JP2014180846A - Transparent flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board - Google Patents

Transparent flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP2014180846A
JP2014180846A JP2013057930A JP2013057930A JP2014180846A JP 2014180846 A JP2014180846 A JP 2014180846A JP 2013057930 A JP2013057930 A JP 2013057930A JP 2013057930 A JP2013057930 A JP 2013057930A JP 2014180846 A JP2014180846 A JP 2014180846A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
general formula
divalent
clad laminate
flexible metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013057930A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenta Tada
謙太 多田
Tomoharu Kurita
智晴 栗田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP2013057930A priority Critical patent/JP2014180846A/en
Publication of JP2014180846A publication Critical patent/JP2014180846A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible metal-clad laminate and a flexible printed wiring board each endowed simultaneously with excellent heat resistance, flexibility, and low hygroscopicity.SOLUTION: A flexible metal-clad laminate wherein a polyesterimide resin including, among structural units thereof, a structure expressed by the following general formula (1) is laminated on at least one surface of a metal foil is manufactured: general formula (1) (in the formula, R1 expresses a divalent linear aliphatic group, divalent alicyclic group, or divalent aromatic group, whereas R2 expresses a divalent linear aliphatic group, divalent alicyclic group, or divalent aromatic group).

Description

本発明は優れた耐熱性、柔軟性、低吸湿性、及び十分な無色透明性を併せ持つフレキシブル金属張積層体、及びフレキシブルプリント配線板に関する。 The present invention relates to a flexible metal-clad laminate having excellent heat resistance, flexibility, low hygroscopicity, and sufficient colorless transparency, and a flexible printed wiring board.

液晶表示素子、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイなどの表示装置用デバイス基板においては、折り曲げ可能なペーパーディスプレイ等の開発に伴い、現行のガラス基板に代わる透明フィルム基板の必要性が増している。又、スマートホンやタブレット端末機器等の分野においては、電子機器の小型化、軽薄化、軽量化が進み、用いられているガラス、及びセラミックス基板の軽量化、柔軟化、高屈曲化が求められている。近年、これらガラス基板、セラミック基板の代替として、耐熱性、柔軟性に優れる透明フィルム基板、透明カバーレイを用いたフレキシブルプリント配線板の適用が進められている。   In device substrates for display devices such as liquid crystal display elements, plasma displays, and organic EL displays, with the development of foldable paper displays, the need for transparent film substrates to replace current glass substrates is increasing. In the fields of smart phones and tablet terminal devices, electronic devices are becoming smaller, lighter and lighter, and the glass and ceramic substrates used are required to be lighter, more flexible, and more flexible. ing. In recent years, as an alternative to these glass substrates and ceramic substrates, application of a flexible printed wiring board using a transparent film substrate and a transparent coverlay excellent in heat resistance and flexibility has been promoted.

フレキシブルプリント配線板をこれらの用途に適用するためには、ガラス並の無色透明性を持つ柔軟なフィルム状の材料が必要となる。又、当然、実装用基板としての適用となる為、耐熱性、寸法安定性が要求される。特に、近年のIC実装技術の高度化、高密度化に応じ、フィルム基板材料には、より高度な、耐熱性、熱寸法安定性、吸湿寸法安定性、低吸湿性等が必要となる In order to apply the flexible printed wiring board to these uses, a flexible film-like material having colorless transparency similar to that of glass is required. Of course, since it is applied as a mounting substrate, heat resistance and dimensional stability are required. In particular, with the recent advancement of IC packaging technology and higher density, film substrate materials require higher heat resistance, thermal dimensional stability, hygroscopic dimensional stability, low hygroscopicity, and the like.

フレキシブルプリント配線板は、フレキシブル金属張積層体をサブトラクティブ法等によりエッチング回路加工した後、回路上にカバーレイを積層することで製造される。従来より、フレキシブル金属張積層体としては、a)金属箔と全芳香族ポリイミドフィルムを接着剤で貼り合わせた3層フレキシブル金属張積層体(特許文献1)、b)接着剤を介さず芳香族ポリイミドフィルムを金属箔に積層した2層フレキシブル金属張積層体(特許文献2)、c)芳香族ポリイミドフィルムへ直接Crなどの金属をスパッタリング等により蒸着させ、更に銅を無電解、および/または電解メッキし製造するメタライジング型の2層フレキシブル金属張積層体(特許文献3)がある。 A flexible printed wiring board is manufactured by laminating a cover lay on a circuit after processing an etching circuit of a flexible metal-clad laminate by a subtractive method or the like. Conventionally, as a flexible metal-clad laminate, a) a three-layer flexible metal-clad laminate in which a metal foil and a wholly aromatic polyimide film are bonded together with an adhesive (Patent Document 1), b) an aromatic without using an adhesive Two-layer flexible metal-clad laminate in which polyimide film is laminated on metal foil (Patent Document 2), c) Metal such as Cr is directly deposited on an aromatic polyimide film by sputtering, etc., and copper is electrolessly and / or electrolyzed. There is a metalizing type two-layer flexible metal-clad laminate (Patent Document 3) that is manufactured by plating.

しかし、いずれのフレキシブル金属積層体も基板材料として分子内、及び分子間での電荷移動錯体を形成する全芳香族ポリイミドフィルムを用いている。この為、可視光を吸収し、淡黄色〜赤褐色に着色しており、無色透明性が必要な用途に適用することは困難であった。又、芳香環を介したイミド基からなる分子構造は、高耐熱性を発現できるが、分極が大きく、水分子との親和性が高いという欠点があった。すなわち、吸湿率が高く、水分の影響で半田リフロー等の高温実装時に回路が膨れたり、剥離する等の問題点を抱えていた。更には、極性が高い分子構造が故に、柔軟性には劣り、スマートホンやタブレット端末機器等など、電子機器の小型化、軽薄化への対応が困難であった。 However, all flexible metal laminates use wholly aromatic polyimide films that form charge transfer complexes within and between molecules as substrate materials. For this reason, visible light is absorbed and it is colored pale yellow-reddish brown, and it was difficult to apply to the use which needs colorless transparency. In addition, a molecular structure composed of an imide group via an aromatic ring can exhibit high heat resistance, but has a drawback of large polarization and high affinity with water molecules. That is, the moisture absorption rate is high, and the circuit has problems such as swelling and peeling during high temperature mounting such as solder reflow due to the influence of moisture. Furthermore, due to the highly polar molecular structure, the flexibility is inferior, and it has been difficult to cope with downsizing and thinning of electronic devices such as smart phones and tablet terminal devices.

カバーレイ材料も同様で、現状は、パターン形状に応じて予め打ち抜き加工した接着剤付のポリイミドフィルムのラミネート、或いは、インク化したポリイミドのスクリーン印刷等によりパターン上に積層されているが、いずれの場合も、全芳香族ポリイミドが使用されている。この為、無色透明性が必要な用途に適用することは困難であり、又、低吸湿性や柔軟性に関しても、同様で、必ずしも十分な性能ではなかった。 The cover lay material is the same, and the current situation is that it is laminated on the pattern by laminating a polyimide film with an adhesive that has been punched in advance according to the pattern shape, or by screen printing of an inked polyimide. In some cases, wholly aromatic polyimide is used. For this reason, it is difficult to apply to applications requiring colorless transparency, and the same applies to low hygroscopicity and flexibility, and the performance is not always sufficient.

透明な耐熱樹脂材料としては、ジアミン成分に脂環族ジアミンや脂肪族ジアミンを用いることにより、分子内及び分子間での電荷移動錯体の形成を抑制するポリイミドが提案されている。例えば、特許文献4にはピロメリット酸二無水物や3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等の芳香族酸二無水物とトランス−1,4−ジアミノシクロヘキサンとから形成されるポリイミド前駆体(ポリアミド酸)をイミド化して得られるポリイミドが提案されている。しかし、該ポリイミドは高耐熱性、高透明性を示すが、ポリイミド主鎖骨格の剛直性、直線性が高いため、伸度が低く、柔軟性に欠け、吸湿率も高いという問題点があった。 As a transparent heat-resistant resin material, a polyimide that suppresses the formation of charge transfer complexes within and between molecules by using an alicyclic diamine or an aliphatic diamine as a diamine component has been proposed. For example, Patent Document 4 discloses an aromatic acid dianhydride such as pyromellitic dianhydride or 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and trans-1,4-diaminocyclohexane. A polyimide obtained by imidizing a polyimide precursor (polyamic acid) to be formed has been proposed. However, although the polyimide exhibits high heat resistance and high transparency, the polyimide main chain skeleton has high rigidity and linearity, so there are problems of low elongation, lack of flexibility, and high moisture absorption. .

また、特許文献5では屈曲性の高い4,4'-メチレンビス(シクロヘキシルアミン)等の脂環族ジアミンと3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等の特定の芳香族酸二無水物とから形成される無色透明性の共重合ポリイミドが提案されている。しかし、耐熱性を十分満足しているとは言い難く、柔軟性、吸湿特性にも問題があった。 In Patent Document 5, a highly flexible alicyclic diamine such as 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine) and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, A colorless and transparent copolymer polyimide formed from a specific aromatic dianhydride such as 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride has been proposed. However, it is difficult to say that the heat resistance is sufficiently satisfied, and there are problems in flexibility and moisture absorption characteristics.

又、特許文献4、5で提案されているポリイミドでは溶解性が乏しく、前駆体であるポリアミック酸の形で成型加工後(塗工後)、高温で熱処理しなければならず、従って、該樹脂を用いてフィルム等を連続的に生産するには、生産性が低下したり、高価な設備が必要となり、基本的に製造コストが高くなるという問題点があった。 In addition, the polyimides proposed in Patent Documents 4 and 5 have poor solubility, and must be heat-treated at a high temperature after molding (after coating) in the form of a precursor polyamic acid. In order to continuously produce a film or the like using, there is a problem that productivity is lowered or expensive equipment is required, which basically increases the manufacturing cost.

さらに、特許文献6ではシクロヘキサントリカルボン酸無水物と芳香族ジアミンより形成される無色透明性の変性ポリイミド樹脂が提案されている。 Further, Patent Document 6 proposes a colorless and transparent modified polyimide resin formed from cyclohexanetricarboxylic acid anhydride and aromatic diamine.

特開2000−273430号公報JP 2000-273430 A 特開2010−150552号公報JP 2010-150552 A 特開2012−186307号公報JP 2012-186307 A 特許3972600公報Japanese Patent No. 3972600 特開平7−10993号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-10993 国際公開第08/072495号パンフレットWO08 / 072495 Pamphlet

本発明はかかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、ポリイミドの耐熱性、低熱膨張性、熱寸法精度などの特性を維持したまま、優れた柔軟性、低吸湿性、及び、十分な無色透明性を併せ持つフレキシブル金属張積層体、及びフレキシブルプリント配線板を安価に製造しようというものである。 The present invention has been made against the background of the problems of the prior art. That is, an object of the present invention is to provide a flexible metal-clad laminate having excellent flexibility, low hygroscopicity, and sufficient colorless transparency while maintaining the characteristics of polyimide such as heat resistance, low thermal expansion, and thermal dimensional accuracy. The body and the flexible printed wiring board are to be manufactured at low cost.

本発明者らは、鋭意研究した結果、以下に示す手段により、上記課題を解決できることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、以下の構成からなる。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following means, and have reached the present invention. That is, this invention consists of the following structures.

(項1)
金属箔の少なくとも片面に、下記一般式(1)で示される構造を構成単位中に含有するポリエステルイミド樹脂が積層されてなることを特徴とするフレキシブル金属張積層体。

(式中、R1は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示し、R2は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示す。)
(項2)
ポリエステルイミド樹脂が、さらに、一般式(2)で示される構造を構成単位中に含有することを特徴とする項1に記載のフレキシブル金属張積層体。

(式中、R2’は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示す。)
(項3)
一般式(1)において、R1が下記一般式(3)で示される構造であることを特徴とする項1または項2に記載のフレキシブル金属張積層体。

(ここで、Rは、2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物、2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物または2価の水酸基を有する芳香族化合物から誘導されるOH基を取り除いた後の残基である。複数個のRは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。mは1以上の正の整数である。)
(項4)
一般式(1)において、R1が下記一般式(4)及び/または一般式(5)で構成されることを特徴とする項1〜3のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。


(R3、R4は、直結、アルキレン基、パーフルオロアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基、カーボネート基またはフルオレニリデン基を示す。X1〜X8及びX1’〜X8 ’は、それぞれが同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。)
(項5)
一般式(1)において、R2が下記一般式(6)で構成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。

(R5は、直結、アルキレン基、パーフルオロアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはスルフェニル基を示す。X9〜X16は、同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。)
(項6)
一般式(2)において、R2’が下記一般式(7)で構成されることを特徴とする項2〜5のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。

(R5’は、直結、アルキレン基、パーフルオロアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはスルフェニル基を示す。X9’〜X16’は、同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。)
(項7)
ポリエステルイミド樹脂を構成する全構成単位を100モル%としたときに、一般式(1)及び一般式(2)で示される構造を合計で20モル%以上含有し、
一般式(1)で示される構造と一般式(2)で示される構造のモル比が一般式(1)/一般式(2)=99/1〜1/99の範囲で構成されることを特徴とする項2〜6のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。
(項8)
項1〜7のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体から得られるフレキシブルプリント配線板。
(Claim 1)
A flexible metal-clad laminate, wherein a polyesterimide resin containing a structure represented by the following general formula (1) in a structural unit is laminated on at least one surface of a metal foil.

(Wherein R1 represents a divalent chain aliphatic group, a divalent cycloaliphatic group or a divalent aromatic group, and R2 represents a divalent chain aliphatic group or a divalent cycloaliphatic group. An aromatic group or a divalent aromatic group.)
(Section 2)
The flexible metal-clad laminate according to Item 1, wherein the polyesterimide resin further contains a structure represented by the general formula (2) in the structural unit.

(Wherein R2 ′ represents a divalent chain aliphatic group, a divalent cycloaliphatic group or a divalent aromatic group.)
(Section 3)
Item 3. The flexible metal-clad laminate according to Item 1 or 2, wherein R1 is a structure represented by the following General Formula (3) in General Formula (1).

(Here, R represents a chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group, a cyclic aliphatic compound having a divalent hydroxyl group, or an OH group derived from an aromatic compound having a divalent hydroxyl group) The plurality of R may be the same or different from each other, and m is a positive integer of 1 or more.)
(Section 4)
Item 4. The flexible metal-clad laminate according to any one of Items 1 to 3, wherein in the general formula (1), R1 is constituted by the following general formula (4) and / or general formula (5).


(R3 and R4 represent a direct bond, an alkylene group, a perfluoroalkylene group, an ether bond, an ester bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfenyl group, a carbonate group, or a fluorenylidene group. X1 to X8 and X1 ′ to X 8 ′ may be the same or different and each represents a group selected from hydrogen, halogen, and an alkyl group.)
(Section 5)
In general formula (1), R2 is comprised by following General formula (6), The flexible metal-clad laminated body in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.

(R5 represents a direct bond, an alkylene group, a perfluoroalkylene group, an ether bond, an ester bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or a sulfenyl group. X9 to X16 may be the same or different. Well each represents a group selected from hydrogen, halogen and alkyl groups.)
(Claim 6)
Item 6. The flexible metal-clad laminate according to any one of Items 2 to 5, wherein in the general formula (2), R2 'is constituted by the following general formula (7).

(R5 ′ represents a direct bond, an alkylene group, a perfluoroalkylene group, an ether bond, an ester bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or a sulfenyl group. X9 ′ to X16 ′ may be the same or different. And each represents a group selected from hydrogen, halogen, and an alkyl group.)
(Claim 7)
When the total structural unit constituting the polyesterimide resin is 100 mol%, the structure represented by the general formula (1) and the general formula (2) is contained in a total of 20 mol% or more,
The molar ratio between the structure represented by the general formula (1) and the structure represented by the general formula (2) is configured in the range of the general formula (1) / general formula (2) = 99/1 to 1/99. Item 7. The flexible metal-clad laminate according to any one of Items 2 to 6, which is characterized.
(Section 8)
Item 8. A flexible printed wiring board obtained from the flexible metal-clad laminate according to any one of Items 1 to 7.

本発明のフレキシブル金属張積層体、及びフレキシブルプリント配線板は、優れた耐熱性、柔軟性、低吸湿性、及び、十分な無色透明性を併せ持つ。これにより、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイなどの表示装置用デバイス実装基板や、スマートホン、タブレット端末機器、デジタルカメラ、携帯型ゲーム機などの基板間接続配線板、操作スイッチ部基板等、小型化、軽量化、軽薄化が進む電子機器のIC実装用基板材料等に幅広く使用できる。 The flexible metal-clad laminate and the flexible printed wiring board of the present invention have excellent heat resistance, flexibility, low hygroscopicity, and sufficient colorless transparency. Thereby, device mounting boards for display devices such as liquid crystal displays, plasma displays, organic EL displays, inter-board connection wiring boards such as smart phones, tablet terminal devices, digital cameras, portable game machines, operation switch unit boards, etc. It can be widely used as a substrate material for mounting ICs in electronic devices that are becoming smaller, lighter, and thinner.

以下、本発明を詳述する。   The present invention is described in detail below.

本発明における無色透明性とは、本発明のフレキシブル金属張積層体又はフレキシブルプリント配線板を40℃、35%の塩化第二銅溶液を用いて、銅箔をエッチング除去し作製した基材フィルムを、以下の測定条件で測定したときに、フィルムの厚みが5μm以上の場合において、全光線透過率(%)が80%以上の場合をいう。
<測定条件>
測定サンプル;フレキシブル金属張積層体又はフレキシブルプリント配線板の銅箔を40℃、35%の塩化第二銅溶液を用いてエッチングし、銅箔を完全に除去し作製。
測定方法;JISK7105に準ずる。
測定装置;ヘーズメーター(商品名「NDH2000」、日本電色工業(株)製、ランプ種D65)で測定し、結果項目の1つであるTtの値を全光線透過率とした。
The colorless transparency in the present invention refers to a base film prepared by etching and removing a copper foil from a flexible metal-clad laminate or a flexible printed wiring board according to the present invention at 40 ° C. using a 35% cupric chloride solution. When the film thickness is 5 μm or more when measured under the following measurement conditions, the total light transmittance (%) is 80% or more.
<Measurement conditions>
Measurement sample: A copper foil of a flexible metal-clad laminate or a flexible printed wiring board was etched using a 35% cupric chloride solution at 40 ° C. to completely remove the copper foil.
Measurement method: According to JISK7105.
Measurement device: Measured with a haze meter (trade name “NDH2000”, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., lamp type D65), and the value of Tt, which is one of the result items, was defined as the total light transmittance.

<<ポリエステルイミド樹脂>>
本発明のポリエステルイミド樹脂は、一般式(1)で示される構造を構成単位中に含有する。
<< Polyesterimide resin >>
The polyesterimide resin of this invention contains the structure shown by General formula (1) in a structural unit.

一般式(1)中、R1は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示し、R2は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示す。 In general formula (1), R1 represents a divalent chain aliphatic group, a divalent cycloaliphatic group or a divalent aromatic group, and R2 represents a divalent chain aliphatic group, a divalent aromatic group. A cycloaliphatic group or a divalent aromatic group is shown.

一般式(1)の構造は、一例を挙げるならば、シクロヘキサントリカルボン酸無水物のハロゲン化物とジオール類とを反応させエステル基含有テトラカルボン酸二無水物を得、次いで、そのエステル基含有テトラカルボン酸二無水物とジアミン又はジイソシアネート等とを縮合反応(ポリイミド化)させて得ることができる。 As an example of the structure of the general formula (1), a halide of cyclohexanetricarboxylic anhydride and a diol are reacted to obtain an ester group-containing tetracarboxylic dianhydride, and then the ester group-containing tetracarboxylic acid. It can be obtained by condensation reaction (polyimidization) of acid dianhydride and diamine or diisocyanate.

本発明のポリエステルイミド樹脂は、さらに、一般式(2)で示される構造を構成単位中に含有するのがよい。   The polyesterimide resin of the present invention preferably further contains the structure represented by the general formula (2) in the structural unit.


一般式(2)中、R2’は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示す。

In the general formula (2), R2 ′ represents a divalent chain aliphatic group, a divalent cycloaliphatic group or a divalent aromatic group.

ポリエステルイミド樹脂を構成する全構成単位を100モル%としたときに、一般式(1)で示される構造、または一般式(1)で示される構造と一般式(2)で示される構造の合計を、20モル%以上含有するのが好ましく、より好ましくは50モル%以上含有するのがよく、さらに好ましくは70モル%以上含有するのがよい。ポリエステルイミド樹脂を構成する全構成単位を100モル%としたときに、一般式(1)及び一般式(2)で示される構造が20モル%未満の場合、柔軟性、低吸湿性を併せ持つ樹脂組成物の製造が困難となる。   When all the structural units constituting the polyesterimide resin are 100 mol%, the structure represented by the general formula (1), or the total structure represented by the general formula (1) and the general formula (2) Is preferably contained in an amount of 20 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more. Resin having both flexibility and low hygroscopicity when the structure represented by the general formula (1) and the general formula (2) is less than 20 mol% when all the structural units constituting the polyesterimide resin are 100 mol% Production of the composition becomes difficult.

本発明のポリエステルイミド樹脂は、一般式(1)で示される構造と一般式(2)で示される構造のモル比が一般式(1)/一般式(2)=99/1〜1/99であるのが好ましく、一般式(1)/一般式(2)=90/10〜10/90であるのがより好ましく、一般式(1)/一般式(2)=80/20〜20/80であるのがさらに好ましく、一般式(1)/一般式(2)=70/30〜30/70であるのが特に好ましい。   In the polyesterimide resin of the present invention, the molar ratio of the structure represented by the general formula (1) and the structure represented by the general formula (2) is general formula (1) / general formula (2) = 99/1 to 1/99. The general formula (1) / the general formula (2) = 90/10 to 10/90 is more preferable, and the general formula (1) / the general formula (2) = 80/20 to 20 / It is more preferable that it is 80, and it is especially preferable that it is general formula (1) / general formula (2) = 70 / 30-30 / 70.

一般式(1)で示される構造が99を超えると、R1成分の化学構造によっては、耐熱性、熱寸法精度が損なわれる場合がある。又、一般式(2)で示される構造のモル比が99を超えると、R2成分及び/又はR2’成分に依存するが、概ね、低吸湿性、柔軟性が悪化する。又、溶解性も低下する。 When the structure represented by the general formula (1) exceeds 99, heat resistance and thermal dimensional accuracy may be impaired depending on the chemical structure of the R1 component. Moreover, when the molar ratio of the structure represented by the general formula (2) exceeds 99, depending on the R2 component and / or R2 'component, the low hygroscopicity and flexibility are generally deteriorated. Also, the solubility is lowered.

<一般式(1)のR1>
一般式(1)のR1としては2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基であれば特に限定されない。これらの「2価の鎖式脂肪族基」、「2価の環式脂肪族基」、「2価の芳香族基」を、単独、又は2種類以上を組み合わせて使用することもできる。
<R1 of general formula (1)>
R1 in the general formula (1) is not particularly limited as long as it is a divalent chain aliphatic group, a divalent cycloaliphatic group, or a divalent aromatic group. These “divalent chain aliphatic group”, “divalent cycloaliphatic group”, and “divalent aromatic group” can be used alone or in combination of two or more.

耐熱性、柔軟性、低吸湿性のバランス等から、一般式(1)のR1は、好ましくは「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」または「2価の水酸基を有する芳香族化合物」等から誘導される残基であることが望ましい。また、一般式(1)のR1は、「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」および「2価の水酸基を有する芳香族化合物」からなる群より選択される化合物と炭酸エステル類やホスゲン等から重合され得る「ポリカーボネートジオール化合物」から誘導される残基であってもよい。
すなわち、本発明の一般式(1)のR1としては、「ジオール化合物」から誘導される残基が好ましく、「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する芳香族化合物」、及びこれらから重合され得る「ポリカーボネートジオール化合物」などから誘導される残基がよい。
これらの「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する芳香族化合物」、及びこれらから重合され得る「ポリカーボネートジオール化合物」を、単独、又は2種類以上を組み合わせて使用することもできる。
R1 in the general formula (1) is preferably “chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group” or “cycloaliphatic having a divalent hydroxyl group” because of balance of heat resistance, flexibility, low hygroscopicity, and the like. A residue derived from “a compound” or “an aromatic compound having a divalent hydroxyl group” or the like is desirable. Further, R1 in the general formula (1) represents “a chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group”, “a cycloaliphatic compound having a divalent hydroxyl group”, and “an aromatic compound having a divalent hydroxyl group”. It may be a residue derived from a “polycarbonate diol compound” that can be polymerized from a compound selected from the group consisting of carbonates, phosgene and the like.
That is, R 1 in the general formula (1) of the present invention is preferably a residue derived from a “diol compound”, “a chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group”, “a ring having a divalent hydroxyl group”. Residues derived from "formula aliphatic compounds", "aromatic compounds having a divalent hydroxyl group", and "polycarbonate diol compounds" that can be polymerized therefrom are preferred.
These “chain aliphatic compounds having a divalent hydroxyl group”, “cycloaliphatic compounds having a divalent hydroxyl group”, “aromatic compounds having a divalent hydroxyl group”, and “polycarbonates” that can be polymerized therefrom The “diol compound” can be used alone or in combination of two or more.

「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」としては、2つの水酸基を有する分岐状、又は直鎖状のジオール化合物を用いることができる。たとえば、アルキレンジオール化合物、ポリオキシアルキレンジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、ポリカプロラクトンジオール化合物等が挙げられる。「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」として使用できる2つの水酸基を有する分岐状又は直鎖状のジオール化合物を以下に挙げる。   As the “chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group”, a branched or linear diol compound having two hydroxyl groups can be used. Examples thereof include an alkylene diol compound, a polyoxyalkylene diol compound, a polyester diol compound, a polycaprolactone diol compound, and the like. Examples of the branched or straight chain diol compound having two hydroxyl groups that can be used as the “chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group” are listed below.

アルキレンジオール化合物として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、2−メチル1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。   Examples of the alkylene diol compound include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, and 3-methyl-1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 2-methyl 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4- And cyclohexanedimethanol.

ポリオキシアルキレンジオール化合物として、例えば、ジメチロールプロピオン酸(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸)、ジメチロールブタン酸(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸)、ポリエチレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのランダム共重合体等が挙げられる。好ましくは、ポリオキシテトラメチレングリコールがよい。   Examples of the polyoxyalkylene diol compound include dimethylolpropionic acid (2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid), dimethylolbutanoic acid (2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid), polyethylene glycol, polyoxy Examples include tetramethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and a random copolymer of tetramethylene glycol and neopentyl glycol. Polyoxytetramethylene glycol is preferable.

ポリエステルジオール化合物としては、例えば、以下に例示される多価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られる、ポリエステルジオール化合物等が挙げられる。   As a polyester diol compound, the polyester diol compound etc. which are obtained by making the polyhydric alcohol and polybasic acid which are illustrated below react, for example are mentioned.

ポリエステルジオール化合物に用いる「多価アルコール成分」としては、任意の各種多価アルコールが使用可能である。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、シクロヘキサンメタノール、ネオペンチルヒドロキシピパリン酸エステル、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物、水添加ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物、1,9−ノナンジオール、2−メチルオクタンジオール、1,10−ドデカンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、トリシクロデカンメタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオール等を使用できる。 Any "polyhydric alcohol" can be used as the "polyhydric alcohol component" used in the polyester diol compound. For example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5 -Pentanediol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, cyclohexanemethanol, Neopentyl hydroxypiparic acid ester, ethylene oxide adduct and propylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide adduct and propylene oxide adduct of water-added bisphenol A, 1,9-nonanediol, 2-methyloctanedi Lumpur, 1,10-dodecane diol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, tricyclodecane methanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyether polyol such as polytetramethylene glycol may be used.

ポリエステルジオール化合物に用いる「多塩基酸成分」としては、任意の各種多塩基酸を使用することができる。例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、1,5−ナフタル酸、2,6−ナフタル酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、2,2’−ジフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、4−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、ダイマー酸などの脂肪族や脂環族二塩基酸が使用できる。   As the “polybasic acid component” used in the polyester diol compound, any of various polybasic acids can be used. For example, terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, 1,5-naphthalic acid, 2,6-naphthalic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 2,2′-diphenyldicarboxylic acid, 4,4′-diphenyletherdicarboxylic Acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 4-methyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, dimer acid, etc. Aliphatic and alicyclic dibasic acids can be used.

本発明に使用できるポリエステルジオール化合物の市販品として、具体的には、OD−X−688(DIC(株)製脂肪族ポリエステルジオール:アジピン酸/ネオペンチルグリコール/1,6−ヘキサンジオール、数平均分子量約2,000)、Vylon220(東洋紡(株)製ポリエステルジオール、数平均分子量約2,000)などを挙げることができる。   As a commercially available polyester diol compound that can be used in the present invention, specifically, OD-X-688 (DIC Corporation, aliphatic polyester diol: adipic acid / neopentyl glycol / 1,6-hexanediol, number average Molecular weight of about 2,000), Vylon 220 (polyester diol manufactured by Toyobo Co., Ltd., number average molecular weight of about 2,000), and the like.

ポリカプロラクトンジオール化合物として、例えば、γ−ブチルラクトン、ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類を開環付加反応させて得られるポリカプロラクトンジオール化合物等が挙げられる。   Examples of polycaprolactone diol compounds include polycaprolactone diol compounds obtained by ring-opening addition reaction of lactones such as γ-butyllactone, ε-caprolactone, and δ-valerolactone.

上述の「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」を、単独、又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。 The above-mentioned “chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group” can be used alone or in combination of two or more.

「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」または「2価の水酸基を有する芳香族化合物」としては、「芳香環やシクロヘキサン環に2つの水酸基を有する化合物」、「2個のフェノールもしくは脂環式アルコールが2価の官能基で結合された化合物」、「ビフェニル構造の両方の核に水酸基を1つずつ有する化合物」、「ナフタレン骨格に2つの水酸基を有する化合物」などが用いられる。   Examples of the “cycloaliphatic compound having a divalent hydroxyl group” or “the aromatic compound having a divalent hydroxyl group” include “a compound having two hydroxyl groups in an aromatic ring or cyclohexane ring”, “two phenols or fats” A compound in which a cyclic alcohol is bonded with a divalent functional group, a “compound having one hydroxyl group in both nuclei of the biphenyl structure”, a “compound having two hydroxyl groups in the naphthalene skeleton”, and the like are used.

「芳香環やシクロヘキサン環に2つの水酸基を有する化合物」として、ヒドロキノン、2−メチルヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール、2−フェニルヒドロキノン、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンメタノール、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、1,3−ジヒドロキシシクロヘキサン、1,2−ジヒドロキシシクロヘキサン、1,3−アダマンタンジオール、ジシクロペンタジエンの2水和物、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸等のカルボキシル基含有ジオール化合物等が使用できる。   As "a compound having two hydroxyl groups in an aromatic ring or cyclohexane ring", hydroquinone, 2-methylhydroquinone, resorcinol, catechol, 2-phenylhydroquinone, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanemethanol, 1,4-dihydroxycyclohexane, 1, 3-dihydroxycyclohexane, 1,2-dihydroxycyclohexane, 1,3-adamantanediol, dicyclopentadiene dihydrate, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid A carboxyl group-containing diol compound such as acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, and 3,5-dihydroxybenzoic acid can be used.

「2個のフェノールもしくは脂環式アルコールが2価の官能基で結合された化合物」又は「ビフェニル構造の両方の核に水酸基を1つずつ有する化合物」は、下記一般式(4)、一般式(5)の残基が誘導される化合物が好ましい。   “A compound in which two phenols or alicyclic alcohols are bonded with a divalent functional group” or “a compound having one hydroxyl group at both nuclei of a biphenyl structure” is represented by the following general formula (4), general formula A compound from which the residue of (5) is derived is preferred.

R3、R4は、直結、アルキレン基(-CnH2n-)、パーフルオロアルキレン基(-CnF2n-)、エーテル結合(-O-)、エステル結合(-COO-)、カルボニル基(-CO-)、スルホニル基(-S(=O)2-)、スルフィニル基(-SO-)、スルフェニル基(-S-)、カーボネート基(-OCOO-)、またはフルオレニリデン基を示す。nは1以上の正の整数である。X1〜X8及びX1’〜X8 ’は、それぞれが同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。ここで、nの上限は特に限定されないが、好ましくは10以下、より好ましくは5以下、更に好ましくは3以下である。 R3 and R4 are a direct bond, an alkylene group (—C n H 2n —), a perfluoroalkylene group (—C n F 2n —), an ether bond (—O—), an ester bond (—COO—), a carbonyl group ( -CO-), a sulfonyl group (-S (= O) 2- ), a sulfinyl group (-SO-), a sulfenyl group (-S-), a carbonate group (-OCOO-), or a fluorenylidene group. n is a positive integer of 1 or more. X1 to X8 and X1 ′ to X8 ′ may be the same or different, and each represents a group selected from hydrogen, halogen, and an alkyl group. Here, the upper limit of n is not particularly limited, but is preferably 10 or less, more preferably 5 or less, and still more preferably 3 or less.

「2個のフェノールもしくは脂環式アルコールが2価の官能基で結合された化合物」の例としては、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジフェノール、4,4’−ジヒドロキシジシクロヘキシルエーテル、4,4’−ジヒドロキシジシクロヘキシルスルホン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物等が使用できる。
好ましくは、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジフェノール、4,4’−ジヒドロキシジシクロヘキシルエーテル、4,4’−ジヒドロキシジシクロヘキシルスルホンビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物がよい。さらに好ましくは、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物がよい。
Examples of “a compound in which two phenols or alicyclic alcohols are bonded with a divalent functional group” include 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4 ′-( 9-fluorenylidene) diphenol, 4,4'-dihydroxydicyclohexyl ether, 4,4'-dihydroxydicyclohexylsulfone, bisphenol A, bisphenol F, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol F, ethylene oxide adduct of bisphenol A, bisphenol A propylene oxide adduct of A, hydrogenated bisphenol A ethylene oxide adduct, hydrogenated bisphenol A propylene oxide adduct and the like can be used.
Preferably, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4 ′-(9-fluorenylidene) diphenol, 4,4′-dihydroxydicyclohexyl ether, 4,4′-dihydroxydicyclohexyl sulfone An ethylene oxide adduct of bisphenol A is preferred. More preferably, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether and an ethylene oxide adduct of bisphenol A are used.

「ビフェニル構造の両方の核に水酸基を1つずつ有する化合物」の例として、4,4’−ビフェノール、3,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノールなどが使用できる。 Examples of “compound having one hydroxyl group in both nuclei of biphenyl structure” are 4,4′-biphenol, 3,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, 3,3 ′, 5,5 ′. -Tetramethyl-4,4'-biphenol or the like can be used.

「ナフタレン骨格に2つの水酸基を有する化合物」の例としては2,6−ナフタレンジオール、1,4−ナフタレンジオール、1,5−ナフタレンジオール、1,8−ナフタレンジオール等が使用できる。   Examples of the “compound having two hydroxyl groups in the naphthalene skeleton” include 2,6-naphthalenediol, 1,4-naphthalenediol, 1,5-naphthalenediol, 1,8-naphthalenediol, and the like.

上述の「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」や「2価の水酸基を有する芳香族化合物」を、単独、又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。 The above-mentioned “cycloaliphatic compound having a divalent hydroxyl group” and “aromatic compound having a divalent hydroxyl group” can be used alone or in combination of two or more.

本発明では、一般式(1)のR1として、上述した様々な「ジオール化合物」から誘導される残基であることに加えて、上述した様々な「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」または「2価の水酸基を有する芳香族化合物」等と炭酸エステル類やホスゲン等から重合され得る「ポリカーボネートジオール化合物」から誘導される残基であってもよい。   In the present invention, as R1 of the general formula (1), in addition to the residues derived from the various “diol compounds” described above, the above-mentioned various “chain aliphatic compounds having a divalent hydroxyl group”. ”,“ Cycloaliphatic compound having a divalent hydroxyl group ”or“ Aromatic compound having a divalent hydroxyl group ”, etc. and a residue derived from a“ polycarbonate diol compound ”that can be polymerized from carbonates, phosgene, etc. It may be.

具体的には、一般式(1)のR1としては、上述した様々な「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」または「2価の水酸基を有する芳香族化合物」等から重合され得る化合物であって下記一般式(3)の残基が誘導される化合物であってもよい。
Specifically, as R1 in the general formula (1), the above-mentioned various “chain aliphatic compounds having a divalent hydroxyl group”, “cycloaliphatic compounds having a divalent hydroxyl group” or “divalents”. It may be a compound that can be polymerized from an “aromatic compound having a hydroxyl group” or the like and in which a residue of the following general formula (3) is derived.

ここで、Rは、2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物、2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物または2価の水酸基を有する芳香族化合物から誘導されるOH基を取り除いた後の残基である。複数個のRは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。mは1以上の正の整数である。 Here, R is a chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group, a cycloaliphatic compound having a divalent hydroxyl group, or an OH group derived from an aromatic compound having a divalent hydroxyl group. Residue. A plurality of R may be the same as or different from each other. m is a positive integer of 1 or more.

Rは、前述の様々なジオール化合物、「2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物」、「2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物」または「2価の水酸基を有する芳香族化合物」等から誘導される残基であり、アルキレン基やビスフェノール残基が好ましい。mは1以上の正の整数である。ここで、mの上限は特に限定されないが、好ましくは25以下、より好ましくは20以下、更に好ましくは10以下である。25を超える場合では耐熱性が低下する傾向にある。 R represents the aforementioned various diol compounds, “chain aliphatic compounds having a divalent hydroxyl group”, “cycloaliphatic compounds having a divalent hydroxyl group”, “aromatic compounds having a divalent hydroxyl group”, etc. And an alkylene group or a bisphenol residue is preferable. m is a positive integer of 1 or more. Here, although the upper limit of m is not specifically limited, Preferably it is 25 or less, More preferably, it is 20 or less, More preferably, it is 10 or less. When it exceeds 25, the heat resistance tends to decrease.

ポリカーボネートジオールの製造方法としては、原料ジオールと炭酸エステル類とのエステル交換、原料ジオールとホスゲンとの脱塩化水素反応を挙げることができる。原料である炭酸エステルとしては、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのジアルキルカーボネート;ジフェニルカーボネートなどのジアリールカーボネート;およびエチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどのアルキレンカーボネートが挙げられる。 Examples of the method for producing the polycarbonate diol include transesterification between a raw material diol and a carbonic acid ester, and a dehydrochlorination reaction between the raw material diol and phosgene. Examples of the carbonic acid ester as a raw material include dialkyl carbonates such as dimethyl carbonate and diethyl carbonate; diaryl carbonates such as diphenyl carbonate; and alkylene carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate.

ポリカーボネートジオール化合物としては、その骨格中上述した複数種のアルキレン基を有するポリカーボネートジオール(共重合ポリカーボネートジオール)であってもよい。例えば、2−メチル−1,8−オクタンジオールと1,9−ノナンジオールの組み合わせ、2−メチル−1,8−オクタンジオールと1,9−ノナンジオールの組み合わせ、3−メチル−1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールの組み合わせ、3−メチル−1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールの組み合わせ、1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールの組み合わせ、1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールの組み合わせ、1,5−ペンタンジオールと1,6−ヘキサンジオールの組み合わせなどにより合成され得る共重合ポリカーボネートジオールなどを挙げることができる。好ましくは、2−メチル−1,8−オクタンジオールと1,9−ノナンジオールの組み合わせより合成され得る共重合ポリカーボネートジオールが良い。   As a polycarbonate diol compound, the polycarbonate diol (copolymerization polycarbonate diol) which has the multiple types of alkylene group mentioned above in the frame | skeleton may be sufficient. For example, a combination of 2-methyl-1,8-octanediol and 1,9-nonanediol, a combination of 2-methyl-1,8-octanediol and 1,9-nonanediol, 3-methyl-1,5- A combination of pentanediol and 1,6-hexanediol, a combination of 3-methyl-1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol, a combination of 1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol, 1, Examples thereof include a copolymerized polycarbonate diol that can be synthesized by a combination of 5-pentanediol and 1,6-hexanediol, a combination of 1,5-pentanediol and 1,6-hexanediol, and the like. A copolymer polycarbonate diol that can be synthesized from a combination of 2-methyl-1,8-octanediol and 1,9-nonanediol is preferable.

本発明に使用できるポリカーボネートジオール化合物の市販品として(株)クラレ製クラレポリオールCシリーズ、旭化成ケミカルズ(株)デュラノールシリーズなどが挙げられる。例えば、クラレポリオールC−1015N、クラレポリオールC−1065N((株)クラレ製カーボネートジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール/1,9−ノナンジオール、数平均分子量約1,000)、クラレポリオールC−2015N、クラレポリオールC2065N((株)クラレ製カーボネートジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール/1,9−ノナンジオール、数平均分子量約2,000)、クラレポリオールC−1050、クラレポリオールC−1090((株)クラレ製カーボネートジオール:3−メチル−1,5−ペンタンジオール/1,6−ヘキサンジオール、数平均分子量約1,000)、クラレポリオールC−2050、クラレポリオールC−2090((株)クラレ製カーボネートジオール:3−メチル−1,5−ペンタンジオール/1,6−ヘキサンジオール、数平均分子量約2,000)、DURANOL−T5650E(旭化成ケミカルズ(株)製ポリカーボネートジオール:1,5−ペンタンジオール/1,6−ヘキサンジオール、数平均分子量約500)、DURANOL−T5651(旭化成ケミカルズ(株)製ポリカーボネートジオール:1,5−ペンタンジオール/1,6−ヘキサンジオール、数平均分子量約1,000)、DURANOL−T5652(旭化成ケミカルズ(株)製ポリカーボネートジオール:1,5−ペンタンジオール/1,6−ヘキサンジオール、数平均分子量約2,000)などを挙げることができる。好ましくは、クラレポリオールC−1015Nがよい。   Examples of commercially available polycarbonate diol compounds that can be used in the present invention include Kuraray Kuraray Polyol C Series, Asahi Kasei Chemicals Duranol Series, and the like. For example, Kuraray polyol C-1015N, Kuraray polyol C-1065N (Kuraray Co., Ltd. carbonate diol: 2-methyl-1,8-octanediol / 1,9-nonanediol, number average molecular weight about 1,000), Kuraray Polyol C-2015N, Kuraray polyol C2065N (Kuraray Co., Ltd. carbonate diol: 2-methyl-1,8-octanediol / 1,9-nonanediol, number average molecular weight of about 2,000), Kuraray polyol C-1050, Kuraray polyol C-1090 (Kuraray Co., Ltd. carbonate diol: 3-methyl-1,5-pentanediol / 1,6-hexanediol, number average molecular weight of about 1,000), Kuraray polyol C-2050, Kuraray polyol C -2090 (Kuraray Co., Ltd.) : 3-methyl-1,5-pentanediol / 1,6-hexanediol, number average molecular weight of about 2,000), DURANOL-T5650E (polycarbonate diol manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation: 1,5-pentanediol / 1, 6-hexanediol, number average molecular weight of about 500), DURANOL-T5651 (polycarbonate diol manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation: 1,5-pentanediol / 1,6-hexanediol, number average molecular weight of about 1,000), DURANOL- T5652 (Asahi Kasei Chemicals Corporation polycarbonate diol: 1,5-pentanediol / 1,6-hexanediol, number average molecular weight of about 2,000). Kuraray polyol C-1015N is preferable.

本発明で使用できる一般式(1)のR1としての「ジオール化合物」の数平均分子量は、100以上30000以下であることが好ましく、より好ましくは200以上20000以下であり、さらに好ましくは200以上10000以下である。平均分子量が100未満では、低吸湿性、柔軟性が十分発揮できず、又、30000より大きいと「ジオール化合物」の組成、構造、後に説明するジアミン成分(またはイソシアネート成分)の組成、構造によっては、相分離し、機械的特性、無色透明性を十分発揮できない場合がある。   The number average molecular weight of the “diol compound” as R1 of the general formula (1) that can be used in the present invention is preferably 100 or more and 30000 or less, more preferably 200 or more and 20000 or less, and further preferably 200 or more and 10,000. It is as follows. If the average molecular weight is less than 100, low hygroscopicity and flexibility cannot be sufficiently exhibited, and if it is more than 30000, depending on the composition and structure of the “diol compound” and the composition and structure of the diamine component (or isocyanate component) described later. , Phase separation, mechanical properties and colorless transparency may not be fully exhibited.

また、これらの「ジオール化合物」は2種類以上を併用することもできる。 These “diol compounds” can be used in combination of two or more.

「ジオール化合物」のなかでも、「ポリオキシアルキレンジオール化合物」、「2個のフェノールもしくは脂環式アルコールが2価の官能基で結合された化合物」、「ポリカーボネートジオール化合物」が好ましく、
「ポリオキシアルキレンジオール化合物」としては、ポリオキシテトラメチレングリコールがよく、
「2個のフェノールもしくは脂環式アルコールが2価の官能基で結合された化合物」としては、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、 ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ばよく、
「ポリカーボネートジオール化合物」としては、2−メチル−1,8−オクタンジオールと1,9−ノナンジオールの組み合わせより合成され得る共重合ポリカーボネートジオールがよい。
Among the “diol compounds”, “polyoxyalkylene diol compounds”, “compounds in which two phenols or alicyclic alcohols are bonded with a divalent functional group”, and “polycarbonate diol compounds” are preferable,
As the “polyoxyalkylene diol compound”, polyoxytetramethylene glycol is good,
As “a compound in which two phenols or alicyclic alcohols are bonded with a divalent functional group”, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, an ethylene oxide adduct of bisphenol A may be used.
The “polycarbonate diol compound” is preferably a copolymerized polycarbonate diol that can be synthesized from a combination of 2-methyl-1,8-octanediol and 1,9-nonanediol.

<一般式(1)のR2及び一般式(2)中のR2’>
一般式(1)のR2及び一般式(2)中のR2’ のジアミン成分又はそれに対応するジイソシアネート成分は同一であっても異なっていてもよい。後述する好ましい製造方法に基づくならば、同一あるのが好ましい。
以下に、本発明に使用できる一般式(1)中のR2及び一般式(2)中のR2’ のジアミン成分又はそれに対応するジイソシアネート成分について説明する。
<R2 ′ in General Formula (1) and R2 ′ in General Formula (2)>
The diamine component of R2 in the general formula (1) and R2 ′ in the general formula (2) or the diisocyanate component corresponding thereto may be the same or different. If based on the preferable manufacturing method mentioned later, it is preferable to be the same.
The diamine component of R2 in the general formula (1) and R2 ′ in the general formula (2) that can be used in the present invention or the diisocyanate component corresponding thereto will be described below.

一般式(1)中のR2及び一般式(2)中のR2’のジアミン成分又はそれに対応するジイソシアネート成分としては2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基であれば特に限定されない。「芳香族ジアミン又はそれに対応する芳香族ジイソシアネート」、「環式脂肪族ジアミン又はそれに対応する環式脂肪族ジイソシアネート」、及び「鎖式脂肪族ジアミン又はそれに対応する鎖式脂肪族ジイソシアネート」から誘導される残基であることが望ましい。 As the diamine component of R2 in the general formula (1) and R2 ′ in the general formula (2) or a diisocyanate component corresponding thereto, a divalent chain aliphatic group, a divalent cyclic aliphatic group, or a divalent component If it is an aromatic group, it will not specifically limit. Derived from “aromatic diamine or corresponding aromatic diisocyanate”, “cycloaliphatic diamine or corresponding cycloaliphatic diisocyanate” and “chain aliphatic diamine or corresponding chain aliphatic diisocyanate”. It is desirable that it is a residue.

本発明において、一般式(1)中のR2の「芳香族ジアミン又はそれに対応する芳香族ジイソシアネート」としては、耐熱性、柔軟性、低吸湿性のバランス等から、下記一般式(6)の残基が誘導されるジアミン又はそれに対応するジイソシアネートが好ましい。
In the present invention, the “aromatic diamine or the corresponding aromatic diisocyanate” of R2 in the general formula (1) is the balance of the following general formula (6) from the balance of heat resistance, flexibility, low hygroscopicity, and the like. Preferred are diamines from which the groups are derived or the corresponding diisocyanates.

R5は、直結、アルキレン基(-CnH2n−)、パーフルオロアルキレン基(-CnF2n−)、エーテル結合(-O-)、エステル結合(-COO-)、カルボニル基(-CO-)、スルホニル基(−S(=O)2−)、スルフィニル基(-SO-)またはスルフェニル基(-S-)を示す。nは1以上10以下の正の整数である。X9〜16は、同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。ここで、nは1以上10以下がよく、好ましくは1以上5以下、さらに好ましくは1以上3以下である。 R5 is a direct bond, an alkylene group (—C n H 2n —), a perfluoroalkylene group (—C n F 2n —), an ether bond (—O—), an ester bond (—COO—), a carbonyl group (—CO -), A sulfonyl group (—S (═O) 2 —), a sulfinyl group (—SO—) or a sulfenyl group (—S—). n is a positive integer from 1 to 10. X9 to 16 may be the same or different and each represents a group selected from hydrogen, halogen, and an alkyl group. Here, n is preferably 1 or more and 10 or less, preferably 1 or more and 5 or less, and more preferably 1 or more and 3 or less.

本発明において、一般式(2)中のR2’の「芳香族ジアミン又はそれに対応する芳香族ジイソシアネート」としては、耐熱性、柔軟性、低吸湿性のバランス等から、下記一般式(7)の残基が誘導されるジアミン又はそれに対応するジイソシアネートが好ましい。
In the present invention, the “aromatic diamine or aromatic diisocyanate corresponding to R2 ′” in the general formula (2) is represented by the following general formula (7) in view of the balance of heat resistance, flexibility, low hygroscopicity, and the like. Preferred are diamines from which the residues are derived or their corresponding diisocyanates.

R5’は、直結、アルキレン基(-CnH2n-)、パーフルオロアルキレン基(-CnF2n-)、エーテル結合(-O-)、エステル結合(-COO-)、カルボニル基(-CO-)、スルホニル基(−S(=O)2−)、スルフィニル基(-SO-)またはスルフェニル基(-S-)を示す。nは1以上10以下の正の整数である。X9’〜16’は、同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。ここで、nは1以上10以下がよく、好ましくは1以上5以下、さらに好ましくは1以上3以下である。 R5 ′ is a direct bond, an alkylene group (—C n H 2n —), a perfluoroalkylene group (—C n F 2n —), an ether bond (—O—), an ester bond (—COO—), a carbonyl group (— CO-), a sulfonyl group (—S (═O) 2 —), a sulfinyl group (—SO—) or a sulfenyl group (—S—). n is a positive integer from 1 to 10. X9 ′ to 16 ′ may be the same or different and each represents a group selected from hydrogen, halogen, and an alkyl group. Here, n is preferably 1 or more and 10 or less, preferably 1 or more and 5 or less, and more preferably 1 or more and 3 or less.

「芳香族ジアミン又はそれに対応する芳香族ジイソシアネート」としては、具体的には、ジアミン化合物として例示すると、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、2,4−ジアミノデュレン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−メチレンビス(2−メチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2−エチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルアニリン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジエチルアニリン)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、2,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4、4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3、3’−ジアミノジフェニルスルフィド、4、4’−ジアミノジフェニルプロパン、3、3’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、P−キシレンジアミン、m−キシレンジアミン、1,4−ナフタレンジアミン、1,5−ナフタレンジアミン、2,6−ナフタレンジアミン、2,7−ナフタレンジアミン、ベンジジン、3,3’−ジヒドロキシベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、3,3’−ジメチル−4、4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエチル−4、4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジメチル−4、4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジエチル−4、4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4、4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジエトキシ−4、4’−ジアミノビフェニル、o-トリジン、m−トリジン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ジアミノターフェニル等が挙げられる。また、これらは、2種類以上併用することもできる。   Specific examples of the “aromatic diamine or the corresponding aromatic diisocyanate” include 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, , 4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 2,4-diaminoxylene, 2,4-diaminodurene, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-methylenebis (2-methylaniline), 4, 4'-methylenebis (2-ethylaniline), 4,4'-methylenebis (2,6-dimethylaniline), 4,4'-methylenebis (2,6-diethylaniline), 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3 , 4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 2,4 ′ Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3, 3 ' -Diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminobenzanilide, P-xylenediamine, m-xylenediamine, 1,4-naphthalenediamine, 1 , 5-naphthalenediamine, 2,6-naphthalenediamine, 2,7-naphthalenediamine, benzidine, 3,3′-dihydroxybenzidine, 3,3′-dimethoxybenzidine, 3,3′-dimethyl-4, 4′- Diaminobiphenyl, 3,3'-diethyl 4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-dimethyl-4, 4′-diaminobiphenyl, 2,2′-diethyl-4, 4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dimethoxy-4, 4′- Diaminobiphenyl, 3,3′-diethoxy-4, 4′-diaminobiphenyl, o-tolidine, m-tolidine, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) Benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (4- Aminophenoxy) phenyl) sulfone, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phene Le) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, diamino terphenyl, and the like. These can be used in combination of two or more.

また、「環式脂肪族ジアミン又はそれに対応する環式脂肪族ジイソシアネート」としては、ジアミン化合物として例示すると、トランス−1,4−ジアミノシクロヘキサン、シス−1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン(トランス/シス混合物)、1,3−ジアミノシクロヘキサン、4,4'-メチレンビス(シクロヘキシルアミン) (トタンス体、シス体、トランス/シス混合物)、イソホロンジアミン、1,4−シクロヘキサンビス(メチルアミン)、2,5−ビス(アミノメチル)ビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン、2,6−ビス(アミノメチル)ビシクロ〔2.2.1〕ヘプタン、3,8−ビス(アミノメチル)トリシクロ〔5.2.1.0〕デカン、1,3−ジアミノアダマンタン、4,4’−メチレンビス(2−メチルシクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2−エチルシクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルシクロヘキシルアミン)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジエチルシクロヘキシルアミン)、2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。また、これらは、2種類以上併用することもできる。 The “cycloaliphatic diamine or the corresponding cycloaliphatic diisocyanate” is exemplified by a diamine compound such as trans-1,4-diaminocyclohexane, cis-1,4-diaminocyclohexane, 1,4-diamino. Cyclohexane (trans / cis mixture), 1,3-diaminocyclohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine) (tonthane, cis, trans / cis mixture), isophoronediamine, 1,4-cyclohexanebis (methylamine) ), 2,5-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 3,8-bis (aminomethyl) tricyclo [5.2.1.0] decane, 1,3-diaminoadamantane, 4,4′-methylenebis 2-methylcyclohexylamine), 4,4′-methylenebis (2-ethylcyclohexylamine), 4,4′-methylenebis (2,6-dimethylcyclohexylamine), 4,4′-methylenebis (2,6-diethylcyclohexyl) Amine), 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane, 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) hexafluoropropane, and the like. These can be used in combination of two or more.

「鎖式脂肪族ジアミン又はそれに対応する鎖式脂肪族ジイソシアネート」としては、ジアミン化合物として例示すると、1,3−プロパンジアミン、1,4−テトラメチレンジアミン、1,5−ペンタメチレンジアミン、1,6−ヘキサメチレンジアミン、1,7−ヘプタメチレンジアミン、1,8−オクタメチレンジアミン、1,9−ノナメチレンジアミン等が挙げられる。また、これらは、2種類以上併用することもできる。 Examples of the “chain aliphatic diamine or the corresponding chain aliphatic diisocyanate” include 1,3-propanediamine, 1,4-tetramethylenediamine, 1,5-pentamethylenediamine, 1, Examples include 6-hexamethylene diamine, 1,7-heptamethylene diamine, 1,8-octamethylene diamine, and 1,9-nonamethylene diamine. These can be used in combination of two or more.

耐熱性、柔軟性、低吸湿性のバランス等から、一般式(1)中のR2及び一般式(2)中のR2’のジアミン成分又はそれに対応するジイソシアネート成分として好ましい成分は、ジアミン化合物として例示すると、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ナフタレンジアミン、o-トリジン、ジアミノターフェニル、4、4'-メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、イソホロンジアミン等から誘導される残基である。
より好ましくは、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ナフタレンジアミン、o-トリジンであり、さらに好ましいのは、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、o-トリジンである。最も好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、o-トリジンから誘導される残基である。
In view of the balance of heat resistance, flexibility, low hygroscopicity, etc., preferred components as the diamine component of R2 in general formula (1) and R2 ′ in general formula (2) or the corresponding diisocyanate component are exemplified as diamine compounds. Then, p-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-naphthalenediamine, o-tolidine, diaminoterphenyl, 4, 4'- It is a residue derived from methylene bis (cyclohexylamine), isophoronediamine, and the like.
More preferred are 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 1,5-naphthalenediamine, o-tolidine, and more preferred is 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4 ′. -Diaminodiphenyl ether, o-tolidine. Most preferred is a residue derived from 4,4′-diaminodiphenylmethane, o-tolidine.

<<ポリエステルイミド樹脂の製造>>
本発明のポリエステルイミド樹脂の製造方法の一例を挙げるならば、シクロヘキサントリカルボン酸無水物のハロゲン化物とジオール類とを反応させエステル基含有テトラカルボン酸二無水物を得、次いで、そのエステル基含有テトラカルボン酸二無水物とジアミン又はジイソシアネート等とを縮合反応(ポリイミド化)させて得ることができる。以下、本発明のポリエステルイミド樹脂の製造方法を例示するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
<< Manufacture of polyesterimide resin >>
If an example of the manufacturing method of the polyesterimide resin of this invention is given, the halide of cyclohexane tricarboxylic anhydride and diol will be made to react, and ester group containing tetracarboxylic dianhydride will be obtained, and then the ester group containing tetra It can be obtained by condensation reaction (polyimidation) of carboxylic dianhydride and diamine or diisocyanate. Hereinafter, although the manufacturing method of the polyesterimide resin of this invention is illustrated, this invention is not limited by this.

たとえば、エステル基含有テトラカルボン酸二無水物は、無水-1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸クロライドの塩化物と、上述の「ジオール化合物」とから公知の反応方法により合成できる。例えば、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドの塩化物と「ジオール化合物」とをテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、ガンマブチロラクトンなどの溶媒中でエステル化させることで製造できる。モル比は、通常、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライド/ジオール化合物=2/1モルで、例えば、50〜200℃下、0.1〜10時間反応させる。この場合、アンチモン、チタン、錫、亜鉛、コバルト、ゲルマニウム、アルミ等の触媒を用いても良い。又、反応副生物として塩酸等が生成する為、通常は、反応終了後、生成物を濾別、精製する。   For example, an ester group-containing tetracarboxylic dianhydride can be synthesized from a chloride of anhydrous-1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid chloride and the above-mentioned “diol compound” by a known reaction method. For example, it can be produced by esterifying an anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride chloride and a “diol compound” in a solvent such as tetrahydrofuran, diethyl ether, acetone, cyclopentanone, cyclohexanone, ethyl acetate, gamma butyrolactone. The molar ratio is usually anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride / diol compound = 2/1 mol, and the reaction is carried out, for example, at 50 to 200 ° C. for 0.1 to 10 hours. In this case, a catalyst such as antimony, titanium, tin, zinc, cobalt, germanium, or aluminum may be used. Further, since hydrochloric acid or the like is produced as a reaction byproduct, the product is usually filtered and purified after completion of the reaction.

上記のようにして得られたエステル基含有テトラカルボン酸二無水物をモノマーとして用い、各種ジアミン(ジアミン法)、或いは、ジイソシアネート(ジイソシアネート法)と重合させることで、耐熱性、柔軟性、低吸湿性、及び、十分な無色透明性を兼ね備えた有機溶剤に可溶なポリエステルイミド樹脂を製造することが可能である。   Using ester group-containing tetracarboxylic dianhydride obtained as described above as a monomer and polymerizing with various diamines (diamine method) or diisocyanate (diisocyanate method), heat resistance, flexibility, low moisture absorption It is possible to produce a polyesterimide resin that is soluble in an organic solvent that has both the properties and sufficient colorless transparency.

製造コスト等の観点から、特に、好ましい製造法は脱炭酸反応により、ポリマーが得られるジイソシアネート法である。 From the viewpoint of production cost and the like, a particularly preferred production method is a diisocyanate method in which a polymer is obtained by a decarboxylation reaction.

ジイソシアネート法の場合、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドの塩化物と「ジオール化合物」との反応で得られたエステル基含有テトラカルボン酸二無水物等とジイソシアネートとを有機溶媒中で略化学量論量、100〜200℃で加熱重縮合させることで、本発明に用いる樹脂組成物を得ることができる。重合溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン、N、N’−ジメチルホルムアミド、N、N’−ジメチルアセトアミド、1、3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、テトラメチルウレア、スルホラン、ジメチルスルホオキシド、γ−ブチロラクトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどで、好ましくはN−メチル−2−ピロリドン、N、N’−ジメチルアセトアミド、1、3−ジメチル−2−イミダゾリジノンである。これら溶媒が重合溶媒として使用された場合は、そのまま後述するポリエステルイミドフィルムおよびシートを製造するための溶液として使用できる。また、これらの一部をトルエン、キシレンなどの炭化水素系有機溶剤、ジグライム、トリグライム、テトラヒドロフランなどのエーテル系有機溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系有機溶剤で置き換えることも可能である。 In the case of the diisocyanate method, the ester group-containing tetracarboxylic dianhydride obtained by the reaction of the chloride of anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride and the “diol compound” and the diisocyanate are approximately stoichiometric amounts in an organic solvent, 100 The resin composition used in the present invention can be obtained by heat polycondensation at ˜200 ° C. Examples of the polymerization solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N′-dimethylformamide, N, N′-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, tetramethylurea, sulfolane, and dimethyl. Sulfooxide, γ-butyrolactone, cyclohexanone, cyclopentanone and the like, preferably N-methyl-2-pyrrolidone, N, N′-dimethylacetamide and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. When these solvents are used as polymerization solvents, they can be used as solutions for producing polyesterimide films and sheets described later. Some of these can be replaced with hydrocarbon organic solvents such as toluene and xylene, ether organic solvents such as diglyme, triglyme and tetrahydrofuran, and ketone organic solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.

本発明の目的を損なわない限り、上記に例示した、酸成分として、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドに代えて、或いは、一部を以下に示すトリカルボン酸の無水物に置き換えても良い。 As long as the object of the present invention is not impaired, the acid component exemplified above may be replaced with anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride or a part thereof may be replaced with the following tricarboxylic acid anhydride.

a)トリカルボン酸;ジフェニルエーテル−3,3’,4’−トリカルボン酸、ジフェニルスルホン−3,3’,4’−トリカルボン酸、ベンゾフェノン−3,3’,4’−トリカルボン酸、ナフタレン−1,2,4−トリカルボン酸、ブタン−1,2,4−トリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸、ジシクロヘキシルエーテル−3,3’,4’−トリカルボン酸、ジシクロヘキシルスルホン−3,3’,4’−トリカルボン酸、ジシクロヘキシルメタン−3,3’,4’−トリカルボン酸などのトリカルボン酸等の一無水物、エステル化物などの単独、或いは、2種以上の混合物。 a) Tricarboxylic acid; diphenyl ether-3,3 ′, 4′-tricarboxylic acid, diphenylsulfone-3,3 ′, 4′-tricarboxylic acid, benzophenone-3,3 ′, 4′-tricarboxylic acid, naphthalene-1,2 , 4-tricarboxylic acid, butane-1,2,4-tricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, dicyclohexyl ether-3,3 ′, 4′-tricarboxylic acid, dicyclohexylsulfone-3,3 ′, 4′-tricarboxylic acid, dicyclohexyl A monoanhydride such as tricarboxylic acid such as methane-3,3 ′, 4′-tricarboxylic acid, an esterified compound or the like, or a mixture of two or more.

尚、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドにはシス体、トランス体の異性体が存在し、蒸留・再結晶等の公知の方法に従い分離精製することができる。これらの混合比は特に限定されないが、トランス体の含有量が少なくなるとガラス転移温度の低下や熱膨張係数が高くなる傾向があるため、トランス体が50%重量以上が好ましく、より好ましくは90重量%以上の無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドを使用することが推奨される。 The anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride has cis and trans isomers, which can be separated and purified according to known methods such as distillation and recrystallization. These mixing ratios are not particularly limited, but if the content of the trans isomer decreases, the glass transition temperature tends to decrease and the coefficient of thermal expansion tends to increase. Therefore, the trans isomer is preferably 50% by weight or more, more preferably 90 wt. It is recommended to use at least% cyclohexanetricarboxylic acid chloride.

又、本発明の目的を損なわない限り、上記に例示した、トリカルボン酸無水物以外にも以下に示す、テトラカルボン酸無水物、ジカルボン酸等を酸成分として用いることができる。 In addition to the tricarboxylic acid anhydrides exemplified above, the following tetracarboxylic acid anhydrides, dicarboxylic acids and the like can be used as the acid component as long as the object of the present invention is not impaired.

b)テトラカルボン酸;ピロメリット酸、ベンゾフェノン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸、ジフェニルエーテル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸、ビフェニル−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸、ジフェニルスルホン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸、ナフタレン−2,3,6,7−テトラカルボン酸、ナフタレン−1,2,4,5−テトラカルボン酸、ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸、ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸等の一無水物、二無水物、エステル化物などの単独、或いは、2種以上の混合物。
c)ジカルボン酸;アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シクロヘキサン−4,4’−ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸のジカルボン酸。
b) Tetracarboxylic acid; pyromellitic acid, benzophenone-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid, diphenyl ether-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid, biphenyl-3,3 ′, 4 , 4′-tetracarboxylic acid, diphenylsulfone-3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic acid, naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid, naphthalene-1,2,4,5-tetra Monoanhydrides such as carboxylic acid, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid , Dianhydrides, esterified compounds, etc., or a mixture of two or more.
c) Dicarboxylic acid; adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, cyclohexane-4,4′-dicarboxylic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, benzophenone dicarboxylic acid, dicarboxylic acid of biphenyl dicarboxylic acid.

本発明で用いられるポリエステルイミド樹脂の分子量は、N−メチル−2−ピロリドン中(ポリマー濃度0.5g/dl)、30℃での対数粘度にして0.1から2.5dl/gに相当する分子量を有するものが好ましく、より好ましくは0.3から1.5dl/gに相当する分子量を有するものである。対数粘度が0.1dl/g未満では、フレキシブル金属張積層体、フレキシブルプリント配線板の機械的特性が不十分となる場合があり、また、2.5dl/g超では溶液粘度が高くなる為、フレキシブル金属張積層体へ加工する際の成形加工が困難となる。   The molecular weight of the polyesterimide resin used in the present invention corresponds to a logarithmic viscosity of 0.1 to 2.5 dl / g in N-methyl-2-pyrrolidone (polymer concentration 0.5 g / dl) at 30 ° C. Those having a molecular weight are preferred, more preferably those having a molecular weight corresponding to 0.3 to 1.5 dl / g. If the logarithmic viscosity is less than 0.1 dl / g, the mechanical properties of the flexible metal-clad laminate and the flexible printed wiring board may be insufficient, and if it exceeds 2.5 dl / g, the solution viscosity becomes high. Forming processing when processing into a flexible metal-clad laminate becomes difficult.

ポリエステルイミド樹脂を含む溶液を大量のアセトンで、再沈殿、精製して作製した粉末状のポリマーサンプルをポリマー濃度が0.5g/dlとなるようにN−メチル−2−ピロリドンに溶解する。その溶液の溶液粘度及び溶媒粘度を30℃で、ウベローデ型の粘度管により測定して、下記の式で計算する。
対数粘度(dl/g)=[ln(V1/V2)]/V3
上記式中、V1はウベローデ型粘度管により測定した溶液粘度を示し、V2はウベローデ型粘度管により測定した溶媒粘度を示すが、V1及びV2はポリマー溶液及び溶媒(N−メチル−2−ピロリドン)が粘度管のキャピラリーを通過する時間から求める。また、V3は、ポリマー濃度(g/dl)である。
A powdery polymer sample prepared by reprecipitation and purification of a solution containing the polyesterimide resin with a large amount of acetone is dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone so that the polymer concentration is 0.5 g / dl. The solution viscosity and solvent viscosity of the solution are measured at 30 ° C. with an Ubbelohde-type viscosity tube, and calculated by the following formula.
Logarithmic viscosity (dl / g) = [ln (V1 / V2)] / V3
In the above formula, V1 represents the solution viscosity measured with an Ubbelohde type viscosity tube, V2 represents the solvent viscosity measured with an Ubbelohde type viscosity tube, and V1 and V2 represent a polymer solution and a solvent (N-methyl-2-pyrrolidone). Is determined from the time it passes through the capillary of the viscosity tube. V3 is the polymer concentration (g / dl).

<<ポリエステルイミド樹脂組成物>>
また、必要ならば、フレキシブル金属張積層体、フレキシブルプリント配線板の諸特性、たとえば、透明性、機械的特性、電気的特性、滑り性、難燃性などを改良する目的で、本発明のポリエステルイミド樹脂を含む樹脂溶液に、他の樹脂や有機化合物、及び無機化合物を混合したり又は反応させたりして、樹脂組成物としてもよい。
たとえば、滑剤(シリカ、タルク、シリコーン等)、接着促進剤、難燃剤(リン系やトリアジン系、水酸化アルミ等)、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤等)、メッキ活性化剤、有機や無機の充填剤(タルク、酸化チタン、フッ素系ポリマー微粒子、顔料、染料、炭化カルシウム等)、その他、シリコーン化合物、フッ素化合物、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂のような樹脂や有機化合物、或いはこれらの硬化剤、酸化珪素、酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化鉄などの無機化合物をこの発明の目的を阻害しない範囲で併用することができる。
樹脂組成物中のポリエステルイミド樹脂の含有量は、樹脂組成物の全固形分中50重量%以上が好ましく、更に好ましくは70重量%以上であり、特に好ましくは80重量%以上である。上限については特に制限はないが、99.0質量%以下であればよい。樹脂組成物中のポリエステルイミド樹脂の含有量が、全固形分中50重量%以上であれば、以下の記載するフィルムの製造が特に容易となる。
<< Polyesterimide resin composition >>
If necessary, the polyester of the present invention may be used to improve various properties of the flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board, such as transparency, mechanical properties, electrical properties, slipperiness, and flame retardancy. Another resin, an organic compound, and an inorganic compound may be mixed or reacted with a resin solution containing an imide resin to obtain a resin composition.
For example, lubricant (silica, talc, silicone, etc.), adhesion promoter, flame retardant (phosphorus, triazine, aluminum hydroxide, etc.), stabilizer (antioxidant, UV absorber, polymerization inhibitor, etc.), plating activity Agents, organic and inorganic fillers (talc, titanium oxide, fluoropolymer fine particles, pigments, dyes, calcium carbide, etc.), silicone compounds, fluorine compounds, isocyanate compounds, blocked isocyanate compounds, acrylic resins, urethane resins, Resin or organic compound such as polyester resin, polyamide resin, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, or these curing agents, inorganic compounds such as silicon oxide, titanium oxide, calcium carbonate, iron oxide, etc. It can be used in combination as long as it is not.
The content of the polyesterimide resin in the resin composition is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 80% by weight or more in the total solid content of the resin composition. Although there is no restriction | limiting in particular about an upper limit, What is necessary is just 99.0 mass% or less. When the content of the polyesterimide resin in the resin composition is 50% by weight or more based on the total solid content, the production of the film described below is particularly easy.

<<フレキシブル金属張積層体>> << Flexible metal-clad laminate >>

本発明のポリエステルイミド樹脂、又はポリエステルイミド樹脂組成物を用いて金属箔と積層することによりフレキシブル金属張積層体とすることができる。 A flexible metal-clad laminate can be obtained by laminating with a metal foil using the polyesterimide resin or the polyesterimide resin composition of the present invention.

<金属箔>
本発明に用いる金属箔としては、銅箔、アルミニウム箔、スチール箔、及びニッケル箔などを使用することができ、これらを複合した複合金属箔などについても用いることができるが、好ましくは銅箔である。銅箔の表面には、有機防錆処理(ベンゾチアゾール、ベンゾトリゾール、イミダゾールなど)、無機防錆処理(亜鉛、クロメート、亜鉛合金など)シランカップリング剤処理(エポキシ系シランカップリング剤、アミノ系シランカップリング剤、メルカプト系シランカップリング剤など)、被せメッキ処理、焼けメッキ処理などの表面処理がほどこされていても良い。
<Metal foil>
As the metal foil used in the present invention, a copper foil, an aluminum foil, a steel foil, a nickel foil, and the like can be used. A composite metal foil obtained by combining these can also be used, but preferably a copper foil. is there. On the surface of the copper foil, organic rust prevention treatment (benzothiazole, benzotrizole, imidazole, etc.), inorganic rust prevention treatment (zinc, chromate, zinc alloy, etc.), silane coupling agent treatment (epoxy silane coupling agent, amino Silane coupling agents, mercapto-based silane coupling agents, etc.), surface plating treatment such as overlay plating treatment and burn plating treatment may be applied.

ポリエステルイミド樹脂層が積層される表面(いわゆる、M面)の表面粗度(Rz)は、5.0μm以下、好ましくは2.0μm以下、最も好ましくは1.0μm以下である。5μm超では、パターニング性に劣り、又、銅箔をエッチング除去した後の樹脂フィルム層の透明性が悪くなる。表面粗度の下限は、低い程良く限定はないが、0.1μm程度であれば、本発明の目的を達成することができる。 The surface roughness (Rz) of the surface on which the polyesterimide resin layer is laminated (so-called M-plane) is 5.0 μm or less, preferably 2.0 μm or less, and most preferably 1.0 μm or less. If it exceeds 5 μm, the patterning property is inferior, and the transparency of the resin film layer after the copper foil is removed by etching is deteriorated. The lower limit of the surface roughness is not limited as low as possible, but the object of the present invention can be achieved as long as it is about 0.1 μm.

M面に関し、更に好ましくは、光沢度が、300以上、好ましくは400以上、より好ましくは、600以上の値を有していることである。光沢度は、JIS Z 8741−1997により測定され、通常は入射角60°で照射し、60°での反射光を測定する。光沢度は高い程、表面粗さは低く、又、表面粗度(Rz)には反映されないうねり等も少ない為、表面がより平滑であることを示す。従って、その値は高い程、透明性は良いが、800程度であれば本発明の目的を達成することができる。より実用的には、上記の光沢度に加え、400nm〜800nm程度の可視光を基板に垂直照射した場合の反射率が、より透明性にすぐれたフレキシブルプリント配線板とする為の銅箔の選定には有効であり、本発明においては、更に好ましくは、400nm〜800nmの可視光領域で、好ましくは20%以上、より好ましくは、25%以上、更に好ましくは30%以上である。20%未満では、透明性に劣る。反射率は高い程よいが、80%程度であれば本発明の目的を達成することができる。 More preferably, regarding the M-plane, the glossiness is 300 or more, preferably 400 or more, and more preferably 600 or more. The glossiness is measured according to JIS Z 8741-1997, and is usually irradiated at an incident angle of 60 °, and the reflected light at 60 ° is measured. The higher the glossiness is, the lower the surface roughness is, and there are few undulations that are not reflected in the surface roughness (Rz), indicating that the surface is smoother. Therefore, the higher the value is, the better the transparency is, but if it is about 800, the object of the present invention can be achieved. More practically, in addition to the above-mentioned glossiness, selection of copper foil for making a flexible printed wiring board with better transparency when the substrate is irradiated with visible light of about 400 nm to 800 nm vertically. In the present invention, it is more preferably at least 20%, more preferably at least 25%, still more preferably at least 30% in the visible light region of 400 nm to 800 nm. If it is less than 20%, the transparency is poor. The higher the reflectivity, the better. However, if it is about 80%, the object of the present invention can be achieved.

金属箔の厚みについては、特に限定はないが、たとえば、3〜50μmの金属箔を好適に用いることができる。金属箔は、通常、リボン状であり、その長さは特に限定されない。また、リボン状の金属箔の幅も特に限定されないが、一般には25〜300cm程度、特に50〜150cm程度であるのが好ましい。 Although there is no limitation in particular about the thickness of metal foil, For example, 3-50 micrometers metal foil can be used suitably. The metal foil is usually in the form of a ribbon, and its length is not particularly limited. Also, the width of the ribbon-like metal foil is not particularly limited, but is generally about 25 to 300 cm, particularly about 50 to 150 cm.

以上の様な銅箔は市販の電解箔、或いは、圧延箔をそのまま使用することができる。例えば、日本電解(株)製の「HLS」、古河サーキットホイル(株)製の「F0−WS」、「U−WZ」、或いは、三井金属鉱業(株)の「NA−VLP」、「DFF」、福田金属箔粉工業(株)「CF-T9D-SVR」、「CF-TGD-SV」などが挙げられる As the copper foil as described above, a commercially available electrolytic foil or a rolled foil can be used as it is. For example, “HLS” manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd., “F0-WS”, “U-WZ” manufactured by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd., or “NA-VLP”, “DFF” manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. ”,“ CF-T9D-SVR ”,“ CF-TGD-SV ”, etc.

<フレキシブル金属張積層体の製造方法>
本発明のポリエステルイミド樹脂、又はポリエステルイミド樹脂組成物を用いたフレキシブル金属張積層体の製造方法としては特に限定されるものではなく、例えばポリエステルイミド樹脂溶液を金属箔の片面に塗布後、初期乾燥させ、熱処理すること等で製造できる。
<Method for producing flexible metal-clad laminate>
The method for producing a flexible metal-clad laminate using the polyesterimide resin or the polyesterimide resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, a polyesterimide resin solution is applied to one side of a metal foil, and then initially dried. And can be manufactured by heat treatment.

塗工方法としては、特に限定されるものではなく、従来からよく知られている方法を適用させることができる。ロールコーター、ナイフコーター、ドクターブレードコーター、グラビアコーター、ダイコーター、多層ダイコーター、リバースコーター、リバースロールコーターなどにより、塗工液の粘度を調整後、金属箔上に塗布することができる The coating method is not particularly limited, and conventionally well-known methods can be applied. Can be applied onto metal foil after adjusting the viscosity of the coating solution with a roll coater, knife coater, doctor blade coater, gravure coater, die coater, multilayer die coater, reverse coater, reverse roll coater, etc.

本発明において、塗布後の初期乾燥条件に特に限定はないが、一般的には、ポリエステルイミド樹脂溶液に使用する溶媒の沸点(Tb(℃))より70℃〜130℃低い温度で初期乾燥する。初期乾燥温度が(Tb−70)℃より高いと、塗工面に発泡が生じ、また、乾燥温度が(Tb−130)℃より低いと、乾燥時間が長くなり、生産性が低下する。初期乾燥温度は、溶媒の種類によっても異なるが、一般には60〜150℃程度、好ましくは80〜120℃程度である。初期乾燥に要する時間は、一般には上記温度条件下で、塗膜中の溶媒残存率が5〜40%程度になる有効な時間とすればよいが、一般には1〜30分間程度、特に、2〜15分間程度である。溶媒の沸点近傍、或いは沸点以上の温度で更に乾燥(二次乾燥)するのが好ましい。 In the present invention, the initial drying conditions after coating are not particularly limited, but in general, the initial drying is performed at a temperature 70 ° C. to 130 ° C. lower than the boiling point (Tb (° C.)) of the solvent used in the polyesterimide resin solution. . When the initial drying temperature is higher than (Tb-70) ° C., foaming occurs on the coated surface, and when the drying temperature is lower than (Tb-130) ° C., the drying time becomes longer and the productivity is lowered. The initial drying temperature varies depending on the type of solvent, but is generally about 60 to 150 ° C, preferably about 80 to 120 ° C. The time required for the initial drying is generally an effective time for the solvent remaining rate in the coating film to be about 5 to 40% under the above temperature conditions, but generally about 1 to 30 minutes, especially 2 ~ 15 minutes. It is preferable to further dry (secondary drying) at a temperature near the boiling point of the solvent or at a temperature equal to or higher than the boiling point.

又、熱処理条件も特に限定はなく、溶媒の沸点近傍、或いは沸点以上の温度で乾燥すればよいが、一般には120℃〜500℃、好ましくは200℃〜400℃である。120℃未満では乾燥時間が長くなり、生産性が低下し、500℃超では、樹脂組成によっては劣化反応が進行し、基材樹脂フィルム層がもろくなったり、透明性が低下する場合がある。熱処理に要する時間は、一般には上記温度条件下で、塗膜中の溶媒残存率が無くなる程度になる有効な時間とすればよいが、一般には数分間〜数十時間程度である。 The heat treatment conditions are not particularly limited, and may be dried at a temperature near the boiling point of the solvent or at a temperature equal to or higher than the boiling point, but is generally 120 ° C to 500 ° C, preferably 200 ° C to 400 ° C. If it is less than 120 degreeC, drying time will become long and productivity will fall, and if it exceeds 500 degreeC, a degradation reaction will advance depending on resin composition, and a base resin film layer may become weak, or transparency may fall. The time required for the heat treatment may be an effective time that generally eliminates the solvent remaining rate in the coating film under the above temperature conditions, but is generally about several minutes to several tens of hours.

本発明において、初期乾燥、熱処理は、不活性ガス雰囲気下、或いは、減圧下で行ってもよい。不活性ガスとしては、窒素、二酸化炭素、へリウム、アルゴン等が例示できるが、入手容易な窒素を用いるのが好ましい。又、減圧下で行う場合は、10-5〜103Pa程度、好ましくは10-1〜200Pa程度の圧力下で行うのが好ましい。 In the present invention, the initial drying and heat treatment may be performed under an inert gas atmosphere or under reduced pressure. Examples of the inert gas include nitrogen, carbon dioxide, helium, and argon, but it is preferable to use easily available nitrogen. Moreover, when it carries out under reduced pressure, it is preferable to carry out under the pressure of about 10 < -5 > -10 < 3 > Pa, preferably about 10 < -1 > -200 Pa.

本発明において、初期乾燥、二次乾燥ともに乾燥方式に特に限定はないが、ロールサポート方式やフローティング方式など、従来公知の方法で行うことができる。又、熱処理は、テンター式などの加熱炉での連続熱処理や、巻き物状態で巻き取り、バッチ式のオーブンで熱処理しても良い。バッチ式の場合、塗布面と非塗布面が接触しない様に巻き取ることが好ましい。 In the present invention, there are no particular limitations on the drying method for both initial drying and secondary drying, but it can be performed by a conventionally known method such as a roll support method or a floating method. Further, the heat treatment may be continuous heat treatment in a heating furnace such as a tenter type, wound in a wound state, and heat treated in a batch type oven. In the case of a batch type, it is preferable to wind up so that a coating surface and a non-coating surface do not contact.

フレキシブル金属張積層体のポリエステルイミド基材層の厚さは、広い範囲から選択できるが、一般には絶乾後の厚さで3〜300μm程度、好ましくは10〜100μm程度である。厚さが3μmよりも小さいと、フィルム強度等の機械的性質やハンドリング性に劣り、一方、厚さ300μmを超えるとフレキシブル性などの特性や加工性(乾燥性、塗工性)等が低下する傾向がある。又、必要に応じて、表面処理を施してもよい。例えば、加水分解、コロナ放電、低温プラズマ、物理的粗面化、易接着コーティング処理等の表面処理を施すことができる。 Although the thickness of the polyesterimide base material layer of the flexible metal-clad laminate can be selected from a wide range, it is generally about 3 to 300 μm, preferably about 10 to 100 μm, after being completely dried. When the thickness is less than 3 μm, mechanical properties such as film strength and handling properties are inferior. On the other hand, when the thickness exceeds 300 μm, characteristics such as flexibility and workability (drying properties, coating properties) are deteriorated. Tend. Moreover, you may perform a surface treatment as needed. For example, surface treatment such as hydrolysis, corona discharge, low temperature plasma, physical roughening, and easy adhesion coating treatment can be performed.

本発明の両面に金属箔を有する両面フレキシブル金属張積層体は、上記のようにして成型された片面にのみ金属箔が積層された金属張積層体の樹脂面同士を加熱ラミネートなど従来公知に方法で貼り合わせたり、接着剤層を介して従来公知の方法で張り合わせたりするなどの方法で製造することができる。ラミネートの方式は特に限定されるものではなく、ロールラミネート、プレスラミネート、ベルトプレスラミネートなど、従来公知の方式が採用でき、ラミネート温度は、通常は、樹脂のTg以上であり、200℃〜500℃が好ましく、より好ましくは250℃〜450℃、さらに好ましくは、330℃〜400 ℃である。200℃未満では、接着性が不十分であり、500℃を超えると樹脂層の劣化が生じ、機械的特性、透明性等が低下する。又、ラミネートの時間は、特に限定はないが、通常は10秒〜10時間、好ましくは1分〜1時間、更に好ましくは3分〜30分である。10秒未満では接着性が不十分であり、10時間を越えると、樹脂層の劣化が生じ、機械的特性、透明性等が低下する傾向にある。 The double-sided flexible metal-clad laminate having metal foils on both sides of the present invention is a conventionally known method such as heating lamination of the resin surfaces of the metal-clad laminate in which the metal foil is laminated only on one side molded as described above. Can be produced by a method such as pasting together, or pasting together by a conventionally known method via an adhesive layer. The method of laminating is not particularly limited, and conventionally known methods such as roll laminating, press laminating, and belt press laminating can be adopted, and the laminating temperature is usually equal to or higher than the Tg of the resin, and 200 ° C to 500 ° C. Is preferable, more preferably 250 ° C. to 450 ° C., and still more preferably 330 ° C. to 400 ° C. If it is less than 200 degreeC, adhesiveness is inadequate, and if it exceeds 500 degreeC, degradation of a resin layer will arise and mechanical characteristics, transparency, etc. will fall. The lamination time is not particularly limited, but is usually 10 seconds to 10 hours, preferably 1 minute to 1 hour, more preferably 3 minutes to 30 minutes. If it is less than 10 seconds, the adhesiveness is insufficient, and if it exceeds 10 hours, the resin layer is deteriorated and the mechanical properties, transparency and the like tend to be lowered.

接着剤層を介して積層する場合の接着剤組成としては、特に限定はされず、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリエステルウレタン系接着剤、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、ポリイミド樹脂系、ポリアミドイミド樹脂系、ポリエステルイミド樹脂系などの接着剤が使用できるが、耐熱性、接着性、柔軟性、低吸湿性、透明性等のフレキシブルプリント配線板としての特性面のバランスなどからポリイミド樹脂系、ポリアミドイミド樹脂系、ポリエステルイミド樹脂系、或いは、これらの樹脂にエポキシ樹脂を配合した樹脂組成物が好ましく、より好ましくは、本発明のポリエステルイミド樹脂組成物である。 The adhesive composition in the case of laminating through the adhesive layer is not particularly limited, and acrylonitrile butadiene rubber (NBR) adhesive, polyamide adhesive, polyester adhesive, polyester urethane adhesive, epoxy resin , Acrylic resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyesterimide resin, etc. can be used as flexible printed wiring boards with heat resistance, adhesiveness, flexibility, low moisture absorption, transparency, etc. In view of the balance of the characteristics of the resin, a polyimide resin system, a polyamideimide resin system, a polyesterimide resin system, or a resin composition in which an epoxy resin is blended with these resins is preferable, and more preferably, the polyesterimide resin composition of the present invention. It is.

接着剤層の厚みは、1〜30μm程度が好ましい。接着剤の厚さは、フレキシブルプリント配線基板の性能を発揮するのに支障がない限り、特に限定されないが、厚さが薄すぎる場合には、充分な接着性が得られにくい場合があり、一方、厚さが厚すぎる場合には、加工性(乾燥性、塗工性)等が低下する場合がある。 As for the thickness of an adhesive bond layer, about 1-30 micrometers is preferable. The thickness of the adhesive is not particularly limited as long as it does not hinder the performance of the flexible printed circuit board, but if the thickness is too thin, sufficient adhesiveness may not be obtained. If the thickness is too thick, processability (drying property, coating property) and the like may be deteriorated.

<<フレキシブルプリント配線板>>
上記本発明のフレキシブル金属張積層体を用いて、例えばサブトラクティブ法等の方法により、従来公知のプロセスを用いて、フレキシブルプリント配線板を製造できる。導体回路のソルダーレジスト、或いは、汚れやキズなどから保護する目的で回路表面を被覆する場合は、耐熱性フィルムを接着剤を介して、配線板(導体回路が形成されたベース基板)に貼り合わせる方法、或いは、液状の被覆剤をスクリーン印刷法で配線板に塗布する方法などが適用できる。
<< Flexible printed wiring board >>
Using the flexible metal-clad laminate of the present invention, a flexible printed wiring board can be produced by a conventionally known process, for example, by a method such as a subtractive method. When covering the circuit surface for the purpose of protecting from the solder resist of the conductor circuit or dirt and scratches, the heat-resistant film is bonded to the wiring board (base substrate on which the conductor circuit is formed) with an adhesive. A method or a method of applying a liquid coating agent to a wiring board by a screen printing method can be applied.

耐熱性フィルムとしては、ポリイミド樹脂系、ポリアミドイミド樹脂系、ポリエステルイミド樹脂系などのフィルムが使用できるが、耐熱性、接着性、柔軟性、低吸湿性、透明性等のフレキシブルプリント配線板としての特性面のバランスなどから、好ましくは、本発明のポリエステルイミド樹脂から得られるフィルムである。 As the heat-resistant film, polyimide resin-based, polyamide-imide resin-based, polyester-imide resin-based films, etc. can be used, but as a flexible printed wiring board such as heat resistance, adhesiveness, flexibility, low moisture absorption, transparency, etc. A film obtained from the polyesterimide resin of the present invention is preferable from the viewpoint of balance of characteristics.

接着剤としては、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリエステルウレタン系接着剤、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、ポリイミド樹脂系、ポリアミドイミド樹脂系、ポリエステルイミド樹脂系などの接着剤が使用できるが、耐熱性、接着性、柔軟性、低吸湿性、透明性等のフレキシブルプリント配線板としての特性面のバランスなどからポリイミド樹脂系、ポリアミドイミド樹脂系、ポリエステルイミド樹脂系、或いは、これらの樹脂にエポキシ樹脂を配合した樹脂組成物が好ましく、より好ましくは、本発明のポリエステルイミド樹脂組成物である。 Adhesives include acrylonitrile butadiene rubber (NBR) adhesive, polyamide adhesive, polyester adhesive, polyester urethane adhesive, epoxy resin, acrylic resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyesterimide Resin-based adhesives can be used, but polyimide resin-based, polyamide-imide resin-based, polyester due to the balance of characteristics as flexible printed wiring boards such as heat resistance, adhesiveness, flexibility, low hygroscopicity, and transparency An imide resin system or a resin composition in which an epoxy resin is blended with these resins is preferable, and the polyesterimide resin composition of the present invention is more preferable.

液状の被覆剤としては、従来公知のエポキシ系やポリイミド系のインクが使用できるが、耐熱性、接着性、柔軟性、低吸湿性、透明性等のフレキシブルプリント配線板としての特性面のバランスなどから、好ましくはポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂等のポリイミド系、或いはこれらの樹脂にエポキシ樹脂を配合した樹脂組成物で、より好ましくは、本発明のポリエステルイミド樹脂組成物、或いはこれらの樹脂にエポキシ樹脂を配合した樹脂組成物である。 As the liquid coating agent, conventionally known epoxy-based or polyimide-based inks can be used, but the balance of characteristics as a flexible printed wiring board such as heat resistance, adhesiveness, flexibility, low moisture absorption, transparency, etc. From the above, preferably a polyimide system such as polyimide resin, polyamideimide resin, polyesterimide resin, or a resin composition in which an epoxy resin is blended with these resins, more preferably the polyesterimide resin composition of the present invention, or these It is a resin composition in which an epoxy resin is blended with a resin.

又、エポキシ系やポリイミド系等の接着シートを配線板に直接貼りあわせることも可能であり、この場合も本発明のポリエステルイミド樹脂組成物或いは、これらの樹脂にエポキシ樹脂を配合した樹脂組成物が好ましい。 It is also possible to directly bond an epoxy or polyimide adhesive sheet to the wiring board. In this case, the polyesterimide resin composition of the present invention or a resin composition in which an epoxy resin is blended with these resins is also used. preferable.

回路の配線パターンは、任意のパターンが形成可能である。特に細かい配線パターンを施した回路においても本発明のフレキシブルプリント配線板は高いレベルの性能を示すので、細かい配線パターンを施す回路において特に本発明のフレキシブルプリント配線板は有利である。 An arbitrary pattern can be formed as the circuit wiring pattern. In particular, the flexible printed wiring board of the present invention exhibits a high level of performance even in a circuit provided with a fine wiring pattern. Therefore, the flexible printed wiring board of the present invention is particularly advantageous in a circuit provided with a fine wiring pattern.

具体的には、回路の配線の太さは、50μm以下とすることが可能であり、配線の太さを30μm以下とすることも可能であり、配線の太さを20μm以下とすることも可能であり、配線の太さを10μm以下とすることも可能である。配線の間隔は、50μm以下とすることが可能であり、30μm以下とすることも可能であり、20μm以下とすることも可能であり、10μm以下とすることも可能である。 Specifically, the wiring thickness of the circuit can be 50 μm or less, the wiring thickness can be 30 μm or less, and the wiring thickness can be 20 μm or less. It is also possible to make the thickness of the wiring 10 μm or less. The interval between the wirings can be 50 μm or less, can be 30 μm or less, can be 20 μm or less, and can be 10 μm or less.

この様にして製造されるフレキシブルプリント配線板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイなどの表示装置用デバイス実装基板や、スマートホン、タブレット端末機器、デジタルカメラ、携帯型ゲーム機などの基板間中継ケーブル、操作スイッチ部基板等、小型化、軽量化、軽薄化が進む電子機器のIC実装用基板材料等に幅広く使用できる。 The flexible printed wiring board manufactured in this way is a device mounting substrate for a display device such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic EL display, and a substrate such as a smartphone, a tablet terminal device, a digital camera, and a portable game machine. It can be widely used as a substrate material for IC mounting of electronic devices that are becoming smaller, lighter, and thinner, such as relay cables and operation switch board.

本発明をさらに詳細に説明するために以下に実施例を挙げるが、本発明は実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例に記載された測定値は以下の方法によって測定したものである。実施例中に単に部とあるのは質量部を示す。また、測定に用いたフィルム、プリント配線板の作製方法もあわせて示す。   In order to describe the present invention in more detail, examples are given below, but the present invention is not limited to the examples. In addition, the measured value described in the Example is measured by the following method. In the examples, “parts” means “parts by mass”. Moreover, the film used for the measurement and the method for producing the printed wiring board are also shown.

<フレキシブル金属張積層板の作製方法>
後述の各実施例、比較例で得られた樹脂溶液を厚さ12μmの銅箔(三井金属鉱業社のNA−VLP)に乾燥後の厚みが20μmになるようにナイフコーターで塗布した。次いで、50℃〜100℃の温度下、透明でタックフリーな状態になるまで乾燥後、ステンレス製の枠に上下面、左右面の端を固定し、真空下、200℃60分、220℃60分、260℃10時間の条件で加熱処理した。
<Method for producing flexible metal-clad laminate>
The resin solutions obtained in Examples and Comparative Examples described later were applied to a copper foil having a thickness of 12 μm (NA-VLP of Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd.) with a knife coater so that the thickness after drying was 20 μm. Next, after drying to a transparent and tack-free state at a temperature of 50 ° C. to 100 ° C., the ends of the upper and lower surfaces and the left and right surfaces are fixed to a stainless steel frame, and 200 ° C. 60 minutes, 220 ° C. 60 under vacuum. The heat treatment was performed at 260 ° C. for 10 hours.

<フレキシブルプリント配線板(FPC)作製方法>
感光性レジストを後述の各実施例、比較例で得られたフレキシブル銅張積層体の銅箔表面に積層し、マスクフィルムにて、露光、焼け付け、現像し、JIS C 5016に規定されている半田耐熱性、耐薬品性試料の配線を作製した。次いで、40℃、35%の塩化第二銅溶液を用いて、銅箔をエッチング除去し、回路形成に用いたレジストをアルカリにより除いた。
<Flexible printed wiring board (FPC) fabrication method>
A photosensitive resist is laminated on the copper foil surface of the flexible copper-clad laminate obtained in each of the examples and comparative examples described later, and is exposed, baked and developed with a mask film, and is defined in JIS C 5016. Solder heat resistance and chemical resistance wiring was prepared. Subsequently, the copper foil was removed by etching using a 35% cupric chloride solution at 40 ° C., and the resist used for circuit formation was removed with an alkali.

<カバーレイ付FPCの作製方法>
上記で得られたFPCの回路面に、後述の各実施例、比較例(基材フィルム層と同じ組成の樹脂)で得られた樹脂溶液を、乾燥後の厚みが10μmになる様にナイフコーターで塗布した。50℃〜100℃の温度下、透明でタックフリーな状態になるまで乾燥後、真空下、200℃30分、220℃30分、250℃3時間の条件で加熱処理した。
<Method for manufacturing FPC with coverlay>
Knife coater on the circuit surface of the FPC obtained above with a resin solution obtained in each of the examples and comparative examples described later (resins having the same composition as the base film layer) so that the thickness after drying is 10 μm. It was applied with. After drying to a transparent and tack-free state at a temperature of 50 ° C. to 100 ° C., heat treatment was performed under vacuum at 200 ° C. for 30 minutes, 220 ° C. for 30 minutes, and 250 ° C. for 3 hours.

<基材フィルムの作製方法>
後述の各実施例、比較例で得られたフレキシブル金属張積層体を40℃、35%の塩化第二銅溶液を用いて、銅箔を完全にエッチング除去し作製した。
<Preparation method of base film>
The flexible metal-clad laminates obtained in Examples and Comparative Examples described later were prepared by completely etching away the copper foil using a 35% cupric chloride solution at 40 ° C.

<対数粘度の測定>
各実施例、比較例で得られた重合溶液を大量のアセトンで、再沈殿、精製して作製した粉末状のポリマーサンプルをポリマー濃度が0.5g/dlとなるようにN−メチル−2−ピロリドンに溶解した。その溶液の溶液粘度及び溶媒粘度を30℃で、ウベローデ型の粘度管により測定して、下記の式で計算した。
対数粘度(dl/g)=[ln(V1/V2)]/V3
上記式中、V1はウベローデ型粘度管により測定した溶液粘度を示し、V2はウベローデ型粘度管により測定した溶媒粘度を示すが、V1及びV2はポリマー溶液及び溶媒(N−メチル−2−ピロリドン)が粘度管のキャピラリーを通過する時間から求めた。また、V3は、ポリマー濃度(g/dl)である。
<Measurement of logarithmic viscosity>
The polymer solution obtained in each Example and Comparative Example was reprecipitated and purified with a large amount of acetone, and a powdery polymer sample was prepared so that the polymer concentration was 0.5 g / dl. Dissolved in pyrrolidone. The solution viscosity and solvent viscosity of the solution were measured at 30 ° C. with an Ubbelohde type viscosity tube and calculated according to the following formula.
Logarithmic viscosity (dl / g) = [ln (V1 / V2)] / V3
In the above formula, V1 represents the solution viscosity measured with an Ubbelohde type viscosity tube, V2 represents the solvent viscosity measured with an Ubbelohde type viscosity tube, and V1 and V2 represent a polymer solution and a solvent (N-methyl-2-pyrrolidone). Was determined from the time taken to pass through the capillary of the viscosity tube. V3 is the polymer concentration (g / dl).

<熱寸法変化率:耐熱性の指標>
各実施例、比較例で得られたフレキシブル金属張積層体の金属層をエッチング除去し作製したフィルム(基材フィルム)をIPC−TM−650,2.2.4(c)により(C法;150℃×30分の条件で熱処理前後の寸法変化率)、MD方向に測定した。
<Thermal dimensional change rate: index of heat resistance>
A film (base film) produced by etching and removing the metal layer of the flexible metal-clad laminate obtained in each of Examples and Comparative Examples was obtained by IPC-TM-650, 2.2.4 (c) (Method C; The dimensional change rate before and after heat treatment was measured in the MD direction at 150 ° C. for 30 minutes.

<半田耐熱性:耐熱性の指標>
各実施例、比較例で得られた樹脂溶液を用いて作製したFPC、カバーレイ付FPCを、25℃、65%(湿度)で24時間調湿し、フラックス洗浄した。次いで、20秒間、260℃の噴流半田浴に浸漬し、顕微鏡で変形、変色、剥がれ、膨れの有無を観察した。有を×、無を○とした。なお、フレキシブル金属張積層体としての半田耐熱性、加湿半田耐熱性は、通常、試験パターン(FPC、カバーレイ付FPC)で測定するのが現実的である。
<Solder heat resistance: index of heat resistance>
FPCs prepared using the resin solutions obtained in each Example and Comparative Example and FPC with coverlay were conditioned at 25 ° C. and 65% (humidity) for 24 hours, and flux washed. Next, it was immersed in a jet solder bath at 260 ° C. for 20 seconds, and the presence or absence of deformation, discoloration, peeling, and swelling was observed with a microscope. “Yes” means “No” and “No” means “Good”. Note that the solder heat resistance and humidified solder heat resistance of the flexible metal-clad laminate are usually measured with a test pattern (FPC, FPC with coverlay).

<ガーレー式柔軟度:柔軟性の指標>
フレキシブル金属張積層体、フレキシブルプリント配線板の柔軟度の指標として、各実施例、比較例で得られたフレキシブル金属張積層体の金属層をエッチング除去し作製したフィルム(基材フィルム)をJIS L 1096に準じ、ガーレー法により、以下の条件で測定した。
測定装置;(株)東洋製作所製
サンプルサイズ;25.4mm(巾)×88.9mm(長さ)×20μm(厚み)
アーム回転速度;2rpm
<Gurley-type flexibility: index of flexibility>
As an index of flexibility of flexible metal-clad laminates and flexible printed wiring boards, a film (base film) produced by etching away the metal layer of the flexible metal-clad laminate obtained in each Example and Comparative Example was used as a JIS L According to 1096, the Gurley method was used under the following conditions.
Measuring device: manufactured by Toyo Seisakusho Co., Ltd. Sample size: 25.4 mm (width) x 88.9 mm (length) x 20 μm (thickness)
Arm rotation speed: 2 rpm

<加湿半田耐熱性:吸湿性の指標>
各実施例、比較例で得られた樹脂溶液を用い作製した、FPC、カバーレイ付FPCを、40℃、90%(湿度)で24時間調湿し、フラックス洗浄した。次いで、20秒間、260℃の噴流半田浴に浸漬し、顕微鏡で変形、変色、剥がれ、膨れの有無を観察した。変形、変色、剥がれ、膨れのいずれかが目視により観察された場合、有を×、無を○とした。
<Humidification solder heat resistance: index of hygroscopicity>
FPC and FPC with coverlay prepared using the resin solutions obtained in each Example and Comparative Example were conditioned at 40 ° C. and 90% (humidity) for 24 hours, and flux washed. Next, it was immersed in a jet solder bath at 260 ° C. for 20 seconds, and the presence or absence of deformation, discoloration, peeling, and swelling was observed with a microscope. When any of deformation, discoloration, peeling, and swelling was observed by visual observation, “Yes” was given and “No” was given.

<全光線透過率:無色透明性の指標>
以下の条件で測定し、結果項目の1つであるTtの値を全光線透過率とした。
測定サンプル;各実施例、比較例で得られたフレキシブル金属張積層体の金属層をエッチング除去し作製したフィルム(基材フィルム)。
測定方法;JISK7105に準ずる。
測定装置;ヘーズメーター(商品名「NDH2000」、日本電色工業(株)製、ランプ種D65)
<Total light transmittance: index of colorless transparency>
Measurement was performed under the following conditions, and the value of Tt, which is one of the result items, was defined as the total light transmittance.
Measurement sample: A film (base film) produced by etching away the metal layer of the flexible metal-clad laminate obtained in each of Examples and Comparative Examples.
Measurement method: According to JISK7105.
Measuring device: Haze meter (trade name “NDH2000”, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., lamp type D65)

(実施例1)
反応容器に無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドとジオール化合物としてPTMG1000(三洋化成工業(株)製、分子量1000)とを反応させてなるジエステルテトラカルボン酸二無水物 95.22g(0.07モル)、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライド5.95g(0.03モル)、ジイソシアネートとして4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート25.03g(0.1モル)、フッ化カリウム0.1gを入れ、1、3−ジメチル−2−イミダゾリジノン249.46gに溶解した後、窒素気流下、撹拌しながら、80℃〜190℃で8時間反応させることにより、透明で粘稠なポリエステルイミド溶液を得た。得られたポリエステルイミドの対数粘度は、表1に示すように0.95dl/gであった。得られた樹脂溶液を用いフレキシブル金属張積層板、プリント配線板(FPC)、カバーレイ付FPC、基材フィルムを作製し、表2、表3、表4に示す内容で特性を評価した。樹脂特性を表1、プリント配線板(FPC)特性を表2、カバーレイ付FPC特性を表3、基材フィルム特性を表4に示す。
Example 1
95.22 g (0.07 mol) of diester tetracarboxylic dianhydride obtained by reacting anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride with PTMG1000 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., molecular weight 1000) as a diol compound in a reaction vessel, anhydrous cyclohexane 1.95 g (0.03 mol) of tricarboxylic acid chloride, 25.03 g (0.1 mol) of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate as diisocyanate and 0.1 g of potassium fluoride were added, and 1,3-dimethyl-2-imidazo After dissolving in 249.46 g of lysinone, a transparent and viscous polyesterimide solution was obtained by reacting at 80 ° C. to 190 ° C. for 8 hours with stirring in a nitrogen stream. The logarithmic viscosity of the obtained polyesterimide was 0.95 dl / g as shown in Table 1. Using the obtained resin solution, a flexible metal-clad laminate, a printed wiring board (FPC), an FPC with a coverlay, and a substrate film were prepared, and the characteristics were evaluated according to the contents shown in Table 2, Table 3, and Table 4. Table 1 shows resin characteristics, Table 2 shows printed wiring board (FPC) characteristics, Table 3 shows FPC characteristics with coverlay, and Table 4 shows base film characteristics.

(実施例2〜5、比較例1)
「ジオール化合物」等の成分、ジイソシアネート成分を表1の内容にした以外は、実施例1と同様にし、樹脂溶液を作製した。得られた各ポリエステルイミドの対数粘度は、表1に示す。得られた樹脂溶液を用いフレキシブル金属張積層板、プリント配線板(FPC)、カバーレイ付FPC、基材フィルムを作製し、表2、表3、表4に示す内容で特性を評価した。樹脂特性を表1、プリント配線板(FPC)特性を表2、カバーレイ付FPC特性を表3、基材フィルム特性を表4に示す。
(Examples 2 to 5, Comparative Example 1)
A resin solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that the components such as “diol compound” and the diisocyanate component were changed to those shown in Table 1. The logarithmic viscosity of each polyesterimide obtained is shown in Table 1. Using the obtained resin solution, a flexible metal-clad laminate, a printed wiring board (FPC), an FPC with a coverlay, and a substrate film were prepared, and the characteristics were evaluated according to the contents shown in Table 2, Table 3, and Table 4. Table 1 shows resin characteristics, Table 2 shows printed wiring board (FPC) characteristics, Table 3 shows FPC characteristics with coverlay, and Table 4 shows base film characteristics.

(実施例6)
反応容器に無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドとジオール化合物としてC1015(クラレ(株)製、分子量1000)とを反応させてなるジエステルテトラカルボン酸二無水物 136.03g(0.1モル)、ジイソシアネートとしてo-トリジンジイソシアネート26.43g(0.1モル)、フッ化カリウム0.1gを入れ、1、3−ジメチル−2−イミダゾリジノン326.53gに溶解した後、窒素気流下、撹拌しながら、80℃〜190℃で8時間反応させることにより、透明で粘稠なポリエステルイミド溶液を得た。得られたポリエステルイミドの対数粘度は、表1に示すように0.86dl/gであった。得られた樹脂溶液を用いフレキシブル金属張積層板、プリント配線板(FPC)、カバーレイ付FPC、基材フィルムを作製し、表2、表3、表4に示す内容で特性を評価した。樹脂特性を表1、プリント配線板(FPC)特性を表2、カバーレイ付FPC特性を表3、基材フィルム特性を表4に示す。
(Example 6)
136.03 g (0.1 mol) of diester tetracarboxylic dianhydride obtained by reacting anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride with C1015 (manufactured by Kuraray Co., Ltd., molecular weight 1000) as a diol compound in a reaction vessel, and o- After adding 26.43 g (0.1 mol) of tolidine diisocyanate and 0.1 g of potassium fluoride and dissolving in 326.53 g of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, the mixture was stirred at 80 ° C. under a nitrogen stream. By reacting at ˜190 ° C. for 8 hours, a transparent and viscous polyesterimide solution was obtained. The logarithmic viscosity of the obtained polyesterimide was 0.86 dl / g as shown in Table 1. Using the obtained resin solution, a flexible metal-clad laminate, a printed wiring board (FPC), an FPC with a coverlay, and a substrate film were prepared, and the characteristics were evaluated according to the contents shown in Table 2, Table 3, and Table 4. Table 1 shows resin characteristics, Table 2 shows printed wiring board (FPC) characteristics, Table 3 shows FPC characteristics with coverlay, and Table 4 shows base film characteristics.

表1中の略号を以下に示す。
略号
PTMG1000;三洋化成工業(株) ポリオキシテトラメチレングリコール
BPE-20 ;三洋化成工業(株) ニューポールBPE-20(ビスフェノールAの
エチレンオキサイド付加物)
C-1015 ;(株)クラレ製カーボネートジオール:2−メチル−1,8−オクタン
ジオール/1,9−ノナンジオール、数平均分子量約1000
DHDE ;4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル
MDI ;4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート
TODI ;o−トリジンジイソシアネート
Abbreviations in Table 1 are shown below.
Abbreviation
PTMG1000; Sanyo Chemical Industries, Ltd. Polyoxytetramethylene glycol
BPE-20; Sanyo Chemical Industry Co., Ltd. New Pole BPE-20 (Bisphenol A
Ethylene oxide adduct)
C-1015; carbonate diol manufactured by Kuraray Co., Ltd .: 2-methyl-1,8-octane
Diol / 1,9-nonanediol, number average molecular weight of about 1000
DHDE; 4,4'-dihydroxydiphenyl ether
MDI: 4,4'-diphenylmethane diisocyanate
TODI: o-tolidine diisocyanate

本発明のフレキシブル金属張積層体、及びフレキシブルプリント配線板は、優れた柔軟性、低吸湿性、及び、十分な無色透明性を併せ持つ。これにより、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイなどの表示装置用デバイス実装基板や、スマートホン、タブレット端末機器、デジタルカメラ、携帯型ゲーム機などの基板間接続配線板、操作スイッチ部基板等、小型化、軽量化、軽薄化が進む電子機器のIC実装用基板材料等に幅広く使用できる。 The flexible metal-clad laminate and the flexible printed wiring board of the present invention have excellent flexibility, low hygroscopicity, and sufficient colorless transparency. Thereby, device mounting boards for display devices such as liquid crystal displays, plasma displays, organic EL displays, inter-board connection wiring boards such as smart phones, tablet terminal devices, digital cameras, portable game machines, operation switch unit boards, etc. It can be widely used as a substrate material for mounting ICs in electronic devices that are becoming smaller, lighter, and thinner.

Claims (8)

金属箔の少なくとも片面に、下記一般式(1)で示される構造を構成単位中に含有するポリエステルイミド樹脂が積層されてなることを特徴とするフレキシブル金属張積層体。

(式中、R1は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示し、R2は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示す。)
A flexible metal-clad laminate, wherein a polyesterimide resin containing a structure represented by the following general formula (1) in a structural unit is laminated on at least one surface of a metal foil.

(Wherein R1 represents a divalent chain aliphatic group, a divalent cycloaliphatic group or a divalent aromatic group, and R2 represents a divalent chain aliphatic group or a divalent cycloaliphatic group. An aromatic group or a divalent aromatic group.)
ポリエステルイミド樹脂が、さらに、一般式(2)で示される構造を構成単位中に含有することを特徴とする請求項1に記載のフレキシブル金属張積層体。

(式中、R2’は2価の鎖式脂肪族基、2価の環式脂肪族基または2価の芳香族基を示す。)
2. The flexible metal-clad laminate according to claim 1, wherein the polyesterimide resin further contains a structure represented by the general formula (2) in the structural unit.

(Wherein R2 ′ represents a divalent chain aliphatic group, a divalent cycloaliphatic group or a divalent aromatic group.)
一般式(1)において、R1が下記一般式(3)で示される構造であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のフレキシブル金属張積層体。

(ここで、Rは、2価の水酸基を有する鎖式脂肪族化合物、2価の水酸基を有する環式脂肪族化合物または2価の水酸基を有する芳香族化合物から誘導されるOH基を取り除いた後の残基である。複数個のRは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。mは1以上の正の整数である。)
The flexible metal-clad laminate according to claim 1 or 2, wherein in the general formula (1), R1 has a structure represented by the following general formula (3).

(Here, R represents a chain aliphatic compound having a divalent hydroxyl group, a cyclic aliphatic compound having a divalent hydroxyl group, or an OH group derived from an aromatic compound having a divalent hydroxyl group) The plurality of R may be the same or different from each other, and m is a positive integer of 1 or more.)
一般式(1)において、R1が下記一般式(4)及び/または一般式(5)で構成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。


(R3、R4は、直結、アルキレン基、パーフルオロアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基、カーボネート基またはフルオレニリデン基を示す。X1〜X8及びX1’〜X8 ’は、それぞれが同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。)
The flexible metal-clad laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein in the general formula (1), R1 is constituted by the following general formula (4) and / or the general formula (5).


(R3 and R4 represent a direct bond, an alkylene group, a perfluoroalkylene group, an ether bond, an ester bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfenyl group, a carbonate group, or a fluorenylidene group. X1 to X8 and X1 ′ to X 8 ′ may be the same or different and each represents a group selected from hydrogen, halogen, and an alkyl group.)
一般式(1)において、R2が下記一般式(6)で構成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。

(R5は、直結、アルキレン基、パーフルオロアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはスルフェニル基を示す。X9〜X16は、同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。)
In general formula (1), R2 is comprised by following General formula (6), The flexible metal-clad laminated body in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.

(R5 represents a direct bond, an alkylene group, a perfluoroalkylene group, an ether bond, an ester bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or a sulfenyl group. X9 to X16 may be the same or different. Well each represents a group selected from hydrogen, halogen and alkyl groups.)
一般式(2)において、R2’が下記一般式(7)で構成されることを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。

(R5’は、直結、アルキレン基、パーフルオロアルキレン基、エーテル結合、エステル結合、カルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはスルフェニル基を示す。X9’〜X16’は、同じであっても、異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、アルキル基から選ばれる基を示す。)
In general formula (2), R2 'is comprised by following General formula (7), The flexible metal-clad laminate in any one of Claims 2-5 characterized by the above-mentioned.

(R5 ′ represents a direct bond, an alkylene group, a perfluoroalkylene group, an ether bond, an ester bond, a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or a sulfenyl group. X9 ′ to X16 ′ may be the same or different. And each represents a group selected from hydrogen, halogen, and an alkyl group.)
ポリエステルイミド樹脂を構成する全構成単位を100モル%としたときに、一般式(1)及び一般式(2)で示される構造を合計で20モル%以上含有し、
一般式(1)で示される構造と一般式(2)で示される構造のモル比が一般式(1)/一般式(2)=99/1〜1/99の範囲で構成されることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体。
When the total structural unit constituting the polyesterimide resin is 100 mol%, the structure represented by the general formula (1) and the general formula (2) is contained in a total of 20 mol% or more,
The molar ratio between the structure represented by the general formula (1) and the structure represented by the general formula (2) is configured in the range of the general formula (1) / general formula (2) = 99/1 to 1/99. The flexible metal-clad laminate according to any one of claims 2 to 6.
請求項1〜7のいずれかに記載のフレキシブル金属張積層体から得られるフレキシブルプリント配線板。   A flexible printed wiring board obtained from the flexible metal-clad laminate according to claim 1.
JP2013057930A 2013-03-21 2013-03-21 Transparent flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board Pending JP2014180846A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013057930A JP2014180846A (en) 2013-03-21 2013-03-21 Transparent flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013057930A JP2014180846A (en) 2013-03-21 2013-03-21 Transparent flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014180846A true JP2014180846A (en) 2014-09-29

Family

ID=51699991

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013057930A Pending JP2014180846A (en) 2013-03-21 2013-03-21 Transparent flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014180846A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016190105A1 (en) * 2015-05-25 2016-12-01 コニカミノルタ株式会社 Polyimide film, method for producing polyimide film, flexible printed board, substrate for flexible displays, front plate for flexible displays, led lighting device and organic electroluminescent display device
JP2016199678A (en) * 2015-04-10 2016-12-01 日本化薬株式会社 Polyamide resin and polyimide resin
WO2018084013A1 (en) * 2016-11-04 2018-05-11 東洋紡株式会社 Polycarbonate imide resin and resin composition including same
JP2021070804A (en) * 2019-10-29 2021-05-06 達興材料股▲ふん▼有限公司 Poly(imide-ester-amide) copolymer and optical film
JP2022011106A (en) * 2020-06-29 2022-01-17 株式会社日立産機システム Molded electric device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007284414A (en) * 2005-06-01 2007-11-01 Mitsubishi Chemicals Corp Tetracarboxylic acid or polyesterimide thereof, and method for production of the same
WO2008072495A1 (en) * 2006-12-12 2008-06-19 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Polyamide-imide resin, colorless transparent flexible metal laminate made of the same, and wiring board
JP2008163087A (en) * 2006-12-27 2008-07-17 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing ester group-containing alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride
US20100145002A1 (en) * 2005-06-01 2010-06-10 Mitsubishi Chemical Corporation Tetracarboxylic acid or polyesterimide thereof, and process for production of the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007284414A (en) * 2005-06-01 2007-11-01 Mitsubishi Chemicals Corp Tetracarboxylic acid or polyesterimide thereof, and method for production of the same
US20100145002A1 (en) * 2005-06-01 2010-06-10 Mitsubishi Chemical Corporation Tetracarboxylic acid or polyesterimide thereof, and process for production of the same
WO2008072495A1 (en) * 2006-12-12 2008-06-19 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Polyamide-imide resin, colorless transparent flexible metal laminate made of the same, and wiring board
US20100018756A1 (en) * 2006-12-12 2010-01-28 Katsuya Shimeno Polyamideimide resin, as well as a colorless and transparent flexible metal-clad laminate and circuit board obtained therefrom
JP2008163087A (en) * 2006-12-27 2008-07-17 Mitsubishi Chemicals Corp Method for producing ester group-containing alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016199678A (en) * 2015-04-10 2016-12-01 日本化薬株式会社 Polyamide resin and polyimide resin
WO2016190105A1 (en) * 2015-05-25 2016-12-01 コニカミノルタ株式会社 Polyimide film, method for producing polyimide film, flexible printed board, substrate for flexible displays, front plate for flexible displays, led lighting device and organic electroluminescent display device
WO2018084013A1 (en) * 2016-11-04 2018-05-11 東洋紡株式会社 Polycarbonate imide resin and resin composition including same
KR20190077302A (en) * 2016-11-04 2019-07-03 도요보 가부시키가이샤 Polycarbonate imide resin and resin composition containing it
JPWO2018084013A1 (en) * 2016-11-04 2019-09-19 東洋紡株式会社 Polycarbonate imide resin and resin composition containing the same
JP7028182B2 (en) 2016-11-04 2022-03-02 東洋紡株式会社 Polycarbonate imide resin and resin composition containing it
KR102422913B1 (en) 2016-11-04 2022-07-21 도요보 가부시키가이샤 Polycarbonate imide resin and resin composition comprising same
JP2021070804A (en) * 2019-10-29 2021-05-06 達興材料股▲ふん▼有限公司 Poly(imide-ester-amide) copolymer and optical film
JP7062023B2 (en) 2019-10-29 2022-05-02 達興材料股▲ふん▼有限公司 Poly (imide-ester-amide) copolymer and optical film
US11912827B2 (en) 2019-10-29 2024-02-27 Daxin Materials Corporation Poly(imide-ester-amide) copolymer and optical film
JP2022011106A (en) * 2020-06-29 2022-01-17 株式会社日立産機システム Molded electric device
JP7409980B2 (en) 2020-06-29 2024-01-09 株式会社日立産機システム mold electrical equipment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5273545B2 (en) Polyamideimide resin, flexible metal-clad laminate and wiring board obtained therefrom
JP6777195B2 (en) Method for manufacturing polyimide film
JP5910236B2 (en) Method for producing polyamideimide film
JP5626326B2 (en) Polyamideimide resin, resin composition, and metal-clad laminate using the same
CN113874420B (en) Resin film and metal-clad laminate
JP4543314B2 (en) Polyamideimide resin, resin composition, and metal-clad laminate using the same
JP2014180846A (en) Transparent flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board
JP5532069B2 (en) Method for producing flexible metal laminate
JP4640409B2 (en) Metal-clad laminate
JP6447758B2 (en) Transparent polyesterimide resin film, and resin and resin composition used therefor
JP2007313739A (en) Colorless transparent flexible metal-clad laminate and colorless transparent flexible printed wiring board using the same
JP2005244139A (en) Flexible printed-wiring board
JP5240204B2 (en) Metal laminate
TWI623567B (en) Polyesterimide resin film and resin and resin composition used for the resin film
JP6349823B2 (en) Polyesterimide resin film, and resin and resin composition used therefor
JP2005244138A (en) Flexible printed wiring board
JP2014205347A (en) Flexible metal-clad laminate and flexible printed wiring board
KR102237221B1 (en) Polyesterimide resin film, and resin and resin composition used in the same
TW201805341A (en) Polyesterimide resin film, resin used therein and resin composition simultaneously having good heat resistance, flexibility and low moisture absorption property
JP2005244134A (en) Flexible printed-wiring board
JP2005238798A (en) Flexible printed wiring board
JP2005244136A (en) Flexible printed-wiring board
JP2005244135A (en) Flexible printed-wiring board
JP2005238797A (en) Flexible printed wiring board
CN116367413A (en) Metal-clad laminate and circuit board

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160127

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161129

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170606