JP2015007989A - Semiconductor device, adjusting method for the same, and data processing system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は半導体装置及びその調整方法並びにデータ処理システムに関し、特に、複数のコアチップとこれを制御するインターフェースチップからなる半導体装置及びその調整方法並びにデータ処理システムに関する。 The present invention relates to a semiconductor device, an adjustment method thereof, and a data processing system, and more particularly to a semiconductor device including a plurality of core chips and an interface chip for controlling the core chip, an adjustment method thereof, and a data processing system.
DRAM(Dynamic Random Access Memory)などの半導体装置に要求される記憶容量は年々増大している。この要求を満たすため、近年、複数のメモリチップを積層したマルチチップパッケージと呼ばれるメモリデバイスが提案されている。しかしながら、マルチチップパッケージにて用いられるメモリチップは、それ自身が単体でも動作する通常のメモリチップであることから、各メモリチップには外部(例えば、メモリコントローラ)とのインターフェースを行ういわゆるフロントエンド部が含まれている。このため、夫々のメモリチップ内のメモリコアに割り当て可能な占有面積は、全チップ面積からフロントエンド部の占有面積を減じた面積に制限され、1チップ当たり(一つのメモリチップ当たり)の記憶容量を大幅に増大させることは困難である。 The storage capacity required for semiconductor devices such as DRAM (Dynamic Random Access Memory) is increasing year by year. In order to satisfy this requirement, recently, a memory device called a multichip package in which a plurality of memory chips are stacked has been proposed. However, since the memory chip used in the multi-chip package is a normal memory chip that operates alone, each memory chip has a so-called front-end unit that interfaces with the outside (for example, a memory controller). It is included. Therefore, the occupied area that can be allocated to the memory core in each memory chip is limited to the area obtained by subtracting the occupied area of the front end portion from the total chip area, and the storage capacity per chip (per memory chip) It is difficult to significantly increase
しかも、フロントエンド部を構成する回路はロジック系の回路であるにもかかわらず、メモリコアを含むバックエンド部と同時に作製されるために、フロントエンド部のトランジスタを高速化することが困難であるという問題もあった。 In addition, although the circuit constituting the front-end unit is a logic circuit, it is difficult to increase the speed of the front-end transistor because it is manufactured at the same time as the back-end unit including the memory core. There was also a problem.
このような問題を解決する方法として、フロントエンド部とバックエンド部をそれぞれ別個のチップに集積し、これらを積層することによって一つの半導体装置を構成する方法が提案されている(特許文献1参照)。この方法によれば、それぞれバックエンド部が集積された複数のコアチップについては、メモリコアに割り当て可能な占有面積が増大することから、1チップ当たり(一つのコアチップ当たり)の記憶容量を増大させることが可能となる。一方、フロントエンド部が集積され、複数のコアチップに共通なインターフェースチップについては、メモリコアとは異なるプロセスで作製できるため、高速なトランジスタによって回路を形成することが可能となる。しかも、1つのインターフェースチップに対して複数のコアチップを割り当てることができるため、全体として非常に大容量且つ高速な半導体装置を提供することが可能となる。 As a method for solving such a problem, a method has been proposed in which a front-end unit and a back-end unit are integrated on separate chips and stacked to form one semiconductor device (see Patent Document 1). ). According to this method, since the occupied area that can be allocated to the memory core increases for a plurality of core chips each integrated with a back-end unit, the storage capacity per chip (per core chip) can be increased. Is possible. On the other hand, an interface chip having a front end unit integrated and common to a plurality of core chips can be manufactured by a process different from that of the memory core, and thus a circuit can be formed by high-speed transistors. In addition, since a plurality of core chips can be assigned to one interface chip, it is possible to provide a semiconductor device with a very large capacity and high speed as a whole.
しかしながら、各コアチップの動作速度には製造プロセス条件に起因するばらつきが存在することから、例えばリードコマンドを受けてからリードデータを出力するまでの時間がコアチップごとにばらついてしまう。このため、インターフェースチップ側におけるリードデータのラッチマージンが減少し、場合によってはリードデータを正しくラッチできないという問題が生じてしまう。 However, since the operating speed of each core chip varies due to manufacturing process conditions, for example, the time from receiving a read command to outputting read data varies from core chip to core chip. For this reason, the latch margin of the read data on the interface chip side is reduced, and there arises a problem that the read data cannot be correctly latched in some cases.
この問題を解決する方法として、フロントエンド部とバックエンド部が分離されたタイプの半導体装置ではないが、特許文献2には、メモリとこれに接続されたLSIとを備えたデバイスにおいて、メモリから出力されたデータのラッチタイミングをLSI側で調整する方法が開示されている。
As a method for solving this problem, the semiconductor device is not a type of semiconductor device in which the front-end unit and the back-end unit are separated. However,
しかしながら、フロントエンド部とバックエンド部が分離されたタイプの半導体装置は、フロントエンド部を構成する1個のインターフェースチップに対して、バックエンド部を構成するコアチップが複数割り当てられることから、特許文献2に記載された方法をこの種の半導体装置に適用すると、インターフェースチップ内のラッチタイミング制御回路がコアチップの枚数分必要となってしまう。つまり、インターフェースチップ内に複数のコアチップに夫々対応した複数のラッチタイミング制御回路が必要となる。これは、コアチップがそれぞれ別個のチップであり、製造プロセス条件に起因するばらつきが各コアチップ間において存在するからである。つまり、夫々が同一機能であり、同一の製造マスクで製造される複数のコアチップであっても、複数のコアチップは夫々固有の製造プロセス条件によって異なる特性(例えば、所定回路当たりの遅延速度)となる。よって、複数のコアチップが夫々動作する速度が異なる。しかも、インターフェースチップに割り当てられるコアチップの枚数は、必ずしもインターフェースチップの製造時には確定しないため、特許文献2に記載された方法では、割り当てられ得るコアチップの最大数分に対応する複数のラッチタイミング制御回路をインターフェースチップに用意しておく必要があり、チップ構成によっては大幅な無駄が生じてしまう。
However, since the semiconductor device of the type in which the front end portion and the back end portion are separated, a plurality of core chips constituting the back end portion are assigned to one interface chip constituting the front end portion. When the method described in 2 is applied to this type of semiconductor device, the latch timing control circuit in the interface chip is required for the number of core chips. That is, a plurality of latch timing control circuits corresponding to a plurality of core chips are required in the interface chip. This is because each core chip is a separate chip, and variations due to manufacturing process conditions exist between the core chips. That is, even if each of the core chips has the same function and is manufactured with the same manufacturing mask, the plurality of core chips have different characteristics (for example, delay speed per predetermined circuit) depending on the specific manufacturing process conditions. . Therefore, the speeds at which the plurality of core chips operate are different. Moreover, since the number of core chips allocated to the interface chip is not necessarily determined at the time of manufacturing the interface chip, the method described in
本発明による半導体装置は、夫々の出力端子が、電気的に共通に接続された複数のコアチップと、前記夫々の出力端子に電気的に接続される一つの入力端子と、前記夫々の出力端子から出力される複数のリードデータを前記入力端子から入力する一つのデータ入力回路と、を含み、前記複数のコアチップに少なくともリードコマンドを発行するインターフェースチップと、を備え、前記複数のコアチップのそれぞれは、前記リードコマンドに応答して前記出力端子に前記リードデータを出力するデータ出力回路と、前記リードコマンドから前記出力端子に前記リードデータを出力するまでの時間を示す第1の時間を前記複数のコアチップ間において一致させる第2の時間へ調整する出力タイミング調整回路と、を含むことを特徴とする。 The semiconductor device according to the present invention includes a plurality of core chips each having an output terminal electrically connected in common, one input terminal electrically connected to each output terminal, and each output terminal. A plurality of read data to be input from the input terminal, and an interface chip that issues at least a read command to the plurality of core chips, and each of the plurality of core chips includes: A data output circuit for outputting the read data to the output terminal in response to the read command; and a first time indicating a time from the read command to outputting the read data to the output terminal. And an output timing adjustment circuit that adjusts to a second time to be matched.
また、本発明による半導体装置の調整方法は、夫々の出力端子が電気的に共通に接続された複数のコアチップと、一つの入力端子が前記複数のコアチップの夫々の出力端子に電気的に接続されたインターフェースチップとを備える半導体装置の調整方法であって、前記複数のコアチップの夫々の第1の動作速度と前記インターフェースチップの第2の動作速度との動作速度差をそれぞれ検出し、前記夫々の検出の結果に基づいて、前記インターフェースチップが前記複数のコアチップへ発行するリードコマンドに関連し、前記複数のコアチップから前記インターフェースチップへ出力するリードデータのそれぞれの出力タイミングを、前記複数のコアチップ間において一致させる、ことを特徴とする。 In addition, the semiconductor device adjustment method according to the present invention includes a plurality of core chips each having an output terminal electrically connected in common, and one input terminal electrically connected to each output terminal of the plurality of core chips. A method of adjusting a semiconductor device comprising an interface chip, wherein a difference in operating speed between a first operating speed of each of the plurality of core chips and a second operating speed of the interface chip is detected, respectively. Based on the detection result, the output timing of the read data output from the plurality of core chips to the interface chip in relation to the read command issued by the interface chip to the plurality of core chips is determined between the plurality of core chips. It is characterized by matching.
また、本発明によるデータ処理システムは、上記の半導体装置とこれに接続されたコントローラとを備え、前記コントローラは、前記インターフェースチップに前記リードコマンドに関連するコマンドを発行し、前記コントローラから前記コマンドを受けた前記インターフェースチップは、前記複数のコアチップに前記リードコマンドを発行し、前記複数のコアチップのいずれかは、前記リードコマンドを受けて前記インターフェースチップに前記リードコマンドに対応する前記リードデータを出力し、前記複数のコアチップのいずれかから前記リードデータを受けた前記インターフェースチップは、前記コントローラに前記リードデータを出力する、ことを特徴とする。 A data processing system according to the present invention includes the semiconductor device described above and a controller connected thereto, and the controller issues a command related to the read command to the interface chip, and the command is transmitted from the controller. The received interface chip issues the read command to the plurality of core chips, and one of the plurality of core chips receives the read command and outputs the read data corresponding to the read command to the interface chip. The interface chip that receives the read data from any of the plurality of core chips outputs the read data to the controller.
本発明において時間の「一致」とは、完全に同時であることを要求するものではなく、回路構成上、時間差をこれ以上短縮することができない状態を含む。本発明においては、出力タイミング調整回路によってリードデータの出力タイミングを調整しているため、リードデータの出力タイミングを出力タイミング調整回路の調整ピッチを超える精度で微調整することはできない。言い換えれば、時間調整の最小分解能である最小遅延時間または最小短縮時間よりも小さな時間の調整はできない。したがって、出力タイミング調整回路によって時間差を最小値とした状態が、本発明において時間が「一致」した状態となる。 In the present invention, “matching” of time does not require that the time is completely the same, but includes a state in which the time difference cannot be further reduced due to the circuit configuration. In the present invention, since the output timing of the read data is adjusted by the output timing adjustment circuit, the output timing of the read data cannot be finely adjusted with an accuracy exceeding the adjustment pitch of the output timing adjustment circuit. In other words, it is impossible to adjust the time smaller than the minimum delay time or the minimum shortening time which is the minimum resolution of time adjustment. Therefore, a state in which the time difference is minimized by the output timing adjustment circuit is a state in which the times are “matched” in the present invention.
本発明によれば、各コアチップに出力タイミング調整回路を設け、これによって、コアチップが、リードコマンドを受け付けてからリードデータを出力するまでの時間を、各コアチップ間において一致させていることから、インターフェースチップ側における各コアチップからそれぞれ出力される複数のリードデータのラッチマージンを十分に確保する(共通のラッチマージンで確保する)ことが可能となる。しかも、各コアチップ側が、夫々リードデータの出力タイミングの調整を行っていることから、インターフェースチップ側において、コアチップの枚数分に夫々対応した複数のラッチタイミング制御回路などを設ける必要もない。この効果は、各コアチップの夫々の出力信号(夫々の出力回路)が、インターフェースチップの一つの入力回路に接続されている構造に特有な効果である。 According to the present invention, an output timing adjustment circuit is provided in each core chip, whereby the time from when the core chip receives the read command until the read data is output is matched between the core chips. It becomes possible to secure a sufficient latch margin for a plurality of read data respectively output from each core chip on the chip side (secured by a common latch margin). In addition, since each core chip side adjusts the output timing of the read data, it is not necessary to provide a plurality of latch timing control circuits corresponding to the number of core chips on the interface chip side. This effect is an effect peculiar to the structure in which each output signal (each output circuit) of each core chip is connected to one input circuit of the interface chip.
本発明の課題を解決する技術思想(コンセプト)の代表的な一例は、以下に示される。但し、本願の請求内容はこの技術思想に限られず、本願の請求項に記載の内容であることは言うまでもない。すなわち、本発明は、インターフェースチップを基準として各コアチップの動作速度をそれぞれ測定し、その結果に基づいて、各コアチップ側にてリードデータの出力タイミングを調整することを技術思想とするものである。これにより、インターフェースチップ側が各コアチップ側へリードコマンド発行し、各コアチップ側が夫々そのリードコマンドを受け付けてから対応するリードデータを出力するまでの時間が、各コアチップ間において一致させるとともに、インターフェースチップ側における各コアチップから夫々出力される複数のリードデータのそれぞれの取り込みタイミングを共通のタイミングで同期させる、ことができる。その結果、インターフェースチップのプロセス条件に起因するインターフェースチップのリードコマンドの発行から対応するリードデータの取り込みまでの時間を基準に、各コアチップ間の夫々のプロセス条件に起因する動作速度のばらつき、が相殺される。つまりこの技術思想は、各コアチップの夫々の出力信号(夫々の出力回路)が、インターフェースチップの一つの入力回路に共通に接続されている特有な構造において、有用である。前記特有な構造の第1例として、各コアチップは、夫々が同一機能であり、同一の製造マスクで製造される。第2例として、各コアチップは、それぞれ記憶機能を備えるも夫々異なる(第1コアチップはDRAM、第2チップはSRAM、第3チップは不揮発性メモリ、第4チップはDSP)機能であり、それぞれ異なる製造マスクで製造される。 A typical example of a technical idea (concept) for solving the problems of the present invention is shown below. However, it goes without saying that the claimed contents of the present application are not limited to this technical idea, but are the contents described in the claims of the present application. That is, the technical idea of the present invention is to measure the operating speed of each core chip with the interface chip as a reference, and adjust the output timing of read data on each core chip side based on the result. As a result, the time from the interface chip side issuing a read command to each core chip side and the time when each core chip side accepts the read command until the corresponding read data is output is matched between the core chips. It is possible to synchronize the fetch timing of each of a plurality of read data output from each core chip at a common timing. As a result, based on the time from issuing the interface chip read command due to the process conditions of the interface chip to taking in the corresponding read data, the operating speed variations due to the respective process conditions between the core chips are offset. Is done. That is, this technical idea is useful in a unique structure in which each output signal (each output circuit) of each core chip is commonly connected to one input circuit of the interface chip. As a first example of the unique structure, each core chip has the same function and is manufactured with the same manufacturing mask. As a second example, each core chip has a different storage function (the first core chip is a DRAM, the second chip is an SRAM, the third chip is a non-volatile memory, and the fourth chip is a DSP). Manufactured with a production mask.
また、以下の技術思想も開示される。インターフェースチップを基準として、各コアチップの動作速度を測定し、各コアチップの動作速度を調整することに意義がある。これは、インターフェースチップが、コアチップと異なる製造条件で製作されるからであり、且つ、インターフェースチップが、外部とのフロントエンドの機能を備え、コアチップがバックエンドの機能を備えるからである。詳細には、インターフェースチップが、外部との通信を行い、その通信結果による固有の指示をバックエンドのコアチップに伝達し、その固有の指示に関連するバックエンドからのデータを受信する。言い換えれば、インターフェースチップがコアチップへの命令(例えばリード命令)のトリガ信号の発信元(第1のドライバ)であり、そのトリガ信号に関連するデータの受信元(第1のレシーバ)である。他方、コアチップは、前記インターフェースチップの第1のドライバが出力したトリガ信号を受信する第2のレシーバと、そのトリガ信号に関連するデータを出力する第2のドライバを備える。よって、インターフェースチップ内における第1のドライバ回路から第1のレシーバ回路への第1の所定時間(第1のレイテンシ)と、コアチップ内の第2のレシーバ回路から第2のドライバ回路への第2の所定時間(第2のレイテンシ)とが、所謂レーシング関係にあり、第1のレイテンシと複数の第2のレイテンシが時間的にマッチングしていることが重要である。夫々のチップにおいては、第1と第2のレイテンシは同一の時間に設計されている。ここで、インターフェースチップが、コアチップと異なる製造条件で製作されることから、且つ、各コアチップにおいても互いが異なる製造条件で製作されることから、前記第1のレイテンシと複数の第2のレイテンシとが、夫々異なる時間的な複数のレーシングの関係に置かれる。最も効率の良い解決手段は、フロントエンド機能であるインターフェースチップの製造条件によって製作された第1のレイテンシを基準に、各コアチップの複数の第2のレイテンシとのそれぞれの時間差を測定することが、最も好ましい。インターフェースチップは、トリガ信号の発信元であるからである。 The following technical idea is also disclosed. It is meaningful to measure the operating speed of each core chip on the basis of the interface chip and adjust the operating speed of each core chip. This is because the interface chip is manufactured under different manufacturing conditions from the core chip, and the interface chip has a front-end function with the outside, and the core chip has a back-end function. Specifically, the interface chip communicates with the outside, transmits a unique instruction based on the communication result to the back-end core chip, and receives data from the back end related to the unique instruction. In other words, the interface chip is a source (first driver) of a trigger signal for a command (for example, a read command) to the core chip, and a source (first receiver) of data related to the trigger signal. On the other hand, the core chip includes a second receiver that receives the trigger signal output from the first driver of the interface chip, and a second driver that outputs data related to the trigger signal. Therefore, the first predetermined time (first latency) from the first driver circuit to the first receiver circuit in the interface chip, and the second from the second receiver circuit in the core chip to the second driver circuit. The predetermined time (second latency) is in a so-called racing relationship, and it is important that the first latency and the plurality of second latencies are temporally matched. In each chip, the first and second latencies are designed at the same time. Here, the interface chip is manufactured under different manufacturing conditions from the core chip, and each core chip is manufactured under different manufacturing conditions, so that the first latency and the plurality of second latencies are However, they are placed in a plurality of racing relationships that are different in time. The most efficient solution is to measure each time difference from the plurality of second latencies of each core chip based on the first latency produced by the manufacturing conditions of the interface chip that is the front end function. Most preferred. This is because the interface chip is the source of the trigger signal.
更に、以下の技術思想も開示される。測定は、インターフェースチップと複数のコアチップを一つの半導体装置として組み立てた後に、インターフェースチップを基準として、各コアチップの動作速度を測定し、各コアチップの動作速度を調整することに意義がある。これは、インターフェースチップと複数のコアチップ間の夫々の物理的な距離が異なるからである。特に、複数のコアチップと一つのインターフェースチップとで構成された半導体デバイスにおいて、半導体デバイスの外部の電源端子から、半導体デバイス内部の複数のコアチップとインターフェースチップへの夫々の電源供給線の電位が、半導体デバイス内の寄生抵抗等により、夫々のチップで異なる場合があるからである。この場合、前述の第1のレイテンシと複数の第2のレイテンシが異なる。例えば、複数のコアチップとインターフェースチップが、互いに積層して一つの半導体デバイスとして構成され、半導体デバイスの外部端子である電源端子から最も遠い内部のチップと最も近いチップとの夫々のチップにおける複数の電源電位は、異なる場合がある。更に、インターフェースチップから各コアチップへ電源が供給される場合においても、インターフェースチップから最も遠いコアチップと最も近いコアチップの夫々のコアチップにおける複数の電源電位は異なる場合がある。 Furthermore, the following technical ideas are also disclosed. The measurement is meaningful in that after the interface chip and the plurality of core chips are assembled as one semiconductor device, the operation speed of each core chip is measured with reference to the interface chip, and the operation speed of each core chip is adjusted. This is because the physical distance between the interface chip and the plurality of core chips is different. In particular, in a semiconductor device composed of a plurality of core chips and a single interface chip, the potential of each power supply line from a power supply terminal outside the semiconductor device to the plurality of core chips and the interface chip inside the semiconductor device is a semiconductor. This is because each chip may be different depending on the parasitic resistance in the device. In this case, the first latency is different from the plurality of second latencies. For example, a plurality of core chips and interface chips are stacked on each other to form a single semiconductor device, and a plurality of power supplies in each of the internal chip farthest from the power supply terminal that is the external terminal of the semiconductor device and the closest chip The potential may be different. Furthermore, even when power is supplied from the interface chip to each core chip, the plurality of power supply potentials in the core chips of the core chip farthest from the interface chip and the core chip closest thereto may be different.
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の好ましい実施形態による半導体装置10の構造を説明するための模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining the structure of a
図1に示すように、本実施形態による半導体装置10は、互いに同一の機能、構造を持ち、夫々同一の製造マスクで製作された8枚のコアチップCC0〜CC7、コアチップとは異なる製造マスクで製作された1枚のインターフェースチップIF及び1枚のインターポーザIPが積層された構造を有している。コアチップCC0〜CC7及びインターフェースチップIFはシリコン基板を用いた半導体チップであり、いずれもシリコン基板を貫通する多数の貫通電極TSV(Through Silicon Via)によって上下に隣接するチップと電気的に接続されている。一方、インターポーザIPは樹脂からなる回路基板であり、その裏面IPbには複数の外部端子(半田ボール)SBが形成されている。
As shown in FIG. 1, the
コアチップCC0〜CC7は、「外部端子を介して外部とのインターフェースを行ういわゆるフロントエンド部と複数の記憶セルとそれら記憶セルへアクセスするいわゆるバックエンド部の両者を含む周知で一般的なそれ自身が単体チップでも動作し、メモリコントローラと直接通信できる通常のメモリチップである1GbのDDR3(Double Data Rate 3)型SDRAM(Synchronous Dynamic Random Access Memory)」に含まれる回路ブロックのうち、外部とのインターフェースを行ういわゆるフロントエンド部(フロントエンド機能)が削除された半導体チップである。言い換えれば、原則として、バックエンド部に属する回路ブロックのみが集積された半導体チップである。フロントエンド部に含まれる回路ブロックとしては、メモリセルアレイとデータ入出力端子との間で入出力データのパラレル/シリアル変換を行うパラレルシリアル変換回路(データラッチ回路)や、データの入出力タイミングを制御するDLL(Delay Locked Loop)回路などが挙げられる。詳細は後述する。インターフェースチップIFは、フロントエンド部のみが集積された半導体チップである。よって、インターフェースチップの動作周波数は、コアチップの動作周波数よりも高い。コアチップCC0〜CC7にはフロントエンド部に属するこれらの回路は含まれていないため、コアチップの製造過程において、そのコアチップがウェハ状態で実施されるテスト動作時を除きコアチップCC0〜CC7を単体で動作させることはできない。コアチップCC0〜CC7を動作させるためには、インターフェースチップIFが必要である。よって、コアチップは、一般的な単体チップの記憶集積度よりも集積度が高い。本実施形態による半導体装置10は、インターフェースチップは、外部と第1の動作周波数で通信するフロントエンド機能を有し、複数のコアチップは、インターフェースチップとのみ通信し、且つ第1の動作周波数よりも低い第2の動作周波数で通信するバックエンド機能を有する。よって、複数のコアチップのそれぞれは、複数の情報を記憶するメモリセルアレイを備え、複数のコアチップからインターフェースチップへパラレルに供給される一つのI/O(DQ)当たりの複数のリードデータは、インターフェースチップからコアチップへ与える一回のリードコマンドに関連する複数のビット数である。所謂、複数のビット数は、周知のプリフェッチデータ数に対応する。
The core chips CC0 to CC7 are "known and general itself including both a so-called front-end unit that interfaces with the outside via an external terminal, a plurality of memory cells, and a so-called back-end unit that accesses these memory cells. Of the circuit blocks included in the 1 Gb DDR3 (Synchronous Dynamic Random Access Memory) SDRAM, which is a normal memory chip that can operate even with a single chip and can communicate directly with the memory controller, interface with the outside This is a semiconductor chip from which a so-called front end portion (front end function) to be performed is deleted. In other words, in principle, it is a semiconductor chip in which only circuit blocks belonging to the back-end part are integrated. The circuit block included in the front-end unit controls the parallel / serial conversion circuit (data latch circuit) that performs parallel / serial conversion of input / output data between the memory cell array and data input / output terminals, and controls the data input / output timing. For example, a DLL (Delay Locked Loop) circuit may be used. Details will be described later. The interface chip IF is a semiconductor chip in which only the front end portion is integrated. Therefore, the operating frequency of the interface chip is higher than the operating frequency of the core chip. Since the core chips CC0 to CC7 do not include these circuits belonging to the front end unit, the core chips CC0 to CC7 are operated alone in the core chip manufacturing process except during a test operation in which the core chip is performed in a wafer state. It is not possible. An interface chip IF is required to operate the core chips CC0 to CC7. Therefore, the integration degree of the core chip is higher than that of a general single chip. In the
インターフェースチップIFは、8枚のコアチップCC0〜CC7に対する共通のフロントエンド部として機能する。したがって、外部からのアクセスは全てインターフェースチップIFを介して行われ、データの入出力もインターフェースチップIFを介して行われる。本実施形態では、インターポーザIPとコアチップCC0〜CC7との間にインターフェースチップIFが配置されているが、インターフェースチップIFの位置については特に限定されず、コアチップCC0〜CC7よりも上部に配置しても構わないし、インターポーザIPの裏面IPbに配置しても構わない。インターフェースチップIFをコアチップCC0〜CC7の上部にフェースダウンで又はインターポーザIPの裏面IPbにフェースアップで配置する場合には、インターフェースチップIFにTSVを設ける必要はない。また、インターフェースチップIFは、2つのインターポーザIPに挟まれるように配置しても良い。 The interface chip IF functions as a common front end unit for the eight core chips CC0 to CC7. Therefore, all external accesses are performed via the interface chip IF, and data input / output is also performed via the interface chip IF. In the present embodiment, the interface chip IF is disposed between the interposer IP and the core chips CC0 to CC7. However, the position of the interface chip IF is not particularly limited, and may be disposed above the core chips CC0 to CC7. Alternatively, it may be arranged on the back surface IPb of the interposer IP. When the interface chip IF is arranged face down on the top of the core chips CC0 to CC7 or face up on the back surface IPb of the interposer IP, there is no need to provide a TSV in the interface chip IF. Further, the interface chip IF may be arranged so as to be sandwiched between two interposers IP.
インターポーザIPは、半導体装置10の機械的強度を確保するとともに、電極ピッチを拡大するための再配線基板として機能する。つまり、インターポーザIPの上面IPaに形成された電極91をスルーホール電極92によって裏面IPbに引き出し、裏面IPbに設けられた再配線層93によって、外部端子SBのピッチを拡大している。図1には、2個の外部端子SBのみを図示しているが、実際には多数の外部端子が設けられている。外部端子SBのレイアウトは、規格により定められたDDR3型のSDRAMにおけるそれと同じである。したがって、外部のコントローラからは1個のDDR3型のSDRAMとして取り扱うことができる。
The interposer IP functions as a rewiring board for ensuring the mechanical strength of the
図1に示すように、最上部のコアチップCC0の上面はNCF(Non-Conductive Film)94及びリードフレーム95によって覆われており、コアチップCC0〜CC7及びインターフェースチップIFの各チップ間のギャップはアンダーフィル96で充填され、またその周囲は封止樹脂97によって覆われている。これにより、各チップが物理的に保護される。
As shown in FIG. 1, the upper surface of the uppermost core chip CC0 is covered with an NCF (Non-Conductive Film) 94 and a
コアチップCC0〜CC7に設けられたTSVの大部分は、積層方向から見た平面視で、すなわち図1に示す矢印Aから見た場合に、同じ位置に設けられた他層のTSVと短絡されている。つまり、図2(a)に示すように、平面視で同じ位置に設けられた上下のTSV1が短絡され、これらTSV1によって1本の配線が構成されている。各コアチップCC0〜CC7に設けられたこれらのTSV1は、当該コアチップ内の内部回路4にそれぞれ接続されている。したがって、インターフェースチップIFから図2(a)に示すTSV1に供給される入力信号(コマンド信号、アドレス信号など)は、コアチップCC0〜CC7の内部回路4に共通に入力される。また、コアチップCC0〜CC7からTSV1に供給される出力信号(データなど)は、ワイヤードオアされてインターフェースチップIFに入力される。
Most of the TSVs provided in the core chips CC0 to CC7 are short-circuited with TSVs of other layers provided at the same position in a plan view seen from the stacking direction, that is, when viewed from the arrow A shown in FIG. Yes. That is, as shown in FIG. 2A, the upper and lower TSV1 provided at the same position in a plan view are short-circuited, and one wiring is constituted by these TSV1. These TSV1 provided in each of the core chips CC0 to CC7 are respectively connected to the
これに対し、一部のTSVについては、図2(b)に示すように、平面視で同じ位置に設けられた他層のTSV2と直接接続されるのではなく、当該コアチップCC0〜CC7に設けられた内部回路5を介して接続されている。つまり、各コアチップCC0〜CC7に設けられたこれら内部回路5がTSV2を介してカスケード接続されている。この種のTSV2は、各コアチップCC0〜CC7に設けられた内部回路5に所定の情報を順次転送するために用いられる。このような情報としては、後述する層アドレス情報が挙げられる。
On the other hand, as shown in FIG. 2B, some TSVs are not directly connected to other layers TSV2 provided at the same position in plan view, but are provided in the core chips CC0 to CC7. Connected through the
さらに他の一部のTSV群については、図2(c)に示すように、平面視で異なる位置に設けられた他層のTSVと短絡されている。この種のTSV群3に対しては、平面視で所定の位置Pに設けられたTSV3aに各コアチップCC0〜CC7の内部回路6が接続されている。これにより、各コアチップに設けられた内部回路6に対して選択的に情報を入力することが可能となる。このような情報としては、後述する不良チップ情報が挙げられる。
Further, some other TSV groups are short-circuited with TSVs of other layers provided at different positions in plan view, as shown in FIG. For this type of
このように、コアチップCC0〜CC7に設けられたTSVは、図2(a)〜(c)に示す3タイプ(TSV1〜TSV3)が存在する。上述の通り、大部分のTSVは図2(a)に示すタイプであり、アドレス信号、コマンド信号、クロック信号などは図2(a)に示すタイプのTSV1を介して、インターフェースチップIFからコアチップCC0〜CC7に供給される。また、リードデータ及びライトデータについても、図2(a)に示すタイプのTSV1を介してインターフェースチップIFに入出力される。これに対し、図2(b),(c)に示すタイプのTSV2,TSV3は、互いに同一の構造を有するコアチップCC0〜CC7に対して、個別の情報を与えるために用いられる。 As described above, there are three types (TSV1 to TSV3) of TSVs provided in the core chips CC0 to CC7 shown in FIGS. As described above, most TSVs are of the type shown in FIG. 2A, and address signals, command signals, clock signals, etc. are transferred from the interface chip IF to the core chip CC0 via the TSV1 of the type shown in FIG. To CC7. Also, read data and write data are input / output to / from the interface chip IF via the TSV1 of the type shown in FIG. On the other hand, TSV2 and TSV3 of the types shown in FIGS. 2B and 2C are used to give individual information to the core chips CC0 to CC7 having the same structure.
図3は、図2(a)に示すタイプのTSV1の構造を示す断面図である。 FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of TSV1 of the type shown in FIG.
図3に示すように、TSV1はシリコン基板80及びその表面の層間絶縁膜81を貫通して設けられている。TSV1の周囲には絶縁リング82が設けられており、これによって、TSV1とトランジスタ領域との絶縁が確保される。図3に示す例では絶縁リング82が二重に設けられており、これによってTSV1とシリコン基板80との間の静電容量が低減されている。
As shown in FIG. 3, TSV1 is provided through
シリコン基板80の裏面側におけるTSV1の端部83は、裏面バンプ84で覆われている。裏面バンプ84は、下層のコアチップに設けられた表面バンプ85と接する電極である。表面バンプ85は、各配線層L0〜L3に設けられたパッドP0〜P3及びパッド間を接続する複数のスルーホール電極TH1〜TH3を介して、TSV1の端部86に接続されている。これにより、平面視で同じ位置に設けられた表面バンプ85と裏面バンプ84は、短絡された状態となる。尚、図示しない内部回路との接続は、配線層L0〜L3に設けられたパッドP0〜P3から引き出される内部配線(図示せず)を介して行われる。
The
図4は、半導体装置10の回路構成を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a circuit configuration of the
図4に示すように、インターポーザIPに設けられた外部端子には、クロック端子11a,11b、クロックイネーブル端子11c、コマンド端子12a〜12e、アドレス端子13、データ入出力端子14、データストローブ端子15a,15b、キャリブレーション端子16、及び電源端子17a,17bが含まれている。これら外部端子は、全てインターフェースチップIFに接続されており、電源端子17a,17bを除きコアチップCC0〜CC7には直接接続されない。
As shown in FIG. 4, the external terminals provided in the interposer IP include
まず、これら外部端子とフロントエンド機能であるインターフェースチップIFとの接続関係、並びに、インターフェースチップIFの回路構成について説明する。 First, the connection relationship between these external terminals and the interface chip IF which is a front-end function, and the circuit configuration of the interface chip IF will be described.
クロック端子11a,11bはそれぞれ外部クロック信号CK,/CKが供給される端子であり、クロックイネーブル端子11cはクロックイネーブル信号CKEが入力される端子である。供給された外部クロック信号CK,/CK及びクロックイネーブル信号CKEは、インターフェースチップIFに設けられたクロック発生回路21に供給される。本明細書において信号名の先頭に「/」が付されている信号は、対応する信号の反転信号又はローアクティブな信号であることを意味する。したがって、外部クロック信号CK,/CKは互いに相補の信号である。クロック発生回路21は内部クロック信号ICLKを生成する回路であり、生成された内部クロック信号ICLKは、インターフェースチップIF内の各種回路ブロックに供給される他、TSVを介してコアチップCC0〜CC7にも共通に供給される。
The
また、インターフェースチップIFにはDLL回路22が含まれており、DLL回路22によって入出力用クロック信号LCLKが生成される。入出力用クロック信号LCLKは、インターフェースチップIFに含まれる入出力バッファ回路23に供給される。DLL機能は、半導体装置10が外部と通信するに当たり、外部との同期がマッチングされた信号LCLKでフロントエンドを制御するからである。故に、バックエンドであるコアチップCC0〜CC7には、DLL機能は不要である。
The interface chip IF includes a
コマンド端子12a〜12eは、それぞれロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS、ライトイネーブル信号/WE、チップセレクト信号/CS、及びオンダイターミネーション信号ODTが供給される端子である。これらのコマンド信号は、インターフェースチップIFに設けられたコマンド入力バッファ31に供給される。コマンド入力バッファ31に供給されたこれらコマンド信号は、コマンドデコーダ32に供給される。コマンドデコーダ32は、内部クロックICLKに同期して、コマンド信号の保持、デコード及びカウントなどを行うことによって、各種内部コマンドICMDを生成する回路である。生成された内部コマンドICMDは、インターフェースチップIF内の各種回路ブロックに供給される他、TSVを介してコアチップCC0〜CC7にも共通に供給される。
The
アドレス端子13は、アドレス信号A0〜A15,BA0〜BA2が供給される端子であり、供給されたアドレス信号A0〜A15,BA0〜BA2は、インターフェースチップIFに設けられたアドレス入力バッファ41に供給される。アドレス入力バッファ41の出力は、TSVを介してコアチップCC0〜CC7に共通に供給される。また、モードレジスタセットにエントリーしている場合には、アドレス信号A0〜A15はインターフェースチップIFに設けられたモードレジスタ42に供給される。また、アドレス信号BA0〜BA2(バンクアドレス)については、インターフェースチップIFに設けられた図示しないアドレスデコーダによってデコードされ、これにより得られるバンク選択信号Bがデータラッチ回路25に供給される。これは、ライトデータのバンク選択がインターフェースチップIF内で行われるためである。
The
データ入出力端子14は、リードデータ又はライトデータDQ0〜DQ15の入出力を行うための端子である。また、データストローブ端子15a,15bは、ストローブ信号DQS,/DQSの入出力を行うための端子である。これらデータ入出力端子14及びデータストローブ端子15a,15bは、インターフェースチップIFに設けられた入出力バッファ回路23に接続されている。入出力バッファ回路23には、入力バッファIB及び出力バッファOBが含まれており、DLL回路22より供給される入出力用クロック信号LCLKに同期して、リードデータ又はライトデータDQ0〜DQ15及びストローブ信号DQS,/DQSの入出力を行う。また、入出力バッファ回路23は、コマンドデコーダ32から内部オンダイターミネーション信号IODTが供給されると、出力バッファOBを終端抵抗として機能させる。さらに、入出力バッファ回路23には、キャリブレーション回路24からインピーダンスコードDRZQが供給されており、これによって出力バッファOBのインピーダンスが指定される。入出力バッファ回路23は、周知のFIFO回路を含む。
The data input /
キャリブレーション回路24には、出力バッファOBと同じ回路構成を有するレプリカバッファRBが含まれており、コマンドデコーダ32よりキャリブレーション信号ZQが供給されると、キャリブレーション端子16に接続された外部抵抗(図示せず)の抵抗値を参照することによってキャリブレーション動作を行う。キャリブレーション動作とは、レプリカバッファRBのインピーダンスを外部抵抗の抵抗値と一致させる動作であり、得られたインピーダンスコードDRZQが入出力バッファ回路23に供給される。これにより、出力バッファOBのインピーダンスが所望の値に調整される。
The
入出力バッファ回路23は、データラッチ回路25に接続されている。データラッチ回路25は、周知なDDR機能を実現するレイテンシ制御によって動作するFIFO機能を実現するFIFO回路(不図示)とマルチプレクサMUX(不図示)とを含み、コアチップCC0〜CC7から供給されるパラレルなリードデータをシリアル変換するとともに、入出力バッファから供給されるシリアルなライトデータをパラレル変換する回路である。したがって、データラッチ回路25と入出力バッファ回路23との間はシリアル接続であり、データラッチ回路25とコアチップCC0〜CC7との間はパラレル接続である。本実施形態では、コアチップCC0〜CC7がDDR3型のSDRAMのバックエンド部であり、プリフェッチ数が8ビットである。また、データラッチ回路25とコアチップCC0〜CC7はバンクごとに接続されており、各コアチップCC0〜CC7に含まれるバンク数は8バンクである。したがって、データラッチ回路25とコアチップCC0〜CC7との接続は1DQ当たり64ビット(8ビット×8バンク)となる。
The input /
このように、データラッチ回路25とコアチップCC0〜CC7との間においては、基本的に、シリアル変換されていないパラレルデータが入出力される。つまり、通常のSDRAM(それは、フロントエンドとバックエンドが1つのチップで構成される)では、チップ外部との間でのデータの入出力がシリアルに行われる(つまり、データ入出力端子は1DQ当たり1個である)のに対し、コアチップCC0〜CC7では、インターフェースチップIFとの間でのデータの入出力がパラレルに行われる。この点は、通常のSDRAMとコアチップCC0〜CC7との重要な相違点である。但し、プリフェッチしたパラレルデータを全て異なるTSVを用いて入出力することは必須でなく、コアチップCC0〜CC7側にて部分的なパラレル/シリアル変換を行うことによって、1DQ当たり必要なTSVの数を削減しても構わない。例えば、1DQ当たり64ビットのデータを全て異なるTSVを用いて入出力するのではなく、コアチップCC0〜CC7側にて2ビットのパラレル/シリアル変換を行うことによって、1DQ当たり必要なTSVの数を半分(32個)に削減しても構わない。
Thus, parallel data that has not been serially converted is basically input / output between the
更に、データラッチ回路25は、インターフェースチップ単位で試験ができる機能が付加されている。インターフェースチップには、バックエンド部が存在しない。このため、原則として単体で動作させることはできない。しかしながら、単体での動作が一切不可能であると、ウェハ状態でのインターフェースチップの動作試験を行うことができなくなってしまう。これは、インターフェースチップと複数のコアチップの組み立て工程を経た後でなければ、半導体装置10を試験することができないことを示し、半導体装置10を試験することによって、インターフェースチップを試験することを意味する。インターフェースチップに回復できない欠陥がある場合、半導体装置10全体の損失を招くことになる。この点を考慮して、本実施形態では、データラッチ回路25には、試験用に擬似的なバックエンド部の一部が設けられており、試験時に簡素な記憶機能が可能とされている。
Further, the
電源端子17a,17bは、それぞれ電源電位VDD,VSSが供給される端子であり、インターフェースチップIFに設けられたパワーオン検出回路43に接続されるとともに、TSVを介してコアチップCC0〜CC7にも接続されている。パワーオン検出回路43は、電源の投入を検出する回路であり、電源の投入を検出するとインターフェースチップIFに設けられた層アドレスコントロール回路45を活性化させる。
The
層アドレスコントロール回路45は、本実施形態による半導体装置10のI/O構成に応じて層アドレスを変更するための回路である。上述の通り、本実施形態による半導体装置10は16個のデータ入出力端子14を備えており、これにより最大でI/O数を16ビット(DQ0〜DQ15)に設定することができるが、I/O数がこれに固定されるわけではなく、8ビット(DQ0〜DQ7)又は4ビット(DQ0〜DQ3)に設定することも可能である。これらI/O数に応じてアドレス割り付けが変更され、層アドレスも変更される。層アドレスコントロール回路45は、I/O数に応じたアドレス割り付けの変更を制御する回路であり、TSVを介して各コアチップCC0〜CC7に共通に接続されている。
The layer
また、インターフェースチップIFには層アドレス設定回路44も設けられている。層アドレス設定回路44は、TSVを介してコアチップCC0〜CC7に接続されている。層アドレス設定回路44は、図2(b)に示すタイプのTSV2を用いて、コアチップCC0〜CC7の層アドレス発生回路46にカスケード接続されており、テスト時においてコアチップCC0〜CC7に設定された層アドレスを読み出す役割を果たす。
The interface chip IF is also provided with a layer
さらに、インターフェースチップIFには不良チップ情報保持回路33が設けられている。不良チップ情報保持回路33は、正常に動作しない不良コアチップがアセンブリ後に発見された場合に、そのチップ番号を保持する回路である。不良チップ情報保持回路33は、TSVを介してコアチップCC0〜CC7に接続されている。不良チップ情報保持回路33は、図2(c)に示すタイプのTSV3を用いて、シフトされながらコアチップCC0〜CC7に接続されている。
Further, a defective chip
さらに、インターフェースチップIFにはプロセスモニタ回路100が設けられている。プロセスモニタ回路100は、コアチップCC0〜CC7に設けられたレプリカ回路300の動作速度を測定することによって、プロセス条件に起因するインターフェースチップIFと各コアチップCC0〜CC7との動作速度差を検出する回路である。検出結果は、インターフェースチップIFに設けられたタイミングデータ記憶回路200に記憶され、電源投入時に各コアチップCC0〜CC7に設けられた出力タイミング調整回路400に転送される。これらプロセスモニタ回路100等の詳細については後述する。尚、タイミングデータ記憶回路200は、各コアチップCC0〜CC7に設けても良い。
Further, a
以上が外部端子とインターフェースチップIFとの接続関係、並びに、インターフェースチップIFの回路構成の概要である。次に、コアチップCC0〜CC7の回路構成について説明する。 The above is the outline of the connection relationship between the external terminal and the interface chip IF and the circuit configuration of the interface chip IF. Next, the circuit configuration of the core chips CC0 to CC7 will be described.
図4に示すように、バックエンド機能であるコアチップCC0〜CC7に含まれるメモリセルアレイ50は、いずれも8バンクに分割されている。尚、バンクとは、個別にコマンドを受け付け可能な単位である。言い換えれば、夫々のバンクは、互いに排他制御で独立に動作することができる。半導体装置10外部からは、独立に夫々のバンクをアクセスできる。例えば、バンク1のメモリセルアレイ50とバンク2のメモリセルアレイ50は、異なるコマンドにより夫々対応するワード線WL、ビット線BL等を、時間軸的に同一の期間に個別にアクセス制御できる非排他制御の関係である。例えば、バンク1をアクティブ(ワード線とビット線をアクティブ)に維持しつつ、更にバンク2をアクティブに制御することができる。リード但し、半導体装置の外部端子(例えば、複数の制御端子、複数のI/O端子)は、共有している。メモリセルアレイ50内においては、複数のワード線WLと複数のビット線BLが交差しており、その交点にはメモリセルMCが配置されている(図4においては、1本のワード線WL、1本のビット線BL及び1個のメモリセルMCのみを示している)。ワード線WLの選択はロウデコーダ51によって行われる。また、ビット線BLはセンス回路53内の対応するセンスアンプSAに接続されている。センスアンプSAの選択はカラムデコーダ52によって行われる。
As shown in FIG. 4, each of the
ロウデコーダ51は、ロウ制御回路61より供給されるロウアドレスによって制御される。ロウ制御回路61には、TSVを介してインターフェースチップIFより供給されるロウアドレスを受けるアドレスバッファ61aが含まれており、アドレスバッファ61aによってバッファリングされたロウアドレスがロウデコーダ51に供給される。TSVを介して供給されるアドレス信号は、入力バッファB1を介して、ロウ制御回路61などに供給される。また、ロウ制御回路61にはリフレッシュカウンタ61bも含まれており、コントロールロジック回路63からリフレッシュ信号が発行された場合には、リフレッシュカウンタ61bが示すロウアドレスがロウデコーダ51に供給される。
The
カラムデコーダ52は、カラム制御回路62より供給されるカラムアドレスによって制御される。カラム制御回路62には、TSVを介してインターフェースチップIFより供給されるカラムアドレスを受けるアドレスバッファ62aが含まれており、アドレスバッファ62aによってバッファリングされたカラムアドレスがカラムデコーダ52に供給される。また、カラム制御回路62にはバースト長をカウントするバーストカウンタ62bも含まれている。
The
カラムデコーダ52によって選択されたセンスアンプSAは、さらに、図示しないいくつかのアンプ(サブアンプやデータアンプなど)を介して、データコントロール回路54に接続される。これにより、リード動作時においては、一つのI/O(DQ)あたり8ビット(=プリフェッチ数)のリードデータがデータコントロール回路54から出力され、ライト動作時においては、8ビットのライトデータがデータコントロール回路54に入力される。データコントロール回路54とインターフェースチップIFとの間はTSVを介してパラレルに接続される。
The sense amplifier SA selected by the
コントロールロジック回路63は、TSVを介してインターフェースチップIFから供給される内部コマンドICMDを受け、これに基づいてロウ制御回路61及びカラム制御回路62の動作を制御する回路である。図4に示すように、コントロールロジック回路63には出力タイミング調整回路400が含まれている。出力タイミング調整回路400は、インターフェースチップIF内のタイミングデータ記憶回路200に記憶された出力タイミングデータに基づき、リードデータの出力タイミングを調整する役割を果たす。コントロールロジック回路63には、層アドレス比較回路(チップ情報比較回路)47が接続されている。層アドレス比較回路47は、当該コアチップがアクセス対象であるか否かを検出する回路であり、その検出は、TSVを介してインターフェースチップIFより供給されるアドレス信号の一部SEL(チップ選択情報)と、層アドレス発生回路46に設定された層アドレスLID(チップ識別情報)とを比較することにより行われ、一致を検出すると一致信号HITを活性化させる。一致信号HITは、コントロールロジック回路63の他、レプリカ回路300にも供給される。
The
層アドレス発生回路46には、初期化時において各コアチップCC0〜CC7に固有の層アドレスが設定される。層アドレスの設定方法は次の通りである。まず、半導体装置10が初期化されると、各コアチップCC0〜CC7の層アドレス発生回路46に初期値として最小値(0,0,0)が設定される。コアチップCC0〜CC7の層アドレス発生回路46は、図2(b)に示すタイプのTSVを用いてカスケード接続されているとともに、内部にインクリメント回路を有している。そして、最上層のコアチップCC0の層アドレス発生回路46に設定された層アドレス(0,0,0)がTSVを介して2番目のコアチップCC1の層アドレス発生回路46に送られ、インクリメントされることにより異なる層アドレス(0,0,1)が生成される。以下同様にして、生成された層アドレスを下層のコアチップに転送し、転送されたコアチップ内の層アドレス発生回路46は、これをインクリメントする。最下層のコアチップCC7の層アドレス発生回路46には、層アドレスとして最大値(1,1,1)が設定されることになる。これにより、各コアチップCC0〜CC7には固有の層アドレスが設定される。
In the layer address generation circuit 46, a unique layer address is set to each of the core chips CC0 to CC7 at the time of initialization. The layer address setting method is as follows. First, when the
層アドレス発生回路46には、TSVを介してインターフェースチップIFの不良チップ情報保持回路33から不良チップ信号DEFが供給される。不良チップ信号DEFは、図2(c)に示すタイプのTSV3を用いて各コアチップCC0〜CC7に供給されるため、各コアチップCC0〜CC7に個別の不良チップ信号DEFを供給することができる。不良チップ信号DEFは、当該コアチップが不良チップである場合に活性化される信号であり、これが活性化している場合、層アドレス発生回路46はインクリメントした層アドレスではなく、インクリメントされていない層アドレスを下層のコアチップに転送する。また、不良チップ信号DEFはコントロールロジック回路63にも供給されており、不良チップ信号DEFが活性化している場合にはコントロールロジック回路63の動作が完全に停止する。これにより、不良のあるコアチップは、インターフェースチップIFからアドレス信号やコマンド信号が入力されても、リード動作やライト動作を行うことはない。
The layer address generation circuit 46 is supplied with a defective chip signal DEF from the defective chip
また、コントロールロジック回路63の出力は、モードレジスタ64にも供給されている。これにより、コントロールロジック回路63の出力がモードレジスタセットを示している場合、アドレス信号によってモードレジスタ64の設定値が上書きされる。これにより、コアチップCC0〜CC7の動作モードが設定される。
The output of the
さらに、コアチップCC0〜CC7には、内部電圧発生回路70が設けられている。内部電圧発生回路には電源電位VDD,VSSが供給されており、内部電圧発生回路70はこれを受けて各種内部電圧を生成する。内部電圧発生回路70により生成される内部電圧としては、各種周辺回路の動作電源として用いる内部電圧VPERI(≒VDD)、メモリセルアレイ50のアレイ電圧として用いる内部電圧VARY(<VDD)、ワード線WLの活性化電位である内部電圧VPP(>VDD)などが含まれる。また、コアチップCC0〜CC7には、パワーオン検出回路71も設けられており、電源の投入を検出すると各種内部回路のリセットを行う。
Furthermore, an internal
コアチップCC0〜CC7に含まれる上記の周辺回路は、TSVを介してインターフェースチップIFから供給される内部クロック信号ICLKに同期して動作する。TSVを介して供給される内部クロック信号ICLKは、入力バッファB2を介して各種周辺回路に供給される。 The peripheral circuits included in the core chips CC0 to CC7 operate in synchronization with the internal clock signal ICLK supplied from the interface chip IF via the TSV. The internal clock signal ICLK supplied via the TSV is supplied to various peripheral circuits via the input buffer B2.
以上がコアチップCC0〜CC7の基本的な回路構成である。コアチップCC0〜CC7には外部とのインターフェースを行うフロントエンド部が設けられておらず、このため、原則として単体で動作させることはできない。しかしながら、単体での動作が一切不可能であると、ウェハ状態でのコアチップの動作試験を行うことができなくなってしまう。これは、インターフェースチップと複数のコアチップの組み立て工程を経た後でなければ、半導体装置10を試験することができないことを示し、半導体装置10を試験することによって、各コアチップをそれぞれ試験することを意味する。コアチップに回復できない欠陥がある場合、半導体装置10全体の損失を招くことになる。この点を考慮して、本実施形態では、コアチップCC0〜CC7にはいくつかのテストパッドTPとテスト用のコマンドデコーダ65のテスト用フロントエンド部で構成される試験用に擬似的なフロントエンド部の一部が設けられており、テストパッドTPからアドレス信号、テストデータやコマンド信号の入力が可能とされている。試験用のフロントエンド部は、あくまでウェハ試験において簡素な試験を実現する機能の回路であり、インターフェースチップ内のフロントエンド機能をすべて備えるわけではない、ことに注意が必要である。例えば、コアチップの動作周波数は、フロントエンドの動作周波数よりも低いことから、低周波で試験するテスト用のフロントエンド部の回路で簡素に実現することができる。
The above is the basic circuit configuration of the core chips CC0 to CC7. The core chips CC0 to CC7 are not provided with a front-end unit for interfacing with the outside, and therefore cannot be operated alone in principle. However, if the single operation is impossible, it becomes impossible to perform the operation test of the core chip in the wafer state. This indicates that the
テストパッドTPの種類は、インターポーザIPに設けられた外部端子とほぼ同様である。具体的には、クロック信号が入力されるテストパッドTP1、アドレス信号が入力されるテストパッドTP2、コマンド信号が入力されるテストパッドTP3、テストデータの入出力を行うためのテストパッドTP4、データストローブ信号の入出力を行うためのテストパッドTP5、電源電位を供給するためのテストパッドTP6などが含まれている。 The type of the test pad TP is almost the same as that of the external terminal provided in the interposer IP. Specifically, a test pad TP1 to which a clock signal is input, a test pad TP2 to which an address signal is input, a test pad TP3 to which a command signal is input, a test pad TP4 for inputting / outputting test data, a data strobe A test pad TP5 for inputting and outputting signals, a test pad TP6 for supplying power supply potential, and the like are included.
テスト時においては、デコードされていない通常の外部コマンドが入力されるため、コアチップCC0〜CC7にはテスト用のコマンドデコーダ65も設けられている。また、テスト時においては、シリアルなテストデータが入出力されることから、コアチップCC0〜CC7にはテスト用の入出力回路55も設けられている。
At the time of testing, a normal external command that has not been decoded is input, so that a
以上が本実施形態による半導体装置10の全体構成である。このように、本実施形態による半導体装置10は、1Gbのコアチップが8枚積層された構成を有していることから、合計で8Gbのメモリ容量となる。また、チップ選択信号/CSが入力される端子(チップ選択端子)は1つであることから、コントローラからはメモリ容量が8Gbである単一のDRAMとして認識される。
The above is the overall configuration of the
図5は、プロセスモニタ回路100及びレプリカ回路300の回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram of the
レプリカ回路300は、各コアチップCC0〜CC7に設けられている回路であり、図5に示すように、選択バッファ310及び固定遅延回路320が従属接続された構成を有している。固定遅延回路320は、複数の遅延素子DLYが従属接続された構成を有している。各コアチップCC0〜CC7の選択バッファ310には、TSV1を介してインターフェースチップIFからクロック信号INが共通に入力される。また、固定遅延回路320の入力端からは遅延信号PB0が取り出され、固定遅延回路320の出力端からは遅延信号PA0が取り出される。各コアチップCC0〜CC7から出力される遅延信号PB0,PA0は、同じTSV1を介して、インターフェースチップIFのプロセスモニタ回路100に供給される。尚、本実施形態では、レプリカ回路300に供給するクロック信号INとしてコマンド端子12e(通常動作時においてはオンダイターミネーション信号ODTが入力される端子)に入力されるクロック信号を用いているが、これに限定されるものではなく、どのような信号を用いても構わない。また、外部から供給される信号に限られず、インターフェースチップIFの内部で生成された信号をクロック信号INとして用いても構わない。
The
選択バッファ310及び固定遅延回路320からなる信号パスの遅延量は、コントロールロジック回路63及びデータコントロール回路54の遅延量と一致するよう設計されている。つまり、レプリカ回路300は、コントロールロジック回路63及びデータコントロール回路54のレプリカである。したがって、プロセス条件によってコントロールロジック回路63及びデータコントロール回路54の信号伝搬時間が製造条件等の結果により設計値よりも遅くなっている場合には、レプリカ回路300の遅延時間も製造条件等の結果により遅くなり、逆に、コントロールロジック回路63及びデータコントロール回路54の信号伝搬時間が製造条件等の結果により設計値よりも速くなっている場合には、レプリカ回路300の遅延時間も製造条件等の結果により速くなる。つまり、各コアチップCC0〜CC7のそれぞれのレプリカ回路300は、対応する夫々のプロセス条件によって決まる固有の遅延量を有している。
The delay amount of the signal path composed of the
選択バッファ310は一致信号HITが活性化している場合に動作する回路である。一致信号HITは、例えば各コアチップCC0〜CC7のうち一つのコアチップで有効になる信号である。したがって、インターフェースチップIFから各コアチップCC0〜CC7に共通に供給されるクロック信号INは、いずれか一つのコアチップにおいて有効となる。つまり、遅延信号PB0,PA0は、選択されたいずれかのコアチップからインターフェースチップIFに供給されることになる。
The
これら遅延信号PB0,PA0は、インターフェースチップIF内のプロセスモニタ回路100に入力される。図5に示すように、プロセスモニタ回路100は、遅延量を変化させることが可能な可変遅延回路110と、可変遅延回路110の遅延量を調整する遅延制御回路120を含んでいる。
These delay signals PB0 and PA0 are input to the
可変遅延回路110は、遅延制御回路120より供給される調整コードCOに基づいて可変遅延回路110の遅延量が調整可能な回路であり、その入力端にはTSV1を介して遅延信号PB0が入力される。遅延制御回路120は、カウント値である調整コードCOを生成するカウンタ121と、可変遅延回路110の出力端及びTSV1を介して固定遅延回路320の出力端に接続された位相比較回路122と、位相比較回路122の出力に基づいてカウンタ121を制御するゲート回路G1〜G3とを含んでいる。プロセスモニタ回路100とレプリカ回路300とを接続するTSVは、モニタの精度を高めるため、データI/O用のTSV群に含まれるテスト用のTSVを用いることが好ましい。前記テスト用のTSVは、例えば、電気的な信号一つに対して物理的に2つのTSVを使用する航空機等で使用される安全設計の概念である。これにより、一つのTSVに問題があってもてそのTSVを冗長技術によってその他のTSVへ救済することなく、テストは実行される。
The
より詳細に説明すると、可変遅延回路110は、複数の遅延素子DLYが従属接続された構成を有しており、そのいくつかは調整コードCOによってパスされる。尚、「パス」とは、入力端の入力信号が遅延されずに出力端に出力される、という意味である。これにより、調整コードCOに基づいて遅延量を変化させることができる。図5に示すように、可変遅延回路110に含まれる最後の遅延素子DLYnの入力端からは遅延信号PB1が取り出され、遅延素子DLYnの出力端からは遅延信号PB2が取り出される。これら遅延信号PB1,PB2は、位相比較回路122に含まれるコンパレータ122a,122bの反転入力端(−)にそれぞれ供給される。コンパレータ122a,122bの非反転入力端(+)には、TSV1を介して固定遅延回路320より出力される遅延信号PA0が共通に入力される。
More specifically, the
かかる構成により、図5に示す信号パスPAを経由した遅延信号PA0と、信号パスPBを経由した遅延信号PB1,PB2の位相がそれぞれ判定され、それらの結果に基づいて、アップカウント信号UP、ダウンカウント信号DOWN又は調整終了フラグENDがゲート回路G1〜G3により生成される。これらゲート回路G1〜G3の出力はカウンタ121に供給され、カウント値(つまり調整コードCO)のカウントアップ又はカウントダウンが行われる。また、調整終了フラグENDが活性化した場合には、現在のカウント値(調整コードCO)を図4に示したデータラッチ回路25に出力する。調整終了フラグENDは、コンパレータ122a,122bの出力が一致した場合、つまり、インターフェースチップIFの可変遅延回路110の遅延量とコアチップの固定遅延回路320の遅延量が一致した場合に活性化する。したがって、最終的に得られる調整コードCOは、選択されたコアチップの動作速度とインターフェースチップIFの動作速度の差を示す情報となる。データラッチ回路25に供給された調整コードCOは、入出力バッファ回路23とデータ入出力端子14を介して半導体装置10の外部に出力される。
With this configuration, the phases of the delay signal PA0 via the signal path PA and the delay signals PB1 and PB2 via the signal path PB shown in FIG. 5 are determined, respectively. The count signal DOWN or the adjustment end flag END is generated by the gate circuits G1 to G3. The outputs of these gate circuits G1 to G3 are supplied to the
また、図5に示すように、プロセスモニタ回路100及びレプリカ回路300には、比較条件が一致するよう、いくつかのダミー回路DUM1〜DUM4が設けられている。具体的には、ダミー回路DUM1,DUM2は、それぞれコンパレータ122a,122bのダミー回路であり、信号パスPAとPBの負荷を一致させるために設けられている。ダミー回路DUM3,DUM4についても、信号パスPAとPBの負荷を一致させるために設けられている。
As shown in FIG. 5, the
図6は、調整コードCOの取得方法を説明するためのフローチャートである。 FIG. 6 is a flowchart for explaining a method of obtaining the adjustment code CO.
まず、図7に示す外部のテスタ600から所定のテストコマンドを発行することにより、半導体装置10をプロセスモニタ試験モードにエントリーさせる(ステップS11)。かかるテストモードは、モードレジスタ42,64に所定の値を設定することによって行われる。
First, by issuing a predetermined test command from the
次に、テスタ600よりアドレス信号を入力することにより、コアチップCC0〜CC7のいずれかを選択する(ステップS12)。つまり、コアチップCC0〜CC7のいずれかにおいて一致信号HITを活性化させ、図5に示す選択バッファ310を動作可能な状態とする。この状態で、コマンド端子12eからクロック信号INを入力することにより、各コアチップCC0〜CC7のレプリカ回路300にクロック信号INを供給する(ステップS13)。ここで、選択バッファ310が動作しているのは選択された1つのコアチップのみであり、したがって、クロック信号INは選択されたコアチップ内のレプリカ回路300のみを伝搬する。
Next, by inputting an address signal from the
次に、プロセスモニタ回路100内の遅延制御回路120を活性化させることにより、調整コードCOを生成する(ステップS14)。つまり、図5に示す信号パスPAを経由した遅延信号PA0と、信号パスPBを経由した遅延信号PB1,PB2の位相に応じて、調整コードCOのカウントアップ又はカウントダウンを行い、この動作を可変遅延回路110の遅延量と固定遅延回路320の遅延量が一致するまで繰り返す。そして、可変遅延回路110の遅延量と固定遅延回路320の遅延量が一致すると調整終了フラグENDが活性化し(ステップS15)、この時点における調整コードCOがデータ入出力端子14を介してテスタに出力される(ステップS16)。
Next, the adjustment code CO is generated by activating the
上記の動作は、層アドレスを切り替えることによって各コアチップCC0〜CC7に対して行われ、全てのコアチップCC0〜CC7に対する試験が完了すると(ステップS17:YES)、プロセスモニタ試験モードからイグジットし、一連の処理を終了する(ステップS18)。 The above operation is performed for each of the core chips CC0 to CC7 by switching the layer address. When the test for all the core chips CC0 to CC7 is completed (step S17: YES), the process monitor test mode is exited, and a series of operations are performed. The process ends (step S18).
上記の処理を完了すると、テスタ600内のテーブル610には、各コアチップCC0〜CC7に対応する調整コードCOが格納されることになる。このようにしてテスタ内に格納された調整コードCOは、テスタ600内で必要に応じて出力タイミングデータに変換された後、インターフェースチップIF内のタイミングデータ記憶回路200に書き込まれる。但し、このような変換は必須ではなく、テーブル610に書き込まれた調整コードCOそのものを出力タイミングデータとして用いても構わない。本実施形態においては、出力タイミングデータと調整コードは同じ信号であるが、タイミングデータ記憶回路200に書き込まれた調整コードについては、出力タイミングデータと表記する。
When the above processing is completed, the adjustment code CO corresponding to each of the core chips CC0 to CC7 is stored in the table 610 in the
図8は、タイミングデータ記憶回路200への出力タイミングデータの書き込み動作を説明するためのフローチャートである。
FIG. 8 is a flowchart for explaining an operation of writing output timing data to the timing
まず、図7に示すテスタ600より所定のテストコマンドを発行することによって、半導体装置10を出力タイミングデータの書き込みモードにエントリーさせる(ステップS21)。かかるテストモードは、モードレジスタ42,64に所定の値を設定することによって行われる。
First, by issuing a predetermined test command from the
次に、テスタ600内のテーブル610に格納されている出力タイミングデータを、データ入出力端子14を介してインターフェースチップIFに入力する(ステップS22)。インターフェースチップIFに入力された出力タイミングデータは、タイミングデータ記憶回路200に供給される。タイミングデータ記憶回路200には、アンチヒューズ素子などの複数の不揮発性記憶素子が設けられており、これら不揮発性記憶素子に出力タイミングデータが書き込まれる(ステップS23)。
Next, the output timing data stored in the table 610 in the
出力タイミングデータの書き込みが完了すると、出力タイミングデータの書き込みモードからイグジットし、一連の処理を終了する(ステップS24)。このように、本実施形態では、各コアチップCC0〜CC7に対応する出力タイミングデータが当該コアチップに格納されるのではなく、インターフェースチップIF内のタイミングデータ記憶回路200にまとめて記憶される。このようにしてタイミングデータ記憶回路200に記憶された出力タイミングデータは、電源投入時に、対応するコアチップCC0〜CC7へ転送される。
When the writing of the output timing data is completed, the output timing data writing mode is exited, and the series of processing ends (step S24). As described above, in this embodiment, the output timing data corresponding to each of the core chips CC0 to CC7 is not stored in the core chip but is collectively stored in the timing
図9は、タイミングデータ記憶回路200からコアチップCC0〜CC7への出力タイミングデータの転送動作を説明するためのフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart for explaining an operation of transferring output timing data from the timing
まず、半導体装置10に電源が投入されると(ステップS31)、パワーオン検出回路43,71によってリセット信号が生成され(ステップS32)、インターフェースチップIF及びコアチップCC0〜CC7内にて初期化動作が開始される(ステップS33)。
First, when the
初期化動作においては、インターフェースチップIFからコアチップCC0〜CC7にアドレス信号を入力することによって、コアチップCC0〜CC7のいずれかに含まれるコントロールロジック回路63を活性化させ(ステップS34)、この状態で、タイミングデータ記憶回路200からTSVを介して出力タイミングデータを転送することにより、活性化されているコントロールロジック回路63内の出力タイミング調整回路400に対応する出力タイミングデータを書き込む(ステップS35)。出力タイミングデータの転送は、専用のTSVを用いても構わないし、現在(それは電源投入時における図9のフローチャートに従った一連の動作時)使用しないTSV(例えばアドレス用TSVの一部)を用いても構わない。
In the initialization operation, the
上記の動作は、層アドレスを切り替えることによって各コアチップCC0〜CC7に対して行われ、全てのコアチップCC0〜CC7に対して出力タイミングデータの転送が完了すると(ステップS36:YES)、初期化動作を終了する(ステップS37)。これにより、各コアチップCC0〜CC7の出力タイミング調整回路400には、対応する出力タイミングデータが設定された状態となる。
The above operation is performed for each of the core chips CC0 to CC7 by switching the layer address, and when the transfer of the output timing data to all the core chips CC0 to CC7 is completed (step S36: YES), the initialization operation is performed. The process ends (step S37). As a result, the corresponding output timing data is set in the output
図10は、リード動作時における全体的な信号の流れを説明するための模式的なブロック図である。 FIG. 10 is a schematic block diagram for explaining the overall signal flow during the read operation.
図10に示すように、外部からインターフェースチップIFに入力されるアドレス信号ADD及びコマンド信号CMDは、インターフェースチップIF内の入力バッファ31,41に供給される。これらの信号はコマンドデコーダ32などに供給され、コマンドデコーダ32に含まれるアドレス・コマンド制御回路32a,32b、カラム制御回路32c及び入出力制御回路32eにて所定の処理が行われ、生成された制御信号がデータラッチ回路25に供給される。データラッチ回路25には、TSVバッファ25a及びリードライトバス25bが含まれている。コマンドデコーダ32によって生成された制御信号は、データラッチ回路25及び入出力バッファ回路23に供給され、これによって、データの入出力タイミングが制御される。
As shown in FIG. 10, an address signal ADD and a command signal CMD input to the interface chip IF from the outside are supplied to input
また、コマンドデコーダ32に含まれるTSVバッファ32dは、TSVを介して各コアチップCC0〜CC7に接続されている。TSVバッファ32dより供給される内部コマンドICMDは、コアチップ内のコントロールロジック回路63に含まれるTSVバッファ63aによって受け付けられ、アドレス・コマンド制御回路63b、カラム制御回路63c及び出力制御回路63dにて、所定の処理が行われる。出力制御回路63dには出力タイミング調整回路400が含まれており、前述の様に、ここには電源投入時にインターフェースチップIF内のタイミングデータ記憶回路200より転送された出力タイミングデータが設定されている。
A
出力タイミングデータは、コアチップ内のデータコントロール回路54に含まれるリードライトバス54a及びTSVバッファ54bに供給され、これによって、コアチップCC0〜CC7からインターフェースチップIFへのリードデータの出力タイミングが制御される。尚、一回のリードコマンドに関連してアクセスされた複数ビットの記憶情報は、メモリセルアレイ50からセンス回路53とカラムデコーダ52を介して、一つのI/O(DQ)あたり8ビット(=プリフェッチ数)のリードデータを処理するデータコントロール回路54に接続される。
The output timing data is supplied to the read /
図11は、リードデータの流れを説明するための模式図である。 FIG. 11 is a schematic diagram for explaining the flow of read data.
図11に示すように、コアチップ内のデータコントロール回路54内のTSVバッファ54bには、データ出力回路54o及びデータ入力回路54iが含まれている。データ出力回路54oの入力端及びデータ入力回路54iの出力端は、リードライトバス54aを介して、センス回路53及びカラムデコーダ52などに含まれる各種アンプに接続され、最終的にメモリセルアレイ50に接続されている。
As shown in FIG. 11, the
データ出力回路54oには、コントロールロジック回路63内の出力タイミング調整回路400より出力タイミング信号DRAO_COREが供給される。つまり、データ出力回路54oは、出力タイミング信号DRAO_COREで制御されるクロックドドライバである。出力タイミング信号DRAO_COREは、データ出力回路54oの動作タイミングを指定する信号(即ち、メモリセルアレイ50から読み出したリードライトバス54a上のリードデータ信号をTSVへ出力する信号)であり、その活性化タイミングは設定された出力タイミングデータによって調整されている。
An output timing signal DRAO_CORE is supplied from the output
TSVを介してインターフェースチップIFに入力されたリードデータ(リードデータ信号)は、TSVバッファ25aに含まれるデータ入力回路25iに供給される。TSVバッファ25aには、データ出力回路25oも含まれている。データ出力回路25oの入力端及びデータ入力回路25iの出力端は、リードライトバス25bを介して、入出力バッファ回路23に接続されている。
Read data (read data signal) input to the interface chip IF via the TSV is supplied to a
データ入力回路25iには、インターフェースチップIFのコマンドデコーダ32より入力タイミング信号DRAO_IFが供給される。つまり、データ入力回路25iは、入力タイミング信号DRAO_IFで制御されるクロックドレシーバである。入力タイミング信号DRAO_IFは、TSVを介してコアチップからインターフェースチップIFへ出力されたリードデータのデータ入力回路25iによる取り込みの許可タイミング(取り込みタイミング)を指定する信号であり、したがって、コマンドデコーダ32が入力タイミング回路として機能する。本実施形態においては、コマンドデコーダ32による入力タイミング信号DRAO_IFの活性化タイミングは、インターフェースチップIFのプロセス条件(製造条件)によって決まる固有のタイミング(第1のレイテンシ)に固定されている。他方、各コアチップCC0〜CC7側においてそれぞれの出力タイミング信号DRAO_COREの活性化タイミング(第2のレイテンシ)は、前述したプロセスモニタ回路100で事前に試験され、調整されたそれぞれ対応する出力タイミングデータによって調整されていることから、これら入力タイミング信号DRAO_IF及び複数のコアチップそれぞれの出力タイミング信号DRAO_COREの活性化タイミングは、ほぼ同時となる。
An input timing signal DRAO_IF is supplied to the
図12は、出力タイミング調整回路400の回路図である。
FIG. 12 is a circuit diagram of the output
図12に示すように、出力タイミング調整回路400には、信号MDRDT_COREから原信号DRAO_COREXを生成する信号生成回路401と、原信号DRAO_COREXを伝達する従属接続された複数のディレイ回路410〜470が含まれており、最終段のディレイ回路470からの出力が出力タイミング信号DRAO_COREとして用いられる。各ディレイ回路410〜470は、ディレイ素子411〜471とマルチプレクサ421〜472からなり、対応する選択信号TCO1〜TCO7の論理レベルに基づいて、ディレイ素子411〜471をそれぞれパスするか否か(遅延させるか否か)が選択される。これにより、ディレイ素子411〜471をすべてパスした場合には、出力タイミング調整回路400の遅延量は最小となり、出力タイミング信号DRAO_COREの活性化タイミングは最も速くなる。逆に、ディレイ素子411〜471をすべて経由した場合には出力タイミング調整回路400の遅延量は最大となり、出力タイミング信号DRAO_COREの活性化タイミングは最も遅くなる。
As shown in FIG. 12, the output
図13は、選択信号TCO1〜TCO7を生成する選択信号生成回路480の回路図である。
FIG. 13 is a circuit diagram of a selection
図13に示すように、選択信号生成回路480は、設定された6ビットの出力タイミングデータCO[5:0]から上位3ビットCO[5:3]を抽出して出力する出力回路481と、出力タイミングデータの上位3ビットCO[5:3]をデコードするデコーダ482とを含んでいる。そして、デコードにより得られる8ビットの信号のうち、選択信号TCO0を除く7ビットの信号が選択信号TCO1〜TCO7として用いられる。ここで、設定された6ビットの出力タイミングデータCO[5:0]のうち、上位3ビットCO[5:3]しか使用しないのは、プロセスモニタ回路100の測定精度を考慮したためである。
As shown in FIG. 13, the selection
図14は、出力タイミングデータの上位3ビットCO[5:3]と設定される遅延量との関係を説明するための表である。 FIG. 14 is a table for explaining the relationship between the upper 3 bits CO [5: 3] of the output timing data and the set delay amount.
図14に示すように、出力タイミングデータの上位3ビットCO[5:3]が(0,1,1)である場合がデフォルト値であり、ここから3ピッチまでの高速化又は4ピッチまでの低速化が可能である。実際には、プロセスモニタ回路100によって当該コアチップの動作速度がインターフェースチップIFの動作速度よりも速いと判断されるほど、原信号DRAO_COREXが経由するディレイ素子の411〜471の数を増やすことによって原信号DRAO_COREXに、より多くの遅延量(プラスオフセット)を与え、出力タイミング信号DRAO_COREの伝搬遅延量を増大させる。逆に、プロセスモニタ回路100によって当該コアチップの動作速度がインターフェースチップIFの動作速度よりも遅いと判断されるほど、原信号DRAO_COREXが経由するディレイ素子の411〜471の数を減らすことによって原信号DRAO_COREXに、より少ない遅延量(マイナスオフセット)を与え、出力タイミング信号DRAO_COREの伝搬遅延量を減少させる。
As shown in FIG. 14, the case where the upper 3 bits CO [5: 3] of the output timing data is (0, 1, 1) is the default value. The speed can be reduced. Actually, as the operation speed of the core chip is determined to be faster than the operation speed of the interface chip IF by the
つまり、図14に示すように、インターフェースチップ内のプロセスモニタ100と各コアチップ内のレプリカ回路300とで検出された試験結果を元に、インターフェースチップの動作速度を基準(デフォルト)としている。そのデフォルト値からデフォルト値と異なる4段階の複数のプラスオフセット値(+1〜+4)と3段階の複数のマイナスオフセット(−1〜−3)が開示される。これら複数のオフセットの遅延量とデフォルトは、すべてのコアチップに与えられ、例えば、インターフェースチップよりも動作速度が遅いコアチップのリードデータ出力のタイミング(=クロックドドライバのクロックタイミング)が、マイナスオフセットにより、インターフェースチップのリードデータの入力のタイミング(=クロックドレシーバのクロックタイミング)に合致される。インターフェースチップよりも動作速度が早いコアチップのリードデータ出力のタイミング(=クロックドドライバのクロックタイミング)が、プラスオフセットにより、インターフェースチップのリードデータの入力のタイミング(=クロックドレシーバのクロックタイミング)に合致される。インターフェースチップの動作速度とコアチップの動作速度が同じである場合、そのコアチップにはデフォルト値が与えられ、リードデータ出力のタイミング(=クロックドドライバのクロックタイミング)が、インターフェースチップのリードデータの入力のタイミング(=クロックドレシーバのクロックタイミング)に合致する。
That is, as shown in FIG. 14, the operation speed of the interface chip is used as a reference (default) based on the test results detected by the process monitor 100 in the interface chip and the
図15は、出力タイミング調整回路400による調整の効果を説明するためのタイミング図である。
FIG. 15 is a timing diagram for explaining the effect of adjustment by the output
図15に示す(a)〜(c)の波形は、いずれもそれぞれのコアチップ側における信号波形であり、(a)は第1のコアチップの動作速度がインターフェースチップIFと同等である場合、(b)は第2のコアチップの動作速度がインターフェースチップIFよりも速い場合、(c)は第3のコアチップの動作速度がインターフェースチップIFよりも遅い場合をそれぞれ示している。(a)〜(c)の波形を、一つのコアチップにおけるそれぞれの製造条件の結果として考えても良い。図15に示す下段の波形は、インターフェースチップIFにおける信号波形である。 The waveforms of (a) to (c) shown in FIG. 15 are all signal waveforms on the core chip side, and (a) shows the case where the operating speed of the first core chip is equivalent to that of the interface chip IF. ) Shows the case where the operating speed of the second core chip is faster than the interface chip IF, and (c) shows the case where the operating speed of the third core chip is slower than the interface chip IF. The waveforms (a) to (c) may be considered as a result of the respective manufacturing conditions in one core chip. The lower waveform shown in FIG. 15 is a signal waveform in the interface chip IF.
図15において、次に述べる各信号に付加される「_IF」、「_CORE」及び「_TSV」は、それぞれインターフェースチップIF内の信号、コアチップ内の信号、及び貫通電極TSV内の信号であることを示す。更に、各信号は、図10と関連している。信号MDRDTとは外部から供給されるリードコマンドREADに基づいて、インターフェースチップIF内のコマンドデコーダ32内のアドレス・コマンド制御回路32aによって生成される内部リードコマンドを定める信号であり、信号MDRDT_IFとはアドレス・コマンド制御回路32bによって生成される内部リードコマンドを定める信号であり、信号MDRDT_COREとはコアチップに転送された内部リードコマンドからアドレス・コマンド制御回路63bによって生成された内部リードコマンドを定める信号である。信号DRAE_COREとはカラム制御回路63cによって生成されリードライトバス54aへのメモリセルアレイのリードデータの出力タイミングを定める信号であり、信号RWBS_COREとはリードライトバス54a上のリードデータを定める信号であり、信号DRAO_COREとは出力タイミング調整回路400によって生成されるTSVバッファ54bの動作タイミング(ドライブタイミング)を定める信号であり、信号DATA_TSVとはTSV上のメモリセルアレイから読み出されたリードデータを定める信号である。信号RWBS_IFとはリードライトバス25b上のリードデータを定める信号であり、信号DRAO_IFとは入出力制御回路32eによって生成されるTSVバッファ25aの動作タイミング(レシーブタイミングまたはラッチタイミング)を定める信号である。
In FIG. 15, “_IF”, “_CORE”, and “_TSV” added to each signal described below indicate a signal in the interface chip IF, a signal in the core chip, and a signal in the through silicon via TSV, respectively. Show. In addition, each signal is associated with FIG. The signal MDRDT is a signal for determining an internal read command generated by the address /
図15(a)に示すように、コアチップの動作速度がインターフェースチップIFと同等である場合には、出力タイミングデータは図14に示したデフォルト値に設定される。これに対し、図15(b)に示すように、コアチップの動作速度がインターフェースチップIFよりも速い場合には、コアチップ内の出力タイミングデータの遅延量をデフォルト値の遅延量よりも増大させることによって、出力タイミング信号DRAO_COREの活性化タイミングが遅れる。その結果、信号DATA_TSVは、(a)が示す信号DATA_TSVと同じ時間に制御される。また、図15(c)に示すように、コアチップの動作速度がインターフェースチップIFよりも遅い場合には、出力タイミングデータの遅延量をデフォルト値の遅延量よりも減少させることによって、出力タイミング信号DRAO_COREの活性化タイミングが早まる。その結果、信号DATA_TSVは、(a)が示す信号DATA_TSVと同じ時間に制御される。 As shown in FIG. 15A, when the operating speed of the core chip is equivalent to that of the interface chip IF, the output timing data is set to the default value shown in FIG. On the other hand, as shown in FIG. 15B, when the operating speed of the core chip is faster than the interface chip IF, the delay amount of the output timing data in the core chip is increased more than the default delay amount. The activation timing of the output timing signal DRAO_CORE is delayed. As a result, the signal DATA_TSV is controlled at the same time as the signal DATA_TSV indicated by (a). Also, as shown in FIG. 15C, when the operating speed of the core chip is slower than the interface chip IF, the output timing signal DRAO_CORE is reduced by reducing the delay amount of the output timing data from the default amount of delay. The activation timing of is accelerated. As a result, the signal DATA_TSV is controlled at the same time as the signal DATA_TSV indicated by (a).
これにより、インターフェースチップIF側の入力タイミング信号DRAO_IFが固有のタイミング(第1のレイテンシ)に固定されているにもかかわらず、インターフェースチップIFにおけるリードデータの取り込みタイミング(第2のレイテンシ)が各コアチップCC0〜CC7側におけるそれぞれのリードデータの出力タイミングと同期させることが可能となる。 Thereby, the read timing of the read data (second latency) in the interface chip IF is set to each core chip even though the input timing signal DRAO_IF on the interface chip IF side is fixed to a specific timing (first latency). It becomes possible to synchronize with the output timing of each read data on the CC0 to CC7 side.
図16は、リードコマンドとリードデータの流れを示す模式図である。 FIG. 16 is a schematic diagram showing the flow of a read command and read data.
図16に示すように、インターフェースチップIF内の信号MDRDTに関連してインターフェースチップIFのTSVバッファ32dから出力されるリードコマンドMDRDT_TSVは、各コアチップCC0〜CC7に対して共通に供給される。リードコマンドMDRDT_TSVを受け入れるのは、層アドレスが一致している1つのコアチップのみである。リードコマンドMDRDT_TSVを受け入れたコアチップ内のコントロールロジック回路63は、リードコマンドMDRDT_CORE、信号DRAO_COREを生成し、出力タイミング調整回路400に設定された遅延量に基づいてデータ出力回路54oを活性化させる。そして、データ出力回路54oは、TSVを介してリードデータDATA_TSVをインターフェースチップIFに供給する。リードデータDATA_TSVが伝送されるTSVは各コアチップCC0〜CC7において共有されているが、上述の通り、有効なリードコマンドMDRDT_COREが受け付けられるのは層アドレスが一致している1つのコアチップのみであることから、同一のTSVに対して複数のコアチップからリードデータが同一時刻に出力され、バスファイトすることはない。
As shown in FIG. 16, the read command MDRDT_TSV output from the
TSVを介してコアチップからインターフェースチップIFに供給されるリードデータDATA_TSVはインターフェースチップIF内の、データラッチ回路25にラッチされるが、そのラッチタイミング(すなわち、インターフェースチップIF内へのリードデータDATA_TSVの取り込みを許可するタイミング)は、インターフェースチップIF内の入力タイミング信号DRAO_IFによって固定的に決まる。更に詳しく言えば、各コアチップから夫々出力されたリードデータは、インターフェースチップのデータラッチ回路25の地点において、同一時刻に到達する。しかしながら、本実施形態では、入力タイミング信号DRAO_IFの活性化タイミングに合わせて各コアチップからそれぞれリードデータDATA_TSVが出力されることから、プロセス条件(製造条件)によってインターフェースチップIF又はコアチップCC0〜CC7の動作速度が設計値と異なっている場合であっても、インターフェースチップIF内のデータラッチ回路25はリードデータDATA_TSVを一つの同一の時刻で正しくラッチすることが可能となる。
The read data DATA_TSV supplied from the core chip to the interface chip IF via the TSV is latched in the
図17は、本発明の好ましい実施形態による半導体装置10を用いたデータ処理システム500の構成を示すブロック図である。
FIG. 17 is a block diagram showing a configuration of a
図17に示すデータ処理システム500は、データプロセッサ520と、本実施形態による半導体装置(DRAM)10が、システムバス510を介して相互に接続された構成を有している。データプロセッサ520としては、例えば、マイクロプロセッサ(MPU)、ディジタルシグナルプロセッサ(DSP)などを含まれるが、これらに限定されない。図10においては簡単のため、システムバス510を介してデータプロセッサ520とDRAM530とが接続されているが、システムバス510を介さずにローカルなバスによってこれらが接続されていても構わない。データプロセッサ520にはDRAM10を制御するメモリコントローラが含まれており、データプロセッサ520からDRAM10にリードコマンドが発行され、DRAM10からデータプロセッサ520にリードデータが出力される。
A
また、図17には、簡単のためシステムバス510が1組しか描かれていないが、必要に応じ、コネクタなどを介しシリアルないしパラレルに設けられていても構わない。また、図17に示すメモリシステムデータ処理システムでは、ストレージデバイス540、I/Oデバイス550、ROM560がシステムバス510に接続されているが、これらは必ずしも必須の構成要素ではない。
In FIG. 17, only one set of
ストレージデバイス540としては、ハードディスクドライブ、光学ディスクドライブ、フラッシュメモリなどが挙げられる。また、I/Oデバイス550としては、液晶ディスプレイなどのディスプレイデバイスや、キーボード、マウスなどの入力デバイスなどが挙げられる。
Examples of the
また、I/Oデバイス550は、入力デバイス及び出力デバイスのいずれか一方のみであっても構わない。さらに、図17に示す各構成要素は、簡単のため1つずつ描かれているが、これに限定されるものではなく、1又は2以上の構成要素が複数個設けられていても構わない。
Further, the I /
本発明の実施形態において、コントローラは、インターフェースチップにリードコマンドに関連するコマンドを発行する。コントローラからコマンドを受けたインターフェースチップは、複数のコアチップにリードコマンドを発行する。複数のコアチップのいずれかは、リードコマンドを受けてインターフェースチップにリードコマンドに対応するメモリセルアレイの情報であるリードデータを出力する。複数のコアチップのいずれかからリードデータを受けたインターフェースチップは、コントローラにそのリードデータを出力する。尚、コントローラが発行する前記コマンドは、所謂、周知の半導体装置を制御する業界団体で規定されるコマンド(システムとしてのリードコマンド)である。インターフェースチップがコアチップに発行するリードコマンドは、半導体チップ内部の制御信号である。リードデータにおいても同様である。 In the embodiment of the present invention, the controller issues a command related to the read command to the interface chip. The interface chip that receives the command from the controller issues a read command to a plurality of core chips. Any of the plurality of core chips receives the read command and outputs read data, which is information of the memory cell array corresponding to the read command, to the interface chip. The interface chip that has received the read data from any of the plurality of core chips outputs the read data to the controller. The command issued by the controller is a so-called command (read command as a system) defined by an industry group that controls a known semiconductor device. The read command issued by the interface chip to the core chip is a control signal inside the semiconductor chip. The same applies to the read data.
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。 The preferred embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. Needless to say, it is included in the range.
例えば、上記実施形態においては、夫々が同一機能の複数のコアチップとしてDDR3型のSDRAMを用いているが、本発明がこれに限定されるものではない。したがって、DDR3型以外のDRAMであっても構わないし、DRAM以外の半導体メモリ(SRAM(スタティックランダムアクセスメモリ)、PRAM(フェースチェンジランダムアクセスメモリ)、MRAM(マグネティックランダムアクセスメモリ)、フラッシュメモリなど)であっても構わない。更に、コアチップは半導体メモリ以外の機能である夫々が同一機能または異なる機能の複数の半導体チップであっても良い。また、全てのコアチップが積層されていることも必須でなく、一部又は全部のコアチップが平面的に配置されていても構わない。さらに、コアチップ数についても8個に限定されるものではない。 For example, in the above embodiment, a DDR3 type SDRAM is used as a plurality of core chips each having the same function, but the present invention is not limited to this. Therefore, it may be a DRAM other than the DDR3 type, and may be a semiconductor memory other than DRAM (SRAM (Static Random Access Memory), PRAM (Face Change Random Access Memory), MRAM (Magnetic Random Access Memory), Flash Memory, etc.). It does not matter. Further, the core chip may be a plurality of semiconductor chips each having a function other than the semiconductor memory and having the same function or different functions. Further, it is not essential that all the core chips are laminated, and a part or all of the core chips may be arranged in a plane. Further, the number of core chips is not limited to eight.
また、上記実施形態では、出力タイミングデータをインターフェースチップIF内のタイミングデータ記憶回路200に記憶しているが、本発明においてこの点は必須でなく、個々のコアチップCC0〜CC7内に出力タイミングデータを記憶させても構わない。さらに、プロセスモニタ回路100によって得られた調整コードを一旦テスタ内のテーブルに格納することも必須でなく、タイミングデータ記憶回路200に直接書き込んでも構わないし、インターフェースチップIF内のキャッシュに一旦格納した後、タイミングデータ記憶回路200に書き込んでも構わない。
In the above embodiment, the output timing data is stored in the timing
さらに、上記実施形態では、各コアチップCC0〜CC7にレプリカ回路300を設けているが、プロセスモニタ動作において、レプリカ回路300に代えて実際の信号パスを用いても構わない。実際の信号パスとは、図10におけるコアチップ内のアドレス・コマンド制御回路63bから出力タイミング調整回路400までの各種の信号生成回路であり、言い換えれば、信号MDRDT_COREから信号DRAO_CORE(デフォルト値の遅延量)までの信号パスである。更に、可変遅延回路110に代えてインターフェースチップIF内のアドレス・コマンド制御回路32aから入出力制御回路32eまでの各種の信号生成回路、言い換えれば、信号MDRDT_IFから信号DRAO_IFまでの実際の信号パスを用いても構わない。
Furthermore, in the above embodiment, the
また、本願の基本的技術思想はこれに限られず、例えば、各コアチップは、夫々が同一機能の半導体メモリの複数のチップで開示をしたが、本願の基本的技術思想はこれに限られない機能の夫々が同一機能または異なる機能の複数のコアチップであっても良い。つまり、IFチップ、コアチップはそれぞれ固有の機能のシリコンチップであっても良い。例えば、複数のコアチップは夫々が同一機能のDSPチップであり、前記複数のコアチップに共通なインターフェースチップ(ASIC)を備えていても良い。コアチップ同士は同一機能を有し、同一マスクによって製造されていることが好ましい。しかし、同一ウェハ内における面内分布、ウェハの相違、ロットの相違などに起因して、製造後の特性が異なる可能性がある。更に、例えば、各コアチップは、それぞれ記憶機能を備えるも夫々異なる(第1コアチップはDRAM、第2チップはSRAM、第3チップは不揮発性メモリ、第4チップはDSP)機能であり、それぞれ異なる製造マスクで製造され、前記複数のコアチップに共通なインターフェースチップ(ASIC)を備えていても良い。 Further, the basic technical idea of the present application is not limited to this. For example, each core chip has been disclosed as a plurality of chips of semiconductor memories each having the same function, but the basic technical idea of the present application is not limited to this. Each of these may be a plurality of core chips having the same function or different functions. That is, each of the IF chip and the core chip may be a silicon chip having a specific function. For example, each of the plurality of core chips may be a DSP chip having the same function, and may include an interface chip (ASIC) common to the plurality of core chips. The core chips preferably have the same function and are manufactured with the same mask. However, due to in-plane distribution within the same wafer, wafer differences, lot differences, and the like, the post-manufacture characteristics may be different. Further, for example, each core chip has a different storage function (the first core chip is a DRAM, the second chip is an SRAM, the third chip is a nonvolatile memory, and the fourth chip is a DSP). An interface chip (ASIC) manufactured by a mask and common to the plurality of core chips may be provided.
また、TSVを使用した構造のCOC(チップオンチップ)であれば、CPU(Central Processing Unit)、MCU(Micro Control Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、ASSP(Application Specific Standard Circuit)等の半導体製品全般に、本願発明が適用できる。また本願を適用したデバイスは、SOC(システムオンチップ)、MCP(マルチチップパッケージ)やPOP(パッケージオンパッケージ)等の半導体装置にも適用できる。 In addition, in the case of a COC (chip on chip) having a structure using TSV, a CPU (Central Processing Unit), an MCU (Micro Control Unit), a DSP (Digital Signal Processor), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), an ASSP (Application The present invention can be applied to semiconductor products such as Specific Standard Circuit). The device to which the present application is applied can also be applied to semiconductor devices such as SOC (system on chip), MCP (multichip package), and POP (package on package).
また、トランジスタは、電界効果トランジスタ(Field Effect Transistor; FET)であってもバイポーラ型トランジスタであっても良い。MOS(Metal Oxide Semiconductor)以外にもMIS(Metal-Insulator Semiconductor)、TFT(Thin Film Transistor)等の様々なFETに適用できる。トランジスタ等の様々なFETに適用できる。FET以外のトランジスタであっても良い。バイポーラ型トランジスタを一部含んでいても良い。また、Pチャンネル型のトランジスタまたはPMOSトランジスタは、第1導電型のトランジスタ、Nチャンネル型のトランジスタまたはNMOSトランジスタは、第2導電型のトランジスタの代表例である。更に、P型の半導体基板に限らず、N型の半導体基板であっても良いし、SOI(Silicon on Insulator)構造の半導体基板であっても、それ以外の半導体基板であっても良い。 The transistor may be a field effect transistor (FET) or a bipolar transistor. In addition to MOS (Metal Oxide Semiconductor), the present invention can be applied to various FETs such as MIS (Metal-Insulator Semiconductor) and TFT (Thin Film Transistor). It can be applied to various FETs such as transistors. Transistors other than FETs may be used. A part of the bipolar transistor may be included. A P-channel transistor or a PMOS transistor is a typical example of a first conductivity type transistor, and an N-channel transistor or an NMOS transistor is a typical example of a second conductivity type transistor. Furthermore, the semiconductor substrate is not limited to a P-type semiconductor substrate, and may be an N-type semiconductor substrate, a semiconductor substrate having an SOI (Silicon on Insulator) structure, or another semiconductor substrate.
更に、各種試験回路(コアチップ内の試験回路、インターフェースチップ内の試験回路)、不揮発性記憶回路、コアチップ内のバッファ、インターフェースチップ内のテストエントリ回路、試験信号の発生回路並びにその入力外部端子等の回路形式は、実施形態に開示する回路形式に限られない。 Furthermore, various test circuits (test circuit in the core chip, test circuit in the interface chip), non-volatile memory circuit, buffer in the core chip, test entry circuit in the interface chip, test signal generation circuit, input external terminals thereof, etc. The circuit format is not limited to the circuit format disclosed in the embodiment.
更に、TSVの構造は、問わない。更に、TSVバッファ(ドライバ、レシーバ)の回路形式は問わない。 Furthermore, the structure of TSV is not ask | required. Further, the circuit format of the TSV buffer (driver, receiver) is not limited.
また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素の多様な組み合わせ乃至、選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。 Further, various combinations or selections of various disclosed elements are possible within the scope of the claims of the present invention. That is, the present invention of course includes various variations and modifications that could be made by those skilled in the art according to the entire disclosure including the claims and the technical idea.
1〜3 TSV
4〜6 内部回路
10 半導体装置
11a,11b クロック端子
11c クロックイネーブル端子
12a〜12e コマンド端子
13 アドレス端子
14 データ入出力端子
15a,15b データストローブ端子
16 キャリブレーション端子
17a,17b 電源端子
21 クロック発生回路
22 DLL回路
23 入出力バッファ回路
24 キャリブレーション回路
25 データラッチ回路
25a TSVバッファ
25b リードライトバス
25i データ入力回路
25o データ出力回路
31 コマンド入力バッファ
32 コマンドデコーダ
32e 入出力制御回路
33 不良チップ情報保持回路
41 アドレス入力バッファ
42 モードレジスタ
43 パワーオン検出回路
44 層アドレス設定回路
45 層アドレスコントロール回路
46 層アドレス発生回路
46a 層アドレスレジスタ
46b インクリメント回路
46c 転送回路
47 層アドレス比較回路
47a 層アドレス選択回路
47x ロウアドレス比較回路
47y カラムアドレス比較回路
50 メモリセルアレイ
51 ロウデコーダ
52 カラムデコーダ
53 センス回路
54 データコントロール回路
54a リードライトバス
54b TSVバッファ
54i データ入力回路
54o データ出力回路
55 入出力回路
61 ロウ制御回路
62 カラム制御回路
63 コントロールロジック回路
63a ラッチ回路
63b,63c 制御回路
63x ロウコマンド制御回路
63y カラムコマンド制御回路
64 モードレジスタ
63a TSVバッファ
63b アドレス・コマンド制御回路
63c カラム制御回路
63d 出力制御回路
65 コマンドデコーダ
70 内部電圧発生回路
71 パワーオン検出回路
80 シリコン基板
81 層間絶縁膜
82 絶縁リング
83,86 TSVの端部
84 裏面バンプ
85 表面バンプ
91 電極
92 スルーホール電極
93 再配線層
94 NCF
95 リードフレーム
96 アンダーフィル
97 封止樹脂
100 プロセスモニタ回路
110 可変遅延回路
120 遅延制御回路
121 カウンタ
122 位相比較回路
122a,122b コンパレータ
200 タイミングデータ記憶回路
300 レプリカ回路
310 選択バッファ
320 固定遅延回路
400 出力タイミング調整回路
401 信号生成回路
410〜470 ディレイ回路
411〜471 ディレイ素子
421〜472 マルチプレクサ
480 選択信号生成回路
481 出力回路
482 デコーダ
500 データ処理システム
510 システムバス
520 データプロセッサ
540 ストレージデバイス
550 デバイス
600 テスタ
610 テーブル
CC0〜CC7 コアチップ
ICCMD 内部カラムコマンド
ICMD 内部コマンド
IF インターフェースチップ
IP インターポーザ
IRCMD 内部ロウコマンド
LID 層アドレス(チップ識別情報)
RCMD ロウコマンド
SB 外部端子
SEL チップ選択情報
TSV 貫通電極
1-3 TSV
4-6 Internal circuit 10 Semiconductor device 11a, 11b Clock terminal 11c Clock enable terminal 12a-12e Command terminal 13 Address terminal 14 Data input / output terminal 15a, 15b Data strobe terminal 16 Calibration terminal 17a, 17b Power supply terminal 21 Clock generation circuit 22 DLL circuit 23 Input / output buffer circuit 24 Calibration circuit 25 Data latch circuit 25a TSV buffer 25b Read / write bus 25i Data input circuit 25o Data output circuit 31 Command input buffer 32 Command decoder 32e Input / output control circuit 33 Defective chip information holding circuit 41 Address Input buffer 42 Mode register 43 Power-on detection circuit 44 Layer address setting circuit 45 Layer address control circuit 46 Layer address generation circuit 46a Layer Address register 46b Increment circuit 46c Transfer circuit 47 Layer address comparison circuit 47a Layer address selection circuit 47x Row address comparison circuit 47y Column address comparison circuit 50 Memory cell array 51 Row decoder 52 Column decoder 53 Sense circuit 54 Data control circuit 54a Read / write bus 54b TSV Buffer 54i Data input circuit 54o Data output circuit 55 Input / output circuit 61 Row control circuit 62 Column control circuit 63 Control logic circuit 63a Latch circuit 63b, 63c Control circuit 63x Row command control circuit 63y Column command control circuit 64 Mode register 63a TSV buffer 63b Address / command control circuit 63c Column control circuit 63d Output control circuit 65 Command decoder 70 Internal voltage generation circuit 1 power-on detecting circuit 80 a silicon substrate 81 interlayer insulating film 82 insulating ring 83 and 86 TSV end 84 rear surface bump 85 surface bump 91 electrode 92 through-hole electrodes 93 rewiring layer 94 NCF
95
RCMD Low command SB External terminal SEL Chip selection information TSV Through electrode
Claims (23)
前記出力端子に電気的に共通に接続された入力端子と、前記出力端子から前記入力端子を介して供給される複数のリードデータを受信するデータ入力回路とを含み、前記複数のコアチップに少なくともリードコマンドを発行するインターフェースチップと、を備え、
前記複数のコアチップのそれぞれは、前記リードコマンドに応答して前記出力端子に前記リードデータを出力するデータ出力回路と、出力期間を第1の時間から第2の時間に調整する出力タイミング調整回路とを含み、
前記出力期間は、前記リードコマンドを受信してから、前記データ出力回路から前記出力端子に前記リードデータを出力するまでの時間であり、
前記複数のコアチップの前記第2の時間は実質的に互いに同じである、半導体装置。 A plurality of core chips each including an output terminal;
An input terminal electrically connected in common to the output terminal; and a data input circuit that receives a plurality of read data supplied from the output terminal via the input terminal, and at least leads to the plurality of core chips. An interface chip for issuing commands,
Each of the plurality of core chips includes a data output circuit that outputs the read data to the output terminal in response to the read command, and an output timing adjustment circuit that adjusts an output period from a first time to a second time. Including
The output period is a time from receiving the read command to outputting the read data from the data output circuit to the output terminal,
The semiconductor device, wherein the second times of the plurality of core chips are substantially the same.
前記出力タイミング調整回路は、前記入力期間を基準として前記出力期間を調整する、請求項1の半導体装置。 The interface chip includes an input timing circuit that controls the data input circuit to take in the read data at a timing after an input period has elapsed from the issue of the read command;
The semiconductor device according to claim 1, wherein the output timing adjustment circuit adjusts the output period based on the input period.
前記出力タイミング調整回路は、前記第1の動作速度が前記第2の動作速度に一致するよう前記出力期間を調整する、請求項1の半導体装置。 The interface chip further includes a process monitor circuit that detects an operation speed difference between a first operation speed of each of the plurality of core chips and a second operation speed of the interface chip;
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the output timing adjustment circuit adjusts the output period so that the first operation speed matches the second operation speed.
前記プロセスモニタ回路は、前記インターフェースチップのプロセス条件及び調整コードよって決まる遅延量を変化させることが可能な可変遅延回路と、前記可変遅延回路の遅延量が前記複数の固定遅延回路の遅延量と一致するよう前記調整コードを変化させる遅延制御回路と、を含み、
前記出力タイミング調整回路は、前記調整コード又はこれに基づき生成されたコードを含む出力タイミングデータに基づいて前記出力期間を調整する、請求項3の半導体装置。 Each of the plurality of core chips includes a fixed delay circuit having a specific delay amount determined by a process condition of the core chip,
The process monitor circuit includes a variable delay circuit capable of changing a delay amount determined by a process condition and an adjustment code of the interface chip, and a delay amount of the variable delay circuit matches a delay amount of the plurality of fixed delay circuits. A delay control circuit that changes the adjustment code to
The semiconductor device according to claim 3, wherein the output timing adjustment circuit adjusts the output period based on output timing data including the adjustment code or a code generated based on the adjustment code.
前記タイミングデータ記憶回路に記憶された前記調整コード又は前記出力タイミングデータは、電源投入時に、それぞれ対応する前記複数のコアチップに供給される、請求項6の半導体装置。 The interface chip further includes a timing data storage circuit that stores the adjustment code or the output timing data,
The semiconductor device according to claim 6, wherein the adjustment code or the output timing data stored in the timing data storage circuit is supplied to each of the corresponding core chips when power is turned on.
前記リードデータを伝送する前記貫通電極は、各コアチップ間で互いに電気的に接続されている、請求項8の半導体装置。 The plurality of core chips each include a plurality of through electrodes penetrating the semiconductor substrate,
The semiconductor device according to claim 8, wherein the through electrodes that transmit the read data are electrically connected to each other between the core chips.
前記複数のコアチップのそれぞれは、前記第1の動作周波数よりも低い第2の動作周波数で前記インターフェースチップと通信するバックエンド機能を有する、請求項1の半導体装置。 The interface chip has a front-end function for communicating with the outside at a first operating frequency,
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein each of the plurality of core chips has a back-end function that communicates with the interface chip at a second operating frequency lower than the first operating frequency.
前記複数のコアチップのそれぞれは、前記リードコマンドに応答して前記メモリセルアレイから読み出された複数のプリフェッチデータを含む前記リードデータを、同時にパラレルに出力する、請求項13の半導体装置。 Each of the plurality of core chips further includes a memory cell array that stores a plurality of data,
14. The semiconductor device according to claim 13, wherein each of the plurality of core chips simultaneously outputs the read data including a plurality of prefetch data read from the memory cell array in response to the read command in parallel.
前記複数のコアチップのそれぞれの第1の動作速度と前記インターフェースチップの第2の動作速度との動作速度差をそれぞれ検出し、
対応する動作速度差に基づいて、前記インターフェースチップから発行されるリードコマンドを前記複数のコアチップが受信してから、リードデータを前記インターフェースチップへ出力するまでの出力タイミングを、前記複数のコアチップ間において一致させる、半導体装置の調整方法。 Preparing a semiconductor device having a plurality of core chips each including an output terminal and an interface chip including an input terminal electrically connected in common to the output terminals of the plurality of core chips;
Detecting an operating speed difference between a first operating speed of each of the plurality of core chips and a second operating speed of the interface chip;
Based on the corresponding operating speed difference, the output timing from when the plurality of core chips receive the read command issued from the interface chip to when the read data is output to the interface chip is determined between the plurality of core chips. A method for adjusting a semiconductor device to match.
前記インターフェースチップは、前記インターフェースチップのプロセス条件及び調整コードによって決まる遅延量を変化させることが可能な可変遅延回路を含み、
前記第2の動作速度と前記複数の第1の動作速度のそれぞれとの間の前記動作速度差は、前記可変遅延回路の遅延量が前記複数の固定遅延回路の遅延量とそれぞれ一致するよう前記調整コードを変化させることによって検出する、請求項15の半導体装置の調整方法。 Each of the plurality of core chips includes a fixed delay circuit having a specific delay amount determined by a process condition of the core chip,
The interface chip includes a variable delay circuit capable of changing a delay amount determined by a process condition and an adjustment code of the interface chip,
The difference in operating speed between each of the second operating speed and each of the plurality of first operating speeds is such that the delay amount of the variable delay circuit matches the delay amount of the plurality of fixed delay circuits, respectively. The semiconductor device adjustment method according to claim 15, wherein the detection is performed by changing the adjustment code.
前記半導体装置に接続されたコントローラと、を備え、
前記半導体装置は、
それぞれ出力端子を含む複数のコアチップと、
前記出力端子に電気的に共通に接続された入力端子と、前記出力端子から前記入力端子を介して供給される複数のリードデータを受信するデータ入力回路とを含み、前記複数のコアチップに少なくともリードコマンドを発行するインターフェースチップと、を備え、
前記複数のコアチップのそれぞれは、前記リードコマンドに応答して前記出力端子に前記リードデータを出力するデータ出力回路と、出力期間を第1の時間から第2の時間に調整する出力タイミング調整回路とを含み、
前記出力期間は、前記リードコマンドを受信してから、前記データ出力回路から前記出力端子に前記リードデータを出力するまでの時間であり、
前記複数のコアチップの前記第2の時間は実質的に互いに同じであり、
前記コントローラは、前記リードコマンドに関連するコマンドを前記インターフェースチップに発行し、
前記コントローラから前記コマンドを受けた前記インターフェースチップは、前記複数のコアチップに前記リードコマンドを発行し、
前記複数のコアチップのいずれかは、前記リードコマンドを受けて前記インターフェースチップに前記リードコマンドに対応する前記リードデータを出力し、
前記複数のコアチップのいずれかから前記リードデータを受けた前記インターフェースチップは、前記コントローラに前記リードデータを出力する、データ処理システム。 A semiconductor device;
A controller connected to the semiconductor device,
The semiconductor device includes:
A plurality of core chips each including an output terminal;
An input terminal electrically connected in common to the output terminal; and a data input circuit that receives a plurality of read data supplied from the output terminal via the input terminal, and at least leads to the plurality of core chips. An interface chip for issuing commands,
Each of the plurality of core chips includes a data output circuit that outputs the read data to the output terminal in response to the read command, and an output timing adjustment circuit that adjusts an output period from a first time to a second time. Including
The output period is a time from receiving the read command to outputting the read data from the data output circuit to the output terminal,
The second times of the plurality of core chips are substantially the same as each other;
The controller issues a command related to the read command to the interface chip;
The interface chip that receives the command from the controller issues the read command to the plurality of core chips,
Any of the plurality of core chips receives the read command and outputs the read data corresponding to the read command to the interface chip,
The data processing system, wherein the interface chip that has received the read data from any of the plurality of core chips outputs the read data to the controller.
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