JP2014076989A - Method for producing glycidyl acrylate - Google Patents

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Masayoshi Nishii
聖悦 西井
Keiji Yurugi
啓嗣 万木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing glycidyl acrylate, which sufficiently suppresses the radical polymerization of glycidyl acrylate in a vapor phase part, also suppresses the formation of a polymer by ring opening of epoxy part, and allows a stable continuous operation for a long period of time.SOLUTION: The method for producing glycidyl acrylate includes a step for purifying the glycidyl acrylate by using a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from nitroso compounds.

Description

本発明は、グリシジルアクリレートの製造方法に関する。より詳しくは、塗料、接着剤、粘着剤、繊維改質剤、分散剤、レジスト材料等のモノマー原料等として広い分野で使用されているグリシジルアクリレートの製造に好適な製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing glycidyl acrylate. More specifically, the present invention relates to a production method suitable for producing glycidyl acrylate used in a wide range of fields as a monomer raw material for paints, adhesives, pressure-sensitive adhesives, fiber modifiers, dispersants, resist materials, and the like.

グリシジルアクリレートは、エポキシ基を含むアクリル酸エステルの一種である。エポキシ基を含むアクリル酸エステルは、反応性モノマー等として有用であり、塗料、接着剤、粘着剤、繊維改質剤、分散剤、レジスト材料等のモノマー原料等として広い分野で使用されている。 Glycidyl acrylate is a kind of acrylic ester containing an epoxy group. An acrylic ester containing an epoxy group is useful as a reactive monomer and the like, and is used in a wide range of fields as a monomer raw material for paints, adhesives, adhesives, fiber modifiers, dispersants, resist materials, and the like.

アクリル酸エステルは、その構造から、極めて重合し易い性質を持つ化合物である。しかも、アクリル酸エステルの蒸留精製等は、気相部と液相部とが混在する系を構成するため、蒸留塔内の液相部と気相部との双方に対して、その重合を効果的に抑制し、長時間の安定な連続運転を可能とする必要がある。従来、このような重合の発生を防止するために、種々のラジカル重合禁止剤が単独又は数種組み合わされて、モノマー中に添加され、該製造工程での重合物の発生を防止している(例えば、特許文献1〜3参照)。 Acrylic acid ester is a compound having the property of being very easily polymerized due to its structure. Moreover, since distillation purification of acrylic acid esters constitutes a system in which the gas phase part and the liquid phase part coexist, the polymerization is effective for both the liquid phase part and the gas phase part in the distillation column. It is necessary to suppress it and to enable stable continuous operation for a long time. Conventionally, in order to prevent the occurrence of such polymerization, various radical polymerization inhibitors are added singly or in combination, and added to the monomer to prevent the generation of a polymer in the production process ( For example, see Patent Documents 1 to 3).

特開2001−348358号公報JP 2001-348358 A 特開2001−348359号公報JP 2001-348359 A 特開2008−222610号公報JP 2008-222610 A

グリシジルアクリレートは、エポキシ基を含むアクリル酸エステルの一種であり、アクリロイル基とエポキシ基という2つの反応性基を有するため、極めて重合し易い性質を持つ。従来、アクリル酸エステルの蒸留精製時には、上記のようにラジカル重合禁止剤が用いられてきたが、グリシジルアクリレートの蒸留精製においては、上記重合禁止剤を用いても、気相部におけるラジカル重合の抑制は充分でなく、また、エポキシ部位の開環による重合物も生じるという問題があった。 Glycidyl acrylate is a kind of acrylic ester containing an epoxy group, and has two reactive groups, an acryloyl group and an epoxy group, and thus has a property of being extremely easily polymerized. Conventionally, radical polymerization inhibitors have been used as described above during distillation purification of acrylic acid esters. However, in the distillation purification of glycidyl acrylate, radical polymerization in the gas phase is suppressed even when the polymerization inhibitor is used. Is not sufficient, and there is also a problem that a polymer is formed due to ring opening of the epoxy site.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、気相部におけるグリシジルアクリレートのラジカル重合を充分に抑制し、エポキシ部位の開環による重合物の生成も抑制し、長時間の安定な連続運転ができる、グリシジルアクリレートの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above situation, and sufficiently suppresses the radical polymerization of glycidyl acrylate in the gas phase part, suppresses the formation of a polymer due to the ring opening of the epoxy site, and is stable for a long time. It aims at providing the manufacturing method of glycidyl acrylate which can be drive | operated.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、グリシジルアクリレートを精製する際に、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを併用することで、グリシジルアクリレートのラジカル重合だけでなく、エポキシ部位の開環による重合物の生成も効果的に抑制できることを見出した。従来、ニトロソ化合物はラジカル重合禁止剤として用いられている化合物であり、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを併用することにより、ラジカル重合に加え、エポキシ部位の開環によるカチオン重合の進行も効果的に抑制されることは、本発明において初めて見出された知見である。そして、このような精製工程を含むことにより、グリシジルアクリレートの製造方法が、長時間の安定な連続運転ができる製造方法となることを見出し、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have used radical polymerization of glycidyl acrylate by using a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound when purifying glycidyl acrylate. In addition to the above, it has been found that the formation of a polymer by ring opening of an epoxy site can be effectively suppressed. Conventionally, nitroso compounds are compounds that have been used as radical polymerization inhibitors. By using a combination of a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor that is different from the nitroso compound, in addition to radical polymerization, a cation by ring opening of the epoxy moiety is used. It is a finding for the first time in the present invention that the progress of polymerization is also effectively suppressed. And, by including such a purification step, the inventors have found that the method for producing glycidyl acrylate becomes a production method capable of stable continuous operation for a long time, and conceived that the above problems can be solved brilliantly, The present invention has been achieved.

すなわち、本発明は、グリシジルアクリレートの製造方法であって、上記製造方法は、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを用いて、グリシジルアクリレートを精製する工程を含むことを特徴とするグリシジルアクリレートの製造方法である。
また、本発明は、前記ニトロソ化合物がニトロソフェニル化合物又はニトロソアミン化合物であることを特徴とする上記グリシジルアクリレートの製造方法である。
また、本発明は、前記ラジカル重合禁止剤がアルキルフェノール系化合物であることを特徴とする上記グリシジルアクリレートの製造方法である。
更に、本発明は、前記精製工程は、ニトロソ化合物の分解ガスを精留塔内に導入して精留を行う工程を含むことを特徴とする上記グリシジルアクリレートの製造方法である。
That is, the present invention is a method for producing glycidyl acrylate, wherein the production method includes a step of purifying glycidyl acrylate using a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound. This is a method for producing glycidyl acrylate.
Further, the present invention is the method for producing glycidyl acrylate, wherein the nitroso compound is a nitrosophenyl compound or a nitrosamine compound.
The present invention is also the method for producing glycidyl acrylate, wherein the radical polymerization inhibitor is an alkylphenol compound.
Furthermore, the present invention provides the method for producing glycidyl acrylate, wherein the purification step includes a step of performing rectification by introducing a decomposition gas of a nitroso compound into a rectification column.

以下に本発明を詳述する。
なお、以下において記載する本発明の個々の好ましい形態を2つ以上組み合わせたものもまた、本発明の好ましい形態である。
The present invention is described in detail below.
A combination of two or more preferred embodiments of the present invention described below is also a preferred embodiment of the present invention.

本発明のグリシジルアクリレートの製造方法は、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを用いて、グリシジルアクリレートを精製する工程を含むことを特徴とするものである。
なお、本明細書においては、「ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤」を、単に「ラジカル重合禁止剤」又は「重合禁止剤」ともいう。
The method for producing glycidyl acrylate of the present invention includes a step of purifying glycidyl acrylate using a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound.
In the present specification, the “radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound” is also simply referred to as “radical polymerization inhibitor” or “polymerization inhibitor”.

上記ニトロソ化合物としては、例えば、ニトロソベンゼン、p−ニトロソフェノール、p−ニトロソトルエン等のニトロソフェニル化合物;N−ニトロソジフェニルアミン、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン及びそれらの塩等のニトロソアミン化合物;等が挙げられる。グリシジルアクリレートの重合抑制効果がより優れる点から、好ましくは、ニトロソベンゼン、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン及びそれらの塩であり、より好ましくは、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン及びその塩である。
また、上記ニトロソアミン化合物の内、塩としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩等が挙げられる。安価で入手が容易な点から、アンモニウム塩が好ましい。
Examples of the nitroso compound include nitrosophenyl compounds such as nitrosobenzene, p-nitrosophenol and p-nitrosotoluene; nitrosamine compounds such as N-nitrosodiphenylamine, N-nitrosophenylhydroxylamine and salts thereof; and the like. . From the viewpoint that the polymerization inhibitory effect of glycidyl acrylate is more excellent, nitrosobenzene, N-nitrosophenylhydroxylamine and salts thereof are preferable, and N-nitrosophenylhydroxylamine and salts thereof are more preferable.
Examples of the salt among the nitrosamine compounds include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, and the like. An ammonium salt is preferable because it is inexpensive and easily available.

上記ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤としては、例えば、アルキルフェノール系化合物、パラフェニレンジアミン類、アミン系化合物、ジアルキルジチオカルバミン酸銅塩、N−オキシル化合物、及び、これらの分解物等が挙げられる。これら化合物は、1種でも2種以上でも用いることができる。
上記ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤のうち、グリシジルアクリレートの重合抑制効果がより優れる点から、好ましくは、アルキルフェノール系化合物、アミン系化合物であり、より好ましくは、アルキルフェノール系化合物である。グリシジルアクリレートの製造においては、アルキルフェノール系化合物を用いることが特に効果的である。
Examples of the radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound include alkylphenol compounds, paraphenylenediamines, amine compounds, copper dialkyldithiocarbamate, N-oxyl compounds, and decomposition products thereof. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
Of the radical polymerization inhibitors different from the above nitroso compounds, alkylphenol compounds and amine compounds are preferable, and alkylphenol compounds are more preferable because the polymerization inhibition effect of glycidyl acrylate is more excellent. In the production of glycidyl acrylate, it is particularly effective to use an alkylphenol compound.

上記アルキルフェノール系化合物としては、例えば、メチルハイドロキノン、tert−ブチルハイドロキノン、2,6−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、2,4−ジメチル−6−tert−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、1,3,5−トリス−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌル酸、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、4,4−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス−(メチレン−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)メタン、トリ−エチレングリコール−ビス−3−(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ジ(α−メチルベンジル)フェノール、N,N’−ビス−3−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルヘキサメチレンジアミン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等が挙げられる。 Examples of the alkylphenol compounds include methyl hydroquinone, tert-butyl hydroquinone, 2,6-di-tert-butyl hydroquinone, 2,5-di-tert-butyl hydroquinone, and 2,4-dimethyl-6-tert-butyl phenol. 2,2-di-tert-butyl-4-methylphenol, 2,2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylene-bis (4-ethyl-6) -Tert-butylphenol), 1,3,5-tris- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanuric acid, 1,1,3-tris- (2-methyl-4- Hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 4,4-butylidene-bis- (3-methyl-6-t rt-butylphenol), n-octadecyl-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate, tetrakis- (methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-) Butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate) methane, tri-ethylene glycol-bis-3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,9-bis [1,1-dimethyl -2- {β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 1,3, 5-trimethyl-2,4,6-tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, di (α-methyl) Benzyl) phenol, N, N′-bis-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionylhexamethylenediamine, 1,3,5-trimethyl-2,4,6- And tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene.

上記パラフェニレンジアミン類としては、例えば、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン等が挙げられる。
上記アミン系化合物としては、例えば、フェノチアジン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、1−ナフチルアミン、N,N’−ジフェニル−4−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−ブチル−4−フェニレンジアミン等が挙げられる。
上記ジアルキルジチオカルバミン酸銅塩としては、例えば、ジブチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジメチルジチオカルバミン酸銅等が挙げられる。
Examples of the paraphenylenediamines include N-isopropyl-N′-phenyl-p-phenylenediamine, N- (1,3-dimethylbutyl) -N′-phenyl-p-phenylenediamine, and N- (1- Methylheptyl) -N′-p-phenylenediamine, N, N′-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine, and the like.
Examples of the amine compound include phenothiazine, N-phenyl-2-naphthylamine, 1-naphthylamine, N, N′-diphenyl-4-phenylenediamine, N, N′-di-butyl-4-phenylenediamine, and the like. Can be mentioned.
Examples of the copper dialkyldithiocarbamate include copper dibutyldithiocarbamate, copper diethyldithiocarbamate, copper dimethyldithiocarbamate, and the like.

上記N−オキシル化合物としては、例えば、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−アセチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ピペリジン、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−グリシジルオキシピペリジン、ビス−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−N−オキシルピペリジル)スクシネート、セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシ)等が挙げられる。
上記分解物としては、アルキルフェノール系化合物、パラフェニレンジアミン類、アミン化合物、ジアルキルジチオカルバミン酸銅塩、及び、N−オキシル化合物の各分解物である限り、特に限定されない。
Examples of the N-oxyl compound include 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, and 4-acetylamino. -2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 1-oxyl-2,2,6,6-tetramethyl-4- (2,3-dihydroxypropoxy) piperidine, 1-oxyl-2, 2,6,6-tetramethyl-4-glycidyloxypiperidine, bis- (2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-N -Oxyl piperidyl) succinate, bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidinoxy) sebacate and the like.
The decomposition product is not particularly limited as long as it is a decomposition product of an alkylphenol compound, a paraphenylenediamine, an amine compound, a dialkyldithiocarbamate copper salt, and an N-oxyl compound.

次に、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを用いて、グリシジルアクリレートを精製する工程(精製工程)について説明する。
当該精製工程においては、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤を併用することに特徴がある。これにより、気相部におけるグリシジルアクリレートのラジカル重合を充分に抑制し、エポキシ部位の開環による重合物の生成も抑制し、長時間の安定な連続運転ができる。
Next, the process (purification process) which refine | purifies glycidyl acrylate using a nitroso compound and the radical polymerization inhibitor different from a nitroso compound is demonstrated.
The purification step is characterized in that a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound are used in combination. Thereby, radical polymerization of glycidyl acrylate in the gas phase part is sufficiently suppressed, generation of a polymer due to ring opening of the epoxy site is also suppressed, and stable continuous operation for a long time can be achieved.

本発明のグリシジルアクリレートの製造方法は、グリシジルアクリレートを精製する際に、精製塔内で発生する重合を防止するものである。従って、精製塔としては、その名称にかかわらず、グリシジルアクリレートの製造工程で使用され、グリシジルアクリレートを精製及び/又は製造する目的で使用される装置を広く含み、蒸留塔、精留塔、放散塔、共沸分離塔、脱水塔、酢酸分離塔、軽沸物分離塔、高沸物分離塔等が含まれる。
また、本発明においては、精製塔として精留塔を用いることが好ましい。
The method for producing glycidyl acrylate of the present invention prevents polymerization that occurs in a purification tower when purifying glycidyl acrylate. Accordingly, as a purification tower, regardless of its name, it includes a wide range of equipment used in the production process of glycidyl acrylate and used for the purpose of purifying and / or producing glycidyl acrylate, and includes a distillation tower, a rectifying tower, and a stripping tower. , An azeotropic separation tower, a dehydration tower, an acetic acid separation tower, a light boiling substances separation tower, a high boiling substances separation tower, and the like.
In the present invention, it is preferable to use a rectifying column as a purification column.

なお、本願明細書においては、「精留」とは、気液の接触面積を大きくして効率よく分離性能を向上させた蒸留を意味する。
また、本願明細書においては、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを「用いる」には、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを、これら化合物をそのまま用いる形態だけでなく、それら化合物に由来する別の化合物に変化させた上で用いるような形態も含まれる。
In the present specification, “rectification” means distillation in which the separation area is efficiently improved by increasing the contact area of gas and liquid.
Further, in the present specification, to “use” a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound, these compounds are used as they are, and the nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound are used. Not only the form but also the form used after changing to another compound derived from these compounds is included.

上記精製工程の好ましい形態としては、例えば、以下のような形態等が挙げられ、これらを2以上組合せたものがより好ましい。
(1)ニトロソ化合物がニトロソフェニル化合物又はニトロソアミン化合物である。
(2)ラジカル重合禁止剤がアルキルフェノール系化合物である。
(3)ニトロソ化合物の分解ガスを精留塔内に導入して精留を行う。
As a preferable form of the said refinement | purification process, the following forms etc. are mentioned, for example, What combined these 2 or more is more preferable.
(1) The nitroso compound is a nitrosophenyl compound or a nitrosamine compound.
(2) The radical polymerization inhibitor is an alkylphenol compound.
(3) The nitroso compound decomposition gas is introduced into the rectification column to perform rectification.

まず、(I)ニトロソ化合物を用いる形態、(II)ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤を用いる形態について説明する。 First, (I) a form using a nitroso compound and (II) a form using a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound will be described.

(I)ニトロソ化合物を用いる形態としては、ニトロソ化合物の分解ガスを精留塔内に導入して精留を行う形態が好ましい。
上記ニトロソ化合物の分解ガスとしては、上記ニトロソ化合物を分解して得られるガスであれば特に限定されない。当該分解ガスは、重合抑制作用を有するものである。
また、ニトロソ化合物をガス(気体)にすると、液体や固体の場合に比べて、少量のニトロソ化合物を安定的に精留塔内に供給でき、ニトロソ化合物の供給量を容易に調節することができる。
更に、精留塔の塔底部に当該分解ガスを供給すると、分解ガス成分が、精留塔内を上昇しつつ、ガス状で存在するグリシジルアクリレートと容易に混合することができ、これによってより効果的にこれら化合物の重合を防止することができる。
(I) As a form using a nitroso compound, the form which introduce | transduces the decomposition gas of a nitroso compound into a rectification column, and performs rectification is preferable.
The decomposition gas for the nitroso compound is not particularly limited as long as it is a gas obtained by decomposing the nitroso compound. The cracked gas has a polymerization inhibiting action.
In addition, when a nitroso compound is used as a gas (gas), a small amount of the nitroso compound can be stably supplied into the rectifying column as compared with liquid or solid, and the supply amount of the nitroso compound can be easily adjusted. .
Furthermore, when the cracked gas is supplied to the bottom of the rectifying tower, the cracked gas component can be easily mixed with the glycidyl acrylate present in the gaseous state while rising in the rectifying tower, and thereby more effective. In particular, the polymerization of these compounds can be prevented.

上記ニトロソ化合物の分解ガスを発生させる方法としては、例えば、ニトロソ化合物を溶媒に溶かした溶液を分解槽に加え、当該ニトロソ化合物溶液を加熱して、その分解ガスを発生させる方法等が挙げられる。 Examples of the method for generating the decomposition gas of the nitroso compound include a method in which a solution obtained by dissolving a nitroso compound in a solvent is added to a decomposition tank, and the nitroso compound solution is heated to generate the decomposition gas.

ニトロソ化合物を溶解するために用いる溶媒は、精留塔内条件や、ニトロソ化合物の溶媒に対する溶解性や分解性等の化学的・物理的性質によって、適宜選択すればよい。
当該溶媒としては、例えば、水、アルコール、炭化水素、エーテル、ケトン、エステル、等が挙げられる。これらは1種でも2種以上でも用いることができる。
上記アルコールとしては、例えばブチルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
上記炭化水素としては、例えばヘキサン、ヘプタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン等が挙げられる。
上記エーテルとしては、例えばポリエチレングリコール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、例えばメチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンジルフェニルケトン、シクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。
上記エステルとしては、例えばエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルラクテート等が挙げられる。
The solvent used for dissolving the nitroso compound may be appropriately selected depending on the conditions in the rectification column and the chemical and physical properties such as solubility and decomposability of the nitroso compound in the solvent.
Examples of the solvent include water, alcohol, hydrocarbon, ether, ketone, ester, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
Examples of the alcohol include butyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether and the like.
Examples of the hydrocarbon include hexane, heptane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, and tetradecane.
Examples of the ether include polyethylene glycol, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol butyl methyl ether, tripropylene glycol dimethyl ether, and triethylene glycol dimethyl ether.
Examples of the ketone include methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, benzyl phenyl ketone, cyclohexyl phenyl ketone and the like.
Examples of the ester include ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and ethyl lactate.

分解ガスを発生させる際の加熱温度(分解槽での加熱温度)としては、ニトロソ化合物が十分に熱分解する温度の観点から、20℃以上が好ましく、30℃以上がより好ましく、40℃以上が更に好ましい。ニトロソ化合物の熱分解温度以上の加温の必要はなく、200℃以下が好ましく、170℃以下がより好ましく、150℃以下が更に好ましい。
分解ガスを発生させる際の圧力(分解槽中の圧力)としては、0.01hPa以上が好ましく、0.1hPa以上がより好ましく、1hPa以上が更に好ましい。また、200hPa以下が好ましく、150hPa以下がより好ましく、100hPa以下が更に好ましい。
From the viewpoint of the temperature at which the nitroso compound is sufficiently thermally decomposed, the heating temperature when generating the cracked gas (heating temperature in the decomposition tank) is preferably 20 ° C or higher, more preferably 30 ° C or higher, and 40 ° C or higher. Further preferred. There is no need for heating above the thermal decomposition temperature of the nitroso compound.
The pressure for generating the cracked gas (pressure in the decomposition tank) is preferably 0.01 hPa or more, more preferably 0.1 hPa or more, and further preferably 1 hPa or more. Moreover, 200 hPa or less is preferable, 150 hPa or less is more preferable, and 100 hPa or less is still more preferable.

ニトロソ化合物の投入方法については、特に制限されず、精留前に分解槽に仕込んでもよいし、精留開始時に投入してもよいし、精留途中において投入してもよい。また、一括で仕込む又は投入してもよいし、断続的に投入してもよいし、連続的に滴下して投入してもよい。
分解ガスを発生させる分解槽においては、ニトロソ化合物を系内で均一にするために撹拌することが好ましい。
The method for charging the nitroso compound is not particularly limited, and it may be charged into the decomposition tank before rectification, may be charged at the start of rectification, or may be charged during the rectification. Moreover, it may charge or throw in collectively, may be thrown in intermittently, and may be dripped continuously and thrown in.
In the decomposition tank for generating the decomposition gas, it is preferable to stir in order to make the nitroso compound uniform in the system.

上記のようにして発生させたニトロソ化合物の分解ガスは、例えば、上記分解槽を精留塔に接続すること等により、精留塔に導入することができる。
精留塔の構造としては、精留ができるものであれば特に限定されないが、気液の接触面積を大きくした棚段式精留塔や充填式精留塔等が好ましい。棚段としては、例えば、シーブトレイ、バブルキャップトレイ、バルブトレイ、アングルトレイ、フレキシトレイ、バラストトレイ、チムニートレイ等が挙げられる。充填物としては、例えば、スルザーパッキン、ディクソンパッキン、ラシヒリング、レッシングリング、ポールリング、サドル等が挙げられる。
また、上記分解槽と精留塔を接続するために、接続管等を用いることができる。当該接続管の形状・材質としては特に限定されないが、グリシジルアクリレートに対して耐食性があれば良く、SUS304、SUS304L、SUS316、SUS316L、SUS317、SUS317Lのステンレススチール類やハステロイ類等が好ましい。
The decomposition gas of the nitroso compound generated as described above can be introduced into the rectification tower by, for example, connecting the decomposition tank to the rectification tower.
The structure of the rectification column is not particularly limited as long as rectification can be performed, but a plate type rectification column or a packed rectification column having a large gas-liquid contact area is preferable. Examples of the shelf include a sheave tray, a bubble cap tray, a valve tray, an angle tray, a flexi tray, a ballast tray, and a chimney tray. Examples of the filler include sulzer packing, Dixon packing, Raschig ring, Lessing ring, pole ring, and saddle.
Moreover, in order to connect the said decomposition tank and rectification tower, a connecting pipe etc. can be used. The shape and material of the connection pipe are not particularly limited, but may be any corrosion resistance to glycidyl acrylate, and SUS304, SUS304L, SUS316, SUS316L, SUS317, SUS317L stainless steels, hastelloys, and the like are preferable.

精留塔内の圧力は、0.01hPa以上が好ましく、0.1hPa以上がより好ましく、1hPa以上が更に好ましい。また、200hPa以下が好ましく、150hPa以下がより好ましく、100hPa以下が更に好ましい。なお、通常は上記分解槽と精留塔を接続しているので、その場合、上記分解槽内の圧力と精留塔内の圧力は同じとなる。
精留塔内の温度は、精留塔内の圧力に依存するため特に限定されないが、精留塔内でのグリシジルアクリレートの重合防止の観点から、130℃以下が好ましく、110℃以下がより好ましく、100℃以下が更に好ましい。また下限値は精留が可能な温度であれば問題なく、35℃以上が好ましく、40℃以上がより好ましく、50℃以上が更に好ましい。
The pressure in the rectification column is preferably 0.01 hPa or more, more preferably 0.1 hPa or more, and still more preferably 1 hPa or more. Moreover, 200 hPa or less is preferable, 150 hPa or less is more preferable, and 100 hPa or less is still more preferable. In addition, since the said decomposition tank and the rectification tower are connected normally, the pressure in the said decomposition tank and the pressure in a rectification tower become the same in that case.
The temperature in the rectification column is not particularly limited because it depends on the pressure in the rectification column, but is preferably 130 ° C. or less, more preferably 110 ° C. or less, from the viewpoint of preventing polymerization of glycidyl acrylate in the rectification column. 100 ° C. or lower is more preferable. Further, the lower limit is not a problem as long as the temperature enables rectification, and is preferably 35 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, and further preferably 50 ° C. or higher.

上記ニトロソ化合物とその分解物との合計の使用量は、グリシジルアクリレートの上昇蒸気量に対して下限値として好ましくは、0.01質量ppm以上であり、より好ましくは、0.1質量ppm以上であり、更に好ましくは、0.5質量ppm以上である。また、上限値として好ましくは、5000質量ppm以下であり、より好ましくは、1000質量ppm以下であり、更に好ましくは、500質量ppm以下である。
ここでいう上昇蒸気量とは、精留塔のリボイラーに加えられた熱量に応じて、リボイラーで発生するモノマーの蒸気の総量を意味する。
The total amount of the nitroso compound and the decomposition product thereof is preferably 0.01 mass ppm or more, more preferably 0.1 mass ppm or more as a lower limit with respect to the rising vapor amount of glycidyl acrylate. Yes, and more preferably 0.5 ppm by mass or more. The upper limit is preferably 5000 ppm by mass or less, more preferably 1000 ppm by mass or less, and still more preferably 500 ppm by mass or less.
The amount of rising steam here means the total amount of monomer vapor generated in the reboiler according to the amount of heat applied to the reboiler of the rectification column.

より好ましい形態としては、ニトロソ化合物の分解ガスを、非凝縮性ガスと共に、精留塔内に導入する形態である。非凝縮性ガスを併用することにより、ニトロソ化合物の分解ガスの導入量を制御しやすくなる。つまり、ニトロソ化合物の分解ガスの発生量は、分解槽へのニトロソ化合物の仕込み量、溶媒量、容器の断面積、分解槽温度、撹拌速度等により変化するため、非凝縮性ガスの導入量を制御することにより、ニトロソ化合物の分解ガスの精留塔内への導入量を容易に制御することができる。 A more preferred form is a form in which the decomposition gas of the nitroso compound is introduced into the rectification column together with the non-condensable gas. By using a non-condensable gas in combination, the amount of the nitroso compound decomposition gas introduced can be easily controlled. In other words, the amount of nitroso compound decomposition gas generated varies depending on the amount of nitroso compound charged into the decomposition tank, the amount of solvent, the cross-sectional area of the container, the decomposition tank temperature, the stirring speed, etc. By controlling, the introduction amount of the decomposition gas of the nitroso compound into the rectification column can be easily controlled.

上記非凝縮性ガスとは、露点が精留塔内の温度以下であるガスを意味し、例えば、空気、酸素、窒素、ヘリウム、アルゴン等の希ガス類;これらの混合物;製造工程で発生した排ガス等が挙げられる。好ましくは、窒素、ヘリウム等である。
また、非凝縮性ガスとしては、酸素を含むことが好ましい。
非凝縮性ガスとして酸素を含む場合、非凝縮性ガス中の酸素濃度は、0.01〜9体積%の範囲内であることが好ましい。非凝縮性ガス中の酸素濃度が0.01体積%未満であると、グリシジルアクリレートが重合を引き起こす可能性が高まるおそれがあり、酸素濃度が9体積%を超えると、爆発範囲に属するおそれがある。
なお、ニトロソ化合物を精留塔内に導入するための非凝縮性ガスにおいては、ニトロソ化合物の分解ガスを導入することが目的であるため、必ずしも酸素は必要ではない。一方、後述のように、精留塔の塔底部の液相部に導入する非凝縮性ガスにおいては、ラジカル重合禁止剤の効力をより効果的に得るため、酸素を含有させることが特に好ましい。
The non-condensable gas means a gas having a dew point equal to or lower than the temperature in the rectification column, for example, rare gases such as air, oxygen, nitrogen, helium, and argon; a mixture thereof; exhaust gas generated in the manufacturing process, etc. Is mentioned. Nitrogen, helium and the like are preferable.
The non-condensable gas preferably contains oxygen.
When oxygen is included as the non-condensable gas, the oxygen concentration in the non-condensable gas is preferably in the range of 0.01 to 9% by volume. If the oxygen concentration in the non-condensable gas is less than 0.01% by volume, there is a risk that glycidyl acrylate may cause polymerization, and if the oxygen concentration exceeds 9% by volume, it may belong to the explosion range. .
In the non-condensable gas for introducing the nitroso compound into the rectification column, oxygen is not necessarily required because the purpose is to introduce a decomposition gas of the nitroso compound. On the other hand, as described later, in the non-condensable gas introduced into the liquid phase portion at the bottom of the rectifying column, it is particularly preferable to contain oxygen in order to more effectively obtain the effect of the radical polymerization inhibitor.

非凝縮性ガスの精留塔内への導入量は、重合防止作用を有する分解ガスを効率よく精留塔へ導入する観点より、分解槽の容量に対して10vol%/h以上であることが好ましく、50vol%/h以上がより好ましく、100vol%/h以上が更に好ましい。また、非凝縮性ガスの導入量が多すぎると、ニトロソ化合物のロスが増加するので、3000vol%/h以下が好ましく、2000vol%/h以下がより好ましい。 The amount of the non-condensable gas introduced into the rectification column may be 10 vol% / h or more with respect to the capacity of the decomposition tank from the viewpoint of efficiently introducing the cracked gas having a polymerization-inhibiting action into the rectification column. Preferably, 50 vol% / h or more is more preferable, and 100 vol% / h or more is still more preferable. Moreover, since the loss of a nitroso compound will increase when there is too much introduction amount of non-condensable gas, 3000 vol% / h or less is preferable and 2000 vol% / h or less is more preferable.

ニトロソ化合物の分解ガスを、非凝縮性ガスと共に、精留塔内に導入する方法としては、例えば以下のような方法等が挙げられる。ニトロソ化合物の分解ガスを発生させる分解槽に、非凝縮性ガスを導入する導入管を取り付け、これにより、分解槽で発生したニトロソ化合物の分解ガスと、分解槽に導入された非凝縮性ガスが、共に接続管を通って、精留塔内に導入される。 Examples of the method for introducing the decomposition gas of the nitroso compound together with the non-condensable gas into the rectification column include the following methods. An introduction pipe for introducing a non-condensable gas is attached to a decomposition tank that generates a decomposition gas for a nitroso compound, so that a decomposition gas for the nitroso compound generated in the decomposition tank and a non-condensable gas introduced to the decomposition tank are Both are introduced into the rectification column through the connecting pipe.

更に好ましい形態としては、ニトロソ化合物の分解ガスを、非凝縮性ガスと共に、精留塔の塔底部の気相部へ導入する形態である。ニトロソ化合物の分解ガスを、精留塔の塔底部の気相部へ導入することにより、より効果的に、気相部でのグリシジルアクリレートの重合を抑制し、エポキシ開環物の生成を抑制することができる。
また、精留塔の塔底部の液相部へ、更に酸素を含んだ非凝縮性ガスを導入することが特に好ましい。精留塔に、酸素を含んだ非凝縮性ガスを導入する導入管を塔底部の液相部まで到達するように取り付けることにより、精留塔の塔底部の液相部へ酸素を含んだ非凝縮性ガスを導入することができる。
なお、精留塔の塔底部の液相部には、グリシジルアクリレートが主に含まれている。
グリシジルアクリレートが主に含まれているとは、塔底部の液相部を100質量%とした場合、グリシジルアクリレートが50質量%以上含まれていることを意味する。好ましくは60質量%以上、より好ましくは70質量%以上である。
In a more preferred form, the decomposition gas of the nitroso compound is introduced together with the non-condensable gas into the gas phase part at the bottom of the rectification column. By introducing the decomposition gas of the nitroso compound into the gas phase part at the bottom of the rectifying column, the polymerization of glycidyl acrylate in the gas phase part is suppressed more effectively, and the formation of epoxy ring-opened products is suppressed. be able to.
Moreover, it is particularly preferable to introduce a non-condensable gas further containing oxygen into the liquid phase portion at the bottom of the rectifying column. A non-condensable gas containing oxygen is attached to the rectifying column so as to reach the liquid phase portion at the bottom of the column, so that the non-condensable gas containing oxygen is introduced into the liquid phase at the bottom of the rectifying column. A condensable gas can be introduced.
Note that glycidyl acrylate is mainly contained in the liquid phase portion at the bottom of the rectifying column.
The phrase “mainly containing glycidyl acrylate” means that 50% by mass or more of glycidyl acrylate is contained when the liquid phase part at the bottom of the column is 100% by mass. Preferably it is 60 mass% or more, More preferably, it is 70 mass% or more.

(II)ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤を用いる形態としては、当該ラジカル重合禁止剤を、精留塔の塔頂部より導入する形態が好ましい。
上記ラジカル重合禁止剤を、精留塔の塔頂部より導入することにより、グリシジルアクリレートとの混合が容易で、精留塔内の組成を変化させずに精製操作を継続することができる。
(II) As a form using a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound, a form in which the radical polymerization inhibitor is introduced from the top of the rectifying column is preferable.
By introducing the radical polymerization inhibitor from the top of the rectifying column, mixing with glycidyl acrylate is easy, and the purification operation can be continued without changing the composition in the rectifying column.

ラジカル重合禁止剤を精留塔の塔頂部より導入する際、ラジカル重合禁止剤(固体、液体の形態にかかわらず)は、精留系の液組成と類似し溶解しやすい等の点から、グリシジルアクリレートに溶かして用いることが好ましい。
また、グリシジルアクリレートに溶かしたラジカル重合禁止剤は、例えばポンプ等を用いて、精留塔の塔頂部より導入することができる。
なお、本発明で使用するラジカル重合禁止剤がそれ自体で液体である場合には、塔内組成と相互溶解性が十分でない場合においても、塔内構造物を経由して移動するのに粘度や反応性等の点で障害がなければ、塔頂部からの供給が可能である。
上記ラジカル重合禁止剤は、1種でも2種以上でも用いることができる。また、その供給時期については、特に制限されず、全てを同時に供給してもよいし、ラジカル重合禁止剤の種類ごとに供給時期をずらして添加してもよい。
When introducing a radical polymerization inhibitor from the top of the rectifying column, the radical polymerization inhibitor (regardless of solid or liquid form) is similar to the liquid composition of the rectification system and is easily dissolved. It is preferable to use it dissolved in acrylate.
Further, the radical polymerization inhibitor dissolved in glycidyl acrylate can be introduced from the top of the rectification column using, for example, a pump.
In the case where the radical polymerization inhibitor used in the present invention is a liquid itself, even if the composition in the tower and the mutual solubility are not sufficient, the viscosity or If there is no hindrance in terms of reactivity, the supply from the top of the column is possible.
The radical polymerization inhibitor can be used alone or in combination of two or more. Further, the supply timing is not particularly limited, and all may be supplied at the same time, or the supply timing may be shifted for each type of radical polymerization inhibitor.

上記ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤の添加量(塔頂部からの添加量)としては、操作条件に応じて適宜調整され、特に限定されない。グリシジルアクリレートの重合防止の点から、上記ラジカル重合禁止剤の総量が、グリシジルアクリレートの上昇蒸気量に対して、下限値として好ましくは3質量ppm以上であり、より好ましくは300質量ppm以上であり、更に好ましくは500質量ppm以上である。また、上限値として好ましくは10000質量ppm以下であり、より好ましくは6000質量ppm以下であり、更に好ましくは4000質量ppm以下である。
上昇蒸気量の意味は、上述したとおりである。モノマー蒸気の総量は、計算で容易に算出することができ、ラジカル重合禁止剤の投入基準を決定する上で重要な因子となる数字である。
The addition amount (addition amount from the top of the column) of the radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound is appropriately adjusted according to the operating conditions and is not particularly limited. From the viewpoint of preventing polymerization of glycidyl acrylate, the total amount of the radical polymerization inhibitor is preferably 3 mass ppm or more, more preferably 300 mass ppm or more as a lower limit with respect to the rising vapor amount of glycidyl acrylate, More preferably, it is 500 mass ppm or more. The upper limit is preferably 10,000 ppm by mass or less, more preferably 6000 ppm by mass or less, and still more preferably 4000 ppm by mass or less.
The meaning of the rising steam amount is as described above. The total amount of monomer vapor can be easily calculated by calculation, and is a number that is an important factor in determining the input standard of the radical polymerization inhibitor.

より好ましい形態としては、グリシジルアクリレート溶液が含まれる塔底部の液相部にも、ラジカル重合禁止剤を添加しておく形態である。
塔底部の液相部へのラジカル重合禁止剤の添加量としては、塔底部の液相部を100質量%とした場合、好ましくは10〜10000質量ppmであり、より好ましくは100〜5000ppm質量であり、更に好ましくは500〜2000質量ppmである。
これにより、グリシジルアクリレートの重合を防止する作用がより効果的に発揮される。
塔底部の液相部にもラジカル重合禁止剤を添加する場合は、上記(I)において、塔底部の液相部へ酸素を含んだ非凝縮性ガスを導入することがより好ましい。
ラジカル重合禁止剤は、酸素分子が存在することによって効力をより効果的に発揮する。精留塔の塔底部の液相部へ酸素を含んだ非凝縮性ガスを導入することにより、液相部でのグリシジルアクリレートの重合を抑制する。また、液相部でトラップされなかった分子状酸素は、気相部でグリシジルアクリレートとラジカル重合禁止剤と混ざることにより、気相部でのグリシジルアクリレートの重合を抑制する。
As a more preferable form, a radical polymerization inhibitor is added to the liquid phase part at the bottom of the column containing the glycidyl acrylate solution.
The addition amount of the radical polymerization inhibitor to the liquid phase part at the bottom of the column is preferably 10 to 10000 ppm by mass, more preferably 100 to 5000 ppm by mass when the liquid phase at the bottom is 100% by mass. Yes, more preferably 500 to 2000 ppm by mass.
Thereby, the effect | action which prevents superposition | polymerization of glycidyl acrylate is exhibited more effectively.
When the radical polymerization inhibitor is also added to the liquid phase part at the bottom of the column, in (I) above, it is more preferable to introduce a non-condensable gas containing oxygen into the liquid phase at the bottom of the column.
The radical polymerization inhibitor exhibits its effectiveness more effectively due to the presence of oxygen molecules. By introducing a non-condensable gas containing oxygen into the liquid phase part at the bottom of the rectifying column, polymerization of glycidyl acrylate in the liquid phase part is suppressed. Further, molecular oxygen that has not been trapped in the liquid phase part is mixed with glycidyl acrylate and a radical polymerization inhibitor in the gas phase part, thereby suppressing polymerization of glycidyl acrylate in the gas phase part.

本発明における精製工程は、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを用いて、グリシジルアクリレートを精製するものである。よって、当該精製工程においては、上記(I)ニトロソ化合物を用いる形態及び(II)ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤を用いる形態を、適宜組合せて精製することができる。 The purification step in the present invention purifies glycidyl acrylate using a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound. Therefore, in the said refinement | purification process, the form using the radical polymerization inhibitor different from said (I) nitroso compound and (II) nitroso compound can be refine | purified combining suitably.

上記精製工程の特に好ましい形態としては、ニトロソ化合物の分解ガスを、非凝縮性ガスと共に、精留塔の塔底部の気相部へ導入し、かつ、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤を、精留塔の塔頂部より導入する形態である。
なお、ニトロソ化合物を液体で多量に導入すると溜出液にニトロソ化合物が混入し着色する要因となるが、ニトロソ化合物の分解ガスを用いることにより、グリシジルアクリレートの重合防止に必要な最低限量のみの導入が可能となり、液体を導入する場合に比べて着色が抑制される。また、上記ラジカル重合禁止剤を併用することにより、ニトロソ化合物の導入量を最小限に抑えることができ、着色を更に抑制することができる。
As a particularly preferred form of the purification step, a decomposition gas of the nitroso compound is introduced into the gas phase portion of the bottom of the rectification tower together with a non-condensable gas, and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound is used. It is the form introduced from the tower top of the rectification tower.
If a large amount of nitroso compound is introduced as a liquid, the nitroso compound will be mixed into the distillate and cause coloration. By using a decomposition gas of the nitroso compound, only the minimum amount necessary to prevent polymerization of glycidyl acrylate is introduced. Coloring is suppressed as compared with the case where a liquid is introduced. Moreover, by using together with the said radical polymerization inhibitor, the introduction amount of a nitroso compound can be suppressed to the minimum, and coloring can further be suppressed.

上記精製工程の最も好ましい形態としては、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン塩の分解ガスを、非凝縮性ガスと共に、グリシジルアクリレートの精留塔の塔底部の気相部へ導入し、かつ、アルキルフェノール系化合物を、精留塔の塔頂部より導入する形態である。
これに加えて、上述のように、精留塔の塔底部の液相部への、酸素を含んだ非凝縮性ガスの導入やラジカル重合禁止剤の添加を、更に組合せるとより一層好ましい。
As the most preferable form of the above purification step, a decomposition gas of N-nitrosophenylhydroxylamine salt is introduced into a gas phase part of the bottom of a glycidyl acrylate rectification column together with a non-condensable gas, and an alkylphenol compound Is introduced from the top of the rectification column.
In addition to this, as described above, it is more preferable to further combine the introduction of a non-condensable gas containing oxygen and the addition of a radical polymerization inhibitor into the liquid phase portion at the bottom of the rectifying column.

なお、上記各形態において、塔頂部温度は、精留塔内の圧力に依存し、圧力が低ければ低いほど塔頂部温度も低くなる。重合防止の観点から、温度が低い方が重合が進み難く、安全に操作が可能である。また、塔底部の液相部温度は、精留塔内の圧力とその時の液組成(精留が進むにつれて、軽沸物が溜出して高沸点物が塔底部に残ることによって、塔底部の温度が徐々に高くなる)に依存する。更に、塔底部の気相部温度は、精留塔内の圧力に依存する。このように、塔頂部温度と、塔底部の気相部温度と液相部温度は、精留塔内の圧力により決まる。 In each of the above embodiments, the tower top temperature depends on the pressure in the rectification tower, and the lower the pressure, the lower the tower top temperature. From the viewpoint of preventing polymerization, the lower the temperature, the more difficult the polymerization proceeds and the safe operation is possible. Also, the liquid phase temperature at the bottom of the column is the pressure in the rectifying column and the liquid composition at that time (as the rectification proceeds, the light boiling product is distilled off and the high boiling point is left at the bottom of the column. The temperature gradually increases). Furthermore, the gas phase temperature at the bottom of the column depends on the pressure in the rectification column. Thus, the tower top temperature, the gas phase temperature and the liquid phase temperature at the bottom of the tower are determined by the pressure in the rectification tower.

図1に、本発明における精製工程の一例を示す。
分解槽2において、非凝縮性ガス導入管3から非凝縮性ガスを導入しながら、ニトロソ化合物溶液4を加熱し、その分解ガスを発生させる。発生した分解ガスは、非凝縮性ガスと共に、接続管5を通って、精留塔1の塔底部気相部6に導入される。また、非凝縮性ガス導入管3から非凝縮性ガスを塔底部液相部7に導入し、更に、塔頂部8からラジカル重合禁止剤を添加する。
FIG. 1 shows an example of the purification process in the present invention.
In the decomposition tank 2, while introducing the non-condensable gas from the non-condensable gas introduction pipe 3, the nitroso compound solution 4 is heated to generate the decomposition gas. The generated cracked gas is introduced into the tower bottom gas phase section 6 of the rectification tower 1 through the connecting pipe 5 together with the non-condensable gas. Further, a non-condensable gas is introduced from the non-condensable gas introduction pipe 3 into the tower bottom liquid phase part 7, and a radical polymerization inhibitor is further added from the tower top part 8.

本発明のグリシジルアクリレートの製造方法は、上記グリシジルアクリレートの精製工程を含むことを特徴とするものである。 The manufacturing method of the glycidyl acrylate of this invention is characterized by including the refinement | purification process of the said glycidyl acrylate.

上記グリシジルアクリレートは、アクリル酸又はアクリル酸の金属塩と、エピクロロヒドリンを反応させることにより、製造することができる。
アクリル酸の金属塩としては、例えば、アルカリ金属塩(ナトリウム、カリウム、リチウムの塩等)、アルカリ土類金属塩(カルシウム、マグネシウムの塩等)が挙げられる。これらは、1種でも2種以上でも使用することができる。
The glycidyl acrylate can be produced by reacting acrylic acid or a metal salt of acrylic acid with epichlorohydrin.
Examples of the metal salt of acrylic acid include alkali metal salts (sodium, potassium, lithium salts, etc.) and alkaline earth metal salts (calcium, magnesium salts, etc.). These may be used alone or in combination of two or more.

上記グリシジルアクリレートは、アクリル酸からでもアクリル酸の金属塩からでも合成できる。ここでは、グリシジルアクリレートの製法の一例として、アクリル酸の金属塩を用いた場合について以下に説明する。
アクリル酸の金属塩を用いた反応において、エピクロロヒドリンの使用量としては、アクリル酸の金属塩1モルに対して、1〜15モルであることが好ましい。この範囲に設定することによって、反応を効率的にすすめることができ、高い収率で目的物のグリシジルアクリレートを合成することができる。より好ましくは2〜11モル、更に好ましくは3〜9モルである。
The glycidyl acrylate can be synthesized from acrylic acid or a metal salt of acrylic acid. Here, the case where the metal salt of acrylic acid is used as an example of the manufacturing method of glycidyl acrylate is demonstrated below.
In the reaction using a metal salt of acrylic acid, the amount of epichlorohydrin used is preferably 1 to 15 mol per 1 mol of the metal salt of acrylic acid. By setting within this range, the reaction can be efficiently carried out, and the target glycidyl acrylate can be synthesized in a high yield. More preferably, it is 2-11 mol, More preferably, it is 3-9 mol.

反応時間は、特に限定されないが、反応時間が短すぎる場合、反応が進行せずに充分な収率が得られない恐れがあり、反応時間が長すぎる場合、生成したグリシジルアクリレートの分解が生じたりすることで充分な収率が得られない恐れがあることから、好ましくは0.1〜10時間であり、より好ましくは1〜9時間であり、更に好ましくは2〜7時間である。
反応温度は、特に限定されないが、反応温度が高すぎると生成したグリシジルアクリレートの分解や重合が生じる恐れがあり、反応温度が低すぎると、反応が進行しないことから、好ましくは30〜120℃であり、より好ましくは40〜110℃であり、更に好ましくは50〜100℃である。
The reaction time is not particularly limited, but if the reaction time is too short, the reaction may not proceed and a sufficient yield may not be obtained. If the reaction time is too long, the produced glycidyl acrylate may be decomposed. In such a case, a sufficient yield may not be obtained, so that it is preferably 0.1 to 10 hours, more preferably 1 to 9 hours, and further preferably 2 to 7 hours.
The reaction temperature is not particularly limited, but if the reaction temperature is too high, the produced glycidyl acrylate may be decomposed or polymerized. If the reaction temperature is too low, the reaction does not proceed. More preferably, it is 40-110 degreeC, More preferably, it is 50-100 degreeC.

上記反応においては、塩基性触媒を用いることができる。当該塩基性触媒としては、エピクロロヒドリン等のエポキシ化合物が開環や重合を起こさないものであることが好ましい。塩基性触媒である有機塩基としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン等のアミン類;テトラメチルアンモニウム=ヒドロキシド、テトラエチルアンモニウム=ヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウム=ヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムクロリド、トリメチルエチルアンモニウムクロリド、ジメチルジエチルアンモニウムクロリド、メチルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等の第4級アンモニウム塩が挙げられる。これらの塩基性触媒は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 In the above reaction, a basic catalyst can be used. The basic catalyst is preferably an epoxy compound such as epichlorohydrin that does not cause ring opening or polymerization. Examples of organic bases that are basic catalysts include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, triethanolamine, dimethylethanolamine, diethylethanolamine, and other amines; tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropyl Quaternary ammonium salts such as ammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, trimethylethylammonium chloride, dimethyldiethylammonium chloride, methyltriethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, trimethylbenzylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, and the like can be mentioned. These basic catalysts may be used independently and may use 2 or more types together.

上記塩基性触媒の中でも、第4級アンモニウム塩が好ましく、具体的には、テトラメチルアンモニウムクロリド、トリメチルエチルアンモニウムクロリド、ジメチルジエチルアンモニウムクロリド、メチルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等が好ましく挙げられる。より好ましくは、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等が挙げられる。第4級アンモニウム塩は、単独で使用してもよいし、任意の2種以上のものを組み合わせて使用してもよい。 Among the above basic catalysts, quaternary ammonium salts are preferable, and specifically, tetramethylammonium chloride, trimethylethylammonium chloride, dimethyldiethylammonium chloride, methyltriethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, trimethylbenzylammonium chloride, triethyl. Preferred examples include benzylammonium chloride. More preferably, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, trimethylbenzylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride and the like can be mentioned. A quaternary ammonium salt may be used independently and may be used in combination of arbitrary 2 or more types.

上記塩基性触媒の使用量は、反応原料であるアクリル酸の金属塩とエピクロロヒドリンとの合計量100質量部に対して、下限は、好ましくは0.0001質量部以上、より好ましくは0.002質量部以上である。また、上限は、好ましくは1質量部以下、より好ましくは0.5質量部以下である。 The amount of the basic catalyst used is preferably 0.0001 parts by mass or more, more preferably 0, relative to 100 parts by mass of the total amount of the metal salt of acrylic acid and epichlorohydrin as the reaction raw materials. 0.002 part by mass or more. Moreover, an upper limit becomes like this. Preferably it is 1 mass part or less, More preferably, it is 0.5 mass part or less.

上記のようにして得られたグリシジルアクリレートを、上記精製工程に付すことにより、重合物及びエポキシ開環物の生成が抑制され、グリシジルアクリレートを長時間安定的に製造することができる。 By subjecting the glycidyl acrylate obtained as described above to the purification step, production of a polymer and an epoxy ring-opened product is suppressed, and glycidyl acrylate can be produced stably for a long time.

なお、得られたグリシジルアクリレートを上記精製工程に付す前に、固液分離工程及び水洗工程に付すことが好ましい。
上記固液分離工程は、グリシジルアクリレートの合成によって生成する塩化金属塩からなる固体部分と液体部分とを分離できる限り、その方法は特に制限されず、ろ過、遠心分離、デカンテーション等を用いることができる。固液分離の方法としては、分離効率及び操作性の簡便性から、これらの中でも、ろ過が好ましい。
固液分離をろ過により行う場合、加圧、常圧、減圧のいずれの条件で行ってもよいが、加圧又は常圧が好ましい。
In addition, before attaching | subjecting the obtained glycidyl acrylate to the said refinement | purification process, it is preferable to attach | subject to a solid-liquid separation process and a water washing process.
The solid-liquid separation step is not particularly limited as long as the solid portion and the liquid portion made of a metal chloride salt produced by the synthesis of glycidyl acrylate can be separated, and filtration, centrifugation, decantation, etc. may be used. it can. As the solid-liquid separation method, filtration is preferable among these because of the ease of separation efficiency and operability.
When the solid-liquid separation is performed by filtration, it may be performed under any conditions of pressurization, normal pressure, and reduced pressure, but pressurization or normal pressure is preferable.

上記水洗工程は、触媒除去を目的に実施する。水洗に用いる水量は、固液分離工程後の総液量100質量%に対して、3〜50質量%が好ましく、より好ましくは5〜35質量%であり、更に好ましくは7〜25質量%である。
また、水洗に用いる水温は、0〜50℃が好ましく、より好ましくは5〜40℃であり、更に好ましくは10〜35℃である。このような温度の水を用いることで、副生物のグリシドールを効率的に水層へ溶解させることができ、かつ、グリシジルアクリレートの水層への溶解を抑制することができる。
The water washing step is performed for the purpose of removing the catalyst. The amount of water used for washing is preferably 3 to 50% by mass, more preferably 5 to 35% by mass, and even more preferably 7 to 25% by mass with respect to 100% by mass of the total liquid amount after the solid-liquid separation step. is there.
Moreover, 0-50 degreeC is preferable, as for the water temperature used for water washing, More preferably, it is 5-40 degreeC, More preferably, it is 10-35 degreeC. By using water at such a temperature, the by-product glycidol can be efficiently dissolved in the aqueous layer, and dissolution of glycidyl acrylate in the aqueous layer can be suppressed.

上記水洗工程後、油水分離を行うことがより好ましく、これによりグリシジルアクリレートが含まれる油層を得ることができる。
また、上記得られた油層に、反応原料や副生物が多く含まれる場合は、上記精製工程に付す前に単蒸留を行い、油層中のグリシジルアクリレート濃度を高めておくことが更に好ましい。
More preferably, oil-water separation is performed after the water washing step, whereby an oil layer containing glycidyl acrylate can be obtained.
Moreover, when many reaction raw materials and by-products are contained in the obtained oil layer, it is more preferable to perform simple distillation before the purification step to increase the concentration of glycidyl acrylate in the oil layer.

本発明はまた、グリシジルアクリレートにニトロソ化合物及び/又はニトロソ化合物の分解物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを共存させてなるグリシジルアクリレート組成物でもある。
上述したような、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを併用することにより、グリシジルアクリレートのラジカル重合、及び、エポキシ部位の開環によるカチオン重合の進行を効果的に抑制する効果は、グリシジルアクリレートの精製時に限って発揮されるものではなく、グリシジルアクリレートにこれらを添加した組成物とすることで、グリシジルアクリレートの重合を抑制し、安定に保つことができる。
ここで、ニトロソ化合物の分解物は、上記ニトロソ化合物の分解ガスと同じ物質であり、本発明のグリシジルアクリレートの製造方法の精製工程と同様に、ガスの状態で存在していてもよく、液体や固体の状態で存在していてもよい。
The present invention is also a glycidyl acrylate composition in which a nitroso compound and / or a decomposition product of the nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound coexist in glycidyl acrylate.
As described above, the combined use of a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound effectively suppresses the progress of radical polymerization of glycidyl acrylate and cationic polymerization due to ring opening of the epoxy moiety. Is not exhibited only at the time of purification of glycidyl acrylate, and by making these into glycidyl acrylate, the polymerization of glycidyl acrylate can be suppressed and kept stable.
Here, the decomposition product of the nitroso compound is the same substance as the decomposition gas of the nitroso compound, and may be present in the state of gas as in the purification step of the method for producing glycidyl acrylate of the present invention. It may exist in a solid state.

本発明のグリシジルアクリレート組成物は、ニトロソ化合物を含んでいてもよく、ニトロソ化合物の分解物を含んでいてもよい。
ニトロソ化合物を含む場合、ニトロソ化合物の含有量は、グリシジルアクリレート組成物中のグリシジルアクリレート100質量%に対して、0.00001〜3質量%であることが好ましい。より好ましくは、0.0001〜1質量%であり、更に好ましくは、0.0005〜0.1質量%である。
ニトロソ化合物の分解物を含む場合、分解物のN分含有量は、グリシジルアクリレート組成物のグリシジルアクリレートに対して、0.01〜1000質量ppmであることが好ましい。より好ましくは、0.05〜500質量ppmであり、更に好ましくは、0.1〜100質量ppmである。
N分含有量は、三菱化学アナリテック製 微量全窒素分析装置 TN−100型を用いて測定することができる。
The glycidyl acrylate composition of the present invention may contain a nitroso compound or a decomposition product of the nitroso compound.
When a nitroso compound is included, the content of the nitroso compound is preferably 0.00001 to 3% by mass with respect to 100% by mass of glycidyl acrylate in the glycidyl acrylate composition. More preferably, it is 0.0001-1 mass%, More preferably, it is 0.0005-0.1 mass%.
When the decomposition product of the nitroso compound is included, the N content of the decomposition product is preferably 0.01 to 1000 mass ppm with respect to the glycidyl acrylate of the glycidyl acrylate composition. More preferably, it is 0.05-500 mass ppm, More preferably, it is 0.1-100 mass ppm.
The N content can be measured using a trace total nitrogen analyzer TN-100 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech.

本発明のグリシジルアクリレート組成物におけるラジカル重合禁止剤の含有量は、組成物中のグリシジルアクリレート100質量%に対して、0.0001〜3質量%であることが好ましい。より好ましくは、0.001〜1質量%であり、更に好ましくは、0.002〜0.1質量%である。
グリシジルアクリレート組成物が、ニトロソ化合物及び/又はニトロソ化合物の分解物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを上記好ましい割合で含むことにより、グリシジルアクリレートの重合を抑制して安定に保つ効果がより充分に発揮される。
It is preferable that content of the radical polymerization inhibitor in the glycidyl acrylate composition of this invention is 0.0001-3 mass% with respect to 100 mass% of glycidyl acrylates in a composition. More preferably, it is 0.001-1 mass%, More preferably, it is 0.002-0.1 mass%.
The glycidyl acrylate composition contains a nitroso compound and / or a decomposition product of the nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound in the above-mentioned preferable ratio, thereby suppressing the polymerization of the glycidyl acrylate and keeping it stable. More fully demonstrated.

本発明のグリシジルアクリレート組成物中のグリシジルアクリレート含有量は、グリシジルアクリレート組成物100質量%に対して、90質量%以上であることが好ましい。より好ましくは、95質量%以上であり、更に好ましくは、98質量%以上である。本発明のグリシジルアクリレート組成物は、グリシジルアクリレートを高濃度で含む場合でも、優れたグリシジルアクリレートの重合抑制効果を発揮することができるため、グリシジルアクリレートを高濃度で含むことは本発明のグリシジルアクリレート組成物の好適な実施形態である。 The glycidyl acrylate content in the glycidyl acrylate composition of the present invention is preferably 90% by mass or more with respect to 100% by mass of the glycidyl acrylate composition. More preferably, it is 95 mass% or more, More preferably, it is 98 mass% or more. Even when the glycidyl acrylate composition of the present invention contains glycidyl acrylate at a high concentration, the glycidyl acrylate composition of the present invention contains a high concentration of glycidyl acrylate because it can exhibit an excellent polymerization inhibition effect of glycidyl acrylate. This is a preferred embodiment of the product.

本発明のグリシジルアクリレート組成物は、グリシジルアクリレート、ニトロソ化合物及び/又はニトロソ化合物の分解物、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤以外のその他の成分を含んでいてもよいが、その他の成分の含有量は、グリシジルアクリレート組成物100質量%に対して、10質量%以下であることが好ましい。より好ましくは、5質量%以下であり、更に好ましくは、2質量%以下である。 The glycidyl acrylate composition of the present invention may contain other components other than glycidyl acrylate, a nitroso compound and / or a decomposition product of the nitroso compound, and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound, but may contain other components. The amount is preferably 10% by mass or less with respect to 100% by mass of the glycidyl acrylate composition. More preferably, it is 5 mass% or less, More preferably, it is 2 mass% or less.

本発明のグリシジルアクリレート組成物が含むグリシジルアクリレートは、上述した本発明のグリシジルアクリレートの製造方法によって得られたものであってもよく、異なる製造方法で得られたものであってもよい。好ましくは、本発明のグリシジルアクリレート組成物が、本発明のグリシジルアクリレートの製造方法によって得られたグリシジルアクリレートに、必要に応じてニトロソ化合物、ニトロソ化合物の分解ガス、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤を添加して調製されたものであることである。
このように、本発明のグリシジルアクリレート組成物が、本発明のグリシジルアクリレートの製造方法によって得られたグリシジルアクリレートを用いて調製されたものであることは、本発明のグリシジルアクリレート組成物の好適な実施形態の1つである。
The glycidyl acrylate contained in the glycidyl acrylate composition of the present invention may be obtained by the above-described method for producing glycidyl acrylate of the present invention, or may be obtained by a different production method. Preferably, the glycidyl acrylate composition of the present invention is a glycidyl acrylate obtained by the method for producing glycidyl acrylate of the present invention, and if necessary, a nitroso compound, a decomposition gas of the nitroso compound, a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound. It is that it was prepared by adding.
As described above, the glycidyl acrylate composition of the present invention is prepared by using the glycidyl acrylate obtained by the method for producing glycidyl acrylate of the present invention. One of the forms.

本発明のグリシジルアクリレートの製造方法は、上述の構成よりなり、気相部におけるグリシジルアクリレートのラジカル重合を充分に抑制し、エポキシ部位の開環による重合物の生成も抑制し、長時間の安定な連続運転ができる優れた製法である。 The method for producing glycidyl acrylate according to the present invention has the above-described configuration, sufficiently suppresses radical polymerization of glycidyl acrylate in the gas phase portion, suppresses generation of a polymer due to ring opening of the epoxy site, and is stable for a long time. It is an excellent manufacturing method that allows continuous operation.

本発明における精製工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the refinement | purification process in this invention.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記の実施例により制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
なお、以下ことわりのない場合、「%」、「ppm」は「質量%」、「質量ppm」を、「部」は「質量部」をそれぞれ示すものとする。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and appropriate modifications are made within a range that can meet the purpose described above and below. Any of these can be carried out and are included in the technical scope of the present invention.
Unless otherwise specified, “%” and “ppm” represent “mass%” and “mass ppm”, and “part” represents “part by mass”.

合成例
(1)グリシジルアクリレート(GA)合成液の調整
ガス導入管、温度計、撹拌機、及び、還流冷却管を備えた5L反応容器に、アクリル酸カリウム(日本触媒社製)900g、エピクロロヒドリン(EpCH)(ダイソー社製)3780g、アデカスタブAO−20(1,3,5−トリス−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌル酸)(ADEKA社製)9.4g、及び、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)(共同薬品社製)9.4g、セバシン酸ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジノキシ)(EC3314A)(ナルコ社製)9.4gを仕込み、系内水分をカールフィッシャー法により測定し、水を添加して系内水分を500ppmに調整した。
その後、テトラメチルアンモニウムクロリド(日本特殊化学社製)6.7gを添加して、7%酸素ガス(93%窒素ガス)を吹き込みながら、70℃で4時間反応させた。反応終了後、反応で生じた塩をろ過により取り除き、ろ液を得た。得られたろ液量に対して10質量%の水を加えて30分間攪拌し、静置後に油水分離を行い、油層を得た。
この様にして得られたGA合成液量は3812gで、組成はEpCHが73.0質量%、グリシドール(GDO)が0.03質量%、GAが21.3質量%であった。また、使用したアクリル酸カリウム900gに対するGAの収率は77.5mol%であった。
(2)粗GAボトム液
このGA合成液3789gを、ガス導入管、温度計、減圧一定装置を備えた5L単蒸留装置に仕込み、7%酸素ガス(93%窒素ガス)を吹き込みながら、減圧度を67hPaから40hPaに徐々に下げながら、ボトム温度が70℃になるまで単蒸留でEpCHを留去し、粗GAボトム液960gを得た。
この様にして得られた粗GAボトム液組成は、EpCHが11.4質量%、GDOが0.4質量%、GAが75.1質量%であった。
Synthesis Example (1) Preparation of Glycidyl Acrylate (GA) Synthesis Liquid Into a 5 L reaction vessel equipped with a gas introduction tube, a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 900 g of potassium acrylate (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), epichloro Hydrin (EpCH) (manufactured by Daiso Corporation) 3780 g, Adekastab AO-20 (1,3,5-tris- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanuric acid) (manufactured by ADEKA) 9.4 g, and 9.4 g of 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) (manufactured by Kyodo Yakuhin Co., Ltd.), bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidi) sebacate Noxy) (EC3314A) (manufactured by Nalco Co.) was charged in an amount of 9.4 g, the water content in the system was measured by the Karl Fischer method, and water was added to adjust the water content in the system to 500 ppm.
Thereafter, 6.7 g of tetramethylammonium chloride (manufactured by Nippon Special Chemical Co., Ltd.) was added and reacted at 70 ° C. for 4 hours while blowing 7% oxygen gas (93% nitrogen gas). After completion of the reaction, the salt produced by the reaction was removed by filtration to obtain a filtrate. 10 mass% of water was added with respect to the obtained filtrate amount, it stirred for 30 minutes, oil-water separation was performed after standing and the oil layer was obtained.
The amount of the GA synthesis solution thus obtained was 3812 g, and the composition was 73.0% by mass for EpCH, 0.03% by mass for glycidol (GDO), and 21.3% by mass for GA. Moreover, the yield of GA with respect to 900 g of potassium acrylate used was 77.5 mol%.
(2) Crude GA bottom liquid 3789 g of this GA synthesis liquid was charged into a 5 L single distillation apparatus equipped with a gas introduction tube, a thermometer, and a constant pressure reduction device, and 7% oxygen gas (93% nitrogen gas) was blown in Was gradually reduced from 67 hPa to 40 hPa, and EpCH was distilled off by simple distillation until the bottom temperature reached 70 ° C. to obtain 960 g of a crude GA bottom solution.
The crude GA bottom liquid composition thus obtained had EpCH of 11.4 mass%, GDO of 0.4 mass%, and GA of 75.1 mass%.

実施例1
合成例で得られた粗GAボトム液904gを、塔頂部に重合禁止剤導入管、塔底部の気相部に分解槽との接続管、塔底部の液相中に7%酸素ガス(93%窒素ガス)導入管を備えた精留装置(精留塔)に仕込み、減圧度20hPaで精留を実施した。
塔頂部より導入するラジカル重合禁止剤として、上昇蒸気量に対して、2,000ppmのBHTを溶かした溜出液の一部を導入した。また、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩(NPH)分解槽にて、NPHを予めガス化させ、当該分解槽を精留装置に接続した。そして、接続管を通して塔底部の気相部に、このNPHガスを非凝縮性ガスと共に導入した。
精留後に、充填物(スルザーパッキン)及び気相部に重合物が生成しているかどうかの確認を行ったところ、重合物は確認できなかった。
Example 1
904 g of the crude GA bottom liquid obtained in the synthesis example was added to a polymerization inhibitor introduction pipe at the top of the tower, a connection pipe with a decomposition tank at the gas phase at the bottom of the tower, and 7% oxygen gas (93% in the liquid phase at the bottom of the tower). Nitrogen gas) was charged into a rectification apparatus (rectification tower) equipped with an introduction pipe, and rectification was performed at a reduced pressure of 20 hPa.
As a radical polymerization inhibitor introduced from the top of the column, a part of the distillate in which 2,000 ppm of BHT was dissolved was introduced with respect to the amount of ascending steam. Further, NPH was previously gasified in an N-nitrosophenylhydroxylamine ammonium salt (NPH) decomposition tank, and the decomposition tank was connected to a rectifying apparatus. And this NPH gas was introduce | transduced with the non-condensable gas into the gaseous-phase part of the tower bottom part through the connection pipe.
After the rectification, it was confirmed whether or not a polymer was formed in the packing (sulzer packing) and the gas phase, and no polymer was confirmed.

実施例2
実施例1を繰り返し15回行っても、充填物及び気相部に重合物の生成は無かった。
Example 2
Even when Example 1 was repeated 15 times, no polymer was formed in the packing and gas phase.

実施例3
実施例1を繰り返し28回行ったところ、充填物に極少量の重合物が生成した。得られたポリマーの13C−NMRを測定したところ、177PPM、67PPM、51PPM、43PPM付近に、グリシジルアクリレートのホモポリマーに特徴的なピークを確認した。
Example 3
When Example 1 was repeated 28 times, a very small amount of polymer was formed in the packing. When 13 C-NMR of the obtained polymer was measured, a peak characteristic of a homopolymer of glycidyl acrylate was confirmed around 177 PPM, 67 PPM, 51 PPM, and 43 PPM.

比較例1
実施例1で用いた装置を用いて精留操作を実施した。ただし、塔底部の気相部へのNPHガスの導入は実施しなかったところ、精留後に充填物及び気相部に重合物が生成した。得られたポリマーの13C−NMRを測定したところ、177PPM、67PPM、51PPM、43PPM付近以外に、130PPM付近にアクリロイル基に由来するピークが確認でき、エポキシ部位の開環重合物が一部混入していることが示唆された。
Comparative Example 1
A rectification operation was performed using the apparatus used in Example 1. However, when NPH gas was not introduced into the gas phase portion at the bottom of the column, a polymer was formed in the packing and the gas phase portion after rectification. When 13 C-NMR of the obtained polymer was measured, in addition to the vicinity of 177 PPM, 67 PPM, 51 PPM, and 43 PPM, a peak derived from the acryloyl group was confirmed in the vicinity of 130 PPM, and a part of the ring-opening polymer of the epoxy moiety was mixed. It was suggested that

比較例2
実施例1で用いた装置を用いて精留操作を実施した。ただし、塔頂部の気相部への重合禁止剤の導入は実施しなかったところ、精留後に充填物及び気相部に重合物が生成した。得られたポリマーの13C−NMRを測定したところ、177PPM、67PPM、51PPM、43PPM付近以外に、130PPM付近にアクリロイル基に由来するピークが確認でき、エポキシ部位の開環重合物が一部混入していることが示唆された。
Comparative Example 2
A rectification operation was performed using the apparatus used in Example 1. However, when the polymerization inhibitor was not introduced into the gas phase portion at the top of the column, a polymer was formed in the packing and the gas phase portion after rectification. When 13 C-NMR of the obtained polymer was measured, in addition to the vicinity of 177 PPM, 67 PPM, 51 PPM, and 43 PPM, a peak derived from the acryloyl group was confirmed in the vicinity of 130 PPM, and a part of the ring-opening polymer of the epoxy moiety was mixed. It was suggested that

Figure 2014076989
Figure 2014076989

表1において、アルキルフェノール及びNPHにおける○印は、これら成分を添加したことを示す。また、重合物においては、○印:重合物が生成しなかった、△印:重合物が極少量生成した、×印:重合物が多く生成した、ことを示す。 In Table 1, ◯ marks in alkylphenol and NPH indicate that these components were added. In the polymer, ◯: indicates that no polymer was produced, Δ: indicates that a very small amount of polymer was produced, and x: indicates that a large amount of polymer was produced.

実施例4
合成例で得られた粗GAボトム液960gを、塔頂部に重合禁止剤導入管、塔底部の気相部に分解槽との接続管、塔底部の液相中に7%酸素ガス(93%窒素ガス)導入管を備えた精留装置(精留塔)に仕込み、多段蒸留を実施した。
分解槽の操作条件は、10gのポリエチレングリコールに0.02gのN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩を溶解させ、500vol%/hで7%酸素ガス(93%窒素ガス)を導入しながら、22hpa、液温度70℃で分解したガスを精留塔塔底部の気相部に導入した。これらの操作により、軽沸液95.9g(GA含有量17.5wt%)、初留液140.7g(GA含有量85.9wt%)、グリシジルアクリレート534.4g(GA純度99.8wt%)を得た。得られた留出液中のN分濃度を三菱化学アナリテック製 微量全窒素分析装置 TN−100型で測定したところ、何れも1ppmであった。
多段蒸留は、以下の圧力、温度の条件で行った。多段蒸留に用いた蒸留塔の理論段数は10段であった。
軽沸カット:塔頂 部圧力40hPa、塔頂部温度70℃まで溜出。
初留カット:塔頂部圧力40hPaから20hPaに減圧し、塔頂部温度79.5℃まで留出。
本留:塔低部圧力:22hPa、塔低部温度110℃までGAを留出。
得られた留出液100gに対して10mgのBHTを添加し、50℃の恒温乾燥機内で90日間保管した結果、高分子量物の生成は無かった。
Example 4
960 g of the crude GA bottom liquid obtained in the synthesis example was added to a polymerization inhibitor introduction pipe at the top of the tower, a connection pipe with a decomposition tank at the gas phase at the bottom of the tower, and 7% oxygen gas (93% in the liquid phase at the bottom of the tower). Nitrogen gas) was charged into a rectification apparatus (rectification tower) equipped with an introduction pipe and subjected to multistage distillation.
The operating conditions of the decomposition tank were as follows: 0.02 g of N-nitrosophenylhydroxylamine ammonium salt was dissolved in 10 g of polyethylene glycol, and 7% oxygen gas (93% nitrogen gas) was introduced at 500 vol% / h, while 22 hpa, The gas decomposed at a liquid temperature of 70 ° C. was introduced into the gas phase portion at the bottom of the rectifying column. By these operations, 95.9 g of light boiling liquid (GA content 17.5 wt%), 140.7 g of initial fraction (GA content 85.9 wt%), 534.4 g of glycidyl acrylate (GA purity 99.8 wt%) Got. When the N content concentration in the obtained distillate was measured with a trace total nitrogen analyzer TN-100 type manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech, all were 1 ppm.
Multistage distillation was performed under the following pressure and temperature conditions. The theoretical number of distillation columns used for multistage distillation was 10.
Light boiling cut: Distilled to a tower top pressure of 40 hPa and a tower top temperature of 70 ° C.
Initial distillation cut: The pressure at the top of the tower was reduced from 40 hPa to 20 hPa, and the top temperature was distilled to 79.5 ° C.
Main distillation: Lower column pressure: 22 hPa, GA is distilled to a lower column temperature of 110 ° C.
As a result of adding 10 mg of BHT to 100 g of the obtained distillate and storing it in a constant temperature dryer at 50 ° C. for 90 days, no high molecular weight product was produced.

実施例5
添加したラジカル重合禁止剤をBHTの代わりにtert−ブチルハイドロキノン(TBH)10mgを添加したこと以外は実施例4と同様に行った。
Example 5
The same radical polymerization inhibitor as that in Example 4 was used except that 10 mg of tert-butylhydroquinone (TBH) was added instead of BHT.

実施例6
添加したラジカル重合禁止剤をBHTの代わりにアンテージW400(2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、川口化学工業社製)10mgを添加したこと以外は実施例4と同様に行った。
Example 6
Example 4 except that 10 mg of Antage W400 (2,2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.) was added instead of BHT as the added radical polymerization inhibitor. As well as.

実施例7
添加したラジカル重合禁止剤をBHTの代わりにアンテージW500(2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、川口化学工業社製)10mgを添加したこと以外は実施例4と同様に行った。
Example 7
Example 4 except that 10 mg of Antage W500 (2,2′-methylene-bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), manufactured by Kawaguchi Chemical Industry Co., Ltd.) was added instead of BHT as the added radical polymerization inhibitor. As well as.

比較例3
実施例4で得られた本留留出液100gを50℃の恒温乾燥機内で2日間保管した結果、高分子量物の生成が確認された。
Comparative Example 3
As a result of storing 100 g of the main distillate obtained in Example 4 in a constant temperature dryer at 50 ° C. for 2 days, production of a high molecular weight product was confirmed.

実施例4〜7、比較例3の結果をまとめたものを表2に示す。 Table 2 summarizes the results of Examples 4 to 7 and Comparative Example 3.

Figure 2014076989
Figure 2014076989

実施例8
比較例1で得られた溜出液100gに対して10mgのBHTと0.5mgのNPHを添加し、50℃の恒温乾燥機内で50日間保管した結果、高分子量物の生成は無かった。
Example 8
As a result of adding 10 mg of BHT and 0.5 mg of NPH to 100 g of the distillate obtained in Comparative Example 1 and storing it in a constant temperature dryer at 50 ° C. for 50 days, no high molecular weight product was produced.

実施例9
添加したラジカル重合禁止剤をBHTの代わりにTBH10mgを添加したこと以外は実施例8と同様に行った。
Example 9
The same procedure as in Example 8 was performed except that 10 mg of TBH was added instead of BHT as the added radical polymerization inhibitor.

実施例10
添加したラジカル重合禁止剤をBHTの代わりにアンテージW400 10mgを添加したこと以外は実施例8と同様に行った。
Example 10
The same radical polymerization inhibitor as in Example 8 was used except that 10 mg of ANTAGE W400 was added instead of BHT.

実施例11
添加したラジカル重合禁止剤をBHTの代わりにアンテージW500 10mgを添加したこと以外は実施例8と同様に行った。
Example 11
The same radical polymerization inhibitor as in Example 8 was used except that 10 mg of ANTAGE W500 was added instead of BHT.

実施例8〜11の結果をまとめたものを表3に示す。 Table 3 summarizes the results of Examples 8-11.

Figure 2014076989
Figure 2014076989

このように、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを用いて、グリシジルアクリレートを精製する工程を含むことを特徴とするグリシジルアクリレートの製造方法を用いることによって、気相部におけるグリシジルアクリレートのラジカル重合を充分に抑制し、エポキシ部位の開環による重合物の生成も抑制し、長時間の安定な連続運転ができるという作用機序、及び、グリシジルアクリレートにニトロソ化合物又はニトロソ化合物の分解ガスと、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを共存させることによって、グリシジルアクリレートのラジカル重合を充分に抑制し、エポキシ部位の開環による重合物の生成も抑制し、グリシジルアクリレートを安定に保つことができるという作用機序は、すべて同様である。
したがって、上記実施例の結果から、本発明の技術的範囲全般において、また、本明細書において開示した種々の形態において本発明が適用でき、有利な作用効果を発揮することができるといえる。
Thus, by using the method for producing glycidyl acrylate, which includes the step of purifying glycidyl acrylate using a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound, glycidyl in the gas phase portion is used. Sufficient suppression of radical polymerization of acrylate, suppression of the formation of polymer by ring opening of epoxy site, and the mechanism of action that enables stable continuous operation for a long time, and decomposition of nitroso compound or nitroso compound into glycidyl acrylate By coexisting a gas and a radical polymerization inhibitor that is different from the nitroso compound, radical polymerization of glycidyl acrylate is sufficiently suppressed, formation of a polymer due to ring opening of the epoxy moiety is also suppressed, and glycidyl acrylate is kept stable. The mechanism of action It is the same.
Therefore, it can be said from the results of the above-described embodiments that the present invention can be applied in the entire technical scope of the present invention and in various forms disclosed in the present specification, and can exhibit advantageous effects.

1:精留塔
2:分解槽
3:非凝縮性ガス導入管
4:ニトロソ化合物溶液
5:接続管
6:塔底部気相部
7:塔底部液相部
8:塔頂部
1: rectification tower 2: decomposition tank 3: non-condensable gas introduction pipe 4: nitroso compound solution 5: connection pipe 6: tower bottom gas phase section 7: tower bottom liquid phase section 8: tower top

Claims (5)

グリシジルアクリレートの製造方法であって、
該製造方法は、ニトロソ化合物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを用いて、グリシジルアクリレートを精製する工程を含む
ことを特徴とするグリシジルアクリレートの製造方法。
A method for producing glycidyl acrylate, comprising:
The method for producing glycidyl acrylate includes a step of purifying glycidyl acrylate using a nitroso compound and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound.
前記ニトロソ化合物は、ニトロソフェニル化合物又はニトロソアミン化合物であることを特徴とする請求項1に記載のグリシジルアクリレートの製造方法。 The method for producing glycidyl acrylate according to claim 1, wherein the nitroso compound is a nitrosophenyl compound or a nitrosamine compound. 前記ラジカル重合禁止剤は、アルキルフェノール系化合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載のグリシジルアクリレートの製造方法。 The method for producing glycidyl acrylate according to claim 1 or 2, wherein the radical polymerization inhibitor is an alkylphenol compound. 前記精製工程は、ニトロソ化合物の分解ガスを精留塔内に導入して精留を行う工程を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のグリシジルアクリレートの製造方法。 The method for producing glycidyl acrylate according to any one of claims 1 to 3, wherein the purification step includes a step of performing rectification by introducing a decomposition gas of a nitroso compound into a rectification column. グリシジルアクリレートにニトロソ化合物及び/又はニトロソ化合物の分解物と、ニトロソ化合物とは異なるラジカル重合禁止剤とを共存させてなることを特徴とするグリシジルアクリレート組成物。 A glycidyl acrylate composition comprising glycidyl acrylate and a nitroso compound and / or a decomposition product of the nitroso compound, and a radical polymerization inhibitor different from the nitroso compound.
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