JP2013235095A - Display device and manufacturing method of display device - Google Patents
Display device and manufacturing method of display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013235095A JP2013235095A JP2012106686A JP2012106686A JP2013235095A JP 2013235095 A JP2013235095 A JP 2013235095A JP 2012106686 A JP2012106686 A JP 2012106686A JP 2012106686 A JP2012106686 A JP 2012106686A JP 2013235095 A JP2013235095 A JP 2013235095A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- hole
- electrode
- display device
- electrophoretic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a display device and a method for manufacturing the display device.
EPD(Electrophoretic Display)やQRLPD(Quick Response Liquid Powder Display)のような帯電粒子の移動により表示を行う表示装置は、表示期間中の消費電力がゼロに近く、表示の切り換え期間の消費電力も非常に小さくすることができることから、特に電子ペーパーなどの携帯型情報端末の分野で広く利用されるようになってきている。この種の表示装置は、一対の基板間に帯電粒子を封入し、各基板の内面に形成した電極の間に電界を発生させて帯電粒子の移動を制御している。この際、基板面内での帯電粒子の偏りを防ぐために、帯電粒子の封入空間を隔壁で区画し、基板面方向への帯電粒子の移動を規制している(特許文献1を参照)。なお、隔壁で区画された個々の単位空間はセルと呼ばれている。 Display devices that display by moving charged particles such as EPD (Electrophoretic Display) and QRLPD (Quick Response Liquid Powder Display) are close to zero power consumption during the display period, and power consumption during the display switching period is also very high. Since it can be made small, it has come to be widely used especially in the field of portable information terminals such as electronic paper. In this type of display device, charged particles are enclosed between a pair of substrates, and an electric field is generated between electrodes formed on the inner surface of each substrate to control the movement of the charged particles. At this time, in order to prevent the charged particles from being biased in the surface of the substrate, the charged particle enclosing space is partitioned by partition walls to restrict the movement of the charged particles in the substrate surface direction (see Patent Document 1). Each unit space partitioned by the partition walls is called a cell.
セル内に帯電粒子を封入する方法としては、例えば、特許文献1に記載の方法が知られている。特許文献1では、画素電極や薄膜トランジスタなどが形成された素子基板に複数の貫通孔を形成し、一の貫通孔から帯電粒子を含む表示媒体(例えば、帯電粒子を溶媒に分散させた分散液)を封入し、他の一の貫通孔から排気を行ってセル内に前記表示媒体を充填する。しかし、この方法では、1セルあたり複数の貫通孔を素子基板に形成するため、薄膜トランジスタや各種配線を素子基板に配置する領域が狭くなってしまい、高精細化が困難になるという課題がある。また、素子基板上にはこのような微細な回路が形成されているため、貫通孔を開ける工程が加わることにより、歩留まりの低下やコストの増大に繋がるといった課題も生じる。
As a method for encapsulating charged particles in a cell, for example, a method described in
本発明の目的は、歩留まりが高く高精細化が可能な表示装置及び表示装置の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a display device with a high yield and high definition, and a method for manufacturing the display device.
本発明の表示装置は、第1電極が形成された第1基板と、前記第1電極と対向する第2電極が形成された第2基板と、前記第1基板側から前記第2基板側に向けて突出し、前記第1基板と前記第2基板とに挟まれた空間を複数の単位空間に区画する隔壁と、各単位空間に封入され、前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界によって前記第1電極と前記第2電極との間を移動する帯電粒子を含む表示媒体と、を含み、前記第1基板には、前記第1電極を駆動する駆動回路が形成されており、前記第2基板には、前記表示媒体を前記単位空間に充填するための貫通孔が形成されており、前記第1基板には、前記表示媒体を前記単位空間に充填するための貫通孔が形成されていないことを特徴とする。 The display device of the present invention includes a first substrate on which a first electrode is formed, a second substrate on which a second electrode facing the first electrode is formed, and from the first substrate side to the second substrate side. Projecting toward and partitioning a space between the first substrate and the second substrate into a plurality of unit spaces, sealed in each unit space, and between the first electrode and the second electrode A display medium including charged particles that move between the first electrode and the second electrode by a generated electric field, and a driving circuit that drives the first electrode is formed on the first substrate. In addition, a through hole for filling the unit medium with the display medium is formed in the second substrate, and a through hole for filling the unit medium with the display medium is formed in the first substrate. Is not formed.
この構成によれば、駆動回路が形成された第1基板に貫通孔が形成されていないため、薄膜トランジスタや各種配線を第1基板に配置する領域を広く確保することができる。よって、歩留まりが高く高精細化が可能な表示装置が提供できる。 According to this configuration, since the through hole is not formed in the first substrate on which the drive circuit is formed, a wide area for arranging the thin film transistor and various wirings on the first substrate can be secured. Therefore, a display device with high yield and high definition can be provided.
前記第2基板には、前記第2基板の法線方向から見て、前記隔壁と重なる部分に前記貫通孔が形成されており、前記第2基板の前記貫通孔が形成された部分と前記隔壁の前記第2基板側の先端部との間には隙間が形成されており、前記貫通孔及び前記隙間に前記表示媒体を封止する封止部材が充填されていてもよい。 In the second substrate, the through hole is formed in a portion overlapping the partition as viewed from the normal direction of the second substrate, and the portion of the second substrate in which the through hole is formed and the partition A gap may be formed between the second substrate and the tip of the second substrate, and a sealing member for sealing the display medium may be filled in the through hole and the gap.
この構成によれば、貫通孔が直接表示に寄与しない部分に形成されるため、表示品位の低下を抑制できる。 According to this configuration, since the through hole is formed in a portion that does not directly contribute to display, it is possible to suppress deterioration in display quality.
前記第2基板には、前記第2基板に形成された前記貫通孔を封止するとともに前記第2基板の表面全体を覆う封止部材が形成されていてもよい。 A sealing member that seals the through hole formed in the second substrate and covers the entire surface of the second substrate may be formed on the second substrate.
この構成によれば、封止部材のうち貫通孔を封止する部分が目立たなくなるため、表示品位の低下を抑制できる。 According to this structure, since the part which seals a through-hole among sealing members becomes inconspicuous, the fall of display quality can be suppressed.
前記第2基板には、複数の着色層が配列して形成されたカラーフィルターが設けられており、前記第2基板には、前記第2基板の法線方向から見て、前記複数の着色層のうち少なくとも一つの着色層と重なる部分に前記貫通孔が形成されており、前記封止部材のうち前記貫通孔を封止する部分は、前記着色層と同じ色の顔料又は染料を含んでいてもよい。 The second substrate is provided with a color filter formed by arranging a plurality of colored layers, and the second substrate has the plurality of colored layers as viewed from the normal direction of the second substrate. The through hole is formed in a portion that overlaps at least one colored layer, and the portion of the sealing member that seals the through hole contains a pigment or dye of the same color as the colored layer. Also good.
この構成によれば、封止部材による画質の低下を抑制できる。 According to this configuration, it is possible to suppress deterioration in image quality due to the sealing member.
前記封止部材の表面には、反射防止処理、硬質化処理のうち少なくとも一つが施されていてもよい。 The surface of the sealing member may be subjected to at least one of antireflection treatment and hardening treatment.
この構成によれば、反射防止処理により、表示面での光反射を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。また、硬質化処理により、表示面に傷が付くことを抑制できる。 According to this configuration, light reflection on the display surface can be suppressed by the antireflection treatment, and deterioration in display quality can be suppressed. Moreover, it can suppress that a display surface gets a damage | wound by a hardening process.
前記封止部材のうち前記貫通孔を封止する部分は、導電性を有するとともに前記第2電極と電気的に接続されていてもよい。 A portion of the sealing member that seals the through-hole may have conductivity and be electrically connected to the second electrode.
この構成によれば、封止部材のうち貫通孔を封止する部分と第2電極とが同電位となるため、表示品位の低下を抑制できる。 According to this structure, since the part which seals a through-hole among sealing members, and a 2nd electrode become the same electric potential, the fall of display quality can be suppressed.
本発明の表示装置の製造方法は、駆動回路が形成された第1基板上に複数の単位空間を区画する隔壁を形成し、前記第1基板上に前記隔壁を介して第2基板を貼り合わせる第1工程と、前記隔壁によって囲まれた各単位空間内に帯電粒子を含む表示媒体を充填するための貫通孔を前記第2基板に形成する第2工程と、前記第2基板に形成された前記貫通孔から前記単位空間に前記表示媒体を充填する第3工程と、を含むことを特徴とする。 According to the method for manufacturing a display device of the present invention, a partition that partitions a plurality of unit spaces is formed on a first substrate on which a drive circuit is formed, and a second substrate is bonded to the first substrate through the partition. A first step, a second step of forming a through hole in the second substrate for filling a display medium containing charged particles in each unit space surrounded by the partition; and a second substrate formed on the second substrate. And a third step of filling the unit medium with the display medium from the through hole.
この製造方法によれば、駆動回路が形成された第1基板に貫通孔が形成されないため、薄膜トランジスタや各種配線を第1基板に配置する領域を広く確保することができる。よって、歩留まりが高く高精細化が可能となる。 According to this manufacturing method, since the through hole is not formed in the first substrate on which the drive circuit is formed, a wide area for arranging the thin film transistor and various wirings on the first substrate can be secured. Therefore, the yield is high and high definition is possible.
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.
以下の実施の形態においては、本発明の表示装置の一例として電気泳動表示装置を挙げて説明する。 In the following embodiments, an electrophoretic display device will be described as an example of the display device of the present invention.
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る電気泳動表示装置1の概略構成を示す断面図である。
図1に示すように、電気泳動表示装置(表示装置)1は、素子基板(第1基板)10と、対向基板(第2基板)20と、隔壁30と、電気泳動層41と、封止部材51と、を備えている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of an
As shown in FIG. 1, an electrophoretic display device (display device) 1 includes an element substrate (first substrate) 10, a counter substrate (second substrate) 20, a
素子基板10は、素子基板本体11上に画素電極12及び絶縁層13が形成された基板である。
素子基板本体11は、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)などの絶縁性の樹脂材料からなる樹脂基板、又は、ガラス基板を用いる。素子基板本体11の厚みは、例えば、100μm〜500μmの範囲の厚みである。
The
The
素子基板10には、画素電極12を駆動する、例えばソース線、ゲート線等の各種配線の駆動回路が形成されている。画素電極12は、配線を介して薄膜トランジスタに接続されており、当該薄膜トランジスタをオン、オフすることにより、画素電極12に選択的に電圧を印加できるようになっている。絶縁層13は、素子基板本体11上の薄膜トランジスタを覆って形成されている。
On the
画素電極12は、素子基板本体11の電気泳動層41と対向する側の面に形成されている。画素電極12は、例えば、アルミニウム(Al)やインジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide, 以下、ITOと略記する)等の導電膜で構成されている。画素電極12の厚みは、例えば、50nm程度である。
The
対向基板20は、対向基板本体21上に対向電極22が形成された基板である。
対向基板本体21は、ガラス基板等の透明基板を用いる。対向電極22は、対向基板本体21の電気泳動層41と対向する側の面に形成されている。対向電極22は、例えば、ITO等の透明導電膜で構成されている。本実施形態においては、対向基板20の表面が電気泳動表示装置1の表示面21aを構成しており、電気泳動表示装置1の表示画面に表示される文字、画像等を対向基板20側から視認できるようになっている。
The
The
隔壁30は、素子基板10側から対向基板20側に向けて突出し、素子基板10と対向基板20とに挟まれた空間を複数の単位空間40に区画する。以下、当該単位空間をセルと称する。
The
本実施形態では、一つのセル40に対応して一つの画素電極12が形成されているが、これに限らず、一つのセル40に対応して複数の画素電極12が形成されていてもよい。
In the present embodiment, one
隔壁30の形成材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の各種樹脂材料や、シリカ、アルミナ、チタニア等の各種セラミックス材料を用いることができる。
As a material for forming the
電気泳動層41は、隔壁30の各セル40内に、複数の電気泳動粒子42とこれら電気泳動粒子42(帯電粒子)を分散させた分散媒43とを有する電気泳動材料41A(表示媒体)が封入されてなる層である。電気泳動粒子42は、画素電極12と対向電極22との間に発生する電界によって画素電極12と対向電極22との間を移動する。
The
電気泳動粒子42は、例えば、顔料粒子、樹脂粒子又はこれらの複合粒子である。顔料粒子を組成する顔料としては、例えば、アニリンブラック、カーボンブラックなどの黒色顔料、酸化チタン、酸化アンチモンなどの白色顔料などがある。また、樹脂粒子を組成する樹脂材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、尿素樹脂、エポキシ系樹脂、ポリスチレン、ポリエステルなどがある。複合粒子としては、例えば、顔料粒子の表面を樹脂材料や他の顔料で被覆したもの、樹脂粒子の表面を顔料で被覆したもの、顔料と樹脂粒子とを適当な組成比で混合した混合物で構成される粒子などがある。これらの各種材料からなる電気泳動粒子42は、例えば正又は負に帯電した状態で分散媒中に分散されている。
The
分散媒43は、例えば、親油性の炭化水素系の溶媒であり、例えば、アイソパー(登録商標)を含む。すなわち、分散媒43は、例えば、アイソパーE、アイソパーG、アイソパーH、アイソパーL、アイソパーMのうちのいずれか1種類を含む液体、もしくはこれらのうちの2種類以上を混合した液体、あるいは、これらのうちのいずれか1種類以上と他の種類の炭化水素系の溶媒とを混合した液体である。
The
あるいは、分散媒43は、例えば、ペンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼンのような長鎖アルキル基を有するベンゼン類(アルキルベンゼン誘導体)等の芳香族炭化水素類、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ギ酸エチル等ノエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ルチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル類、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、カルボン酸塩又はその他の各種油類等でも良く、これらを単独又は混合物として用いることができる。
Alternatively, the
対向基板20には、電気泳動材料41Aをセル40に充填するための貫通孔50が形成されている。貫通孔50の大きさ(直径)は数10μm程度である。一方、素子基板10には、電気泳動材料41Aをセル40に充填するための貫通孔が形成されていない。
The
本実施形態において、対向基板20には、各セル40に対応して2つの貫通孔50が形成されている。各貫通孔50は、各セル40において隔壁30寄りに配置されている。尚、貫通孔50の配置数、配置位置は適宜変更可能である。
In the present embodiment, the
本実施形態の場合、対向基板20には貫通孔50が形成されているので、対向電極22にも部分的に開口部が形成されているが、このような開口部は面積が小さければ表示に与える影響は軽微であることが本発明者の検討により明らかになっている。
In the case of the present embodiment, since the through-
すなわち、画素電極12と対向電極22との間に電圧を印加すると、対向電極22の開口部には電圧が印加されず、電気泳動粒子42も堆積しないと考えられるが、実際には、電気泳動粒子42は、必ずしも電場ベクトルに倣って移動するわけではなく、ある程度拡散しながら移動することが分かった。そのため、対向電極22が無い部分であっても、貫通孔50の大きさが小さければ、表示に寄与し得る。また、電気泳動表示装置1の表示品位は、電気泳動粒子42の各セル40内における分布状態が大きく寄与し、対向基板20の界面状態は前記表示品位にほとんど影響しないことが本発明者の検討により明らかになっており、対向基板20に貫通孔50を設けても表示品位を維持できることが分かった。
That is, when a voltage is applied between the
本実施形態では、このような知見から、対向基板20側に貫通孔50を形成しており、これにより、素子基板10側の設計の自由度を損なうことなく、表示品質の高い電気泳動表示装置を提供するものとしている。
In the present embodiment, from such knowledge, the through-
対向基板20には、貫通孔50を封止する封止部材51が形成されている。封止部材51の形成材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等の各種樹脂材料を用いることができる。尚、封止部材51の形成材料としては、電気泳動材料41Aと反応しない材料を用いる。
A sealing
また、封止部材51の形成材料としては透明なものが好ましい。電気泳動粒子42が電界によって画素電極12と対向電極22との間を上方に移動したときに、貫通孔50の形成領域も表示画像に寄与させるためである。
Further, the forming material of the sealing
また、対向基板20の屈折率と封止部材51の屈折率とは概ね等しいことが好ましい。対向基板20の屈折率と封止部材51の屈折率との差が大きいと、対向基板20と封止部材51との間の界面で光が反射する惧れがあるからである。当該光反射を抑制するためには、対向基板20の屈折率をn1とし、封止部材51の屈折率をn2としたときに、対向基板20の屈折率n1と封止部材51の屈折率n2との差|n1−n2|が3以下であることが好ましい。
The refractive index of the
(電気泳動表示装置の製造方法)
図2は、本実施形態に係る電気泳動表示装置の製造工程を示すフローチャートである。
図3及び図4は、本実施形態に係る電気泳動表示装置の製造工程を示す断面工程図である。尚、図3(c)、図4(a)、図4(b)、及び図4(c)においては、便宜上、電気泳動材料41Aを構成する電気泳動粒子42及び分散媒43の図示を省略する。
(Method for manufacturing electrophoretic display device)
FIG. 2 is a flowchart showing the manufacturing process of the electrophoretic display device according to this embodiment.
3 and 4 are cross-sectional process diagrams showing the manufacturing process of the electrophoretic display device according to this embodiment. In FIG. 3C, FIG. 4A, FIG. 4B, and FIG. 4C, illustration of the
本実施形態に係る電気泳動表示装置の製造方法は、駆動回路が形成された素子基板10上に複数のセル40を区画する隔壁30を形成し、素子基板10上に隔壁30を介して対向基板20を貼り合わせる第1工程と、隔壁30によって囲まれた各セル40内に電気泳動材料41Aを充填するための貫通孔50を対向基板20に形成する第2工程と、対向基板20に形成された貫通孔50からセル40に電気泳動材料41Aを充填する第3工程と、
を有する。
In the method for manufacturing an electrophoretic display device according to this embodiment, a
Have
具体的には、図2に示すように、素子基板10上に隔壁30を介して対向基板20を貼り合わせる「基板貼り合わせ工程S1(第1工程)」と、対向基板20に貫通孔50を形成する「貫通孔形成工程S2(第2工程)」と、隔壁30によって囲まれた各セル40内に電気泳動材料41Aを充填する「電気泳動材料充填工程S3(第3工程)」と、貫通孔50を封止する「貫通孔封止工程S4」と、を有する。
Specifically, as shown in FIG. 2, a “substrate bonding step S <b> 1 (first step)” in which the
先ず、基板貼り合わせ工程S1では、図3(a)に示すように、素子基板10上に隔壁30を介して対向基板20を貼り合わせて第1中間パネル1Aを作製する。尚、第1中間パネル1Aの作製方法は、従来公知の方法で作製するため、その詳細な説明は省略する。
First, in the substrate bonding step S1, as shown in FIG. 3A, the
次に、貫通孔形成工程S2では、図3(b)に示すように、対向基板20に貫通孔50を形成して第2中間パネル1A’を作製する。貫通孔50は、各セル40ごとに2つ形成し、それぞれ各セル40において隔壁30寄りに形成する。
Next, in the through hole forming step S2, as shown in FIG. 3B, the through
尚、貫通孔50は、第1中間パネル1Aの作製後に対向基板20に形成することに限らず、第1中間パネル1Aの作製前、すなわち対向基板20の作製時に予め対向基板20に形成しておいてもよい。
The through-
次に、電気泳動材料充填工程S3では、隔壁30の各セル40内に電気泳動材料41Aを充填する。電気泳動材料41Aの充填方法としては、例えば、真空注入法を用いる。
Next, in the electrophoretic material filling step S <b> 3, the
具体的には、図3(c)に示すように、第2中間パネル1A’を、上下反転させて貫通孔50が形成された側を下に向けて、チャンバー60の内部に導入し、電気泳動材料41Aを収容する容器61の上方に配置する。この状態でチャンバー60の内部の気体を排気し、チャンバー60の内部を真空にする。
Specifically, as shown in FIG. 3C, the second
次に、図4(a)に示すように、チャンバー60の内部を真空にした状態で、第2中間パネル1A’を容器61に収容された電気泳動材料41Aに浸漬させる。すると、第2中間パネル1A’の各セル40も真空になっているため、各セル40には、容器61に収容された電気泳動材料41Aが毛細管現象によって侵入する。
Next, as shown in FIG. 4A, the second
次に、図4(b)に示すように、第2中間パネル1A’を容器61に収容された電気泳動材料41Aに浸漬させた状態で、チャンバー60の内部に大気を注入する。すると、大気圧により、容器61に収容された電気泳動材料41Aの液面が押されるため、第2中間パネル1A’の各セル40には隙間なく電気泳動材料41Aが充填される。次に、各セル40に電気泳動材料41Aが充填された第2中間パネル1A’をチャンバー60から取り出す。
Next, as shown in FIG. 4B, the atmosphere is injected into the
次に、貫通孔封止工程S4では、図4(c)に示すように、封止部材51で貫通孔50を封止する。例えば、封止部材51の形成材料の液状体を貫通孔50に毛細管現象を利用して注入し、封止部材51の形成材料の液状体を固化させることにより、貫通孔50を封止させる。
以上の工程を経ることにより、本実施形態の電気泳動表示装置1が得られる。
Next, in the through hole sealing step S4, the through
Through the above steps, the
本実施形態の電気泳動表示装置1によれば、駆動回路が形成された素子基板10に貫通孔が形成されていないため、薄膜トランジスタや各種配線を素子基板10に配置する領域を広く確保することができる。よって、歩留まりが高く高精細化が可能な電気泳動表示装置1が提供できる。
According to the
(第1変形例)
図5は、電気泳動表示装置の製造工程の第1変形例を示す断面工程図である。
図5に示すように、本変形例の電気泳動表示装置の製造工程は、電気泳動材料充填工程S3及び貫通孔封止工程S4が上記実施形態と異なるのみである。その他の工程(基板貼り合わせ工程S1及び貫通孔形成工程S2)は上述の工程と同様であるので、詳細な説明は省略する。尚、図5においては、便宜上、電気泳動材料41Aを構成する電気泳動粒子42及び分散媒43の図示を省略する。
(First modification)
FIG. 5 is a cross-sectional process diagram illustrating a first modification of the manufacturing process of the electrophoretic display device.
As shown in FIG. 5, the manufacturing process of the electrophoretic display device of the present modification is different from the above embodiment only in the electrophoretic material filling process S3 and the through hole sealing process S4. The other steps (substrate bonding step S1 and through-hole forming step S2) are the same as those described above, and a detailed description thereof will be omitted. In FIG. 5, illustration of the
本変形例に係る電気泳動材料充填工程S3では、図5に示すように、対向基板20には、各セル40に対応して2つの貫通孔50が形成されている。2つの貫通孔50のうち一方の貫通孔50は、電気泳動材料41Aをセル40に注入するための注入孔として機能する。他方の貫通孔50は、セル40の内部の気体を排気するための排気孔として機能する。
In the electrophoretic material filling step S3 according to this modification, as shown in FIG. 5, two through
本変形例では、電気泳動材料41Aをセル40に注入する注入ノズル70と、セル40の内部の気体を排気する排気ノズル71と、セル40から漏れ出て対向基板20の表面に付着した電気泳動材料41Aを拭き取るクリーナー72と、対向基板20に形成された貫通孔50を封止するとともに対向基板20の表面全体を覆う封止部材の形成材料51Aを供給するコーター73と、を用いる。注入ノズル70と排気ノズル71の配置間隔は、2つの貫通孔50の配置間隔(ピッチ)と概ね一致している。
In this modification, an
本変形例では、第2中間パネル1A’は、注入ノズル70、排気ノズル71、クリーナー72、及びコーター73に対して相対移動可能になっている。具体的には、第2中間パネル1A’が貫通孔50が形成された側を上に向けた状態で、搬送コンベアに配置されている。第2中間パネル1A’は、搬送コンベアにより、図5の右側(矢印方向)に搬送される。
In the present modification, the second
尚、相対移動の構成はこれに限らず、第2中間パネル1A’を定位置に配置し、注入ノズル70、排気ノズル71、クリーナー72、及びコーター73を移動させてもよいし、第2中間パネル1A’と、注入ノズル70、排気ノズル71、クリーナー72、及びコーター73とを移動させてもよい。
The configuration of the relative movement is not limited to this, and the second
先ず、第2中間パネル1A’を矢印の方向に所定量だけ移動させて、一方の貫通孔50の直上に注入ノズル70を配置させる。このとき、他方の貫通孔50の直上に排気ノズル71を配置させる。
First, the second
次に、注入ノズル70により電気泳動材料41Aをセル40に注入するとともに、排気ノズル71によりセル40の内部の気体を排気する。これにより、セル40の内部に気泡等が残存することを回避しつつセル40の内部に電気泳動材料41Aを充填することができる。尚、セル40の内部に気泡等が残存しない場合には、排気ノズル71を他方の貫通孔50の直上に配置せずに、自然排気とさせる。
Next, the
注入ノズル70により電気泳動材料41Aをセル40に注入する際にセル40から電気泳動材料41Aが漏れ出て対向基板20の表面に付着した場合には、クリーナー72により電気泳動材料41Aを拭き取る。尚、対向基板20の表面に電気泳動材料41Aが付着しない場合には、この工程は不要である。
When the
また、第2中間パネル1A’を矢印の方向に所定量だけ移動させることにより、電気泳動材料41Aが充填したセル40に対応した貫通孔50の直上にコーター73を配置させる。そして、コーター73により、封止部材の形成材料51Aの液状体を貫通孔50及び対向基板20の表面全体に塗布する。その後、封止部材の形成材料51Aの液状体を固化させることにより、貫通孔50を封止させる。
Further, by moving the second
本変形例によれば、注入ノズル70により電気泳動材料41Aをセル40に注入するとともに、排気ノズル71によりセル40の内部の気体を排気することにより、セル40の内部に気泡等が残存することを回避しつつセル40の内部に電気泳動材料41Aを充填できる。例えば、電気泳動材料41Aの揮発性が高い等の理由で真空注入法を用いることができない場合に有効である。
また、第2中間パネル1A’が、注入ノズル70、排気ノズル71、クリーナー72、及びコーター73に対して相対移動可能であるため、電気泳動材料充填工程S3及び貫通孔封止工程S4を流れ作業で一括して行うことができる。よって、製造効率の向上を図ることができる。
According to this modification, the
In addition, since the second
(第2実施形態)
図6は、本発明の第2実施形態に係る電気泳動表示装置2の概略構成を示す図である。図6(a)は、図1に対応した、電気泳動表示装置2の概略構成を示す断面図である。図6(b)は、隔壁の要部を示す図であり、図6(a)のA−A線に沿った断面図である。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of the
図6(a)に示すように、本実施形態の電気泳動表示装置2は、対向基板20の法線方向から見て、隔壁130と重なる部分に貫通孔150が形成されている点、対向基板20の貫通孔150が形成された部分と隔壁130の対向基板20側の先端部との間には隙間152が形成されている点、が上記第1実施形態と異なっている。その他の構成は上記第1実施形態の電気泳動表示装置1と同様であるので、同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。尚、図6(a)においては、便宜上、電気泳動材料41Aを構成する電気泳動粒子42及び分散媒43の図示を省略する。
As shown in FIG. 6A, the
図6(b)に示すように、対向基板20の貫通孔150が形成された部分に対向する隔壁130の先端部には、凹状の切り欠き131が形成されている。当該切り欠き131により、対向基板20の貫通孔150が形成された部分と隔壁130の先端部との間には、貫通孔150と連通する隙間152が形成されている。貫通孔150と隙間152には、電気泳動材料41Aを封止する封止部材151が充填されている。本実施形態においては、電気泳動材料41Aが貫通孔150及び隙間152を介してセル40に充填されるように構成されている。
As shown in FIG. 6B, a
尚、隔壁130の先端部に凹状の切り欠き131が形成されていなくてもよい。この場合には、隔壁130の先端部の幅よりも大きい貫通孔を対向基板20に形成することにより、対向基板20の貫通孔が形成された部分と隔壁130の先端部との間に隙間を形成することができる。
The
図7は、隔壁130の平面図である。図7において、符号130aはセル40を囲んで格子状に形成された隔壁130の交差部であり、符号130bは隔壁130の側壁部である。
FIG. 7 is a plan view of the
対向基板20の法線方向から見て、隔壁130と重なる部分に貫通孔150を形成するに際しては、図7に示すように、隔壁130の交差部130aに貫通孔150を形成してもよいし、隔壁130の側壁部130bに貫通孔150を形成してもよい。
When the through
隔壁130の交差部130aに貫通孔150を形成する場合には、4つのセル40の一部に跨る大きさの貫通孔150を1つだけ形成すれば良いため、貫通孔150の配置数を削減することができる。一方、隔壁130の側壁部130bに貫通孔150を形成する場合には、封止部材151で貫通孔150を封止することで、隔壁130の側壁部130bを補強することができる。
In the case where the through
本実施形態の電気泳動表示装置2によれば、貫通孔150が直接表示に寄与しない部分に形成されるため、表示品位の低下を抑制できる。
According to the
尚、本実施形態においては、隔壁130が平面視格子状に形成されている例を挙げて説明したが、これに限らない。例えば、隔壁が平面視ハニカム形状等の他の形状に形成されている場合においても本発明を適用可能である。
In the present embodiment, an example in which the
(第3実施形態)
図8は、図1に対応した、本発明の第3実施形態に係る電気泳動表示装置3の概略構成を示す断面図である。
(Third embodiment)
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the
図8に示すように、本実施形態の電気泳動表示装置3は、対向基板20に形成された貫通孔50を封止するとともに対向基板20の表面全体を覆う封止部材251が形成されている点が上記第1実施形態と異なっている。その他の構成は上記第1実施形態の電気泳動表示装置1と同様であるので、同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。尚、図8においては、便宜上、電気泳動材料41Aを構成する電気泳動粒子42及び分散媒43の図示を省略する。
As shown in FIG. 8, in the
図8に示すように、封止部材251は、対向基板20に形成された貫通孔50を封止する第1封止部252と、対向基板20の表面全体を覆う第2封止部253と、を有している。
As shown in FIG. 8, the sealing
例えば、封止部材251は、先ず、第1封止部252の形成材料を貫通孔50に注入し固化した後、対向基板20の表面全体に透明なフィルム材に糊等を塗布したものを第2封止部253として貼り付けることによって形成することができる。
For example, the sealing
封止部材251の表面には、反射防止処理が施されている。本実施形態では、第2封止部253の表面に、アンチグレア処理による凹凸部を形成している。
The surface of the sealing
封止部材251のうち第1封止部252は、導電性を有するとともに対向電極22と電気的に接続されている。第1封止部252の形成材料は、例えば、樹脂材料に銀等の金属粒子やカーボン粒子などの導電粒子を分散させてなる導電樹脂を用いる。
The
本実施形態の電気泳動表示装置2によれば、封止部材251のうち貫通孔50を封止する部分(第1封止部252)が目立たなくなるため、表示品位の低下を抑制できる。
According to the
また、この構成によれば、反射防止処理により、表示面253aでの光反射を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
Moreover, according to this structure, the reflection prevention process can suppress light reflection on the
また、この構成によれば、封止部材251のうち貫通孔50を封止する部分(第1封止部252)と対向電極22とが同電位となるため、表示品位の低下を抑制できる。
Moreover, according to this structure, since the part (1st sealing part 252) which seals the through-
尚、本実施形態では、封止部材251の表面に反射防止処理が施されているが、これに限らない。例えば、封止部材251の表面に硬質化処理が施されていてもよい。これにより、表示面253aに傷が付くことを抑制できる。
In the present embodiment, the antireflection treatment is performed on the surface of the sealing
(第4実施形態)
図9は、図1に対応した、本発明の第4実施形態に係る電気泳動表示装置4の概略構成を示す断面図である。
図9に示すように、本実施形態の電気泳動表示装置4は、対向基板320に複数の着色層323R,323G,323Bが配列して形成されたカラーフィルター323が設けられている点、対向基板320の法線方向から見て、複数の着色層323R,323G,323Bのうち少なくとも一つの着色層と重なる部分に貫通孔350が形成されている点、が上記第1実施形態と異なっている。その他の構成は上記第1実施形態の電気泳動表示装置1と同様であるので、同様の構成には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。尚、図9においては、便宜上、電気泳動材料41Aを構成する電気泳動粒子42及び分散媒43の図示を省略する。
(Fourth embodiment)
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of an electrophoretic display device 4 according to the fourth embodiment of the present invention, corresponding to FIG.
As shown in FIG. 9, the electrophoretic display device 4 of the present embodiment is provided with a
図9に示すように、対向基板320は、対向基板本体321と、カラーフィルター323と、ブラックマトリクス324と、対向電極322と、を備えている。
As shown in FIG. 9, the
対向基板本体321は、ガラス基板等の透明基板を用いる。ブラックマトリクス324は、例えば、樹脂中にカーボンを分散して構成されている。ブラックマトリクス324は、対向基板本体321の電気泳動層41側の面上に設けられている。
The
カラーフィルター323は、対向基板本体321の電気泳動層41側の面上において、ブラックマトリクス324によって区画された領域に設けられている。カラーフィルター323は、例えば、赤色着色層323R、緑色着色層323G及び青色着色層323Bを備えている。
The
対向電極322は、カラーフィルター323及びブラックマトリクス324の電気泳動層41と対向する側の面に形成されている。対向電極322は、例えば、ITO等の透明導電膜で構成されている。
The
本実施形態において、対向基板320には、各セル40に対応して2つの貫通孔350が形成されている。各貫通孔350は、各セル40において、対向基板320の法線方向から見て、赤色着色層323R及び青色着色層323Bと重なる部分に配置されている。尚、貫通孔350の配置数、配置位置は適宜変更可能である。
In the present embodiment, the
対向基板320には、貫通孔350を封止する封止部材351が形成されている。本実施形態において、封止部材351の形成材料は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等の各種樹脂材料に、着色層と同じ色の顔料又は染料を分散させたものを用いる。例えば、赤色着色層323Rと重なる部分に配置された封止部材351には、赤色着色層323Rと同じ色の顔料又は染料を分散させたものを用いる。一方、青色着色層323Bと重なる部分に配置された封止部材351には、青色着色層323Bと同じ色の顔料又は染料を分散させたものを用いる。
A sealing
本実施形態の電気泳動表示装置4によれば、封止部材351による画質の低下を抑制できる。
According to the electrophoretic display device 4 of the present embodiment, it is possible to suppress deterioration in image quality due to the sealing
尚、上記実施形態においては、表示装置の一例として、表示媒体として電気泳動材料を用いた電気泳動表示装置を説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、エレクトロクロミック材料を表示媒体として用いたエレクトロクロミック表示装置、電子粉流体(登録商標)を表示媒体として用いた電子粉流体ディスプレイ(QRLPD)など他の表示装置についても本発明を適用することが可能である。 In the above embodiment, an electrophoretic display device using an electrophoretic material as a display medium has been described as an example of a display device. However, the present invention is not limited to this, and an electrochromic material is used as the display medium. The present invention can also be applied to other display devices such as an electrochromic display device used as a display device and an electronic powder fluid display (QRLPD) using an electronic powder fluid (registered trademark) as a display medium.
1…電気泳動表示装置(表示装置)、10…素子基板(第1基板)、12…画素電極(第1電極)、20…対向基板(第2基板)、22…対向電極(第2電極)、30,130…隔壁、40…セル(単位空間)、41A…電気泳動材料(表示媒体)、42…電気泳動粒子(帯電粒子)、50,150,350…貫通孔、51,151,251,351…封止部材、152…隙間、252…第1封止部(封止部材のうち貫通孔を封止する部分)、253a…封止部材の表面、323…カラーフィルター、323R…赤色着色層(着色層)、323G…緑色着色層(着色層)、323B…青色着色層(着色層)、S1…基板貼り合わせ工程(第1工程)、S2…貫通孔形成工程(第2工程)、S3…電気泳動材料充填工程(第3工程)
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記第1電極と対向する第2電極が形成された第2基板と、
前記第1基板側から前記第2基板側に向けて突出し、前記第1基板と前記第2基板とに挟まれた空間を複数の単位空間に区画する隔壁と、
各単位空間に封入され、前記第1電極と前記第2電極との間に発生する電界によって前記第1電極と前記第2電極との間を移動する帯電粒子を含む表示媒体と、を含み、
前記第1基板には、前記第1電極を駆動する駆動回路が形成されており、
前記第2基板には、前記表示媒体を前記単位空間に充填するための貫通孔が形成されており、前記第1基板には、前記表示媒体を前記単位空間に充填するための貫通孔が形成されていない表示装置。 A first substrate on which a first electrode is formed;
A second substrate on which a second electrode facing the first electrode is formed;
A partition wall that projects from the first substrate side toward the second substrate side and divides a space sandwiched between the first substrate and the second substrate into a plurality of unit spaces;
A display medium including charged particles enclosed in each unit space and moving between the first electrode and the second electrode by an electric field generated between the first electrode and the second electrode;
A driving circuit for driving the first electrode is formed on the first substrate,
A through hole for filling the unit medium with the display medium is formed in the second substrate, and a through hole for filling the unit medium with the display medium is formed in the first substrate. Not displayed.
前記第2基板の前記貫通孔が形成された部分と前記隔壁の前記第2基板側の先端部との間には隙間が形成されており、
前記貫通孔及び前記隙間に、前記表示媒体を封止する封止部材が充填されている請求項1に記載の表示装置。 In the second substrate, the through hole is formed in a portion overlapping the partition as viewed from the normal direction of the second substrate,
A gap is formed between the portion of the second substrate where the through hole is formed and the tip of the partition on the second substrate side,
The display device according to claim 1, wherein the through-hole and the gap are filled with a sealing member that seals the display medium.
前記第2基板には、前記第2基板の法線方向から見て、前記複数の着色層のうち少なくとも一つの着色層と重なる部分に前記貫通孔が形成されており、
前記封止部材のうち前記貫通孔を封止する部分は、前記着色層と同じ色の顔料又は染料を含む請求項3に記載の表示装置。 The second substrate is provided with a color filter formed by arranging a plurality of colored layers,
In the second substrate, the through hole is formed in a portion overlapping with at least one colored layer among the plurality of colored layers when viewed from the normal direction of the second substrate,
The display device according to claim 3, wherein a portion of the sealing member that seals the through hole includes a pigment or a dye having the same color as the colored layer.
前記隔壁によって囲まれた各単位空間内に帯電粒子を含む表示媒体を充填するための貫通孔を前記第2基板に形成する第2工程と、
前記第2基板に形成された前記貫通孔から前記単位空間に前記表示媒体を充填する第3工程と、
を含む表示装置の製造方法。
Forming a partition partitioning a plurality of unit spaces on a first substrate on which a drive circuit is formed, and bonding a second substrate on the first substrate via the partition;
A second step of forming in the second substrate a through hole for filling a display medium containing charged particles in each unit space surrounded by the partition;
A third step of filling the display medium into the unit space from the through hole formed in the second substrate;
A manufacturing method of a display device including:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012106686A JP2013235095A (en) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | Display device and manufacturing method of display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012106686A JP2013235095A (en) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | Display device and manufacturing method of display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013235095A true JP2013235095A (en) | 2013-11-21 |
Family
ID=49761273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012106686A Pending JP2013235095A (en) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | Display device and manufacturing method of display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013235095A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022072500A1 (en) * | 2020-10-02 | 2022-04-07 | E Ink Corporation | Front plane laminates with outer surface electrical connections |
-
2012
- 2012-05-08 JP JP2012106686A patent/JP2013235095A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022072500A1 (en) * | 2020-10-02 | 2022-04-07 | E Ink Corporation | Front plane laminates with outer surface electrical connections |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4353153B2 (en) | Display device, manufacturing method thereof, and electronic device | |
JP5499923B2 (en) | Display sheet manufacturing method | |
JP6460606B2 (en) | Display device | |
JP2006017750A (en) | Electrophoretic display device and method for manufacturing the same | |
JP2007178706A (en) | Electrooptic device and electronic equipment | |
JP4623107B2 (en) | Electrophoretic display device and method of manufacturing electrophoretic display device | |
US7903320B2 (en) | Electrophoretic display device and electronic apparatus | |
JP2009075345A (en) | Manufacturing method of electrophoretic display panel and electrophoretic display panel | |
US7161731B2 (en) | Method of manufacturing electrophoretic display | |
JP4586863B2 (en) | Electrophoretic display device and electronic apparatus | |
WO2014034569A1 (en) | Display device | |
JP2013235095A (en) | Display device and manufacturing method of display device | |
JP6303307B2 (en) | Electrophoresis device, method of manufacturing electrophoresis device, and electronic apparatus | |
JP2013007985A (en) | Electrophoretic display device and manufacturing method thereof | |
JP5991012B2 (en) | Display device and manufacturing method of display device | |
JP2003330047A (en) | Optoelectronic device, method for manufacturing the same and electronic equipment | |
JP2013235096A (en) | Display device and manufacturing method of display device | |
JP2007114624A (en) | Particle movement type display device | |
JP2005265921A (en) | Display device and manufacturing method therefor | |
JP2015075517A (en) | Electrophoretic display device and manufacturing method of the same | |
JP2013235022A (en) | Display unit and manufacturing method of display unit | |
JP2011186004A (en) | Electrophoretic display device | |
JP5527227B2 (en) | Electrophoretic display device and electronic apparatus | |
JP2011150112A (en) | Electrophoretic display device | |
US20130271821A1 (en) | Base for electrophoresis display and method of manufacturing the same, and electrophoresis display and method of manufacturing the same |