JP2014211529A - Optical subcarrier generation device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光OFDM(Orthogonal Frequency Division Multiplexing)における光サブキャリアを平坦化する光サブキャリア生成装置に関する。 The present invention relates to an optical subcarrier generation apparatus that flattens optical subcarriers in optical OFDM (Orthogonal Frequency Division Multiplexing).
近年、光ファイバ通信システムでは、数テラビット/秒から数十テラビット/秒までの総伝送容量を可能とする波長分割多重光の伝送システム、およびデバイスの研究開発が行われている。光ファイバ通信で用いられている「0」または「1」のみの強度の信号を用いるバイナリ伝送による強度変調方式や直接検波方式の場合、40ギガビット/秒や100ギガビット/秒といった高速化に伴い、送信信号の光スペクトルが広がり、その結果、分散耐性が急激に劣化するだけでなく、周波数利用効率の低下やネットワークの柔軟性を低下させる要因となっている。これは、波長分割多重におけるチャネル間クロストークを避けるために、波長間隔を広く確保する必要があることなどが要因であると考えられる。そこで、1チャネルあたりの周波数帯域を占有せずにビットレートを増大させる方法として、変調方式の多値化や多重化などの技術が重要になっている。 In recent years, in optical fiber communication systems, research and development of wavelength division multiplexing optical transmission systems and devices that enable a total transmission capacity from several terabits / second to several tens of terabits / second have been performed. In the case of the intensity modulation method by binary transmission using the signal of only “0” or “1” used in optical fiber communication and the direct detection method, with the speeding up of 40 gigabit / second or 100 gigabit / second, As a result, the optical spectrum of the transmission signal spreads, and as a result, not only the dispersion tolerance is rapidly deteriorated, but also the frequency utilization efficiency and the flexibility of the network are reduced. This is considered to be due to the fact that it is necessary to ensure a wide wavelength interval in order to avoid crosstalk between channels in wavelength division multiplexing. Therefore, as a method for increasing the bit rate without occupying the frequency band per channel, techniques such as multi-level modulation and multiplexing have become important.
分散耐性の向上と周波数利用効率を高めるための技術として、直交周波数分割多重方式(OFDM:Orthogonal Frequency Division Multiplexing)が有望視されている。OFDM方式は、マルチキャリア伝送方式の一種で、各々のサブキャリアが直交関係となるような条件の下で多重化することにより、サブキャリア間の変調スペクトルのオーバーラップに対して、受信端で分離と復調が可能なことから、移動体無線通信などのワイヤレス伝送において実用化されている。直交周波数分割多重方式では、単一キャリアの伝送の場合と比べて、サブキャリアあたりのビットレートを1/N(N:光サブキャリア数)に低速化が可能となる。このため、直交周波数分割多重方式を光ファイバ通信に適用することで、各サブキャリアの送信信号のスペクトル広がりを抑圧し、光ファイバの波長分散や偏波モード分散に起因する伝送容量の制限を緩和することができる。 Orthogonal frequency division multiplexing (OFDM) is promising as a technique for improving dispersion tolerance and increasing frequency utilization efficiency. The OFDM system is a type of multi-carrier transmission system that multiplexes under conditions that each subcarrier has an orthogonal relationship, thereby separating the modulation spectrum between subcarriers at the receiving end. Therefore, it has been put to practical use in wireless transmission such as mobile radio communication. In the orthogonal frequency division multiplexing system, the bit rate per subcarrier can be reduced to 1 / N (N: the number of optical subcarriers) as compared with the case of single carrier transmission. For this reason, by applying orthogonal frequency division multiplexing to optical fiber communications, the spectrum spread of the transmission signal of each subcarrier is suppressed, and restrictions on transmission capacity due to optical fiber chromatic dispersion and polarization mode dispersion are alleviated. can do.
直交周波数分割多重方式を光ファイバ通信システムに応用する手段として、電気処理によって生成されたOFDMベースバンド信号を用いて光変調器を駆動する方式が知られている(非特許文献1)。 As a means for applying the orthogonal frequency division multiplexing method to an optical fiber communication system, a method of driving an optical modulator using an OFDM baseband signal generated by electrical processing is known (Non-Patent Document 1).
また、光の領域で光直交サブキャリアを生成し、各々のサブキャリアを強度変調又は位相変調する方法も知られている(特許文献1、2)。光のサブキャリアをそれぞれ、電気処理によって生成されたOFDMベースバンド信号を用いて変調し、さらには、光波長帯域毎にOFDM方式を用いることで、光ファイバ通信およびワイヤレス通信のフレキシブルな接続が期待できる。このように、光サブキャリアを搬送波として積極的に使用する手法では、光サブキャリア毎にどのような変調を行うかフレキシブルに決定されるだけでなく、必要な情報量を送信するために必要な帯域(光サブキャリア数)を確保し適切に変調を行うことで、ネットワークの柔軟性の向上を可能とする。 Also known is a method of generating optical orthogonal subcarriers in the light region and intensity-modulating or phase-modulating each subcarrier (Patent Documents 1 and 2). Optical subcarriers are modulated using OFDM baseband signals generated by electrical processing, and by using the OFDM method for each optical wavelength band, flexible connection of optical fiber communication and wireless communication is expected. it can. As described above, in the method of actively using an optical subcarrier as a carrier wave, it is not only flexible to determine what modulation is performed for each optical subcarrier, but also necessary for transmitting a necessary amount of information. By ensuring the bandwidth (number of optical subcarriers) and performing appropriate modulation, network flexibility can be improved.
光サブキャリアの最も単純な生成方法として、複数のレーザ光源を高精度に発振周波数(波長)を制御することも可能であるが、周波数間隔(波長間隔)が重要となる光OFDMについては、各々の周波数(波長)を精度よく合わせることは困難となる。 As the simplest generation method of optical subcarriers, it is possible to control the oscillation frequency (wavelength) of multiple laser light sources with high accuracy. However, for optical OFDM where the frequency interval (wavelength interval) is important, It is difficult to accurately match the frequencies (wavelengths).
一方で、光変調器を駆動して変調側波帯を利用するものや,光共振器の強制モード同期を用いる等といった手法で周波数スペクトルを光サブキャリアとして利用する方法がある(非特許文献2、3、4)。これらの方法では、光変調器を正弦波の電気信号で駆動することにより、変調周波数と同じ周波数間隔で変調側波帯が生成される。このため、周波数間隔を精度よく光サブキャリアを生成することができ、複数のレーザ光源を用いる方法と比べて、光OFDM用の光サブキャリア生成に適している。 On the other hand, there are methods that use an optical modulator to use a modulation sideband, and methods that use a frequency spectrum as an optical subcarrier by techniques such as using forced mode locking of an optical resonator (Non-Patent Document 2). 3, 4). In these methods, a modulation sideband is generated at the same frequency interval as the modulation frequency by driving the optical modulator with a sinusoidal electric signal. For this reason, it is possible to generate optical subcarriers with a high frequency interval, which is suitable for optical subcarrier generation for optical OFDM as compared with a method using a plurality of laser light sources.
光サブキャリアの各々のスペクトルの強度が一定になるのは、伝送システムを構築する際の光信号の等化増幅や受信感度等の点から、受信系に適した送信信号を生成するために必要となる。非特許文献2に開示の方法では、光位相変調器と光強度変調器とを併用し、同じ変調周波数の同期信号でそれぞれ駆動する。そして、初段の光位相変調器で生成された変調側波帯を後段に接続された光強度変調器で強度変調し、相互に周波数スペクトルを干渉させることにより、光強度が一定になるようになっている。この方法により、平坦性の良い光サブキャリアを生成することは可能であるが、光位相変調器と光強度変調器とを直結した同期駆動が不可欠となるため、装置の構成が複雑となる。 The spectrum intensity of each optical subcarrier must be constant to generate a transmission signal suitable for the receiving system from the viewpoint of equalization amplification and reception sensitivity of the optical signal when constructing the transmission system It becomes. In the method disclosed in Non-Patent Document 2, an optical phase modulator and an optical intensity modulator are used together, and each is driven by a synchronization signal having the same modulation frequency. Then, the modulation sideband generated by the optical phase modulator at the first stage is intensity-modulated by the optical intensity modulator connected at the subsequent stage, and the light spectrum is made constant by interfering the frequency spectrum with each other. ing. Although it is possible to generate optical subcarriers with good flatness by this method, since synchronous driving in which the optical phase modulator and the optical intensity modulator are directly connected is indispensable, the configuration of the apparatus becomes complicated.
非特許文献4に開示の方法では、単一のマッハツェンダ型光変調器を用いて、それぞれのマッハツェンダのアーム上に形成されている光位相変調器を異なる大きさの振幅電圧の正弦波信号で駆動する。これにより、マッハツェンダの出力合波端で各々の変調スペクトルをベクトル的に合成し、これによって光強度を一定とするようになっている。この方法では、非特許文献2に記載されているような2つの光変調器が不用となり、また同期駆動も不用となる。しかし、各位相変調器が異なる大きさの振幅電圧で駆動するために、電気アンプや減衰器等、電圧調整するための装置が2つ必要となるため、非特許文献2の装置においても装置規模が大きくなる。 In the method disclosed in Non-Patent Document 4, a single Mach-Zehnder type optical modulator is used to drive an optical phase modulator formed on each Mach-Zehnder arm with sinusoidal signals having different amplitude voltages. To do. As a result, the modulation spectra are combined in a vector-like manner at the output multiplexing end of the Mach-Zehnder, thereby making the light intensity constant. In this method, two optical modulators as described in Non-Patent Document 2 are unnecessary, and synchronous driving is also unnecessary. However, since each phase modulator is driven with an amplitude voltage having a different magnitude, two devices for adjusting the voltage, such as an electric amplifier and an attenuator, are required. Becomes larger.
図1は非特許文献5に開示の装置の構成を示している。この装置100は、CW光源101、偏光制御器102、光位相変調器103、正弦波信号源104、電気合波器105、位相シフタ106および正弦波信号源107を備える。正弦波信号源104,107は、互いに異なる振幅および変調周波数を有する正弦波信号を供給する。この装置100では、単一の光位相変調器103が、振幅および変調周波数の異なる2つの正弦波信号に基づいて同期駆動することにより、出力スペクトルの強度が一定となるようになっている。この場合、単一の光変調器103を用いるため、非特許文献2,4に示したものと比較して、変調器103の構成は簡易化できる。一方、特許文献2,4に示したものと同様に、変調器を駆動するための構成は複雑になる。 FIG. 1 shows the configuration of an apparatus disclosed in Non-Patent Document 5. The apparatus 100 includes a CW light source 101, a polarization controller 102, an optical phase modulator 103, a sine wave signal source 104, an electric multiplexer 105, a phase shifter 106, and a sine wave signal source 107. The sine wave signal sources 104 and 107 supply sine wave signals having different amplitudes and modulation frequencies. In this apparatus 100, the intensity of the output spectrum is made constant by a single optical phase modulator 103 being driven synchronously based on two sine wave signals having different amplitudes and modulation frequencies. In this case, since the single optical modulator 103 is used, the configuration of the modulator 103 can be simplified as compared with those shown in Non-Patent Documents 2 and 4. On the other hand, the configuration for driving the modulator is complicated as in the case of Patent Documents 2 and 4.
非特許文献2〜5に共通の課題として、CW光を発生する光源が変調器とは別に外部に用意する必要がある。そのため、外部光源だけでなく、光源および光変調器を最適な偏光状態で接続するための偏光制御器も必要となり、その結果、光サブキャリア生成器の全体構成が複雑になる。 As a problem common to Non-Patent Documents 2 to 5, it is necessary to prepare a light source for generating CW light outside the modulator. For this reason, not only an external light source but also a polarization controller for connecting the light source and the optical modulator in an optimal polarization state is required, and as a result, the overall configuration of the optical subcarrier generator is complicated.
上述したように従来の装置では、光サブキャリアの強度を一定にするように構成されているものの、複数の光源が必要となるため、構成が複雑となる。 As described above, the conventional apparatus is configured to make the intensity of the optical subcarrier constant. However, since a plurality of light sources are required, the configuration is complicated.
本発明は、このような状況下においてなされたものであり、従来に比べてより簡易な構成とし、光サブキャリアの強度を一定とする光サブキャリア生成装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made under such circumstances, and it is an object of the present invention to provide an optical subcarrier generation apparatus that has a simpler configuration than that of the prior art and has a constant optical subcarrier intensity.
上記問題を解決するために、本発明は、光サブキャリア生成装置であって、単一の正弦波信号電源と、バイアス電圧源と、前記単一の正弦波信号電源から印加される正弦波信号に応じて光サブキャリアを生成する少なくとも1つの光位相変調器であって、前記光サブキャリアは、当該サブキャリアの強度が平坦となるように、前記バイアス電圧源からのバイアス電圧に応じて調整される、光位相変調器とを含む。 In order to solve the above-described problem, the present invention provides an optical subcarrier generation apparatus, which includes a single sine wave signal power source, a bias voltage source, and a sine wave signal applied from the single sine wave signal power source. And at least one optical phase modulator that generates an optical subcarrier in response to a bias voltage from the bias voltage source so that the intensity of the subcarrier is flat. And an optical phase modulator.
ここで、前記光位相変調器は、前記印加される正弦波信号に対して位相変調量が非線形に変化するように構成するようにしてもよい。 Here, the optical phase modulator may be configured such that a phase modulation amount changes nonlinearly with respect to the applied sine wave signal.
前記光位相変調器の動作条件として、前記光位相変調器において変化する位相の基本波成分が0.45π〜0.55πで与えられ、かつ、前記位相の非線形成分が1.5π以上で与えられるように、前記バイアス電圧の値が設定されるようにしてもよい。 As the operating condition of the optical phase modulator, the fundamental wave component of the phase changing in the optical phase modulator is given by 0.45π to 0.55π, and the nonlinear component of the phase is given by 1.5π or more. As described above, the value of the bias voltage may be set.
前記光サブキャリア生成装置はさらに、光源と、前記光源からの光信号を増幅して前記光位相変調器に出力する光増幅器とを含み、前記光源、前記光増幅器、および、前記光位相変調器は、同一の半導体基板上に構成するようにしてもよい。 The optical subcarrier generation apparatus further includes a light source and an optical amplifier that amplifies an optical signal from the light source and outputs the amplified optical signal to the optical phase modulator, and the light source, the optical amplifier, and the optical phase modulator May be configured on the same semiconductor substrate.
前記光源は、連続光源または波長可変光源としてもよい。 The light source may be a continuous light source or a wavelength tunable light source.
前記光サブキャリア生成装置はさらに、複数の光源と、前記複数の光源からの光信号を合波する合波器と、
前記合波器の出力を増幅して前記位相変調器に出力する光増幅器とを含み、前記複数の光源、前記合波器、前記光増幅器、および、前記光位相変調器は、同一の半導体基板上に構成するようにしてもよい。
The optical subcarrier generation apparatus further includes a plurality of light sources, a multiplexer that multiplexes optical signals from the plurality of light sources,
An optical amplifier that amplifies the output of the multiplexer and outputs it to the phase modulator, and the plurality of light sources, the multiplexer, the optical amplifier, and the optical phase modulator are on the same semiconductor substrate You may make it comprise above.
前記光サブキャリア生成装置はさらに、複数の光源と、前記複数の光源の各々からの光信号を増幅して各光位相変調器に出力する複数の光増幅器と、前記各光位相変調器の出力を合波する合波器とを含み、前記複数の光源、前記複数の光増幅器、前記各光位相変調器、および、前記合波器は、同一の半導体基板上に構成するようにしてもよい。 The optical subcarrier generation apparatus further includes a plurality of light sources, a plurality of optical amplifiers that amplify optical signals from each of the plurality of light sources and output to each optical phase modulator, and an output of each optical phase modulator The plurality of light sources, the plurality of optical amplifiers, the optical phase modulators, and the multiplexer may be configured on the same semiconductor substrate. .
本発明によれば、より簡易な構成で光サブキャリアの強度を一定とすることができる。 According to the present invention, the intensity of the optical subcarrier can be made constant with a simpler configuration.
<第1実施形態>
以下、本発明の光サブキャリア生成装置の第1実施形態について説明する。図2は、本実施形態のサブキャリア生成装置10の構成例を示す図である。
<First Embodiment>
Hereinafter, a first embodiment of the optical subcarrier generating apparatus of the present invention will be described. FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of the subcarrier generation apparatus 10 of the present embodiment.
この光サブキャリア生成装置10は、平坦な強度特性を有する光サブキャリアからなるOFDM信号を生成する。図2に示すように、光サブキャリア生成装置10は、レーザ光としての例えばCW(Continuous Wave)光を生成するCW光源111と、このCW光を位相変調する位相変調器112と、単一の周波数を有する正弦波信号を生成して位相変調器に印加する正弦波信号光源12と、バイアス信号としての直流電圧を生成して位相変調器112に与える直流電圧源(バイアス電圧源)13とを備える。この光サブキャリア生成装置10では、位相変調器112の変調は、CW光源111のみによって行われるのではなく、直流電圧源13によって光サブキャリアの強度が一定になるように調整可能となっている。 The optical subcarrier generation apparatus 10 generates an OFDM signal composed of optical subcarriers having flat intensity characteristics. As shown in FIG. 2, the optical subcarrier generation device 10 includes a CW light source 111 that generates, for example, CW (Continuous Wave) light as laser light, a phase modulator 112 that performs phase modulation on the CW light, A sine wave signal light source 12 that generates a sine wave signal having a frequency and applies the sine wave signal to the phase modulator, and a DC voltage source (bias voltage source) 13 that generates a DC voltage as a bias signal and applies the same to the phase modulator 112. Prepare. In this optical subcarrier generation device 10, the modulation of the phase modulator 112 is not performed only by the CW light source 111 but can be adjusted by the DC voltage source 13 so that the intensity of the optical subcarrier becomes constant. .
なお、図2において、CW光源111および位相変調器112は、半導体基板11上にモノシリックに集積されて構成される。 In FIG. 2, the CW light source 111 and the phase modulator 112 are configured to be monolithically integrated on the semiconductor substrate 11.
位相変調器112は、例えば量子井戸などの低次元半導体構造を有し、正弦波信号光源12からの電圧印加に応じて、CW光源111からのCW光の位相変調を行う。本実施形態の位相変調器112は、電気光学効果に加えて、光吸収誘起の屈折率変化を用いた電圧および位相の非線形特性を有するようになっている。 The phase modulator 112 has a low-dimensional semiconductor structure such as a quantum well, for example, and performs phase modulation of CW light from the CW light source 111 in accordance with voltage application from the sine wave signal light source 12. The phase modulator 112 of the present embodiment has a non-linear characteristic of voltage and phase using light absorption-induced refractive index change in addition to the electro-optic effect.
図3は、位相変調器112における印加電圧と位相との関係を説明するための図であって、(a)は印加電圧と位相シフトとの関係、(b)は時間と電圧との関係、(c)は時間と位相シフトとの関係、を示す。 FIG. 3 is a diagram for explaining the relationship between the applied voltage and the phase in the phase modulator 112, where (a) is the relationship between the applied voltage and the phase shift, (b) is the relationship between time and the voltage, (C) shows the relationship between time and phase shift.
図3(a)に示すように、位相シフトが変化するのは、印加電圧の値が0よりも大きい場合である。この場合には、印加電圧の値に対して位相シフトは非線形に増大する。一方、印加電圧が0以下の場合には、位相は変化せず、電圧の値にかかわらず0である。 As shown in FIG. 3A, the phase shift changes when the value of the applied voltage is greater than zero. In this case, the phase shift increases nonlinearly with respect to the value of the applied voltage. On the other hand, when the applied voltage is 0 or less, the phase does not change and is 0 regardless of the voltage value.
図3(b)および図3(c)において、電圧極性が反転する領域では、位相変化が生じないようになっている。 In FIG. 3B and FIG. 3C, no phase change occurs in the region where the voltage polarity is reversed.
一般に、図3に示したような位相特性は、外部の正弦波信号電圧12からの電圧印加による電気光学効果に加えて、位相変調器112の光吸収係数の変化によって生じる光吸収誘起の屈折率変化により得られることが知られている。図2(c)に示した位相φ(t)は、下記式(1)によって表される。
φ(t)=C1V(t)+C2V2(t) (1)
In general, the phase characteristic as shown in FIG. 3 has a light absorption-induced refractive index caused by a change in the light absorption coefficient of the phase modulator 112 in addition to the electro-optic effect caused by voltage application from the external sine wave signal voltage 12. It is known to be obtained by change. The phase φ (t) shown in FIG. 2C is expressed by the following formula (1).
φ (t) = C 1 V (t) + C 2 V 2 (t) (1)
なお、式(1)において、C1:任意係数、C2:任意係数、V:印加電圧(V>0)、を示す。 In equation (1), C1: arbitrary coefficient, C2: arbitrary coefficient, and V: applied voltage (V> 0) are shown.
図3(a)に示したように、V<0の場合の位相φ(t)は、V自体の値にかかわらず0である。 As shown in FIG. 3A, the phase φ (t) when V <0 is 0 regardless of the value of V itself.
式(1)において、位相変化は、印加電圧に対して一方向にのみ生じる。これは、図3(b)および図3(c)に示したように、ある特定のバイアス方向の電圧に対しては位相変化が生じることになるが、反転方向では位相変化が生じないようになることを意味する。 In equation (1), the phase change occurs only in one direction with respect to the applied voltage. As shown in FIGS. 3B and 3C, this causes a phase change for a voltage in a specific bias direction, but prevents a phase change in the inversion direction. It means to become.
ここで、式(1)において、電圧V(t)は、バイアス電圧Vbと、振幅電圧Vmと、変調角周波数ωmとが与えられて、下記式(2)によって表される。 Here, in the formula (1), voltage V (t) and the bias voltage V b, the amplitude voltage V m, given modulation angular frequency omega m is represented by the following formula (2).
V(t)が与えられたときの位相変調器112における位相変化は、下記式(3)によって表される。 The phase change in the phase modulator 112 when V (t) is given is expressed by the following equation (3).
上記式(3)から分かるように、正弦波信号の駆動によって、ωmに加えて、2次高調波成分2ωmの効果による非線形な位相シフトが同時に生じる。 As can be seen from the above equation (3), by the driving of the sinusoidal signal, omega in addition to m, the nonlinear phase shift due to the effect of the second harmonic component 2 [omega m occurs at the same time.
上記式(3)において、右辺の第1項〜第3項に関して、バイアス成分φdc1と、位相変調振幅成分としての基本波成分φmおよび非線形成分φnlとに分けると、下記式(4)によって表される。 In the above equation (3), the first to third terms on the right side are divided into a bias component φ dc1 , a fundamental wave component φ m as a phase modulation amplitude component, and a nonlinear component φ nl , and the following equation (4) Represented by
この観点から、本実施形態の位相変調器112では、直流電圧源13からのバイアス電圧によって、位相変調振幅を調整し、さらには、振幅電圧によって、非線形成分の位相変調振幅を調整するようにしている。具体的には、上記式(1)で説明したように、電圧極性が反転する領域では位相変化が生じないため、位相変化の時間波形をバイアス電圧Vbで可変して位相変化の時間波形を制御することによって、光スペクトル上において強度が一定となるように調整している。 From this point of view, the phase modulator 112 of the present embodiment adjusts the phase modulation amplitude by the bias voltage from the DC voltage source 13, and further adjusts the phase modulation amplitude of the nonlinear component by the amplitude voltage. Yes. Specifically, as described in the above equation (1), since no phase change occurs in the region where the voltage polarity is reversed, the time waveform of the phase change is changed by varying the time waveform of the phase change with the bias voltage Vb. By controlling, the intensity is adjusted to be constant on the optical spectrum.
位相変調器112において、入力Einと出力EOUTとの関係は、下記式(5)によって表される。 In the phase modulator 112, the relationship between the input E in and the output E OUT is expressed by the following equation (5).
ここで、上記式(5)に上記式(3)および式(4)を代入、第一種ベッセル関数を用いて整理すると、下記式(6)によって表される。 Here, when the above equations (3) and (4) are substituted into the above equation (5) and rearranged using the first-type Bessel function, the following equation (6) is obtained.
上記式(6)において、k番目のスペクトル強度、すなわち、光サブキャリアの強度Ikは、下記式(7)によって表される。 In the above equation (6), the k-th spectral intensity, that is, the optical subcarrier intensity Ik is expressed by the following equation (7).
位相変調器112において、上記式(4)に示した振幅電圧Vmが与えられた場合には、バイアス電圧Vbを調整することによって、任意に位相変調振幅φmが制御される。この場合にバイアス電圧Vbがとる値は、下記式(8)によって表わされる。 In the phase modulator 112, when the amplitude voltage V m shown in the above formula (4) is given, by adjusting the bias voltage V b, optionally a phase modulation amplitude phi m is controlled. In this case, the value taken by the bias voltage Vb is expressed by the following equation (8).
このように、位相変調器112によれば、バイアス電圧Vbを調整することによって、位相変調振幅は、上記式(4)で示したように、単一の振幅電圧下で制御される。これにより、位相変調器112では、バイアス電圧のみの調整で、光スペクトルの強度が一定となるように光スペクトルが平坦化される。 As described above, according to the phase modulator 112, by adjusting the bias voltage Vb , the phase modulation amplitude is controlled under a single amplitude voltage as shown in the above equation (4). Thereby, in the phase modulator 112, the optical spectrum is flattened so that the intensity of the optical spectrum becomes constant by adjusting only the bias voltage.
なお、光サブキャリアの周波数間隔は、正弦波信号源12によって与えられる正弦波信号の周波数によって決定される。 The frequency interval of the optical subcarrier is determined by the frequency of the sine wave signal provided by the sine wave signal source 12.
上記光サブキャリア生成装置10の構成によって、位相変調器112が生成する光サブキャリアは、図4に示すようなスペクトル分布をとる。 Depending on the configuration of the optical subcarrier generation apparatus 10, the optical subcarrier generated by the phase modulator 112 has a spectrum distribution as shown in FIG.
図4は、光サブキャリアのスペクトル分布を説明するための図であって、(a)はバイアス電圧Vbの調整によって平坦化が行われた場合の光サブキャリア、(b)はバイアス電圧Vbを変化させて位相変調振幅φmを変化させた場合の光サブキャリア、を示す。 Figure 4 is a view for explaining the spectral distribution of the optical subcarrier, (a) shows the optical subcarrier when flattening is performed by adjusting the bias voltage V b, (b) the bias voltage V b changing the by indicating the optical subcarriers in the case of changing the phase modulation amplitude phi m.
図4(a)において、例えば、サブキャリア数が10本の場合、強度の最大値と最小値との差から、光サブキャリアの平坦度を定義すると、この場合の平坦度は、0.1dBとなる。 In FIG. 4A, for example, when the number of subcarriers is 10, when the flatness of the optical subcarrier is defined from the difference between the maximum value and the minimum value, the flatness in this case is 0.1 dB. It becomes.
一方、バイアス電圧Vbを変化させて位相変調振幅φmを変化させた場合の平坦度は、図4(b)に示す値から、10dB以上の値となる。この場合、強度揺らぎは大きくなる。 On the other hand, the flatness in the case of varying the bias voltage V b by changing the phase modulation amplitude phi m is the value shown in FIG. 4 (b), a value of more than 10 dB. In this case, the intensity fluctuation increases.
ここで、光サブキャリア数が10本の場合において、基本成分の位相変調振幅φmおよび非線形成分(非線形項ともいう。)φnlをパラメータとして与えて、2dB以下の上記平坦度を定義する。この場合、上記式(8)から、振幅電圧Vmが与えられた場合のφnlが決定され、さらには、バイアス電圧Vbが与えられてφmが決定される。このようにして、φm,φnlのパラメータが与えられるが、これらのパラメータは、図5および図6に示すような値をとる。 Here, when the number of optical subcarriers is 10, the basic component phase modulation amplitude φ m and nonlinear component (also referred to as nonlinear term) φ nl are given as parameters to define the flatness of 2 dB or less. In this case, from the above equation (8), φ nl when the amplitude voltage V m is given is determined, and furthermore, the bias voltage V b is given to determine φ m . In this way, the parameters φ m and φ nl are given, and these parameters take values as shown in FIGS.
図5は、位相変調振幅φmと非線形項φnlとの関係を説明するための図である。図6は、図5に示した関係の一部を拡大した図である。 FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the phase modulation amplitude φ m and the nonlinear term φ nl . FIG. 6 is an enlarged view of a part of the relationship shown in FIG.
図5および図6において、上記平坦度が2dBよりも大きい部分は白色で表してある。図5および図6から、2dB以下の平坦度の場合は、例えば、φm=0.45π〜0.55π、φnl=1.5πの場合である。換言すれば、この場合の位相変調器112の動作条件として、φm=0.45π〜0.55π、およびφnl=1.5πとなるように、バイアス電圧Vbが設定される。 In FIG. 5 and FIG. 6, the portion where the flatness is larger than 2 dB is represented in white. 5 and 6, the flatness of 2 dB or less is, for example, the case of φ m = 0.45π to 0.55π and φ nl = 1.5π. In other words, as the operating condition of the phase modulator 112 in this case, the bias voltage V b is set so that φ m = 0.45π to 0.55π and φ nl = 1.5π.
以上説明したように、本実施形態の光サブキャリア生成装置10によれば、単一の正弦波信号電源12から印加される正弦波信号、および、直流電圧源13から与えられるバイアス電圧に応じて、位相変調器112の動作により光サブキャリアが生成される。すなわち、位相変調器112では、バイアス電圧源からのバイアス電圧に応じて、サブキャリアの強度を調整してサブキャリアを平坦化してサブキャリアの強度が一定になるようにする。したがって、正弦波信号源12からの単一の周波数を有する振幅電圧を位相変調器112に対して印加してバイアス電圧を調整することが可能になるため、光サブキャリア生成装置10自体を簡易な構成とすることができる。 As described above, according to the optical subcarrier generation device 10 of the present embodiment, the sine wave signal applied from the single sine wave signal power supply 12 and the bias voltage applied from the DC voltage source 13 are used. The optical subcarrier is generated by the operation of the phase modulator 112. That is, the phase modulator 112 adjusts the subcarrier intensity according to the bias voltage from the bias voltage source to flatten the subcarrier so that the subcarrier intensity becomes constant. Therefore, the bias voltage can be adjusted by applying an amplitude voltage having a single frequency from the sine wave signal source 12 to the phase modulator 112, so that the optical subcarrier generator 10 itself can be simplified. It can be configured.
<第2実施形態>
第2実施形態の光サブキャリア生成装置は、光信号の伝搬により生じる損失を補償するため、光増幅器を備えるように構成されている。
Second Embodiment
The optical subcarrier generating apparatus of the second embodiment is configured to include an optical amplifier in order to compensate for a loss caused by propagation of an optical signal.
図7は、第2実施形態の光サブキャリア生成装置20の構成例を示す図である。この光サブキャリア生成装置20は、CW光源211と、光増幅器212と、位相変調器213と、正弦波信号光源22と、直流電圧源23とを備える。なお、CW光源211、位相変調器213、正弦波信号光源22および直流電圧源23は、それぞれ、図2に示したCW光源111、位相変調器112、正弦波信号光源12および直流電圧源13の構成と同様である。 FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration example of the optical subcarrier generation device 20 according to the second embodiment. The optical subcarrier generation device 20 includes a CW light source 211, an optical amplifier 212, a phase modulator 213, a sine wave signal light source 22, and a DC voltage source 23. Note that the CW light source 211, the phase modulator 213, the sine wave signal light source 22 and the DC voltage source 23 are respectively the CW light source 111, the phase modulator 112, the sine wave signal light source 12 and the DC voltage source 13 shown in FIG. The configuration is the same.
光増幅器212は、CW光を増幅して位相変調器213に出力するように構成されている。なお、図7において、CW光源211、光増幅器212および位相変調器213は、半導体基板21上にモノシリックに集積されて構成される。光増幅器212によって、位相変調器213に入力する光パワーを大きくすることができるので、位相変調器213では、光サブキャリアの出力強度を大きくすることができる。この実施形態では、光増幅器212への入力光は、例えばCW光であるため、光増幅器212を透過することにより生じる光変調スペクトルに影響はないため、位相変調器213の駆動により光サブキャリアの平坦化が実現する。 The optical amplifier 212 is configured to amplify the CW light and output it to the phase modulator 213. In FIG. 7, the CW light source 211, the optical amplifier 212, and the phase modulator 213 are monolithically integrated on the semiconductor substrate 21. Since the optical power input to the phase modulator 213 can be increased by the optical amplifier 212, the phase modulator 213 can increase the output intensity of the optical subcarrier. In this embodiment, since the input light to the optical amplifier 212 is, for example, CW light, there is no effect on the optical modulation spectrum generated by passing through the optical amplifier 212. Flattening is realized.
<第3実施形態>
第3実施形態の光サブキャリア生成装置は、CWレーザを使用するのではなく、波長可変レーザを使用するように構成されている。
<Third Embodiment>
The optical subcarrier generating apparatus of the third embodiment is configured to use a wavelength tunable laser instead of using a CW laser.
図8は、第3実施形態の光サブキャリア生成装置30の構成例を示す図である。この光サブキャリア生成装置30は、波長可変光源311と、光増幅器312と、位相変調器313と、正弦波信号光源32と、直流電圧源33とを備える。なお、光増幅器312、位相変調器313、正弦波信号光源32および直流電圧源33は、それぞれ、図7に示した光増幅器212、位相変調器212、正弦波信号光源22および直流電圧源23の構成と同様である。 FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration example of the optical subcarrier generation device 30 according to the third embodiment. The optical subcarrier generating apparatus 30 includes a wavelength tunable light source 311, an optical amplifier 312, a phase modulator 313, a sine wave signal light source 32, and a DC voltage source 33. The optical amplifier 312, the phase modulator 313, the sine wave signal light source 32, and the DC voltage source 33 are respectively the optical amplifier 212, the phase modulator 212, the sine wave signal light source 22, and the DC voltage source 23 shown in FIG. The configuration is the same.
波長可変光源311は、波長可変レーザを生成するように構成されている。なお、図8において、波長可変光源311、光増幅器312および位相変調器313は、半導体基板31上にモノシリックに集積されて構成される。これにより、光サブキャリア生成装置30の小型化が実現する。 The wavelength variable light source 311 is configured to generate a wavelength variable laser. In FIG. 8, the variable wavelength light source 311, the optical amplifier 312, and the phase modulator 313 are configured to be monolithically integrated on the semiconductor substrate 31. Thereby, miniaturization of the optical subcarrier generation device 30 is realized.
光サブキャリア生成装置30では、波長可変レーザを用いることによって、光サブキャリアの中心周波数を可変することができる。これにより、例えば、波長多重(WDM:Wavelength Division Multiplexing)伝送において、WDMグリッド内に収容されるように特定の周波数帯域にサブキャリア間隔を設定することができるようになる。 In the optical subcarrier generation device 30, the center frequency of the optical subcarrier can be varied by using a wavelength tunable laser. Thereby, for example, in wavelength division multiplexing (WDM) transmission, the subcarrier interval can be set in a specific frequency band so as to be accommodated in the WDM grid.
<第4実施形態>
第4実施形態の光サブキャリア生成装置は、広光周波数帯域を有する光サブキャリアを生成するように構成されている。
<Fourth embodiment>
The optical subcarrier generation device according to the fourth embodiment is configured to generate optical subcarriers having a wide optical frequency band.
図9は、第4実施形態の光サブキャリア生成装置40の構成例を示す図である。この光サブキャリア生成装置40は、中心波長が異なる光信号を生成する複数の光源411a,411b,411c,・・・,411nと、光源411a〜411nからの各光信号を合波する合波器412と、合波器412の出力を増幅する光増幅器413と、位相変調器414と、正弦波信号光源42と、直流電圧源43とを備える。なお、光増幅器413、位相変調器414、正弦波信号光源42および直流電圧源43は、それぞれ、図7に示した光増幅器212、位相変調器213、正弦波信号光源22および直流電圧源23の構成と同様である。 FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration example of the optical subcarrier generation device 40 of the fourth embodiment. This optical subcarrier generation device 40 includes a plurality of light sources 411a, 411b, 411c,..., 411n that generate optical signals having different center wavelengths, and a multiplexer that combines the optical signals from the light sources 411a to 411n. 412, an optical amplifier 413 that amplifies the output of the multiplexer 412, a phase modulator 414, a sine wave signal light source 42, and a DC voltage source 43. The optical amplifier 413, the phase modulator 414, the sine wave signal light source 42, and the DC voltage source 43 are respectively the optical amplifier 212, the phase modulator 213, the sine wave signal light source 22 and the DC voltage source 23 shown in FIG. The configuration is the same.
なお、図9において、光源411a〜411n、合波器412、光増幅器413および位相変調器414は、半導体基板41上にモノシリックに集積されて構成される。これにより、光サブキャリア生成装置40の小型化が実現する。 In FIG. 9, the light sources 411 a to 411 n, the multiplexer 412, the optical amplifier 413, and the phase modulator 414 are configured to be monolithically integrated on the semiconductor substrate 41. Thereby, miniaturization of the optical subcarrier generation device 40 is realized.
光源411a〜411nは、それぞれ中心波長が異なる光信号を生成し、合波器412は、多波長の光信号を一括して光増幅器413を介して位相変調器414に与えるようになっている。位相変調器414の構成によって、波長依存性の範囲において、広帯域の平坦化された光サブキャリアが生成できる。 The light sources 411a to 411n generate optical signals having different central wavelengths, and the multiplexer 412 collectively supplies the optical signals of multiple wavelengths to the phase modulator 414 via the optical amplifier 413. With the configuration of the phase modulator 414, a broadband flattened optical subcarrier can be generated in a wavelength-dependent range.
<第5実施形態>
第5実施形態の光サブキャリア生成装置は、光サブキャリア帯域をより拡大して光サブキャリアを生成するように構成されている。
<Fifth Embodiment>
The optical subcarrier generation device of the fifth embodiment is configured to generate an optical subcarrier by further expanding the optical subcarrier band.
図10は、第5実施形態の光サブキャリア生成装置50の構成例を示す図である。この光サブキャリア生成装置50は、並列に配置された位相変調装置51A〜51D、正弦波信号光源52および合波器53を含む。位相変調装置51A〜51Dの構成は、図8に示した波長可変光源311、光増幅器312および位相変調器313の機能を有するようになっている。すなわち、位相変調装置51A〜51Dは、図10に示すように、波長可変光源511a〜511d、光増幅器512a〜512dおよび位相変調器513a〜513dを備える。 FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration example of the optical subcarrier generating apparatus 50 according to the fifth embodiment. The optical subcarrier generation device 50 includes phase modulation devices 51 </ b> A to 51 </ b> D, a sine wave signal light source 52, and a multiplexer 53 arranged in parallel. The configurations of the phase modulators 51A to 51D have the functions of the wavelength variable light source 311, the optical amplifier 312 and the phase modulator 313 shown in FIG. That is, the phase modulation devices 51A to 51D include wavelength variable light sources 511a to 511d, optical amplifiers 512a to 512d, and phase modulators 513a to 513d, as shown in FIG.
なお、図10には図示されていないが、各位相変調器513a〜513dは、図8に示した直流電圧源からのバイアス電圧が与えられるようになっている。図10に示した位相変調装置51A〜51Dの台数は変更してもよい。 Although not shown in FIG. 10, the phase modulators 513a to 513d are supplied with a bias voltage from the DC voltage source shown in FIG. The number of phase modulation devices 51A to 51D shown in FIG. 10 may be changed.
図10において、位相変調装置51A〜51Dおよび合波器53は、半導体基板51上にモノシリックに集積されて構成される。これにより、光サブキャリア生成装置50の小型化が実現する。 In FIG. 10, the phase modulation devices 51 </ b> A to 51 </ b> D and the multiplexer 53 are configured to be monolithically integrated on the semiconductor substrate 51. Thereby, miniaturization of the optical subcarrier generation device 50 is realized.
正弦波信号光源52は、各位相変調器513a〜513dに対して、単一の振幅を有する正弦波信号を与えるようになっている。本実施形態の光サブキャリア生成装置50では、波長可変光源511a〜511dおよび位相変調器513a〜513dがともに、各位相変調装置51A〜51Dごとに個別に配置されている。このため、波長可変光源511a〜511dの波長に適した位相変調器513a〜513dを構成することによって、波長依存性の制限を受けることなく、光サブキャリアが生成される。 The sine wave signal light source 52 supplies a sine wave signal having a single amplitude to each of the phase modulators 513a to 513d. In the optical subcarrier generation device 50 of the present embodiment, the wavelength variable light sources 511a to 511d and the phase modulators 513a to 513d are individually arranged for each of the phase modulation devices 51A to 51D. Therefore, by configuring the phase modulators 513a to 513d suitable for the wavelengths of the wavelength tunable light sources 511a to 511d, optical subcarriers are generated without being limited by wavelength dependency.
また、位相変調器513a〜513dが並列配置された場合でも、位相変調器513a〜513dでは、単一の正弦波電圧信号源52からの単一振幅信号に応じて駆動することができるので、第1実施形態のものと同様に、位相変調器513a〜513dに与えられるバイアス電圧のみを調整することで、サブキャリアを平坦化してサブキャリアの強度が一定になるようにすることができる。 Even when the phase modulators 513a to 513d are arranged in parallel, the phase modulators 513a to 513d can be driven in accordance with a single amplitude signal from the single sine wave voltage signal source 52. As in the first embodiment, by adjusting only the bias voltage applied to the phase modulators 513a to 513d, the subcarrier can be flattened so that the intensity of the subcarrier becomes constant.
以上、上記各実施形態を詳述してきたが、具体的な構成は上記各実施形態に限られるものではない。 As mentioned above, although each said embodiment was explained in full detail, a specific structure is not restricted to each said embodiment.
10,20,30,40,50 光サブキャリア生成装置
12,22,32,42,52 正弦波信号源
13,23,33,43 直流電圧源
111,211 CW光源
112,213,313,414 位相変調器
212,312,413 光増幅器
311 波長可変光源
411a〜411n 光源
10, 20, 30, 40, 50 Optical subcarrier generator 12, 22, 32, 42, 52 Sinusoidal signal source 13, 23, 33, 43 DC voltage source 111, 211 CW light source 112, 213, 313, 414 Phase Modulator 212, 312, 413 Optical amplifier 311 Wavelength variable light source 411a to 411n Light source
Claims (7)
単一の正弦波信号電源と、
バイアス電圧源と、
前記単一の正弦波信号電源から印加される正弦波信号に応じて光サブキャリアを生成する少なくとも1つの光位相変調器であって、前記光サブキャリアは、当該サブキャリアの強度が平坦となるように、前記バイアス電圧源からのバイアス電圧に応じて調整される、光位相変調器と
を含むことを特徴とする光サブキャリア生成装置。 An optical subcarrier generator,
A single sinusoidal signal power supply,
A bias voltage source;
At least one optical phase modulator that generates an optical subcarrier according to a sine wave signal applied from the single sine wave signal power supply, and the optical subcarrier has a flat intensity of the subcarrier. And an optical phase modulator that is adjusted according to a bias voltage from the bias voltage source.
前記光源からの光信号を増幅して前記光位相変調器に出力する光増幅器と、
をさらに含み、
前記光源、前記光増幅器、および、前記光位相変調器は、同一の半導体基板上に構成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光サブキャリア生成装置。 A light source;
An optical amplifier that amplifies an optical signal from the light source and outputs the amplified optical signal to the optical phase modulator;
Further including
4. The optical subcarrier generation device according to claim 1, wherein the light source, the optical amplifier, and the optical phase modulator are configured on the same semiconductor substrate. 5.
前記複数の光源からの光信号を合波する合波器と、
前記合波器の出力を増幅して前記位相変調器に出力する光増幅器と、
をさらに含み、
前記複数の光源、前記合波器、前記光増幅器、および、前記光位相変調器は、同一の半導体基板上に構成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光サブキャリア生成装置。 Multiple light sources;
A multiplexer that multiplexes optical signals from the plurality of light sources;
An optical amplifier that amplifies the output of the multiplexer and outputs the amplified output to the phase modulator;
Further including
4. The device according to claim 1, wherein the plurality of light sources, the multiplexer, the optical amplifier, and the optical phase modulator are configured on the same semiconductor substrate. 5. Optical subcarrier generator.
前記複数の光源の各々からの光信号を増幅して各光位相変調器に出力する複数の光増幅器と、
前記各光位相変調器の出力を合波する合波器と、
をさらに含み、
前記複数の光源、前記複数の光増幅器、前記各光位相変調器、および、前記合波器は、同一の半導体基板上に構成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光サブキャリア生成装置。 Multiple light sources;
A plurality of optical amplifiers for amplifying an optical signal from each of the plurality of light sources and outputting the amplified signal to each optical phase modulator;
A multiplexer for multiplexing the outputs of the optical phase modulators;
Further including
4. The device according to claim 1, wherein the plurality of light sources, the plurality of optical amplifiers, the optical phase modulators, and the multiplexer are configured on the same semiconductor substrate. The optical subcarrier generation device according to 1.
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