JP2015035286A - 短絡素子、及び短絡回路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁基板10と、発熱体17と、相隣接する第1及び第2の電極11,12と、第1の電極11と隣接する第3の電極13と、第2の電極12と隣接する第4の電極14と、第1、第3の電極11,13間にわたって搭載された第1の可溶導体21と、第2、第4の電極12,14間にわたって搭載された第2の可溶導体22と、発熱体17と接続された第5の電極15と、第5の電極15と隣接する第6の電極16と、第5、第6の電極15,16間にわたって搭載された第3の可溶導体23とを備え、発熱体17により第1、第2の可溶導体21,22を溶融させ、第1、第2の電極11,12間を溶融導体により短絡させる。
【選択図】図1
Description
[第1の形態]
本発明が適用された短絡素子1は、図1(A)(B)に示すように、絶縁基板10と、発熱体17と、絶縁基板10の表面10a側に、互いに隣接して設けられた第1及び第2の電極11,12と、第1の電極11と隣接して設けられた第3の電極13と、第2の電極12と隣接して設けられた第4の電極14と、第1の電極11から第3の電極13にわたって搭載され、発熱体17からの加熱により、第1の電極11と第3の電極13との間で溶断する第1の可溶導体21と、第2の電極12から第4の電極14にわたって搭載され、発熱体17からの加熱により、第2の電極12と第4の電極14との間で溶断する第2の可溶導体22とを備える。
発熱体17を被覆する絶縁層18上には、第1〜第6の電極11〜16が形成されている。第1の電極11は、一方側において第2の電極12と隣接して形成されるとともに、離間されることにより絶縁されている。第1の電極11の他方側には第3の電極13が形成され、これら第1、第3の電極11,13によって第1の可溶導体21の両側縁を支持することにより、第1の可溶導体21の位置ズレ防止を図る。第1の電極11と第3の電極13とは、絶縁層18上において一体に形成されることにより電気的に接続されるとともに、ガラス等の絶縁部材25が積層されることによって物理的に離間されている。第1、第3の電極11,13を絶縁層18上に一体形成するとともに、絶縁部材25を積層し、さらに絶縁部材25上に第1の可溶導体21を積層することで、絶縁部材25が発熱体17の熱を第1の可溶導体21や第1及び第3の電極11,13へ効率よく伝えるヒートスプレッダとして機能する。したがって、短絡素子1は、発熱体17が発熱すると、短時間で第1の可溶導体21を溶断することができる。
第1〜第3の可溶導体21〜23は、発熱体17の発熱により速やかに溶断されるいずれの金属を用いることができ、例えば、Snを主成分とするPbフリーハンダ等の低融点金属を好適に用いることができる。
ここで、短絡素子1は、第1、第2の可溶導体21,22が、第3の可溶導体23よりも先に溶断するように形成されている。第1、第2の可溶導体21,22よりも先に第3の可溶導体23が溶断すると、発熱体17への給電が停止され、第1、第2の可溶導体21,22が溶融せず、第1、第2の電極11,12間を短絡させることができないからである。
なお、第1〜第3の可溶導体21〜23の酸化防止、及び溶融時における濡れ性を向上させるために、第1〜第3の可溶導体21〜23の上にはフラックス32が塗布されている。
次いで、短絡素子1の回路構成について説明する。図3に短絡素子1の回路図を示す。図4に、短絡素子1が適用された短絡回路30の一例を示す。
また、本発明が適用された短絡素子は、以下のように構成してもよい。なお、以降の説明において、上述した短絡素子1及び短絡回路30と同一の構成については、同一の符号を付してその詳細を省略する。
第3の形態に係る短絡素子50は、図8に示すように、第4の電極14が形成されていない点が、短絡素子1と異なる。短絡素子50では、第1、第2の可溶導体21,22が溶融することにより、その溶融導体が第1の電極11と第2の電極12上に凝集、結合し、これにより、第1、第2の電極11,12間を短絡させることができる。
上述した短絡素子1においては、発熱体17を絶縁基板10の表面10a上に形成し、第1〜第3の可溶導体21〜23を重畳させたが、発熱体17は、図9に示すように、絶縁基板10の裏面10bに形成してもよい。この場合、発熱体17は、絶縁基板10の裏面10bにおいて絶縁層18に被覆されている。また、発熱体17の一端と接続される発熱体引出電極19及び発熱体電極端子部20も同様に絶縁基板10の裏面10bに形成される。第5の電極15は、発熱体17の他端と接続される下層部15aが絶縁基板10裏面10bに形成され、第3の可溶導体23が搭載される上層部15bが絶縁基板10の表面10aに形成され、下層部15bと上層部15bとが、導電スルーホールを介して連続される。
また、短絡素子1は、第1の電極11又は第2の電極12のいずれか一方に接続される保護抵抗を備える構成としてもよい。ここで、保護抵抗は、短絡素子1に接続する電子部品の内部抵抗相当の抵抗値とする。例えば、短絡素子1は、図13に示すように、リチウムイオン二次電池のバッテリパック内の回路60において、過充電や過放電等の異常電圧が生じたバッテリセル61をバイパスするバイパス電流経路の構築に用いられる場合、第1の電極12に、バッテリセル61の内部抵抗相当の抵抗値を有する保護抵抗62が接続される。
上述したように、第1〜第3の可溶導体21〜23のいずれか又は全部は、低融点金属と高融点金属とを含有してもよい。このとき、第1〜第3の可溶導体21〜23は、図14(A)に示すように、内層としてAg、Cu又はこれらを主成分とする合金等からなる高融点金属層70が設けられ、外層としてSnを主成分とするPbフリーハンダ等からなる低融点金属層71が設けられた可溶導体を用いてもよい。この場合、第1〜第3の可溶導体21〜23は、高融点金属層70の全面が低融点金属層71によって被覆された構造としてもよく、相対向する一対の側面を除き被覆された構造であってもよい。高融点金属層70や低融点金属層71による被覆構造は、メッキ等の公知の成膜技術を用いて形成することができる。
Claims (44)
- 絶縁基板と、
発熱体と、
上記絶縁基板に、互いに隣接して設けられた第1及び第2の電極と、
上記第1の電極と隣接して設けられた第3の電極と、
上記第2の電極と隣接して設けられた第4の電極と、
上記第1の電極から上記第3の電極にわたって搭載され、上記発熱体からの加熱により、上記第1の電極と上記第3の電極との間で溶断する第1の可溶導体と、
上記第2の電極から上記第4の電極にわたって搭載され、上記発熱体からの加熱により、上記第2の電極と上記第4の電極との間で溶断する第2の可溶導体と、
上記発熱体と電気的に接続された第5の電極と、
上記第5の電極と隣接して設けられた第6の電極と、
上記第5の電極から上記第6の電極にわたって搭載されることにより上記発熱体と直列に接続され、上記発熱体からの加熱により、上記第5の電極と上記第6の電極との間で溶断する第3の可溶導体とを備え、
上記発熱体からの加熱により上記第1、第2の可溶導体を溶融させ、上記第1、第2の電極上に凝集した溶融導体が結合することによって上記第1、第2の電極間を短絡させる短絡素子。 - 上記第1、第2の可溶導体を溶融させて上記第1、第2の電極間を短絡させた後、上記第3の可溶導体を溶融させることにより、上記発熱体への給電経路を遮断し、発熱を停止する請求項1記載の短絡素子。
- 上記第1の電極と上記第3の電極、及び上記第2の電極と上記第4の電極とは、それぞれ電気的に接続されるとともに、絶縁部材によって物理的に離間されている請求項1又は2に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、上記発熱体の発熱中心に近い位置に搭載されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、厚さが薄く形成されている請求項1〜4のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、融点が低い請求項1〜5のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第3の可溶導体の材料構成が、上記第1及び第2の可溶導体と同じである請求項1〜6のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記絶縁基板の上記第1〜第4の電極が形成された表面側に積層された絶縁層を備え、
上記第1〜第4の電極は、上記絶縁層上に形成され、
上記発熱体は、上記絶縁層の内部、又は上記絶縁層と上記絶縁基板との間に形成されている請求項1〜7のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記発熱体は、上記絶縁基板の内部に形成されている請求項1〜7のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記発熱体は、上記絶縁基板の上記第1〜第4の電極が形成された表面と反対側の裏面に形成されている請求項1〜7のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記発熱体及び上記第1〜第4の電極は、上記絶縁基板の上記第1〜第4の電極が形成された表面に形成されている請求項1〜7のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 絶縁基板と、
発熱体と、
上記絶縁基板に、互いに隣接して設けられた第1及び第2の電極と、
上記第1の電極と隣接して設けられた第3の電極と、
上記第1の電極から上記第3の電極にわたって搭載され、上記発熱体からの加熱により、上記第1の電極と上記第3の電極との間で溶断する第1の可溶導体と、
上記発熱体と電気的に接続された第5の電極と、
上記第5の電極と隣接して設けられた第6の電極と、
上記第5の電極から上記第6の電極にわたって搭載されることにより上記発熱体と直列に接続され、上記発熱体からの加熱により、上記第5の電極と上記第6の電極との間で溶断する第3の可溶導体とを備え、
上記発熱体からの加熱により上記第1の可溶導体を溶融させ、上記第1の電極上に凝集した溶融導体が上記第2の電極上にも凝集することによって上記第1、第2の電極間を短絡させる短絡素子。 - 上記第1の可溶導体を溶融させて上記第1、第2の電極間を短絡させた後、上記第3の可溶導体を溶融させることにより、上記発熱体への給電経路を遮断し、発熱を停止する請求項12記載の短絡素子。
- 上記第1の電極と上記第3の電極は、電気的に接続されるとともに、絶縁部材によって物理的に離間されている請求項12又は13に記載の短絡素子。
- 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記発熱体からの加熱により上記第1、第2の可溶導体を溶融させ、上記第1、第2の電極上に凝集した溶融導体が結合することによって上記第1、第2の電極間を短絡させる請求項12〜14のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第1の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、上記発熱体の発熱中心に近い位置に搭載されている請求項12〜14のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、上記発熱体の発熱中心に近い位置に搭載されている請求項15に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、厚さが薄く形成されている請求項12〜14、16のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、厚さが薄く形成されている請求項15又は17に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、融点が低い請求項12〜14、16、18のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、上記第3の可溶導体よりも、融点が低い請求項15、17又は19のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第3の可溶導体の材料構成が、上記第1の可溶導体と同じである請求項12〜14、16、18又は20のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第3の可溶導体の材料構成が、上記第1及び第2の可溶導体と同じである請求項15、17、19又は21のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記絶縁基板の上記第1〜第3の電極が形成された表面側に積層された絶縁層を備え、
上記第1〜第3の電極は、上記絶縁層上に形成され、
上記発熱体は、上記絶縁層の内部、又は上記絶縁層と上記絶縁基板との間に形成されている請求項12〜23のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記発熱体は、上記絶縁基板の内部に形成されている請求項12〜23のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記発熱体は、上記絶縁基板の上記第1〜第3の電極が形成された表面と反対側の裏面に形成されている請求項12〜23のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記発熱体及び上記第1〜第3の電極は、上記絶縁基板の上記第1〜第3の電極が形成された表面に形成されている請求項12〜23のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 少なくとも上記第1の電極及び上記第2の電極の表面に、Ni/Auメッキ、Ni/Pdメッキ、Ni/Pd/Auメッキのいずれかが被覆されている請求項1〜27のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第1の電極の面積が上記第3の電極の面積よりも広い請求項1〜28のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第1の電極の面積が上記第3の電極の面積よりも広く、上記第2の電極の面積が上記第4の電極の面積よりも広い請求項1〜11のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記絶縁基板上に設けられ、内部を保護するカバー部材を備え、
上記カバー部材は、上記第1の電極及び上記第2の電極と重畳する位置に、カバー部電極が形成されている請求項1〜30のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第1の電極又は上記第2の電極には、保護抵抗が接続されている請求項1〜31のいずれか1項に記載の短絡素子。
- 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、Snを主成分とするPbフリーハンダである請求項1〜32のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、低融点金属と高融点金属とを含有し、
上記低融点金属が上記発熱体からの加熱により溶融し、上記高融点金属を溶食する請求項1〜31のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記低融点金属はハンダであり、
上記高融点金属は、Ag、Cu又はAg若しくはCuを主成分とする合金である請求項34記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、内層が高融点金属であり、外層が低融点金属の被覆構造である請求項1〜32、34又は35のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、内層が低融点金属であり、外層が高融点金属の被覆構造である請求項1〜32、34又は35のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、低融点金属と、高融点金属とが積層された積層構造である請求項1〜32、34又は35のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、低融点金属と、高融点金属とが交互に積層された4層以上の多層構造である請求項1〜32、34又は35のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、内層を構成する低融点金属の表面に形成された高融点金属に、開口部が設けられている請求項1〜32、34又は35のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、多数の開口部を有する高融点金属層と、上記高融点金属層上に形成された低融点金属層とを有し、上記開口部に低融点金属が充填されている請求項1〜32、34又は35のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 上記第2の電極上に搭載された第2の可溶導体を備え、
上記第1の可溶導体及び上記第2の可溶導体は、低融点金属の体積が、高融点金属の体積よりも多い請求項1〜32、34又は35のいずれか1項に記載の短絡素子。 - 第1のヒューズと、互いに隣接して形成されるとともに絶縁されている第1、第2の電極とを有する第1の回路と、
上記第1の回路と電気的に独立して形成され、発熱体と、上記発熱体の一端と接続された第2のヒューズとを有する第2の回路とを備え、
上記第2の回路に電流を流し上記発熱体が発熱した熱により、上記第1のヒューズを溶融させて上記第1、第2の電極間を短絡した後に、上記第2のヒューズを溶断させて上記発熱体の発熱を停止する短絡回路。 - 上記第2の回路は、上記発熱体及び上記第2のヒューズが電源及びスイッチ素子に接続され、上記スイッチ素子を駆動させることにより電流が流れる請求項43記載の短絡回路。
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