JP2014181889A - Airflow processing equipment - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide airflow processing equipment capable of effectively restraining an airflow from flowing round to a lower side of a base material, because adjustment does not have to be performed each time the width of the base material is changed.SOLUTION: Airflow processing equipment includes an air supply part that is provided on an upper side of a film-like base material during conveyance and that supplies an airflow toward a top surface of the base material during the conveyance, and a suction exhaust part that performs suction exhaust of the airflow supplied from the air supply part and flowing around both side edges of the base material during the conveyance to flow to a lower side.

Description

本発明は、空気流処理装置に係り、特に搬送中のフィルム状の基材の上面に向けて空気流を供給する空気流処理装置に関する。   The present invention relates to an air flow treatment device, and more particularly to an air flow treatment device that supplies an air flow toward an upper surface of a film-like substrate being conveyed.

連続体からなるフィルム状の基材の上面に溶剤を塗布した後、塗布膜を乾燥させる工程では、主に熱風による乾燥が行われている。フィルム状の基材に熱風を当てる方法としては、片面(塗布膜面)のみに熱風を当てる方法と、塗布膜面とその裏面との両方に熱風を当てる方法と、が知られている。   In the step of drying the coating film after applying the solvent to the upper surface of the continuous film-like substrate, drying with hot air is mainly performed. As a method of applying hot air to a film-like substrate, a method of applying hot air only to one side (coating film surface) and a method of applying hot air to both the coating film surface and its back surface are known.

片面のみに熱風を当てる方法としては、図7及び図8に示すように、フィルム状の基材111の裏面をガイドローラで保持しつつ、スリット状のノズル121から熱風を供給して塗布膜面に当てる方法(スリットノズル方式)や、特許文献1記載のように、基材の搬送方向と平行に熱風を送風する方法が代表的である。   As shown in FIGS. 7 and 8, as a method of applying hot air only to one side, the back surface of the film-like substrate 111 is held by a guide roller, and hot air is supplied from the slit-like nozzle 121 to apply the coating film surface. Typical methods include a method of applying a hot air (slit nozzle method) and a method of blowing hot air in parallel with the conveyance direction of the substrate as described in Patent Document 1.

また、塗布膜面とその裏面との両方に熱風を当てる方法としては、特許文献2記載のように、熱風を供給するノズルを基材の搬送方向に沿って基材の上下に交互に配置する、いわゆるフローティング方式が一般的である。   Moreover, as a method of applying hot air to both the coating film surface and the back surface thereof, as described in Patent Document 2, nozzles that supply hot air are alternately arranged above and below the base material along the transport direction of the base material. The so-called floating method is common.

フィルム状の基材にとっての乾燥のしやすさ(乾燥効率)という点では、スリットノズル方式が有効であり、フィルム状の基材の乾燥装置にスリットノズル方式は多く採用されている。一般に、スリット状のノズルは、フィルム状の基材の搬送方向に複数が設けられる。   The slit nozzle method is effective in terms of the ease of drying (drying efficiency) for the film-like substrate, and the slit nozzle method is often used in a film-like substrate drying apparatus. In general, a plurality of slit-like nozzles are provided in the conveying direction of the film-like substrate.

ここで、基材搬送の安定性を考えると、スリット状のノズルは各ガイドローラの上方に対応するように設けることが有効である。そのような配置であれば、スリット状のノズルから供給される熱風によるフィルム状の基材のバタツキの発生を、直下に存在するガイドローラが抑制してくれるからである。   Here, considering the stability of the substrate conveyance, it is effective to provide the slit-shaped nozzle so as to correspond to the upper side of each guide roller. With such an arrangement, the guide roller located immediately below suppresses the occurrence of fluttering of the film-like substrate due to hot air supplied from the slit-like nozzle.

しかし、厚く溶剤が塗布された製品や乾燥しにくい溶剤が塗布された製品が乾燥される場合、乾燥効率を向上させるために、ガイドローラの直上位置のみでなく、例えばそれらの中間位置にもスリット状のノズルを設ける場合がある。   However, when a product coated with a thick solvent or a product coated with a difficult-to-dry solvent is dried, not only the position directly above the guide roller but also a slit in the middle of the guide roller in order to improve the drying efficiency. -Shaped nozzles may be provided.

この場合、図8に示すように、フィルム状の基材の、ガイドローラ112で保持されていない箇所においては、搬送中の基材111に向けてスリット状のノズル121から供給された熱風は、基材111の幅方向中心部では基材111の搬送に従って基材111の搬送方向に流れていくが、基材111の両側縁部では基材111の両側縁部を回り込んで下方側に流れていく。その結果、基材111の上下の圧力バランスが不安定となり、基材111が上下に動いてしまう(いわゆるバタツキが発生する)。基材のバタツキは、基材のキズの発生に大きく影響したり、塗布膜の膜厚を不安定にする。   In this case, as shown in FIG. 8, the hot air supplied from the slit-shaped nozzle 121 toward the substrate 111 being transported at the location where the film-shaped substrate is not held by the guide roller 112, In the central part of the width direction of the base material 111, it flows in the transport direction of the base material 111 according to the transport of the base material 111, but at both side edges of the base material 111, it flows around the both side edges of the base material 111 and flows downward. To go. As a result, the upper and lower pressure balance of the base material 111 becomes unstable, and the base material 111 moves up and down (so-called fluttering occurs). The fluttering of the base material greatly affects the generation of scratches on the base material and makes the coating film unstable.

基材の下方側への熱風の回り込み対策として、特許文献3記載のように、基材の幅に合わせてノズルの給気口を塞ぐという方法が知られているが、基材の幅が変更される毎に調整が必要であるという不都合がある。   As a countermeasure against hot air wrapping around the lower side of the base material, a method of closing the air supply port of the nozzle in accordance with the width of the base material is known as described in Patent Document 3, but the width of the base material is changed. There is an inconvenience that an adjustment is required every time it is performed.

特許第4822036号公報Japanese Patent No. 4822036 特開2003−024858号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-024858 特開平7−027475号公報JP-A-7-027475

前述のように、基材の下方側への熱風の回り込み対策として、基材の幅に合わせてノズルの給気口を塞ぐという方法が知られているが、基材の幅が変更される毎に調整が必要であるという不都合がある。   As described above, as a countermeasure against the hot air wrapping around the lower side of the base material, a method is known in which the air supply port of the nozzle is closed in accordance with the width of the base material, but every time the width of the base material is changed. However, there is an inconvenience that adjustment is required.

本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、基材の幅が変更される毎に調整する必要がなく、基材の下方側への空気流の回り込みを効果的に抑制できる空気流処理装置を提供することにある。   The present invention has been devised to pay attention to the above problems and to effectively solve them. An object of the present invention is to provide an airflow treatment device that does not need to be adjusted every time the width of a substrate is changed, and that can effectively suppress the wraparound of the airflow to the lower side of the substrate.

本発明は、搬送中のフィルム状の基材の上方側に設けられ、搬送中の基材の上面に向けて空気流を供給する給気部と、前記給気部から供給され、搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流を吸引排気する吸引排気部と、を備えたことを特徴とする空気流処理装置である。   The present invention is provided on the upper side of the film-like base material being transported, and an air supply unit that supplies an air flow toward the upper surface of the base material being transported, and is supplied from the air supply unit and is being transported An air flow treatment device comprising: a suction exhaust unit that sucks and exhausts an air flow that flows around a side edge portion of the substrate and flows downward.

本発明によれば、給気部から供給されて搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流が、吸引排気部によって積極的に吸引排気される。そのため、基材の下方側への空気流の回り込みが効果的に抑制され、基材のバタツキが防止される。また、吸引排気部による積極的な吸引排気によって、基材の両側縁部の近傍における空気流の方向が規制されるため、基材の幅の変更に対応することが容易である。   According to the present invention, the air flow that is supplied from the air supply unit and flows around the both side edges of the substrate being transported and flows downward is actively sucked and exhausted by the suction exhaust unit. Therefore, the wraparound of the air flow to the lower side of the substrate is effectively suppressed, and the substrate is prevented from fluttering. In addition, since the direction of the air flow in the vicinity of both side edges of the base material is regulated by the positive suction exhaust by the suction exhaust portion, it is easy to cope with the change in the width of the base material.

好ましくは、前記吸引排気部は、前記基材の両側縁部の近傍に開口する一対の吸引用開口部と、前記一対の吸引用開口部に接続された吸引ダクトと、を有している。このような態様によれば、搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流が一対の吸引用開口部から効果的に吸引排気され得る。   Preferably, the suction exhaust section includes a pair of suction openings that are opened in the vicinity of both side edges of the base material, and a suction duct connected to the pair of suction openings. According to such an aspect, the airflow that flows around the both side edges of the substrate being conveyed and flows downward can be effectively sucked and exhausted from the pair of suction openings.

具体的には、例えば、前記一対の吸引用開口部は、上向きに開放されている。この場合、好ましくは、前記一対の吸引用開口部の各々には、各々が下向きかつ互いに対して背き合うような傾斜方向に吸引方向を規制する規制部材が設けられいる。このような態様によれば、搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流の方向が、各々が下向きかつ互いに対して背き合うような傾斜方向に規制され得る。これにより、基材の下方側への空気流の回り込みが一層効果的に抑制される。   Specifically, for example, the pair of suction openings are opened upward. In this case, preferably, each of the pair of suction openings is provided with a regulating member that regulates the suction direction in an inclined direction in which each of the pair of suction openings faces downward and is opposed to each other. According to such an aspect, the direction of the airflow that flows around the side edge portions of the base material being conveyed and flows downward can be regulated in an inclined direction in which each of the airflow faces downward and backs against each other. . Thereby, the wraparound of the air flow to the lower side of the substrate is further effectively suppressed.

あるいは、前記一対の吸引用開口部の各々は、各々が上向きかつ互いに対して向かい合うような傾斜面において開放されていてもよい。このような態様によれば、搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流の方向が、各々が上向きかつ互いに対して向かい合うような傾斜面に対して垂直な方向に規制され得る。これにより、基材の下方側への空気流の回り込みが一層効果的に抑制される。   Alternatively, each of the pair of suction openings may be open on an inclined surface that faces upward and faces each other. According to such an aspect, the direction of the airflow that flows around the both side edges of the base material being conveyed and flows downward is perpendicular to the inclined surfaces that face each other upward and facing each other. May be restricted in direction. Thereby, the wraparound of the air flow to the lower side of the substrate is further effectively suppressed.

また、好ましくは、前記給気部は、スリット状のノズルを有している。このような態様によれば、スリット状のノズルが延びる方向において一様に空気流を供給することが可能である。具体的には、例えば、前記スリット状のノズルは、基材の搬送方向と垂直な方向に延びている。   Preferably, the air supply unit has a slit-like nozzle. According to such an aspect, it is possible to supply an air flow uniformly in the direction in which the slit-like nozzle extends. Specifically, for example, the slit-like nozzle extends in a direction perpendicular to the conveyance direction of the substrate.

また、本発明は、前記したいずれかの特徴を有する空気流処理装置の吸引排気部に用いられる吸引排気装置であって、前記基材の両側縁部の近傍に開口する一対の吸引用開口部と、前記一対の吸引用開口部に接続された吸引ダクトと、を備えたことを特徴とする吸引排気装置である。   Further, the present invention is a suction / exhaust device used in the suction / exhaust portion of the airflow treatment device having any one of the above-described features, and a pair of suction openings that open in the vicinity of both side edges of the base material And a suction duct connected to the pair of suction openings.

本発明によれば、搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流が一対の吸引用開口部から効果的に吸引排気され得る。   According to the present invention, the airflow that flows around the both side edges of the substrate being conveyed and flows downward can be effectively sucked and exhausted from the pair of suction openings.

本発明によれば、給気部から供給されて搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流が、吸引排気部によって積極的に吸引排気される。そのため、基材の下方側への空気流の回り込みが効果的に抑制され、基材のバタツキが防止される。また、吸引排気部による積極的な吸引排気によって、基材の両側縁部の近傍における空気流の方向が規制されるため、基材の幅の変更に対応することが可能である。   According to the present invention, the air flow that is supplied from the air supply unit and flows around the both side edges of the substrate being transported and flows downward is actively sucked and exhausted by the suction exhaust unit. Therefore, the wraparound of the air flow to the lower side of the substrate is effectively suppressed, and the substrate is prevented from fluttering. Moreover, since the direction of the air flow in the vicinity of both side edges of the base material is regulated by the positive suction exhaust by the suction exhaust portion, it is possible to cope with a change in the width of the base material.

本発明の第1の実施の形態による空気流処理装置を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows the airflow processing apparatus by the 1st Embodiment of this invention. 図1の空気流処理装置における吸引排気部を拡大して示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which expands and shows the suction exhaust part in the airflow processing apparatus of FIG. 図1の空気流処理装置における吸引排気部を拡大して示す概略正面図である。It is a schematic front view which expands and shows the suction exhaust part in the airflow processing apparatus of FIG. 本発明の第2の実施の形態による空気流処置装置における吸引排気部を拡大して示す概略正面図である。It is a schematic front view which expands and shows the suction exhaust part in the airflow treatment apparatus by the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態による空気流処置装置における吸引排気部を拡大して示す概略正面図である。It is a schematic front view which expands and shows the suction exhaust part in the airflow treatment apparatus by the 3rd Embodiment of this invention. 具体的な実施例における実験条件と実験結果とをまとめて示す図である。It is a figure which shows collectively the experimental conditions and experimental result in a specific Example. 従来の乾燥装置の一例を示す概略側面図である。It is a schematic side view which shows an example of the conventional drying apparatus. 図7の乾燥装置の一部を拡大して示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which expands and shows a part of drying apparatus of FIG.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施の形態による空気流処理装置を示す概略側面図である。図2は、図1の空気流処理装置における吸引排気部を拡大して示す概略斜視図であり、図3は、当該吸引排気部を拡大して示す概略正面図である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic side view showing an airflow treatment device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an enlarged schematic perspective view showing the suction / exhaust part in the air flow treatment device of FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged schematic front view showing the suction / exhaust part.

図1乃至図3に示すように、本実施の形態による空気流処理装置10は、搬送中のフィルム状の基材11の上方側に設けられ、搬送中の基材11の上面に向けて空気流を供給する給気部20と、給気部20から供給され、搬送中の基材11の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流を吸引排気する吸引排気部(吸引排気装置)30と、を備えている。   As shown in FIGS. 1 to 3, the air flow treatment device 10 according to the present embodiment is provided on the upper side of a film-like substrate 11 being conveyed, and air is directed toward the upper surface of the substrate 11 being conveyed. An air supply unit 20 for supplying a flow, and a suction exhaust unit (suction exhaust unit) that sucks and exhausts an air flow that is supplied from the air supply unit 20 and flows around the both side edges of the substrate 11 being conveyed and flows downward. Device) 30.

本実施の形態では、図1に示すように、複数のガイドローラ12がフィルム状の基材11の搬送方向に沿って等間隔に配置されている。各ガイドローラ12間の間隔は、例えば500mmである。各ガイドローラ12は、回転軸線が基材11の搬送方向に対して垂直かつ水平な方向に向けられた状態で、不図示のハウジングに回転可能に支持されている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a plurality of guide rollers 12 are arranged at equal intervals along the conveyance direction of the film-like substrate 11. An interval between the guide rollers 12 is, for example, 500 mm. Each guide roller 12 is rotatably supported by a housing (not shown) in a state in which the rotation axis is oriented in a direction that is perpendicular and horizontal to the conveyance direction of the base material 11.

そして、搬送方向に沿って延びるフィルム状の基材11が各ガイドローラ12上に案内され、フィルム状の基材11の裏面は各ガイドローラ12によって保持されるようになっている。例えば、フィルム状の基材11の素材は、ポリエチレンテレフタラート(PET)であり、その幅は、例えば1000mmであり、その上面に溶剤としてメチルエチルケトン(MEK)のような有機溶剤を含むインキが塗布されている。不図示の搬送機構によってフィルム状の基材11が各ガイドローラ12上を搬送方向に搬送される場合、各ガイドローラ12は各々の回転軸線回りに従動回転することにより、フィルム状の基材11は搬送方向に安定的に案内されるようになっている。   A film-like base material 11 extending along the transport direction is guided on each guide roller 12, and the back surface of the film-like base material 11 is held by each guide roller 12. For example, the material of the film-like substrate 11 is polyethylene terephthalate (PET), the width is, for example, 1000 mm, and an ink containing an organic solvent such as methyl ethyl ketone (MEK) is applied as a solvent on the upper surface. ing. When the film-like base material 11 is transported on the guide rollers 12 in the transport direction by a transport mechanism (not shown), each guide roller 12 is driven to rotate around its respective rotation axis, thereby causing the film-shaped base material 11 to rotate. Is stably guided in the transport direction.

給気部20は、複数のスリット状のノズル21を有している。本実施の形態では、各スリット状のノズル21は、基材11の搬送方向に対して垂直かつ水平な方向に延びている。これにより、各スリット状のノズル21からは、フィルム状の基材11の幅方向において一様に空気流が供給されるようになっている。例えば、スリット状のノズル21の長さは、1100mmであり、スリット状のノズル21の高さは、フィルム状の基材11の上面に対して、約20mmとなっている。   The air supply unit 20 has a plurality of slit-shaped nozzles 21. In the present embodiment, each slit-like nozzle 21 extends in a direction that is perpendicular and horizontal to the transport direction of the substrate 11. Thereby, an air flow is uniformly supplied from each slit-like nozzle 21 in the width direction of the film-like base material 11. For example, the length of the slit-shaped nozzle 21 is 1100 mm, and the height of the slit-shaped nozzle 21 is about 20 mm with respect to the upper surface of the film-shaped substrate 11.

図1に示すように、複数のスリット状のノズル21は、各ガイドローラ12上にそれぞれ対応して配置された第1ノズル21aの群と、隣り合う第1ノズル21aの中間に配置された第2ノズル21bの群と、を有している。   As shown in FIG. 1, the plurality of slit-shaped nozzles 21 are arranged in the middle between the group of first nozzles 21 a disposed on the respective guide rollers 12 and the adjacent first nozzles 21 a. And a group of two nozzles 21b.

本実施の形態の吸引排気部30は、各第2ノズル21bの下方にそれぞれ配置されている。   The suction / exhaust section 30 of the present embodiment is disposed below each second nozzle 21b.

図2及び図3に示すように、吸引排気部30は、具体的には、基材11の両側縁部の近傍に開口する一対の吸引用開口部31と、一対の吸引用開口部31に接続された吸引ダクト32と、を有している。   As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the suction exhaust part 30 specifically includes a pair of suction openings 31 that open in the vicinity of both side edges of the substrate 11 and a pair of suction openings 31. And a suction duct 32 connected thereto.

本実施の形態では、各吸引用開口部31は、図2及び図3に示すような水平面内に長方形の開口を有する漏斗形状(水平方向の断面積が上方領域よりも下方領域において小さい形状)を有しており、基材11の両側縁部の近傍において上向きに開放されている。各吸引用開口部31の長方形の開口は、例えば、基材11の搬送方向の長さが100mmであり、基材11の幅方向の長さが150mmである。各吸引用開口部31の長方形の開口は、平面視において、一部が基材11と重なると共に他部が基材11の両側縁部から外側にはみ出るように設けられている。   In the present embodiment, each suction opening 31 has a funnel shape having a rectangular opening in the horizontal plane as shown in FIGS. 2 and 3 (a shape in which the horizontal sectional area is smaller in the lower region than in the upper region). And is open upward in the vicinity of both side edges of the substrate 11. The rectangular opening of each suction opening 31 has, for example, a length of 100 mm in the conveyance direction of the base material 11 and a length of 150 mm in the width direction of the base material 11. The rectangular opening of each suction opening 31 is provided so that a part thereof overlaps the base material 11 and the other part protrudes outward from both side edges of the base material 11 in plan view.

一方、吸引ダクト32は、各吸引用開口部31の下方端に接続されると共に、基材11の搬送方向に対して垂直かつ水平な方向に延びて、不図示の吸引排気機構(例えば、ファン)に接続されている。例えば、吸引ダクト32の断面積は約100cmであり、吸引排気機構(吸引排気ファン)の出力は5kWであり、その排気量は20m/分である。吸引排気機構を動作させると、吸引ダクト32及び一対の吸引用開口部31を介して、基材11の両側縁部の近傍における空気流が吸引排気されるようになっている。 On the other hand, the suction duct 32 is connected to the lower end of each suction opening 31 and extends in a direction perpendicular and horizontal to the transport direction of the base material 11, and a suction exhaust mechanism (not shown) (for example, a fan). )It is connected to the. For example, the cross-sectional area of the suction duct 32 is about 100 cm 2 , the output of the suction / exhaust mechanism (suction / exhaust fan) is 5 kW, and the amount of exhaust is 20 m 3 / min. When the suction / exhaust mechanism is operated, the air flow in the vicinity of both side edges of the substrate 11 is sucked and exhausted through the suction duct 32 and the pair of suction openings 31.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described.

図1に示すように、不図示の搬送機構の給送部から送出されたフィルム状の基材11が、空気流処理装置10の各ガイドローラ12上に案内された後、不図示の巻取部にセットされる。そして、フィルム状の基材11の裏面が各ガイドローラ12によって保持された状態で、搬送機構が動作され、フィルム状の基材11の搬送が開始される。本実施の形態では、搬送中のフィルム状の基材11は、その上面に溶剤が塗布された後、空気流処理装置10に搬送されてくる。   As shown in FIG. 1, after a film-like base material 11 delivered from a feeding unit of a conveyance mechanism (not shown) is guided on each guide roller 12 of an air flow treatment device 10, a winding (not shown) Set in the department. Then, the transport mechanism is operated in a state where the back surface of the film-like base material 11 is held by each guide roller 12, and the transport of the film-like base material 11 is started. In the present embodiment, the film-like base material 11 being transported is transported to the airflow treatment device 10 after a solvent is applied to the upper surface thereof.

空気流処理装置10では、図1に示すように、給気部20の各スリット状のノズル21から搬送中の基材11の上面に向けて空気流の供給が開始されると共に、吸引排気部30の一対の吸引用開口部31から吸引排気が開始される。   In the air flow treatment device 10, as shown in FIG. 1, supply of air flow from each slit-shaped nozzle 21 of the air supply unit 20 toward the upper surface of the substrate 11 being conveyed is started, and a suction exhaust unit Suction exhaust is started from the 30 pairs of suction openings 31.

各スリット状のノズル21から供給された空気流は、基材11の幅方向中心部では、基材11の搬送に従って基材11の搬送方向に流れていく。これにより、フィルム状の基材11の上面に塗布された溶剤は乾燥される。   The air flow supplied from each slit-shaped nozzle 21 flows in the transport direction of the base material 11 in accordance with the transport of the base material 11 at the center in the width direction of the base material 11. Thereby, the solvent apply | coated to the upper surface of the film-form base material 11 is dried.

一方、各スリット状のノズル21から供給された空気流は、基材11の両側縁部では、基材11の両側縁部を回り込んで下方側に流れ込もうとする。   On the other hand, the air flow supplied from each slit-shaped nozzle 21 tends to flow downward on both side edges of the base material 11 around both side edges of the base material 11.

ここで、第1ノズル12aの直下では、基材11の両側縁部を回り込もうとする空気流は、ガイドローラ12によって遮断され、フィルム状の基材11の下方側に流れ込むことが防止される。   Here, immediately below the first nozzle 12 a, the air flow that tries to go around both side edges of the base material 11 is blocked by the guide roller 12, and is prevented from flowing into the lower side of the film-like base material 11. The

一方、第2ノズル12bの直下では、基材11の両側縁部を回り込もうとする空気流は、基材11の両側縁部の近傍に開口する一対の吸引用開口部31を介して積極的に吸引排気され、フィルム状の基材11の下方側に流れ込むことが防止される。   On the other hand, immediately below the second nozzle 12 b, the air flow that tries to go around both side edges of the base material 11 is positively transmitted through the pair of suction openings 31 that open in the vicinity of both side edges of the base material 11. Therefore, it is prevented from flowing into the lower side of the film-like substrate 11.

以上のように、本実施の形態によれば、給気部20から供給されて搬送中の基材11の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流が、吸引排気部30によって積極的に吸引排気される。そのため、基材11の下方側への空気流の回り込みが効果的に抑制され、基材11のバタツキが防止される。   As described above, according to the present embodiment, the air flow that is supplied from the air supply unit 20 and flows around the both side edges of the substrate 11 being conveyed and flows downward is sucked by the suction exhaust unit 30. It is actively sucked and exhausted. Therefore, the wraparound of the air flow to the lower side of the base material 11 is effectively suppressed, and the base material 11 is prevented from fluttering.

また、本実施の形態によれば、例えば、同一の搬送ラインにおいて異なる幅の基材11が搬送される場合であっても、吸引排気部30による積極的な吸引排気によって、当該基材11の両側縁部の近傍における空気流の方向が規制されるため、当該基材11の下方側への空気流の回り込みが効果的に抑制される。すなわち、本実施の形態によれば、基材11の幅の変更に対応することが容易である。   In addition, according to the present embodiment, for example, even when the base material 11 having a different width is transported in the same transport line, the suction of the base material 11 is positively performed by the suction exhaust unit 30. Since the direction of the air flow in the vicinity of the side edge portions is restricted, the wraparound of the air flow to the lower side of the base material 11 is effectively suppressed. That is, according to the present embodiment, it is easy to cope with a change in the width of the base material 11.

なお、本実施の形態では、一対の吸引用開口部31には、吸引方向を基材11の幅方向外向きに積極的に規制する規制部材が設けられていなかったが、図4に示すように、一対の吸引用開口部31の各々には、各々が下向きかつ互いに対して背き合うような傾斜方向に吸引方向を規制する規制部材33が設けられいてもよい(第2の実施の形態)。規制部材33は、具体的には、例えば、前記傾斜方向に沿った平板形状を有するフィン又はリブである。このような態様によれば、搬送中の基材11の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流の方向が、各々が下向きかつ互いに対して背き合うような傾斜方向、すなわち基材11の幅方向外向き、に積極的に規制され得る。これにより、基材11の下方側への空気流の回り込みが一層効果的に抑制される。   In the present embodiment, the pair of suction openings 31 is not provided with a regulating member that positively regulates the suction direction outward in the width direction of the base material 11, but as shown in FIG. In addition, each of the pair of suction openings 31 may be provided with a regulating member 33 that regulates the suction direction in an inclined direction such that each of the openings 31 faces downward and backs away from each other (second embodiment). . Specifically, the restricting member 33 is, for example, a fin or a rib having a flat plate shape along the inclined direction. According to such an aspect, the direction of the airflow that flows around the both side edges of the base material 11 being conveyed and flows downward is an inclined direction in which each of the airflow faces downward and is opposed to each other, that is, the base The material 11 can be positively regulated outward in the width direction. Thereby, the wraparound of the air flow to the lower side of the base material 11 is suppressed more effectively.

また、本実施の形態では、一対の吸引用開口部31が上向きに開放されていたが、図5に示すように、一対の吸引用開口部31’の各々は、各々が上向きかつ互いに対して向かい合うような傾斜面において開放されていてもよい(第3の実施の形態)。このような態様によれば、搬送中の基材11の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流の方向が、各々が上向きかつ互いに対して向かい合うような傾斜面に対して垂直な方向、すなわち基材11の幅方向外向き、に積極的に規制され得る。これにより、基材11の下方側への空気流の回り込みが一層効果的に抑制される。   Further, in the present embodiment, the pair of suction openings 31 are opened upward. However, as shown in FIG. 5, each of the pair of suction openings 31 ′ is upward and relative to each other. You may open | release in the inclined surface which faces each other (3rd Embodiment). According to such an aspect, the direction of the airflow that flows around the both side edge portions of the substrate 11 being conveyed and flows downward is perpendicular to the inclined surfaces that face each other upward and facing each other. It can be positively regulated in a certain direction, that is, outward in the width direction of the base material 11. Thereby, the wraparound of the air flow to the lower side of the base material 11 is suppressed more effectively.

次に、各実施の形態を用いて検証した具体的な実施例について説明する。   Next, specific examples verified by using the respective embodiments will be described.

図1に示すように、フィルム状の基材11として、12μm厚のポリエチレンテレフタラート(PET)フィルムが使用され、当該基材11の裏面がガイドローラ12で保持された状態で、3m/minの搬送速度で搬送方向に搬送された。そして、搬送中のフィルム状の基材11に、各スリット状のノズル12から25m/sの風速で熱風(加熱された空気流)が供給された。   As shown in FIG. 1, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm is used as the film-like substrate 11, and the back surface of the substrate 11 is held by the guide roller 12 and is 3 m / min It was transported in the transport direction at the transport speed. Then, hot air (heated air flow) was supplied from the slit-shaped nozzles 12 to the film-like substrate 11 being conveyed at a wind speed of 25 m / s.

第1の実施の形態による実施例として、各スリット状のノズル12から熱風の供給が開始されると共に、図3に示すように、上向きに開放されている一対の吸引用開口部31から吸引排気が開始された。この場合、図6に示すように、基材11にバタツキは発生せず、良好な搬送状態が得られた。   As an example according to the first embodiment, supply of hot air is started from each slit-shaped nozzle 12 and, as shown in FIG. 3, suction exhaust from a pair of suction openings 31 opened upward. Has started. In this case, as shown in FIG. 6, the base material 11 did not flutter, and a good conveyance state was obtained.

次に、第3の実施の形態による実施例として、各スリット状のノズル12から熱風の供給が開始されると共に、図5に示すように、各々が上向きかつ互いに対して向かい合うような傾斜面において開放されている一対の吸引用開口部31’から吸引排気が開始された。この場合も、図6に示すように、基材11にバタツキが発生せず、良好な搬送状態が得られた。   Next, as an example according to the third embodiment, the supply of hot air from each slit-shaped nozzle 12 is started, and as shown in FIG. 5, the inclined surfaces face each other upward and face each other. Suction exhaust was started from the opened pair of suction openings 31 ′. Also in this case, as shown in FIG. 6, the base material 11 did not flutter, and a good conveyance state was obtained.

次に、比較例として、図6に示すように、第1の実施の形態から一対の吸引用開口部31が撤去された状態で、各スリット状のノズル12から熱風の供給が開始された。この場合、基材11にバタツキが発生したことが確認された。   Next, as a comparative example, as shown in FIG. 6, supply of hot air from each slit-shaped nozzle 12 was started with the pair of suction openings 31 removed from the first embodiment. In this case, it was confirmed that the substrate 11 was fluttered.

次に、第1の実施の形態による第2実施例として、図6に示すように、上向きに開放されている一対の吸引用開口部31の開口全体が基材11と平面視において重なるように配置された状態で、各スリット状のノズル12から熱風の供給が開始されると共に、上向きに開放された一対の吸引用開口部31から吸引排気が開始された。この場合、前記比較例に比べて基材11のバタツキが顕著に低減したことが確認された。   Next, as a second example according to the first embodiment, as shown in FIG. 6, the entire opening of the pair of suction openings 31 opened upward is overlapped with the base material 11 in plan view. While being arranged, supply of hot air from each slit-shaped nozzle 12 was started, and suction and exhaust were started from a pair of suction openings 31 opened upward. In this case, it was confirmed that the fluttering of the base material 11 was significantly reduced as compared with the comparative example.

10 空気流処理装置
11 フィルム状の基材
12 ガイドローラ
20 給気部
21 スリット状のノズル
30 吸引排気部(吸引排気装置)
31 一対の吸引用開口部
31’ 一対の吸引用開口部
32 吸引ダクト
33 規制部材
111 フィルム状の基材
112 ガイドローラ
121 スリット状のノズル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Airflow processing apparatus 11 Film-like base material 12 Guide roller 20 Air supply part 21 Slit-like nozzle 30 Suction exhaust part (suction exhaust apparatus)
31 A pair of suction openings 31 ′ A pair of suction openings 32 Suction duct 33 Restricting member 111 Film-like base material 112 Guide roller 121 Slit-like nozzle

Claims (8)

搬送中のフィルム状の基材の上方側に設けられ、搬送中の基材の上面に向けて空気流を供給する給気部と、
前記給気部から供給され、搬送中の基材の両側縁部を回り込んで下方側に流れてくる空気流を吸引排気する吸引排気部と、
を備えたことを特徴とする空気流処理装置。
An air supply unit that is provided on the upper side of the film-like substrate being conveyed and supplies an air flow toward the upper surface of the substrate being conveyed;
A suction exhaust unit that sucks and exhausts an air flow that is supplied from the air supply unit and flows around the side edges of the substrate being conveyed and flows downward;
An air flow treatment device comprising:
前記吸引排気部は、
前記基材の両側縁部の近傍に開口する一対の吸引用開口部と、
前記一対の吸引用開口部に接続された吸引ダクトと、
を有している
ことを特徴とする請求項1に記載の空気流処理装置。
The suction exhaust part is
A pair of suction openings that open in the vicinity of both side edges of the substrate;
A suction duct connected to the pair of suction openings;
The air flow treatment device according to claim 1, wherein
前記一対の吸引用開口部は、上向きに開放されている
ことを特徴とする請求項1または2に記載の空気流処理装置。
The air flow treatment device according to claim 1, wherein the pair of suction openings are opened upward.
前記一対の吸引用開口部の各々には、各々が下向きかつ互いに対して背き合うような傾斜方向に吸引方向を規制する規制部材が設けられいる
ことを特徴とする請求項3に記載の空気流処理装置。
The air flow according to claim 3, wherein each of the pair of suction openings is provided with a regulating member that regulates a suction direction in an inclined direction in which each of the openings is directed downward and is opposed to each other. Processing equipment.
前記一対の吸引用開口部の各々は、各々が上向きかつ互いに対して向かい合うような傾斜面において開放されている
ことを特徴とする請求項1または2に記載の空気流処理装置。
3. The air flow processing device according to claim 1, wherein each of the pair of suction openings is open on an inclined surface that faces upward and faces each other.
前記給気部は、スリット状のノズルを有している
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の空気流処理装置。
The air flow processing device according to claim 1, wherein the air supply unit has a slit-like nozzle.
前記スリット状のノズルは、基材の搬送方向と垂直な方向に延びている
ことを特徴とする請求項6に記載の空気流処理装置。
The air flow treatment device according to claim 6, wherein the slit-like nozzle extends in a direction perpendicular to a conveyance direction of the base material.
請求項1に記載の空気流処理装置の吸引排気部に用いられる吸引排気装置であって、
前記基材の両側縁部の近傍に開口する一対の吸引用開口部と、
前記一対の吸引用開口部に接続された吸引ダクトと、
を備えたことを特徴とする吸引排気装置。
A suction / exhaust device used in the suction / exhaust part of the airflow treatment device according to claim 1,
A pair of suction openings that open in the vicinity of both side edges of the substrate;
A suction duct connected to the pair of suction openings;
A suction exhaust apparatus comprising:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017169784A1 (en) * 2016-03-28 2017-10-05 日本碍子株式会社 Low-temperature drying apparatus
KR101891524B1 (en) * 2017-10-17 2018-09-28 주식회사 디씨엔 High Stability Continuous Post Treatment Hot Air Drying Device for Functional Film Coating Process
CN114543484A (en) * 2022-01-19 2022-05-27 闫琼 Circulation temperature-changing type melt-blown fabric drying device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005049021A (en) * 2003-07-29 2005-02-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Paste material drying method and device
JP2007317802A (en) * 2006-05-24 2007-12-06 Shibaura Mechatronics Corp Apparatus and method of dry-processing substrate
JP2008298315A (en) * 2007-05-29 2008-12-11 Fujifilm Corp Drying device and optical film manufactured thereby

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005049021A (en) * 2003-07-29 2005-02-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Paste material drying method and device
JP2007317802A (en) * 2006-05-24 2007-12-06 Shibaura Mechatronics Corp Apparatus and method of dry-processing substrate
JP2008298315A (en) * 2007-05-29 2008-12-11 Fujifilm Corp Drying device and optical film manufactured thereby

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017169784A1 (en) * 2016-03-28 2017-10-05 日本碍子株式会社 Low-temperature drying apparatus
JPWO2017169784A1 (en) * 2016-03-28 2018-04-05 日本碍子株式会社 Low temperature drying equipment
CN108885056A (en) * 2016-03-28 2018-11-23 日本碍子株式会社 Low temperature drying device
US10739069B2 (en) 2016-03-28 2020-08-11 Ngk Insulators, Ltd. Low-temperature drying apparatus
TWI717484B (en) 2016-03-28 2021-02-01 日商日本碍子股份有限公司 Low temperature drying device
KR101891524B1 (en) * 2017-10-17 2018-09-28 주식회사 디씨엔 High Stability Continuous Post Treatment Hot Air Drying Device for Functional Film Coating Process
CN114543484A (en) * 2022-01-19 2022-05-27 闫琼 Circulation temperature-changing type melt-blown fabric drying device
CN114543484B (en) * 2022-01-19 2023-10-20 闫琼 Circulation alternating temperature formula melt-blown cloth drying device

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