JP2014177423A - METHOD FOR PRODUCING α-OLEFIN LOW POLYMER - Google Patents

METHOD FOR PRODUCING α-OLEFIN LOW POLYMER Download PDF

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JP2014177423A JP2013052189A JP2013052189A JP2014177423A JP 2014177423 A JP2014177423 A JP 2014177423A JP 2013052189 A JP2013052189 A JP 2013052189A JP 2013052189 A JP2013052189 A JP 2013052189A JP 2014177423 A JP2014177423 A JP 2014177423A
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Hiroki Emoto
浩樹 江本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a long-term continuous operation method in a production process of an α-olefin low polymer.SOLUTION: In a method for producing an α-olefin low polymer by performing a low polymerization reaction of an α-olefin in a reaction solvent in the presence of a catalyst in a reactor, a portion of gas of a gas phase part in the reactor is introduced into a heat exchanger, and when a condensate and a non-condensable gas, obtained from an outlet of the heat exchanger, and the reaction solvent, obtained by separating a reaction solution obtained from an outlet of the reactor, are circulation supplied to the reactor, the condensate and/or the reaction solvent are atomized and supplied to the gas phase part of the reactor, and the non-condensable gas is supplied to a liquid phase part of the reactor.

Description

本発明は、α−オレフィン低重合体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an α-olefin low polymer.

従来、エチレン等のα−オレフィンを原料とするα−オレフィン低重合体の製造方法が報告されている。
例えば、特許文献1には、クロム系触媒を用いて、1−ヘキセンを主体とするα−オレフィン低重合体を、高収率・高選択率に得られる製造方法が記載されている。
また、従来から、1−ヘキセンを主体とするα−オレフィン低重合体を得るための低重
合反応は、一般に発熱反応であることから、反応器内で発生する反応熱を除熱しながら反応を行い、連続的にα−オレフィン低重合体を製造できる工業的な方法が様々検討されてきた。
Conventionally, a method for producing an α-olefin low polymer using an α-olefin such as ethylene as a raw material has been reported.
For example, Patent Document 1 describes a production method in which an α-olefin low polymer mainly composed of 1-hexene is obtained with high yield and high selectivity using a chromium-based catalyst.
Conventionally, the low polymerization reaction for obtaining an α-olefin low polymer mainly composed of 1-hexene is generally an exothermic reaction, and thus the reaction is performed while removing the heat of reaction generated in the reactor. Various industrial methods capable of continuously producing an α-olefin low polymer have been studied.

特許文献2には、エチレンを触媒の存在下で、オリゴマー化して平均分子量50から350のα−オレフィンオリゴマーにする製造方法において、反応器内の気相のガスを冷媒として使用して、液相と直接接触していない凝縮器で、反応器内の気相のガスの一部を冷却して、凝縮した液を用いて熱を除去して、重合熱を除去する熱交換器の汚れを防止することが記載されている。   In Patent Document 2, in the production method of ethylene into an α-olefin oligomer having an average molecular weight of 50 to 350 in the presence of a catalyst, a gas phase gas in a reactor is used as a refrigerant, Condenser that is not in direct contact with the reactor, cools part of the gas in the gas phase in the reactor, removes heat using the condensed liquid, and prevents contamination of the heat exchanger that removes the heat of polymerization It is described to do.

更に、特許文献3では、α−オレフィン低重合体の製造方法において、反応器内のガスを熱交換器に導入し、当該熱交換器の出口から得られる凝縮液及び当該ガスを当該反応器に循環する方法が記載されており、気相部における反応液の飛沫同伴を抑制するために、反応器内における気相部のガス線速を所定の範囲に制御することが記載されている。
特許文献4では、反応器内で有機溶媒と均一系触媒の存在下でエチレンをオリゴマー化して1−ヘキセンなどのα-オレフィン低重合体を製造する際に、反応器の塔頂にプロピ
レン等の冷却材を使用して反応器内を冷却する方法が記載されており、内部冷却サイクルを向上させる為に、凝縮器を利用し、反応器の塔頂温度を約15℃〜約20℃にする事が記載されている。
Furthermore, in Patent Document 3, in the method for producing an α-olefin low polymer, the gas in the reactor is introduced into the heat exchanger, and the condensate obtained from the outlet of the heat exchanger and the gas are supplied to the reactor. A method of circulation is described, and in order to suppress entrainment of the reaction liquid in the gas phase portion, it is described that the gas linear velocity in the gas phase portion in the reactor is controlled within a predetermined range.
In Patent Document 4, when an α-olefin low polymer such as 1-hexene is produced by oligomerizing ethylene in the presence of an organic solvent and a homogeneous catalyst in a reactor, propylene or the like is added to the top of the reactor. A method of cooling the inside of a reactor using a coolant is described, and in order to improve the internal cooling cycle, a condenser is used and the top temperature of the reactor is about 15 ° C. to about 20 ° C. Things are described.

特許文献5では、炭化水素をオリゴマー化する際に、液化炭化水素(α―オレフィン)を反応器液相の底部から供給する事が記載され、特許文献6では、液化炭化水素及び液化した蒸発性の冷媒を反応器液相の底部から供給する事が記載されている。   Patent Document 5 describes that when hydrocarbon is oligomerized, liquefied hydrocarbon (α-olefin) is supplied from the bottom of the reactor liquid phase, and Patent Document 6 describes liquefied hydrocarbon and liquefied evaporability. Is supplied from the bottom of the reactor liquid phase.

特開平08−239419号 公報Japanese Patent Laid-Open No. 08-239419 特表2006−500412号 公報Japanese translation of publication No. 2006-500412 特開2009−120588号 公報JP 2009-120588 A 特表2009−503155号 公報Special table 2009-503155 国際公開09/060342号 パンフレットInternational Publication No. 09/060342 Pamphlet 国際公開09/060343号 パンフレットInternational Publication No. 09/060343 Pamphlet

一般に、エチレン等のα−オレフィンを原料とするα−オレフィン低重合体を得る反応では、反応液中に副生ポリマーや失活触媒等の汚れ物質が存在するため、上述の方法の中でも、副生ポリマーや失活触媒等の汚れ物質が極めて微量である反応器内の気相を熱交換
器(凝縮器)により冷却凝縮し、凝縮液及び非凝縮ガスを反応器に循環させる方法が好ましい。
In general, in a reaction for obtaining an α-olefin low polymer using an α-olefin such as ethylene as a raw material, dirt substances such as a by-product polymer and a deactivation catalyst are present in the reaction solution. A method of cooling and condensing the gas phase in the reactor in which a very small amount of contaminants such as biopolymers and deactivated catalyst is cooled by a heat exchanger (condenser) and circulating the condensed liquid and non-condensed gas to the reactor is preferable.

しかし、この方法では、反応器の気液界面で、気泡が破裂する為、反応器気相に反応液のミストが発生する。 そのミストは、飛沫同伴によりガスと共に反応器出口の熱交換器(凝縮器)まで到達し、凝縮器の冷却伝面の入口部を汚し、長期安定運転を阻害する問題があった。
本発明は、上述したα―オレフィンの低重合体の製造方法における課題を解決するためになされたものである。即ち、本発明の目的は、長期安定運転が可能なα−オレフィン低重合体の製造方法を提供することにある。
However, in this method, since bubbles burst at the gas-liquid interface of the reactor, mist of the reaction solution is generated in the reactor gas phase. The mist reaches the heat exchanger (condenser) at the outlet of the reactor together with the gas due to entrainment of droplets, contaminates the inlet portion of the cooling transmission surface of the condenser, and has a problem of hindering long-term stable operation.
The present invention has been made to solve the above-described problems in the method for producing a low polymer of α-olefin. That is, an object of the present invention is to provide a method for producing an α-olefin low polymer capable of long-term stable operation.

そこで、本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、反応器の気相部に、微粒化された冷却液を供給し、前記反応器内の気相部のガスを冷却する事で、凝縮器の冷却伝面が汚れる事なく、長期安定運転が可能となることを見出した。
即ち、本発明の要旨は、以下の[1]〜[8]に存する。
[1] 触媒の存在下、反応溶媒中で反応器にてα−オレフィンの低重合反応を行いα−オレフィン低重合体を製造する方法において、該反応器内の気相部のガスの一部を熱交換器に導入し、該熱交換器の出口から得られる凝縮液、非凝縮ガス及び該反応器の出口から得られる反応液を分離して得られた反応溶媒を該反応器に循環供給する際に、該凝縮液及び/又は該反応溶媒を微粒化して反応器の気相部に供給し、該非凝縮性ガスを反応器の液相部に供給することを特徴とするα−オレフィン低重合体の製造方法。
[2] 該熱交換器の出口から得られる前記凝縮液及び/又は該反応器の出口から得られる反応液を分離して得られた反応溶媒を噴霧器により微粒化することを特徴とする[1]に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。
[3] 前記噴霧器の微粒化の方式が、遠心力方式、せん断力方式及び圧力方式からなる群より選ばれた1つ以上の方式であることを特徴とする[1]又は[2]に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。
[4] 前記反応器の気相部ガス出口温度が、液相温度より10℃以上低いことを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。
[5] 前記熱交換器の出口から得られる前記非凝縮ガスの一部を気液分離器に導入し、
凝縮液と非凝縮ガスとに分離する工程を更に有することを特徴とする[1]〜[4]いずれかに記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。
[6] 前記触媒が、クロム化合物(a)と、窒素含有化合物(b)と、アルミニウム含
有化合物(c)との組み合わせから構成されることを特徴とする[1]〜[5]のいずれかに記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。
[7] 前記触媒が、さらにハロゲン含有化合物(d)を有することを特徴とする[6]に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。
[8] 前記α−オレフィンがエチレンであることを特徴とする[1]〜[7]のいずれ
かに記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。
Therefore, as a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor supplies atomized cooling liquid to the gas phase portion of the reactor to cool the gas in the gas phase portion in the reactor. Thus, it was found that long-term stable operation is possible without the condenser's cooling transmission surface becoming dirty.
That is, the gist of the present invention resides in the following [1] to [8].
[1] In a method for producing an α-olefin low polymer by performing a low polymerization reaction of α-olefin in a reaction solvent in a reaction solvent in the presence of a catalyst, a part of gas in a gas phase portion in the reactor Is introduced into the heat exchanger, and the condensate obtained from the outlet of the heat exchanger, the non-condensed gas, and the reaction solvent obtained by separating the reaction liquid obtained from the outlet of the reactor are circulated and supplied to the reactor. The condensate and / or the reaction solvent is atomized and supplied to the gas phase part of the reactor, and the non-condensable gas is supplied to the liquid phase part of the reactor. A method for producing a polymer.
[2] The reaction solvent obtained by separating the condensate obtained from the outlet of the heat exchanger and / or the reaction liquid obtained from the outlet of the reactor is atomized by a sprayer [1] ] The manufacturing method of the alpha-olefin low polymer of description.
[3] The atomization method of the sprayer is one or more methods selected from the group consisting of a centrifugal force method, a shear force method, and a pressure method, according to [1] or [2] Of producing an α-olefin low polymer.
[4] The method for producing an α-olefin low polymer according to any one of [1] to [3], wherein a gas phase part gas outlet temperature of the reactor is 10 ° C. or more lower than a liquid phase temperature. .
[5] A part of the non-condensable gas obtained from the outlet of the heat exchanger is introduced into a gas-liquid separator,
The method for producing an α-olefin low polymer according to any one of [1] to [4], further comprising a step of separating into a condensate and a non-condensable gas.
[6] Any one of [1] to [5], wherein the catalyst is composed of a combination of a chromium compound (a), a nitrogen-containing compound (b), and an aluminum-containing compound (c). The manufacturing method of the alpha-olefin low polymer of description.
[7] The method for producing an α-olefin low polymer as described in [6], wherein the catalyst further has a halogen-containing compound (d).
[8] The method for producing an α-olefin low polymer according to any one of [1] to [7], wherein the α-olefin is ethylene.

本発明によれば、α―オレフィン低重合体の製造プロセスにおける長期安定運転が可能となる。   According to the present invention, long-term stable operation in the production process of an α-olefin low polymer is possible.

本発明のα-オレフィン低重合体の製造方法の一形態を示す製造フロー図である。It is a manufacturing flow figure showing one form of the manufacturing method of the alpha olefin low polymer of the present invention.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
[α−オレフィン]
本発明のα−オレフィン低重合体の製造方法において、原料として使用するα−オレフィンとしては、例えば、炭素原子数が2〜30の置換又は非置換のα−オレフィンが挙げられる。このようなα−オレフィンの具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、3−メチル−1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン等が挙げられる。中でも、本発明の原料のα−オレフィンとしてはエチレンが好適であり、エチレンを原料とした場合、エチレンの三量体である1−ヘキセンが高収率かつ高選択率で得ることができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention. The drawings used are for explaining the present embodiment and do not represent the actual size.
[Α-olefin]
In the method for producing an α-olefin low polymer of the present invention, examples of the α-olefin used as a raw material include substituted or unsubstituted α-olefins having 2 to 30 carbon atoms. Specific examples of such α-olefins include ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 1-octene, 3-methyl-1-butene, 4-methyl-1-pentene and the like. Among these, ethylene is suitable as the α-olefin of the raw material of the present invention. When ethylene is used as the raw material, 1-hexene, which is a trimer of ethylene, can be obtained with high yield and high selectivity.

また、エチレンを原料として用いる場合、原料中にエチレン以外の不純物成分を含んでいても構わない。具体的な成分としては、メタン、エタン、窒素、酸素、水、アセチレン、二酸化炭素、一酸化炭素、硫化水素等が挙げられる。メタン、エタン、窒素については、原料のエチレンに対して0.1mol%以下、酸素、水、アセチレン、二酸化炭素、一酸化炭素、硫化水素等の硫黄分については、原料のエチレンに対して1molppm以下であることが好ましい。   Moreover, when using ethylene as a raw material, impurity components other than ethylene may be included in the raw material. Specific components include methane, ethane, nitrogen, oxygen, water, acetylene, carbon dioxide, carbon monoxide, hydrogen sulfide and the like. For methane, ethane, and nitrogen, 0.1 mol% or less with respect to the starting ethylene, and for sulfur components such as oxygen, water, acetylene, carbon dioxide, carbon monoxide, hydrogen sulfide, etc., 1 molppm or less with respect to the starting ethylene It is preferable that

[触媒]
本発明で使用する触媒は、原料α−オレフィンを低重合反応させ、α−オレフィン低重合体を生成できる触媒であれば、特に限定されないが、アルミニウム含有化合物を有する触媒である事が望ましい。
更に、遷移金属含有化合物、窒素原子含有化合物、及びアルミニウム含有化合物を、触媒の構成成分として使用し、それら化合物由来の成分からなるクロム系触媒である事がより望ましい。また、触媒活性および目的とするα−オレフィン低重合体の選択率向上という観点から、ハロゲン含有化合物を触媒の構成成分として含有することがより好ましい。
[catalyst]
The catalyst used in the present invention is not particularly limited as long as it is a catalyst capable of producing a α-olefin low polymer by low polymerization reaction of the raw material α-olefin, but is preferably a catalyst having an aluminum-containing compound.
Furthermore, it is more desirable that the transition metal-containing compound, the nitrogen atom-containing compound, and the aluminum-containing compound are used as constituent components of the catalyst, and the chromium-based catalyst is composed of components derived from those compounds. Moreover, it is more preferable to contain a halogen-containing compound as a constituent component of the catalyst from the viewpoint of improving the catalytic activity and the selectivity of the target α-olefin low polymer.

[遷移金属含有化合物]
本発明の触媒の構成成分として好適に使用される遷移金属含有化合物に含有する金属としては、遷移金属であれば特に限定されないが、中でも、周期表第4〜6族の遷移金属が好ましく用いられる。具体的に、好ましくは、クロム、チタン、ジルコニウム、バナジウム及びハフニウムからなる群より選ばれる1種類以上の金属であり、更に好ましくは、クロム又はチタンであり、最も好ましくは、クロムである。
[Transition metal-containing compounds]
The metal contained in the transition metal-containing compound suitably used as a constituent component of the catalyst of the present invention is not particularly limited as long as it is a transition metal, but among them, transition metals of Groups 4 to 6 of the periodic table are preferably used. . Specifically, it is preferably at least one metal selected from the group consisting of chromium, titanium, zirconium, vanadium and hafnium, more preferably chromium or titanium, and most preferably chromium.

また、遷移金属含有化合物は、一般式MeZnで表される1種以上の化合物である。ここで、一般式中、Meは遷移金属元素、Zは任意の有機基又は無機基もしくは陰性原子、nは1から6の整数を表し、2以上が好ましい。nが2以上の場合、Zは同一又は相互に異なっていても良い。有機基としては、置換基を有していても良い炭素数1〜30の炭化水素基であればよく、具体的には、カルボニル基、アルコキシ基、カルボキシル基、β−ジケトナート基、β−ケトカルボキシル基、β−ケトエステル基、アミド基等が挙げられる。また、無機基としては、硝酸基、硫酸基等の金属塩形成基が挙げられる。また、陰性原子としては、酸素、ハロゲン等が挙げられる。なお、ハロゲンが含まれる遷移金属含有化合物は、後述するハロゲン含有化合物には含まれない。   The transition metal-containing compound is one or more compounds represented by the general formula MeZn. Here, in the general formula, Me is a transition metal element, Z is any organic group, inorganic group, or negative atom, n is an integer of 1 to 6, and 2 or more is preferable. When n is 2 or more, Z may be the same or different from each other. The organic group may be a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent, and specifically includes a carbonyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, a β-diketonate group, a β-keto. Examples include a carboxyl group, a β-ketoester group, an amide group, and the like. In addition, examples of the inorganic group include metal salt forming groups such as a nitrate group and a sulfate group. Examples of negative atoms include oxygen and halogen. In addition, the transition metal containing compound containing a halogen is not contained in the halogen containing compound mentioned later.

遷移金属がクロムである遷移金属含有化合物(以下、クロム含有化合物と呼ぶことがある)の場合、具体例としては、クロム(IV)−tert−ブトキシド、クロム(III)ア
セチルアセトナート、クロム(III)トリフルオロアセチルアセトナート、クロム(III)ヘキサフルオロアセチルアセトナート、クロム(III)(2,2,6,6−テトラメチル
−3,5−ヘプタンジオナート)、Cr(PhCOCHCOPh)(但し、ここでPhはフェニル基を示す。)、クロム(II)アセテート、クロム(III)アセテート、クロム
(III)2−エチルヘキサノエート、クロム(III)ベンゾエート、クロム(III)ナフテ
ネート、クロム(III)ヘプタノエート、Cr(CHCOCHCOOCH 、塩化第一クロム、塩化第二クロム、臭化第一クロム、臭化第二クロム、ヨウ化第一クロム、ヨウ化第二クロム、フッ化第一クロム、フッ化第二クロム等が挙げられる。
In the case of a transition metal-containing compound whose transition metal is chromium (hereinafter sometimes referred to as a chromium-containing compound), specific examples include chromium (IV) -tert-butoxide, chromium (III) acetylacetonate, chromium (III ) Trifluoroacetylacetonate, chromium (III) hexafluoroacetylacetonate, chromium (III) (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), Cr (PhCOCHCOPh) 3 (where Ph represents a phenyl group.), Chromium (II) acetate, chromium (III) acetate, chromium (III) 2-ethylhexanoate, chromium (III) benzoate, chromium (III) naphthenate, chromium (III) heptanoate, Cr (CH 3 COCHCOOCH 3) 3, a first chromium chloride, chromic chloride, bromide first click Arm, bromide chromic, first chromium iodide, chromic iodide, first chromium fluoride, and the second chromium fluoride.

遷移金属がチタンである遷移金属含有化合物(以下、チタン含有化合物と呼ぶことがある)の場合、具体例としては、TiCl4 ,TiBr4 ,TiI4 ,TiBrCl3 ,TiBr2 Cl2 ,Ti(OC254 ,Ti(OC252 Cl2 ,Ti(O−n−C374 ,Ti(O−n−C372 Cl2 ,Ti(O−iso−C37 4
Ti(O−iso−C372 Cl2 ,Ti(O−n−C49 )4 ,Ti(O−n−C492 Cl2 ,Ti(O−iso−C494 ,Ti(O−iso−C492 Cl2 ,Ti(O−tert−C494 ,Ti(O−tert−C492 Cl2 ,TiCl(thf)(左記化学式中、thfはテトラヒドロフランを表す)、Ti((CH32 N)4 ,Ti((C252 N)4 ,Ti((n−C372 N)4 ,Ti((iso−C372 N)4 ,Ti((n−C492 N)4 ,Ti((tert−C492 N)4 ,Ti(OSO3 CH34 ,Ti(OSO3254 ,Ti(OSO3374 ,Ti(OSO3494 ,TiCp2 Cl2 ,T
iCp2 ClBr,Ti(OCOC254 ,Ti(OCOC252 Cl2 ,Ti(OCOC374 ,Ti(OCOC372 Cl2 ,Ti(OCOC374 ,Ti(OCOC372 Cl2 ,Ti(OCOC494 ,Ti(OCOC492 Cl2などが挙げられる。
In the case of a transition metal-containing compound in which the transition metal is titanium (hereinafter sometimes referred to as a titanium-containing compound), specific examples include TiCl 4 , TiBr 4 , TiI 4 , TiBrCl 3 , TiBr 2 Cl 2 , Ti (OC 2 H 5) 4, Ti ( OC 2 H 5) 2 Cl 2, Ti (O-n-C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 3 H 7) 2 Cl 2, Ti (O-iso -C 3 H 7) 4,
Ti (O-iso-C 3 H 7) 2 Cl 2, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 2 Cl 2, Ti (O-iso-C 4 H 9) 4, Ti ( O-iso-C 4 H 9) 2 Cl 2, Ti (O-tert-C 4 H 9) 4, Ti (O-tert-C 4 H 9) 2 Cl 2, TiCl 4 (thf) 2 (wherein thf represents tetrahydrofuran), Ti ((CH 3 ) 2 N) 4 , Ti ((C 2 H 5 ) 2 N) 4 , Ti ((n-C 3 H 7 ) 2 N) 4 , Ti ((iso-C 3 H 7 ) 2 N) 4 , Ti ((n-C 4 H 9 ) 2 N) 4 , Ti ((tert-C 4 H 9 ) 2 N) 4 , Ti (OSO 3 CH 3 ) 4 , Ti (OSO 3 C 2 H 5 ) 4 , Ti (OSO 3 C 3 H 7 ) 4 , Ti (OSO 3 C 4 H 9 ) 4 , TiCp 2 Cl 2 , T
iCp 2 ClBr, Ti (OCOC 2 H 5 ) 4 , Ti (OCOC 2 H 5 ) 2 Cl 2 , Ti (OCOC 3 H 7 ) 4 , Ti (OCOC 3 H 7 ) 2 Cl 2 , Ti (OCOC 3 H 7 ) 4 , Ti (OCOC 3 H 7 ) 2 Cl 2 , Ti (OCOC 4 H 9 ) 4 , Ti (OCOC 4 H 9 ) 2 Cl 2 and the like.

遷移金属がジルコニウムである遷移金属含有化合物(以下、ジルコニウム含有化合物と呼ぶことがある)の場合、具体例としては、ZrCl4 ,ZrBr4 ,ZrI4 ,ZrBrCl3 ,ZrBr2 Cl2 ,Zr(OC254 ,Zr(OC252 Cl2 ,Zr(O−n−C374 ,Zr(O−n−C372 Cl2 ,Zr(O−iso−C374 ,Zr(O−iso−C372 Cl2 ,Zr(O−n−C494 ,Zr(O−n−C492 Cl2 ,Zr(O−iso−C494 ,Zr(O−iso−C492 Cl2 ,Zr(O−tert−C494 ,Zr(O−tert−C492 Cl2 ,Zr((CH32 N)4 ,Zr((C252 N)4,Zr((n
−C372 N)4 ,Zr((iso−C372 N)4 ,Zr((n−C492 N)4 ,Zr((tert−C492 N)4 ,Zr(OSO3 CH34 ,Zr(OSO3254 ,Zr(OSO3374,Zr(OSO3494 ,Zr
Cp2 Cl2 ,ZrCp2 ClBr,Zr(OCOC254 ,Zr(OCOC252 Cl2 ,Zr(OCOC374 ,Zr(OCOC372 Cl2 ,Zr(OCOC374 ,Zr(OCOC372 Cl2 ,Zr(OCOC494 ,Zr(
OCOC492 Cl2 ,ZrCl2 (HCOCFCOF)2,ZrCl2 (CH3
OCFCOCH32 などが挙げられる。
In the case of a transition metal-containing compound in which the transition metal is zirconium (hereinafter, sometimes referred to as a zirconium-containing compound), specific examples include ZrCl 4 , ZrBr 4 , ZrI 4 , ZrBrCl 3 , ZrBr 2 Cl 2 , Zr (OC 2 H 5) 4, Zr ( OC 2 H 5) 2 Cl 2, Zr (O-n-C 3 H 7) 4, Zr (O-n-C 3 H 7) 2 Cl 2, Zr (O-iso -C 3 H 7) 4, Zr (O-iso-C 3 H 7) 2 Cl 2, Zr (O-n-C 4 H 9) 4, Zr (O-n-C 4 H 9) 2 Cl 2 , Zr (O-iso-C 4 H 9 ) 4 , Zr (O-iso-C 4 H 9 ) 2 Cl 2 , Zr (O-tert-C 4 H 9 ) 4 , Zr (O-tert-C 4 H 9 ) 2 Cl 2 , Zr ((CH 3 ) 2 N) 4 , Zr ((C 2 H 5 ) 2 N) 4 , Zr ((n
-C 3 H 7) 2 N) 4, Zr ((iso-C 3 H 7) 2 N) 4, Zr ((n-C 4 H 9) 2 N) 4, Zr ((tert-C 4 H 9 ) 2 N) 4 , Zr (OSO 3 CH 3 ) 4 , Zr (OSO 3 C 2 H 5 ) 4 , Zr (OSO 3 C 3 H 7 ) 4 , Zr (OSO 3 C 4 H 9 ) 4 , Zr
Cp 2 Cl 2 , ZrCp 2 ClBr, Zr (OCOC 2 H 5 ) 4 , Zr (OCOC 2 H 5 ) 2 Cl 2 , Zr (OCOC 3 H 7 ) 4 , Zr (OCOC 3 H 7 ) 2 Cl 2 , Zr (OCOC 3 H 7 ) 4 , Zr (OCOC 3 H 7 ) 2 Cl 2 , Zr (OCOC 4 H 9 ) 4 , Zr (
OCOC 4 H 9 ) 2 Cl 2 , ZrCl 2 (HCOCFCOF) 2 , ZrCl 2 (CH 3 C
OCFCOCH 3 ) 2 and the like.

遷移金属がハフニウムである遷移金属含有化合物(以下、ハフニウム含有化合物と呼ぶことがある)の場合、具体例としては、ジメチルシリレンビス{1−(2−メチル−4−イソプロピル−4H−アズレニル)}ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニル−4H−アズレニル)}ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス〔1−{2−メチル−4−(4−クロロフェニル)−4H−アズレニル}〕ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス〔1−{2−メチル−4−(4−フルオロフェニル)−4H−アズレニル}〕ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス〔1−{2−メチル−4−(3−クロロフェニル)−4H−アズレニル}〕ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス[1−{2−メチル−4−(2,6−ジメチルフェニル)−4
H−アズレニル}]ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1−(2−メチル−4,6−ジイソプロピル−4H−アズレニル)}ハフニウムジクロリド、ジフェニルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニル−4H−アズレニル)}ハフニウムジクロリド、メチルフェニルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニル−4H−アズレニル)}ハフニウムジクロリド、メチルフェニルシリレンビス〔1−{2−メチル−4−(1−ナフチル)−4H−アズレニル}〕ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1−(2−エチル−4−フェニル−4H−アズレニル)}ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス〔1−{2−エチル−4−(1−アントラセニル)−4H−アズレニル}〕ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス〔1−{2−エチル−4−(2−アントラセニル)−4H−アズレニル}〕ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス〔1−{2−エチル−4−(9−フェナンスリル)−4H−アズレニル}〕ハフニウムジクロリド、ジメチルメチレンビス[1−{2−メチル−4−(4−ビフェニリル)−4H−アズレニル}]ハフニウムジクロリド、ジメチルゲルミレンビス[1−{2−メチル−4−(4−ビフェニリル)−4H−アズレニル}]ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1−(2−エチル−4―(3,5−ジメチル−4−トリメチルシリルフェニル−4H−アズレニル)}ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレ2ン[1−{2−メチル−4−(4−ビフェニリル)−4H−アズレニル}][1−{2−メチル−4−(4−ビフェニリル)インデニル}]ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレン{1−(2−エチル−4−フェニル−4H−アズレニル)}{1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)}ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1−(2−メチル−4−フェニルインデニル)}ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス{1−(2−メチル−4,5−ベンゾインデニル)}ハフニウムジクロリド、ジメチルシリレンビス〔1−{2−メチル−4−(1−ナフチル)インデニル}〕ハフニウムジクロリド等が挙げられる。
これらの遷移金属含有化合物の中でも、クロム含有化合物が好ましく、クロム含有化合物の中でも、特に好ましくは、クロム(III)2−エチルヘキサノエートである。
In the case of a transition metal-containing compound whose transition metal is hafnium (hereinafter sometimes referred to as a hafnium-containing compound), a specific example is dimethylsilylene bis {1- (2-methyl-4-isopropyl-4H-azurenyl)}. Hafnium dichloride, dimethylsilylenebis {1- (2-methyl-4-phenyl-4H-azurenyl)} hafnium dichloride, dimethylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (4-chlorophenyl) -4H-azurenyl}] Hafnium dichloride, dimethylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (4-fluorophenyl) -4H-azurenyl}] hafnium dichloride, dimethylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (3-chlorophenyl)- 4H-azulenyl}] hafnium dichloride, dimethylsilylene bis [1 {2-methyl-4- (2,6-dimethylphenyl) -4
H-azurenyl}] hafnium dichloride, dimethylsilylenebis {1- (2-methyl-4,6-diisopropyl-4H-azurenyl)} hafnium dichloride, diphenylsilylenebis {1- (2-methyl-4-phenyl-4H- Azulenyl)} hafnium dichloride, methylphenylsilylenebis {1- (2-methyl-4-phenyl-4H-azurenyl)} hafnium dichloride, methylphenylsilylenebis [1- {2-methyl-4- (1-naphthyl)- 4H-azulenyl}] hafnium dichloride, dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4-phenyl-4H-azurenyl)} hafnium dichloride, dimethylsilylenebis [1- {2-ethyl-4- (1-anthracenyl)- 4H-azulenyl}] hafnium dichloride, dimethyl Lucylylenebis [1- {2-ethyl-4- (2-anthracenyl) -4H-azurenyl}] hafnium dichloride, dimethylsilylenebis [1- {2-ethyl-4- (9-phenanthryl) -4H-azulenyl}] hafnium Dichloride, dimethylmethylenebis [1- {2-methyl-4- (4-biphenylyl) -4H-azurenyl}] hafnium dichloride, dimethylgermylenebis [1- {2-methyl-4- (4-biphenylyl) -4H -Azulenyl}] hafnium dichloride, dimethylsilylenebis {1- (2-ethyl-4- (3,5-dimethyl-4-trimethylsilylphenyl-4H-azurenyl)} hafnium dichloride, dimethylsilylene-2 [1- {2-methyl -4- (4-biphenylyl) -4H-azurenyl}] [1- {2- Til-4- (4-biphenylyl) indenyl}] hafnium dichloride, dimethylsilylene {1- (2-ethyl-4-phenyl-4H-azulenyl)} {1- (2-methyl-4,5-benzoindenyl) } Hafnium dichloride, dimethylsilylene bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} hafnium dichloride, dimethylsilylene bis {1- (2-methyl-4,5-benzoindenyl)} hafnium dichloride, dimethylsilylene And bis [1- {2-methyl-4- (1-naphthyl) indenyl}] hafnium dichloride.
Among these transition metal-containing compounds, chromium-containing compounds are preferable, and among chromium-containing compounds, chromium (III) 2-ethylhexanoate is particularly preferable.

[窒素含有化合物]
本発明において、触媒の構成成分として好適に使用される窒素含有化合物は、特に限定されないが、アミン類、アミド類又はイミド類等が挙げられる。
[Nitrogen-containing compounds]
In the present invention, the nitrogen-containing compound suitably used as a constituent component of the catalyst is not particularly limited, and examples thereof include amines, amides, and imides.

アミン類としては、例えばピロール化合物が挙げられ、具体例としては、ピロール、2,4−ジメチルピロール、2,5−ジメチルピロール、2,5−ジエチルピロール、2,4−ジエチルピロール、2,5−ジ−n−プロピルピロール、2,5−ジ−n−ブチルピロール、2,5−ジ−n−ペンチルピロール,2,5−ジ−n−ヘキシルピロール、2,5−ジベンジルピロール,2,5−ジイソプロピルピロール、2−メチル−5−エチルピロール、2,5−ジメチル−3−エチルピロール、3,4−ジメチルピロール、3,4−ジクロロピロール、2,3,4,5−テトラクロロピロール、2−アセチルピロール、インドール、2−メチルインドール、2つのピロール環が置換基を介して結合したジピロール等のピロール又はこれらの誘導体が挙げられる。誘導体としては、例えば、金属ピロライド誘導体が挙げられ、具体例としては、例えば、ジエチルアルミニウムピロライド、エチルアルミニウムジピロライド、アルミニウムトリピロライド、ジエチルアルミニウム(2,5−ジメチルピロライド)、エチルアルミニウムビス(2,5−ジメチルピロライド)、アルミニウムトリス(2,5−ジメチルピロライド)、ジエチルアルミニウム(2,5−ジエチルピロライド)、エチルアルミニウムビス(2,5−ジエチルピロライド)、アルミニウムトリス(2,5−ジエチルピロライド)等のアルミニウムピロライド類、ナトリウムピロライド、ナトリウム(2,5−ジメチルピロライド)等のナトリウムピロライド類、リチウムピロライド、リチウム(2,5−ジメチルピロライド)等のリチウムピロライド類、カリウムピロライド、カリウム(2,5−ジメチルピロライド)等のカリウムピロライド類が挙げられる。なお、アルミニウムピロライド類は、上述のアルミニウム含有化合物には含まれない。また、ハロゲンを含有するピロール化合物は、上述のハロゲ
ン含有化合物には含まれない。
Examples of amines include pyrrole compounds. Specific examples include pyrrole, 2,4-dimethylpyrrole, 2,5-dimethylpyrrole, 2,5-diethylpyrrole, 2,4-diethylpyrrole, 2,5. -Di-n-propyl pyrrole, 2,5-di-n-butyl pyrrole, 2,5-di-n-pentyl pyrrole, 2,5-di-n-hexyl pyrrole, 2,5-dibenzyl pyrrole, 2 , 5-diisopropylpyrrole, 2-methyl-5-ethylpyrrole, 2,5-dimethyl-3-ethylpyrrole, 3,4-dimethylpyrrole, 3,4-dichloropyrrole, 2,3,4,5-tetrachloro Pyrrole such as pyrrole, 2-acetylpyrrole, indole, 2-methylindole, dipyrrole in which two pyrrole rings are bonded via a substituent, or derivatives thereof Body, and the like. Examples of the derivatives include metal pyrolide derivatives, and specific examples include, for example, diethylaluminum pyrolide, ethylaluminum dipyrrolide, aluminum tripyrolide, diethylaluminum (2,5-dimethylpyrrolide), ethylaluminum. Bis (2,5-dimethyl pyrolide), aluminum tris (2,5-dimethyl pyrolide), diethyl aluminum (2,5-diethyl pyrolide), ethyl aluminum bis (2,5-diethyl pyrolide), aluminum tris Aluminum pyrolides such as (2,5-diethyl pyrolide), sodium pyrolide, sodium pyrolides such as sodium (2,5-dimethyl pyrolide), lithium pyrolide, lithium (2,5-dimethyl pyrolide) ) Etc. Umupiroraido acids, potassium pyrrolide, potassium (2,5-dimethyl pyrrolide) potassium pyrrolide such like. Aluminum pyrolides are not included in the above-mentioned aluminum-containing compound. Moreover, the pyrrole compound containing a halogen is not contained in the above-mentioned halogen-containing compound.

アミド類としては、例えば、アセトアミド、N−メチルヘキサンアミド、スクシンアミド、マレアミド、N−メチルベンズアミド、イミダゾール−2−カルボキソアミド、ジ−2−テノイルアミン、β−ラクタム、δ−ラクタム、ε−カプロラクタム又はこれらと周期表の1、2若しくは13族の金属との塩が挙げられる。
イミド類としては、例えば、1,2−シクロヘキサンジカルボキシイミド、スクシンイミド、フタルイミド、マレイミド、2,4,6−ピペリジントリオン、ペルヒドロアゼシン−2,10−ジオン又はこれらと周期律表の1、2若しくは13族の金属との塩が挙げられる。スルホンアミド類およびスルホンイミド類としては、例えば、ベンゼンスルホンアミド、N−メチルメタンスルホンアミド、N−メチルトリフルオロメチルスルホンアミド、又はこれらと周期律表の1〜2若しくは13族の金属との塩が挙げられる。これらの化合物は単一の化合物で使用しても、複数の化合物で使用しても良い。
本発明では、これらの中でも、アミン類が好ましく、中でも、ピロール化合物がより好ましく、特に好ましくは2,5−ジメチルピロール又はジエチルアルミニウム(2,5−ジメチルピロライド)である。
Examples of amides include, for example, acetamide, N-methylhexaneamide, succinamide, maleamide, N-methylbenzamide, imidazole-2-carboxamide, di-2-thenoylamine, β-lactam, δ-lactam, ε-caprolactam or Examples thereof include salts of these with metals of Group 1, 2 or 13 of the periodic table.
Examples of the imides include 1,2-cyclohexanedicarboximide, succinimide, phthalimide, maleimide, 2,4,6-piperidinetrione, perhydroazesin-2,10-dione, and 1 of the periodic table, And salts with Group 2 or 13 metals. Examples of the sulfonamides and sulfonamides include, for example, benzenesulfonamide, N-methylmethanesulfonamide, N-methyltrifluoromethylsulfonamide, and salts thereof with a metal of Groups 1 to 2 or 13 in the periodic table. Is mentioned. These compounds may be used as a single compound or a plurality of compounds.
In the present invention, among these, amines are preferable, among which pyrrole compounds are more preferable, and 2,5-dimethylpyrrole or diethylaluminum (2,5-dimethylpyrrolide) is particularly preferable.

[アルミニウム含有化合物]
本発明の触媒成分として好適に使用される、アルミニウム含有化合物は、特に限定されないが、トリアルキルアルミニウム化合物、ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物、アルコキシアルキルアルミニウム化合物、又は水素化アルキルアルミニウム化合物等などが挙げられる。トリアルキルアルミニウム化合物としては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが挙げられる。ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物の具体的な例としては、ジエチルアルミニウムモノクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムジクロリドが挙げられる。 ア
ルコキシアルミニウム化合物の具体的な例としては、ジエチルアルミニウムエトキシドが挙げられる。水素化アルキルアルミニウム化合物の具体的な例としては、ジエチルアルミニウムヒドリドが挙げられる。これらの中でも、トリアルキルアルミニウム化合物が好ましく、トリエチルアルミニウムが更に好ましい。これらの化合物は、単一の化合物を使用しても、複数の化合物を混合して用いても良い。
[Aluminum-containing compounds]
The aluminum-containing compound suitably used as the catalyst component of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a trialkylaluminum compound, a halogenated alkylaluminum compound, an alkoxyalkylaluminum compound, and an alkylaluminum hydride compound. Examples of the trialkylaluminum compound include trimethylaluminum, triethylaluminum, and triisobutylaluminum. Specific examples of the halogenated alkylaluminum compound include diethylaluminum monochloride, ethylaluminum sesquichloride, and ethylaluminum dichloride. Specific examples of the alkoxyaluminum compound include diethylaluminum ethoxide. Specific examples of the alkylaluminum hydride compound include diethylaluminum hydride. Among these, trialkylaluminum compounds are preferable, and triethylaluminum is more preferable. These compounds may be used as a single compound or as a mixture of a plurality of compounds.

[ハロゲン含有化合物]
本発明の触媒の構成成分としては、上述の成分に加えて、ハロゲン含有化合物を更に含有することが好ましい。このハロゲン含有化合物としては、特に限定されないが、ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物、ベンジルクロリド骨格含有化合物、3個以上のハロゲン原子を有する炭素数1以上の直鎖状ハロゲン化炭化水素、3個以上のハロゲン原子を有する炭素数3以上の環状ハロゲン化炭化水素の1種以上の化合物が挙げられる(ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物は、アルミニウム含有化合物には含まない)。例えば、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ベンジルクロリド、(1−クロロエチル)ベンゼン、2−メチルベンジルクロリド、3−メチルベンジルクロリド、4−メチルベンジルクロリド、4−エチルベンジルクロリド、4−イソプロピルベンジルクロリド、4−tert−ブチルベンジルクロリド、4−ビニルベンジルクロリド、α−エチル−4−メチルベンジルクロリド、α,α´−ジクロロ−o−キシレン、α,α´−ジクロロ−m−キシレン、α,α´−ジクロロ−p−キシレン、2,4−ジメチルベンジルクロリド、2,5−ジメチルベンジルクロリド、2,6−ジメチルベンジルクロリド、3,4−ジメチルベンジルクロリド、2,3,5,6−テトラメチルベンジルクロリド、1−(クロロメチル)ナフタレン、1−(クロロメチル)−2−メチルナフタレン、1,4−ビス−クロロメチル−2,3−ジメチルナフタレン、1,8−ビス−クロロメチル−2,3,4,5,6,7−ヘキサメチルナフタレン、9−(クロロメチル)アントラセン、9,10−ビス(クロロメチル)アントラセン、7−(クロロメチル)ベンズア
ントラセン、7−クロロメチル−12−メチルベンズアントラセン、四塩化炭素、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、1,2,3−トリクロロシクロプロパン、1,2,3,4,5,6−ヘキサクロロシクロヘキサン、1,4−ビス(トリクロロメチル)−2,3,5,6−テトラクロロベンゼン等が挙げられる。
[Halogen-containing compounds]
As a constituent component of the catalyst of the present invention, it is preferable to further contain a halogen-containing compound in addition to the above-described components. The halogen-containing compound is not particularly limited, but is a halogenated alkylaluminum compound, a benzyl chloride skeleton-containing compound, a linear halogenated hydrocarbon having 1 or more carbon atoms having 3 or more halogen atoms, and 3 or more halogens. One or more compounds of a cyclic halogenated hydrocarbon having 3 or more carbon atoms having an atom are included (the halogenated alkylaluminum compound is not included in the aluminum-containing compound). For example, diethylaluminum chloride, ethylaluminum sesquichloride, benzyl chloride, (1-chloroethyl) benzene, 2-methylbenzyl chloride, 3-methylbenzyl chloride, 4-methylbenzyl chloride, 4-ethylbenzyl chloride, 4-isopropylbenzyl chloride 4-tert-butylbenzyl chloride, 4-vinylbenzyl chloride, α-ethyl-4-methylbenzyl chloride, α, α′-dichloro-o-xylene, α, α′-dichloro-m-xylene, α, α '-Dichloro-p-xylene, 2,4-dimethylbenzyl chloride, 2,5-dimethylbenzyl chloride, 2,6-dimethylbenzyl chloride, 3,4-dimethylbenzyl chloride, 2,3,5,6-tetramethyl Benzyl chloride, 1- (chloromethyl) ) Naphthalene, 1- (chloromethyl) -2-methylnaphthalene, 1,4-bis-chloromethyl-2,3-dimethylnaphthalene, 1,8-bis-chloromethyl-2,3,4,5,6 7-hexamethylnaphthalene, 9- (chloromethyl) anthracene, 9,10-bis (chloromethyl) anthracene, 7- (chloromethyl) benzanthracene, 7-chloromethyl-12-methylbenzanthracene, carbon tetrachloride, 1 , 1,1-trichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane, hexachloroethane, 1,2,3-trichlorocyclopropane, 1,2,3,4,5,6-hexachlorocyclohexane, , 4-bis (trichloromethyl) -2,3,5,6-tetrachlorobenzene and the like.

本発明において、触媒として好ましく使用される触媒成分である、遷移金属含有化合物(a)、窒素含有化合物(b)、アルミニウム含有化合物(c)及びハロゲン含有化合物(d)の各構成成分の比率は、特に限定されないが、通常、遷移金属含有化合物(a)1モルに対し、窒素含有化合物(b)1モル〜50モル、好ましくは2モル〜30モルであり、アルミニウム含有化合物(c)1モル〜200モル、好ましくは10モル〜150モルである。又はハロゲン含有化合物(d)を含む場合は、遷移金属含有化合物(a)1モルに対し、ハロゲン含有化合物(d)は1モル〜50モル、好ましくは2モル〜30モルである。   In the present invention, the ratio of each component of the transition metal-containing compound (a), the nitrogen-containing compound (b), the aluminum-containing compound (c), and the halogen-containing compound (d), which are catalyst components preferably used as a catalyst, Although it is not particularly limited, it is usually 1 mol to 50 mol, preferably 2 mol to 30 mol, and 1 mol of the aluminum-containing compound (c) with respect to 1 mol of the transition metal-containing compound (a). -200 mol, preferably 10 mol-150 mol. Alternatively, when the halogen-containing compound (d) is included, the halogen-containing compound (d) is 1 to 50 mol, preferably 2 to 30 mol, per 1 mol of the transition metal-containing compound (a).

本発明において、触媒の使用量は特に限定されないが、通常、後述する溶媒1リットルあたり、遷移金属含有化合物(a)の遷移金属元素換算で1.0×10−7モル〜0.5モル、好ましくは5.0×10−7モル〜0.2モル、更に好ましくは1.0×10−6モル〜0.05モルとなる量である。
本発明において、α−オレフィンとしてエチレンを用いた場合、エチレンの低重合は、遷移金属含有化合物(a)とアルミニウム含有化合物(c)とが予め接触しない態様でエチレンとクロム系触媒とを接触させるのが好ましい。
In the present invention, the amount of the catalyst used is not particularly limited, but is usually 1.0 × 10 −7 mol to 0.5 mol in terms of transition metal element of the transition metal-containing compound (a) per liter of the solvent described later. The amount is preferably 5.0 × 10 −7 mol to 0.2 mol, more preferably 1.0 × 10 −6 mol to 0.05 mol.
In the present invention, when ethylene is used as the α-olefin, the low polymerization of ethylene brings ethylene and the chromium-based catalyst into contact with each other in such a manner that the transition metal-containing compound (a) and the aluminum-containing compound (c) do not contact with each other in advance. Is preferred.

上記のような接触態様により、選択的にエチレンの三量化反応を行わせ、原料のエチレンから選択率90%以上でエチレンの三量体である1−ヘキセンを得ることができる。さらに、この場合、ヘキセンに占める1−ヘキセンの比率を99%以上にすることができる。
ここで、「遷移金属含有化合物(a)とアルミニウム含有化合物(c)とが予め接触しない態様」とは、エチレンの低重合反応の開始時に限定されず、その後の追加的なエチレン及び触媒成分の反応器への供給においても、このような態様が維持されることを意味する。また、回分反応形式についても同様の態様を利用するのが望ましい。
According to the contact mode as described above, ethylene trimerization reaction can be selectively performed to obtain 1-hexene which is a trimer of ethylene with a selectivity of 90% or more from ethylene as a raw material. Further, in this case, the ratio of 1-hexene to hexene can be 99% or more.
Here, the “a mode in which the transition metal-containing compound (a) and the aluminum-containing compound (c) do not contact with each other in advance” is not limited to the start of the low polymerization reaction of ethylene, and the additional ethylene and catalyst components thereafter This also means that such a mode is maintained in the supply to the reactor. Moreover, it is desirable to use the same aspect also about a batch reaction format.

上記の連続反応形式における接触態様は、下記(1)〜(9)が挙げられる。
(1)触媒成分(a)、(b)及び(d)の混合物、触媒成分(c)をそれぞれ同時に反応器に導入する方法。
(2)触媒成分(b)〜(d)の混合物、触媒成分(a)をそれぞれ同時に反応器に供給する方法。
(3)触媒成分(a)及び(b)の混合物、触媒成分(c)及び(d)の混合物をそれぞれ同時に反応器に供給する方法。
(4)触媒成分(a)及び(d)の混合物、触媒成分(b)及び(c)の混合物をそれぞれ同時に反応器に供給する方法。
(5)触媒成分(a)及び(b)の混合物、触媒成分(c)、触媒成分(d)をそれぞれ同時に反応器に供給する方法。
(6)触媒成分(c)及び(d)の混合物、触媒成分(a)、触媒成分(b)をそれぞれ同時に反応器に供給する方法。
(7)触媒成分(a)及び(d)の混合物、触媒成分(b)、触媒成分(c)をそれぞれ同時に反応器に供給する方法。
(8)触媒成分(b)及び(c)の混合物、触媒成分(a)、触媒成分(d)をそれぞれ同時に反応器に供給する方法。
(9)各触媒成分(a)〜(d)をそれぞれ同時かつ独立に反応器に供給する方法。
上述した各触媒成分は、通常、エチレンの低重合反応に使用される後述の反応溶媒に溶解して反応器に供給される。
The following (1)-(9) are mentioned as a contact aspect in said continuous reaction form.
(1) A method in which a mixture of catalyst components (a), (b) and (d) and catalyst component (c) are simultaneously introduced into a reactor.
(2) A method in which a mixture of the catalyst components (b) to (d) and the catalyst component (a) are simultaneously supplied to the reactor.
(3) A method in which the mixture of the catalyst components (a) and (b) and the mixture of the catalyst components (c) and (d) are simultaneously supplied to the reactor.
(4) A method in which a mixture of catalyst components (a) and (d) and a mixture of catalyst components (b) and (c) are simultaneously fed to the reactor.
(5) A method in which the mixture of the catalyst components (a) and (b), the catalyst component (c), and the catalyst component (d) are simultaneously supplied to the reactor.
(6) A method in which the mixture of the catalyst components (c) and (d), the catalyst component (a), and the catalyst component (b) are simultaneously supplied to the reactor.
(7) A method in which the mixture of the catalyst components (a) and (d), the catalyst component (b), and the catalyst component (c) are simultaneously supplied to the reactor.
(8) A method in which the mixture of the catalyst components (b) and (c), the catalyst component (a), and the catalyst component (d) are simultaneously supplied to the reactor.
(9) A method in which the catalyst components (a) to (d) are simultaneously and independently supplied to the reactor.
Each of the catalyst components described above is usually dissolved in a reaction solvent described later used for a low polymerization reaction of ethylene and supplied to the reactor.

[反応溶媒]
本発明のα−オレフィン低重合体の製造方法では、α−オレフィンの低重合反応を反応溶媒中で行うことができる。このような反応溶媒としては特に限定されないが、飽和炭化水素が好適に使用され、好ましくは、例えば、ブタン、ペンタン、3−メチルペンタン、n−ヘキサン、n−へプタン、2−メチルヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、2,2,4−トリメチルペンタン、デカリン等の炭素原子数が1〜20の鎖状飽和炭化水素、又は炭素原子数が1〜20脂環式飽和炭化水素である。また、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、テトラリン等の芳香族炭化水素や低重合反応で生成するα−オレフィン低重合体そのもの、具体的には、例えば、エチレンを三量化する際に得られる1−ヘキセンやデセン等を用いることもできる。これらは、単独で使用する他、混合溶媒として使用することもできる。
[Reaction solvent]
In the method for producing an α-olefin low polymer of the present invention, the α-olefin low polymerization reaction can be carried out in a reaction solvent. Although it does not specifically limit as such a reaction solvent, A saturated hydrocarbon is used suitably, Preferably, for example, butane, pentane, 3-methylpentane, n-hexane, n-heptane, 2-methylhexane, octane , Cyclohexane, methylcyclohexane, 2,2,4-trimethylpentane, decalin and the like chain saturated hydrocarbons having 1 to 20 carbon atoms, or alicyclic saturated hydrocarbons having 1 to 20 carbon atoms. In addition, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, mesitylene, tetralin, and α-olefin low polymers produced by low polymerization reaction, specifically, for example, obtained when trimerizing ethylene. 1-hexene, decene, etc. can also be used. These can be used alone or as a mixed solvent.

これらの溶媒の中でも、ポリエチレン等の副生ポリマーの生成あるいは析出を抑制できるという点、更に、高い触媒活性が得られる傾向にあるという点から、炭素原子数が4〜10の鎖状飽和炭化水素又は脂環式飽和炭化水素を用いるのが好ましく、具体的には、n−ヘプタン又はシクロヘキサンが好ましく、最も好ましくは、n−ヘプタンである。
[α―オレフィン低重合体の製造方法]
次に、本発明のα―オレフィン低重合体の製造方法として、α−オレフィンとしてエチレンを原料とする1−ヘキセン(エチレンの三量体)の製造方法を例に挙げて説明する。
Among these solvents, chain saturated hydrocarbons having 4 to 10 carbon atoms from the point that production or precipitation of by-products such as polyethylene can be suppressed, and that high catalytic activity tends to be obtained. Alternatively, it is preferable to use an alicyclic saturated hydrocarbon. Specifically, n-heptane or cyclohexane is preferable, and n-heptane is most preferable.
[Production method of α-olefin low polymer]
Next, as a method for producing an α-olefin low polymer of the present invention, a method for producing 1-hexene (ethylene trimer) using ethylene as a raw material as an α-olefin will be described as an example.

図1は、本実施の形態における1−ヘキセンの製造フロー例を説明する図である。図1に示す製造フロー例1には、エチレンをクロム系触媒存在下で重合させる完全混合撹拌型の反応器10と、反応器10内のエチレンガス及び液相から気化した蒸気成分を冷却凝縮させる還流凝縮系2が主要装置として設けられている。   FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a manufacturing flow of 1-hexene in the present embodiment. In the production flow example 1 shown in FIG. 1, a fully mixed stirring reactor 10 for polymerizing ethylene in the presence of a chromium-based catalyst, and an ethylene gas in the reactor 10 and a vapor component vaporized from a liquid phase are cooled and condensed. A reflux condensing system 2 is provided as a main device.

さらに、反応器10から抜き出された反応液から未反応エチレンガスを分離する脱ガス槽20と、脱ガス槽20から抜き出された反応液中のエチレンを溜出させるエチレン分離塔30と、エチレン分離塔30から抜き出された反応液中の高沸点物質(以下、HB(ハイボイラー)と記すことがある。)を分離する高沸分離塔40と、高沸分離塔40の塔頂から抜き出された反応液を蒸留し、1−ヘキセンを溜出させるヘキセン分離塔50とが示されている。   Furthermore, a degassing tank 20 for separating unreacted ethylene gas from the reaction liquid extracted from the reactor 10, an ethylene separation tower 30 for distilling off ethylene in the reaction liquid extracted from the degassing tank 20, A high boiling point separation column 40 for separating a high boiling point substance (hereinafter sometimes referred to as HB (high boiler)) in the reaction liquid extracted from the ethylene separation column 30, and from the top of the high boiling point separation column 40. A hexene separation column 50 for distilling the extracted reaction liquid and distilling 1-hexene is shown.

また、脱ガス槽20及びコンデンサ16において分離された未反応エチレンを、循環配管21を介して反応器10に循環させる圧縮機17が設けられている。
図1において、反応器10としては、例えば、撹拌機10a、バッフル、ジャケット等が付設された従来周知の形式のものが挙げられる。撹拌機10aとしては、パドル、ファウドラー、プロぺラ、タービン等の形式の撹拌翼が、平板、円筒、ヘアピンコイル等のバッフルとの組み合わせで用いられる。
Further, a compressor 17 is provided for circulating unreacted ethylene separated in the degassing tank 20 and the condenser 16 to the reactor 10 through a circulation pipe 21.
In FIG. 1, the reactor 10 includes, for example, a well-known type equipped with a stirrer 10a, a baffle, a jacket, and the like. As the stirrer 10a, a stirring blade in the form of a paddle, a fiddler, a propeller, a turbine, or the like is used in combination with a baffle such as a flat plate, a cylinder, or a hairpin coil.

図1に示すように、エチレン供給管12aから圧縮機17及び第1供給管12を介して、反応器10にエチレンが連続的に供給される。他方、触媒供給管13aを介して遷移金属含有化合物(a)及び窒素含有化合物(b)が、更に、触媒供給管14を介してハロゲン含有化合物(d)が、第2供給管13からが供給される。第3供給管15からアルミニウム含有化合物(c)が供給される。このとき、これらの触媒成分は、反応器10内の液相部に供給されることが好ましい。 また、第2供給管13からは、エチレンの低重合反応に使用する溶媒が反応器10に供給される。   As shown in FIG. 1, ethylene is continuously supplied to the reactor 10 from the ethylene supply pipe 12 a through the compressor 17 and the first supply pipe 12. On the other hand, the transition metal-containing compound (a) and the nitrogen-containing compound (b) are supplied from the second supply pipe 13 through the catalyst supply pipe 13a, and further the halogen-containing compound (d) is supplied from the second supply pipe 13 through the catalyst supply pipe 14. Is done. The aluminum-containing compound (c) is supplied from the third supply pipe 15. At this time, these catalyst components are preferably supplied to the liquid phase part in the reactor 10. A solvent used for the low polymerization reaction of ethylene is supplied from the second supply pipe 13 to the reactor 10.

本実施の形態において、反応器10の運転条件は、通常、80℃〜250℃、好ましくは100℃〜200℃、更に好ましくは120℃〜170℃である。 また、反応圧力としては、通常、常圧〜250kg/cm、好ましくは、5〜150kg/cm、さらに好ましくは10〜100kg/cmの範囲である。
さらに、本発明において、エチレンの三量化反応は、反応液中のエチレンに対する1−ヘキセンのモル比((反応液中の1−ヘキセン)/(反応液中のエチレン))が0.05〜1.5が好ましく、特に0.10〜1.0となるように行うのが好ましい。即ち、連続反応の場合には、反応液中のエチレンと1−ヘキセンとのモル比が上記の範囲になるように、触媒濃度、反応圧力その他の条件を調節し、回分反応の場合には、モル比が上記の範囲にある時点において反応を中止させるのが好ましい。このようにすることにより、1−ヘキセンよりも沸点の高い成分の副生が抑制されて、1−ヘキセンの選択率が更に高められる傾向がある。
In this Embodiment, the operating conditions of the reactor 10 are 80 degreeC-250 degreeC normally, Preferably they are 100 degreeC-200 degreeC, More preferably, they are 120 degreeC-170 degreeC. The reaction pressure is usually in the range of normal pressure to 250 kg / cm 2 , preferably 5 to 150 kg / cm 2 , more preferably 10 to 100 kg / cm 2 .
Furthermore, in the present invention, the trimerization reaction of ethylene has a molar ratio of 1-hexene to ethylene in the reaction solution ((1-hexene in the reaction solution) / (ethylene in the reaction solution)) of 0.05 to 1. .5 is preferable, and it is particularly preferable to carry out so as to be 0.10 to 1.0. That is, in the case of a continuous reaction, the catalyst concentration, reaction pressure, and other conditions are adjusted so that the molar ratio of ethylene to 1-hexene in the reaction solution falls within the above range. The reaction is preferably stopped when the molar ratio is in the above range. By doing in this way, the byproduct of a component with a boiling point higher than 1-hexene is suppressed, and the selectivity of 1-hexene tends to be further increased.

ここで、本発明において、反応器10内における気相部のガス線速が0.1cm/s〜10.0cm/sであることが好ましく、0.3cm/s〜5.0cm/sであることがより好ましく、0.5cm/s〜3.0cm/sであることが更に好ましい。反応器10の気相部のガス線速を上記範囲内に制御することにより、後述するように、反応器10内のエチレンガス及び液相から気化する蒸気成分を還流凝縮系2に送る際に、反応液の飛沫同伴が抑制される傾向になる。このため、洗浄液を熱交換器16a内部にスプレーノズルを用い供給し、反応液の飛沫同伴の影響で汚れた熱交換器16a内部を洗浄する頻度が減少する。洗浄液は、通常、反応器の出口から得られる反応液を分離して得られた反応溶媒を用い、洗浄液の温度は、通常、110℃以上、望ましくは、115℃以上である。また、洗浄時の圧力は、低い方が望ましく、通常、71kg/cm以下、望ましくは、31kg/cm以下、更に望ましくは、10kg/cm以下である。 Here, in this invention, it is preferable that the gas linear velocity of the gaseous-phase part in the reactor 10 is 0.1 cm / s-10.0 cm / s, and is 0.3 cm / s-5.0 cm / s. It is more preferable, and it is still more preferable that it is 0.5 cm / s-3.0 cm / s. By controlling the gas linear velocity of the gas phase part of the reactor 10 within the above range, the ethylene gas in the reactor 10 and the vapor component vaporized from the liquid phase are sent to the reflux condensing system 2 as described later. The entrainment of the reaction liquid tends to be suppressed. For this reason, the frequency which wash | cleans the inside of the heat exchanger 16a which supplied the washing | cleaning liquid inside the heat exchanger 16a using the spray nozzle, and was dirty under the influence of entrainment of the reaction liquid reduces. As the washing liquid, a reaction solvent obtained by separating the reaction liquid obtained from the outlet of the reactor is usually used, and the temperature of the washing liquid is usually 110 ° C. or higher, desirably 115 ° C. or higher. Further, the pressure at the time of washing is desirably low, and is usually 71 kg / cm 2 or less, desirably 31 kg / cm 2 or less, and more desirably 10 kg / cm 2 or less.

(還流凝縮系2)
次に、還流凝縮系2について説明する。
本発明のα−オレフィン低重合体の製造方法では、反応器10内のエチレンなどの原料α−オレフィンのガス及び/又は反応器内の液相から気化する反応器の気相部のガス成分を冷却凝縮させ、生じた凝縮液を反応器10中に循環供給することにより、低重合反応により発生する重合熱の除去が行われる。
(Reflux condensation system 2)
Next, the reflux condensation system 2 will be described.
In the method for producing an α-olefin low polymer of the present invention, the gas component of the gas phase portion of the reactor vaporized from the raw material α-olefin gas such as ethylene in the reactor 10 and / or the liquid phase in the reactor is added. By cooling and condensing and circulatingly supplying the resulting condensate into the reactor 10, the heat of polymerization generated by the low polymerization reaction is removed.

図1に示すように、還流凝縮系2には、反応器10の液相に導入されたエチレンガス
及び液相からの気化蒸気を冷却凝縮する熱交換器16aと、熱交換器16aの出口から得られる凝縮液及び非凝縮ガス成分の一部を導入し、凝縮液と気体成分とに分離する気液分離器20eと、気液分離器20eにおいて分離された気体成分を、配管12を介して、反応器10の液相に導入するブロアー17aを備えている。 また、熱交換器16aの出口から得られる凝縮液及び気液分離器20eにおいて分離された凝縮液は、それぞれ配管2b,2dを介して、反応器10の気相にある噴霧器10b(図1は、回転円盤噴霧方式の噴霧器を記載)に導入され、微粒化される。
As shown in FIG. 1, the reflux condensing system 2 includes an ethylene gas introduced into the liquid phase of the reactor 10 and a heat exchanger 16a for cooling and condensing vaporized vapor from the liquid phase, and an outlet of the heat exchanger 16a. A part of the resulting condensate and non-condensed gas components are introduced to separate the condensate and gas components into a gas-liquid separator 20e, and the gas components separated in the gas-liquid separator 20e through the pipe 12 And a blower 17a to be introduced into the liquid phase of the reactor 10. Further, the condensate obtained from the outlet of the heat exchanger 16a and the condensate separated in the gas-liquid separator 20e are respectively supplied to the nebulizer 10b (FIG. 1) in the gas phase of the reactor 10 through the pipes 2b and 2d. , Described in a rotating disk spraying type sprayer) and atomized.

液体の微粒化とは、大きな液滴を多数の小さな液滴にする事である。その利点は、 液滴数の増加により広い範囲に均一に分散させることができ、また、表面積の増加により熱移動が促進されることである。 微粒化する際には噴霧器を用いるが、噴霧器の微粒化の方式としては、遠心力方式、せん断力方式、圧力方式など好ましい方式として挙げられる。   Liquid atomization is the conversion of a large droplet into many small droplets. The advantage is that it can be uniformly distributed over a wide range by increasing the number of droplets, and heat transfer is promoted by increasing the surface area. A nebulizer is used for atomization, and examples of the atomization method of the atomizer include a centrifugal force method, a shear force method, and a pressure method.

遠心方式の中でも回転円盤噴霧方式が好ましい。また、圧力方式の中でもノズル噴霧方式がより好ましい。
回転円盤噴霧方式は、反応器の直径に対する回転円盤の直径の比率は、通常、0.2〜
0.8、望ましくは、0.3〜0.6、更に望ましくは、0.4〜0.5であり、高速で回転する円盤の中心部に液体を供給し、遠心力により円盤外周部で液体の微粒化を行う。また、円盤の半径方向に沿って、複数の堰をつけもよい。ノズル噴霧方式は、1)加圧ノズル 2)ニ流体ノズル 3)加圧ニ流体ノズルの3つの方式がある。
Among the centrifugal methods, the rotating disk spray method is preferable. Of the pressure methods, the nozzle spray method is more preferable.
In the rotating disk spray method, the ratio of the diameter of the rotating disk to the diameter of the reactor is usually 0.2 to
0.8, preferably 0.3-0.6, more preferably 0.4-0.5, supplying liquid to the center of the disk rotating at high speed, and at the outer periphery of the disk by centrifugal force Atomize the liquid. A plurality of weirs may be provided along the radial direction of the disk. There are three types of nozzle spraying methods: 1) pressurized nozzle, 2) dual fluid nozzle, and 3) pressurized dual fluid nozzle.

加圧ノズル噴霧方式は、加圧された液体が、コアと呼ばれる旋回室に導入され、旋回力が与えられた液体は、オリフィスを通過し、膜状になり微粒化される。
二流体ノズル噴霧方式は、液体に圧縮ガスを接触させ、せん断することで微粒化を行う。 加圧ニ流体ノズル噴霧方式は、前述の2種のノズルの特徴を生かした方式で、中心部に加圧ノズルを備え、その周囲から低圧のアシストガスを流すことで微粒化を促進することができる。
In the pressurized nozzle spray method, a pressurized liquid is introduced into a swirl chamber called a core, and the liquid to which a swirl force is applied passes through an orifice and becomes a film to be atomized.
In the two-fluid nozzle spray method, atomization is performed by bringing a compressed gas into contact with a liquid and shearing. The pressurized two-fluid nozzle spraying method is a method that takes advantage of the characteristics of the above-mentioned two types of nozzles, and has a pressurized nozzle in the center, and promotes atomization by flowing a low-pressure assist gas from its surroundings. it can.

ここで、熱交換器16aとしては、通常、被凝縮流体の冷却に使用される多管式の縦型又は横型の熱交換器が用いられる。これらは、一般的な還流凝縮器として知られ、本実施の形態では、縦型の多管式熱交換器が好ましい。
熱交換器16aを構成する材料としては特に限定されず、通常の還流凝縮器を構成する材料として知られている炭素鋼、銅、チタン合金、SUS304、SUS316、SUS316L等が挙げられ、プロセスに応じて適宜選択される。尚、熱交換器16aの伝熱面積は、除熱負荷の程度、負荷制御の方式等に応じて適宜決定される。
Here, as the heat exchanger 16a, a multitubular vertical or horizontal heat exchanger that is normally used for cooling the fluid to be condensed is used. These are known as general reflux condensers, and in the present embodiment, a vertical multitubular heat exchanger is preferable.
It does not specifically limit as a material which comprises the heat exchanger 16a, Carbon steel, copper, titanium alloy, SUS304, SUS316, SUS316L etc. which are known as a material which comprises a normal reflux condenser are mentioned, According to a process Are appropriately selected. The heat transfer area of the heat exchanger 16a is appropriately determined according to the degree of heat removal load, the load control method, and the like.

次に、還流凝縮系2における作用について説明する。
反応器10内の液相部に導入されたエチレンガスと、反応器10内のエチレンの低重合反応で生じる重合熱により液相の一部が気化した気化蒸気との混合気体は、配管2aにより熱交換器16aに供給される。熱交換器16aに供給された混合気体は冷却水(図示せず)により、通常、100℃以下、望ましくは、80℃以下、更に望ましくは、70℃以下に冷却凝縮され、凝縮液は配管2bにより再び反応器10に循環供給される。また、熱交換器16aの出口から得られる気体成分の一部は、配管2cにより供給された気液分離器20eにおいてエチレンと凝縮液とに分離され、エチレンは配管2e及び第1供給管12を介し、ブロアー17aにより反応器10の液相部に循環供給される。また、凝縮液は配管2dを介して反応器10に循環供給される。 ここで、熱交換器16aの出口から得
られる凝縮液及び気液分離器20eにおいて分離された凝縮液は、それぞれ配管2b,2dを介して、反応器10の気相にある噴霧器10b(図1は、回転円盤噴霧方式を記載)に導入され、微粒化される。 微粒化された凝縮液は、反応器気相部に分散され、上昇ガスと向流接触しながら液面に落下する。微粒化の凝縮液を反応器の気相部に循環供給することで、熱交換器16aに副生物ポリマーなどが付着するのを抑制できる。この理由としては、以下のことが推測される。1つ目の理由としては、反応液が気化することで発生するガス中に触媒成分やエチレンを含むミストが存在し、そのミストが熱交換器(凝縮器)へ到達するまでに、微粒化した凝縮液と接触する事で、凝縮液中に吸収され、その後、凝縮液と共に液面に落下するという理由である。また、2つ目の理由としては、低温の微細化された凝縮液が、高温の上昇ガスと接触する事で、高温ガスが冷却され、ガス中から凝縮液が発生する。その際の凝縮は、反応液のミストを核として起こる為、ミスト径が増大し、ミスト径が増大すれば、ガスに同伴することなく、液面に落下するという理由である。ここで、反応器の出口から得られる反応液を分離して得られた反応溶媒を微粒化し、反応器の気相部に循環供給することでも、同様に、熱交換器16aに副生物ポリマーなどが付着するのを抑制できる。
Next, the operation in the reflux condensing system 2 will be described.
The mixed gas of the ethylene gas introduced into the liquid phase part in the reactor 10 and the vaporized vapor in which a part of the liquid phase is vaporized by the polymerization heat generated by the low polymerization reaction of ethylene in the reactor 10 is sent through the pipe 2a. It is supplied to the heat exchanger 16a. The mixed gas supplied to the heat exchanger 16a is usually cooled and condensed to 100 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or lower by cooling water (not shown), and the condensate is pipe 2b. Is again circulated and supplied to the reactor 10. A part of the gas component obtained from the outlet of the heat exchanger 16a is separated into ethylene and condensate in the gas-liquid separator 20e supplied by the pipe 2c, and ethylene passes through the pipe 2e and the first supply pipe 12. Then, it is circulated and supplied to the liquid phase part of the reactor 10 by the blower 17a. Further, the condensate is circulated and supplied to the reactor 10 via the pipe 2d. Here, the condensate obtained from the outlet of the heat exchanger 16a and the condensate separated in the gas-liquid separator 20e are respectively supplied to the atomizer 10b (FIG. 1) in the gas phase of the reactor 10 via the pipes 2b and 2d. Is introduced into a rotating disk spray system) and atomized. The atomized condensate is dispersed in the gas phase section of the reactor and falls to the liquid surface while making countercurrent contact with the rising gas. By circulating and supplying the atomized condensate to the gas phase part of the reactor, it is possible to prevent the by-product polymer or the like from adhering to the heat exchanger 16a. The reason is presumed as follows. The first reason is that there is a mist containing a catalyst component and ethylene in the gas generated by the vaporization of the reaction solution, and the mist is atomized before reaching the heat exchanger (condenser). This is because it is absorbed into the condensate by coming into contact with the condensate and then falls to the liquid surface together with the condensate. The second reason is that when the low-temperature refined condensate comes into contact with the high-temperature rising gas, the high-temperature gas is cooled and condensate is generated from the gas. The condensation at that time occurs because the mist of the reaction liquid is used as a nucleus, so that the mist diameter increases, and if the mist diameter increases, it falls to the liquid surface without accompanying the gas. Here, the reaction solvent obtained by separating the reaction liquid obtained from the outlet of the reactor is atomized and circulated and supplied to the gas phase part of the reactor. Can be prevented from adhering.

次に、反応器10において所定の転化率に達した反応液は、反応器10の底から配管11を介して連続的に抜き出され、脱ガス槽20に供給される。このとき、失活剤供給管11bから供給された触媒失活剤の2−エチルヘキサノールによりエチレンの三量化反応が停止される。脱ガス槽20で脱ガスされた未反応エチレンは、脱ガス槽20の上部から熱
交換器16、循環配管21、圧縮機17及び第1供給管12を介して反応器10に循環供給される。また、未反応エチレンが脱ガスされた反応液は、脱ガス槽20の槽底から抜き出される。
Next, the reaction liquid that has reached a predetermined conversion rate in the reactor 10 is continuously extracted from the bottom of the reactor 10 through the pipe 11 and supplied to the degassing tank 20. At this time, the trimerization reaction of ethylene is stopped by the catalyst deactivator 2-ethylhexanol supplied from the deactivator supply pipe 11b. Unreacted ethylene degassed in the degassing tank 20 is circulated and supplied from the upper part of the degassing tank 20 to the reactor 10 through the heat exchanger 16, the circulation pipe 21, the compressor 17 and the first supply pipe 12. . Further, the reaction liquid from which the unreacted ethylene has been degassed is extracted from the bottom of the degassing tank 20.

脱ガス槽20の運転条件は、通常、温度60℃〜240℃、好ましくは、80℃〜190℃であり、圧力は常圧〜150kg/cm、好ましくは、常圧〜90kg/cmである。
続いて、脱ガス槽20の槽底から抜き出された反応液は、配管22によりエチレン分離塔30に供給される。エチレン分離塔30では、蒸留により塔頂部からエチレンが溜出され、循環配管31及び第1供給管12を介して反応器10に循環供給される。また、塔底部からエチレンが除去された反応液が抜き出される。
The operating conditions of the degassing tank 20 are usually a temperature of 60 ° C. to 240 ° C., preferably 80 ° C. to 190 ° C., and the pressure is normal pressure to 150 kg / cm 2 , preferably normal pressure to 90 kg / cm 2 . is there.
Subsequently, the reaction liquid extracted from the bottom of the degassing tank 20 is supplied to the ethylene separation tower 30 through the pipe 22. In the ethylene separation tower 30, ethylene is distilled from the top of the tower by distillation and is circulated and supplied to the reactor 10 through the circulation pipe 31 and the first supply pipe 12. Moreover, the reaction liquid from which ethylene has been removed is extracted from the bottom of the column.

エチレン分離塔30の運転条件は、通常、塔頂部圧力は常圧〜30kg/cm、好ましくは、常圧〜20kg/cm、また、還流比(R/D)は、通常、0〜500、好ましくは、0.1〜100である。
次に、エチレン分離塔30においてエチレンが溜出された反応液は、エチレン分離塔30の塔底部から抜き出され、配管32により高沸分離塔40に供給される。高沸分離塔40では、塔底部から配管42により高沸点成分(HB:ハイボイラー)が抜き出される。また、塔頂部から配管41により高沸点成分が分離された溜出物が抜き出される。 高沸分離塔40の運転条件は、通常、塔頂部圧力0.1〜10kg/cm、好ましくは、0.5〜5kg/cm、また、還流比(R/D)は、通常、0〜100、好ましくは、0.1〜20である。
The operating conditions of the ethylene separation tower 30 are usually normal pressure to 30 kg / cm 2 , preferably normal pressure to 20 kg / cm 2 , and the reflux ratio (R / D) is usually 0 to 500. Preferably, it is 0.1-100.
Next, the reaction liquid in which ethylene is distilled in the ethylene separation tower 30 is extracted from the bottom of the ethylene separation tower 30 and supplied to the high boiling separation tower 40 through the pipe 32. In the high boiling separation tower 40, a high boiling point component (HB: high boiler) is extracted from the bottom of the tower through a pipe 42. Moreover, the distillate from which the high boiling point component was separated by the piping 41 is extracted from the top of the tower. The operating conditions of the high boiling separation tower 40 are usually a tower top pressure of 0.1 to 10 kg / cm 2 , preferably 0.5 to 5 kg / cm 2 , and the reflux ratio (R / D) is usually 0. -100, preferably 0.1-20.

続いて、高沸分離塔40の塔頂部から溜出物として抜き出された反応液は、配管41によりヘキセン分離塔50に供給される。ヘキセン分離塔50では塔頂部から蒸留による1−ヘキセンが配管51により溜出される。また、ヘキセン分離塔50の塔底部からヘプタンが抜き出され、溶媒循環配管52、ポンプ13b、第2供給管13を介して反応溶媒として反応器10に循環供給される。   Subsequently, the reaction liquid extracted as a distillate from the top of the high boiling separation tower 40 is supplied to the hexene separation tower 50 through the pipe 41. In the hexene separation tower 50, 1-hexene obtained by distillation is distilled out from the top of the tower through a pipe 51. Further, heptane is extracted from the bottom of the hexene separation tower 50 and is circulated and supplied to the reactor 10 as a reaction solvent through the solvent circulation pipe 52, the pump 13 b, and the second supply pipe 13.

ヘキセン分離塔50の運転条件は、通常、塔頂部圧力0.1〜10kg/cm、好ましくは、0.5〜5kg/cm、また、還流比(R/D)は、通常、0〜100、好ましくは0.1〜20である。 The operating conditions of the hexene separation tower 50 are usually a tower top pressure of 0.1 to 10 kg / cm 2 , preferably 0.5 to 5 kg / cm 2 , and a reflux ratio (R / D) is usually 0 to 100, preferably 0.1-20.

以下、実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。尚、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
図1に示すように、完全混合撹拌型の反応器10と、脱ガス槽20と、エチレン分離塔30と、高沸分離塔40と、ヘキセン分離塔50を有したプロセスにおいて、エチレンの連続低重合反応(140℃×71kg/cm)を行った。第1供給管12からは、エチレン供給管12aから新たに供給されるエチレンと共に、脱ガス槽20及びエチレン分離塔30から分離された未反応エチレンを圧縮機17により反応器10の液相部に連続供給した。また、第2供給管13から、ヘキセン分離塔50にて分離された回収n−ヘプタン溶媒を反応器10の液相部に連続供給した。次に、触媒供給管13aから、クロム(III)2−エチルヘキサノエート(a)と2,5−ジメチルピロール(b)とを含有するn−ヘプタン溶液を、更に触媒供給管14から、ヘキサクロロエタン(d)のn−ヘプタン溶液を第2供給管13を介して反応器10の液相部に連続供給した。また、トリエチルアルミニウム(c)のn−ヘプタン溶液を第3供給管15から反応器10の液相部に連続供給した。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples. In addition, this invention is not limited to a following example, unless it deviates from the summary.
[Example 1]
As shown in FIG. 1, in a process having a complete mixing and stirring type reactor 10, a degassing tank 20, an ethylene separation tower 30, a high boiling separation tower 40, and a hexene separation tower 50, a continuous low ethylene content is obtained. A polymerization reaction (140 ° C. × 71 kg / cm 2 ) was performed. From the first supply pipe 12, unreacted ethylene separated from the degassing tank 20 and the ethylene separation tower 30 together with ethylene newly supplied from the ethylene supply pipe 12 a is brought into the liquid phase part of the reactor 10 by the compressor 17. Continuous supply. Further, the recovered n-heptane solvent separated in the hexene separation tower 50 was continuously supplied from the second supply pipe 13 to the liquid phase part of the reactor 10. Next, from the catalyst supply pipe 13a, an n-heptane solution containing chromium (III) 2-ethylhexanoate (a) and 2,5-dimethylpyrrole (b) is further added from the catalyst supply pipe 14 to the hexa An n-heptane solution of chloroethane (d) was continuously supplied to the liquid phase part of the reactor 10 via the second supply pipe 13. Further, an n-heptane solution of triethylaluminum (c) was continuously supplied from the third supply pipe 15 to the liquid phase part of the reactor 10.

尚、触媒は、反応器に供給される各成分のモル比が、(a):(b):(c):(d)=1:25:80:5となるように反応器10の液相部に連続供給した。 反応器10から連続的に抜き出された反応液は、失活剤供給管11bから、触媒失活剤として2−エチルヘキサノールがトリエチルアルミニウム(c)に対し、3当量添加された後、順次、脱ガス槽20、エチレン分離塔30、高沸分離塔40、ヘキセン分離塔50にて処理された。   The catalyst is a solution of the reactor 10 so that the molar ratio of each component supplied to the reactor is (a) :( b) :( c) :( d) = 1: 25: 80: 5. Continuously fed to the phase section. The reaction solution continuously withdrawn from the reactor 10 was added in an amount of 3 equivalents of 2-ethylhexanol to the triethylaluminum (c) as a catalyst deactivator from the deactivator supply pipe 11b. It processed in the degassing tank 20, the ethylene separation tower 30, the high boiling separation tower 40, and the hexene separation tower 50.

反応器10内に導入されたエチレンガスと、反応器10内のエチレンの低重合反応で生じる重合熱により液相の一部が気化した気化蒸気との混合気体は、配管2aにより縦型の多管式熱交換器16aに供給された。熱交換器16aに供給された混合気体は冷却水により出口温度が80℃なるように冷却され、凝縮液は配管2bにより再び反応器10に循環供給された。   A mixed gas of the ethylene gas introduced into the reactor 10 and the vaporized vapor partially vaporized by the polymerization heat generated by the low polymerization reaction of ethylene in the reactor 10 is separated into a vertical type by a pipe 2a. It was supplied to the tubular heat exchanger 16a. The mixed gas supplied to the heat exchanger 16a was cooled with cooling water so that the outlet temperature was 80 ° C., and the condensate was circulated again to the reactor 10 through the pipe 2b.

また、熱交換器16aの出口から得られる気体成分の一部は、配管2cにより供給された気液分離器20eにおいてエチレンガスと凝縮液とに分離され、エチレンガスは配管2e及びブロアー17aにより配管12を介し反応器10の液相部に循環供給された。 こ
の時、反応器気相部の実際のガス線速は1cm/sであった。
尚、凝縮液は配管2dを介して、前述の配管2bからの凝縮液と共に、反応器10の気相部に設置された回転円盤方式の噴霧器10bに供給された。この時、熱交換器16aの入口温度はおよそ123℃であった。100日間の運転後に開放点検した結果、熱交換器16aの上部管板面 及び チューブ内面(冷却伝面)の汚れが、ほとんどない事を目視確認した。
A part of the gas component obtained from the outlet of the heat exchanger 16a is separated into ethylene gas and condensate in the gas-liquid separator 20e supplied by the pipe 2c, and the ethylene gas is piped by the pipe 2e and the blower 17a. 12 was circulated and supplied to the liquid phase part of the reactor 10. At this time, the actual gas linear velocity in the reactor gas phase was 1 cm / s.
The condensate was supplied to the rotating disc type sprayer 10b installed in the gas phase portion of the reactor 10 together with the condensate from the pipe 2b through the pipe 2d. At this time, the inlet temperature of the heat exchanger 16a was approximately 123 ° C. As a result of opening inspection after 100 days of operation, it was visually confirmed that the upper tube plate surface of the heat exchanger 16a and the tube inner surface (cooling transmission surface) were almost free from contamination.

[比較例1]
実施例1において、反応器10が回転円盤方式の噴霧器10bを有さない反応器を用い、且つ配管2b及び2dの凝縮液を、反応器気相部への供給配管から反応器内の内壁に壁伝いに液相部に供給した以外は全て同様に実施した。熱交換器16aの入口温度が、およそ133℃であった。 95日間の運転後に開放点検した結果、熱交換器16aの上部管
板面にポリエチレンが厚く堆積し、チューブを一部閉塞させていた事を目視確認した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the reactor 10 is a reactor that does not have the rotating disk type sprayer 10b, and the condensate in the pipes 2b and 2d is supplied from the supply pipe to the gas phase part of the reactor to the inner wall in the reactor. All were carried out in the same manner except that it was supplied to the liquid phase part through the wall. The inlet temperature of the heat exchanger 16a was approximately 133 ° C. As a result of opening inspection after 95 days of operation, it was visually confirmed that polyethylene was thickly deposited on the upper tube plate surface of the heat exchanger 16a and partially blocked the tube.

1…製造フロー例、2…還流凝縮系、2a,2b,2c,2d,2e,11,22,32,41,42,51…配管、10…反応器、10a…撹拌機、11b…失活剤供給管、12…第1供給管、12a…エチレン供給管、13…第2供給管、13a, 14…触媒供給管、13b…ポンプ、15…第3供給管、16…熱交換器、16a…熱交換器(凝縮器)、17…圧縮機、17a…ブロアー、20…脱ガス槽、20e…気液分離器、21,31…循環配管、30…エチレン分離塔、40…高沸分離塔、50…ヘキセン分離塔、52…溶媒循環配管

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Manufacturing flow example, 2 ... Reflux condensation system, 2a, 2b, 2c, 2d, 2e, 11, 22, 32, 41, 42, 51 ... Pipe, 10 ... Reactor, 10a ... Stirrer, 11b ... Deactivation Agent supply pipe, 12 ... first supply pipe, 12a ... ethylene supply pipe, 13 ... second supply pipe, 13a, 14 ... catalyst supply pipe, 13b ... pump, 15 ... third supply pipe, 16 ... heat exchanger, 16a ... heat exchanger (condenser), 17 ... compressor, 17a ... blower, 20 ... degassing tank, 20e ... gas-liquid separator, 21, 31 ... circulation piping, 30 ... ethylene separation tower, 40 ... high boiling separation tower 50 ... hexene separation tower, 52 ... solvent circulation piping

Claims (8)

触媒の存在下、反応溶媒中で反応器にてα−オレフィンの低重合反応を行いα−オレフィン低重合体を製造する方法において、該反応器内の気相部のガスの一部を熱交換器に導入し、該熱交換器の出口から得られる凝縮液、非凝縮ガス及び該反応器の出口から得られる反応液を分離して得られた反応溶媒を該反応器に循環供給する際に、該凝縮液及び/又は該反応溶媒を微粒化して反応器の気相部に供給し、該非凝縮性ガスを反応器の液相部に供給することを特徴とするα−オレフィン低重合体の製造方法。 In a method for producing an α-olefin low polymer by performing a low polymerization reaction of α-olefin in a reaction solvent in a reaction solvent in the presence of a catalyst, a part of gas in a gas phase portion in the reactor is subjected to heat exchange. When the reaction solution obtained by separating the condensed liquid obtained from the outlet of the heat exchanger, the non-condensed gas and the reaction liquid obtained from the outlet of the reactor is circulated and supplied to the reactor An α-olefin low polymer characterized in that the condensate and / or the reaction solvent is atomized and supplied to the gas phase part of the reactor, and the non-condensable gas is supplied to the liquid phase part of the reactor. Production method. 該熱交換器の出口から得られる前記凝縮液及び/又は該反応器の出口から得られる反応液を分離して得られた反応溶媒を噴霧器により微粒化することを特徴とする請求項1に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。 The reaction solvent obtained by separating the condensate obtained from the outlet of the heat exchanger and / or the reaction liquid obtained from the outlet of the reactor is atomized by a sprayer. Of producing an α-olefin low polymer. 前記噴霧器の微粒化の方式が、遠心力方式、せん断力方式及び圧力方式からなる群より選ばれた1つ以上の方式であることを特徴とする請求項1又は2に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。 The atomization method of the sprayer is at least one method selected from the group consisting of a centrifugal force method, a shear force method, and a pressure method. A method for producing a polymer. 前記反応器の気相部ガス出口温度が、液相温度より10℃以上低いことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。 The method for producing an α-olefin low polymer according to any one of claims 1 to 3, wherein the gas phase gas outlet temperature of the reactor is lower by 10 ° C or more than the liquid phase temperature. 前記熱交換器の出口から得られる前記非凝縮ガスの一部を気液分離器に導入し、凝縮液と非凝縮ガスとに分離する工程を更に有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。   5. The method according to claim 1, further comprising a step of introducing a part of the non-condensable gas obtained from an outlet of the heat exchanger into a gas-liquid separator and separating the gas into a condensed liquid and a non-condensed gas. The manufacturing method of the alpha-olefin low polymer of any one of Claims 1. 前記触媒が、クロム化合物(a)と、窒素含有化合物(b)と、アルミニウム含有化合物(c)との組み合わせから構成されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。 6. The catalyst according to claim 1, wherein the catalyst is composed of a combination of a chromium compound (a), a nitrogen-containing compound (b), and an aluminum-containing compound (c). A method for producing an α-olefin low polymer. 前記触媒が、さらにハロゲン含有化合物(d)を有することを特徴とする請求項6に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。 The method for producing an α-olefin low polymer according to claim 6, wherein the catalyst further comprises a halogen-containing compound (d). 前記α−オレフィンがエチレンであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。

The method for producing an α-olefin low polymer according to any one of claims 1 to 7, wherein the α-olefin is ethylene.

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