JP2015001571A - Infrared reflection film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は赤外線反射フィルムに関する。 The present invention relates to an infrared reflective film.
図2に示す赤外線反射フィルム100が、従来から知られている(特許文献1)。図2は従来の赤外線反射フィルム100の断面図である。赤外線反射フィルム100は、透明な熱可塑性樹脂フィルム101の片面に赤外線反射層102、光触媒機能層103および表面保護フィルム104をこの順で積層し、熱可塑性樹脂フィルム101の他の面に粘着層105を積層してなる積層体である。
The infrared
熱可塑性樹脂フィルム101は積層のベースとなる基材フィルムであり、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが好んで用いられる。赤外線反射層102は、金属薄膜層を高屈折率の透明誘電体層で挟んだ積層膜である。赤外線反射層102は、可視光線は通過させるが、近赤外線〜遠赤外線は反射する。赤外線反射層102はスパッタリング法で形成される。
The
光触媒機能層103は、赤外線反射フィルム100の清掃回数を減らす自己浄化作用を有する。それと同時に光触媒機能層103は赤外線反射層102を保護する。光触媒機能層103はスパッタリング法で形成される。
The photocatalytic
赤外線反射フィルム100を窓などの板ガラス106に貼付し、フィルム表面をスキージなどの工具で擦り、水や気泡を取り除きながら接着させるとき、もし表面保護フィルム104が無いと、光触媒機能層103に擦傷が生じやすい。表面保護フィルム104は、光触媒機能層103に擦傷が生じることを防止する。表面保護フィルム104としても、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが好んで用いられる。
When the infrared
赤外線反射フィルム100は、建物、乗物などの窓に貼着されて、冷暖房の効果を向上させることに用いられる。また、赤外線反射フィルム100は、冷凍冷蔵ショーケースの窓に貼着されて、保冷効果を向上させることにも用いられる。
The infrared
表面保護フィルム104としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた場合、ポリエチレンテレフタレート(PET)は、C=O基、C−O基、芳香族基を多く含むため、波長5μm〜25μmの遠赤外領域に振動吸収が生じることが多い。
When a polyethylene terephthalate (PET) film is used as the surface
赤外線反射フィルム100は、表面保護フィルム104としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いているため、表面保護フィルム104が外部からの照射光107に含まれる赤外線および赤外線反射層102の反射光に含まれる赤外線を吸収して温度上昇し、表面保護フィルム104自体が赤外線を再放射しやすい(これを、表面保護フィルム104の赤外線放射率が高いという)。
Since the infrared
その結果、表面保護フィルム104としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた赤外線反射フィルム100では、十分な断熱性が得られにくい、という問題がある。
As a result, the infrared
スパッタリング法で表面に金属薄膜や誘電体薄膜を成膜できるような耐熱性を有する高分子フィルムは、ほとんどのものがポリエチレンテレフタレート(PET)と同様、遠赤外領域の赤外線を振動吸収しやすい。そのような高分子フィルムを、基材フィルムあるいは保護フィルムとして用いた赤外線反射フィルムは、赤外線放射率が高く、十分な断熱性が得られにくい。耐熱性が高く、赤外線放射率が低い高分子フィルム材料は稀であり、ほとんど知られていない。 Most heat-resistant polymer films on which a metal thin film or a dielectric thin film can be formed on the surface by sputtering are easy to absorb and absorb infrared rays in the far-infrared region, like polyethylene terephthalate (PET). An infrared reflective film using such a polymer film as a base film or a protective film has a high infrared emissivity, and it is difficult to obtain sufficient heat insulation. Polymer film materials with high heat resistance and low infrared emissivity are rare and little is known.
表面保護フィルム104としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた従来の赤外線反射フィルム100では十分な断熱性が得られにくい。耐熱性を有するほとんどの高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)と同様、遠赤外領域の赤外線を振動吸収する傾向がある。そのためこのような高分子フィルムを基材フィルムあるいは保護フィルムとして用いた赤外線反射フィルムは、赤外線放射率が高く、十分な断熱性が得られにくい。
With the conventional infrared
本発明の目的は、スパッタリング法で表面に金属薄膜や誘電体薄膜を成膜できるような耐熱性がありながら、遠赤外領域の赤外線を吸収しない材料からなる透明高分子フィルムを採用することにより、単純な構成で、十分な断熱性をもつ赤外線反射フィルムを得ることである。 An object of the present invention is to adopt a transparent polymer film made of a material that does not absorb infrared rays in the far infrared region while having heat resistance such that a metal thin film or a dielectric thin film can be formed on the surface by a sputtering method. It is to obtain an infrared reflective film having a simple structure and sufficient heat insulation.
(1)本発明の赤外線反射フィルムは、赤外線反射層と、透明フィルムと、接着層を備える。赤外線反射層は2つの主面をもつ。透明フィルムは、{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムである。透明フィルムは赤外線反射層の1つの主面を支持する。接着層は赤外線反射層の他の主面に形成される。
(2)本発明の赤外線反射フィルムにおいて、{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムは、ポリアクリロニトリル(PAN)フィルムである。
(3)本発明の赤外線反射フィルムにおいて、接着層はアクリル系粘着剤からなる。
(4)本発明の赤外線反射フィルムの垂直放射率は0.4以下である。
(5)本発明の赤外線反射フィルムにおいては、赤外線反射層が金属薄膜と高屈折率誘電体薄膜の多層積層膜からなる。
(6)本発明の赤外線反射フィルムにおいて、赤外線反射層の金属薄膜は金、銀、銅、アルミニウム、パラジウムまたはこれらの合金からなる。
(7)本発明の赤外線反射フィルムにおいて、赤外線反射層の高屈折率誘電体薄膜の屈折率は1.8〜2.7である。
(8)本発明の赤外線反射フィルムにおいて、赤外線反射層の高屈折率誘電体薄膜はインジウム錫酸化物(ITO)、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、亜鉛酸化物またはこれらの組合せからなる。
(1) The infrared reflective film of the present invention includes an infrared reflective layer, a transparent film, and an adhesive layer. The infrared reflecting layer has two main surfaces. The transparent film is a polymer film having a {-(C-CCN) n-} skeleton (polyacrylonitrile skeleton) as a main component. The transparent film supports one main surface of the infrared reflecting layer. The adhesive layer is formed on the other main surface of the infrared reflecting layer.
(2) In the infrared reflective film of the present invention, the polymer film having a {-(C-CCN) n-} skeleton (polyacrylonitrile skeleton) as a main component is a polyacrylonitrile (PAN) film.
(3) In the infrared reflective film of the present invention, the adhesive layer is made of an acrylic pressure-sensitive adhesive.
(4) The vertical emissivity of the infrared reflective film of the present invention is 0.4 or less.
(5) In the infrared reflective film of the present invention, the infrared reflective layer is composed of a multilayer laminated film of a metal thin film and a high refractive index dielectric thin film.
(6) In the infrared reflective film of the present invention, the metal thin film of the infrared reflective layer is made of gold, silver, copper, aluminum, palladium, or an alloy thereof.
(7) In the infrared reflective film of the present invention, the refractive index of the high refractive index dielectric thin film of the infrared reflective layer is 1.8 to 2.7.
(8) In the infrared reflective film of the present invention, the high refractive index dielectric thin film of the infrared reflective layer is made of indium tin oxide (ITO), titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide or It consists of these combinations.
本発明の赤外線反射フィルムは、透明フィルムが{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムであるため、単純な構成でありながら高い断熱性をもつ。 In the infrared reflective film of the present invention, the transparent film is a polymer film having a {-(C-CCN) n-} skeleton (polyacrylonitrile skeleton) as a main component, and thus has a high heat insulating property while having a simple configuration. .
[赤外線反射フィルム]
図1(a)は本発明の赤外線反射フィルム10の断面図である。赤外線反射フィルム10は、赤外線反射層11と、赤外線反射層11の1つの主面を支持する透明フィルム12と、赤外線反射層11の他の主面に形成された接着層13を備える。
[Infrared reflective film]
Fig.1 (a) is sectional drawing of the infrared
透明フィルム12の全面が赤外線反射層11により覆われる。実際の使用時には、赤外線反射フィルム10は接着層13を介して、例えば板ガラス14に貼り付けられる。
The entire surface of the
透明フィルム12は赤外線反射層11の主面を支持し、赤外線反射層11の保護層を兼ねる。そのため、赤外線反射層11の保護のための特別な保護層は必要がない。このため、本発明の赤外線反射フィルム10は層数が少なく、構成が単純で、膜厚が薄い。
The
透明フィルム12は、{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムからなる。{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)と異なり、C−O結合を有しないため、波長5μm〜25μmの遠赤外線の振動吸収が生じない。
The
このため、外部からの照射光15に含まれる赤外線の遠赤外領域は、透明フィルム12にほとんど吸収されることなく、赤外線反射層11に達する。この結果、赤外線が透明フィルム12を通過するとき、透明フィルム12は赤外線をほとんど吸収しない。
For this reason, the infrared far-infrared region included in the
赤外線は赤外線反射層11により反射され、再び透明フィルム12を通過して、外部に出射する。このときも透明フィルム12は通過する赤外線をほとんど吸収しない。
Infrared rays are reflected by the infrared reflecting
このようにして透明フィルム12の赤外線放射率を低く抑えることができる。本発明の赤外線反射フィルムの垂直放射率は、好ましくは0.4以下、さらに好ましくは0.2以下である。本発明の赤外線反射フィルム10により、高い断熱性が得られる。本発明の赤外線反射フィルム10は、単純な構成でありながら、断熱性と耐候性を兼ね備える。
In this way, the infrared emissivity of the
図1(b)は、{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムからなる透明フィルム12の代わりに、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムからなる透明フィルム22を支持フィルムとして用いた、比較例の赤外線反射フィルム20の断面図である。
FIG. 1B shows a transparent film made of a polyethylene terephthalate (PET) film instead of the
赤外線反射フィルム20は、赤外線反射層21と、赤外線反射層21の1つの主面を支持する透明フィルム22と、赤外線反射層21の他の主面に形成された接着層23を備える。透明フィルム22の全面が赤外線反射層21により覆われる。実際の使用時には、赤外線反射フィルム20は接着層23を介して、例えば板ガラス24に貼り付けられる。
The infrared
透明フィルム22のポリエチレンテレフタレート(PET)を構成する分子は、遠赤外領域の赤外線を振動吸収する。このため、外部からの照射光25に含まれる遠赤外領域の赤外線は、透明フィルム22にかなりの部分が吸収され、吸収されなかった部分が赤外線反射層21に達する。
Molecules constituting the polyethylene terephthalate (PET) of the transparent film 22 absorb and absorb infrared rays in the far infrared region. For this reason, the infrared rays in the far-infrared region included in the irradiation light 25 from the outside are absorbed by the transparent film 22 and a portion that is not absorbed reaches the infrared reflecting
赤外線は赤外線反射層21により反射されて、再び透明フィルム22を通過して、外部に出射する。透明フィルム22は反射した赤外線の一部を吸収するため、透明フィルム22の温度がさらに上昇する。
Infrared rays are reflected by the infrared reflecting
その結果、透明フィルム22自体が赤外線を再放射するようになる。このため、透明フィルム22の赤外線放射率が高くなり、比較例の赤外線フィルム20では、高い断熱性が得られない。
As a result, the transparent film 22 itself re-radiates infrared rays. For this reason, the infrared emissivity of the transparent film 22 becomes high, and in the
[赤外線反射層]
本発明に用いられる赤外線反射層11は、可視光線を透過させ、赤外線を反射する。赤外線反射層11単体の可視光線透過率は、好ましくは50%以上である。赤外線反射層11単体の垂直放射率は、好ましくは0.1以下である。垂直放射率の測定方法は後述する。
[Infrared reflective layer]
The infrared reflecting
赤外線反射層11は、通常、金属薄膜と、二酸化チタンや二酸化ジルコニウムなどの高屈折率誘電体薄膜を、多数、積層して構成された多層膜である。金属薄膜を形成する材料は、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、パラジウムまたはこれらの合金などである。金属薄膜の厚みは、可視光線透過率と赤外線反射率が共に高くなるように、好ましくは5nm〜1,000nmの範囲で調整される。
The infrared reflecting
高屈折率誘電体薄膜は、好ましくは1.8〜2.7の範囲の屈折率を有する。高屈折率誘電体薄膜を形成する材料として、インジウム錫酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、錫酸化物、インジウム酸化物、亜鉛酸化物など、あるいはこれらの組合せが用いられる。高屈折率誘電体薄膜の厚みは、好ましくは20nm〜80nmの範囲で調整される。 The high refractive index dielectric thin film preferably has a refractive index in the range of 1.8 to 2.7. As a material for forming the high refractive index dielectric thin film, indium tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, or a combination thereof is used. The thickness of the high refractive index dielectric thin film is preferably adjusted in the range of 20 nm to 80 nm.
金属薄膜および高屈折率誘電体薄膜は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法、プラズマCVD法などにより形成される。これらの方法により、赤外線反射層11を、透明フィルム12上に密着積層することができる。透明フィルム12に接する側は、金属薄膜および高屈折率誘電体薄膜のどちらでもよい。
The metal thin film and the high refractive index dielectric thin film are formed by, for example, sputtering, vacuum deposition, plasma CVD, or the like. By these methods, the infrared
[透明フィルム]
本発明に用いられる透明フィルム12は、{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムからなる。{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムは、遠赤外領域の吸収が小さい。そのため、透明フィルム12の厚みを調整することにより、例えば、波長5μm〜25μmの範囲(遠赤外領域)の光の最小透過率を高く(例えば、50%以上)することができる。
[Transparent film]
The
透明フィルム12に用いられる{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子は、好ましくは、ポリアクリロニトリル(PAN)である。ポリアクリロニトリル(PAN)は、赤外領域の吸収が少なく、断熱性と耐候性に優れる。ポリアクリロニトリル(PAN)に少量のスチレン、アクリルなどが共重合されていてもよい。あるいは、透明フィルム12に用いられる{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子は、分子式中に下記化学式の(A)、(B)、(C)で表わされる構造を含むニトリルゴム系化合物でもよい。
The polymer mainly composed of a {— (C—CCN) n—} skeleton (polyacrylonitrile skeleton) used for the
式(A)、(B)、(C)において、R1は水素またはメチル基であり、R2〜R5は、それぞれ独立に、水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝のアルキル基、または炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝のアルケニル基である。ニトリルゴムは、例えばアクリロニトリルおよび/またはその誘導体と、1、3−ブタジエンを共重合することにより得られる。また、1、3−ブタジエン由来の二重結合を一部または完全に水素添加された水素化ニトリルゴムを用いることもできる。 In the formulas (A), (B), and (C), R 1 is hydrogen or a methyl group, and R 2 to R 5 are each independently hydrogen, a linear or branched alkyl having 1 to 4 carbon atoms. Or a straight-chain or branched alkenyl group having 1 to 4 carbon atoms. The nitrile rubber is obtained, for example, by copolymerizing acrylonitrile and / or a derivative thereof and 1,3-butadiene. Further, a hydrogenated nitrile rubber in which a double bond derived from 1,3-butadiene is partially or completely hydrogenated can also be used.
透明フィルム12の厚みは、好ましくは5μm〜150μmである。透明フィルム12の厚みが5μm未満であると、赤外線反射層11の支持性が低下するおそれがある。一方、透明フィルム12の厚みが150μmを超えると、赤外領域の吸収が無視できなくなり、断熱性が低下するおそれがある。
The thickness of the
[接着層]
本発明の赤外線反射フィルム10は、接着層13を介して、断熱効果を期待する対象物(例えば、板ガラス14)に貼着される。本発明に用いられる接着層13は、特に制限は無いが、好ましくはアクリル系粘着剤である。アクリル系粘着剤は、アルキル基の炭素数が2〜10程度のアクリル酸アルキルエステルの共重合体と、ポリイソシアネートやメラミン樹脂などを含む架橋剤を反応させて得られる。接着層13の厚みは、好ましくは1μm〜50μmである。
[Adhesive layer]
The infrared
実施例および比較例で用いたポリアクリロニトリル(PAN)フィルムは、次の手順で得られたフィルムを用いた。ポリアクリロニトリル(PAN)樹脂(アルドリッチ社製)をジメチルホルムアミドに溶解し、このポリアクリロニトリル(PAN)樹脂溶液をポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(三菱樹脂社製)上にアプリケーターを用いて塗工した。次いで、塗膜を150℃の空気循環式オーブンで乾燥させることにより、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にポリアクリロニトリル(PAN)フィルムを得た。ポリアクリロニトリル(PAN)フィルムは、塗工のポリアクリロニトリル(PAN)溶液の濃度とアプリケーターのギャップを制御することにより、それぞれのポリアクリロニトリル(PAN)フィルムの厚みに調製した。実施例1以外に使用したポリアクリロニトリル(PAN)フィルムはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムから剥離したのち使用した。 As the polyacrylonitrile (PAN) film used in Examples and Comparative Examples, a film obtained by the following procedure was used. A polyacrylonitrile (PAN) resin (manufactured by Aldrich) was dissolved in dimethylformamide, and this polyacrylonitrile (PAN) resin solution was applied onto a polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Mitsubishi Plastics) using an applicator. Next, the coating film was dried in an air circulation oven at 150 ° C. to obtain a polyacrylonitrile (PAN) film on a polyethylene terephthalate (PET) film. Polyacrylonitrile (PAN) films were prepared to the thickness of each polyacrylonitrile (PAN) film by controlling the concentration of the applied polyacrylonitrile (PAN) solution and the applicator gap. The polyacrylonitrile (PAN) film used other than Example 1 was used after peeling from the polyethylene terephthalate (PET) film.
[実施例1]
PET上に形成された厚み5μmのポリアクリロニトリル(PAN)フィルム上に、RFマグネトロンスパッタ法により、厚さ35nmのITO膜と厚さ15nmのAPC膜を交互に積層して、赤外線反射層を得た。ITO膜はインジウム錫酸化物膜であり、APC膜は、銀98重量%、パラジウム1重量%、銅1重量%の合金膜である。次に、転写法により、赤外線反射層の表面に、厚み15μmのアクリル系粘着剤層を形成し、厚さ1.1mmのガラス板を粘着剤層を介して貼り合わせ、次いでPETフィルムを剥離し、赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Example 1]
An infrared reflective layer was obtained by alternately laminating an ITO film having a thickness of 35 nm and an APC film having a thickness of 15 nm on a polyacrylonitrile (PAN) film having a thickness of 5 μm formed on PET by RF magnetron sputtering. . The ITO film is an indium tin oxide film, and the APC film is an alloy film of 98 wt% silver, 1 wt% palladium, and 1 wt% copper. Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm is formed on the surface of the infrared reflective layer by a transfer method, a glass plate having a thickness of 1.1 mm is bonded through the pressure-sensitive adhesive layer, and then the PET film is peeled off. An infrared reflector was obtained. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[実施例2]
ポリアクリロニトリル(PAN)フィルムの厚みを10μmとした以外は、実施例1と同様の方法によって赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Example 2]
An infrared reflector was obtained by the same method as in Example 1 except that the thickness of the polyacrylonitrile (PAN) film was 10 μm. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[実施例3]
ポリアクリロニトリル(PAN)フィルムの厚みを22μmとした以外は、実施例2と同様の方法にて、赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Example 3]
An infrared reflector was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the polyacrylonitrile (PAN) film was 22 μm. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[実施例4]
ポリアクリロニトリル(PAN)フィルムの厚みを40μmとした以外は、実施例2と同様の方法にて、赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Example 4]
An infrared reflector was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the polyacrylonitrile (PAN) film was 40 μm. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[実施例5]
ポリアクリロニトリル(PAN)フィルムの厚みを22μmとし、赤外線反射層を厚み20nmのアルミニウム膜とした以外は、実施例2と同様の方法にて、赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Example 5]
An infrared reflecting plate was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the polyacrylonitrile (PAN) film was 22 μm and the infrared reflecting layer was an aluminum film having a thickness of 20 nm. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[実施例6]
ポリアクリロニトリル(PAN)フィルムの厚みを22μmとし、赤外線反射層を厚み20nmの金アルミニウム膜とした以外は、実施例2と同様の方法にて、赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Example 6]
An infrared reflector was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the polyacrylonitrile (PAN) film was 22 μm and the infrared reflective layer was a 20 nm thick gold-aluminum film. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[比較例1]
透明フィルムとして、厚み25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた以外は、実施例2と同様の方法にて、赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
An infrared reflector was obtained in the same manner as in Example 2 except that a 25 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film was used as the transparent film. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[比較例2]
透明フィルムとして、厚みが100μmのPETフィルムを用いた以外は、比較例1と同様の方法にて、赤外線反射板を得た。垂直放射率と断熱性試験結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
An infrared reflector was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that a PET film having a thickness of 100 μm was used as the transparent film. Table 1 shows the vertical emissivity and the heat insulation test results.
[測定方法]
[垂直放射率]
角度可変反射アクセサリを装着したVarian社製フーリエ変換型赤外分光装置(FT−IR)を用いて、波長5μm〜25μmの赤外光の正反射率を測定し、JIS R 3106−2008(板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法)に準じて垂直放射率を求めた。
[Measuring method]
[Vertical emissivity]
Using a Varian Fourier transform infrared spectrometer (FT-IR) equipped with a variable angle reflection accessory, the regular reflectance of infrared light having a wavelength of 5 μm to 25 μm was measured, and JIS R 3106-2008 (sheet glass) The vertical emissivity was determined according to the test method of transmittance, reflectance, emissivity, and solar heat gain.
[可視光線透過率]
JIS A 5759−2008(建築窓ガラス用フィルム)に準じて可視光線透過率を測定した。
[Visible light transmittance]
Visible light transmittance was measured according to JIS A 5759-2008 (film for architectural window glass).
[断熱性]
図3に示す、ヒーター31と熱電対32を備えた断熱ボックス30の開口部に、赤外線反射フィルム10の接着層13を貼着して、断熱ボックス30を密閉状態とした。断熱ボックス30の内法は、10cm×10cm×14cmである。出力一定のヒーター31で断熱ボックス30内を加熱し、赤外線反射フィルム10から1cm離れた箇所の、断熱ボックス30内の温度を熱電対32で測定した。赤外線反射フィルム10の断熱性が優れているほど、断熱ボックス30内の温度が高くなる。断熱ボックス30内の温度により、断熱性を評価した。
[Thermal insulation properties]
The
本発明の赤外線反射フィルム10の用途に特に制限は無い。本発明の赤外線反射フィルム10は、例えば、建物や乗物などの窓、植物などを入れる透明ケース、冷凍もしくは冷蔵のショーケースに貼着され、冷暖房効果の向上や、急激な温度変化を防止するために用いられる。
There is no restriction | limiting in particular in the use of the infrared
10 赤外線反射フィルム
11 赤外線反射層
12 透明フィルム
13 接着層
14 板ガラス
15 照射光
20 赤外線反射フィルム
21 赤外線反射層
22 透明フィルム
23 接着層
24 板ガラス
25 照射光
30 断熱ボックス
31 ヒーター
32 熱電対
100 赤外線反射フィルム
101 透明熱可塑性樹脂フィルム
102 赤外線反射層
103 光触媒機能層
104 表面保護フィルム
105 粘着層
106 板ガラス
107 照射光
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記赤外線反射層の1つの主面を支持する、{−(C−CCN)n−}骨格(ポリアクリロニトリル骨格)を主成分とする高分子フィルムからなる透明フィルムと、
前記赤外線反射層の他の主面に形成された接着層を備えた赤外線反射フィルム。 An infrared reflective layer having two main surfaces;
A transparent film made of a polymer film mainly comprising a {-(C-CCN) n-} skeleton (polyacrylonitrile skeleton) that supports one main surface of the infrared reflective layer;
The infrared reflective film provided with the contact bonding layer formed in the other main surface of the said infrared reflective layer.
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013125131A Pending JP2015001571A (en) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | Infrared reflection film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015001571A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110103549A (en) * | 2019-04-10 | 2019-08-09 | 江苏理工学院 | A kind of high reflection multilayer insulation fenestrated membrane and preparation method thereof |
-
2013
- 2013-06-14 JP JP2013125131A patent/JP2015001571A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110103549A (en) * | 2019-04-10 | 2019-08-09 | 江苏理工学院 | A kind of high reflection multilayer insulation fenestrated membrane and preparation method thereof |
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