JP2014001321A - Photocurable inkjet ink - Google Patents

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浩平 小野
Katsuyuki Sugihara
克幸 杉原
Kyoko Kondo
今日子 近藤
Yuya Horikawa
裕矢 堀川
Takayuki Hirota
敬幸 廣田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide ink for ink jet which can form a cured film which is balancedly excellent in fire retardancy, adhesion to a base material, and resistance in a saturation vapor pressure test.SOLUTION: A photocurable inkjet ink contains phosphorus-containing (meth)acrylate (A) represented by the following formula (1), and epoxy resin (B). In the formula (1), R, Rand Rare each independently a 1-20C alkylene, a, b and c are each independently an integer satisfying a+b+c≥1 in the range of 0-10, d, e and f are each independently an integer of 1-10, Ris a phosphorus-containing carbonyl group, Ris univalent organic group, and Ris hydrogen or 1-6C alkyl.

Description

本発明は、液晶表示素子またはEL(エレクトロルミネッセンス)表示素子などの表示素子を形成するプリント配線板などの電子回路基板を製造するために好適に用いられる光硬化性インクジェットインクに関する。更に詳しくは、所定の回路パターンをなす金属配線表面を保護するカバーレイフィルムや、ソルダーレジストなどに適したインクジェット用インクに関する。   The present invention relates to a photocurable ink-jet ink suitably used for producing an electronic circuit board such as a printed wiring board for forming a display element such as a liquid crystal display element or an EL (electroluminescence) display element. More specifically, the present invention relates to an ink jet ink suitable for a coverlay film for protecting a metal wiring surface forming a predetermined circuit pattern, a solder resist, or the like.

従来、(フレキシブル)プリント配線板および半導体パッケージ基板などの電子回路基板の製造には、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法が用いられてきた。このフォトリソグラフィー法による電子回路基板の製造方法では、例えば、プリント配線板の場合、銅張積層板の銅箔上にフォトレジスト層を形成し、該層をフォトマスクなどを介して露光し、その後、未硬化部分を除去してレジストパターンを形成する。次いで、レジストパターンに覆われていない部分の銅箔をエッチングにより除去し、その後レジストパターンを除去することで、プリント配線板が得られる。   Conventionally, a photolithography method using a photoresist has been used for manufacturing electronic circuit boards such as (flexible) printed wiring boards and semiconductor package boards. In the method of manufacturing an electronic circuit board by this photolithography method, for example, in the case of a printed wiring board, a photoresist layer is formed on a copper foil of a copper-clad laminate, and the layer is exposed through a photomask or the like. The uncured portion is removed to form a resist pattern. Next, a portion of the copper foil not covered with the resist pattern is removed by etching, and then the resist pattern is removed to obtain a printed wiring board.

しかしながら、前記のようなプリント配線板の製造方法は、フォトマスクの作製に長い時間と多くの費用がかかることなどから、設備投資金額が大きい。またフォトマスクを用いたパターン露光などが必要なことから、工程が複雑で、操作も煩雑となる。   However, the method for manufacturing a printed wiring board as described above requires a large amount of capital investment because it takes a long time and a lot of cost to manufacture a photomask. Further, since pattern exposure using a photomask is necessary, the process is complicated and the operation is complicated.

近年、これらの問題を解決するため、インクジェット法を用いて感光性材料を基板上に直接塗布し、パターンを形成する方法が開発されている(例えば、特開昭56−66089号公報(特許文献1)、特開昭62−181490号公報(特許文献2)、特開平6−237063号公報(特許文献3)および特開平7−131135号公報(特許文献4)を参照)。この方法は、従来必要であったパターン露光、エッチング処理および現像が不要であることから、設備投資金額が少なく、また、材料のロスが少ないなどの点から期待が持たれている。   In recent years, in order to solve these problems, a method has been developed in which a photosensitive material is directly applied onto a substrate using an inkjet method to form a pattern (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 56-66089 (Patent Document). 1), Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-181490 (Patent Document 2), Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-237063 (Patent Document 3) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-131135 (Patent Document 4). Since this method does not require pattern exposure, etching, and development, which have been necessary in the past, it is expected to have a small capital investment and a small material loss.

このようなインクジェット法に用いられる感光性材料として、カバーレイ用インク、ソルダーレジスト用インクなどが挙げられ、一般に基板との密着性、飽和蒸気圧試験(以下「PCT」ともいう。)における耐性および難燃性といった特性が求められる。   Examples of the photosensitive material used in such an ink jet method include coverlay ink, solder resist ink, and the like, and generally adhesion to a substrate, resistance in a saturated vapor pressure test (hereinafter also referred to as “PCT”), and the like. Properties such as flame retardancy are required.

これまで、難燃性に優れた感光性材料として、様々な組成物が提案されている(例えば、特開2001−48956号公報(特許文献5)、特開2001−312054号公報(特許文献6)、特開2003−277470号公報(特許文献7)、特開2005−221722号公報(特許文献8)、特開2006−284911号公報(特許文献9)、特開2008−299293号公報(特許文献10)、特許4767724号公報(特許文献11)参照)。   So far, various compositions have been proposed as photosensitive materials having excellent flame retardancy (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-48956 (Patent Document 5) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-312054 (Patent Document 6). JP, 2003-277470, A (patent document 7), JP, 2005-221722, A (patent document 8), JP, 2006-284911, A (patent document 9), JP, 2008-299293, patent (patent) Reference 10) and Japanese Patent No. 4776724 (Patent Document 11)).

また、本願出願人は、難燃性に優れた感光性のインクジェット用インクを提案している(特開2009−167376号公報(特許文献12)参照)。   In addition, the applicant of the present application has proposed a photosensitive inkjet ink excellent in flame retardancy (see JP 2009-167376 A (Patent Document 12)).

特開昭56−66089号公報JP 56-66089 A 特開昭62−181490号公報JP 62-181490 A 特開平6−237063号公報JP-A-6-237063 特開平7−131135号公報JP 7-131135 A 特開2001−48956号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-48956 特開2001−312054号公報JP 2001-312054 A 特開2003−277470号公報JP 2003-277470 A 特開2005−221722号公報JP-A-2005-221722 特開2006−284911号公報JP 2006-284911 A 特開2008−299293号公報JP 2008-299293 A 特許第4767724号公報Japanese Patent No. 4776724 特開2009−167376号公報JP 2009-167376 A

前記特許文献5〜11に記載の組成物は、粘度が高いためインクジェット装置では吐出不可能であった。   Since the compositions described in Patent Documents 5 to 11 have high viscosity, they cannot be ejected by an ink jet apparatus.

仮に、前記特許文献5〜11に記載のインク組成物を一般的な溶媒やラジカル重合性二重結合を有するモノマーで希釈してインクジェット装置で吐出できるような粘度にしたとしても、当該インクから得られる硬化膜の金属や樹脂などへの密着性、PCTにおける耐性や難燃性は低かった。   Even if the ink composition described in Patent Documents 5 to 11 is diluted with a common solvent or a monomer having a radical polymerizable double bond and has a viscosity that can be ejected by an ink jet apparatus, it is obtained from the ink. The adhesion of the cured film to the metal or resin, resistance to PCT and flame retardance were low.

また、前記特許文献12の実施例に記載されている組成物は、金属や樹脂などの基材への密着性が十分ではない場合があった。   Moreover, the composition described in the Example of the said patent document 12 may not have sufficient adhesiveness to base materials, such as a metal and resin.

本発明はこのような状況を鑑みてなされたものであり、難燃性、基材との密着性およびPCTにおける耐性等にバランス良く優れる硬化膜を形成可能なインクジェット用インクを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide an inkjet ink capable of forming a cured film having excellent balance in flame retardancy, adhesion to a substrate, resistance in PCT, and the like. And

本願発明者等は、特定の構造を有するリン含有(メタ)アクリレートとエポキシ樹脂とを含むインクが、難燃性、基材との密着性およびPCTにおける耐性等にバランス良く優れる硬化膜を形成できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。   The inventors of the present application can form a cured film in which an ink containing a phosphorus-containing (meth) acrylate having a specific structure and an epoxy resin is excellent in a good balance in flame retardancy, adhesion to a substrate, resistance in PCT, and the like. And the present invention was completed based on this finding.

[1] 下記式(1)で表されるリン含有(メタ)アクリレート(A)とエポキシ樹脂(B)とを含有する光硬化性インクジェットインク。   [1] A photocurable inkjet ink containing a phosphorus-containing (meth) acrylate (A) represented by the following formula (1) and an epoxy resin (B).

Figure 2014001321
(式(1)中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキレンであり、a、bおよびcはそれぞれ独立に、0〜10の範囲でa+b+c≧1を満たす整数であり、d、eおよびfはそれぞれ独立に、1〜10の整数であり、R4は下記式(2)で表される基であり、R5は1価の有機基であり、R6は水素または炭素数1〜6のアルキルである。)
Figure 2014001321
(In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently alkylene having 1 to 20 carbon atoms, and a, b and c are each independently a + b + c ≧ 1 in the range of 0 to 10). D, e and f are each independently an integer of 1 to 10, R 4 is a group represented by the following formula (2), R 5 is a monovalent organic group, R 6 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms.)

Figure 2014001321
(式(2)中、R7は、水素または炭素数1〜6のアルキルであり、R8およびR9はそれぞれ独立に、炭素数1〜20の1価の有機基であり、R8およびR9は互いに結合して2価の環状基を形成してもよい。)
Figure 2014001321
(In Formula (2), R 7 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms, R 8 and R 9 are each independently a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and R 8 and R 9 may bond to each other to form a divalent cyclic group.)

[2] 式(1)中のR4が、下記式(3)で表される基である、[1]に記載の光硬化性インクジェットインク。 [2] The photocurable inkjet ink according to [1], wherein R 4 in the formula (1) is a group represented by the following formula (3).

Figure 2014001321
(式(3)中、R10は、水素または炭素数1〜6のアルキルである。)
Figure 2014001321
(In the formula (3), R 10 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms.)

[3] 式(1)中のR5が、式(2)で表される基または下記式(4)で表される基である、[1]または[2]に記載の光硬化性インクジェットインク。 [3] The photocurable inkjet according to [1] or [2], wherein R 5 in the formula (1) is a group represented by the formula (2) or a group represented by the following formula (4): ink.

Figure 2014001321
(式(4)中、R6は水素または炭素数1〜6のアルキルである。)
Figure 2014001321
(In the formula (4), R 6 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms.)

[4] エポキシ樹脂(B)が、下記式(B−1)、式(B−2)または式(B−3)で表される基を有する、[1]〜[3]のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。   [4] In any one of [1] to [3], the epoxy resin (B) has a group represented by the following formula (B-1), formula (B-2), or formula (B-3). The photocurable inkjet ink as described.

Figure 2014001321
Figure 2014001321

[5] エポキシ樹脂(B)が、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格型エポキシ樹脂、およびジシクロペンタジエン骨格型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂である、[1]〜[4]のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。   [5] The epoxy resin (B) is a phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a biphenyl aralkyl novolak type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a trisphenol methane type epoxy resin, or a bisphenol S. Type epoxy resin, tetraphenylolethane type epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene skeleton type epoxy resin, and dicyclopentadiene skeleton type epoxy resin. [1] to [4] The photocurable inkjet ink according to any one of [4].

[6] さらにエポキシ樹脂硬化剤(C)を含む、[1]〜[5]のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
[7] さらにリン含有(メタ)アクリレート(A)以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物(D)を含む、[1]〜[6]のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
[8]さらに光重合開始剤(E)を含む、[1]〜[7]のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインク。
[6] The photocurable inkjet ink according to any one of [1] to [5], further including an epoxy resin curing agent (C).
[7] The photocurable inkjet ink according to any one of [1] to [6], further including a compound (D) having a radical polymerizable double bond other than the phosphorus-containing (meth) acrylate (A).
[8] The photocurable inkjet ink according to any one of [1] to [7], further including a photopolymerization initiator (E).

[9] [1]〜[8]のいずれかに記載の光硬化性インクジェットインクから形成された硬化膜。
[10] [9]に記載の硬化膜を含む電子回路基板。
[11] [10]に記載の電子回路基板を有する電子部品。
[9] A cured film formed from the photocurable inkjet ink according to any one of [1] to [8].
[10] An electronic circuit board comprising the cured film according to [9].
[11] An electronic component having the electronic circuit board according to [10].

本発明の光硬化性インクジェットインクは、吐出性に優れ、難燃性、基材との密着性およびPCTにおける耐性にバランスよく優れる硬化膜を形成することができる。   The photocurable ink-jet ink of the present invention can form a cured film that is excellent in ejection properties, has excellent balance in flame retardancy, adhesion to a substrate, and resistance in PCT.

1.光硬化性インクジェットインク
本発明の光硬化性インクジェットインク(以下「本発明のインク」ともいう。)は、下記式(1)で表されるリン含有アクリレート(A)およびエポキシ樹脂(B)を含む。
このような本発明のインクは、吐出性に優れ、該インクから得られる硬化膜は、難燃性、基材との密着性およびPCTにおける耐性などにバランスよく優れる。
1. Photocurable inkjet ink The photocurable inkjet ink of the present invention (hereinafter also referred to as “ink of the present invention”) includes a phosphorus-containing acrylate (A) and an epoxy resin (B) represented by the following formula (1). .
Such an ink of the present invention is excellent in ejection properties, and a cured film obtained from the ink is excellent in balance with respect to flame retardancy, adhesion to a substrate, resistance to PCT, and the like.

本発明のインクは、さらに、必要に応じて、本願の効果を損なわない範囲において、エポキシ樹脂硬化剤(C)、リン含有(メタ)アクリレート(A)以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物(D)、光重合開始剤(E)およびその他の成分を含んでもよい。   The ink of the present invention is a compound having a radical polymerizable double bond other than the epoxy resin curing agent (C) and the phosphorus-containing (meth) acrylate (A) as long as it does not impair the effects of the present application, if necessary. (D), a photoinitiator (E), and other components may be included.

本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両者または一方を示すために用いられる。   In this specification, “(meth) acrylate” is used to indicate both or one of acrylate and methacrylate.

1−1.リン含有(メタ)アクリレート(A)
リン含有(メタ)アクリレート(A)(以下「化合物(A)」ともいう。)は、下記式(1)の構造を有する化合物である。
1-1. Phosphorus-containing (meth) acrylate (A)
The phosphorus-containing (meth) acrylate (A) (hereinafter also referred to as “compound (A)”) is a compound having a structure represented by the following formula (1).

Figure 2014001321
(式(1)中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキレンであり、a、bおよびcはそれぞれ独立に、0〜10の範囲でa+b+c≧1を満たす整数であり、d、eおよびfはそれぞれ独立に、1〜10の整数であり、R4は下記式(2)で表される基であり、R5は1価の有機基であり、R6は水素または炭素数1〜6のアルキルである。)
Figure 2014001321
(In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently alkylene having 1 to 20 carbon atoms, and a, b and c are each independently a + b + c ≧ 1 in the range of 0 to 10). D, e and f are each independently an integer of 1 to 10, R 4 is a group represented by the following formula (2), R 5 is a monovalent organic group, R 6 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms.)

Figure 2014001321
(式(2)中、R7は、水素または炭素数1〜6のアルキルであり、R8およびR9はそれぞれ独立に、炭素数1〜20の1価の有機基であり、R8およびR9は互いに結合して2価の環状基を形成してもよい。)
Figure 2014001321
(In Formula (2), R 7 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms, R 8 and R 9 are each independently a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and R 8 and R 9 may bond to each other to form a divalent cyclic group.)

前記R1、R2およびR3における炭素数1〜20のアルキレンとしては、炭素数1〜12のアルキレンが好ましく、炭素数1〜6のアルキレンがより好ましい。
前記炭素数1〜20のアルキレンとしては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、イソプロピリデン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンおよびヘプタメチレン等が挙げられ、これらの中でも、メチレン、エチレン、トリメチレンが好ましく、エチレンがより好ましい。
Examples of alkylene of R 1, R 2 and carbon atoms in R 3 1 to 20, preferably an alkylene having 1 to 12 carbon atoms, more preferably an alkylene having 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alkylene having 1 to 20 carbon atoms include methylene, ethylene, propylene, trimethylene, isopropylidene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene and heptamethylene. Among these, methylene, ethylene and trimethylene are preferable, More preferred is ethylene.

前記a、bおよびcはそれぞれ独立に、a+b+cが1〜15となるような整数であることが好ましく、a+b+cが1〜6となるような整数であることがより好ましい。
式(1)中のa+b+cが前記範囲にある化合物(A)を用いることで、化合物(A)の添加量が少なくても難燃性に優れる硬化膜が得られるため好ましい。よって、難燃性に優れる硬化膜を得ることができ、かつ、吐出性に優れるインクを得ることができる。
A, b and c are each preferably an integer such that a + b + c is 1 to 15, and more preferably an integer such that a + b + c is 1 to 6.
By using the compound (A) in which a + b + c in the formula (1) is in the above range, a cured film having excellent flame retardancy can be obtained even if the amount of the compound (A) added is small. Therefore, a cured film having excellent flame retardancy can be obtained, and an ink having excellent discharge properties can be obtained.

前記d、eおよびfはそれぞれ独立に、2〜10の整数であることが好ましい。   The d, e and f are preferably each independently an integer of 2 to 10.

前記R6およびR7における炭素数1〜6のアルキルとしては、炭素数1〜3のアルキルが好ましい。
前記R6およびR7は、水素が好ましい。
The alkyl having 1 to 6 carbon atoms in R 6 and R 7, preferably an alkyl of 1 to 3 carbon atoms.
R 6 and R 7 are preferably hydrogen.

前記R8およびR9における炭素数1〜20の有機基としては、炭素数1〜20の炭化水素基、ならびに、酸素原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基等が挙げられる。 Examples of the organic group having 1 to 20 carbon atoms in R 8 and R 9 include a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms including an oxygen atom.

炭素数1〜20の炭化水素基としては、炭素数1〜12の炭化水素基が好ましく、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル等の鎖状炭化水素基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチルおよびシクロへキシル等のシクロアルキル基;フェニル、ビフェニルおよびナフチル等の芳香族炭化水素基;などが挙げられる。   The hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, chain hydrocarbon groups such as n-hexyl and n-heptyl; cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl and cyclohexyl; aromatic hydrocarbon groups such as phenyl, biphenyl and naphthyl; .

酸素原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基としては、炭素数1〜12の炭化水素基が好ましく、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、フェノキシ、プロペニルオキシ、シクロヘキシルオキシおよびメトキシメチル等のエーテル結合を有する基;アセチル、プロピオニル、イソプロピオニルおよびベンゾイル等のカルボニル基を有する基;アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、イソプロピオニルオキシおよびベンゾイルオキシ等のエステル基を有する基;などが挙げられる。   As a C1-C20 hydrocarbon group containing an oxygen atom, a C1-C12 hydrocarbon group is preferable, such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropyloxy, butoxy, phenoxy, propenyloxy, cyclohexyloxy and methoxymethyl A group having an ether bond; a group having a carbonyl group such as acetyl, propionyl, isopropionyl and benzoyl; a group having an ester group such as acetyloxy, propionyloxy, isopropionyloxy and benzoyloxy;

前記R8およびR9としては、少なくともどちらか一方が酸素原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基であることが好ましく、一方が酸素原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基であり、他方が炭素数1〜20の炭化水素基であることがより好ましい。
前記酸素原子を含む炭素数1〜20の炭化水素基としては、エーテル結合を有する炭素数1〜12の炭化水素基が好ましい。
As R 8 and R 9 , at least one of them is preferably a C 1-20 hydrocarbon group containing an oxygen atom, and one of them is a C 1-20 hydrocarbon group containing an oxygen atom. More preferably, the other is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
As a C1-C20 hydrocarbon group containing the said oxygen atom, a C1-C12 hydrocarbon group which has an ether bond is preferable.

前記R8およびR9が互いに結合して形成する2価の環状基としては、例えば、炭素数2〜40の2価の有機基が挙げられ、炭素数2〜24の2価の炭化水素基、酸素原子を含む炭素数2〜24の2価の炭化水素基などが好ましい。 Examples of the divalent cyclic group formed by combining R 8 and R 9 with each other include a divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms, and a divalent hydrocarbon group having 2 to 24 carbon atoms. In addition, a C 2-24 divalent hydrocarbon group containing an oxygen atom is preferable.

前記R4としては、下記式(3)で表される基であると、難燃性が良好であり、安定な化合物であるため好ましい。 R 4 is preferably a group represented by the following formula (3) because it has good flame retardancy and is a stable compound.

Figure 2014001321
(式(3)中、R10は、水素または炭素数1〜6のアルキルであり、好ましくは水素または炭素数1〜3のアルキルであり、より好ましくは水素である。)
Figure 2014001321
(In the formula (3), R 10 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms, preferably hydrogen or alkyl having 1 to 3 carbon atoms, more preferably hydrogen.)

前記式(1)中のR5における1価の有機基としては、特に制限されないが、R8およびR9として例示した基などが挙げられる。
前記式(1)中のR5としては、前記R4と同じ基または下記式(4)で表される基であることが好ましく、前記式(2)で表される基または下記式(4)で表される基であることがより好ましく、前記式(3)で表される基または下記式(4)で表される基であることがさらに好ましい。
The monovalent organic group in R 5 in the formula (1) is not particularly limited, such as the groups exemplified as R 8 and R 9 can be mentioned.
R 5 in the formula (1) is preferably the same group as the R 4 or a group represented by the following formula (4). The group represented by the formula (2) or the following formula (4) The group represented by formula (3) is more preferred, and the group represented by the following formula (4) is more preferred.

Figure 2014001321
(式(4)中、R6は前記式(1)中のR6と同義である。)
Figure 2014001321
(In the formula (4), R 6 has the same meaning as R 6 in the formula (1).)

本発明のインクに用いられるリン含有(メタ)アクリレート(A)は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The phosphorus-containing (meth) acrylate (A) used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

前記化合物(A)が混合物であって、R5が前記R4と同じ基である化合物または前記式(4)で表される基である化合物を含む場合、該混合物全体100重量%に対し、R5が前記R4と同じ基である化合物の含有割合が好ましくは10〜70重量%であり、より好ましくは20〜60重量%であり、R5が前記式(4)で表される基である化合物の含有割合が好ましくは10〜70重量%であり、より好ましくは20〜60重量%である。
このような化合物(A)(混合物)は、化合物(A)を合成する際に使用する原料化合物の種類および使用量を適宜調整することで得ることができる。
このような混合物は、容易に合成できるために好ましい。
When the compound (A) is a mixture and includes a compound in which R 5 is the same group as R 4 or a compound represented by the formula (4), the total amount of the mixture is 100% by weight, The content ratio of the compound in which R 5 is the same group as R 4 is preferably 10 to 70% by weight, more preferably 20 to 60% by weight, and R 5 is a group represented by the formula (4). The content ratio of the compound is preferably 10 to 70% by weight, more preferably 20 to 60% by weight.
Such a compound (A) (mixture) can be obtained by appropriately adjusting the type and amount of the raw material compound used when the compound (A) is synthesized.
Such a mixture is preferable because it can be easily synthesized.

前記化合物(A)(化合物(A)の混合物)は、例えば、下記式(i)で表される化合物(i)とP−H結合を有するホスフィンオキシド化合物(ii)とを反応させることで合成することができる。
この場合、化合物(ii)の使用量は、化合物(i)のアクリロイル基1当量に対し、好ましくは0.1〜0.7当量であり、より好ましくは0.3〜0.6当量である。
化合物(ii)の使用量が前記範囲にあると、難燃性に優れ、かつ、粘度が適度であり、吐出性に優れるインクが得られる傾向にあるため好ましい。
The compound (A) (mixture of the compound (A)) is synthesized, for example, by reacting the compound (i) represented by the following formula (i) with a phosphine oxide compound (ii) having a P—H bond. can do.
In this case, the amount of compound (ii) to be used is preferably 0.1 to 0.7 equivalent, more preferably 0.3 to 0.6 equivalent, relative to 1 equivalent of acryloyl group of compound (i). .
It is preferable for the amount of compound (ii) used to be in the above-mentioned range since an ink having excellent flame retardancy, moderate viscosity and excellent dischargeability tends to be obtained.

Figure 2014001321
(式(i)中、R1、R2、R3、R6、a、b、c、d、eおよびfは前記式(1)中のR1、R2、R3、R6、a、b、c、d、eおよびfと同義であり、R11は1価の有機基である。)
Figure 2014001321
(In the formula (i), R 1 , R 2 , R 3 , R 6 , a, b, c, d, e and f are R 1 , R 2 , R 3 , R 6 , (It is synonymous with a, b, c, d, e and f, and R 11 is a monovalent organic group.)

前記R11における1価の有機基としては、特に制限されないが、R8およびR9として例示した基などが挙げられる。前記R11としては、式(4)で表される基であることが好ましい。 The monovalent organic group for R 11, is not particularly limited, such as groups exemplified as R 8 and R 9 can be mentioned. R 11 is preferably a group represented by the formula (4).

前記化合物(i)としては、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(商品名:アロニックスM−327、東亞合成(株)製)などが挙げられ、ホスフィンオキシド化合物(ii)の代表的な化合物として、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(商品名:SANKO−HCA、三光(株)製)などが挙げられる。   Examples of the compound (i) include caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate (trade name: Aronix M-327, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like, and a representative compound of the phosphine oxide compound (ii). 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (trade name: SANKO-HCA, manufactured by Sanko Co., Ltd.) and the like.

前記化合物(A)の本発明のインク中の含有量は、本発明のインク総量100重量%に対し、好ましくは5〜40重量%であり、より好ましくは5〜30重量%である。
また、前記化合物(A)が、アクリレート(i)とホスフィンオキシド化合物(ii)とを反応させた反応物である場合、得られる反応物の総量は、インクの総量の5重量%以上であることが好ましく、難燃性に優れるインクを得ることができるなどの点からインクの総量の10重量%以上であることがより好ましい。
The content of the compound (A) in the ink of the present invention is preferably 5 to 40% by weight and more preferably 5 to 30% by weight with respect to 100% by weight of the total ink of the present invention.
When the compound (A) is a reaction product obtained by reacting the acrylate (i) and the phosphine oxide compound (ii), the total amount of the reaction product obtained is 5% by weight or more of the total amount of the ink. In view of obtaining an ink having excellent flame retardancy, it is more preferably 10% by weight or more of the total amount of the ink.

1−2.エポキシ樹脂(B)
本発明のインクはエポキシ樹脂(B)(以下「化合物(B)」ともいう。)を含む。
本発明のインクがエポキシ樹脂(B)を含むことで、金属や樹脂などの基材との密着性およびPCTにおける耐性に優れる硬化膜を得ることができる。
1-2. Epoxy resin (B)
The ink of the present invention contains an epoxy resin (B) (hereinafter also referred to as “compound (B)”).
When the ink of the present invention contains the epoxy resin (B), it is possible to obtain a cured film having excellent adhesion to a base material such as metal or resin and resistance to PCT.

前記エポキシ樹脂(B)としては、特に制限されないが、基材との密着性に優れる硬化膜が得られるなどの点から、下記式(B−1)、式(B−2)または式(B−3)で表される基を有する樹脂が好ましく、基材との密着性により優れる硬化膜が得られるなどの点から、芳香環を有するエポキシ樹脂がより好ましい。   Although it does not restrict | limit especially as said epoxy resin (B), From the point that the cured film excellent in adhesiveness with a base material is obtained, following formula (B-1), Formula (B-2) or Formula (B) A resin having a group represented by -3) is preferable, and an epoxy resin having an aromatic ring is more preferable from the viewpoint that a cured film having excellent adhesion with a base material is obtained.

Figure 2014001321
Figure 2014001321

このようなエポキシ樹脂(B)として、具体的には、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格型エポキシ樹脂、およびジシクロペンタジエン骨格型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂であることがより好ましい。
また、前記エポキシ樹脂(B)としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、およびジシクロペンタジエン骨格型エポキシ樹脂が金属や樹脂などの基材への密着性が良好な点から特に好ましい。
As such an epoxy resin (B), specifically, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl aralkyl novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type At least one selected from the group consisting of epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, tetraphenylolethane type epoxy resins, bixylenol type epoxy resins, biphenol type epoxy resins, naphthalene skeleton type epoxy resins, and dicyclopentadiene skeleton type epoxy resins More preferably, it is a seed resin.
In addition, as the epoxy resin (B), phenol novolac type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, and dicyclopentadiene skeleton type epoxy resin are adhesive to substrates such as metals and resins. Is particularly preferable from the viewpoint of good.

このようなエポキシ樹脂の代表例として、jER152、同154(商品名:三菱化学(株)製)、エピクロンN−730A、同N−770、同N−865(商品名:DIC(株)製)、D.E.N.431、同438(商品名:ダウ・ケミカル日本(株)製)、EPPN−201、RE−306(商品名:日本化薬(株)製)等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂;
エポトートYDCN−701、同YDCN−704(商品名:新日鐵化学(株)製)、アラルダイトECN1235、同ECN1273、同ECN1299(商品名:ハンツマン・ジャパン(株)製)、EOCN−1020、EOCN−102S、EOCN−102S−65、EOCN−104S(商品名:日本化薬(株)製)、スミ−エポキシESCN−195X、同ESCN−220(商品名:住友化学工業(株)製)、A.E.R.ECN−299(商品名:旭化成イーマテリアルズ(株)製)等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;
NC−3000(商品名:日本化薬(株)製)等のビフェニルアラキルノボラック型エポキシ樹脂;
jER828、同834、同1001、同1004(商品名:三菱化学(株)製)、エピクロン840、同850、同1050、同2055、(商品名:DIC(株)製)、エポトートYD−011、同YD−013、同YD−127、同YD−128(商品名:新日鐵化学(株)製)、D.E.R.317、同331、同661、同664(商品名:ダウ・ケミカル日本(株)製)、アラルダイト6071、同6084、同GY250、同GY260(商品名:ハンツマン・ジャパン(株)製)、スミ−エポキシESA−011、同ESA−014、同ELA−115、同ELA−128(商品名:住友化学工業(株)製)、A.E.R.330、同331、同661、同664(商品名:旭化成イーマテリアルズ(株)製)等のビスフェノールA型エポキシ樹脂;
エピクロン830(商品名:DIC(株)製)、jER807(商品名:三菱化学(株)製)、エポトートYDF−170(商品名:新日鐵化学(株)製)、YDF−175、YDF−2001、YDF−2004、アラルダイトXPY306(商品名:ハンツマン・ジャパン(株)製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂;
テクモアVG3101L(商品名:三井化学(株)製)、YL−933、jER1032H60(商品名:三菱化学(株)製)、EPPN−501、EPPN−502(商品名:ダウ・ケミカル日本(株)製)等のトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂;
EBPS−200(商品名:日本化薬(株)製)、EPX−30(商品名:(株)ADEKA製)、EXA−1514(商品名:DIC(株)製)等のビスフェノールS型エポキシ樹脂;
YL−931(商品名:三菱化学(株)製)、アラルダイト163(商品名:ハンツマン・ジャパン(株)製)等のテトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂;
YL−6056、YX−4000、YL−6121(商品名:三菱化学(株)製)等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂またはそれらの混合物;
HP−4032、EXA−4750、EXA−4700(商品名:DIC(株)製)等のナフタレン骨格型エポキシ樹脂;
HP−7200、HP−7200H、HP−7200HH(商品名:DIC(株)製)等のジシクロペンタジエン骨格型エポキシ樹脂;などが挙げられる。
As representative examples of such epoxy resins, jER152, 154 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron N-730A, N-770, N-865 (trade name: manufactured by DIC Corporation) , D.E.N.431, 438 (trade name: manufactured by Dow Chemical Japan), EPPN-201, RE-306 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc. resin;
Epototo YDCN-701, YDCN-704 (trade name: manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Araldite ECN1235, ECN1273, ECN1299 (trade name: manufactured by Huntsman Japan Co., Ltd.), EOCN-1020, EOCN- 102S, EOCN-102S-65, EOCN-104S (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Sumi-Epoxy ESCN-195X, ESCN-220 (trade name: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), A. Cresol novolac type epoxy resins such as ER ECN-299 (trade name: manufactured by Asahi Kasei E-Materials Co., Ltd.);
NC-3000 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and other biphenyl aralkyl novolac type epoxy resins;
jER828, 834, 1001, 1004 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron 840, 850, 1050, 1050, 2055 (trade name: manufactured by DIC Corporation), Epototo YD-011, YD-013, YD-127, YD-128 (trade name: manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), D.E.R.317, 331, 661, 664 (trade name: Dow Chemical Japan Co., Ltd.), Araldite 6071, 6084, GY250, GY260 (trade name: Huntsman Japan Co., Ltd.), Sumi-Epoxy ESA-011, ESA-014, ELA-115, Bisphenol A such as ELA-128 (trade name: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), A.E.R. 330, 331, 661, 664 (trade name: manufactured by Asahi Kasei E-Materials Co., Ltd.) Epoxy resins;
Epicron 830 (trade name: manufactured by DIC Corporation), jER807 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epototo YDF-170 (trade name: manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), YDF-175, YDF- Bisphenol F type epoxy resins such as 2001, YDF-2004, Araldite XPY306 (trade name: manufactured by Huntsman Japan Co., Ltd.);
Techmore VG3101L (trade name: manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.), YL-933, jER1032H60 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPPN-501, EPPN-502 (trade names: manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd.) ) Trisphenol methane type epoxy resin;
Bisphenol S type epoxy resins such as EBPS-200 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), EPX-30 (trade name: manufactured by ADEKA Corp.), EXA-1514 (trade name: manufactured by DIC Corp.) ;
Tetraphenylolethane type epoxy resins such as YL-931 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Araldite 163 (trade name: manufactured by Huntsman Japan Co., Ltd.);
Bixylenol type or biphenol type epoxy resins such as YL-6056, YX-4000, YL-6121 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) or mixtures thereof;
Naphthalene skeleton type epoxy resins such as HP-4032, EXA-4750, EXA-4700 (trade name: manufactured by DIC Corporation);
And dicyclopentadiene skeleton type epoxy resins such as HP-7200, HP-7200H, and HP-7200HH (trade name: manufactured by DIC Corporation).

本発明のインクに用いられるエポキシ樹脂(B)は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The epoxy resin (B) used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

エポキシ樹脂(B)の含有量は、本発明のインク総量100重量%に対し、0.5〜30重量%であると、金属や樹脂への密着性が向上するので好ましく、他材料とのバランスを考慮すると、特に好ましくはインクの総量の0.5〜20重量%である。   The content of the epoxy resin (B) is preferably 0.5 to 30% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the ink of the present invention, because adhesion to metals and resins is improved, and is balanced with other materials. When considering the above, it is particularly preferably 0.5 to 20% by weight of the total amount of ink.

1−3.エポキシ樹脂硬化剤(C)
本発明のインクは、得られる硬化膜の耐薬品性をより向上させるなどの点から、エポキシ硬化剤(C)(以下「化合物(C)」ともいう。)を含有することが好ましい。
エポキシ硬化剤(C)としては、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤および触媒系硬化剤などが好ましい。
1-3. Epoxy resin curing agent (C)
The ink of the present invention preferably contains an epoxy curing agent (C) (hereinafter also referred to as “compound (C)”) from the viewpoint of further improving the chemical resistance of the resulting cured film.
As the epoxy curing agent (C), an acid anhydride curing agent, a polyamine curing agent, a catalyst curing agent and the like are preferable.

前記酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、およびスチレン−無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。   Examples of the acid anhydride-based curing agent include maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrotrimellitic anhydride, phthalic anhydride, Examples include merit acid anhydride and styrene-maleic anhydride copolymer.

前記ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン(ポリアミド樹脂)、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、m−キシレンジアミン、m−フェニレンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミノエチルピペラジン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチルジフェニルメタン、およびジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。   Examples of the polyamine curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, dicyandiamide, polyamidoamine (polyamide resin), ketimine compound, isophoronediamine, m-xylenediamine, m-phenylenediamine, 1,3-bis ( Aminomethyl) cyclohexane, N-aminoethylpiperazine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diamino-3,3′-diethyldiphenylmethane, and diaminodiphenylsulfone.

前記触媒系硬化剤としては、3級アミン化合物およびイミダゾール化合物が挙げられ、その具体例として、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、2−フェニルイミダゾリン、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールなどが挙げられる。   Examples of the catalyst curing agent include tertiary amine compounds and imidazole compounds. Specific examples thereof include 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium. Examples include trimellitate, 2-phenylimidazoline, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, and the like.

前記エポキシ樹脂硬化剤として特に好ましいものは、触媒系硬化剤であり、中でも1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールや1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイトが望ましい。   Particularly preferred as the epoxy resin curing agent is a catalyst-based curing agent, among which 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate are desirable.

本発明のインクに用いられるエポキシ樹脂硬化剤(C)は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The epoxy resin curing agent (C) used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

エポキシ樹脂硬化剤(C)の添加量は、エポキシ樹脂(B)100重量部に対し、1〜50重量部であることが好ましく、特に好ましくは5〜30重量部である。   It is preferable that the addition amount of an epoxy resin hardening | curing agent (C) is 1-50 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins (B), Most preferably, it is 5-30 weight part.

1−4.化合物(A)以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物(D)
本発明のインクは、該インクの特性を損なわない範囲で、粘度を調整するなどの点から化合物(A)以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物(D)(以下「化合物(D)」ともいう。)を含むことが好ましい。化合物(D)は、光露光後に硬化するために、有機溶媒よりも好ましい。
1-4. Compound (D) having radically polymerizable double bond other than compound (A)
The ink of the present invention is a compound (D) having a radical polymerizable double bond other than the compound (A) (hereinafter referred to as “compound (D)”) from the viewpoint of adjusting the viscosity within a range not impairing the properties of the ink. It is also preferable to include. The compound (D) is preferable to the organic solvent because it is cured after light exposure.

前記化合物(D)としては、特に制限されないが、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3−メチル−3−(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−(メタ)アクリロキシエチルオキセタン、3−エチル−3−(メタ)アクリロキシエチルオキセタン、2−フェニル−3−(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、2−トリフロロメチル−3−(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、4−トリフロロメチル−2−(メタ)アクリロキシメチルオキセタン、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、iso−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、5−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル(メタ)アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の(メタ)アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、コハク酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、シクロヘキセン−3,4−ジカルボン酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−(メタ)アクリロイルモルホリン、チオグリシジル(メタ)アクリレート、フェニルチオエチル(メタ)アクリレート、エトキシ化o−フェニルフェノール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、γ−ブチロラクトン(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシブチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビス[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]ヒドロキシエチルイソシアヌレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、ポリスチレンマクロモノマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリス[2−(メタ)アクリロイルオキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ウレタン(メタ)アクリレート、酸変性エポキシ(メタ)アクリレート、酸変性(メタ)アクリレート、ビスフェノールFエチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレートおよびビスフェノールSエチレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Although it does not restrict | limit especially as said compound (D), 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1, 4- cyclohexane dimethanol mono (meta) ) Acrylate, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, methyl glycidyl (meth) acrylate, 3-methyl-3- (meth) acryloxymethyl oxetane, 3-ethyl-3- (meth) acryloxymethyl oxetane, 3-methyl-3- (meth) acryloxyethyl oxetane, 3-ethyl-3- (meth) acryloxyethyl oxetane, 2-phenyl-3- (meth) ) Acryloxymethyl Oxe , 2-trifluoromethyl-3- (meth) acryloxymethyloxetane, 4-trifluoromethyl-2- (meth) acryloxymethyloxetane, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) Acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, iso-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2. 1.0 2,6 ] decanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate , 5-tetrahydrofurfuryloxycarbonylpentyl (meth) acrylate, (meth) acrylate of ethylene oxide adduct of lauryl alcohol, ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl succinate ], Mono [2- (meth) acryloyloxyethyl maleate], cyclohexene-3,4-dicarboxylic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meta ) Acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N- (meth) acryloylmorpholine, thioglycidyl (meth) acrylate, phenylthio Til (meth) acrylate, ethoxylated o-phenylphenol (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, γ-butyrolactone (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl ( (Meth) acrylate, methoxybutyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) ) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, bis [2- (meth) acryloyloxyethyl] hydroxyethyl isocyanurate, styrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, N-cyclohexylmaleimide, N -Phenylmaleimide, vinyltoluene, polystyrene macromonomer, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, cinnamic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid, pentaerythritol di (me ) Acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, Dipentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, epichlorohydrin modified trimethylolpropane tri (meth) Acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, Chlorhydrin modified glycerol tri (meth) acrylate, diglycerin tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide modified triphosphate (Meth) acrylate, tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] isocyanurate, caprolactone-modified tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, urethane (meth) acrylate, acid-modified epoxy (meth) acrylate, acid-modified ( (Meth) acrylate, bisphenol F ethylene oxide modified di (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide modified di (meth) acrylate Such fine bisphenol S ethylene oxide modified di (meth) acrylate.

これらの中でも、本発明のインクの特性を損なわない範囲でインクの粘度を低下させるのに最適な化合物(D)は、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートである。   Among these, the most suitable compound (D) for reducing the viscosity of the ink within a range not impairing the properties of the ink of the present invention is 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclohexyl. (Meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and isobornyl (meth) acrylate.

本発明のインクに用いられる化合物(D)は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The compound (D) used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

本発明のインクが、前記化合物(D)を含む場合、該化合物(D)の配合量は、好ましくは本発明のインク総量100重量%に対し、10〜70重量%であり、本発明のインクに用いられる他材料とのバランスを考慮すると、特に好ましくはインクの総量の20〜60重量%である。   When the ink of the present invention contains the compound (D), the compounding amount of the compound (D) is preferably 10 to 70% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the ink of the present invention. Considering the balance with other materials used in the ink, it is particularly preferably 20 to 60% by weight of the total amount of ink.

1−5.光重合開始剤(E)
本発明のインクは、光重合開始剤(E)(以下「化合物(E)」ともいう。)を含むことが好ましい。
光重合開始剤(E)は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であることがより好ましい。
1-5. Photopolymerization initiator (E)
The ink of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator (E) (hereinafter also referred to as “compound (E)”).
The photopolymerization initiator (E) is more preferably a compound capable of generating radicals upon irradiation with ultraviolet rays or visible rays.

紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる光重合開始剤(E)の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−エチルアントラキノン、アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−4’−イソプロピルプロピオフェノン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、カンファーキノン、ベンズアントロン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4,4’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,4,4’−トリ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ヘキシルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジ(メトキシカルボニル)−4,4’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,4’−ジ(メトキシカルボニル)−4,3’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4,4’−ジ(メトキシカルボニル)−3,3’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2−(4’−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−ペンチルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−[p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)]−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(2’−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(4’−メトキシフェニル)−s−トリアジン、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、2−(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、3−(2−メチル−2−ジメチルアミノプロピオニル)カルバゾール、3,6−ビス(2−メチル−2−モルフォリノプロピオニル)−9−n−ドデシルカルバゾール、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−プロパノン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパノン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−1−プロパノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジル−1−ブタノン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、オキシ−フェニル−酢酸2−[2−オキソ−2−フェニル−アセトキシ−エトキシ]−エチルエステル、オキシ−フェニル−酢酸2−[2−ヒドロキシ−エトキシ]−エチルエステル、ベンゾイルギ酸メチル、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン2−(O−ベンゾイルオキシム)]、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−エタノン−1−(O−アセチルオキシム)を挙げることができる。 Specific examples of the photopolymerization initiator (E) capable of generating radicals upon irradiation with ultraviolet rays or visible light include benzophenone, Michler's ketone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropyl xanthone, 2 , 4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-4'-isopropylpropiophenone, isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy -1,2-diphenylethane-1-one, camphorquinone, benzanthrone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4,4′-di (t-butylperoxycal Nyl) benzophenone, 3,4,4′-tri (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ -Tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'-di (methoxycarbonyl) -4,4'-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,4'-di (methoxycarbonyl) -4, 3′-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 4,4′-di (methoxycarbonyl) -3,3′-di (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2- (4′-methoxystyryl) -4 , 6-Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ′, 4′-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- (2 ′, 4′-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2′-methoxystyryl) -4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4′-pentyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl)]- 2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- (2′-chlorophenyl) -s-triazine, 1,3-bis (trichloromethyl) -5- ( 4'-methoxyphenyl) -s-triazine, 2- (p-dimethylaminostyryl) benzoxazole, 2- (p-dimethylaminostyryl) benzthiazole, 2-mercaptobenzo Azole, 3,3′-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), 2- (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′- Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4, 4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 '-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 3- (2-methyl- 2-dimethylaminopropionyl) carbazole, 3,6-bis (2- Methyl-2-morpholinopropionyl) -9-n-dodecylcarbazole, bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-) Yl) -phenyl) titanium, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2 -Methyl-1-propanone, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-1-propanone, 2-methyl-1- [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) -2 Benzyl-1-butanone, 2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone, oxy-phenyl-acetic acid 2- [ 2-oxo-2-phenyl-acetoxy-ethoxy] -ethyl ester, oxy-phenyl-acetic acid 2- [2-hydroxy-ethoxy] -ethyl ester, methyl benzoylformate, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenyl Phosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine ester, 1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione 2- (O-benzoyloxime)], 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzo) Le) -9H- carbazol-3-yl] - ethanone-1-(O-acetyl oxime) may be mentioned.

この中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−プロパノン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパノン、2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル}−2−メチル−1−プロパノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルホリノフェニル)−2−ベンジル−1−ブタノン、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノンが好ましい。   Among these, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1 -Propanone, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl} -2-methyl-1-propanone, 2-methyl-1- [4- ( Methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) -2-benzyl-1-butanone, 2- (dimethylamino) -2-[(4- Methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone is preferred.

光重合開始剤(E)は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The photopolymerization initiator (E) may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

光重合開始剤(E)の含有量は、本発明のインク総量100重量%に対し、0.5〜20重量%であると、紫外線に対して高感度のインクが得られるため好ましく、より好ましくは1〜20重量%であり、さらに好ましくは2〜20重量%である。   The content of the photopolymerization initiator (E) is preferably 0.5 to 20% by weight based on 100% by weight of the total amount of the ink of the present invention. Is 1 to 20% by weight, more preferably 2 to 20% by weight.

1−6.その他の成分
本発明のインクは、本発明の要旨を損なわない範囲で必要に応じて有機溶媒、重合禁止剤、エポキシ樹脂以外の熱硬化性化合物、熱重合開始剤、酸化防止剤および着色剤などのその他の成分を含んでもよい。
1-6. Other components The ink of the present invention is an organic solvent, a polymerization inhibitor, a thermosetting compound other than an epoxy resin, a thermal polymerization initiator, an antioxidant, a colorant, etc., as necessary without departing from the scope of the present invention. Other components may be included.

1−6−1.有機溶媒
本発明のインクは、吐出性を調整する目的で有機溶媒を含有してもよい。溶媒を含むことで、インクの粘度や表面張力の微調整が可能であり、吐出性を調整できる。
前記有機溶媒としては、特に制限されないが、沸点が100℃〜300℃の有機溶媒であることが好ましい。
1-6-1. Organic Solvent The ink of the present invention may contain an organic solvent for the purpose of adjusting ejection properties. By including a solvent, the viscosity and surface tension of the ink can be finely adjusted, and the discharge properties can be adjusted.
Although it does not restrict | limit especially as said organic solvent, It is preferable that it is an organic solvent whose boiling point is 100 to 300 degreeC.

沸点が100〜300℃である有機溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ジオキサン、3−メトキシブタノール、3−メトキシブチルアセテート、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル、2−ヒドロキシイソ酪酸i−プロピル、2−ヒドロキシイソ酪酸i−ブチル、2−ヒドロキシイソ酪酸n−ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、1,4−ブタンジオール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。   Specific examples of the organic solvent having a boiling point of 100 to 300 ° C include butyl acetate, butyl propionate, ethyl lactate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, and 3-methoxypropion. Acid methyl, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, dioxane, 3-methoxybutanol 3-methoxybutyl acetate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, i-propyl 2-hydroxyisobutyrate, i-butyl 2-hydroxyisobutyrate, n-butyl 2-hydroxyisobutyrate, propylene glycol monomethyl ether, propylene Glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether , Diethylene glycol monophenyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol Diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 1,4-butanediol, triethylene glycol, tripropylene glycol, tripropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, Propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate Tate, cyclohexanone, cyclopentanone, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, toluene, xylene, anisole, γ-butyrolactone , N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and dimethylimidazolidinone.

本発明のインクに用いられうる有機溶媒は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The organic solvent that can be used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

有機溶媒の含有量は、本発明のインク総量100重量%に対し、0.1〜20重量%であると、吐出性と他の特性のバランスが良いインクが得られるため好ましく、より好ましくは0.2〜10重量%であり、さらに好ましくは0.5〜8重量%であり、特に好ましくは1〜5重量%である。   The content of the organic solvent is preferably 0.1 to 20% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the ink of the present invention, because an ink having a good balance between ejection properties and other characteristics can be obtained, more preferably 0. .2 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 8% by weight, and particularly preferably 1 to 5% by weight.

1−6−2.重合禁止剤
本発明のインクは、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤の具体例としては、4−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ジブチルヒドロキシトルエンおよびフェノチアジンが挙げられる。これらの中でもフェノチアジンを用いると、長期の保存においても粘度の増加が小さいインクが得られるため好ましい。
1-6-2. Polymerization inhibitor The ink of the present invention may contain a polymerization inhibitor in order to improve storage stability. Specific examples of the polymerization inhibitor include 4-methoxyphenol, hydroquinone, dibutylhydroxytoluene and phenothiazine. Among these, phenothiazine is preferable because an ink with a small increase in viscosity can be obtained even in long-term storage.

本発明のインクに用いられうる重合禁止剤は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The polymerization inhibitor that can be used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

重合禁止剤の含有量が、本発明のインク総量100重量%に対し、0.01〜1重量%であると、長期の保存においても粘度の変化が小さいインクが得られるため好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは0.01〜0.5重量%であり、さらに好ましくは0.01〜0.1重量%である。   When the content of the polymerization inhibitor is 0.01 to 1% by weight with respect to 100% by weight of the total amount of the ink of the present invention, an ink having a small change in viscosity can be obtained even during long-term storage. In view of the balance, it is more preferably 0.01 to 0.5% by weight, still more preferably 0.01 to 0.1% by weight.

1−6−3.エポキシ樹脂以外の熱硬化性化合物
本発明のインクは、エポキシ樹脂以外の熱硬化性化合物を含んでもよい。該熱硬化性化合物としては、熱硬化させることが可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、ビスマレイミド、フェノール樹脂、フェノール性水酸基を含有する樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。
1-6-3. Thermosetting compound other than epoxy resin The ink of the present invention may contain a thermosetting compound other than an epoxy resin. The thermosetting compound is not particularly limited as long as it is a compound having a functional group that can be thermally cured, and examples thereof include bismaleimide, a phenol resin, a resin containing a phenolic hydroxyl group, and a melamine resin.

本発明のインクに用いられうるエポキシ樹脂以外の熱硬化性化合物は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The thermosetting compound other than the epoxy resin that can be used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

エポキシ樹脂以外の熱硬化性化合物の含有量が、本発明のインク総量100重量%に対し、0.01〜10重量%であると、得られる硬化膜の耐熱性が向上するため好ましく、より好ましくは0.1〜8重量%であり、さらに好ましくは0.5〜5重量%である。   When the content of the thermosetting compound other than the epoxy resin is 0.01 to 10% by weight with respect to 100% by weight of the total ink of the present invention, the heat resistance of the resulting cured film is preferably improved, and more preferably. Is 0.1 to 8% by weight, more preferably 0.5 to 5% by weight.

1−6−3−1.ビスマレイミド
ビスマレイミドとしては、例えば、下記式(5)で表される化合物が挙げられる。
1-6-3-1. Bismaleimide Examples of the bismaleimide include a compound represented by the following formula (5).

Figure 2014001321
Figure 2014001321

前記式(5)中、R12およびR14はそれぞれ独立に、水素またはメチルであり、R13は下記式(6)で表される二価の基である。 In the formula (5), R 12 and R 14 are each independently hydrogen or methyl, and R 13 is a divalent group represented by the following formula (6).

Figure 2014001321
Figure 2014001321

前記式(6)中、R15およびR16はそれぞれ独立に、連続しない(隣り合わない)任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数1〜18のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記置換基としては、例えば、カルボキシル、ヒドロキシ、炭素数1〜5のアルキル、炭素数1〜5のアルコキシが挙げられる。耐熱性の高い硬化膜が得られる点で、R15およびR16はそれぞれ独立に下記群(b)から選ばれる1種の二価の基であることが好ましい。 In the formula (6), R 15 and R 16 may each independently have an alkylene or substituent having 1 to 18 carbon atoms in which any methylene that is not continuous (not adjacent) may be replaced by oxygen. It is a divalent group having a good aromatic ring, or an optionally substituted cycloalkylene. Examples of the substituent include carboxyl, hydroxy, alkyl having 1 to 5 carbons, and alkoxy having 1 to 5 carbons. In view of obtaining a cured film having high heat resistance, R 15 and R 16 are preferably each independently one kind of divalent group selected from the following group (b).

Figure 2014001321
Figure 2014001321

前記式(6)中、Xは下記群(c)から選ばれる1種の二価の基である。   In said formula (6), X is 1 type of bivalent group chosen from the following group (c).

Figure 2014001321
Figure 2014001321

本発明のインクに用いられうるビスマレイミドは、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The bismaleimide that can be used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

1−6−3−2.フェノール樹脂またはフェノール性水酸基を含有する樹脂
フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂が好ましく用いられ、フェノール性水酸基を含有する樹脂としては、ビニルフェノールの単独重合体(水素添加物を含む)、および、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体(水素添加物を含む)などが好ましく用いられる。
1-6-3-2. As a phenol resin or a resin containing a phenolic hydroxyl group, a novolac resin obtained by a condensation reaction between an aromatic compound having a phenolic hydroxyl group and an aldehyde is preferably used. As a resin containing a phenolic hydroxyl group, A vinylphenol homopolymer (including a hydrogenated product) and a vinylphenol copolymer (including a hydrogenated product) of vinylphenol and a compound copolymerizable therewith are preferably used.

フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、o−エチルフェノール、m−エチルフェノール、p−エチルフェノール、o−ブチルフェノール、m−ブチルフェノール、p−ブチルフェノール、2,3−キシレノール、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、3,4−キシレノール、3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチルフェノール、3,4,5−トリメチルフェノール、p−フェニルフェノール、レゾルシノール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、およびβ−ナフトールなどが挙げられる。   Examples of aromatic compounds having a phenolic hydroxyl group include phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, o-ethylphenol, m-ethylphenol, p-ethylphenol, o-butylphenol, m-butylphenol, p- Butylphenol, 2,3-xylenol, 2,4-xylenol, 2,5-xylenol, 2,6-xylenol, 3,4-xylenol, 3,5-xylenol, 2,3,5-trimethylphenol, 3,4 , 5-trimethylphenol, p-phenylphenol, resorcinol, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, bisphenol A, bisphenol F, terpene skeleton-containing diphenol, gallic acid, gallic acid ester, α-naphthol, and β-naphtho And the like.

アルデヒド類の具体例としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒドおよびアセトアルデヒドが挙げられる。   Specific examples of aldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, furfural, benzaldehyde, nitrobenzaldehyde and acetaldehyde.

ビニルフェノールと共重合可能な化合物としては、(メタ)アクリル酸またはその誘導体、スチレンまたはその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、およびアクリロニトリルなどが挙げられる。   Examples of the compound copolymerizable with vinylphenol include (meth) acrylic acid or a derivative thereof, styrene or a derivative thereof, maleic anhydride, vinyl acetate, and acrylonitrile.

フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップPSM−6200(商品名:群栄化学工業(株)製)、ショウノールBRG−555(商品名:昭和電工(株)製)、フェノール性水酸基を含有する樹脂の具体的な例としては、マルカリンカーM S−2G、マルカリンカーCST70およびマルカリンカーPHM−C(いずれも商品名:丸善石油化学(株)製)が挙げられる。   Specific examples of phenolic resins include Resitop PSM-6200 (trade name: manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd.), Shonor BRG-555 (trade name: manufactured by Showa Denko Co., Ltd.), and resins containing phenolic hydroxyl groups. Specific examples of these include Marcalinker MS-2G, Marcalinker CST70, and Marcalinker PHM-C (all trade names: manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.).

本発明のインクに用いられるフェノール樹脂またはフェノール性水酸基を含有する樹脂は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The phenol resin or resin containing a phenolic hydroxyl group used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

1−6−3−3.メラミン樹脂
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造される樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミンおよびエーテル化メチロールベンゾグアナミン等の縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる硬化膜の耐薬品性が良好となる点で、エーテル化メチロールメラミンの縮合物が好ましい。
1-6-3-3. Melamine resin The melamine resin is not particularly limited as long as it is a resin produced by polycondensation of melamine and formaldehyde. It is done. Among these, a condensate of etherified methylol melamine is preferable in that the resulting cured film has good chemical resistance.

メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックMW−30、MW−30HM、MW−390、MW−100LM、MX−750LM(商品名:三和ケミカル(株)製)が挙げられる。   Specific examples of the melamine resin include Nicalac MW-30, MW-30HM, MW-390, MW-100LM, MX-750LM (trade names: manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.).

本発明のインクに用いられうるメラミン樹脂は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The melamine resin that can be used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

1−6−4.熱重合開始剤
本発明のインクは、加熱工程によりインクの硬化性を向上させるために熱重合開始剤を含有してもよい。熱重合開始剤の具体例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、過酸化ベンゾイル、過酸化ジ−t−ブチル、サンエイドSI−60L、サンエイドSI−80L、サンエイドSI−100L、サンエイドSI−110L、サンエイドSI−180L、サンエイドSI−110、サンエイドSI−180(商品名:三新化学工業(株)製)を挙げることができる。これらの中でも2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、および2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)が好ましい。
1-6-4. Thermal polymerization initiator The ink of the present invention may contain a thermal polymerization initiator in order to improve the curability of the ink by the heating step. Specific examples of the thermal polymerization initiator include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, Name Sun-Aid SI-60L, Sun-Aid SI-80L, Sun-Aid SI-100L, Sun-Aid SI-110L, Sun-Aid SI-180L, Sun-Aid SI-110, Sun-Aid SI-180 (trade name: Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) Can do. Among these, 2,2′-azobisisobutyronitrile and 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) are preferable.

本発明のインクに用いられうる熱重合開始剤は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The thermal polymerization initiator that can be used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

熱重合開始剤の含有量は、好ましくは本発明のインク総量100重量%に対し、10重量%以下であり、添加効果および吐出安定性等の観点からより好ましくは0.005〜10重量%である。   The content of the thermal polymerization initiator is preferably 10% by weight or less with respect to 100% by weight of the total amount of the ink of the present invention, and more preferably 0.005 to 10% by weight from the viewpoint of the addition effect and ejection stability. is there.

1−6−5.酸化防止剤
本発明のインクは、得られる硬化膜等の酸化を防止するために、酸化防止剤を含有してもよい。
1-6-5. Antioxidant The ink of the present invention may contain an antioxidant in order to prevent oxidation of the resulting cured film or the like.

酸化防止剤としては、トリエチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル等のヒンダードフェノール化合物、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミノメチルメタクリレート等のアミン化合物などが挙げられる。   Antioxidants include triethylene glycol-bis- [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5- Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl Examples include hindered phenol compounds such as phosphonate diethyl ester, and amine compounds such as n-butylamine, triethylamine, and diethylaminomethyl methacrylate.

本発明のインクに用いられうる酸化防止剤は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The antioxidant that can be used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

酸化防止剤の含有量は、好ましくは本発明のインク総量100重量%に対し、3重量%以下であり、添加効果および吐出安定性等の観点からより好ましくは0.005〜2重量%である。   The content of the antioxidant is preferably 3% by weight or less with respect to 100% by weight of the total amount of the ink of the present invention, and more preferably 0.005 to 2% by weight from the viewpoint of the effect of addition and ejection stability. .

1−6−6.着色剤
本発明のインクは、着色であっても無色であってもよいが、該インクを基材に塗布等して硬化させることにより得られる硬化膜の状態を検査する際に、硬化膜と基材との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、染料および顔料が好ましい。
1-6-6. Colorant The ink of the present invention may be colored or colorless, but when inspecting the state of the cured film obtained by applying the ink to a substrate and curing it, In order to facilitate identification from the substrate, a colorant may be included. As the colorant, dyes and pigments are preferable.

本発明のインクに用いられる着色剤は、1種の化合物であっても、2種以上の化合物の混合物であってもよい。   The colorant used in the ink of the present invention may be a single compound or a mixture of two or more compounds.

着色剤の含有量は、本発明のインク中の固形分100重量部に対し、0.1〜5重量部であると、該インクから得られる硬化膜の検査が容易になるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは0.1〜1重量部であり、さらに好ましくは0.1〜0.5重量部である。   The content of the colorant is preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content in the ink of the present invention, because it is easy to inspect a cured film obtained from the ink. In view of the balance, it is more preferably 0.1 to 1 part by weight, still more preferably 0.1 to 0.5 part by weight.

1−7.インクの保存
本発明のインクは、5〜25℃で保存すると保存中の粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
1-7. Ink Storage When the ink of the present invention is stored at 5 to 25 ° C., the viscosity change during storage is small and the storage stability is good.

1−8.インクの粘度
本発明のインクの、E型回転粘度計で測定した25℃における粘度は2〜200mPa・sであることが好ましい。粘度がこの範囲にあると、インクジェット装置による吐出性が良好となる。25℃における本発明のインクの粘度は、好ましくは2〜100mPa・sである。
1-8. Viscosity of Ink The viscosity of the ink of the present invention at 25 ° C. measured with an E-type rotational viscometer is preferably 2 to 200 mPa · s. When the viscosity is in this range, the dischargeability by the ink jet device is good. The viscosity of the ink of the present invention at 25 ° C. is preferably 2 to 100 mPa · s.

1−9.インクの調製方法
本発明のインクは、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。
特に、本発明のインクは、前記化合物(A)および化合物(B)、ならびに必要に応じて化合物(C)〜化合物(E)およびその他の成分を混合し、得られた溶液を例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターを用いてろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。このようにして調製されたインクは、吐出性に優れる。
1-9. Ink Preparation Method The ink of the present invention can be prepared by mixing each component as a raw material by a known method.
In particular, the ink of the present invention comprises the compound (A) and the compound (B) and, if necessary, the compound (C) to the compound (E) and other components mixed, and the resulting solution is made of, for example, a fluororesin. It is preferable to prepare by filtering using a membrane filter and degassing. The ink prepared in this way is excellent in dischargeability.

1−10.インクジェット法によるインクの塗布
本発明のインクは、公知のインクジェット法を用いて塗布することができる。インクジェット法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出させるピエゾ方式、およびインクに熱エネルギーを作用させてインクを吐出させる塗布方法(いわゆるサーマル方式)が挙げられる。
1-10. Application of Ink by Inkjet Method The ink of the present invention can be applied using a known inkjet method. Examples of the ink jet method include a piezo method in which mechanical energy is applied to the ink and ejected from the ink jet head, and a coating method (so-called thermal method) in which the thermal energy is applied to the ink and ink is ejected.

インクジェット法を用いることにより、本発明のインクを予め定められたパターン状に容易に塗布することができ、均一なパターンを大きな基板上に形成することができる。   By using the inkjet method, the ink of the present invention can be easily applied in a predetermined pattern, and a uniform pattern can be formed on a large substrate.

インクジェットヘッドとしては、例えば、金属および/または金属酸化物からなる発熱部を有するものが挙げられる。金属および/または金属酸化物の具体例としては、Ta、Zr、Ti、Ni、Al等の金属、およびこれらの金属の酸化物が挙げられる。   As an inkjet head, what has the heat-emitting part which consists of a metal and / or a metal oxide is mentioned, for example. Specific examples of the metal and / or metal oxide include metals such as Ta, Zr, Ti, Ni, and Al, and oxides of these metals.

本発明のインクを用いて塗布を行う際に用いる好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッド内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布(描画)を行う装置が挙げられる。   As a preferable coating device used when coating using the ink of the present invention, for example, energy corresponding to a coating signal is given to ink in an ink jet head having an ink storage portion in which ink is stored, and An apparatus that performs application (drawing) corresponding to the application signal while generating ink droplets can be used.

前記インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されて、キャリッジに搭載されるものでもよく、装置の固定部位に設けられてもよい。後者の場合、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。   The ink jet coating apparatus is not limited to one in which the ink jet head and the ink container are separated, and may be one in which they are inseparably integrated. Further, the ink storage unit may be integrated with the ink jet head so as to be separable or non-separable and mounted on the carriage, or may be provided at a fixed portion of the apparatus. In the latter case, ink may be supplied to the ink jet head via an ink supply member, for example, a tube.

2.硬化膜
本発明の硬化膜は、上述した本発明のインクから形成され、具体的には、本発明のインクをインクジェット法により基材表面に塗布した後に、該インクに紫外線や可視光線等の光を照射して塗膜を硬化させることで得られる膜が好ましい。
2. Cured film The cured film of the present invention is formed from the above-described ink of the present invention. Specifically, after the ink of the present invention is applied to the surface of a substrate by an ink jet method, light such as ultraviolet rays or visible light is applied to the ink. A film obtained by irradiating and curing the coating film is preferred.

本発明の硬化膜の用途は特に限定されないが、本発明のインクから得られる硬化膜は金属や樹脂などの基材に対する密着性、PCTにおける耐性および難燃性に優れるため、特に、所定の回路パターンをなす金属配線表面を保護するカバーレイフィルムや、ソルダーレジストなどとして用いることが好ましい。   The use of the cured film of the present invention is not particularly limited, but the cured film obtained from the ink of the present invention is excellent in adhesion to a substrate such as metal or resin, resistance in PCT and flame retardancy, and in particular, a predetermined circuit. It is preferably used as a cover lay film for protecting the metal wiring surface forming the pattern, a solder resist, or the like.

紫外線や可視光線等を照射する場合、照射する露光量は、前記インクの組成に応じて適宜選択すればよいが、100〜5,000mJ/cm2程度が好ましく、150〜2000mJ/cm2程度がより好ましく、180〜1000mJ/cm2程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線や可視光線等の波長は、200〜500nmが好ましく、250〜450nmがより好ましい。
なお、本発明において、露光量はウシオ電機(株)製の受光器UVD−365PD(商品名)を取り付けた積算光量計UIT−201(商品名)で測定した値である。
Case of irradiation with ultraviolet light or visible light, exposure to radiation may be appropriately selected depending on the composition of the ink, but preferably about 100~5,000mJ / cm 2, about 150~2000mJ / cm 2 is More preferably, about 180 to 1000 mJ / cm 2 is more preferable. Moreover, 200-500 nm is preferable and, as for wavelengths, such as an ultraviolet-ray and visible light to irradiate, 250-450 nm is more preferable.
In the present invention, the exposure amount is a value measured with an integrating light meter UIT-201 (trade name) equipped with a photoreceiver UVD-365PD (trade name) manufactured by USHIO INC.

なお、露光機としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ、無電極ランプ等を搭載し、200〜500nmの範囲で、紫外線や可視光線等を照射する装置であることが好ましい。   In addition, as an exposure machine, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a halogen lamp, an electrodeless lamp, etc. are mounted, and an apparatus that irradiates ultraviolet rays, visible rays, etc. in the range of 200 to 500 nm It is preferable that

また、必要に応じて、光の照射により硬化した硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、80〜250℃で10〜60分間加熱・焼成をすることによって、硬化膜をより強固に硬化させることができる。   If necessary, the cured film cured by irradiation with light may be further heated and baked, and the cured film is cured more firmly by heating and baking at 80 to 250 ° C. for 10 to 60 minutes. be able to.

本明細書中、「基材」は、本発明のインクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。   In the present specification, the “base material” is not particularly limited as long as it can be an object to which the ink of the present invention is applied, and the shape is not limited to a flat plate shape, and may be a curved surface shape.

本発明に使用できる基材としては特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)およびポリブチレンテレフタレート(PBT)などからなるポリエステル系樹脂基材;ポリエチレンおよびポリプロピレンなどからなるポリオレフィン樹脂基材;ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどからなる有機高分子フィルム;セロハンからなる基材;金属箔;ポリイミドと金属箔との積層フィルム;ガラスエポキシ樹脂と金属箔との積層板;目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース(CMC)などで目止め処理した紙;およびガラス基材が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a base material which can be used for this invention, For example, the polyester resin base material which consists of polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), etc .; The polyolefin resin base material which consists of polyethylene, a polypropylene, etc .; Organic polymer film made of vinyl, fluororesin, acrylic resin, styrene resin, polyamide, polycarbonate and polyimide; substrate made of cellophane; metal foil; laminated film of polyimide and metal foil; glass epoxy resin and metal foil Glossin paper, parchment paper, polyethylene, clay binder, polyvinyl alcohol, starch, or carboxymethylcellulose (CMC), etc. that have a sealing effect; and glass base And the like.

なお、これらの基材は、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤および/または電磁波防止剤等の添加剤を含んでもよい。
また、基材の表面の一部には、必要により撥水処理やコロナ処理、プラズマ処理、又はブラスト処理などの表面処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜、ハードコート膜を設けたりしてもよい。
In addition, these base materials are further added within the range that does not adversely affect the effects of the present invention, and further, pigments, dyes, antioxidants, deterioration inhibitors, fillers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, and / or electromagnetic wave inhibitors. Etc. may also be included.
In addition, a part of the surface of the substrate may be subjected to surface treatment such as water repellent treatment, corona treatment, plasma treatment, or blast treatment if necessary, or the surface may be easily adhered layer, color filter protective film, hard coat film. May be provided.

本発明の硬化膜の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは1μm〜50μmであり、より好ましくは5μm〜20μmである。   The thickness of the cured film of the present invention may be appropriately selected according to the desired application, but is preferably 1 μm to 50 μm, more preferably 5 μm to 20 μm.

3.電子回路基板
本発明の電子回路基板は、前記硬化膜を有する。本発明の電子回路基板としては、リジッド基板、フレキシブル基板、リジッドフレキシブル基板などが挙げられる。
前記フレキシブル基板としては、例えば、インクジェット法などにより予め配線が形成されたポリイミドフィルムなどのフィルム状の基材上に、本発明のインクをインクジェット法によって全面または所定のパターン状(ライン状等)に塗布して塗膜を形成し、その後、当該塗膜を硬化させることによって得られる基板が挙げられる。
3. Electronic Circuit Board The electronic circuit board of the present invention has the cured film. Examples of the electronic circuit board of the present invention include a rigid board, a flexible board, and a rigid flexible board.
As the flexible substrate, for example, the ink of the present invention is formed on the entire surface or a predetermined pattern (line shape or the like) by an ink jet method on a film-like base material such as a polyimide film in which wiring is formed in advance by the ink jet method or the like. The board | substrate obtained by apply | coating and forming a coating film and hardening the said coating film after that is mentioned.

前記配線(回路)を形成する金属は、特に限定されるものではないが、金、銀、銅、アルミまたは酸化インジウムスズ(ITO)が好ましい。これらの配線が形成された基板に、本発明のインクをインクジェット装置により所定のパターン状に塗布し、硬化させて得られる硬化膜は、前記配線を保護するカバーレイフィルムや、ソルダーレジストなどとして機能する。   Although the metal which forms the said wiring (circuit) is not specifically limited, Gold, silver, copper, aluminum, or indium tin oxide (ITO) is preferable. A cured film obtained by applying the ink of the present invention to a substrate on which these wirings are formed in a predetermined pattern with an ink jet device and curing the substrate functions as a coverlay film, a solder resist, or the like that protects the wirings. To do.

本発明の電子回路基板の用途は特に限定されないが、耐熱性、基材との密着性および難燃性に優れている本発明の硬化膜を用いて製造された電子回路基板に、ICチップ、コンデンサ、抵抗、ヒューズ等を実装することで、例えば液晶表示素子用の電子部品を作成することができる。   The use of the electronic circuit board of the present invention is not particularly limited, but the electronic circuit board manufactured using the cured film of the present invention that is excellent in heat resistance, adhesion to a base material and flame retardancy, an IC chip, By mounting a capacitor, a resistor, a fuse, or the like, for example, an electronic component for a liquid crystal display element can be created.

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。また、以下では、実施例または比較例で得られた光硬化性インクジェットインクを単にインクと呼ぶことがある。
下記の表1に実施例および比較例で得られたインクの原料の使用量(重量(g))および評価結果を示す。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited by these. In the following, the photocurable inkjet ink obtained in the examples or comparative examples may be simply referred to as ink.
Table 1 below shows the usage amount (weight (g)) and evaluation results of the ink raw materials obtained in the examples and comparative examples.

[製造例1]<リン含有(メタ)アクリレート(A)の製造例>
100mLの三つ口フラスコに温度計、エアバブリング装置を備え付け、該フラスコにカプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(商品名:アロニックスM−327、[前記式(1)における、R1〜R3がエチレンであり、R4およびR5がアクリロイルであり、R6が水素であり、a+b+c≒3、d=e=f=5である化合物。]、東亞合成(株)製)45.95gおよび9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(商品名:SANKO−HCA、三光(株)製)12.97gを加え、110℃で6時間攪拌させ、前記式(1)で表されるリン含有(メタ)アクリレートを含む組成物(以下「PA−1」と略す)を得た。
1H−NMRにより、得られたPA−1中に、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレートのアクリロイル基のC−C二重結合に9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドのリン原子が付加した構造を有する化合物が存在することを確認した。
[Production Example 1] <Production example of phosphorus-containing (meth) acrylate (A)>
A 100 mL three-necked flask is equipped with a thermometer and an air bubbling device, and caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate (trade name: Aronix M-327, [in the above formula (1), R 1 to R 3 is ethylene, R 4 and R 5 are acryloyl, R 6 is hydrogen, a + b + c≈3, d = e = f = 5.], Manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 45.95 g And 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (trade name: SANKO-HCA, manufactured by Sanko Co., Ltd.), 12.97 g, and stirred at 110 ° C. for 6 hours. A composition containing phosphorus-containing (meth) acrylate represented by (1) (hereinafter abbreviated as “PA-1”) was obtained.
By 1 H-NMR, in the obtained PA-1, the CC double bond of the acryloyl group of caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate was subjected to 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphine. It was confirmed that there was a compound having a structure in which a phosphorus atom of phenanthrene-10-oxide was added.

[製造例2]<リン含有(メタ)アクリレートの製造例>
50mLの三つ口フラスコに温度計、エアバブリング装置を備え付け、該フラスコにトリス−(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレート(商品名:アロニックスM−315、東亞合成(株)製)6.80gおよび9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド(商品名:SANKO−HCA、三光(株)製)3.48gを加え、110℃で5時間攪拌させ、リン含有(メタ)アクリレートを含む組成物(以下「PA−2」と略す)を得た。
1H−NMRにより、得られたPA−2中に、トリス−(2−アクリロキシエチル)イソシアヌレートのアクリロイル基のC−C二重結合に9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドのリン原子が付加した構造を有する化合物が存在することを確認した。
[Production Example 2] <Production Example of Phosphorus-Containing (Meth) acrylate>
A 50 mL three-necked flask was equipped with a thermometer and an air bubbling device. Tris- (2-acryloxyethyl) isocyanurate (trade name: Aronix M-315, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 6.80 g and 3.48 g of 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (trade name: SANKO-HCA, manufactured by Sanko Co., Ltd.) was added and stirred at 110 ° C. for 5 hours to contain phosphorus ( A composition containing meth) acrylate (hereinafter abbreviated as “PA-2”) was obtained.
By 1 H-NMR, in the obtained PA-2, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphine was added to the C—C double bond of the acryloyl group of tris- (2-acryloxyethyl) isocyanurate. It was confirmed that a compound having a structure in which a phosphorus atom of faphenanthrene-10-oxide was added was present.

[実施例1]
製造例1で合成した化合物(A)を含むPA−1、エポキシ樹脂(B)としてEPPN−201(商品名:日本化薬(株)製)、エポキシ樹脂硬化剤(C)として1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール(商品名:2E4MZ−CN、四国化成(株)製)、化合物(D)としてテトラヒドロフルフリルアクリレート(THFA)、光重合開始剤(E)として2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン(商品名:IRGACURE 379EG(以下「Irg379」ともいう。)、BASFジャパン(株)製)、および光重合禁止剤としてフェノチアジン(PT)を表1に示す量で加え溶解し、0.2μmのメンブレンフィルターでろ過することで、ろ液(インク1)を調製した。
[Example 1]
PA-1 containing compound (A) synthesized in Production Example 1, EPPN-201 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as epoxy resin (B), 1-cyanoethyl- as epoxy resin curing agent (C) 2-ethyl-4-methylimidazole (trade name: 2E4MZ-CN, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.), tetrahydrofurfuryl acrylate (THFA) as compound (D), 2- (dimethylamino) as photopolymerization initiator (E) ) -2-[(4-Methylphenyl) methyl] -1- [4- (4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone (trade name: IRGACURE 379EG (hereinafter also referred to as “Irg379”)), BASF Japan Ltd. ), And phenothiazine (PT) as a photopolymerization inhibitor in the amounts shown in Table 1 and dissolved, and filtered through a 0.2 μm membrane filter. It is, filtrate (ink 1) was prepared.

E型回転粘度計(商品名:TV−22、東機産業(株)製、以下同じ)を用い、25℃におけるインク1の粘度を測定した結果、99mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of ink 1 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer (trade name: TV-22, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., the same shall apply hereinafter), it was 99 mPa · s.

インク1をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置(商品名:DMP−2831、FUJIFILM Dimatix社製)に装着し、10pl用のヘッドを用いて、吐出電圧(ピエゾ電圧)21V、ヘッド温度70℃、駆動周波数5kHz、塗布回数1回の吐出条件で、ポリイミド上に銅箔を積層した厚さ35μmの銅張積層板であるバイロフレックス(商品名:東洋紡績(株)製)の銅表面上の中心部に、一片が3cmの正方形のパターン塗膜を描画した。   Ink 1 is injected into an ink jet cartridge, which is mounted on an ink jet apparatus (trade name: DMP-2831, manufactured by FUJIFILM Dimatics), using a 10 pl head, discharge voltage (piezo voltage) 21 V, head temperature 70 ° C. On the copper surface of Viroflex (trade name: manufactured by Toyobo Co., Ltd.), which is a 35 μm thick copper clad laminate in which copper foil is laminated on polyimide under discharge conditions of a drive frequency of 5 kHz and a coating frequency of once. A square pattern coating film having a size of 3 cm was drawn at the center.

インク1のパターン塗膜を形成した基材に、UV照射装置(商品名:J−CURE1500、(株)ジャテック製、以下同じ)を用いて、紫外線を1000mJ/cm2照射し、更に180℃のオーブンで30分間加熱することにより塗膜を硬化させた。厚さ11μmの硬化膜パターンが形成された基板1を得た。 Using a UV irradiation device (trade name: J-CURE 1500, manufactured by JATEC Corporation, the same shall apply hereinafter), the substrate on which the pattern coating film of ink 1 was formed was irradiated with ultraviolet rays at 1000 mJ / cm 2 and further at 180 ° C. The coating was cured by heating in an oven for 30 minutes. A substrate 1 on which a cured film pattern having a thickness of 11 μm was formed was obtained.

[実施例2]
エポキシ樹脂(B)として、EPPN−201の代わりに、jER1032H60(商品名:三菱化学(株)製)を用い、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、下記表1に示すような組成のインク2を調製した。
[Example 2]
As epoxy resin (B), instead of EPPN-201, jER1032H60 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was used, and the amount was changed as shown in Table 1, and the same procedure as in Example 1 was performed. Ink 2 having the composition shown in Table 1 below was prepared.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク2の粘度を測定した結果、87mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 2 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 87 mPa · s.

インク2を用い、吐出電圧(ピエゾ電圧)を20Vに変えた以外は、実施例1と同様の方法で厚さ8μmの硬化膜パターンが形成された基板2を得た。   A substrate 2 on which a cured film pattern having a thickness of 8 μm was formed in the same manner as in Example 1 except that the ink 2 was used and the ejection voltage (piezo voltage) was changed to 20 V.

[実施例3]
エポキシ樹脂(B)として、EPPN−201の代わりに、jER807(商品名:三菱化学(株)製)を用い、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、下記表1に示すような組成のインク3を調製した。
[Example 3]
As epoxy resin (B), instead of EPPN-201, jER807 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was used, and the amount was changed as shown in Table 1, and the same procedure as in Example 1 was performed. Ink 3 having the composition shown in Table 1 below was prepared.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク3の粘度を測定した結果、40mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 3 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 40 mPa · s.

インク3を用い、吐出電圧(ピエゾ電圧)を22V、ヘッド温度50℃に変えた以外は、実施例1と同様の方法で厚さ8μmの硬化膜パターンが形成された基板3を得た。   A substrate 3 on which a cured film pattern having a thickness of 8 μm was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ink 3 was used and the ejection voltage (piezo voltage) was changed to 22 V and the head temperature was 50 ° C.

[実施例4]
エポキシ樹脂(B)として、EPPN−201の代わりに、HP−7200(商品名:DIC(株)製)を用いた以外は、実施例1と同様にして、下記表1に示すような組成のインク4を調製した。
[Example 4]
Except for using HP-7200 (trade name: manufactured by DIC Corporation) instead of EPPN-201 as the epoxy resin (B), the composition as shown in Table 1 below is the same as in Example 1. Ink 4 was prepared.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク4の粘度を測定した結果、94mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 4 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 94 mPa · s.

インク4を用い、実施例2と同様の方法で、厚さ12μmの硬化膜パターンが形成された基板4を得た。   A substrate 4 on which a cured film pattern having a thickness of 12 μm was formed was obtained in the same manner as in Example 2 using ink 4.

[実施例5]
エポキシ樹脂(B)として、EPPN−201の代わりに、NC−3000(商品名:日本化薬(株)製)を用いて、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、下記表1に示すような組成のインク5を調製した。
[Example 5]
Example 1 except that NC-3000 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used instead of EPPN-201 as the epoxy resin (B), and the blending amount was changed as shown in Table 1. In the same manner, an ink 5 having the composition shown in Table 1 below was prepared.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク5の粘度を測定した結果、91mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 5 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 91 mPa · s.

インク5を用い、吐出電圧(ピエゾ電圧)を20Vに変えた以外は、実施例1と同様の方法で厚さ9μmの硬化膜パターンが形成された基板5を得た。   A substrate 5 on which a 9 μm thick cured film pattern was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ink 5 was used and the ejection voltage (piezo voltage) was changed to 20V.

[実施例6]
エポキシ樹脂(B)として、EPPN−201の代わりに、EOCN−102S−65(商品名:日本化薬(株)製)を用いて、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、下記表1に示すような組成のインク6を調製した。
[Example 6]
As epoxy resin (B), instead of EPPN-201, EOCN-102S-65 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was used, except that the amount was changed as shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, ink 6 having the composition shown in Table 1 below was prepared.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク6の粘度を測定した結果、96mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 6 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 96 mPa · s.

インク6を用い、実施例1と同様の方法で、厚さ10μmの硬化膜パターンが形成された基板6を得た。   A substrate 6 on which a cured film pattern having a thickness of 10 μm was formed was obtained in the same manner as in Example 1 using ink 6.

[比較例1]
エポキシ樹脂(B)を用いず、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、インク7を調製した。
[Comparative Example 1]
Ink 7 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the epoxy resin (B) was not used and the blending amount was changed as shown in Table 1.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク7の粘度を測定した結果、72mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 7 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 72 mPa · s.

インク7を用い、吐出電圧(ピエゾ電圧)を20V、ヘッド温度60℃に変えた以外は、実施例1と同様の方法で厚さ10μmの硬化膜パターンが形成された基板7を得た。   A substrate 7 on which a cured film pattern having a thickness of 10 μm was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ink 7 was used and the ejection voltage (piezo voltage) was changed to 20 V and the head temperature was 60 ° C.

[比較例2]
PA−1の代わりに、製造例2で合成したPA−2を用いた以外は実施例1と同様にして、インク8を調製した。
[Comparative Example 2]
Ink 8 was prepared in the same manner as in Example 1 except that PA-2 synthesized in Production Example 2 was used instead of PA-1.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク8の粘度を測定した結果、97mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 8 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 97 mPa · s.

インク8を用い、実施例1と同様の方法で厚さ10μmの硬化膜パターンを形成した基板8を得た。   A substrate 8 on which a cured film pattern having a thickness of 10 μm was formed by using the ink 8 in the same manner as in Example 1 was obtained.

[比較例3]
PA−1の代わりに、HFA−3003(商品名:昭和電工(株)製、縮合9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10オキシド)を用いて、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、インク9を調製した。
[Comparative Example 3]
Instead of PA-1, HFA-3003 (trade name: manufactured by Showa Denko KK, condensed 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 oxide) was used, and the blending amounts were shown in Table 1. Ink 9 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the changes were made as shown in FIG.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク9の粘度を測定した結果、95mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 9 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 95 mPa · s.

インク9を用い、ヘッド温度を60℃に変えた以外は、実施例1と同様の方法で厚さ11μmの硬化膜パターンが形成された基板9を得た。   A substrate 9 on which a 11 μm thick cured film pattern was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ink 9 was used and the head temperature was changed to 60 ° C.

[比較例4]
PA−1の代わりに、HFA−6127(商品名:昭和電工(株)製、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドとの付加反応物)を用いて、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、インク10を調製した。
[Comparative Example 4]
Instead of PA-1, HFA-6127 (trade name: manufactured by Showa Denko KK, caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate and 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide Ink 10 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the addition amount was changed as shown in Table 1.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク10の粘度を測定した結果、90mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 10 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 90 mPa · s.

インク10を用い、実施例2と同様の方法で厚さ9μmの硬化膜パターンが形成された基板10を得た。   A substrate 10 on which a 9 μm-thick cured film pattern was formed was obtained using the ink 10 in the same manner as in Example 2.

[比較例5]
PA−1の代わりに、HFA−6127(商品名:昭和電工(株)製、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイドとの付加反応物)を用い、エポキシ樹脂(B)を用いず、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、インク11を調製した。
[Comparative Example 5]
Instead of PA-1, HFA-6127 (trade name: manufactured by Showa Denko KK, caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate and 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide Ink 11 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the addition reaction product was used, the epoxy resin (B) was not used, and the blending amount was changed as shown in Table 1.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク11の粘度を測定した結果、97mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 11 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 97 mPa · s.

インク11を用い、実施例1と同様の方法で厚さ11μmの硬化膜パターンが形成された基板11を得た。   A substrate 11 on which a cured film pattern having a thickness of 11 μm was formed using the ink 11 was obtained in the same manner as in Example 1.

[比較例6]
PA−1の代わりに、多官能アクリレートである、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(商品名:アロニックスM−327、東亞合成(株)製)を用い、エポキシ樹脂(B)を用いず、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、インク12を調製した。
[Comparative Example 6]
Instead of PA-1, caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate (trade name: Aronix M-327, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), which is a polyfunctional acrylate, is used without using the epoxy resin (B). Ink 12 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the blending amount was changed as shown in Table 1.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク12の粘度を測定した結果、35mPa・sであった。   The viscosity of the ink 12 measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer was 35 mPa · s.

インク12を用い、ヘッド温度を50℃に変えた以外は、実施例1と同様の方法で厚さ9μmの硬化膜パターンが形成された基板12を得た。   A substrate 12 on which a 9 μm thick cured film pattern was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ink 12 was used and the head temperature was changed to 50 ° C.

[比較例7]
PA−1の代わりに、多官能アクリレートである、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(商品名:アロニックスM−327、東亞合成(株)製)を用いて、配合量を表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、インク13を調製した。
[Comparative Example 7]
Table 1 shows the blending amounts using caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate (trade name: Aronix M-327, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), which is a polyfunctional acrylate, instead of PA-1. Ink 13 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the above was changed.

E型回転粘度計を用い、25℃におけるインク13の粘度を測定した結果、57mPa・sであった。   As a result of measuring the viscosity of the ink 13 at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer, it was 57 mPa · s.

インク13を用い、比較例1と同様の方法で厚さ10μmの硬化膜パターンが形成された基板13を得た。   A substrate 13 on which a cured film pattern having a thickness of 10 μm was formed by using the ink 13 in the same manner as in Comparative Example 1 was obtained.

(インクの吐出性試験)
各実施例および比較例で得られた基板(1〜13)上の3cm角の正方形パターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インクの吐出性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
◎:パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない
○:パターンの乱れ、印刷のかすれが殆どない
△:パターンの乱れ、印刷のかすれが多い
×:インクを吐出できない(つまり、パターンの形成ができない)
(Ink ejection test)
Disturbance of a 3 cm square pattern on the substrates (1 to 13) obtained in each Example and Comparative Example and blurring of printing were observed to evaluate ink ejection properties. The evaluation criteria are as follows.
◎: No pattern disturbance or printing blurring ○: Pattern distortion or printing blurring hardly △: Pattern disturbance or printing blurring much ×: Ink cannot be ejected (that is, pattern cannot be formed)

(常態での密着性の評価方法)
両面銅張り積層基板(商品名:MCL−E−679FG、[銅箔(1)、ガラスエポキシ樹脂層および銅箔(2)がこの順で積層された構造]、日立化成(株)製)に化学研磨処理を施し、この基板の片面(銅箔(1)上)に実施例または比較例で得られたインクを前記基板1〜13を作成するのと同じ条件でインクジェット方式にて塗布することで塗膜を形成した後に、UV照射装置を用いて紫外線を1000mJ/cm2照射し、更に180℃のオーブンで30分間加熱することにより塗膜を硬化した。その後、得られた硬化膜面とガラスエポキシシート(商品名:SHG−1A、(株)マックエイト製)とを接着剤で貼り付け乾燥させた。得られた積層体から両面銅張り積層基板のインクを塗布しなかった側の銅箔(銅箔(2))とガラスエポキシ樹脂層を削り取り、接着剤を介してガラスエポキシシートに積層された銅箔(1)と硬化膜との積層体のみを残した。銅箔(1)のみを幅5mm程度の短冊形に切り出し、該銅箔を引っ張り試験機(商品名:EZ Graph、(株)島津製作所製)で硬化膜面に対して180°の方向に引き剥がし、密着強度を測定した。
0.8[kN/m]以上の密着強度を有するものを、銅基板に対して十分な密着性を有すると判断した。
(Normal adhesion evaluation method)
Double-sided copper-clad laminate (trade name: MCL-E-679FG, [a structure in which copper foil (1), glass epoxy resin layer and copper foil (2) are laminated in this order], manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) Apply chemical polishing treatment, and apply the ink obtained in the example or comparative example on one side of the substrate (on the copper foil (1)) by the inkjet method under the same conditions as those for preparing the substrates 1 to 13. After the coating film was formed by UV irradiation, the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays at 1000 mJ / cm 2 using a UV irradiation apparatus and further heating in an oven at 180 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the obtained cured film surface and a glass epoxy sheet (trade name: SHG-1A, manufactured by McEight Co., Ltd.) were attached with an adhesive and dried. The copper foil (copper foil (2)) and the glass epoxy resin layer on the side where the ink of the double-sided copper-clad laminated substrate was not applied is scraped off from the obtained laminate, and the copper laminated on the glass epoxy sheet via an adhesive Only the laminate of the foil (1) and the cured film was left. Cut only the copper foil (1) into a strip with a width of about 5 mm, and pull the copper foil in a direction of 180 ° with respect to the cured film surface using a tensile tester (trade name: EZ Graph, manufactured by Shimadzu Corporation). It peeled off and the adhesive strength was measured.
Those having an adhesion strength of 0.8 [kN / m] or more were judged to have sufficient adhesion to the copper substrate.

(飽和蒸気圧試験(PCT)における耐性の評価方法)
前記と同様に、インクを塗布後、塗膜を硬化し、120℃98%RHの試験炉に15時間保存した。その後は、常態での密着性の評価方法と同様の方法で密着強度を測定した。
試験炉に15時間保存した後でも0.8[kN/m]以上の密着強度を有するものをPCTにおける耐性があると判断した。
(Tolerance evaluation method in saturated vapor pressure test (PCT))
In the same manner as described above, after the ink was applied, the coating film was cured and stored in a test furnace at 120 ° C. and 98% RH for 15 hours. Thereafter, the adhesion strength was measured by the same method as the evaluation method for adhesion in a normal state.
Those having an adhesion strength of 0.8 [kN / m] or more even after being stored in a test furnace for 15 hours were judged to be resistant to PCT.

(難燃性の評価方法)
難燃性については、UL94規格に基づいて判断した。具体的には、実施例および比較例で得られたインクをポリイミドフィルム(カプトン(登録商標)100H;東レ・デュポン(株)製)基板に20〜30μmの厚みとなるよう、それぞれ、前記基板1〜13を作成するのと同じ条件でインクジェット法で塗布し、塗膜にUV照射装置を用いて紫外線を1000mJ/cm2照射した後、190℃で30分間加熱硬化させた。得られた硬化膜について、UL94規格に準拠した薄材垂直燃焼試験を行い、UL94規格に基づいて評価した。その結果、評価がVTM−0である場合には、その硬化膜は、難燃性を有すると判断した。
(Flame retardancy evaluation method)
About flame retardance, it judged based on UL94 specification. Specifically, the inks obtained in the examples and comparative examples were respectively placed on the substrate 1 so that the thickness was 20 to 30 μm on a polyimide film (Kapton (registered trademark) 100H; manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) substrate. The film was coated by the ink jet method under the same conditions as those for preparing No. 13 and the coating film was irradiated with ultraviolet rays at 1000 mJ / cm 2 using a UV irradiation apparatus, and then heat cured at 190 ° C. for 30 minutes. About the obtained cured film, the thin material perpendicular | vertical combustion test based on UL94 specification was done, and it evaluated based on UL94 specification. As a result, when the evaluation was VTM-0, the cured film was judged to have flame retardancy.

Figure 2014001321
Figure 2014001321

実施例1〜6のインクは、比較例1〜7のインクに比べ、難燃性、基材との密着性およびPCTにおける耐性等にバランス良く優れる硬化膜を形成できることが分かる。   It turns out that the ink of Examples 1-6 can form the cured film which is excellent in the flame retardance, the adhesiveness with a base material, the tolerance in PCT, etc. compared with the ink of Comparative Examples 1-7.

以上説明したように、本発明のインクから得られる硬化膜は難燃性、基材との密着性、PCTにおける耐性等の特性に優れているため、電子回路基板用の材料として良好に使用することができる。   As described above, the cured film obtained from the ink of the present invention is excellent in properties such as flame retardancy, adhesion to a base material, and resistance to PCT, and thus is used favorably as a material for an electronic circuit board. be able to.

Claims (11)

下記式(1)で表されるリン含有(メタ)アクリレート(A)とエポキシ樹脂(B)とを含有する光硬化性インクジェットインク。
Figure 2014001321
(式(1)中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキレンであり、a、bおよびcはそれぞれ独立に、0〜10の範囲でa+b+c≧1を満たす整数であり、d、eおよびfはそれぞれ独立に、1〜10の整数であり、R4は下記式(2)で表される基であり、R5は1価の有機基であり、R6は水素または炭素数1〜6のアルキルである。)
Figure 2014001321
(式(2)中、R7は、水素または炭素数1〜6のアルキルであり、R8およびR9はそれぞれ独立に、炭素数1〜20の1価の有機基であり、R8およびR9は互いに結合して2価の環状基を形成してもよい。)
The photocurable inkjet ink containing phosphorus containing (meth) acrylate (A) represented by following formula (1), and an epoxy resin (B).
Figure 2014001321
(In the formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently alkylene having 1 to 20 carbon atoms, and a, b and c are each independently a + b + c ≧ 1 in the range of 0 to 10). D, e and f are each independently an integer of 1 to 10, R 4 is a group represented by the following formula (2), R 5 is a monovalent organic group, R 6 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms.)
Figure 2014001321
(In Formula (2), R 7 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms, R 8 and R 9 are each independently a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, and R 8 and R 9 may bond to each other to form a divalent cyclic group.)
式(1)中のR4が、下記式(3)で表される基である、請求項1に記載の光硬化性インクジェットインク。
Figure 2014001321
(式(3)中、R10は、水素または炭素数1〜6のアルキルである。)
The photocurable inkjet ink according to claim 1, wherein R 4 in the formula (1) is a group represented by the following formula (3).
Figure 2014001321
(In the formula (3), R 10 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms.)
式(1)中のR5が、式(2)で表される基または下記式(4)で表される基である、請求項1または2に記載の光硬化性インクジェットインク。
Figure 2014001321
(式(4)中、R6は水素または炭素数1〜6のアルキルである。)
The photocurable inkjet ink according to claim 1 or 2, wherein R 5 in the formula (1) is a group represented by the formula (2) or a group represented by the following formula (4).
Figure 2014001321
(In the formula (4), R 6 is hydrogen or alkyl having 1 to 6 carbon atoms.)
エポキシ樹脂(B)が、下記式(B−1)、式(B−2)または式(B−3)で表される基を有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光硬化性インクジェットインク。
Figure 2014001321
The light according to any one of claims 1 to 3, wherein the epoxy resin (B) has a group represented by the following formula (B-1), formula (B-2), or formula (B-3). Curable inkjet ink.
Figure 2014001321
エポキシ樹脂(B)が、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン骨格型エポキシ樹脂、およびジシクロペンタジエン骨格型エポキシ樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光硬化性インクジェットインク。   Epoxy resin (B) is phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl aralkyl novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, trisphenol methane type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin , At least one resin selected from the group consisting of a tetraphenylolethane type epoxy resin, a bixylenol type epoxy resin, a biphenol type epoxy resin, a naphthalene skeleton type epoxy resin, and a dicyclopentadiene skeleton type epoxy resin. The photocurable inkjet ink of any one of 1-4. さらにエポキシ樹脂硬化剤(C)を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の光硬化性インクジェットインク。   Furthermore, the photocurable inkjet ink of any one of Claims 1-5 containing an epoxy resin hardening | curing agent (C). さらにリン含有(メタ)アクリレート(A)以外のラジカル重合性二重結合を有する化合物(D)を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光硬化性インクジェットインク。   Furthermore, the photocurable inkjet ink of any one of Claims 1-6 containing the compound (D) which has radically polymerizable double bonds other than phosphorus containing (meth) acrylate (A). さらに光重合開始剤(E)を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の光硬化性インクジェットインク。   Furthermore, the photocurable inkjet ink of any one of Claims 1-7 containing a photoinitiator (E). 請求項1〜8のいずれか1項に記載の光硬化性インクジェットインクから形成された硬化膜。   The cured film formed from the photocurable inkjet ink of any one of Claims 1-8. 請求項9に記載の硬化膜を含む電子回路基板。   An electronic circuit board comprising the cured film according to claim 9. 請求項10に記載の電子回路基板を有する電子部品。   An electronic component comprising the electronic circuit board according to claim 10.
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