JP2014122146A - Production method of alkali aluminosilicate glass - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of chemically strengthened glass capable of suppressing effectively warp after chemical strengthening, and omitting or simplifying a polishing treatment before chemical strengthening or the like.SOLUTION: In a production method of chemically strengthened glass, which is a method for producing the chemically strengthened glass by chemically strengthening float glass comprising alkali aluminosilicate glass in which the content of AlOis over 5 moles, the alkali aluminosilicate glass is alkali aluminosilicate glass produced by granulating a glass-making feedstock.

Description

本発明は、アルカリアルミノシリケートガラスの製造方法および化学強化用フロートガラスの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing alkali aluminosilicate glass and a method for producing float glass for chemical strengthening.

近年、携帯電話または携帯情報端末(PDA)等のフラットパネルディスプレイ装置において、ディスプレイの保護および美観を高めるために、画像表示部分よりも広い領域となるように薄い板状のカバーガラスをディスプレイの前面に配置することが行われている。このようなフラットパネルディスプレイ装置に対しては、軽量および薄型化が要求されており、そのため、ディスプレイ保護用に使用されるカバーガラスも薄くすることが要求されている。   In recent years, in a flat panel display device such as a mobile phone or a personal digital assistant (PDA), a thin plate-like cover glass is formed on the front surface of the display so as to be wider than the image display portion in order to enhance the protection and aesthetics of the display. It has been done to arrange. Such flat panel display devices are required to be lightweight and thin, and therefore, it is also required to reduce the thickness of cover glass used for display protection.

しかし、カバーガラスの厚さを薄くしていくと、強度が低下し、使用中または携帯中の落下などによりカバーガラス自身が割れてしまうことがあり、ディスプレイ装置を保護するという本来の役割を果たすことができなくなるという問題がある。このため従来のカバーガラスは、耐傷性を向上させるため、フロート法により製造されたフロートガラスを、化学強化することで表面に圧縮応力層を形成しカバーガラスの耐傷性を高めている。   However, as the thickness of the cover glass is reduced, the strength decreases, and the cover glass itself may be broken due to falling in use or while carrying it, which plays the original role of protecting the display device. There is a problem that it becomes impossible. For this reason, in order to improve the scratch resistance of the conventional cover glass, the float glass manufactured by the float process is chemically strengthened to form a compressive stress layer on the surface, thereby improving the scratch resistance of the cover glass.

フロートガラスは化学強化後に反りが生じて平坦性が損なわれることが報告されている(特許文献1〜3)。該反りは、フロート成形時に溶融錫と接触していないガラス面(以下、トップ面ともいう。)と、溶融錫と接触しているガラス面(以下、ボトム面ともいう。)との化学強化の入り方が異なることにより生じるとされている。   It has been reported that the float glass is warped after chemical strengthening and the flatness is impaired (Patent Documents 1 to 3). The warpage is caused by chemical strengthening between a glass surface that is not in contact with molten tin (hereinafter also referred to as a top surface) and a glass surface that is in contact with molten tin (hereinafter also referred to as a bottom surface) during float forming. It is supposed to be caused by different ways of entering.

前記フロートガラスの反りは化学強化の入り方が強いほど大きくなるため、高い耐傷性への要求に応えるべく開発された、前記表面圧縮応力が600MPa以上であり、圧縮応力層の深さが15μm以上である化学強化フロートガラスにおいて、従来の表面圧縮応力が500MPa程度で圧縮応力層の深さが10μm程度の化学強化フロートガラスと比べて、反りの問題がより顕在化することとなる。   Since the warp of the float glass becomes larger as the chemical strengthening becomes stronger, the surface compressive stress was developed to meet the demand for high scratch resistance, the surface compressive stress is 600 MPa or more, and the depth of the compressive stress layer is 15 μm or more. In the chemically strengthened float glass, the problem of warpage becomes more obvious as compared with the conventional chemically strengthened float glass having a surface compressive stress of about 500 MPa and a depth of the compressive stress layer of about 10 μm.

特許文献1には、ガラス表面にSiO膜を形成した後に化学強化することにより、化学強化時にガラスに入るイオンの量を調整するガラスの強化方法が開示されている。また、特許文献2および3には、トップ面側の表面圧縮応力を特定範囲とすることにより、化学強化後の反りを低減する方法が開示されている。 Patent Document 1 discloses a glass strengthening method in which the amount of ions entering the glass during chemical strengthening is adjusted by chemically strengthening after forming a SiO 2 film on the glass surface. Patent Documents 2 and 3 disclose a method of reducing warpage after chemical strengthening by setting the surface compressive stress on the top surface side within a specific range.

また、従来、前記反りの問題を低減するために、化学強化による強化応力を小さくしたり、ガラスの少なくとも一方の面を研削処理または研磨処理等することにより表面異質層を除去した後に化学強化する対処方法がなされている。   Further, conventionally, in order to reduce the problem of warpage, chemical strengthening is performed after removing a surface heterogeneous layer by reducing the strengthening stress due to chemical strengthening or grinding or polishing at least one surface of glass. There is a solution.

米国特許出願公開第2011/0293928号明細書US Patent Application Publication No. 2011/0293928 国際公開第2007/004634号International Publication No. 2007/004634 特開昭62−191449号公報JP 62-191449 A

特許文献1に記載のガラス表面にSiO膜を形成した後に化学強化する方法では、化学強化の際の予熱条件が限定され、さらには条件によってはSiO膜の膜質が変化して反りに影響を与える可能性がある。また、特許文献2および3に記載のように、トップ面側の表面圧縮応力を特定範囲とする方法では、ガラスの強度の観点から問題がある。 In the method of chemically strengthening after forming the SiO 2 film on the glass surface described in Patent Document 1, preheating conditions for chemical strengthening are limited, and depending on the conditions, the film quality of the SiO 2 film changes to affect the warpage. May give. Further, as described in Patent Documents 2 and 3, the method of setting the surface compressive stress on the top surface side in a specific range has a problem from the viewpoint of the strength of the glass.

また、化学強化前にガラスの少なくとも一方の面を研削処理または研磨処理等する方法は、生産性を向上させる観点から問題があり、これらの研削処理または研磨処理等を省略することが好ましい。   Moreover, the method of grinding or polishing at least one surface of the glass before chemical strengthening is problematic from the viewpoint of improving productivity, and it is preferable to omit these grinding or polishing treatments.

したがって、本発明は、化学強化後の反りを効果的に抑制することができるとともに、化学強化前の研磨処理等を省略または簡略化することができる化学強化ガラスの製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing chemically strengthened glass, which can effectively suppress warping after chemical strengthening and can omit or simplify the polishing treatment before chemical strengthening. And

本発明者らは、フロートガラスのボトム面とトップ面の化学強化の入り方に差が生じる主原因は、トップ面とボトム面との水素濃度差であることがわかり、造粒したガラス原料を用いることにより、ガラス原料中の水に起因するガラス中の水素量を低減して該水素濃度差を小さくすることができ、該ガラス原料を用いて製造したアルカリアルミノシリケートガラスからなるフロートガラスを化学強化することにより、トップ面とボトム面との化学強化の入り方を均衡化し、化学強化後における該フロートガラスの反りを低減できることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventors have found that the main cause of the difference in the way of chemical strengthening between the bottom surface and the top surface of the float glass is the difference in hydrogen concentration between the top surface and the bottom surface. By using it, the amount of hydrogen in the glass due to water in the glass raw material can be reduced to reduce the difference in hydrogen concentration, and a float glass made of an alkali aluminosilicate glass produced using the glass raw material can be chemically treated. It has been found that by strengthening, the way of chemical strengthening between the top surface and the bottom surface can be balanced, and warpage of the float glass after chemical strengthening can be reduced, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は以下の通りである。
1.Alの含有量が5モル%超であるアルカリアルミノシリケートガラスからなるフロートガラスを化学強化して化学強化ガラスを製造する方法であって、前記アルカリアルミノシリケートガラスがガラス原料を造粒して製造したアルカリアルミノシリケートガラスであることを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
2.前記アルカリアルミノシリケートガラスがFeを総Fe換算で30ppm以上含有する前項1に記載の化学強化ガラスの製造方法。
3.前記アルカリアルミノシリケートガラスのRedoxが60%以下である前項1または2に記載の化学強化ガラスの製造方法。
4.前記造粒がブリケット造粒である前項1〜3のいずれか1に記載の化学強化ガラスの製造方法。
5.ガラス原料を造粒することを特徴とする化学強化用フロートガラスの製造方法。
6.製造されるフロートガラスの成形時に溶融金属と接するボトム面と、該ボトム面に対向するトップ面とを有する化学強化用フロートガラスであって、深さ5〜30μmにおける表層β−OHのトップ面とボトム面の差の絶対値が0.2/mm−1以下である前項5に記載のフロートガラスの製造方法。
7.前記造粒がブリケット造粒である前項4〜6のいずれか1に記載のアルカリアルミノシリケートガラスの製造方法。
8.Alの含有量が5モル%超であるアルカリアルミノシリケートガラスからなる化学強化用フロートガラスを製造する方法であって、前記アルカリアルミノシリケートガラスがガラス原料を造粒して製造したアルカリアルミノシリケートガラスであることを特徴とする化学強化用フロートガラスの製造方法。
That is, the present invention is as follows.
1. A method for producing a chemically strengthened glass by chemically strengthening a float glass made of an alkali aluminosilicate glass having an Al 2 O 3 content of more than 5 mol%, wherein the alkali aluminosilicate glass granulates a glass raw material. A method for producing chemically tempered glass, characterized in that it is an alkali aluminosilicate glass produced by the method described above.
2. 2. The method for producing chemically tempered glass according to item 1, wherein the alkali aluminosilicate glass contains Fe in an amount of 30 ppm or more in terms of total Fe 2 O 3 .
3. 3. The method for producing chemically strengthened glass according to 1 or 2 above, wherein the redox of the alkali aluminosilicate glass is 60% or less.
4). 4. The method for producing chemically strengthened glass according to any one of items 1 to 3, wherein the granulation is briquette granulation.
5. A process for producing float glass for chemical strengthening, characterized by granulating a glass raw material.
6). A float glass for chemical strengthening having a bottom surface in contact with a molten metal at the time of forming a float glass to be manufactured and a top surface opposite to the bottom surface, the top surface of the surface layer β-OH at a depth of 5 to 30 μm; 6. The method for producing float glass as described in 5 above, wherein the absolute value of the difference between the bottom surfaces is 0.2 / mm −1 or less.
7). 7. The method for producing an alkali aluminosilicate glass according to any one of items 4 to 6, wherein the granulation is briquette granulation.
8). A method for producing a float glass for chemical strengthening comprising an alkali aluminosilicate glass having an Al 2 O 3 content of more than 5 mol%, wherein the alkali aluminosilicate glass is produced by granulating a glass raw material. A method for producing float glass for chemical strengthening, wherein the glass is silicate glass.

本発明の製造方法によれば、アルカリアルミノシリケートガラスの製造に用いる造粒したガラス原料は造粒物間に空隙が存在するため、溶解時に脱水を促進することができ、ガラス原料中の水に起因する化学強化前のガラスにおける水素量を低減することにより、トップ面とボトム面における水素濃度差を小さくすることができる。このことにより、トップ面とボトム面との化学強化の入りやすさを均衡化し、化学強化後におけるフロートガラスの反りを低減することができる。   According to the production method of the present invention, since the granulated glass raw material used for the production of the alkali aluminosilicate glass has voids between the granulated products, dehydration can be promoted at the time of melting, and the water in the glass raw material is By reducing the amount of hydrogen in the glass before chemical strengthening, the difference in hydrogen concentration between the top surface and the bottom surface can be reduced. Thereby, the ease of entering the chemical strengthening between the top surface and the bottom surface can be balanced, and the warp of the float glass after chemical strengthening can be reduced.

通常、ガラスは珪砂を含む所定の原料を秤量、混合し、熔融窯に投入して製造される。熔融窯に投入された原料は室温から昇温され、熔融窯の中で最高1600〜1700℃程度にまで加熱されて溶解し、ガラス化される。   Usually, glass is manufactured by weighing and mixing predetermined raw materials containing silica sand and putting them in a melting furnace. The raw material thrown into the melting kiln is heated from room temperature, heated to a maximum of about 1600-1700 ° C. in the melting kiln, melted, and vitrified.

しかしながら、Alの含有量が5モル%超であるような高アルミナ組成ガラスの原料を溶解すると珪砂の溶け残りが問題となりやすいことも本発明者らは見出した。珪砂の溶解を効率よくすすめるために必要なソーダと珪砂の反応がアルミナによって阻害され、最終的に珪砂の溶け残りがおきやすくなるためであると考えられる。珪砂が溶け残ると、ガラスに欠点(例えば、泡、不均質等または、未溶解物)が生じる原因となる。すなわち、本発明の製造方法によればガラスの欠点を減少させることが可能になる。 However, the present inventors have also found that unmelted silica sand tends to be a problem when a raw material of high alumina composition glass having an Al 2 O 3 content exceeding 5 mol% is melted. This is considered to be because the reaction between soda and silica sand required to efficiently promote the dissolution of the silica sand is hindered by alumina, and the undissolved silica sand eventually tends to occur. If the silica sand remains undissolved, it may cause defects (for example, bubbles, inhomogeneity, or undissolved matter) in the glass. That is, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to reduce the defects of glass.

ガラス原料を溶融させるための溶融窯における溶融ガラスの循環・滞留時間が不安定になると、清澄剤によって溶融窯内の溶融ガラスから泡が抜ける前に、溶融ガラスの一部が溶融窯から流出してしまう場合もある。また、ガラスの溶融が不均一なため、遅れて溶融した珪砂に対する清澄剤の効果が不十分となり、溶融ガラスから泡が十分に抜けず、ガラスに欠点が生じ易い。   If the circulation and residence time of the molten glass in the melting furnace for melting the glass raw material becomes unstable, a part of the molten glass flows out of the melting furnace before bubbles are released from the molten glass in the melting furnace by the refining agent. There is also a case. Moreover, since the melting of the glass is non-uniform, the effect of the fining agent on the silica sand that has been melted late becomes insufficient, the bubbles do not sufficiently escape from the molten glass, and the glass is liable to have defects.

珪砂の溶融が遅れると、未融解状態の珪砂がガラス融液中に発生した泡に捕促されてガラス融液の表層近くに集まり、これによりガラス融液の表層とそれ以外の部分とにおけるSiO成分の組成比に差が生じ、ガラスの均質性が低下する。 When the melting of the silica sand is delayed, the unmelted silica sand is trapped by the bubbles generated in the glass melt and gathers near the surface of the glass melt, whereby the SiO in the surface of the glass melt and other portions A difference occurs in the composition ratio of the two components, and the homogeneity of the glass decreases.

しかしながら、珪砂単独の融点は1723℃と高温であるため、その後の溶解で珪砂単独を溶かすのは困難である。通常珪砂の溶け残りを減らす手法としては、高温でとかす、細かい珪砂を使用する方法が知られている。珪砂を溶解するためにガラス原料を高温度とすると、FeのRedoxが上がることによりガラスの透過率が下がるという問題が発生する。Redoxが低く透過率の高いガラスを作るには、初期の溶解で珪砂の溶け残りを抑制して高温度にすることなくガラス原料を溶解することが重要であると考えられる。   However, since the melting point of quartz sand alone is as high as 1723 ° C., it is difficult to melt quartz sand alone by subsequent melting. As a method for reducing the undissolved residue of silica sand, a method of using fine silica sand that is melted at a high temperature is known. When the temperature of the glass raw material is increased to dissolve the silica sand, there is a problem that the glass transmittance decreases due to the increase in Fe redox. In order to make a glass having a low redox and a high transmittance, it is considered important to melt the glass raw material without suppressing the undissolved residue of the silica sand in the initial melting and attaining a high temperature.

本発明の化学強化ガラスの製造方法によれば、造粒したガラス原料により製造したアルカリアルミノシリケートガラスを用いることにより、ガラス原料に含まれる珪砂(SiO)とソーダ灰(NaO)の距離を近づけて、図1に示すSiO、NaOおよびAlの共融反応を利用することにより、珪砂の溶け残りを無くすことができる。したがって、低温度でガラス原料を溶解することが可能となり、Redoxが低く透過率の高い化学強化ガラスを製造することが可能となる。ここでRedoxとは、Fe2+/(Fe2++Fe3+)×100%を示す。 According to the method for producing chemically strengthened glass of the present invention, the distance between silica sand (SiO 2 ) and soda ash (Na 2 O) contained in the glass raw material is obtained by using the alkali aluminosilicate glass produced from the granulated glass raw material. By using the eutectic reaction of SiO 2 , Na 2 O and Al 2 O 3 shown in FIG. 1, it is possible to eliminate undissolved silica sand. Therefore, it becomes possible to melt the glass raw material at a low temperature, and it becomes possible to produce chemically strengthened glass with low redox and high transmittance. Here, Redox means Fe 2+ / (Fe 2+ + Fe 3+ ) × 100%.

SiO、NaOおよびAlの相図を示す。○で囲んだ部分がSiOおよびNaOが共融反応により溶解する部分である。The phase diagram of SiO 2 , Na 2 O and Al 2 O 3 is shown. A portion surrounded by a circle is a portion where SiO 2 and Na 2 O are dissolved by a eutectic reaction. 図2は、研磨IR法の概要を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an outline of the polishing IR method. 図3は、深さ0〜40μmの領域についてβ−OHを算出し、SIMS法から算出した同領域の1H/30Si平均カウントと比較を実施したものである。図3において、β−OHは質量換算法により算出した。図3において、読み取り誤差は±2.5〜3.5%である。なお、図3のグラフは、y=2.0977x+0.0566であり、R=0.985である。FIG. 3 is a graph in which β-OH is calculated for a region having a depth of 0 to 40 μm and compared with the 1H / 30Si average count of the region calculated by the SIMS method. In FIG. 3, β-OH was calculated by a mass conversion method. In FIG. 3, the reading error is ± 2.5 to 3.5%. In the graph of FIG. 3, y = 2.9777x + 0.0566 and R 2 = 0.985. 図4は、ブリケッティングマシンによりブリケットを造粒する工程を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a step of granulating briquettes with a briquetting machine. 図5(a)〜(c)は、初期反応での珪砂の溶け残り量の評価方法の模式図を示す。FIGS. 5A to 5C are schematic diagrams showing a method for evaluating the amount of undissolved silica sand in the initial reaction. 図6(a)および(b)は造粒していないガラス原料を1450℃にて溶解させた結果を示す。図6(c)および(d)は、ブリケット造粒したガラス原料を1450℃にて溶解させた結果を示す。6 (a) and 6 (b) show the results of melting an ungranulated glass raw material at 1450 ° C. 6 (c) and 6 (d) show the results of melting briquette granulated glass raw material at 1450 ° C. 図7(a)および(b)は、造粒していないガラス原料を1500℃にて10分間溶解した結果を示す。また、図7(c)および(d)は、ブリケット造粒したガラス原料を1500℃にて10分間溶解した結果を示す。FIGS. 7A and 7B show the results of melting an ungranulated glass raw material at 1500 ° C. for 10 minutes. Moreover, FIG.7 (c) and (d) show the result of having melt | dissolved the briquette granulated glass raw material for 10 minutes at 1500 degreeC. 図8は、造粒していないガラス原料(■)またはブリケット造粒(◆)したガラス原料を1450℃または1500℃にて10分間溶解し、珪砂(SiO)の溶け残りを分析した結果を示す。FIG. 8 shows the result of analyzing unmelted glass raw material (■) or briquetted granulated (◆) glass raw material for 10 minutes at 1450 ° C. or 1500 ° C. and analyzing the undissolved residue of silica sand (SiO 2 ). Show. 図9は、通常原料(■)またはブリケット造粒した原料(●)を1550℃にて1時間保持した後、溶解したガラスのβ−OHをIR法により測定した結果を示す。FIG. 9 shows the results of measuring the β-OH of the melted glass by IR method after holding the normal raw material (■) or briquette-granulated raw material (●) at 1550 ° C. for 1 hour.

本発明の化学強化ガラスの製造方法は、アルカリアルミノシリケートガラスからなるフロートガラスを化学強化して化学強化ガラスを製造する方法であり、該アルカリアルミノシリケートガラスがガラス原料を造粒して製造したアルカリアルミノシリケートガラスであることを特徴とする。   The method for producing chemically tempered glass of the present invention is a method for producing chemically tempered glass by chemically strengthening float glass made of alkali aluminosilicate glass, and the alkali aluminosilicate glass is produced by granulating a glass raw material. It is an aluminosilicate glass.

図1に、高アルミナ原料に含まれる珪砂(SiO)、ソーダ灰(NaO)およびAlの相図を示す。NaOとAlが反応した反応物は融点が高く、高温にならないと初期溶解しない。NaOとSiOとが最初に反応して低融点の反応物ができると、該反応物によりSiOの溶解速度が促進されるという効果が得られるが、NaOがAlとの反応で消費されると、このような効果が得られず、SiOの溶解速度が遅くなる。特にガラス原料の昇温速度が遅いとNaOとAlの反応が進み、SiOの溶解速度が遅くなると考えられる。 FIG. 1 shows a phase diagram of silica sand (SiO 2 ), soda ash (Na 2 O) and Al 2 O 3 contained in the high alumina raw material. A reaction product obtained by reacting Na 2 O and Al 2 O 3 has a high melting point and does not dissolve at first unless the temperature is high. When Na 2 O and SiO 2 react with each other to form a low melting point reaction product, an effect is obtained that the dissolution rate of SiO 2 is accelerated by the reaction product, but Na 2 O is converted to Al 2 O 3. When consumed in the reaction with the above, such an effect cannot be obtained, and the dissolution rate of SiO 2 becomes slow. In particular, when the temperature rising rate of the glass raw material is slow, the reaction of Na 2 O and Al 2 O 3 proceeds, and the dissolution rate of SiO 2 is thought to be slow.

本発明者らは、SiOおよびNaOの共融反応を利用することにより、珪砂(SiO)の溶け残りを無くすことができることを見出した。ガラス原料を造粒することにより、原料中のSiOとNaOの距離を近づけて該共融反応を利用することができる。 The present inventors have found that the undissolved residue of silica sand (SiO 2 ) can be eliminated by utilizing the eutectic reaction of SiO 2 and Na 2 O. By granulating the glass raw material, the eutectic reaction can be utilized by reducing the distance between SiO 2 and Na 2 O in the raw material.

原料中の珪砂(SiO)とソーダ灰(NaO)の共融反応により珪砂の溶解が促進されて珪砂の溶け残りが低減でき、低温度でガラス原料を溶解することが可能となるため、Redoxを上げることがなく透過率の高いガラスを得ることができる。また、造粒したガラス原料を溶解することにより、ガラス構造の隙間から二酸化炭素等の初期泡が抜けるため、欠点の原因となる泡の発生を抑制することができる。 Because eutectic reaction between the silica sand (SiO 2 ) and soda ash (Na 2 O) in the raw material accelerates the dissolution of the silica sand, reducing the undissolved residue of the silica sand and enabling the glass raw material to be dissolved at a low temperature. It is possible to obtain a glass with high transmittance without increasing Redox. In addition, by dissolving the granulated glass raw material, initial bubbles such as carbon dioxide escape from the gaps in the glass structure, so that generation of bubbles that cause defects can be suppressed.

本発明の製造方法に用いるアルカリアルミノシリケートガラスは、典型的には総Fe換算で30ppm以上含有する。本発明の製造方法に用いるアルカリアルミノシリケートガラスのRedoxは60%以下であることが好ましく、50%以下であることがより好ましい。本発明の製造方法によれば、総Fe換算で30ppm以上含有する場合にも、化学強化に供するアルカリアルミノシリケートガラスを造粒したガラス原料を用いて製造することにより、アルカリアルミノシリケートガラスのRedoxを好ましくは60%以下とすることができ、透過率の高い化学強化ガラスを得ることができる。 The alkali aluminosilicate glass used in the production method of the present invention typically contains 30 ppm or more in terms of total Fe 2 O 3 . The redox of the alkali aluminosilicate glass used in the production method of the present invention is preferably 60% or less, and more preferably 50% or less. According to the production method of the present invention, alkali aluminosilicate glass is produced by using a glass raw material obtained by granulating alkali aluminosilicate glass for chemical strengthening even when it is contained in an amount of 30 ppm or more in terms of total Fe 2 O 3. The redox can be preferably 60% or less, and a chemically tempered glass having a high transmittance can be obtained.

フロートガラスは、フロート法により成形され、成形時に溶融金属と接するボトム面と、該ボトム面に対向するトップ面とを有する。フロートガラスを化学強化することにより生じる反りの主原因は、以下に説明するように、トップ面とボトム面との水素濃度差であると考えられる。   The float glass is formed by a float process, and has a bottom surface that is in contact with the molten metal at the time of forming and a top surface that faces the bottom surface. The main cause of the warp caused by chemically strengthening the float glass is considered to be a hydrogen concentration difference between the top surface and the bottom surface, as will be described below.

フロート法によるガラスの製造においては、フロートバスに貯留された溶融金属の表面に上流側から溶融ガラスを連続的に供給してガラスリボンを成形しつつ該フロートバスの下流側端部から成形後のガラスリボンを引き出し、レアーで徐冷することにより板ガラスを製造する。   In the production of glass by the float process, molten glass is continuously supplied from the upstream side to the surface of the molten metal stored in the float bath, and a glass ribbon is formed while forming the glass ribbon from the downstream end of the float bath. A glass ribbon is drawn out and slowly cooled with a layer to produce a plate glass.

フロート法によるガラスの製造において通常は、ガラス槽窯とフロートバスとの間が、キャナルおよびスパウトでつながっている、流路が絞られるタイプの装置が用いられる。
この場合、フロートバス内でガラスを広げる必要があるため、後述する別のタイプの装置に比べてより高温の溶融ガラスを溶融金属表面に流し出して成形する。
In the production of glass by the float process, an apparatus of a type in which a flow path is narrowed is generally used in which a glass tank kiln and a float bath are connected by a canal and a spout.
In this case, since it is necessary to spread the glass in the float bath, molten glass having a higher temperature is poured out onto the surface of the molten metal as compared with another type of apparatus described later.

しかしながら、前記フロートバス内の露点が低いため、ガラス表面からHOが拡散し、トップ面からは雰囲気中にHOが拡散し、ボトム面からは溶融金属中にHOが拡散する。そのため、このようなタイプの装置で製造されたフロートガラスは、内部(典型的には深さ約50μm以上)の水素濃度に比べ、表面(5〜10μm)の水素濃度が小さくなる。HOの拡散係数は温度が高い方が高いため、より低温の溶融金属と接するフロートガラスのボトム面よりも露点の低いまたは温度の高い雰囲気と接するトップ面からのHOの拡散量の方が多くなり、フロートガラスのボトム面よりもトップ面の水素濃度が低くなる。 However, since the dew point of the float bath is low, H 2 O diffuses from the glass surface, H 2 O diffuses into the atmosphere from the top surface, from the bottom surface H 2 O diffuses into the molten metal . Therefore, the float glass produced by such a type of apparatus has a lower hydrogen concentration on the surface (5 to 10 μm) than the hydrogen concentration inside (typically a depth of about 50 μm or more). Since the diffusion coefficient of H 2 O is higher at higher temperatures, the diffusion amount of H 2 O from the top surface in contact with an atmosphere having a lower dew point or higher temperature than the bottom surface of the float glass in contact with the lower temperature molten metal The hydrogen concentration on the top surface is lower than the bottom surface of the float glass.

ところで、ガラス中の水素濃度が高いと、ガラスのSi−O−Siの結合ネットワークの中に水素がSiOHの形で入り、Si−O−Siの結合が切れる。ガラス中の水素濃度が高いとSi−O−Siの結合が切れる部分が多くなり、ガラス転移点などの熱特性が下がるため、高温でガラスを加熱する化学強化の際に応力緩和し、応力が低下する。   By the way, when the hydrogen concentration in the glass is high, hydrogen enters the Si—O—Si bond network of the glass in the form of SiOH, and the Si—O—Si bond is broken. When the hydrogen concentration in the glass is high, the Si-O-Si bond is cut off more and the thermal properties such as the glass transition point decrease, so the stress is relaxed during chemical strengthening when the glass is heated at a high temperature. descend.

そのため、フロートガラスにおけるトップ面およびボトム面のうち、水素濃度が高いガラス面には化学強化の際に応力の入り方が小さく、水素濃度が低いガラス面には化学強化の際に応力が入りやすいこととなる。   Therefore, among the top and bottom surfaces of float glass, the glass surface with a high hydrogen concentration is less stressed during chemical strengthening, and the glass surface with a lower hydrogen concentration is susceptible to stress during chemical strengthening. It will be.

すなわち、フロートガラスにおけるトップ面とボトム面とにおける水素濃度が近いほど、トップ面とボトム面との水素濃度差の絶対値の値が小さければ小さいほど、化学強化後のトップ面とボトム面との応力の入り方が均衡する状態に近づき、反りが低減されることとなる。   That is, the closer the hydrogen concentration between the top surface and the bottom surface in the float glass, the smaller the absolute value of the hydrogen concentration difference between the top surface and the bottom surface, the smaller the difference between the top surface and the bottom surface after chemical strengthening. The approach of stress approaches a balanced state, and warpage is reduced.

多くのガラス原料には、あらゆる形で水を含んでいる。ガラス原料に含まれる水の形態としては、例えば、水酸化物、水和結晶または吸着水が挙げられる。また、ガラス原料が舞うのを防ぐため水を添加して窯に入れ、溶解することも一般的である。これら原料を造粒していないガラス原料は原料内の水が抜けにくく、トップ面とボトム面とにおける水素濃度が高くなる。本発明においては、アルカリアルミノシリケートガラスの製造に用いる造粒したガラス原料は表面積が多く、造粒物間の空隙が存在することにより、溶解時に脱水を促進し、化学強化前のガラスにおける水素濃度を低減することができる。   Many glass ingredients contain water in all forms. Examples of the form of water contained in the glass raw material include hydroxide, hydrated crystal, and adsorbed water. Moreover, in order to prevent the glass raw material from dancing, it is also common to add water, put it in a kiln, and dissolve it. Glass materials that are not granulated from these raw materials are difficult to drain water in the raw materials, and the hydrogen concentration at the top and bottom surfaces is high. In the present invention, the granulated glass raw material used for the production of the alkali aluminosilicate glass has a large surface area and the presence of voids between the granulated materials, thereby promoting dehydration during melting and the hydrogen concentration in the glass before chemical strengthening. Can be reduced.

ガラス原料を溶解する際に原料中の水に起因する化学強化前のガラスにおける水素濃度を低減することにより、トップ面とボトム面における水素濃度差を小さくすることができ、トップ面とボトム面との化学強化の入りやすさを均衡化し、化学強化後におけるフロートガラスの反りを低減することができる。   By reducing the hydrogen concentration in the glass before chemical strengthening due to the water in the raw material when melting the glass raw material, the difference in hydrogen concentration between the top surface and the bottom surface can be reduced, and the top surface and the bottom surface It is possible to balance the ease of entering the chemical strengthening, and to reduce the warp of the float glass after the chemical strengthening.

ガラス中の水分量の指針としてIR法により測定されるβ−OHがある。β−OHは、以下に説明する研磨IR法により測定する。図2(A)〜(C)に示すように、研磨IR法においては、ガラス基板表面におけるβ−OHを評価したい領域を研磨処理で除去し、研磨前後の基板をIR測定し、3500cm−1近傍に検出されるSi−OHピークの吸光度を読み取る。 There exists (beta) -OH measured by IR method as a guideline of the moisture content in glass. β-OH is measured by the polishing IR method described below. As shown in FIGS. 2A to 2C, in the polishing IR method, a region where β-OH on the glass substrate surface is to be evaluated is removed by polishing treatment, and the substrate before and after polishing is subjected to IR measurement, and 3500 cm −1. Read the absorbance of the Si—OH peak detected in the vicinity.

研磨前後のSi−OHピークの吸光度差と研磨厚さより、目的領域のβ−OHを算出する。研磨前の試料に比べ、研磨後の試料はSi−OHピークの強度減少が確認される。この減少した分が研磨した領域におけるガラスの吸収に相当する。   Β-OH in the target region is calculated from the difference in absorbance between the Si—OH peaks before and after polishing and the polishing thickness. Compared with the sample before polishing, the sample after polishing shows a decrease in the intensity of the Si—OH peak. This reduced amount corresponds to glass absorption in the polished region.

3500cm−1近傍に存在するSi−OHピークの吸光度は、Si−OHピークトップの吸光度から3955cm−1のベースの吸光度を引いて算出する。図3は、深さ0〜40μmの領域についてβ−OHを算出し、SIMS法から算出した同領域の1H/30Si平均カウントとの比較したものである。なお、β−OHと[30Si]平均カウントとの間には正の相関があることから、研磨IR法により算出した表層β−OHは、SIMS法と同様にガラス表面の水素濃度の評価に使用できる。 The absorbance of the Si—OH peak existing in the vicinity of 3500 cm −1 is calculated by subtracting the absorbance at the base of 3955 cm −1 from the absorbance of the Si—OH peak top. FIG. 3 is a graph in which β-OH is calculated for a region having a depth of 0 to 40 μm and compared with the 1H / 30Si average count of the region calculated from the SIMS method. In addition, since there is a positive correlation between β-OH and [ 1 H / 30 Si ] average count, the surface layer β-OH calculated by the polishing IR method is the same as that of the SIMS method. Can be used to evaluate hydrogen concentration.

本発明においては、具体的には、以下の(1)〜(3)の工程により算出される深さ5〜30μmにおける表層β−OHを求めることにより、トップ面とボトム面フロートガラス表面の脱水状態を評価する。
(1)フロートガラスの測定面を5μm研磨してIR測定し、Si−OHピークの吸光度を、Si−OHピークトップの吸光度から3955cm−1のベースの吸光度を引いて算出する(図2B)。Si−OHピークトップの吸光度は、3500cm−1近傍に存在する吸光度である。
(2)さらにフロートガラスの測定面を30μm研磨し、工程(1)と同様にSi−OHピークの吸光度を測定する(図2C)。
(3)工程(1)および(2)により得られた研磨前後のSi−OHピークの吸光度差と研磨厚さとにより、目的領域の表層β−OHを下式により算出する。
(表層β−OH)=[(5μm研磨のSi−OH吸光度)−(30μm研磨のSi−OH吸光度)]/研磨厚さ(mm)
In the present invention, specifically, the surface layer β-OH at a depth of 5 to 30 μm calculated by the following steps (1) to (3) is obtained, whereby dehydration of the top surface and bottom surface float glass surfaces is performed. Assess the condition.
(1) The measurement surface of the float glass is polished by 5 μm and IR measurement is performed, and the absorbance of the Si—OH peak is calculated by subtracting the absorbance at the base of 3955 cm −1 from the absorbance of the Si—OH peak (FIG. 2B). The absorbance of the Si—OH peak top is the absorbance present in the vicinity of 3500 cm −1 .
(2) Further, the measurement surface of the float glass is polished by 30 μm, and the absorbance of the Si—OH peak is measured in the same manner as in the step (1) (FIG. 2C).
(3) The surface layer β-OH of the target region is calculated by the following equation based on the difference in absorbance between the Si—OH peaks before and after polishing obtained in steps (1) and (2) and the polishing thickness.
(Surface layer β-OH) = [(Si-OH absorbance of 5 μm polishing) − (Si-OH absorbance of 30 μm polishing)] / Polishing thickness (mm)

フロートガラスの表面(深さ0〜数μm)においては、ヤケによりSi−O−Naが少ない。そのため、β−OH算出に使用する3500cm−1近傍のピークトップにおける吸光度がフロートガラスの表面とバルクとで異なる可能性がある。よって、フロートガラスの表面のIRスペクトルをβ−OH算出に用いると、水素濃度が正しく評価できない。本発明の表層β−OHを測定する方法である研磨IR法によれば、フロートガラスの測定面を5μm研磨した後にIR測定を行うことで、表面を除去した試料を評価することができる。 On the surface of the float glass (depth 0 to several μm), there is little Si—O—Na + due to burns. Therefore, the absorbance at the peak top in the vicinity of 3500 cm −1 used for β-OH calculation may be different between the surface of the float glass and the bulk. Therefore, if the IR spectrum of the surface of the float glass is used for β-OH calculation, the hydrogen concentration cannot be evaluated correctly. According to the polishing IR method, which is a method for measuring the surface layer β-OH of the present invention, the sample from which the surface has been removed can be evaluated by performing IR measurement after polishing the measurement surface of the float glass by 5 μm.

前記工程(1)〜(3)においては、同じガラス基板を研磨して図2の(A)〜(C)の試料を作製し、図2の(B)および(C)試料におけるIRスペクトルから表層β−OHを算出することが好ましい。あるいは、同じガラス基板を複数枚準備し、研磨厚さを変えて図2の(B)および(C)の試料をそれぞれ準備し、IR測定およびβ−OH算出を行ってもよい。   In the steps (1) to (3), the same glass substrate is polished to prepare samples (A) to (C) in FIG. 2, and from the IR spectra in the samples (B) and (C) in FIG. It is preferable to calculate the surface layer β-OH. Alternatively, a plurality of the same glass substrates may be prepared, the samples shown in FIGS. 2B and 2C may be prepared by changing the polishing thickness, and IR measurement and β-OH calculation may be performed.

研磨に用いる研磨剤としては、例えば、CeO、SiO、AlおよびZrOが挙げられる。 The polishing agent used in the polishing, for example, CeO 2, SiO 2, Al 2 O 3 and ZrO 2 and the like.

研磨厚さを算出する方法としては、研磨前後のガラス板の質量差から研磨厚さを算出する質量換算法、および研磨前後の板厚差から算出する板厚換算法がある。板厚換算法が板厚計で板厚を測定するのに対し、質量換算法は電子天秤でガラスの質量を測定する。   As a method for calculating the polishing thickness, there are a mass conversion method for calculating the polishing thickness from the difference in mass between the glass plates before and after polishing, and a plate thickness conversion method for calculating from the difference in plate thickness before and after polishing. The plate thickness conversion method measures the plate thickness with a plate thickness meter, while the mass conversion method measures the mass of the glass with an electronic balance.

板厚計および電子天秤の精度を考慮すると、質量換算法の方がより高精度にガラス板の平均研磨厚さを算出可能である。したがって、本発明においては、研磨厚さは、研磨前後のガラス板の質量差から研磨厚さを算出する質量換算法により算出することが好ましい。
あるいはレーザー板厚計を用いてもよい。
Considering the accuracy of the thickness gauge and the electronic balance, the mass conversion method can calculate the average polished thickness of the glass plate with higher accuracy. Therefore, in this invention, it is preferable to calculate polishing thickness by the mass conversion method which calculates polishing thickness from the mass difference of the glass plate before and behind grinding | polishing.
Alternatively, a laser thickness meter may be used.

本発明において、前記工程(1)〜(3)により求められる深さ5〜30μmにおける表層β−OHのトップ面とボトム面の差[(ボトム面の深さ5〜30μmにおける表層β−OH)−(トップ面の深さ5〜30μmにおける表層β−OH)]の絶対値が0.2/mm−1以下であることが好ましく、0.15/mm−1以下、0.12mm−1以下または0.1mm−1以下であることがより好ましい。 In the present invention, the difference between the top surface and the bottom surface of the surface layer β-OH at a depth of 5 to 30 μm determined by the steps (1) to (3) [(surface layer β-OH at a depth of 5 to 30 μm of the bottom surface). − (Surface layer β-OH at a depth of 5 to 30 μm on the top surface)] is preferably 0.2 / mm −1 or less, 0.15 / mm −1 or less, 0.12 mm −1 or less. Or it is more preferable that it is 0.1 mm < -1 > or less.

深さ5〜30μmにおける表層β−OHのトップ面とボトム面の差の絶対値を0.2/mm−1以下とすることにより、化学強化前の研磨処理等を簡略化または省略しても、化学強化後におけるフロートガラスの反りを低減し、優れた平坦度を得ることができる。 Even if the polishing treatment before chemical strengthening is simplified or omitted by setting the absolute value of the difference between the top surface and the bottom surface of the surface layer β-OH at a depth of 5 to 30 μm to 0.2 / mm −1 or less. The curvature of the float glass after chemical strengthening can be reduced and excellent flatness can be obtained.

IR測定は、公知の方法により市販の装置(例えば、Thermo Fisher Scientific社製 Nicolet 6700)を用いて測定する。   The IR measurement is performed by a known method using a commercially available apparatus (for example, Nicolet 6700 manufactured by Thermo Fisher Scientific).

3.造粒
ガラス原料を造粒する方法としては、例えば、圧縮造粒、転動造粒、流動層造粒、攪拌造粒、圧縮造粒、押出造粒、溶融造粒、噴霧造粒が挙げられる。圧縮造粒としては、例えば、ブリケット造粒およびタブレッティング(打錠)が挙げられる。これらの中でも、生産効率の観点から、圧縮造粒が好ましく、ブリケット造粒がより好ましい。
3. Granulation Examples of the method for granulating the glass raw material include compression granulation, rolling granulation, fluidized bed granulation, stirring granulation, compression granulation, extrusion granulation, melt granulation, and spray granulation. . Examples of compression granulation include briquetting granulation and tableting (tabletting). Among these, from the viewpoint of production efficiency, compression granulation is preferable, and briquette granulation is more preferable.

図4はブリケッティングマシンによりブリケットを造粒する工程の具体例を示すものである。ホッパー1からガラス原料(図示せず)を、外周面に好ましくは横10〜50mm、好ましくは縦10〜50mm、好ましくは深さ5〜30mmの成形用凹部(図示せず)が形成されている旋回輪2を回転させながらその間に吐出することによって、横10〜50mm、縦10〜50mm、厚み(10〜60)mm程度のアーモンド形状のブリケット3を造粒することができる。   FIG. 4 shows a specific example of the step of granulating briquettes with a briquetting machine. A glass raw material (not shown) is formed from the hopper 1 on the outer peripheral surface, preferably 10 to 50 mm in width, preferably 10 to 50 mm in length, preferably 5 to 30 mm in depth (not shown). By discharging while rotating the swivel wheel 2, an almond-shaped briquette 3 having a width of about 10 to 50 mm, a length of 10 to 50 mm, and a thickness (10 to 60) mm can be granulated.

ガラス原料を造粒して得られる造粒物の比重は2.0〜2.8であることが好ましく、2.2〜2.6であることがより好ましい。造粒物の比重を2.0〜2.8とすることによって共融反応を促進させることができるからである。   The specific gravity of the granulated product obtained by granulating the glass raw material is preferably 2.0 to 2.8, and more preferably 2.2 to 2.6. This is because the eutectic reaction can be promoted by setting the specific gravity of the granulated product to 2.0 to 2.8.

造粒物におけるSiO成分の含有量は40〜90質量%であることが好ましく、50〜80質量%であることがより好ましい。造粒物は、主として酸化物、炭酸塩化合物からなる原料を用いることが好ましい。例えば、ソーダライムシリカ系ガラスにおいては、珪砂と、苦灰石、石灰石、ソーダ灰からなる原料群から選ばれる少なくとも1種以上を用いることが好ましい。 The content of the SiO 2 component in the granulated product is preferably 40 to 90% by mass, and more preferably 50 to 80% by mass. The granulated product is preferably a raw material mainly composed of an oxide or a carbonate compound. For example, in soda lime silica-based glass, it is preferable to use at least one selected from a raw material group consisting of silica sand, dolomite, limestone, and soda ash.

造粒物の形状としては、例えば、球状、円筒状、アーモンド形状、扁平板状、薄片状、立方体状、糸状が挙げられる。これらの中でも、球状、円筒状またはアーモンド形状等の1方向のみにあまり長すぎない形状が好ましい。   Examples of the shape of the granulated product include a spherical shape, a cylindrical shape, an almond shape, a flat plate shape, a flake shape, a cubic shape, and a thread shape. Among these, a shape that is not too long in only one direction, such as a spherical shape, a cylindrical shape, or an almond shape, is preferable.

造粒物の溶解温度は、1450〜1650℃であることが好ましく、1500〜1600℃であることがより好ましい。溶解温度が1450〜1650℃であることによりRedoxを低く抑え、透過率の高いガラスを得ることができる。造粒物の溶解温度は、実施例において後述する「初期反応での珪砂の溶け残り量の評価方法」[図5(a)〜(c)]により調べることができる。   The dissolution temperature of the granulated product is preferably 1450 to 1650 ° C, and more preferably 1500 to 1600 ° C. When the melting temperature is 1450 to 1650 ° C., Redox can be suppressed low and a glass with high transmittance can be obtained. The melting temperature of the granulated product can be examined by “Evaluation method of undissolved amount of silica sand in initial reaction” described later in Examples (FIGS. 5A to 5C).

4.ガラス
ガラスの製造方法はガラス原料を造粒する点以外は特に限定されないが、具体的には、例えば、種々の原料を適量調合して造粒物とし、該造粒物を大型窯に連続投入し、好ましくは1450〜1650℃に加熱し溶融した後、脱泡または攪拌などにより均質化し、周知のフロート法によって板状に成形し、徐冷後所望のサイズに切断、研磨加工を施して製造する。成形されたガラスを、切断機で所定のサイズに切断した後、化学強化することにより化学強化ガラスを得ることができる。
4). The glass glass production method is not particularly limited except that the glass raw material is granulated. Specifically, for example, various raw materials are prepared in an appropriate amount to form a granulated product, and the granulated product is continuously charged into a large kiln. Preferably, heated to 1450-1650 ° C. and melted, then homogenized by defoaming or stirring, formed into a plate shape by a well-known float method, manufactured by slow cooling, cutting to a desired size, and polishing To do. A chemically strengthened glass can be obtained by cutting the molded glass into a predetermined size with a cutting machine and then chemically strengthening the glass.

化学強化は、ガラス転移点以下の温度でイオン交換によりガラス表面のイオン半径が小さなアルカリ金属イオン(典型的には、LiイオンまたはNaイオン)をイオン半径のより大きなアルカリイオン(典型的には、Kイオン)に交換することで、ガラス表面に圧縮応力層を形成する処理である。化学強化処理は従来公知の方法によって行うことができる。   In chemical strengthening, alkali metal ions (typically Li ions or Na ions) having a small ion radius on the glass surface are exchanged by ion exchange at a temperature below the glass transition temperature, and alkali ions (typically, This is a process of forming a compressive stress layer on the glass surface by exchanging with K ions. The chemical strengthening treatment can be performed by a conventionally known method.

本発明の製造方法に用いるガラスはアルカリアルミノシリケートガラスである。以下、アルカリアルミノシリケートガラスの好ましい組成について説明する。   The glass used in the production method of the present invention is alkali aluminosilicate glass. Hereinafter, a preferable composition of the alkali aluminosilicate glass will be described.

アルカリアルミノシリケートガラスは、酸化物基準のモル百分率表示でSiOを50〜80%、Alを0〜10%、Bを0〜4%、MgOを5〜30%、ZrO、P、TiOおよびLaから選ばれる少なくとも1を合計で0.5〜10%、NaOを1〜17%含有することが好ましい。 Alkaline aluminosilicate glass is expressed in terms of oxide-based mole percentage, SiO 2 50-50%, Al 2 O 3 0-10%, B 2 O 3 0-4%, MgO 5-30%, ZrO It is preferable that at least 1 selected from 2 , P 2 O 5 , TiO 2 and La 2 O 3 is contained in a total of 0.5 to 10% and Na 2 O is contained in 1 to 17%.

SiOの含有量は50〜80%であることが好ましく、55〜75%であることがより好ましく、58〜70%であることがさらに好ましい。Alの含有量は、0〜10%であることが好ましく、1〜7%であることがより好ましく、2〜5%であることがさらに好ましい。なお、例えばAlの含有量は0〜10%が好ましいとは、Alは含有しても含有しなくてもよいが、含有する場合その含有量は10%以下が好ましい、の意である。 The content of SiO 2 is preferably 50 to 80%, more preferably 55 to 75%, and still more preferably 58 to 70%. The content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 10%, more preferably 1 to 7%, and further preferably 2 to 5%. In addition, for example, the content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 10%. Al 2 O 3 may or may not be contained, but when it is contained, the content is preferably 10% or less. Is the meaning.

の含有量は0〜4%であることが好ましく、0.3〜3%であることが好ましく、0.5〜2%であることがより好ましい。MgOの含有量は、5〜30%であることが好ましく、10〜28%であることがより好ましく、15〜25%であることがさらに好ましい。 The content of B 2 O 3 is preferably 0 to 4%, preferably 0.3 to 3 %, and more preferably 0.5 to 2%. The content of MgO is preferably 5 to 30%, more preferably 10 to 28%, and still more preferably 15 to 25%.

アルカリアルミノシリケートガラスは、ZrO、P、TiOおよびLaから選ばれる少なくとも1を含むことが好ましい。アルカリアルミノシリケートガラスが、ZrO、PおよびLaから選ばれる少なくとも1を含むことにより、アルカリアルミノシリケートガラスに白みを持たせることができる。その合量は0.5〜10%であることが好ましい。 The alkali aluminosilicate glass preferably contains at least one selected from ZrO 2 , P 2 O 5 , TiO 2 and La 2 O 3 . When the alkali aluminosilicate glass contains at least one selected from ZrO 2 , P 2 O 5 and La 2 O 3 , the alkali aluminosilicate glass can be whitened. The total amount is preferably 0.5 to 10%.

アルカリアルミノシリケートガラスにおけるZrOの含有量は、0〜5%であることが好ましく、0.5〜3%であることがより好ましい。アルカリアルミノシリケートガラスにおけるPの含有量は、0〜10%であることが好ましく、0.5〜7%であることがより好ましく、1〜6%であることがさらに好ましい。アルカリアルミノシリケートガラスにおけるTiOの含有量は、0〜10%であることが好ましく、0.5〜7%であることがより好ましく、1〜6%であることがさらに好ましい。アルカリアルミノシリケートガラスにおけるLaの含有量は、0〜2%であることが好ましく、0.2〜1%であることがより好ましい。 The content of ZrO 2 in the alkali aluminosilicate glass is preferably 0 to 5%, and more preferably 0.5 to 3%. The content of P 2 O 5 in the alkali aluminosilicate glass is preferably 0 to 10%, more preferably 0.5 to 7%, and further preferably 1 to 6%. The content of TiO 2 in the alkali aluminosilicate glass is preferably 0 to 10%, more preferably 0.5 to 7%, and further preferably 1 to 6%. The content of La 2 O 3 in the alkali aluminosilicate glass is preferably 0 to 2%, and more preferably 0.2 to 1%.

アルカリアルミノシリケートガラスがNaOを含有していることにより、その後のイオン交換処理によるガラスの強度を高めることができる。アルカリアルミノシリケートガラスにおけるNaOの含有量は、1〜17%が好ましく、3〜11%がより好ましく、4〜14%がさらに好ましい。NaOの含有量を1%以上とすることによりイオン交換により所望の表面圧縮応力層を形成し易くなる。また、NaOを17%以下とすることにより耐候性を向上することができる。 When the alkali aluminosilicate glass contains Na 2 O, the strength of the glass by the subsequent ion exchange treatment can be increased. The content of Na 2 O in the alkali aluminosilicate glass is preferably 1 to 17%, more preferably 3 to 11%, and still more preferably 4 to 14%. By making the content of Na 2 O 1% or more, a desired surface compressive stress layer can be easily formed by ion exchange. Further, it is possible to improve the weather resistance by a 17% or less of Na 2 O.

本発明の製造方法に用いるアルカリアルミノシリケートガラスの組成としては、例えば、以下が挙げられる。
(i)モル%で表示した組成で、SiOを50〜80%、Alを5〜25%、LiOを0〜10%、NaOを0〜18%、KOを0〜10%、MgOを0〜15%、CaOを0〜5%およびZrOを0〜5%を含むガラス
(ii)モル%で表示した組成が、SiOを50〜74%、Alを5〜10%、NaOを6〜14%、KOを3〜11%、MgOを2〜15%、CaOを0〜6%およびZrOを0〜5%含有し、SiOおよびAlの含有量の合計が75%以下、NaOおよびKOの含有量の合計が12〜25%、MgOおよびCaOの含有量の合計が7〜15%であるガラス
(iii)モル%で表示した組成が、SiOを68〜80%、Alを5〜10%、NaOを5〜15%、KOを0〜1%、MgOを4〜15%およびZrOを0〜1%含有するガラス
Examples of the composition of the alkali aluminosilicate glass used in the production method of the present invention include the following.
(I) 50% to 80% of SiO 2 , 5 to 25% of Al 2 O 3 , 0 to 10% of Li 2 O, 0 to 18% of Na 2 O, K 2 O with a composition expressed in mol% Is represented by a glass (ii) mol% containing 0-10% MgO, 0-15% MgO, 0-5% CaO and 0-5% ZrO 2 , SiO 2 50-74%, Al 2 O 3 5-10%, Na 2 O 6-14%, K 2 O 3-11%, MgO 2-15%, CaO 0-6% and ZrO 2 0-5% The total content of SiO 2 and Al 2 O 3 is 75% or less, the total content of Na 2 O and K 2 O is 12 to 25%, and the total content of MgO and CaO is 7 to 15%. a composition which is displayed at a certain glass (iii) mol%, a SiO 2 68 to 80%, the Al 2 O 3 5 to 10%, a 2 O 5-15% of K 2 O 0 to 1%, glass containing MgO 4 to 15% and ZrO 2 and 0 to 1%

本発明の製造方法により得られるガラスは、化学強化後の反り量の小さいフロートガラスである。フロートガラスの反り量は、三次元形状測定器(例えば、三鷹光器株式会社製)で測定することができる。   The glass obtained by the production method of the present invention is a float glass with a small amount of warping after chemical strengthening. The amount of warp of the float glass can be measured with a three-dimensional shape measuring instrument (for example, manufactured by Mitaka Kogyo Co., Ltd.).

反り量は、三次元形状測定器で測定した際、最高点と最下点の差として測定する。トップ面凸方向に反った場合はプラス、ボトム面凸方向に反る場合はマイナスとして表現する。化学強化前後におけるフロートガラスの反り量の変化は、Δ反り量[(化学強化後反り量)−(化学強化前反り量)]により測定することができる。   The amount of warpage is measured as the difference between the highest point and the lowest point when measured with a three-dimensional shape measuring instrument. When it warps in the convex direction of the top surface, it is expressed as plus, and when it warps in the convex direction of the bottom surface, it is expressed as minus. The change in the warp amount of the float glass before and after chemical strengthening can be measured by the Δ warp amount [(warp amount after chemical strengthening) − (warp amount before chemical strengthening)].

[実施例1]
以下に示す組成1のアルカリアルミノシリケートガラスとなるように、SiO、アルミナ、ソーダ灰、炭酸カルシウム、水マグおよびその他の原料を調製し、さらにブリケットマシン(ホソカワミクロン社製、商品名CS−25)により造粒し、直径5mm、厚み33mm、比重2.4のブリケットおよび横30mm×縦30mm×厚み18mm、比重2.4のブリケットを調製した。
組成1:モル%表示で、SiO 65.2%、Al 7.9%、MgO 10.2%、NaO 12.4%、KO 3.9%、ZrO 0.5%
[Example 1]
SiO 2 , alumina, soda ash, calcium carbonate, water mug and other raw materials were prepared so as to be an alkali aluminosilicate glass having the composition 1 shown below, and a briquette machine (trade name CS-25, manufactured by Hosokawa Micron) To prepare briquettes having a diameter of 5 mm, a thickness of 33 mm, and a specific gravity of 2.4, and briquettes having a width of 30 mm × length of 30 mm × thickness of 18 mm and a specific gravity of 2.4.
Composition 1: In terms of mol%, SiO 2 65.2%, Al 2 O 3 7.9%, MgO 10.2%, Na 2 O 12.4%, K 2 O 3.9%, ZrO 2 0. 5%

表1に示す各水蒸気濃度で、得られたブリケットまたは造粒していないガラス原料(通常原料)を1550℃にて1時間保持した後、得られたガラスのβ−OHをIR法により測定した。ガラスの測定面を5μm研磨し、IR測定し、Si−OHピークの吸光度を、Si−OHピークトップの吸光度から3955cm−1のベースの吸光度を引いて算出し、その後さらに25μm研磨し、同様にSi−OHピークの吸光度を測定した。 After holding the obtained briquette or non-granulated glass raw material (normal raw material) at 1550 ° C. for 1 hour at each water vapor concentration shown in Table 1, β-OH of the obtained glass was measured by IR method. . The measurement surface of the glass is polished by 5 μm, IR measurement is performed, and the absorbance of the Si—OH peak is calculated by subtracting the absorbance at the base of 3955 cm −1 from the absorbance at the top of the Si—OH peak, and further polished by 25 μm. The absorbance of the Si—OH peak was measured.

・IR法 測定条件
装置:Thermo Fisher Scientific社製 Nicolet 6700
検出器:電子冷却DTGS
積算:64回
波数分解能:4cm−1
IR method Measurement condition apparatus: Nicolet 6700 manufactured by Thermo Fisher Scientific
Detector: Electronically cooled DTGS
Integration: 64 times wave number resolution: 4 cm −1

研磨前後のSi−OHピークの吸光度差と研磨厚さより、目的領域(深さ5〜30μm)のβ−OHを下記式により算出した。
(表層β−OH)=[(5μm研磨のSi−OH吸光度)−(30μm研磨のSi−OH吸光度)]/研磨厚さ
From the absorbance difference between the Si—OH peaks before and after polishing and the polishing thickness, β-OH in the target region (depth 5 to 30 μm) was calculated by the following formula.
(Surface layer β-OH) = [(Si-OH absorbance of 5 μm polishing) − (Si-OH absorbance of 30 μm polishing)] / Polishing thickness

その結果を表1および図9に示す。図9において、実線は表1のデータをプロットした結果であり、得られたデータからの予測を示す。表1において、「ブリケット平均」とは、「ブリケット 5mmφ×33mm」と「ブリケット 30×30×18mm」の平均値を示す。   The results are shown in Table 1 and FIG. In FIG. 9, the solid line is the result of plotting the data in Table 1, and shows the prediction from the obtained data. In Table 1, “Briquet average” means an average value of “Bricket 5 mmφ × 33 mm” and “Bricket 30 × 30 × 18 mm”.

また、このようなガラスからなる厚みが0.8mm、大きさ100mm×100mmのフロートガラスについて、TOP面の圧縮応力CSが750MPa、圧縮応力深さDOLが40μmとなるように435℃の硝酸カリウムに浸漬する化学強化を行うと、当該フロートガラスの反りは増加し、その増加量は表1のΔ反りの欄に示すものとなる。   Further, a float glass having a thickness of 0.8 mm and a size of 100 mm × 100 mm made of such glass is immersed in potassium nitrate at 435 ° C. so that the compression stress CS on the TOP surface is 750 MPa and the compression stress depth DOL is 40 μm. When the chemical strengthening is performed, the warp of the float glass increases, and the amount of increase is shown in the Δ warp column of Table 1.

表1および図9に示すように、ガラス原料を造粒することにより、得られるガラスのβ−OH濃度を低減できることがわかった。ガラスのβ−OH濃度を低減することにより、トップ面とボトム面における水素濃度差を小さくすることができ、トップ面とボトム面との化学強化の入りやすさを均衡化し、化学強化後におけるフロートガラスの反りを低減することができる。   As shown in Table 1 and FIG. 9, it was found that the β-OH concentration of the obtained glass can be reduced by granulating the glass raw material. By reducing the β-OH concentration of the glass, the difference in hydrogen concentration between the top surface and the bottom surface can be reduced, and the ease of chemical strengthening between the top surface and the bottom surface is balanced, and the float after chemical strengthening is increased. Glass warpage can be reduced.

[実施例2]
以下に示す組成2のアルカリアルミノシリケートガラスとなるように、SiOおよびその他の原料を調製し、さらにブリケッティングマシン(ホソカワミクロン社製、商品名CS−25)により造粒し、横30mm、縦15mm、厚み10mm、比重2.4のブリケットを調製した。
組成2:モル%表示で、SiO 68.0%、Al 10.0%、MgO 8.0%、NaO 14.0%
[Example 2]
SiO 2 and other raw materials were prepared so as to be an alkali aluminosilicate glass having the composition 2 shown below, and further granulated by a briquetting machine (trade name CS-25, manufactured by Hosokawa Micron Corporation). A briquette having a thickness of 15 mm, a thickness of 10 mm, and a specific gravity of 2.4 was prepared.
Composition 2: By mol%, SiO 2 68.0%, Al 2 O 3 10.0%, MgO 8.0%, Na 2 O 14.0%

得られたブリケットを用いて、図5(a)〜(c)に示すように、以下の手順で初期反応での珪砂の溶け残り量を評価した。
(1)評価したい温度に設定した電気炉内で内寸150mm角のキャスタブル容器51内に入れたカレット52(ガラス層300g)を溶解する[図5(a)]。
(2)キャスタブル容器51を一旦抜き出して、125gのガラス原料53を山状となるように添加し、即、電気炉に戻す[図5(b)]。
(3)電気炉内で10分間ガラス原料53を溶解した後、キャスタブル容器51を取り出す[図5(c)]。溶解したガラス原料のうち、80×80×2.5mmの分析領域54をXRDにより分析する。
Using the obtained briquettes, as shown in FIGS. 5A to 5C, the undissolved amount of silica sand in the initial reaction was evaluated by the following procedure.
(1) The cullet 52 (glass layer 300 g) placed in a castable container 51 having an inner size of 150 mm square is melted in an electric furnace set at a temperature to be evaluated [FIG. 5A].
(2) The castable container 51 is once extracted, 125 g of glass raw material 53 is added in a mountain shape, and immediately returned to the electric furnace [FIG. 5 (b)].
(3) After melting the glass raw material 53 for 10 minutes in the electric furnace, the castable container 51 is taken out [FIG. 5 (c)]. Of the melted glass raw material, an analysis region 54 of 80 × 80 × 2.5 mm is analyzed by XRD.

図6(a)および(b)に、造粒していないガラス原料を1450℃にて3分間[図6(a)]、5分間[図6(b)]、溶解させた結果を示す。図6(c)および(d)に、ブリケット造粒したガラス原料を3分間[図6(c)]、5分間[図6(d)]、1450℃にて溶解させた結果を示す。図6(a)〜(d)における数字は、加熱前に対する残珪砂率(%)を示す。   6 (a) and 6 (b) show the results of melting an ungranulated glass raw material at 1450 ° C. for 3 minutes [FIG. 6 (a)] and 5 minutes [FIG. 6 (b)]. 6 (c) and 6 (d) show the results of melting the briquette granulated glass raw material at 1450 ° C. for 3 minutes [FIG. 6 (c)] and 5 minutes [FIG. 6 (d)]. The numbers in FIGS. 6 (a) to 6 (d) indicate the remaining silica sand ratio (%) with respect to that before heating.

図6(a)〜(d)に示すように、ガラス原料を造粒することにより、共融反応によって珪砂の溶解が速く進んでいるのがわかった。また、造粒物間の構造の隙間から、初期泡が抜けるため、ガラス原料が溶解する際に泡の発生が抑制されることがわかった。   As shown in FIGS. 6 (a) to 6 (d), it was found that by melting the glass raw material, the dissolution of the silica sand progresses rapidly by the eutectic reaction. It was also found that the generation of bubbles was suppressed when the glass raw material was dissolved because the initial bubbles were removed from the gaps in the structure between the granulated products.

図7(a)および(b)に、造粒していないガラス原料を1450℃にて3分、5分間溶解した結果を示す。また、図7(c)および(d)に、ブリケット造粒したガラス原料を1450℃にて3分、5分間溶解した結果を示す。   7 (a) and 7 (b) show the results of melting an ungranulated glass raw material at 1450 ° C. for 3 minutes and 5 minutes. Moreover, the result of having melt | dissolved the glass raw material which carried out briquette granulation for 3 minutes and 5 minutes at 1450 degreeC in FIG.7 (c) and (d) is shown.

ガラス原料を造粒した図7(c)および(d)は、造粒していない図7(a)および(b)と比較して、スカム問題がなく、珪砂の溶け残りが少なく、泡の発生が抑制されていることがわかった。   FIGS. 7 (c) and 7 (d) in which the glass raw material is granulated have no scum problem and less melted silica sand than in FIGS. 7 (a) and 7 (b) in which the glass raw material is not granulated. It was found that the occurrence was suppressed.

表2および図8に、造粒していないガラス原料(通常溶解)またはブリケット造粒したガラス原料を1450℃または1500℃にて10分間溶解し、珪砂(SiO)の溶け残りを分析した結果を示す。表2において、「Qz」とはSiOの溶け残りを指し、「Cri」とはQzの高温結晶相を指す。また、表2において、「%」とは、加熱前に対する残珪砂率を示す。 Table 2 and FIG. 8 show the results of analyzing unmelted glass raw material (normally melted) or briquetted granulated glass raw material at 1450 ° C. or 1500 ° C. for 10 minutes and analyzing the undissolved residue of silica sand (SiO 2 ). Indicates. In Table 2, “Qz” refers to the undissolved residue of SiO 2 , and “Cri” refers to the high-temperature crystal phase of Qz. Moreover, in Table 2, “%” indicates the residual silica sand ratio before heating.

表2および図8の結果から、ガラス原料を造粒することにより、低温度でガラス原料を溶解することが可能となることがわかった。   From the results of Table 2 and FIG. 8, it was found that the glass raw material can be melted at a low temperature by granulating the glass raw material.

なお、窯迫MAX温度をふって得られたガラス(組成1)のRedoxを調べた結果、窯迫温度1650℃におけるRedoxは50%であり、1580℃におけるRedoxは10%であった。したがって、本発明の製造方法によれば、造粒したガラス原料を1500℃という低温度で溶解できるため、Redoxの低い透過率の高いガラスを製造することができると考えられる。   In addition, as a result of investigating Redox of the glass (composition 1) obtained by passing the kiln-seal MAX temperature, the Redox at the kiln-compression temperature of 1650 ° C was 50%, and the Redox at 1580 ° C was 10%. Therefore, according to the manufacturing method of this invention, since the granulated glass raw material can be melt | dissolved at the low temperature of 1500 degreeC, it is thought that the glass with the low transmittance | permeability of Redox can be manufactured.

1 ホッパー
2 旋回輪
3 ブリケット
51 キャスタブル容器
52 カレット
53 ガラス原料
54 分析領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hopper 2 Turning wheel 3 Briquette 51 Castable container 52 Caret 53 Glass raw material 54 Analysis area

Claims (5)

Alの含有量が5モル%超であるアルカリアルミノシリケートガラスからなるフロートガラスを化学強化して化学強化ガラスを製造する方法であって、前記アルカリアルミノシリケートガラスがガラス原料を造粒して製造したアルカリアルミノシリケートガラスであることを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 A method for producing a chemically strengthened glass by chemically strengthening a float glass made of an alkali aluminosilicate glass having an Al 2 O 3 content of more than 5 mol%, wherein the alkali aluminosilicate glass granulates a glass raw material. A method for producing chemically tempered glass, characterized in that it is an alkali aluminosilicate glass produced by the method described above. 前記アルカリアルミノシリケートガラスがFeを総Fe換算で30ppm以上含有する請求項1に記載の化学強化ガラスの製造方法。 Method for producing a chemically strengthened glass according to claim 1, wherein the alkali aluminosilicate glass contains more than 30ppm in total in terms of Fe 2 O 3 and Fe. 前記アルカリアルミノシリケートガラスのRedoxが60%以下である請求項1または2に記載の化学強化ガラスの製造方法。   The method for producing chemically tempered glass according to claim 1 or 2, wherein the redox of the alkali aluminosilicate glass is 60% or less. 前記造粒がブリケット造粒である請求項1〜3のいずれか1項に記載の化学強化ガラスの製造方法。   The method for producing chemically strengthened glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the granulation is briquette granulation. Alの含有量が5モル%超であるアルカリアルミノシリケートガラスからなる化学強化用フロートガラスを製造する方法であって、前記アルカリアルミノシリケートガラスがガラス原料を造粒して製造したアルカリアルミノシリケートガラスであることを特徴とする化学強化用フロートガラスの製造方法。 A method for producing a float glass for chemical strengthening comprising an alkali aluminosilicate glass having an Al 2 O 3 content of more than 5 mol%, wherein the alkali aluminosilicate glass is produced by granulating a glass raw material. A method for producing float glass for chemical strengthening, wherein the glass is silicate glass.
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JPWO2015088009A1 (en) * 2013-12-13 2017-03-16 旭硝子株式会社 Chemically strengthened glass, chemically strengthened glass, and method for producing chemically strengthened glass
DE102022204392A1 (en) 2022-05-04 2023-11-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein Self-healing glass material, process for its production and use

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