JP2015009183A - Line formation method using inkjet method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a line formation method capable of providing a thickness-uniform line, by providing a value thick in a thickness of a line, that is, higher than usual (a thickness of a line/a width of the line), even in a fine line, when forming a pattern of an insulation coating film on a substrate by an inkjet method.SOLUTION: The line formation method is provided for forming a line by coating by wet-on-wet coating an activation energy line curable resin composition on the substrate by the inkjet method of using a piezo type inkjet device. The line formation method is provided for wet-on-wet coating by moving by a shorter distance than an impact diameter in the line formation direction for (n+1) time coating to the impact diameter of the activation energy line curable resin composition coated at a predetermined impact pitch in the (n)th time.

Description

本発明は、インクジェット法を用いて基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を吐出してラインを形成するライン形成方法に関するものである。   The present invention relates to a line forming method for forming a line by discharging an active energy ray-curable resin composition onto a substrate using an inkjet method.

基板、例えば、プリント配線板に所望のパターンを有する絶縁被覆を形成するにあたり、近年、インクジェット法を用いて絶縁被覆のラインを形成してパターンを作製する場合がある。絶縁被覆のライン形成に、例えば、スクリーン印刷法を使用すると、予備乾燥工程、感光工程、塗膜の現像工程及びポストキュア工程と、光硬化性樹脂組成物の塗工後の作業が繁雑になる。これに対し、インクジェット法を用いると、インクを吐出後に感光させればラインを形成できるので、上記スクリーン印刷法と比較して作業が簡易である。よって、インクジェット法を用いると、パターン形成された絶縁被覆の製造コストを大幅に低減できる。   In forming an insulating coating having a desired pattern on a substrate, for example, a printed wiring board, in recent years, a pattern may be produced by forming an insulating coating line using an inkjet method. For example, when a screen printing method is used for forming the line of the insulating coating, the preliminary drying process, the photosensitive process, the developing process of the coating film, the post-cure process, and the work after the application of the photocurable resin composition become complicated. . On the other hand, when the ink jet method is used, lines can be formed if the ink is exposed to light after being discharged, so that the operation is simpler than the screen printing method. Therefore, when the ink jet method is used, the manufacturing cost of the patterned insulating coating can be greatly reduced.

しかしながら、インクジェット法を用いるには、スクリーン印刷法に使用する光硬化性樹脂組成物と比較して、粘度が低い特性を有し、また、硬化工程時に滲みが発生するのを防止できるインクを使用する必要がある。そこで、上記特性を備えた、インクジェット法に適した硬化性樹脂組成物が、特許文献1に提案されている。   However, in order to use the ink jet method, use an ink that has a lower viscosity than the photocurable resin composition used in the screen printing method and that can prevent bleeding during the curing process. There is a need to. Therefore, Patent Document 1 proposes a curable resin composition having the above characteristics and suitable for the ink jet method.

特許文献1のように、インクジェット法に適した硬化性樹脂組成物を使用することで、均一かつ厚さの薄い絶縁被膜を所望のパターンにてプリント配線板に形成できる。一方で、インクジェット法を用いて、均一かつ厚さの厚い絶縁被膜のパターンをプリント配線板に形成することが要求される場合がある。   As in Patent Document 1, by using a curable resin composition suitable for the inkjet method, a uniform and thin insulating film can be formed on a printed wiring board in a desired pattern. On the other hand, it may be required to form a uniform and thick insulating coating pattern on a printed wiring board using an inkjet method.

特許文献1では、インクジェット法にて比較的厚みの均一な絶縁被膜を形成できるが、絶縁被膜の厚さをなるべく薄くするために、図3(a)〜(c)に示すように、塗工は1回である。すなわち、基板sに1回の塗工にて吐出した液滴5からライン51を形成するので、ライン51の厚さは限定され、ライン51の厚さを調整することについては提案されていない。   In Patent Document 1, an insulating film having a relatively uniform thickness can be formed by an ink jet method. However, in order to reduce the thickness of the insulating film as much as possible, as shown in FIGS. Is once. That is, since the line 51 is formed from the droplet 5 discharged by one coating on the substrate s, the thickness of the line 51 is limited, and there is no proposal for adjusting the thickness of the line 51.

特開2010−229220号公報JP 2010-229220 A

上記事情に鑑み、本発明の課題は、基板上にインクジェット法にて絶縁被膜のパターンを形成するにあたり、微細であっても厚さの厚いライン、すなわち、従来よりも高いアスペクト比(すなわち、ラインの厚さ/ラインの幅)の値を有するラインを得ることができるとともに、厚さが均一であるラインを得ることができるライン形成方法を提供することにある。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to form an insulating film pattern on a substrate by an inkjet method, even if it is fine, a thick line, that is, a higher aspect ratio (ie, a line than conventional). It is an object of the present invention to provide a line forming method capable of obtaining a line having a value of (thickness / line width) and having a uniform thickness.

本発明の態様は、ピエゾ式インクジェット装置を用いたインクジェット法により、基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を重ね塗り塗工してラインを形成するライン形成方法であって、n回目に所定の着弾ピッチにて塗工した前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の着弾径に対して、n+1回目の塗工が、前記ラインの形成方向へ前記着弾径よりも短い距離移動させて重ね塗りすることを特徴とするライン形成方法である。   An aspect of the present invention is a line forming method in which an active energy ray-curable resin composition is overcoated on a substrate to form a line by an ink jet method using a piezo type ink jet device, and is predetermined at the nth time. The n + 1th coating is overcoated by moving a distance shorter than the landing diameter in the formation direction of the line with respect to the landing diameter of the active energy ray-curable resin composition applied at a landing pitch of The line forming method is characterized by the above.

この態様では、n回目に塗工した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴の着弾位置から該n回目の液滴の着弾径d未満の距離分だけ、ライン形成方向に対して平行方向に液滴の着弾位置を移動させて、n+1回目の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の塗工を行う。上記ずらした距離が、n回目の液滴の着弾径d未満なので、n+1回目に着弾した液滴とn回目に着弾した液滴とは、相互に、液滴の一部分が重ね塗りされた状態となる。   In this embodiment, the active energy ray-curable resin composition coated at the nth time is parallel to the line forming direction by a distance less than the landing diameter d of the nth droplet from the landing position of the droplet at the nth time. The landing position of the droplet is moved, and the active energy ray-curable resin composition is applied n + 1 times. Since the shifted distance is less than the landing diameter d of the n-th droplet, the droplet landed on the (n + 1) th time and the droplet landed on the n-th time are in a state in which a part of the liquid droplet is overcoated with each other. Become.

また、この態様では、n回目の塗工とn+1回目の塗工では、同じ活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を使用している。   In this embodiment, the same active energy ray-curable resin composition is used for the n-th coating and the (n + 1) -th coating.

なお、上記nは、1以上の整数を意味する。また、着弾ピッチpとは、インクジェット吐出ピッチであり、基板に着弾した相互に隣接する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴について、その中心間の距離を意味する。   In addition, said n means an integer greater than or equal to 1. Moreover, the landing pitch p is an inkjet discharge pitch, and means the distance between the centers of droplets of the active energy ray-curable resin composition that are adjacent to each other and land on the substrate.

本発明の態様は、前記距離が、前記着弾径の40%〜60%の範囲であることを特徴とするライン形成方法である。この態様では、n回目に着弾した液滴の位置に対して、ライン形成方向へ該n回目の液滴の着弾径dの40%〜60%に相当する距離の分、液滴の着弾位置をずらしてn+1回目の重ね塗りを行っている。   An aspect of the present invention is the line forming method, wherein the distance is in a range of 40% to 60% of the landing diameter. In this aspect, with respect to the position of the droplet landed at the nth time, the landing position of the liquid droplet is equivalent to a distance corresponding to 40% to 60% of the landing diameter d of the nth droplet in the line forming direction. The n + 1th overcoating is performed by shifting.

本発明の態様は、前記塗工と活性エネルギー線による硬化が、並行して行われることを特徴とするライン形成方法である。上記「並行」とは、基板上におけるn回目の塗工が全て終了する前に、該n回目に塗工した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴を活性エネルギー線(例えば、紫外線)にて硬化させることを意味する。   An aspect of the present invention is a line forming method characterized in that the coating and the curing with an active energy ray are performed in parallel. The above “parallel” means that the droplet of the active energy ray-curable resin composition applied for the nth time is changed to an active energy ray (for example, ultraviolet rays) before the nth time application on the substrate is completed. Means to cure.

本発明の態様は、前記重ね塗りの回数が、1回以上であることを特徴とするライン形成方法である。   An aspect of the present invention is the line forming method, wherein the number of times of overcoating is one or more.

本発明の態様は、前記着弾ピッチpが、前記着弾径dよりも大きいことを特徴とするライン形成方法である。   An aspect of the present invention is the line forming method, wherein the landing pitch p is larger than the landing diameter d.

本発明の態様は、前記ラインの厚さ/幅が、0.1以上であることを特徴とするライン形成方法である。   An aspect of the present invention is the line forming method, wherein the thickness / width of the line is 0.1 or more.

本発明の態様は、前記基板が、プリント配線板であることを特徴とするライン形成方法である。   An aspect of the present invention is the line forming method, wherein the substrate is a printed wiring board.

本発明の態様によれば、n+1回目に塗工した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴の着弾位置を、n回目に塗工した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴の着弾位置から、n回目の液滴の着弾径d未満の距離分だけ、ライン形成方向へずらした状態で重ね塗りをすることで、微細かつ厚さの厚いラインを形成でき、さらに、形成したラインに分断や凸凹が発生するのを防止できる。このように、本発明の態様によれば、ラインに分断や凸凹が発生するのを防止できるので、優れたライン形状を有する厚いパターンを形成できる。   According to the aspect of the present invention, the landing positions of the droplets of the active energy ray-curable resin composition applied n + 1 times are the landing positions of the droplets of the active energy ray-curable resin composition applied n times. From the above, it is possible to form fine and thick lines by overcoating in a state shifted in the line formation direction by a distance less than the landing diameter d of the nth droplet, and further dividing into the formed lines And the occurrence of unevenness can be prevented. Thus, according to the aspect of the present invention, it is possible to prevent the line from being divided or uneven, and thus it is possible to form a thick pattern having an excellent line shape.

本発明の態様によれば、着弾径dの40%〜60%の距離分だけ、ライン形成方向へ、ずらした状態で重ね塗りをすることで、形成したラインに分断や凸凹が発生するのを確実に防止でき、より優れたライン形状を得ることができる。   According to the aspect of the present invention, it is possible to cause division and unevenness in the formed line by performing overcoating while being shifted in the line forming direction by a distance of 40% to 60% of the landing diameter d. It can be surely prevented and a more excellent line shape can be obtained.

本発明の態様によれば、塗工と活性エネルギー線による硬化を並行して行うことにより、n回目(またはn+1回目)に塗工した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴同士が集まって液滴の濡れ広がりが形成されるのを確実に防止できる。その結果、ライン幅が広くなるのを確実に防止できる。   According to the aspect of the present invention, droplets of the active energy ray-curable resin composition applied n times (or n + 1 times) are collected by performing coating and curing with active energy rays in parallel. It is possible to reliably prevent formation of wetting and spreading of droplets. As a result, the line width can be reliably prevented from increasing.

本発明の態様によれば、着弾ピッチが着弾径よりも大きいことにより、先に着弾した液滴に後から着弾した液滴が吸収されてライン幅が広くなってしまうのを確実に防止できる。   According to the aspect of the present invention, since the landing pitch is larger than the landing diameter, it is possible to surely prevent the liquid droplets that have landed earlier from being absorbed and the line width from being increased.

(a)図は、本発明のライン形成方法で形成したラインの概要を説明する断面図、同(b)図は、本発明のライン形成方法で形成したラインの概要を説明する平面図、同(c)図は、本発明のライン形成方法で形成したラインの概要を説明する正面図である。(A) The figure is sectional drawing explaining the outline | summary of the line formed with the line formation method of this invention, (b) The figure is a top view explaining the outline | summary of the line formed with the line formation method of this invention, (C) The figure is a front view explaining the outline | summary of the line formed with the line formation method of this invention. 本発明のライン形成方法の概要を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline | summary of the line formation method of this invention. (a)図は、従来のライン形成方法で形成したラインの概要を説明する断面図、同(b)図は、従来のライン形成方法で形成したラインの概要を説明する平面図、同(c)図は、従来のライン形成方法で形成したラインの概要を説明する正面図である。(A) The figure is sectional drawing explaining the outline | summary of the line formed with the conventional line formation method, The same (b) figure is a top view explaining the outline | summary of the line formed with the conventional line formation method, (c) FIG. 6 is a front view for explaining an outline of a line formed by a conventional line forming method. (a)図は、本発明ではない重ね塗りのライン形成方法で形成したラインの概要を説明する断面図、同(b)図は、本発明ではない重ね塗りのライン形成方法で形成したラインの概要を説明する平面図、同(c)図は、本発明ではない重ね塗りのライン形成方法で形成したラインの概要を説明する正面図である。(A) is a cross-sectional view for explaining the outline of a line formed by an overcoat line forming method that is not the present invention, and (b) is an illustration of a line formed by an overcoat line forming method that is not the present invention. The top view explaining an outline and the figure (c) figure are the front views explaining the outline of the line formed with the overpainting line formation method which is not the present invention.

次に、本発明のライン形成方法の実施形態例について図面を用いながら説明する。図1に示すように、ピエゾ式インクジェット装置(図示せず)を用いて、基板s(ここでは、プリント配線板)上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物である平面視円形状の第1の液滴1を直線状に吐出して1回目の塗工をし、塗工と並行して活性エネルギー線による第1の液滴1の硬化を行って、硬化した第1の液滴1からなる直線状の第1のライン11を作製する。上記実施形態例では、第1の液滴1の着弾ピッチp1は第1の液滴1の着弾径d1よりも大きく、具体的には、着弾ピッチp1は、d1<p1<d1×1.1となっている。   Next, embodiments of the line forming method of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, a first piezoelectric device having a circular shape in plan view, which is an active energy ray-curable resin composition, is formed on a substrate s (here, a printed wiring board) using a piezo-type ink jet device (not shown). The first droplet 1 is ejected in a straight line and applied for the first time, and the first droplet 1 is cured by an active energy ray in parallel with the coating, and thus the cured first droplet 1 is formed. A linear first line 11 is produced. In the above embodiment, the landing pitch p1 of the first droplet 1 is larger than the landing diameter d1 of the first droplet 1, and specifically, the landing pitch p1 is d1 <p1 <d1 × 1.1. It has become.

第1のライン11を作製後、同じくピエゾ式インクジェット装置を用いて、第1のライン11の上に第2のライン21を重ね塗り塗工する。第2のライン21でも、第1のライン11と同じ活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いている。第1のライン11と同様に、第2のライン21も、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物である平面視円形状の第2の液滴2を直線状に吐出して2回目の塗工をし、この塗工と並行して活性エネルギー線による第2の液滴2の硬化を行うことで作製する。図1では、第1の液滴1の着弾径d1と第2の液滴2の着弾径d2が同じなので、第2の液滴2の着弾ピッチp2は、第1の液滴1の着弾ピッチp1と同じにしている。   After producing the first line 11, the second line 21 is overcoated on the first line 11 using the same piezo ink jet apparatus. In the second line 21, the same active energy ray-curable resin composition as that in the first line 11 is used. Similar to the first line 11, the second line 21 also discharges the second droplet 2 having a circular shape in a plan view, which is an active energy ray-curable resin composition, in a straight line to apply the second coating. In parallel with this coating, the second droplet 2 is cured by active energy rays. In FIG. 1, since the landing diameter d1 of the first droplet 1 and the landing diameter d2 of the second droplet 2 are the same, the landing pitch p2 of the second droplet 2 is the landing pitch of the first droplet 1. The same as p1.

2回目の塗工では、1回目の塗工で吐出した第1の液滴1の着弾径d1よりも短い距離だけ、ラインの形成方向へ第2の液滴2の着弾位置を移動させて重ね塗りをする。図1では、2回目の塗工で吐出した第2の液滴2の着弾位置を、1回目の塗工で吐出した第1の液滴1の着弾径d1の半分に相当する距離だけライン形成方向へ移動させて、2回目の塗工を行っている。   In the second coating, the landing positions of the second droplets 2 are moved in the line forming direction by a distance shorter than the landing diameter d1 of the first droplets 1 discharged in the first coating. Apply paint. In FIG. 1, a line is formed by a distance corresponding to half of the landing diameter d1 of the first droplet 1 discharged by the first coating at the landing position of the second droplet 2 discharged by the second coating. It is moved in the direction and the second coating is performed.

同様に、第2のライン21を作製後、ピエゾ式インクジェット装置を用いて、第2のライン21の上に第3のライン31を重ね塗り塗工する。第3のライン31でも、第1のライン11及び第2のライン21と同じ活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いている。また、第1のライン11及び第2のライン21と同様に、第3のライン31も、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物である平面視円形状の第3の液滴3を直線状に吐出して3回目の塗工をし、この塗工と並行して活性エネルギー線による第3の液滴3の硬化を行うことで作製する。図1では、第3の液滴3の着弾径d3は、第1の液滴1の着弾径d1及び第2の液滴2の着弾径d2と同じなので、第3の液滴3の着弾ピッチp3は、第1の液滴1の着弾ピッチp1及び第2の液滴2の着弾ピッチp2と同じにしている。   Similarly, after producing the second line 21, the third line 31 is overcoated on the second line 21 using a piezo ink jet apparatus. In the third line 31 as well, the same active energy ray-curable resin composition as that in the first line 11 and the second line 21 is used. Similarly to the first line 11 and the second line 21, the third line 31 also discharges the third droplet 3 having a circular shape in plan view, which is an active energy ray-curable resin composition, in a straight line. Then, the third coating is performed, and the third droplet 3 is cured by active energy rays in parallel with the coating. In FIG. 1, since the landing diameter d3 of the third droplet 3 is the same as the landing diameter d1 of the first droplet 1 and the landing diameter d2 of the second droplet 2, the landing pitch of the third droplet 3 is the same. p3 is the same as the landing pitch p1 of the first droplet 1 and the landing pitch p2 of the second droplet 2.

3回目の塗工でも、2回目の塗工で吐出した第2の液滴2の着弾径d2よりも短い距離、第3の液滴3の着弾位置をラインの形成方向へ移動させて重ね塗りをする。図1では、3回目の塗工で吐出した第3の液滴3の着弾位置を、2回目の塗工で吐出した第2の液滴2の着弾径d2の半分に相当する距離だけライン形成方向へ移動させて、3回目の塗工を行っている。このように、各回の塗工毎に、液滴の着弾位置をライン形成方向へ順次移動させて重ね塗りすることで、厚さ/幅の数値(以下、「アスペクト比」という場合がある。)の高い直線状のラインR、すなわち、アスペクト比の高いパターンを基板上に形成できる。   Even in the third coating, the coating is performed by moving the landing position of the third droplet 3 in a line forming direction at a distance shorter than the landing diameter d2 of the second droplet 2 discharged in the second coating. do. In FIG. 1, a line is formed by a distance corresponding to half of the landing diameter d2 of the second droplet 2 ejected by the second coating at the landing position of the third droplet 3 ejected by the third coating. It is moved in the direction and the third coating is performed. In this way, the numerical value of thickness / width (hereinafter, sometimes referred to as “aspect ratio”) may be obtained by sequentially moving the droplet landing position in the line forming direction and performing repeated coating for each coating. A high linear line R, that is, a pattern with a high aspect ratio can be formed on the substrate.

図1(c)に示すように、本発明のライン形成方法の実施形態例では、重ね塗りしない従来の塗工方法である図3(c)と比較して、アスペクト比の高いラインを形成できるので、微細かつ厚さの厚いラインを得ることができる。また、本発明のライン形成方法の実施形態例では、n回目の塗工とn+1回目の塗工で、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴の着弾位置をずらさずに重ね塗りした図4(a)(図4では3回の塗工)と比較して、ラインに分断や凸凹が発生するのを防止できるので、優れたライン形状を有するパターンを形成できる。   As shown in FIG. 1 (c), in the embodiment of the line forming method of the present invention, a line with a higher aspect ratio can be formed compared to FIG. 3 (c), which is a conventional coating method without overcoating. Therefore, a fine and thick line can be obtained. Further, in the embodiment of the line forming method of the present invention, FIG. 4 is obtained by repeatedly applying the landing positions of the droplets of the active energy ray-curable resin composition without shifting the n-th coating and the (n + 1) -th coating. Compared with (a) (three times of coating in FIG. 4), it is possible to prevent the lines from being divided or uneven, and thus a pattern having an excellent line shape can be formed.

なお、図4では、上記実施形態例と同様に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の液滴12を吐出して1回目の塗工をし、塗工と並行して活性エネルギー線による液滴12の硬化を行い、硬化した液滴12からなる第1のライン13を作製する。液滴12の着弾ピッチは液滴12の着弾径とほぼ同じである。ただ、図4では、第1のライン13と同じ方法にて、第1のライン13上に、液滴12と同じ着弾位置にて、塗工した液滴14を硬化させた第2のライン15を作製し、第2のライン15上に、液滴12、14と同じ着弾位置にて、塗工した液滴16を硬化させた第3のライン17を作製している。そして、第1のライン13、第2のライン15及び第3のライン17から、ラインR’のパターンが形成されている。   In FIG. 4, as in the above embodiment, the droplets 12 of the active energy ray-curable resin composition are ejected to perform the first coating, and the droplets of the active energy rays are applied in parallel with the coating. 12 is cured, and a first line 13 composed of the cured droplets 12 is produced. The landing pitch of the droplets 12 is substantially the same as the landing diameter of the droplets 12. However, in FIG. 4, the second line 15 in which the coated droplet 14 is cured at the same landing position as the droplet 12 on the first line 13 by the same method as the first line 13. The third line 17 is produced on the second line 15 at the same landing position as the liquid droplets 12 and 14 by curing the coated liquid droplet 16. A pattern of a line R ′ is formed from the first line 13, the second line 15, and the third line 17.

上記実施形態例では、第1のライン11、第2のライン21、第3のライン31のいずれも、それぞれ、液滴の着弾ピッチは液滴の着弾径の1.0倍超〜1.1倍未満の間隔としたが、前記着弾ピッチは、前記着弾径より大きければ特に限定されず、例えば、前記着弾ピッチは、塗工性と印刷性の点から前記着弾径の1.0倍超〜3.0倍が好ましく、ライン形成の点から1.0倍超〜2.0倍が特に好ましい。さらに、第1のライン11の着弾ピッチp1、第2のライン21の着弾ピッチp2、第3のライン31の着弾ピッチp3は、着弾径d1、d2、d3が同じことから、相互に、着弾ピッチの寸法も同じにしたが、各ラインの着弾径d1、d2、d3の違いに応じて、着弾ピッチp1、p2、p3を変えてもよい。   In the above embodiment example, each of the first line 11, the second line 21, and the third line 31 has a droplet landing pitch of more than 1.0 times the droplet landing diameter to 1.1. The landing pitch is not particularly limited as long as the landing pitch is larger than the landing diameter. For example, the landing pitch is more than 1.0 times the landing diameter from the viewpoint of coating property and printability. 3.0 times is preferable, and more than 1.0 times to 2.0 times is particularly preferable from the viewpoint of line formation. Furthermore, since the landing pitch p1 of the first line 11, the landing pitch p2 of the second line 21, and the landing pitch p3 of the third line 31 are the same in the landing diameters d1, d2, and d3, However, the landing pitches p1, p2, and p3 may be changed according to the difference in the landing diameters d1, d2, and d3 of the respective lines.

また、上記実施形態例では、液滴の着弾径dの半分(つまり、着弾径dの50%)に相当する距離の分、ライン形成方向へ液滴の着弾位置を移動させて、次の重ね塗りを行っていたが、上記距離は、着弾径d未満の長さであれば、特に限定されない。例えば、上記移動の距離は、ラインに分断や凸凹が発生するのを確実に防止しつつ、高いアスペクト比を得る点から、着弾径dの20%〜80%が好ましく、印刷性とライン形成の点から40%〜60%が特に好ましい。   Further, in the above embodiment, the droplet landing position is moved in the line formation direction by a distance corresponding to half of the droplet landing diameter d (that is, 50% of the landing diameter d), and the next overlap is performed. Although the coating has been performed, the distance is not particularly limited as long as the distance is less than the landing diameter d. For example, the distance of the movement is preferably 20% to 80% of the landing diameter d from the viewpoint of obtaining a high aspect ratio while surely preventing the occurrence of fragmentation or unevenness in the line. From the point, 40% to 60% is particularly preferable.

上記実施形態例では、塗工回数は3回、つまり、重ね塗りの回数は2回であったが、重ね塗りの回数は必要に応じて適宜選択可能であり、1回でもよく、3回以上でもよい。上記実施形態例では、ラインRは直線状であったが、基板上に描くライン形状は特に限定されず、例えば、曲線状等、他の形状に描画してもよい。   In the above embodiment example, the number of times of coating was 3, that is, the number of times of overcoating was 2. However, the number of times of overcoating can be appropriately selected as necessary, and may be 1 time or 3 times or more. But you can. In the above embodiment, the line R is linear, but the line shape drawn on the substrate is not particularly limited, and may be drawn in other shapes such as a curved shape.

次に、本発明の他の実施形態例である図2を用いて、さらに詳細にライン形成方法を説明する。なお、図2は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を重ね塗り塗工する基板について、塗工範囲の一部分のみに着目した図となっている。また、細線の液滴は光硬化前のもの、太線は光硬化後のものを示す。   Next, the line forming method will be described in more detail with reference to FIG. 2 which is another embodiment of the present invention. In addition, FIG. 2 is the figure which paid its attention to only a part of coating range about the board | substrate which coats and coats an active energy ray-curable resin composition. The thin line droplets are those before photocuring, and the thick lines are those after photocuring.

図2に示すように、他の実施形態例では、1回目の塗工で吐出した第1の液滴1の着弾ピッチp1は、第1の液滴1の着弾径d1よりもさらに大きくなっている、すなわち、着弾ピッチp1は、d1×2<p1である点及び塗工回数が4回である点で、上記実施形態例と相違する。   As shown in FIG. 2, in another embodiment, the landing pitch p1 of the first droplet 1 discharged in the first coating is further larger than the landing diameter d1 of the first droplet 1. That is, the landing pitch p1 is different from the above embodiment in that d1 × 2 <p1 and the number of coatings is four.

他の実施形態例でも、基板s上に1回目の塗工をしつつ(図2の(a)工程)、基板s全面における1回目の塗工が完了する前に、つまり、1回目の塗工工程の実施中に、1回目の塗工工程にて塗工された第1の液滴1について、順次、活性エネルギー線による硬化を行い(図2の(b)工程)、第1のライン11を作製する。これにより、第1の液滴1同士が集まって第1の液滴1の濡れ広がりが形成されてしまうのを確実に防止できるので、第1のライン11の幅が広くなるのを確実に防止できる。   In other embodiments, the first coating is performed on the substrate s (step (a) in FIG. 2), but before the first coating on the entire surface of the substrate s is completed, that is, the first coating is performed. During the construction process, the first droplet 1 coated in the first coating process is sequentially cured by active energy rays (process (b) in FIG. 2), and the first line 11 is produced. Accordingly, it is possible to reliably prevent the first droplets 1 from gathering and forming the wetting and spreading of the first droplets 1, thereby reliably preventing the width of the first line 11 from being increased. it can.

基板s全面における1回目の塗工と硬化が全て完了後、上記1回目の塗工と同様、基板s上に2回目の塗工をしつつ(図2の(c)工程)、基板s全面における2回目の塗工が完了する前に、2回目の塗工工程にて塗工された第2の液滴2について、順次、活性エネルギー線による硬化を行い(図2の(d)工程)、第2のライン21を作製する。上記した実施形態例と同様に、第2の液滴2は、第1の液滴1の着弾径d1未満の距離の分だけ、ライン形成方向へずらした状態で、第1の液滴1と同じ着弾径と同じ着弾ピッチにて重ね塗りをする。   After all the first coating and curing are completed on the entire surface of the substrate s, the second coating is performed on the substrate s (step (c) in FIG. 2), as in the first coating. Before the second coating is completed, the second droplets 2 coated in the second coating step are sequentially cured with active energy rays (step (d) in FIG. 2). The second line 21 is produced. Similar to the above-described embodiment, the second liquid droplet 2 is shifted from the first liquid droplet 1 in a state where the second liquid droplet 2 is shifted in the line formation direction by a distance less than the landing diameter d1 of the first liquid droplet 1. Overcoat with the same impact diameter and impact pitch.

基板s全面における2回目の塗工と硬化が全て完了後、上記2回目の塗工と同様にして、基板s上に3回目の塗工をしつつ(図2の(e)工程)、基板s全面における3回目の塗工が完了する前に、3回目の塗工工程にて塗工された第3の液滴3について、順次、活性エネルギー線による硬化を行い(図2の(f)工程)、第3のライン31を作製する。   After completing the second coating and curing on the entire surface of the substrate s, the third coating is performed on the substrate s in the same manner as the second coating (step (e) in FIG. 2). s Before the third coating on the entire surface is completed, the third droplet 3 coated in the third coating step is sequentially cured with active energy rays ((f) in FIG. 2). Step), the third line 31 is produced.

以降、同様にして、4回目の塗工をしつつ(図2の(g)工程)、塗工された第4の液滴4を活性エネルギー線により硬化し(図2の(h)工程)、第4のライン41を作製する。図2では、1回目の塗工で吐出した第1の液滴1の着弾ピッチp1が第1の液滴1の着弾径d1の2倍よりも大きい状態なので、3回目までの塗工ではライン形成方向に隣接する第1の液滴1と第3の液滴3との間に、依然として基板s表面が露出した状態であったが、4回目の塗工により、隣接する第4の液滴4間において基板s表面の露出がなくなり、ラインの分断が解消されている。   Thereafter, in the same manner, while applying the fourth time (step (g) in FIG. 2), the coated fourth droplet 4 is cured with active energy rays (step (h) in FIG. 2). A fourth line 41 is produced. In FIG. 2, since the landing pitch p1 of the first droplet 1 discharged in the first coating is larger than twice the landing diameter d1 of the first droplet 1, the line is not applied in the third coating. The surface of the substrate s was still exposed between the first droplet 1 and the third droplet 3 adjacent to each other in the formation direction, but the adjacent fourth droplet was formed by the fourth coating. The surface of the substrate s is not exposed between the four, and the line division is eliminated.

また、必要に応じて、上記と同様にして、5回目以降の塗工と硬化を行って、より厚いラインを形成してもよい。   Further, if necessary, a thicker line may be formed by performing coating and curing for the fifth and subsequent times in the same manner as described above.

上記した他の実施形態例でも、第2のライン21、第3のライン31、第4のライン41、さらに、必要に応じて第4のライン41の上にさらに塗工されるラインのいずれも、その幅が広くなるのを防止できるので、着弾ピッチが着弾径よりも大きい状態にて重ね塗りして得られたラインR全体でも、その幅が広くなるのを防止できる。   In the above-described other embodiment examples, any of the second line 21, the third line 31, the fourth line 41, and a line that is further coated on the fourth line 41 as necessary. Since the width can be prevented from widening, it is possible to prevent the width of the entire line R obtained by overcoating in a state where the landing pitch is larger than the landing diameter from being widened.

本発明で使用する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、ピエゾ式インクジェット装置に使用できる基本特性を有する、つまり、25℃の粘度が5〜25mPa・sの範囲を有するものであって、活性エネルギー線(例えば、紫外線)の照射によって硬化するものであれば、特に限定されず、例えば、感光性の不飽和二重結合を1個以上有する感光性樹脂と光重合開始剤とを含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挙げることができる。   The active energy ray-curable resin composition used in the present invention has basic characteristics that can be used in a piezo ink jet device, that is, has a viscosity at 25 ° C. in the range of 5 to 25 mPa · s, and has an active energy. It is not particularly limited as long as it is cured by irradiation with a line (for example, ultraviolet rays), for example, an active energy containing a photosensitive resin having one or more photosensitive unsaturated double bonds and a photopolymerization initiator. A linear curable resin composition can be mentioned.

次に、本発明の実施例を説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、これらの例に限定されるものではない。   Next, examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded.

インクジェット装置(マイクロクラフト(株)製「MJP2013F1」)にインクジェットヘッドとしてコニカミノルタ(株)製「KM1024SHB」 (6pL, 512ノズル×2列)を取り付けたピエゾ式インクジェット装置を使用した。   A piezo-type inkjet device in which “KM1024SHB” (6pL, 512 nozzles × 2 rows) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd. was attached as an inkjet head to an inkjet device (“MJP2013F1” manufactured by Microcraft Co., Ltd.) was used.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、インクA、インクB、インクCの3種を使用した。前記各インクは、下記表1に示す各成分を下記表1に示す配合割合にて配合し、プラネタリーミキサーを用いて室温にて混合分散させて調製した。なお、下記表1中の配合割合の数字は、質量部を示す。なお、表1中の添加剤とは、レベリング性のために配合するものである。   Three types of ink A, ink B, and ink C were used as the active energy ray-curable resin composition. The respective inks were prepared by blending the components shown in Table 1 below at the blending ratios shown in Table 1 and mixing and dispersing them at room temperature using a planetary mixer. In addition, the number of the mixture ratio in the following Table 1 shows a mass part. In addition, the additive in Table 1 is blended for leveling properties.

試験片作製工程
サイズ76×52mm、厚さ1.2mmのガラス(松浪硝子工業(株)製、「MICRO SLIDE GLASS S9213」)の基板(基板の表面処理なし)上に、上記ピエゾ式インクジェット装置を用いて、上記のように調製した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であるインクを直線状に塗工し、さらに、該塗工と並行して紫外線(主に波長240〜420nmに分布を持つランプ)を照射して、塗工した活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させてラインを形成し、実施例1〜5、比較例1〜5の試験片を作製した。紫外線の照射には、メタルハライドランプ(Micro Craft製、「Sub Zero 85光量 オンヘッドUV Dバルブ」)を使用した。
Test piece manufacturing process The above-mentioned piezo-type ink jet device is placed on a substrate (without surface treatment of the substrate) of glass (Matsunami Glass Industry Co., Ltd., “MICRO SLIDE GLASS S9213”) having a size of 76 × 52 mm and a thickness of 1.2 mm. The ink, which is an active energy ray-curable resin composition prepared as described above, was applied in a straight line, and in addition to the coating, ultraviolet rays (a lamp having a distribution mainly at wavelengths of 240 to 420 nm) were used. ), The coated active energy ray-curable resin composition was cured to form a line, and test pieces of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 were produced. A metal halide lamp (manufactured by Micro Craft, “Sub Zero 85 light intensity on-head UV D bulb”) was used for ultraviolet irradiation.

試験片の作製にあたり、実施例1では、液状のインクの着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μm、2回目以降の塗工における、ライン形成方向への着弾位置のずらしの距離は各塗工回とも1回前の塗工の着弾径の64%とした。実施例2では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μm、2回目以降の塗工における、ライン形成方向への着弾位置のずらしの距離は各塗工回とも1回前の塗工の着弾径の43%とした。実施例3では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μm、2回目以降の塗工における、ライン形成方向への着弾位置のずらしの距離は各塗工回とも1回前の塗工の着弾径の21%とした。実施例4では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μm、2回目以降の塗工における、ライン形成方向への着弾位置のずらしの距離は各塗工回とも1回前の塗工の着弾径の43%とした。実施例5では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μm、2回目以降の塗工における、ライン形成方向への着弾位置のずらしの距離は各塗工回とも1回前の塗工の着弾径の43%とした。   In preparation of the test piece, in Example 1, the landing diameter of the liquid ink is 70 ± 10 μm in each coating time, the landing pitch is 90 μm in each coating time, and in the second and subsequent coatings in the line forming direction. The shift distance of the landing position was set to 64% of the landing diameter of the previous coating for each coating time. In Example 2, the landing diameter is 70 ± 10 μm for each coating time, the landing pitch is 90 μm for each coating time, and the distance of shifting the landing position in the line forming direction in the second and subsequent coatings is each coating time. Both times were 43% of the impact diameter of the previous coating. In Example 3, the landing diameter is 70 ± 10 μm for each coating time, the landing pitch is 90 μm for each coating time, and the distance of shifting the landing position in the line forming direction in the second and subsequent coatings is each coating time. Both times were 21% of the impact diameter of the previous coating. In Example 4, the landing diameter is 70 ± 10 μm for each coating time, the landing pitch is 90 μm for each coating time, and the distance of shifting the landing position in the line forming direction in the second and subsequent coatings is the coating distance. Both times were 43% of the impact diameter of the previous coating. In Example 5, the landing diameter is 70 ± 10 μm for each coating time, the landing pitch is 90 μm for each coating time, and the distance of shifting the landing position in the line forming direction in the second and subsequent coatings is the coating distance. Both times were 43% of the impact diameter of the previous coating.

また、試験片の作製にあたり、比較例1では、液状のインクの着弾径は70±10μm、着弾ピッチは90μmとした。比較例2では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μmとした。比較例3では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μmとした。比較例4では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも90μmとした。比較例5では、着弾径は各塗工回とも70±10μm、着弾ピッチは各塗工回とも35μm、2回目の塗工における、ライン形成方向への着弾位置のずらしの距離は1回前の塗工の着弾径の43%とした。   In preparing the test piece, in Comparative Example 1, the landing diameter of the liquid ink was 70 ± 10 μm, and the landing pitch was 90 μm. In Comparative Example 2, the landing diameter was 70 ± 10 μm for each coating time, and the landing pitch was 90 μm for each coating time. In Comparative Example 3, the landing diameter was 70 ± 10 μm for each coating time, and the landing pitch was 90 μm for each coating time. In Comparative Example 4, the landing diameter was 70 ± 10 μm for each coating time, and the landing pitch was 90 μm for each coating time. In Comparative Example 5, the landing diameter was 70 ± 10 μm for each coating time, the landing pitch was 35 μm for each coating time, and the shift distance of the landing position in the line forming direction in the second coating was the previous time It was 43% of the impact diameter of the coating.

評価
(1)ライン形状
基板のライン形状を、×100倍にて顕微鏡(OLYMPUS製、「STM−UM」)観察し、以下の通り評価した。
「○」:塗膜がライン状に形成され、ライン中に分断が見られない。
「×」:ラインが所々分断しており、基板表面が見えている。
Evaluation (1) Line Shape The line shape of the substrate was observed with a microscope (OLYMPUS, “STM-UM”) at × 100 magnification, and evaluated as follows.
“◯”: The coating film is formed in a line shape, and no division is observed in the line.
“X”: The line is broken in some places, and the substrate surface is visible.

(2)ライン表面の平滑性
ガラス基板(25mm×75mm、厚さ1.2mm)を用いた以外は、上記と同様に試験片を作製した。塗布した各インクの硬化後の表面平滑性について、表面粗さ計(東京精密・明神工機(株)製、型式「サーフコム570A・SAS−2010」)を用いて評価した。
「○」:算術平均粗さ(Ra)<2μm
「×」:算術平均粗さ(Ra)≧2μm
(2) Smoothness of line surface A test piece was prepared in the same manner as described above except that a glass substrate (25 mm x 75 mm, thickness 1.2 mm) was used. The surface smoothness after curing of each applied ink was evaluated using a surface roughness meter (manufactured by Tokyo Seimitsu / Meijin Koki Co., Ltd., model “Surfcom 570A / SAS-2010”).
“O”: arithmetic average roughness (Ra) <2 μm
“×”: arithmetic average roughness (Ra) ≧ 2 μm

(3)アスペクト比
上記顕微鏡(×100倍)にて、ラインの膜厚とライン幅を測定し、ラインの膜厚/ライン幅から算出した。
(3) Aspect ratio The film thickness and line width of the line were measured with the above microscope (× 100 times) and calculated from the film thickness / line width of the line.

実施例1〜5及び比較例1〜5で使用したインク(活性エネルギー線硬化性樹脂組成物)、インクの特性、インクの重ね塗り方法及び評価結果を下記表2に示す。   Table 2 below shows the ink (active energy ray-curable resin composition) used in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5, ink characteristics, ink overcoating method, and evaluation results.

なお、表2中に記載の各インクの粘度は、常温(25℃)の粘度であり、SV型(音叉型振動式)粘度計(型式:SV−10)を用いて測定した。   In addition, the viscosity of each ink described in Table 2 is a viscosity at room temperature (25 ° C.), and was measured using an SV type (tuning fork type vibration type) viscometer (model: SV-10).

表2に示すように、着弾径の21%〜64%ずらして重ね塗りした各実施例では、いずれのインクであっても、ライン中に分断が発生せず、良好なライン形状が得られた。さらに、実施例では、Ra<2μmと、ライン表面の凸凹の発生が抑えられて、ライン表面の平滑性に優れた、すなわち、厚さの均一なラインを形成できた。さらに、実施例では、ライン幅70〜80μmにて0.09以上のアスペクト比、すなわち、微細で厚いラインが得られた。特に、重ね塗りを2回実施した実施例2、4、5ではアスペクト比0.1、重ね塗りを5回実施した実施例3ではアスペクト比0.15と、微細なライン幅を維持しつつ、より厚いラインを形成できた。   As shown in Table 2, in each of the examples that were overcoated by shifting 21% to 64% of the landing diameter, no breakage occurred in the line regardless of the ink, and a good line shape was obtained. . Furthermore, in the examples, Ra <2 μm, and the occurrence of irregularities on the line surface was suppressed, and a line having excellent line surface smoothness, that is, a uniform thickness could be formed. Furthermore, in the examples, an aspect ratio of 0.09 or more, that is, a fine and thick line was obtained with a line width of 70 to 80 μm. In particular, in Examples 2, 4, and 5 in which the overcoating was performed twice, the aspect ratio was 0.1, and in Example 3 in which the overcoating was performed five times, the aspect ratio was 0.15, while maintaining a fine line width, A thicker line could be formed.

一方、図4に相当する着弾位置をずらさずに重ね塗りした比較例3、4では、各実施例と同等の微細なラインとアスペクト比を得ることはできたが、ライン中に分断が発生して、良好なライン形状は得られなかった。比較例3、4では、ライン中に分断が発生したので、ライン表面の平滑性も得られなかった。図3に相当する重ね塗り0回の比較例1、また、重ね塗り1回の比較例2では、それぞれ、アスペクト比0.04、0.06と厚さの厚いライン、すなわち、アスペクト比の高いラインを形成できず、良好なライン形状とライン表面の平滑性も得られなかった。また、着弾ピッチが着弾径の約半分である比較例5では、着弾径の43%ずらして重ね塗りしても、良好なライン形状は得られず、ライン表面の平滑性も得られなかった。   On the other hand, in Comparative Examples 3 and 4 in which the landing positions corresponding to FIG. 4 were overlaid without shifting, fine lines and aspect ratios equivalent to those in each example could be obtained, but the lines were divided. Thus, a good line shape could not be obtained. In Comparative Examples 3 and 4, since the breakage occurred in the line, the smoothness of the line surface was not obtained. In Comparative Example 1 with zero overcoating corresponding to FIG. 3 and Comparative Example 2 with one overcoating, thick lines with a high aspect ratio, that is, aspect ratios of 0.04 and 0.06, respectively, are high in aspect ratio. A line could not be formed, and a good line shape and smoothness of the line surface could not be obtained. Further, in Comparative Example 5 in which the landing pitch was about half of the landing diameter, even if the coating was shifted by 43% of the landing diameter, a good line shape was not obtained, and the smoothness of the line surface was not obtained.

本発明は、微細で厚く、さらに厚さが均一であるラインを得ることができるので、例えば、プリント配線板のソルダーレジスト膜やタッチパネル用微細パターンの分野で利用価値が高い。   Since the present invention can obtain a fine, thick, and evenly uniform line, it has a high utility value in the field of, for example, a solder resist film of a printed wiring board and a fine pattern for a touch panel.

1 第1の液滴
2 第2の液滴
3 第3の液滴
4 第4の液滴
11 第1のライン
21 第2のライン
31 第3のライン
41 第4のライン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st droplet 2 2nd droplet 3 3rd droplet 4 4th droplet 11 1st line 21 2nd line 31 3rd line 41 4th line

Claims (7)

ピエゾ式インクジェット装置を用いたインクジェット法により、基板上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を重ね塗り塗工してラインを形成するライン形成方法であって、
n回目に所定の着弾ピッチにて塗工した前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の着弾径に対して、n+1回目の塗工が、前記ラインの形成方向へ前記着弾径よりも短い距離移動させて重ね塗りすることを特徴とするライン形成方法。
A line forming method in which an active energy ray-curable resin composition is repeatedly coated on a substrate to form a line by an inkjet method using a piezo-type inkjet device,
With respect to the landing diameter of the active energy ray-curable resin composition applied at a predetermined landing pitch for the nth time, the n + 1th coating is moved by a distance shorter than the landing diameter in the line forming direction. A line forming method characterized in that the overcoating is performed.
前記距離が、前記着弾径の40%〜60%の範囲であることを特徴とする請求項1に記載のライン形成方法。   The line forming method according to claim 1, wherein the distance is in a range of 40% to 60% of the landing diameter. 前記塗工と活性エネルギー線による硬化が、並行して行われることを特徴とする請求項1または2に記載のライン形成方法。   The line forming method according to claim 1, wherein the coating and the curing with an active energy ray are performed in parallel. 前記重ね塗りの回数が、1回以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のライン形成方法。   The line forming method according to claim 1, wherein the number of times of overcoating is one or more. 前記着弾ピッチが、前記着弾径よりも大きいことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のライン形成方法。   The line forming method according to claim 1, wherein the landing pitch is larger than the landing diameter. 前記ラインの厚さ/幅が、0.1以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のライン形成方法。   6. The line forming method according to claim 1, wherein the thickness / width of the line is 0.1 or more. 前記基板が、プリント配線板であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のライン形成方法。   The line forming method according to claim 1, wherein the substrate is a printed wiring board.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003133691A (en) * 2001-10-22 2003-05-09 Seiko Epson Corp Method and device for forming film pattern, conductive film wiring, electro-optical device, electronic equipment, and non-contact card medium
JP2008037898A (en) * 2006-08-01 2008-02-21 Taiyo Ink Mfg Ltd Curable resin composition for inkjet, cured material of the same and printed circuit board by using the same
JP2010227816A (en) * 2009-03-26 2010-10-14 Seiko Epson Corp Method of forming coating film and method of manufacturing piezoelectric element
WO2011065228A1 (en) * 2009-11-30 2011-06-03 株式会社タムラ製作所 Curable composition, cured material therefrom, and use thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003133691A (en) * 2001-10-22 2003-05-09 Seiko Epson Corp Method and device for forming film pattern, conductive film wiring, electro-optical device, electronic equipment, and non-contact card medium
JP2008037898A (en) * 2006-08-01 2008-02-21 Taiyo Ink Mfg Ltd Curable resin composition for inkjet, cured material of the same and printed circuit board by using the same
JP2010227816A (en) * 2009-03-26 2010-10-14 Seiko Epson Corp Method of forming coating film and method of manufacturing piezoelectric element
WO2011065228A1 (en) * 2009-11-30 2011-06-03 株式会社タムラ製作所 Curable composition, cured material therefrom, and use thereof

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