JP2014201691A - Acrylic polymer, method of producing acrylic polymer, and method of producing radical curable compound - Google Patents

Acrylic polymer, method of producing acrylic polymer, and method of producing radical curable compound Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an acrylic polymer having excellent heat resistance.SOLUTION: An acrylic polymer is obtained by the reaction between a polymer (I) obtained by radical polymerization of a radical curable compound (A) represented by formula (1) or (2) [X-Xare an acryloyl group or a hydrogen atom, at least one of them is essential] and an aldehyde compound (B).

Description

本発明は、耐熱性に優れるアクリル系重合体、該アクリル系重合体の製造方法及び該アクリル系重合体の製造に用いるラジカル硬化性化合物に関する。   The present invention relates to an acrylic polymer having excellent heat resistance, a method for producing the acrylic polymer, and a radical curable compound used for producing the acrylic polymer.

近年、電子機器における技術進歩は著しく、集積回路の高密度化、高性能化が急速に進んでいる。プリント配線基板もこれに対応して高密度化、高配線化、部品の表面実装化が進み、従来以上の高精度、高性能が求められるようになってきた。この集積回路の高密度化、高性能化に適合させるため、集積回路の主要材料となるソルダーレジストについて高性能化が検討されてきたが、細密配線を内部に有するビルドアップ基板などではソルダーレジストと封止樹脂との界面でポップコーン現象と呼ばれるクラックを生じる問題があり、さらに高耐熱性のソルダーレジストが求められている。   2. Description of the Related Art In recent years, technological progress in electronic devices has been remarkable, and the density and performance of integrated circuits are rapidly increasing. Corresponding to this, higher density, higher wiring, and surface mounting of components have progressed in response to this, and higher precision and higher performance than before have been demanded. In order to adapt to the higher density and higher performance of this integrated circuit, higher performance has been studied for the solder resist, which is the main material of the integrated circuit. There is a problem of causing a crack called a popcorn phenomenon at the interface with the sealing resin, and a solder resist having a high heat resistance is demanded.

集積回路の高集積化に伴い、線幅20nm以下の超微細パターニングの手法として、ナノインプリント法が注目を浴びている。このナノインプリント法は大別すると、熱ナノインプリント法と光ナノインプリント法とに分けられる。熱ナノインプリント法はガラス転移温度以上に加熱し、軟化した高分子樹脂にモールドをプレスし、冷却後にモールドを離型することで微細構造を基板上の樹脂に転写するので、ナノパターンを比較的安価に形成でき、種々な分野への応用が期待されている。しかしながら、熱ナノインプリント法では、該高分子樹脂を加熱により軟化させる必要がある為、高いガラス転移温度を有する高分子樹脂を使用しにくく、近年、より高い耐熱性を求められる電気・電子分野への応用は困難であった。   Along with the high integration of integrated circuits, the nanoimprint method is attracting attention as a technique for ultra fine patterning with a line width of 20 nm or less. This nanoimprint method is roughly classified into a thermal nanoimprint method and an optical nanoimprint method. The thermal nanoimprint method heats above the glass transition temperature, presses the mold onto a softened polymer resin, releases the mold after cooling, and transfers the microstructure to the resin on the substrate, making the nanopattern relatively inexpensive It is expected to be applied to various fields. However, in the thermal nanoimprint method, since it is necessary to soften the polymer resin by heating, it is difficult to use a polymer resin having a high glass transition temperature, and in recent years, the application to the electric / electronic field where higher heat resistance is required. Application was difficult.

一方、光照射で組成物を光硬化させる光ナノインプリント法では、プレス時にパターン転写するモールド材料を加熱する必要がなく、室温でのインプリントが可能である。光ナノインプリントに適用される光硬化性樹脂は、ラジカル重合タイプとイオン重合タイプ、さらに、これらのハイブリッドタイプがあり、いずれのタイプの硬化性組成物もナノインプリント用途に用いることが可能であるが、材料の選択範囲が広いことから、一般にラジカル重合型の光硬化性組成物が広く検討されている。   On the other hand, in the optical nanoimprint method in which the composition is photocured by light irradiation, it is not necessary to heat the mold material for pattern transfer during pressing, and imprinting at room temperature is possible. The photo-curable resin applied to photo-nanoimprint includes radical polymerization type and ion polymerization type, and hybrid type of these, and any type of curable composition can be used for nanoimprint applications. In general, radical polymerization type photocurable compositions have been widely studied.

ナノインプリント法にて前記高集積の集積回路に加え、液晶ディスプレイの薄膜トランジタ、液晶カラーフィルタ−の保護膜、スペーサー、その他の液晶表示装置用部材の微細加工用途の永久膜を得る際には、高い機械特性、透明性、耐光性、耐熱性が得られるナノインプリント用材料が要求され、特に高い耐熱性に優れる硬化物が得られる材料が要求されている。   In addition to the above highly integrated integrated circuit by the nanoimprint method, it is necessary to obtain a permanent film for use in microfabrication of liquid crystal display thin film transistors, liquid crystal color filter protective films, spacers, and other liquid crystal display device members. Nanoimprint materials that can provide mechanical properties, transparency, light resistance, and heat resistance are required, and materials that can provide cured products that are particularly excellent in high heat resistance are required.

高い耐熱性を有する硬化物が得られ、ソルダーレジストとして有用な材料として例えば、ビフェニル骨格を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂が知られているが(例えば、特許文献1参照。)、近年要求されている高い耐熱性を有するものではなかった。   A cured product having high heat resistance is obtained, and as a material useful as a solder resist, for example, an epoxy (meth) acrylate resin having a biphenyl skeleton is known (for example, see Patent Document 1). It did not have high heat resistance.

特開平9−157340号公報JP-A-9-157340

本発明が解決しようとする課題は、耐熱性に優れ、ソルダーレジスト、薄膜トランジタ、液晶カラーフィルタ−の保護膜、スペーサー、その他の液晶表示装置用部材の微細加工用途の永久膜として有用なアクリル系重合体、該アクリル系重合体の製造方法及び該アクリル系重合体の製造に用いるラジカル硬化性化合物を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is an acrylic system that is excellent in heat resistance and useful as a permanent film for use in fine processing of solder resists, thin film transistors, protective films for liquid crystal color filters, spacers, and other liquid crystal display device members. It is providing the polymer, the manufacturing method of this acrylic polymer, and the radical curable compound used for manufacture of this acrylic polymer.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、例えば、特定構造を有する5官能フェノールの水酸基の一部がラジカル重合性不飽和基と置換した構造を有するラジカル硬化性化合物の重合体とアルデヒド化合物とを脱水縮合して得られる硬化物や、前記ラジカル硬化性化合物とアルデヒド化合物とを脱水縮合して得られる重合体をラジカル重合させて得られる硬化物は非常に高い耐熱性を有すること等を見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of extensive research, the present inventors have, for example, a polymer of a radical curable compound having a structure in which a part of the hydroxyl group of a pentafunctional phenol having a specific structure is substituted with a radical polymerizable unsaturated group, and an aldehyde compound. A cured product obtained by dehydrating and condensing, and a cured product obtained by radical polymerizing a polymer obtained by dehydrating and condensing the radical curable compound and the aldehyde compound have very high heat resistance, etc. The headline and the present invention were completed.

すなわち、本発明は、下記一般式(1)または一般式(2)   That is, the present invention provides the following general formula (1) or general formula (2).

Figure 2014201691
〔式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。X〜Xはそれぞれ独立して下記式(a)
Figure 2014201691
[In formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. X 1 to X 4 each independently represent the following formula (a)

Figure 2014201691
で表される基または水素原子であるが、少なくとも一つは式(a)で表される基であり、また、少なくとも一つは水素原子である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。〕で表されるラジカル硬化性化合物(A)をラジカル重合させて得られる重合体(I)と、アルデヒド化合物(B)とを反応させて得られることを特徴とするアクリル系重合体を提供するものである。
Figure 2014201691
Or at least one is a group represented by the formula (a), and at least one is a hydrogen atom. m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4. An acrylic polymer obtained by reacting a polymer (I) obtained by radical polymerization of a radical curable compound (A) represented by formula (B) with an aldehyde compound (B) is provided. Is.

また、本発明は、前記ラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて得られる重合体(II)をラジカル重合させて得られることを特徴とするアクリル系重合体を提供するものである。   The present invention also provides an acrylic polymer obtained by radical polymerization of the polymer (II) obtained by reacting the radical curable compound (A) with the aldehyde compound (B). To do.

また、本発明は、前記ラジカル硬化性化合物(A)をラジカル重合させて重合体(I)を得た後、重合体(I)とアルデヒド化合物(B)とを反応させることを特徴とするアクリル系重合体の製造方法を提供するものである。   Further, the present invention provides an acrylic characterized by reacting the polymer (I) with an aldehyde compound (B) after radical polymerization of the radical curable compound (A) to obtain a polymer (I). A method for producing a polymer is provided.

更に、本発明は、前記ラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて重合体(II)を得た後、重合体(II)をラジカル重合させることを特徴とするアクリル系重合体の製造方法を提供するものである。   Furthermore, the present invention provides an acrylic characterized in that after the radical curable compound (A) and the aldehyde compound (B) are reacted to obtain a polymer (II), the polymer (II) is radically polymerized. A method for producing a polymer is provided.

本発明のアクリル系重合体は、非常に高いレベルの耐熱性を有する。加えて、溶剤への溶解性も良好である。したがって、本発明のアクリル系重合体は、高い耐熱性が要求されるソルダーレジスト用の材料、ナノインプリント用の材料として用いることができる。また、本発明のアクリル系重合体を得る際に用いる重合体は、光硬化性や熱硬化性を有し、光造形や熱造形が可能な為、熱ナノインプリント法の鋳型用材料としても用いることができる。ここで、熱ナノインプリント法でのレジストに用いる熱可塑性樹脂として、高い耐熱性を有するポリフェニレンエーテル(PPE)等のガラス転移温度(Tg)が200℃を超える電気・電子材料用エンジニアリングプラスチックを用いた場合は、該プラスチックの軟化処理温度は300℃以上となるが、本発明のラジカル硬化性化合物の硬化物は非常に高い耐熱性を有する。その為、鋳型用材料として用いることができる。   The acrylic polymer of the present invention has a very high level of heat resistance. In addition, the solubility in a solvent is also good. Therefore, the acrylic polymer of the present invention can be used as a material for solder resist and a material for nanoimprint, which require high heat resistance. In addition, the polymer used for obtaining the acrylic polymer of the present invention has photocurability and thermosetting, and can be used as a mold material for the thermal nanoimprint method because it can be photo-molded or thermo-molded. Can do. Here, as a thermoplastic resin used for a resist in the thermal nanoimprint method, when an engineering plastic for electrical / electronic materials having a glass transition temperature (Tg) exceeding 200 ° C. such as polyphenylene ether (PPE) having high heat resistance is used. The softening temperature of the plastic is 300 ° C. or higher, but the cured product of the radical curable compound of the present invention has very high heat resistance. Therefore, it can be used as a mold material.

また、本発明のアクリル系重合体はベンゼン環を高い密度で有するため、より剛直な骨格となり、その硬化物は高い耐熱性を有する。さらに、その剛直な骨格に起因して、その硬化物は高い機械特性(耐衝撃性)、高い耐水性、特に高い硬度も有する。したがって、本発明のアクリル系重合体は高い表面硬度が要求されるテレビ、ビデオカメラ、コンピュータ、携帯電話等の液晶ディスプレイの偏光板に用いられているトリアセチルセルロール(TAC)等のフィルム用ハードコート材;液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等の各種ディスプレイの表面を保護する透明保護フィルム用ハードコート材;光学レンズ用ハードコート材等に好適に用いることができる。また、本発明の製造方法により本発明のアクリル系重合体を容易に製造することができる。   Further, since the acrylic polymer of the present invention has a high density of benzene rings, it becomes a more rigid skeleton, and its cured product has high heat resistance. Furthermore, due to its rigid skeleton, the cured product also has high mechanical properties (impact resistance), high water resistance, especially high hardness. Therefore, the acrylic polymer of the present invention is a film hard such as triacetyl cellulose (TAC) used for a polarizing plate of a liquid crystal display such as a television, a video camera, a computer, a mobile phone and the like that requires a high surface hardness. Coating material; Hard coating material for transparent protective film that protects the surface of various displays such as liquid crystal display, plasma display, organic EL display, etc .; Hard coating material for optical lens; Moreover, the acrylic polymer of the present invention can be easily produced by the production method of the present invention.

本発明のアクリル系重合体は、下記一般式(1)または一般式(2)   The acrylic polymer of the present invention has the following general formula (1) or general formula (2).

Figure 2014201691
〔式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。X〜Xはそれぞれ独立して下記式(a)
Figure 2014201691
[In formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. X 1 to X 4 each independently represent the following formula (a)

Figure 2014201691
で表される基または水素原子であるが、少なくとも一つは式(a)で表される基であり、また、少なくとも一つは水素原子である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。〕で表されるラジカル硬化性化合物(A)をラジカル重合させて得られる重合体(I)と、アルデヒド化合物(B)とを反応させて得られる〔以下、これをアクリル系重合体(I)と略記することがある。〕。
Figure 2014201691
Or at least one is a group represented by the formula (a), and at least one is a hydrogen atom. m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4. ] It can be obtained by reacting a polymer (I) obtained by radical polymerization of a radical curable compound (A) represented by formula (B) with an aldehyde compound (B). May be abbreviated. ].

また、本発明のもう一つのアクリル系重合体は、前記ラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて得られる重合体(II)をラジカル重合させて得られる〔以下、これをアクリル系重合体(II)と略記することがある。〕。   Another acrylic polymer of the present invention is obtained by radical polymerization of the polymer (II) obtained by reacting the radical curable compound (A) with the aldehyde compound (B) [hereinafter, This may be abbreviated as acrylic polymer (II). ].

本発明の前記アクリル系重合体(I)やアクリル系重合体(II)を得る際に用いる前記一般式(1)及び一般式(2)中のR〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。これらのアルキル基はアクリル系重合体(I)やアクリル系重合体(II)に高い耐熱性を与える。これらのアルキル基の中でも分子運動抑制により分子に高い剛直性を与え、硬化物により高い耐熱性を付与できること、フェノール性ベンゼン核への電子供与性を付与できること、工業的に入手が容易であることから、それぞれメチル基が好ましい。 R 1 to R 5 in the general formula (1) and the general formula (2) used when obtaining the acrylic polymer (I) and the acrylic polymer (II) of the present invention are each independently carbon. It is an alkyl group having 1 to 8 atoms. These alkyl groups give high heat resistance to the acrylic polymer (I) and the acrylic polymer (II). Among these alkyl groups, high rigidity is given to the molecule by suppressing molecular motion, high heat resistance can be given to the cured product, electron donating property to the phenolic benzene nucleus can be given, and industrial availability is easy. Therefore, a methyl group is preferable.

一般式(1)、一般式(2)中のX〜Xはそれぞれ上記一般式(a)で表される基または水素原子であり、この内の少なくとも一つは式(a)で表される基であり、また、少なくとも一つは水素原子である。本発明においては、式(a)で表される基で表される基を平均で2.2〜3.8個有することが好ましい。2.2〜3.8個有することにより、重合体(I)や重合体(II)がうまく調製でき、且つ、耐熱性に優れるアクリル系重合体(I)が得やすくなる。また、溶剤への溶解性が良好な重合体(I)が得やすくなり、本発明のアクリル系重合体を塗膜化した際への残留溶剤が少なくなることから塗膜特性が低下しないことも期待できる。本発明で用いるラジカル硬化性化合物(A)の中でも、(a)で表される基を2.4〜3.6個有する化合物がより好ましい。 X 1 to X 2 in the general formula (1) and the general formula (2) are each a group represented by the general formula (a) or a hydrogen atom, and at least one of them is represented by the formula (a). And at least one is a hydrogen atom. In this invention, it is preferable to have 2.2 to 3.8 groups represented by the group represented by the formula (a) on average. By having 2.2 to 3.8, the polymer (I) and the polymer (II) can be successfully prepared, and the acrylic polymer (I) having excellent heat resistance can be easily obtained. In addition, it is easy to obtain a polymer (I) having good solubility in a solvent, and since the residual solvent is reduced when the acrylic polymer of the present invention is formed into a coating film, the coating film characteristics do not deteriorate. I can expect. Among the radical curable compounds (A) used in the present invention, compounds having 2.4 to 3.6 groups represented by (a) are more preferable.

ここで、前記「平均」とは、個々のラジカル硬化性化合物(A)が有する(a)で表される基の数を平均化したものであり、例えば、アクリル系重合体(I)やアクリル系重合体(II)の調製の原料として用いるラジカル硬化性化合物(混合物)が、(a)で表される基を持たない(0個)ラジカル硬化性化合物や(a)で表される基を4個有するラジカル硬化性化合物を含んでいても良い。   Here, the “average” is an average of the number of groups represented by (a) of each radical curable compound (A). For example, acrylic polymer (I) or acrylic The radical curable compound (mixture) used as a raw material for the preparation of the polymer (II) does not have a group represented by (a) (0) a radical curable compound or a group represented by (a) It may contain four radically curable compounds.

ここで、X〜Xが一般式(a)である場合、一般式(a)中のRは同一でも異なっていても良い。 Here, if X 1 to X 4 is formula (a), R 6 in the general formula (a) may be the same or different.

前記式(a)においてRが水素原子である場合は、硬化速度が高く、基材との密着性が高い硬化物が得られるラジカル硬化性化合物が得られる。また、前記式(a)においてRがメチル基である場合は、硬化収縮が少なく、基材との密着性が高い硬化物が得られるラジカル硬化性化合物が得られる。 In the formula (a), when R 6 is a hydrogen atom, a radical curable compound is obtained from which a cured product having a high curing rate and high adhesion to the substrate can be obtained. Further, when R 6 is a methyl group in the formula (a), a radical curable compound is obtained that has a cured shrinkage and a cured product having high adhesion to the substrate.

上記一般式(1)、一般式(2)中のm、n、pおよびqが、それぞれ独立して1〜3の整数であり、oが1であることが好ましい。   It is preferable that m, n, p, and q in the general formula (1) and the general formula (2) are each independently an integer of 1 to 3, and o is 1.

本発明で用いるラジカル硬化性化合物(A)としては、例えば、下記一般式(1−1)〜一般式(1−3)や、一般式(2−1)〜一般式(2−3)で表されるラジカル硬化性化合物等を例示できる。   Examples of the radical curable compound (A) used in the present invention include the following general formula (1-1) to general formula (1-3) and general formula (2-1) to general formula (2-3). Illustrative examples include the radical curable compounds represented.

Figure 2014201691
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Figure 2014201691
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上記式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。X〜Xはそれぞれ独立して前記式(a)で表される基または水素原子であるが、少なくとも一つは式(a)で表される基である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。 In said formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. X 1 to X 4 are each independently a group represented by the formula (a) or a hydrogen atom, at least one of which is a group represented by the formula (a). m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4.

前記下記一般式(1−1)〜一般式(1−3)や、一般式(2−1)〜一般式(2−3)で表されるラジカル硬化性化合物の具体的なものとして、例えば、下記一般式(3)〜(8)で表されるラジカル硬化性化合物等を例示できる。   Specific examples of the radical curable compounds represented by the following general formulas (1-1) to (1-3) and general formulas (2-1) to (2-3) include, for example, And radical curable compounds represented by the following general formulas (3) to (8).

Figure 2014201691
Figure 2014201691

Figure 2014201691
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更に、前記一般式(3)〜(8)で表されるラジカル硬化性化合物の具体的な化合物としては、例えば、下記に示す化合物等が挙げられる。   Furthermore, specific examples of the radical curable compounds represented by the general formulas (3) to (8) include the following compounds.

Figure 2014201691
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本発明で用いるラジカル重合性化合物は、本発明の効果を損なわない範囲で下記に例示する化合物等を含んでいても良い。   The radically polymerizable compound used in the present invention may contain the compounds exemplified below as long as the effects of the present invention are not impaired.

Figure 2014201691
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本発明で用いるラジカル硬化性化合物(A)は、例えば、アルキル置換フェノール(a1)と芳香族ジアルデヒド(a2)とを重縮合することにより、下記一般式(11)または一般式(12)   The radical curable compound (A) used in the present invention is obtained by, for example, polycondensation of an alkyl-substituted phenol (a1) and an aromatic dialdehyde (a2), thereby the following general formula (11) or general formula (12).

Figure 2014201691
〔式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。〕で表される重縮合物(α)を得た後、該重縮合物に(メタ)アクリル酸ハライド(β)とを反応させる方法により得ることができる。
Figure 2014201691
[In formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4. The polycondensate (α) represented by the following formula can be obtained by reacting the polycondensate with (meth) acrylic acid halide (β).

前記一般式(11)または一般式(12)で表される重縮合物(α)としては、例えば、下記に示す重縮合物等が挙げられる。   Examples of the polycondensate (α) represented by the general formula (11) or the general formula (12) include the polycondensates shown below.

Figure 2014201691
Figure 2014201691

〔式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。〕 [In formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4. ]

なお、本発明において、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸」と「メタクリル酸」の一方又は両方をいう。   In the present invention, “(meth) acrylic acid” means one or both of “acrylic acid” and “methacrylic acid”.

前記アルキル置換フェノール(a1)は、フェノールの芳香環に結合している水素原子の一部又は全部がアルキル基に置換している化合物である。このアルキル基としては、炭素原子数1〜8のアルキル基が挙げられ、特にメチル基が好ましい。前記アルキル置換フェノール(a1)としては、例えば、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール、p−オクチルフェノール、p−t−ブチルフェノール、o−シクロヘキシルフェノール、m−シクロヘキシルフェノール、p−シクロヘキシルフェノール等のモノアルキルフェノール;2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、3,4−キシレノール、2,4−キシレノール、2,6−キシレノール等のジアルキルフェノール;2,3,5−トリメチルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノールなどが挙げられる。また、これらのアルキル置換フェノールの中でも、耐熱性に優れることから、フェノールの芳香環へのアルキル基の置換数2のものが好ましく、中でも、2,5−キシレノール、2,6−キシレノールが好ましい。これらのアルキル置換フェノール(a1)は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。   The alkyl-substituted phenol (a1) is a compound in which part or all of the hydrogen atoms bonded to the aromatic ring of the phenol are substituted with an alkyl group. Examples of the alkyl group include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a methyl group is particularly preferable. Examples of the alkyl-substituted phenol (a1) include o-cresol, m-cresol, p-cresol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, p-octylphenol, pt-butylphenol, o -Monoalkylphenols such as cyclohexylphenol, m-cyclohexylphenol and p-cyclohexylphenol; dialkyl such as 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, 3,4-xylenol, 2,4-xylenol, 2,6-xylenol Examples include alkylphenols; trialkylphenols such as 2,3,5-trimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol. Among these alkyl-substituted phenols, those having 2 substitutions of alkyl groups on the aromatic ring of the phenol are preferable because of their excellent heat resistance, and 2,5-xylenol and 2,6-xylenol are particularly preferable. These alkyl-substituted phenols (a1) can be used alone or in combination of two or more.

前記芳香族ジアルデヒド(a2)としては、例えば、テレフタルアルデヒド、オルトフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、4−メチルフタルアルデヒド等を好ましく用いることが出来る。これらの芳香族ジアルデヒド(a2)は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。   As the aromatic dialdehyde (a2), for example, terephthalaldehyde, orthophthalaldehyde, isophthalaldehyde, 4-methylphthalaldehyde and the like can be preferably used. These aromatic dialdehydes (a2) can be used alone or in combination of two or more.

前記(メタ)アクリル酸ハライド(β)のハライドとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アスタチンが挙げられる。また、前記(メタ)アクリル酸ハライドの具体例としては、例えば、(メタ)アクリル酸クロライド、(メタ)アクリル酸ブロマイド、(メタ)アクリル酸アイオダイド等が挙げられる。これらの(メタ)アクリル酸ハライドの中でも、反応性が高く、入手が容易であることから、(メタ)アクリル酸クロライドが好ましい。   Examples of the halide of the (meth) acrylic acid halide (β) include fluorine, chlorine, bromine, iodine, and astatine. Specific examples of the (meth) acrylic acid halide include (meth) acrylic acid chloride, (meth) acrylic acid bromide, and (meth) acrylic acid iodide. Among these (meth) acrylic acid halides, (meth) acrylic acid chloride is preferable because of its high reactivity and easy availability.

本発明で用いるラジカル硬化性化合物(A)を製造する上記製法は、具体的には、例えば、下記の3つの工程を経る方法が挙げられる。   Specific examples of the above production method for producing the radical curable compound (A) used in the present invention include a method comprising the following three steps.

(工程1−1)
アルキル置換フェノール(a1)とベンゼン環上に水酸基を有する芳香族ジアルデヒド(a2)とを酸触媒存在下で重縮合することにより、反応溶液中に上記一般式(13)〜一般式(18)等で表される重縮合物(α)を含む粗生成物を得る。
(Step 1-1)
Alkyl-substituted phenol (a1) and aromatic dialdehyde (a2) having a hydroxyl group on the benzene ring are subjected to polycondensation in the presence of an acid catalyst, whereby the above general formulas (13) to (18) are added to the reaction solution. A crude product containing a polycondensate (α) represented by the above is obtained.

(工程1−2)
工程1−1で得られた重縮合物(α)を反応溶液中から回収(単離)する。
(Step 1-2)
The polycondensate (α) obtained in step 1-1 is recovered (isolated) from the reaction solution.

(工程1−3)
工程1−2で単離した重縮合物(α)と(メタ)アクリル酸ハライド(β)とを塩基存在下で反応させる。
(Step 1-3)
The polycondensate (α) isolated in Step 1-2 is reacted with (meth) acrylic acid halide (β) in the presence of a base.

前記工程1−1で用いる酸触媒としては、例えば、酢酸、シュウ酸、硫酸、塩酸、フェノールスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、酢酸亜鉛、酢酸マンガン等が挙げられる。これらの酸触媒は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの酸触媒の中でも、活性に優れる点から、硫酸、パラトルエンスルホン酸が好ましい。なお、酸触媒は、反応前に加えても、反応途中で加えても構わない。   Examples of the acid catalyst used in Step 1-1 include acetic acid, oxalic acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phenolsulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, zinc acetate, and manganese acetate. These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more. Of these acid catalysts, sulfuric acid and paratoluenesulfonic acid are preferred because of their excellent activity. The acid catalyst may be added before the reaction or during the reaction.

前記工程1−1において、必要に応じて溶媒の存在下で重縮合物を得ても良い。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等のモノアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、トリメチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等のポリオール;2−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペンチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル等のグリコールエーテル;1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エーテル;エチレングリコールアセテート等のグリコールエステル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトンなどが挙げられる。これらの溶媒は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの溶媒の中でも、得られる化合物の溶解性に優れる点から、2−エトキシエタノールが好ましい。   In step 1-1, a polycondensate may be obtained in the presence of a solvent, if necessary. Examples of the solvent include monoalcohols such as methanol, ethanol, and propanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6 -Polyols such as hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, trimethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, glycerol; 2-ethoxyethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene Glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monopentyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol Glycol ethers such as ruethyl methyl ether and ethylene glycol monophenyl ether; cyclic ethers such as 1,3-dioxane, 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; glycol esters such as ethylene glycol acetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like Examples include ketones. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Of these solvents, 2-ethoxyethanol is preferable because the resulting compound has excellent solubility.

工程1−1において、アルキル置換フェノール(a1)と芳香族ジアルデヒド(a2)とを重縮合させる際の反応温度としては、例えば、60〜140℃である。また、反応時間は、例えば、0.5〜100時間である。   In step 1-1, the reaction temperature for polycondensing the alkyl-substituted phenol (a1) and the aromatic dialdehyde (a2) is, for example, 60 to 140 ° C. Moreover, reaction time is 0.5 to 100 hours, for example.

前記工程1−1におけるアルキル置換フェノール(a1)と芳香族ジアルデヒド(a2)との仕込み比率[(a1)/(a2)]は、未反応のアルキル置換フェノールの除去が容易なこと、生成物の収率が高く純度が高い反応生成物が得られることから、モル比で1/0.2〜1/0.5の範囲が好ましく、1/0.25〜1/0.45の範囲がより好ましい。   The charge ratio [(a1) / (a2)] of the alkyl-substituted phenol (a1) to the aromatic dialdehyde (a2) in the step 1-1 is that the unreacted alkyl-substituted phenol can be easily removed, and the product In this case, a molar ratio of 1 / 0.2 to 1 / 0.5 is preferable, and 1 / 0.25 to 1 / 0.45 is preferable. More preferred.

前記工程1−1の重縮合の結果、得られる重縮合物(α)は、例えば、下記一般式(19−1)〜一般式(19−8)で表される化合物が例示できる。   Examples of the polycondensate (α) obtained as a result of the polycondensation in Step 1-1 include compounds represented by the following general formulas (19-1) to (19-8).

Figure 2014201691
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Figure 2014201691
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前記工程1−1で得られる反応溶液中には重縮合物(α)とともに前記(a1)や(a2)等の未反応物が残存している可能性がある。また、前記一般式(5)や一般式(6)で表される構造を有する縮合物以外の好ましくない縮合物が生成されている可能性もある。このような反応溶液に対して水で再沈殿操作を行い、(メタ)アクリロイル酸ハライド(β)と反応させるための回収物を得ると、この回収物には目的とする重縮合物(A)とともに前記(a1)や(a2)等の未反応物、或いは、上記好ましくない重縮合物を多く含む可能性がある。   In the reaction solution obtained in the step 1-1, unreacted substances such as (a1) and (a2) may remain together with the polycondensate (α). In addition, an unfavorable condensate other than the condensate having the structure represented by the general formula (5) or the general formula (6) may be generated. When such a reaction solution is subjected to a reprecipitation operation with water to obtain a recovered product for reaction with (meth) acryloyl halide (β), the recovered polycondensate (A) is contained in the recovered product. In addition, there is a possibility that a large amount of unreacted substances such as (a1) and (a2) or the undesired polycondensate is included.

そこで、工程1−2において反応溶液から回収した回収物から重縮合物(α)を更に回収し、重縮合物(α)の純度をなるべく高めておく事が好ましい。   Therefore, it is preferable to further recover the polycondensate (α) from the recovered product recovered from the reaction solution in Step 1-2, and to increase the purity of the polycondensate (α) as much as possible.

(メタ)アクリロイル酸ハライド(β)と反応させる重縮合物(α)の純度は、85%以上が好ましく、90%以上がより好ましく、94%以上が更に好ましく、98%以上が特に好ましく、100%が最も好ましい。重縮合物(α)の純度はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)のチャートにおいて面積比から求めることができる。   The purity of the polycondensate (α) to be reacted with the (meth) acryloyl halide (β) is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, still more preferably 94% or more, particularly preferably 98% or more, 100 % Is most preferred. The purity of the polycondensate (α) can be determined from the area ratio in a chart of gel permeation chromatography (GPC).

本発明において、GPCの測定条件は下記の通りである。   In the present invention, GPC measurement conditions are as follows.

[GPCの測定条件]
測定装置:東ソー株式会社製「HLC−8220 GPC」
カラム:昭和電工株式会社製「Shodex KF802」(8.0mmФ×300mm)
+昭和電工株式会社製「Shodex KF802」(8.0mmФ×300mm)
+昭和電工株式会社製「Shodex KF803」(8.0mmФ×300mm)
+昭和電工株式会社製「Shodex KF804」(8.0mmФ×300mm)
カラム温度:40℃
検出器: RI(示差屈折計)
データ処理:東ソー株式会社製「GPC−8020モデルIIバージョン4.30」
展開溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0ml/分
試料:樹脂固形分換算で0.5質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの
注入量:0.1ml
標準試料:下記単分散ポリスチレン
[GPC measurement conditions]
Measuring device: “HLC-8220 GPC” manufactured by Tosoh Corporation
Column: “Shodex KF802” manufactured by Showa Denko KK (8.0 mm (× 300 mm)
+ Showa Denko “Shodex KF802” (8.0 mmФ × 300 mm)
+ Showa Denko Co., Ltd. “Shodex KF803” (8.0 mmФ × 300 mm)
+ Showa Denko Co., Ltd. “Shodex KF804” (8.0 mmФ × 300 mm)
Column temperature: 40 ° C
Detector: RI (differential refractometer)
Data processing: “GPC-8020 Model II version 4.30” manufactured by Tosoh Corporation
Developing solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 ml / min Sample: 0.5% by mass tetrahydrofuran solution in terms of resin solids filtered through a microfilter Injection volume: 0.1 ml
Standard sample: Monodispersed polystyrene below

(標準試料:単分散ポリスチレン)
東ソー株式会社製「A−500」
東ソー株式会社製「A−2500」
東ソー株式会社製「A−5000」
東ソー株式会社製「F−1」
東ソー株式会社製「F−2」
東ソー株式会社製「F−4」
東ソー株式会社製「F−10」
東ソー株式会社製「F−20」
(Standard sample: monodisperse polystyrene)
“A-500” manufactured by Tosoh Corporation
"A-2500" manufactured by Tosoh Corporation
"A-5000" manufactured by Tosoh Corporation
“F-1” manufactured by Tosoh Corporation
"F-2" manufactured by Tosoh Corporation
“F-4” manufactured by Tosoh Corporation
“F-10” manufactured by Tosoh Corporation
“F-20” manufactured by Tosoh Corporation

前記工程1−2において、重縮合物(α)から前記(a1)や(a2)等の未反応物等の不純物を除去することにより、得られるラジカル硬化性化合物(A)の結晶性が高くなる。その為にラジカル硬化性化合物(A)は細密に充填されやすい。細密状に充填されたまま本発明のラジカル硬化性化合物が硬化する。その結果、硬化物の分子運動が抑制され、ガラス転移温度が400℃以上と従来の2倍以上の耐熱性を発現することができる。   In the step 1-2, by removing impurities such as unreacted substances such as (a1) and (a2) from the polycondensate (α), the crystallinity of the resulting radically curable compound (A) is high. Become. Therefore, the radically curable compound (A) is easily packed finely. The radical curable compound of the present invention is cured while being packed finely. As a result, the molecular motion of the cured product is suppressed, and the glass transition temperature is 400 ° C. or higher, which can express heat resistance that is twice or more that of the conventional one.

前記工程1−2における重縮合物(α)の反応溶液中からの回収方法としては、例えば、反応溶液を反応生成物が不溶又は難溶である貧溶媒(S1)に投入して得られた沈殿物を濾別した後、反応生成物を溶解し貧溶媒(S1)にも混和する溶媒(S2)に溶解し、再度貧溶媒(S1)に投入して生じた沈殿物を濾別する方法が挙げられる。この際に用いる前記貧溶媒(S1)としては、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノール、エトキシエタノール等のモノアルコール;n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、シクロヒキサン等の脂肪族炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。これらの貧溶媒(S1)の中でも、効率よく酸触媒の除去も同時に行えることから、水、メタノール、エトキシエタノールが好ましい。   As a method for recovering the polycondensate (α) in the reaction solution in Step 1-2, for example, the reaction solution was obtained by introducing the reaction solution into a poor solvent (S1) in which the reaction product is insoluble or hardly soluble. A method in which a precipitate is filtered, and then the reaction product is dissolved in a solvent (S2) that is also mixed with the poor solvent (S1), and again added to the poor solvent (S1), and the resulting precipitate is filtered off. Is mentioned. Examples of the poor solvent (S1) used in this case include water; monoalcohols such as methanol, ethanol, propanol, and ethoxyethanol; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are listed. Among these poor solvents (S1), water, methanol, and ethoxyethanol are preferable because the acid catalyst can be efficiently removed at the same time.

一方、前記溶媒(S2)としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等のモノアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、トリメチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等のポリオール;2−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペンチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル等のグリコールエーテル;1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン等の環状エーテル;エチレングリコールアセテート等のグリコールエステル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトンなどが挙げられる。前記(S2)としては、前記貧溶媒(S1)として水やモノアルコールを用いた場合には、アセトンが好ましい。なお、前記貧溶媒(S1)及び溶媒(S2)は、それぞれ1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。   On the other hand, examples of the solvent (S2) include monoalcohols such as methanol, ethanol, and propanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5- Polyols such as pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, trimethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin; 2-ethoxyethanol, Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monopentyl ether, ethylene glycol dimethyl ether Glycol ethers such as ethylene glycol ethyl methyl ether and ethylene glycol monophenyl ether; cyclic ethers such as 1,3-dioxane and 1,4-dioxane; glycol esters such as ethylene glycol acetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like Examples include ketones. The (S2) is preferably acetone when water or monoalcohol is used as the poor solvent (S1). The poor solvent (S1) and the solvent (S2) can be used alone or in combination of two or more.

工程1−3に用いる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;トリエチルアミン、トリメチルアミン等の3級アミン;ピリジン等が挙げられる。塩基の中でも重縮合物(A)と(メタ)アクリル酸ハライド(β)との反応後、反応系からの除去が容易であることから炭酸カリウム、3級アミンが好ましく、中でも、炭酸カリウム、トリエチルアミンがより好ましい。   Examples of the base used in Step 1-3 include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate; tertiary such as triethylamine and trimethylamine. Amine; pyridine and the like. Among bases, potassium carbonate and tertiary amine are preferred because they can be easily removed from the reaction system after the reaction of polycondensate (A) with (meth) acrylic acid halide (β). Among them, potassium carbonate and triethylamine are preferred. Is more preferable.

前記工程1−3において、必要に応じて溶媒を用いても良い。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等のモノアルコール;エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、トリメチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等のポリオール;2−エトキシエタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペンチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル等のグリコールエーテル;1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エーテル;エチレングリコールアセテート等のグリコールエステル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトンなどが挙げられる。これらの溶媒は、1種類のみで用いることも2種以上併用することもできる。また、これらの溶媒の中でも、得られる化合物の溶解性に優れる点から、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましい。   In the step 1-3, a solvent may be used as necessary. Examples of the solvent include monoalcohols such as methanol, ethanol, and propanol; ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6 -Polyols such as hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, trimethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, glycerol; 2-ethoxyethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene Glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monopentyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol Glycol ethers such as ruethyl methyl ether and ethylene glycol monophenyl ether; cyclic ethers such as 1,3-dioxane, 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; glycol esters such as ethylene glycol acetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like Examples include ketones. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Of these solvents, tetrahydrofuran, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone are preferred because the resulting compound has excellent solubility.

工程1−3において、重縮合物(α)と(メタ)アクリル酸ハライド(β)とを反応させる際の反応温度としては、例えば、20〜80℃である。また、反応時間は、例えば、1〜30時間である。   In step 1-3, the reaction temperature for reacting the polycondensate (α) with the (meth) acrylic acid halide (β) is, for example, 20 to 80 ° C. Moreover, reaction time is 1 to 30 hours, for example.

工程1−3における重縮合物(α)と(メタ)アクリル酸ハライド(β)との仕込み比率は、目的とするラジカル硬化性化合物(A)を純度が高く、且つ、収率良く得られることから重縮合物(α)が有するフェノール性水酸基のモル数をα’とした場合、[(α’)/(β)]は、モル比で1/0.5〜1/3の範囲が好ましく、1/1〜1/2の範囲がより好ましい。   The charging ratio of the polycondensate (α) and the (meth) acrylic acid halide (β) in step 1-3 is such that the target radical curable compound (A) has high purity and is obtained in good yield. When the mole number of the phenolic hydroxyl group contained in the polycondensate (α) is α ′, [(α ′) / (β)] is preferably in the range of 1 / 0.5 to 1/3 in terms of molar ratio. A range of 1/1 to 1/2 is more preferable.

本発明のアクリル系重合体は、前記ラジカル硬化性化合物(A)をラジカル重合させて得られる重合体(I)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて得られる。重合体(I)は、例えば、重合開始剤を加えて、活性エネルギー線を照射するか、熱を加えて硬化させることにより得ることができる。   The acrylic polymer of the present invention is obtained by reacting the polymer (I) obtained by radical polymerization of the radical curable compound (A) with the aldehyde compound (B). The polymer (I) can be obtained, for example, by adding a polymerization initiator and irradiating with active energy rays or by applying heat to cure.

前記ラジカル硬化性化合物(A)に活性エネルギー線を照射してラジカル重合により硬化させる場合には、重合開始剤として、分子内開裂型光重合開始剤又は水素引き抜き型光重合開始剤を用いる。   When the radical curable compound (A) is irradiated with active energy rays and cured by radical polymerization, an intramolecular cleavage type photopolymerization initiator or a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator is used as the polymerization initiator.

前記分子内開裂型光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン系化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン類;2,4,6−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物;1,1’−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、2−シアノ−2−プロピルアゾホルムアミド等のアゾ化合物;ベンジル、メチルフェニルグリオキシエステル等が挙げられる。   Examples of the intramolecular cleavage type photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1- (4 -Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thio Acetophenone-based compounds such as methylphenyl) propan-1-one and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone; benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin isopropyl ether; 4,6-trimethylbenzoindiphenylphos Acylphosphine oxide compounds such as fin oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; 1,1′-azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobiscyclohexanecarbonitrile, 2 -Azo compounds such as cyano-2-propylazoformamide; benzyl, methylphenylglyoxyester and the like.

前記水素引き抜き型光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル−4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系化合物;ミヒラ−ケトン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物;10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアンスラキノン、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン等が挙げられる。   Examples of the hydrogen abstraction type photopolymerization initiator include benzophenone, methyl-4-phenylbenzophenone o-benzoylbenzoate, 4,4′-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyl-diphenyl sulfide, Benzophenone compounds such as acrylated benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone; 2-isopropylthioxanthone, 2,4- Thioxanthone compounds such as dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; Aminobenzophenone compounds such as Michler-ketone and 4,4′-diethylaminobenzophenone; 10-butyl 2-chloro-acridone, 2-ethyl anthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and the like.

上記の光重合開始剤の中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノンが好ましく、特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。また、これらの光重合開始剤は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。   Among the above photopolymerization initiators, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl- Acetophenone compounds such as 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone and benzophenone are preferred, and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is particularly preferred. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

前記光重合開始剤の使用量は、ラジカル硬化性化合物(A)100質量部に対し、0.01〜20質量部が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、0.5〜10質量部がさらに好ましい。なお、活性エネルギー線として、後述する電子線を用いる場合には、光重合開始剤は不要である。   0.01-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of radical curable compounds (A), and, as for the usage-amount of the said photoinitiator, 0.1-15 mass% is more preferable, 0.5-10 masses Part is more preferred. In addition, when using the electron beam mentioned later as an active energy ray, a photoinitiator is unnecessary.

ラジカル硬化性化合物(A)の硬化に用いる活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等の電離放射線が挙げられる。これらの活性エネルギー線を発生させるエネルギー源又は硬化装置としては、例えば、殺菌灯、紫外線灯(ブラックライト)、カーボンアーク、キセノンランプ、複写用高圧水銀灯、中圧又は高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ArFエキシマレーザー、紫外線LED、自然光等を光源とする紫外線、又は走査型、カーテン型電子線加速器による電子線等が挙げられる。   Examples of active energy rays used for curing the radical curable compound (A) include ionizing radiation such as ultraviolet rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. Examples of energy sources or curing devices that generate these active energy rays include germicidal lamps, ultraviolet lamps (black lights), carbon arcs, xenon lamps, high pressure mercury lamps for copying, medium or high pressure mercury lamps, ultrahigh pressure mercury lamps, Examples thereof include an electrode lamp, a metal halide lamp, an ArF excimer laser, an ultraviolet LED, an ultraviolet ray using natural light as a light source, or an electron beam by a scanning type or curtain type electron beam accelerator.

また、ラジカル硬化性化合物(A)を熱ラジカル重合により硬化させる場合には、熱ラジカル重合開始剤を用いる。前記熱ラジカル重合開始剤として、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、3,3,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、メチルエチルケトンパーオキサイド、t−ブチルパーオキシフタレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、t−ブチルパーオキシ−2−ヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエート等の有機過酸化物;1,1’−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、2−シアノ−2−プロピルアゾホルムアミド等のアゾ化合物等が挙げられる。これらの熱ラジカル重合開始剤の中でも、ベンゾイルパーオキサイド、1,1’−アゾビスイソブチロニトリルが好ましい。また、これらの熱ラジカル重合開始剤は、単独で用いることも、2種以上を併用することもできる。   When the radical curable compound (A) is cured by thermal radical polymerization, a thermal radical polymerization initiator is used. Examples of the thermal radical polymerization initiator include benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, 3,3,5-trimethylhexanoyl peroxide, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, and methyl ethyl ketone. Peroxide, t-butyl peroxyphthalate, t-butyl peroxybenzoate, di-t-butyl peroxyacetate, t-butyl peroxyisobutyrate, t-butyl peroxy-2-hexanoate, t-butyl peroxy Organic peroxides such as 3,3,5-trimethylhexanoate; 1,1′-azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobiscyclohexanecarbonitrile, 2-cyano-2-propylazoformamide And azo compounds. Among these thermal radical polymerization initiators, benzoyl peroxide and 1,1'-azobisisobutyronitrile are preferable. Moreover, these thermal radical polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

前記熱ラジカル重合開始剤の使用量は、ラジカル硬化性化合物(A)100質量部に対し、0.01〜20質量部が好ましく、0.1〜15質量%がより好ましく、0.5〜10質量部がさらに好ましい。   0.01-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of radical curable compounds (A), and, as for the usage-amount of the said thermal radical polymerization initiator, 0.1-15 mass% is more preferable, 0.5-10 Part by mass is more preferable.

重合体(I)の重量平均分子量(Mw)は、アルデヒド化合物(B)と反応(付加縮合)させる際に、溶剤に溶解させやすいことから2,000〜60,000が好ましく、5,000〜30,000がより好ましい。   The weight average molecular weight (Mw) of the polymer (I) is preferably from 2,000 to 60,000, preferably from 5,000 to 50,000 because it is easily dissolved in a solvent when reacted (addition condensation) with the aldehyde compound (B). 30,000 is more preferable.

本発明で用いるアルデヒド化合物(B)としては、例えば、芳香族アルデヒド、脂肪族アルデヒド等が挙げられる。芳香族アルデヒドとしては、例えば、ベンズアルデヒド、o−トルアルデヒド、サリチルアルデヒド、桂皮アルデヒド、α−ナフトアルデヒド等が挙げられる。脂肪族アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレリンアルデヒド、ピバリンアルデヒド、カプロンアルデヒド、ヘプトアルデヒド、カプリルアルデヒド、ペラルゴンアルデヒド、カプリンアルデヒド、ウンデシルアルデヒド、ラウリンアルデヒド、トリデシルアルデヒド、ステアリンアルデヒド、グリオキザ−ル、スクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド等が挙げられる。アルデヒド化合物(B)としては、重合体(I)との反応性が良好で、本発明のアクリル系重合体を得やすいことから脂肪族アルデヒドが好ましくホルムアルデヒドがより好ましい。   Examples of the aldehyde compound (B) used in the present invention include aromatic aldehydes and aliphatic aldehydes. Examples of aromatic aldehydes include benzaldehyde, o-tolualdehyde, salicylaldehyde, cinnamic aldehyde, α-naphthaldehyde and the like. Examples of the aliphatic aldehyde include formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, isobutyraldehyde, valeraldehyde, isovalerinaldehyde, pivalinaldehyde, capronaldehyde, heptaldehyde, caprylaldehyde, pelargonaldehyde, caprinaldehyde, Examples include undecyl aldehyde, lauric aldehyde, tridecyl aldehyde, stearaldehyde, glyoxal, succindialdehyde, glutardialdehyde and the like. As the aldehyde compound (B), an aliphatic aldehyde is preferable and formaldehyde is more preferable because reactivity with the polymer (I) is good and the acrylic polymer of the present invention is easily obtained.

重合体(I)とアルデヒド化合物(B)との反応は、例えば、60〜100℃で2〜20時間行えばよく、これにより、本発明のアクリル系重合体が得られる。   The reaction between the polymer (I) and the aldehyde compound (B) may be performed, for example, at 60 to 100 ° C. for 2 to 20 hours, whereby the acrylic polymer of the present invention is obtained.

本発明のアクリル系重合体はラジカル硬化性化合物(A)をラジカル重合させて得られる重合体(I)を得た後、重合体(I)とアルデヒド化合物(B)とを速やかに反応させて得ても良いし、重合体(I)を得た後、これを一時保管しておき、後日アルデヒド化合物(B)と反応させて得ても良い。   The acrylic polymer of the present invention obtains a polymer (I) obtained by radical polymerization of the radical curable compound (A), and then quickly reacts the polymer (I) with the aldehyde compound (B). After obtaining the polymer (I), it may be temporarily stored and reacted with the aldehyde compound (B) at a later date.

また、本発明のもう一つのアクリル系重合体は、ラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて得られる重合体(II)をラジカル重合させて得られる。ラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)との反応は、例えば、60〜100℃で2〜20時間行えばよい。このときに得られる重合体(II)の重量平均分子量(Mw)は、ラジカル重合反応が良好に進むことから2,000〜60000が好ましく、5,000〜20,000がより好ましい。   Another acrylic polymer of the present invention is obtained by radical polymerization of a polymer (II) obtained by reacting a radical curable compound (A) with an aldehyde compound (B). The reaction between the radical curable compound (A) and the aldehyde compound (B) may be performed, for example, at 60 to 100 ° C. for 2 to 20 hours. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer (II) obtained at this time is preferably from 2,000 to 60,000, more preferably from 5,000 to 20,000, since the radical polymerization reaction proceeds well.

重合体(II)をラジカル重合させるには、例えば、重合体(I)の調製時と同様に、重合開始剤を加えて、活性エネルギー線を照射するか、熱を加えて硬化させることにより行うことができる。   In order to radically polymerize the polymer (II), for example, as in the preparation of the polymer (I), it is performed by adding a polymerization initiator and irradiating active energy rays or applying heat to cure. be able to.

本発明のアクリル系重合体はラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて得られる重合体(II)を得た後、重合体(II)を速やかにラジカル重合させて得ても良いし、重合体(II)を得た後、これを一時保管しておき、後日ラジカル重合させて得ても良い。   The acrylic polymer of the present invention obtains a polymer (II) obtained by reacting a radical curable compound (A) with an aldehyde compound (B), and then rapidly radically polymerizes the polymer (II). After obtaining the polymer (II), it may be temporarily stored, and may be obtained by radical polymerization at a later date.

以下に具体的な例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する。なお、化合物の同定に用いたNMRスペクトルの測定方法は下記の通りである。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with specific examples. In addition, the measuring method of the NMR spectrum used for the identification of a compound is as follows.

H−NMRスペクトル測定方法]
日本電子株式会社製「JNM−GSX500(500MHz,DMSO−d6,TMS)」を用いて構造解析を行った。
[1 H-NMR spectrum measurement method]
Structural analysis was performed using “JNM-GSX500 (500 MHz, DMSO-d6, TMS)” manufactured by JEOL Ltd.

合成例1〔ラジカル硬化性化合物(A)の合成〕
冷却管を設置した100ml二口フラスコに2,5−キシレノール7.32g(60mmol)、テレフタルアルデヒド2.01g(15mmol)を仕込み、2−エトキシエタノール30mlに溶解させた。氷浴中で冷却しながら硫酸2mlを添加した後、80℃のオイルバス中で2時間加熱、攪拌し反応させた。反応後、得られた溶液を水で再沈殿操作を行い、粗生成物を得た。粗生成物をアセトンに再溶解し、さらに水で再沈殿操作を行った後、得られた生成物をろ別、真空乾燥を行い、淡赤色粉末の下記に示す4官能フェノール化合物(a1−1)6.23gを得た。GPC、1H−NMRより目的化合物の生成を確認した。
Synthesis Example 1 [Synthesis of radical curable compound (A)]
In a 100 ml two-necked flask equipped with a condenser tube, 7.32 g (60 mmol) of 2,5-xylenol and 2.01 g (15 mmol) of terephthalaldehyde were charged and dissolved in 30 ml of 2-ethoxyethanol. 2 ml of sulfuric acid was added while cooling in an ice bath, and then the mixture was heated and stirred in an oil bath at 80 ° C. for 2 hours for reaction. After the reaction, the resulting solution was reprecipitated with water to obtain a crude product. The crude product was redissolved in acetone, and further reprecipitated with water. The obtained product was filtered and dried in vacuum, and a tetrafunctional phenol compound (a1-1) shown below as a pale red powder was obtained. ) 6.23 g was obtained. Formation of the target compound was confirmed by GPC and 1H-NMR.

Figure 2014201691
Figure 2014201691

窒冷却管を設置した100ml二口フラスコに4官能フェノール化合物(a1−1)2.93g(5mmol)、炭酸カリウム4.15g(30mmol)、テトラヒドロフラン30mlを仕込み攪拌を開始した。氷浴中で冷却しながらアクリル酸クロライド1.35g(15mmol)を30分で滴下しながら添加した後、70℃のオイルバス中で16時間加熱、攪拌し反応させた。反応後、得られた溶液から固形分をろ別し、ろ液をクロロホルム60mlと混合し、水50mlで3回洗浄を行った。下層である有機物を分取後、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶液を減圧留去し白色針状結晶のラジカル硬化化合物(A1)1.98gを得た。1H NMRの各ピークより同定し、平均置換数2.4の目的化合物を得たことを確認した。   A tetrafunctional phenol compound (a1-1) 2.93 g (5 mmol), potassium carbonate 4.15 g (30 mmol), and tetrahydrofuran 30 ml were charged into a 100 ml two-necked flask equipped with a nitrogen condenser, and stirring was started. While cooling in an ice bath, 1.35 g (15 mmol) of acrylic acid chloride was added dropwise over 30 minutes, and then the reaction was carried out by heating and stirring in an oil bath at 70 ° C. for 16 hours. After the reaction, the solid content was filtered off from the resulting solution, and the filtrate was mixed with 60 ml of chloroform and washed three times with 50 ml of water. The organic substance as the lower layer was collected and dried over sodium sulfate, and then the solution was distilled off under reduced pressure to obtain 1.98 g of a white needle crystal radical curing compound (A1). It identified from each peak of 1H NMR, and it confirmed that the target compound of the average substitution number 2.4 was obtained.

合成例2(同上)
アクリル酸クロライドを1.80g(20mmol)を使用した他は合成例1と同様の操作を行い、白色針状結晶のラジカル硬化化合物(A2)1.67gを得た。1H NMRの各ピークより同定し、平均置換数がそれぞれ3.0である目的化合物を得たことを確認した。
Synthesis example 2 (same as above)
The same operation as in Synthesis Example 1 was performed except that 1.80 g (20 mmol) of acrylic acid chloride was used, to obtain 1.67 g of a white needle crystal radical curing compound (A2). It identified from each peak of 1H NMR, and it confirmed that the target compound whose average substitution number is 3.0 respectively was obtained.

合成例3(同上)
アクリル酸クロライドを2.70g(30mmol)を使用した他は合成例1と同様の操作を行い、白色針状結晶のラジカル硬化化合物(A3)1.72gを得た。1H NMRの各ピークより同定し、平均置換数がそれぞれ3.6である目的化合物を得たことを確認した。
Synthesis example 3 (same as above)
The same operation as in Synthesis Example 1 was performed except that 2.70 g (30 mmol) of acrylic acid chloride was used, to obtain 1.72 g of a radical curing compound (A3) of white needle crystals. It identified from each peak of 1H NMR, and it confirmed that the target compound whose average substitution number is 3.6 respectively was obtained.

合成例4〔比較対照用ラジカル硬化性化合物(a´)の合成〕
アクリル酸クロライドをそれぞれ5.40g(60mmol)を使用した他は合成例1と同様の操作を行い、白色針状結晶のラジカル硬化化合物(a´1)2.03gを得た。1H NMRの各ピークより同定し、平均置換数が4.0である目的化合物を得たことを確認した。
Synthesis Example 4 [Synthesis of radical curable compound (a ′) for comparison]
The same operation as in Synthesis Example 1 was carried out except that 5.40 g (60 mmol) of acrylic acid chloride was used, respectively, to obtain 2.03 g of a white needle crystal radical curing compound (a′1). It identified from each peak of 1H NMR, and it confirmed that the target compound whose average substitution number is 4.0 was obtained.

合成例5(同上)
フェノールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当量190g/eq)150gとアクリル酸30g及び溶剤としてプロピレングリコールモノメチルアセテート80gを反応容器に仕込み、100℃で5時間反応させてフェノールノボラックエポキシアクリレート〔以下、ラジカル硬化性化合物(a´2)と略記する。〕174gを得た。
Synthesis example 5 (same as above)
150 g of phenol novolac epoxy resin (epoxy equivalent 190 g / eq), 30 g of acrylic acid and 80 g of propylene glycol monomethyl acetate as a solvent were charged in a reaction vessel and reacted at 100 ° C. for 5 hours to give phenol novolac epoxy acrylate [hereinafter, radical curable compound ( a'2). 174 g was obtained.

実施例1
ラジカル硬化性化合物(A1)0.5gと、イルガキュア184(チバ・スペシャリティ(株)製)0.05gと、テトラヒドロフラン0.5gをシュレンク管に入れ、窒素雰囲気で凍結乾燥を行った。シュレンク管を密閉し、340nmのバンドパスフィルターを装着した高圧水銀灯で3時間光を照射することによりラジカル硬化性化合物(A1)をラジカル重合させて重合体(I−1)を含む生成物を得た。この生成物に対してメタノールで再沈殿操作を行い、得られた沈殿物をろ過、真空乾燥を行い重合体(I−1)0.32gを得た。冷却管を設置した100ml二口フラスコに重合体(I−1)0.30g、パラホルムアルデヒド0.05g、2−エトキシエタノール10mlを仕込み攪拌を開始した。氷浴中で冷却しながら硫酸0.1mlを添加した後、70℃のオイルバス中で4時間加熱、攪拌し反応させた。得られた溶液を水で再沈殿操作を行い、本発明のアクリル系重合体(1)を含む粗生成物を得た。粗生成物をアセトンに再溶解し、さらに水で再沈殿操作を行った後、得られた生成物をろ別、真空乾燥を行い、アクリル系重合体(1)を得た。
Example 1
0.5 g of radical curable compound (A1), 0.05 g of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty) and 0.5 g of tetrahydrofuran were placed in a Schlenk tube and freeze-dried in a nitrogen atmosphere. The Schlenk tube is sealed and the radical curable compound (A1) is radically polymerized by irradiating light with a high pressure mercury lamp equipped with a 340 nm bandpass filter for 3 hours to obtain a product containing the polymer (I-1). It was. This product was reprecipitated with methanol, and the resulting precipitate was filtered and vacuum dried to obtain 0.32 g of polymer (I-1). A 100 ml two-necked flask equipped with a condenser was charged with 0.30 g of polymer (I-1), 0.05 g of paraformaldehyde, and 10 ml of 2-ethoxyethanol, and stirring was started. While adding 0.1 ml of sulfuric acid while cooling in an ice bath, the mixture was heated and stirred in an oil bath at 70 ° C. for 4 hours for reaction. The obtained solution was reprecipitated with water to obtain a crude product containing the acrylic polymer (1) of the present invention. The crude product was redissolved in acetone and further reprecipitated with water, and then the obtained product was filtered and vacuum dried to obtain an acrylic polymer (1).

得られたアクリル系重合体(1)の溶剤への溶解性と耐熱性を下記に従って評価した。評価結果を第1表に示す。   The solubility and heat resistance of the obtained acrylic polymer (1) in a solvent were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 1.

<溶剤への溶解性の評価方法>
アクリル系重合体(1)0.5gとテトラヒドロフラン0.5gをマイクロマグネチックスターラーチップを入れたスクリューキャップ付6mlサンプル瓶に仕込み、目視でアクリル系重合体(1)が溶解するまでの時間で判定した。1分以内に溶けるものを◎、5分以内に溶けるものを○、1時間以内に溶けるものを△、不溶物が残るものを×とした。
<Method for evaluating solubility in solvent>
Charge 0.5 g of acrylic polymer (1) and 0.5 g of tetrahydrofuran into a 6 ml sample bottle with a screw cap containing a micromagnetic stirrer chip, and judge by the time until the acrylic polymer (1) dissolves visually. did. Those that melted within 1 minute were marked as ◎, those that melted within 5 minutes were marked with ○, those that melted within 1 hour were marked with Δ, and those that remained insoluble were marked with ×.

<耐熱性の評価方法>
ガラス転移温度を測定することにより耐熱性を評価した。測定は、示差走査熱量計((株)TAインスツルメント製、DSC Q100)を用い、窒素雰囲気下、温度範囲25〜450℃、昇温温度10℃/分の条件で走査を行う事で行った。
<Method for evaluating heat resistance>
The heat resistance was evaluated by measuring the glass transition temperature. The measurement is performed by using a differential scanning calorimeter (manufactured by TA Instruments Co., Ltd., DSC Q100) under a nitrogen atmosphere and scanning under conditions of a temperature range of 25 to 450 ° C. and a temperature rising temperature of 10 ° C./min. It was.

実施例2
冷却管を設置した100ml二口フラスコにラジカル硬化性化合物(A1)0.5gとパラホルムアルデヒド0.1gと、2−エトキシエタノール10mlを仕込み攪拌を開始した。氷浴中で冷却しながら硫酸0.1mlを添加した後、70℃のオイルバス中で4時間加熱、攪拌し反応させて重合体(II−1)を含む生成物を得た。この生成物に対して水で再沈殿操作を行い、重合体(II−1)の粗生成物を得た。粗生成物をアセトンに再溶解し、さらに水で再沈殿操作を行った後、得られた生成物をろ別、真空乾燥を行い、重合体(II−1)0.42gを得た。合成した重合体(II−1)0.4gとイルガキュア184(千葉・スペシャリティ(株)製)0.04gとテトラヒドロフラン0.5gをシュレンク管に入れ、窒素雰囲気で凍結乾燥を行った。この反応器を密閉し、340nmのバンドパスフィルターを装着した高圧水銀灯で3時間光を照射し、本発明のアクリル系重合体(2)を含む粗生成物を得た。粗生成物に対してメタノールで再沈殿操作を行い、得られた沈殿物をろ過、真空乾燥を行いアクリル系重合体(2)gを得た。実施例1と同様にしてアクリル系重合体(2)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第1表に示す。
Example 2
A 100 ml two-necked flask equipped with a condenser was charged with 0.5 g of radical curable compound (A1), 0.1 g of paraformaldehyde, and 10 ml of 2-ethoxyethanol, and stirring was started. After adding 0.1 ml of sulfuric acid while cooling in an ice bath, the mixture was heated, stirred and reacted in an oil bath at 70 ° C. for 4 hours to obtain a product containing the polymer (II-1). This product was reprecipitated with water to obtain a crude product of polymer (II-1). The crude product was redissolved in acetone and further reprecipitated with water, and then the obtained product was filtered and vacuum dried to obtain 0.42 g of polymer (II-1). 0.4 g of the synthesized polymer (II-1), 0.04 g of Irgacure 184 (manufactured by Chiba Specialty Co., Ltd.) and 0.5 g of tetrahydrofuran were placed in a Schlenk tube and freeze-dried in a nitrogen atmosphere. The reactor was sealed and irradiated with light from a high-pressure mercury lamp equipped with a 340 nm bandpass filter for 3 hours to obtain a crude product containing the acrylic polymer (2) of the present invention. The crude product was reprecipitated with methanol, and the resulting precipitate was filtered and vacuum dried to obtain an acrylic polymer (2) g. In the same manner as in Example 1, the solubility of the acrylic polymer (2) in the solvent and the heat resistance were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例3
ラジカル硬化性化合物(A1)の代わりにラジカル硬化性化合物(A2)を用いた以外は実施例1と同様にしてアクリル系重合体(3)を得た。実施例1と同様にしてアクリル系重合体(3)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第1表に示す。
Example 3
An acrylic polymer (3) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the radical curable compound (A2) was used instead of the radical curable compound (A1). In the same manner as in Example 1, the solubility of the acrylic polymer (3) in the solvent and the heat resistance were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例4
ラジカル硬化性化合物(A1)の代わりにラジカル硬化性化合物(A2)を用いた以外は実施例2と同様にしてアクリル系重合体(4)を得た。実施例1と同様にしてアクリル系重合体(4)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第1表に示す。
Example 4
An acrylic polymer (4) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the radical curable compound (A2) was used instead of the radical curable compound (A1). In the same manner as in Example 1, the solubility of the acrylic polymer (4) in the solvent and the heat resistance were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例5
ラジカル硬化性化合物(A1)の代わりにラジカル硬化性化合物(A3)を用いた以外は実施例1と同様にしてアクリル系重合体(5)を得た。実施例1と同様にしてアクリル系重合体(5)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第1表に示す。
Example 5
An acrylic polymer (5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the radical curable compound (A3) was used instead of the radical curable compound (A1). In the same manner as in Example 1, the solubility of the acrylic polymer (5) in the solvent and the heat resistance were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例4
ラジカル硬化性化合物(A1)の代わりにラジカル硬化性化合物(A3)を用いた以外は実施例2と同様にしてアクリル系重合体(5)を得た。実施例1と同様にしてアクリル系重合体(6)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第1表に示す。
Example 4
An acrylic polymer (5) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the radical curable compound (A3) was used instead of the radical curable compound (A1). In the same manner as in Example 1, the solubility of the acrylic polymer (6) in the solvent and the heat resistance were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

比較例1
ラジカル硬化性化合物(A1)の代わりに比較対照用ラジカル硬化性化合物(a´1)を用いた以外は実施例1と同様にして比較対照用アクリル系重合体(1´)を得た。実施例1と同様にして比較対照用アクリル系重合体(1´)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第2表に示す。
Comparative Example 1
A comparative acrylic polymer (1 ′) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the comparative radical curable compound (a′1) was used instead of the radical curable compound (A1). In the same manner as in Example 1, the solubility and heat resistance of the comparative acrylic polymer (1 ′) in the solvent were evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

比較例2
ラジカル硬化性化合物(A1)の代わりに比較対照用ラジカル硬化性化合物(a´1)を用いた以外は実施例2と同様にして比較対照用アクリル系重合体(2´)を得た。実施例1と同様にして比較対照用アクリル系重合体(2´)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第2表に示す。
Comparative Example 2
A comparative acrylic polymer (2 ′) was obtained in the same manner as in Example 2 except that the comparative radical curable compound (a′1) was used instead of the radical curable compound (A1). In the same manner as in Example 1, the solubility and heat resistance of the comparative acrylic polymer (2 ′) in the solvent were evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

比較例3
比較対照用ラジカル硬化性化合物(a´2)0.5gとイルガキュア184〔千葉・スペシャリティ(株)製〕0.05gとテトラヒドロフラン0.5gをシュレンク管に入れ、窒素雰囲気で凍結乾燥を行った。この反応器を密閉し、340nmのバンドパスフィルターを装着した高圧水銀灯で3時間光を照射した。得られた内容物をメタノールで再沈殿操作を行い、得られた沈殿物をろ過、真空乾燥を行い比較対照用重合体(3´)を得た。実施例1と同様にして比較対照用重合体(3´)の溶剤への溶解性と耐熱性の評価を行った。評価結果を第2表に示す。
Comparative Example 3
A comparative radical curable compound (a′2) 0.5 g, Irgacure 184 [manufactured by Chiba Specialty Co., Ltd.] 0.05 g and tetrahydrofuran 0.5 g were placed in a Schlenk tube and freeze-dried in a nitrogen atmosphere. The reactor was sealed and irradiated for 3 hours with a high pressure mercury lamp equipped with a 340 nm bandpass filter. The obtained content was reprecipitated with methanol, and the resulting precipitate was filtered and vacuum dried to obtain a comparative polymer (3 ′). In the same manner as in Example 1, the solubility and heat resistance of the comparative polymer (3 ′) in the solvent were evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2014201691
Figure 2014201691

Figure 2014201691
Figure 2014201691

Claims (14)

下記一般式(1)または一般式(2)
Figure 2014201691
〔式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。X〜Xはそれぞれ独立して下記式(a)
Figure 2014201691
で表される基または水素原子であるが、少なくとも一つは式(a)で表される基であり、また、少なくとも一つは水素原子である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。〕で表されるラジカル硬化性化合物(A)をラジカル重合させて得られる重合体(I)と、アルデヒド化合物(B)とを反応させて得られることを特徴とするアクリル系重合体。
The following general formula (1) or general formula (2)
Figure 2014201691
[In formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. X 1 to X 4 each independently represent the following formula (a)
Figure 2014201691
Or at least one is a group represented by the formula (a), and at least one is a hydrogen atom. m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4. An acrylic polymer obtained by reacting a polymer (I) obtained by radical polymerization of a radical curable compound (A) represented by formula (B) with an aldehyde compound (B).
前記一般式(1)または一般式(2)で表されるラジカル硬化性化合物(A)が下記一般式(1−1)または一般式(2−1)
Figure 2014201691
〔式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。X〜Xはそれぞれ独立して下記式(a)
Figure 2014201691
で表される基または水素原子であるが、少なくとも一つは式(a)で表される基である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。〕で表されるラジカル硬化性化合物である請求項1記載のアクリル系重合体。
The radical curable compound (A) represented by the general formula (1) or the general formula (2) is represented by the following general formula (1-1) or the general formula (2-1).
Figure 2014201691
[In formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. X 1 to X 4 each independently represent the following formula (a)
Figure 2014201691
Or at least one group represented by the formula (a). m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4. The acrylic polymer according to claim 1, which is a radical curable compound represented by the formula:
前記ラジカル硬化性化合物(A)が一般式(3)または一般式(4)
Figure 2014201691
〔式中、R〜Rは、それぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基である。X〜Xはそれぞれ独立して下記式(a)
Figure 2014201691
で表される基または水素原子であるが、少なくとも一つは式(a)で表される基である。m、n、o、pおよびqは、それぞれ独立して1〜4の整数である。〕で表されるラジカル硬化性化合物である請求項2記載のアクリル系重合体。
The radical curable compound (A) is represented by the general formula (3) or the general formula (4).
Figure 2014201691
[In formula, R < 1 > -R < 5 > is a C1-C8 alkyl group each independently. X 1 to X 4 each independently represent the following formula (a)
Figure 2014201691
Or at least one group represented by the formula (a). m, n, o, p, and q are each independently an integer of 1 to 4. The acrylic polymer according to claim 2, which is a radical curable compound represented by the formula:
前記ラジカル硬化性化合物(A)が、(a)で表される基を平均2.2〜3.8個有するラジカル硬化性化合物である請求項1〜3のいずれか1項記載のアクリル系重合体。   The acrylic radical weight according to any one of claims 1 to 3, wherein the radical curable compound (A) is a radical curable compound having an average of 2.2 to 3.8 groups represented by (a). Coalescence. 前記R〜Rがそれぞれ独立してメチル基である請求項1〜4のいずれか1記載のアクリル系重合体。 The acrylic polymer according to any one of claims 1 to 4, wherein each of R 1 to R 5 is independently a methyl group. 前記m、n、pおよびqが、それぞれ独立して1〜3の整数であり、oが1である請求項1または2記載のアクリル系重合体。   The acrylic polymer according to claim 1 or 2, wherein m, n, p and q are each independently an integer of 1 to 3, and o is 1. 前記アルデヒド化合物(B)がホルムアルデヒドである請求項1〜6のいずれか1項記載のアクリル系重合体。   The acrylic polymer according to any one of claims 1 to 6, wherein the aldehyde compound (B) is formaldehyde. 前記ラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて得られる重合体(II)をラジカル重合させて得られることを特徴とするアクリル系重合体。   An acrylic polymer obtained by radical polymerization of a polymer (II) obtained by reacting the radical curable compound (A) with an aldehyde compound (B). 前記ラジカル硬化性化合物(A)が前記一般式(3)または一般式(4)で表され、前記(a)で表される基を平均2.2〜3.8個有するラジカル硬化性化合物である請求項8記載のアクリル系重合体。   The radical curable compound (A) is represented by the general formula (3) or the general formula (4), and is a radical curable compound having an average of 2.2 to 3.8 groups represented by the above (a). The acrylic polymer according to claim 8. 前記R〜Rがそれぞれ独立してメチル基である請求項8または9記載のアクリル系重合体。 The acrylic polymer according to claim 8 or 9, wherein R 1 to R 5 are each independently a methyl group. 前記m、n、pおよびqが、それぞれ独立して1〜3の整数であり、oが1である請求項1または2記載のアクリル系重合体   3. The acrylic polymer according to claim 1, wherein m, n, p and q are each independently an integer of 1 to 3, and o is 1. 前記アルデヒド化合物(B)がホルムアルデヒドである請求項8〜11のいずれか1項記載のアクリル系重合体。   The acrylic polymer according to any one of claims 8 to 11, wherein the aldehyde compound (B) is formaldehyde. 前記ラジカル硬化性化合物(A)をラジカル重合させて重合体(I)を得た後、重合体(I)とアルデヒド化合物(B)とを反応させることを特徴とするアクリル系重合体の製造方法。   A method for producing an acrylic polymer, wherein the radical curable compound (A) is radically polymerized to obtain a polymer (I), and then the polymer (I) is reacted with an aldehyde compound (B). . 前記ラジカル硬化性化合物(A)とアルデヒド化合物(B)とを反応させて重合体(II)を得た後、重合体(II)をラジカル重合させることを特徴とするアクリル系重合体の製造方法。   A method for producing an acrylic polymer, wherein the radical curable compound (A) and the aldehyde compound (B) are reacted to obtain a polymer (II), and then the polymer (II) is radically polymerized. .
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016113479A (en) * 2014-12-11 2016-06-23 Dic株式会社 (meth)acrylate compound, radical curable resin, radical curable composition, cured product of the same, resist material, and production method of radical curable resin
WO2017029935A1 (en) * 2015-08-18 2017-02-23 Dic株式会社 Novolac-type phenolic hydroxy group-containing resin, and resist film
WO2018105346A1 (en) * 2016-12-08 2018-06-14 Dic株式会社 Resin containing phenolic hydroxy group and resist material

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04301851A (en) * 1991-03-29 1992-10-26 Nippon Zeon Co Ltd Positive type resist composition
JPH0551418A (en) * 1991-08-26 1993-03-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Sealing resin composition
WO2012121195A1 (en) * 2011-03-08 2012-09-13 Dic株式会社 Radically curable compound, cured product of same, and method for producing same
WO2014084097A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 Dic株式会社 Compound containing phenolic hydroxy group, composition containing phenolic hydroxy group, resin containing (meth)acryloyl group, curable composition and cured product thereof, and resist material

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04301851A (en) * 1991-03-29 1992-10-26 Nippon Zeon Co Ltd Positive type resist composition
JPH0551418A (en) * 1991-08-26 1993-03-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Sealing resin composition
WO2012121195A1 (en) * 2011-03-08 2012-09-13 Dic株式会社 Radically curable compound, cured product of same, and method for producing same
WO2014084097A1 (en) * 2012-11-28 2014-06-05 Dic株式会社 Compound containing phenolic hydroxy group, composition containing phenolic hydroxy group, resin containing (meth)acryloyl group, curable composition and cured product thereof, and resist material

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016113479A (en) * 2014-12-11 2016-06-23 Dic株式会社 (meth)acrylate compound, radical curable resin, radical curable composition, cured product of the same, resist material, and production method of radical curable resin
WO2017029935A1 (en) * 2015-08-18 2017-02-23 Dic株式会社 Novolac-type phenolic hydroxy group-containing resin, and resist film
JP6123967B1 (en) * 2015-08-18 2017-05-10 Dic株式会社 Novolac type phenolic hydroxyl group-containing resin and resist film
CN107848926A (en) * 2015-08-18 2018-03-27 Dic株式会社 Phenolic varnish type resin containing phenolic hydroxyl group and etchant resist
KR20180041716A (en) * 2015-08-18 2018-04-24 디아이씨 가부시끼가이샤 A novolac-type phenolic hydroxyl group-containing resin and a resist film
CN107848926B (en) * 2015-08-18 2021-04-20 Dic株式会社 Novolac type phenolic hydroxyl group-containing resin and resist film
KR102534516B1 (en) 2015-08-18 2023-05-22 디아이씨 가부시끼가이샤 Novolak-type phenolic hydroxyl group-containing resin and resist film
WO2018105346A1 (en) * 2016-12-08 2018-06-14 Dic株式会社 Resin containing phenolic hydroxy group and resist material
JPWO2018105346A1 (en) * 2016-12-08 2019-03-22 Dic株式会社 Phenolic hydroxyl group-containing resin and resist material

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