JP2014195966A - Laminated coating film and method for producing the same - Google Patents

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栄一 東川
Eiichi Tokawa
栄一 東川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated coating film for preventing the generation of "blocking" generated by the close adhesion of the surface and the rear surface of overlapped films and "winding deviation", that is, the deviation of winding position of the film during winding-up by a simple countermeasure, in the production of a laminated coating film by a roll-to-roll system, and to provide a method for producing the same.SOLUTION: The laminated coating film is a functional film obtained by laminating a plurality of layers on one surface or both surfaces of a base material and characterized in that the coating width of any layer other than the outermost layer is wider by 3 mm or more than the coating width of the outermost layer.

Description

本発明はフィルム基材に複数の層を積層した機能性フィルム及びその製造方法で、特にロール状に巻き取るロール・ツー・ロール方式での積層コーティングフィルム及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a functional film obtained by laminating a plurality of layers on a film substrate and a method for producing the same, and more particularly to a roll-to-roll laminated coating film and a method for producing the same.

エネルギー(各種電池など)、生活用品(包装材など)やディスプレイなど、基材となるフィルムにコーティングを施した機能性フィルムは非常に多くの分野、用途で用いられている。このようなコーティングを施した機能性フィルムに求められる機能は多種多様であり、さらに高機能化や機能複合化の要求に伴い、1層のコーティング層だけで全ての要求を満たす機能性フィルムを作製ことは難しく、一般にはそれぞれの機能を有した層を積層することで、複数の機能を併せ持った一つの機能性フィルムを作り出している。   Functional films obtained by coating a base film such as energy (various batteries, etc.), household goods (packaging materials, etc.) and displays are used in many fields and applications. There are a wide variety of functions required for functional films with such coatings, and in response to the demand for higher functionality and functional integration, a functional film that meets all requirements can be produced with only one coating layer. This is difficult, and generally, a functional film having a plurality of functions is created by laminating layers having respective functions.

これら機能性フィルムの用途は様々であるが、一方の面は何れかの部材に貼り合わされる目的として用いられ、他方は空気(いわゆる外部)に晒される目的で用いられることが多い。この外部に向けられる面については、使用環境において要求は異なるものの、総じて外部からの刺激に耐えることが必要であり、例えば傷つき防止や、汚れを防ぐ機能などが求められる。   There are various uses for these functional films, but one side is often used for the purpose of being bonded to any member, and the other side is often used for the purpose of being exposed to air (so-called outside). As for the surface directed to the outside, although there are different requirements in the usage environment, it is generally necessary to withstand external stimuli, and for example, a function to prevent scratches or prevent dirt is required.

このような機能性フィルム表面の傷つき防止や汚れ防止のため、シリコーンやフッ素などを官能基として組み込んだ有機あるいは無機材料が、最表面コーティング層の構成材料として一般的に良く用いられている。シリコーン及びフッ素はコーティング層表面の純水接触角を上昇させて汚れの付着を防止したり、付着した汚れの除去を簡便にする働きがあり、さらに表面に偏析して滑り性を与えることで、傷つきを防止する効果を出すことができる。   In order to prevent scratches and dirt on the functional film surface, organic or inorganic materials incorporating silicone or fluorine as a functional group are commonly used as the constituent material of the outermost coating layer. Silicone and fluorine increase the contact angle of pure water on the surface of the coating layer to prevent the adhesion of dirt, and have the function of simplifying the removal of the adhered dirt, and further segregate on the surface to give slipperiness. The effect which prevents a damage can be taken out.

例えばディスプレイの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ、有機ELディスプレイに関わらず、画面サイズの大型化や高精細化が進んでいる。それに伴い、視認性を向上させるための反射防止処理の要求も高まっており、反射防止層を設けた光学フィルムをディスプレイ前面に貼り合わせることが行われている。このようなディスプレイの場合、直接手が触れたり、物が接触することで傷をつけやすく、さらにフィルム基材そのものの機械強度が弱いことが多いため、まず透明基材上にハードコート層を形成し、次いで、防汚性、耐擦傷性を付与するためのシリコーンあるいはフッ素材料を含んだ反射防止層を形成した反射防止フィルムが広く用いられている。   For example, in the case of a display, regardless of a liquid crystal display, a plasma display, or an organic EL display, the screen size has been increased and the definition has been increased. Accordingly, there is an increasing demand for antireflection treatment for improving visibility, and an optical film provided with an antireflection layer is bonded to the front surface of the display. In the case of such a display, a hard coat layer is first formed on a transparent substrate because it is easy to be scratched by direct hand touching or touching objects, and the mechanical strength of the film substrate itself is often weak. Then, an antireflection film in which an antireflection layer containing silicone or a fluorine material for imparting antifouling properties and scratch resistance is formed is widely used.

一方、これら機能性フィルムの生産においては、大量生産性とコストダウンに対して有利なロール・ツー・ロール方式が盛んに用いられている。ロール・ツー・ロール方式では基材及び製品が数千m程度のロールとなるため、コーティングに関する技術はもちろんのこと、製品を不具合無く巻き取る技術も大変重要となる。   On the other hand, in the production of these functional films, a roll-to-roll system advantageous for mass productivity and cost reduction is actively used. In the roll-to-roll method, since the base material and the product are rolls of about several thousand meters, not only the technology relating to the coating but also the technology for winding up the product without any defects is very important.

ロール状に製品を巻き取る際の不具合としては、重なり合うフィルムの表裏面が密着し、フィルムそのものの変形を招いてしまう「ブロッキング」、巻き取り最中にフィルムの巻き位置がずれてしまう(または同位置に巻き続けられない)「巻きズレ」という2点が挙げられる。これらは用いているフィルムの種類、機械の構造や設定、生産速度等の様々な要因から発生状況が変わることが経験的に判明しており、傾向としては、巻き取り張力を緩くすることでフィルムの貼り付きによる「ブロッキング」を防止することができ、逆に巻き取り張力を強くすることで「巻きズレ」を防止することができることがわかっている。従ってこの「ブロッキング」と「巻きズレ」の2つはトレードオフの関係にあり、これらを両立する工夫が様々に検討されており、例えば基材の両端部にナールと呼ばれるエンボス加工を施したり、コーティング材料に耐ブロッキング剤として微粒子を添加する、もしくは微粒子添加層を形成する、または基材端部に帯状の対策層を塗布するなどの対策が知られている。   When rolling up a product in roll form, the front and back surfaces of the overlapping films are in close contact with each other, causing “blocking” that causes deformation of the film itself, and the winding position of the film is shifted during winding (or the same) There are two points: “winding misalignment”. It has been empirically found that the situation changes due to various factors such as the type of film used, the structure and settings of the machine, the production speed, etc. The tendency is to loosen the winding tension and film It has been found that “blocking” due to sticking can be prevented, and “winding deviation” can be prevented by increasing the winding tension. Therefore, the two "blocking" and "winding misalignment" are in a trade-off relationship, and various ideas have been studied to achieve both of them. For example, embossing called knurl is applied to both ends of the substrate, Measures such as adding fine particles as a blocking-resistant agent to the coating material, forming a fine particle-added layer, or applying a band-shaped countermeasure layer to the edge of the substrate are known.

しかしながら、先述のような機能性コーティングを実施した場合、その最表面にシリコーンやフッ素と言った滑り性が非常に高い層が形成されるため、巻き取り時のコーティング層表面と基材面が滑ることで巻きズレの状況が大幅に悪化する傾向があり、従来の対策では十分な効果が得られないことがある。さらにナールが存在しない基材へのコーティングや、耐ブロッキング剤の塗布が不可能な構成も存在するため、また、追加加工によるコストアップを避けるため、必要なコーティング層を積層する段階で、簡便にブロッキングもしくは巻きズレを改善できる施策が必要となっている。   However, when the functional coating as described above is performed, a layer with extremely high slip properties such as silicone and fluorine is formed on the outermost surface, so that the surface of the coating layer and the substrate surface slide during winding. As a result, the winding misalignment tends to be significantly worsened, and conventional measures may not provide sufficient effects. In addition, there are configurations that do not allow coating of nals on the base material or application of anti-blocking agents, and in order to avoid cost increases due to additional processing, it is easy to stack the necessary coating layers. Measures that can improve blocking or winding deviation are needed.

特許第4479260号公報Japanese Patent No. 4479260 特開2002−211803号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002- 211803 特開2009−229501号公報JP 2009-229501 A 特開2011−39089号公報JP 2011-39089 A 特開2011−218618号公報JP2011-218618A 特開2012−206502号公報JP 2012-206502 A

したがって本発明は、コーティング層形成段階で簡便にブロッキングもしくは巻きズレ対策を実施し、これら不具合の発生ない積層コーティングフィルムを提供すると共に、その製造方法を提供するものである。   Accordingly, the present invention provides a multilayer coating film that does not cause these defects by simply implementing a countermeasure against blocking or winding deviation at the coating layer forming stage, and also provides a method for producing the same.

上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明としては、基材上の片面、あるいは両面に複数の層を積層して得られる機能性フィルムであって、最表面ではない何れかの層の塗布幅が最表面層の塗布幅より3mm以上広いことを特徴とする機能性フィルムである。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is a functional film obtained by laminating a plurality of layers on one side or both sides of a substrate, and is not any outermost surface. The functional film is characterized in that the coating width of the layer is 3 mm or more wider than the coating width of the outermost layer.

また、請求項2に記載の発明としては、前記最表面層の両端部が、前記最表面層より3mm以上の広い塗布幅を持つ層の両端部より食み出ない位置または内側に積層されていることを特徴とした請求項1に記載の機能性フィルムである。   In the invention according to claim 2, both end portions of the outermost surface layer are laminated at a position where they do not protrude from both end portions of the layer having a wider application width of 3 mm or more than the outermost surface layer. 2. The functional film according to claim 1, wherein

また、請求項3に記載の発明としては、前記最表面層にシリコーンあるいはフッ素官能基を有する滑り剤または添加剤を含むことを特徴とした請求項1または2に記載した積層コーティングフィルムである。   The invention according to claim 3 is the laminated coating film according to claim 1 or 2, wherein the outermost surface layer contains a slipping agent or additive having silicone or a fluorine functional group.

また、請求項4に記載の発明としては、前記最表面層の厚さが1μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3に記載した積層コーティングフィルムである。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the multilayer coating film according to any one of the first to third aspects, wherein a thickness of the outermost surface layer is 1 μm or less.

また、請求項5に記載の発明としては、基材上の片面、あるいは両面に複数の層を積層して得られる機能性フィルムの製造方法において、基材上に塗液(A)を塗布した後に、該塗液(A)を乾燥させ、さらに乾燥させた塗液を硬化させる工程と、前記工程の後に、前記塗液(A)上に、前記塗液(A)と異なる組成の塗液(B)を塗布した後に、該塗液(B)を乾燥させ、さらに紫外線を照射して硬化させる工程と、を具備し、且つ前記塗液(B)の塗布部が前記塗液(A)の塗布部の両端部より食み出ない位置または内側に積層されていることを特徴とする積層コーティングフィルムの製造方法である。   Moreover, as invention of Claim 5, in the manufacturing method of the functional film obtained by laminating | stacking several layers on the single side | surface or both surfaces on a base material, the coating liquid (A) was apply | coated on the base material. Thereafter, the step of drying the coating solution (A), further curing the dried coating solution, and the coating solution having a composition different from that of the coating solution (A) on the coating solution (A) after the step. (B) is applied, and then the coating liquid (B) is dried and further cured by irradiating with ultraviolet rays, and the coating liquid (B) is applied to the coating liquid (A). It is the manufacturing method of the lamination | stacking coating film characterized by being laminated | stacked in the position which does not protrude from the both ends of an application part, or inside.

また、請求項6に記載の発明としては、請求項5に記載の積層コーティングフィルムの製造方法において、前記塗液(A)の塗布部の塗布幅が前記塗液(B)の塗布部の塗布幅より3mm以上広いことを特徴とする積層コーティングフィルムの製造方法である。   Moreover, as invention of Claim 6, in the manufacturing method of the multilayer coating film of Claim 5, the application width | variety of the application part of the said coating liquid (A) is application | coating of the application part of the said coating liquid (B). A method for producing a laminated coating film characterized by being 3 mm or more wider than the width.

また、請求項7に記載の発明としては、請求項5乃至6に記載の積層コーティングフィルムの製造方法において、前記塗液(B)にシリコーンあるいはフッ素官能基を有する滑り剤または添加剤を含むことを特徴とした積層コーティングフィルムの製造方法である。   In addition, as a seventh aspect of the present invention, in the method for producing a laminated coating film according to any of the fifth to sixth aspects, the coating liquid (B) includes a slipping agent or an additive having silicone or a fluorine functional group. Is a method for producing a laminated coating film.

また、請求項8に記載の発明としては、請求高5乃至7に記載の積層コーティングフィルムの製造方法において、前記塗液(B)の硬化後の厚さが1μm以下であることを特徴とする積層コーティングフィルムの製造方法である。   The invention according to claim 8 is characterized in that, in the method for producing a laminated coating film according to claims 5 to 7, the thickness of the coating liquid (B) after curing is 1 μm or less. It is a manufacturing method of a laminated coating film.

本発明により、最表面層から食み出すことになる最表面以外の層の端部がロール状に重なり合ったフィルムの幅方向の動きを抑制することで、大幅に巻きズレ耐性を向上させることができる。その結果、巻き取りの張力を下げることができるため、結果としてブロッキングの改善に繋げることができる。このように、本発明はフィルム基材に複数の層を積層した機能性フィルム及びその製造において、製品ロールでのブロッキングおよび巻きズレといった不具合の発生が防止された積層コーティングフィルム及び、不具合発生の無い安定した積層コーティングフィルムの製造方法を提案することができた。   By suppressing the movement in the width direction of the film in which the end portions of the layers other than the outermost surface that protrude from the outermost surface layer overlap in a roll shape according to the present invention, it is possible to greatly improve the winding misalignment resistance. it can. As a result, the winding tension can be lowered, and as a result, the blocking can be improved. As described above, the present invention provides a functional film in which a plurality of layers are laminated on a film base material, and a laminated coating film in which the occurrence of problems such as blocking and winding misalignment in a product roll is prevented, and no problem occurs. A method for producing a stable laminated coating film could be proposed.

図1は本発明の積層コーティングフィルムの一例の断面模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of the laminated coating film of the present invention. 図2は本発明の積層コーティングフィルムの図1とは異なる積層例の断面模式図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a laminated example different from FIG. 図3は本発明の実施形態の一つである反射防止フィルムの断面模式図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an antireflection film which is one embodiment of the present invention.

本発明の積層コーティングフィルム及びその製造方法について説明する。図1に本発明の積層コーティングフィルムの断面模式図を示した。図1の積層コーティングフィルム1にあっては基材12上に最表面以外の層11と最表面層10が積層されている。この構成であれば、最表面層10より最表面ではない層11の塗布幅が3mm以上広いことが、本発明の特徴である。なお、最表面層10より最表面層ではない層11の塗布幅が3mm以上広いことは、図1に記載されているような最表面層10が基材の中心部に積層され、最表面層の両側に塗布されていない未塗布の領域を有し、前記両側の未塗布の領域の幅の和が3mm以上である場合だけではなく、図2に記載のように、最表面層10が最表面層以外の層11の片側に寄っている場合も含まれ、もう一方の側に3mm以上広い塗布されていない未塗布の領域を有している場合も含まれる。また、図1では簡易的に2層の積層コーティングフィルムを表しているが、基材12と最表面層10の間にはより多くの層が積層されていて構わず、最表面層10以外の層の何れか1つが最表面層10より3mm以上広い塗布幅を有していれば良い。   The laminated coating film of the present invention and the production method thereof will be described. The cross-sectional schematic diagram of the laminated coating film of this invention was shown in FIG. In the laminated coating film 1 of FIG. 1, a layer 11 other than the outermost surface and an outermost surface layer 10 are laminated on a substrate 12. If it is this structure, it is the characteristics of this invention that the application | coating width | variety of the layer 11 which is not the outermost surface is 3 mm or more wider than the outermost surface layer 10. FIG. Note that the coating width of the layer 11 that is not the outermost surface layer is 3 mm or more wider than the outermost surface layer 10 is that the outermost surface layer 10 as shown in FIG. 2, and the outermost surface layer 10 is not the outermost coated layer as shown in FIG. 2. The case where it has approached to one side of layers 11 other than a surface layer is also included, and the case where it has an unapplied area | region which is 3 mm or more wide on the other side is included. In addition, in FIG. 1, a two-layer laminated coating film is simply shown, but more layers may be laminated between the base material 12 and the outermost surface layer 10, and the layers other than the outermost surface layer 10 may be laminated. Any one of the layers may have a coating width that is 3 mm or more wider than the outermost surface layer 10.

本発明は基材12のナール有無について規定するものではないが、基材両端部にナールが存在していて、最表面層より3mm以上広い最表面以外の層がナールの一部分または全部に重なるように積層されている場合、本発明の効果をさらに大きく発揮することが可能である。 Although this invention does not prescribe | regulate about the presence or absence of the nal of the base material 12, nals exist in both ends of the base material, and a layer other than the outermost surface layer 3 mm or more wider than the outermost surface layer overlaps part or all of the nal. When the layers are laminated as described above, the effects of the present invention can be further enhanced.

本発明で用いるコーティング材料については特に規定するものではないが、シロキサン構造を持つ熱硬化型樹脂、UVやEBを用いる電離放射線硬化型樹脂など、公知の樹脂を用いることができる。さらに、これらの樹脂に機能性を付与するために公知の微粒子や導電剤、添加剤を混合することも可能であるし、層間の密着性を高めるため、コロナ処理、プラズマ処理、アルカリ処理などの表面処理を基材および各層にそれぞれ実施することも可能である。   The coating material used in the present invention is not particularly defined, but known resins such as a thermosetting resin having a siloxane structure and an ionizing radiation curable resin using UV or EB can be used. Furthermore, it is possible to mix known fine particles, conductive agents and additives in order to impart functionality to these resins, and in order to improve the adhesion between layers, corona treatment, plasma treatment, alkali treatment, etc. It is also possible to carry out the surface treatment on the substrate and each layer.

さらに本発明を詳細に説明するために、例として反射防止フィルムを挙げて説明する。   Further, in order to explain the present invention in detail, an antireflection film will be described as an example.

〔透明基材について〕
反射防止フィルムを含む光学フィルムに用いる透明基材は、一般に種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。また、ロール状に巻き取り可能な十分に薄いガラスフィルムも用いることができる。これらは透明性や屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、有機高分子からなるフィルムまたはシートについては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなどのセルロース系、6−ナイロン、6,6−ナイロンなどのポリアミド系、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系、さらにポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリビニルアルコールなどが用いられる。特にポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートは光学特性の観点から好ましく用いられる。さらに、これらの有機高分子をフィルム化するに当たっては公知の添加剤、例えば紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、帯電防止剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤などを添加することにより各種機能を付与させることができる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる1種類または2種類以上の混合物、重合物からなるものでも良く、複数の層からなるものでも良い。これら透明基材の厚さとしては、5μm以上200μm以下であることが好ましく、さらに好ましくは20μm以上100μm以下である。
[About transparent substrate]
As the transparent substrate used for the optical film including the antireflection film, films or sheets made of various organic polymers can be generally used. A sufficiently thin glass film that can be wound into a roll can also be used. In consideration of optical properties such as transparency and refractive index, as well as various physical properties such as impact resistance, heat resistance, durability, etc., for films or sheets made of organic polymers, polyolefins such as polyethylene and polypropylene are used. Polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetylcellulose, diacetylcellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, acrylics such as polymethylmethacrylate, and polystyrene Polycarbonate, polyimide, polyvinyl alcohol, etc. are used. In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferably used from the viewpoint of optical properties. Furthermore, in forming these organic polymers into films, various known additives such as ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, antistatic agents, colorants, antioxidants, flame retardants and the like can be added. Functions can be added. Further, the transparent substrate may be composed of one kind or a mixture of two or more kinds selected from the above organic polymers, a polymer, or may be composed of a plurality of layers. The thickness of these transparent substrates is preferably 5 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 20 μm or more and 100 μm or less.

反射防止フィルムは透明基材上に反射防止層を形成することで得られる。反射防止層は原理的に最表面に形成されることが必要であるが、透明基材と反射防止層の間には他の機能層を何層でも設けることができる。先述の透明基材は単独で鉛筆硬度などの機械強度が弱いことが課題であるため、一般的に電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層が透明基材上に形成されることが多い。さらに反射防止機能を向上させるため、屈折率の異なる層を重ね合わせ、反射防止積層体を形成することもある。   The antireflection film can be obtained by forming an antireflection layer on a transparent substrate. The antireflection layer needs to be formed on the outermost surface in principle, but any number of other functional layers can be provided between the transparent substrate and the antireflection layer. Since the above-mentioned transparent substrate alone has a problem of low mechanical strength such as pencil hardness, a hard coat layer generally made of an ionizing radiation curable resin is often formed on the transparent substrate. In order to further improve the antireflection function, layers having different refractive indexes may be overlapped to form an antireflection laminate.

〔ハードコート層および塗液(A)について〕
前記ハードコート層を形成する塗液および塗液(A)について以下に記載いたします。
[About hard coat layer and coating liquid (A)]
The coating liquid and coating liquid (A) that form the hard coat layer are described below.

前記ハードコート層に用いられる電離放射線硬化型樹脂としては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等のプレポリマーが挙げられる。これらの電離放射線硬化型樹脂は1種を用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。   Examples of the ionizing radiation curable resin used for the hard coat layer include polyester acrylate-based, epoxy acrylate-based, urethane acrylate-based, polyol acrylate-based prepolymers, and the like. These ionizing radiation curable resins may be used alone or in combination of two or more.

電離放射線硬化型樹脂として用いられる光重合性モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらに表面硬度の向上を目的として(メタ)アクリルモノマーもしくはその重合体を加えることができる。   Examples of the photopolymerizable monomer used as the ionizing radiation curable resin include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol (meth) acrylate, and pentaerythritol tris. (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like. Further, a (meth) acryl monomer or a polymer thereof can be added for the purpose of improving the surface hardness.

(メタ)アクリルモノマーとしては前記のモノマーに加え、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのジ(メタ)アクリレートや、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート化合物や、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等を用いることができる。 As the (meth) acrylic monomer, in addition to the above monomers, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, nonanediol di ( (Meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate Di (meth) acrylates such as tripropylene glycol di (meth) acrylate and hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, Tri (meth) acrylate such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris 2-hydroxyethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, dipenta Trifunctional (meth) acrylate compounds such as erythritol tri (meth) acrylate and ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa ( Motor) trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate compound or the like acrylate, and these (meth) polyfunctional (meth) acrylate compound a part of the acrylate was substituted with an alkyl group and ε- caprolactone.

また、前記電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート材料には必要に応じて光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられ、これらを単独あるいは混合して使用することができる。   In addition, a photopolymerization initiator is added to the hard coat material made of the ionizing radiation curable resin as necessary. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like, and these can be used alone or in combination.

さらに、反射防止フィルムに帯電防止機能を付与するため、ハードコート層に導電剤を添加することもできる。導電剤は特に限定されるものではなく、イオン伝導機構を有する4級アンモニウム塩、電子伝導機構を有する金属酸化物微粒子、π共役系導電性高分子等を用いることができる。   Furthermore, in order to impart an antistatic function to the antireflection film, a conductive agent can be added to the hard coat layer. The conductive agent is not particularly limited, and a quaternary ammonium salt having an ion conduction mechanism, metal oxide fine particles having an electron conduction mechanism, a π-conjugated conductive polymer, and the like can be used.

なお、本発明の実施の形態において「(メタ)アクリルモノマー」とは「アクリルモノマー」と「メタクリルモノマー」の両方を示している。   In the embodiment of the present invention, “(meth) acrylic monomer” indicates both “acrylic monomer” and “methacrylic monomer”.

これら電離放射線硬化型樹脂からなるハードコート層を形成する際には、必要に応じて、溶媒で希釈された塗液が用いられる。溶媒を用いることで粘度や表面張力を調整することが可能であり、塗工適正を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n−ペンチル、及びγ−ブチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。   When forming a hard coat layer made of these ionizing radiation curable resins, a coating solution diluted with a solvent is used as necessary. By using a solvent, it is possible to adjust the viscosity and the surface tension, and to improve the coating suitability. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, as well as ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone and methylcyclohexanone, and formic acid Ethyl, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-pentyl acetate, and γ- Coating from esters such as tyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, water, etc. It is appropriately selected in consideration of appropriateness.

〔反射防止層および塗液(B)について〕
前記反射防止層を形成する塗液および塗液(B)について以下に記載いたします。
[Antireflection layer and coating liquid (B)]
The coating liquid and coating liquid (B) that form the antireflection layer are described below.

反射防止層形成用の反射防止材料は、一般に低屈折率粒子とバインダマトリックス形成材料から調整される。低屈折率粒子としては、LiF、MgF、3NaF・AlFまたはAlF(いずれも、屈折率1.4)、または、NaAlF(氷晶石、屈折率1.33)等の低屈折率材料からなる低屈折率粒子を用いることができるが、よりよい反射防止性能(低反射率)を得るためには、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率(≒1)とすることができるため、非常に低い屈折率の低屈折率粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。 The antireflection material for forming the antireflection layer is generally prepared from low refractive index particles and a binder matrix forming material. Low refractive index particles such as LiF, MgF, 3NaF · AlF or AlF (all with a refractive index of 1.4), or Na 3 AlF 6 (cryolite, with a refractive index of 1.33) However, in order to obtain better antireflection performance (low reflectance), particles having voids inside the particles can be suitably used. In the case of particles having voids inside the particles, the voids can be made to have a refractive index of air (≈1), and therefore, low refractive index particles having a very low refractive index can be obtained. Specifically, porous silica particles and low refractive index silica particles having voids inside can be used.

バインダマトリックス形成材料としては、ケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。さらには、一般式(1)、RSi(OR)4−x(但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である。)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を用いることができる。 As the binder matrix forming material, a hydrolyzate of silicon alkoxide can be used. Furthermore, the silicon alkoxide represented by the general formula (1), R x Si (OR) 4-x (wherein R represents an alkyl group and x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 3). Hydrolyzate can be used.

一般式(1)で表されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−プロキシシラン、テトラペンタ−n−ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等を用いることができる。ケイ素アルコキシドの加水分解物は、一般式(1)で示される金属アルコキシドを原料として得られるものであればよく、例えば塩酸にて加水分解することで得られるものである。   Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, and tetra-sec-butoxy. Silane, tetra-tert-butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-proxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyl Trimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethan Kishishiran, dimethyl propoxysilane, dimethyl-butoxy silane, can be used methyl dimethoxysilane, methyl diethoxy silane, hexyl trimethoxy silane. The hydrolyzate of silicon alkoxide may be obtained by using a metal alkoxide represented by the general formula (1) as a raw material. For example, it can be obtained by hydrolysis with hydrochloric acid.

さらには、反射防止層のバインダマトリックス形成材料としては、一般式(1)で表されるケイ素アルコキシドに、一般式(2)、R´Si(OR)4−z(但し、式中R´はアルキル基、フルオロアルキル基又はフルオロアルキレンオキサイド基を有する非反応性官能基を示し、zは1≦z≦3を満たす整数である。)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物をさらに含有することにより反射防止層の表面に防汚性を付与することができ、さらに、反射防止層の屈折率をさらに低下させ、反射率を低下させることができる。 Furthermore, as the binder matrix forming material of the antireflection layer, the silicon alkoxide represented by the general formula (1) may be replaced with the general formula (2), R ′ z Si (OR) 4-z (where R ′ Represents a non-reactive functional group having an alkyl group, a fluoroalkyl group or a fluoroalkylene oxide group, and z is an integer satisfying 1 ≦ z ≦ 3). As a result, antifouling property can be imparted to the surface of the antireflection layer, and the refractive index of the antireflection layer can be further reduced to reduce the reflectance.

一般式(2)で示されるケイ素アルコキシドとしては、例えば、オクタデシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silicon alkoxide represented by the general formula (2) include octadecyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrimethoxysilane, and the like.

また、バインダマトリックス形成材料として、電離放射線硬化型樹脂を用いることもできる。電離放射線硬化型樹脂としては、ハードコート材料として例示した光重合性ポリマー、光重合性モノマーを使用でき、多官能ウレタンアクリレート等の多官能アクリレートを使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型樹脂として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。   An ionizing radiation curable resin can also be used as the binder matrix forming material. As the ionizing radiation curable resin, the photopolymerizable polymer and the photopolymerizable monomer exemplified as the hard coat material can be used, and polyfunctional acrylates such as polyfunctional urethane acrylate can be used. In addition to these, polyether resins, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins having an acrylate functional group can be used as ionizing radiation type resins. .

なお、反射防止層の形成塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n−ペンチル、及びγ−ブチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。 In addition, a solvent and various additives can be added to the coating liquid for forming the antireflection layer as necessary. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, Suitable for coating from esters such as acid n-pentyl and γ-butyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, etc. Etc. are selected as appropriate. Moreover, a surface adjusting agent, a leveling agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a photosensitizer, etc. can be added to the coating liquid as additives.

また、バインダマトリックス形成材料として電離放射線硬化型樹脂を用い、紫外線を照射することにより反射防止層を形成する場合には、塗液に光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。   In addition, when an ionizing radiation curable resin is used as a binder matrix forming material and an antireflection layer is formed by irradiating ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added to the coating liquid. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like.

ハードコート層や反射防止層を形成する際には湿式成膜法を用いることができる。湿式成膜法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。湿式成膜法は加工速度が比較的高速であるために良く用いられるが、本発明においては、蒸着やスパッタリングなどの乾式成膜法を用いても構わない。さらに積層の過程で湿式成膜法と乾式成膜法を組み合わせることも可能である。   When forming the hard coat layer or the antireflection layer, a wet film forming method can be used. As the wet film forming method, a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used. The wet film forming method is often used because the processing speed is relatively high, but in the present invention, a dry film forming method such as vapor deposition or sputtering may be used. Further, it is possible to combine a wet film formation method and a dry film formation method in the process of lamination.

以下に実施例を示す   Examples are shown below.

〔ハードコート層の形成用塗液および塗液(A)〕
以下に示す材料を混合し、ハードコート層の形成用塗液とした。
・ウレタンアクリレート 100重量部
(共栄社化学社製、UA−306H)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 50重量部
・光重合開始剤 10重量部
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184)
・メチルエチルケトン 100重量部
・酢酸メチル 100重量部
[Hardcoat layer forming coating solution and coating solution (A)]
The following materials were mixed to obtain a hard coat layer forming coating solution.
・ 100 parts by weight of urethane acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., UA-306H)
Dipentaerythritol hexaacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator 10 parts by weight (manufactured by Ciba Japan, Irgacure 184)
・ Methyl ethyl ketone 100 parts by weight ・ Methyl acetate 100 parts by weight

〔反射防止層の形成用塗液および塗液(B)〕
以下に示す材料を混合し、反射防止層の形成用塗液とした。
・多孔質シリカ微粒子分散液 15重量部
(平均粒子径50nm、固形分20%、メチルイソブチルケトン分散)
・EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 2重量部
(日本化薬社製、DPHA−12)
・光重合開始剤 0.1重量部
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184)
・パーフルオロアルキル基、親水性基、親油性基含有オリゴマー
(DIC社製、メガファックF−470) 0.1重量部
・メチルイソブチルケトン 82重量部
[Coating liquid and coating liquid for forming antireflection layer (B)]
The following materials were mixed to obtain a coating solution for forming the antireflection layer.
-Porous silica fine particle dispersion 15 parts by weight (average particle size 50 nm, solid content 20%, methyl isobutyl ketone dispersion)
・ EO modified dipentaerythritol hexaacrylate 2 parts by weight (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., DPHA-12)
Photopolymerization initiator 0.1 part by weight (Ciba Japan, Irgacure 184)
-Perfluoroalkyl group, hydrophilic group, lipophilic group-containing oligomer (manufactured by DIC, Megafac F-470) 0.1 parts by weight-Methyl isobutyl ketone 82 parts by weight

(実施例1)
透明基材としてポリエステルフィルム(東洋紡社製、コスモシャインA4100、厚さ100μm、基材幅1340mm)を用い、前記ハードコート層の形成用塗液を用いて、乾燥後の厚さが5μm、塗布幅が1320mmになるようにマイクログラビアコーターにて塗工形成し、60℃で乾燥させた後、紫外線照射装置を用いて硬化させた。
Example 1
A polyester film (Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine A4100, thickness 100 μm, substrate width 1340 mm) is used as the transparent substrate, and the thickness after drying is 5 μm using the coating liquid for forming the hard coat layer. Was formed with a micro gravure coater so as to be 1320 mm, dried at 60 ° C., and then cured using an ultraviolet irradiation device.

次に、前記反射防止層の形成用塗液を用いて、乾燥後の厚さが0.1μm、塗布幅が1317mmとなるようにマイクログラビアコーターにて塗工形成し、60℃で乾燥させた後、紫外線照射装置を用いて硬化させ、反射防止フィルムを作製した。なお、詳細な条件や設定値については表1に記載する。   Next, using the coating liquid for forming the antireflection layer, it was coated and formed with a microgravure coater so that the thickness after drying was 0.1 μm and the coating width was 1317 mm, and dried at 60 ° C. Then, it was cured using an ultraviolet irradiation device to produce an antireflection film. Detailed conditions and set values are shown in Table 1.

(実施例2)
透明基材として両端部から5mm〜15mmの範囲にナールが形成されているトリアセチルセルロースフィルム(厚さ80μm、基材幅1330mm)を用い、他の条件は実施例1と同様に、反射防止フィルムを作製した。
(Example 2)
As a transparent substrate, a triacetyl cellulose film (thickness 80 μm, substrate width 1330 mm) formed with naals in a range of 5 mm to 15 mm from both ends is used. Was made.

(比較例1)
反射防止層の塗布幅を1322mmとし、ハードコート層を完全に覆うように形成した以外の条件は実施例1と同様に、反射防止フィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating width of the antireflection layer was 1322 mm and the hard coat layer was completely covered.

(比較例2)
反射防止層の塗布幅を1322mmとし、ハードコート層を完全に覆うように形成した以外の条件は実施例2と同様に、反射防止フィルムを作製した。
(Comparative Example 2)
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 2 except that the coating width of the antireflection layer was 1322 mm and the hard coat layer was completely covered.

(比較例3)
表1に示す機械条件を変更した以外は比較例1と同様に、反射防止フィルムを作製した。
(Comparative Example 3)
An antireflection film was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the mechanical conditions shown in Table 1 were changed.

(比較例4)
表1に示す機械条件を変更した以外は比較例2と同様に、反射防止フィルムを作製した。
(Comparative Example 4)
An antireflection film was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the mechanical conditions shown in Table 1 were changed.

<評価及び評価方法>
前記実施例1及び2、比較例1〜4で得られた反射防止フィルムのブロッキング及び巻きズレについて以下の方法で評価した。なお、評価するに当たり前記実施例1及び2、比較例1〜4の反射防止フィルムを6インチコアに1000m巻取りを実施し、評価を行った。
<Evaluation and evaluation method>
The antireflection films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated for blocking and winding deviation by the following methods. In the evaluation, the antireflection films of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 were wound on a 6 inch core by 1000 m and evaluated.

「ブロッキング」
1000m巻き取った反射防止フィルムのロール表面を観察し、ブロッキングによる変形を評価した。次に巻き外から900mの反射防止フィルムを解いた後、巻き芯100m部分のブロッキングによる変形を評価した。また、それぞれの評価基準は以下の通りとした。
◎ : 全く変形が見られない
○ : 僅かな変形が見られるも、実用上問題のないレベル。
× : 問題となりうる変形が見られる
"blocking"
The roll surface of the antireflection film wound up 1000 m was observed, and deformation due to blocking was evaluated. Next, after the 900 m antireflection film was unwound from the outside of the winding, deformation due to blocking of the winding core 100 m portion was evaluated. Each evaluation standard was as follows.
A: Deformation is not observed at all O: Slight deformation is observed, but there is no practical problem.
×: Deformation that can cause problems

「巻きズレ」
1000m巻き取った反射防止フィルムのロール端部を観察し、巻き始め部分から巻き外にいたるまでの左右のズレの最大値を測定した。また、測定値から以下の基準に従って評価した。
◎ : 2mm以下の巻きズレ
○ : 2mm〜5mmの巻きズレ
× : 5mm以上の巻きズレ
"Winding misalignment"
The roll edge of the antireflection film taken up by 1000 m was observed, and the maximum value of the left and right deviations from the winding start part to the unwinding was measured. Moreover, it evaluated according to the following references | standards from the measured value.
◎: Winding deviation of 2 mm or less ○: Winding deviation of 2 mm to 5 mm ×: Winding deviation of 5 mm or more

Figure 2014195966
Figure 2014195966

表1に示す通り、本発明のように最表面層である反射防止層より3mm塗布幅の広いハードコート層を塗布することで、反射防止層から食み出たハードコート層部分が左右の動きを抑制し、巻きズレの耐性が向上していることが分かる。さらに、実施例2に示すようにナールの有る基材を用いた場合は、さらに巻きズレの耐性が向上することから、巻き取り張力を下げることが可能であり、その結果、ブロッキング評価結果が良好なものになっている。また、比較例1及び2では巻きズレが発生しているが、このままの塗布幅で巻きズレ抑制のために巻き取り張力を上げたものが比較例3及び4である。比較例3及び4では巻きズレは改善されているものの、巻き取り張力を上げたことでブロッキングが発生しており、巻きズレとブロッキングを両立させる条件を見出すことはできなかった。   As shown in Table 1, the hard coat layer portion that protrudes from the antireflection layer moves left and right by applying a hard coat layer 3 mm wider than the antireflection layer that is the outermost surface layer as in the present invention. It can be seen that the resistance to winding deviation is improved. Furthermore, as shown in Example 2, when a base material having a knurl is used, it is possible to lower the winding tension because resistance to winding deviation is further improved, and as a result, the blocking evaluation result is good. It has become a thing. Further, in Comparative Examples 1 and 2, winding misalignment occurs, but Comparative Examples 3 and 4 are obtained by increasing the winding tension to suppress the winding misalignment with the coating width as it is. In Comparative Examples 3 and 4, although the winding deviation was improved, blocking was generated by raising the winding tension, and it was impossible to find a condition for achieving both winding deviation and blocking.

以上の結果から、巻きズレ及びブロッキングという巻き取りの不良について、耐ブロッキング剤や耐ブロッキング層を用いることなく、簡便に巻きズレ及びブロッキングを両立した良好なロールを作製することができた。   From the above results, it was possible to easily produce a good roll that achieved both winding displacement and blocking without using a blocking agent or a blocking layer for winding defects such as winding displacement and blocking.

1 … 積層コーティングフィルム
10… 最表面層
11… 最表面以外の層
12… 基材
2 … 反射防止フィルム
20… 反射防止層
21… ハードコート層
22… 透明基材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated coating film 10 ... Outermost surface layer 11 ... Layer 12 other than outermost surface ... Base material 2 ... Antireflection film 20 ... Antireflection layer 21 ... Hard coat layer 22 ... Transparent base material

Claims (8)

基材上の片面、あるいは両面に複数の層を積層して得られる機能性フィルムであって、最表面ではない何れかの層の塗布幅が最表面層の塗布幅より3mm以上広いことを特徴とする積層コーティングフィルム。   A functional film obtained by laminating a plurality of layers on one side or both sides of a substrate, wherein the coating width of any layer that is not the outermost surface is 3 mm or more wider than the coating width of the outermost layer Laminated coating film. 前記最表面層の両端部が、前記最表面層より3mm以上の広い塗布幅を持つ層の両端部より食み出ない位置または内側に積層されていることを特徴とした請求項1に記載した積層コーティングフィルム。   The both ends of the said outermost surface layer are laminated | stacked in the position which does not protrude from the both ends of the layer which has a 3 mm or more wider application width than the said outermost surface layer, or the inner side. Laminated coating film. 前記最表面層にシリコーンあるいはフッ素官能基を有する滑り剤または添加剤を含むことを特徴とした請求項1または2に記載した積層コーティングフィルム。   The laminated coating film according to claim 1 or 2, wherein the outermost surface layer contains a slipping agent or an additive having silicone or a fluorine functional group. 前記最表面層の厚さが1μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3に記載した積層コーティングフィルム。   The multilayer coating film according to claim 1, wherein a thickness of the outermost surface layer is 1 μm or less. 基材上の片面、あるいは両面に複数の層を積層して得られる機能性フィルムの製造方法において、
基材上に塗液(A)を塗布した後に、該塗液(A)を乾燥させ、さらに紫外線を照射して硬化させる工程と、
前記工程の後に、前記塗液(A)上に、前記塗液(A)と異なる組成の塗液(B)を塗布した後に、該塗液(B)を乾燥させ、さらに乾燥させた塗液を硬化させる工程と、
を具備し、且つ前記塗液(B)の塗布部が前記塗液(A)の塗布部の両端部より食み出ない位置または内側に積層されていることを特徴とする積層コーティングフィルムの製造方法。
In the method for producing a functional film obtained by laminating a plurality of layers on one side or both sides on a substrate,
After applying the coating liquid (A) on the substrate, drying the coating liquid (A), and further curing by irradiating with ultraviolet rays;
After the said process, after apply | coating the coating liquid (B) of a composition different from the said coating liquid (A) on the said coating liquid (A), this coating liquid (B) is dried and the coating liquid dried further Curing the
And a coating part of the coating liquid (B) is laminated at a position where it does not protrude from both ends of the coating part of the coating liquid (A) or on the inner side. Method.
請求項5に記載の積層コーティングフィルムの製造方法において、前記塗液(A)の塗布部の塗布幅が前記塗液(B)の塗布部の塗布幅より3mm以上広いことを特徴とする積層コーティングフィルムの製造方法。   The method for producing a multilayer coating film according to claim 5, wherein the coating width of the coating part of the coating liquid (A) is 3 mm or more wider than the coating width of the coating part of the coating liquid (B). A method for producing a film. 請求項5乃至6に記載の積層コーティングフィルムの製造方法において、前記塗液(B)にシリコーンあるいはフッ素官能基を有する滑り剤または添加剤を含むことを特徴とした積層コーティングフィルムの製造方法。   The method for producing a multilayer coating film according to claim 5, wherein the coating liquid (B) contains a sliding agent or additive having silicone or a fluorine functional group. 請求項5乃至7に記載の積層コーティングフィルムの製造方法において、前記塗液(B)の硬化後の厚さが1μm以下であることを特徴とする積層コーティングフィルムの製造方法。   The method for producing a multilayer coating film according to claim 5, wherein the coating liquid (B) has a thickness after curing of 1 μm or less.
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