JP2014192417A - Piezoelectric/electrostrictive device and method for manufacturing the same - Google Patents

Piezoelectric/electrostrictive device and method for manufacturing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a piezoelectric/electrostrictive device capable of improving operation stability.SOLUTION: An actuator 100 includes: a piezoelectric/electrostrictive element 10 having a diaphragm 11; a junction layer 20 disposed on a surface of the diaphragm 11; and a plurality of supports 30 each of which is bitten into the junction layer. A joint length L between each support 30 and the junction layer 20 is within ±25% of an average value M of the joint lengths.

Description

本発明は、圧電/電歪素子を備える圧電/電歪デバイスとその製造方法に関する。   The present invention relates to a piezoelectric / electrostrictive device including a piezoelectric / electrostrictive element and a manufacturing method thereof.

従来、圧電/電歪素子と、複数の支持体を含む流路ユニットと、圧電/電歪素子と流路ユニットの間に形成される接合層と、を備える圧電/電歪デバイスが知られている(例えば、特許文献1参照)。各支持体は、接合層を介して圧電/電歪素子に接合されている。   Conventionally, a piezoelectric / electrostrictive device including a piezoelectric / electrostrictive element, a flow path unit including a plurality of supports, and a bonding layer formed between the piezoelectric / electrostrictive element and the flow path unit is known. (For example, refer to Patent Document 1). Each support is bonded to the piezoelectric / electrostrictive element via a bonding layer.

特開2008−230052号公報JP 2008-230052 A

しかしながら、特許文献1の圧電/電歪デバイスでは、圧電/電歪素子の表面にうねりや反りがある場合、接合層による各支持体の支持強度にばらつきが生じて、圧電/電歪デバイスの動作が不安定になるおそれがある。   However, in the piezoelectric / electrostrictive device of Patent Document 1, when the surface of the piezoelectric / electrostrictive element has waviness or warpage, the support strength of each support by the bonding layer varies, and the operation of the piezoelectric / electrostrictive device May become unstable.

本発明は、上述の状況に鑑みてなされたものであり、動作安定性を向上可能な圧電/電歪デバイスを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and an object thereof is to provide a piezoelectric / electrostrictive device capable of improving operational stability.

本発明に係る圧電/電歪デバイスは、振動板を有する圧電/電歪素子と、振動板の表面上に配置される接合層と、接合層にそれぞれ食い込む複数の支持体と、を備える。接合層は、樹脂によって構成される。振動板の表面に垂直な断面において、複数の支持体それぞれと接合層との接合長さは、接合長さの平均値の±25%以内である。   A piezoelectric / electrostrictive device according to the present invention includes a piezoelectric / electrostrictive element having a vibration plate, a bonding layer disposed on the surface of the vibration plate, and a plurality of supports that respectively bite into the bonding layer. The bonding layer is made of resin. In the cross section perpendicular to the surface of the diaphragm, the bonding length between each of the plurality of supports and the bonding layer is within ± 25% of the average value of the bonding lengths.

本発明によれば、動作安定性を向上可能な圧電/電歪デバイスを提供する。   According to the present invention, a piezoelectric / electrostrictive device capable of improving operational stability is provided.

アクチュエータの構成を示す平面図Plan view showing the configuration of the actuator 図1のX−X断面図XX sectional view of FIG. 図2の部分拡大図Partial enlarged view of FIG. アクチュエータの製造方法を説明するための図Diagram for explaining the manufacturing method of the actuator アクチュエータの製造方法を説明するための図Diagram for explaining the manufacturing method of the actuator アクチュエータの製造方法を説明するための図Diagram for explaining the manufacturing method of the actuator

以下、図面を参照しながら、本発明に係る圧電/電歪デバイスの一例として、インクジェットヘッド用のアクチュエータについて説明する。ただし、本発明に係る圧電/電歪デバイスは、ジャイロセンサ、発振子、或いはインジェクター用アクチュエータなど様々な用途に適用可能である。   Hereinafter, an actuator for an ink jet head will be described as an example of a piezoelectric / electrostrictive device according to the present invention with reference to the drawings. However, the piezoelectric / electrostrictive device according to the present invention can be applied to various applications such as a gyro sensor, an oscillator, or an actuator for an injector.

以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なっている場合がある。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきである。   In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. The drawings are schematic, and the ratio of each dimension may be different from the actual one. Accordingly, specific dimensions and the like should be determined in consideration of the following description.

(アクチュエータ100の構成)
アクチュエータ100の構成について、図面を参照しながら説明する。図1は、アクチュエータ100の構成を示す平面図である。図2は、図1のX−X断面図である。以下の説明では、図1に示すように、支持体30が延びる方向を“長さ方向”と称し、長さ方向に直交する方向を“幅方向”と称する。また、図2に示すように、長さ方向及び幅方向に直交する方向を“厚み方向”と称する。
(Configuration of actuator 100)
The configuration of the actuator 100 will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the actuator 100. FIG. 2 is a sectional view taken along line XX in FIG. In the following description, as shown in FIG. 1, the direction in which the support 30 extends is referred to as “length direction”, and the direction orthogonal to the length direction is referred to as “width direction”. Further, as shown in FIG. 2, a direction orthogonal to the length direction and the width direction is referred to as a “thickness direction”.

アクチュエータ100は、圧電/電歪素子10と、接合層20と、複数の支持体30と、を備える。   The actuator 100 includes a piezoelectric / electrostrictive element 10, a bonding layer 20, and a plurality of supports 30.

1.圧電/電歪素子10
圧電/電歪素子10は、振動板11と、複数の圧電体12と、複数の上部電極13と、を有する。
1. Piezoelectric / electrostrictive element 10
The piezoelectric / electrostrictive element 10 includes a vibration plate 11, a plurality of piezoelectric bodies 12, and a plurality of upper electrodes 13.

振動板11は、各圧電体12の伸縮に応じて、厚み方向に振動(変位)する。振動板11は、下部電極としても機能する。振動板11には、図2に示すように、うねりや反りがあってもよい。この振動板11のうねりや反りは、後述する大判の圧電体12a(図4(a)参照)のうねりや反りに起因するものである。   The diaphragm 11 vibrates (displaces) in the thickness direction according to the expansion and contraction of each piezoelectric body 12. The diaphragm 11 also functions as a lower electrode. As shown in FIG. 2, the diaphragm 11 may have swell and warp. The swell and warp of the diaphragm 11 are caused by the swell and warp of a large piezoelectric body 12a (see FIG. 4A) described later.

振動板11は、第1主面11Sと、第2主面11Tと、を有する。第1主面11S上には、複数の圧電体12が配置される。第2主面11T上には、接合層20が配置される。   The diaphragm 11 has a first main surface 11S and a second main surface 11T. A plurality of piezoelectric bodies 12 are arranged on the first main surface 11S. The bonding layer 20 is disposed on the second main surface 11T.

本実施形態において、振動板11は、本体膜11aと、バリア膜11bと、を含む。   In the present embodiment, the diaphragm 11 includes a main body film 11a and a barrier film 11b.

本体膜11aは、めっき法、蒸着法、或いはスパッタ法によって形成される薄膜である。本体膜11aは、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウム、金、銀、タングステンなどの金属、及びこれらを主成分とする合金によって構成することができる。特に、応力緩和作用があり、加熱によって再結晶化しにくいニッケルが好適である。本体膜11aの膜厚は、0.1μm〜50μmとすることができる。   The main body film 11a is a thin film formed by plating, vapor deposition, or sputtering. The main body film 11a can be made of a metal such as nickel, platinum, palladium, rhodium, gold, silver, tungsten, or an alloy containing these as a main component. In particular, nickel, which has a stress relieving action and is difficult to recrystallize by heating, is suitable. The film thickness of the main body film 11a can be 0.1 μm to 50 μm.

バリア膜11bは、めっき法、蒸着法、或いはスパッタ法によって形成される薄膜である。バリア膜11bは、圧電体12用のエッチング液に耐性を有する金属材料によって構成される。バリア膜11bの膜厚は、1Å〜1μmとすることができる。   The barrier film 11b is a thin film formed by plating, vapor deposition, or sputtering. The barrier film 11b is made of a metal material having resistance to the etching solution for the piezoelectric body 12. The film thickness of the barrier film 11b can be 1 μm to 1 μm.

圧電体12は、振動板11の第1主面11S上に配置される。圧電体12は、薄板状の焼成体である。圧電体12は、振動板11と上部電極13に電圧が印加されると、厚み方向に垂直な方向に伸縮する。この圧電体12の伸縮に起因して、振動板11が厚み方向に振動する。圧電体12のサイズは、例えば、長さ10μm〜50mm、幅10μm〜50mm、厚み0.1μm〜1mmとすることができる。特に、本実施形態では、圧電体12の厚みが10μm以下のケースが想定されている。   The piezoelectric body 12 is disposed on the first main surface 11S of the diaphragm 11. The piezoelectric body 12 is a thin plate-like fired body. When a voltage is applied to the diaphragm 11 and the upper electrode 13, the piezoelectric body 12 expands and contracts in a direction perpendicular to the thickness direction. Due to the expansion and contraction of the piezoelectric body 12, the vibration plate 11 vibrates in the thickness direction. The size of the piezoelectric body 12 can be, for example, a length of 10 μm to 50 mm, a width of 10 μm to 50 mm, and a thickness of 0.1 μm to 1 mm. In particular, in this embodiment, a case where the thickness of the piezoelectric body 12 is 10 μm or less is assumed.

圧電体12は、従来用いられている圧電体用のセラミックス材料によって構成することができる。このようなセラミックス材料としては、例えばジルコン酸鉛、チタン酸鉛、マグネシウムニオブ酸鉛、ニッケルニオブ酸鉛、亜鉛ニオブ酸鉛、マンガンニオブ酸鉛、アンチモンスズ酸鉛、マンガンタングステン酸鉛、コバルトニオブ酸鉛、チタン酸バリウム、チタン酸ナトリウムビスマス、ニオブ酸カリウムナトリウム、タンタル酸ストロンチウムビスマス、及びこれらの混合物が挙げられる。なお、セラミックス材料には、ランタン、カルシウム、ストロンチウム、モリブデン、タングステン、バリウム、ニオブ、亜鉛、ニッケル、マンガン、セリウム、カドミウム、クロム、コバルト、アンチモン、鉄、イットリウム、タンタル、リチウム、ビスマス、スズなどの酸化物が添加されていてもよい。   The piezoelectric body 12 can be constituted by a conventionally used ceramic material for a piezoelectric body. Examples of such ceramic materials include lead zirconate, lead titanate, lead magnesium niobate, lead nickel niobate, lead zinc niobate, lead manganate niobate, lead antimony stannate, lead manganese tungstate, cobalt niobate Lead, barium titanate, sodium bismuth titanate, potassium sodium niobate, strontium bismuth tantalate, and mixtures thereof. Ceramic materials include lanthanum, calcium, strontium, molybdenum, tungsten, barium, niobium, zinc, nickel, manganese, cerium, cadmium, chromium, cobalt, antimony, iron, yttrium, tantalum, lithium, bismuth, tin, etc. An oxide may be added.

上部電極13は、圧電体12上に配置される。上部電極13は、導電材料を焼成することによって形成される薄板である。上部電極13は、めっき法や蒸着法によって形成される薄膜であってもよい。上部電極13は、耐酸性の導電材料によって構成することができる。このような導電材料としては、金、銀、白金、或いは銅などの貴金属やこれらの合金が挙げられる。   The upper electrode 13 is disposed on the piezoelectric body 12. The upper electrode 13 is a thin plate formed by firing a conductive material. The upper electrode 13 may be a thin film formed by a plating method or a vapor deposition method. The upper electrode 13 can be made of an acid-resistant conductive material. Examples of such conductive materials include noble metals such as gold, silver, platinum, and copper, and alloys thereof.

2.接合層20
接合層20は、振動板11の第2主面11T上に配置される。接合層20には、各支持体30の上端部が食い込んでいる。接合層20は、圧電/電歪素子10に対して支持体30を固定する。
2. Bonding layer 20
The bonding layer 20 is disposed on the second main surface 11T of the diaphragm 11. The upper end portion of each support body 30 bites into the bonding layer 20. The bonding layer 20 fixes the support 30 to the piezoelectric / electrostrictive element 10.

接合層20は、熱硬化性樹脂や光(紫外線)硬化性樹脂の有機樹脂によって構成される。このような有機樹脂としては、例えばエポキシ樹脂やポリイミド樹脂などが挙げられる。接合層20は、後述するように二工程に分けて形成される。   The bonding layer 20 is made of an organic resin such as a thermosetting resin or a light (ultraviolet) curable resin. Examples of such an organic resin include an epoxy resin and a polyimide resin. The bonding layer 20 is formed in two steps as will be described later.

3.支持体30
支持体30は、棒状に形成されている。図2に示すように、支持体30の断面形状は台形であるが、正方形や長方形であってもよい。支持体30の上端部は接合層20に食い込んでおり、支持体30の下端部はベース板(不図示)に固定されている。2つの支持体30の間には、圧力室31が形成される。圧力室31には、インク導入口から注入されたインクが貯留される。圧力室31に貯留されたインクは、振動板11の振動に応じて吐出ノズルから吐出される。
3. Support 30
The support 30 is formed in a rod shape. As shown in FIG. 2, the support 30 has a trapezoidal cross section, but may be a square or a rectangle. The upper end portion of the support body 30 bites into the bonding layer 20, and the lower end portion of the support body 30 is fixed to a base plate (not shown). A pressure chamber 31 is formed between the two supports 30. The pressure chamber 31 stores ink injected from the ink introduction port. The ink stored in the pressure chamber 31 is ejected from the ejection nozzle according to the vibration of the diaphragm 11.

1つの支持体30のサイズは、例えば、長さ10μm〜50mm、幅1μm〜49mm、厚み1μm〜10mmとすることができる。各支持体30のサイズは互いに同じであるものとする。   The size of one support 30 can be, for example, 10 μm to 50 mm in length, 1 μm to 49 mm in width, and 1 μm to 10 mm in thickness. The sizes of the supports 30 are the same as each other.

(接合層20と支持体30の接合)
次に、接合層20と支持体30の接合について、図面を参照しながら説明する。図3は、図2の部分拡大図である。
(Bonding of bonding layer 20 and support 30)
Next, the joining of the joining layer 20 and the support 30 will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG.

支持体30は、上面30Sと、第1側面30Tと、第2側面30Uと、を有する。上面30Sは、振動板11の第2主面11Tと対向する。上面30Sは、全体的に接合層20に埋設されている。第1側面30Tと第2側面30Uは、上面30Sに連なる。第1側面30Tと第2側面30Uの上端部は、接合層20に埋設されている。   The support 30 has an upper surface 30S, a first side surface 30T, and a second side surface 30U. The upper surface 30S faces the second main surface 11T of the diaphragm 11. The upper surface 30S is entirely embedded in the bonding layer 20. The first side surface 30T and the second side surface 30U are continuous with the upper surface 30S. Upper end portions of the first side surface 30T and the second side surface 30U are embedded in the bonding layer 20.

このように、支持体30は、上面30S、第1側面30T及び第2側面30Uにおいて接合層20と接合している。支持体30が接合層20と接合する領域の合計長さL(以下、「接合長さL」という。)は、上面30Sが接合層20と接合する長さL1と、第1側面30Tが接合層20と接合する長さL2と、第2側面30Uが接合層20と接合する長さL3との合計値である。接合長さLは、長さ方向に垂直な断面における接合層20と支持体30の界面長に等しい。   Thus, the support 30 is bonded to the bonding layer 20 on the upper surface 30S, the first side surface 30T, and the second side surface 30U. The total length L of the region where the support 30 is bonded to the bonding layer 20 (hereinafter referred to as “bonding length L”) is the length L1 at which the upper surface 30S is bonded to the bonding layer 20 and the first side surface 30T is bonded. This is the total value of the length L2 that joins the layer 20 and the length L3 that the second side face 30U joins the joining layer 20. The joining length L is equal to the interface length between the joining layer 20 and the support 30 in a cross section perpendicular to the length direction.

ここで、接合長さLは、接合長さの平均値Sから平均値Sの±25%以内であることが好ましい。すなわち、接合長さLと平均値Sの差は、平均値Sの±25%以内であることが好ましい。複数の支持体30それぞれの接合長さLの平均値Sは、3μm以上30μm以下とすることができる。この場合、複数の支持体30それぞれの接合長さLの標準偏差は、1.01μm以下であることが好ましい。 Here, the bonding length L is preferably within ± 25% of the average value S L from the average value S L of the bonding lengths. In other words, the difference between the average value S L and the junction length L is preferably within ± 25% of mean values S L. Mean value S L of the plurality of supports 30 each junction length L can be 3μm or 30μm or less. In this case, the standard deviation of the joining length L of each of the plurality of supports 30 is preferably 1.01 μm or less.

また、接合長さLと支持体30の長さの積である接合面積Mは、接合面積Mの平均値Sから平均値Sの±22%以内であることが好ましい。すなわち、接合面積Mと平均値Sの差は、平均値Sの±25%以内であることが好ましい。複数の支持体30それぞれの接合面積Mの平均値Sは、0.005mm以上0.045mm以下とすることができる。この場合、複数の支持体30それぞれの接合面積Mの標準偏差は、0.002mm以下であることが好ましい。 Further, the bonding area M is the product of the length of the junction between the length L support 30 is preferably an average value S M of the joint area M is within ± 22% of the average value S M. That is, the difference between the bonding area M and the average value S M is preferably within ± 25% of the average value S M. Mean value S M of the bonding area M of the plurality of supports 30 each may be a 0.005 mm 2 or more 0.045 mm 2 or less. In this case, the standard deviation of the bonding area M of each of the plurality of supports 30 is preferably 0.002 mm 2 or less.

このように、接合長さLや接合面積Mのばらつきを所定範囲に制限することによって、接合層20による各支持体30の支持強度の均一化が図られている。   As described above, by limiting the variation in the bonding length L and the bonding area M to a predetermined range, the support strength of each support 30 by the bonding layer 20 is made uniform.

(アクチュエータ100の製造方法)
次に、アクチュエータ100の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
(Manufacturing method of actuator 100)
Next, a method for manufacturing the actuator 100 will be described with reference to the drawings.

まず、圧電体用のセラミックス材料を含むスラリーを成型することによって、グリーンシートを準備する。グリーンシートの厚みは、1μm〜80μmとすることができる。   First, a green sheet is prepared by molding a slurry containing a ceramic material for a piezoelectric body. The thickness of the green sheet can be 1 μm to 80 μm.

次に、図4(a)に示すように、グリーンシートを所定条件(1200℃、2時間)で焼成することによって、大判の圧電体12aを作製する。本実施形態では、圧電体12aが10μm以下の極めて薄い場合が想定されているため、大判の圧電体12aにはうねりや反りが生じる場合がある。   Next, as shown in FIG. 4A, the large size piezoelectric body 12a is manufactured by firing the green sheet under a predetermined condition (1200 ° C., 2 hours). In the present embodiment, since it is assumed that the piezoelectric body 12a is extremely thin with a thickness of 10 μm or less, the large piezoelectric body 12a may be swelled or warped.

次に、図4(b)に示すように、圧電体12aの表面上に有機金属化合物を塗布して焼成することによって、或いは、圧電体12aの表面上に金属をスパッタすることによって、大判の上部電極13aを作製する。   Next, as shown in FIG. 4B, an organic metal compound is applied on the surface of the piezoelectric body 12a and fired, or a metal is sputtered on the surface of the piezoelectric body 12a. The upper electrode 13a is produced.

次に、図4(c)に示すように、めっき法、蒸着法、或いはスパッタ法を用いて、圧電体12aの裏面上にバリア膜11bと本体膜11aを順次成膜することによって、振動板11を形成する。以上によって、圧電/電歪素子10が作製される。   Next, as shown in FIG. 4C, the barrier film 11b and the main body film 11a are sequentially formed on the back surface of the piezoelectric body 12a by using a plating method, a vapor deposition method, or a sputtering method, so that the diaphragm 11 is formed. Thus, the piezoelectric / electrostrictive element 10 is manufactured.

次に、図5(a)に示すように、振動板11の第2主面11T上に有機樹脂を塗布又は印刷することによって、第1軟質樹脂層20aを形成する。第1軟質樹脂層20aの硬度は、例えば10GPa〜100GPaとすることができる。   Next, as shown to Fig.5 (a), the 1st soft resin layer 20a is formed by apply | coating or printing on the 2nd main surface 11T of the diaphragm 11 with organic resin. The hardness of the first soft resin layer 20a can be set to 10 GPa to 100 GPa, for example.

次に、図5(b)に示すように、第1軟質樹脂層20aを所定温度(有機樹脂の硬化温度よりも低い温度)で仮硬化することによって、第1硬質樹脂層20a’を形成する。第1硬質樹脂層20a’の硬度は、例えば100GPa〜500GPaとすることができる。   Next, as shown in FIG. 5B, the first hard resin layer 20a ′ is formed by temporarily curing the first soft resin layer 20a at a predetermined temperature (a temperature lower than the curing temperature of the organic resin). . The hardness of the first hard resin layer 20a 'can be set to 100 GPa to 500 GPa, for example.

次に、図5(c)に示すように、第1硬質樹脂層20a’上に有機樹脂を塗布又は印刷することによって、第2軟質樹脂層20bを形成する。第2軟質樹脂層20bには、第1軟質樹脂層20aと同種又は異種の有機樹脂を用いることができる。第2軟質樹脂層20bの硬度は、例えば10GPa〜100GPaとすることができる。   Next, as illustrated in FIG. 5C, the second soft resin layer 20 b is formed by applying or printing an organic resin on the first hard resin layer 20 a ′. The second soft resin layer 20b can be made of the same or different organic resin as the first soft resin layer 20a. The hardness of the second soft resin layer 20b can be set to 10 GPa to 100 GPa, for example.

次に、冶具に複数の支持体30をセットし、図6(a)に示すように、複数の支持体30の上面30Sが第1硬質樹脂層20a’に接触するまで、複数の支持体30を第2軟質樹脂層20bに挿入する。この際、支持体30の上面30Sの略全面が第1硬質樹脂層20a’に接触するように、支持体30を第1硬質樹脂層20a’に押し付けてもよい。   Next, the plurality of supports 30 are set on the jig, and as shown in FIG. 6A, the plurality of supports 30 until the upper surfaces 30S of the plurality of supports 30 come into contact with the first hard resin layer 20a ′. Is inserted into the second soft resin layer 20b. At this time, the support 30 may be pressed against the first hard resin layer 20a 'so that substantially the entire upper surface 30S of the support 30 is in contact with the first hard resin layer 20a'.

次に、図6(b)に示すように、第1硬質樹脂層20a’と第2軟質樹脂層20bを所定温度(各有機樹脂の硬化温度以上の温度)で本硬化することによって、接合層20を形成する。この本硬化によって、第1硬質樹脂層20a’と第2軟質樹脂層20bは一体となる。   Next, as shown in FIG. 6B, the first hard resin layer 20a ′ and the second soft resin layer 20b are subjected to main curing at a predetermined temperature (a temperature equal to or higher than the curing temperature of each organic resin) to thereby form a bonding layer. 20 is formed. By this main curing, the first hard resin layer 20a 'and the second soft resin layer 20b are integrated.

次に、所定パターンのフォトレジスト膜を上部電極13a上に形成した後に、エッチング液によって上部電極13aをエッチングすることによって、図6(c)に示すように、上部電極13aをパターニングする。   Next, after a photoresist film having a predetermined pattern is formed on the upper electrode 13a, the upper electrode 13a is patterned by etching the upper electrode 13a with an etchant as shown in FIG. 6C.

次に、所定パターンのフォトレジスト膜で上部電極13aを覆った後に、エッチング液によって圧電体12aをエッチングすることによって、図6(d)に示すように、圧電体12aをパターニングする。以上によって、アクチュエータ100が完成する。   Next, after covering the upper electrode 13a with a photoresist film having a predetermined pattern, the piezoelectric body 12a is patterned by etching as shown in FIG. 6D. Thus, the actuator 100 is completed.

(作用及び効果)
(1)実施形態に係るアクチュエータ100は、振動板11を有する圧電/電歪素子10と、振動板11の表面上に配置される接合層20と、接合層にそれぞれ挿入された複数の支持体30と、を備える。接合長さLと接合長さの平均値Sとの差は、平均値Sの±25%以内である。
(Function and effect)
(1) The actuator 100 according to the embodiment includes a piezoelectric / electrostrictive element 10 having a vibration plate 11, a bonding layer 20 disposed on the surface of the vibration plate 11, and a plurality of supports respectively inserted in the bonding layer. 30. The difference between the joining length L and the mean value S L of joining lengths is within ± 25% of the mean value S L.

従って、接合層20による各支持体30の支持強度を均一化できるため、アクチュエータ100の動作安定性を向上させることができる。   Therefore, since the support strength of each support 30 by the bonding layer 20 can be made uniform, the operational stability of the actuator 100 can be improved.

(2)実施形態に係るアクチュエータ100の製造方法は、第1硬質樹脂層20a’に接触するまで支持体30を第2軟質樹脂層20bに挿入する工程と、第1硬質樹脂層20a’と第2軟質樹脂層20bを本硬化する工程と、を含む。   (2) The manufacturing method of the actuator 100 according to the embodiment includes the step of inserting the support 30 into the second soft resin layer 20b until it contacts the first hard resin layer 20a ′, the first hard resin layer 20a ′ and the first hard resin layer 20a ′. And a step of fully curing the two soft resin layers 20b.

従って、第1硬質樹脂層20a’を介して、振動板11に対する各支持体30の間隔が均一化されため、接合層20による各支持体30の支持強度を均一化できる。その結果、アクチュエータ100の動作安定性を向上させることができる。   Therefore, the distance between the support bodies 30 with respect to the diaphragm 11 is made uniform via the first hard resin layer 20a ', so that the support strength of the support bodies 30 by the bonding layer 20 can be made uniform. As a result, the operation stability of the actuator 100 can be improved.

(他の実施形態)
本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない範囲で種々の変形又は変更が可能である。
(Other embodiments)
The present invention is not limited to the embodiment described above, and various modifications or changes can be made without departing from the scope of the present invention.

(A)上記実施形態において、圧電/電歪素子10は、下部電極としても機能する振動板11を有することとしたが、これに限られるものではない。圧電/電歪素子10は、振動板11と圧電体12の間に形成される下部電極を振動板11とは別に備えていてもよい。この場合、振動板11は導電性を有している必要がないため、振動板11の構成材料としてSi、SiO、SiN、セラミック材料(ジルコニアやアルミナなど)、及びガラスなどを用いることができる。 (A) In the above embodiment, the piezoelectric / electrostrictive element 10 includes the diaphragm 11 that also functions as the lower electrode, but the present invention is not limited to this. The piezoelectric / electrostrictive element 10 may include a lower electrode formed between the diaphragm 11 and the piezoelectric body 12 separately from the diaphragm 11. In this case, since the diaphragm 11 does not need to have conductivity, Si, SiO 2 , SiN, a ceramic material (such as zirconia or alumina), glass, or the like can be used as a constituent material of the diaphragm 11. .

(B)上記実施形態において、アクチュエータ100が複数の支持体30を備える場合について説明したが、アクチュエータ100は少なくとも2個の支持体30を備えていればよい。この場合であっても、上述の製造方法によれば、2個の支持体30それぞれと振動板11との間隔を精度良く均一化することができる。   (B) Although the case where the actuator 100 includes a plurality of support bodies 30 has been described in the above embodiment, the actuator 100 only needs to include at least two support bodies 30. Even in this case, according to the manufacturing method described above, the distance between each of the two supports 30 and the diaphragm 11 can be made uniform with high accuracy.

(C)上記実施形態では、アクチュエータ100の製造工程において、第1硬質樹脂層20a’に接触するまで支持体30を第2軟質樹脂層20bに挿入することとしたが、支持体30の上面30Sを第1硬質樹脂層20a’に接触させた後に第2軟質樹脂層20bを形成してもよい。この場合であっても、第1硬質樹脂層20a’を介して、振動板11に対する各支持体30の間隔を均一化することができる。   (C) In the above embodiment, in the manufacturing process of the actuator 100, the support 30 is inserted into the second soft resin layer 20b until it contacts the first hard resin layer 20a ′. The second soft resin layer 20b may be formed after contacting the first hard resin layer 20a ′. Even in this case, the distance between the support bodies 30 with respect to the diaphragm 11 can be made uniform via the first hard resin layer 20a '.

以下において本発明に係る実施例について説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではない。   Examples according to the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to the examples described below.

(実施例に係るアクチュエータの作製)
まず、チタン酸ジルコン酸塩(PZT)、Pb(Ni1/3Nb2/3)O粉末、有機バインダー、分散剤及び可塑剤を含むスラリーを成形してグリーンシートを作製した。
(Preparation of actuator according to example)
First, a green sheet was produced by molding a slurry containing zirconate titanate (PZT), Pb (Ni 1/3 Nb 2/3 ) O 3 powder, an organic binder, a dispersant and a plasticizer.

次に、グリーンシートを1200℃で2時間焼成して大判の圧電体(長さ1mm、幅100μm、厚み5μm)を作製した。   Next, the green sheet was fired at 1200 ° C. for 2 hours to produce a large piezoelectric body (length 1 mm, width 100 μm, thickness 5 μm).

次に、スパッタ法を用いて、圧電体の表面上に金をスパッタすることによって、大判の上部電極を作製した。   Next, a large-sized upper electrode was fabricated by sputtering gold on the surface of the piezoelectric body using a sputtering method.

次に、めっき法を用いて、圧電体の裏面上にニッケルをめっきすることによって、バリア膜と本体膜を順次成膜することによって、下部電極として機能する振動板を形成した。   Next, using a plating method, a barrier film and a main body film were sequentially formed by plating nickel on the back surface of the piezoelectric body, thereby forming a diaphragm functioning as a lower electrode.

次に、スピンコータ法を用いて、振動板上にポリイミド樹脂を塗布することによって、第1軟質樹脂層(厚み2μm)を形成した。第1軟質樹脂層の硬度は、30GPaであった。   Next, the first soft resin layer (thickness 2 μm) was formed by applying a polyimide resin on the diaphragm using a spin coater method. The hardness of the first soft resin layer was 30 GPa.

次に、第1軟質樹脂層を150℃で加熱することによって、第1硬質樹脂層を形成した。第1硬質樹脂層の硬度は、200GPaであった。   Next, the first hard resin layer was formed by heating the first soft resin layer at 150 ° C. The hardness of the first hard resin layer was 200 GPa.

次に、スピンコータ法を用いて、第1硬質樹脂層上にポリイミド樹脂を塗布することによって、第2軟質樹脂層(厚み2μm)を形成した。第2軟質樹脂層の硬度は、30GPaであった。   Next, a second soft resin layer (thickness 2 μm) was formed by applying a polyimide resin on the first hard resin layer using a spin coater method. The hardness of the second soft resin layer was 30 GPa.

次に、冶具に400個の支持体をセットし、支持体の上面が第1硬質樹脂層に接触するまで第2軟質樹脂層に挿入した。   Next, 400 supports were set on the jig and inserted into the second soft resin layer until the upper surface of the support was in contact with the first hard resin layer.

次に、第1硬質樹脂層と第2軟質樹脂層を280℃で加熱して本硬化させることによって、接合層を形成した。その後、フォトレジストを用いて、上部電極と圧電体を順次パターニングした。   Next, the 1st hard resin layer and the 2nd soft resin layer were heated at 280 degreeC, and were hardened, and the joining layer was formed. Thereafter, the upper electrode and the piezoelectric body were sequentially patterned using a photoresist.

(比較例に係るアクチュエータの作製)
まず、実施例と同様にして、振動板を形成した。
(Production of actuator according to comparative example)
First, a diaphragm was formed in the same manner as in the example.

次に、スピンコータ法を用いて、振動板上にポリイミド樹脂を塗布することによって、単一の軟質樹脂層(厚み4μm)を形成した。   Next, a single soft resin layer (thickness 4 μm) was formed by applying a polyimide resin on the diaphragm using a spin coater method.

次に、冶具に400個の支持体をセットし、支持体を単一の軟質樹脂層に挿入した。この際、なるべく支持体の上面が振動板に接触しないように調整した。   Next, 400 supports were set on the jig, and the supports were inserted into a single soft resin layer. At this time, the upper surface of the support was adjusted so as not to contact the diaphragm as much as possible.

次に、軟質樹脂層を280℃で加熱して本硬化させることによって、接合層を形成した。その後、フォトレジストを用いて、上部電極と圧電体を順次パターニングした。   Next, the bonding layer was formed by heating the soft resin layer at 280 ° C. to perform main curing. Thereafter, the upper electrode and the piezoelectric body were sequentially patterned using a photoresist.

(接合長さ及び接合面積の測定)
実施例と比較例に係るアクチュエータを厚み方向に切断し、その断面を電子顕微鏡で観察することによって、13個の支持体と接合層との接合長さを測定した。接合長さの測定結果、平均値、最大最小値、標準偏差、及び平均値からの最大ばらつき割合を表1にまとめて示す。なお、平均値からの最大ばらつき割合とは、最大値と平均値の差、又は、最小値と平均値の差の大きい方の値の平均値に対する割合である。
また、接合長さに支持体の長さを掛け合わせて接合面積を算出した。接合面積の算出結果、平均値、最大最小値、標準偏差、平均値からの最大ばらつき割合を表1にまとめて示す。
(Measurement of joining length and joining area)
The actuators according to Examples and Comparative Examples were cut in the thickness direction, and the cross sections thereof were observed with an electron microscope, thereby measuring the joining lengths of 13 supports and joining layers. Table 1 summarizes the measurement results of the joint length, the average value, the maximum and minimum values, the standard deviation, and the maximum variation ratio from the average value. Note that the maximum variation ratio from the average value is the ratio of the difference between the maximum value and the average value or the larger value between the minimum value and the average value to the average value.
Further, the joining area was calculated by multiplying the joining length by the length of the support. Table 1 summarizes the calculation results, average value, maximum / minimum value, standard deviation, and maximum variation ratio from the average value of the bonding area.

Figure 2014192417
Figure 2014192417

表1に示すように、比較例に係るアクチュエータでは、接合長さの平均値からの最大ばらつき割合は81.5%と大きな値であった。これは、圧電体のうねりや反りに応じて振動板が歪んでいたため、振動板に対する各支持体の間隔が不規則になってしまったことが原因である。その結果、各支持体の接合強度が大きくばらついており、比較例に係るアクチュエータの動作は不安定であった。   As shown in Table 1, in the actuator according to the comparative example, the maximum variation ratio from the average value of the joining length was a large value of 81.5%. This is because the vibration plate is distorted in accordance with the undulation or warping of the piezoelectric body, and the intervals between the support members with respect to the vibration plate are irregular. As a result, the bonding strengths of the supports varied widely, and the operation of the actuator according to the comparative example was unstable.

なお、比較例に係るアクチュエータでは、接合長さの標準偏差は3.91と大きな値であり、接合面積の標準偏差も0.006と大きな値であった。   In the actuator according to the comparative example, the standard deviation of the joint length was a large value of 3.91, and the standard deviation of the joint area was a large value of 0.006.

一方で、実施例に係るアクチュエータでは、接合長さの平均値からの最大ばらつき割合は24.6%と小さな値であった。これは、支持体の上面を第1硬質樹脂層に接触させた後に第1硬質樹脂層と第2軟質樹脂層を本硬化したため、振動板の歪みに関わりなく、振動板に対する各支持体の間隔を一定にできたことによるものである。その結果、各支持体の接合強度が均一化されており、実施例に係るアクチュエータの動作は安定していることが確認された。従って、接合長さの平均値から±25%以内に接合長さを制限することによって、アクチュエータの動作を安定させられることが分かった。   On the other hand, in the actuator according to the example, the maximum variation ratio from the average value of the joining length was a small value of 24.6%. This is because the first hard resin layer and the second soft resin layer are fully cured after the upper surface of the support is brought into contact with the first hard resin layer, so that the distance between the supports relative to the vibration plate is independent of the distortion of the vibration plate. This is due to the fact that it was made constant. As a result, it was confirmed that the bonding strength of each support was uniform, and the operation of the actuator according to the example was stable. Therefore, it was found that the operation of the actuator can be stabilized by limiting the joining length to within ± 25% from the average joining length.

なお、実施例に係るアクチュエータでは、接合長さの標準偏差は1.01と小さな値であり、接合面積の標準偏差も0.002と小さな値であった。   In the actuator according to the example, the standard deviation of the joining length was a small value of 1.01, and the standard deviation of the joining area was a small value of 0.002.

10 圧電/電歪素子
11 振動板(下部電極)
11S 第1主面
11T 第2主面
11a 本体膜
11b バリア膜
12 圧電体
13 上部電極
20 接合層
20a 第1軟質樹脂層
20a’ 第1硬質樹脂層
20b 第2軟質樹脂層
30 支持体
30S 上面
30T 第1側面
30U 第2側面
10 Piezoelectric / electrostrictive element 11 Diaphragm (lower electrode)
11S 1st main surface 11T 2nd main surface 11a Main body film 11b Barrier film 12 Piezoelectric body 13 Upper electrode 20 Bonding layer 20a 1st soft resin layer 20a '1st hard resin layer 20b 2nd soft resin layer 30 Support body 30S Upper surface 30T First side 30U Second side

Claims (5)

振動板を有する圧電/電歪素子と、
前記振動板の表面上に配置され、樹脂によって構成される接合層と、
前記接合層にそれぞれ食い込む複数の支持体と、
を備え、
前記表面に垂直な断面において、前記複数の支持体それぞれと前記接合層との接合長さは、前記接合長さの平均値の±25%以内である、
圧電/電歪デバイス。
A piezoelectric / electrostrictive element having a diaphragm;
A bonding layer disposed on the surface of the diaphragm and made of resin;
A plurality of supports each biting into the bonding layer;
With
In a cross section perpendicular to the surface, the bonding length between each of the plurality of supports and the bonding layer is within ± 25% of the average value of the bonding lengths.
Piezoelectric / electrostrictive device.
前記複数の支持体それぞれは、前記振動板と対向する上面と、前記上面に連なる一対の側面と、を有し、
前記接合層は、前記上面と前記側面に接合している、
請求項1に記載の圧電/電歪デバイス。
Each of the plurality of supports has an upper surface facing the diaphragm, and a pair of side surfaces connected to the upper surface.
The bonding layer is bonded to the upper surface and the side surface,
The piezoelectric / electrostrictive device according to claim 1.
前記圧電/電歪素子は、前記振動板の第1主面上に配置される複数の圧電体と、前記複数の圧電体上に配置される複数の上部電極と、を有し、
前記接合層は、前記振動板の第2主面上に配置されている、
請求項1又は2に記載の圧電/電歪デバイス。
The piezoelectric / electrostrictive element has a plurality of piezoelectric bodies disposed on the first main surface of the diaphragm, and a plurality of upper electrodes disposed on the plurality of piezoelectric bodies,
The bonding layer is disposed on the second main surface of the diaphragm.
The piezoelectric / electrostrictive device according to claim 1 or 2.
圧電/電歪素子が有する振動板の表面上に第1樹脂層を形成する工程と、
前記第1樹脂層を仮硬化させる工程と、
前記第1樹脂層上に第2樹脂層を形成する工程と、
前記第1樹脂層に接触するまで複数の支持体を前記第2樹脂層に挿入する工程と、
前記第1樹脂層と前記第2樹脂層を硬化させる工程と、
を備える圧電/電歪デバイスの製造方法。
Forming a first resin layer on the surface of the diaphragm of the piezoelectric / electrostrictive element;
Pre-curing the first resin layer;
Forming a second resin layer on the first resin layer;
Inserting a plurality of supports into the second resin layer until contacting the first resin layer;
Curing the first resin layer and the second resin layer;
A method for manufacturing a piezoelectric / electrostrictive device comprising:
圧電/電歪素子が有する振動板の表面上に第1樹脂層を形成する工程と、
前記第1樹脂層を仮硬化させる工程と、
前記第1樹脂層に複数の支持体を接触させる工程と、
前記第1樹脂層上に第2樹脂層を形成する工程と、
前記第1樹脂層と前記第2樹脂層を硬化させる工程と、
を備える圧電/電歪デバイスの製造方法。
Forming a first resin layer on the surface of the diaphragm of the piezoelectric / electrostrictive element;
Pre-curing the first resin layer;
Contacting a plurality of supports with the first resin layer;
Forming a second resin layer on the first resin layer;
Curing the first resin layer and the second resin layer;
A method for manufacturing a piezoelectric / electrostrictive device comprising:
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