JP2014089102A - Contaminant treatment device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a contaminant treatment device for certainly removing a radioactive material from sludge or contaminated water containing the radioactive material such as cesium.SOLUTION: The contaminant treatment device includes: a high temperature dryer (10) having a function of heating the inside to a predetermined temperature (for example, 900°C); a cyclone (30) that is communicated with an exhaust port (10ax) of the high temperature dryer (10), and has a function of cooling the exhaust gas of the high temperature dryer (10) and a function of separating the exhaust gas of the high temperature dryer (10) into a solid (fly ash, dust, particle containing cesium) and gas (containing vaporized cesium); an exhaust gas cleaning device (70) having a function of making the gas separated by the cyclone (30) flow in water; and a water treatment mechanism (DVW) having a coagulation/sedimentation tank (140).

Description

本発明は、例えばセシウム等の放射性物質で汚染された土壌、汚泥等から、当該放射性物質を除去する汚染物質処理装置に関する。   The present invention relates to a contaminant treatment apparatus that removes a radioactive substance from soil, sludge, etc. contaminated with a radioactive substance such as cesium.

溜池や防火水槽、下水処理施設、その他において、例えばセシウムの様な放射性物質を包含する汚泥は、放射線量が高く、従業者の被爆リスクが高いため、従来技術では処理が困難である。
また、当該汚泥において、コロイド状微粒子や、藻類その他の植物体に取り込まれた浮遊物質が結合して、浮遊泥として下層部に浮遊する物が存在する。
その様な浮遊泥(セシウムの様な放射性物質を包含する汚泥)の処理も、従来の技術では困難である。
In a reservoir, fire prevention water tank, sewage treatment facility, etc., for example, sludge containing radioactive substances such as cesium is difficult to treat with conventional techniques because of its high radiation dose and high risk of exposure to employees.
Further, in the sludge, there are substances that float in the lower layer as floating mud by combining colloidal fine particles and floating substances taken into algae and other plants.
The treatment of such suspended mud (sludge containing radioactive substances such as cesium) is also difficult with conventional techniques.

さらに、溜池や防火水槽、下水処理施設、その他における下層部の汚染水(いわゆる「放射能汚染水」)も放射線量が高く、処理作業に従事する作業者の被爆リスクが高い。
そのため、当該下層部の水についても、従来技術では処理が困難である。
In addition, the contaminated water in the lower layer (so-called “radioactive contaminated water”) in reservoirs, fire prevention water tanks, sewage treatment facilities, etc. is also high in radiation dose, and there is a high risk of exposure to workers engaged in treatment work.
For this reason, it is difficult to treat the water in the lower layer with the prior art.

その他の従来技術として、例えば、使用済み燃料の再処理技術が存在する(例えば、特許文献1参照)。
しかし、係る従来技術(特許文献1)は、上述した様な放射性物質で汚染された汚泥や汚染水の処理には適用することは困難である。
As another conventional technique, for example, there is a spent fuel reprocessing technique (see, for example, Patent Document 1).
However, it is difficult to apply the related art (Patent Document 1) to the treatment of sludge and contaminated water contaminated with radioactive substances as described above.

特開2012−93283号公報JP 2012-93283 A

本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、処理作業に従事する作業者の被爆リスクを高くすることなく、例えばセシウムの様な放射性物質を包含する汚泥や汚染水から、当該放射性物質を確実に除去する汚染物質処理装置の提供を目的としている。   The present invention has been proposed in view of the above-described problems of the prior art, and without increasing the exposure risk of workers engaged in processing operations, for example, sludge and contaminated water containing radioactive substances such as cesium. Therefore, an object of the present invention is to provide a pollutant treatment apparatus that reliably removes the radioactive substances.

本発明の汚染物質処理装置は、所定温度(例えば、900℃)まで内部を加熱する機能を有する高温乾燥装置(10)と、
高温乾燥装置(10)の排気口(10ax)に連通しており、高温乾燥装置(10)の排気を冷却する機能と、高温乾燥装置(10)の排気を固体(飛灰や粉塵、セシウムを包含する粒子)と気体(気化したセシウムを含む)に分離する機能を有するサイクロン(30)と、
サイクロン(30)で分離された気体を水中に流過させる機能を有する排気洗浄装置(70)と、
凝集沈殿槽(140)を備えた水処理機構(粗取り原水槽80、一次攪拌反応槽90、二次攪拌反応槽110、流体移動圧送ポンプ130、凝集沈殿槽140)を備えていることを特徴としている。
The contaminant treatment apparatus of the present invention includes a high-temperature drying apparatus (10) having a function of heating the inside to a predetermined temperature (for example, 900 ° C.),
It communicates with the exhaust port (10ax) of the high-temperature drying device (10) and cools the exhaust of the high-temperature drying device (10), and the exhaust of the high-temperature drying device (10) is solid (fly ash, dust, cesium A cyclone (30) having a function of separating particles (including particles) and gas (including vaporized cesium);
An exhaust cleaning device (70) having a function of allowing the gas separated by the cyclone (30) to flow into water;
It is provided with a water treatment mechanism (roughing raw water tank 80, primary agitation reaction tank 90, secondary agitation reaction tank 110, fluid moving pressure pump 130, agglomeration precipitation tank 140) provided with a coagulation sedimentation tank (140). It is said.

本発明において、凝集沈殿槽(140)を備えた水処理機構(粗取り原水槽80、一次攪拌反応槽90、二次攪拌反応槽110、流体移動圧送ポンプ130、凝集沈殿槽140)は、排気洗浄装置(70)から排出された水を処理しているのが好ましい。   In the present invention, the water treatment mechanism (coarse water tank 80, primary stirring reaction tank 90, secondary stirring reaction tank 110, fluid moving pressure pump 130, and coagulating sedimentation tank 140) provided with the coagulation sedimentation tank (140) is exhausted. It is preferable to treat the water discharged from the cleaning device (70).

或いは、本発明において、凝集沈殿槽(140)の沈殿物を固液分離する固液分離機(160)を備え、固液分離機(160)で分離された固体を高温乾燥装置(10)に投入する搬送装置(定量供給スクリューコンベア9:遮蔽性を有する2重スクリュー)を設けているのが好ましい。   Or in this invention, the solid-liquid separator (160) which carries out solid-liquid separation of the deposit of a coagulation sedimentation tank (140) is provided, and the solid isolate | separated with the solid-liquid separator (160) is made into a high temperature drying apparatus (10). It is preferable to provide a feeding device (quantitative supply screw conveyor 9: a double screw having shielding properties).

上述する構成を具備する本発明によれば、汚泥を高温乾燥装置(10)で900℃程度まで加熱するので、セシウムが気化して汚泥から完全に分離する。そのため、高温乾燥装置(10)から排出された固体分にはセシウムは包含されていない。
そのため、(放射線量が所定の基準値以下ならば)高温乾燥装置(10)から排出された固体分を埋設処理することが出来る。
According to the present invention having the above-described configuration, since the sludge is heated to about 900 ° C. by the high-temperature drying device (10), cesium is vaporized and completely separated from the sludge. Therefore, cesium is not included in the solid matter discharged from the high-temperature drying apparatus (10).
Therefore, the solid matter discharged from the high-temperature drying device (10) can be embedded (if the radiation dose is equal to or less than a predetermined reference value).

高温乾燥装置(10)の飛灰や粉塵、気化したセシウムは、サイクロン(30)で冷却され、固体と気体に分離される。
サイクロン(30)で分離された固体は、安定化処理(例えば、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加してガラス状に固化する処理)を行った後、専用遮蔽容器(5)で保管することが出来る。
一方、サイクロンで分離された気体は、排気洗浄装置(70)において水中を移動する際に、セシウムが水により捕集されて、気体からは除去される。そのため、水を経由した気体は清浄化される。
Fly ash, dust, and vaporized cesium in the high-temperature drying apparatus (10) are cooled by the cyclone (30) and separated into solid and gas.
The solid separated by the cyclone (30) is subjected to stabilization treatment (for example, a treatment for adding a sodium silicate aqueous solution and a phosphoric acid aqueous solution to solidify it into a glass), and then storing it in a dedicated shielding container (5). I can do it.
On the other hand, when the gas separated by the cyclone moves in water in the exhaust gas cleaning device (70), cesium is collected by the water and removed from the gas. Therefore, the gas passing through water is cleaned.

ここで、排気洗浄装置(70)でセシウムを捕集した水が、凝集沈殿槽(140)を包含する水処理機構(粗取り原水槽80、一次攪拌反応槽90、二次攪拌反応槽110、流体移動圧送ポンプ130、凝集沈殿槽140)に供給されるように構成すれば、当該水中のセシウムを包含する汚泥は、凝集沈殿槽(140)で凝集、沈殿される。
そして、凝集沈殿槽(140)の沈殿物を、固液分離機(160)で固体と液体に分離して、分離された固体を、処理設備(図示せず)で安定化処理を行なう。
また、凝集沈殿槽(140)の上澄液と、固液分離機(160)で分離された液体は、排気洗浄装置(70)における排気洗浄用水として利用し、或いは、処理設備(図示せず)で安定化処理することが出来る。
Here, the water in which the cesium was collected by the exhaust gas cleaning device (70) is a water treatment mechanism including the coagulation sedimentation tank (140) (raw rough water tank 80, primary stirring reaction tank 90, secondary stirring reaction tank 110, When configured to be supplied to the fluid moving pump 130 and the coagulation sedimentation tank 140), the sludge containing cesium in the water is coagulated and precipitated in the coagulation sedimentation tank (140).
And the deposit of a coagulation sedimentation tank (140) is isolate | separated into a solid and a liquid with a solid-liquid separator (160), and the separated solid is stabilized with a processing equipment (not shown).
Further, the supernatant liquid of the coagulation sedimentation tank (140) and the liquid separated by the solid-liquid separator (160) are used as exhaust cleaning water in the exhaust cleaning device (70), or a processing facility (not shown). ) Can be stabilized.

すなわち、本発明によれば、放射性物質(例えばセシウム)を包含する汚泥を固体、気体、液体に分離して、各々から、放射性物質(例えばセシウム)を完全に除去することにより、汚泥中から放射性物質(例えばセシウム)を除去している。
そして、汚泥中から放射性物質(例えばセシウム)を除去する処理は、全て閉鎖系で実行することが出来るので、作業者が被爆すること無く、高濃度の放射性物質で汚染された汚泥を処理することが出来る。
That is, according to the present invention, the sludge containing a radioactive substance (for example, cesium) is separated into solid, gas, and liquid, and the radioactive substance (for example, cesium) is completely removed from each to thereby remove the radioactive substance from the sludge. Material (eg cesium) is removed.
And since all the processes to remove radioactive substances (eg cesium) from the sludge can be performed in a closed system, the sludge contaminated with high-concentration radioactive substances can be processed without being exposed to the workers. I can do it.

また本発明において、凝集沈殿槽(140)の沈殿物を固液分離する固液分離機(160)を備え、固液分離機(160)で分離された固体を高温乾燥装置(10)に投入する搬送装置(定量供給スクリューコンベア9)を設けた場合には、先ず、汚泥や汚染水を水処理機構(粗取り原水槽80、一次攪拌反応槽90、二次攪拌反応槽110、流体移動圧送ポンプ130、凝集沈殿槽140)に供給し、凝集沈殿槽(140)で沈殿物と上澄液とに分離する。
そして、凝集沈殿槽(140)の沈殿物を、固液分離機(160)で固体と液体に分離して、分離された固体を、高温乾燥装置(10)で900℃程度まで加熱する。これにより、当該固体は、セシウムが気化して分離した固体と、飛灰や粉塵、気化したセシウムに分離される。
当該飛灰や粉塵、気化したセシウムは、サイクロン(30)で冷却され、固体と気体に分離され、サイクロン(30)で分離された固体は、安定化処理(例えば、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加してガラス状に固化する処理)を行った後、専用遮蔽容器(5)で保管することが出来る。そして、サイクロン(30)で分離された気体は、排気洗浄装置(70)において水中を移動する際に、セシウムが水により捕集されて、気体からは除去することが出来る。
Moreover, in this invention, the solid-liquid separator (160) which carries out solid-liquid separation of the deposit of a coagulation sedimentation tank (140) is provided, and the solid isolate | separated by the solid-liquid separator (160) is thrown into a high temperature drying apparatus (10). When a conveying device (quantitative supply screw conveyor 9) is provided, first, sludge and contaminated water are treated with a water treatment mechanism (roughing raw water tank 80, primary stirring reaction tank 90, secondary stirring reaction tank 110, fluid moving pressure feed). The pump 130 and the coagulation sedimentation tank 140) are supplied and separated into the precipitate and the supernatant in the coagulation sedimentation tank (140).
And the deposit of a coagulation sedimentation tank (140) is isolate | separated into a solid and a liquid with a solid-liquid separator (160), and the isolate | separated solid is heated to about 900 degreeC with a high temperature drying apparatus (10). Thereby, the said solid is isolate | separated into the solid which cesium vaporized and isolate | separated, and fly ash, dust, and vaporized cesium.
The fly ash, dust, and vaporized cesium are cooled in a cyclone (30) and separated into a solid and a gas, and the solid separated in the cyclone (30) is stabilized (for example, sodium silicate aqueous solution and phosphoric acid aqueous solution). Can be stored in a dedicated shielding container (5). The gas separated by the cyclone (30) can be removed from the gas as cesium is collected by the water when moving in the water in the exhaust cleaning device (70).

一方、凝集沈殿槽(140)において、セシウムは殆ど沈殿しており、上澄液における含有量は非常に少ない。そして、当該上澄液と、固液分離機(160)で分離された液体は、再利用することにより、本発明の処理装置の外部に出すこと無く、再利用することが出来る。
その結果、セシウムのような放射性物質を拡散させること無く、汚泥や汚染水から除去することが出来る。
On the other hand, in the coagulation sedimentation tank (140), cesium is almost precipitated, and the content in the supernatant is very small. Then, the supernatant and the liquid separated by the solid-liquid separator (160) can be reused without being taken out of the processing apparatus of the present invention.
As a result, radioactive substances such as cesium can be removed from sludge and contaminated water without diffusing.

本発明の第1実施形態を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention. 第1実施形態の要部を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the principal part of 1st Embodiment. 第1実施形態における水処理系統を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the water treatment system | strain in 1st Embodiment. 第1実施形態の変形例における要部を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the principal part in the modification of 1st Embodiment. 本発明の第2実施形態を示すブロック図である。It is a block diagram which shows 2nd Embodiment of this invention.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図示の実施形態においては、放射性物質としてセシウムを例示している。
先ず、図1〜図3を参照して、第1実施形態を説明する。
図1において、全体を符号1で示す汚染物質処理装置は、高温乾燥装置10と、処理後物保水混練機20と、サイクロン30と、サイクロン処理後の混練機40と、安定化処理混練機50と、冷却用熱交換器HXと、熱交換煙道60と、排気洗浄装置70と、水処理機構DVWを備えている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the illustrated embodiment, cesium is exemplified as the radioactive substance.
First, a first embodiment will be described with reference to FIGS.
In FIG. 1, the pollutant treatment apparatus generally indicated by reference numeral 1 includes a high-temperature drying apparatus 10, a post-treatment water retention kneader 20, a cyclone 30, a cyclone treatment kneader 40, and a stabilization treatment kneader 50. And a cooling heat exchanger HX, a heat exchange flue 60, an exhaust cleaning device 70, and a water treatment mechanism DVW.

高温乾燥装置10と、処理後物保水混練機20と、サイクロン30と、サイクロン処理後の混練機40と、安定化処理混練機50と、排気洗浄装置70の詳細が、図2で示されている。
図2において、高温乾燥装置10は、円筒状のケーシング11と、処理物投入口(図示せず)に連通した投入スクリュー12と、ドラムスクリーン13と、ドラムスクリーン回転軸14と、ドラム駆動モータ10Mと、回転力伝達機構15を備えている。
高温乾燥装置10において、円筒状のケーシング11、投入スクリュー12、ドラムスクリーン13及びドラムスクリーン回転軸14は、何れもその中心軸が水平方向に延在している。
The details of the high-temperature drying device 10, the post-treatment water retention kneader 20, the cyclone 30, the kneader 40 after the cyclone treatment, the stabilization kneader 50, and the exhaust cleaning device 70 are shown in FIG. Yes.
In FIG. 2, a high-temperature drying apparatus 10 includes a cylindrical casing 11, an input screw 12 communicating with a processing object input port (not shown), a drum screen 13, a drum screen rotating shaft 14, and a drum drive motor 10M. And a rotational force transmission mechanism 15.
In the high-temperature drying apparatus 10, the cylindrical casing 11, the charging screw 12, the drum screen 13, and the drum screen rotating shaft 14 all have horizontal axes extending in the horizontal direction.

円筒状のケーシング11のエンドプレート11eには高温バーナー10Bが取り付けられており、高温バーナー10Bは、ドラムスクリーン13内の処理物(セシウム等の放射性物質で汚染された汚染物質を包含する汚泥等)を加熱している。明示はされていないが、高温バーナー10Bは、高温運転と低温運転を切り換え可能に構成されている。
高温乾燥装置10において、図示しない処理物投入口には、定量供給スクリューコンベア9が接続されている。
図1で示す様に、高温乾燥装置10には、ケーシング11内部の圧力を計測する圧力センサSRが設けられている。圧力センサSRは、入力信号ラインSiを介して、制御用コンピュータ300と接続されている。制御用コンピュータ300は、ブロワ駆動用モータ70Mと制御信号サインSoで接続されており、以って、ケーシング11内部の圧力に対応してモータ70Mの回転数が制御されるように構成されている。
A high-temperature burner 10B is attached to the end plate 11e of the cylindrical casing 11, and the high-temperature burner 10B is a treated product in the drum screen 13 (sludge including contaminants contaminated with radioactive substances such as cesium). Is heating up. Although not clearly shown, the high temperature burner 10B is configured to be switchable between a high temperature operation and a low temperature operation.
In the high-temperature drying apparatus 10, a fixed quantity supply screw conveyor 9 is connected to a workpiece input port (not shown).
As shown in FIG. 1, the high-temperature drying apparatus 10 is provided with a pressure sensor SR that measures the pressure inside the casing 11. The pressure sensor SR is connected to the control computer 300 via the input signal line Si. The control computer 300 is connected to the blower driving motor 70M by a control signal sign So, and is thus configured to control the rotation speed of the motor 70M in accordance with the pressure inside the casing 11. .

図2において、定量供給スクリューコンベア9は、投入口91と、円筒状のケーシング92と、スクリューコンベア本体93と、スクリューコンベア本体93を回転駆動する駆動モータ94を備えている。
定量供給スクリューコンベア9において、円筒状のケーシング92、スクリューコンベア本体93及び駆動モータ94は、何れもその中心軸が水平に延在している。ここで、定量供給スクリューコンベア9は、作業員の被爆を防止するため、遮蔽性を有する2重スクリューとして構成されるのが好ましい。
図1において、符号8は、例えばセシウムで汚染された汚泥(下水道汚泥、溜池や防火水槽の底部に貯留した汚泥等)や土壌を、定量供給スクリューコンベア9の投入口91まで搬送する搬送装置(例えば、カート、或いはベルトコンベア)を示している。
In FIG. 2, the fixed amount supply screw conveyor 9 includes an input port 91, a cylindrical casing 92, a screw conveyor main body 93, and a drive motor 94 that rotationally drives the screw conveyor main body 93.
In the fixed amount supply screw conveyor 9, the central axis of the cylindrical casing 92, the screw conveyor body 93, and the drive motor 94 all extend horizontally. Here, it is preferable that the fixed supply screw conveyor 9 is configured as a double screw having a shielding property in order to prevent the worker from being exposed to radiation.
In FIG. 1, the code | symbol 8 is the conveyance apparatus (Sewage sludge, sludge etc. which were stored in the bottom of a pond or a fire prevention water tank) and soil contaminated with cesium etc. to the inlet 91 of the fixed supply screw conveyor 9 (for example). For example, a cart or a belt conveyor) is shown.

図2において、高温乾燥装置10は、円筒状ケーシング11の後端(図2における右端)近傍の垂直方向上方には、気体排出口10axを設けている。気体排出口10axは、熱交換器HXに接続されている。
また、円筒状ケーシング11の後端近傍で、気体排出口10axよりも垂直方向下方には、固形物を排出するための固形物排出管10bが設けられている。固形物排出管10bは、第1の開閉弁V1を介して、排出口10bxに連通している。固形物排出口10bxは、第2の開閉弁V2を介して、処理後物保水混練機20の投入口21iに接続されている。
In FIG. 2, the high-temperature drying device 10 is provided with a gas discharge port 10 ax in the vertical direction near the rear end (right end in FIG. 2) of the cylindrical casing 11. The gas discharge port 10ax is connected to the heat exchanger HX.
Further, in the vicinity of the rear end of the cylindrical casing 11, a solid matter discharge pipe 10b for discharging solid matter is provided below the gas discharge port 10ax in the vertical direction. The solid matter discharge pipe 10b communicates with the discharge port 10bx via the first on-off valve V1. The solid matter discharge port 10bx is connected to the input port 21i of the post-treatment water retention kneader 20 through the second on-off valve V2.

固形物排出管10b内には第1のレベルセンサSR1が装着され、固形物排出口10bx内には第2のレベルセンサSR2が装着されている。
固形物排出管10bにおいて、高温乾燥装置10からの固体排出物(顆粒:多孔質体)が第1の開閉弁V1よりも上の領域に溜まり、第1のレベルセンサSR1に接触すると、第1の開閉弁V1が開放されるように構成されている。第1の開閉弁V1が開放される際に、第2の開閉弁V2は閉鎖している。
第2の開閉弁V2は閉鎖した状態で第1の開閉弁V1が開放されると、所定量の顆粒或いは多孔質体は、固形物排出管10bにおける第1の開閉弁V1と第2の開閉弁V2との間の領域に堆積する。
A first level sensor SR1 is mounted in the solid material discharge pipe 10b, and a second level sensor SR2 is mounted in the solid material discharge port 10bx.
In the solid discharge pipe 10b, when solid discharge (granule: porous body) from the high-temperature drying apparatus 10 accumulates in a region above the first on-off valve V1 and comes into contact with the first level sensor SR1, the first level sensor SR1 The on-off valve V1 is configured to be opened. When the first on-off valve V1 is opened, the second on-off valve V2 is closed.
When the first on-off valve V1 is opened while the second on-off valve V2 is closed, a predetermined amount of granule or porous material is formed between the first on-off valve V1 and the second on-off of the solid matter discharge pipe 10b. Deposits in the region between the valve V2.

第1の開閉弁V1と第2の開閉弁V2との間の領域に堆積した顆粒或いは多孔質体が、第2のレベルセンサSR2に接触すると、第2の開閉弁V2が開放され、顆粒(多孔質体)は処理後物保水混練機20に投入されるように構成されている。この時、第1の開閉弁V1は閉鎖している。
換言すれば、固形物排出管10b、第1の開閉弁V1、第2の開閉弁V2と、第1のレベルセンサSR1、第2のレベルセンサSR2が、処理後物保水混練機20に投入される処理物の計量計の役を負っている。なお、第1の開閉弁V1と第2の開閉弁V2が同時に開放することはなく、何れか一方のみが開放する様に構成されている。
When the granule or porous body deposited in the region between the first on-off valve V1 and the second on-off valve V2 comes into contact with the second level sensor SR2, the second on-off valve V2 is opened and the granule ( The porous body) is configured so as to be put into the post-treatment water retention kneader 20. At this time, the first on-off valve V1 is closed.
In other words, the solid material discharge pipe 10b, the first on-off valve V1, the second on-off valve V2, the first level sensor SR1, and the second level sensor SR2 are put into the post-treatment water retention kneader 20. It acts as a meter for the processed material. The first on-off valve V1 and the second on-off valve V2 are not opened at the same time, and only one of them is opened.

高温乾燥装置10では、投入口91に投入された処理物(下水道汚泥、溜池や防火水槽の底部に貯留した汚泥等、固液分離機160で分離された固形物)は、投入スクリュー12によってドラムスクリーン13内に搬送され、高温バーナー10Bにより加熱される。
加熱された処理物は、ドラムスクリーン13のスクリーンを透過して、ドラムスクリーン13とケーシング11内周面の間の円環状の空間に進入する。ここで、ドラムスクリーン13はドラム駆動モータ10Mで回転駆動されている。
ドラムスクリーン13の外周面には、スパイラル状の案内ビード13bが形成されている。ドラムスクリーン13が回転すると、円筒状ケーシング11の内周とドラムスクリーン13の外周とで形成される円環状空間に進入した処理物は、加熱されつつ、案内ビード13bに押圧されて搬送される。
In the high-temperature drying apparatus 10, the processed material (solid matter separated by the solid-liquid separator 160, such as sewer sludge, sludge stored in the bottom of a pond or fire prevention water tank) that has been input to the input port 91 is drummed by the input screw 12. It is conveyed into the screen 13 and heated by the high temperature burner 10B.
The heated processed material passes through the screen of the drum screen 13 and enters an annular space between the drum screen 13 and the inner peripheral surface of the casing 11. Here, the drum screen 13 is rotationally driven by a drum drive motor 10M.
A spiral guide bead 13 b is formed on the outer peripheral surface of the drum screen 13. When the drum screen 13 rotates, the processed material that has entered the annular space formed by the inner periphery of the cylindrical casing 11 and the outer periphery of the drum screen 13 is pressed and conveyed by the guide beads 13b while being heated.

高温乾燥装置10では高温バーナー10Bが稼動しており、高温バーナー10Bの火炎の温度は、約900℃に設定されている。
当該火炎温度900℃は、セシウムの気化温度671℃に比較して遥かに高温である。そのため、高温乾燥装置10で加熱、搬送される汚染物質のセシウムは、ほとんどが気化して除去される。
そして、気化したセシウム及び高温乾燥装置10の飛灰や粉塵は、気体排出口10axから、熱交換器HX及び接続部材JDを介して、サイクロン30に搬送される。
In the high temperature drying apparatus 10, the high temperature burner 10B is operating, and the temperature of the flame of the high temperature burner 10B is set to about 900 ° C.
The flame temperature of 900 ° C. is much higher than the vaporization temperature of cesium of 671 ° C. Therefore, most of the contaminant cesium heated and conveyed by the high-temperature drying apparatus 10 is vaporized and removed.
And the vaporized cesium and the fly ash and dust of the high temperature drying apparatus 10 are conveyed from the gas discharge port 10ax to the cyclone 30 via the heat exchanger HX and the connection member JD.

含有されるセシウムのほとんどが気化してしまった残りの固体(顆粒:多孔質体)は、固形物排出管10bを経由して、一定量ずつが(いわゆる「バッチ式」に)処理後物保水混練機20に投入される。
処理後物保水混練機20は、円筒状ケーシング21と、スクリューコンベア22と、スクリューコンベア駆動モータ23とを備えている。円筒状ケーシング21、スクリューコンベア22及びスクリューコンベア駆動モータ23は、何れもその中心軸が水平に配置されている。
The remaining solid (granule: porous body) from which most of the contained cesium has been vaporized is treated by a certain amount (in a so-called “batch type”) after treatment through the solid discharge pipe 10b. The kneading machine 20 is charged.
The post-treatment water retention kneader 20 includes a cylindrical casing 21, a screw conveyor 22, and a screw conveyor drive motor 23. As for the cylindrical casing 21, the screw conveyor 22, and the screw conveyor drive motor 23, the center axis | shaft is arrange | positioned horizontally all.

図2において、処理後物保水混練機20の二重管構造の円筒状ケーシング(外管)21における左端に、スクリューコンベア駆動モータ23が配置されている。
そして、円筒状ケーシング21の外周における右端近傍の垂直方向上方に投入口21iが形成され、左端近傍の垂直方向下方に排出口21oが形成されている。
円筒状ケーシング21の外周における投入口21i近傍には酸性水注入口21aが形成されており、酸性水注入口21aを経由して、セシウムを含まない酸性水溶水が円筒状ケーシング21内に注入される。酸性水溶水供給系統に関しては、水処理機構DVWに関連して後述する。
円筒状ケーシング21の外周における右端近傍の垂直方向下方に冷却水注入口21cが形成され、排出口21o近傍で垂直方向下方には冷却水の排出口21hが形成されている。
In FIG. 2, the screw conveyor drive motor 23 is arrange | positioned in the left end in the cylindrical casing (outer tube) 21 of the double tube structure of the post-process water retention kneader 20. FIG.
An inlet 21i is formed in the vertical direction near the right end of the outer periphery of the cylindrical casing 21, and a discharge port 21o is formed in the vertical direction near the left end.
An acidic water inlet 21a is formed in the vicinity of the inlet 21i on the outer periphery of the cylindrical casing 21, and acidic aqueous water not containing cesium is injected into the cylindrical casing 21 via the acidic water inlet 21a. The The acidic aqueous solution supply system will be described later in relation to the water treatment mechanism DVW.
A cooling water injection port 21c is formed in the vertical direction near the right end of the outer periphery of the cylindrical casing 21, and a cooling water discharge port 21h is formed in the vertical direction near the discharge port 21o.

高温乾燥装置10の固形物排出管10bから排出される固形物は、細かい粉塵を凝集したものを加熱しているため、多孔質体の顆粒となっている場合が多い。そして上述した様に、当該顆粒はセシウムを殆ど含まない。そして、当該顆粒は放射線量が規定値以下であれば、埋設処分が可能であるのみならず、土壌改良材として再利用することも出来る。
ここで、高温乾燥装置10の固形物排出管10bから排出された状態の顆粒は、pHが高く、強いアルカリ性である。処理後物保水混練機20において、顆粒に酸性水溶液を添加することにより、当該顆粒を中和して、埋設処理を可能にせしめ、或いは、土壌改良材として利用可能にしている。処理後物保水混練機20の酸性水注入口21aから注入される酸化水溶水としては、水処理機構DVWの酸化液貯留槽220(図1)で処理生成された水(酸化水溶水)を用いることが出来る。
なお、上記顆粒は多孔質体であり、単位体積あたりの表面積が大きいため、良好な吸着性能を発揮して、汚染土壌内の放射性物質を吸着することができ、吸着した放射性物質を溶出しない。従って、土壌改良材として土壌に埋め戻すことにより、放射能汚染処理を行うことが出来る。
Since the solid matter discharged from the solid matter discharge pipe 10b of the high-temperature drying apparatus 10 is heating agglomerated fine dust, it is often a porous granule. And as above-mentioned, the said granule hardly contains cesium. And if the said radiation amount is below a regulation value, the said granule can not only be embed disposal, but can also be reused as a soil improvement material.
Here, the granules in the state discharged from the solid material discharge pipe 10b of the high-temperature drying apparatus 10 have a high pH and strong alkalinity. In the post-treatment water retention kneader 20, an acidic aqueous solution is added to the granule to neutralize the granule so that it can be embedded or used as a soil improvement material. As the oxidized water solution injected from the acidic water inlet 21a of the post-treatment water retention kneader 20, the water (oxidized aqueous solution) generated by the treatment in the oxidation solution storage tank 220 (FIG. 1) of the water treatment mechanism DVW is used. I can do it.
In addition, since the said granule is a porous body and its surface area per unit volume is large, it can exhibit favorable adsorption | suction performance, can adsorb | suck the radioactive substance in contaminated soil, and does not elute the adsorbed radioactive substance. Therefore, the radioactive contamination treatment can be performed by backfilling the soil as a soil improvement material.

処理後物保水混練機20の冷却水注入口21cからは、冷却循環槽240から送られる冷却水が二重管の環状部に注入される。固形物排出管10bから排出された状態の顆粒は高温であるため、そのまま排出したのでは、周囲環境を昇温してしまうからである。
図1で示すように、二重管の環状部に注入された冷却水は、ケーシング21内部を搬送中の顆粒を所定の温度まで冷却した後、排出口21hから排出され、後述するラインLr17経由で冷却循環槽240に戻される。
From the cooling water inlet 21c of the post-treatment water retention kneader 20, the cooling water sent from the cooling circulation tank 240 is injected into the annular portion of the double pipe. This is because the granules discharged from the solid discharge pipe 10b have a high temperature, and if discharged as it is, the surrounding environment is heated.
As shown in FIG. 1, the cooling water injected into the annular portion of the double pipe cools the granules being transported inside the casing 21 to a predetermined temperature, and then is discharged from the discharge port 21h, via a line Lr17 described later. Is returned to the cooling circulation tank 240.

上述した様に、高温乾燥装置10で気化したセシウムは、高温乾燥装置10の飛灰や粉塵と共に、気体排出口10axから熱交換器HX及び接続ダクトJDを経由して、冷却サイクロン30に搬送される。
熱交換器HXでは、冷却流体(例えば、冷却循環槽240で冷却された冷却水)が注入され(Fcの流れ)、熱交換器HXを流下する気体状のセシウムと熱交換をして温まった冷却水が再び冷却循環槽240に戻される。冷却流体の流れは、図2において、矢印Fhで示されている。
As described above, the cesium vaporized in the high temperature drying apparatus 10 is transported to the cooling cyclone 30 from the gas discharge port 10ax through the heat exchanger HX and the connection duct JD together with the fly ash and dust of the high temperature drying apparatus 10. The
In the heat exchanger HX, a cooling fluid (for example, cooling water cooled in the cooling circulation tank 240) is injected (flow of Fc), and heat is exchanged with gaseous cesium flowing down the heat exchanger HX and warmed. The cooling water is returned to the cooling circulation tank 240 again. The flow of the cooling fluid is indicated by an arrow Fh in FIG.

図2において、サイクロン30は、円錐状の渦室31と、上端の円筒部32と、吸入部33と、気体排出管34と、円筒部32の上端を閉塞する天蓋35を備えている。
円錐状の渦室31は、部分円錐形状の管を二重にして(いわゆる「ジャケット」として)構成され、図示の例では垂直方向で4層に分割されている。円錐状の渦室31の4層の各々(のジャケット)には、冷却水注入孔3ciと、冷却水排出孔3coとが設けられている。
円筒部32は渦室31の上端に接続している。そして排出管34は、天蓋35を貫通している。
In FIG. 2, the cyclone 30 includes a conical vortex chamber 31, an upper cylindrical portion 32, a suction portion 33, a gas discharge pipe 34, and a canopy 35 that closes the upper end of the cylindrical portion 32.
The conical vortex chamber 31 is formed by doubling a partially conical tube (as a so-called “jacket”), and is divided into four layers in the vertical direction in the illustrated example. Each of the four layers (the jacket) of the conical vortex chamber 31 is provided with a cooling water injection hole 3ci and a cooling water discharge hole 3co.
The cylindrical portion 32 is connected to the upper end of the vortex chamber 31. The discharge pipe 34 passes through the canopy 35.

排出管34の上端(排出孔)34oは、熱交換煙道60の吸入口61iに接続されている。
明示されていないが、円錐状の渦室31の4層の各々のジャケットにおける冷却水注入孔3ciには、冷却循環槽240で冷却された冷却水が注入される。当該冷却水は、各ジャケットの半径方向内方の領域に存在する高温乾燥装置10の排気と熱交換して昇温される。昇温された冷却水は、冷却水排出孔3coから冷却循環槽240(図1参照:図2では図示せず)に戻される。
The upper end (discharge hole) 34 o of the discharge pipe 34 is connected to the suction port 61 i of the heat exchange flue 60.
Although not clearly shown, the cooling water cooled in the cooling circulation tank 240 is injected into the cooling water injection holes 3ci in the respective jackets of the four layers of the conical vortex chamber 31. The cooling water is heated by exchanging heat with the exhaust of the high-temperature drying device 10 existing in the radially inner region of each jacket. The cooling water whose temperature has been raised is returned to the cooling circulation tank 240 (see FIG. 1; not shown in FIG. 2) from the cooling water discharge hole 3co.

サイクロン30の吸入部33は、円筒部32の外縁近傍で円筒部32の断面形状(円形)の接線方向に延在する様に配置されている。
気体排出管34は、排気洗浄装置70に設けたブロワ70Bと(間接的に)連通しており、ブロワ70Bの作動によってサイクロン30の内部(渦室31)が負圧となり、吸入部33から吸入される気化したセシウムが渦流をなし、渦室31を勢いよく流下する。
The suction portion 33 of the cyclone 30 is disposed in the vicinity of the outer edge of the cylindrical portion 32 so as to extend in the tangential direction of the cross-sectional shape (circular shape) of the cylindrical portion 32.
The gas discharge pipe 34 communicates (indirectly) with a blower 70B provided in the exhaust cleaning device 70, and the inside of the cyclone 30 (vortex chamber 31) becomes negative pressure by the operation of the blower 70B, and is sucked from the suction part 33. The vaporized cesium is swirled and flows down the vortex chamber 31 vigorously.

気化したセシウムはサイクロン30に吸入され、サイクロンの円錐状の渦室31で冷却され、再び固化する。セシウムが固化する際に、排気に含まれるコロイド状粒子(微粉塵)に吸着される。
セシウムを吸着した微粉塵(固形物)は比重量が大きいため、サイクロンの円錐状の渦室31内で遠心分離され、渦室31の内壁に沿って下降する。そしてセシウムを吸着した微粉塵(固形物)は、固形物排出口31oから、サイクロン処理後の混練機40の円筒状ケーシング41に投入される。
渦室31で固化しなかった気体のセシウムは、ブロワ70Bの吸引力によって、サイクロン30の気体排出管34及び熱交換煙道60を経由して、排気洗浄装置70の吸入口72iに吸い込まれる。
The vaporized cesium is sucked into the cyclone 30, cooled in the cyclone conical vortex chamber 31, and solidifies again. When cesium solidifies, it is adsorbed by colloidal particles (fine dust) contained in the exhaust.
Since fine dust (solid matter) adsorbing cesium has a large specific weight, it is centrifuged in the conical vortex chamber 31 of the cyclone and descends along the inner wall of the vortex chamber 31. The fine dust (solid matter) adsorbing cesium is charged into the cylindrical casing 41 of the kneader 40 after the cyclone treatment from the solid matter outlet 31o.
The gaseous cesium that has not solidified in the vortex chamber 31 is sucked into the suction port 72i of the exhaust gas cleaning device 70 via the gas discharge pipe 34 and the heat exchange flue 60 of the cyclone 30 by the suction force of the blower 70B.

サイクロン処理後の混練機40(以下、混練機40という)は、円筒状ケーシング41と、スクリューコンベア42と、スクリューコンベア駆動モータ43とを備えている。円筒状ケーシング41は、サイクロン30の下端に接続されている。
円筒状ケーシング41、スクリューコンベア42及びスクリューコンベア駆動モータ43は、何れもその中心軸が水平方向に延在している。
The kneading machine 40 after the cyclone treatment (hereinafter, referred to as the kneading machine 40) includes a cylindrical casing 41, a screw conveyor 42, and a screw conveyor drive motor 43. The cylindrical casing 41 is connected to the lower end of the cyclone 30.
The cylindrical casing 41, the screw conveyor 42, and the screw conveyor drive motor 43 all have their central axes extending in the horizontal direction.

図2において、混練機40の二重管構造の円筒状ケーシング41内にスクリューコンベア42が収容され、ケーシング41における左端に、スクリューコンベア駆動モータ43が配置されている。
円筒状ケーシング41における左端近傍の垂直方向上方には、サイクロン30の固形物排出口31oが配置されている。そして、ケーシング41の右端近傍の垂直方向下方には微粉塵(固形物)の排出管44が形成されている。そして、排出管44は、安定化処理混練機50に連通している。
In FIG. 2, a screw conveyor 42 is accommodated in a cylindrical casing 41 having a double-pipe structure of a kneader 40, and a screw conveyor drive motor 43 is disposed at the left end of the casing 41.
A solid material discharge port 31o of the cyclone 30 is disposed above the left end of the cylindrical casing 41 in the vertical direction. A discharge pipe 44 for fine dust (solid matter) is formed below the right end of the casing 41 in the vertical direction. The discharge pipe 44 communicates with the stabilization processing kneader 50.

円筒状ケーシング41において、固形物排出口31oと接続されている箇所の下方には、冷却水を注入する冷却水注入口41cが形成されている。また、円筒状ケーシング41における右端近傍の下方には、冷却水排出口41hが形成されている。冷却水注入口41cからケーシング41内に注入され、冷却水排出口41hから排出される冷却水は、冷却循環槽240(図1参照)で冷却された冷却水である。
図2において、セシウムを吸着した微粉塵は、高温であり、固形物排出口31oから混練機40のケーシング41に投入される。ケーシング41に投入された微粉塵は、ケーシング41内をスクリューコンベア42によって図2の右方(排出管44の側)に搬送される。
スクリューコンベア42で搬送されている最中に、冷却循環槽240(図1)で冷却された冷却水が冷却水注入口41cから注入され、搬送中の高温の微粉塵から熱を奪い(冷却水は)昇温して、冷却水排出口41hから冷却循環槽240(図1)に戻される。
In the cylindrical casing 41, a cooling water inlet 41c for injecting cooling water is formed below a portion connected to the solid matter outlet 31o. A cooling water discharge port 41 h is formed below the right end of the cylindrical casing 41. The cooling water injected into the casing 41 from the cooling water inlet 41c and discharged from the cooling water outlet 41h is the cooling water cooled in the cooling circulation tank 240 (see FIG. 1).
In FIG. 2, the fine dust adsorbing cesium is at a high temperature, and is charged into the casing 41 of the kneader 40 from the solid matter outlet 31o. The fine dust thrown into the casing 41 is conveyed in the casing 41 to the right side of FIG.
While being conveyed by the screw conveyor 42, the cooling water cooled in the cooling circulation tank 240 (FIG. 1) is injected from the cooling water inlet 41c, and heat is taken from the high-temperature fine dust being transferred (cooling water). The temperature is raised and returned to the cooling circulation tank 240 (FIG. 1) from the cooling water discharge port 41h.

図3で示すように、サイクロン30を多段のサイクロンで構成することも可能である。
図3の例では、先ず、メインサイクロン30Aの気体排出管34Aは、3基のサイクロン30B、30C、30Dの各々の吸入部と接続している。3基のサイクロン30B、30C、30Dの各々の気体排出管は、1本の気体排出管に合流しており、図3では図示しない熱交換煙道60と接続されている。
サイクロン30を多段で構成することにより、固体と気体の分離効率を向上することが出来る。
As shown in FIG. 3, the cyclone 30 can be constituted by a multistage cyclone.
In the example of FIG. 3, first, the gas exhaust pipe 34A of the main cyclone 30A is connected to the suction portions of the three cyclones 30B, 30C, and 30D. The gas exhaust pipes of the three cyclones 30B, 30C, and 30D merge into one gas exhaust pipe, and are connected to a heat exchange flue 60 (not shown in FIG. 3).
By configuring the cyclone 30 in multiple stages, the separation efficiency of solid and gas can be improved.

図2において、混練機40の排出管44には、第3の開閉弁V3が介装されている。そして、排出管44における開閉弁V3の上方の領域には、第3のレベルセンサSR3が装着され、排出管44における開閉弁V3の下方の領域には、第4のレベルセンサSR4が装着されている。
安定化処理されセシウムを吸着した(封じ込めた)微粉塵(固形物)が、排出管44における第3の開閉弁V3よりも上方の領域に溜まり、第3のレベルセンサSR3に接触すると、第3の開閉弁V3が開放されるように構成されている。この時、第4の開閉弁V4は閉鎖している。
In FIG. 2, a third opening / closing valve V <b> 3 is interposed in the discharge pipe 44 of the kneader 40. The third level sensor SR3 is attached to the area above the on-off valve V3 in the discharge pipe 44, and the fourth level sensor SR4 is attached to the area below the on-off valve V3 in the discharge pipe 44. Yes.
When fine dust (solid matter) that has been stabilized and adsorbed (contained) cesium accumulates in a region above the third on-off valve V3 in the discharge pipe 44 and comes into contact with the third level sensor SR3, The on-off valve V3 is configured to be opened. At this time, the fourth on-off valve V4 is closed.

第4の開閉弁V4は閉鎖した状態で第3の開閉弁V3が開放すると、セシウムを吸着した微粉塵は、排出管44における第3の開閉弁V3と第4の開閉弁V4との間の領域に堆積する。その状態で、当該微粉塵が第4のレベルセンサSR4に接触すると、第4の開閉弁V4が開放され、セシウムを封じ込めた微粉塵は安定化処理混練機50に投入されるように構成されている。この時、第3の開閉弁V3は閉鎖している。
換言すれば、排出管44と、第3の開閉弁V3と、第4の開閉弁V4と、第3のレベルセンサSR3と、第4のレベルセンサSR4が、安定化処理混練機50に投入される処理物(微粉塵)を計量する計量手段としての機能を奏する。
When the fourth on-off valve V4 is closed and the third on-off valve V3 is opened, the fine dust adsorbed cesium is between the third on-off valve V3 and the fourth on-off valve V4 in the discharge pipe 44. Deposit in the area. In this state, when the fine dust comes into contact with the fourth level sensor SR4, the fourth on-off valve V4 is opened, and the fine dust containing cesium is put into the stabilization treatment kneader 50. Yes. At this time, the third on-off valve V3 is closed.
In other words, the discharge pipe 44, the third on-off valve V3, the fourth on-off valve V4, the third level sensor SR3, and the fourth level sensor SR4 are put into the stabilization processing kneader 50. It functions as a weighing means for weighing the processed material (fine dust).

安定化処理混練機50は、円筒状ケーシング51と、スクリューコンベア52と、スクリューコンベア駆動モータ53を備えている。
図2において、安定化処理混練機50の二重管構造の円筒状ケーシング51内にスクリューコンベア52が収容され、ケーシング51における右端にスクリューコンベア駆動モータ53が配置されている。
そして、円筒状ケーシング51における左端近傍の垂直方向上方にセシウムを封じ込めた微粉塵をケーシング51内に投入する微粉塵投入口51iが配置されている。また、右端近傍の垂直方向下方には、安定化処理を終えた処理物を排出するための排出口51oが形成されている。
The stabilization processing kneader 50 includes a cylindrical casing 51, a screw conveyor 52, and a screw conveyor drive motor 53.
In FIG. 2, a screw conveyor 52 is accommodated in a cylindrical casing 51 having a double-pipe structure of a stabilization treatment kneader 50, and a screw conveyor drive motor 53 is disposed at the right end of the casing 51.
A fine dust inlet 51 i for introducing fine dust containing cesium into the casing 51 is disposed above the left end of the cylindrical casing 51 in the vertical direction. Further, a discharge port 51o for discharging the processed product after the stabilization process is formed below the right end in the vertical direction.

円筒状ケーシング51における微粉塵投入口51iの近傍には、珪酸ソーダ水注入口51aと、リン酸ソーダ水注入口51bとが形成されている。また、円筒状ケーシング51における外周下方で微粉塵投入口51iの真下近傍には、冷却水注入口51cが形成され、排出口51o近傍には冷却水排出口51hが形成されている。ここで用いられる冷却水は、冷却循環槽240(図1)で冷却された冷却水である。
安定化処理混練機50では、セシウムが封じ込められた微粉塵に、珪酸ソーダ水及びリン酸ソーダ水を注入・添加することにより、当該微粉塵を水ガラス状に固化する。そして図1で示すように、水ガラス状に固化した安定化固形物を専用遮蔽容器5に格納して、当該専用遮蔽容器5を、例えば、国が定める地下の深部に所定期間保管する。
In the vicinity of the fine dust inlet 51i in the cylindrical casing 51, a sodium silicate water inlet 51a and a sodium phosphate water inlet 51b are formed. A cooling water inlet 51c is formed in the vicinity of the fine dust inlet 51i below the outer periphery of the cylindrical casing 51, and a cooling water outlet 51h is formed in the vicinity of the outlet 51o. The cooling water used here is the cooling water cooled in the cooling circulation tank 240 (FIG. 1).
In the stabilization treatment kneader 50, by adding and adding sodium silicate water and sodium phosphate water to fine dust in which cesium is contained, the fine dust is solidified into a water glass. And as shown in FIG. 1, the stabilization solid substance solidified in the shape of water glass is stored in the exclusive shielding container 5, and the said exclusive shielding container 5 is stored for a predetermined period in the underground deep part which a country establishes, for example.

図2において、熱交換煙道60は、処理流体通過ダクト61と、熱交換ジャケット62と、仕切り板63を有している。処理流体通過ダクト61の図2における左方下端は、熱交換煙道60の吸入口61iとなっている。
処理流体通過ダクト61における右端側には、処理流体通過ダクト61と直交する方向で下向きに排気口61oが形成されている。
In FIG. 2, the heat exchange flue 60 has a processing fluid passage duct 61, a heat exchange jacket 62, and a partition plate 63. The lower left end of the processing fluid passage duct 61 in FIG. 2 is an inlet 61 i of the heat exchange flue 60.
On the right end side of the processing fluid passage duct 61, an exhaust port 61o is formed downward in a direction orthogonal to the processing fluid passage duct 61.

熱交換煙道60における熱交換ジャケット62は、全体が処理流体通過ダクト61と同心に延在しており、処理流体通過ダクト61を包囲する円環状の管体として構成されている。
熱交換ジャケット62の図2における右端は、排気洗浄装置70によって洗浄された排気(既に降温している)が流入する排気流入孔62iが形成されている。
一方、熱交換ジャケット62の左端近傍には排気排出口62oが形成されており、排気排出口62oは熱交換ジャケット62と直交して垂直上方に延在している。
熱交換煙道60における排気口61oは排気洗浄装置70の吸入口72iに接続され、排気流入孔62iは排気洗浄装置70の排気ダクト7D2の排出孔7D2iに接続されている。
The heat exchange jacket 62 in the heat exchange flue 60 extends entirely concentrically with the processing fluid passage duct 61 and is configured as an annular tube surrounding the processing fluid passage duct 61.
The right end of the heat exchange jacket 62 in FIG. 2 is formed with an exhaust inflow hole 62 i into which the exhaust cleaned by the exhaust cleaning device 70 (already cooled) flows.
On the other hand, an exhaust discharge port 62 o is formed in the vicinity of the left end of the heat exchange jacket 62, and the exhaust discharge port 62 o extends vertically upward perpendicular to the heat exchange jacket 62.
The exhaust port 61o in the heat exchange flue 60 is connected to the suction port 72i of the exhaust cleaning device 70, and the exhaust inflow hole 62i is connected to the exhaust hole 7D2i of the exhaust duct 7D2 of the exhaust cleaning device 70.

熱交換煙道60における仕切り板63は、処理流体通過ダクト61の外周と熱交換ジャケット62の内周とを接続する環状の板部材であり、板部の中央には複数の孔63hが形成されている。
熱交換煙道60では、熱交換ジャケット62を流過する排気Fxが、処理流体通過ダクト61を流過するサイクロン30からの気体(冷却サイクロン30で固化しなかった気体のセシウムを包含する気体)と熱交換を行い、サイクロン30からの気体は冷却され、排気洗浄装置70の排気Fxは昇温して排気排出口62oを介して大気に排出される。
The partition plate 63 in the heat exchange flue 60 is an annular plate member that connects the outer periphery of the processing fluid passage duct 61 and the inner periphery of the heat exchange jacket 62, and a plurality of holes 63h are formed in the center of the plate portion. ing.
In the heat exchange flue 60, the exhaust Fx flowing through the heat exchange jacket 62 is a gas from the cyclone 30 flowing through the processing fluid passage duct 61 (a gas containing cesium of a gas that has not been solidified by the cooling cyclone 30). The gas from the cyclone 30 is cooled, and the exhaust Fx of the exhaust cleaning device 70 is heated and discharged to the atmosphere through the exhaust outlet 62o.

排気洗浄装置70は、洗浄槽71と、垂直導入管72と、複数(図示では3箇所)の排気洗浄水注入部73と、複数(図示では3箇所)の水平仕切り板74と、傾斜仕切り板75と、複数(図示では4箇所)の垂直仕切り板76を備えている。
垂直導入管72は、洗浄槽71の図2における左端上方に延在するように配置されている。
The exhaust cleaning device 70 includes a cleaning tank 71, vertical introduction pipes 72, a plurality (three in the figure) of exhaust cleaning water injection portions 73, a plurality (three in the figure) horizontal partition plates 74, and an inclined partition plate. 75 and a plurality (four places in the figure) of vertical partition plates 76.
The vertical introduction pipe 72 is disposed so as to extend above the left end of the cleaning tank 71 in FIG.

複数(図示では3箇所)の排気洗浄水注入部73は、垂直導入管72に等間隔にて設けられ、複数(図示では3箇所)の水平仕切り板74は、垂直導入管72内を等間隔で仕切っている。なお、水平仕切り板74は、垂直導入管72の内部全体を閉塞するものではなく、その一部が(例えば三日月状に)欠損しており、当該欠損箇所が垂直下方に折り曲げられている。
傾斜仕切り板75は、水平仕切り板74の下方で且つ垂直導入管72と洗浄槽71との境界部に配置されている。そして、傾斜仕切り板75の端部は垂直下方に折り曲げられている。
A plurality (three in the figure) of exhaust cleaning water injection portions 73 are provided at equal intervals in the vertical introduction pipe 72, and a plurality (three in the figure) horizontal partition plates 74 are equally spaced in the vertical introduction pipe 72. It is partitioned by. Note that the horizontal partition plate 74 does not close the entire inside of the vertical introduction pipe 72, but a part thereof is missing (for example, in a crescent shape), and the missing part is bent vertically downward.
The inclined partition plate 75 is disposed below the horizontal partition plate 74 and at the boundary between the vertical introduction pipe 72 and the cleaning tank 71. The end of the inclined partition plate 75 is bent vertically downward.

複数(図示では4箇所)の垂直仕切り板76は、洗浄槽71の幅方向の全幅で洗浄槽71を水平方向に等分に仕切るように、洗浄槽71の天蓋部71cから下垂して設けられている。そして、垂直仕切り板76の下縁部は、洗浄槽71内の水面より下方まで到達している。
隣り合う垂直仕切り板76のほぼ中央には、端部が直角に折り曲げられた傾斜板77が、複数(図示の例では3箇所)、傾斜して設けられている。その直角に折り曲げられた端部と天蓋71cの下面との間には、気体が流過するのに十分な隙間が形成されている。傾斜仕切り板77の下端も、洗浄槽71内の水面より下方まで到達している。
ここで、適正数設けられた傾斜仕切り板77は、後述するブロワ70Bが作動した際に液面WLが上下動して波立つのを促進させて、気体のセシウムが洗浄槽71内の水に取り込まれることを促進している。
A plurality (four in the figure) of vertical partition plates 76 are provided to hang from the canopy 71c of the cleaning tank 71 so as to equally divide the cleaning tank 71 in the horizontal direction with the entire width in the width direction of the cleaning tank 71. ing. The lower edge of the vertical partition plate 76 reaches below the water surface in the cleaning tank 71.
Near the center of the adjacent vertical partition plates 76, a plurality of inclined plates 77 whose end portions are bent at right angles (three in the illustrated example) are inclined. A sufficient gap is formed between the end bent at the right angle and the lower surface of the canopy 71c to allow gas to flow. The lower end of the inclined partition plate 77 also reaches below the water surface in the cleaning tank 71.
Here, an appropriate number of the inclined partition plates 77 promotes the liquid level WL to move up and down when a blower 70B described later operates, so that the gaseous cesium is transferred to the water in the cleaning tank 71. Promotes being taken in.

洗浄槽71の天蓋71cおいて、図2の右端近傍には、第1のダクト7D1が垂直方向上方に延在するように設けられている。
第1のダクト7D1における洗浄槽71と離隔する側の端部は、ブロワ70Bの吸入口70Biと接続されている。ブロワ70Bの吐出口70Boは、第2のダクト7D2の一方の端部と接続されている。
第2のダクト7D2は垂直部7D21と水平部7D22を有しており、水平部7D22の端部は熱交換ジャケット62の排気流入孔62iと接続されている。
In the canopy 71c of the cleaning tank 71, a first duct 7D1 is provided in the vicinity of the right end in FIG. 2 so as to extend vertically upward.
The end of the first duct 7D1 on the side away from the cleaning tank 71 is connected to the suction port 70Bi of the blower 70B. The discharge port 70Bo of the blower 70B is connected to one end of the second duct 7D2.
The second duct 7D2 has a vertical portion 7D21 and a horizontal portion 7D22, and the end of the horizontal portion 7D22 is connected to the exhaust inflow hole 62i of the heat exchange jacket 62.

洗浄槽71は、洗浄槽71の上縁71tまで水で満たされている。
サイクロン30側からの気体が洗浄槽71内の水を通過することにより、当該水に気体のセシウムが溶け込んでいる。
ブロワ70Bがブロワモータ70Mによって作動して負圧を発生することにより、排気洗浄装置70と連通している上流側の機器内部を負圧にせしめる。そして、熱交換煙道60から排気洗浄装置70の吸入口72iに、気化セシウムを包含する気体を吸引する。
The cleaning tank 71 is filled with water up to the upper edge 71t of the cleaning tank 71.
When the gas from the cyclone 30 side passes through the water in the cleaning tank 71, gaseous cesium is dissolved in the water.
The blower 70 </ b> B is operated by the blower motor 70 </ b> M to generate a negative pressure, so that the inside of the upstream device communicating with the exhaust cleaning device 70 is made a negative pressure. Then, gas containing cesium vapor is sucked from the heat exchange flue 60 into the suction port 72 i of the exhaust gas cleaning device 70.

排気洗浄装置70において、吸入口72iから吸引された気体(気化セシウムを包含する)には、複数の区画(図示では3区画)の各々において、排気洗浄水注入部73から冷却水が散布され、当該冷却水にセシウムが溶け込む。水平仕切り板74は、セシウムが冷却水に溶け込むのを促進させる機能を持っている。
セシウムを含んだ冷却水は、傾斜仕切り板75を伝わって洗浄槽71内に滴下する。そして、洗浄槽71内ではブロワ70Bの負圧により、隣り合う仕切り板76で形成される空間のセシウムが水中を通過して、水に溶解する。
セシウムを溶解した水は、水排出口71boから排出され(71aoから排出することも可能)、水処理機構DVWの粗取り原水槽80に搬送される。
In the exhaust gas cleaning device 70, the cooling water is sprayed from the exhaust gas cleaning water injection unit 73 in each of a plurality of compartments (3 compartments in the drawing) to the gas (including vaporized cesium) sucked from the inlet 72i. Cesium dissolves in the cooling water. The horizontal partition plate 74 has a function of promoting the dissolution of cesium into the cooling water.
The cooling water containing cesium is dropped into the cleaning tank 71 along the inclined partition plate 75. In the washing tank 71, due to the negative pressure of the blower 70B, the cesium in the space formed by the adjacent partition plates 76 passes through the water and dissolves in the water.
The water in which cesium is dissolved is discharged from the water discharge port 71bo (it can also be discharged from 71ao), and is transported to the roughing raw water tank 80 of the water treatment mechanism DVW.

図2において、洗浄槽71における図2の右端の空間ERに至るまでに、気化したセシウムは全て水に溶け込むので、空間ER中の気体は気化したセシウムを包含していない。
したがって、ブロワ70Bをモータ70Mによって作動させれば、セシウムを包含しない気体が、空間ERから第1のダクト7D1、第2のダクト7D2を経由して、熱交換煙道60における熱交換ジャケット62に流入する。熱交換ジャケット62に流入した冷却空気は、処理流体通過ダクト61を流下する高温の気体(サイクロン30からの気体:気化セシウムを包含している)と熱交換を行い、昇温して、排気排出口62oから大気に排出される。
In FIG. 2, since the vaporized cesium dissolves in water until reaching the space ER at the right end of FIG. 2 in the cleaning tank 71, the gas in the space ER does not include the vaporized cesium.
Therefore, if the blower 70B is operated by the motor 70M, gas that does not include cesium passes from the space ER to the heat exchange jacket 62 in the heat exchange flue 60 via the first duct 7D1 and the second duct 7D2. Inflow. The cooling air that has flowed into the heat exchange jacket 62 exchanges heat with the high-temperature gas (gas from the cyclone 30: containing cesium vaporized) flowing down the processing fluid passage duct 61, raises the temperature, and exhausts the exhaust gas. The gas is discharged from the outlet 62o to the atmosphere.

図4は、排気洗浄装置70と水処理機構DVW(図1参照)を詳細に示している。
個々の機器を明示するため、図4では、各機器の左右の向きや配置、ラインの長さや延在している方向が、図1とは必ずしも一致していない。しかし、処理の手順或いは経路については、図1と図4は同一である。
図4において、水処理機構DVWは、粗取り原水槽80と、一次攪拌反応槽90と、二次攪拌反応槽110と、凝集沈殿槽140と、固液分離機160と、補給水タンク180と、清水槽190と、上澄水槽200と、バグフィルター槽210を備えている。
FIG. 4 shows the exhaust cleaning device 70 and the water treatment mechanism DVW (see FIG. 1) in detail.
In order to clearly indicate individual devices, in FIG. 4, the left and right orientations and arrangements of the devices, the length of the lines, and the extending direction do not necessarily match those in FIG. 1. However, FIG. 1 and FIG. 4 are the same regarding the processing procedure or route.
In FIG. 4, the water treatment mechanism DVW includes a roughing raw water tank 80, a primary stirring reaction tank 90, a secondary stirring reaction tank 110, a coagulation sedimentation tank 140, a solid-liquid separator 160, and a makeup water tank 180. , A fresh water tank 190, a supernatant water tank 200, and a bag filter tank 210 are provided.

粗取り原水槽80は、固液分離部81と、処理液貯留槽82と、固形物受け容器83と、処理液貯留槽82の底部に設置した搬送ポンプ80Pを備えている。
固液分離部81の上端には処理液投入口81iが設けられている。
固液分離部81を形成する傾斜部81aは、固形物を処理液から分離するごみの粗取り篩として作用する。
処理液投入口81iには、排気洗浄装置70で洗浄処理された排気洗浄汚染水(処理液)が、ラインL1を介して投入される。ラインL1において、排気洗浄装置70側の領域に、搬送ポンプ70Pが介装されている。
傾斜部81aにおいて、ごみ等の比較的大きな異物(例えば、4mm以上)が処理液から取り除かれる。異物が取り除かれた処理液は、固液分離部81の下方の処理液貯留槽82に落下する。
The roughing raw water tank 80 includes a solid-liquid separation unit 81, a processing liquid storage tank 82, a solid material receiving container 83, and a transport pump 80 </ b> P installed at the bottom of the processing liquid storage tank 82.
A processing liquid inlet 81 i is provided at the upper end of the solid-liquid separator 81.
The inclined part 81a that forms the solid-liquid separation part 81 acts as a roughing sieving sieve for separating solids from the treatment liquid.
Exhaust cleaning contaminated water (processing liquid) cleaned by the exhaust cleaning device 70 is input to the processing liquid input port 81i via the line L1. In the line L1, a conveyance pump 70P is interposed in the region on the exhaust cleaning device 70 side.
In the inclined portion 81a, relatively large foreign matters such as dust (for example, 4 mm or more) are removed from the processing liquid. The processing liquid from which the foreign matter has been removed falls into the processing liquid storage tank 82 below the solid-liquid separator 81.

処理液貯留槽82内の処理液は、搬送ポンプ80Pにより、所定のタイミングで一次攪拌反応槽90に送られる。
一次攪拌反応槽90は、反応槽91と、攪拌翼92と、攪拌翼を回転するモータ93と、液面センサ94と、反応槽91の底部に設置された搬送ポンプ90Pを備えている。
また、反応槽91の上方には第1の凝集剤を定量的に反応槽91に供給する一次定量供給機100が配置されている。図示では明示していないが、一次定量供給機100の供給用スクリューコンベアの駆動モータは、粗取り原水槽80の搬送ポンプ80Pと連動するように構成されている。なお、攪拌翼92及びそれを回転するモータ93は、常時、作動している。
The processing liquid in the processing liquid storage tank 82 is sent to the primary agitation reaction tank 90 at a predetermined timing by the transport pump 80P.
The primary stirring reaction tank 90 includes a reaction tank 91, a stirring blade 92, a motor 93 that rotates the stirring blade, a liquid level sensor 94, and a transport pump 90 </ b> P installed at the bottom of the reaction tank 91.
A primary quantitative feeder 100 that quantitatively supplies the first flocculant to the reaction tank 91 is disposed above the reaction tank 91. Although not clearly shown in the figure, the drive motor of the screw conveyor for supply of the primary fixed amount feeder 100 is configured to be interlocked with the transport pump 80P of the roughing raw water tank 80. The stirring blade 92 and the motor 93 that rotates the stirring blade 92 are always operating.

搬送ポンプ80Pによって処理液が一次攪拌反応槽90に投入されると、一次定量供給機100から第1の凝集剤が自動的に反応槽91に供給され、同時に攪拌翼92が回転する。攪拌翼92が回転すると反応槽91内の処理液と第1の凝集剤との間でイオン反応が生じ、処理液中のセシウムは第1の凝集剤により凝集される。
一次攪拌反応槽90の液面センサ94が液面を検知すると、搬送ポンプ90Pが作動して、ラインL3を介して反応槽91内の処理液(は第1の凝集剤が投入されて攪拌された処理液)は、二次攪拌反応槽110に搬送される。
When the processing liquid is introduced into the primary agitation reaction tank 90 by the transport pump 80P, the first coagulant is automatically supplied from the primary metering feeder 100 to the reaction tank 91, and at the same time, the agitation blade 92 rotates. When the stirring blade 92 rotates, an ionic reaction occurs between the treatment liquid in the reaction vessel 91 and the first flocculant, and cesium in the treatment liquid is agglomerated by the first flocculant.
When the liquid level sensor 94 in the primary agitation reaction tank 90 detects the liquid level, the transport pump 90P is activated, and the processing liquid in the reaction tank 91 (is fed with the first flocculant via the line L3 and stirred). The treated liquid) is conveyed to the secondary agitation reaction tank 110.

二次攪拌反応槽110は、反応槽111と、攪拌翼112と、攪拌翼を回転するモータ113と、液面センサ114とを備えている。
反応槽111の底部には、処理液を排出する排出口110oが形成されている。
反応槽111の上方には、第2の凝集剤を定量的に反応槽111に供給する二次定量供給機120が配置されている。
明示していないが、二次定量供給機120は、第2の凝集剤を定量的に供給するための供給用スクリューコンベアを有している。一次攪拌反応槽90の搬送ポンプ90Pによって処理液が二次攪拌反応槽110に投入されると、二次定量供給機120から第2の凝集剤が自動的に反応槽111に供給され、同時に攪拌翼112が回転するように構成されている。拌翼112が回転すると反応槽111内の処理液と第2の凝集剤との間でイオン反応が生じ、セシウムを含む不純物はさらに凝集する。
The secondary stirring reaction tank 110 includes a reaction tank 111, a stirring blade 112, a motor 113 that rotates the stirring blade, and a liquid level sensor 114.
At the bottom of the reaction tank 111, a discharge port 110o for discharging the processing liquid is formed.
Above the reaction tank 111, a secondary fixed amount feeder 120 for supplying the second flocculant quantitatively to the reaction tank 111 is disposed.
Although not explicitly shown, the secondary quantitative feeder 120 has a supply screw conveyor for quantitatively supplying the second flocculant. When the processing liquid is introduced into the secondary agitation reaction tank 110 by the transport pump 90P of the primary agitation reaction tank 90, the second coagulant is automatically supplied from the secondary quantitative feeder 120 to the reaction tank 111, and simultaneously stirred. The wing 112 is configured to rotate. When the stirring blade 112 rotates, an ionic reaction occurs between the treatment liquid in the reaction vessel 111 and the second flocculant, and impurities including cesium further aggregate.

二次攪拌反応槽110の排出口110oは、ラインL4によって凝集沈殿槽140の投入口140iと接続されており、ラインL4には圧送ポンプ130が介装されている。
二次攪拌反応槽110の液面センサ114が所定量を検知すると、圧送ポンプ130が作動して、反応槽111内の処理液は凝集沈殿槽140に搬送される。
The discharge port 110o of the secondary agitation reaction tank 110 is connected to the input port 140i of the coagulation sedimentation tank 140 by a line L4, and a pressure pump 130 is interposed in the line L4.
When the liquid level sensor 114 in the secondary agitation reaction tank 110 detects a predetermined amount, the pumping pump 130 is activated and the processing liquid in the reaction tank 111 is conveyed to the coagulation sedimentation tank 140.

凝集沈殿槽140は、沈殿槽本体141と、沈殿槽本体141の底部に配置されたスクリューコンベア142と、スクリューコンベア142を回転駆動させるモータ143と、液面センサ144を備えている。
沈殿槽本体141の底部において、図4の右端部近傍には第1の排出口141aが形成されており、第1の排出口141aを介して、沈殿槽本体141における処理液の沈殿物が排出される。
一方、沈殿槽本体141の右側面には第2の排出口141bが形成されており、第2の排出口141bを介して、沈殿槽本体141における処理液の上澄液が排出される。
The coagulation sedimentation tank 140 includes a sedimentation tank main body 141, a screw conveyor 142 disposed at the bottom of the precipitation tank main body 141, a motor 143 that rotationally drives the screw conveyor 142, and a liquid level sensor 144.
A first discharge port 141a is formed near the right end of FIG. 4 at the bottom of the settling tank main body 141, and the precipitate of the processing liquid in the settling tank main body 141 is discharged through the first discharge port 141a. Is done.
On the other hand, a second discharge port 141b is formed on the right side surface of the settling tank main body 141, and the supernatant of the processing liquid in the settling tank main body 141 is discharged through the second discharge port 141b.

凝集沈殿槽140における第1の排出口141aは、開閉弁V5、圧送ポンプ150、開閉弁V6を介装したラインL5を介して、固液分離機160の処理液投入口160iと接続されている。
凝集沈殿槽140における第2の排出口141bはラインL10に接続され、ラインL10は上澄水槽200に連通している。
The first discharge port 141a in the coagulation sedimentation tank 140 is connected to the processing liquid input port 160i of the solid-liquid separator 160 via a line L5 having an open / close valve V5, a pressure feed pump 150, and an open / close valve V6. .
The second outlet 141b in the coagulation sedimentation tank 140 is connected to the line L10, and the line L10 communicates with the supernatant water tank 200.

凝集沈殿槽140に投入された処理液においては、一次攪拌反応槽90及び二次攪拌反応槽110で投入された凝集剤により、セシウムが凝集・吸着されている。時間の経過と共に、凝集物は沈殿槽本体141内で沈殿し、上澄液と分離される。
液面センサ144によって沈殿槽本体141内の液面が所定以上になったことを検知すると、スクリューコンベア142が作動して、ラインL5に介装された開閉弁V5、V6が開放され、圧送ポンプ150も作動して、沈殿槽本体141内の底部に貯留された沈殿物が固液分離機160に圧送される。
In the treatment liquid charged into the coagulation sedimentation tank 140, cesium is coagulated and adsorbed by the coagulant added in the primary stirring reaction tank 90 and the secondary stirring reaction tank 110. As time passes, the aggregate precipitates in the settling tank body 141 and is separated from the supernatant.
When the liquid level sensor 144 detects that the liquid level in the settling tank main body 141 has reached a predetermined level or more, the screw conveyor 142 is operated, and the on-off valves V5 and V6 interposed in the line L5 are opened, and the pressure feed pump 150 also operates, and the sediment stored at the bottom in the sedimentation tank body 141 is pumped to the solid-liquid separator 160.

固液分離機160は、一時貯留槽161と、回転ドラム162と、固形物掻き取り斜板163を備えている。符号160oは、回転ドラム162の回転軸を示している。
一時貯留槽161は、底部がV字状に形成され、沈殿槽本体141から搬送された沈殿物を貯留する機能を有する。そして一時貯留槽161の下端近傍には、沈殿槽本体141から搬送された沈殿物を取り込む処理液投入口160iが形成されている。
回転ドラム162は、その表面の約1/3の領域が、一時貯留槽161の沈殿物中に浸漬されている。回転ドラム162の外周面は、沈殿物を補足し易いように表面処理されている。そして、回転ドラム162の外周面は、液体は透過するが固体は透過しない様に構成されている。
固形物掻き取り斜板163は、上端がドラム162の表面に接する様に配置されており、回転ドラム162表面に付着した固形物を掻き取るように構成されている。
The solid-liquid separator 160 includes a temporary storage tank 161, a rotating drum 162, and a solid material scraping swash plate 163. Reference numeral 160 o indicates a rotating shaft of the rotating drum 162.
The temporary storage tank 161 has a V-shaped bottom and has a function of storing the sediment transported from the sedimentation tank body 141. In the vicinity of the lower end of the temporary storage tank 161, a processing liquid inlet 160i for taking in the sediment transported from the sedimentation tank body 141 is formed.
The rotating drum 162 is immersed in the sediment of the temporary storage tank 161 at about 1/3 of the surface thereof. The outer peripheral surface of the rotating drum 162 is surface-treated so as to easily capture the precipitate. The outer peripheral surface of the rotary drum 162 is configured to allow liquid to pass but not to pass solids.
The solid material scraping swash plate 163 is disposed so that the upper end is in contact with the surface of the drum 162, and is configured to scrape the solid material adhering to the surface of the rotating drum 162.

回転ドラム162が回転すると、沈殿物がドラム162の表面に付着する。明示されていないが、回転ドラム162の半径方向内方の領域には負圧が作用しており、沈殿物中の液体は当該負圧により吸引され、ドラム162の表面を透過して、ラインL7に流入する。
一方、沈殿物中の固体も負圧により吸引されるが、ドラム162の表面を透過することが出来ないので、ドラム162の表面に付着する。ドラム162の表面に付着した固体は、固形物掻き取り斜板163で掻き取られる。
固形物掻き取り斜板163で掻き取った固体(セシウムが凝集した固形分)は、明確には図示されていないが、例えば、ベルトコンベア8や専用のカートによって高温乾燥装置10(図1、図2参照)に搬送され、高温乾燥装置10の投入口91(図1、図2参照)に投入される。
As the rotating drum 162 rotates, deposits adhere to the surface of the drum 162. Although not explicitly shown, a negative pressure is acting on the radially inner region of the rotating drum 162, and the liquid in the sediment is sucked by the negative pressure, passes through the surface of the drum 162, and passes through the line L7. Flow into.
On the other hand, although the solid in the precipitate is also sucked by the negative pressure, it cannot pass through the surface of the drum 162 and therefore adheres to the surface of the drum 162. The solid adhering to the surface of the drum 162 is scraped off by a solid scraping swash plate 163.
The solid scraped off by the solid scraping swash plate 163 (solid content of cesium agglomerated) is not clearly shown, but, for example, the high-temperature drying apparatus 10 (FIG. 1, FIG. 1) by the belt conveyor 8 or a dedicated cart. 2) and is put into a charging port 91 (see FIGS. 1 and 2) of the high-temperature drying apparatus 10.

回転ドラム162の表面を透過した液体は、ラインL7を介して、循環ポンプ170の第1の吸入口171に供給される。循環ポンプ170は、補給水タンク180に装備されている。
補給水タンク180は、タンク本体181の上端に処理水の吸入口182が形成され、底部近傍には処理水の排出口183が形成され、タンク180内部の底部には搬送用のポンプ180Pが設置されている。
The liquid that has permeated the surface of the rotary drum 162 is supplied to the first suction port 171 of the circulation pump 170 via the line L7. The circulation pump 170 is provided in the makeup water tank 180.
The makeup water tank 180 has a treated water suction port 182 formed at the upper end of the tank body 181, a treated water discharge port 183 formed near the bottom, and a transport pump 180 </ b> P installed at the bottom of the tank 180. Has been.

循環ポンプ170には、第1の吸入口171、吐出口172、第2の吸入口173が形成されている。循環ポンプ170の吐出口172は、補給水タンク180の吸入口182とラインL8によって接続されており、循環ポンプ170の第2の吸入口173は、補給水タンク180の排出口183とラインLr8によって接続されている。
タンク180内部に設置された搬送用のポンプ180PはラインL9に接続され、ラインL9は清水槽190に連通している。補給水タンク180に貯留された水は、搬送用のポンプ180P、ラインL9を経由して、清水槽190に搬送される。
The circulation pump 170 is formed with a first suction port 171, a discharge port 172, and a second suction port 173. The discharge port 172 of the circulation pump 170 is connected to the suction port 182 of the makeup water tank 180 by a line L8, and the second suction port 173 of the circulation pump 170 is connected to the discharge port 183 of the makeup water tank 180 and the line Lr8. It is connected.
The pump 180P for conveyance installed in the tank 180 is connected to the line L9, and the line L9 communicates with the fresh water tank 190. The water stored in the makeup water tank 180 is transferred to the fresh water tank 190 via the transfer pump 180P and the line L9.

凝集沈殿槽140の上澄液が供給される上澄槽200は、その底部近傍に処理液の排出口201が形成され、排出口201には搬送用のポンプ200Pが介装されたラインL11が接続している。
上澄槽200は、凝集沈殿槽140からラインL10経由で送られた上澄液を一時貯留する機能を有している。
ポンプ200Pは、ラインL11を介して接続されているバグフィルター槽210の稼働状況により作動して、上澄槽200内の上澄液を、ラインL11を経由してバグフィルター槽210へ供給する。
In the supernatant tank 200 to which the supernatant liquid of the coagulation sedimentation tank 140 is supplied, a treatment liquid discharge port 201 is formed in the vicinity of the bottom, and a line L11 in which a transfer pump 200P is interposed is provided in the discharge port 201. Connected.
The supernatant tank 200 has a function of temporarily storing the supernatant liquid sent from the coagulation sedimentation tank 140 via the line L10.
The pump 200P operates according to the operation status of the bag filter tank 210 connected via the line L11, and supplies the supernatant liquid in the supernatant tank 200 to the bag filter tank 210 via the line L11.

バグフィルター槽210は、フィルターハウジング211と、バグフィルター(濾材)212と、貯留タンク213と、液面センサ214を有している。
貯留タンク213内には、処理液搬送用のポンプ210Pが設置されている。
バグフィルター槽210では、上澄槽200から搬送された処理液(凝集沈殿槽140の上澄液)に含まれる不純物を、フィルターハウジング211内に配置したフィルタ(濾材)212でろ過する。ろ過された処理液は、搬送用ポンプ210Pにより、ラインL12を経由して、清水槽190に搬送される。
搬送用ポンプ210Pは、液面センサ214によって、フィルタ212でろ過された処理液の液面が、所定の第1の所定値を超えたことを感知した場合に作動する。
一方、上澄槽200の搬送ポンプ200Pは、バグフィルター槽210の液面センサ214によって、フィルタ212でろ過された処理液の液面が、所定の第2の所定値以下となったことを感知した場合に作動して、上澄槽200内の処理液をバグフィルター槽210の投入口211iに投入する。
The bag filter tank 210 includes a filter housing 211, a bag filter (filter medium) 212, a storage tank 213, and a liquid level sensor 214.
In the storage tank 213, a pump 210P for processing liquid conveyance is installed.
In the bag filter tank 210, impurities contained in the processing liquid (the supernatant liquid of the coagulation sedimentation tank 140) transferred from the supernatant tank 200 are filtered by a filter (filter medium) 212 disposed in the filter housing 211. The filtered processing liquid is transported to the fresh water tank 190 via the line L12 by the transport pump 210P.
The transfer pump 210P operates when the liquid level sensor 214 detects that the liquid level of the processing liquid filtered by the filter 212 exceeds a predetermined first predetermined value.
On the other hand, the transfer pump 200P of the supernatant tank 200 senses that the liquid level of the processing liquid filtered by the filter 212 is below a predetermined second predetermined value by the liquid level sensor 214 of the bag filter tank 210. In this case, the processing liquid in the supernatant tank 200 is charged into the charging port 211i of the bag filter tank 210.

清水槽190の底部には搬送用ポンプ190Pが設置されている。搬送用ポンプ190PはラインL13に接続され、ラインL13は第1のラインポンプLP1を介装しており、分岐点B1でラインL14、ラインL15に分岐する。
ラインL14には開閉弁V7が介装されており、ラインL14は酸化液貯留槽220に連通している(図1参照)。
図4において、ラインL15は分岐点B1側から、ラインポンプLP2、開閉弁V8を介して、複数のラインに分岐している。当該分岐したラインの各々は、排気洗浄装置70の複数の排気洗浄水注入部73の各々に連通している。
明示されていないが、開閉弁V7、V8の開閉制御は、集中制御盤(制御用コンピュータ300:図1)によって行われる。
A transfer pump 190 </ b> P is installed at the bottom of the fresh water tank 190. The transfer pump 190P is connected to a line L13, and the line L13 is provided with a first line pump LP1, and branches to a line L14 and a line L15 at a branch point B1.
The line L14 is provided with an on-off valve V7, and the line L14 communicates with the oxidizing solution storage tank 220 (see FIG. 1).
In FIG. 4, the line L15 is branched into a plurality of lines from the branch point B1 side via the line pump LP2 and the on-off valve V8. Each of the branched lines communicates with each of the plurality of exhaust cleaning water injection portions 73 of the exhaust cleaning device 70.
Although not explicitly shown, the on-off control of the on-off valves V7 and V8 is performed by a centralized control panel (control computer 300: FIG. 1).

ラインL14に連通している酸化液貯留槽220は、図1において、タンク本体221と、攪拌翼222と、攪拌翼を回転駆動するモータ223を備えている。タンク本体221内の処理水には酸性液が添加され、処理水は常にpH3程度に保たれている。
タンク本体221の底部近傍には排出口221oが形成されており、排出口221oは、定量ポンプ230を介装したラインL16を介して、処理後物保水混練機20の酸性水注入口21aに連通している。そして定量ポンプ230が作動すれば、酸化液貯留槽220から酸性の処理水が、処理後物保水混練機20に供給される。なお、定量ポンプ230の作動制御も集中制御盤(制御コンピュータ300)によって行われる。
In FIG. 1, the oxidizing solution storage tank 220 communicating with the line L14 includes a tank body 221, a stirring blade 222, and a motor 223 that rotationally drives the stirring blade. An acidic solution is added to the treated water in the tank body 221 and the treated water is always kept at about pH 3.
A discharge port 221o is formed in the vicinity of the bottom of the tank body 221, and the discharge port 221o communicates with the acidic water injection port 21a of the post-treatment water retention kneader 20 via a line L16 with a metering pump 230 interposed. doing. When the metering pump 230 is activated, acidic treated water is supplied from the oxidizing solution storage tank 220 to the treated water retention kneader 20. The operation control of the metering pump 230 is also performed by the centralized control panel (control computer 300).

図1において、汚染物質処理装置1では、処理後物保水混練機20、サイクロン30に装備されたサイクロン処理後の混練機40及び安定化処理混練機50の冷却水として、冷却循環槽240で冷却された冷却水が用いられる。
冷却循環槽240は、循環する水を冷却する循環槽241と、循環槽241の底部に設けた循環ポンプ240Pを有している。
循環槽241の底部及び底部近傍の3箇所に吸入口242、243、244が形成されている。
In FIG. 1, the pollutant treatment apparatus 1 is cooled in a cooling circulation tank 240 as cooling water for the post-treatment water retention kneader 20, the cyclone-treated kneader 40 and the stabilization kneader 50 equipped in the cyclone 30. Used cooling water is used.
The cooling circulation tank 240 has a circulation tank 241 for cooling the circulating water, and a circulation pump 240P provided at the bottom of the circulation tank 241.
Suction ports 242, 243, and 244 are formed at three locations near the bottom and near the bottom of the circulation tank 241.

循環ポンプ240Pは、ラインL17を介して、処理後物保水混練機20の冷却水注入口21cに連通している。
循環ポンプ240Pは、ラインL18とも接続しており、ラインL18は分岐点B2でラインL19とラインL20とに分岐している。そして、ラインL19は、サイクロン処理後の混練機40における冷却水注入口41cと連通している。また、ラインL20は、安定化処理混練機50における冷却水注入口51cと連通している。
The circulation pump 240P communicates with the cooling water inlet 21c of the post-treatment water retention kneader 20 via the line L17.
Circulation pump 240P is also connected to line L18, and line L18 branches to line L19 and line L20 at branch point B2. The line L19 communicates with the cooling water inlet 41c in the kneader 40 after the cyclone treatment. The line L20 communicates with the cooling water inlet 51c in the stabilization kneader 50.

冷却循環槽240の吸入口242は、ラインLr19を介して、サイクロン処理後の混練機40における冷却水排出口41hと連通している。
冷却循環槽240の吸入口243は、ラインLr20を介して、安定化処理混練機50における冷却水排出口51hと連通している。
冷却循環槽240の吸入口244は、ラインLr17を介して、処理後物保水混練機20の冷却水排出口21hに連通している。
すなわち、冷却循環槽240で冷却された冷却水は、処理後物保水混練機20、サイクロン処理後の混練機40、安定化処理混練機50における処理対象物の冷却に用いられている。処理後物保水混練機20、サイクロン処理後の混練機40、安定化処理混練機50で熱交換により昇温した冷却水は、冷却循環槽240に戻されて、冷却されて、再び冷却に用いられる。
The suction port 242 of the cooling circulation tank 240 communicates with the cooling water discharge port 41h in the kneader 40 after the cyclone treatment via the line Lr19.
The suction port 243 of the cooling circulation tank 240 communicates with the cooling water discharge port 51h in the stabilization processing kneader 50 through the line Lr20.
The suction port 244 of the cooling circulation tank 240 communicates with the cooling water discharge port 21h of the post-treatment water retention kneader 20 via the line Lr17.
That is, the cooling water cooled in the cooling circulation tank 240 is used for cooling the object to be treated in the post-treatment water retention kneader 20, the kneader 40 after the cyclone treatment, and the stabilization treatment kneader 50. The cooling water heated by heat exchange in the post-treatment water retention kneader 20, the cyclone kneader 40, and the stabilization kneader 50 is returned to the cooling circulation tank 240, cooled, and used again for cooling. It is done.

図1〜図4の第1実施形態によれば、汚泥を高温乾燥装置10で900℃程度まで加熱するので、セシウムが気化して汚泥から完全に分離する。そのため、高温乾燥装置10から排出された固形物にはセシウムは包含されていない。
そのため、当該固形物は(放射線量が所定の基準値以下ならば、)埋設処理が可能であり、土壌改良材として利用することも出来る。
According to 1st Embodiment of FIGS. 1-4, since sludge is heated to about 900 degreeC with the high temperature drying apparatus 10, cesium vaporizes and isolate | separates completely from sludge. Therefore, cesium is not included in the solid matter discharged from the high-temperature drying apparatus 10.
Therefore, the solid matter can be embedded (if the radiation dose is equal to or less than a predetermined reference value) and can be used as a soil improvement material.

高温乾燥装置10の飛灰や粉塵、気化したセシウムは、サイクロン30で冷却され、固体と気体に分離される。
サイクロン30で分離された固体(固形物)は、安定化処理(例えば、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加してガラス状に固化する処理)を行った後、専用遮蔽容器5で保管することが出来る。すなわち、サイクロン30で分離された固体(固形物)は、安全に処理される。
一方、サイクロン30で分離された気体は、排気洗浄装置70において水中を移動する際に、気化したセシウムが水により捕集されて、気体からは除去される。そのため、排気洗浄装置70を経由した気体は清浄化されている。
The fly ash, dust, and vaporized cesium in the high-temperature drying apparatus 10 are cooled by the cyclone 30 and separated into a solid and a gas.
The solid (solid matter) separated by the cyclone 30 is subjected to stabilization treatment (for example, a treatment for adding a sodium silicate aqueous solution and a phosphoric acid aqueous solution to solidify it into a glass state), and then storing it in the dedicated shielding container 5. I can do it. That is, the solid (solid matter) separated by the cyclone 30 is safely processed.
On the other hand, when the gas separated by the cyclone 30 moves in the water in the exhaust cleaning device 70, vaporized cesium is collected by the water and removed from the gas. Therefore, the gas that has passed through the exhaust cleaning device 70 is cleaned.

第1実施形態では、排気洗浄装置70でセシウムを捕集した水が、凝集沈殿槽140を包含する水処理機構DVW(粗取り原水槽80、一次攪拌反応槽90、二次攪拌反応槽110、流体移動圧送ポンプ130、凝集沈殿槽140)に供給されるので、当該水中のセシウムを包含する汚泥は、凝集沈殿槽140で凝集、沈殿される。
そして、凝集沈殿槽140の沈殿物を、固液分離機160で固体と液体に分離して、分離された固体を、高温乾燥装置10等の処理設備(図示せず)で処理する。
また、凝集沈殿槽140の上澄液と、固液分離機160で分離された液体は、排気洗浄装置70における排気洗浄用水として利用し、或いは、処理設備(図示せず)で安定化処理することが出来る。
In the first embodiment, the water in which cesium is collected by the exhaust cleaning device 70 is a water treatment mechanism DVW including the coagulation sedimentation tank 140 (the roughing raw water tank 80, the primary stirring reaction tank 90, the secondary stirring reaction tank 110, The sludge containing cesium in the water is agglomerated and precipitated in the agglomeration sedimentation tank 140.
And the deposit of the coagulation sedimentation tank 140 is isolate | separated into a solid and a liquid with the solid-liquid separator 160, and the isolate | separated solid is processed with process equipment (not shown), such as the high temperature drying apparatus 10. FIG.
Further, the supernatant liquid of the coagulation sedimentation tank 140 and the liquid separated by the solid-liquid separator 160 are used as exhaust cleaning water in the exhaust cleaning apparatus 70 or stabilized by a processing facility (not shown). I can do it.

すなわち、図示の第1実施形態によれば、放射性物質(例えばセシウム)を包含する汚泥を固体、気体、液体に分離して、各々から、放射性物質(例えばセシウム)を完全に除去することにより、汚泥中から放射性物質(例えばセシウム)を除去している。
そして、汚泥中から放射性物質(例えばセシウム)を除去する処理は、全て閉鎖系で実行することが出来るので、作業者が被爆すること無く、高濃度の放射性物質で汚染された汚泥を処理することが出来る。
That is, according to the illustrated first embodiment, the sludge containing the radioactive substance (eg, cesium) is separated into solid, gas, and liquid, and the radioactive substance (eg, cesium) is completely removed from each, Radioactive substances (for example, cesium) are removed from the sludge.
And since all the processes to remove radioactive substances (eg cesium) from the sludge can be performed in a closed system, the sludge contaminated with high-concentration radioactive substances can be processed without being exposed to the workers. I can do it.

次に、図5を参照して、本発明の第2実施形態を説明する。
図1〜図4の第1実施形態では、先ず、高温乾燥装置10で汚泥を加熱している。
それに対して、第2実施形態の汚染物質処理装置1Aでは、先ず、水処理機構DVWにより、処理するべき汚泥や汚染水を固液分離して、分離された固形物を高温乾燥装置10で加熱している。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In 1st Embodiment of FIGS. 1-4, sludge is heated with the high temperature drying apparatus 10 first.
In contrast, in the pollutant treatment apparatus 1A of the second embodiment, first, the water treatment mechanism DVW performs solid-liquid separation of sludge and contaminated water to be treated, and the separated solid is heated by the high-temperature drying apparatus 10. doing.

また第2実施形態では、図5において、溜池、防火水槽、その他における汚泥(下水汚泥等も含む)MDと汚染水PWを混合槽5で混合しつつ、粗取り原水槽80へ送り込む点が、図1〜図4の第1実施形態とは異なっている。
以下、主として、図5の第2実施形態が、図1〜図4の第1実施形態とは異なっている点について説明する。
図5において、第2実施形態に係る汚染物質処理装置1Aは、混合槽5を備えている。混合槽5は、汚泥MDと汚染水PWを混合するため、搬送用ポンプ5Pに加えて、攪拌用ポンプ5MPを有している。
混合槽5で汚泥MDと汚染水PWを混合する際に、汚染水PWの量が不足している場合には、清水槽190からの水をラインL13、ラインL15、分岐点B3、ラインL162を経由して、供給ノズル6によって混合槽5内の処理液に添加して(図5における符号N)、混合槽5の底部に設置した搬送ポンプ5Pによって粗取り原水槽80に送出することが出来る。
Further, in the second embodiment, in FIG. 5, the sludge (including sewage sludge and the like) MD and the contaminated water PW in the pond, the fire prevention water tank, and the like are mixed in the mixing tank 5 and sent to the roughing raw water tank 80. It differs from 1st Embodiment of FIGS. 1-4.
Hereinafter, the points of the second embodiment of FIG. 5 different from the first embodiment of FIGS. 1 to 4 will be mainly described.
In FIG. 5, the contaminant treatment apparatus 1 </ b> A according to the second embodiment includes a mixing tank 5. In order to mix the sludge MD and the contaminated water PW, the mixing tank 5 has a stirring pump 5MP in addition to the transport pump 5P.
When mixing the sludge MD and the contaminated water PW in the mixing tank 5, if the amount of the contaminated water PW is insufficient, the water from the fresh water tank 190 is supplied to the line L 13, the line L 15, the branch point B 3, and the line L 162. Via, it can add to the processing liquid in the mixing tank 5 with the supply nozzle 6 (code | symbol N in FIG. 5), and can send out to the roughing raw | natural water tank 80 with the conveyance pump 5P installed in the bottom part of the mixing tank 5. .

ただし、清水槽190の水が汚染物質処理装置1Aで循環する場合には、当該水におけるセシウムの高濃度化が懸念される場合が存在する。その様に、セシウムの高濃度化が懸念される場合には、清水槽190からの水は、混合槽5内の処理液に添加することのみならず、その他の用途に再利用される。換言すれば、清水槽190からの水の善良を、粗取り原水槽80に戻すことは行われない。
また、図5における左上方の矢印X、Y、Z、Nは、ひとつの混合槽5の異なる状態を便宜上同時に示したものであり、矢印Xは混合槽5が攪拌されていない状態を示し、矢印Yは攪拌用ポンプ5MPで混合槽5が攪拌されている状態を示し、矢印Zは攪拌用ポンプ5MPで混合槽5を攪拌しつつ、ラインL25で粗取り原水槽80に供給している状態を示す。
However, when the water in the fresh water tank 190 circulates in the pollutant treatment apparatus 1A, there is a case where there is a concern about an increase in the concentration of cesium in the water. As described above, when there is a concern about increasing the concentration of cesium, the water from the fresh water tank 190 is not only added to the treatment liquid in the mixing tank 5 but also reused for other purposes. In other words, the quality of the water from the fresh water tank 190 is not returned to the roughing raw water tank 80.
In addition, arrows X, Y, Z, and N on the upper left in FIG. 5 indicate different states of one mixing tank 5 at the same time for convenience, and arrow X indicates a state where the mixing tank 5 is not stirred. An arrow Y indicates a state where the mixing tank 5 is being stirred by the stirring pump 5MP, and an arrow Z indicates a state where the mixing tank 5 is being stirred by the stirring pump 5MP and is supplied to the roughing raw water tank 80 by the line L25. Indicates.

凝集沈殿槽140では、一次攪拌反応槽90、二次攪拌反応槽110における凝集剤の添加により、セシウムを包含する汚泥が凝集して、沈殿する。
凝集沈殿槽140で沈殿した汚泥はセシウムを高濃度で包含しており、当該汚泥を、圧送ポンプ150を介して、固液分離機160へ圧送する。固液分離機160は、第1実施形態で説明したのと同様である。
固液分離機160で分離された固形物は、搬送装置8や、符号LSで示す搬送手段を介して、定量供給スクリューコンベア9へ送られる。
In the coagulation sedimentation tank 140, the sludge containing cesium aggregates and precipitates by the addition of the coagulant in the primary stirring reaction tank 90 and the secondary stirring reaction tank 110.
The sludge precipitated in the coagulation sedimentation tank 140 contains cesium at a high concentration, and the sludge is pumped to the solid-liquid separator 160 via the pump pump 150. The solid-liquid separator 160 is the same as that described in the first embodiment.
The solid matter separated by the solid-liquid separator 160 is sent to the fixed-quantity supply screw conveyor 9 via the transport device 8 and the transport means indicated by reference numeral LS.

一方、固液分離機140で分離された液体は、第1実施形態と同様に、補給水タンク180を介して、清水槽190へ送られる。
凝集沈殿槽140の上澄液も、第1実施形態と同様に、上澄水槽200、バグフィルター槽210を介して、清水槽190へ送られる。
固液分離機160で分離された固体は、高濃度のセシウムを包含しており、定量供給スクリューコンベア8を介して、高温乾燥装置10に投入される。
高温乾燥装置10で加熱された後は、第1実施形態と同様に、処理後物保水混練機20において酸性水溶液を添加されて中和されつつ、(例えば含水率15〜20%の)固形物として排出する。排出された固形物は、セシウムが完全に気化して分離しているので、放射線量が所定の基準値以下ならば、埋設処理することが出来る。また、土壌改良材(土改材)として、埋設することも可能である。
On the other hand, the liquid separated by the solid-liquid separator 140 is sent to the fresh water tank 190 via the makeup water tank 180 as in the first embodiment.
The supernatant liquid of the coagulation sedimentation tank 140 is also sent to the fresh water tank 190 via the supernatant water tank 200 and the bag filter tank 210 as in the first embodiment.
The solid separated by the solid-liquid separator 160 contains high-concentration cesium, and is fed into the high-temperature drying apparatus 10 via the fixed supply screw conveyor 8.
After being heated by the high-temperature drying apparatus 10, as in the first embodiment, a solid material (for example, having a water content of 15 to 20%) is added while being neutralized by adding an acidic aqueous solution in the post-treatment water retention kneader 20. As a discharge. Since the discharged solid matter is completely vaporized and separated, cesium can be buried if the radiation dose is below a predetermined reference value. Moreover, it is also possible to embed it as a soil improvement material (soil improvement material).

高温乾燥装置10の飛灰や粉塵、気化したセシウムも、第1実施形態と同様に、サイクロン30へ送られて、冷却されて、固形物と気化セシウムに分離される。
そして、サイクロン30で分離された固形物は、安定化処理混練機50を経由して、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加されて、ガラス状に固化されて、専用遮蔽容器5で保管される。
一方、気化したセシウムを含む気体は、排気洗浄装置70に搬送されて、冷却され、一部は再び固化する。そして、気化セシウム及び固化したセシウムは排気洗浄装置70の洗浄槽71に貯留した水中を通過することにより、水に溶け込む。そのため、排気洗浄装置70に送られた気体からはセシウムが除去される。
図5の第2実施形態におけるその他の構成及び作用効果は、図1〜図4の第1実施形態と同様である。
Similarly to the first embodiment, the fly ash, dust, and vaporized cesium of the high-temperature drying apparatus 10 are also sent to the cyclone 30, cooled, and separated into solid and vaporized cesium.
And the solid substance isolate | separated with the cyclone 30 is added to the sodium silicate aqueous solution and the phosphoric acid aqueous solution via the stabilization treatment kneader 50, solidified into a glass, and stored in the dedicated shielding container 5. .
On the other hand, the gas containing the vaporized cesium is conveyed to the exhaust cleaning device 70, cooled, and partly solidifies again. The vaporized cesium and the solidified cesium are dissolved in water by passing through the water stored in the cleaning tank 71 of the exhaust gas cleaning device 70. Therefore, cesium is removed from the gas sent to the exhaust cleaning device 70.
Other configurations and operational effects in the second embodiment of FIG. 5 are the same as those of the first embodiment of FIGS.

図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではないことを付記する。   It should be noted that the illustrated embodiment is merely an example, and is not a description to limit the technical scope of the present invention.

1・・・汚染物質処理装置
5・・・混合槽
8・・・搬送装置/ベルトコンベア
9・・・定量供給スクリューコンベア
10・・・高温乾燥装置
20・・・処理後物保水混練機
30・・・サイクロン
40・・・サイクロン処理後の混練機
50・・・安定化処理混練機
60・・・熱交換煙道
70・・・排気洗浄装置
80・・・粗取り原水槽
90・・・一次攪拌反応槽
100・・・一次定量供給機
110・・・二次攪拌反応槽
120・・・二次定量供給機
160・・・固液分離機
200・・・上澄水槽
210・・・バグフィルター槽
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Pollutant processing apparatus 5 ... Mixing tank 8 ... Conveying device / belt conveyor 9 ... Fixed quantity supply screw conveyor 10 ... High temperature drying apparatus 20 ... After-treatment water retention kneader 30 ..Cyclone 40 ... Kneader 50 after cyclone treatment ... Stabilization kneader 60 ... Heat exchange flue 70 ... Exhaust cleaning device 80 ... Roughing raw water tank 90 ... Primary Stirring reaction tank 100 ... primary fixed quantity feeder 110 ... secondary stirred reaction tank 120 ... secondary fixed quantity feeder 160 ... solid-liquid separator 200 ... supernatant water tank 210 ... bag filter Tank

Claims (3)

所定温度まで内部を加熱する機能を有する高温乾燥装置と、
高温乾燥装置の排気口に連通しており、高温乾燥装置の排気を冷却する機能と、高温乾燥装置の排気を固体と気体に分離する機能を有するサイクロンと、
サイクロンで分離された気体を水中に流過する機能を有する排気洗浄装置と、
凝集沈殿槽を備えた水処理機構を備えていることを特徴とする汚染物質処理装置。
A high-temperature drying apparatus having a function of heating the inside to a predetermined temperature;
A cyclone that communicates with the exhaust port of the high-temperature drying device, has a function of cooling the exhaust of the high-temperature drying device, and a function of separating the exhaust of the high-temperature drying device into solid and gas;
An exhaust cleaning device having a function of flowing the gas separated by the cyclone into water;
A pollutant treatment apparatus comprising a water treatment mechanism provided with a coagulation sedimentation tank.
凝集沈殿槽を備えた水処理機構は、排気洗浄装置から排出された水を処理している請求項1の汚染物質処理装置。   The contaminant treatment apparatus according to claim 1, wherein the water treatment mechanism including the coagulation sedimentation tank treats the water discharged from the exhaust cleaning apparatus. 凝集沈殿槽の沈殿物を固液分離する固液分離機を備え、固液分離機で分離された固体を高温乾燥装置に投入する搬送装置を設けている請求項1の汚染物質処理装置。   The pollutant processing apparatus according to claim 1, further comprising a solid-liquid separator for solid-liquid separation of the precipitate in the coagulation sedimentation tank, and provided with a conveying device for feeding the solid separated by the solid-liquid separator into a high-temperature drying device.
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