JP2014222309A - Hologram overlay - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、証券、カード媒体、パスポートや査証などの中の個人認証媒体上の所要領域に転写するホログラムオーバーレイに係り、特に認証媒体などに使用される熱可塑性樹脂の被転写基材から発生するガス(アウトガス)の影響を防止するホログラムオーバーレイに関する。 The present invention relates to a hologram overlay to be transferred to a required area on a personal authentication medium in securities, card media, passports, visas, etc., and is generated particularly from a transfer substrate of a thermoplastic resin used for an authentication medium. The present invention relates to a hologram overlay that prevents the influence of gas (outgas).
近年、証券、カード媒体及び個人認証媒体等では、その基材として熱可塑性樹脂に属するポリカーボネートが用いられるようになってきた。ポリカーボネートは、耐久性を有することから長期間の使用が可能であるが、使用環境において比較的高い温度、例えば50℃〜80℃の温度条件に曝された場合、その表面からガス(アウトガス)が発生することが知られている。そのため、ポリカーボネートの表面に貼り付けられた粘着フィルムはポリカーボネートである被着体から発生するガス(アウトガス)のために界面にガスがたまり、粘着フィルムにふくれや剥がれなどが生じるといった欠点がある。 In recent years, polycarbonate belonging to a thermoplastic resin has been used as a base material for securities, card media, personal authentication media, and the like. Polycarbonate can be used for a long period of time because of its durability, but when exposed to relatively high temperatures in the environment of use, for example, 50 ° C. to 80 ° C., gas (outgas) is released from its surface. It is known to occur. Therefore, the pressure-sensitive adhesive film attached to the surface of the polycarbonate has a drawback in that gas accumulates at the interface due to gas (outgas) generated from the adherend that is polycarbonate, and the pressure-sensitive adhesive film is swollen or peeled off.
そこで、従来、以上のような欠点を克服するための幾つかの対策が講じられている。 Therefore, several measures have been taken to overcome the above drawbacks.
その対策は、ポリカーボネート樹脂基材自体の表面にあらかじめ酸化処理を施すという方法が提案されている(特許文献1)。 As a countermeasure, there has been proposed a method in which an oxidation treatment is performed in advance on the surface of the polycarbonate resin substrate itself (Patent Document 1).
また、別の対策としては、ポリカーボネート樹脂基材の表面にアクリル系樹脂を接合し、このアクリル系樹脂の表面を酸化処理し、さらに酸化処理層へ粘着フィルムを貼り付けるという方法が提案されている(特許文献2)。 As another countermeasure, a method has been proposed in which an acrylic resin is bonded to the surface of a polycarbonate resin base material, the surface of the acrylic resin is oxidized, and an adhesive film is attached to the oxidized layer. (Patent Document 2).
さらに、別の対策としては、粘着剤層を堅く強靭にし、かつ接着力をあげることによりアウトガスの発生を有効に防止するという方法も提案されている。(特許文献3、特許文献4)。 Furthermore, as another countermeasure, there has been proposed a method of effectively preventing outgassing by making the pressure-sensitive adhesive layer firm and tough and increasing the adhesive strength. (Patent Literature 3, Patent Literature 4).
しかしながら、特許文献1,2の技術では、ポリカーボネート樹脂基材表面またはポリカーボネート樹脂基材に積層されたアクリル系樹脂の表面に新たに酸化処理を施すことから、それら酸化処理による処理時間やコストがかかる問題がある。
However, in the techniques of
また、特許文献1ないし引用文献4の技術は、証券、カード媒体、個人認証媒体に適用させる場合、反りなどを考えて両面に同じ処理を施すことが望まれるが、両面処理を行なった場合、アウトガスが抜け出すところがなくなり、結果としてふくれやはがれなどが生じてしまう。
Moreover, when applying the technique of
また、連続多孔質のプラスチックフィルムを用いることでアウトガスを外へ逃がす方法も提案されている(特許文献5)。しかしながら、多孔質のフィルム基材は柔らかく耐刷性、耐キズ性が低いという難点がある。そのため、証券、カード、個人認証媒体への使用には適用し難い問題がある。 In addition, a method for releasing outgas to the outside by using a continuous porous plastic film has been proposed (Patent Document 5). However, the porous film substrate has a drawback that it is soft and has low printing durability and scratch resistance. Therefore, there is a problem that it is difficult to apply to use in securities, cards, and personal authentication media.
本発明は、以上のような問題を解決するためになされたもので、熱可塑性樹脂を用いた被転写基材に転写処理を施した場合でも、その被転写基材から発生するガスの影響を受け難いホログラムオーバーレイを提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems. Even when a transfer substrate using a thermoplastic resin is subjected to a transfer treatment, the influence of the gas generated from the transfer substrate is not affected. An object is to provide a hologram overlay that is difficult to receive.
上記課題を解決するために、請求項1に対応する発明は、熱可塑性樹脂の被転写基材への熱転写に用いるホログラムオーバーレイであって、フィルム又はシート状の基材と、この基材の一方の面に所要の間隔をもって形成されるアンカー層と、このアンカー層を含む前記基材の一方の面に積層される光を回折するホログラム及び回折格子の少なくとも一種類を含む回折構造形成層と、この回折構造形成層の上面に順次積層される無機反射層及び前記アンカー層よりも接着力の弱い接着層とを備え、
前記被転写基材の上面に前記接着層の面が対峙され、かつ前記基材が上側となるように配置して熱転写する際、前記基材から前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが剥離されて前記被転写基材に転写される剥離部と、前記アンカー層を介して前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが前記基材に残存する微小な密着部とを有することを特徴とするホログラムオーバーレイである。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention corresponding to
When the surface of the adhesive layer is opposed to the upper surface of the substrate to be transferred, and the substrate is placed on the upper side and thermally transferred, the diffraction structure forming layer, the inorganic reflective layer, and the A peeling portion that is peeled off from the adhesive layer and transferred to the substrate to be transferred, and a minute structure in which the diffraction structure forming layer, the inorganic reflective layer, and the adhesive layer remain on the base material via the anchor layer. It is a hologram overlay characterized by having an adhesion part.
請求項2に対応する発明は、熱可塑性樹脂の被転写基材への熱転写に用いるホログラムオーバーレイであって、フィルム又はシート状の基材と、この基材の一方の面に形成されるアンカー層と、このアンカー層の面上に選択的に施される剥離層と、この剥離層を含む前記アンカー層の面に積層される光を回折するホログラム及び回折格子の少なくとも一種類を含む回折構造形成層と、この回折構造形成層の上面に順次積層された無機反射層及び前記アンカー層よりも接着力の弱い接着層とを備え、
前記被転写基材の上面に前記接着層の面が対峙され、かつ前記基材が上側となるように配置して熱転写する際、前記基材から前記剥離層を介して前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが剥離されて前記被転写基材に転写される剥離部と、前記剥離層を除く領域に位置する前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが前記基材に残存する微小な密着部とを有することを特徴とするホログラムオーバーレイである。
The invention corresponding to claim 2 is a hologram overlay used for thermal transfer of a thermoplastic resin to a substrate to be transferred, which is a film or sheet-like substrate and an anchor layer formed on one surface of the substrate And a release layer selectively applied on the surface of the anchor layer, and a diffraction structure including at least one of a hologram and a diffraction grating for diffracting light laminated on the surface of the anchor layer including the release layer A layer, an inorganic reflective layer sequentially laminated on the upper surface of the diffractive structure forming layer, and an adhesive layer having a lower adhesive strength than the anchor layer,
When the surface of the adhesive layer is opposed to the upper surface of the substrate to be transferred and the substrate is placed on the upper side and thermally transferred, the diffraction structure forming layer and the layer are separated from the substrate via the release layer. A peeling part from which the inorganic reflective layer and the adhesive layer are peeled off and transferred to the substrate to be transferred; the diffraction structure forming layer located in a region excluding the peeled layer; the inorganic reflective layer; and the adhesive layer; Is a hologram overlay characterized by having a minute contact portion remaining on the substrate.
請求項3に対応する発明は、請求項1又は請求項2に対応する発明に記載のホログラムオーバーレイにおいて、前記基材の一方の面にコロナ処理を施すことを特徴とする。 According to a third aspect of the invention, in the hologram overlay according to the first or second aspect of the invention, a corona treatment is performed on one surface of the substrate.
請求項4に対応する発明は、請求項1ないし請求項3の何れか一項に対応する発明に記載のホログラムオーバーレイにおいて、前記剥離部及び前記密着部のうち少なくとも当該密着部は、ドット形状あるいは線形状の細線紋様で構成されていることを特徴とする。
The invention corresponding to claim 4 is the hologram overlay according to any one of
請求項5に対応する発明は、請求項1ないし請求項4の何れか一項に対応する発明に記載のホログラムオーバーレイにおいて、前記密着部のドット形状の径又は線形状の線幅は、30〜80μmの範囲内とすることを特徴とする。
The invention corresponding to claim 5 is the hologram overlay according to any one of
請求項6に対応する発明は、請求項1ないし請求項5の何れか一項に記載の発明のホログラムオーバーレイにおいて、証券、カード媒体、認証媒体及び冊子などの少なくとも一部の領域が前記被転写基材で構成され、この被転写基材に前記基材に積層されている前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とからなる剥離部を熱転写することを特徴とするホログラムオーバーレイである。
The invention corresponding to claim 6 is the hologram overlay according to any one of
本発明に係るホログラムオーバーレイによれば、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂を用いた被転写基材に転写処理を施した場合でも、その被転写基材から発生するガスによって、ホログラムオーバーレイがふくれたり剥離したりすることを防止できる。 According to the hologram overlay of the present invention, even when the transfer substrate using a thermoplastic resin such as polycarbonate is subjected to a transfer process, the hologram overlay is swollen or peeled off by the gas generated from the transfer substrate. Can be prevented.
請求項1、2に対応する発明によれば、ホログラムオーバーレイをポリカーボネートのような熱可塑性樹脂の被転写基材へ熱転写する際、ホログラムオーバーレイの基材から剥離して被転写基材へ接着される剥離部(剥離領域)と、被転写基材へ接着させずに基材に残存させる密着部(密着領域)を設け、当該密着部は微細なドット形状又は線形状の「抜け」となり、熱可塑性樹脂の被転写基材から発生するガスを逃がすことができる。従って、熱可塑性樹脂の被転写基材から発生するガスによって、ホログラムオーバーレイがふくれたり剥離したりすることを防止できる。 According to the first and second aspects of the invention, when the hologram overlay is thermally transferred to a transfer material of a thermoplastic resin such as polycarbonate, the hologram overlay is peeled off and bonded to the transfer material. A peeling part (peeling area) and an adhesion part (adhesion area) that remains on the substrate without adhering to the substrate to be transferred are provided. The adhesion part becomes a “drop” in a fine dot shape or linear shape, and is thermoplastic. The gas generated from the resin transfer substrate can be released. Therefore, it is possible to prevent the hologram overlay from being swollen or peeled off by the gas generated from the thermoplastic resin transfer substrate.
請求項3に対応する発明によれば、アンカー層を設ける前に予め基材の一方の面にコロナ処理を施すことで、コロナ処理によってOH基が発生し、これとアンカー層に使用される硬化剤イソシアネートとの化学結合により、アンカー層と基材との接着力を強めることができる。 According to the invention corresponding to claim 3, by providing a corona treatment on one surface of the base material in advance before providing the anchor layer, OH groups are generated by the corona treatment, and this is used for the hardening used for the anchor layer. The adhesive force between the anchor layer and the substrate can be increased by chemical bonding with the isocyanate agent.
請求項4に対応する発明によれば、密着部が幾何学的なドットあるいは線形状の細線紋様で構成されていることにより、ホログラムオーバーレイ面の不自然さを緩和でき、また、ルーペ等で細線紋様を確認するといった二次的な検証の役割を持たせることもできる。 According to the invention corresponding to claim 4, since the close contact portion is composed of geometric dots or line-shaped fine line patterns, the unnaturalness of the hologram overlay surface can be alleviated, and a fine line can be formed with a loupe or the like. It is also possible to have a secondary verification role such as checking the pattern.
請求項5に対応する発明によれば、密着部のドット形状の径又は線形状の線幅は、30〜80μmの範囲内とすることにより、ドット形状又は線形状が一見して視認されない大きさとなり、回折格子形成層に含まれている回折構造の視認性を高めることができ、かつ被転写基材から発生するガスを外部に容易に逃がすことが可能となる。 According to the invention corresponding to claim 5, the dot shape diameter or the line width of the contact portion is within a range of 30 to 80 μm so that the dot shape or the line shape is not visually recognized at a glance. Thus, the visibility of the diffractive structure included in the diffraction grating forming layer can be enhanced, and the gas generated from the transferred substrate can be easily released to the outside.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には全ての図面を通じて同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same reference numerals are given to the constituent elements that exhibit the same or similar functions throughout all the drawings, and the duplicate description is omitted.
図1は本発明に係るホログラムオーバーレイの一実施の形態を概略的に示す断面図である。 FIG. 1 is a sectional view schematically showing one embodiment of a hologram overlay according to the present invention.
ホログラムオーバーレイ10は、複数層を積層するための基材11と、回折格子形成層12と、無機反射層13と、接着層14とを含む構成である。
The
基材11の一方面部側には剥離部111と密着部112が交互に配置されている。これら剥離部111及び密着部112の上面には前述するように回折格子形成層12、無機反射層13及び接着層14が順次積層されている。
On one side of the
基材11の剥離部111と密着部112は、アンカー層11aの有無によって分けられている。すなわち、アンカー層11aが印刷等により塗工されている領域が密着部112となり、アンカー層11aが塗工されていない領域が剥離部111となる。
The
図2は本発明に係るホログラムオーバーレイの他の実施の形態を概略的に示す断面図である。 FIG. 2 is a sectional view schematically showing another embodiment of the hologram overlay according to the present invention.
このホログラムオーバーレイ10は、図1に示す基材11の剥離部111の剥離性をより向上させるために、基材11の一方の面部全体にアンカー層11aを施した後、このアンカー層11aの上面に所要の間隔をもって選択的に剥離層11bが設けられている。
In order to further improve the releasability of the
従って、この実施の形態では、アンカー層11a上に剥離層11bが塗工(積層)されていない領域が密着部112となり、アンカー層11a上に剥離層11bが塗工(積層)されている領域が剥離部111となる。なお、剥離層11は、光透過性を有しており、典型的には透明である。剥離層11bの材料としては、例えば、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、セルロース系樹脂、塩素系ポリプロピレン樹脂、あるいはこれらにオイルシリコン、脂肪酸アミド、ステアリン酸亜鉛を添加したものが使用可能である。また、これら有機材料の他に、適宜な無機材料を用いてもよい。また、剥離層11bの厚さは0.5μm〜5μmの範囲が好ましい。
Therefore, in this embodiment, a region where the release layer 11b is not coated (laminated) on the
次に、前述する各実施の形態において使用される各構成層について詳細に説明する。 Next, each constituent layer used in each embodiment described above will be described in detail.
前記基材11は、例えば樹脂フィルムまたはシートである。基材11は、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどの耐熱性に優れた材料が用いられる。
The
アンカー層11aは、基材11と基材11の一方面に積層される回折構造形成層12、無機反射層13、接着層14との接着強さを高める働きを持っている。その理由は、ホログラムオーバーレイ10を被転写基材へ熱転写する際、基材11の密着部112上に積層されている回折格子形成層12及び無機反射層13が基材11上に残存させる必要があるためである。そのため、アンカー層11aは接着層14よりも接着力が強いことが求められる。
The
アンカー層11aの材料としては、化学結合によって接着力が強まる2液硬化型の樹脂を使用することが好ましい。アンカー層11aの主剤としては、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、アクリルポリオール、ポリウレタンを挙げることができ、硬化剤としてはイソシアネートを当量以上2倍当量以下となるように使用することが好適である。
As a material for the
なお、アンカー層11aの印刷を行なう前に予め基材11の樹脂フィルムまたはシートにコロナ処理を施しておくと、コロナ処理によってOH基が発生し、これとアンカー層11aに使用される硬化剤イソシアネートとが化学結合してアンカー層11aと基材11の樹脂フィルムまたはシートとの接着力を強めることができる。
If the resin film or sheet of the
また、アンカー層11aの厚さは0.5μm〜5μmの範囲が好ましい。アンカー層11aの厚さが0.5μmより薄いと、密着性が低すぎ、密着部112でも転写してしまう部分が発生してしまうことから好ましくない。アンカー層11aの厚さが5μmより厚いものは、印刷することが困難であり、たとえ印刷ができたとしても印刷ムラが発生して好ましくない。
The thickness of the
基材11の密着部112はグラビア印刷法によって形成する。特に密着層112は典型的にはそれぞれ独立した複数のドット(点)形状である。この密着層112のドット形状は、電子彫刻グラビア法等によりシリンダーにバイトで切削することによってグラビア版上に凹部を形成し、その凹部に付着された密着層112を形成するための樹脂が基材11上に転写することにより形成される。
The
また、密着部112と剥離部111との箔切れをよくするために、ドット形状は楕円形状あるいはひし形形状であることが好ましい。なお、この楕円形状あるいはひし形形状の長軸側と剥離の方向とが平行になるようにすれば、密着部112と剥離部111とが箔切れしやすく好ましい。
Further, in order to improve the foil breakage between the
密着部112は連続した線形状とすることもできる。密着部112を連続した線形状とするには、レーザー描画によりシリンダーをエッチングすることによってグラビア版上に凹部を形成し、その凹部に付着された密着部112を形成するための樹脂が基材11上に転写することにより形成される。
The
さらに、密着部112と剥離部111との箔切れをよくするための他の例としては、密着部112の線の方向と剥離部111の剥離の方向とを揃えるよう(剥離方向と線の接線のなす角度が45度以内)にすれば、密着部112と剥離部111とが箔切れしやすく好ましい。
Furthermore, as another example for improving the foil breakage between the
密着部112のドット形状の径又は線形状の線幅は、典型的には30〜80μmの範囲内とするのが望ましい。この範囲内の寸法であれば、ドット形状あるいは線形状が一見して視認されない大きさであり、回折格子形成層12に含まれている回折構造の視認性を妨げない。
It is desirable that the dot-shaped diameter or the line width of the
このドット径又は線幅の寸法が80μmより大きくすると、回折格子形成層12に形成されているホログラム及び/あるいは回折格子による像の解像度が悪くなる。一方、ドット径又は線幅の寸法が30μmより小さくすると、被転写基材(被転写体)として使用されるポリカーボネート樹脂から発生するアウトガスを完全に外へ逃がすことが困難となる。
If the size of the dot diameter or line width is larger than 80 μm, the resolution of the image formed by the hologram and / or diffraction grating formed on the diffraction
さらに、密着部112は、隣り合うドット形状あるいは線形状の幅(ピッチ)が、ドット形状の径または線形状の線幅の2〜5倍の範囲内となるようにする。この幅(ピッチ)を大きくすると、被転写基材として使用されるポリカーボネート樹脂基材から発生するアウトガスを完全に外へ逃がすことが困難となり、逆に幅(ピッチ)を小さくすると、回折格子形成層12に形成されるホログラム及び/あるいは回折格子による像の解像度が悪くなる。
Further, the
基材11の密着部112は、幾何学的な細線紋様で構成されていてもよい。この場合、ホログラムオーバーレイ10の面上の不自然さを緩和でき、また、ルーペ等で細線紋様を確認することでその真偽を判断できるといった二次的な検証の役割をもたせることもできる。
The
回折格子形成層12は、基材11上に施された剥離部111及び密着部112の上面に形成される。回折格子形成層12は、回折構造としてホログラム及び回折格子の少なくとも一方を含んでいる。
The diffraction
回折格子形成層12の材料は屈折率1.3〜1.5程度で透明な樹脂が好適である。具体的には、例えば、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート等の熱硬化性樹脂、あるいはこれらの混合物、さらにはラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性材料等が使用可能である。回折格子形成層12の材料として、好ましくは、基材11に積層されるアンカー層11aのイソシアネートと化学結合するアクリルポリオール/イソシアネートを用いることが好ましい。
The material of the diffraction
無機反射層13は回折格子形成層12上に形成される。無機反射層13は省略することができるが、無機反射層13を設けることで回折格子形成層12に形成される回折構造が表示する画像の視認性を向上させることができる。
The inorganic
無機反射層13としては、例えば、透明反射層又は不透明な金属反射層を使用することができる。無機反射層14は、例えば、真空蒸着法やスパッタリング法、イオンフ゜レーティング法などの薄膜形成法が適用可能であり、層厚としては10〜50nmの範囲が好ましい。層厚が10nmより薄いと、十分な反射性能が得られず、一方、50nmより厚いと、反射層14自体でワレや剥離が生じやすくなり好ましくない。
As the
無機反射層13の材料としては、屈折率が回折格子形成層12よりも高く、透明性を有する材料が好適である。特に、屈折率が2.0以上であるZnS、TiO2、PbTiO2、ZrO、ZnTe、PbCrO4等を用いることが望ましい。これは、回折格子形成層12との屈折率さが小さいと、回折格子形成層12のホログラムもしくは回折格子による回折光の視覚効果が弱まってしまうためである。具体的には回折格子形成層12と透明被膜の屈折率差は少なくとも0.5以上あると良い。
As the material of the inorganic
接着層14は無機反射層13の表面上に形成される。
接着層14の材料としては、例えばポリプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂のいずれか又は複数の混合物が挙げられる。
The
Examples of the material of the
また、接着層14と無機反射層13の間での層間剥離が起こる可能性がある場合は、接着層14の接着力を弱くする必要がある。層間剥離の起こる可能性がある場合、接着層14の材料としては、例えばポリプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂のいずれか又は複数の混合物の10重量部に対し、例えば、ニトロセルロース、酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、シリカフィラー、シリコーンフィラー、ポリテトラフルオロエチレンフィラー、ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、シリコーンオイルのいずれか又は複数の混合物を1〜100重量部の割合で混ぜたものを使用するのが好ましい。なお、接着層14の層厚は0.2〜1.0μmが好ましい。接着層14の層厚が0.2μmより薄い場合には十分な接着力が得られず、1.0μmより厚い場合には厚みのムラが視認され易く好ましくない。
Further, when there is a possibility that delamination between the
図3は本発明に係るホログラムオーバーレイ10をポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂を用いた被転写基材20に熱転写することにより、証券、カード媒体、個人認証媒体及び冊子を得るときの様子を概略的に表す断面図である。
FIG. 3 schematically shows a state in which a hologram, a card medium, a personal authentication medium, and a booklet are obtained by thermally transferring the
以下、証券、カード媒体、個人認証媒体及び冊子等の一部の領域に転写される被転写基材20を作製する手順について説明する。
Hereinafter, a procedure for producing the
先ず、図3(a)に示すように、ホログラムオーバーレイ10を、被転写基材20の表面上にホログラムオーバーレイ10の基材11が上側となるように置く。つまり、被転写基材20の表面上にホログラムオーバーレイ10を構成する接着層14が接するように置く。その後、ホログラムオーバーレイ10の基材11上面に図示矢印方向で示す熱圧21を破線22の間で加える。
First, as shown in FIG. 3A, the
次に、図3(b)に示すように、熱圧21が加えられた領域22を被転写基材20から引き剥がすと、熱圧15が加えられた領域22のうち、剥離部111に相当する領域に設定された基材11と回折格子形成層12の間で剥離が生じ、密着部112に相当する領域に設定される回折格子形成層12、無機反射層13及び接着層14が基材11上にそのまま残存する。
Next, as shown in FIG. 3B, when the
以上のような熱転写処理を行うことにより、図3(c)に示すように、熱圧21が加えられたホログラムオーバーレイ10の密着部112のみが被転写基材20の表面上に転写される。
By performing the thermal transfer process as described above, only the
さらに、被転写基材20とホログラムオーバーレイ10の密着部112との密着性を強めるために、被転写基材20の表面上に転写された回折格子形成層12の面に図示矢印方向から熱圧23を再度加えてポストキュアすることが望ましい。
Further, in order to enhance the adhesion between the
図4はホログラムオーバーレイ10を熱転写して作製したカード媒体30の一例を概略的に示す平面図である。熱転写には、例えばホットスタンプを利用する。なお、ホットスタンプを利用した熱転写の代わりに熱ロールを利用した熱転写を行なってもよい。
FIG. 4 is a plan view schematically showing an example of a
図4(a)は密着部112が線形状のものであり、図4(b)は密着部112がドット形状のものである。転写箔の剥離方向は当該図面の左右方向となる。
In FIG. 4A, the
以上のようにして作製された証券、カード媒体30、個人認証媒体及び冊子について、通常の観察においてはホログラム及び/あるいは回折格子による連続的な像が観察できる。また、以上のような証券、カード媒体30、個人認証媒体及び冊子について、ルーペ等で観察した際は、幾何学的なドット形状あるいは線形状の細線紋様を確認することができる。
With regard to the securities, the
以下、本発明に係るホログラムオーバーレイ10を用いた図4に示すカード媒体30の作製について具体的に説明する。
Hereinafter, the production of the
(a)最初にホログラムオーバーレイ10を作製する。
基材11となる厚み12μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。この基材11にコロナ処理を施した後、基材11上にグラビアコーターを用いてアンカー層11aを形成し、オーブンで乾燥させた。このときのアンカー層11aの材料としてはポリエステルポリオール/イソシアネートを当量混ぜたものを使用した。アンカー層11aの乾燥後の膜厚は1.0μmである。
(A) First, the
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm to be the
次に、アンカー層11aの表面にグラビア印刷で剥離層11bを形成し、これをオーブンで乾燥させた。グラビア印刷版には200線/inchのヘリオ版を使用した。また、剥離層11bの材料としてはアクリル樹脂を使用した。剥離層11bの乾燥後の膜厚は0.5μmである。
Next, the peeling layer 11b was formed on the surface of the
しかる後、アンカー層11a及び剥離層11bが積層された基材11の上にグラビアコーターを用いて回折格子形成層12を形成し、オーブンで乾燥させた。このとき、回折格子形成層12の材料としてはアクリルポリオールを使用した。回折格子形成層12の乾燥後の膜厚は0.7μmである。
Thereafter, the diffraction
次に、ロールエンボス装置を用いた熱プレスにより、回折格子形成層12の表面にホログラムとしての回折構造を形成した。このとき、ロールエンボス装置の版面温度は165度である。
Next, a diffraction structure as a hologram was formed on the surface of the diffraction
引き続き、回折格子形成層12の回折構造上に蒸着法により硫化亜鉛からなる無機反射層13を形成した。無機反射層13の膜厚は50nmとした。
Subsequently, an inorganic
最後に、この無機反射層13上に熱可塑性樹脂であるポリエステル樹脂をグラビア印刷することにより、接着層14を形成した。接着層の膜厚は0.5μmである。
Finally, the
以上のような手順に従ってホログラムオーバーレイ10(図2参照)を作製した。 The hologram overlay 10 (see FIG. 2) was produced according to the above procedure.
(b) 次に、図4に示すカード媒体30を作製する。
先ず、被転写基材20に用いるカード用のポリカーボネート樹脂の基材を準備した。
その後、前記(a)項で作製された図2のホログラムオーバーレイ10を、ポリカーボネート樹脂基材の表面上にホログラムオーバーレイ10の基材11が上側となるように置き、ホログラムオーバーレイ10の基材11側からホットスタンプによる熱転写を行なった。このとき、熱転写の温度は160度である。
(B) Next, the
First, a polycarbonate resin substrate for a card used for the
Thereafter, the
次に、ホログラムオーバーレイ10の基材11をポリカーボネート樹脂基材からヘリオ版の版目に沿った方向で剥離し、ホログラムオーバーレイ10の剥離部111がポリカーボネート樹脂基材に接着されているのを確認した後、転写されたホログラムオーバーレイ10のポストキュアを行なった。このとき、ポリカーボネート樹脂基材のホログラムオーバーレイ10が転写された側に25μmのPETフィルムを置き、その上から180度のホットスタンプによる熱転写を行なった。
Next, the
以上のようにして作製されたカード媒体30は、80度85%の恒温恒湿器内に24時間に放置した後、当該カード媒体30を取り出して観察したところ、ポリカーボネート樹脂基材から発生するガスが密着部112に配置されたドット形状又は線形状から抜け出ており、ふくれ等の異常が全く確認されなかった。その結果、ポリカーボネート樹脂基材から発生するガスの影響を全く受けない熱転写されたホログラムオーバーレイ10を備えたカード媒体30を実現することができた。
The
なお、前記実施の形態及び実施例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。前記各実施の形態及び各実施例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施の形態、実施例やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 In addition, the said embodiment and Example are shown as an example and are not intending limiting the range of invention. Each of the above embodiments and examples can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments, examples, and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
10…ホログラムオーバーレイ、11…基材、11a…アンカー層、11b…剥離層、12…回折格子形成層、13…無機反射層、14…接着層、20…被転写基材、21…熱圧、22…熱圧を加えた領域、23…熱圧、30…カード媒体、111…剥離部、112…密着部。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
フィルム又はシート状の基材と、この基材の一方の面に所要の間隔をもって形成されるアンカー層と、このアンカー層を含む前記基材の一方の面に積層される光を回折するホログラム及び回折格子の少なくとも一種類を含む回折構造形成層と、この回折構造形成層の上面に順次積層される無機反射層及び前記アンカー層よりも接着力の弱い接着層とを備え、
前記被転写基材の上面に前記接着層の面が対峙され、かつ前記基材が上側となるように配置して熱転写する際、前記基材から前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが剥離されて前記被転写基材に転写される剥離部と、前記アンカー層を介して前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが前記基材に残存する密着部とを有することを特徴とするホログラムオーバーレイ。 In hologram overlay used for thermal transfer of thermoplastic resin to the substrate to be transferred,
A film or sheet-like substrate, an anchor layer formed on one surface of the substrate with a predetermined interval, a hologram for diffracting light laminated on one surface of the substrate including the anchor layer, and A diffractive structure forming layer including at least one kind of diffraction grating, an inorganic reflective layer sequentially laminated on the upper surface of the diffractive structure forming layer, and an adhesive layer having a lower adhesive strength than the anchor layer,
When the surface of the adhesive layer is opposed to the upper surface of the substrate to be transferred, and the substrate is placed on the upper side and thermally transferred, the diffraction structure forming layer, the inorganic reflective layer, and the A peeling part that peels off the adhesive layer and is transferred to the substrate to be transferred, and an adhesion part where the diffraction structure forming layer, the inorganic reflective layer, and the adhesive layer remain on the base material via the anchor layer And a hologram overlay.
フィルム又はシート状の基材と、この基材の一方の面に形成されるアンカー層と、このアンカー層の面上に選択的に施される剥離層と、この剥離層を含む前記アンカー層の面に積層される光を回折するホログラム及び回折格子の少なくとも一種類を含む回折構造形成層と、この回折構造形成層の上面に順次積層される無機反射層及び前記アンカー層よりも接着力の弱い接着層とを備え、
前記被転写基材の上面に前記接着層の面が対峙され、かつ前記基材が上側となるように配置して熱転写する際、前記基材から前記剥離層を介して前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが剥離されて前記被転写基材に転写される剥離部と、前記剥離層を除く領域に位置する前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とが前記基材に残存する密着部とを有することを特徴とするホログラムオーバーレイ。 In hologram overlay used for thermal transfer of thermoplastic resin to the substrate to be transferred,
A film- or sheet-like substrate, an anchor layer formed on one surface of the substrate, a release layer selectively applied on the surface of the anchor layer, and the anchor layer including the release layer A diffractive structure forming layer including at least one of a hologram and a diffraction grating that diffracts the light laminated on the surface, and an inorganic reflective layer and an anchor layer that are sequentially laminated on the upper surface of the diffractive structure forming layer and have a lower adhesion With an adhesive layer,
When the surface of the adhesive layer is opposed to the upper surface of the substrate to be transferred and the substrate is placed on the upper side and thermally transferred, the diffraction structure forming layer and the layer are separated from the substrate via the release layer. A peeling part from which the inorganic reflective layer and the adhesive layer are peeled off and transferred to the substrate to be transferred; the diffraction structure forming layer located in a region excluding the peeled layer; the inorganic reflective layer; and the adhesive layer; Having a close contact portion remaining on the substrate.
証券、カード媒体、認証媒体及び冊子などの少なくとも一部の領域が前記被転写基材で構成され、この被転写基材に前記基材に積層されている前記回折構造形成層と前記無機反射層と前記接着層とからなる剥離部を熱転写することを特徴とするホログラムオーバーレイ。 In the hologram overlay according to any one of claims 1 to 5,
The diffractive structure forming layer and the inorganic reflective layer in which at least a part of areas such as securities, card media, authentication media, and booklets are composed of the substrate to be transferred, and are laminated on the substrate to be transferred. A hologram overlay characterized by thermally transferring a peeled portion comprising the adhesive layer and the adhesive layer.
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JPS6296672U (en) * | 1985-12-05 | 1987-06-19 | ||
JPH07191595A (en) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Toppan Printing Co Ltd | Transparent hologram transfer foil |
JPH09244519A (en) * | 1996-03-08 | 1997-09-19 | Toppan Printing Co Ltd | Hologram brittle seal |
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