JP2014071932A - Multi-chip memory module - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated multi-chip memory module capable of high speed operation without reducing yield even if wafers are laminated with each other and without increase in a mounting area in a multi-chip memory module formed by laminating a plurality of memory chips having a through-silicon via.SOLUTION: A multi-chip memory module is characterized in that a redundant memory chip having a redundant memory cell provided therein is included in a plurality of memory chips, a memory circuit storing information on a defective place is assembled in the other memory chip, a function in which an access destination is switched to the redundant memory chip is provided when the defective place is accessed, and normal operation is maintained by the redundant memory cell corresponding to the defective place.

Description

本発明は半導体記憶装置に関し、特にシリコン貫通ビアを用いたチップスタック型の大容量半導体記憶装置の不良救済機能に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a defect relief function of a chip stack type large capacity semiconductor memory device using a through silicon via.

DRAMなどの半導体メモリに要求される記憶容量は年々増大しており、これに応えるため近年は、図1に示すような複数のメモリチップを積層したマルチチップメモリモジュールが提案されている。図1において記号1はメモリチップを示し、ここでは4枚のメモリチップを積層した例を示している。各メモリチップ1はワイヤ3によってパッケージ基板2と接続されている。この積層マルチチップメモリモジュール14によって、従来品に対し大容量化と小型化を同時に実現することが可能となった。しかし、積層する各チップとパッケージ基板とをワイヤボンディングで接続する必要があるため、積層するチップが増えるとワイヤの本数も増えてしまい、ワイヤループのためのスペースの確保やパッケージ基板のワイヤボンディングパッドの確保が難しくなり、多数のチップを積層することが困難であった。   The storage capacity required for semiconductor memories such as DRAMs has been increasing year by year, and in recent years, a multi-chip memory module in which a plurality of memory chips as shown in FIG. 1 are stacked has been proposed. In FIG. 1, symbol 1 indicates a memory chip, and here, an example in which four memory chips are stacked is shown. Each memory chip 1 is connected to the package substrate 2 by wires 3. With this multi-layer multichip memory module 14, it is possible to simultaneously realize a larger capacity and a smaller size than conventional products. However, since it is necessary to connect each chip to be stacked and the package substrate by wire bonding, as the number of chips to be stacked increases, the number of wires also increases, ensuring space for wire loops and wire bonding pads on the package substrate. As a result, it is difficult to secure a large number of chips.

それに対し最近では図2に示すような、シリコン貫通ビア(TSV;Through Silicon Via)を使ったチップ積層技術が開発されている。TSVはシリコン基板に設けた貫通電極であり、積層したチップ間及びチップとパッケージ基板間の電気的接続について、TSVを介して行うことができる。図2において記号1はメモリチップを示し、ここでは8枚のメモリチップを積層した例を示している。各メモリチップ間及びメモリチップとパッケージ基板2の間はTSV4を介して接続されている。これにより、従来使用していたボンディングワイヤが必要なくなることから積層するチップの枚数を増やすことが可能となり、さらにチップ間及びチップとパッケージ基板間の距離が短縮され高速信号の伝達にも有利となり、大容量化、小型化、高速化を同時に実現できる技術として注目されている。   On the other hand, recently, a chip stacking technique using a through silicon via (TSV; Through Silicon Via) as shown in FIG. 2 has been developed. TSV is a through electrode provided on the silicon substrate, and electrical connection between the stacked chips and between the chip and the package substrate can be performed via the TSV. In FIG. 2, symbol 1 indicates a memory chip, and here, an example in which eight memory chips are stacked is shown. Each memory chip and between the memory chip and the package substrate 2 are connected via TSV4. This eliminates the need for bonding wires that have been used in the past, so it is possible to increase the number of chips to be stacked, further reducing the distance between chips and between the chip and the package substrate, which is advantageous for high-speed signal transmission, It is attracting attention as a technology that can simultaneously realize large capacity, small size, and high speed.

ここで図3を参照してTSVを使ったチップ積層技術によるマルチチップメモリモジュールの製造過程を説明する。図3(a)に積層する前のTSV付きメモリウェハ6を示す。図3(b)は2枚のTSV付きメモリウェハ6を積層した図である。ウェハどうしの接合は図3(g)に示すようにTSV4を介して微小はんだバンプ8により行う。このウェハどうしの接合を、積層するウェハの枚数分だけ繰り返す。この例ではウェハを8枚積層している。積層が完了した状態を図3(c)に示す。次に図3(d)に示すようにダイサー刃5によりダイシングを行い、チップサイズのモジュールに切り出す。図3(e)に切り出したチップサイズモジュール7を示す。その後、図3(f)に示すようにチップサイズモジュール7をパッケージ基板2に実装して、マルチチップメモリモジュールを得る。   Here, a manufacturing process of a multi-chip memory module by a chip stacking technique using TSV will be described with reference to FIG. FIG. 3A shows a memory wafer 6 with TSV before being stacked. FIG. 3B is a view in which two memory wafers 6 with TSV are stacked. Wafers are joined to each other by micro solder bumps 8 through TSVs 4 as shown in FIG. The joining of the wafers is repeated for the number of wafers to be stacked. In this example, eight wafers are stacked. FIG. 3C shows a state where the lamination is completed. Next, as shown in FIG. 3D, dicing is performed by the dicer blade 5 to cut out into chip-sized modules. FIG. 3E shows the chip size module 7 cut out. Thereafter, as shown in FIG. 3F, the chip size module 7 is mounted on the package substrate 2 to obtain a multichip memory module.

このようにTSVを使ったチップ積層は従来のワイヤボンディングによるチップ積層に比べ大容量化に有効な技術であるが、積層するチップの枚数を増やすほどモジュールとしての不良率が高くなってしまうという問題がある。例えばウェハ内のチップの歩留まりを80%とすると、このウェハを2枚積層した場合、モジュールとしての歩留まりは80%の2乗で64%、3枚では51%、8枚では17%まで低下してしまう。通常、メモリチップには不良救済のため冗長回路が搭載されている。冗長回路はメモリセルに不具合があった場合に不良アドレスの情報を記憶しておき、不良アドレスがアクセスされた場合に同じチップ内に形成された冗長用の正常なメモリセルにアクセス先を切り替えることでチップを救済する機能を持っている。不良アドレスの情報を記憶する方法としては、ウェハをプロービングテストする際に不良アドレスを取得し、レーザーによって不良アドレス記憶
用回路の配線を切断する方法が一般的である。そのほかに小容量の不揮発性メモリを搭載しておき、その不揮発性メモリに不良アドレスを記憶させる方法も考えられる。しかし、そのような方法によっても救済可能なメモリセルの数には限界がある。多数の不良メモリセルを救済するには多数の冗長用メモリセルが必要になり、その分チップサイズが増大してしまうからである。従って多数のメモリセルに不具合が及ぶ場合には救済が不可能となり、そのようなチップは不良チップと判定される。
In this way, chip stacking using TSV is an effective technique for increasing the capacity as compared with chip stacking by conventional wire bonding, but the defect rate as a module increases as the number of chips stacked increases. There is. For example, assuming that the yield of chips in a wafer is 80%, when two wafers are stacked, the module yield decreases to 64% as a square of 80%, 51% for three, and 17% for eight. End up. Usually, a redundancy circuit is mounted on a memory chip for defect relief. The redundant circuit stores the information of the defective address when there is a defect in the memory cell, and switches the access destination to the normal memory cell for redundancy formed in the same chip when the defective address is accessed. It has a function to rescue the chip. As a method for storing information on defective addresses, a method is generally used in which a defective address is acquired when a wafer is subjected to a probing test, and wiring of a defective address storage circuit is cut by a laser. In addition, a method of mounting a small-capacity nonvolatile memory and storing a defective address in the nonvolatile memory is also conceivable. However, the number of memory cells that can be relieved by such a method is limited. This is because a large number of redundant memory cells are required to relieve a large number of defective memory cells, and the chip size increases accordingly. Therefore, when a failure occurs in a large number of memory cells, the repair is impossible, and such a chip is determined as a defective chip.

そこで現在、TSVを使ったチップ積層を行う場合は、ウェハどうしを積層するのではなく、ベースとするウェハ以外は前もってダイシングしておき、良品と判定されたチップだけをベースとなるウェハに順次積層するという方法が採用されることが多い。このとき、ベースとなるウェハも積層に先立って試験を行い、良品チップの位置を把握しておくことで、完全に良品のチップだけを積層したマルチチップメモリモジュールを得ることができる。   Therefore, when performing chip stacking using TSV, instead of stacking wafers, dicing is performed in advance except for the base wafer, and only the chips determined to be non-defective are sequentially stacked on the base wafer. The method of doing is often adopted. At this time, the wafer as a base is also tested prior to stacking, and the position of the non-defective chips is known, whereby a multichip memory module in which only non-defective chips are stacked can be obtained.

しかし、このような方法ではダイシングをウェハの枚数分だけ繰り返す必要があり、さらに積層時においてもチップの枚数分だけ位置合わせ及び接合工程を繰り返す必要があるため、コストの面で不利となってしまう。そこで特許文献1に示すような技術が開示されている。特許文献1ではメモリチップの不良を救済するため、各メモリチップの不良情報を別途積層するコトローラチップに格納しておき、メモリチップの不良セルにアクセスがあった場合は別のパッケージに搭載した冗長用メモリチップにアクセスするという方法を採用している。   However, in such a method, dicing needs to be repeated for the number of wafers, and further, alignment and bonding processes need to be repeated for the number of chips at the time of stacking, which is disadvantageous in terms of cost. . Therefore, a technique as disclosed in Patent Document 1 is disclosed. In Patent Document 1, in order to relieve a defect of a memory chip, defect information of each memory chip is stored in a separately stacked controller chip, and if a defective cell of the memory chip is accessed, it is mounted in another package. A method of accessing the redundant memory chip is employed.

特開2010−45166号公報JP 2010-45166 A

しかしながら、特許文献1に示される方法では、マルチチップメモリモジュールの他に別パッケージによる冗長用メモリを実装する必要があり、実装面積の面で不利になるという欠点があった。さらに、冗長用メモリが別パッケージとなるため、冗長が選択された際のアクセスタイムに遅延が発生し、高速なシステムには適用できないという欠点もあった。   However, in the method disclosed in Patent Document 1, it is necessary to mount a redundant memory in a separate package in addition to the multichip memory module, which is disadvantageous in terms of mounting area. Further, since the redundancy memory is a separate package, there is a disadvantage that a delay occurs in the access time when redundancy is selected, and it cannot be applied to a high-speed system.

そこで本発明においては、TSVを介してチップ間及びチップとパッケージ基板間を接続する積層マルチチップメモリモジュールにおいて、ウェハどうしを積層しても歩留まりが低下せず、また、実装面積を増やすこともなく、さらに高速動作も可能である積層マルチチップメモリモジュールの提供を目的とする。   Therefore, in the present invention, in a multi-chip memory module in which chips are connected between TSs and between a chip and a package substrate through TSV, the yield is not lowered even if the wafers are stacked, and the mounting area is not increased. Another object of the present invention is to provide a stacked multichip memory module that can operate at higher speed.

上記課題を解決するため本発明では、シリコン貫通ビアを持つメモリチップを、複数積層してなるマルチチップメモリモジュールであって、
複数のメモリチップには冗長用メモリセルが設けられた冗長用メモリチップが含まれ、
他のメモリチップには不良箇所の情報を記憶する記憶回路が組み込まれ、
不良箇所がアクセスされた場合に、アクセス先が冗長用メモリチップに切り替わる機能を有し、不良箇所に対応した冗長用メモリセルによって正常動作を維持することを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention is a multichip memory module in which a plurality of memory chips having through silicon vias are stacked,
The plurality of memory chips include a redundancy memory chip provided with redundancy memory cells,
Other memory chips have built-in memory circuits that store information on defective parts,
When a defective portion is accessed, the access destination is switched to a redundant memory chip, and normal operation is maintained by a redundant memory cell corresponding to the defective portion.

また、本発明では、前記記憶回路が、不揮発性メモリであることを特徴とする。   In the present invention, the memory circuit is a nonvolatile memory.

さらに、本発明では、メモリチップには、冗長用メモリチップを除き、冗長用メモリセルが搭載されていないことを特徴とする。   Furthermore, the present invention is characterized in that no redundant memory cell is mounted on the memory chip except for the redundant memory chip.

本発明によるマルチチップメモリモジュールにおいては、メモリチップに不良箇所の情報を記憶する記憶回路が組み込まれており、同じマルチチップメモリモジュールに冗長用のメモリチップが積層されるため、冗長用として大きな容量を確保できる。そのため、メモリチップの積層手法としてウェハどうしの積層を採用した場合でも歩留まりを低下させることなく低コストで製造が可能となる。
また、メモリチップ間をTSVを介して短距離で接続することで冗長セルにアクセスする場合でも遅延が少なく高速動作が可能となる。
In the multichip memory module according to the present invention, a memory circuit for storing information on a defective portion is incorporated in the memory chip, and a redundant memory chip is stacked on the same multichip memory module. Can be secured. For this reason, even when the lamination of wafers is adopted as a method of laminating memory chips, it is possible to manufacture at a low cost without reducing the yield.
Further, by connecting the memory chips with a short distance via the TSV, even when accessing the redundant cell, a high-speed operation is possible with little delay.

さらに、本発明では前記不良箇所の情報を記憶する記憶回路が不揮発性メモリであるため、レーザーでヒューズを切断する方法に比べ少ない面積で多くの不良箇所の情報を格納できる。   Further, in the present invention, since the memory circuit for storing the information on the defective portion is a nonvolatile memory, it is possible to store information on many defective portions with a smaller area than the method of cutting the fuse with a laser.

さらに、本発明ではメモリチップに冗長用メモリセルが搭載されていないため、チップの小面積化が可能となる。   Furthermore, in the present invention, since no redundant memory cell is mounted on the memory chip, the chip area can be reduced.

ワイヤボンディングを利用した従来の積層マルチチップメモリモジュールの例を断面で示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the conventional multilayer multichip memory module using wire bonding in the cross section. TSVを利用した積層マルチチップメモリモジュールの例を断面で示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the example of the lamination | stacking multichip memory module using TSV in the cross section. TSVを利用した積層マルチチップメモリモジュールの製造工程例の説明図である。It is explanatory drawing of the example of a manufacturing process of the lamination | stacking multichip memory module using TSV. 本発明のマルチチップメモリモジュールの実施形態の一例を断面で示した説明図である。It is explanatory drawing which showed an example of embodiment of the multichip memory module of this invention in the cross section. 本発明のマルチチップメモリモジュールの回路ブロックの一例の説明図である。It is explanatory drawing of an example of the circuit block of the multichip memory module of this invention. 本発明のマルチチップメモリモジュールの製造工程例の説明図である。It is explanatory drawing of the example of a manufacturing process of the multichip memory module of this invention.

本発明の実施形態の例を図4及び図5を用いて説明する。図4は本発明によるマルチチップメモリモジュール14の例である。パッケージ基板2の上にTSV4が形成された複数のメモリチップ1及び冗長用メモリチップ11が積層されている。この例ではメモリチップは全部で8枚積層されている。各メモリチップ及び冗長用メモリチップはTSVを介して接続される。チップ間及びチップとパッケージ基板の間は図示しない微小はんだバンプなどにより接合されている。   An example of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is an example of a multi-chip memory module 14 according to the present invention. A plurality of memory chips 1 on which TSVs 4 are formed and a redundant memory chip 11 are stacked on the package substrate 2. In this example, a total of eight memory chips are stacked. Each memory chip and the redundant memory chip are connected through a TSV. The chips and between the chip and the package substrate are joined by micro solder bumps (not shown).

図5は、本発明によるマルチチップメモリモジュールの回路ブロックの例である。図5において、メモリチップは1から8までの8枚、冗長用メモリチップは1枚が搭載されているものとする。なおメモリチップは代表としてメモリチップ1のみ詳細を記すが、メモリチップ2から8も同様の回路構成である。メモリチップには不良情報記憶回路が組み込まれており、メモリチップ内の不良アドレスにアクセスしようとした場合は、アドレスを冗長用アドレスに変換する。変換された冗長用アドレスは、冗長用メモリチップに伝達され、冗長用メモリチップ内のアドレスにアクセスを行う。さらに不良アドレスがアクセスされた場合は、不良情報記憶回路から切替え制御信号が出力され、切替え回路に伝達される。切替え回路は、正常アドレスがアクセスされた場合はメモリチップ内のメモリセルに対してデータの入出力を行い、不良アドレスにアクセスしようとした場合は、冗長用メモ
リチップのメモリセルに対してデータの入出力を行うよう、データの入出力先を切替える。このように不良アドレスに対するデータ入出力を冗長用メモリセルの正常アドレスに対する入出力に切替えることで、メモリチップ内に不良アドレスがあっても、モジュールとしては不良とならず正常品と同じように使用できる。この不良アドレスの冗長用メモリチップへの振り替えによる救済機能については、図5に示すように搭載する全てのメモリチップに備えることが望ましい。
FIG. 5 is an example of a circuit block of a multichip memory module according to the present invention. In FIG. 5, eight memory chips 1 to 8 are mounted, and one redundant memory chip is mounted. The memory chip will be described in detail only for the memory chip 1 as a representative, but the memory chips 2 to 8 have the same circuit configuration. A defect information storage circuit is incorporated in the memory chip, and when an attempt is made to access a defective address in the memory chip, the address is converted into a redundancy address. The converted redundancy address is transmitted to the redundancy memory chip to access the address in the redundancy memory chip. Further, when a defective address is accessed, a switching control signal is output from the defect information storage circuit and transmitted to the switching circuit. When the normal address is accessed, the switching circuit inputs / outputs data to / from the memory cells in the memory chip, and when trying to access a defective address, the switching circuit transfers data to / from the memory cells of the redundant memory chip. Switch the data input / output destination to perform input / output. By switching the data input / output with respect to the defective address to the input / output with respect to the normal address of the redundant memory cell in this way, even if there is a defective address in the memory chip, the module does not become defective and is used in the same way as a normal product. it can. As for the relief function by transferring the defective address to the redundant memory chip, it is desirable to provide all the memory chips to be mounted as shown in FIG.

従来のメモリチップでは同一チップ内に冗長用メモリセルが搭載されていたが、その場合は確保できる冗長用のメモリ容量が小さく、同一チップ内に多数の不良セルが存在する場合には冗長機能による不良の救済が不可能となる場合があった。
しかし、本発明によれば、冗長用として1枚のメモリチップ全体を使用できるため、従来よりもはるかに大きな容量を救済することが可能となるため、歩留まりを低下させることなく、ウェハどうしの積層によるマルチチップメモリモジュールの製造が可能となる。
In a conventional memory chip, redundant memory cells are mounted in the same chip. In that case, the redundant memory capacity that can be secured is small, and when there are many defective cells in the same chip, the redundancy function is used. In some cases, it was impossible to remedy a defect.
However, according to the present invention, since one whole memory chip can be used for redundancy, a much larger capacity can be relieved than before, so that the stacking of wafers can be performed without reducing the yield. The multi-chip memory module can be manufactured.

また、メモリチップと冗長用メモリチップはTSVを介して接続されるため、従来のワイヤボンディングによる接続に比べ高速な動作が可能となる。   In addition, since the memory chip and the redundant memory chip are connected via the TSV, the operation can be performed at a higher speed than the conventional connection by wire bonding.

さらに、メモリチップには冗長用メモリセルを搭載する必要がないため、チップ面積を削減することができる。   Furthermore, since it is not necessary to mount redundant memory cells in the memory chip, the chip area can be reduced.

一方、冗長用メモリチップには、不良箇所に対応した冗長用メモリセル(図5ではメモリセル)以外に、冗長用メモリチップ自身の不良セルを救済するために、さらに冗長用メモリセル(図5では冗長用メモリセル)を搭載することが望ましい。これらの冗長用メモリセルについても従来よりも大きな容量を冗長用に割り当てることができるため、歩留まりの向上が期待できる。   On the other hand, in addition to the redundant memory cell (memory cell in FIG. 5) corresponding to the defective portion, the redundant memory chip further includes a redundant memory cell (see FIG. 5) in order to relieve the defective cell of the redundant memory chip itself. Then, it is desirable to mount redundant memory cells. With respect to these redundant memory cells, a larger capacity than before can be allocated for redundancy, so that an improvement in yield can be expected.

次に本発明のマルチチップメモリモジュールの製造方法の例について、図6を用いて説明する。
まず、ウェハプロセスが完了し、図5に示すようなメモリチップの回路を有するチップが多面付けされたウェハに対し、図6(a)に示すようにプロービング試験を行う。図6(a)ではメモリウェハ6と冗長用メモリウェハ13の各1枚を示しているが、実際には積層するウェハ全てについてプロービング試験を行う。プロービング試験は、あらかじめ各チップに設けられたプロービング試験用の電極に、LSIテスタ等の検査装置に接続されたプローバ12の先端を接触させて行う。ここで不良が発見されたチップについては、不良アドレスの情報を各チップの不良情報記憶回路に記憶させる。不良アドレスを記憶させる機構としては、不良情報記憶用の導体配線をレーザーで切断する方法が一般に広く使用されているが、それでは多数のアドレスを記憶させるために多くの配線面積を必要とする。そのため、より小さい面積で多くのアドレスを記憶できる不揮発性メモリへの書き込みが望ましい。不揮発性メモリとしては、PROM(Programmable Read Only Memory)、EPROM(Erasable Programmable Read Only Memory)、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read−Only Memory)、フラッシュメモリ等が使用できる。
Next, an example of a method for manufacturing a multichip memory module of the present invention will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 6A, a probing test is performed on a wafer on which a wafer process is completed and chips having a memory chip circuit as shown in FIG. Although FIG. 6A shows one each of the memory wafer 6 and the redundant memory wafer 13, the probing test is actually performed on all the wafers to be stacked. The probing test is performed by bringing the tip of the prober 12 connected to an inspection apparatus such as an LSI tester into contact with an electrode for probing test provided in advance on each chip. Here, for a chip in which a defect is found, the defect address information is stored in the defect information storage circuit of each chip. As a mechanism for storing defective addresses, a method of cutting a conductor wiring for storing defective information with a laser is generally widely used. However, in order to store a large number of addresses, a large wiring area is required. Therefore, it is desirable to write to a non-volatile memory that can store many addresses in a smaller area. As the nonvolatile memory, PROM (Programmable Read Only Memory), EPROM (Erasable Programmable Read Only Memory), EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory, etc.) can be used.

次に図6(b)に示すように各ウェハを積層する。ここではメモリチップのウェハを8枚、冗長用メモリチップのウェハを1枚積層する場合を示すが、本発明ではこれらのウェハ枚数に特に制限はない。またこの図では冗長用メモリチップのウェハを最も上に配置しているが、この配置についても特に制限はない。ウェハどうしの接続方法の例として、図6(e)に微小はんだバンプ8による接合を示す。   Next, as shown in FIG. 6B, the respective wafers are stacked. Here, a case where eight memory chip wafers and one redundant memory chip wafer are stacked is shown, but in the present invention, the number of these wafers is not particularly limited. Further, in this figure, the redundant memory chip wafer is arranged on the top, but there is no particular limitation on this arrangement. As an example of a method for connecting the wafers, FIG.

次に図6(c)に示すように積層したウェハを各チップにダイシングする。ダイシングは一般的なダイサーによって行うことができる。   Next, as shown in FIG. 6C, the laminated wafer is diced into each chip. Dicing can be performed by a general dicer.

次に図6(d)に示すように積層しダイシングしたチップサイズモジュール7をパッケージ基板2に実装する。チップサイズモジュール7とパッケージ基板2の接続は、図示しない微小なはんだバンプ等によって行うことができる。   Next, the stacked and diced chip size module 7 is mounted on the package substrate 2 as shown in FIG. The chip size module 7 and the package substrate 2 can be connected to each other by a small solder bump or the like (not shown).

本発明は半導体記憶装置に関し、特にTSVを用いたチップスタック型の大容量半導体記憶装置に利用できる。   The present invention relates to a semiconductor memory device, and can be used particularly for a chip stack type large capacity semiconductor memory device using TSV.

1・・・メモリチップ
2・・・パッケージ基板
3・・・ボンディングワイヤ
4・・・TSV(シリコン貫通ビア)
5・・・ダイサー刃
6・・・メモリウェハ
7・・・チップサイズモジュール
11・・・冗長用メモリチップ
12・・・プローバ
13・・・冗長用メモリウェハ
14・・・マルチチップメモリモジュール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory chip 2 ... Package board 3 ... Bonding wire 4 ... TSV (through silicon via)
5 ... Dicer blade 6 ... Memory wafer 7 ... Chip size module 11 ... Redundant memory chip 12 ... Prober 13 ... Redundant memory wafer 14 ... Multi-chip memory module

Claims (3)

シリコン貫通ビアを持つメモリチップを、複数積層してなるマルチチップメモリモジュールであって、
複数のメモリチップには冗長用メモリセルが設けられた冗長用メモリチップが含まれ、
他のメモリチップには不良箇所の情報を記憶する記憶回路が組み込まれ、
不良箇所がアクセスされた場合に、アクセス先が冗長用メモリチップに切り替わる機能を有し、不良箇所に対応した冗長用メモリセルによって正常動作を維持することを特徴とする、マルチチップメモリモジュール。
A multi-chip memory module in which a plurality of memory chips having through silicon vias are stacked,
The plurality of memory chips include a redundancy memory chip provided with redundancy memory cells,
Other memory chips have built-in memory circuits that store information on defective parts,
A multi-chip memory module having a function of switching an access destination to a redundant memory chip when a defective part is accessed, and maintaining normal operation by a redundant memory cell corresponding to the defective part.
前記記憶回路が、不揮発性メモリであることを特徴とする請求項1に記載のマルチチップメモリモジュール。   The multi-chip memory module according to claim 1, wherein the storage circuit is a nonvolatile memory. メモリチップには、冗長用メモリチップを除き、冗長用メモリセルが搭載されていないことを特徴とする請求項1または2に記載のマルチチップメモリモジュール。   3. The multi-chip memory module according to claim 1, wherein no redundant memory cell is mounted on the memory chip except for the redundant memory chip.
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