110nmとし、画素電極層と共通電極層の各幅、及び画素電極層と共通電極層との間隔は2μmとした。また、シール材は紫外線及び熱硬化型シール材を用い、硬化処理として、90秒間の紫外線(放射照度100mW/cm)照射処理を行い、その後120℃で1時間加熱処理を行った。 The pixel electrode layer and the common electrode layer were formed by sputtering using indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO). The film thickness was 110 nm, the widths of the pixel electrode layer and the common electrode layer, and the distance between the pixel electrode layer and the common electrode layer were 2 μm. Further, as the sealing material, an ultraviolet ray and a thermosetting sealing material were used, and as a curing treatment, an ultraviolet ray (irradiance: 100 mW / cm 2 ) irradiation treatment was performed for 90 seconds, and then a heat treatment was performed at 120 ° C. for 1 hour.

実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1の液晶素子の液晶組成物を等方相とした後、温調器によって降温させながら偏光顕微鏡にて観察を行い、液晶組成物がブルー相を発現する温度範囲の測定を行った。 After making the liquid crystal compositions of the liquid crystal elements of Example Sample 1, Example Sample 2 and Comparative Example Sample 1 into an isotropic phase, the liquid crystal composition is observed in a blue phase while being cooled with a temperature controller and observed with a polarizing microscope. Measurement of the temperature range that expresses.

実施例試料1では31.2℃〜36.4℃の温度範囲でブルー相が発現し、実施例試料2では31.0℃〜36.0℃の温度範囲でブルー相が発現し、比較例試料1では33.5℃〜40.9℃の温度範囲でブルー相が発現した。 Example Sample 1 developed a blue phase in the temperature range of 31.2 ° C. to 36.4 ° C., Example Sample 2 developed a blue phase in the temperature range of 31.0 ° C. to 36.0 ° C., and Comparative Example In sample 1, a blue phase developed in the temperature range of 33.5 ° C. to 40.9 ° C.

次いで、ブルー相の発現する温度範囲を広げるために、各液晶素子に対して高分子安定化処理を施した。高分子安定化処理の条件は、実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1のそれぞれにおいて、ブルー相が発現する最高温度より3℃高い温度(最高温度+3℃)からブルー相が発現する最低温度の範囲内の任意の温度において恒温とし、紫外線ランプからの光を350nm以下の波長をカットする短波長カットフィルターを介して、放射照度12mW/cmで、6分間照射することによって高分子安定化処理を行った。なお、高分子安定化処理によって、実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1の液晶組成物中に含まれる重合性モノマーが重合し、実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1は、有機樹脂を含む液晶組成物を有する液晶素子となる。 Next, in order to widen the temperature range where the blue phase appears, each liquid crystal element was subjected to polymer stabilization treatment. The conditions of the polymer stabilization treatment are as follows: in each of Example Sample 1, Example Sample 2 and Comparative Example Sample 1, the blue phase appears from a temperature 3 ° C. higher than the maximum temperature at which the blue phase appears (maximum temperature + 3 ° C.) The temperature is kept constant at an arbitrary temperature within the minimum temperature range, and the light from the ultraviolet lamp is irradiated for 6 minutes at an irradiance of 12 mW / cm 2 through a short wavelength cut filter that cuts a wavelength of 350 nm or less. A molecular stabilization treatment was performed. By the polymer stabilization treatment, the polymerizable monomers contained in the liquid crystal compositions of Example Sample 1, Example Sample 2 and Comparative Example Sample 1 were polymerized, and Example Sample 1, Example Sample 2 and Comparative Example were polymerized. Sample 1 is a liquid crystal element having a liquid crystal composition containing an organic resin.

次に、高分子安定化処理を行った液晶組成物を有する実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1に含まれる液晶組成物の反射光強度のスペクトルを測定した。測定には、偏光顕微鏡(MX−61L オリンパス株式会社製)及び顕微分光システム(LVmicroUV/VIS 株式会社ラムダビジョン製)を用いた。また、測定は、室温(20℃)にて行った。 Next, the spectrum of the reflected light intensity of the liquid crystal compositions contained in Example Sample 1, Example Sample 2 and Comparative Example Sample 1 having the liquid crystal composition subjected to the polymer stabilization treatment was measured. For the measurement, a polarizing microscope (MX-61L manufactured by Olympus Corporation) and a microspectroscopic system (LVmicroUV / VIS manufactured by Lambda Vision Co., Ltd.) were used. Moreover, the measurement was performed at room temperature (20 degreeC).

なお、本実施例の反射光強度のスペクトルの測定において、顕微分光システムの測定モードは、反射モードとし、偏光子はクロスニコルとし、測定領域は、12μmφ、測定波長は250nm〜800nmとした。測定範囲が狭いため、顕微分光システムのモニタにてブルー相の色が長波長となる領域を選定して測定を行った。なお、測定時に画素電極層及び共通電極層の影響を受けないように、電極層が形成されていない対向基板となるガラス基板側から測定を行った。 In the measurement of the spectrum of the reflected light intensity of this example, the measurement mode of the microspectroscopic system was the reflection mode, the polarizer was crossed Nicol, the measurement region was 12 μmφ, and the measurement wavelength was 250 nm to 800 nm. Since the measurement range is narrow, the region where the blue phase color has a long wavelength is selected on the monitor of the microspectroscopy system. Note that the measurement was performed from the glass substrate side which is the counter substrate on which the electrode layer is not formed so as not to be affected by the pixel electrode layer and the common electrode layer at the time of measurement.

図8に、実施例試料1、実施例試料2及び比較例試料1にそれぞれ含まれる液晶組成物の反射光強度のスペクトルを示す。液晶組成物の反射スペクトルにおいて、回折波長のピークを検出した。検出した反射スペクトルにおける回折波長のピークは、最も長波長側に出現するピークの最大値である。 In FIG. 8, the spectrum of the reflected light intensity of the liquid crystal composition contained in each of Example Sample 1, Example Sample 2, and Comparative Example Sample 1 is shown. In the reflection spectrum of the liquid crystal composition, a diffraction wavelength peak was detected. The peak of the diffraction wavelength in the detected reflection spectrum is the maximum value of the peak that appears on the longest wavelength side.

図8より、本発明の一態様である実施例試料1及び実施例試料2の反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークは、実施例試料1では492nmであり、実施例試料2では494nmであった。一方、本発明の一態様に係る有機化合物を含有しない比較例試料1では、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが545nmであった。よって、本発明の一態様である実施例試料1及び実施例試料2では、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークがより短波長側に位置していることが確認された。すなわち、本発明の一態様に係る液晶組成物は、捩れ力の強い液晶組成物であることが示された。液晶組成物の捩れ力が強いと、電圧無印加時(印加電圧が0V時)における液晶組成物の透過率を低く抑えることができるため、該液晶組成物を用いた液晶表示装置の高コントラスト化が可能となる。 From FIG. 8, the peak of the diffraction wavelength on the longest wavelength side in the reflection spectra of Example Sample 1 and Example Sample 2 which is one embodiment of the present invention is 492 nm in Example Sample 1 and 494 nm in Example Sample 2. Met. On the other hand, in Comparative Sample 1 that does not contain the organic compound according to one embodiment of the present invention, the peak of the diffraction wavelength on the longest wavelength side in the reflection spectrum was 545 nm. Therefore, in Example Sample 1 and Example Sample 2 which is one embodiment of the present invention, it was confirmed that the peak of the diffraction wavelength on the longest wavelength side in the reflection spectrum is located on the shorter wavelength side. That is, it was shown that the liquid crystal composition according to one embodiment of the present invention is a liquid crystal composition with strong twisting power. When the twisting force of the liquid crystal composition is strong, the transmittance of the liquid crystal composition when no voltage is applied (when the applied voltage is 0 V) can be kept low, so that the liquid crystal display device using the liquid crystal composition has high contrast. Is possible.

従って、本発明の一形態である本実施例のブルー相を発現する液晶組成物を用いると、より高いコントラスト化を達成する液晶表示装置を提供することができる。 Therefore, when the liquid crystal composition exhibiting a blue phase of this embodiment which is one embodiment of the present invention is used, a liquid crystal display device which can achieve higher contrast can be provided.

200 基板
201 基板
208 液晶組成物
230 画素電極層
232 共通電極層
401 ゲート電極層
402 ゲート絶縁層
403 半導体層
405a 配線層
405b 配線層
407 絶縁膜
408 共通配線層
409 絶縁膜
413 層間膜
420 トランジスタ
441 基板
442 基板
443a 偏光板
443b 偏光板
444 液晶組成物
446 電極層
446a 電極層
446b 電極層
446c 電極層
446d 電極層
447 電極層
447a 電極層
447b 電極層
447c 電極層
447d 電極層
2701 筐体
2703 筐体
2705 表示部
2707 表示部
2711 軸部
2721 電源
2723 操作キー
2725 スピーカー
2800 筐体
2801 筐体
2802 表示パネル
2803 スピーカー
2804 マイクロフォン
2805 操作キー
2806 ポインティングデバイス
2807 カメラ用レンズ
2808 外部接続端子
2810 太陽電池セル
2811 外部メモリスロット
3001 本体
3002 筐体
3003 表示部
3004 キーボード
3021 本体
3022 スタイラス
3023 表示部
3024 操作ボタン
3025 外部インターフェイス
3051 本体
3053 接眼部
3054 操作スイッチ
3056 バッテリー
4001 基板
4002 画素部
4003 信号線駆動回路
4003a 信号線駆動回路
4003b 信号線駆動回路
4004 走査線駆動回路
4005 シール材
4006 基板
4008 液晶組成物
4010 トランジスタ
4011 トランジスタ
4013 液晶素子
4015 接続端子電極
4016 端子電極
4018 FPC
4019 異方性導電膜
4020 絶縁層
4021 層間膜
4030 画素電極層
4031 共通電極層
4032a 偏光板
4032b 偏光板
4034 遮光層
9601 筐体
9603 表示部
9605 スタンド
200 substrate 201 substrate 208 liquid crystal composition 230 pixel electrode layer 232 common electrode layer 401 gate electrode layer 402 gate insulating layer 403 semiconductor layer 405a wiring layer 405b wiring layer 407 insulating film 408 common wiring layer 409 insulating film 413 interlayer film 420 transistor 441 substrate 442 Substrate 443a Polarizing plate 443b Polarizing plate 444 Liquid crystal composition 446 Electrode layer 446a Electrode layer 446b Electrode layer 446c Electrode layer 446d Electrode layer 447 Electrode layer 447a Electrode layer 447b Electrode layer 447c Electrode layer 447d Electrode layer 2701 Housing 2703 Housing 2705 Display Part 2707 Display part 2711 Shaft part 2721 Power supply 2723 Operation key 2725 Speaker 2800 Case 2801 Case 2802 Display panel 2803 Speaker 2804 Microphone 2805 Operation key 2806 Poi Tinging device 2807 Camera lens 2808 External connection terminal 2810 Solar cell 2811 External memory slot 3001 Main body 3002 Case 3003 Display unit 3004 Keyboard 3021 Main unit 3022 Stylus 3023 Display unit 3024 Operation button 3025 External interface 3051 Main unit 3053 Eyepiece unit 3054 Operation switch 3056 Battery 4001 Substrate 4002 Pixel portion 4003 Signal line driver circuit 4003a Signal line driver circuit 4003b Signal line driver circuit 4004 Scan line driver circuit 4005 Sealant 4006 Substrate 4008 Liquid crystal composition 4010 Transistor 4011 Transistor 4013 Liquid crystal element 4015 Connection terminal electrode 4016 Terminal electrode 4018 FPC
4019 Anisotropic conductive film 4020 Insulating layer 4021 Interlayer film 4030 Pixel electrode layer 4031 Common electrode layer 4032a Polarizing plate 4032b Polarizing plate 4034 Light-shielding layer 9601 Housing 9603 Display portion 9605 Stand

Claims (7)

下記一般式(G1)で表される有機化合物。

(一般式(G1)中、Arは置換若しくは無置換の炭素数6乃至12のアリール基、置換若しくは無置換の炭素数4乃至12のシクロアルキル基、又は、置換若しくは無置換の炭素数3乃至12のシクロアルケニル基のいずれかを表す。また、mは1以上3以下の整数である。また、Rは置換又は無置換の炭素数1乃至11のアルキレン基を表す。)
An organic compound represented by the following general formula (G1).

(In General Formula (G1), Ar 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 4 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon number 3 Represents any of 1 to 12 cycloalkenyl groups, and m is an integer of 1 to 3. R 1 represents a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 11 carbon atoms.
請求項1に記載の有機化合物を含有する液晶組成物。 A liquid crystal composition containing the organic compound according to claim 1. 請求項1に記載の有機化合物及びカイラル剤を含有し、ブルー相を発現する液晶組成物。 A liquid crystal composition containing the organic compound according to claim 1 and a chiral agent and exhibiting a blue phase. 請求項3において、反射スペクトルにおける最も長波長側の回折波長のピークが500nm以下である液晶組成物。 4. The liquid crystal composition according to claim 3, wherein the peak of the diffraction wavelength on the longest wavelength side in the reflection spectrum is 500 nm or less. 請求項2乃至4のいずれか一に記載の液晶組成物を用いる液晶素子。 The liquid crystal element using the liquid-crystal composition as described in any one of Claims 2 thru | or 4. 請求項2乃至4のいずれか一に記載の液晶組成物を用いる液晶表示装置。 A liquid crystal display device using the liquid crystal composition according to claim 2. 請求項6において、前記液晶組成物は、有機樹脂を含む液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 6, wherein the liquid crystal composition includes an organic resin.
JP2014153069A 2013-07-30 2014-07-28 Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device Withdrawn JP2015044794A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014153069A JP2015044794A (en) 2013-07-30 2014-07-28 Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013157815 2013-07-30
JP2013157815 2013-07-30
JP2014153069A JP2015044794A (en) 2013-07-30 2014-07-28 Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015044794A true JP2015044794A (en) 2015-03-12
JP2015044794A5 JP2015044794A5 (en) 2017-08-24

Family

ID=52670657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014153069A Withdrawn JP2015044794A (en) 2013-07-30 2014-07-28 Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2015044794A (en)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3821334A (en) * 1971-04-08 1974-06-28 Ciba Geigy Corp Process for the manufacture of p-hydroxybenzyl compounds
JPH0374350A (en) * 1989-08-15 1991-03-28 Chisso Corp Optically active methyladipic acid esters
JPH03193969A (en) * 1989-12-20 1991-08-23 Idemitsu Kosan Co Ltd Electrolytic treatment of carbon fiber
WO1992012956A1 (en) * 1991-01-15 1992-08-06 The British Petroleum Company Plc Novel compounds and blends containing them
JPH07118202A (en) * 1993-10-20 1995-05-09 Japan Energy Corp Novel 3-methyladipic acid diester compound and liquid crystal composition containing the same and production of the compound
JP2002267838A (en) * 2001-03-06 2002-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd Optical retardation film
WO2005039489A2 (en) * 2003-09-24 2005-05-06 Polymerix Corporation Compositions and methods for the inhibition of bone growth and resorption
WO2005090520A1 (en) * 2004-03-19 2005-09-29 Japan Science And Technology Agency Liquid crystal display device
JP2008019177A (en) * 2006-07-11 2008-01-31 Nitto Denko Corp Multifunctional compound, optical recording material, optical recording medium, apparatus for optical recording and reproducing, optical waveguide material and optical alignment film material
WO2011137986A1 (en) * 2010-05-06 2011-11-10 Merck Patent Gmbh Liquid crystalline medium and liquid crystal display

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3821334A (en) * 1971-04-08 1974-06-28 Ciba Geigy Corp Process for the manufacture of p-hydroxybenzyl compounds
JPH0374350A (en) * 1989-08-15 1991-03-28 Chisso Corp Optically active methyladipic acid esters
JPH03193969A (en) * 1989-12-20 1991-08-23 Idemitsu Kosan Co Ltd Electrolytic treatment of carbon fiber
WO1992012956A1 (en) * 1991-01-15 1992-08-06 The British Petroleum Company Plc Novel compounds and blends containing them
JPH07118202A (en) * 1993-10-20 1995-05-09 Japan Energy Corp Novel 3-methyladipic acid diester compound and liquid crystal composition containing the same and production of the compound
JP2002267838A (en) * 2001-03-06 2002-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd Optical retardation film
WO2005039489A2 (en) * 2003-09-24 2005-05-06 Polymerix Corporation Compositions and methods for the inhibition of bone growth and resorption
WO2005090520A1 (en) * 2004-03-19 2005-09-29 Japan Science And Technology Agency Liquid crystal display device
JP2008019177A (en) * 2006-07-11 2008-01-31 Nitto Denko Corp Multifunctional compound, optical recording material, optical recording medium, apparatus for optical recording and reproducing, optical waveguide material and optical alignment film material
WO2011137986A1 (en) * 2010-05-06 2011-11-10 Merck Patent Gmbh Liquid crystalline medium and liquid crystal display

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY, vol. 32(2), JPN6018014124, 1997, pages 271 - 277, ISSN: 0003781028 *
JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY, vol. 74(12), JPN6018014122, 2009, pages 4573 - 4583, ISSN: 0003781027 *
MACROMOLECULES, vol. 23(14), JPN6018014125, 1990, pages 3491 - 3495, ISSN: 0003781029 *
PHYSICAL CHEMISTRY CHEMICAL PHYSICS, vol. 14(47), JPN6018014120, 2012, pages 16377 - 16385, ISSN: 0003781026 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6236132B2 (en) Compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, liquid crystal display device
JP5715970B2 (en) Compound, composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device
JP5856820B2 (en) Liquid crystal composition
JP6009335B2 (en) Liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device
JP6042632B2 (en) Composition, liquid crystal element and liquid crystal display device.
JP6045234B2 (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display device
JP5918620B2 (en) Compound, composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device
JP6100512B2 (en) Liquid crystal composition, liquid crystal display device, electronic device
JP6081829B2 (en) Compound, liquid crystal composition, and liquid crystal display device
JP2013136740A (en) Liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device
JP6101059B2 (en) Liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device
JP6334844B2 (en) Liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device
JP2015044794A (en) Organic compound, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device
JP5902039B2 (en) Liquid crystal element, liquid crystal display device
JP2015044795A (en) Trifluorophenyl derivative, liquid crystal composition, and liquid crystal display device
JP2015044800A (en) Dioxolane derivative, liquid crystal composition, liquid crystal element, and liquid crystal display device

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170714

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170714

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180419

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180424

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180524

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180612

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20180717