JP2014024778A - Method for producing aromatic boron compound - Google Patents

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文亮 尾崎
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an aromatic boron compound at raw material costs and a high yield, suitable for industrial manufacturing.SOLUTION: The method for producing an aromatic boron compound includes the steps of: causing a compound represented by R-Ph-Xand a compound having a metal such as lithium to react with each other to obtain a compound represented by R-Ph-M; and causing a compound represented by R-Ph-Mand a compound having a boron atom to react with each other to obtain a compound represented by R-Ph-Z, and in each step, a solvent and a first additive having a hetero atom are present in a reaction system (where Rrepresents an alkyl group or the like, Ph represents a phenylene group, Z represents a monovalent group having a boron atom, Xrepresents an anionic monovalent leaving group, Mrepresents a monovalent group having a metal such as lithium, the metal is directly bound to the Ph, and the boron atom is directly bound to the Ph).

Description

本発明は、芳香族ホウ素化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing an aromatic boron compound.

芳香族ホウ素化合物は、各種産業において用いられている。例えば、複雑な分子構造を有する天然物の合成から新規な構造と機能とを有する共役オリゴマー及びポリマーの創製といった学術分野の他、医農薬品及びその中間体、並びに、液晶、有機発光ダイオード及び有機導電素材などの電子・光学材料等の工業生産分野などにおいて、合成中間体及び目的物としての用途が多数報告されている(例えば非特許文献1参照)。例えば、芳香族ホウ素化合物は、アニオン性脱離基を有する芳香族化合物とのカップリング反応(鈴木−宮浦クロスカップリング法)(例えば非特許文献2参照)の原料として用いられ、また、ホウ素類は廃液の処理が容易であるため、そのような観点からも、近年、非常に幅広く利用されている。   Aromatic boron compounds are used in various industries. For example, in addition to academic fields such as the synthesis of natural products having complex molecular structures to the creation of conjugated oligomers and polymers having novel structures and functions, medicines and agrochemicals and intermediates thereof, liquid crystals, organic light-emitting diodes and organic In industrial production fields such as electronic and optical materials such as conductive materials, many uses as synthetic intermediates and objects have been reported (for example, see Non-Patent Document 1). For example, an aromatic boron compound is used as a raw material for a coupling reaction with an aromatic compound having an anionic leaving group (Suzuki-Miyaura cross-coupling method) (for example, see Non-Patent Document 2). Since the waste liquid can be easily treated, it has been widely used in recent years from such a viewpoint.

芳香族ホウ素化合物は、例えば、芳香族グリニャール試薬とアルキルボレートとの反応により製造することができる(例えば特許文献1参照)。また、芳香族ホウ素化合物は、アルコキシ基を有するジボロンと芳香族ハロゲン化物との反応によっても製造することができる(例えば非特許文献3参照)。   The aromatic boron compound can be produced, for example, by a reaction between an aromatic Grignard reagent and an alkyl borate (see, for example, Patent Document 1). An aromatic boron compound can also be produced by a reaction between diboron having an alkoxy group and an aromatic halide (see, for example, Non-Patent Document 3).

特表2002−517503号公報Special table 2002-517503 gazette

鈴木章、TCIメール、2009年4月、No.142Suzuki Akira, TCI Mail, April 2009, No. 142 Miyaura, N., Yanagi, T., Suzuki, A.、Synthetic Communications、1981年、第11巻、p513〜519Miyaura, N., Yanagi, T., Suzuki, A., Synthetic Communications, 1981, Vol. 11, p513-519 T. Ishiyama,J. Org. Chem.、1995年、第60巻、p7508T. Ishiyama, J. Org. Chem., 1995, 60, p7508

しかしながら、特許文献1に開示されている方法においては、0℃以下の低温で反応を行う必要があり、工業生産においては不利である。また、非特許文献3に開示されている方法においては、ジボロン化合物は入手性が悪く、原料コストが高いという問題がある。   However, in the method disclosed in Patent Document 1, it is necessary to perform the reaction at a low temperature of 0 ° C. or lower, which is disadvantageous in industrial production. Further, in the method disclosed in Non-Patent Document 3, there is a problem that the diboron compound is poorly available and the raw material cost is high.

そこで、低い原料コストで、かつ工業的生産に適した芳香族ホウ素化合物の製造方法を確立することが望まれている。   Therefore, it is desired to establish a method for producing an aromatic boron compound that is suitable for industrial production at a low raw material cost.

本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、原料コストが低く、かつ工業生産に適した芳香族ホウ素化合物の製造方法であって、しかも、芳香族ホウ素化合物を高収率で製造できる製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a method for producing an aromatic boron compound that is low in raw material cost and suitable for industrial production, and can produce an aromatic boron compound in a high yield. It aims to provide a method.

[1]下記一般式(1):
2−Ph−Z (1)
で表される化合物の製造方法であって、下記一般式(2):
2−Ph−X2 (2)
で表される化合物と、リチウム、マグネシウム及び亜鉛からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物とを反応させて、下記一般式(3):
2−Ph−M1 (3)
で表される化合物を得る第1の工程と、上記式(3)で表される化合物とホウ素原子を有する化合物とを反応させて、上記式(1)で表される化合物を得る第2の工程と、を有し、前記第1の工程及び/又は前記第2の工程において、反応系中に、溶媒とヘテロ原子を有する第1の添加剤とが存在する、製造方法。
(式(1)、(2)及び(3)中、R2はアルキル基又はアルコキシ基を示し、Phはフェニレン基を示し、Zはホウ素原子を有する1価の基を示し、X2はアニオン性の1価の脱離基を示し、M1はリチウム、マグネシウム及び亜鉛からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する1価の基を示し、式(3)において、前記金属は前記Phに直接結合しており、式(1)において、前記ホウ素原子は前記Phに直接結合している。)
[2]前記金属が、リチウム又はマグネシウムである、上記製造方法。
[3]前記金属を有する化合物は、有機リチウム、金属リチウム、有機マグネシウム又は金属マグネシウムである、上記製造方法。
[4]前記R2は、炭素数が1〜20のアルコキシ基である、上記製造方法。
[5]前記ホウ素原子を有する化合物は、アルコキシボレートである、上記製造方法。
[6]前記第1の添加剤におけるヘテロ原子は、窒素原子、リン原子、及び酸素原子からなる群より選ばれる1種以上の原子である、上記製造方法。
[7]前記第1の添加剤は、エーテル化合物、有機窒素化合物、アンモニウム塩、有機リン化合物及びホスホニウム塩からなる群より選ばれる1種以上を含む、上記製造方法。
[8]前記溶媒は、非プロトン性非求核性溶媒である、上記製造方法。
[9]前記溶媒は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン及び塩化メチレンからなる群より選ばれる1種以上の溶媒を含む、上記製造方法。
[10]前記第1の工程及び前記第2の工程の少なくとも一方における反応温度が、−20℃以上である、上記製造方法。
[11]前記第1の工程及び前記第2の工程の少なくとも一方における反応温度が、30℃以上である、上記製造方法。
[12]前記X2は、臭素原子、ヨウ素原子又は塩素原子である、上記製造方法。
[13]下記一般式(4):
1−L−Ph−Ph−R2 (4)
で表される化合物の製造方法であって、下記一般式(5):
1−L−Ph−X1 (5)
で表される化合物と、下記一般式(1):
2−Ph−Z (1)
で表される化合物とを反応させて、上記式(4)で表される化合物を得る第3の工程を有する、製造方法。
(上記式(4)、(5)及び(1)中、R1は1つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたアルキル基、アルコキシ基又はアリール基を示し、X1はアニオン性の1価の脱離基を示し、Lはスルフィド基、スルフィニル基又はスルホニル基を示し、R2はアルキル基又はアルコキシ基を示し、Phはフェニレン基を示し、Zはホウ素原子を有する1価の基を示し、式(1)において、前記ホウ素原子は前記Phに直接結合している。)
[14]前記R1における前記ハロゲン原子は、フッ素原子である、上記製造方法。
[15]前記R1は、パーフルオロアルキル鎖部位を含む、上記製造方法。
[16]前記Lは、スルホニル基である、上記製造方法。
[17]前記X1は、臭素原子、ヨウ素原子又は塩素原子である、上記製造方法。
[18]前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、それらの化合物のうちモル基準で少ない方の化合物の量に対して0.0001〜1mol%の、パラジウム、ニッケル及び鉄からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物の存在下に反応させる、上記製造方法。
[19]前記パラジウム、ニッケル及び鉄からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物は、パラジウムである、上記製造方法。
[20]前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、第2の添加剤の存在下に反応させる、上記製造方法。
[21]前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる、上記製造方法。
[22]前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、相間移動触媒の存在下に反応させる、上記製造方法。
[23]前記第3の工程において、非水溶性有機溶媒を用いる、上記製造方法。
[24]前記第3の工程において、水溶性有機溶媒を用いる、上記製造方法。
[1] The following general formula (1):
R 2 -Ph-Z (1)
A compound represented by the following general formula (2):
R 2 -Ph-X 2 (2)
Is reacted with a compound having one or more metals selected from the group consisting of lithium, magnesium and zinc, and the following general formula (3):
R 2 -Ph-M 1 (3)
A second step of obtaining a compound represented by the above formula (1) by reacting a compound represented by the above formula (3) with a compound having a boron atom. And in the first step and / or the second step, a solvent and a first additive having a hetero atom are present in the reaction system.
(In the formulas (1), (2) and (3), R 2 represents an alkyl group or an alkoxy group, Ph represents a phenylene group, Z represents a monovalent group having a boron atom, and X 2 represents an anion. M 1 represents a monovalent group having at least one metal selected from the group consisting of lithium, magnesium and zinc, and in the formula (3), the metal is the Ph (In the formula (1), the boron atom is directly bonded to the Ph.)
[2] The said manufacturing method whose said metal is lithium or magnesium.
[3] The said manufacturing method whose compound which has the said metal is organic lithium, metallic lithium, organic magnesium, or metallic magnesium.
[4] The above production method, wherein R 2 is an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms.
[5] The said manufacturing method whose compound which has the said boron atom is an alkoxy borate.
[6] The above production method, wherein the hetero atom in the first additive is one or more atoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, a phosphorus atom, and an oxygen atom.
[7] The above production method, wherein the first additive includes one or more selected from the group consisting of an ether compound, an organic nitrogen compound, an ammonium salt, an organic phosphorus compound, and a phosphonium salt.
[8] The above production method, wherein the solvent is an aprotic non-nucleophilic solvent.
[9] The above production method, wherein the solvent includes one or more solvents selected from the group consisting of toluene, xylene, chlorobenzene, and methylene chloride.
[10] The above production method, wherein a reaction temperature in at least one of the first step and the second step is −20 ° C. or higher.
[11] The said manufacturing method whose reaction temperature in at least one of the said 1st process and the said 2nd process is 30 degreeC or more.
[12] The above production method, wherein X 2 is a bromine atom, an iodine atom or a chlorine atom.
[13] The following general formula (4):
R 1 -L-Ph-Ph-R 2 (4)
A compound represented by the following general formula (5):
R 1 -L-Ph-X 1 (5)
And a compound represented by the following general formula (1):
R 2 -Ph-Z (1)
The manufacturing method which has a 3rd process of making the compound represented by these react, and obtaining the compound represented by the said Formula (4).
(In the above formulas (4), (5) and (1), R 1 represents an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom, and X 1 is an anionic 1 R represents a sulfide group, sulfinyl group or sulfonyl group, R 2 represents an alkyl group or an alkoxy group, Ph represents a phenylene group, and Z represents a monovalent group having a boron atom. In the formula (1), the boron atom is directly bonded to the Ph.)
[14] The above production method, wherein the halogen atom in R 1 is a fluorine atom.
[15] The above production method, wherein R 1 includes a perfluoroalkyl chain moiety.
[16] The above production method, wherein L is a sulfonyl group.
[17] The above production method, wherein X 1 is a bromine atom, an iodine atom or a chlorine atom.
[18] In the third step, the compound represented by the above formula (1) and the compound represented by the above formula (5) are reduced to the amount of the smaller compound on a molar basis among these compounds. The said manufacturing method made to react in presence of the compound which has 1 or more types of metals chosen from the group which consists of palladium, nickel, and iron with respect to 0.0001-1 mol%.
[19] The above production method, wherein the compound having one or more metals selected from the group consisting of palladium, nickel and iron is palladium.
[20] The production method, wherein in the third step, the compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (5) are reacted in the presence of a second additive. .
[21] The production method described above, wherein in the third step, the compound represented by the formula (1) is reacted with the compound represented by the formula (5) in the presence of a base.
[22] The production method described above, wherein, in the third step, the compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (5) are reacted in the presence of a phase transfer catalyst.
[23] The above production method using a water-insoluble organic solvent in the third step.
[24] The above production method using a water-soluble organic solvent in the third step.

本発明によると、原料コストが低く、かつ工業生産に適した芳香族ホウ素化合物の製造方法であって、しかも、芳香族ホウ素化合物を高収率で製造できる製造方法を提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for producing an aromatic boron compound that is low in raw material cost and suitable for industrial production, and that can produce the aromatic boron compound in a high yield. .

以下、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施形態」という。)について詳細に説明する。   Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter simply referred to as “the present embodiment”) will be described in detail.

本実施形態の芳香族ホウ素化合物の製造方法は、下記一般式(1):
2−Ph−Z (1)
で表される化合物(以下、単に「化合物(1)」という。)の製造方法であって、下記一般式(2):
2−Ph−X2 (2)
で表される化合物(以下、単に「化合物(2)」という。)と、リチウム、マグネシウム及び亜鉛からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物(以下、「含M1化合物」という。)とを反応させて、下記一般式(3):
2−Ph−M1 (3)
で表される化合物(以下、単に「化合物(3)」という。)を得る第1の工程と、上記式(3)で表される化合物とホウ素原子を有する化合物(以下、「含Z化合物」という。)とを反応させて、上記式(1)で表される化合物を得る第2の工程とを有し、第1の工程及び/又は第2の工程において、反応系中に、溶媒とヘテロ原子を有する第1の添加剤とが存在する製造方法である。
The method for producing an aromatic boron compound of the present embodiment has the following general formula (1):
R 2 -Ph-Z (1)
(Hereinafter simply referred to as “compound (1)”), which is represented by the following general formula (2):
R 2 -Ph-X 2 (2)
And a compound having at least one metal selected from the group consisting of lithium, magnesium and zinc (hereinafter referred to as “comprising M 1 compound”). And the following general formula (3):
R 2 -Ph-M 1 (3)
A first step of obtaining a compound represented by the formula (hereinafter simply referred to as “compound (3)”), a compound represented by the above formula (3) and a compound having a boron atom (hereinafter referred to as “Z-containing compound”). And a second step of obtaining a compound represented by the above formula (1), and in the first step and / or the second step, in the reaction system, a solvent and And a first additive having a heteroatom.

(1)第1の工程
本実施形態においては、化合物(2)と含M1化合物とを混合して反応させることより、化合物(3)を得る。ここで、上記各一般式中、Phはフェニレン基を示す。
(1) In the first step this embodiment, than to react by mixing the compound (2) and containing M 1 compound to provide compound (3). Here, in each of the above general formulas, Ph represents a phenylene group.

2はアニオン性の1価の脱離基(以下、「アニオン性脱離基」という。)を示す。ここで、「アニオン性脱離基」とは、本実施形態の製造方法において反応時に化合物から脱離するアニオン性の1価の基を意味する。アニオン性脱離基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子などのハロゲン原子、トリフラート基(CF3SO3−)、及びパーフルオロアルキルスルホナート基(Cp2p+1SO3−;pは1〜20の整数を示す。)が挙げられる。これらの中で、アニオン性脱離基は、芳香族ホウ素化合物の合成の容易さと原料の入手性との観点から、好ましくはハロゲン原子であり、更に好ましくは臭素原子、ヨウ素原子又は塩素原子であり、特に好ましくは臭素原子又は塩素原子である。 X 2 represents an anionic monovalent leaving group (hereinafter referred to as “anionic leaving group”). Here, the “anionic leaving group” means an anionic monovalent group that is eliminated from the compound during the reaction in the production method of the present embodiment. Examples of the anionic leaving group include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, triflate group (CF 3 SO 3 —), and perfluoroalkyl sulfonate group (C p F 2p + 1). SO 3- ; p represents an integer of 1 to 20.). Among these, the anionic leaving group is preferably a halogen atom, more preferably a bromine atom, an iodine atom, or a chlorine atom from the viewpoint of ease of synthesis of the aromatic boron compound and availability of raw materials. Particularly preferred is a bromine atom or a chlorine atom.

Phに結合するX2の位置は、後述のR2に対してオルト位、メタ位及びパラ位のいずれでもよいが、芳香族ホウ素化合物をゲル化剤原料として用いる場合には、パラ位にあることが好ましい。 The position of X 2 bonded to Ph may be any of the ortho-position, meta-position and para-position relative to R 2 described later. However, when an aromatic boron compound is used as a gelling agent raw material, it is in the para-position. It is preferable.

2はアルキル基又はアルコキシ基を示す。アルキル基及びアルコキシ基の炭素数は好ましくは1〜20である。R2は、好ましくは炭素数1〜20のアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数2〜14のアルコキシ基であり、更に好ましくは炭素数3〜12のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数3〜10のアルコキシ基である。炭素数が当該範囲にあることで、溶媒との親和性が一層良好となり、精製がより容易となり、目的とする芳香族ホウ素化合物を更に高純度で得やすくなる。 R 2 represents an alkyl group or an alkoxy group. Preferably carbon number of an alkyl group and an alkoxy group is 1-20. R 2 is preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 2 to 14 carbon atoms, still more preferably an alkoxy group having 3 to 12 carbon atoms, and particularly preferably a carbon number. 3 to 10 alkoxy groups. When the carbon number is within the above range, the affinity with the solvent is further improved, the purification becomes easier, and the target aromatic boron compound can be obtained with higher purity.

化合物(2)は市販品として入手してもよく、常法により合成されてもよい。本実施形態の製造方法は、化合物(2)の1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Compound (2) may be obtained as a commercial product or synthesized by a conventional method. The manufacturing method of this embodiment can use 1 type of a compound (2) individually or in combination of 2 or more types.

化合物(3)において、M1はリチウム、マグネシウム及び亜鉛からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する1価の基を示す。化合物(3)において、上記金属はPhに直接結合している。M1において、金属は、本発明による効果をより有効かつ確実に奏する観点から、好ましくはリチウム又はマグネシウムである。M1は、上記金属自体であってもよく、上記金属と共に他の化学種を有する基であってもよい。そのような基としては、例えば、アルキル金属基、アルコキシ金属基及びハロゲン化金属基などが挙げられる。 In the compound (3), M 1 represents a monovalent group having one or more metals selected from the group consisting of lithium, magnesium and zinc. In the compound (3), the metal is directly bonded to Ph. In M 1 , the metal is preferably lithium or magnesium from the viewpoint of more effectively and reliably achieving the effects of the present invention. M 1 may be the metal itself or a group having another chemical species together with the metal. Examples of such groups include alkyl metal groups, alkoxy metal groups, and halogenated metal groups.

含M1化合物は、化合物(2)と含M1化合物とを混合し反応させて、化合物(3)を得る第1の工程において、アニオン性脱離基であるX2を脱離させて、化合物(3)を得ることができる化合物であれば特に限定されない。含M1化合物としては、例えば、有機リチウム、ハロゲン化リチウム、金属リチウム、有機マグネシウム、ハロゲン化リチウム、金属マグネシウム、有機亜鉛、ハロゲン化亜鉛及び金属亜鉛が挙げられる。これらの中では、本発明の効果をより有効かつ確実に奏する観点から、有機リチウム、金属リチウム、有機マグネシウム又は金属マグネシウムが好ましい。含M1化合物は市販品として入手してもよく、常法により合成されてもよい。本実施形態の製造方法は、含M1化合物の1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Containing M 1 compound, Compound (2) and by mixing the containing M 1 compound reaction, in a first step to obtain the compound (3), the X 2 is an anionic leaving group desorbed, If it is a compound which can obtain a compound (3), it will not specifically limit. Examples of the M 1 -containing compound include organic lithium, lithium halide, metallic lithium, organic magnesium, lithium halide, metallic magnesium, organic zinc, zinc halide and metallic zinc. Among these, organic lithium, metallic lithium, organic magnesium or metallic magnesium is preferable from the viewpoint of more effectively and reliably achieving the effects of the present invention. The M 1 -containing compound may be obtained as a commercial product or synthesized by a conventional method. In the production method of the present embodiment, one of the M 1 -containing compounds can be used alone or in combination of two or more.

有機リチウムとしては、好ましくは、炭素数が1〜10のアルキルリチウム、又はフェニルリチウムであり、入手性の観点より、より好ましくは、ヘキシルリチウム、n−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、メチルリチウム、エチルリチウム、又はフェニルリチウムである。   The organic lithium is preferably alkyllithium having 1 to 10 carbon atoms or phenyllithium, and more preferably hexyllithium, n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyl from the viewpoint of availability. Lithium, methyllithium, ethyllithium, or phenyllithium.

有機マグネシウムとしては、好ましくは、炭素数が1〜10のアルキルマグネシウム、炭素数が1〜10のハロゲン化アルキルマグネシウム、ハロゲン化ビニルマグネシウム、ハロゲン化アリルマグネシウム、又はハロゲン化フェニルマグネシウムであり、入手性の観点より、より好ましくは、塩化メチルマグネシウム、臭化メチルマグネシウム、ヨウ化メチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウム、塩化プロピルマグネシウム、イソプロピルマグネシウム、塩化ブチルマグネシウム、塩化ビニルマグネシウム、臭化アリルマグネシウム、塩化アリルマグネシウム、臭化フェニルマグネシウム、又は塩化フェニルマグネシウムである。   The organic magnesium is preferably an alkyl magnesium having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl magnesium halide having 1 to 10 carbon atoms, a vinyl magnesium halide, an allyl magnesium halide, or a phenyl magnesium halide. More preferably, methyl magnesium chloride, methyl magnesium bromide, methyl magnesium iodide, ethyl magnesium bromide, propyl magnesium chloride, isopropyl magnesium, butyl magnesium chloride, vinyl magnesium chloride, allyl magnesium bromide, allyl magnesium chloride , Phenylmagnesium bromide, or phenylmagnesium chloride.

有機亜鉛としては、好ましくは、炭素数が1〜10のアルキル亜鉛、炭素数が1〜10のハロゲン化アルキル亜鉛、又はハロゲン化フェニル亜鉛であり、入手性の観点より、より好ましくは、臭化プロピル亜鉛、臭化ブチル亜鉛、臭化シクロヘキシル亜鉛、臭化3−エトキシ−3−オキソプロピル亜鉛、臭化フェニル亜鉛、臭化2−ピリジル亜鉛、又は臭化2−チエニル亜鉛である。   The organic zinc is preferably alkyl zinc having 1 to 10 carbon atoms, halogenated alkyl zinc having 1 to 10 carbon atoms, or phenyl zinc halide, and more preferably bromide from the viewpoint of availability. Propyl zinc, butyl zinc bromide, cyclohexyl zinc bromide, 3-ethoxy-3-oxopropyl zinc bromide, phenyl zinc bromide, 2-pyridyl zinc bromide, or 2-thienyl zinc bromide.

反応系内における化合物(2)と含M1化合物との配合比は、100mol%の化合物(2)に対して、含M1化合物の量が好ましくは50〜200mol%、より好ましくは90〜150mol%、更に好ましくは100〜120mol%となる配合比である。 Compounding ratio of the compound in the reaction system and (2) and containing M 1 compound, 100 mol% of the compound (2), the amount of containing M 1 compound is preferably 50~200Mol%, more preferably 90~150mol %, And more preferably 100 to 120 mol%.

(2)第2の工程
本実施形態においては、第1の工程で得られた化合物(3)と含Z化合物とを混合して反応させることにより、化合物(1)を得る。
(2) Second Step In this embodiment, the compound (1) is obtained by mixing and reacting the compound (3) obtained in the first step and the Z-containing compound.

Zはホウ素原子を有する1価の基を示し、ホウ素原子はベンゼン環(フェニレン基)に直接結合している。Zは、好ましくは下記一般式(9)で表される官能基である。

Figure 2014024778
Z represents a monovalent group having a boron atom, and the boron atom is directly bonded to the benzene ring (phenylene group). Z is preferably a functional group represented by the following general formula (9).
Figure 2014024778

ここで、式(9)中、Q1及びQ2は互いに同じでも異なっていてもよい1価の基であり、その基としては、例えば、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、アルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基、ハロゲン原子及び−Ph−R2で表される基が挙げられる。ここで、Ph及びR2は、上記式(1)におけるものと同義である。上記アルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、好ましくは1〜10である。Zは、より好ましくはアルコキシ基であり、アルコキシ基の炭素数は好ましくは1〜6である。Q1又はQ2が−Ph−R2で表される基である場合、複数のR2は互いに同じであっても異なっていてもよい。 Here, in formula (9), Q 1 and Q 2 are monovalent groups which may be the same or different from each other. Examples of the group include a hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom. which may be a phenyl group, a phenyl group optionally substituted with an alkoxy group, an alkyl phenyl group which may be substituted with a group include groups represented by halogen atoms and -Ph-R 2. Here, Ph and R 2 are synonymous with those in the above formula (1). Preferably the carbon number of the said alkyl group and alkoxy group is 1-10. Z is more preferably an alkoxy group, and the alkoxy group preferably has 1 to 6 carbon atoms. When Q 1 or Q 2 is a group represented by —Ph—R 2 , the plurality of R 2 may be the same as or different from each other.

また、Q1及びQ2は、互いに結合してホウ素原子と共に環を形成してもよい。Q1及びQ2が互いに結合した基としては、例えば、アルキル基で置換されていてもよいアルキレンジオキシ基、及びアルキル基で置換されていてもよいアルキレン基が好ましい。アルキル基で置換されていてもよいアルキレンジオキシ基(−O−R−O−;Rはアルキレン基)の主鎖の炭素数は好ましくは2〜6であり、より好ましくは2〜3であり、特に好ましくは2である。また、アルキル基で置換されていてもよいアルキレン基の主鎖の炭素数は好ましくは2〜11であり、より好ましくは4〜7である。さらに、置換するアルキル基の炭素数は好ましくは1〜8であり、より好ましくは1〜3であり、特に好ましくは1である。また、主鎖の1つの炭素原子に対して置換したアルキル基の数は単数であっても複数であってもよい。 Q 1 and Q 2 may be bonded to each other to form a ring together with the boron atom. The group in which Q 1 and Q 2 are bonded to each other is preferably, for example, an alkylenedioxy group which may be substituted with an alkyl group, or an alkylene group which may be substituted with an alkyl group. The number of carbon atoms in the main chain of the alkylenedioxy group (—O—R—O—; R is an alkylene group) optionally substituted with an alkyl group is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 3. Particularly preferably 2. Moreover, carbon number of the main chain of the alkylene group which may be substituted by the alkyl group becomes like this. Preferably it is 2-11, More preferably, it is 4-7. Furthermore, carbon number of the alkyl group to substitute becomes like this. Preferably it is 1-8, More preferably, it is 1-3, Especially preferably, it is 1. The number of alkyl groups substituted for one carbon atom of the main chain may be singular or plural.

1及びQ2が互いに結合した基としては、例えば下記式(9A)〜(9D)で表される基が挙げられる。 Examples of the group in which Q 1 and Q 2 are bonded to each other include groups represented by the following formulas (9A) to (9D).

Figure 2014024778
Figure 2014024778

あるいは、上記一般式(9)で表される官能基としては、ボロン酸類縁体由来の1価の基が好ましく、下記一般式(6)で表される1価の基がより好ましい。本明細書において、ボロン酸類縁体とは、ボロン酸、ボロン酸の1つ以上の水素原子が置換した化合物、環を形成していてもよいボロン酸エステル、及び下記一般式(6A)で表されるボロキサン環を含む化合物を包含する。   Alternatively, the functional group represented by the general formula (9) is preferably a monovalent group derived from a boronic acid analog, and more preferably a monovalent group represented by the following general formula (6). In this specification, a boronic acid analog is represented by boronic acid, a compound in which one or more hydrogen atoms of boronic acid are substituted, a boronic acid ester which may form a ring, and the following general formula (6A). And a compound containing a boroxan ring.

Figure 2014024778
ここで、式(6)及び(6A)中、R3、R4及びR5は、それぞれ独立に、1価の有機基を示し、好ましくは、水素原子、水酸基、アルコキシ基及び−Ph−R2(Phはフェニレン基であり、R2は上記式(1)におけるものと同義である。)で表される基である。式(6)において、R3及びR4の両方が−Ph−R2で表される基であるか、R3及びR4のいずれか一方が−Ph−R2で表される基であり、他方が水酸基もしくはアルコキシ基であるとより好ましく、R3及びR4の両方が−Ph−R2で表される基であると更に好ましい。R3及びR4の両方が−Ph−R2で表される基である場合、上記式(6)で表される化合物における3つのR2が全て同じ基であると特に好ましい。また、式(6A)において、R3、R4及びR5が、それぞれ独立に、水酸基、アルコキシ基又は−Ph−R2で表される基であると好ましく、いずれか1つが水酸基又はアルコキシ基であって、他の2つが−Ph−R2で表される基であるか、いずれも−Ph−R2で表される基であるとより好ましく、いずれも−Ph−R2で表される基であると更に好ましい。この場合も、R2が全て同じ基であると特に好ましい。
Figure 2014024778
Here, in the formulas (6) and (6A), R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group and —Ph—R. 2 (Ph is a phenylene group, and R 2 has the same meaning as in the above formula (1)). In Formula (6), both R 3 and R 4 are groups represented by —Ph—R 2 , or one of R 3 and R 4 is a group represented by —Ph—R 2 . The other is more preferably a hydroxyl group or an alkoxy group, and more preferably both R 3 and R 4 are groups represented by —Ph—R 2 . When both R 3 and R 4 are groups represented by —Ph—R 2 , it is particularly preferred that all three R 2 in the compound represented by the formula (6) are the same group. In Formula (6A), R 3 , R 4 and R 5 are each independently preferably a hydroxyl group, an alkoxy group or a group represented by —Ph—R 2 , and any one of them is a hydroxyl group or an alkoxy group. a is, other two or a group represented by -Ph-R 2, either more preferably a group represented by -Ph-R 2, both represented by -Ph-R 2 More preferably, it is a group. Also in this case, it is particularly preferred that all R 2 are the same group.

含Z化合物は、化合物(3)と含Z化合物とを混合し反応させて、化合物(1)を得る第2の工程において、M1を脱離させて、化合物(1)を得ることができる化合物であれば特に限定されない。好ましくは、含Z化合物は、下記一般式(10)で表される化合物である。 The compound (1) can be obtained by eliminating M 1 in the second step of obtaining the compound (1) by mixing and reacting the compound (3) and the Z-containing compound. If it is a compound, it will not specifically limit. Preferably, the Z-containing compound is a compound represented by the following general formula (10).

Figure 2014024778
ここで、Q3、Q4及びQ5は、互いに同じであっても異なっていてもよい1価の基であり、それらの基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、アルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基、アルキル基で置換されていてもよいフェニル基、及びハロゲン原子が挙げられる。上記アルキル基及びアルコキシ基の炭素数は、好ましくは1〜10である。Q3、Q4及びQ5は、より好ましくはアルコキシ基であり、アルコキシ基の炭素数は1〜6である。入手性の観点から、含Z化合物はアルコキシボレートであると好ましく、トリアルコキシボレートであるとより好ましい。
Figure 2014024778
Here, Q 3 , Q 4 and Q 5 are monovalent groups which may be the same or different from each other. Examples of these groups include alkyl groups, alkoxy groups, and halogen atoms. A phenyl group which may be substituted, a phenyl group which may be substituted with an alkoxy group, a phenyl group which may be substituted with an alkyl group, and a halogen atom. Preferably the carbon number of the said alkyl group and alkoxy group is 1-10. Q 3 , Q 4 and Q 5 are more preferably an alkoxy group, and the alkoxy group has 1 to 6 carbon atoms. From the viewpoint of availability, the Z-containing compound is preferably an alkoxyborate, more preferably a trialkoxyborate.

また、Q3、Q4及びQ5は、互いに結合してホウ素原子と共に環を形成してもよい。互いに結合した基としては、例えば、アルキル基で置換されていてもよいアルキレンジオキシ基、アルキル基で置換されていてもよいアルキレン基が好ましい。アルキル基で置換されていてもよいアルキレンジオキシ基(−O−R−O−;Rはアルキレン基)の主鎖の炭素数は好ましくは2〜6であり、より好ましくは2〜3であり、特に好ましくは2である。また、アルキル基で置換されていてもよいアルキレン基の主鎖の炭素数は好ましくは2〜11であり、より好ましくは4〜7である。さらに、置換するアルキル基の炭素数は好ましくは1〜8であり、より好ましくは1〜3であり、特に好ましくは1である。また、主鎖の1つの炭素原子に対して置換したアルキル基の数は単数であっても複数であってもよい。 Q 3 , Q 4 and Q 5 may be bonded to each other to form a ring together with the boron atom. The group bonded to each other is preferably, for example, an alkylenedioxy group which may be substituted with an alkyl group or an alkylene group which may be substituted with an alkyl group. The number of carbon atoms in the main chain of the alkylenedioxy group (—O—R—O—; R is an alkylene group) optionally substituted with an alkyl group is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 3. Particularly preferably 2. Moreover, carbon number of the main chain of the alkylene group which may be substituted by the alkyl group becomes like this. Preferably it is 2-11, More preferably, it is 4-7. Furthermore, carbon number of the alkyl group to substitute becomes like this. Preferably it is 1-8, More preferably, it is 1-3, Especially preferably, it is 1. The number of alkyl groups substituted for one carbon atom of the main chain may be singular or plural.

第1の工程及び/又は第2の工程において、反応系中に存在するヘテロ原子を有する第1の添加剤におけるヘテロ原子は、本発明の効果をより有効かつ確実に奏する観点から、好ましくは窒素原子、リン原子及び酸素原子からなる群より選ばれる1種以上の原子である。本実施形態の製造方法において用いられる第1の添加剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。第1の添加剤は、1分子の中に複数の異なる又は同一のヘテロ原子を有していてもよい。   In the first step and / or the second step, the hetero atom in the first additive having a hetero atom present in the reaction system is preferably nitrogen from the viewpoint of more effectively and reliably achieving the effects of the present invention. One or more atoms selected from the group consisting of an atom, a phosphorus atom and an oxygen atom. The 1st additive used in the manufacturing method of this embodiment is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The first additive may have a plurality of different or the same heteroatoms in one molecule.

第1の添加剤としては、例えば、エーテル化合物、有機窒素化合物、アンモニウム塩、有機リン化合物及びホスホニウム塩が挙げられる。第1の添加剤として、より好ましくは、酸素原子と水素原子とが直接結合していない構造のエーテル化合物、窒素原子と水素原子とが直接結合していない構造の有機窒素化合物、アンモニウム塩、アミン化合物、ウレア化合物、アミド化合物、イミド化合物、リン原子と水素原子とが直接結合していない構造の有機リン化合物、及び、リン原子と水素原子とが直接結合していない構造のホスホニウム塩である。   Examples of the first additive include ether compounds, organic nitrogen compounds, ammonium salts, organic phosphorus compounds, and phosphonium salts. More preferably, the first additive is an ether compound having a structure in which an oxygen atom and a hydrogen atom are not directly bonded, an organic nitrogen compound having a structure in which a nitrogen atom and a hydrogen atom are not directly bonded, an ammonium salt, and an amine. Compounds, urea compounds, amide compounds, imide compounds, organic phosphorus compounds having a structure in which phosphorus atoms and hydrogen atoms are not directly bonded, and phosphonium salts having a structure in which phosphorus atoms and hydrogen atoms are not directly bonded.

ヘテロ原子として窒素原子を有する第1の添加剤としては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン及びトリブチルアミンなどのアルキル基を有する窒素化合物、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、及び置換されたイミダゾリジンなどの窒素原子を複数有するアルキル基を有する窒素化合物、ピリジン、2,2’−ビピリジル、置換された2,2’−ビピリジル、1,10−フェナントロリン、フェニルピリジン−2−イルメチルエナミン、テルピリジル、N,N−ジメチルアニリン、キノリンなどの含窒素複素環化合物、N−メチルピロリドン、及び1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノンが挙げられる。   Examples of the first additive having a nitrogen atom as a hetero atom include nitrogen compounds having an alkyl group such as trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, and tributylamine, triethylamine, tetramethylethylenediamine, and substituted imidazolidine. Nitrogen compounds having an alkyl group having a plurality of nitrogen atoms, pyridine, 2,2′-bipyridyl, substituted 2,2′-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, phenylpyridin-2-ylmethylenamine, terpyridyl, N, Examples thereof include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as N-dimethylaniline and quinoline, N-methylpyrrolidone, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone.

アンモニウム塩としては、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージドなどのテトラブチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラプロピルアンモニウム塩、テトラヘキシルアンモニウム塩、テトラオクチルアンモニウム塩、テトラデシルアンモニウム塩、ヘキサデシルトリエチルアンモニウム塩、ドデシルトリメチルアンモニウム塩、トリオクチルメチルアンモニウム塩、オクチルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウム塩、フェニルトリメチルアンモニウム塩及びSTARKS’ catalystが挙げられる。   Examples of the ammonium salt include tetrabutylammonium salts such as tetrabutylammonium bromide and tetrabutylammonium iodide, tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, tetrapropylammonium salt, tetrahexylammonium salt, tetraoctylammonium salt, tetradecyl Ammonium salt, hexadecyltriethylammonium salt, dodecyltrimethylammonium salt, trioctylmethylammonium salt, octyltriethylammonium salt, benzyltrimethylammonium salt, benzyltriethylammonium salt, benzyltributylammonium salt, benzyldimethyloctadecylammonium salt, phenyltrimethylammonium salt And STARKS 'catalyst It is.

含窒素複素環化合物は、複素環中にヘテロ原子として窒素原子を1つ以上、通常1〜4つ有するものである。また、含窒素複素環化合物は、単環化合物であっても複環化合物であってもよく、複素環及び同素環である5〜7員環が、通常1〜4つ結合して構成されるものである。複素環としては、例えば、単環である、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環及びトリアゾール環等の5員環、ピリジン環、ピリミジン環及びトリアジン環等の6員環が挙げられる。また、複環としては、例えば、インドール環、ベンズイミダゾール環、ベンズトリアゾール環、キノリン環、ビピリジル環及びフェナントロリン環が挙げられる。また、これらの複素環には、ベンゼン環、ナフタレン環等の芳香族性を有する炭素のみから構成される同素環が縮合されていてもよい。含窒素複素環化合物の中では、特に、芳香族性を有するものが好ましく、そのような化合物としては、例えば、ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、インドール環、キノリン環、ビピリジル環、又はフェナントロリン環を含む含窒素複素環化合物が挙げられる。また、含窒素複素環は、アルキル基、水酸基及びシアノ基などの置換基を有していてもよい。   The nitrogen-containing heterocyclic compound has one or more, usually 1 to 4, nitrogen atoms as heteroatoms in the heterocyclic ring. Further, the nitrogen-containing heterocyclic compound may be a monocyclic compound or a bicyclic compound, and is usually composed of 1 to 4 5- to 7-membered rings that are a heterocyclic ring and a homocyclic ring. Is. Examples of the heterocyclic ring include monocyclic 5-membered rings such as pyrrole ring, imidazole ring, pyrazole ring and triazole ring, and 6-membered rings such as pyridine ring, pyrimidine ring and triazine ring. Examples of the bicyclic ring include an indole ring, a benzimidazole ring, a benztriazole ring, a quinoline ring, a bipyridyl ring, and a phenanthroline ring. These heterocycles may be condensed with an allocyclic ring composed only of aromatic carbon such as a benzene ring and a naphthalene ring. Among nitrogen-containing heterocyclic compounds, those having aromaticity are particularly preferred, and examples of such compounds include pyridine ring, pyrrole ring, imidazole ring, triazole ring, indole ring, quinoline ring, bipyridyl ring, Or the nitrogen-containing heterocyclic compound containing a phenanthroline ring is mentioned. Further, the nitrogen-containing heterocycle may have a substituent such as an alkyl group, a hydroxyl group and a cyano group.

含窒素複素環化合物のうち、単環化合物としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン等のピリジン誘導体、ピロール、及びピラゾール等のピロール誘導体、イミダゾール及び1−メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、1H−1,2,3−トリアゾール、2H−1,2,3−トリアゾール、2H−1,2,4−トリアゾール、及び4H−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体が挙げられる。また、複環化合物としては、例えば、インドール、イソインドール、1H−インダゾール、2H−インダゾール、及びプリン等のインドール誘導体、ベンゾイミダゾール、及び1−メチルベンゾイミダゾール等のベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾトリアゾール、及び1−メチルベンゾトリアゾール等のベンズトリアゾール誘導体、キノリン、イソキノリン、フタラジン、シンノリン、キナゾリン、キノキサリン、1,8−ナフチリジン、及びプテリジン等のキノリン誘導体、2,2’−ジピリジル、2,3’−ジピリジル、2,4’−ジピリジル、及び3,3’−ジピリジル等のビピリジル誘導体、アクリジン、フェナジン、及び1,10−フェナントロリン等のフェナントロリン誘導体等が挙げられる。   Among the nitrogen-containing heterocyclic compounds, examples of monocyclic compounds include pyridine derivatives such as pyridine, pyrimidine, pyridazine and pyrazine, pyrrole derivatives such as pyrrole and pyrazole, imidazole derivatives such as imidazole and 1-methylimidazole, and 1H- And triazole derivatives such as 1,2,3-triazole, 2H-1,2,3-triazole, 2H-1,2,4-triazole, and 4H-1,2,4-triazole. In addition, examples of the multicyclic compound include indole derivatives such as indole, isoindole, 1H-indazole, 2H-indazole, and purine, benzimidazole derivatives such as benzimidazole and 1-methylbenzimidazole, benzotriazole, and 1 -Benztriazole derivatives such as methylbenzotriazole, quinoline derivatives such as quinoline, isoquinoline, phthalazine, cinnoline, quinazoline, quinoxaline, 1,8-naphthyridine, and pteridine, 2,2'-dipyridyl, 2,3'-dipyridyl, 2 , 4′-dipyridyl and 3,3′-dipyridyl and the like, and acridine, phenazine and phenanthroline derivatives such as 1,10-phenanthroline and the like.

ヘテロ原子としてリン原子を有する第1の添加剤としては、例えば、トリフェニルホスフィン(PPh3)、メチルジフェニルホスフィン(Ph2PCH3)、トリフリルホスフィン(P(2−furyl)3)、トリ(o−トリル)ホスフィン(P(o−tol)3)、トリ(シクロヘキシル)ホスフィン(PCy3)、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン(PhPCy2)、トリ(t−ブチル)ホスフィン(PtBu3)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)、2,2’−ビス[(ジフェニルホスフィノ)ジフェニル]エーテル(DPEphos)、ジフェニルホスフィノフェロセン(DPPF)、1,1’−ビス(ジ−t−ブチルホスフィノ)フェロセン(DtBPF)、N,N−ジメチル−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルアミン、1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルメチルエーテル、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’−ジメチルアミノ−1,1’−ビフェニル、スピロ型ホスホニウム塩、及びイミダゾル−2−イリデンカルベン類が挙げられる。 Examples of the first additive having a phosphorus atom as a hetero atom include triphenylphosphine (PPh 3 ), methyldiphenylphosphine (Ph 2 PCH 3 ), trifurylphosphine (P (2-furyl) 3 ), tri ( o-tolyl) phosphine (P (o-tol) 3 ), tri (cyclohexyl) phosphine (PCy 3 ), dicyclohexylphenylphosphine (PhPCy 2 ), tri (t-butyl) phosphine (PtBu 3 ), 2,2′- Bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl (BINAP), 2,2′-bis [(diphenylphosphino) diphenyl] ether (DPEphos), diphenylphosphinoferrocene (DPPF), 1,1′-bis (Di-t-butylphosphino) ferrocene (DtBPF), N, N-dimethyl- 1- [2- (diphenylphosphino) ferrocenyl] ethylamine, 1- [2- (diphenylphosphino) ferrocenyl] ethyl methyl ether, 2-dicyclohexylphosphino-2′-dimethylamino-1,1′-biphenyl, spiro Type phosphonium salts and imidazol-2-ylidenecarbenes.

ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウムブロミド及びテトラブチルホスホニウムヨージドなどのテトラブチルホスホニウム塩、テトラメチルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラプロピルホスホニウム塩、テトラヘキシルホスホニウム塩、テトラデシルホスホニウム塩、テトラオクチルホスホニウム塩、トリエチルオクタデシルホスホニウム塩、トリオクチルエチルホスホニウム塩、ヘキサデシルトリエチルホスホニウム塩、テトラフェニルホスホニウム塩、及びメチルトリフェニルホスホニウム塩が挙げられる。   Examples of the phosphonium salt include tetrabutylphosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide and tetrabutylphosphonium iodide, tetramethylphosphonium salt, tetraethylphosphonium salt, tetrapropylphosphonium salt, tetrahexylphosphonium salt, tetradecylphosphonium salt, tetraoctyl. Examples include phosphonium salts, triethyloctadecylphosphonium salts, trioctylethylphosphonium salts, hexadecyltriethylphosphonium salts, tetraphenylphosphonium salts, and methyltriphenylphosphonium salts.

ヘテロ原子として酸素原子を有する第1の添加剤としては、例えば、エーテル化合物が挙げられる。エーテル化合物としては、例えば、ジエチルエーテル、ジグライム、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジエトキシメタン、ジイソプロピルエーテル、アニソール、メチルt−ブチルエーテル、クラウンエーテル、クリブタンド、及び鎖状ポリエチレングリコール誘導体が挙げられる。クラウンエーテルとしては、例えば、18−クラウン−6、ジベンゾ−18−クラウン−6及びジシクロヘキシル−18−クラウン−6が挙げられ、クリプタンドとしては、例えば、[2.2.2]クリプタンドが挙げられ、鎖状ポリエチレングリコール誘導体としては、例えば、PEG−200、PEG−400及びPEG−6000が挙げられる。   Examples of the first additive having an oxygen atom as a hetero atom include an ether compound. Examples of the ether compound include diethyl ether, diglyme, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, diethoxymethane, diisopropyl ether, anisole, methyl t-butyl ether, crown ether, cribandand, and chain Examples include polyethylene glycol derivatives. Examples of the crown ether include 18-crown-6, dibenzo-18-crown-6, and dicyclohexyl-18-crown-6. Examples of the cryptand include [2.2.2] cryptand. Examples of the chain polyethylene glycol derivative include PEG-200, PEG-400, and PEG-6000.

本実施形態において、第1の添加剤は、反応系中の溶媒100質量部に対して、好ましくは30質量部以下、より好ましくは10質量部以下、更に好ましくは5質量部以下用いられる。また、第1の添加剤は、100mol%の化合物(1)に対して、好ましくは20〜500mol%、より好ましくは20〜300mol%、更に好ましくは50〜200mol%の範囲で用いられる。第1の添加剤がヘテロ原子を1つの分子内に複数有する場合、第1の添加剤のmol基準の量が、上記好ましい範囲であってもよく、第1の添加剤のmol基準の量を、1つの分子内のヘテロ原子の数で除した値が上記好ましい範囲であってもよい。   In the present embodiment, the first additive is preferably used in an amount of 30 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, and still more preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the solvent in the reaction system. The first additive is preferably used in the range of 20 to 500 mol%, more preferably 20 to 300 mol%, and still more preferably 50 to 200 mol% with respect to 100 mol% of the compound (1). When the first additive has a plurality of heteroatoms in one molecule, the amount of the first additive based on mol may be within the above preferable range, and the amount of the first additive based on mol The value divided by the number of heteroatoms in one molecule may be within the above preferred range.

第1の工程及び/又は第2の工程において、反応系中に存在する溶媒は、有機溶媒であると好ましく、非水溶性有機溶媒であっても水溶性有機溶媒であってもよく、非プロトン性有機溶媒であってもよい。非水溶性有機溶媒は水と分離しやすいため、水溶性の副生物及び不純物の洗浄を容易にできる点で有効である。また、反応に用いた非水溶性有機溶媒を蒸留等で再利用する際にも水の混入が少ないため、簡易に精製できる点でも有効である。一方、水溶性有機溶媒は水と混和しやすいため、精製工程において、目的物を析出させたり、その析出を促進させたりすることができる。また、水溶性有機溶媒を用いることにより、水及び水溶液の添加により金属及び副生する塩を溶解し除去することも可能となる。   In the first step and / or the second step, the solvent present in the reaction system is preferably an organic solvent, and may be a water-insoluble organic solvent or a water-soluble organic solvent. An organic solvent may be used. A water-insoluble organic solvent is effective in that it can be easily separated from water and can easily wash water-soluble by-products and impurities. Further, even when the water-insoluble organic solvent used in the reaction is reused by distillation or the like, it is also effective in that it can be easily purified because it contains little water. On the other hand, since the water-soluble organic solvent is easily miscible with water, the target product can be precipitated or promoted in the purification step. Further, by using a water-soluble organic solvent, it becomes possible to dissolve and remove the metal and by-product salt by adding water and an aqueous solution.

有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン及びクロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロオクタン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロヘキサン及びパーフルオロベンゼンなどのパーフルオロ基を有する溶媒等の含フッ素溶媒、ジエチルエーテル、ジグライム、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジエトキシメタン、ジイソプロピルエーテル、アニソール及びメチルt−ブチルエーテル等のエーテル溶媒、ヘキサン及びシクロヘキサン等のアルカン溶媒、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン等の第三級アミン溶媒が挙げられる。有機溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。なお、本実施形態において、溶媒は、第1の添加剤として用いられるものを除く。   Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, and perfluoro-2-butyl. Fluorine-containing solvents such as solvents having a perfluoro group such as tetrahydrofuran, perfluorooctane, perfluorotributylamine, perfluorohexane and perfluorobenzene, diethyl ether, diglyme, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, 2- Ether solvents such as methyltetrahydrofuran, diethoxymethane, diisopropyl ether, anisole and methyl t-butyl ether, alkane solvents such as hexane and cyclohexane, triethylamine, N, N Diisopropylethylamine, pyridine, N, include tertiary amine solvent such as N- dimethyl-4-aminopyridine. An organic solvent is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. In this embodiment, the solvent excludes those used as the first additive.

非水溶性有機溶媒は、上記各工程の反応温度において、又は、その後の精製工程において、より好ましくは、20℃における水への溶解度が20質量%以下である溶媒であり、精製時における水相と有機相との分離の観点から、更に好ましくは、20℃における水への溶解度が5質量%以下である溶媒である。   The water-insoluble organic solvent is preferably a solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 20% by mass or less at the reaction temperature in each of the above steps or in the subsequent purification step. From the viewpoint of separation from the organic phase, a solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 5% by mass or less is more preferable.

非水溶性有機溶媒として、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン及びクロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロオクタン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロヘキサン及びパーフルオロベンゼンなどのパーフルオロ基を有する溶媒等の含フッ素溶媒、ジエチルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、アニソール及びメチルt−ブチルエーテル等のエーテル溶媒、ヘキサン及びシクロヘキサン等のアルカン溶媒、トリエチルアミン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン等の第三級アミン溶媒等が挙げられる。非水溶性有機溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Examples of the water-insoluble organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, and perfluoro-2. Fluorine-containing solvents such as solvents having a perfluoro group such as butyltetrahydrofuran, perfluorooctane, perfluorotributylamine, perfluorohexane and perfluorobenzene, diethyl ether, 2-methyltetrahydrofuran, diisopropyl ether, anisole and methyl t- Examples include ether solvents such as butyl ether, alkane solvents such as hexane and cyclohexane, tertiary amine solvents such as triethylamine and N, N-dimethyl-4-aminopyridine, and the like. A water-insoluble organic solvent is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

水溶性有機溶媒は、上記各工程の反応温度において、又は、精製工程において、好ましくは20℃における水への溶解度が20質量%超である溶媒であり、精製時における溶解性の観点から、更に好ましくは20℃における水への溶解度が50質量%以上である溶媒であり、更に好ましくは20℃において水と任意に混和する溶媒である。   The water-soluble organic solvent is a solvent having a solubility in water of more than 20% by mass at 20 ° C. in the reaction temperature of each of the above steps or in the purification step, and further from the viewpoint of solubility during purification. A solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 50% by mass or more is preferable, and a solvent arbitrarily mixed with water at 20 ° C. is more preferable.

水溶性有機溶媒としては、例えば、ジグライム、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、及びジエトキシメタン等のエーテル溶媒、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等の第三級アミン溶媒等が挙げられる。水溶性有機溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Examples of the water-soluble organic solvent include ether solvents such as diglyme, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, and diethoxymethane, and tertiary amine solvents such as N, N-diisopropylethylamine and pyridine. . A water-soluble organic solvent is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

非プロトン性有機溶媒は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子に結合した酸性度の高い水素原子を有しない溶媒である。非プロトン性有機溶媒は、水溶性であっても非水溶性であってもよい。酸性度の高い水素原子を有しないことにより、副反応の生成を抑制することが可能となる。   An aprotic organic solvent is a solvent that does not have a highly acidic hydrogen atom bonded to an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom. The aprotic organic solvent may be water-soluble or water-insoluble. By not having hydrogen atoms with high acidity, it is possible to suppress the generation of side reactions.

非プロトン性有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン及びクロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロオクタン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロヘキサン及びパーフルオロベンゼンなどのパーフルオロ基を有する溶媒等の含フッ素溶媒、ジエチルエーテル、ジグライム、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジエトキシメタン、ジイソプロピルエーテル、アニソール及びメチルt−ブチルエーテル等のエーテル溶媒、ヘキサン及びシクロヘキサン等のアルカン溶媒、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン等の第三級アミン溶媒、及びジメチルスルホキシドが挙げられる。非プロトン性有機溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Examples of the aprotic organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, and perfluoro- Fluorinated solvents such as solvents having perfluoro groups such as 2-butyltetrahydrofuran, perfluorooctane, perfluorotributylamine, perfluorohexane and perfluorobenzene, diethyl ether, diglyme, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran Ether solvents such as 2-methyltetrahydrofuran, diethoxymethane, diisopropyl ether, anisole and methyl t-butyl ether, alkane solvents such as hexane and cyclohexane, triethyl alcohol Emissions, N, N- diisopropylethylamine, pyridine, N, a tertiary amine solvent such as N- dimethyl-4-aminopyridine, and dimethyl sulfoxide and the like. The aprotic organic solvent may be used alone or in combination of two or more.

溶媒は、非プロトン性非求核性溶媒であると好ましい。非プロトン性非求核性溶媒であることにより、室温以上又は高温においても、更に副反応を抑制することができる。非プロトン性非求核性溶媒として、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン及びクロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、パーフルオロオクタン、パーフルオロヘキサン及びパーフルオロベンゼンなどのパーフルオロ基を有する溶媒等の含フッ素溶媒、ヘキサン及びシクロヘキサン等のアルカン溶媒が挙げられる。入手性の観点より、より好ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンであり、更に好ましくは、トルエン、キシレン、クロロベンゼン及び塩化メチレンである。   The solvent is preferably an aprotic non-nucleophilic solvent. By using an aprotic non-nucleophilic solvent, side reactions can be further suppressed even at room temperature or higher or at a high temperature. Examples of the aprotic non-nucleophilic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, Examples thereof include fluorine-containing solvents such as solvents having a perfluoro group such as fluorooctane, perfluorohexane and perfluorobenzene, and alkane solvents such as hexane and cyclohexane. From the viewpoint of availability, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichloromethane, chloroform, hexane, heptane, and cyclohexane are more preferable, and toluene, xylene, chlorobenzene, and methylene chloride are more preferable.

第1の工程及び第2の工程に用いる溶媒は、互いに同一であっても異なっていてもよい。また、第1の工程の反応後の溶液に、その溶液に含まれる溶媒とは同一の又は異なる溶媒を追加して、第2の工程に移ってもよい。   The solvents used in the first step and the second step may be the same as or different from each other. Moreover, the same or different solvent as the solvent contained in the solution may be added to the solution after the reaction in the first step, and the process may move to the second step.

本実施形態の第1の工程及び第2の工程における、各原料、生成物及び副生成物は、液体である溶媒を除いて、固体及び液体のいずれの状態で存在していてもよい。反応系は、一相であってもよく、二相以上に分離していてもよく、例えば、液体と固体とに分離していてもよい。二相以上に分離している場合、少なくとも1つの相に液体が含まれ、液体と固体とが分離していれば、固体を溶解させるための溶媒等を用いる必要がないので、生産性が向上する。また、原料が液体であったり、溶媒等を用いたりして、全ての相が液体である場合、反応進行の制御が容易になる。   Each raw material, product, and by-product in the first step and the second step of the present embodiment may exist in any state of a solid and a liquid except for a solvent that is a liquid. The reaction system may be a single phase or may be separated into two or more phases. For example, the reaction system may be separated into a liquid and a solid. When separated into two or more phases, at least one phase contains a liquid, and if the liquid and the solid are separated, there is no need to use a solvent or the like for dissolving the solid, thus improving productivity. To do. In addition, when the raw material is liquid or a solvent is used, and all phases are liquid, the control of the reaction progress is facilitated.

第1の工程及び第2の工程の少なくとも一方における反応温度は、温度コントロールの容易さの観点から、−20℃以上であると好ましく、30℃以上であるとより好ましい。   The reaction temperature in at least one of the first step and the second step is preferably −20 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher, from the viewpoint of ease of temperature control.

第1の工程における反応温度は、副反応の低減、温度コントロールの容易さ、溶媒の沸点と原料の溶解性との観点から、好ましくは−80℃〜200℃、より好ましくは−20〜150℃、更に好ましくは20〜100℃、特に好ましくは30℃〜80℃である。   The reaction temperature in the first step is preferably −80 ° C. to 200 ° C., more preferably −20 to 150 ° C. from the viewpoints of reduction of side reaction, ease of temperature control, boiling point of solvent and solubility of raw materials. More preferably, it is 20-100 degreeC, Most preferably, it is 30-80 degreeC.

第2の工程における反応温度は、副反応の低減、温度コントロールの容易さ、溶媒の沸点と原料の溶解性との観点から、好ましくは−80℃〜200℃、より好ましくは−20〜150℃、更に好ましくは20〜100℃、特に好ましくは30℃〜80℃である。   The reaction temperature in the second step is preferably −80 ° C. to 200 ° C., more preferably −20 to 150 ° C., from the viewpoints of reduction of side reactions, ease of temperature control, boiling point of solvent and solubility of raw materials. More preferably, it is 20-100 degreeC, Most preferably, it is 30-80 degreeC.

第1の工程及び第2の工程において、反応系周囲の雰囲気は大気雰囲気であってもよいが、副生成物を低減させる観点から、好ましくは不活性ガスで置換した雰囲気である。コストの観点から、反応系周囲の雰囲気は、より好ましくは窒素ガスで置換した雰囲気である。反応は常圧下で進行することも可能であり、減圧又は高圧下で進行することも可能である。   In the first step and the second step, the atmosphere around the reaction system may be an air atmosphere, but from the viewpoint of reducing by-products, an atmosphere substituted with an inert gas is preferable. From the viewpoint of cost, the atmosphere around the reaction system is more preferably an atmosphere substituted with nitrogen gas. The reaction can proceed under normal pressure, and can proceed under reduced pressure or high pressure.

反応進行の程度は、薄層クロマトグラフィー、NMR、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー等の分析により確認できる。   The degree of progress of the reaction can be confirmed by analysis such as thin layer chromatography, NMR, gas chromatography, liquid chromatography and the like.

(3)第3の工程
本実施形態において、第2の工程を経て得られた化合物(1)と、下記一般式(5):
1−L−Ph−X1 (5)
で表される化合物(以下、単に「化合物(5)」という。)とを混合し反応させて、下記一般式(4):
1−L−Ph−Ph−R2 (4)
で表される多環式芳香族化合物を製造することができる。ここで、上記各式中、Phはフェニレン基を示し、式(4)中、R2は上記式(1)におけるものと同義である。
(3) Third Step In this embodiment, the compound (1) obtained through the second step and the following general formula (5):
R 1 -L-Ph-X 1 (5)
And a compound represented by the following formula (hereinafter simply referred to as “compound (5)”) and reacted to give the following general formula (4):
R 1 -L-Ph-Ph-R 2 (4)
The polycyclic aromatic compound represented by these can be manufactured. Here, in the above formulas, Ph represents a phenylene group, and in formula (4), R 2 has the same meaning as in formula (1).

1はアニオン性脱離基を示す。ここで、「アニオン性脱離基」とは、本実施形態の製造方法において、反応時に化合物から脱離するアニオン性の1価の基を意味する。アニオン性脱離基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子などのハロゲン原子、トリフラート基(CF3SO3−)、パーフルオロアルキルスルホナート基(Cp2p+1SO3−;pは1〜20の整数を示す。)が挙げられる。これらの中で、アニオン性脱離基は、多環式芳香族化合物の合成の容易さの観点から、好ましくはハロゲン原子であり、更に好ましくは臭素原子、ヨウ素原子又は塩素原子であり、特に好ましくは臭素原子である。 X 1 represents an anionic leaving group. Here, the “anionic leaving group” means an anionic monovalent group that is eliminated from the compound during the reaction in the production method of the present embodiment. Examples of the anionic leaving group include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, triflate group (CF 3 SO 3 —), perfluoroalkyl sulfonate group (C p F 2p + 1 SO). 3- ; p represents an integer of 1 to 20.). Among these, the anionic leaving group is preferably a halogen atom, more preferably a bromine atom, an iodine atom or a chlorine atom, particularly preferably from the viewpoint of ease of synthesis of the polycyclic aromatic compound. Is a bromine atom.

Phに結合するX1の位置は、後述のLにおける硫黄原子に対してオルト位、メタ位及びパラ位のいずれでもよいが、多環式芳香族化合物の合成の容易さの観点から、パラ位にあることが好ましい。 The position of X 1 bonded to Ph may be any of the ortho-position, meta-position and para-position with respect to the sulfur atom in L described later, but from the viewpoint of ease of synthesis of the polycyclic aromatic compound, It is preferable that it exists in.

Lはスルフィド基(−S−)、スルフィニル基(−S(=O)−)又はスルホニル基(−SO2−)を示し、多環式芳香族化合物のゲル化剤等としての有用性の観点から、好ましくはスルホニル基である。 L represents a sulfide group (—S—), a sulfinyl group (—S (═O) —) or a sulfonyl group (—SO 2 —), and a viewpoint of utility as a gelling agent for a polycyclic aromatic compound Therefore, a sulfonyl group is preferable.

1は、アルキル基、アルコキシ基又はアリール基を示し、それらの基は、1つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたものである。これらの中では、溶媒への溶解度の観点から、好ましくは、1つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたアルキル基であり、好ましくはハロゲンはフッ素であり、その基における炭素数は、好ましくは1〜28であり、より好ましくは3〜12であり、更に好ましくは6〜8である。多環式芳香族化合物のゲル化剤等としての有用性の観点から、好ましくは上記ハロゲン原子がフッ素原子であり、より好ましくはR1がパーフルオロアルキル鎖部位を含む基であり、更に好ましくはR1が下記一般式(7)で表される基であり、更に好ましくは、−L−R1で表される基が下記一般式(8)で表される基である。 R 1 represents an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group, in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom. Among these, from the viewpoint of solubility in a solvent, preferably, an alkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom, preferably halogen is fluorine, and the number of carbons in the group is preferably Is 1-28, More preferably, it is 3-12, More preferably, it is 6-8. From the viewpoint of utility as a gelling agent for a polycyclic aromatic compound, the halogen atom is preferably a fluorine atom, more preferably R 1 is a group containing a perfluoroalkyl chain moiety, and more preferably R 1 is a group represented by the following general formula (7), and more preferably a group represented by -LR 1 is a group represented by the following general formula (8).

Figure 2014024778
Figure 2014024778

1において、1つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていることにより、最終生成物である所望の多環式芳香族化合物が析出しやすく、有機相に溶解している含金属化合物、配位子及び原料などとの分離がより容易となり、精製工程を更に簡略化することができる。 In R 1 , one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom, so that a desired polycyclic aromatic compound as a final product is easily precipitated, and a metal-containing compound dissolved in an organic phase, Separation from ligands and raw materials becomes easier, and the purification process can be further simplified.

上記式(7)及び(8)において、nは0〜8の整数であり、好ましくは2〜4の整数であり、より好ましくは2である。また、mは1〜20の整数であり、好ましくは1〜8の整数であり、より好ましくは1〜6の整数であり、更に好ましくは1、2、4又は6であり、特に好ましくは4又は6である。mが上記範囲にある基を採用することにより、原料をより安価に入手することができる。   In said formula (7) and (8), n is an integer of 0-8, Preferably it is an integer of 2-4, More preferably, it is 2. Moreover, m is an integer of 1-20, Preferably it is an integer of 1-8, More preferably, it is an integer of 1-6, More preferably, it is 1, 2, 4 or 6, Especially preferably, it is 4 Or 6. By employing a group in which m is in the above range, the raw material can be obtained at a lower cost.

化合物(5)は市販品として入手してもよく、常法により合成されてもよい。本実施形態の製造方法は、化合物(5)の1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Compound (5) may be obtained as a commercial product, or may be synthesized by a conventional method. The manufacturing method of this embodiment can use 1 type of a compound (5) individually or in combination of 2 or more types.

反応系内における化合物(1)と化合物(5)との配合比は、100mol%の化合物(1)に対して、化合物(5)の量が好ましくは50〜200mol%、より好ましくは80〜120mol%、更に好ましくは90〜110mol%となる配合比である。   The compounding ratio of the compound (1) and the compound (5) in the reaction system is such that the amount of the compound (5) is preferably 50 to 200 mol%, more preferably 80 to 120 mol, relative to 100 mol% of the compound (1). %, More preferably 90 to 110 mol%.

第3の工程においては、化合物(1)と化合物(5)とを、パラジウム、ニッケル及び鉄からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物(以下、「含M2化合物」という。)の存在下に反応させることが好ましい。これらの中で、好ましい含M2化合物は、パラジウムを有する化合物(以下、「含パラジウム化合物」という。)である。含M2化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。 In the third step, compound (1) and compound (5) are compounds having at least one metal selected from the group consisting of palladium, nickel and iron (hereinafter referred to as “M 2 -containing compound”). It is preferable to make it react in presence of. Among these, a preferable M 2 -containing compound is a compound having palladium (hereinafter referred to as “palladium-containing compound”). Containing M 2 compounds are used alone or in combination of two or more thereof.

含パラジウム化合物は、パラジウムを有するものであれば特に限定されず、例えば、0価又は2価のパラジウム金属、及び錯体を含むパラジウム塩が挙げられる。また、含パラジウム化合物は、活性炭、炭素粒子、酸化アルミニウム、ヒドロキシアパタイト及び多孔質体などの担体に担持されていてもよい。好ましく用いられる含パラジウム化合物としては、例えば、担体としての炭素物質(例えば、活性炭及び炭素粒子)上にパラジウム(0を担持したもの、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、パラジウムケトナート、パラジウムアセチルアセトナート、ニトリルパラジウムハロゲン化物、パラジウムハロゲン化物、アリルパラジウムハロゲン化物、及びパラジウムビスカルボキシレートが挙げられる。これらの中で、酢酸パラジウム(II)及び塩化パラジウム(II)がより好ましく、酢酸パラジウム(II)が更に好ましく用いられる。含パラジウム化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   The palladium-containing compound is not particularly limited as long as it has palladium, and examples thereof include zero-valent or divalent palladium metal and a palladium salt containing a complex. The palladium-containing compound may be supported on a carrier such as activated carbon, carbon particles, aluminum oxide, hydroxyapatite, and a porous body. Palladium-containing compounds preferably used include, for example, palladium (supporting 0, palladium acetate (II), palladium chloride (II), bis (triphenyl) on a carbon substance (for example, activated carbon and carbon particles) as a carrier. Phosphine) palladium (II) chloride, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), palladium ketonate, palladium acetylacetonate, nitrile palladium halide, palladium halide, allyl palladium halide, and palladium biscarboxylate. Among these, palladium acetate (II) and palladium chloride (II) are more preferable, and palladium acetate (II) is more preferably used.Palladium-containing compounds may be used alone or in combination of two or more. Used by.

含パラジウム化合物は市販品を入手してもよく、常法により合成してもよい。合成する場合、例えば、パラジウム(II)アセテートは、パラジウム(II)クロライドと酢酸ナトリウムとの反応によって製造できる。   The palladium-containing compound may be a commercially available product or may be synthesized by a conventional method. For synthesis, for example, palladium (II) acetate can be produced by reaction of palladium (II) chloride with sodium acetate.

含ニッケル化合物は、ニッケルを有する化合物であれば特に限定されず、例えば、0価又は2価のニッケル金属、及び錯体を含むニッケル塩が挙げられる。また、含ニッケル化合物は、活性炭、炭素粒子、酸化アルミニウム、ヒドロキシアパタイト及び多孔質体などの担体に担持されていてもよい。ニッケルの塩としては、例えば、ニッケルと無機酸又は有機酸との塩が挙げられる。より具体的には、ニッケルの無機酸塩としては、例えば、塩化ニッケル(II)、臭化ニッケル(II)及びヨウ化ニッケル(II)等のニッケルハロゲン化物、硝酸ニッケル(II)、硫酸ニッケル(II)、硫酸アンモニウムニッケル(II)、並びに次亜リン酸ニッケル(II)が挙げられる。ニッケルの有機酸塩としては、例えば、酢酸ニッケル(II)、ギ酸ニッケル(II)、ステアリン酸ニッケル(II)、シクロヘキサンブチレートニッケル(II)、クエン酸ニッケル(II)、及びナフテン酸ニッケル(II)が挙げられる。2価ニッケルの錯体としては、例えば、塩化ヘキサアンミンニッケル(II)及びヨウ化ヘキサアンミンニッケル(II)等の2価ニッケルのアミン錯体、並びに、2価ニッケルのアセチルアセトン錯体であるニッケルアセチルアセトナートが挙げられる。2価ニッケルのπ錯体としては、例えば、ビス(η3−アリル)ニッケル(II)、ビス(η−シクロペンタジエニル)ニッケル(II)、及び塩化アリルニッケル二量体が挙げられる。0価ニッケルの錯体として、0価ニッケルの錯体をそのまま用いてもよく、ニッケル塩を還元剤の存在下で反応させ、系内で0価ニッケルを生成させて0価ニッケルの錯体を得てもよい。後者の場合、ニッケル塩としては、例えば、塩化ニッケル及び酢酸ニッケルが挙げられ、還元剤としては、例えば、亜鉛、水素化ナトリウム、ヒドラジン及びその誘導体、並びにリチウムアルミニウムハイドライドが挙げられる。さらに必要に応じて添加物として、よう化アンモニウム、よう化リチウム及びよう化カリウム等が用いられてもよい。0価ニッケルの錯体としては、例えば、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)、(エチレン)ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル及びニッケルカルボニル(0)が挙げられる。含ニッケル化合物はニッケル水酸化物であってもよく、ニッケル水酸化物としては、例えば、水酸化ニッケル(II)が挙げられる。また、含ニッケル化合物として、例えば、[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ジクロロニッケル(II)、[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ジクロロニッケル(II)及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケルも挙げられる。   The nickel-containing compound is not particularly limited as long as it is a compound having nickel, and examples thereof include a nickel salt containing a zero-valent or divalent nickel metal and a complex. The nickel-containing compound may be supported on a carrier such as activated carbon, carbon particles, aluminum oxide, hydroxyapatite, and a porous body. Examples of the nickel salt include a salt of nickel and an inorganic acid or an organic acid. More specifically, examples of the inorganic acid salt of nickel include nickel halides such as nickel chloride (II), nickel bromide (II) and nickel iodide (II), nickel nitrate (II), nickel sulfate ( II), nickel nickel sulfate (II), and nickel (II) hypophosphite. Examples of the organic acid salt of nickel include nickel acetate (II), nickel formate (II), nickel (II) stearate, cyclohexane butyrate nickel (II), nickel citrate (II), and nickel naphthenate (II ). Examples of the divalent nickel complex include amine complexes of divalent nickel such as hexaamminenickel chloride (II) and hexaamminenickel iodide (II), and nickel acetylacetonate which is an acetylacetone complex of divalent nickel. Can be mentioned. Examples of the divalent nickel π complex include bis (η3-allyl) nickel (II), bis (η-cyclopentadienyl) nickel (II), and allylnickel chloride dimer. As a zero-valent nickel complex, a zero-valent nickel complex may be used as it is, or a nickel salt may be reacted in the presence of a reducing agent to produce zero-valent nickel in the system to obtain a zero-valent nickel complex. Good. In the latter case, examples of the nickel salt include nickel chloride and nickel acetate, and examples of the reducing agent include zinc, sodium hydride, hydrazine and derivatives thereof, and lithium aluminum hydride. Furthermore, ammonium iodide, lithium iodide, potassium iodide, or the like may be used as an additive as necessary. Examples of the zero-valent nickel complex include bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0), (ethylene) bis (triphenylphosphine) nickel (0), tetrakis (triphenylphosphine) nickel, and nickelcarbonyl ( 0). The nickel-containing compound may be a nickel hydroxide, and examples of the nickel hydroxide include nickel hydroxide (II). Examples of the nickel-containing compound include [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] dichloronickel (II), [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] dichloronickel (II), and tetrakis (tri Phenylphosphine) nickel is also mentioned.

含鉄化合物は、鉄を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、鉄金属、及び錯体を含む鉄塩が挙げられる。また、含鉄化合物は、活性炭、炭素粒子、酸化アルミニウム、ヒドロキシアパタイト及び多孔質体などの担体に担持されていてもよい。用いられる含鉄化合物としては、例えば、塩化鉄などのハロゲン化鉄が挙げられる。   An iron-containing compound will not be specifically limited if it is a compound which has iron, For example, the iron salt containing an iron metal and a complex is mentioned. Further, the iron-containing compound may be supported on a carrier such as activated carbon, carbon particles, aluminum oxide, hydroxyapatite, and a porous body. Examples of the iron-containing compound used include iron halides such as iron chloride.

含M2化合物の存在量は、化合物(1)及び化合物(5)のうち、モル基準で少ない方の化合物の量(100mol%)に対して、0.0001〜1mol%であると好ましく、0.0001〜0.1mol%であるとより好ましく、0.001〜0.1mol%であると更に好ましい。含M2化合物の存在量が当該範囲にあることにより、目的とする多環式芳香族化合物をより高収率で得ることが可能になると共に、生成物に含まれる金属量を更に少なくでき、その後の精製が一層容易になる。 Abundance of containing M 2 compound, among the compounds (1) and the compound (5), relative to the amount of the compound of the lesser molar basis (100 mol%), preferably to be 0.0001~1mol%, 0 More preferably, it is 0.0001 to 0.1 mol%, and even more preferably 0.001 to 0.1 mol%. When the abundance of the M2 containing compound is within the above range, the target polycyclic aromatic compound can be obtained in a higher yield, and the amount of metal contained in the product can be further reduced. Purification becomes easier.

本実施形態の製造方法において、第3の工程において、化合物(1)と化合物(5)とを、第2の添加剤の存在下に反応させてもよい。第2の添加剤を用いることにより、反応を制御、促進することが更に容易になる。すなわち、第2の添加剤は、化合物(1)と化合物(5)との反応に対する反応制御剤又は反応促進剤として機能するものである。第2の添加剤は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。第2の添加剤としては、本発明の効果をより有効かつ確実に奏する観点から、リンを有する化合物であると好ましい。そのようなリンを有する化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン(PPh3)、メチルジフェニルホスフィン(Ph2PCH3)、トリフリルホスフィン(P(2−furyl)3)、トリ(o−トリル)ホスフィン(P(o−tol)3)、トリ(シクロヘキシル)ホスフィン(PCy3)、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン(PhPCy2)、トリ(t−ブチル)ホスフィン(PtBu3)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(BINAP)、2,2’−ビス[(ジフェニルホスフィノ)ジフェニル]エーテル(DPEphos)(テトラへドロン・レターズ(Tatrahedron Letters)第39巻、第5327頁(1998年)参照)、ジフェニルホスフィノフェロセン(DPPF)、1,1’−ビス(ジ−t−ブチルホスフィノ)フェロセン(DtBPF)、N,N−ジメチル−1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルアミン、1−[2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルメチルエーテル、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’−ジメチルアミノ−1,1’−ビフェニル(ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー(Journal of the American ChemicalSociety)第120巻、第9722頁(1998年)参照)、スピロ型ホスホニウム塩(アンゲバンテ・ケミー・インターナショナル・エディション(Angewandte Chemie international Edition)第37巻、第481頁(1998年)参照)などのホスフィン系配位子、イミダゾル−2−イリデンカルベン類などのホスフィンミミック配位子(アンゲバンテ・ケミー・インターナショナル・エディション・イン・イングリッシュ(Angewandte Chemie international Edition in English)、第36巻、第2163頁(1997年)参照)が挙げられる。 In the production method of the present embodiment, in the third step, compound (1) and compound (5) may be reacted in the presence of the second additive. By using the second additive, it becomes easier to control and accelerate the reaction. That is, the second additive functions as a reaction control agent or a reaction accelerator for the reaction between the compound (1) and the compound (5). A 2nd additive is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The second additive is preferably a compound having phosphorus from the viewpoint of more effectively and reliably achieving the effects of the present invention. Examples of such phosphorus-containing compounds include triphenylphosphine (PPh 3 ), methyldiphenylphosphine (Ph 2 PCH 3 ), trifurylphosphine (P (2-furyl) 3 ), and tri (o-tolyl) phosphine. (P (o-tol) 3 ), tri (cyclohexyl) phosphine (PCy 3 ), dicyclohexylphenylphosphine (PhPCy 2 ), tri (t-butyl) phosphine (PtBu 3 ), 2,2′-bis (diphenylphosphino) ) -1,1′-binaphthyl (BINAP), 2,2′-bis [(diphenylphosphino) diphenyl] ether (DPEphos) (Tatrahedron Letters, 39, 5327 (1998) )), Diphenylphosphinoferrocene (DP) PF), 1,1′-bis (di-t-butylphosphino) ferrocene (DtBPF), N, N-dimethyl-1- [2- (diphenylphosphino) ferrocenyl] ethylamine, 1- [2- (diphenyl) Phosphino) ferrocenyl] ethyl methyl ether, 2-dicyclohexylphosphino-2′-dimethylamino-1,1′-biphenyl (Journal of the American Chemical Society, vol. 120, 9722 (1998)), spiro-type phosphonium salt (Angewandte Chemie international Edition) 37, 481 (1998) Phosphine-based ligands such as imidazole-2-ylidenecarbenes (Angewandte Chemie international edition in English), Vol. 36, 2163 (1997)).

また、第2の添加剤としての配位子は、含金属化合物に含まれる金属とその配位子上の置換基とで反応して、金属がパラジウムである場合のパラダサイクル(アンゲバンテ・ケミー・インターナショナル・エディション・イン・イングリッシュ(Angewandte Chemie international Edition in English)第34巻、第1844頁(1995年)参照)のような化合物を形成していてもよい。   The ligand as the second additive reacts with a metal contained in the metal-containing compound and a substituent on the ligand to produce a palladacycle in the case where the metal is palladium (Angevante Chemie, A compound such as International Edition in English (see 34, 1844 (1995)) may be formed.

さらに、第2の添加剤として、例えば、2,2’−ビピリジル、1,10−フェナントロリン、メチレンビスオキサゾリン及びN,N’−テトラメチルエチレンジアミン等の含窒素配位子も挙げられる。   Furthermore, examples of the second additive include nitrogen-containing ligands such as 2,2'-bipyridyl, 1,10-phenanthroline, methylenebisoxazoline, and N, N'-tetramethylethylenediamine.

第3の工程において、反応系内での第2の添加剤の存在量は、化合物(1)及び化合物(5)のうちモル基準で少ない方の化合物の量(100mol%)に対して、好ましくは0.0001〜4mol%、より好ましくは0.0001〜0.4mol%、更に好ましくは0.001〜0.4mol%である。第2の添加剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。第2の添加剤の存在量が当該範囲にあることにより、反応の促進又は反応の制御をより確実に行うことができ、また、精製を更に容易に行うことができる。   In the third step, the amount of the second additive present in the reaction system is preferably relative to the amount (100 mol%) of the compound (1) and the compound (5), which is smaller on a molar basis. Is 0.0001 to 4 mol%, more preferably 0.0001 to 0.4 mol%, still more preferably 0.001 to 0.4 mol%. A 2nd additive is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. When the amount of the second additive is within the above range, the reaction can be promoted or the reaction can be controlled more reliably, and purification can be performed more easily.

本実施形態の第3の工程における、各原料、生成物及び副生成物は、固体及び液体のいずれの状態で存在していてもよい。反応系は、一相であってもよく、二相以上に分離していてもよく、例えば、液体と固体とに分離していてもよい。二相以上に分離している場合、少なくとも1つの相に液体が含まれ、液体と固体とが分離していれば、固体を溶解させるための溶媒等を用いる必要がないので、生産性が向上する。また、原料が液体であったり、溶媒等を用いたりして、全ての相が液体である場合、反応進行の制御が容易になる。   Each raw material, product, and by-product in the third step of the present embodiment may exist in any state of a solid and a liquid. The reaction system may be a single phase or may be separated into two or more phases. For example, the reaction system may be separated into a liquid and a solid. When separated into two or more phases, at least one phase contains a liquid, and if the liquid and the solid are separated, there is no need to use a solvent or the like for dissolving the solid, thus improving productivity. To do. In addition, when the raw material is liquid or a solvent is used, and all phases are liquid, the control of the reaction progress is facilitated.

第3の工程において、化合物(1)と化合物(5)とを、塩基の存在下に反応させてもよい。塩基としては、例えば、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、カルボン酸塩、アルコキシドの他、有機塩基である3級アミン(例えば、トリエチルアミン)を用いることができる。多環式芳香族化合物の合成及び精製を容易にする観点から、塩基は、好ましくはアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩及びカルボン酸塩であり、より好ましくは、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩及びカルボン酸塩であり、更に好ましくは、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩及び炭酸水素塩である。アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭酸塩及び炭酸水素塩としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム及び炭酸水素セシウムが好ましく、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム及び炭酸水素カリウムがより好ましい。   In the third step, compound (1) and compound (5) may be reacted in the presence of a base. Examples of the base include alkali metal or alkaline earth metal hydroxides, carbonates, hydrogen carbonates, phosphates, carboxylates, alkoxides, and tertiary amines that are organic bases (for example, triethylamine). Can be used. From the viewpoint of facilitating the synthesis and purification of the polycyclic aromatic compound, the base is preferably an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide, carbonate, bicarbonate, phosphate and carboxylate. More preferred are alkali metal or alkaline earth metal carbonates, hydrogen carbonates, phosphates and carboxylates, and still more preferred are alkali metal or alkaline earth metal carbonates and hydrogen carbonates. . Examples of alkali metal or alkaline earth metal carbonates and bicarbonates include lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, lithium bicarbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate and cesium bicarbonate. Are preferable, and lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate are more preferable.

塩基は、反応系内に独立して添加する化合物であってもよく、原料、触媒及び配位子などに含まれた状態で添加するものであってもよい。塩基の存在量は、化合物(1)及び化合物(5)のうち、モル基準で少ない方の化合物の量(100mol%)に対して、好ましくは10〜5000mol%、より好ましくは50〜2000mol%である。また、塩基は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   The base may be a compound added independently in the reaction system, or may be added in a state of being included in the raw material, catalyst, ligand and the like. The amount of the base is preferably 10 to 5000 mol%, more preferably 50 to 2000 mol%, based on the amount of the compound (1) and compound (5), which is smaller on a molar basis (100 mol%). is there. Moreover, a base is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本実施形態の製造方法の第3の工程において、化合物(1)と化合物(5)とを、相間移動触媒の存在下に反応させてもよい。相間移動触媒は、液体−液体、固体−液体など、相互に混ざり合わない基質若しくは試剤間の反応において、反応種を可溶化させる、界面に集めるなどの効果により、反応を有効に行わせるために用いられる触媒である。ここで、液体としては、例えば、基質若しくは試薬を溶媒により溶解させた溶液、又は、無溶媒で反応時に液体である基質若しくは試薬が挙げられる。相間移動触媒としては、例えば、第四級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、アミン類、クラウンエーテル、クリプタンド及び鎖状ポリエチレングリコール誘導体が挙げられる。より具体的には、第四級アンモニウム塩として、例えば、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージドなどのテトラブチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラプロピルアンモニウム塩、テトラヘキシルアンモニウム塩、テトラオクチルアンモニウム塩、テトラデシルアンモニウム塩、ヘキサデシルトリエチルアンモニウム塩、ドデシルトリメチルアンモニウム塩、トリオクチルメチルアンモニウム塩、オクチルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウム塩、フェニルトリメチルアンモニウム塩、STARKS’ catalyst、ホスホニウム塩として、例えば、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムヨージドなどのテトラブチルホスホニウム塩、テトラメチルホスホニウム塩、テトラエチルホスホニウム塩、テトラプロピルホスホニウム塩、テトラヘキシルホスホニウム塩、テトラデシルホスホニウム塩、テトラオクチルホスホニウム塩、トリエチルオクタデシルホスホニウム塩、トリオクチルエチルホスホニウム塩、ヘキサデシルトリエチルホスホニウム塩、テトラフェニルホスホニウム塩、メチルトリフェニルホスホニウム塩、アミン類、クラウンエーテルとして、例えば18−クラウン−6、ジベンゾ−18−クラウン−6、ジシクロヘキシル−18−クラウン−6、クリプタンドとして、例えば[2.2.2]クリプタンド、鎖状ポリエチレングリコール誘導体として、例えば、PEG−200、PEG−400及びPEG−6000が挙げられる。入手性の観点から、好ましくは第四級アンモニウム塩であり、より好ましくはテトラブチルアンモニウムブロミドである。   In the third step of the production method of the present embodiment, the compound (1) and the compound (5) may be reacted in the presence of a phase transfer catalyst. The phase transfer catalyst is used to effectively carry out the reaction by solubilizing the reactive species or collecting it at the interface in the reaction between the substrates or reagents that are not mixed with each other, such as liquid-liquid and solid-liquid. The catalyst used. Here, examples of the liquid include a solution in which a substrate or a reagent is dissolved in a solvent, or a substrate or a reagent that is liquid without a solvent during the reaction. Examples of the phase transfer catalyst include quaternary ammonium salts, phosphonium salts, amines, crown ethers, cryptands, and chain polyethylene glycol derivatives. More specifically, as a quaternary ammonium salt, for example, tetrabutylammonium salt such as tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium iodide, tetramethylammonium salt, tetraethylammonium salt, tetrapropylammonium salt, tetrahexylammonium salt , Tetraoctylammonium salt, tetradecylammonium salt, hexadecyltriethylammonium salt, dodecyltrimethylammonium salt, trioctylmethylammonium salt, octyltriethylammonium salt, benzyltrimethylammonium salt, benzyltriethylammonium salt, benzyltributylammonium salt, benzyldimethyl Octadecyl ammonium salt, phenyl trimethyl ammonium salt, STARKS 'ca alyst, for example, tetrabutylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium iodide, tetrabutylphosphonium salt, tetramethylphosphonium salt, tetraethylphosphonium salt, tetrapropylphosphonium salt, tetrahexylphosphonium salt, tetradecylphosphonium salt, tetradecylphosphonium salt Octylphosphonium salt, triethyloctadecylphosphonium salt, trioctylethylphosphonium salt, hexadecyltriethylphosphonium salt, tetraphenylphosphonium salt, methyltriphenylphosphonium salt, amines, crown ethers such as 18-crown-6, dibenzo-18- Crown-6, dicyclohexyl-18-crown-6, cryptand, for example, [2.2.2] crypter Examples of the chain and chain polyethylene glycol derivatives include PEG-200, PEG-400, and PEG-6000. From the viewpoint of availability, a quaternary ammonium salt is preferable, and tetrabutylammonium bromide is more preferable.

相間移動触媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   A phase transfer catalyst is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

第3の工程において、反応系内に、相間移動触媒に加えて、触媒活性を高める助触媒や、他の触媒を含んでもよい。例えば、相間移動触媒としての第四級アンモニウム塩と、金属触媒とを組み合わせてもよい(11 SEPTEMBER,1998,VOL281,SCIENCE,p.1646を参照)。   In the third step, in addition to the phase transfer catalyst, the reaction system may contain a co-catalyst that enhances the catalytic activity and other catalysts. For example, a quaternary ammonium salt as a phase transfer catalyst may be combined with a metal catalyst (see 11 SEPTEMBER, 1998, VOL281, SCIENCE, p. 1646).

相間移動触媒の添加量は、それぞれの工程における所望の反応が進行すればどのような量であってもよい。精製の容易さと反応速度との観点から、その添加量は、好ましくは、反応原料のうち、モル基準で少ない方の化合物の量(100mol%)に対して、0.001〜40mol%であり、より好ましくは、0.01〜20mol%であり、更に好ましくは0.1〜10mol%である。   The amount of the phase transfer catalyst added may be any amount as long as the desired reaction in each step proceeds. From the viewpoint of ease of purification and reaction rate, the addition amount is preferably 0.001 to 40 mol% with respect to the amount of the compound (100 mol%) on the molar basis, which is smaller among the reaction raw materials, More preferably, it is 0.01-20 mol%, More preferably, it is 0.1-10 mol%.

第3の工程において、反応系内には溶媒が存在してもよく、その溶媒は有機溶媒であると好ましく、非水溶性有機溶媒であっても水溶性有機溶媒であってもよい。有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン及びクロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロオクタン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロヘキサン及びパーフルオロベンゼンなどのパーフルオロ基を有する溶媒等の含フッ素溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル及び酢酸イソプロピルなどの酢酸アルキル等のエステル溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン及びジメチルホルムアミド等のアミド溶媒、ジエチルエーテル、ジグライム、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジエトキシメタン、ジイソプロピルエーテル、アニソール及びメチルt−ブチルエーテル等のエーテル溶媒、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン溶媒、ヘキサン及びシクロヘキサン等のアルカン溶媒、メタノール、エタノール、1,2−プロパンジオール、イソプロピルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ブチルアルコール及びt−アミルアルコール等のアルコール溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ピリジン、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、酢酸並びにトリエチルアミンが挙げられる。有機溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   In the third step, a solvent may be present in the reaction system, and the solvent is preferably an organic solvent, and may be a water-insoluble organic solvent or a water-soluble organic solvent. Examples of the organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, and perfluoro-2-butyl. Fluorine-containing solvents such as tetrahydrofuran, perfluorooctane, perfluorotributylamine, perfluorohexane and perfluorobenzene-containing solvents such as perfluoro groups, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, and alkyl acetates such as isopropyl acetate Ester solvents such as N, N-dimethylacetamide, amide solvents such as N-methylpyrrolidinone and dimethylformamide, diethyl ether, diglyme, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran Ether solvents such as 2-methyltetrahydrofuran, diethoxymethane, diisopropyl ether, anisole and methyl t-butyl ether, ketone solvents such as acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, alkane solvents such as hexane and cyclohexane, methanol, ethanol, 1 , 2-propanediol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol, n-butyl alcohol and t-amyl alcohol, alcohol solvents such as acetonitrile, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, pyridine, nitromethane, Examples include dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, acetic acid and triethylamine. An organic solvent is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

第3の工程における反応系内に用いられる溶媒として、非水溶性有機溶媒が含まれる場合、非水溶性有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒、クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタン及びクロロホルム等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、パーフルオロ−2−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロオクタン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロヘキサン及びパーフルオロベンゼンなどのパーフルオロ基を有する溶媒等の含フッ素溶媒、酢酸ブチル、酢酸イソブチル及び酢酸イソプロピルなどの酢酸アルキル等のエステル溶媒、ジエチルエーテル、2−メチルテトラヒドロフラン、ジエトキシメタン、ジイソプロピルエーテル、アニソール及びメチルt−ブチルエーテル等のエーテル溶媒、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン溶媒、ヘキサン及びシクロヘキサン等のアルカン溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、並びにトリエチルアミンが挙げられる。非水溶性有機溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   When a water-insoluble organic solvent is included as a solvent used in the reaction system in the third step, examples of the water-insoluble organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene, chlorobenzene and the like. Perfluoro groups such as halogenated aromatic hydrocarbon solvents, halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, perfluoro-2-butyltetrahydrofuran, perfluorooctane, perfluorotributylamine, perfluorohexane and perfluorobenzene A fluorine-containing solvent such as a solvent having a solvent, an ester solvent such as alkyl acetate such as butyl acetate, isobutyl acetate and isopropyl acetate, diethyl ether, 2-methyltetrahydrofuran, diethoxymethane, diisopropyl ether, anisole and methyl t Ether solvents such as ether, methyl isobutyl ketone, ketone solvents such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, alkane solvents such as hexane and cyclohexane, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, as well as triethylamine. A water-insoluble organic solvent is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

非水溶性有機溶媒は、上記各工程の反応温度、又は、その後の精製工程での精製温度、より好ましくは、20℃における水への溶解度が20質量%以下である溶媒であり、精製時における水相と有機相との分離の観点から、更に好ましくは、20℃における水への溶解度が5質量%以下である溶媒である。非水溶性有機溶媒は、なおも更に好ましくは、芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン化芳香族炭化水素溶媒、ハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、含フッ素溶媒及びエーテル溶媒である。非水溶性有機溶媒は、溶媒の入手性の観点から、特に好ましくはトルエン、キシレン、クロロベンゼン及び塩化メチレンである。非水溶性有機溶媒は水と分離しやすいため、水溶性の副生物や不純物の洗浄を容易にできる点で有効である。また、反応に用いた非水溶性有機溶媒を蒸留等で再利用する際にも水の混入が少ないため、簡易に精製できる点でも有効である。   The water-insoluble organic solvent is a solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 20% by mass or less at the reaction temperature of each of the above steps or a purification temperature in the subsequent purification step, more preferably 20 ° C. From the viewpoint of separation of the aqueous phase and the organic phase, a solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 5% by mass or less is more preferable. The water-insoluble organic solvent is still more preferably an aromatic hydrocarbon solvent, a halogenated aromatic hydrocarbon solvent, a halogenated aliphatic hydrocarbon solvent, a fluorine-containing solvent, and an ether solvent. The water-insoluble organic solvent is particularly preferably toluene, xylene, chlorobenzene and methylene chloride from the viewpoint of availability of the solvent. Since a water-insoluble organic solvent is easily separated from water, it is effective in that water-soluble by-products and impurities can be easily washed. Further, even when the water-insoluble organic solvent used in the reaction is reused by distillation or the like, it is also effective in that it can be easily purified because it contains little water.

第3の工程における反応系内に用いられる溶媒として、水溶性有機溶媒が含まれる場合、水溶性有機溶媒としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン及びジメチルホルムアミド等のアミド溶媒、ジグライム、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン及びテトラヒドロフラン等のエーテル溶媒、アセトン及びメチルエチルケトン等のケトン溶媒、メタノール、エタノール、1,2−プロパンジオール、イソプロピルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ブチルアルコール及びt−アミルアルコール等のアルコール溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ピリジン、ニトロメタン、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、並びに酢酸が挙げられる。水溶性有機溶媒は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   When a water-soluble organic solvent is included as a solvent used in the reaction system in the third step, examples of the water-soluble organic solvent include amide solvents such as N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone and dimethylformamide. Ether solvents such as diglyme, dimethoxyethane, 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, 1,2-propanediol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol, n-butyl alcohol and Examples include alcohol solvents such as t-amyl alcohol, nitrile solvents such as acetonitrile, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, pyridine, nitromethane, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, and acetic acid. A water-soluble organic solvent is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

水溶性有機溶媒は、上記各工程の反応温度、又は、その後の精製工程での精製温度、好ましくは20℃における水への溶解度が20質量%超である溶媒であり、精製時における溶解性の観点から、更に好ましくは20℃における水への溶解度が50質量%以上である溶媒であり、更に好ましくは20℃において水と任意に混和する溶媒である。より具体的には、メタノール、エタノール、1,2−プロパンジオール、イソプロピルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ブチルアルコール、t−アミルアルコール、ニトロメタン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、アセトン、酢酸、ピリジン、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン及び1,4−ジオキサンからなる群より選ばれる少なくとも1種の溶媒であると好ましい。水溶性有機溶媒は水と混合しやすいため、精製工程において、目的物を析出させたり、あるいは、析出を促進させたりすることができる。また、水溶性有機溶媒は、水の添加により副生する塩を溶解し除去することができる。   The water-soluble organic solvent is a solvent having a solubility in water of more than 20% by mass at the reaction temperature of each of the above steps, or a purification temperature in the subsequent purification step, preferably 20 ° C., and has a solubility during purification. From the viewpoint, a solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 50% by mass or more is more preferable, and a solvent arbitrarily mixed with water at 20 ° C. is more preferable. More specifically, methanol, ethanol, 1,2-propanediol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol, n-butyl alcohol, t-amyl alcohol, nitromethane, acetonitrile, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, The solvent is preferably at least one solvent selected from the group consisting of acetone, acetic acid, pyridine, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. Since the water-soluble organic solvent is easily mixed with water, the target product can be precipitated or the precipitation can be promoted in the purification step. In addition, the water-soluble organic solvent can dissolve and remove a by-product salt by adding water.

また、第3の工程において、反応系内に有機溶媒と共に水を共存させても、多環式芳香族化合物を合成することができる。溶媒として水を共存させる場合、水の量は有機溶媒100質量部に対して100質量部以下であることが好ましい。水と有機溶媒とを用いる場合、精製の簡素化の観点から、それらが水相と有機溶媒相とに分離することが好ましい。   In the third step, the polycyclic aromatic compound can be synthesized even when water is allowed to coexist with the organic solvent in the reaction system. When water coexists as a solvent, the amount of water is preferably 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the organic solvent. When water and an organic solvent are used, it is preferable that they are separated into an aqueous phase and an organic solvent phase from the viewpoint of simplification of purification.

第3の工程における反応系内での溶媒量は、反応中の溶解度の観点から、化合物(1)及び化合物(5)のうち多く含まれる方の量(100質量%)に対して、500〜5000質量%であると好ましく、500〜3000質量%であるとより好ましい。   The amount of the solvent in the reaction system in the third step is 500 to 500% with respect to the amount (100% by mass) of the compound (1) and the compound (5) that are contained in a larger amount from the viewpoint of solubility during the reaction. It is preferable in it being 5000 mass%, and it is more preferable in it being 500-3000 mass%.

本実施形態の第3の工程における、各原料、生成物及び副生成物は、固体及び液体のいずれの状態で存在していてもよい。反応系は、一相であってもよく、二相以上に分離していてもよく、例えば、液体と固体とに分離していてもよい。二相以上に分離している場合、少なくとも1つの相に液体が含まれ、液体と固体とが分離していれば、固体を溶解させるための溶媒等を用いる必要がないので、生産性が向上する。また、原料が液体であったり、溶媒等を用いたりして、全ての相が液体である場合、反応進行の制御が容易になる。   Each raw material, product, and by-product in the third step of the present embodiment may exist in any state of a solid and a liquid. The reaction system may be a single phase or may be separated into two or more phases. For example, the reaction system may be separated into a liquid and a solid. When separated into two or more phases, at least one phase contains a liquid, and if the liquid and the solid are separated, there is no need to use a solvent or the like for dissolving the solid, thus improving productivity. To do. In addition, when the raw material is liquid or a solvent is used, and all phases are liquid, the control of the reaction progress is facilitated.

第3の工程の反応温度は、溶媒の沸点と原料の溶解性との観点から、好ましくは0〜200℃、より好ましくは20〜150℃、更に好ましくは40〜130℃である。   The reaction temperature in the third step is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 20 to 150 ° C, and still more preferably 40 to 130 ° C, from the viewpoint of the boiling point of the solvent and the solubility of the raw materials.

第3の工程において、反応系周囲の雰囲気は大気雰囲気であってもよいが、副生成物を低減させる観点から、好ましくは不活性ガスで置換した雰囲気である。コストの観点から、反応系周囲の雰囲気は、より好ましくは窒素ガスで置換した雰囲気である。反応は常圧下で進行することも可能であり、減圧又は高圧下で進行することも可能である。   In the third step, the atmosphere around the reaction system may be an air atmosphere, but from the viewpoint of reducing by-products, it is preferably an atmosphere substituted with an inert gas. From the viewpoint of cost, the atmosphere around the reaction system is more preferably an atmosphere substituted with nitrogen gas. The reaction can proceed under normal pressure, and can proceed under reduced pressure or high pressure.

第3の工程における反応進行の程度は、薄層クロマトグラフィー、NMR、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー等の分析により確認することができる。   The progress of the reaction in the third step can be confirmed by analysis such as thin layer chromatography, NMR, gas chromatography, liquid chromatography and the like.

本実施形態において、多環式芳香族化合物を合成した後の精製としては、公知の精製法を用いることができる。例えば、蒸留、再結晶、濾過、溶剤洗浄、減圧での溶媒留去及び乾燥からなる公知の精製法のうち、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   In the present embodiment, a known purification method can be used as the purification after the synthesis of the polycyclic aromatic compound. For example, among known purification methods consisting of distillation, recrystallization, filtration, solvent washing, solvent distillation under reduced pressure, and drying, one can be used alone, or two or more can be used in combination.

精製の操作として、例えば、上記各工程における反応の後に、反応混合物中に含まれる塩や水溶性原料を水に溶解させ、塩や水溶性原料を除去することができる。また、水を用いておらず、有機相が液体である場合には、濾過により塩を分離することができる。また、有機相と目的物が不溶な溶媒とを混合して目的物を析出させ、更に濾過することにより目的物を得ることもできる。   As the purification operation, for example, after the reaction in each of the above steps, the salt and water-soluble raw material contained in the reaction mixture can be dissolved in water, and the salt and water-soluble raw material can be removed. Further, when water is not used and the organic phase is a liquid, the salt can be separated by filtration. Further, the target product can be obtained by mixing the organic phase and a solvent in which the target product is insoluble to precipitate the target product and further filtering.

本実施形態の製造方法においては、各工程において、反応触媒、助触媒、反応促進剤、乳化剤及び消泡剤などの上記以外の添加剤を必要に応じて用いてもよい。また、反応を促進する化合物、及び、副反応や目的外の反応を抑制するために、それらの反応の負触媒としての効果を有する化合物を、必要に応じて用いてもよい。   In the production method of the present embodiment, additives other than those described above such as a reaction catalyst, a cocatalyst, a reaction accelerator, an emulsifier, and an antifoaming agent may be used as necessary in each step. In addition, in order to suppress side reactions and unintended reactions, compounds that have an effect as a negative catalyst for those reactions may be used as necessary.

反応触媒としては、例えば、第1の工程及び第2の工程における相間移動触媒が挙げられる。相間移動触媒は、液体−液体、固体−液体など、相互に混ざり合わない基質又は試薬間の反応において、反応種を可溶化させたり界面に集めたりするなどの効果により、反応を有効に行わせるために用いられる触媒である。相間移動触媒としては、例えば、第四級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、アミン類、クラウンエーテル、クリプタンド及び鎖状ポリエチレングリコール誘導体が挙げられる。   As a reaction catalyst, the phase transfer catalyst in a 1st process and a 2nd process is mentioned, for example. The phase transfer catalyst effectively performs the reaction by the effect of solubilizing the reactive species or collecting it at the interface in the reaction between the substrates or reagents that are not mixed with each other, such as liquid-liquid and solid-liquid. It is a catalyst used for this purpose. Examples of the phase transfer catalyst include quaternary ammonium salts, phosphonium salts, amines, crown ethers, cryptands, and chain polyethylene glycol derivatives.

乳化剤は、相互に混ざり合わない基質又は試薬間において、一方の基質又は試薬をもう一方の基質又は試薬中に分散させることにより、反応を効率的に行う添加剤である。乳化剤としては、例えば、脂肪酸エステル、高級アルコール、スルホニウム塩、第四級アンモニウム塩、ホスホニウム塩、アミン類及びグリコール類が挙げられる。   An emulsifier is an additive that efficiently performs a reaction by dispersing one substrate or reagent in another substrate or reagent between substrates or reagents that do not mix with each other. Examples of the emulsifier include fatty acid esters, higher alcohols, sulfonium salts, quaternary ammonium salts, phosphonium salts, amines, and glycols.

反応促進剤としては、ジブロモエタン、ヨードエタン、塩化リチウムなどが挙げられる。   Examples of the reaction accelerator include dibromoethane, iodoethane, lithium chloride and the like.

これらの添加剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。   These additives are used singly or in combination of two or more.

また、上記の工程全てにおいて同一の添加剤を用いてもよく、各工程において互いに異なる添加剤を用いてもよい。   Further, the same additive may be used in all the above steps, or different additives may be used in each step.

本実施形態によると、原料コストが低く、かつ、工業生産に適した芳香族ホウ素化合物の製造方法であって、しかも、芳香族ホウ素化合物を高収率で製造できる製造方法を提供することができる。「工業生産に適した」とは、より具体的には、精製等が容易であり手間を低減できること、製造及び精製に大規模又は複雑な設備を必要としないこと、及び極低温・超高圧などの特殊な条件を用いないことなどをいう。   According to this embodiment, it is possible to provide a method for producing an aromatic boron compound that is low in raw material cost and suitable for industrial production, and that can produce an aromatic boron compound in a high yield. . More specifically, “suitable for industrial production” means that refining and the like are easy and can reduce labor, that large-scale or complicated equipment is not required for production and purification, and cryogenic / ultra-high pressure. This means not using special conditions.

本実施形態の製造方法により得られた芳香族ホウ素化合物は、例えば電解液のゲル化剤などの非水電解液二次電池(好ましくはリチウムイオン二次電池)の材料、有機EL材料、液晶材料、非線形光学材料、写真用添加剤、増感色素、医薬品等に用いることができ、あるいは、それらの材料の合成中間体として有用になり得るものである。   The aromatic boron compound obtained by the production method of the present embodiment includes, for example, a material for a nonaqueous electrolyte secondary battery (preferably a lithium ion secondary battery) such as an electrolyte gelling agent, an organic EL material, and a liquid crystal material. It can be used for nonlinear optical materials, photographic additives, sensitizing dyes, pharmaceuticals, etc., or can be useful as a synthetic intermediate for these materials.

以上、本発明を実施するための形態について説明したが、本発明は上記本実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。   As mentioned above, although the form for implementing this invention was demonstrated, this invention is not limited to the said this embodiment. The present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.

以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

(製造例1)
4−ブロモベンゼンチオール15.5g(82mmol)、よう化2−(パーフルオロヘキシル)エチル40.9g(86.3mmol)、1,2−ジメトキシエタン100mL、及び炭酸カリウム17g(123.4mmol)を反応容器内に投入し、大気圧下、50℃で3時間攪拌した。その後、生成物の濾過及び溶媒除去を経て白色粉末を得た。得られた白色粉末と酢酸165mL、及び35%過酸化水素水溶液40gとを混合し、更に大気圧下、70℃で3時間攪拌した。その後、生成物の濾過を経てヘキサン中で攪拌し洗浄した。次いで、生成物の濾過及び溶媒除去を経て白色粉末の状態で下記構造を有する化合物(1A)を得た。その収量は42gであり、収率は90%であった。

Figure 2014024778
(Production Example 1)
Reaction of 15.5 g (82 mmol) of 4-bromobenzenethiol, 40.9 g (86.3 mmol) of 2- (perfluorohexyl) ethyl iodide, 100 mL of 1,2-dimethoxyethane, and 17 g (123.4 mmol) of potassium carbonate The solution was put into a container and stirred at 50 ° C. for 3 hours under atmospheric pressure. Thereafter, the product was filtered and the solvent was removed to obtain a white powder. The obtained white powder, 165 mL of acetic acid, and 40 g of 35% aqueous hydrogen peroxide were mixed, and further stirred at 70 ° C. for 3 hours under atmospheric pressure. Thereafter, the product was filtered and stirred and washed in hexane. Subsequently, the product (1A) which has the following structure was obtained in the state of white powder through filtration of a product and solvent removal. The yield was 42 g, and the yield was 90%.
Figure 2014024778

[実施例1]
p−ブロモ(ヘキシルオキシ)ベンゼン0.5g(1.95mmol)を反応容器に投入し、反応系周囲の雰囲気を窒素ガスに置換した後、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン0.45g(3.9mmol)、及びトルエン10mLを加え、40℃で5分間撹拌した。次いで、1.6mol/Lブチルリチウムヘキサン溶液を1.34mL(2.15mmol)加え、40℃で30分間撹拌した。次いで、その反応容器にホウ酸トリイソプロピル0.55g(2.92mmol)を添加し、40℃で30分間撹拌した。次いで、その反応容器に0.1mol/L塩酸水溶液40mLを添加し、5分間撹拌した後、水層を除去し、これを2回繰り返した。さらに、その反応容器に水40mLを添加し、5分間撹拌した後、水層を除去し、これを2回繰り返した。その後、溶媒除去を得て、白色固体の状態で、p−ヘキソキシフェニルボロン酸を得た。その収量は0.39gであり収率は90%であった。得られた化合物の構造を1H−NMR(CDCl3)により確認した。その結果は以下のとおりであった。
1H-NMR(CDCl3) 0.90 (3H, m), 1.40 (6H, m), 1.80 (2H, m), 4.00 (2H, m), 6.97 (2H, d, J=8.0 Hz), 8.13 (2H, d, J=8.0 Hz) ppm
[Example 1]
After putting 0.5 g (1.95 mmol) of p-bromo (hexyloxy) benzene into the reaction vessel and substituting the atmosphere around the reaction system with nitrogen gas, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine 0 .45 g (3.9 mmol) and 10 mL of toluene were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 minutes. Next, 1.34 mL (2.15 mmol) of a 1.6 mol / L butyl lithium hexane solution was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 30 minutes. Next, 0.55 g (2.92 mmol) of triisopropyl borate was added to the reaction vessel and stirred at 40 ° C. for 30 minutes. Subsequently, 40 mL of 0.1 mol / L hydrochloric acid aqueous solution was added to the reaction vessel, and after stirring for 5 minutes, the aqueous layer was removed, and this was repeated twice. Furthermore, 40 mL of water was added to the reaction vessel, and after stirring for 5 minutes, the aqueous layer was removed, and this was repeated twice. Then, solvent removal was obtained and p-hexoxyphenyl boronic acid was obtained in the state of white solid. The yield was 0.39 g and the yield was 90%. The structure of the obtained compound was confirmed by 1 H-NMR (CDCl 3 ). The results were as follows.
1 H-NMR (CDCl 3 ) 0.90 (3H, m), 1.40 (6H, m), 1.80 (2H, m), 4.00 (2H, m), 6.97 (2H, d, J = 8.0 Hz), 8.13 ( 2H, d, J = 8.0 Hz) ppm

[実施例2]
N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンの代わりにテトラヒドロフラン2mLを用い、反応温度を全て−10℃に変更した以外は実施例1と同様にして、p−ヘキソキシフェニルボロン酸を得た。その収量は0.33gであり収率は75%であった。得られた化合物の構造を1H−NMR(CDCl3)により確認した。その結果は以下のとおりであった。
1H-NMR(CDCl3) 0.90 (3H, m), 1.40 (6H, m), 1.80 (2H, m), 4.00 (2H, m), 6.97 (2H, d, J=8.0 Hz), 8.13 (2H, d, J=8.0 Hz) ppm
[Example 2]
P-Hexoxyphenylboronic acid was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2 mL of tetrahydrofuran was used instead of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine and the reaction temperature was changed to -10 ° C. It was. The yield was 0.33 g, and the yield was 75%. The structure of the obtained compound was confirmed by 1 H-NMR (CDCl 3 ). The results were as follows.
1 H-NMR (CDCl 3 ) 0.90 (3H, m), 1.40 (6H, m), 1.80 (2H, m), 4.00 (2H, m), 6.97 (2H, d, J = 8.0 Hz), 8.13 ( 2H, d, J = 8.0 Hz) ppm

[実施例3]
p−ブロモ(ヘキシルオキシ)ベンゼン1g(3.84mmol)を反応容器に投入し、反応系周囲の雰囲気を窒素ガスに置換した後、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン0.9g(7.8mmol)、及びトルエン30mLを加え、40℃で5分間撹拌した。次いで、1.6mol/Lブチルリチウムヘキサン溶液を2.38mL(4.3mmol)加え、40℃で30分間撹拌した。次いで、その反応容器にホウ酸トリイソプロピル1.1g(5.83mmol)を添加し、40℃で30分間撹拌した。次いで、その反応容器に0.1mol/L塩酸水溶液40mLを添加し、5分間撹拌した後、水層を除去し、これを2回繰り返した。さらに、その反応容器に水40mLを添加し、5分間撹拌した後、水層を除去し、これを2回繰り返した。次いで、化合物(1A)2.21g(3.84mmol)、酢酸パラジウム4.4mg(0.019mmol)、トリフェニルホスフィン12.7mg(0.049mmol)、炭酸ナトリウム1.06g(7.68mmol)、エタノール20mL、及び蒸留水20mLを投入した。反応系周囲の雰囲気を窒素ガスに置換した後、液を大気圧下、90℃で2時間攪拌した。その後、分離したトルエン相及び水相のうち、水相を除去した。次に、蒸留水40mLを反応容器内に投入し、90℃で5分間攪拌し、その後、分離したトルエン相及び水相のうち、水相を除去するという操作を3回繰り返した。次いで、0℃のヘキサン20Lを攪拌し、上記トルエン相を90℃に加熱したものをそのヘキサン中に滴下し、析出物を得た。その後、濾過及び溶媒除去を経て、白色固体の状態で、下記式(4A)で表される構造を有する化合物を得た。その収量は2gであり、収率は80%であった。得られた化合物の構造を1H−NMR(CDCl3)により確認した。その結果は以下のとおりであった。
1H-NMR(CDCl3) 0.92 (3H, m), 1.48 (6H, m), 1.81 (2H, m), 2.65 (2H, m), 3.33 (2H, m), 4.02 (2H, m), 7.01 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.56 (2H, d, J=8.0 Hz), 7.76 (2H, d, J=8.0Hz), 7.95 (2H, d, J=8.0 Hz) ppm

Figure 2014024778
[Example 3]
After putting 1 g (3.84 mmol) of p-bromo (hexyloxy) benzene into the reaction vessel and substituting the atmosphere around the reaction system with nitrogen gas, 0.9 g of N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine was added. (7.8 mmol) and 30 mL of toluene were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 minutes. Next, 2.38 mL (4.3 mmol) of a 1.6 mol / L butyl lithium hexane solution was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 30 minutes. Next, 1.1 g (5.83 mmol) of triisopropyl borate was added to the reaction vessel and stirred at 40 ° C. for 30 minutes. Subsequently, 40 mL of 0.1 mol / L hydrochloric acid aqueous solution was added to the reaction vessel, and after stirring for 5 minutes, the aqueous layer was removed, and this was repeated twice. Furthermore, 40 mL of water was added to the reaction vessel, and after stirring for 5 minutes, the aqueous layer was removed, and this was repeated twice. Then, compound (1A) 2.21 g (3.84 mmol), palladium acetate 4.4 mg (0.019 mmol), triphenylphosphine 12.7 mg (0.049 mmol), sodium carbonate 1.06 g (7.68 mmol), ethanol 20 mL and 20 mL of distilled water were added. After the atmosphere around the reaction system was replaced with nitrogen gas, the liquid was stirred at 90 ° C. for 2 hours under atmospheric pressure. Thereafter, the aqueous phase was removed from the separated toluene phase and aqueous phase. Next, 40 mL of distilled water was put into the reaction vessel, stirred at 90 ° C. for 5 minutes, and then the operation of removing the aqueous phase from the separated toluene phase and aqueous phase was repeated three times. Next, 20 L of hexane at 0 ° C. was stirred, and the toluene phase heated to 90 ° C. was dropped into the hexane to obtain a precipitate. Then, the compound which has a structure represented by following formula (4A) in the state of white solid was obtained through filtration and solvent removal. The yield was 2 g, and the yield was 80%. The structure of the obtained compound was confirmed by 1 H-NMR (CDCl 3 ). The results were as follows.
1 H-NMR (CDCl 3 ) 0.92 (3H, m), 1.48 (6H, m), 1.81 (2H, m), 2.65 (2H, m), 3.33 (2H, m), 4.02 (2H, m), 7.01 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.56 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.76 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.95 (2H, d, J = 8.0 Hz) ppm
Figure 2014024778

[比較例1]
N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンを用いなかった以外は実施例1と同様にした。目的物は得られなかった。
[Comparative Example 1]
Example 1 was repeated except that N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine was not used. The target product was not obtained.

[比較例2]
N,N,N’,N’−テトラエチレンジアミンを用いず、反応温度を全て−72℃に変更した以外は実施例1と同様にした。目的物は得られなかった。
[Comparative Example 2]
N, N, N ′, N′-Tetraethylenediamine was not used, and the same procedure as in Example 1 was performed except that the reaction temperature was changed to −72 ° C. The target product was not obtained.

本発明は、電解液のゲル化剤などの非水電解液二次電池(好ましくはリチウムイオン二次電池)の材料、有機EL材料、液晶材料、非線形光学材料、写真用添加剤、増感色素、医薬品等、又はそれらの合成中間体として有用な芳香族ホウ素化合物の製造方法としての利用が期待される。   The present invention relates to materials for non-aqueous electrolyte secondary batteries (preferably lithium ion secondary batteries) such as electrolyte gelling agents, organic EL materials, liquid crystal materials, nonlinear optical materials, photographic additives, and sensitizing dyes. It is expected to be used as a method for producing aromatic boron compounds useful as pharmaceuticals, etc., or synthetic intermediates thereof.

Claims (24)

下記一般式(1):
2−Ph−Z (1)
で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式(2):
2−Ph−X2 (2)
で表される化合物と、リチウム、マグネシウム及び亜鉛からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物とを反応させて、下記一般式(3):
2−Ph−M1 (3)
で表される化合物を得る第1の工程と、
上記式(3)で表される化合物とホウ素原子を有する化合物とを反応させて、上記式(1)で表される化合物を得る第2の工程と、を有し、
前記第1の工程及び/又は前記第2の工程において、反応系中に、溶媒とヘテロ原子を有する第1の添加剤とが存在する、製造方法。
(式(1)、(2)及び(3)中、R2はアルキル基又はアルコキシ基を示し、Phはフェニレン基を示し、Zはホウ素原子を有する1価の基を示し、X2はアニオン性の1価の脱離基を示し、M1はリチウム、マグネシウム及び亜鉛からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する1価の基を示し、式(3)において、前記金属は前記Phに直接結合しており、式(1)において、前記ホウ素原子は前記Phに直接結合している。)
The following general formula (1):
R 2 -Ph-Z (1)
A process for producing a compound represented by
The following general formula (2):
R 2 -Ph-X 2 (2)
Is reacted with a compound having one or more metals selected from the group consisting of lithium, magnesium and zinc, and the following general formula (3):
R 2 -Ph-M 1 (3)
A first step of obtaining a compound represented by:
A second step of reacting the compound represented by the above formula (3) with a compound having a boron atom to obtain a compound represented by the above formula (1),
The manufacturing method in which a solvent and a first additive having a hetero atom are present in the reaction system in the first step and / or the second step.
(In the formulas (1), (2) and (3), R 2 represents an alkyl group or an alkoxy group, Ph represents a phenylene group, Z represents a monovalent group having a boron atom, and X 2 represents an anion. M 1 represents a monovalent group having at least one metal selected from the group consisting of lithium, magnesium and zinc, and in the formula (3), the metal is the Ph (In the formula (1), the boron atom is directly bonded to the Ph.)
前記金属が、リチウム又はマグネシウムである、請求項1に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the metal is lithium or magnesium. 前記金属を有する化合物は、有機リチウム、金属リチウム、有機マグネシウム又は金属マグネシウムである、請求項1又は2に記載の製造方法。   The method according to claim 1 or 2, wherein the metal-containing compound is organic lithium, metallic lithium, organic magnesium, or metallic magnesium. 前記R2は、炭素数が1〜20のアルコキシ基である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。 The said R < 2 > is a manufacturing method of any one of Claims 1-3 which is a C1-C20 alkoxy group. 前記ホウ素原子を有する化合物は、アルコキシボレートである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method of any one of Claims 1-4 whose compound which has the said boron atom is an alkoxy borate. 前記第1の添加剤におけるヘテロ原子は、窒素原子、リン原子、及び酸素原子からなる群より選ばれる1種以上の原子である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 1 to 5, wherein the heteroatom in the first additive is one or more atoms selected from the group consisting of a nitrogen atom, a phosphorus atom, and an oxygen atom. 前記第1の添加剤は、エーテル化合物、有機窒素化合物、アンモニウム塩、有機リン化合物及びホスホニウム塩からなる群より選ばれる1種以上を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。   The said 1st additive is a manufacture of any one of Claims 1-6 containing 1 or more types chosen from the group which consists of an ether compound, an organic nitrogen compound, an ammonium salt, an organic phosphorus compound, and a phosphonium salt. Method. 前記溶媒は、非プロトン性非求核性溶媒である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the solvent is an aprotic non-nucleophilic solvent. 前記溶媒は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン及び塩化メチレンからなる群より選ばれる1種以上の溶媒を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の製造方法。   The said solvent is a manufacturing method of any one of Claims 1-8 containing 1 or more types of solvents chosen from the group which consists of toluene, xylene, chlorobenzene, and a methylene chloride. 前記第1の工程及び前記第2の工程の少なくとも一方における反応温度が、−20℃以上である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein a reaction temperature in at least one of the first step and the second step is −20 ° C. or higher. 前記第1の工程及び前記第2の工程の少なくとも一方における反応温度が、30℃以上である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method of any one of Claims 1-10 whose reaction temperature in at least one of the said 1st process and the said 2nd process is 30 degreeC or more. 前記X2は、臭素原子、ヨウ素原子又は塩素原子である、請求項1〜11のいずれか1項に記載の製造方法。 Said X < 2 > is a manufacturing method of any one of Claims 1-11 which is a bromine atom, an iodine atom, or a chlorine atom. 下記一般式(4):
1−L−Ph−Ph−R2 (4)
で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式(5):
1−L−Ph−X1 (5)
で表される化合物と、下記一般式(1):
2−Ph−Z (1)
で表される化合物とを反応させて、上記式(4)で表される化合物を得る第3の工程を有する、製造方法。
(上記式(4)、(5)及び(1)中、R1は1つ以上の水素原子がハロゲン原子で置換されたアルキル基、アルコキシ基又はアリール基を示し、X1はアニオン性の1価の脱離基を示し、Lはスルフィド基、スルフィニル基又はスルホニル基を示し、R2はアルキル基又はアルコキシ基を示し、Phはフェニレン基を示し、Zはホウ素原子を有する1価の基を示し、式(1)において、前記ホウ素原子は前記Phに直接結合している。)
The following general formula (4):
R 1 -L-Ph-Ph-R 2 (4)
A process for producing a compound represented by
The following general formula (5):
R 1 -L-Ph-X 1 (5)
And a compound represented by the following general formula (1):
R 2 -Ph-Z (1)
The manufacturing method which has a 3rd process of making the compound represented by these react, and obtaining the compound represented by the said Formula (4).
(In the above formulas (4), (5) and (1), R 1 represents an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with a halogen atom, and X 1 is an anionic 1 R represents a sulfide group, sulfinyl group or sulfonyl group, R 2 represents an alkyl group or an alkoxy group, Ph represents a phenylene group, and Z represents a monovalent group having a boron atom. In the formula (1), the boron atom is directly bonded to the Ph.)
前記R1における前記ハロゲン原子は、フッ素原子である、請求項13に記載の製造方法。 The method according to claim 13, wherein the halogen atom in R 1 is a fluorine atom. 前記R1は、パーフルオロアルキル鎖部位を含む、請求項13又は14に記載の製造方法。 The production method according to claim 13 or 14, wherein R 1 includes a perfluoroalkyl chain moiety. 前記Lは、スルホニル基である、請求項13〜15のいずれか1項に記載の製造方法。   The said L is a manufacturing method of any one of Claims 13-15 which is a sulfonyl group. 前記X1は、臭素原子、ヨウ素原子又は塩素原子である、請求項13〜16のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to claim 13, wherein X 1 is a bromine atom, an iodine atom, or a chlorine atom. 前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、それらの化合物のうちモル基準で少ない方の化合物の量に対して0.0001〜1mol%の、パラジウム、ニッケル及び鉄からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物の存在下に反応させる、請求項13〜17のいずれか1項に記載の製造方法。   In the third step, the compound represented by the above formula (1) and the compound represented by the above formula (5) are reduced by 0 with respect to the amount of the smaller compound on a molar basis. The manufacturing method of any one of Claims 13-17 made to react in presence of the compound which has 1 or more types of metals chosen from the group which consists of 0.0001-1 mol% of palladium, nickel, and iron. 前記パラジウム、ニッケル及び鉄からなる群より選ばれる1種以上の金属を有する化合物は、パラジウムである、請求項13〜18のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 13 to 18, wherein the compound having at least one metal selected from the group consisting of palladium, nickel, and iron is palladium. 前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、第2の添加剤の存在下に反応させる、請求項13〜19のいずれか1項に記載の製造方法。   In the third step, the compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (5) are reacted in the presence of a second additive. The manufacturing method of any one of Claims. 前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる、請求項13〜20のいずれか1項に記載の製造方法。   The said 3rd process WHEREIN: The compound represented by the said Formula (1) and the compound represented by the said Formula (5) are made to react in presence of a base. The manufacturing method as described in. 前記第3の工程において、上記式(1)で表される化合物と、上記式(5)で表される化合物とを、相間移動触媒の存在下に反応させる、請求項13〜21のいずれか1項に記載の製造方法。   In the third step, the compound represented by the formula (1) and the compound represented by the formula (5) are reacted in the presence of a phase transfer catalyst. 2. The production method according to item 1. 前記第3の工程において、非水溶性有機溶媒を用いる、請求項13〜22のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 13 to 22, wherein a water-insoluble organic solvent is used in the third step. 前記第3の工程において、水溶性有機溶媒を用いる、請求項13〜22のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 13 to 22, wherein a water-soluble organic solvent is used in the third step.
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