JP2013255975A - Electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子装置に関する。 The present invention relates to an electronic device.
近時、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を用いた電子装置、即ち、MEMSデバイスが注目されている。 Recently, an electronic device using MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology, that is, a MEMS device has attracted attention.
可動電極を設けたMEMSデバイスでは、可動電極を駆動することにより、固定電極と可動電極の距離を変化させることが可能である。従って、固定電極をキャパシタの一方の電極とし、可動電極をキャパシタの他方の電極として、可変キャパシタを実現することが可能である。 In a MEMS device provided with a movable electrode, the distance between the fixed electrode and the movable electrode can be changed by driving the movable electrode. Therefore, it is possible to realize a variable capacitor by using the fixed electrode as one electrode of the capacitor and the movable electrode as the other electrode of the capacitor.
また、可動電極を設けたMEMSデバイスでは、可動電極を駆動することにより、接点の開閉を行うことが可能である。従って、スイッチを実現することも可能である。MEMS技術を用いたスイッチは、伝送損失が低く、十分な絶縁性も得られるため、大きな注目を集めている。 Further, in a MEMS device provided with a movable electrode, the contact can be opened and closed by driving the movable electrode. Therefore, it is possible to realize a switch. A switch using MEMS technology has attracted much attention because it has low transmission loss and sufficient insulation.
しかしながら、可動電極が分断されてしまう場合があり、必ずしも十分に高い信頼性が得られない場合があった。 However, there is a case where the movable electrode is divided, and a sufficiently high reliability is not always obtained.
本発明の目的は、信頼性の高い良好な電子装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a good electronic device with high reliability.
実施形態の一観点によれば、基板に固定された固定電極と、前記基板の上方に形成され、中央部が前記固定電極と対向し、両端部が支持部により前記基板にそれぞれ固定された可動電極と、前記基板に固定され、前記固定電極と前記支持部との間において前記可動電極と対向し、電圧が印加された際に生ずる静電引力により前記可動電極を変位させる制御電極とを有し、前記可動電極の前記中央部を含み、且つ、前記可動電極の一部の領域である第1の領域に、前記可動電極を補強するリブ状の第1の構造体が形成されており、前記第1の領域は、前記可動電極と前記固定電極とが平面視において重なっている領域から前記可動電極の長手方向にそれぞれ突出していることを特徴とする電子装置が提供される。 According to one aspect of the embodiment, a fixed electrode fixed to a substrate, a movable electrode formed above the substrate, a central portion facing the fixed electrode, and both end portions fixed to the substrate by support portions, respectively. An electrode, and a control electrode that is fixed to the substrate, faces the movable electrode between the fixed electrode and the support, and displaces the movable electrode by electrostatic attraction generated when a voltage is applied. In addition, a rib-shaped first structure that reinforces the movable electrode is formed in a first region that includes the central portion of the movable electrode and is a partial region of the movable electrode, The electronic device is provided in which the first region protrudes in a longitudinal direction of the movable electrode from a region where the movable electrode and the fixed electrode overlap in a plan view.
開示の電子装置によれば、可動電極の長手方向における中央部を含む第1の領域に、可動電極を補強するリブ状の第1の構造体が形成されている。可動電極の長手方向における第1の領域の寸法は、可動電極の長手方向における固定電極の寸法より大きいため、ノッチが形成される虞のある箇所を第1の構造体により補強することができる。しかも、支持部により支持された可動電極の両端部は、第1の領域から離間している。即ち、可動電極の長手方向における第1の領域の寸法は、過度に長く設定されていない。このため、可動電極の剛性が過度に高くなるのを防止することができる。また、第1の構造体は、可動電極の平坦性を確保するのにも寄与する。従って、信頼性の高く、しかも、比較的低い電圧で駆動し得る良好な電子装置を提供することができる。 According to the disclosed electronic device, the first rib-shaped structure that reinforces the movable electrode is formed in the first region including the central portion in the longitudinal direction of the movable electrode. Since the dimension of the first region in the longitudinal direction of the movable electrode is larger than the dimension of the fixed electrode in the longitudinal direction of the movable electrode, a portion where a notch may be formed can be reinforced by the first structure. In addition, both end portions of the movable electrode supported by the support portion are separated from the first region. That is, the dimension of the first region in the longitudinal direction of the movable electrode is not set too long. For this reason, it can prevent that the rigidity of a movable electrode becomes high too much. The first structure also contributes to ensuring the flatness of the movable electrode. Therefore, it is possible to provide a good electronic device that is highly reliable and can be driven at a relatively low voltage.
図22は、参考例(その1)による電子装置を示す断面図である。 FIG. 22 is a cross-sectional view illustrating an electronic device according to a reference example (part 1).
図22に示すように、基板110上には、固定電極114が形成されている。固定電極114の両側には、制御電極118a、118bが形成されている。固定電極114の上方には、ブリッジ状の可動電極124が形成されている。可動電極124の両端部は、固定部材134a、134b及び支持部116a、116bを介して基板110に固定されている。駆動電極118a、118bと可動電極124との間に電圧を印加すると、駆動電極118a、118bと可動電極124との間に静電引力が生じ、可動電極124を基板10側に変位させることができる。
As shown in FIG. 22, a
ところで、可動電極124は、図示しない犠牲層上に形成され、犠牲層を除去することにより可動自在となる。犠牲層と固定電極114との間には間隙(図示せず)が生じる場合があり、かかる間隙の上方において可動電極124にノッチ156が形成される場合がある。ノッチ156が形成された箇所においては、可動電極124に分断が生じる虞がある。
By the way, the
このため、図22のような電子装置では、必ずしも十分に高い信頼性が得られない場合がある。 For this reason, the electronic device as shown in FIG. 22 may not always have sufficiently high reliability.
図23は、参考例(その2)による電子装置を示す断面図及び平面図である。図23(b)は平面図であり、図23(a)は図23(b)のA−A′線断面図である。 FIG. 23 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to a reference example (part 2). FIG. 23B is a plan view, and FIG. 23A is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG.
図23に示すように、ノッチ156が形成される虞がある箇所130に、補強用の構造体128が形成されている。
As shown in FIG. 23, a reinforcing
しかしながら、ノッチ156が形成される虞がある箇所130に、補強用の構造体128を単に形成した場合には、図23(a)に示すように、可動電極124に反りやうねりが生じてしまう場合がある。
However, when the reinforcing
ここで、可動電極124上の全体に補強用の構造物128を形成することが考えられる。
Here, it is conceivable to form a reinforcing
図24は、参考例(その3)による電子装置を示す断面図及び平面図である。図24(b)は平面図であり、図24(a)は図24(b)のA−A′線断面図である。 FIG. 24 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to a reference example (part 3). FIG. 24B is a plan view, and FIG. 24A is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG.
しかしながら、図24のように、可動電極124上の全体に補強用の構造物128を形成した場合には、補強用の構造物128aを含めた可動電極124の剛性が極めて高くなってしまう。補強用の構造物128を含めた可動電極124の剛性が極めて高くなると、可動電極124を駆動するために駆動電極118a、118bに印加する電圧が大幅に高くなってしまう。
However, when the reinforcing
図25のように、補強用の構造物128aをロ型(枠状)のリブパターンにより形成することも考えられる。図25は、参考例(その4)による電子装置を示す断面図及び平面図である。図25(b)は平面図であり、図25(a)は図25(b)のA−A′線断面図である。
As shown in FIG. 25, it is conceivable to form the reinforcing
また、図26のように、ロ型のリブパターンとX型のリブパターンとの組み合わせにより構造物128bを形成することも考えられる。図26は、参考例(その5)による電子装置を示す断面図及び平面図である。図26(b)は平面図であり、図26(a)は図26(b)のA−A′線断面図である。
In addition, as shown in FIG. 26, it may be considered that the
しかし、図25及び図26のいずれの場合も、依然として、補強用の構造物128a、128bを含めた可動電極124の剛性は極めて高い。従って、可動電極124を駆動する際に駆動電極118a、118bに印加する電圧は極めて高い。
However, in both cases of FIGS. 25 and 26, the rigidity of the
[一実施形態]
一実施形態による電子装置及びその製造方法について図1乃至図8を用いて説明する。
[One Embodiment]
An electronic device and a manufacturing method thereof according to an embodiment will be described with reference to FIGS.
(電子装置)
まず、本実施形態による電子装置について図1を用いて説明する。図1は、本実施形態による電子装置を示す断面図及び平面図である。図2は、本実施形態による電子装置を示す断面図である。図1(b)は平面図であり、図1(b)は図1(b)のA−A′線断面図である。図2は、図1(b)のB−B′線断面図である。
(Electronic device)
First, the electronic apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view and a plan view showing the electronic device according to the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the electronic device according to the present embodiment. FIG. 1B is a plan view, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. FIG. 2 is a sectional view taken along line BB ′ of FIG.
図1及び図2に示すように、基板10上には、絶縁膜12が形成されている。基板10としては、例えばシリコン基板が用いられている。絶縁膜12としては、シリコン酸化膜が形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, an insulating
絶縁膜12上には、固定電極(電極)14が形成されている。固定電極14は、基板10に対して固定されている。固定電極14の材料としては、例えば金(Au)が用いられている。固定電極14の幅、即ち、後述する可動電極24の長手方向における固定電極14の寸法は、例えば200〜300μm程度とする。固定電極14の高さは、例えば5〜10μm程度とする。
A fixed electrode (electrode) 14 is formed on the insulating
固定電極14の両側には、固定電極14から離間して、支持部(土台、支持体)16a、16bが形成されている。支持部16a、16b、後述する固定部材34a、34bと相俟って、後述する可動電極24の両端部を基板10に対して固定するものである。支持部16a、16bは、固定電極14に対して、可動電極24の長手方向にそれぞれ離間している。支持部16a、16bは、基板10に対して固定されている。一方の支持部16aと固定電極14と間隔と、他方の支持部16bと固定電極14との間隔は、互いに等しく設定されている。支持部16a、16bと固定電極14との間隔は、例えば300〜600μm程度とする。固定部材15a、15bの高さは、例えば5〜10μm程度とする。固定部材15a、15bの材料としては、例えばAuが用いられている。
Support portions (bases, supports) 16 a and 16 b are formed on both sides of the fixed
固定電極14の両側には、制御電極18a、18bが形成されている。制御電極18a、18bは、固定電極14と支持部16a、16bとの間にそれぞれ位置している。制御電極18a、18bは、後述する可動電極24との間に電圧を印加し、静電引力により可動電極24を変位させるためのものである。制御電極18a、18bは、基板10に対して固定されている。制御電極18a、18bは、例えばチタン(Ti)膜20とAu膜22との積層膜により形成されている。Ti膜20は、密着層として機能するものである。制御電極18a、18bの幅、即ち、後述する可動電極24の長手方向における制御電極18a、18bの寸法は、例えば200〜300μm程度とする。制御電極18a,18bの厚さは、例えば200〜300nm程度とする。
なお、ここでは、制御電極18aと制御電極18bとが互いに分離されている場合を例に説明したが、制御電極18aと制御電極18bとが互いに接続されていてもよい。
Here, the case where the
基板10の上方には、可動電極24が形成されている。かかる可動電極24は、ブリッジ状に形成されている。可動電極24の両端部は、それぞれ支持部16a、16bを介して基板10に固定されている。
A
可動電極24の長手方向における中央部は、固定電極14に対向している。可動電極24の一部と固定電極14の一部とは、平面視において重なっている。可動電極24の長手方向と固定電極14の長手方向とは互いに交差している。より具体的には、可動電極24の長手方向と固定電極14の長手方向とは互いに直交している。
A central portion in the longitudinal direction of the
また、可動電極24は、制御電極18a、18bにも対向している。可動電極24の一部と制御電極18a、18bの一部とは、平面視において重なっている。可動電極24の長手方向と制御電極18a、18bの長手方向とは互いに交差している。より具体的には、可動電極24の長手方向と制御電極18a、18bの長手方向とは互いに直交している。
The
可動電極24の材料としては、例えばAuが用いられている。可動電極24の長さ、即ち、可動電極24の長手方向の寸法は、例えば1mm〜1.5mm程度とする。可動電極24の幅、即ち、可動電極24の長手方向に直交する方向における可動電極24の寸法は、例えば200〜300μm程度とする。可動電極24の厚さは、例えば1〜3μm程度とする。
As the material of the
可動電極24の中心部を含む領域26には、構造体(補強構造体、補強構造物、補強パターン)28aが形成されている。構造体28aは、可動電極24の平坦性を確保しつつ、可動電極24が分断するのを防止するためのものである。
A structure (reinforcing structure, reinforcing structure, reinforcing pattern) 28 a is formed in the region 26 including the central portion of the
構造体28aの材料としては、可動電極24の材料と同じ材料が用いられている。ここでは、構造体28aの材料として、例えばAuが用いられている。構造体28aの材料として、可動電極24の材料と同じ材料を用いるのは、熱膨張率の相違等に起因するストレスが可動電極24に加わるのを防止するためである。
As the material of the
後述する犠牲層46a、46bと固定電極14とが隣接する箇所の上方においては、可動電極24にノッチ56a、56bが形成される場合がある。可動電極24にノッチ56a、56bが形成されると、当該箇所30a、30bにおいて可動電極24が分断される虞がある。このため、本実施形態では、ノッチ56a、56bが形成される虞のある箇所30a、30bを、構造体28aにより補強している。構造体28aは、ノッチ56a、56bが形成される虞のある箇所30a、30bを跨ぐように形成されている。構造体28aが形成された領域26aは、可動電極24と固定電極14とが平面視において重なっている領域から可動電極24の長手方向にそれぞれ突出している。可動電極24と固定電極14とが平面視において重なっている領域の縁部からノッチ56a、56bが形成される虞のある箇所30a、30bまでの寸法は、0.5〜4μm程度である。従って、可動電極24と固定電極14とが平面視において重なっている領域から可動電極24の長手方向に領域26aがそれぞれ突出する寸法は、5μm以上とすることが好ましい。
構造体28aの平面形状は、ロ型(枠状)に設定されている。即ち、構造体28aは、ロ型の平面形状のリブパターンにより形成されている。換言すれば、構造体28aは、可動電極24の長手方向に沿う2本のリブパターン32a、32bと、可動電極24の長手方向に直交する2本のリブパターン32c、32dとを含んでいる。
The planar shape of the
可動電極24の長手方向に沿うリブパターン32a、32bは、可動電極24の長手方向における平坦性を確保するのに寄与する。
The
可動電極24の長手方向に直交するリブパターン32c、32dは、可動電極24の長手方向に直交する方向、即ち、可動電極24の短辺方向における平坦性を確保するのに寄与する。
The
ロ型の構造体28aを形成するリブパターン32a〜32dの幅は、可動電極24の幅に対して十分に小さく設定されている。ここでは、リブパターン32a〜32dの幅を、例えば20〜100μm程度とする。リブパターン32a〜32dの高さは、例えば0.5〜3μm程度とする。リブパターン32a〜32dの幅や高さが比較的小さく設定されているため、リブパターン32a〜32dの断面積は比較的小さく設定されている。
The width of the
本実施形態において、リブパターン32a〜32dの断面積を比較的小さく設定しているのは、可動電極24の剛性が過度に高くなってしまうのを防止するためである。
In the present embodiment, the reason why the cross-sectional areas of the
なお、可動電極24の剛性が過度に高くなってしまわないようにするのは、可動電極24を駆動するのに要する電圧が過度に高くなってしまうのを防止するためである。
The reason why the rigidity of the
構造体28aは、可動電極24の長手方向の中心線に対して対称に形成されている。構造体28aを可動電極24の中心線に対して非対称に形成した場合には、可動電極24に対して非対称にストレスが加わり、反りやねじれ等が可動電極24に生じてしまう虞があるためである。
The
構造体28aが形成されている領域26aの可動電極24の長手方向における寸法は、可動電極24の平坦性を確保すべく、可動電極24の長手方向における固定電極14の寸法に対してある程度大きく設定することが好ましい。
The dimension in the longitudinal direction of the
但し、構造体28aが形成されている領域26aの可動電極24の長手方向における寸法は、可動電極24の長手方向における固定電極14の寸法に対して、過度に大きく設定しないことが好ましい。換言すれば、可動電極24の両端部は、構造体28aが形成されている領域26aから十分に離間していることが好ましい。構造体28aが形成されている領域26aの可動電極24の長手方向における寸法が過度に大きい場合には、可動電極24が変位しにくくなり、可動電極24を駆動するのに要する電圧が大幅に上昇してしまうためである。
However, it is preferable that the dimension in the longitudinal direction of the
このような観点から、可動電極24と固定電極14とが平面視において重なっている領域から可動電極24の長手方向に領域26aが突出している寸法は、それぞれ50μm以下とすることが好ましい。
From such a point of view, it is preferable that the dimension in which the
構造体28aが形成されている領域26aと支持部16a,16bとの間隔は、可動電極24の長手方向における制御電極18a,18bの寸法より大きく設定することが好ましい。構造体28aが形成されている領域26aと支持部16a,16bとの間隔が、可動電極24の長手方向における制御電極18a,18bの寸法より小さい場合には、可動電極24が変位しにくくなってしまうためである。
The distance between the
構造体28aが形成されている領域26aと可動電極24の両端部との間にそれぞれ位置する領域26b、26cには、構造体(補強構造体、補強構造物、補強パターン)28b、28cがそれぞれ形成されている。構造体28b、28cは、可動電極24の平坦性を確保するためのものである。
Structures (reinforcing structures, reinforcing structures, reinforcing patterns) 28b and 28c are respectively provided in the
構造体28b、28cの材料としては、可動電極24の材料と同じ材料が用いられている。ここでは、構造体28b、28cの材料として、例えばAuが用いられている。構造体28b、28cの材料として、可動電極24の材料と同じ材料を用いるのは、熱膨張率の相違等に起因するストレスが可動電極24に加わるのを防止するためである。
As the material of the
構造体28b、28cの平面形状は、ロ型(枠状)に設定されている。即ち、構造体28b、28cは、ロ型の平面形状のリブパターンにより形成されている。換言すれば、構造体28bは、可動電極24の長手方向に沿う2本のリブパターン32e、32fと、可動電極24の長手方向に直交する2本のリブパターン32g、32hとを含んでいる。また、構造体28cは、可動電極24の長手方向に沿う2本のリブパターン32i、32jと、可動電極24の長手方向に直交する2本のリブパターン32k、32lとを含んでいる。
The planar shapes of the
可動電極24の長手方向に沿うリブパターン32e、32f、32i、32jは、可動電極24の長手方向における平坦性を確保するのに寄与する。
The
可動電極24の長手方向に直交するリブパターン32g、32h、32k、32lは、可動電極24の長手方向に直交する方向、即ち、可動電極24の短辺方向における平坦性を確保するのに寄与する。
The
ロ型の構造体28b、28cを形成するリブパターン32e〜32lの幅は、可動電極24の幅に対して十分に小さく設定されている。ここでは、リブパターン32e〜32lの幅を、例えば20〜100μm程度とする。リブパターン32e〜32lの高さは、例えば0.5〜3μm程度とする。リブパターン32e〜32lの幅や高さが比較的小さく設定されているため、リブパターン32e〜32lの断面積は比較的小さく設定されている。
The widths of the
本実施形態において、リブパターン32e〜32lの断面積を比較的小さく設定しているのは、可動電極24の剛性が過度に高くなってしまうのを防止するためである。
In the present embodiment, the reason why the cross sectional areas of the
なお、可動電極24の剛性が過度に高くなってしまわないようにするのは、可動電極24を駆動するのに要する電圧が過度に高くなってしまうのを防止するためである。
The reason why the rigidity of the
構造体28b、28cは、可動電極24の長手方向の中心線に対して対称に形成されている。構造体28b、28cを可動電極24の中心線に対して非対称に形成した場合には、可動電極24に対して非対称にストレスが加わり、反りやねじれ等が可動電極24に生じてしまう虞があるためである。
The
構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cの可動電極24の長手方向における寸法は、構造体28aが形成されている領域26aの可動電極24の長手方向における寸法より小さく設定されている。具体的には、構造体28b、28cが形成されている領域の可動電極24の長手方向における寸法は、例えば100〜150μm程度とする。
The dimension in the longitudinal direction of the
構造体28aが形成されている領域26aと構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cとは、それぞれ互いに離間している。構造体28aが形成されている領域26aと構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cとの間隔は、例えば100〜200μm程度とする。
The
構造体28aが形成されている領域26aと構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cとの間の領域においては、可動電極24の断面積が比較的小さくなっている。このため、構造体28aが形成されている領域26aと構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cとの間の領域において、可動電極24が曲がりやすくなっている。構造体28aが形成されている領域26aと構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cとを互いに離間して配することは、可動電極24を駆動するのに要する電圧が過度に高くなってしまうのを防止するのに寄与する。
In a region between the
構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cと支持部16a、16bとは、互いに離間している。換言すれば、駆動電極24の両端部は、構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cから離間している。構造体26b、26cが形成されている領域と支持部16a、16bとの間隔は、例えば100〜200μm程度とする。
The
構造体28b、28cが形成されている領域26、26cと支持部16a、16bとの間の領域においては、可動電極24の断面積が比較的小さくなっている。このため、構造体28b、28cが形成されている領域26b、26cと支持部16a、16bとの間の領域において、可動電極24が曲がりやすくなっている。構造体28b、28cが形成されている領域26b、28cと支持部16a、16bとを互いに離間して配することは、可動電極24を駆動するのに要する電圧が過度に高くなってしまうのを防止するのに寄与する。
In a region between the
構造体28b、28cは、構造体の存在により可動電極24に加わるストレスが、可動電極24の長手方向の中心部に集中するのを回避することにも寄与する。即ち、本実施形態では、構造体28a〜28cが分散して配されている。このため、構造体の存在により可動電極24に加わるストレスが、全体として均一化させる。このため、本実施形態によれば、可動電極24が大きく反ってしまうのを防止することができ、可動電極24の平坦性を確保することができる。本実施形態によれば、平坦な可動電極24を得ることができるため、比較的低い駆動電圧で可動電極24を制御性よく駆動することが可能となる。
The
可動電極24の両端部上及び支持部16a、16b上には、それぞれ固定部材(固定部)34a、34bが形成されている。固定部材34a、34bは、支持部16a、16bと相俟って、可動電極24を基板10に対して固定するものである。なお、支持部16a、16bと固定部34a、34bとが組み合わさったものを支持部と考えることもできる。固定部材34a、34bは、ノッチ56c、56dが形成される虞のある箇所30c、30dを跨ぐように形成されている。ノッチ56c、56dが形成される虞のある箇所30c、30dは、後述する犠牲層46a、46bと支持部16a、16bとが隣接する箇所の上方である。ノッチ56c、56dが形成される虞のある箇所30c、30dを跨ぐように固定部材34a、34bが形成されているため、可動電極24が固定部材34a、34bにより補強される。このため、ノッチ56c、56dが形成される虞がある箇所30c、30dにおいて可動電極24が分断されてしまうのを防止することができる。固定部材34a、34bの材料としては、例えばAuが用いられている。
Fixed members (fixed portions) 34a and 34b are formed on both ends of the
このように、本実施形態によれば、可動電極24の長手方向における中央部を含む領域26aに、可動電極24を補強するリブ状の構造体28aが形成されている。可動電極24の長手方向におけるかかる領域26aの寸法は、可動電極24の長手方向における固定電極14の寸法より大きいため、ノッチ56a。56bが形成される虞のある箇所30a、30bを構造体28aにより補強することができる。しかも、支持部16a、16b、34a、34bにより支持された可動電極24の両端部は、かかる領域26aから離間している。即ち、可動電極24の長手方向におけるかかる領域26aの寸法は、過度に長く設定されていない。このため、可動電極24の剛性が過度に高くなるのを防止することができる。また、かかる構造体28aは、可動電極24の平坦性を確保するのにも寄与する。従って、本実施形態によれば、信頼性の高く、しかも、比較的低い電圧で駆動し得る良好な電子装置を提供することができる。
Thus, according to the present embodiment, the rib-
また、本実施形態では、構造体28aが形成されている領域26aと支持部16a、16bとの間の領域26b、26cに、構造体28b、28cが形成されている。このため、本実施形態によれば、構造体の存在により可動電極24に加わるストレスが、可動電極24の長手方向の中心部に集中するのを防止することができる。このため、本実施形態によれば、可動電極24の平坦性を十分に確保することができる。
In the present embodiment, the
(電子装置の製造方法)
次に、本実施形態による電子装置の製造方法について図3乃至図8を用いて説明する。図3乃至図8は、本実施形態による電子装置の製造方法を示す工程断面図である。
(Electronic device manufacturing method)
Next, the method for manufacturing the electronic device according to the present embodiment will be explained with reference to FIGS. 3 to 8 are process cross-sectional views illustrating the method for manufacturing the electronic device according to the present embodiment.
まず、図3(a)に示すように、基板10上に絶縁膜12を形成する。基板10としては、例えばシリコン基板、ガラス基板、セラミック基板等を用いることができる。ここでは、基板10として、例えばシリコン基板を用いる。絶縁膜12としては、例えばシリコン酸化膜を形成する。シリコン酸化膜の絶縁膜12は、例えば熱酸化法等により形成し得る。絶縁膜12の膜厚は、例えば0.1〜2μm程度とする。
First, as shown in FIG. 3A, the insulating
次に、図3(b)に示すように、全面に、例えばスパッタリング法により、例えば膜厚10〜50nm程度のTi膜20を形成する。Ti膜20は、密着層として機能するものである。
Next, as shown in FIG. 3B, a
次に、図3(c)に示すように、全面に、例えばスパッタリング法により、膜厚0.2〜1μm程度のAu膜22を形成する。Au膜22は、制御電極18a、18bとなるものである。また、Au膜22は、固定電極14や支持部16a、16bを電解めっき法により形成する際にシード層として機能するものである。こうして、Ti膜20とAu膜22との積層膜23が形成される。
Next, as shown in FIG. 3C, an
次に、全面に、例えばスピンコート法により、フォトレジスト膜36を形成する。
Next, a
次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜36に開口部38a〜38cを形成する。かかる開口部38aは、固定電極14を形成するためのものである。開口部38b、38cは、支持部16a、16bを形成するためのものである。
Next,
次に、フォトレジスト膜36をマスクとし、例えば電解めっき法により、開口部38a〜38c内にAu膜を形成する。Au膜の膜厚は、例えば5〜10μm程度とする。これにより、Au膜により形成された固定電極14が開口部38a内に形成される。また、Au膜により形成された支持部16a、16bが、開口部38b、38c内にそれぞれ形成される(図3(d)参照)。
Next, using the
この後、例えばアッシングにより、フォトレジスト膜36を剥離する(図4(a)参照)。
Thereafter, the
次に、全面に、例えばスピンコート法により、フォトレジスト膜40を形成する。
Next, a
次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜40をパターニングする。フォトレジスト膜40は、制御電極18a、18bの平面形状にパターニングされる(図4(b)参照)。
Next, the
次に、図4(c)に示すように、例えばウェットエッチングやミリング法等により、フォトレジスト膜40から露出している部分のAu膜22及びTi膜20を除去する。ウェットエッチングによりAu膜22をエッチングする際のエッチング液としては、例えば窒素系有機化合物系のエッチャントを用いる。Ti膜20をエッチングする際のエッチング液としては、例えばフッ化アンモニウム系のエッチャントを用いる。Au膜22をエッチングする際には、固定電極14や支持部16a、16bの表面もわずかにエッチングされるが、固定電極14や支持部16a、16bのサイズはAu膜22の膜厚に比べて十分に大きいため、特段の問題は生じない。
Next, as shown in FIG. 4C, the
この後、例えばアッシングやレジスト剥離液等により、フォトレジスト膜40を剥離する。
Thereafter, the
こうして、Ti膜20とAu膜22との積層膜23により形成された制御電極18a、18bが形成される(図5(a)参照)。
Thus, the
次に、全面に、例えばスパッタリング法により、膜厚20〜100nm程度のモリブデン(Mo)膜又はTi膜の密着層(図示せず)を形成する。 Next, an adhesion layer (not shown) of a molybdenum (Mo) film or a Ti film having a thickness of about 20 to 100 nm is formed on the entire surface by, eg, sputtering.
次に、全面に、例えばスパッタリング法により、膜厚0.1〜1μm程度の銅(Cu)膜のシード層(図示せず)を形成する。 Next, a seed layer (not shown) of a copper (Cu) film having a thickness of about 0.1 to 1 μm is formed on the entire surface by, eg, sputtering.
次に、全面に、例えばスピンコート法により、フォトレジスト膜42を形成する。
Next, a
次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜42に開口部44a、44bを形成する。かかる開口部44a、44bは、犠牲層46a、46bを形成するためのものである。開口部44a、44bは、固定電極14や支持部16a、16bを露出しないように形成される。固定電極14や支持部16a、16bが開口部44a、44b内に露出すると、後工程において固定電極14上や支持部16a、16b上に犠牲層44a、44bが形成され、ひいては、可動電極24に大きな段差が生じてしまうからである。位置ずれ誤差を考慮し、固定電極14や支持部16a、16bからある程度離間するように開口部44a、44bが形成される(図5(b)参照)。
Next,
次に、フォトレジスト膜42をマスクとし、例えば電解めっき法により、開口部44a、44b内にCu膜を形成する。Cu膜の膜厚は、例えば5〜10μm程度とする。こうして、Cu膜の犠牲層46a、46bが開口部44a、44b内にそれぞれ形成される(図5(c)参照)。かかる犠牲層46a、46bは、後工程においてエッチング除去されるものである。
Next, using the
次に、例えばアッシングやレジスト剥離液等により、フォトレジスト膜42を剥離する。
Next, the
こうして、Cuの犠牲層46a、46bが形成される(図6(a)参照)。犠牲層46a、46bと固定電極14との間の間隙は、例えば2μm以下とする。また、犠牲層46a、46bと支持部16a、16bとの間のそれぞれの間隙は、例えば2μm以下とする。
Thus, the
次に、例えばスピンコート法により、フォトレジスト膜48を形成する。
Next, a
次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜48に開口部50を形成する。かかる開口部50は、可動電極24の平面形状に形成される。
Next, an
次に、図6(b)に示すように、例えば電解めっき法により、膜厚1〜2μm程度のCu膜52を形成する。Cu膜52は、後工程において犠牲層46a、46bとともに除去される犠牲膜である。犠牲層46a、46bと固定電極14との間に間隙が存在するため、犠牲層46a、46bと固定電極14との間の間隙の上方においては、犠牲膜52cにノッチ54a、54bが形成される場合がある。また、犠牲層46a、46bと支持部16a、16bとの間にも間隙が存在するため、犠牲層46a、46bと支持部16a、16bとの間の間隙の上方においても、犠牲膜52にノッチ54c、54dが形成される場合がある。
Next, as shown in FIG. 6B, a
次に、図6(c)に示すように、例えば電解めっき法により、膜厚1〜3μm程度のAu膜24を形成する。Au膜24は、可動電極となるものである。ノッチ54a〜54dが形成された犠牲膜52上にAu膜24を形成した場合には、犠牲膜52のノッチ54a〜54dを反映してAu膜24にもノッチ56a〜56dが形成される場合がある。
Next, as shown in FIG. 6C, an
この後、例えばアッシングにより、フォトレジスト膜48を剥離する。
Thereafter, the
次に、例えばスピンコート法により、フォトレジスト膜58を形成する。
Next, a
次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜58に開口部60a〜60cを形成する。開口部60a〜60cは、構造体28a〜28cの平面形状にそれぞれ形成される(図7(a)参照)。
Next,
次に、例えば電解めっき法により、膜厚1〜3μm程度のAu膜を形成する。こうして、可動電極24を補強する構造体28a〜28cがAu膜によりそれぞれ形成される。
Next, an Au film having a thickness of about 1 to 3 μm is formed by, for example, electrolytic plating. Thus, the
この後、例えばアッシングやレジスト剥離液等により、フォトレジスト膜58を剥離する。
Thereafter, the
次に、例えばスピンコート法により、フォトレジスト膜62を形成する。
Next, a
次に、フォトリソグラフィ技術を用い、フォトレジスト膜62に開口部64a、64bを形成する。開口部64a、64bは、固定部材34a、34bの平面形状にそれぞれ形成される(図7(b)参照)。
Next,
次に、例えば電解めっき法により、膜厚1〜5μm程度のAu膜を形成する。こうして、可動電極24を支持部16a、16bに固定する固定部材34a、34bがAu膜によりそれぞれ形成される(図8(a)参照)。
Next, an Au film having a thickness of about 1 to 5 μm is formed by, for example, electrolytic plating. In this manner, fixing
この後、例えばアッシングやレジスト剥離液等により、フォトレジスト膜62を剥離する(図8(b)参照)。
Thereafter, the
次に、例えばウェットエッチングにより、犠牲層46a、46b、犠牲膜52及びシード層(図示せず)をエッチング除去する。エッチング液としては、例えばアンモニア銅錯塩系のエッチャントを用いる。また、密着層(図示せず)もエッチング除去する。犠牲層46a、46b及び犠牲膜52等をエッチングすることにより、可動電極24が可動自在となる。
Next, the
こうして、本実施形態による電子装置が製造される(図8(c)参照)。 Thus, the electronic device according to the present embodiment is manufactured (see FIG. 8C).
(可変キャパシタ)
図1及び図2に示す本実施形態による電子装置は、例えば可変キャパシタとして用いることが可能である。
(Variable capacitor)
The electronic device according to the present embodiment shown in FIGS. 1 and 2 can be used as a variable capacitor, for example.
本実施形態による電子装置を可変キャパシタとして用いる場合には、固定電極14がキャパシタ(可変キャパシタ)2の一方の電極となる。
When the electronic device according to the present embodiment is used as a variable capacitor, the fixed
一方、可動電極24が、キャパシタ2の他方の電極となる。
On the other hand, the
可動電極24は、例えば接地電位(GND、0V)に接続される。
The
制御電極18a、18bには、例えば正の電圧が印加される。制御電圧18a、18bに印加する電圧は、可変であり、例えば40〜120V程度の範囲で設定される。
For example, a positive voltage is applied to the
制御電極18a、18bに電圧を印加すると、制御電極18a、18bと可動電極24との間に働く静電引力により、可動電極18a、18bが基板10側に変位する。可動電極18a、18bが変位すると、固定電極14と可動電極24との間の距離が変化する。固定電極14と可動電極24との間の距離を適宜変化させることにより、キャパシタ2の静電容量を適宜変化させることができる。
When a voltage is applied to the
制御電極16a、16bと可動電極24との間に印加する電圧を適宜変化させることにより、静電容量を変化させることができるため、可変キャパシタ2を得ることができる。
Since the capacitance can be changed by appropriately changing the voltage applied between the
このように、本実施形態による電子装置は可変キャパシタ2として用いることが可能である。
As described above, the electronic device according to the present embodiment can be used as the
(スイッチ)
また、本実施形態による電子装置は、例えばスイッチ、より具体的には高周波スイッチ2aに適用することも可能である。図9は、本実施形態によるスイッチの断面図及び平面図である。図9(b)は平面図であり、図9(a)は図9(b)のA−A′線断面図である。
(switch)
The electronic device according to the present embodiment can also be applied to, for example, a switch, more specifically, the
図9に示すように、本実施形態では、互いに対向するように固定電極14a、14bが形成されている。固定電極14a、14bは、可動電極24の中心部の下方において互いに対向している。固定電極14aと固定電極14bとの間隔は、例えば1〜50μm程度とする。
As shown in FIG. 9, in this embodiment, fixed
固定電極14aは、スイッチ2aの一方の端子となる。固定電極14bは、スイッチ2aの他方の端子となる。
The fixed
可動電極24は、例えば接地電位(0V)に接続される。
The
制御電極18a、18bには、例えば正の電圧が印加される。可動電極24を駆動する際に制御電圧18a、18bに印加する電圧は、例えば40〜120V程度とする。
For example, a positive voltage is applied to the
制御電極18a、18bに電圧を印加すると、制御電極18a、18bと可動電極24との間に働く静電引力により、可動電極24が基板10側に変位し、可動電極24が固定電極14a、14bに接続される。
When a voltage is applied to the
可動電極24が固定電極14a、14bに接続されると、固定電極14aと固定電極14bとが可動電極24を介して互いに電気的に接続され、スイッチ2aの一方の端子14aと他方の端子14bとが導通した状態となる。即ち、スイッチ2aがオン状態となる。
When the
一方、制御電極18a、18bと可動電極24との間に電圧を印加するのをやめて、可動電極24を固定電極14a、14bから離間させると、スイッチ2aの一方の端子14aと他方の端子14bとが導通していない状態となる。即ち、スイッチ2aは、オフ状態となる。
On the other hand, when the voltage is not applied between the
このように、本実施形態による電子装置は、スイッチ2aに適用することも可能である。
Thus, the electronic device according to the present embodiment can also be applied to the
(変形例(その1))
次に、本実施形態による変形例(その1)について図10及び図11を用いて説明する。図10は、本変形例による電子装置を示す断面図及び平面図である。図10(b)は平面図であり、図10(a)は図10(b)のA−A′線断面図である。図11は、本変形例による電子装置を示す断面図である。図11は、図10(b)のB−B′線断面図である。
(Modification (Part 1))
Next, a modified example (No. 1) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to this modification. FIG. 10B is a plan view, and FIG. 10A is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 10B. FIG. 11 is a cross-sectional view showing an electronic device according to this modification. FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
本変形例による電子装置は、可動電極24の中心部を含む領域26に形成された二重のロ型(枠形)のリブパターンにより構造体28dが形成されているものである。
In the electronic device according to this modification, the
このように、二重のロ型のリブパターンにより構造体28dを形成してもよい。
In this way, the
(変形例(その2))
次に、本実施形態による変形例(その2)について図12及び図13を用いて説明する。図12は、本変形例による電子装置を示す断面図及び平面図である。図12(b)は平面図であり、図12(a)は図12(b)のA−A′線断面図である。図13は、本変形例による電子装置を示す断面図である。図13は、図12(b)のB−B′線断面図である。
(Modification (Part 2))
Next, a modification (No. 2) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to this modification. 12B is a plan view, and FIG. 12A is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 12B. FIG. 13 is a cross-sectional view showing an electronic apparatus according to this modification. FIG. 13 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
本変形例による電子装置は、ロ型のリブパターンとX型のリブパターンとを組み合わせたリブパターンにより構造体28eが形成されているものである。
In the electronic device according to this modification, the
このようなリブパターンにより構造体28eを形成してもよい。
The
(変形例(その3))
次に、本実施形態による変形例(その3)について図14及び図15を用いて説明する。図14は、本変形例による電子装置を示す断面図及び平面図である。図14(b)は平面図であり、図14(a)は図14(b)のA−A′線断面図である。図15は、本変形例による電子装置を示す断面図である。図15は、図14(b)のB−B′線断面図である。
(Modification (Part 3))
Next, a modification (No. 3) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 14 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to this modification. FIG. 14B is a plan view, and FIG. 14A is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. FIG. 15 is a cross-sectional view showing an electronic device according to this modification. FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
本変形例による電子装置は、構造体28fを形成するリブパターンの一部が分断されているものである。
In the electronic device according to the present modification, a part of the rib pattern forming the
図14及び図15に示すように、可動電極24の長手方向に沿ったリブパターン32a、32bにおいて、分断箇所66a〜66dが2箇所ずつ形成されている。
As shown in FIGS. 14 and 15, in the
そして、分断された箇所66a〜66dを補強するように、他のリブパターン32m、32nが形成されている。他のリブパターン32m、32nにも、分断箇所66eが形成されている。
The
リブパターン32a、32bの分断箇所66a〜66dとリブパターン32m、32nの分断箇所66eとは、可動電極24の長手方向において互いに対応しないように配されている。
The dividing points 66a to 66d of the
即ち、構造体28fが形成された領域26a内においては、可動電極24の長手方向において、リブパターン32a、32bとリブパターン32m、32nのいずれかが存在している。
That is, in the
従って、リブパターン28a、28b、28m、28nに分断箇所66a〜66eが形成されていても、可動電極24を十分に補強することが可能である。
Therefore, even if the dividing
このようなリブパターンにより構造体28fを形成してもよい。
The
(変形例(その4))
次に、本実施形態による変形例(その4)について図16及び図17を用いて説明する。図16は、本変形例による電子装置を示す断面図及び平面図である。図16(b)は平面図であり、図16(a)は図16(b)のA−A′線断面図である。図17は、本変形例による電子装置を示す断面図である。図17は、図16(b)のB−B′線断面図である。
(Modification (Part 4))
Next, a modification (No. 4) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 16 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to this modification. FIG. 16B is a plan view, and FIG. 16A is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. FIG. 17 is a cross-sectional view showing an electronic device according to this modification. FIG. 17 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
本変形例による電子装置は、構造体28gを形成するリブパターンの一部が分断されているものである。
In the electronic device according to this modification, a part of the rib pattern forming the
図16及び図17に示すように、可動電極24の長手方向に沿ったリブパターン32a、32bにおいて、分断箇所66a〜66dが2箇所ずつ形成されている。
As shown in FIGS. 16 and 17, in the
また、可動電極24の長手方向に垂直な方向に沿ったリブパターン32c、32dにおいて、分断箇所66e〜66hが2箇所ずつ形成されている。
Further, in the
そして、分断された箇所66a〜66dを補強するように、他のリブパターン32oが形成されている。
Then, another rib pattern 32o is formed so as to reinforce the divided
また、分離された箇所66e〜66hを補強するように、他のリブパターン32pが形成されている。
Further, another
このため、構造体28gが形成された領域26a内においては、可動電極24の長手方向において、リブパターン32a、32bとリブパターン32oのいずれかが存在している。
For this reason, any one of the
また、構造体28gが形成された領域26a内においては、可動電極24の長手方向に垂直な方向において、リブパターン32c、32dとリブパターン32pのいずれかが存在している。
Further, in the
従って、リブパターン28a〜28dに分断箇所66a〜66hが形成されていても、可動電極24を十分に補強することが可能である。
Therefore, even if the dividing
このようなリブパターンにより構造体28gを形成してもよい。
The
(変形例(その5))
次に、本実施形態による変形例(その5)について図18及び図19を用いて説明する。図18は、本変形例による電子装置を示す断面図及び平面図である。図18(b)は平面図であり、図18(a)は図18(b)のA−A′線断面図である。図19は、本変形例による電子装置を示す断面図である。図19は、図18(b)のB−B′線断面図である。
(Modification (Part 5))
Next, a modified example (No. 5) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 18 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to this modification. FIG. 18B is a plan view, and FIG. 18A is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. FIG. 19 is a cross-sectional view showing an electronic device according to this modification. FIG. 19 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
本変形例による電子装置は、格子状のリブパターンにより構造体28hが形成されているものである。
In the electronic device according to this modification, the
このような格子状のリブパターンにより構造体28hを形成してもよい。
The
(変形例(その6))
次に、本実施形態による変形例(その6)について図20及び図21を用いて説明する。図20は、本変形例による電子装置を示す断面図及び平面図である。図20(b)は平面図であり、図20(a)は図20(b)のA−A′線断面図である。図21は、本変形例による電子装置を示す断面図である。図21は、図20(b)のB−B′線断面図である。
(Modification (Part 6))
Next, a modified example (No. 6) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 20 is a cross-sectional view and a plan view showing an electronic device according to this modification. FIG. 20B is a plan view, and FIG. 20A is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. FIG. 21 is a cross-sectional view showing an electronic device according to this modification. FIG. 21 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
本変形例による電子装置は、可動電極24の長手方向に沿ったリブパターン32qが1本のものである。
The electronic device according to this modification has one rib pattern 32q along the longitudinal direction of the
図20及び図21に示すように、可動電極24の長手方向の中心線上に、1本のリブパターン32qが形成されている。また、可動電極24の長手方向に直交するように、リブパターン32c、32dがそれぞれ形成されている。構造体28iは、このようなリブパターン32qとリブパターン32c、32dとを組み合わせることにより形成されている。
As shown in FIGS. 20 and 21, one rib pattern 32 q is formed on the center line in the longitudinal direction of the
このように、可動電極24の長手方向に沿ったリブパターン32qが1本であってもよい。
Thus, the number of rib patterns 32q along the longitudinal direction of the
[変形実施形態]
上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
[Modified Embodiment]
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible.
例えば、上記実施形態では、構造体28aのみならず、構造体28b、28cをも設けたが、構造体28b、28cを設けなくても所望の平坦性を実現し得る場合には、必ずしも構造体28b、28cを設けなくてもよい。
For example, in the above-described embodiment, not only the
上記実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。 Regarding the above embodiment, the following additional notes are disclosed.
(付記1)
基板に固定された固定電極と、
前記基板の上方に形成され、中央部が前記固定電極と対向し、両端部が支持部により前記基板にそれぞれ固定された可動電極と、
前記基板に固定され、前記固定電極と前記支持部との間において前記可動電極と対向し、電圧が印加された際に生ずる静電引力により前記可動電極を変位させる制御電極とを有し、
前記可動電極の前記中央部を含み、且つ、前記可動電極の一部の領域である第1の領域に、前記可動電極を補強するリブ状の第1の構造体が形成されており、
前記第1の領域は、前記可動電極と前記固定電極とが平面視において重なっている領域から前記可動電極の長手方向にそれぞれ突出している
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 1)
A fixed electrode fixed to the substrate;
A movable electrode formed above the substrate, with a central portion facing the fixed electrode and both ends fixed to the substrate by support portions;
A control electrode fixed to the substrate, facing the movable electrode between the fixed electrode and the support, and displacing the movable electrode by electrostatic attraction generated when a voltage is applied;
A rib-shaped first structure that reinforces the movable electrode is formed in a first region that includes the central portion of the movable electrode and is a partial region of the movable electrode,
The electronic device, wherein the first region protrudes in a longitudinal direction of the movable electrode from a region where the movable electrode and the fixed electrode overlap in plan view.
(付記2)
付記1記載の電子装置において、
前記第1の領域と前記可動電極の前記両端部との間にそれぞれ位置する前記可動電極の第2の領域に、リブ状の第2の構造体がそれぞれ形成されている
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 2)
In the electronic device according to attachment 1,
A rib-shaped second structure is formed in each of the second regions of the movable electrode located between the first region and the both ends of the movable electrode. apparatus.
(付記3)
付記1又は2記載の電子装置において、
前記第1の領域と前記支持部との間隔は、前記可動電極の前記長手方向における前記制御電極の寸法より大きい
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 3)
In the electronic device according to
The electronic device according to claim 1, wherein a distance between the first region and the support portion is larger than a dimension of the control electrode in the longitudinal direction of the movable electrode.
(付記4)
付記1乃至3のいずれかに記載の電子装置において、
前記可動電極と前記固定電極とが平面視において重なっている前記領域から前記可動電極の前記長手方向に前記第1の領域が突出している寸法は、それぞれ50μm以下である
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 4)
In the electronic device according to any one of appendices 1 to 3,
The dimension in which the first region protrudes in the longitudinal direction of the movable electrode from the region where the movable electrode and the fixed electrode overlap in plan view is 50 μm or less, respectively. .
(付記5)
付記1乃至4のいずれかに記載の電子装置において、
前記第1の構造体は、前記可動電極の前記長手方向に沿うように形成された第1のリブパターンと、前記可動電極の前記長手方向に交差するように形成された第2のリブパターンとを含む
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 5)
In the electronic device according to any one of appendices 1 to 4,
The first structure includes a first rib pattern formed along the longitudinal direction of the movable electrode, and a second rib pattern formed so as to intersect the longitudinal direction of the movable electrode. An electronic device comprising:
(付記6)
付記5記載の電子装置において、
前記第1の構造体は、前記可動電極の前記長手方向の中心線に対して対称に形成されている
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 6)
In the electronic device according to attachment 5,
The electronic device according to claim 1, wherein the first structure is formed symmetrically with respect to the longitudinal center line of the movable electrode.
(付記7)
付記1乃至9のいずれかに記載の電子装置において、
前記第1の構造体は、ロ型に形成されている
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 7)
The electronic device according to any one of appendices 1 to 9,
The electronic device according to claim 1, wherein the first structure is formed in a B shape.
(付記8)
付記2記載の電子装置において、
前記第2の構造体は、前記可動電極の長手方向に沿うように形成された第3のリブパターンと、前記可動電極の長手方向に交差するように形成された第4のリブパターンとを含む
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 8)
In the electronic device according to
The second structure includes a third rib pattern formed along the longitudinal direction of the movable electrode and a fourth rib pattern formed so as to intersect the longitudinal direction of the movable electrode. An electronic device characterized by that.
(付記9)
付記2又は8記載の電子装置において、
前記第2の構造体は、前記可動電極の前記長手方向の中心線に対して対称に形成されている
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 9)
In the electronic device according to
The electronic device, wherein the second structure is formed symmetrically with respect to the longitudinal center line of the movable electrode.
(付記10)
付記2、8又は9記載の電子装置において、
前記第2の構造体は、ロ型に形成されている
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 10)
In the electronic device according to
The electronic device is characterized in that the second structure is formed in a B shape.
(付記11)
付記1乃至10のいずれかに記載の電子装置において、
前記固定電極は、キャパシタの一方の電極であり、
前記可動電極は、前記キャパシタの他方の電極である
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 11)
In the electronic device according to any one of appendices 1 to 10,
The fixed electrode is one electrode of a capacitor;
The movable device is the other electrode of the capacitor.
(付記12)
付記1乃至10のいずれかに記載の電子装置において、
前記固定電極は、スイッチの一方の端子である第1の電極と、前記スイッチの他方の端子である第2の電極とを含み、
前記第1の電極と前記第2の電極とは、前記可動電極の下方において互いに対向している
ことを特徴とする電子装置。
(Appendix 12)
In the electronic device according to any one of appendices 1 to 10,
The fixed electrode includes a first electrode that is one terminal of a switch, and a second electrode that is the other terminal of the switch,
The electronic device, wherein the first electrode and the second electrode are opposed to each other below the movable electrode.
2…キャパシタ
2a…スイッチ
10…基板
12…絶縁膜
14、14a、14b…固定電極
16a、16b…支持部
18a、18b…制御電極
20…Ti膜
22…Au膜
23…積層膜
24…可動電極
26a〜26c…領域
28a〜28i…構造物
30a、30b…箇所
32a〜32q…リブパターン
34a、34b…固定部材
36…フォトレジスト膜
38a〜38c…開口部
40…フォトレジスト膜
42…フォトレジスト膜
44a、44b…開口部
46a、46b…犠牲層
48…フォトレジスト膜
50…開口部
52…犠牲膜
54a〜54d…ノッチ
56a〜56d…ノッチ
58…フォトレジスト膜
60a〜60c…開口部
62…フォトレジスト膜
64a、64b…開口部
66a〜66d…分断箇所
110…基板
114…固定電極
116a、116b…支持部
118a、118b…制御電極
124…可動電極
128、128a、128b…構造物
130…箇所
134a、134b…固定部材
156…ノッチ
2 ...
Claims (10)
前記基板の上方に形成され、中央部が前記固定電極と対向し、両端部が支持部により前記基板にそれぞれ固定された可動電極と、
前記基板に固定され、前記固定電極と前記支持部との間において前記可動電極と対向し、電圧が印加された際に生ずる静電引力により前記可動電極を変位させる制御電極とを有し、
前記可動電極の前記中央部を含み、且つ、前記可動電極の一部の領域である第1の領域に、前記可動電極を補強するリブ状の第1の構造体が形成されており、
前記第1の領域は、前記可動電極と前記固定電極とが平面視において重なっている領域から前記可動電極の長手方向にそれぞれ突出している
ことを特徴とする電子装置。 A fixed electrode fixed to the substrate;
A movable electrode formed above the substrate, with a central portion facing the fixed electrode and both ends fixed to the substrate by support portions;
A control electrode fixed to the substrate, facing the movable electrode between the fixed electrode and the support, and displacing the movable electrode by electrostatic attraction generated when a voltage is applied;
A rib-shaped first structure that reinforces the movable electrode is formed in a first region that includes the central portion of the movable electrode and is a partial region of the movable electrode,
The electronic device, wherein the first region protrudes in a longitudinal direction of the movable electrode from a region where the movable electrode and the fixed electrode overlap in plan view.
前記第1の領域と前記可動電極の前記両端部との間にそれぞれ位置する前記可動電極の第2の領域に、リブ状の第2の構造体がそれぞれ形成されている
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to claim 1.
A rib-shaped second structure is formed in each of the second regions of the movable electrode located between the first region and the both ends of the movable electrode. apparatus.
前記第1の領域と前記支持部との間隔は、前記可動電極の前記長手方向における前記制御電極の寸法より大きい
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to claim 1 or 2,
The electronic device according to claim 1, wherein a distance between the first region and the support portion is larger than a dimension of the control electrode in the longitudinal direction of the movable electrode.
前記可動電極と前記固定電極とが平面視において重なっている前記領域から前記可動電極の前記長手方向に前記第1の領域が突出している寸法は、それぞれ50μm以下である
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to any one of claims 1 to 3,
The dimension in which the first region protrudes in the longitudinal direction of the movable electrode from the region where the movable electrode and the fixed electrode overlap in plan view is 50 μm or less, respectively. .
前記第1の構造体は、前記可動電極の前記長手方向に沿うように形成された第1のリブパターンと、前記可動電極の前記長手方向に交差するように形成された第2のリブパターンとを含む
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to any one of claims 1 to 4,
The first structure includes a first rib pattern formed along the longitudinal direction of the movable electrode, and a second rib pattern formed so as to intersect the longitudinal direction of the movable electrode. An electronic device comprising:
前記第1の構造体は、前記可動電極の前記長手方向の中心線に対して対称に形成されている
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to claim 5.
The electronic device according to claim 1, wherein the first structure is formed symmetrically with respect to the longitudinal center line of the movable electrode.
前記第1の構造体は、ロ型に形成されている
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to any one of claims 1 to 9,
The electronic device according to claim 1, wherein the first structure is formed in a B shape.
前記第2の構造体は、前記可動電極の長手方向に沿うように形成された第3のリブパターンと、前記可動電極の長手方向に交差するように形成された第4のリブパターンとを含む
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to claim 2.
The second structure includes a third rib pattern formed along the longitudinal direction of the movable electrode and a fourth rib pattern formed so as to intersect the longitudinal direction of the movable electrode. An electronic device characterized by that.
前記第2の構造体は、前記可動電極の前記長手方向の中心線に対して対称に形成されている
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to claim 2 or 8,
The electronic device, wherein the second structure is formed symmetrically with respect to the longitudinal center line of the movable electrode.
前記第2の構造体は、ロ型に形成されている
ことを特徴とする電子装置。 The electronic device according to claim 2, 8 or 9,
The electronic device is characterized in that the second structure is formed in a B shape.
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