JP2014004713A - Method for manufacturing liquid discharge jet head - Google Patents

Method for manufacturing liquid discharge jet head Download PDF

Info

Publication number
JP2014004713A
JP2014004713A JP2012140702A JP2012140702A JP2014004713A JP 2014004713 A JP2014004713 A JP 2014004713A JP 2012140702 A JP2012140702 A JP 2012140702A JP 2012140702 A JP2012140702 A JP 2012140702A JP 2014004713 A JP2014004713 A JP 2014004713A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
piezoelectric substrate
alignment mark
detection mechanism
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012140702A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhito Kodera
泰人 小寺
Shidan O
詩男 王
Toshio Suzuki
敏夫 鈴木
Mitsutoshi Hasegawa
光利 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2012140702A priority Critical patent/JP2014004713A/en
Publication of JP2014004713A publication Critical patent/JP2014004713A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a plurality of pressure chambers arranged two-dimensionally with high density and high accuracy.SOLUTION: A method for manufacturing a liquid discharge jet head includes a process for forming alignment marks 19 and 20 on first main surfaces 1aa and 1ba of a plurality of piezoelectric substrates 1 and 2, a process for forming an alignment mark 21 on a first main surface 1ca of a support substrate 3, and a process for sequentially positioning the plurality of piezoelectric substrates 1 and 2 to be joined to the support substrate 3. The alignment 21 is formed by patterns having the narrower pitch than that of a plurality of grooves 11 in a direction crossing longitudinal directions of grooves 11, 12 and 131 of the piezoelectric substrates 1 and 2. After a laminate is formed by joining the second main surface 1cb of the support substrate 3 to the first main surface 1ba of the piezoelectric substrate 2 in a state of an alignment mark 20 positioned relative to the alignment mark 21, the piezoelectric substrate 1 is joined to the side of the piezoelectric substrate 2 of the laminate in a positioned state of an alignment mark 19 by specifying the alignment mark 21 as a reference.

Description

本発明は、液体を吐出させるための圧力室を有する圧電基板を備える液体吐出ヘッドの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a liquid discharge head including a piezoelectric substrate having a pressure chamber for discharging a liquid.

PZT(Pb(Zr,Ti)O3:チタン酸ジルコン酸鉛)といった圧電材料を含む圧電基板を備えたインクジェットヘッドが知られている。 2. Related Art Ink jet heads including a piezoelectric substrate including a piezoelectric material such as PZT (Pb (Zr, Ti) O 3 : lead zirconate titanate) are known.

圧電基板を備えるインクジェットヘッドでは、圧電基板に溝が形成されており、溝の壁と、溝の開口を覆う部材とによって、インクに吐出圧力を加えるための圧力室が形成されている。溝の内壁面及び外壁面には、インクジェットヘッドの回路基板と電気的に接続された電極が設けられている。回路基板から電極に電圧を印加することによって、溝の壁が変形して圧力室の容積が変化し、圧力室内のインクに吐出圧力が加えられ、圧力室と連通された吐出口からインク滴が吐出される。   In an inkjet head including a piezoelectric substrate, a groove is formed in the piezoelectric substrate, and a pressure chamber for applying a discharge pressure to the ink is formed by a groove wall and a member covering the opening of the groove. Electrodes electrically connected to the circuit board of the ink jet head are provided on the inner wall surface and the outer wall surface of the groove. By applying a voltage from the circuit board to the electrode, the wall of the groove is deformed to change the volume of the pressure chamber, the ejection pressure is applied to the ink in the pressure chamber, and ink droplets are ejected from the ejection port connected to the pressure chamber. Discharged.

高密度な吐出を行うためには、複数の吐出口を、より一層高密度に配置する必要がある。これに伴い、各々の吐出口に対応する圧力室についても高密度に配置する必要がある。圧力室を高密度に配置可能なインクジェットヘッドの製造方法としては、特許文献1に開示されている。特許文献1に開示された製造方法では、まず複数の圧電基板の各々に、互いに同じ方向に延びた複数の溝を形成する。これら複数の圧電基板を、上下一組の支持基板の間に、それぞれ積層して配置することで、溝が圧力室として構成される。また、この積層工程において、溝の長手方向に直交する方向に位置をずらしながら圧電基板を積層することで、より一層高密度な吐出が可能な、2次元配列された圧力室を形成することが可能である。また、積層する圧電基板の厚さを、更に薄くすることによっても、圧力室の高密度化が図られる。   In order to perform high-density discharge, it is necessary to arrange a plurality of discharge ports at a higher density. Accordingly, it is necessary to arrange the pressure chambers corresponding to the respective discharge ports with high density. Patent Document 1 discloses a method for manufacturing an ink jet head in which pressure chambers can be arranged with high density. In the manufacturing method disclosed in Patent Document 1, first, a plurality of grooves extending in the same direction are formed in each of a plurality of piezoelectric substrates. The grooves are formed as pressure chambers by laminating and arranging the plurality of piezoelectric substrates between a pair of upper and lower support substrates. Also, in this laminating step, by stacking the piezoelectric substrates while shifting the position in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the grooves, it is possible to form a two-dimensionally arranged pressure chamber capable of discharging at a higher density. Is possible. In addition, the pressure chambers can be densified by further reducing the thickness of the laminated piezoelectric substrate.

また、複数の圧電基板を積層して接合する方法としては、積層する部品の一方を貫通孔として位置決めする方法が開示されている(特許文献2)。また、積層して接合する方法としては、同一基板のパターンを利用して位置決めして積層するために、2種類のアライメントマークを1枚の基板に隣接して設けて、積層時にアライメントマークを用いて位置決めする方法が開示されている(特許文献3)。   Further, as a method of laminating and bonding a plurality of piezoelectric substrates, a method of positioning one of the laminated components as a through hole is disclosed (Patent Document 2). As a method of stacking and bonding, in order to position and stack using the pattern of the same substrate, two types of alignment marks are provided adjacent to one substrate, and alignment marks are used during stacking. A positioning method is disclosed (Patent Document 3).

特開2007−168319号公報JP 2007-168319 A 特許第4699345号公報Japanese Patent No. 4699345 特開平10−239700号公報JP-A-10-239700

上述のように、高密度な積層型インクジェットヘッドの製造方法としては、圧電基板を薄くし、また各積層工程において圧電基板を溝の長手方向に直交する方向に位置をずらして位置決めし、接合する方法が考えられる。   As described above, as a method of manufacturing a high-density multilayer inkjet head, the piezoelectric substrate is thinned, and the piezoelectric substrate is positioned and bonded in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the groove in each lamination process. A method is conceivable.

この場合、特許文献1に記載の製造方法では、圧電基板にアライメントマークとして貫通孔を設ける必要があり、脆弱な圧電基板を用いた場合には、クラックが発生しやすく、またアライメントマークとしての位置精度が十分に確保できないという問題がある。   In this case, in the manufacturing method described in Patent Document 1, it is necessary to provide a through hole as an alignment mark in the piezoelectric substrate, and when a fragile piezoelectric substrate is used, cracks are likely to occur, and the position as the alignment mark There is a problem that sufficient accuracy cannot be secured.

また、特許文献2に記載の製造方法では、位置決め時のアライメントマークを同時に検出できることが前提であり、不透明な圧電基板には適用できない。また、圧電基板の表面には、凹凸が存在しているので、微細で高精度なアライメントマークを形成することが難しい。そのため、圧電基板に高密度に複数の溝を形成し、溝の長手方向に直交する方向に対して圧電基板を位置決めしながら、複数の圧電基板の積層工程を繰り返して圧力室を形成する場合、インクジェットヘッド全体での圧力室の位置精度の確保が困難であった。   In addition, the manufacturing method described in Patent Document 2 is based on the premise that alignment marks at the time of positioning can be detected simultaneously, and cannot be applied to an opaque piezoelectric substrate. In addition, since there are irregularities on the surface of the piezoelectric substrate, it is difficult to form a fine and highly accurate alignment mark. Therefore, when a plurality of grooves are formed in the piezoelectric substrate at high density, and the pressure chamber is formed by repeating the lamination process of the plurality of piezoelectric substrates while positioning the piezoelectric substrate with respect to the direction orthogonal to the longitudinal direction of the grooves, It was difficult to ensure the positional accuracy of the pressure chamber in the entire inkjet head.

そこで、本発明は、不透明で脆弱な圧電基板を用いた場合であっても、高密度かつ高精度に2次元配列された複数の圧力室を形成することができる液体吐出ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a method for manufacturing a liquid discharge head capable of forming a plurality of pressure chambers arranged two-dimensionally with high density and high accuracy even when an opaque and fragile piezoelectric substrate is used. The purpose is to do.

上記目的を達成するために、本発明に係る液体吐出ヘッドの製造方法は、液体を吐出する吐出口に連通し、吐出口から吐出される液体を貯留するための圧力室を有し、圧力室を構成する壁が伸長及び収縮することで吐出口から液体を吐出させる圧電基板を備え、圧力室が圧電基板に設けられた溝によって構成され、圧力室における、液体の供給方向と交差する断面において、第1の方向と第1の方向と交差する第2の方向のそれぞれに関して、圧力室の対向する壁の内面に電極が設けられた液体吐出ヘッドの製造方法であって、複数の圧電基板の第1の主面に第1のアライメントマークを形成する工程と、第1の主面に複数の溝を形成する工程と、溝の壁の内面を含む第1の主面に電極を形成する工程と、圧電基板を支持する支持基板の第1の主面に第2のアライメントマークを形成する工程と、支持基板に複数の圧電基板を順次、位置決めして接合する工程とを有する。第1のアライメントマーク及び第2のアライメントマークの少なくとも一方を、圧電基板の溝の長手方向に交差する方向に対して、複数の溝のピッチよりも狭い間隔のパターンで形成する。位置決めして接合する工程は、第2のアライメントマークに対して、圧電基板の第1のアライメントマークを位置決めした状態で、支持基板の第2の主面と圧電基板の第1の主面を接合して積層体を形成する第1工程と、積層体の圧電基板の側に、他の圧電基板を第2のアライメントマークを基準として、他の圧電基板の第1のアライメントマークを位置決めした状態で接合する第2工程とを含む、ことを特徴とする。   In order to achieve the above object, a method of manufacturing a liquid discharge head according to the present invention includes a pressure chamber that communicates with a discharge port that discharges liquid and stores liquid discharged from the discharge port. In a cross section that includes a piezoelectric substrate that discharges liquid from the discharge port by extending and contracting the wall, and the pressure chamber is configured by a groove provided in the piezoelectric substrate, and intersects the liquid supply direction in the pressure chamber. A method of manufacturing a liquid discharge head in which electrodes are provided on inner surfaces of opposing walls of a pressure chamber in each of a first direction and a second direction intersecting the first direction, the method comprising: Forming a first alignment mark on the first main surface; forming a plurality of grooves on the first main surface; and forming an electrode on the first main surface including the inner surface of the groove wall. And a first support substrate for supporting the piezoelectric substrate Forming a second alignment mark on a main surface, a plurality of piezoelectric substrate to the supporting substrate successively, and a step of joining is positioned. At least one of the first alignment mark and the second alignment mark is formed in a pattern having an interval narrower than the pitch of the plurality of grooves in the direction intersecting the longitudinal direction of the grooves of the piezoelectric substrate. The step of positioning and bonding is performed by bonding the second main surface of the support substrate and the first main surface of the piezoelectric substrate with the first alignment mark of the piezoelectric substrate positioned relative to the second alignment mark. The first alignment mark of the other piezoelectric substrate is positioned on the piezoelectric substrate side of the laminate with the second alignment mark as a reference on the piezoelectric substrate side of the laminate. And a second step of bonding.

本発明によれば、第1及び第2のアライメントマークを基準として、支持基板と複数の圧電基板を位置決めすることで、支持基板に対して各圧電基板の位置を容易にずらし、位置決めして接合することが可能になる。その結果、本発明は、支持基板に積層された各圧電基板の圧力室を高密度かつ高精度に形成することができる。   According to the present invention, by positioning the support substrate and the plurality of piezoelectric substrates based on the first and second alignment marks, the position of each piezoelectric substrate can be easily shifted with respect to the support substrate, and positioned and bonded. It becomes possible to do. As a result, the present invention can form the pressure chambers of each piezoelectric substrate stacked on the support substrate with high density and high accuracy.

第1の実施形態に係る支持基板、第1及び第2の圧電基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the support substrate which concerns on 1st Embodiment, and the 1st and 2nd piezoelectric substrate. 第1の実施形態に係るアライメントマークを示す平面図である。It is a top view which shows the alignment mark which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係るアライメントマークを示す平面図である。It is a top view which shows the alignment mark which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る位置決め接合装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the positioning joining apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施例に係る位置決めして接合する工程の流れを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the flow of the process of positioning and joining which concerns on a 1st Example. 第1の実施例に係る位置決めして接合する工程の流れを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the flow of the process of positioning and joining which concerns on a 1st Example. 第1の実施例に係る支持基板及び圧電基板によって形成された圧力室を示す積層体の断面図である。It is sectional drawing of the laminated body which shows the pressure chamber formed of the support substrate and piezoelectric substrate which concern on a 1st Example. 第1の実施例に係る支持基板及び圧電基板によって形成された積層体の圧力室を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the pressure chamber of the laminated body formed with the support substrate and piezoelectric substrate which concern on a 1st Example. 第1の実施例に係る支持基板及び圧電基板によって形成された積層対の圧力室を示す積層体の断面図である。It is sectional drawing of the laminated body which shows the pressure chamber of the lamination | stacking pair formed with the support substrate and piezoelectric substrate which concern on a 1st Example. 第2の実施例に係る位置決めして接合する工程の流れを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the flow of the process of positioning and joining which concerns on a 2nd Example.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
図1(a)、(b)、(c)に、実施形態に係る第1の圧電基板、第2の圧電基板、支持基板の断面図をそれぞれ示す。
(First embodiment)
1A, 1B, and 1C are cross-sectional views of a first piezoelectric substrate, a second piezoelectric substrate, and a support substrate according to the embodiment, respectively.

(第1の圧電基板1)
第1の圧電基板1としては、外形寸法が50mm×50mm×0.2mmの不透明な基板であるPZT基板が挙げられる。図1(a)に示すように、第1の圧電基板1には、第1の主面1aa側に、液体としてのインクを吐出する吐出口に連通し、吐出口から吐出されるインクを貯留するための圧力室となる複数の溝11が形成されている。また、第1の圧電基板1には、第1の主面1aa側に、溝11を間に挟むように空気室となる複数の溝12が形成されている。これら複数の溝11と、複数の溝12は、長手方向を同一方向に揃えて形成されている。そして、第1及び第2の圧電基板1、2、支持基板3の積層後(以下、単に積層後と称する。)に、溝11によって圧力室が構成され、溝12によって空気室が構成される。第1の圧電基板1は、圧力室を構成する壁が伸長及び収縮することで吐出口からインク吐出させる。
(First piezoelectric substrate 1)
Examples of the first piezoelectric substrate 1 include a PZT substrate which is an opaque substrate having an outer dimension of 50 mm × 50 mm × 0.2 mm. As shown in FIG. 1A, the first piezoelectric substrate 1 is connected to an ejection port that ejects ink as a liquid and stores ink ejected from the ejection port on the first main surface 1aa side. A plurality of grooves 11 serving as pressure chambers are formed. The first piezoelectric substrate 1 has a plurality of grooves 12 serving as air chambers on the first main surface 1aa side so as to sandwich the grooves 11 therebetween. The plurality of grooves 11 and the plurality of grooves 12 are formed with their longitudinal directions aligned in the same direction. After the first and second piezoelectric substrates 1 and 2 and the support substrate 3 are laminated (hereinafter simply referred to as “laminated”), the groove 11 forms a pressure chamber, and the groove 12 forms an air chamber. . The first piezoelectric substrate 1 causes ink to be ejected from the ejection port by extending and contracting the walls constituting the pressure chamber.

溝11、12の形成方法としては、超砥粒ホイールを用いた研削加工(ダイシング加工)が好適である。一例として溝11は、幅が0.12mm、深さを0.12mmとし、各溝11のピッチを0.378mmとした。また、溝12は、幅を0.22mm、深さを0.12mmとし、各溝12のピッチを0.378mmとした。   As a method for forming the grooves 11 and 12, grinding (dicing) using a superabrasive wheel is suitable. As an example, the groove 11 has a width of 0.12 mm, a depth of 0.12 mm, and the pitch of each groove 11 is 0.378 mm. The grooves 12 had a width of 0.22 mm, a depth of 0.12 mm, and a pitch of each groove 12 of 0.378 mm.

また、第1の圧電基板1の溝12の外側には、積層時の位置決め用の第1のアライメントマークとしてのアライメントマーク19が形成されている。アライメントマーク19の形状の平面図を図2(a)に示す。図2(a)に示すように、アライメントマーク19は、複数のL字状のパターンが組み合わされてなる十字状のパターンとして構成されている。   An alignment mark 19 as a first alignment mark for positioning at the time of stacking is formed outside the groove 12 of the first piezoelectric substrate 1. A plan view of the shape of the alignment mark 19 is shown in FIG. As shown in FIG. 2A, the alignment mark 19 is configured as a cross-shaped pattern formed by combining a plurality of L-shaped patterns.

アライメントマーク19を用いることで、図2(b)中に点線201、202で示すように、X,Y軸方向のそれぞれに対して、アライメントマーク19を構成するパターンの中心を検出することが可能になる。   By using the alignment mark 19, as shown by dotted lines 201 and 202 in FIG. 2B, it is possible to detect the center of the pattern constituting the alignment mark 19 in each of the X and Y axis directions. become.

アライメントマーク19は、フォトリソグラフィ法のリフトオフ方式を用いて形成されている。第1の圧電基板1上にフィルムレジストをラミネートし、露光、現像した後、金属膜を真空中で成膜する。金属膜として、スパッタ法によるCr膜を厚さ20nm程度、さらにPd膜を厚さ150nm程度で成膜し、フィルムレジストを剥離、リフトオフすることで、アライメントマーク19を形成した。   The alignment mark 19 is formed using a lift-off method of photolithography. After laminating a film resist on the first piezoelectric substrate 1, exposing and developing, a metal film is formed in vacuum. As a metal film, a Cr film by sputtering was formed with a thickness of about 20 nm, and a Pd film was formed with a thickness of about 150 nm, and the film resist was peeled off and lifted off to form alignment marks 19.

図1(a)に示すように、溝11、12の内面には、積層後に圧力室となる壁の分極処理及び駆動用の電極14、15、16が設けられている。圧力室における、インクの供給方向と交差する断面において、第1の方向と第1の方向と交差する第2の方向のそれぞれに関して、圧力室の対向する壁の内面に、電極14、15、16が設けられている。   As shown in FIG. 1A, electrodes 14, 15, and 16 are provided on the inner surfaces of the grooves 11 and 12 for polarization processing and driving of walls that become pressure chambers after lamination. In the cross section intersecting with the ink supply direction in the pressure chamber, the electrodes 14, 15, 16 are formed on the inner surfaces of the opposing walls of the pressure chamber in each of the first direction and the second direction intersecting the first direction. Is provided.

これら電極14、15、16は、アライメントマーク19と同時に形成することができる。リフトオフ法を用いて金属膜パターンを形成した後、Pd膜をシード層としてNiめっきを1000nm程度の厚さで形成し、表面のNiをAuに置換めっきすることによっても形成することができる。   These electrodes 14, 15 and 16 can be formed simultaneously with the alignment mark 19. After the metal film pattern is formed by using the lift-off method, the Pd film can be used as a seed layer to form Ni plating with a thickness of about 1000 nm, and the surface Ni can be formed by substitution plating with Au.

続いて、電極14、15、16を用いて、分極処理を行った。電極14を正極とし、電極15、16を負極として、絶縁性液体中において100℃に保った状態で電界強度1.5kV/mmに設定して分極処理を行った。これにより、圧力室を構成する3つの壁は、矢印22で示す方向に対して分極される。   Subsequently, polarization treatment was performed using the electrodes 14, 15, and 16. The electrode 14 was used as the positive electrode and the electrodes 15 and 16 were used as the negative electrode, and polarization treatment was performed with the electric field strength set at 1.5 kV / mm in a state maintained at 100 ° C. in the insulating liquid. As a result, the three walls constituting the pressure chamber are polarized in the direction indicated by the arrow 22.

(第2の圧電基板2)
次に、第2の圧電基板2について説明する。第2の圧電基板2の断面図を図1(b)に示す。第2の圧電基板2は、第1の圧電基板1と同様に、外形寸法が50mm×50mm×0.2mmの不透明な基板であるPZT基板を用いた。第2の圧電基板2の第1の主面1ba側には、積層後に空気室を構成する溝13が、第1の圧電基板1の溝11、12の長手方向と平行に延ばして形成されている。溝13は、幅を0.22mmとし、深さを0.12mmとし、各溝13のピッチを0.378mmとした。溝13の床壁(厚さ80μm)は、積層後に圧力室を構成する1つの壁となる。第2の圧電基板2の溝13の外側に、積層時の位置決め用の第1のアライメントマークとしてのアライメントマーク20が形成されている。アライメントマーク20は、図2に示した第1の圧電基板1のアライメントマーク19と同じ形状に、同じ形成方法で形成した。また、第2の圧電基板2にも、第1の圧電基板1と同様に、電極17、18を形成した。第2の圧電基板2においても、電極17、18を用いて第1の圧電基板1と同様な方法で分極処理を行い、図1(b)における矢印23に示す方向に対して分極した。
(Second piezoelectric substrate 2)
Next, the second piezoelectric substrate 2 will be described. A sectional view of the second piezoelectric substrate 2 is shown in FIG. Similar to the first piezoelectric substrate 1, the second piezoelectric substrate 2 was a PZT substrate that is an opaque substrate having an outer dimension of 50 mm × 50 mm × 0.2 mm. On the first main surface 1ba side of the second piezoelectric substrate 2, a groove 13 constituting an air chamber after lamination is formed extending in parallel with the longitudinal direction of the grooves 11 and 12 of the first piezoelectric substrate 1. Yes. The grooves 13 had a width of 0.22 mm, a depth of 0.12 mm, and a pitch of each groove 13 of 0.378 mm. The floor wall (thickness 80 μm) of the groove 13 becomes one wall constituting the pressure chamber after lamination. An alignment mark 20 as a first alignment mark for positioning at the time of stacking is formed outside the groove 13 of the second piezoelectric substrate 2. The alignment mark 20 was formed in the same shape as the alignment mark 19 of the first piezoelectric substrate 1 shown in FIG. Similarly to the first piezoelectric substrate 1, electrodes 17 and 18 were formed on the second piezoelectric substrate 2. The second piezoelectric substrate 2 was also polarized in the direction indicated by the arrow 23 in FIG. 1B by performing polarization processing using the electrodes 17 and 18 in the same manner as the first piezoelectric substrate 1.

(支持基板3)
次に、支持基板3について説明する。支持基板3の断面図を図1(c)に示す。支持基板3は、積層体の最上部に積層される基板であり、積層されて構成された積層体全体の反りを矯正する機能を奏する。支持基板3の大きさとしては、第1及び第2の圧電基板1、2と同等、またはそれ以上であればよい。支持基板3の材質は、第1及び第2の圧電基板1、2と同じである必要はないが、加熱時の熱膨張等を考慮して、外形寸法が50mm×50mm×5mmのPZT基板を用いた。
(Support substrate 3)
Next, the support substrate 3 will be described. A cross-sectional view of the support substrate 3 is shown in FIG. The support substrate 3 is a substrate laminated on the uppermost part of the laminate, and has a function of correcting the warp of the entire laminate constituted by being laminated. The size of the support substrate 3 may be equal to or larger than that of the first and second piezoelectric substrates 1 and 2. The material of the support substrate 3 is not necessarily the same as that of the first and second piezoelectric substrates 1 and 2, but a PZT substrate having an outer dimension of 50 mm × 50 mm × 5 mm is taken into consideration in consideration of thermal expansion during heating. Using.

図1(c)に示すように、支持基板3の第1の主面1ca側に、第2のアライメントマークとしてのアライメントマーク21を、第1の圧電基板1のアライメントマーク19及び第2の圧電基板2のアライメントマーク20と同様の形成方法で形成した。アライメントマーク21の形状は、図3(a)、(b)に示すように、第1及び第2の圧電基板1、2の溝11、12、13の長手方向に直交(交差)するY軸方向に対して延びる直線状のパターンを有している。また、アライメントマーク21の形状は、溝11、12、13の長手方向と平行なX軸方向に対して延びた一対の櫛歯状のパターンを有している。アライメントマーク21は、直線状のパターンと、櫛歯状のパターンとを組み合わせて構成されている。   As shown in FIG. 1C, an alignment mark 21 as a second alignment mark is formed on the first main surface 1ca side of the support substrate 3, and the alignment mark 19 of the first piezoelectric substrate 1 and the second piezoelectric element. It was formed by the same formation method as the alignment mark 20 of the substrate 2. As shown in FIGS. 3A and 3B, the alignment mark 21 has a Y axis perpendicular to (crossing) the longitudinal direction of the grooves 11, 12, 13 of the first and second piezoelectric substrates 1, 2. It has a linear pattern extending in the direction. The alignment mark 21 has a pair of comb-like patterns extending in the X-axis direction parallel to the longitudinal direction of the grooves 11, 12, and 13. The alignment mark 21 is configured by combining a linear pattern and a comb-like pattern.

Y軸方向に延びた直線状のパターンの中心線301に対して、X軸方向の両側にそれぞれ延びた一対の櫛歯状のパターンは、櫛歯状のパターンのピッチが、互いに半ピッチずれる位置に形成されている。例えば、それぞれの櫛歯のY軸方向のピッチを84.7μmとした場合、半ピッチである42.3μmだけずれたパターンが存在することで、Y軸方向の位置を42.3μm間隔で連続的に検出できるようになる。   A pair of comb-like patterns extending on both sides in the X-axis direction with respect to the center line 301 of the linear pattern extending in the Y-axis direction is a position where the pitches of the comb-like patterns are shifted from each other by a half pitch. Is formed. For example, when the pitch of each comb tooth in the Y-axis direction is 84.7 μm, there is a pattern shifted by 42.3 μm, which is a half pitch, so that the positions in the Y-axis direction are continuously spaced at intervals of 42.3 μm. Can be detected.

また、櫛歯状のパターンは、溝11、12、13のピッチよりも狭く、かつ等しい間隔で形成されている。櫛歯状のパターンを用いることで、溝11、12、13の長手方向に直交する方向に、溝11、12、13のピッチよりも狭い間隔で位置をずらして、第1の圧電基板1を位置決めすることが可能になる。これにより、第1の圧電基板1の積層方向に対する圧力室の配列が、圧電基板1、2の溝11、12、13のピッチよりも狭い間隔で、溝11、12、13の長手方向に対して位置がずれた複数の圧力室が形成される。   Further, the comb-like patterns are narrower than the pitch of the grooves 11, 12, and 13 and are formed at equal intervals. By using a comb-like pattern, the position of the first piezoelectric substrate 1 is shifted in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the grooves 11, 12, 13 by an interval narrower than the pitch of the grooves 11, 12, 13. It becomes possible to position. Thereby, the arrangement of the pressure chambers in the stacking direction of the first piezoelectric substrate 1 is narrower than the pitch of the grooves 11, 12, 13 of the piezoelectric substrates 1, 2 with respect to the longitudinal direction of the grooves 11, 12, 13. Thus, a plurality of pressure chambers whose positions are shifted are formed.

圧電基板1、2の表面には、凹凸が存在しており、レジストの線幅を細くした場合、パターンのエッジ部のパターン乱れ、またレジストの剥れ等を招き、線幅の細線化が困難である。しかしながら、上述した櫛歯状のパターンからなるアライメントマーク21を用いることで、上述のような問題を引き起こさずに、50μm以下の間隔の位置を検出することが可能となる。   There are irregularities on the surfaces of the piezoelectric substrates 1 and 2, and when the resist line width is narrowed, the pattern edge portion of the pattern is disturbed and the resist is peeled off, making it difficult to thin the line width. It is. However, by using the alignment mark 21 composed of the comb-like pattern described above, it is possible to detect the positions at intervals of 50 μm or less without causing the above-described problems.

本実施形態では、積層体の最上部となる支持基板3上に、図3(a)に示すようなアライメントマーク21が形成された。しかし、上述の第1及び第2の圧電基板1、2のアライメントマーク19、20が、このような櫛歯状のパターンによって構成されてもよく、アライメントマークの少なくともいずれか1つが、櫛歯状のパターンが採用されていればよい。   In this embodiment, the alignment mark 21 as shown in FIG. 3A is formed on the support substrate 3 which is the uppermost part of the laminate. However, the alignment marks 19 and 20 of the first and second piezoelectric substrates 1 and 2 may be configured by such a comb-like pattern, and at least one of the alignment marks is a comb-teeth shape. As long as the pattern is adopted.

(位置決めして接合する工程)
上記方法によって形成された支持基板3及び複数の第1及び第2の圧電基板1、2の位置決めして接合する方法について説明する。
(Positioning and joining process)
A method of positioning and bonding the support substrate 3 and the plurality of first and second piezoelectric substrates 1 and 2 formed by the above method will be described.

図4に、本実施形態で用いる位置決め接合装置の概略図を示す。図5に、位置決めして接合する工程の流れを説明する模式図を示す。図4に示すように、位置決め接合装置は、アライメントマーク19、20、21を拡大して検出するための検出機構部としてのカメラユニット401を有している。カメラユニット401は、X、Y,Z軸方向に対する位置を調整可能な機構を備えている。また、第1のステージとしての上基板吸着ステージ402は、アライメントマーク19、20、21を上方から検出するために、アライメントマーク19、20,21に対応する位置に切り欠き部404が形成されている。上基板吸着ステージ402は、Y軸方向に対して水平方向と平行に移動可能であり、X−Y平面に対して傾斜する角度θを調整可能な機構を備えている。第2のステージとしての下基板吸着ステージ403は、X、Y,Z軸方向の位置及びX−Y平面に対する角度θを調整可能な機構を備えている。   FIG. 4 shows a schematic diagram of a positioning and joining apparatus used in the present embodiment. FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the flow of the process of positioning and joining. As shown in FIG. 4, the positioning and joining apparatus has a camera unit 401 as a detection mechanism unit for enlarging and detecting the alignment marks 19, 20, and 21. The camera unit 401 includes a mechanism capable of adjusting the position in the X, Y, and Z axis directions. Further, the upper substrate suction stage 402 as the first stage has a notch 404 formed at a position corresponding to the alignment marks 19, 20, 21 in order to detect the alignment marks 19, 20, 21 from above. Yes. The upper substrate suction stage 402 is movable in parallel to the horizontal direction with respect to the Y-axis direction, and includes a mechanism capable of adjusting an angle θ inclined with respect to the XY plane. The lower substrate suction stage 403 as the second stage includes a mechanism capable of adjusting the position in the X, Y, and Z axis directions and the angle θ with respect to the XY plane.

図5に、位置決めして接合する工程の各ステップの概略図を示す。   FIG. 5 shows a schematic diagram of each step in the process of positioning and joining.

[1] 図5(a)に示すように、まず支持基板3のアライメントマーク21が形成された第1の主面1ca側を、上基板吸着ステージ402に吸着固定する。そのとき、図5中の左右にそれぞれ配置されたアライメントマーク21が、切り欠き部404の内側に位置するように、支持基板3を上基板吸着ステージ402に固定する。   [1] As shown in FIG. 5A, first, the first main surface 1 ca side of the support substrate 3 on which the alignment mark 21 is formed is suction fixed to the upper substrate suction stage 402. At that time, the support substrate 3 is fixed to the upper substrate suction stage 402 so that the alignment marks 21 respectively arranged on the left and right in FIG. 5 are positioned inside the notch 404.

[2] この状態で、図3(b)に示した点線302と中心線301の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように、カメラユニット401のX,Y,Z軸方向に対する位置を調整し、カメラユニット401を固定する。   [2] In this state, the X, Y, and Z axes of the camera unit 401 are set so that the intersection of the dotted line 302 and the center line 301 shown in FIG. The camera unit 401 is fixed by adjusting the position with respect to the direction.

[3] 続いて、図5(b)に示すように、上基板吸着ステージ402を水平方向(Y軸方向)に移動させ、カメラユニット401から離間させる。   [3] Subsequently, as shown in FIG. 5B, the upper substrate suction stage 402 is moved in the horizontal direction (Y-axis direction) and separated from the camera unit 401.

[4] 第2の圧電基板2の溝13及びアライメントマーク20が形成された第1の主面1baに、接着層となる例えばエポキシ系の接着剤(図示せず)を、溝13内に入り込まないようにフレキソ印刷法等を用いて塗布する。このとき、アライメントマーク20の上には、接着剤が塗布されないようにすることが望ましい。次に、図5(c)に示すように、第2の圧電基板2の第2の主面1bb側を下基板吸着ステージ403に吸着して固定する。続いて、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、第2の圧電基板2の第1の主面1baが、カメラユニット401の焦点位置に移動するようにZ軸方向に対して調整する。   [4] For example, an epoxy adhesive (not shown) serving as an adhesive layer enters the groove 13 on the first main surface 1ba on which the groove 13 and the alignment mark 20 of the second piezoelectric substrate 2 are formed. Apply using flexographic printing method. At this time, it is desirable that the adhesive is not applied on the alignment mark 20. Next, as shown in FIG. 5C, the second main surface 1 bb side of the second piezoelectric substrate 2 is sucked and fixed to the lower substrate suction stage 403. Subsequently, the lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, and the first main surface 1ba of the second piezoelectric substrate 2 is moved with respect to the Z-axis direction so as to move to the focal position of the camera unit 401. adjust.

[5] この状態で、下基板吸着ステージ403のX、Y軸に対する角度θを調整し、図2(b)に示したアライメントマーク20の中心位置、つまり点線201と点線202の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致させる。   [5] In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the lower substrate suction stage 403 is adjusted, and the center position of the alignment mark 20 shown in FIG. 2B, that is, the intersection of the dotted line 201 and the dotted line 202 is the camera. It matches with the center position of the captured image of the unit 401.

[6] 図6(a)に示すように、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して下降させる。   [6] As shown in FIG. 6A, the lower substrate suction stage 403 is lowered with respect to the Z-axis direction.

[7] 図6(b)に示すように、上基板吸着ステージ402を水平方向に移動し、図5(a)に示したようにアライメントマーク21の位置を調整した位置に戻す。このとき、アライメントマーク21の点線302と中心線301の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致したことを確認する。アライメントマーク21の位置がずれていた場合には、点線302と中心線301の交点が撮影画像の中心位置に一致するように上基板吸着ステージ402のX,Y軸に対する角度θを調整する。   [7] As shown in FIG. 6B, the upper substrate suction stage 402 is moved in the horizontal direction, and the position of the alignment mark 21 is returned to the adjusted position as shown in FIG. At this time, it is confirmed that the intersection of the dotted line 302 and the center line 301 of the alignment mark 21 matches the center position of the captured image of the camera unit 401. When the position of the alignment mark 21 is shifted, the angle θ with respect to the X and Y axes of the upper substrate suction stage 402 is adjusted so that the intersection of the dotted line 302 and the center line 301 coincides with the center position of the captured image.

[8] 図6(c)に示すように、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、支持基板3に第2の圧電基板2を近接させて、支持基板3の第2の主面1cbと、第2の圧電基板2の第1の主面1baを接合させる。これによって、支持基板3と第2の圧電基板2が積層された積層体が形成される。続いて、この積層体の支持基板3の第1の主面1ca側を上基板吸着ステージ402に吸着固定し、第1の圧電基板1の第2の主面1ab側を下基板吸着ステージ403に吸着固定して、[1]〜[8]に示したステップと同様に行った。これにより、図7に示すように、支持基板3、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1の順に積層された積層体を形成した。この積層体における第1の圧電基板1の溝11は、分極された4つの壁で囲まれた圧力室801として機能することになる。   [8] As shown in FIG. 6C, the lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, the second piezoelectric substrate 2 is brought close to the support substrate 3, and the second substrate The main surface 1cb and the first main surface 1ba of the second piezoelectric substrate 2 are joined. Thereby, a laminated body in which the support substrate 3 and the second piezoelectric substrate 2 are laminated is formed. Subsequently, the first main surface 1 ca side of the support substrate 3 of this laminate is sucked and fixed to the upper substrate suction stage 402, and the second main surface 1 ab side of the first piezoelectric substrate 1 is attached to the lower substrate suction stage 403. Adsorption and fixation were performed in the same manner as the steps shown in [1] to [8]. As a result, as shown in FIG. 7, a laminated body was formed in which the support substrate 3, the second piezoelectric substrate 2, and the first piezoelectric substrate 1 were laminated in this order. The groove 11 of the first piezoelectric substrate 1 in this laminated body functions as a pressure chamber 801 surrounded by four polarized walls.

[9] 次に、この積層体の支持基板3の第1の主面1ca側を上基板吸着ステージ402に吸着固定し、[1]、[2]に示したステップと同様な方法で、カメラユニット401の位置調整を行う。このとき、積層体の最上層である支持基板3のアライメントマーク21における、図3(b)に示した点線303と中心線301の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように調整を行った。   [9] Next, the first main surface 1ca side of the support substrate 3 of this laminate is sucked and fixed to the upper substrate suction stage 402, and the camera is used in the same manner as the steps shown in [1] and [2]. The position of the unit 401 is adjusted. At this time, the intersection of the dotted line 303 and the center line 301 shown in FIG. 3B in the alignment mark 21 of the support substrate 3 which is the uppermost layer of the laminated body coincides with the center position of the photographed image of the camera unit 401. Adjustments were made.

[10] 続いて、下基板吸着ステージ403に、複数用意した別の第2の圧電基板2の第2の主面1bb側を吸着固定し、[3]〜[8]に示したステップと同様に行い、支持基板3、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1、第2の圧電基板2の順に積層体を形成した。   [10] Subsequently, the second main surface 1bb side of another prepared second piezoelectric substrate 2 is suction fixed to the lower substrate suction stage 403, and the same steps as described in [3] to [8] are performed. Then, a laminated body was formed in the order of the support substrate 3, the second piezoelectric substrate 2, the first piezoelectric substrate 1, and the second piezoelectric substrate 2.

[11] 次に、この積層体の支持基板3の第1の主面1ca側を上基板吸着ステージ402に吸着固定し、[1]、[2]に示したステップと同様に、カメラユニット401の位置の調整を行う。このとき、積層体の最上層である支持基板3のアライメントマーク21における、図3(b)に示した点線303と中心線301の交点が、撮影画像の中心位置に一致するように調整を行った。   [11] Next, the first main surface 1ca side of the support substrate 3 of this laminate is sucked and fixed to the upper substrate suction stage 402, and the camera unit 401 is similar to the steps shown in [1] and [2]. Adjust the position of. At this time, adjustment is performed so that the intersection of the dotted line 303 and the center line 301 shown in FIG. 3B in the alignment mark 21 of the support substrate 3 which is the uppermost layer of the laminate coincides with the center position of the photographed image. It was.

[12] 最後に、下基板吸着ステージ403に、複数用意した別の第1の圧電基板1の第2の主面1ab側を吸着固定し、[3]〜[8]に示したステップと同様に行った。これにより、図8に示すように、支持基板3、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1の順に、第1の圧電基板1と第2の圧電基板2が交互に積層された積層体を形成した。   [12] Finally, the second main surface 1ab side of a plurality of different first piezoelectric substrates 1 prepared by suction is fixed to the lower substrate suction stage 403, and the same steps as described in [3] to [8] are performed. Went to. As a result, as shown in FIG. 8, the first piezoelectric substrate 1 in the order of the support substrate 3, the second piezoelectric substrate 2, the first piezoelectric substrate 1, the second piezoelectric substrate 2, and the first piezoelectric substrate 1. And the second piezoelectric substrate 2 were alternately stacked.

積層体に、第1及び第2の圧電基板1、2を積層することで新たに形成される圧力室802は、上の層の圧力室801に対して、溝11の長手方向に直交する方向に42.3μmずれた位置に形成されることになる。   The pressure chamber 802 newly formed by laminating the first and second piezoelectric substrates 1 and 2 on the laminate is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the groove 11 with respect to the pressure chamber 801 of the upper layer. In this case, it is formed at a position shifted by 42.3 μm.

さらに、[9]〜[12]に示したステップを、[9]と[11]に示したステップと位置決め位置を順次ずらし、つまりアライメントマーク21を利用して、図3(b)に示した中心線301と点線304〜310までの交点にそれぞれ位置決めしながら7回繰返した。更に、第2の圧電基板2を下方に1つ積層し、また更に最下層として別の支持基板3を接合して、図9に示すような積層体からなる液体吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッドを形成した。積層された各層に形成された圧力室801〜809は、溝11の長手方向に直交する方向に対してそれぞれ42.3μmずれた位置に形成される。各圧力室801〜809の中心位置を、測長器を用いて測定したところ、±3μmの範囲で精度良く形成されていた。このように製造されたインクジェットヘッドは、600dpi(dots per inch)の高密度で吐出することが可能となる。   Further, the steps shown in [9] to [12] are sequentially shifted from the steps shown in [9] and [11] and the positioning positions, that is, the alignment mark 21 is used to show the steps shown in FIG. It repeated 7 times, positioning at the intersection of the center line 301 and the dotted lines 304-310, respectively. Further, one second piezoelectric substrate 2 is stacked below, and another support substrate 3 is bonded as the lowermost layer to form an ink jet head as a liquid discharge head composed of the stacked body as shown in FIG. did. The pressure chambers 801 to 809 formed in the stacked layers are formed at positions shifted by 42.3 μm with respect to the direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove 11. When the center positions of the pressure chambers 801 to 809 were measured using a length measuring device, they were accurately formed in a range of ± 3 μm. The inkjet head manufactured in this way can be ejected at a high density of 600 dpi (dots per inch).

(第2の実施例)
第1の実施例と同様の第1及び第2の圧電基板1、2、支持基板3を準備した。また、位置決めして接合する工程も、第1の実施例と同様の位置決め接合装置を用いた。なお、第2の実施例において、第1の実施例と同一の構成要素については、同一の符号を付して簡単な説明に留める。
(Second embodiment)
First and second piezoelectric substrates 1 and 2 and a support substrate 3 similar to those in the first embodiment were prepared. Also, the positioning and joining apparatus similar to that of the first example was used for the step of positioning and joining. Note that in the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and only a brief description is given.

(位置決めして接合する工程)
支持基板3、複数の第1及び第2の圧電基板1、2の位置決め接合方法について説明する。図10に、本実施例で行った位置決めして接合する工程の流れを示す。
(Positioning and joining process)
A method for positioning and bonding the support substrate 3 and the plurality of first and second piezoelectric substrates 1 and 2 will be described. FIG. 10 shows the flow of the process of positioning and joining performed in this embodiment.

[1] 第1の実施例と同じ方法で、第2の圧電基板2の面1baに接着剤を塗布した。次に、図10(a)に示すように、第2の圧電基板2の第2の主面1bb側を下基板吸着ステージ403に吸着固定する。そして、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、第2の圧電基板2の第2の主面1bbがカメラユニット401の焦点位置に位置するようにZ軸方向に対して位置決めする。この状態で、下基板吸着ステージ403のX、Y軸に対する角度θまたはカメラユニット401のX,Y,Z軸に対する位置を調整する。この調整位置は、図2(b)に示したアライメントマーク20の中心位置、つまり点線201と点線202の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように位置決めする。この状態で、カメラユニット401を固定した後、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して降下させる。   [1] An adhesive was applied to the surface 1ba of the second piezoelectric substrate 2 in the same manner as in the first example. Next, as shown in FIG. 10A, the second main surface 1bb side of the second piezoelectric substrate 2 is suction fixed to the lower substrate suction stage 403. Then, the lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, and is positioned with respect to the Z-axis direction so that the second main surface 1bb of the second piezoelectric substrate 2 is located at the focal position of the camera unit 401. . In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the lower substrate suction stage 403 or the position of the camera unit 401 with respect to the X, Y and Z axes is adjusted. This adjustment position is positioned so that the center position of the alignment mark 20 shown in FIG. 2B, that is, the intersection of the dotted line 201 and the dotted line 202 coincides with the center position of the captured image of the camera unit 401. In this state, after fixing the camera unit 401, the lower substrate suction stage 403 is lowered with respect to the Z-axis direction.

[2] 次に、支持基板3の第1の主面1ca側を、上基板吸着ステージ402に吸着固定する。そのとき、左右一組のアライメントマーク21が切り欠き部404の内側に位置するように固定する。続いて、図10(b)に示すように、上基板吸着ステージ402をY軸方向に対して水平移動し、カメラユニット401によってアライメントマーク21を検出する。この状態で図3(b)に示した点線302と中心線301の交点がカメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように上基板吸着ステージ402のX、Y軸に対する角度θを調整した。   [2] Next, the first main surface 1 ca side of the support substrate 3 is suction fixed to the upper substrate suction stage 402. At that time, the pair of left and right alignment marks 21 are fixed so as to be positioned inside the notch 404. Subsequently, as shown in FIG. 10B, the upper substrate suction stage 402 is moved horizontally with respect to the Y-axis direction, and the alignment mark 21 is detected by the camera unit 401. In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the upper substrate suction stage 402 is adjusted so that the intersection of the dotted line 302 and the center line 301 shown in FIG. .

[3] その後、図10(c)に示すように、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、支持基板3に第2の圧電基板2を近接させ、支持基板3の第2の主面1cbと、第2の圧電基板2の第1の主面1baを接合した。これにより、支持基板3と第2の圧電基板2が積層された積層体が形成される。   [3] Thereafter, as shown in FIG. 10C, the lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, the second piezoelectric substrate 2 is brought close to the support substrate 3, and the second of the support substrate 3 is The main surface 1cb of the second piezoelectric substrate 2 and the first main surface 1ba of the second piezoelectric substrate 2 were joined. Thereby, a laminated body in which the support substrate 3 and the second piezoelectric substrate 2 are laminated is formed.

[4] 次に、第1の圧電基板1の第1の主面1aaに接着剤を塗布した。続いて、第1の圧電基板1の第2の主面1abを下基板吸着ステージ403に吸着し、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、第1の主面1aaが、カメラユニット401の焦点位置に位置するようにZ軸方向に対して調整した。この状態で、下基板吸着ステージ403のX、Y軸に対する角度θまたはカメラユニット401のX,Y,Z軸方向に対する位置を調整する。この調整位置は、図2(b)に示したアライメントマーク20の中心位置、つまり点線201と点線202の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように調整する。この状態で、カメラユニット401を固定した後、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して降下させる。   [4] Next, an adhesive was applied to the first main surface 1aa of the first piezoelectric substrate 1. Subsequently, the second main surface 1ab of the first piezoelectric substrate 1 is sucked to the lower substrate suction stage 403, the lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, and the first main surface 1aa is Adjustment was made with respect to the Z-axis direction so as to be positioned at the focal position of the unit 401. In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the lower substrate suction stage 403 or the position of the camera unit 401 with respect to the X, Y, and Z axis directions is adjusted. This adjustment position is adjusted so that the center position of the alignment mark 20 shown in FIG. 2B, that is, the intersection of the dotted line 201 and the dotted line 202 coincides with the center position of the captured image of the camera unit 401. In this state, after fixing the camera unit 401, the lower substrate suction stage 403 is lowered with respect to the Z-axis direction.

[5] 次に、上述の[3]に示したステップで形成した支持基板3と第2の圧電基板2の積層体の支持基板3の第1の主面1caを上基板吸着ステージ402に吸着固定する。そのとき、左右一組のアライメントマーク21が切り欠き部404の内側に位置するように固定する。続いて、上基板吸着ステージ402をY軸方向に対して水平移動させ、カメラユニット401によってアライメントマーク21を検出する。この状態で、図3(b)に示した点線302と中心線301の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように、上基板吸着ステージ402のX、Y軸に対する角度θを調整した。   [5] Next, the first main surface 1 ca of the support substrate 3 of the laminate of the support substrate 3 and the second piezoelectric substrate 2 formed in the step shown in the above [3] is adsorbed to the upper substrate adsorption stage 402. Fix it. At that time, the pair of left and right alignment marks 21 are fixed so as to be positioned inside the notch 404. Subsequently, the upper substrate suction stage 402 is moved horizontally with respect to the Y-axis direction, and the alignment mark 21 is detected by the camera unit 401. In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the upper substrate suction stage 402 so that the intersection of the dotted line 302 and the center line 301 shown in FIG. 3B matches the center position of the captured image of the camera unit 401. Adjusted.

[6] この状態で、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、積層体の第2の圧電基板2の第2の主面1bbと、第1の圧電基板1の第1の主面1aaとを接合する。これにより、支持基板3、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1の順に積層して積層体を形成した。   [6] In this state, the lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, and the second main surface 1bb of the second piezoelectric substrate 2 of the multilayer body and the first main surface of the first piezoelectric substrate 1 are set. The main surface 1aa is joined. As a result, the support substrate 3, the second piezoelectric substrate 2, and the first piezoelectric substrate 1 were laminated in this order to form a laminate.

[7] 次に、別の第2の圧電基板2の第1の主面1baに接着剤を塗布した後、第2の主面1bbを下基板吸着ステージ403に吸着固定した。そして、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、第1の主面1baが、カメラユニット401の焦点位置に位置するようにZ軸方向に対して調整した。この状態で、下基板吸着ステージ403のX、Y軸に対する角度θまたはカメラユニット401のX,Y,Z軸方向に対する位置を調整する。調整位置は、図2(b)に示したアライメントマーク20の中心位置、つまり点線201と点線202の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように調整する。この状態で、カメラユニット401を固定した後、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して降下させる。   [7] Next, after an adhesive was applied to the first main surface 1ba of another second piezoelectric substrate 2, the second main surface 1bb was sucked and fixed to the lower substrate suction stage 403. Then, the lower substrate suction stage 403 was lifted with respect to the Z-axis direction, and adjusted with respect to the Z-axis direction so that the first main surface 1ba was positioned at the focal position of the camera unit 401. In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the lower substrate suction stage 403 or the position of the camera unit 401 with respect to the X, Y, and Z axis directions is adjusted. The adjustment position is adjusted so that the center position of the alignment mark 20 shown in FIG. 2B, that is, the intersection of the dotted line 201 and the dotted line 202 coincides with the center position of the captured image of the camera unit 401. In this state, after fixing the camera unit 401, the lower substrate suction stage 403 is lowered with respect to the Z-axis direction.

[8] 次に、上述の[6]に示したステップで形成した積層体(支持基板3、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1)が有する支持基板3の第1の主面1caを、上基板吸着ステージ402に吸着固定する。そのとき、左右一組のアライメントマーク21が切り欠き部404の内側に位置するように固定する。   [8] Next, the first main surface of the support substrate 3 included in the laminate (support substrate 3, second piezoelectric substrate 2, and first piezoelectric substrate 1) formed in the step shown in [6] above. 1 ca is suction fixed to the upper substrate suction stage 402. At that time, the pair of left and right alignment marks 21 are fixed so as to be positioned inside the notch 404.

[9] 上基板吸着ステージ402をY軸方向に対して水平移動し、カメラユニット401によって、上基板吸着ステージ402に対して支持基板3が固定された側の反対側から、アライメントマーク21を検出する。この状態で、図3(b)に示した点線303と中心線301の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように、上基板吸着ステージ402のX、Y軸に対する角度θを調整した。   [9] The upper substrate suction stage 402 is moved horizontally with respect to the Y-axis direction, and the alignment mark 21 is detected by the camera unit 401 from the side opposite to the side on which the support substrate 3 is fixed with respect to the upper substrate suction stage 402. To do. In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the upper substrate suction stage 402 so that the intersection of the dotted line 303 and the center line 301 shown in FIG. 3B matches the center position of the captured image of the camera unit 401. Adjusted.

[10] 下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、積層体と第2の圧電基板2を接合する。   [10] The lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, and the laminate and the second piezoelectric substrate 2 are joined.

[11] 次に、別の第1の圧電基板1の第1の主面1aaに接着剤を塗布した。そして、第2の主面1abを下基板吸着ステージ403に吸着固定し、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、第1の圧電基板1の第1の主面1aaが、カメラユニット401の焦点位置に一致するようにZ軸方向に対する位置を調整する。この状態で、下基板吸着ステージ403のX、Y軸に対する角度θまたはカメラユニット401のX,Y,Z軸方向に対する位置を調整する。この調整位置は、図2(b)に示したアライメントマーク20の中心位置つまり点線201と点線202の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように調整する。この状態で、カメラユニット401を固定した後、下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して降下させる。   [11] Next, an adhesive was applied to the first main surface 1aa of another first piezoelectric substrate 1. Then, the second main surface 1ab is sucked and fixed to the lower substrate suction stage 403, the lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, and the first main surface 1aa of the first piezoelectric substrate 1 is moved to the camera. The position with respect to the Z-axis direction is adjusted so as to coincide with the focal position of the unit 401. In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the lower substrate suction stage 403 or the position of the camera unit 401 with respect to the X, Y, and Z axis directions is adjusted. This adjustment position is adjusted so that the center position of the alignment mark 20 shown in FIG. 2B, that is, the intersection of the dotted line 201 and the dotted line 202 coincides with the center position of the captured image of the camera unit 401. In this state, after fixing the camera unit 401, the lower substrate suction stage 403 is lowered with respect to the Z-axis direction.

[12]上述の[9]に示したステップで形成した積層体(支持基板3、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1、第2の圧電基板2)における支持基板3の第1の主面1caを上基板吸着ステージ402に吸着固定する。そのとき、左右一組のアライメントマーク21が切り欠き部404の内側に位置するように固定する。次に、上基板吸着ステージ402をY軸方向に対して水平移動し、カメラユニット401によってアライメントマーク21を検出する。この状態で、図3(b)に示す点線303と中心線301の交点が、カメラユニット401の撮影画像の中心位置に一致するように上基板吸着ステージ402のX、Y軸に対する角度θを調整した。   [12] The first of the support substrate 3 in the laminated body (support substrate 3, second piezoelectric substrate 2, first piezoelectric substrate 1, second piezoelectric substrate 2) formed in the step shown in [9] above. The main surface 1 ca is fixed to the upper substrate suction stage 402 by suction. At that time, the pair of left and right alignment marks 21 are fixed so as to be positioned inside the notch 404. Next, the upper substrate suction stage 402 is moved horizontally with respect to the Y-axis direction, and the alignment mark 21 is detected by the camera unit 401. In this state, the angle θ with respect to the X and Y axes of the upper substrate suction stage 402 is adjusted so that the intersection of the dotted line 303 and the center line 301 shown in FIG. 3B matches the center position of the captured image of the camera unit 401. did.

[13] 下基板吸着ステージ403をZ軸方向に対して上昇させ、積層体と第1の圧電基板1を接合する。これにより、支持基板3、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1、第2の圧電基板2、第1の圧電基板1の積層体を形成した。   [13] The lower substrate suction stage 403 is raised with respect to the Z-axis direction, and the laminate and the first piezoelectric substrate 1 are joined. Thereby, the laminated body of the support substrate 3, the 2nd piezoelectric substrate 2, the 1st piezoelectric substrate 1, the 2nd piezoelectric substrate 2, and the 1st piezoelectric substrate 1 was formed.

さらに、[7]〜[13]に示したステップを、[9]と[11]に示したステップと位置決め位置を順次ずらしながら行った。つまり、アライメントマーク21を利用して、図3(b)に示した中心線301と各点線304〜310との各交点にそれぞれ位置調整しながら7回繰返した。更に、第2の圧電基板2を積層体の下方に1つ積層し、また更に最下層として別の支持基板3を接合し、圧力室が9層で積層されたインクジェットヘッドの積層体を形成した。積層された各層に形成された圧力室は、溝11の長手方向に直交する方向に対してそれぞれ42.3μmずれた位置に形成される。各層における各圧力室の中心位置を、測長器を用いて測定したところ、±3μmの範囲内で精度良く形成されていた。このように製造されたインクジェットヘッドは、600dpiの高密度で吐出することが可能となる。   Further, the steps shown in [7] to [13] were performed while sequentially shifting the positioning positions from the steps shown in [9] and [11]. That is, the alignment mark 21 was used, and the process was repeated seven times while adjusting the position at each intersection of the center line 301 and the dotted lines 304 to 310 shown in FIG. Further, one second piezoelectric substrate 2 is laminated below the laminated body, and another supporting substrate 3 is bonded as the lowermost layer to form an inkjet head laminated body in which nine pressure chambers are laminated. . The pressure chambers formed in the stacked layers are formed at positions shifted by 42.3 μm with respect to the direction orthogonal to the longitudinal direction of the groove 11. When the center position of each pressure chamber in each layer was measured using a length measuring device, it was accurately formed within a range of ± 3 μm. The ink jet head manufactured in this way can be ejected at a high density of 600 dpi.

上述したように、実施形態によれば、アライメントマーク19、20、21を基準として、支持基板3と複数の第1及び第2の圧電基板1,2を位置決めすることで、支持基板3に対して各圧電基板1の位置を容易にずらし、位置決めして接合することが可能になる。その結果、支持基板3に積層された各圧電基板1の圧力室801〜809を高密度かつ高精度に形成することができる。   As described above, according to the embodiment, the support substrate 3 and the plurality of first and second piezoelectric substrates 1 and 2 are positioned with respect to the support substrate 3 by using the alignment marks 19, 20, and 21 as a reference. Thus, the position of each piezoelectric substrate 1 can be easily shifted, positioned and joined. As a result, the pressure chambers 801 to 809 of each piezoelectric substrate 1 stacked on the support substrate 3 can be formed with high density and high accuracy.

1 第1の圧電基板
2 第2の圧電基板
3 支持基板
1aa 第1の圧電基板の第1の主面
1ab 第1の圧電基板の第2の主面
1ba 第2の圧電基板の第1の主面
1bb 第2の圧電基板の第2の主面
1ca 支持基板の第1の主面
1cb 支持基板の第2の主面
11 溝
12 溝
13 溝
14 電極
15 電極
16 電極
17 電極
18 電極
19 アライメントマーク
20 アライメントマーク
21 アライメントマーク
801〜809 圧力室
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st piezoelectric substrate 2 2nd piezoelectric substrate 3 Support substrate 1aa 1st main surface of 1st piezoelectric substrate 1ab 2nd main surface of 1st piezoelectric substrate 1ba 1st main surface of 2nd piezoelectric substrate Surface 1bb Second main surface of second piezoelectric substrate 1ca First main surface of support substrate 1cb Second main surface of support substrate 11 groove 12 groove 13 groove 14 electrode 15 electrode 16 electrode 17 electrode 18 electrode 19 alignment mark 20 Alignment Mark 21 Alignment Mark 801-809 Pressure Chamber

Claims (5)

液体を吐出する吐出口に連通し、該吐出口から吐出される液体を貯留するための圧力室を有し、前記圧力室を構成する壁が伸長及び収縮することで前記吐出口から液体を吐出させる圧電基板を備え、前記圧力室が前記圧電基板に設けられた溝によって構成され、前記圧力室における、液体の供給方向と交差する断面において、第1の方向と該第1の方向と交差する第2の方向のそれぞれに関して、前記圧力室の対向する前記壁の内面に電極が設けられた液体吐出ヘッドの製造方法であって、
複数の前記圧電基板の第1の主面に第1のアライメントマークを形成する工程と、前記第1の主面に複数の前記溝を形成する工程と、前記溝の前記壁の内面を含む前記第1の主面に前記電極を形成する工程と、前記圧電基板を支持する支持基板の第1の主面に第2のアライメントマークを形成する工程と、前記支持基板に複数の前記圧電基板を順次、位置決めして接合する工程とを有し、
前記第1のアライメントマーク及び前記第2のアライメントマークの少なくとも一方を、前記圧電基板の前記溝の長手方向に交差する方向に対して、前記複数の溝のピッチよりも狭い間隔のパターンで形成し、
前記位置決めして接合する工程は、前記第2のアライメントマークに対して、前記圧電基板の前記第1のアライメントマークを位置決めした状態で、前記支持基板の第2の主面と前記圧電基板の前記第1の主面を接合して積層体を形成する第1工程と、
前記積層体の前記圧電基板の側に、他の前記圧電基板を、前記第2のアライメントマークを基準として、前記他の圧電基板の前記第1のアライメントマークを位置決めした状態で接合する第2工程とを含む、ことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
There is a pressure chamber that communicates with the discharge port that discharges the liquid and stores the liquid discharged from the discharge port, and the wall constituting the pressure chamber expands and contracts to discharge the liquid from the discharge port. The pressure chamber is configured by a groove provided in the piezoelectric substrate, and the first direction intersects the first direction in a cross section intersecting the liquid supply direction in the pressure chamber. In each of the second directions, a method of manufacturing a liquid discharge head in which an electrode is provided on the inner surface of the opposing wall of the pressure chamber,
Including a step of forming a first alignment mark on a first main surface of the plurality of piezoelectric substrates, a step of forming a plurality of grooves on the first main surface, and an inner surface of the wall of the groove Forming the electrodes on a first main surface; forming a second alignment mark on a first main surface of a support substrate supporting the piezoelectric substrate; and a plurality of the piezoelectric substrates on the support substrate. Sequentially positioning and joining,
At least one of the first alignment mark and the second alignment mark is formed in a pattern having an interval narrower than the pitch of the plurality of grooves with respect to a direction intersecting the longitudinal direction of the grooves of the piezoelectric substrate. ,
The step of positioning and bonding includes the step of positioning the first alignment mark of the piezoelectric substrate with respect to the second alignment mark, and the second main surface of the support substrate and the piezoelectric substrate. A first step of joining the first main surfaces to form a laminate;
A second step of bonding the other piezoelectric substrate to the piezoelectric substrate side of the multilayer body in a state where the first alignment mark of the other piezoelectric substrate is positioned with reference to the second alignment mark. A method for manufacturing a liquid discharge head, comprising:
前記第2工程では、前記第2のアライメントマークの前記パターンを基準として、前記溝の長手方向に交差する方向に前記溝のピッチよりも狭い間隔で位置をずらして、前記圧電基板を位置決めすることで、積層方向に対する前記圧力室の配列が、前記圧電基板の前記溝のピッチよりも狭い間隔で、前記溝の長手方向に対して位置がずれた複数の前記圧力室を形成する、請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。   In the second step, with the pattern of the second alignment mark as a reference, the piezoelectric substrate is positioned by shifting the position in a direction intersecting the longitudinal direction of the groove at an interval narrower than the pitch of the groove. The arrangement of the pressure chambers with respect to the stacking direction forms a plurality of the pressure chambers whose positions are shifted with respect to the longitudinal direction of the grooves at an interval narrower than the pitch of the grooves of the piezoelectric substrate. A manufacturing method of a liquid discharge head given in 2. 前記第1のアライメントマーク及び前記第2のアライメントマークの少なくとも一方を、前記圧電基板の前記溝の長手方向に交差する方向に延びる中心線に対して、該中心線に交差して該中心線の両側に延びる一対の櫛歯状のパターンを有し、両側の前記櫛歯状のパターンが、前記圧電基板の前記溝のピッチよりも狭く、かつ等しい間隔で、前記溝の長手方向に交差する方向にずらされた形状に形成する、請求項1または2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。   At least one of the first alignment mark and the second alignment mark is intersected with the center line with respect to a center line extending in a direction intersecting the longitudinal direction of the groove of the piezoelectric substrate. A pair of comb-like patterns extending on both sides, the comb-like patterns on both sides being narrower than the pitch of the grooves of the piezoelectric substrate and intersecting the longitudinal direction of the grooves at equal intervals The method of manufacturing a liquid discharge head according to claim 1, wherein the liquid discharge head is formed in a shape shifted to an angle. 前記支持基板の前記第1の主面が固定される第1のステージと、位置を調整可能に設けられ、前記第1及び第2のアライメントマークを検出する検出機構部と、前記第1のステージに対向する面に前記圧電基板が固定され、位置を調整可能に設けられた第2のステージと、を有する位置決め接合装置を用いて、
前記位置決めして接合する工程が、前記第1のステージに固定された前記支持基板の前記第2のアライメントマークを、前記検出機構部によって、前記第1のステージに対して前記支持基板が固定された側の反対側から検出して、前記検出機構部を位置決めした後、前記検出機構部を固定した状態で前記第1のステージを前記検出機構部から離間させるステップと、前記圧電基板が固定された前記第2のステージを前記検出機構部に近接させ、前記圧電基板の前記第1のアライメントマークを前記第2のステージを前記検出機構部で検出し、前記第2のステージを位置決した後、前記第2のステージを前記検出機構部から離間させるステップと、前記検出機構部によって前記第2のアライメントマークを検出した位置に、前記第1のステージを戻し、前記検出機構部によって前記第2のアライメントマークを検出して、前記第1のステージを位置決めするステップと、前記第2のステージを前記第1のステージに近接させ、前記支持基板と前記圧電基板を接合するステップとを有する、液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記位置決めして接合する工程は、前記支持基板と前記圧電基板が接合された積層体の前記支持基板の前記第1の主面を前記第1のステージに固定し、前記支持基板の前記第2のアライメントマークを前記検出機構部によって検出し、前記検出機構部を位置決めした後、前記検出機構部を固定した状態で前記第1のステージを前記検出機構部から離間させるステップと、
他の前記圧電基板が固定された前記第2のステージを前記検出機構部に近接させ、前記他の圧電基板の前記第1のアライメントマークを前記検出機構部によって検出し、前記第2のステージを調整した後、前記第2のステージを前記検出機構部から離間させるステップと、
前記検出機構部によって前記第2のアライメントマークを検出した位置に、前記第1のステージを戻し、前記検出機構部によって前記支持基板の前記第2のアライメントマークを検出して、前記第1のステージを位置決めするステップと、
位置決めした前記第1のステージに前記第2のステージを近接させ、前記積層体に前記圧電基板を接合するステップと、を有する、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
A first stage to which the first main surface of the support substrate is fixed, a detection mechanism unit that is provided so as to be adjustable in position and detects the first and second alignment marks, and the first stage The piezoelectric substrate is fixed to a surface facing the second stage, and a second stage provided so that the position can be adjusted,
In the positioning and joining step, the support substrate is fixed to the first stage by the detection mechanism unit with the second alignment mark of the support substrate fixed to the first stage. After detecting from the opposite side to positioning the detection mechanism portion, the step of separating the first stage from the detection mechanism portion with the detection mechanism portion fixed, and the piezoelectric substrate being fixed After the second stage is brought close to the detection mechanism unit, the first alignment mark on the piezoelectric substrate is detected by the detection mechanism unit, and the second stage is positioned. Separating the second stage from the detection mechanism, and the first stage at a position where the detection mechanism detects the second alignment mark. Returning, detecting the second alignment mark by the detection mechanism and positioning the first stage; bringing the second stage close to the first stage; and the supporting substrate and the piezoelectric A method of manufacturing a liquid discharge head, comprising the steps of bonding substrates:
The step of positioning and bonding fixes the first main surface of the support substrate of the laminated body in which the support substrate and the piezoelectric substrate are bonded to the first stage, and the second of the support substrate. Detecting the alignment mark by the detection mechanism, positioning the detection mechanism, and separating the first stage from the detection mechanism with the detection mechanism fixed.
The second stage to which the other piezoelectric substrate is fixed is brought close to the detection mechanism unit, the first alignment mark of the other piezoelectric substrate is detected by the detection mechanism unit, and the second stage is After adjusting, separating the second stage from the detection mechanism;
The first stage is returned to the position where the second alignment mark is detected by the detection mechanism, the second alignment mark on the support substrate is detected by the detection mechanism, and the first stage is detected. Positioning the step;
4. The liquid ejection head according to claim 1, further comprising: bringing the second stage close to the positioned first stage and bonding the piezoelectric substrate to the stacked body. 5. Production method.
前記支持基板の前記第1の主面が固定され、位置を調整可能に設けられた第1のステージと、位置を調整可能に設けられ、前記第1及び第2のアライメントマークを検出する検出機構部と、前記第1のステージに対向する側に前記圧電基板が固定され、位置を調整可能に設けられた第2のステージと、を有する位置決め接合装置を用いて、
前記位置決めして接合する工程が、前記圧電基板が固定された前記第2のステージを前記検出機構部に近接させ、前記圧電基板の前記第1のアライメントマークを前記検出機構部によって検出し、前記検出機構部または前記第2のステージを位置決めし、前記検出機構部を固定した状態で前記第2のステージを前記検出機構部から離間させるステップと、前記支持基板が固定された前記第1のステージを前記検出機構部に近接させ、前記支持基板の前記第2のアライメントマークを、前記検出機構部によって、前記第1のステージに対して前記支持基板が固定された側の反対側から検出して、前記第1のステージを調整した後、前記第2のステージを前記第1のステージに近接させ、前記支持基板と前記圧電基板を接合するステップとを有する、液体吐出ヘッドの製造方法であって、
前記位置決めして接合する工程は、他の前記圧電基板が固定された前記第2のステージを前記検出機構部に近接させ、前記他の圧電基板の前記第1のアライメントマークを前記検出機構部によって検出し、前記検出機構部または前記第2のステージの位置を調整し、前記検出機構部を固定した後、前記第2のステージを前記検出機構部から離間させるステップと、
前記支持基板と前記圧電基板が接合された積層体の前記支持基板の前記第1の主面を前記第1のステージに固定し、前記支持基板の前記第2のアライメントマークを、前記検出機構部によって、前記第1のステージに対して前記支持基板が固定された側の反対側から検出して、前記第1のステージを位置決めするステップと、
位置決めした前記第1のステージに前記第2のステージを近接させ、前記積層体と前記他の圧電基板を接合するステップと、を有する、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
The first main surface of the support substrate is fixed, the first stage is provided so that the position can be adjusted, and the detection mechanism is provided so that the position can be adjusted, and detects the first and second alignment marks. And a second stage provided with the piezoelectric substrate fixed to the side facing the first stage and having a position adjustable.
In the positioning and joining step, the second stage to which the piezoelectric substrate is fixed is brought close to the detection mechanism unit, and the first alignment mark of the piezoelectric substrate is detected by the detection mechanism unit, Positioning the detection mechanism unit or the second stage, and separating the second stage from the detection mechanism unit in a state where the detection mechanism unit is fixed; and the first stage on which the support substrate is fixed And the second alignment mark on the support substrate is detected by the detection mechanism unit from the side opposite to the side on which the support substrate is fixed with respect to the first stage. After adjusting the first stage, bringing the second stage close to the first stage and joining the support substrate and the piezoelectric substrate. , The method of manufacturing a liquid discharge head,
In the positioning and joining step, the second stage to which the other piezoelectric substrate is fixed is brought close to the detection mechanism unit, and the first alignment mark of the other piezoelectric substrate is moved by the detection mechanism unit. Detecting, adjusting the position of the detection mechanism unit or the second stage, fixing the detection mechanism unit, and then separating the second stage from the detection mechanism unit;
The first main surface of the support substrate of the laminate in which the support substrate and the piezoelectric substrate are joined is fixed to the first stage, and the second alignment mark of the support substrate is fixed to the detection mechanism unit. Detecting from the opposite side of the side on which the support substrate is fixed to the first stage, and positioning the first stage;
4. The liquid ejection according to claim 1, further comprising: bringing the second stage close to the positioned first stage and joining the stacked body and the other piezoelectric substrate. 5. Manufacturing method of the head.
JP2012140702A 2012-06-22 2012-06-22 Method for manufacturing liquid discharge jet head Pending JP2014004713A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012140702A JP2014004713A (en) 2012-06-22 2012-06-22 Method for manufacturing liquid discharge jet head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012140702A JP2014004713A (en) 2012-06-22 2012-06-22 Method for manufacturing liquid discharge jet head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2014004713A true JP2014004713A (en) 2014-01-16

Family

ID=50102914

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012140702A Pending JP2014004713A (en) 2012-06-22 2012-06-22 Method for manufacturing liquid discharge jet head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2014004713A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020149127A1 (en) * 2019-01-15 2020-07-23 株式会社ニコン Laminate manufacturing method and laminate manufacturing device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07202425A (en) * 1993-12-28 1995-08-04 Toray Ind Inc Production of mulrilayer wiring board
JP2002144587A (en) * 2000-11-09 2002-05-21 Nec Corp System and method for manufacturing ink jet head
JP2002178509A (en) * 2000-12-12 2002-06-26 Olympus Optical Co Ltd Liquid drop jet apparatus
JP2008006609A (en) * 2006-06-27 2008-01-17 Ricoh Co Ltd Components joining method, components joining device, liquid droplet producing method and liquid droplet producing unit
JP2008143012A (en) * 2006-12-08 2008-06-26 Fuji Xerox Co Ltd Droplet discharge head, image forming device, and droplet discharge head manufacturing method
JP2008149410A (en) * 2006-12-18 2008-07-03 Ricoh Co Ltd Method and apparatus for joining components

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07202425A (en) * 1993-12-28 1995-08-04 Toray Ind Inc Production of mulrilayer wiring board
JP2002144587A (en) * 2000-11-09 2002-05-21 Nec Corp System and method for manufacturing ink jet head
JP2002178509A (en) * 2000-12-12 2002-06-26 Olympus Optical Co Ltd Liquid drop jet apparatus
JP2008006609A (en) * 2006-06-27 2008-01-17 Ricoh Co Ltd Components joining method, components joining device, liquid droplet producing method and liquid droplet producing unit
JP2008143012A (en) * 2006-12-08 2008-06-26 Fuji Xerox Co Ltd Droplet discharge head, image forming device, and droplet discharge head manufacturing method
JP2008149410A (en) * 2006-12-18 2008-07-03 Ricoh Co Ltd Method and apparatus for joining components

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020149127A1 (en) * 2019-01-15 2020-07-23 株式会社ニコン Laminate manufacturing method and laminate manufacturing device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7475969B2 (en) Ink-jet printing head
US6623111B2 (en) Multilayer piezoelectric device and method of producing the same and piezoelectric actuator
JP3752974B2 (en) Piezoelectric actuator and manufacturing method thereof
JP5901444B2 (en) Liquid discharge head
US20130271528A1 (en) Inkjet head unit and inkjet recording device
JP2002127420A (en) Piezoelectric ink jet printer head and manufacturing method therefor
JP2014004713A (en) Method for manufacturing liquid discharge jet head
JP2004241669A (en) Manufacturing method of piezoelectric actuator
JP5070438B2 (en) Multilayer piezoelectric element
JP2008162111A (en) Inkjet head and manufacturing method for inkjet head
JP2008044241A (en) Inkjet head
JP6123073B2 (en) Piezoelectric element, ink jet apparatus using the same, and method thereof
JP5522126B2 (en) Method for manufacturing piezoelectric actuator and method for manufacturing liquid transfer device
JP2014151584A (en) Method for manufacturing liquid discharge device, and method for manufacturing piezoelectric actuator
JP5381516B2 (en) Method for manufacturing piezoelectric actuator
JP2001085753A (en) Piezoelectric actuator
JP2022085445A (en) Piezoelectric actuator, manufacturing method of liquid discharge head provided with piezoelectric actuator and flow passage unit
JP2022054647A (en) Piezoelectric actuator and piezoelectric actuator inspection method
JP4655060B2 (en) Method for manufacturing liquid discharge head
JP3733895B2 (en) Piezoelectric actuator for inkjet printer head and method for manufacturing the inkjet printer head
JP2013086463A (en) Method of manufacturing inkjet recording head, and the inkjet recording head
JP2010201849A (en) Method for manufacturing liquid transfer device
JP6201784B2 (en) Liquid ejection device and method of manufacturing liquid ejection device
JP2006035453A (en) Manufacturing method for inkjet head
JP2014004725A (en) Method for manufacturing liquid discharge head

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20140430

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150602

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160304

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160315

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20161025