JP2014082169A - Organic el element, light-emitting device, image forming apparatus, display device, imaging device, and method of manufacturing the organic el element - Google Patents

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直人 福田
Kyosuke Deguchi
恭介 出口
Kiyoshi Miura
聖志 三浦
Takuya Higaki
卓也 桧垣
Susumu Ooima
進 大今
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a long-life organic EL element capable of stabilizing a carrier injection property on an electrode surface.SOLUTION: An organic EL element comprises: a first electrode 2 containing titanium; a second electrode 4; and an organic compound layer 3 formed between the first electrode 2 and the second electrode 4. On a surface of the first electrode 2, a titanium oxide is formed. An area ratio of a region where an electric resistance value in a direction vertical to the first electrode 2 is 2.0×10Ω or less, in an arbitrary region in the first electrode 2, is 1.0% or less.

Description

本発明は、有機EL素子、それを用いた発光装置、画像形成装置、表示装置又は撮像装置、さらには有機EL素子の製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic EL element, a light-emitting device using the same, an image forming apparatus, a display device or an imaging device, and a method for manufacturing an organic EL element.

近年、表示装置の表示素子として有機EL素子を用いることが検討されている。有機EL素子は、一対の電極と、少なくとも発光層を含む有機化合物層と、を備えている。そして、有機EL素子は、一方の電極、有機化合物層、他方の電極の順で形成される。   In recent years, it has been studied to use an organic EL element as a display element of a display device. The organic EL element includes a pair of electrodes and an organic compound layer including at least a light emitting layer. The organic EL element is formed in the order of one electrode, the organic compound layer, and the other electrode.

有機EL素子の一方の電極の表面に汚れや不純物が付着した状態で、有機化合物層、他方の電極を形成してしまうと、有機EL素子の中で未発光部分ができたり、発光が安定しなかったりなどの問題が生じる。   If the organic compound layer and the other electrode are formed with dirt or impurities attached to the surface of one electrode of the organic EL element, a non-light-emitting portion is formed in the organic EL element or light emission is stabilized. Problems such as missing.

特許文献1には、短時間に陽極表面の汚れや不純物を除去し、かつ、陽極を酸化させるために、陽極のパターニングをドライエッチングで行い、その陽極に対してUVオゾン処理や酸素プラズマ処理を一貫して減圧下で行うことが記載されている。   In Patent Document 1, in order to remove dirt and impurities on the anode surface in a short time and oxidize the anode, the anode is patterned by dry etching, and the anode is subjected to UV ozone treatment or oxygen plasma treatment. It is described that it is carried out consistently under reduced pressure.

特開平10−302965号公報JP-A-10-302965

一般的には、電極の表面はグレイン状になっているため、特許文献1に記載されたUVオゾン処理や酸素プラズマ処理では、一様に同じ組成の酸化膜を電極の表面に形成することは困難である。そのため、電極表面でキャリア注入性が異なってしまい、電極表面において電流集中する部分が生じ、その部分の有機化合物層が劣化しやすくなる。そして、長寿命な有機EL素子を得ることができない。   In general, since the surface of the electrode is grain-like, the UV ozone treatment and oxygen plasma treatment described in Patent Document 1 do not uniformly form an oxide film having the same composition on the surface of the electrode. Have difficulty. For this reason, carrier injection properties differ on the electrode surface, a portion where current concentrates on the electrode surface, and the organic compound layer in the portion tends to deteriorate. And a long-life organic EL element cannot be obtained.

本発明の目的は、長寿命の有機EL素子を提供することである。   An object of the present invention is to provide a long-life organic EL device.

本発明は、チタンを含有する第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に形成された有機化合物層と、を有する有機EL素子であって、前記第1電極の表面には、酸化チタンが形成されており、前記第1電極の中の任意の領域における前記第1電極に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である領域の面積比率が1.0%以下であることを特徴とする。 The present invention is an organic EL device comprising a first electrode containing titanium, a second electrode, and an organic compound layer formed between the first electrode and the second electrode, A region in which titanium oxide is formed on the surface of one electrode, and an electric resistance value in a direction perpendicular to the first electrode in an arbitrary region in the first electrode is 2.0 × 10 9 Ω or less The area ratio is 1.0% or less.

本発明によれば、長寿命の有機EL素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a long life organic EL element can be provided.

本発明の実施形態1に係る表示装置の一例を示す模式図1 is a schematic diagram illustrating an example of a display device according to Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施形態1に係る表示装置の製造方法の一例を示す模式図Schematic diagram illustrating an example of a method for manufacturing a display device according to the first embodiment of the present invention. Conductive−AFM法による電気抵抗値の測定方法の一例を示す模式図The schematic diagram which shows an example of the measuring method of the electrical resistance value by Conductive-AFM method Conductive−AFM法により得られた、Ti電極の電流像を示す図The figure which shows the electric current image of Ti electrode obtained by Conductive-AFM method 実施形態1に係る表示装置を備える撮像装置の一例を示す断面模式図FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of an imaging apparatus including the display device according to the first embodiment. 実施形態2に係る発光装置を備える画像形成装置の一例を示す断面模式図FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of an image forming apparatus including the light emitting device according to the second embodiment. 実施形態2に係る発光装置の一例を示す模式図Schematic diagram illustrating an example of a light-emitting device according to Embodiment 2 実施例及び比較例におけるTiを含有する第1電極の1.0μm×1.0μmあたりの面積におけるTiを含有する第1電極に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である部分の面積比率と、相対輝度L150/L(駆動開始(駆動0時間)時点での輝度に対する駆動して150時間後の相対輝度)の関係を示す図The electrical resistance value in the direction perpendicular to the first electrode containing Ti in the area per 1.0 μm × 1.0 μm of the first electrode containing Ti in Examples and Comparative Examples is 2.0 × 10 9 Ω or less. It shows the area ratio of a portion, the relationship between the relative luminance L 150 / L 0 (drive start (relative luminance of 150 hours after the drive to the luminance of the drive 0 hour) time point) 実施例及び比較例におけるTiを含有する第1電極のX線光電子分光装置による測定結果を示す図The figure which shows the measurement result by the X-ray photoelectron spectrometer of the 1st electrode containing Ti in an Example and a comparative example.

以下、本発明について、実施形態を挙げて図面を参照して説明する。尚、本明細書で特に図示又は記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知又は公知技術を適用する。また以下に説明する実施の形態は、発明の一つの実施形態であって、これらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings by way of embodiments. In addition, the well-known or well-known technique of the said technical field is applied regarding the part which is not illustrated or described especially in this specification. The embodiment described below is one embodiment of the invention and is not limited thereto.

(実施形態1)
本実施形態は、本発明の有機EL素子を備えた表示装置に関するものである。図1(a)は、本実施形態に係る表示装置を示す斜視模式図である。本実施形態の表示装置は、有機EL素子を備える画素100を複数有している。そして、複数の画素100はマトリックス状に配置され、表示領域101を形成している。なお、画素とは1つの発光素子の発光領域に対応した領域を意味している。本実施形態の表示装置では、発光素子は有機EL素子であり、画素100のそれぞれに1つの色の有機EL素子が配置されている。有機EL素子の発光色としては、赤色、緑色、青色、黄色、シアン、マゼンタ、白色などが挙げられる。また、本実施形態の表示装置には、発光色の異なる複数の画素(例えば赤色を発する画素、緑色を発する画素、及び青色を発する画素)からなる画素ユニットが複数配列されている。画素ユニットとは、各画素の混色によって所望の色の発光を可能とする最小の単位を示す。
(Embodiment 1)
This embodiment relates to a display device including the organic EL element of the present invention. FIG. 1A is a schematic perspective view showing a display device according to the present embodiment. The display device according to the present embodiment includes a plurality of pixels 100 including organic EL elements. The plurality of pixels 100 are arranged in a matrix and form a display area 101. Note that a pixel means a region corresponding to a light emitting region of one light emitting element. In the display device of this embodiment, the light emitting element is an organic EL element, and one color organic EL element is disposed in each pixel 100. Examples of the emission color of the organic EL element include red, green, blue, yellow, cyan, magenta, and white. In the display device of this embodiment, a plurality of pixel units each including a plurality of pixels having different emission colors (for example, a pixel that emits red, a pixel that emits green, and a pixel that emits blue) are arranged. The pixel unit is a minimum unit that enables light emission of a desired color by mixing colors of pixels.

図1(b)は、図1(a)のA−A’線における部分断面模式図である。画素100は、基板1上に、第1電極(陽極)2と、発光層を含む有機化合物層3と、第2電極(陰極)4と、特定の色を透過するカラーフィルタと、を備える有機EL素子を有している。なお、図1(b)には、有機化合物層3の発光層は白色を発し、各有機EL素子(画素100)は、赤色を透過するカラーフィルタ6R、緑色を透過するカラーフィルタ6G、青色を透過するカラーフィルタ6Bのいずれかを有している例が示されている。このため、カラーフィルタ6Rを有する有機EL素子(画素)は赤色の光を発し、カラーフィルタ6Gを有する有機EL素子(画素)は緑色の光を発し、カラーフィルタ6Bを有する有機EL素子(画素)は青色の光を発する。   FIG. 1B is a partial schematic cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. The pixel 100 includes an organic compound layer 1 on a substrate 1, an organic compound layer 3 including a light emitting layer, a second electrode (cathode) 4, and a color filter that transmits a specific color. It has an EL element. In FIG. 1B, the light emitting layer of the organic compound layer 3 emits white, and each organic EL element (pixel 100) has a color filter 6R that transmits red, a color filter 6G that transmits green, and a blue color. An example having any of the color filters 6B to transmit is shown. Therefore, the organic EL element (pixel) having the color filter 6R emits red light, the organic EL element (pixel) having the color filter 6G emits green light, and the organic EL element (pixel) having the color filter 6B. Emits blue light.

なお、カラーフィルタを用いずに、有機EL素子に共通に形成された白色を発する発光層の代わりに、有機EL素子ごとに、各色の光を発する発光層をパターニングする構成を用いてもよい。   Instead of using a color filter, instead of the white light emitting layer that is commonly formed in the organic EL element, a configuration in which the light emitting layer that emits light of each color is patterned for each organic EL element may be used.

本実施形態では、第1電極2が光反射性の電極、第2電極4が光透過性の電極とし、第2電極4から、つまり、基板1とは反対側から発光層が発した光が射出されるトップエミッション型の表示装置について説明を行う。ただし、本発明は、基板1側から光が射出されるボトムエミッション型の表示装置にも適用することができる。また、第1電極2が陰極、第2電極4が陽極となる構成でも本発明を採用することができる。   In this embodiment, the first electrode 2 is a light-reflective electrode, the second electrode 4 is a light-transmissive electrode, and light emitted from the light-emitting layer is emitted from the second electrode 4, that is, from the side opposite to the substrate 1. A top emission type display device to be ejected will be described. However, the present invention can also be applied to a bottom emission type display device in which light is emitted from the substrate 1 side. Further, the present invention can also be adopted in a configuration in which the first electrode 2 is a cathode and the second electrode 4 is an anode.

外部から有機EL素子へ水分やガスの浸入を抑えるために、有機EL素子は封止膜5で覆われている。さらに、封止膜5は、カラーフィルタ6R(6G,6B)と有機EL素子の間に形成されている。また、封止膜5は、各有機EL素子に共通で形成されている。   The organic EL element is covered with a sealing film 5 in order to prevent moisture and gas from entering the organic EL element from the outside. Further, the sealing film 5 is formed between the color filter 6R (6G, 6B) and the organic EL element. Moreover, the sealing film 5 is formed in common with each organic EL element.

第1電極2は、隣の画素の第1電極2と分離されて形成されており、有機化合物層3、第2電極4は、全画素で共通に形成されている。ただし、第1電極2が全画素で共通に形成され、第2電極4が画素ごとに分離されていてもよい。   The first electrode 2 is formed separately from the first electrode 2 of the adjacent pixel, and the organic compound layer 3 and the second electrode 4 are formed in common for all the pixels. However, the 1st electrode 2 may be formed in common with all the pixels, and the 2nd electrode 4 may be isolate | separated for every pixel.

第1電極2は、Tiを含む電極である。そして、後述する表面酸化処理によって、第1電極2の表面には、酸化チタンの膜が形成されている。さらに、第1電極2の中の任意の領域における第1電極2に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である領域の面積比率が1.0%以下となっている。このため、第1電極2の表面において電流が集中する箇所が抑制され、有機EL素子を長期駆動した場合でも、有機化合物層の局所的な劣化が抑制されて、発光輝度の低下を抑制することができ、長寿命化につながる。なお、第1電極2の電気抵抗値は、実施例と比較例を用いて説明する。 The first electrode 2 is an electrode containing Ti. Then, a titanium oxide film is formed on the surface of the first electrode 2 by a surface oxidation treatment described later. Furthermore, the area ratio of the region where the electrical resistance value in the direction perpendicular to the first electrode 2 in any region in the first electrode 2 is 2.0 × 10 9 Ω or less is 1.0% or less. . For this reason, the location where the current concentrates on the surface of the first electrode 2 is suppressed, and even when the organic EL element is driven for a long time, the local deterioration of the organic compound layer is suppressed and the decrease in the emission luminance is suppressed. Can lead to longer service life. In addition, the electrical resistance value of the 1st electrode 2 is demonstrated using an Example and a comparative example.

任意の領域とは、電流値あるいは電気抵抗値を測定する領域のことであり、対象領域は第1電極2の全部でもよいし、第1電極2の一部でもよい。また、対象領域は、第1電極の中なら一箇所でもよいし、複数の箇所でもよい。また、対象領域の面積の総和は、どんな面積でもよいが、測定結果の信用性の観点から0.5μm以上あることが望ましい。また、1つの有機EL素子の第1電極2の面積が0.5μmに満たない場合は、他の有機EL素子の第1電極2を対象領域に加え、面積の総和が0.5μm以上となるように対象領域を選択してもよい。 The arbitrary region is a region for measuring a current value or an electric resistance value, and the target region may be the entire first electrode 2 or a part of the first electrode 2. In addition, the target area may be one place or a plurality of places in the first electrode. Further, the total area of the target regions may be any area, but is preferably 0.5 μm 2 or more from the viewpoint of the reliability of the measurement result. When the area of the first electrode 2 of one organic EL element is less than 0.5 μm 2 , the first electrode 2 of another organic EL element is added to the target region, and the total area is 0.5 μm 2 or more. The target area may be selected so that

次に、各部材に関して具体的に説明する。   Next, each member will be specifically described.

基板1は、石英、ガラス、プラスチック等の絶縁性の基板、金属基板、シリコン基板などを用いることができる。また、基板1には、トランジスタやMIM素子等のスイッチング素子などからなる有機EL素子の発光を制御する制御回路(不図示)が上記絶縁性の基板やシリコン基板等に形成されている。また、その場合には、基板1には、スイッチング素子の凹凸を平坦化するための平坦化膜を有していてもよい。   As the substrate 1, an insulating substrate such as quartz, glass, or plastic, a metal substrate, a silicon substrate, or the like can be used. In addition, a control circuit (not shown) for controlling light emission of an organic EL element including a switching element such as a transistor or an MIM element is formed on the insulating substrate or the silicon substrate. In that case, the substrate 1 may have a flattening film for flattening the unevenness of the switching elements.

第1電極2は、後述する酸化処理によって電気伝導度が変化するような金属であればどのような材料を用いてもよい。その材料としては、具体的には、遷移金属が挙げられ、さらに具体的には、チタン(Ti)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)などを用いることができる。特に、Tiを含む材料は、半導体プロセスにおいてバリアメタル等に広く用いられており、加工性などの観点から、第1電極2として好適に用いるができる。第1電極2がTiを含有する場合には、その表面が酸化されることにより、第1電極2は有機化合物層3に近い側から、酸化チタン層、チタン層の積層構成となる。   The first electrode 2 may be made of any material as long as it has a metal whose electrical conductivity is changed by an oxidation process described later. Specific examples of the material include transition metals, and more specifically, titanium (Ti), tungsten (W), molybdenum (Mo), and the like can be used. In particular, a material containing Ti is widely used for a barrier metal or the like in a semiconductor process, and can be suitably used as the first electrode 2 from the viewpoint of workability. When the first electrode 2 contains Ti, the surface of the first electrode 2 is oxidized, so that the first electrode 2 has a laminated structure of a titanium oxide layer and a titanium layer from the side close to the organic compound layer 3.

また、第1電極2の構成は、酸化処理によって酸化状態が変化し、電気伝導度が変化するような金属(具体的には、Ti、W、Mo)が、第1電極2の表面に設けられていれば、異なる金属による積層構成であってもよい。例えば、第1電極2の構成は、有機化合物層3に近い側から、酸化チタン層、アルミニウム層、の積層構成でもよい。また、この場合、酸化チタン層とアルミニウム層の間にチタン層や酸化アルミニウム層を有していてもよい。第1電極2を異種金属材料の積層構成にする場合は、基板1側に近いほうの金属層が表面に露出しないように、被覆性を向上させて有機化合物層3側の金属層を形成することが好ましい。   Further, the first electrode 2 has a structure in which a metal (specifically, Ti, W, Mo) whose electric conductivity changes due to an oxidation process is provided on the surface of the first electrode 2. As long as it is made, the laminated structure by a different metal may be sufficient. For example, the configuration of the first electrode 2 may be a stacked configuration of a titanium oxide layer and an aluminum layer from the side close to the organic compound layer 3. In this case, a titanium layer or an aluminum oxide layer may be provided between the titanium oxide layer and the aluminum layer. When the first electrode 2 has a laminated structure of different metal materials, the coverage is improved and the metal layer on the organic compound layer 3 side is formed so that the metal layer closer to the substrate 1 side is not exposed on the surface. It is preferable.

有機化合物層3は、少なくとも発光層を含んでいればよい。さらには、有機化合物層3は、正孔輸送層や電子輸送層などの複数の機能層を有していてもよい。発光層は、発光材料のみで構成されていてもよいし、発光ドーパント材料とホスト材料との混合層であってもよい。また、発光層は、発光ドーパント材料とホスト材料の他にアシストドーパント材料を含んでいてもよい。また、本発明において、ホスト材料とは、発光層内の成分のうち最も重量濃度が多い材料のことをいう。また、発光材料、発光ドーパント材料は、蛍光材料、燐光材料のどちらでもよい。   The organic compound layer 3 only needs to include at least a light emitting layer. Furthermore, the organic compound layer 3 may have a plurality of functional layers such as a hole transport layer and an electron transport layer. The light emitting layer may be composed of only a light emitting material, or may be a mixed layer of a light emitting dopant material and a host material. The light emitting layer may contain an assist dopant material in addition to the light emitting dopant material and the host material. In the present invention, the host material means a material having the highest weight concentration among the components in the light emitting layer. Further, the light emitting material and the light emitting dopant material may be either a fluorescent material or a phosphorescent material.

正孔輸送層に用いる材料としては、フタロシアニン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、オキソジアゾール誘導体、ポリフィリル誘導体、スチルベン誘導体等を用いることができる。この他に、酸化モリブデン、酸化タングステン等の酸化物、2,3,5,6−tetrafluoro−7,7,8,8−tetracyanoquinodimethane(F4TCNQ)などの有機物、また、これらの混合物を用いることができる。正孔輸送層は、正孔注入性、正孔輸送性を備える有機化合物の単層又は複数の層からなる。また、必要に応じて、正孔輸送層として、発光層から第1電極2側に電子が移動するのを抑制するために、電子阻止層としての機能を併せて持たせることもできる。   As a material used for the hole transport layer, a phthalocyanine derivative, a triphenyldiamine derivative, an oxodiazole derivative, a polyphylyl derivative, a stilbene derivative, or the like can be used. In addition, oxides such as molybdenum oxide and tungsten oxide, organic substances such as 2,3,5,6-tetrafluoro-7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane (F4TCNQ), and mixtures thereof can be used. . The hole transport layer is composed of a single layer or a plurality of layers of an organic compound having a hole injection property and a hole transport property. Further, if necessary, as a hole transport layer, in order to suppress movement of electrons from the light emitting layer to the first electrode 2 side, a function as an electron blocking layer can be provided.

電子輸送層に用いる材料としては、アルミキノリノール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェニルキノキサリン誘導体、シロール誘導体、フェナントロリン誘導体等が挙げられる。この他に、アルカリ金属やアルカリ土類金属、希土類金属、及びこれらの化合物を用いることができる。また、例示した材料の混合物も好適に用いることができる。電子注入性、電子輸送性を備える有機化合物の単層又は複数の層からなる。また、電子輸送層として、正孔阻止層としての機能を併せて持たせることもできる。   Examples of the material used for the electron transport layer include aluminum quinolinol derivatives, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, phenylquinoxaline derivatives, silole derivatives, phenanthroline derivatives, and the like. In addition, alkali metals, alkaline earth metals, rare earth metals, and compounds thereof can be used. Moreover, the mixture of the illustrated material can also be used suitably. It consists of a single layer or a plurality of layers of an organic compound having electron injection properties and electron transport properties. In addition, the electron transport layer can also have a function as a hole blocking layer.

また、正孔輸送層、電子輸送層として、発光層で発生した励起子の拡散を抑制するための励起子阻止層としての機能を併せて持たせることもできる。   In addition, the hole transport layer and the electron transport layer can also have a function as an exciton blocking layer for suppressing diffusion of excitons generated in the light emitting layer.

第2電極4は、酸化錫、酸化インジウム、酸化インジウム錫、酸化インジウム亜鉛などの透明酸化物導電層や、Al,Ag,Cr,Ti,Mo,W,Au,Mg,Csなどの金属単体やそれらの合金からなる金属層などを用いることができる。さらには、第2電極4は、透明酸化物導電層と金属層の積層膜や、複数の金属層の積層膜で構成されていてもよい。   The second electrode 4 is made of a transparent oxide conductive layer such as tin oxide, indium oxide, indium tin oxide, or indium zinc oxide, or a single metal such as Al, Ag, Cr, Ti, Mo, W, Au, Mg, or Cs. A metal layer made of such an alloy can be used. Furthermore, the 2nd electrode 4 may be comprised by the laminated film of a transparent oxide conductive layer and a metal layer, or the laminated film of a some metal layer.

封止膜5は、酸素や水分が有機EL素子に浸入することを防ぐ機能を有しており、窒化珪素や酸化珪素、酸化アルミナなどの無機材料を使用することができる。また、封止膜5は、2層以上の無機材料からなる積層膜で構成されていてもよいし、無機材料と樹脂材料の積層膜で構成されていてもよい。   The sealing film 5 has a function of preventing oxygen and moisture from entering the organic EL element, and an inorganic material such as silicon nitride, silicon oxide, or alumina oxide can be used. Moreover, the sealing film 5 may be comprised by the laminated film which consists of two or more layers of inorganic materials, and may be comprised by the laminated film of the inorganic material and the resin material.

有機EL素子を封止する構成であればどんなものでもよく、封止膜5の代わりに封止キャップであってもよい。封止キャップはガラスやプラスチックなどのキャップ状の部材を用いることができる。また、封止キャップは、例えばガラス板などの板状の部材と、この部材と基板1とを接着するために表示領域101の周囲に配置されたシール剤と、で構成されてもよい。また、封止キャップと第2電極4との間の空間は、窒素やアルゴン等のガスが封入されていてもよいし、アクリル樹脂などの樹脂材料で充填されていてもよい。また、その空間には乾燥剤が配置されていてもよい。   Any structure may be used as long as the organic EL element is sealed, and a sealing cap may be used instead of the sealing film 5. As the sealing cap, a cap-shaped member such as glass or plastic can be used. In addition, the sealing cap may be configured by a plate-like member such as a glass plate and a sealant disposed around the display area 101 in order to bond the member and the substrate 1. The space between the sealing cap and the second electrode 4 may be filled with a gas such as nitrogen or argon, or may be filled with a resin material such as an acrylic resin. A desiccant may be disposed in the space.

カラーフィルタ6R,6G,6Bは、公知の材料を使用することができる。また、図1(b)で示すように、カラーフィルタ6R,6G,6Bは封止膜5上にパターニング形成されていてもよいし、カラーフィルタ基板(不図示)にカラーフィルタ6R,6G,6Bを形成し、封止膜5上に張り合わせるようにしてもよい。また、画素ごとにパターニングされたカラーフィルタ6R,6G,6Bの間にはブラックマトリックスが形成されていてもよい。   Known materials can be used for the color filters 6R, 6G, and 6B. Further, as shown in FIG. 1B, the color filters 6R, 6G, and 6B may be formed by patterning on the sealing film 5, or the color filters 6R, 6G, and 6B may be formed on a color filter substrate (not shown). May be formed and bonded onto the sealing film 5. A black matrix may be formed between the color filters 6R, 6G, and 6B patterned for each pixel.

次に、本実施形態の表示装置に用いられる有機EL素子の製造方法について図2を用いて説明する。この有機EL素子の製造方法は、基板1上にチタンを含有する第1電極2を形成する工程、第1電極2を表面酸化処理する工程、表面酸化処理された第1電極2上に有機化合物層3を形成する工程、有機化合物層3上に第2電極4を形成する工程、を有している。そして、表面酸化処理する工程において、第1電極2の中の任意の領域における第1電極2の面に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である領域の面積比率が1.0%以下となるように第1電極2の表面が酸化されている。 Next, the manufacturing method of the organic EL element used for the display apparatus of this embodiment is demonstrated using FIG. This method of manufacturing an organic EL element includes a step of forming a first electrode 2 containing titanium on a substrate 1, a step of subjecting the first electrode 2 to surface oxidation treatment, and an organic compound on the first electrode 2 subjected to surface oxidation treatment. A step of forming the layer 3 and a step of forming the second electrode 4 on the organic compound layer 3. Then, in the step of surface oxidation treatment, the area ratio of the region in which the electric resistance value in the direction perpendicular to the surface of the first electrode 2 in an arbitrary region in the first electrode 2 is 2.0 × 10 9 Ω or less is The surface of the first electrode 2 is oxidized so as to be 1.0% or less.

まず、図2(a)で示すように、基板1の上にチタンを含有する第1電極2を形成する。なお、第1電極2は、基板1に形成されたスイッチング素子(不図示)とコンタクト部(不図示)を介して接続されるように形成される。第1電極2は、スパッタリング法や真空蒸着法などで形成された後、フォトリソグラフィ法で画素(有機EL素子)ごとにパターニングされる。   First, as shown in FIG. 2A, the first electrode 2 containing titanium is formed on the substrate 1. The first electrode 2 is formed so as to be connected to a switching element (not shown) formed on the substrate 1 via a contact portion (not shown). The first electrode 2 is formed by sputtering or vacuum vapor deposition, and then patterned for each pixel (organic EL element) by photolithography.

次に、図2(b)で示すように、基板1と第1電極2の表面を洗浄する。洗浄方法としては、2流体洗浄、シャワーリンスなどを用いることができる。またそれらを組み合わせて用いることができる。また必要に応じて、エアナイフをさらに用いることもできる。この洗浄工程では、基板1と第1電極2の上にあるゴミ(ガラス)などが除去される。   Next, as shown in FIG. 2B, the surfaces of the substrate 1 and the first electrode 2 are cleaned. As a cleaning method, two-fluid cleaning, shower rinsing, or the like can be used. Further, they can be used in combination. Further, an air knife can be further used as necessary. In this cleaning process, dust (glass) and the like on the substrate 1 and the first electrode 2 are removed.

洗浄後は、図2(c)で示すように、真空中で加熱して基板1の脱水を行う。この加熱時の雰囲気の圧力は1.0×10−3Pa以下が好ましい。さらに、加熱温度は、基板表面温度は水分の脱離を促すために、120℃以上、より好ましくは150℃以上であることがよい。また、加熱手段は、ハロゲンヒーター、シースヒーター、加熱源と板材との組合せなど、基板1を均一に加熱できる手段であればどのような手段でもよい。 After the cleaning, as shown in FIG. 2C, the substrate 1 is dehydrated by heating in vacuum. The pressure of the atmosphere during heating is preferably 1.0 × 10 −3 Pa or less. Furthermore, the heating temperature is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, so that the substrate surface temperature promotes desorption of moisture. The heating means may be any means as long as it can uniformly heat the substrate 1, such as a halogen heater, a sheath heater, or a combination of a heating source and a plate material.

次に、図2(d)で示すように、第1電極2を表面酸化処理する。この表面酸化処理は、第1電極2の上に形成される有機化合物層3に対するキャリア注入障壁を小さくし、キャリア注入性を向上させる目的で行われる。表面酸化処理の方法としては、UVオゾン処理、酸素プラズマ処理、熱酸化処理などを用いることができる。特に、UVオゾン処理は、表面酸化の能力の他に、第1電極2の表面の有機物(フォトリソグラフィで使用するレジストの残渣など)の除去能力が高いため好ましい。   Next, as shown in FIG. 2D, the first electrode 2 is subjected to surface oxidation treatment. This surface oxidation treatment is performed for the purpose of reducing the carrier injection barrier with respect to the organic compound layer 3 formed on the first electrode 2 and improving the carrier injection property. As the surface oxidation treatment method, UV ozone treatment, oxygen plasma treatment, thermal oxidation treatment, or the like can be used. In particular, the UV ozone treatment is preferable because it has a high ability to remove organic substances (resist residues used in photolithography) on the surface of the first electrode 2 in addition to the ability to oxidize the surface.

第1電極2の表面には、グレインができていたり、面内方向で異なる結晶構造などできていたりするため、処理法の平均自由行程などの影響により、酸化数が異なる酸化膜が表層に形成される。例えば、Ti膜を例にして説明すると、Ti膜は酸化するとTiOの他にTiOx(1<x<2)である低次酸化物を形成することが知られている。TiOは典型的な絶縁膜で、電気伝導度が小さく、電流が流れにくい。一方で、TiOxのような低次酸化物においては、TiOよりも電気伝導度が高く、電流が流れやすい。 Since the surface of the first electrode 2 is grained or has a different crystal structure in the in-plane direction, oxide films with different oxidation numbers are formed on the surface due to the influence of the mean free path of the processing method. Is done. For example, when a Ti film is described as an example, it is known that when the Ti film is oxidized, a low-order oxide of TiOx (1 <x <2) is formed in addition to TiO 2 . TiO 2 is a typical insulating film, has a low electric conductivity, and current does not flow easily. On the other hand, a low-order oxide such as TiOx has a higher electrical conductivity than TiO 2 , and a current flows easily.

TiOとTiOxとが第1電極2の表面に混在する場合、第1電極2の表面において、垂直な方向の電気抵抗に差が生じる。第1電極2の表面に電気抵抗が小さい領域(電気導電度が大きい領域)があると、その部分に電流が集中するため、有機EL素子を長期間駆動した際に、第1電極2上に形成される有機化合物層3を劣化させる要因となる。 When TiO 2 and TiO x are mixed on the surface of the first electrode 2, a difference occurs in electrical resistance in the vertical direction on the surface of the first electrode 2. If the surface of the first electrode 2 has a small electric resistance (region having a high electric conductivity), the current concentrates on the region, so that when the organic EL element is driven for a long time, It becomes a factor which degrades the organic compound layer 3 to be formed.

表面酸化処理を行った、Tiを含有する第1電極2の電極表面と垂直な方向の電気抵抗をConductive−AFM法を用いて調べることができる。Conductive−AFM法は、図3で示すように、カンチレバー12で第1電極2の表面形状を測定しながら、第1電極2とカンチレバー12との間に電圧をかけ、第1電極2に垂直な方向の電流値を、アンプ11を介して測定器10で測定することができる。なお、測定試料(この場合は、第1電極2が形成された基板1)は、導電性支持台13に支持されており、導電性テープ14を介して第1電極2と電気的に接続されている。測定した電流値から電気抵抗値が算出し、第1電極2の表面における電気抵抗値の分布が算出することができる。   The electrical resistance in the direction perpendicular to the electrode surface of the first electrode 2 containing Ti subjected to the surface oxidation treatment can be examined using a Conductive-AFM method. As shown in FIG. 3, the Conductive-AFM method applies a voltage between the first electrode 2 and the cantilever 12 while measuring the surface shape of the first electrode 2 with the cantilever 12, and is perpendicular to the first electrode 2. The current value in the direction can be measured by the measuring instrument 10 via the amplifier 11. The measurement sample (in this case, the substrate 1 on which the first electrode 2 is formed) is supported by the conductive support 13 and is electrically connected to the first electrode 2 via the conductive tape 14. ing. The electric resistance value can be calculated from the measured current value, and the distribution of the electric resistance value on the surface of the first electrode 2 can be calculated.

Conductive−AFM法において、Tiを含有する第1電極2の面内の電流値を測定した場合、図4のような電流像が得られる。なお、図4は、Tiを含有する第1電極2の中の測定領域1.0μm×1.0μm(測定ピッチ256×256)、測定バイアス−2Vの条件で取得された、Tiを含有する第1電極2の表面の電流像である。図4においては、ある閾値以上の電流が流れた箇所を黒く表示している。それ以外を灰色に表示している。このように、面内方向に電流値の分布ができており、図4における測定領域内の黒い箇所には、上述したようなことから電気伝導度の高いTiOx膜が存在していると考える。この黒い箇所では、電流が集中するため、有機化合物層3を劣化させてしまう。   When the in-plane current value of the first electrode 2 containing Ti is measured by the conductive-AFM method, a current image as shown in FIG. 4 is obtained. Note that FIG. 4 shows a Ti-containing first electrode obtained under the conditions of a measurement region of 1.0 μm × 1.0 μm (measurement pitch 256 × 256) in the first electrode 2 containing Ti and a measurement bias of −2V. 2 is a current image of the surface of one electrode 2. In FIG. 4, a portion where a current exceeding a certain threshold flows is displayed in black. Others are displayed in gray. Thus, the current value is distributed in the in-plane direction, and it is considered that a TiOx film having high electrical conductivity exists in the black portion in the measurement region in FIG. In this black spot, the current concentrates, so that the organic compound layer 3 is deteriorated.

このため、本発明では、このような面内方向における電流値のばらつきを抑制するために、オゾン処理は以下の条件で行われる。すなわち、UVオゾン処理においては、6700mJ/cm以上の積算照度でUV光が第1電極2の表面に照射されている。この条件により、表面酸化処理によって、第1電極2の中の任意の領域における第1電極2に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である領域の面積比率が1.0%以下とすることができる。つまり、TiOxの低次酸化物の存在比率を下げて、電流集中領域を小さくしている。この結果、有機化合物層の劣化を抑制でき、長寿命の有機EL素子を得ることができる。 For this reason, in this invention, in order to suppress the dispersion | variation in the electric current value in such an in-plane direction, ozone treatment is performed on condition of the following. That is, in the UV ozone treatment, the surface of the first electrode 2 is irradiated with UV light with an integrated illuminance of 6700 mJ / cm 2 or more. Under this condition, the area ratio of the region in which the electric resistance value in the direction perpendicular to the first electrode 2 in an arbitrary region in the first electrode 2 is 2.0 × 10 9 Ω or less is 1. It can be 0% or less. That is, the current concentration region is reduced by reducing the abundance ratio of the low-order oxide of TiOx. As a result, deterioration of the organic compound layer can be suppressed, and a long-life organic EL element can be obtained.

なお、Tiと電子状態が類似しているWやMoでも、同様の課題が生じるため、表面酸化処理においては上記のような積算照度などの条件が必要となる。   In addition, since the same subject arises also in W and Mo in which the electronic state is similar to Ti, conditions such as the integrated illuminance as described above are necessary in the surface oxidation treatment.

また、Conductive−AFM法による電気抵抗値の測定は、製造工程中に表面酸化処理後の基板1を抜き取って検査してもよいし、表示装置の製造後に、有機化合物層3や第2電極4を剥離して検査してもよい。また、第1電極2の中の測定領域を1.0μm×1.0μmとしたが、どのような面積の領域で測定してもよい。ただし、少なくとも測定領域の面積が0.5μm以上あることが、測定結果の信用性の観点で好ましい。 In addition, the measurement of the electric resistance value by the Conductive-AFM method may be performed by extracting the substrate 1 after the surface oxidation treatment during the manufacturing process and inspecting the organic compound layer 3 or the second electrode 4 after the display device is manufactured. You may peel and test | inspect. Moreover, although the measurement area | region in the 1st electrode 2 was 1.0 micrometer x 1.0 micrometer, you may measure in area | regions of what area. However, at least the area of the measurement region is preferably 0.5 μm 2 or more from the viewpoint of the reliability of the measurement result.

UVオゾン処理に使用されるUV光源としては、低圧水銀ランプが好ましく、特に合成石英製のランプ管が好ましい。UV光源として低圧水銀ランプを用いた場合、その光源は185nm付近と254nm付近に発光スペクトルを持ち、185nm付近の光でオゾンを生成し、254nm付近の光でオゾンを分解し、活性酸素を生成することが知られている。このため、効率よく第1電極2の表面を酸化させることができる。また、UVランプ管には、UV光に指向性をもたせる為の反射板が設けられていてもよい。   As the UV light source used for the UV ozone treatment, a low-pressure mercury lamp is preferable, and a synthetic quartz lamp tube is particularly preferable. When a low-pressure mercury lamp is used as a UV light source, the light source has emission spectra near 185 nm and 254 nm, generates ozone with light near 185 nm, decomposes ozone with light near 254 nm, and generates active oxygen. It is known. For this reason, the surface of the 1st electrode 2 can be oxidized efficiently. Further, the UV lamp tube may be provided with a reflecting plate for imparting directivity to the UV light.

UVオゾン処理に用いるオゾンの生成源となるガスは、酸素を含むガスであればよく、酸素ガス、乾燥空気などを用いることができる。特に、乾燥空気や酸素の露点は、低いほどよく、−60℃以下が好ましい。   The gas used as the ozone generation source for the UV ozone treatment may be any gas containing oxygen, and oxygen gas, dry air, or the like can be used. In particular, the lower the dew point of dry air or oxygen, the better and is preferably −60 ° C. or lower.

また、基板1からの脱水を促すために、UVオゾン処理中に基板1を加熱してもよい。この場合は、基板1の第1電極2が形成された面とは反対側から加熱することが望ましい。なお、この加熱処理は、図2(c)で示した脱水処理を兼ねてもよい。また、UVオゾン処理の雰囲気は、減圧下でも大気圧下でもよい。   In order to promote dehydration from the substrate 1, the substrate 1 may be heated during the UV ozone treatment. In this case, it is desirable to heat from the side opposite to the surface on which the first electrode 2 of the substrate 1 is formed. Note that this heat treatment may double as the dehydration treatment shown in FIG. Moreover, the atmosphere of UV ozone treatment may be under reduced pressure or atmospheric pressure.

次に、図2(e)で示すように、表面酸化処理された第1電極2の上に有機化合物層3を形成する。有機化合物層3の発光層や各機能層は、真空蒸着法や塗布法などを用いて形成される。   Next, as shown in FIG. 2E, an organic compound layer 3 is formed on the first electrode 2 subjected to the surface oxidation treatment. The light emitting layer and each functional layer of the organic compound layer 3 are formed using a vacuum deposition method, a coating method, or the like.

次に、図2(f)で示すように、有機化合物層3の上に第2電極4を形成する。第2電極4は、スパッタリング法や真空蒸着法を用いて形成される。その後、封止膜5、カラーフィルタ6R,6G,6Bを公知の方法を用いて形成する(不図示)。   Next, as shown in FIG. 2 (f), the second electrode 4 is formed on the organic compound layer 3. The second electrode 4 is formed using a sputtering method or a vacuum evaporation method. Thereafter, the sealing film 5 and the color filters 6R, 6G, and 6B are formed using a known method (not shown).

本実施形態の表示装置としては、テレビ受像機、パーソナルコンピュータの表示部に用いられる。他には、デジタルカメラやデジタルビデオカメラなどの撮像装置の表示部や電子ビューファインダに用いられてもよい。   The display device of this embodiment is used for a display unit of a television receiver or a personal computer. In addition, it may be used for a display unit or an electronic viewfinder of an imaging apparatus such as a digital camera or a digital video camera.

撮像装置は、図5で示すように、筺体90内にローパスフィルタ91や赤外線カットフィルタ92、CMOSセンサなどの撮像素子93を有している。本実施形態の表示装置94は、撮像装置の筺体90内に配置され、撮像素子93で撮像して画像処理回路で画像化された画像を表示することができる。また、図5では、撮像装置は筺体90の外にレンズ95が設けられ、レンズ95と筺体90とが着脱可能な構成となっている。ただし、本実施形態の表示装置は、筺体90とレンズが一体で設けられた撮像装置にも適用可能である。   As shown in FIG. 5, the imaging apparatus includes an imaging element 93 such as a low-pass filter 91, an infrared cut filter 92, and a CMOS sensor in a housing 90. The display device 94 according to the present embodiment is arranged in the housing 90 of the imaging device, and can display an image captured by the image sensor 93 and imaged by the image processing circuit. In FIG. 5, the imaging apparatus has a lens 95 provided outside the housing 90, and the lens 95 and the housing 90 are detachable. However, the display device of this embodiment can also be applied to an imaging device in which the housing 90 and the lens are provided integrally.

さらに、本実施形態の表示装置は、携帯電話の表示部、携帯ゲーム機の表示部等に用いられてもよいし、さらには、携帯音楽再生装置の表示部、携帯情報端末(PDA)の表示部、カーナビゲーションシステムの表示部に用いられてもよい。   Furthermore, the display device of the present embodiment may be used for a display unit of a mobile phone, a display unit of a portable game machine, or the like, and further, a display unit of a portable music player, a display of a personal digital assistant (PDA). May be used for a display part of a car navigation system.

(実施形態2)
本発明の有機EL素子は、実施形態1のような表示装置以外にも適用することができる。本実施形態では、本発明の有機EL素子を発光装置に適用する一例を示す。特に本実施形態の発光装置は、図6に示すような画像形成装置の露光光源として使用することができる。画像形成装置は、発光装置と、発光装置によって表面に潜像が形成される感光体と、感光体を帯電する帯電手段と、を備えている。
(Embodiment 2)
The organic EL element of the present invention can be applied to devices other than the display device as in the first embodiment. In the present embodiment, an example in which the organic EL element of the present invention is applied to a light emitting device is shown. In particular, the light emitting device of this embodiment can be used as an exposure light source of an image forming apparatus as shown in FIG. The image forming apparatus includes a light emitting device, a photoconductor on which a latent image is formed by the light emitting device, and a charging unit that charges the photoconductor.

本実施形態の発光装置には、有機EL素子を備える発光領域400を複数有している。図7(a)では、複数の発光領域400は千鳥状に配置され、図7(b)では、複数の発光領域400は1列に配置されている。有機EL素子の発光色としては、赤色、緑色、青色、黄色、シアン、マゼンタ、白色などが挙げられ、感光体の感光特性に応じて有機EL素子の構成を適宜採用すればよい。   The light emitting device of this embodiment has a plurality of light emitting regions 400 each including an organic EL element. In FIG. 7A, the plurality of light emitting regions 400 are arranged in a staggered pattern, and in FIG. 7B, the plurality of light emitting regions 400 are arranged in one row. Examples of the emission color of the organic EL element include red, green, blue, yellow, cyan, magenta, white, and the like, and the configuration of the organic EL element may be appropriately adopted according to the photosensitive characteristics of the photoreceptor.

図7(c)は、図7(a)のB−B’線における部分断面模式図である。発光領域400は、基板1上に、第1電極(陽極)2と、発光層を有する有機化合物層3と、第2電極(陰極)4と、を備える有機EL素子からなる。実施形態1とは異なり、本実施形態で使用される有機EL素子は、カラーフィルタを有していない。また、基板1には、有機EL素子の発光を制御する制御回路(不図示)が形成されている。   FIG. 7C is a partial schematic cross-sectional view taken along the line B-B ′ of FIG. The light emitting region 400 is formed of an organic EL element including a first electrode (anode) 2, an organic compound layer 3 having a light emitting layer, and a second electrode (cathode) 4 on the substrate 1. Unlike Embodiment 1, the organic EL element used in this embodiment does not have a color filter. In addition, a control circuit (not shown) for controlling light emission of the organic EL element is formed on the substrate 1.

第1電極2は、隣の画素の第1電極2と分離されて形成されており、有機化合物層3、第2電極4は、全画素で共通に形成されている。また、各有機EL素子は、外部の酸素や水分が侵入しないように、封止膜5によって封止されている。   The first electrode 2 is formed separately from the first electrode 2 of the adjacent pixel, and the organic compound layer 3 and the second electrode 4 are formed in common for all the pixels. Each organic EL element is sealed with a sealing film 5 so that external oxygen and moisture do not enter.

本実施形態の発光装置に使用される有機EL素子も、実施形態1に用いられる有機EL素子と同様に、第1電極2が、チタンを含む電極で構成されている。そして、上述した酸化処理によって、第1電極2の表面には、酸化チタンの膜が形成されている。さらに、第1電極2の中の任意の領域における第1電極2の面に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である領域の面積比率が1.0%以下となっている。このため、長寿命な有機EL素子を得ることができる。 Similarly to the organic EL element used in the first embodiment, the first electrode 2 of the organic EL element used in the light emitting device according to the present embodiment is configured by an electrode containing titanium. Then, a titanium oxide film is formed on the surface of the first electrode 2 by the oxidation treatment described above. Furthermore, the area ratio of the region where the electric resistance value in the direction perpendicular to the surface of the first electrode 2 in any region in the first electrode 2 is 2.0 × 10 9 Ω or less is 1.0% or less. ing. For this reason, a long-life organic EL element can be obtained.

次に、本実施形態の発光装置を露光光源として備える画像形成装置について説明する。図6の画像形成装置は、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(K)の4色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック(K)のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行できる。なお、図6は、副走査方向の要部断面図である。画像形成装置では、パーソナルコンピュータ等の外部機器からコードデータDcがプリントコントローラ(不図示)に入力されると、コードデータDcは、画像データ(ドットデータ)Diに変換される。この画像データDiは、画像形成装置に内蔵された露光ユニット70Y,70M,70C,70Kに入力される。そして、各露光ユニット70Y,70M,70C,70Kは、画像データDiに基づいて制御される。   Next, an image forming apparatus including the light emitting device of this embodiment as an exposure light source will be described. The image forming apparatus shown in FIG. 6 includes a color mode in which four color toners of yellow (Y), magenta (M), cyan (C), and black (K) are superimposed to form a color image, and black (K). A monochrome mode in which a monochrome image is formed using only toner can be selectively executed. FIG. 6 is a cross-sectional view of the main part in the sub-scanning direction. In the image forming apparatus, when code data Dc is input from an external device such as a personal computer to a print controller (not shown), the code data Dc is converted into image data (dot data) Di. The image data Di is input to exposure units 70Y, 70M, 70C, and 70K built in the image forming apparatus. The exposure units 70Y, 70M, 70C, and 70K are controlled based on the image data Di.

露光ユニット70Yは、本実施形態の発光装置と、その発光装置から射出された光を集光して感光ドラム85Yの表面に露光光を照射するためのレンズと、を有している。また、露光ユニット70Yは、感光ドラム85Yの表面の所定の位置以外に光が照射されないように光吸収部材を有していてもよい。   The exposure unit 70Y includes the light emitting device of the present embodiment and a lens that collects the light emitted from the light emitting device and irradiates the surface of the photosensitive drum 85Y with the exposure light. Further, the exposure unit 70Y may have a light absorbing member so that light is not irradiated to other than a predetermined position on the surface of the photosensitive drum 85Y.

画像形成装置の筺体80内には、露光ユニット70Y,70M,70C,70Kの他に、プリントコントローラ、転写ベルト81、給紙ユニット82、定着ローラ83、加圧ローラ84、が配置されている。さらに、筺体80内には、感光ドラム85Y,85M,85C,85K、帯電ローラ86Y,86M,86C,86K、現像器87Y,87M,87C,87K、転写ローラ88Y,88M,88C,88Kが配置されている。給紙ユニット82は、着脱自在に構成されている。   In addition to the exposure units 70Y, 70M, 70C, and 70K, a print controller, a transfer belt 81, a paper feed unit 82, a fixing roller 83, and a pressure roller 84 are disposed in the housing 80 of the image forming apparatus. Further, photosensitive drums 85Y, 85M, 85C, 85K, charging rollers 86Y, 86M, 86C, 86K, developing devices 87Y, 87M, 87C, 87K, and transfer rollers 88Y, 88M, 88C, 88K are arranged in the housing 80. ing. The paper feed unit 82 is configured to be detachable.

画像形成動作は以下のとおりである。なお、以下では、イエロー(Y)の画像を潜像する場合について述べるが、転写ベルト81によって用紙が搬送されて、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(K)の画像が、イエロー(Y)の画像形成と同様に、順次形成される。   The image forming operation is as follows. In the following, a case where a yellow (Y) image is latent is described. However, a sheet is conveyed by the transfer belt 81, and magenta (M), cyan (C), and black (K) images are yellow ( The image is sequentially formed in the same manner as the image formation of Y).

まず、プリントコントローラからの信号に基づき、静電潜像担持体である感光ドラム85Yは、モーター(不図示)によって時計廻りに回転する。そして、この回転に伴って、感光ドラム85Yの各感光面が各露光光に対して回転する。感光ドラム85Yの下方には、感光ドラム85Yの表面を所望のパターンで帯電するための帯電ローラ86Yが表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ86Yによって一様に帯電された感光ドラム85Yの表面に、露光ユニット70Yによって露光光が照射される。   First, based on a signal from the print controller, the photosensitive drum 85Y, which is an electrostatic latent image carrier, is rotated clockwise by a motor (not shown). With this rotation, each photosensitive surface of the photosensitive drum 85Y rotates with respect to each exposure light. Below the photosensitive drum 85Y, a charging roller 86Y for charging the surface of the photosensitive drum 85Y with a desired pattern is provided in contact with the surface. The exposure unit 70Y irradiates exposure light onto the surface of the photosensitive drum 85Y that is uniformly charged by the charging roller 86Y.

露光ユニット70Yから射出された露光光は、画像データDiに基づいて照射位置、照射タイミング、照射時間、照射強度などが調整され、露光光によって感光ドラム85Yの表面に静電潜像が形成される。この静電潜像は、露光光の照射位置よりも感光ドラム85Yの回転方向の下流側に感光ドラム85Yと当接するように配設された現像器87Yによってトナー像として現像される。   The exposure light emitted from the exposure unit 70Y is adjusted in irradiation position, irradiation timing, irradiation time, irradiation intensity, and the like based on the image data Di, and an electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive drum 85Y by the exposure light. . The electrostatic latent image is developed as a toner image by a developing unit 87Y disposed so as to be in contact with the photosensitive drum 85Y downstream of the exposure light irradiation position in the rotation direction of the photosensitive drum 85Y.

現像器87Yによって現像されたトナー像は、感光ドラム85Yの下方で、感光ドラム85Yに対向するように配設された転写ローラ88Yによって被転写材である用紙の上に転写される。用紙は、給紙ユニット82内の用紙カセット内に収納されているが、手差しトレーでも給紙が可能である。用紙カセットの端部には、給紙ローラが配設されており、用紙カセット内の用紙を搬送路へ送り込む。   The toner image developed by the developing unit 87Y is transferred onto a sheet as a transfer material by a transfer roller 88Y disposed below the photosensitive drum 85Y so as to face the photosensitive drum 85Y. The paper is stored in a paper cassette in the paper supply unit 82, but paper can also be fed by a manual tray. A paper feed roller is disposed at the end of the paper cassette, and feeds the paper in the paper cassette into the transport path.

以上のようにして、トナー像が転写された用紙は、転写ベルト81によって定着器へと搬送される。定着器は、内部に定着ヒータ(不図示)を有する定着ローラ83とこの定着ローラ83に圧接するように配設された加圧ローラ84とで構成されている。そして、定着器は、搬送されてきた用紙を定着ローラ83と加圧ローラ84とで加圧しながら加熱することにより、用紙上のトナー像を定着させる。   The sheet having the toner image transferred thereon as described above is conveyed to the fixing device by the transfer belt 81. The fixing device includes a fixing roller 83 having a fixing heater (not shown) therein and a pressure roller 84 disposed so as to be in pressure contact with the fixing roller 83. The fixing device fixes the toner image on the paper by heating the conveyed paper while being pressed by the fixing roller 83 and the pressure roller 84.

(実施例1)
図1に示す構成の表示装置を作製した。本実施例は、実施形態1に対応している。
Example 1
A display device having the configuration shown in FIG. 1 was produced. This example corresponds to the first embodiment.

まず、シリコン基材上にスイッチング素子等を含む制御回路(不図示)を形成した。そして、その上に酸化珪素からなる層間絶縁膜を形成して、基板1を作製した。次に、図2(a)で示すように、この基板1上にTi膜をスパッタリング法にて40nmの厚さで形成した。続いて、Ti膜を画素毎にパターニングして第1電極(陽極)2を形成した。   First, a control circuit (not shown) including a switching element or the like was formed on a silicon substrate. And the interlayer insulation film which consists of silicon oxide was formed on it, and the board | substrate 1 was produced. Next, as shown in FIG. 2A, a Ti film having a thickness of 40 nm was formed on the substrate 1 by sputtering. Subsequently, the Ti film was patterned for each pixel to form the first electrode (anode) 2.

次に、図2(b)で示すように、基板1を2流体洗浄、シャワーリンス、エアナイフを用いて洗浄した。その後、図2(c)で示すように、基板1を真空乾燥装置に投入し、脱水工程を行った。この脱水工程は、160℃に設定したハロゲンヒーターによって加熱された板材からの輻射熱を利用して、基板1の第1電極2側から、2.0時間連続して加熱した。なお、装置内に圧力は、5.0×10−4Paであった。 Next, as shown in FIG. 2B, the substrate 1 was cleaned using two-fluid cleaning, shower rinsing, and an air knife. Thereafter, as shown in FIG. 2C, the substrate 1 was put into a vacuum drying apparatus, and a dehydration process was performed. In this dehydration step, the substrate 1 was heated continuously for 2.0 hours from the first electrode 2 side using radiant heat from a plate material heated by a halogen heater set at 160 ° C. The pressure in the apparatus was 5.0 × 10 −4 Pa.

次に、図2(d)で示すように、第1電極2の表面を酸化させるために、基板1の全面に対してUVオゾン処理を行った。UVオゾン処理は、UVオゾン処理装置を用いて、基板1の第1電極2とは反対側から加熱しながら、減圧下で、酸素を含む乾燥空気を流し、UV光を照射し、オゾンを生成して行った。   Next, as shown in FIG. 2D, UV ozone treatment was performed on the entire surface of the substrate 1 in order to oxidize the surface of the first electrode 2. In the UV ozone treatment, ozone is generated by flowing dry air containing oxygen under reduced pressure while heating from the opposite side of the substrate 1 to the first electrode 2 using a UV ozone treatment device. I went there.

乾燥空気の露点は−70℃であった。この乾燥空気を10slmで導入しながら、装置内圧力が1.0kPaとなるように排気ライン側で排気速度を調整した。また、加熱は、加熱プレートの設定温度を88.3℃とし、基板1の第1電極2とは反対側(裏面)から加熱した。基板1の裏面と加熱プレートは、密着させて配置した。UVランプ管と基板1との間には、石英ガラス板を基板1と対向させるように配置した。なお、UVランプ管には、セン特殊光源社製 EUV200NS−46を用いた。また、石英ガラスの基板1側の表面と基板1上の第1電極2の表面との距離は40mmであった。このUVオゾン処理条件下において10分間、UVランプ管を点灯させ、UV処理装置内でオゾンを生成し、基板1上の第1電極2の表面を酸化させた。なお、これらの条件を表1に示す。サンプル1,2はそれぞれ、本実施例で製造された表示装置の複数の有機EL素子のうち2つの有機EL素子を示しており、その条件はサンプル1,2の位置でのUVオゾン処理の条件を表している。   The dew point of dry air was -70 ° C. While introducing this dry air at 10 slm, the exhaust speed was adjusted on the exhaust line side so that the internal pressure of the apparatus was 1.0 kPa. Further, the heating was performed from the opposite side (back surface) of the substrate 1 to the first electrode 2 with the set temperature of the heating plate being 88.3 ° C. The back surface of the substrate 1 and the heating plate were arranged in close contact with each other. A quartz glass plate was placed between the UV lamp tube and the substrate 1 so as to face the substrate 1. The UV lamp tube used was EUV200NS-46 manufactured by Sen Special Light Company. The distance between the surface of the quartz glass on the substrate 1 side and the surface of the first electrode 2 on the substrate 1 was 40 mm. Under this UV ozone treatment condition, the UV lamp tube was turned on for 10 minutes, ozone was generated in the UV treatment apparatus, and the surface of the first electrode 2 on the substrate 1 was oxidized. These conditions are shown in Table 1. Samples 1 and 2 respectively show two organic EL elements among the plurality of organic EL elements of the display device manufactured in this example, and the conditions are the conditions of the UV ozone treatment at the positions of Samples 1 and 2. Represents.

表1において、10分間UV光を照射した時の各サンプルの基板1上における積算照度は以下のようにして得た。すなわち、基板1の代わりに基板1と同じ高さ及び各サンプルの位置にセン特殊光源株式会社製 紫外線照度計25・36−3を設置し、本実施例と同じ条件のUVオゾン処理を行い、その際の積算照度を計測した。計測は、中心波長254nm付近を測定するモードで計測した。なお、本実施例のUVオゾン処理条件において、10分間のUVオゾン処理の完了時の基板1上に設けられた第1電極2の表面温度は、157.0℃となった。この表面温度の測定は、本実施例のUVオゾン処理条件において、基板1上に設置した熱電対によって計測した。   In Table 1, the integrated illuminance on the substrate 1 of each sample when irradiated with UV light for 10 minutes was obtained as follows. In other words, instead of the substrate 1, the UV illuminance meter 25 / 36-3 manufactured by Sen Special Light Source Co., Ltd. was installed at the same height as the substrate 1 and the position of each sample, and UV ozone treatment under the same conditions as in this example was performed. The integrated illuminance at that time was measured. The measurement was performed in a mode for measuring around a central wavelength of 254 nm. Note that, under the UV ozone treatment conditions of this example, the surface temperature of the first electrode 2 provided on the substrate 1 when the UV ozone treatment for 10 minutes was completed was 157.0 ° C. The surface temperature was measured with a thermocouple installed on the substrate 1 under the UV ozone treatment conditions of this example.

次に、図2(e)で示すように、表面酸化処理された第1電極2を有する基板1全面に対して、真空蒸着法により白色発光層を含む有機化合物層3を形成した。なお、有機化合物層3の膜厚構成は、正孔注入層15nm/正孔輸送層10nm/白色発光層21nm/電子輸送層21nm/電子注入層39nmの積層構成とした。   Next, as shown in FIG. 2E, an organic compound layer 3 including a white light emitting layer was formed on the entire surface of the substrate 1 having the first electrode 2 subjected to surface oxidation treatment by a vacuum deposition method. The film thickness of the organic compound layer 3 was a stacked structure of 15 nm hole injection layer / 10 nm hole transport layer / 21 nm white light emitting layer / 21 nm electron transport layer / 39 nm electron injection layer.

次に、図2(f)で示すように、スパッタリング法により、第2電極4として酸化インジウム亜鉛を、膜厚500nmで形成した。   Next, as shown in FIG. 2F, indium zinc oxide was formed to a thickness of 500 nm as the second electrode 4 by sputtering.

そして、第2電極4の上に窒化珪素の封止膜5を4.0μmで成膜した。さらに、その上に、画素ごとにパターニングして、ネガ型のアクリル系感光性材料に顔料を分散させたカラーフィルタ6R,6G,6Bを形成した。各カラーフィルタの厚さは2.0μmであった。   Then, a silicon nitride sealing film 5 was formed on the second electrode 4 at 4.0 μm. Further, color filters 6R, 6G, and 6B in which pigments are dispersed in a negative acrylic photosensitive material are formed on each pixel by patterning. The thickness of each color filter was 2.0 μm.

(実施例2)
本実施例は、UVオゾン処理の条件が実施例1と異なっている。その条件は表1に示されている。具体的には、本実施例は、加熱プレートの設定温度を112.6℃に設定した点で実施例1と異なっている。また、本実施例で製造された有機EL素子(サンプル3乃至5)の位置における積算照度が、サンプル1,2の位置でのそれとは異なっている。なお、本実施例のUVオゾン処理条件において、10分間のUVオゾン処理の完了時の基板1上に設けられた第1電極2の表面温度は、168.0℃となった。この条件以外は実施例1と同じである。
(Example 2)
In this example, the conditions for the UV ozone treatment are different from those in Example 1. The conditions are shown in Table 1. Specifically, this example differs from Example 1 in that the set temperature of the heating plate is set to 112.6 ° C. Further, the integrated illuminance at the positions of the organic EL elements (samples 3 to 5) manufactured in this example is different from that at the positions of samples 1 and 2. In the UV ozone treatment conditions of this example, the surface temperature of the first electrode 2 provided on the substrate 1 when the UV ozone treatment for 10 minutes was completed was 168.0 ° C. Except for this condition, the second embodiment is the same as the first embodiment.

(比較例)
本比較例は、UVオゾン処理の条件が実施例1と異なっている。その条件は表1に示されている。具体的には、本比較例で製造された有機EL素子(サンプル6)の位置での積算照度がサンプル1,2の位置でのそれとは異なっている。この条件以外は実施例1と同じである。
(Comparative example)
In this comparative example, the conditions for the UV ozone treatment are different from those in Example 1. The conditions are shown in Table 1. Specifically, the integrated illuminance at the position of the organic EL element (sample 6) manufactured in this comparative example is different from that at the positions of samples 1 and 2. Except for this condition, the second embodiment is the same as the first embodiment.

<実施例1及び2、比較例の劣化特性の評価>
サンプル1乃至6の長期駆動時の輝度劣化特性を評価した。この輝度劣化特性は、発光輝度が100cd/mとなるように電圧を調整し、一定電圧駆動で実施した。また、実施例1,2、比較例で製造した表示装置をエスペック社製 PWL−4KP恒温槽に入れ、長期駆動中の有機EL表示装置の表面温度が40℃となるように温度制御を行った。また、長期駆動中の輝度は、コニカミノルタ社製 CA−2000を用いて測定した。
<Evaluation of deterioration characteristics of Examples 1 and 2 and Comparative Example>
The luminance degradation characteristics of samples 1 to 6 during long-term driving were evaluated. This luminance deterioration characteristic was implemented by driving at a constant voltage by adjusting the voltage so that the light emission luminance was 100 cd / m 2 . In addition, the display devices manufactured in Examples 1 and 2 and the comparative example were placed in a PWL-4KP thermostatic chamber manufactured by Espec, and temperature control was performed so that the surface temperature of the organic EL display device during long-term driving was 40 ° C. . Moreover, the brightness | luminance during a long-term drive was measured using Konica Minolta CA-2000.

サンプル1乃至5は、L150/L(駆動開始時点での輝度(初期輝度)に対する駆動150時間後の相対輝度)で、それぞれ94%乃至98%の劣化を示した。この結果を表2、図8にまとめた。 Samples 1 to 5 showed deterioration of 94% to 98% at L 150 / L 0 (relative luminance after driving 150 hours with respect to luminance (initial luminance) at the start of driving), respectively. The results are summarized in Table 2 and FIG.

150/Lにおいて、90.6%以上であれば、有機EL素子の長期駆動試験においては問題ない。90.6%という指標は、以下のように導かれた。まず、表示装置を全画素で白色表示を5時間行い、その後、表示装置の中央部の画素は白色表示のままで、その他の画素を黒色表示で25時間行う。この駆動を交互に150時間(5回交互に)行った時、常時白表示した中央部の画素とその他の領域の画素との輝度差が1.5%以内になるための、最も劣化が大きい画素(有機EL素子)の輝度の値である。輝度差が1.5%以内であれば、表示装置内での輝度むらは視認されない。 When L 150 / L 0 is 90.6% or more, there is no problem in the long-term driving test of the organic EL element. The indicator of 90.6% was derived as follows. First, the display device performs white display with all the pixels for 5 hours, and then performs the other pixel display with black display for 25 hours while the central pixel of the display device remains in white display. When this drive is alternately performed for 150 hours (alternately 5 times), the luminance difference between the central pixel always displaying white and the pixels in other regions is within 1.5%, so the degradation is greatest. This is the luminance value of the pixel (organic EL element). If the luminance difference is within 1.5%, the luminance unevenness in the display device is not visually recognized.

なお、評価時の測定条件下において、本実施例の表示装置は、駆動中の電流変化に伴い、発光効率変化を招き、輝度低下していた。このことから、第1電極2における電流の変化が、有機化合物層3を劣化させる要因となることを示唆していると考える。   Note that, under the measurement conditions at the time of evaluation, the display device of this example caused a change in light emission efficiency and a decrease in luminance with a change in current during driving. From this, it is considered that a change in current in the first electrode 2 suggests that the organic compound layer 3 is deteriorated.

一方、サンプル6は、L150/Lは82%であり、比較例で製造された表示装置でおいては、輝度むらが視認された。 On the other hand, in Sample 6, L 150 / L 0 was 82%, and in the display device manufactured in the comparative example, luminance unevenness was visually recognized.

<実施例1及び2、比較例の第1電極2の表面の電気抵抗値の測定>
次に、サンプル1乃至6の第1電極2の表面を、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製 SPA−400におけるConducitve−AFMモードを用いて、電流像を取得した。カンチレバーには、エスアイアイ・ナノテクノロジー社の電流同時AFM測定に用いられる、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製 SI−DF3Rを用いた。なお、SI−DF3Rは、背面コート材がAl、探針先端コート材がRhからなっていた。また、電流像の取得時の印加電圧は−2.0Vとした。
<Measurement of electrical resistance value of surface of first electrode 2 of Examples 1 and 2 and Comparative Example>
Next, the current image was acquired for the surface of the 1st electrode 2 of the samples 1 thru | or 6 using Conductive-AFM mode in SPA-400 by SII Nanotechnology. SI-DF3R manufactured by SII Nanotechnology, Inc. used for simultaneous current AFM measurement by SII Nanotechnology was used as the cantilever. In SI-DF3R, the back coating material was Al, and the probe tip coating material was Rh. The applied voltage at the time of acquiring the current image was set to -2.0V.

この測定方法で、サンプル1乃至5の第1電極2の表面の電流像を取得した。その結果、1.0μm×1.0μm当たりの面積において、第1電極2の垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である部分の面積比率が0.558%乃至0.751%の範囲であった。 With this measurement method, current images of the surfaces of the first electrodes 2 of Samples 1 to 5 were acquired. As a result, in the area per 1.0 μm × 1.0 μm, the area ratio of the portion where the electric resistance value in the vertical direction of the first electrode 2 is 2.0 × 10 9 Ω or less is 0.558% to 0.001. It was 751% of range.

一方、サンプル6の第1電極2の表面の電流像を取得したところ、1.0μm×1.0μm当たりの面積において、第1電極2の垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である部分の面積比率が1.055%の範囲であった。これらの結果を表2に示す。 On the other hand, when the current image of the surface of the first electrode 2 of the sample 6 was acquired, the electric resistance value in the vertical direction of the first electrode 2 was 2.0 × 10 9 in the area per 1.0 μm × 1.0 μm. The area ratio of the portion that is Ω or less was in the range of 1.055%. These results are shown in Table 2.

比較例では積算照度が6700mJ/cmより小さく、サンプル6の第1電極2の表面酸化処理が不十分であったため、電流集中面積が大きくなったと考える。このため、上述したような輝度低下を招いていると推測する。 In the comparative example, the integrated illuminance is smaller than 6700 mJ / cm 2 , and the surface oxidation treatment of the first electrode 2 of the sample 6 is insufficient, so it is considered that the current concentration area is increased. For this reason, it is estimated that the brightness | luminance fall as mentioned above is invited.

<実施例1及び2、比較例の第1電極2の仕事関数の測定>
次に、サンプル1乃至6の第1電極2の仕事関数を、理研計器社製 AC−2を用いて測定した。なお、AC−2における測定光量は730nWとした。サンプル1乃至5の第1電極2の仕事関数は、5.05eV乃至5.20eVの範囲であった。一方、サンプル6の第1電極2の仕事関数は、4.95eVであった。
<Measurement of Work Function of First Electrode 2 of Examples 1 and 2 and Comparative Example>
Next, the work functions of the first electrodes 2 of Samples 1 to 6 were measured using AC-2 manufactured by Riken Keiki Co., Ltd. In addition, the measurement light quantity in AC-2 was 730 nW. The work function of the first electrode 2 of Samples 1 to 5 was in the range of 5.05 eV to 5.20 eV. On the other hand, the work function of the first electrode 2 of Sample 6 was 4.95 eV.

仕事関数はキャリア注入性とかかわっており、正孔注入性の観点では、サンプル1乃至5の第1電極2の方がサンプル6のそれよりも優れていると言える。   The work function is related to the carrier injection property, and it can be said that the first electrode 2 of the samples 1 to 5 is superior to that of the sample 6 from the viewpoint of the hole injection property.

<実施例1及び2、比較例の第1電極2の酸化状態の測定>
次に、サンプル1乃至6の有機EL素子の第1電極2の酸化状態を、アルバック・ファイ社製 X線光電子分光装置を用いて評価した。なお、評価方法として、第1電極2のTi膜のTi2pスペクトルのTiOを示すピークとO1sスペクトルのメインピークとを、各サンプルで比較した。Ti2pスペクトルにおいては、460eV付近に主にTiOに起因するピークが見られる。O1sスペクトルにおいては、529eV付近にメインピークが見られる。なお、O1sスペクトルにおいては、531eV付近にサブピークが現れることから、ローレンツ関数とガウシアン関数により波形分離を行い、メインピーク値を算出した。各スペクトルにおけるメインピークは、主にTiOを多く含む形で酸化されたTiの量を示しており、両方のピークが高いほど、よりTi膜が酸化されていると言える。
<Measurement of oxidation state of first electrode 2 of Examples 1 and 2 and Comparative Example>
Next, the oxidation state of the first electrode 2 of the organic EL elements of Samples 1 to 6 was evaluated using an X-ray photoelectron spectrometer manufactured by ULVAC-PHI. As the evaluation method, and a main peak of the O1s spectrum having a TiO 2 of the Ti2p spectrum of the first electrode 2 of the Ti film were compared for each sample. In the Ti2p spectrum, a peak mainly attributable to TiO 2 is observed in the vicinity of 460 eV. In the O1s spectrum, a main peak is observed in the vicinity of 529 eV. In the O1s spectrum, since a sub peak appears in the vicinity of 531 eV, waveform separation was performed using a Lorentz function and a Gaussian function, and a main peak value was calculated. The main peak in each spectrum indicates the amount of Ti that has been oxidized mainly containing a large amount of TiO 2. It can be said that the higher the both peaks, the more the Ti film is oxidized.

図9に、サンプル1乃至6の第1電極2のX線光電子分光法の結果を示す。なお、図9の左下の灰色の菱形プロットは表面酸化処理を行っていないTi膜の測定結果である。図9より、サンプル1乃至5の第1電極2(白色の丸プロット)の方が、サンプル6の第1電極2(黒色の三角プロット)よりも、Ti2pスペクトル、並びにO1sスペクトルにおけるピークトップ値が大きい。このことからも、サンプル1乃至5の第1電極2が、サンプル6の第1電極2よりも酸化が進んでいることが分かった。酸化が進んでいるということは、TiOxのxが1<x<2であるような低次の酸化物が存在する確率が低いことであり、前述した電気抵抗値の測定結果、仕事関数の測定結果とも一致している。   In FIG. 9, the result of the X-ray photoelectron spectroscopy of the 1st electrode 2 of the samples 1 thru | or 6 is shown. In addition, the gray rhombus plot at the lower left in FIG. 9 is a measurement result of the Ti film not subjected to the surface oxidation treatment. From FIG. 9, the first electrode 2 (white circle plot) of Samples 1 to 5 has a peak top value in the Ti2p spectrum and the O1s spectrum as compared with the first electrode 2 (black triangle plot) of Sample 6. large. From this, it was found that the first electrode 2 of samples 1 to 5 was more oxidized than the first electrode 2 of sample 6. The progress of oxidation means that there is a low probability that a low-order oxide in which x of TiOx is 1 <x <2 is present, and the measurement result of the electric resistance value and the measurement of the work function described above. It agrees with the result.

2 第1電極
3 有機化合物層
4 第2電極
2 First electrode 3 Organic compound layer 4 Second electrode

Claims (9)

チタンを含有する第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に形成された有機化合物層と、を有する有機EL素子であって、
前記第1電極の表面には、酸化チタンが形成されており、
前記第1電極の中の任意の領域における前記第1電極に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である領域の面積比率が1.0%以下であることを特徴とする有機EL素子。
An organic EL element having a first electrode containing titanium, a second electrode, and an organic compound layer formed between the first electrode and the second electrode,
Titanium oxide is formed on the surface of the first electrode,
An area ratio of a region in which an electric resistance value in a direction perpendicular to the first electrode in an arbitrary region in the first electrode is 2.0 × 10 9 Ω or less is 1.0% or less, Organic EL element to be used.
前記第1電極は、前記有機化合物層に近い側から、酸化チタン層、チタン層の順で有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子。   2. The organic EL element according to claim 1, wherein the first electrode includes a titanium oxide layer and a titanium layer in this order from a side close to the organic compound layer. 請求項1又は2に記載の有機EL素子と、前記有機EL素子の発光を制御する制御回路と、を有する発光装置。   A light emitting device comprising: the organic EL element according to claim 1; and a control circuit that controls light emission of the organic EL element. 請求項3に記載の発光装置と、前記発光装置によって潜像が形成される感光体と、前記感光体を帯電する帯電手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。   An image forming apparatus comprising: the light emitting device according to claim 3; a photoconductor on which a latent image is formed by the light emitting device; and a charging unit that charges the photoconductor. 異なる色を発する複数の有機EL素子と、前記有機EL素子の発光を制御する制御回路と、を有する表示装置であって、
前記有機EL素子が請求項1又は2に記載の有機EL素子であることを特徴とする表示装置。
A display device having a plurality of organic EL elements that emit different colors and a control circuit that controls light emission of the organic EL elements,
A display device, wherein the organic EL element is the organic EL element according to claim 1.
請求項5に記載の表示装置と、撮像素子と、を有することを特徴とする撮像装置。   An imaging apparatus comprising: the display device according to claim 5; and an imaging element. チタンを含有する第1電極と、第2電極と、前記第1電極と第2電極との間に形成された有機化合物層と、を有し、前記第2電極から光が射出される有機EL素子の製造方法であって、
チタンを含有する第1電極を形成する工程と、
前記第1電極を表面酸化処理する工程と、
表面酸化処理された前記第1電極の上に有機化合物層を形成する工程と、
前記有機化合物層の上に前記第2電極を形成する工程と、を有し、
前記表面酸化処理する工程において、前記第1電極の中の任意の領域における前記第1電極に垂直な方向の電気抵抗値が2.0×10Ω以下である領域の面積比率が1.0%以下となるように前記第1電極の表面が酸化されることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
An organic EL having a first electrode containing titanium, a second electrode, and an organic compound layer formed between the first electrode and the second electrode, and light is emitted from the second electrode. A method for manufacturing an element, comprising:
Forming a first electrode containing titanium;
Subjecting the first electrode to a surface oxidation treatment;
Forming an organic compound layer on the surface-treated first electrode;
Forming the second electrode on the organic compound layer,
In the surface oxidation treatment step, an area ratio of a region in which an electric resistance value in a direction perpendicular to the first electrode in an arbitrary region in the first electrode is 2.0 × 10 9 Ω or less is 1.0. %. The method for producing an organic EL element, wherein the surface of the first electrode is oxidized so as to be not more than%.
前記表面酸化処理する工程は、UVオゾン処理を用いることを特徴とする請求項7に記載の有機EL素子の製造方法。   8. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 7, wherein the surface oxidation treatment uses UV ozone treatment. 前記UVオゾン処理において、6700mJ/cm以上の積算照度でUV光が前記第1電極の表面に照射されることを特徴とする請求項8に記載の有機EL素子の製造方法。 9. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 8, wherein in the UV ozone treatment, the surface of the first electrode is irradiated with UV light at an integrated illuminance of 6700 mJ / cm 2 or more.
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