JP2013219291A - Electronic module - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic module which is provided with a shield structure while achieving low costs and thickness reduction.SOLUTION: An electronic module includes: a first insulation plate member; a conductive pattern and a wiring pattern which are respectively provided on first and second surfaces of the first insulation plate member; an interlayer connection conductor establishing electric continuity between the conductive pattern and the wiring pattern and formed in a thickness direction of the first insulation plate member; an electronic component mounted on the second surface of the first insulation plate member through the wiring pattern; a second insulation plate member positioned on the second surface of the first insulation plate member in a lamination manner so as to bury the electronic component; a metal shield layer member provided on a surface of the second insulation plate member that is opposite to the surface where the first insulation plate member is positioned; and a protection film formed so as to cover the surface of the second insulation plate member which is opposite to the surface where the first insulation plate member is positioned and includes the metal shield layer member. The protection film is formed covering the second insulation plate member so as not to provide a component mounting land region to the metal shield layer member.

Description

本発明は、電子回路をモジュール化した部品である電子モジュールに係り、特に、シールド構造を有する電子モジュールに関する。   The present invention relates to an electronic module which is a component obtained by modularizing an electronic circuit, and more particularly to an electronic module having a shield structure.

電子回路をモジュール化した部品である電子モジュールは、配線基板と、その面上に実装された電子部品とで構成される。近年は、これに加えて、配線基板内に電子部品を埋設した構成も用いられている。配線基板自体の多層化や配線基板への電子部品の埋設により、小型、高機能な電子モジュールが実現されている。   An electronic module, which is a component obtained by modularizing an electronic circuit, includes a wiring board and an electronic component mounted on the surface of the wiring substrate. In recent years, in addition to this, a configuration in which electronic components are embedded in a wiring board is also used. A small and highly functional electronic module is realized by multilayering the wiring board itself and embedding electronic components in the wiring board.

一方、電子モジュールの用途としてシールド構造を要する場合は多々存在する。電子モジュールにシールド構造を作るには、例えば、表面実装された電子部品群に蓋をするように金属のシールドケースを設けるのが一般的である。この場合、その工程の増加によってコストアップする事態や、電子モジュールの厚みが増加して小型化を阻害する事態が避けられないと考えられる。   On the other hand, there are many cases where a shield structure is required for use of an electronic module. In order to make a shield structure in an electronic module, for example, a metal shield case is generally provided so as to cover a surface-mounted electronic component group. In this case, it is considered that a situation in which the cost increases due to an increase in the number of steps and a situation in which the thickness of the electronic module increases to hinder downsizing are unavoidable.

特開2003−197849号公報JP 2003-197849 A

本発明は、電子回路をモジュール化した部品である電子モジュールにおいて、コストアップを抑え、かつ薄型化を図りつつシールド構造を設けることができる電子モジュールを提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electronic module that is a component obtained by modularizing an electronic circuit and can be provided with a shield structure while suppressing an increase in cost and reducing the thickness.

上記の課題を解決するため、本発明の一態様である電子モジュールは、第1の面と該第1の面に対向する第2の面とを有する第1の絶縁板部材と、前記第1の絶縁板部材の前記第1の面上に設けられた導電パターンと、前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に設けられた配線パターンと、前記導電パターンと前記配線パターンとを電気導通させる、前記第1の絶縁板部材の厚み方向に形成された層間接続導体と、前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に前記配線パターンを介して実装された電子部品と、前記電子部品を埋め込むように前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に積層状に位置する第2の絶縁板部材と、前記第2の絶縁板部材の前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上に設けられた金属製シールド層部材と、前記金属製シールド層部材上を含めて前記第2の絶縁板部材の、前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上を覆うように形成された保護膜と、を具備し、前記保護膜が、前記第2の絶縁板部材の前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上に部品実装ランド領域を与えないように、前記金属製シールド層部材上を含めて前記第2の絶縁板部材の前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上を覆っていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, an electronic module according to one embodiment of the present invention includes a first insulating plate member having a first surface and a second surface facing the first surface; A conductive pattern provided on the first surface of the insulating plate member, a wiring pattern provided on the second surface of the first insulating plate member, and the conductive pattern and the wiring pattern. Interlayer connection conductors formed in the thickness direction of the first insulating plate member for electrical conduction, and electronic components mounted on the second surface of the first insulating plate member via the wiring pattern A second insulating plate member positioned in a stacked manner on the second surface of the first insulating plate member so as to embed the electronic component; and the first insulating plate of the second insulating plate member A metal shield layer member provided on the side opposite to the side where the member is located; A protective film formed so as to cover the side of the second insulating plate member including the shield layer member made of the metal, on the side opposite to the side where the first insulating plate member is located, The protective film includes the metal shield layer member so as not to provide a component mounting land region on the side of the second insulating plate member opposite to the side where the first insulating plate member is located. The second insulating plate member covers the side opposite to the side on which the first insulating plate member is located.

この電子モジュールは、第1の絶縁板部材と、その両面上にそれぞれ設けられた導電パターンおよび配線パターンと、導電パターンと配線パターンとを電気導通させる、第1の絶縁板部材の厚み方向に形成された層間接続導体と、第1の絶縁板部材の面上に配線パターンを介して実装された電子部品とで、通常の(=シールド構造のない)電子モジュールとしての構成が実現されている。そして、電子部品を埋め込むように第1の絶縁板部材の面上に積層状に位置する第2の絶縁板部材と、第2の絶縁板部材の第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上に設けられた金属製シールド層部材とで、シールド構造が構成されている。   This electronic module is formed in the thickness direction of the first insulating plate member that electrically connects the first insulating plate member, the conductive pattern and the wiring pattern provided on both surfaces thereof, and the conductive pattern and the wiring pattern, respectively. A configuration as a normal (= no shield structure) electronic module is realized by the interlayer connection conductor and the electronic component mounted on the surface of the first insulating plate member via the wiring pattern. And the second insulating plate member positioned in a stacked manner on the surface of the first insulating plate member so as to embed the electronic component, and the side on which the first insulating plate member of the second insulating plate member is positioned A shield structure is constituted by a metal shield layer member provided on the opposite side.

シールド構造を得るための、第2の絶縁板部材および金属製シールド層部材は、部品内蔵(埋設)構造を実現する工程を流用して第1の絶縁板部材上に設けることが可能である。したがって、金属のシールドケースを設けるようなコストアップを抑えることができる。また、電子部品の実装が、第1の絶縁板部材上の配線パターンへの実装に限られていることも相俟って、電子モジュール全体として薄型化を図ることができる。   The second insulating plate member and the metal shield layer member for obtaining the shield structure can be provided on the first insulating plate member by diverting a process for realizing a component built-in (embedded) structure. Therefore, it is possible to suppress an increase in cost such as providing a metal shield case. In addition, it is possible to reduce the thickness of the electronic module as a whole, due to the fact that mounting of electronic components is limited to mounting on the wiring pattern on the first insulating plate member.

本発明によれば、電子回路をモジュール化した部品である電子モジュールにおいて、コストアップを抑え、かつ薄型化を図りつつシールド構造を設けることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in the electronic module which is a component which modularized the electronic circuit, a shield structure can be provided, suppressing a cost increase and achieving thickness reduction.

本発明の一実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図。1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an electronic module that is an embodiment of the present invention. 図1に示した電子モジュールを製造する過程の一部を模式的断面で示す工程図。Process drawing which shows a part of process of manufacturing the electronic module shown in FIG. 1 with a typical cross section. 別の実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the electronic module which is another embodiment typically. さらに別の実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図。Furthermore, sectional drawing which shows typically the structure of the electronic module which is another embodiment. 図4に示した電子モジュールを製造する過程の一部を模式的断面で示す工程図。Process drawing which shows a part of process in which the electronic module shown in FIG. 4 is manufactured with a typical cross section. さらに別の(第4の)実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the structure of the electronic module which is another (4th) embodiment. 図6に示した電子モジュールを製造する過程の一部を模式的断面で示す工程図。Process drawing which shows a part of process of manufacturing the electronic module shown in FIG. 6 with a typical cross section.

本発明の実施態様として、前記第1の絶縁板部材の厚み方向の中間に1層以上層状に設けられた第2の配線パターンをさらに具備する、とすることができる。このように第1の絶縁板部材を多層配線構造にすれば、電子モジュールとしてより複雑な回路構成のものを提供できる。   As an embodiment of the present invention, it is possible to further include a second wiring pattern provided in a layer form in the middle of the thickness direction of the first insulating plate member. If the first insulating plate member has a multilayer wiring structure as described above, an electronic module having a more complicated circuit configuration can be provided.

また、実施態様として、前記層間接続導体が、前記導電パターンの面と前記第2の配線パターンのうちの前記導電パターンの隣にある第2の配線パターンの面との間、または、相隣り合う前記第2の配線パターンの面どうしの間、または、前記配線パターンの面と前記第2の配線パターンのうちの前記配線パターンの隣にある第2の配線パターンの面との間に、密構造の柱状に形成された導体である、とすることができる。このような層間接続導体は、第1の絶縁板部材の厚み方向に重ねて位置させることも可能であることから、スルーホール内壁面上の層間接続導体(いわゆるスルーホール)より、高密度な配置が可能である。   Further, as an embodiment, the interlayer connection conductor is adjacent to or adjacent to the surface of the conductive pattern and the surface of the second wiring pattern adjacent to the conductive pattern in the second wiring pattern. A dense structure between the surfaces of the second wiring pattern or between the surface of the wiring pattern and the surface of the second wiring pattern adjacent to the wiring pattern in the second wiring pattern. It can be said that it is a conductor formed in the shape of a column. Since such an interlayer connection conductor can be positioned so as to overlap in the thickness direction of the first insulating plate member, it is disposed at a higher density than the interlayer connection conductor (so-called through hole) on the inner wall surface of the through hole. Is possible.

また、実施態様として、前記層間接続導体が、導電性組成物で形成されている、とすることができる。密構造の層間接続導体を形成するために導電性組成物を用いるのは、めっきで形成したバンプを利用する場合と並んで、ひとつの採用し易い選択肢である。   As an embodiment, the interlayer connection conductor can be formed of a conductive composition. The use of a conductive composition to form a dense interlayer connection conductor is an easy-to-use option along with the use of bumps formed by plating.

また、実施態様として、前記層間接続導体が、柱状の軸方向に径の変化する形状である、とすることができる。このような層間接続導導体は、例えば、当初ペースト状に調製された導電性組成物をスクリーン印刷して得たバンプを由来として得ることができる。スクリーン印刷を用いれば、微細で高密度配置の層間接続導体を効率的に形成することができる。   As an embodiment, the interlayer connection conductor may have a columnar shape whose diameter changes in the axial direction. Such an interlayer connection conductor can be obtained, for example, from a bump obtained by screen printing a conductive composition initially prepared in a paste form. By using screen printing, it is possible to efficiently form a fine and densely arranged interlayer connection conductor.

また、実施態様として、前記層間接続導体が、柱状の軸方向に径の変化しない形状である、とすることができる。このような層間接続体は、例えば、当初ペースト状に調製された導電性組成物を第1の絶縁板部材に形成された貫通孔に充填することで得ることができる。第1の絶縁板部材に貫通孔を形成するのは、いわゆるスルーホールを形成する場合にも用いられる工程であり、特に難しさのない工程である。   As an embodiment, the interlayer connection conductor may have a shape that does not change in diameter in the columnar axial direction. Such an interlayer connection body can be obtained, for example, by filling a through-hole formed in the first insulating plate member with a conductive composition initially prepared in a paste form. Forming the through hole in the first insulating plate member is a process that is also used when forming a so-called through hole, and is a process that is not particularly difficult.

また、実施態様として、前記電子部品が、前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に前記配線パターンを介してすずを含むはんだを用い実装されている、とすることができる。すずを含むはんだで電子部品を実装するには、例えば、この電子部品に通常の表面実装技術を適用すればよい。第1の絶縁板部材上で通常の表面実装技術を用いれば効率的な実装が実現する。   As an embodiment, the electronic component can be mounted on the second surface of the first insulating plate member using solder containing tin via the wiring pattern. In order to mount an electronic component with solder containing tin, for example, a normal surface mounting technique may be applied to the electronic component. If a normal surface mounting technique is used on the first insulating plate member, efficient mounting is realized.

また、実施態様として、前記導電パターンが、外部接続端子領域を有する、とすることができる。このようにすれば、この電子モジュールを表面実装用部品として例えば他の配線板に表面実装することができる。これにより、電子モジュールとしての用途が広がる。   As an embodiment, the conductive pattern may have an external connection terminal region. In this way, the electronic module can be surface-mounted as a surface mounting component on, for example, another wiring board. Thereby, the use as an electronic module spreads.

また、実施態様として、前記第2の絶縁板部材が、前記電子部品の領域を避けた領域に補強材を含有している、とすることができる。この第2の絶縁板部材は、電子部品から離間して金属製シールド層部材を設けるためのスペーサと見ることができる。そこでスペーサとしての機能物である第2の絶縁板部材に補強材を含有させれば、さらに、電子モジュールとして機械的強度の高い構造が得られる利点がある。   As an embodiment, the second insulating plate member may include a reinforcing material in a region avoiding the region of the electronic component. The second insulating plate member can be regarded as a spacer for providing a metal shield layer member apart from the electronic component. Therefore, if a reinforcing material is contained in the second insulating plate member, which is a functional product as a spacer, there is an advantage that a structure having high mechanical strength can be obtained as an electronic module.

また、実施態様として、前記第2の絶縁板部材が、前記第1の絶縁板部材の側から第1、第2、第3の3層を有する板部材であり、前記第1の絶縁板部材にもっとも近い第1のサブ板部材および前記第2の絶縁板部材からもっとも遠い第3のサブ板部材は、前記電子部品の領域を避ける開口部を有していない一方、前記第1のサブ板部材と前記第2のサブ板部材との間に位置する第2のサブ板部材は、前記電子部品から離間するように開口部が形成されており、前記電子部品の周りに空隙が生じないように、前記第1のサブ板部材または前記第3のサブ板部材が変形して前記電子部品に密着している、とすることができる。   As an embodiment, the second insulating plate member is a plate member having first, second, and third layers from the first insulating plate member side, and the first insulating plate member The first sub-plate member closest to the third sub-plate member and the third sub-plate member farthest from the second insulating plate member do not have an opening that avoids the area of the electronic component, whereas the first sub-plate The second sub-plate member positioned between the member and the second sub-plate member is formed with an opening so as to be separated from the electronic component, so that no gap is generated around the electronic component. In addition, the first sub-plate member or the third sub-plate member may be deformed and in close contact with the electronic component.

このような第2の絶縁板部材の構造によれば以下の効果がある。すなわち、第2のサブ板部材の厚みを任意に変化させることで、電子部品の高さ方向のサイズに第2の絶縁板部材全体の厚みを合わせることが容易である。したがって、電子部品の厚みに対応しやすくかつ電子モジュールとしても厚みの寸法設定の制御が容易な構造になる。   Such a structure of the second insulating plate member has the following effects. That is, by arbitrarily changing the thickness of the second sub plate member, it is easy to match the thickness of the entire second insulating plate member to the size in the height direction of the electronic component. Therefore, it becomes easy to respond to the thickness of the electronic component, and the thickness of the electronic module can be easily controlled.

また、実施態様として、前記電子部品の領域を避けて前記第2の絶縁板部材の厚み方向の中間に1層以上層状に設けられた第2の導電パターンと、前記第2の導電パターンを介して前記配線パターンと前記金属製シールド層部材とを電気導通させる、前記第2の絶縁板部材の厚み方向に形成された第2の層間接続導体とをさらに具備する、とすることができる。このようにすれば、導電パターン、層間接続導体、および配線パターンを介して、さらに第2の導電パターンおよび第2の層間接続導体を介して、金属製シールド層部材を電気的に固定(電位を固定)する内部構造が容易に得られる。   Further, as an embodiment, a second conductive pattern provided in a layered manner in the middle of the thickness direction of the second insulating plate member, avoiding the area of the electronic component, and the second conductive pattern And further comprising a second interlayer connection conductor formed in the thickness direction of the second insulating plate member for electrically connecting the wiring pattern and the metal shield layer member. In this way, the metal shield layer member is electrically fixed (potential is set via the conductive pattern, the interlayer connection conductor, and the wiring pattern, and further via the second conductive pattern and the second interlayer connection conductor. The internal structure to be fixed is easily obtained.

以上を踏まえ、以下では本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図である。同図に示すように、この電子モジュールは、絶縁層11、12(11、12で第1の絶縁板部材)、補強材入り絶縁層13(第2の絶縁板部材)、導電パターン21、配線パターン22、23、層間接続導体31、32、表面実装型受動素子部品41、42、43、半導体素子部品49(電子部品)、接続部材51、52、53、54(はんだ)、金属製シールド層部材61、はんだレジスト71、72(保護膜)を有する。   Based on the above, embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an electronic module according to an embodiment of the present invention. As shown in the figure, the electronic module includes insulating layers 11 and 12 (first insulating plate member 11 and 12), an insulating layer 13 with reinforcing material (second insulating plate member), a conductive pattern 21, and wiring. Patterns 22 and 23, interlayer connection conductors 31 and 32, surface mount type passive element parts 41, 42 and 43, semiconductor element parts 49 (electronic parts), connection members 51, 52, 53 and 54 (solder), metal shield layers A member 61 and solder resists 71 and 72 (protective film) are provided.

電子モジュールとしての下面の側には導電パターン21が設けられ、この導電パターン21には、外部接続端子21aの領域(はんだレジスト71の形成が抜けた領域)が確保されている。外部接続端子21aは、表面実装用端子であり、例えばはんだを用いてこの電子モジュールを他の配線板に表面実装するときに用いられる。表面実装用端子を設けることにより、この電子モジュールは表面実装用部品と同様に扱うことができる。   A conductive pattern 21 is provided on the lower surface side of the electronic module, and a region of the external connection terminal 21a (a region where the solder resist 71 is not formed) is secured in the conductive pattern 21. The external connection terminal 21a is a surface mounting terminal, and is used when the electronic module is surface mounted on another wiring board using, for example, solder. By providing the surface mounting terminals, the electronic module can be handled in the same manner as the surface mounting components.

電気的な意味では、補強材入り絶縁層13、金属製シールド層部材61、およびはんだレジスト72を除いた部分、すなわち、表面実装型受動素子部品41、42、43、および半導体素子部品49から下の部分が通常の電子モジュールの構成部分であり、補強材入り絶縁層13および金属製シールド層部材61は、この通常の部分にシールド構造を付加するための構成物である。補強材入り絶縁層13は、金属製シールド層部材61を設けるためのスペーサとして機能していると言える。   In terms of electrical meaning, a portion excluding the insulating layer 13 with a reinforcing material, the metal shield layer member 61, and the solder resist 72, that is, the surface mount type passive element components 41, 42, 43, and the semiconductor element component 49 below. This part is a constituent part of a normal electronic module, and the insulating layer 13 with reinforcing material and the metal shield layer member 61 are constituents for adding a shield structure to the normal part. It can be said that the insulating layer 13 with the reinforcing material functions as a spacer for providing the metal shield layer member 61.

補強材入り絶縁層13には、表面実装型受動素子部品41、42、43、および半導体素子部品49の領域を避けた領域に補強材13a(例えばガラスクロスなど)を含有させている。このように本来はスペーサである絶縁層13に補強材13aを含有させれば、電子モジュールとして機械的強度のより高い構造を得ることにも寄与できる。特に、絶縁層11、12の部分(第1の絶縁板部材)は、回路形成に必要な仕様に応じた結果として非常に薄く構成できる場合もあるため、その場合にスペーサである絶縁層13に補強材13aを含有させられるのは、機能を補完でき非常に都合がよい。なお、図示はないが、通常の絶縁板部材と同様に、絶縁層11、12に補強材を含有させることができるのは言うまでもない。   The insulating layer 13 with the reinforcing material contains a reinforcing material 13a (for example, glass cloth) in a region that avoids the regions of the surface-mounted passive element components 41, 42, and 43 and the semiconductor element component 49. Thus, if the reinforcing material 13a is contained in the insulating layer 13 which is originally a spacer, it can contribute to obtaining a structure having higher mechanical strength as an electronic module. In particular, the insulating layers 11 and 12 (first insulating plate member) may be very thin as a result of the specifications required for circuit formation. The inclusion of the reinforcing material 13a is very convenient because it can complement the function. Although not shown, it goes without saying that a reinforcing material can be contained in the insulating layers 11 and 12 as in the case of a normal insulating plate member.

また、電子モジュールとしての上面の側には金属製シールド層部材61(例えばCu製)が設けられ、この金属製シールド層部材61上には、補強材入り絶縁層13(第2の絶縁板部材)上をも覆うようにはんだレジスト72が形成されている。これにより、金属製シールド層部材61が気中に曝されて長期的に腐食、劣化するのを防止している。このため、図示のように、金属製シールド層部材61の端面も覆うようにはんだレジスト72の層は形成されている。   Further, a metal shield layer member 61 (for example, made of Cu) is provided on the upper surface side as the electronic module. On the metal shield layer member 61, a reinforcing material-containing insulating layer 13 (second insulating plate member). ) A solder resist 72 is formed so as to cover the top. This prevents the metal shield layer member 61 from being exposed to the air and corroding and deteriorating over the long term. For this reason, as shown in the figure, the layer of the solder resist 72 is formed so as to cover the end face of the metallic shield layer member 61.

なお、はんだレジスト72は、金属製シールド層部材61との関係として、金属製シールド層部材61に部品実装ランド領域を与えないように金属製シールド層部材61上を覆って形成されている。また、はんだレジスト72は、さらに、補強材入り絶縁層13上のほかの領域にも部品実装ランド領域を与えないように、金属製シールド層部材61上を含めて補強材入り絶縁層13上を覆っている。金属製シールド層部材61は導電性であるものの、この電子モジュールでは、これを配線を行うためのパターンとして一切機能させない。すなわち、必要な部品は、すべて補強材入り絶縁層13に埋設されるように位置させ、これにより、シールド構造を有する電子モジュールとしてきわめて薄型化が実現されている。   The solder resist 72 is formed so as to cover the metal shield layer member 61 so as not to give a component mounting land area to the metal shield layer member 61 in relation to the metal shield layer member 61. Further, the solder resist 72 further covers the reinforcing material-containing insulating layer 13 including the metal shield layer member 61 so as not to give a component mounting land region to other regions on the reinforcing material-containing insulating layer 13. Covering. Although the metal shield layer member 61 is conductive, this electronic module does not function as a pattern for wiring. In other words, all necessary components are positioned so as to be embedded in the insulating layer 13 with the reinforcing material, thereby realizing a very thin electronic module having a shield structure.

金属製シールド層部材61には、配線パターン22、23よりも厚さの厚い素材を用いるようにしてもよい(例えば厚さ35μmや70μm)。このようにすれば、スティフナーとしても機能し、やはり、電子モジュールとしてより機械的強度を高くすることに寄与できる。さらには、電子モジュールとしての反りの軽減にも寄与できる。   A material thicker than the wiring patterns 22 and 23 may be used for the metal shield layer member 61 (for example, a thickness of 35 μm or 70 μm). If it does in this way, it will function also as a stiffener, and can contribute to making mechanical strength higher still as an electronic module. Furthermore, it can contribute to the reduction of warpage as an electronic module.

金属製シールド層部材61を電気的に固定(電位を固定)するための構成としては、図示していないが、この層部材61の一部に導線や導電部材を接続する領域を設けることが考えられる。このように一部設けられた領域には、当然ながらはんだレジスト72の層を形成しないので、腐食防止のため、その露出面上には、例えばNi/Auめっきの層を形成しておく。   Although not shown in the figure, the metal shield layer member 61 is electrically fixed (potential fixed), but it is conceivable to provide a region for connecting a conductor or a conductive member in a part of the layer member 61. It is done. Since the layer of the solder resist 72 is naturally not formed in the part of the region thus provided, for example, a Ni / Au plating layer is formed on the exposed surface in order to prevent corrosion.

絶縁層11、12には、例えばエポキシ樹脂のようなリジッドな有機材料を用いることができる(厚さはそれぞれ例えば60μm)。すでに述べたように、機械的強化のためガラスクロスを含有させたものでもよい。補強材入り絶縁層13も同様に、例えばガラスエポキシ樹脂のようなリジッドな有機材料を用いることができる。その全厚(部品41〜43、49を加味した厚さ)は、部品41〜43、49の実装に要している最大厚みを考慮してそれより厚く、例えば0.5mm程度とすることができる。   For the insulating layers 11 and 12, a rigid organic material such as an epoxy resin can be used (thickness is 60 μm, for example). As already mentioned, glass cloth may be included for mechanical strengthening. Similarly, a rigid organic material such as glass epoxy resin can be used for the insulating layer 13 with a reinforcing material. The total thickness (thickness including the components 41 to 43, 49) is thicker than that in consideration of the maximum thickness required for mounting the components 41 to 43, 49, for example, about 0.5 mm. it can.

補強材入り絶縁層13は、部品41〜43、49を埋め込むように絶縁層12上に積層状に位置しているが、この補強材入り絶縁層13は、部品41〜43、49との間に空隙が生じないようにもとの形状から変形させ形成した層である。これは、部品内蔵配線板を製造するための部品内蔵(埋設)構造を実現する工程の流用によっている。詳しくは後述する(図2)。   The insulating layer 13 with the reinforcing material is positioned on the insulating layer 12 so as to embed the components 41 to 43 and 49. The insulating layer 13 with the reinforcing material is interposed between the components 41 to 43 and 49. It is a layer formed by deforming from its original shape so that no voids are formed in it. This is due to diversion of the process for realizing the component built-in (embedded) structure for manufacturing the component built-in wiring board. Details will be described later (FIG. 2).

導電パターン21、および配線パターン22、23は、厚さ例えば18μmの銅箔を素材として、これを周知のフォトリソグラフィ工程を用いて所定にパターニングして得ることができる。金属製シールド層部材61もこの電子モジュールでは銅製としているので、同様に周知のフォトリソグラフィ工程を用いて不必要部位(周縁)を除去するパターニングで得ることができる。金属製シールド層部材61として銅以外の素材(例えば鉄を含んだ金属)を用いることももちろん可能である。その場合にも、その金属種に応じたエッチャントを用いれば所定にパターニングできる。   The conductive pattern 21 and the wiring patterns 22 and 23 can be obtained by using a copper foil having a thickness of 18 μm, for example, as a material and patterning the same using a known photolithography process. Since the metal shield layer member 61 is also made of copper in this electronic module, it can also be obtained by patterning that removes unnecessary portions (periphery) using a well-known photolithography process. Of course, a material other than copper (for example, a metal containing iron) can be used as the metal shield layer member 61. Even in that case, patterning can be performed in a predetermined manner by using an etchant corresponding to the metal species.

層間接続導体31、32は、導電性組成物(例えば銀ペーストと呼ばれるペースト状の組成物)をスクリーン印刷して形成されたバンプを由来として得ることができる。周知なので詳細は端折るが、一通り述べると、金属箔上(またはパターニング後の配線(導電)パターン上)、スクリーン印刷で得られたバンプを乾燥、硬化させ、これを絶縁層11(あるいは12)の前駆体である半硬化状態のプリプレグ層に加圧下で貫通させその状態でプリプレグ層を熱硬化させる。これにより、絶縁層11(あるいは12)を貫通した状態の層間接続導体31(あるいは32)が得られる。   The interlayer connection conductors 31 and 32 can be obtained from bumps formed by screen-printing a conductive composition (for example, a paste-like composition called silver paste). Since it is well known, the details will be broken. However, generally speaking, bumps obtained by screen printing on a metal foil (or on a patterned wiring (conductive) pattern) and screen printing are dried and cured, and the insulating layer 11 (or 12). The prepreg layer in a semi-cured state which is a precursor of) is penetrated under pressure, and the prepreg layer is thermally cured in that state. Thereby, the interlayer connection conductor 31 (or 32) in a state of penetrating the insulating layer 11 (or 12) is obtained.

層間接続導体31、32は、当初のバンプ形状に由来して、図示のように柱状の密構造で、軸方向に径の変化する形状になる。スクリーン印刷を用いて形成するので、微細で高密度配置の層間接続導体31、32を効率的に形成することができる。   The interlayer connection conductors 31 and 32 are derived from the initial bump shape, and have a columnar dense structure as shown in the figure and have a shape whose diameter changes in the axial direction. Since it is formed using screen printing, the interlayer connection conductors 31 and 32 having fine and high-density arrangement can be efficiently formed.

この実施形態では、第1の絶縁板部材である絶縁層11、12の厚み方向の中間に配線パターン22が設けて多層化している。よって、電子モジュールとしてより複雑な回路構成のものを構成できる。そして、層間接続構造に関しては、導電パターン21の面とその隣の配線パターン22の面との間に層間接続導体31が設けられ、配線パターン22の面とその隣の配線パターン23の面との間に層間接続導体32が設けられている。   In this embodiment, the wiring pattern 22 is provided in the middle in the thickness direction of the insulating layers 11 and 12 that are the first insulating plate members to be multilayered. Therefore, an electronic module having a more complicated circuit configuration can be configured. As for the interlayer connection structure, an interlayer connection conductor 31 is provided between the surface of the conductive pattern 21 and the surface of the adjacent wiring pattern 22, and the surface of the wiring pattern 22 and the surface of the adjacent wiring pattern 23 are connected. An interlayer connection conductor 32 is provided therebetween.

層間接続導体31、32は、配線パターン(導電パターン)の面間に柱状に形成させた導体なので、第1の絶縁板部材である絶縁層11、12の厚み方向に重ねて位置させることも可能である。これにより、スルーホール内壁面上の層間接続導体(いわゆるスルーホール)より高密度に配置できる。第1の絶縁板部材はさらに多層配線化することもでき、その場合も、同様の層間接続導体を相隣り合う中間層の配線パターンの面どうしの間に設けることができる。   Since the interlayer connection conductors 31 and 32 are conductors formed in a columnar shape between the surfaces of the wiring pattern (conductive pattern), the interlayer connection conductors 31 and 32 can be positioned in the thickness direction of the insulating layers 11 and 12 as the first insulating plate members. It is. Thereby, it can arrange | position more densely than the interlayer connection conductor (what is called a through hole) on the inner wall surface of a through hole. The first insulating plate member can be further formed into a multilayer wiring, and in this case, the same interlayer connection conductor can be provided between the surfaces of the wiring patterns of the adjacent intermediate layers.

密構造の層間接続導体31、32を形成するために導電性組成物を用いるのは、めっきで形成したバンプを利用する場合と並んで、ひとつの採用し易い選択肢である。   The use of a conductive composition to form the dense interlayer connection conductors 31 and 32 is an easy-to-use option along with the use of bumps formed by plating.

表面実装型受動素子部品41〜43は、例えば、チップキャパシタ、チップ抵抗、チップインダクタなどの部品である。ほぼ直方体の形状を有し、その端面上を含めてそれに連なる上下面の一部(場合により両側面の一部も)が両端子電極になっている。そして、両端子電極の下側の面が配線パターン23が有する部品実装用ランドに対向する姿勢で、絶縁層12の面上に接続部材51、52、54を用いて実装されている。   The surface mounted passive element components 41 to 43 are components such as a chip capacitor, a chip resistor, and a chip inductor, for example. It has a substantially rectangular parallelepiped shape, and a part of upper and lower surfaces (including a part of both side surfaces in some cases) including the end surface thereof are both terminal electrodes. And it mounts using the connection members 51, 52, and 54 on the surface of the insulating layer 12 in the attitude | position which the lower surface of both terminal electrodes opposes the component mounting land which the wiring pattern 23 has.

半導体素子部品49は、例えば、その面上に例えばグリッド状に配置された表面実装用端子を有している、半導体チップを備えた電子部品である。表面実装用端子を有することで、表面実装型受動素子部品41〜43と同様の表面実装技術で配線パターン23上に接続部材53で実装することができ、その製造効率やコストは他のフリップ接続構造の場合より断然有利である。   The semiconductor element component 49 is an electronic component including a semiconductor chip having, for example, surface mounting terminals arranged on the surface thereof in a grid shape, for example. By having a surface mounting terminal, it can be mounted on the wiring pattern 23 by the connection member 53 by the surface mounting technology similar to the surface mounting type passive element components 41 to 43, and its manufacturing efficiency and cost are other flip connection. This is far more advantageous than the structure.

上記の部品41〜43、49を配線パターン23上に電気的、機械的に接続している接続部材51〜54には、ここでははんだを採用している。はんだとしては、例えば、すずを含有した鉛フリーはんだをはじめとする各種のはんだを利用することができる。はんだを利用すると、そのリフロー工程により表面実装の生産効率は非常に高い。なお、はんだに代えて導電性接着剤を採用することも可能である。半導体素子部品49を実装しているはんだ53については、ほかの周知のフリップ接続構造に代えることももちろんできる。   Here, solder is employed for the connection members 51 to 54 that electrically and mechanically connect the components 41 to 43 and 49 to the wiring pattern 23. As the solder, for example, various solders including lead-free solder containing tin can be used. If solder is used, the surface mounting production efficiency is very high due to the reflow process. It is also possible to employ a conductive adhesive instead of solder. Of course, the solder 53 on which the semiconductor element component 49 is mounted can be replaced with another known flip connection structure.

図2は、図1に示した電子モジュールを製造する過程の一部を模式的断面で示す工程図である。図2において、図1中に示したものと同一または同一相当のものには同一符号を付してある。この工程は、シールド構造を設けるための、最終工程に近いひとつの工程(=積層工程)である。   FIG. 2 is a process diagram schematically showing a part of a process of manufacturing the electronic module shown in FIG. In FIG. 2, the same or equivalent parts as shown in FIG. This process is one process (= stacking process) close to the final process for providing the shield structure.

図2中に示す下側の部材は、通常の電子モジュールの構成として見ることができる。ただし、この段階では、導電パターン21にパターニング加工される前の金属箔(銅箔)21Aが設けられている。はんだレジスト71もまだ形成されていない。なお、配線パターン23が設けられた側上には、この後補強材入り絶縁層13が密着するので、はんだレジストの層は設けられていなくてもよい。   The lower member shown in FIG. 2 can be viewed as a configuration of a normal electronic module. However, at this stage, a metal foil (copper foil) 21 </ b> A before patterning is provided on the conductive pattern 21. The solder resist 71 is not yet formed. Since the insulating layer 13 with the reinforcing material is in close contact with the side on which the wiring pattern 23 is provided, the solder resist layer may not be provided.

図2中に示す上側の部材は、下側に示す部材にシールド構造を与えるための部材である。その構造として、下側から、補強材入りプリプレグ層131A、132A、133A、134Aが積層され、さらに、プリプレグ層134Aの上に金属製シールド層部材61とすべき銅箔(または銅板;以下同)61Aが積層されたものである。4層のプリプレグ層のうちプリプレグ層131A、132A、133Aには、部品41〜43、49の位置に対応して、部品用開口部13o1、13o2が形成されている。   The upper member shown in FIG. 2 is a member for providing a shield structure to the lower member. As the structure, a prepreg layer 131A, 132A, 133A, 134A containing a reinforcing material is laminated from below, and a copper foil (or copper plate; hereinafter the same) to be the metal shield layer member 61 on the prepreg layer 134A. 61A is laminated. In the prepreg layers 131A, 132A, and 133A among the four prepreg layers, component openings 13o1 and 13o2 are formed corresponding to the positions of the components 41 to 43 and 49, respectively.

部品用開口部13o1、13o2は、例えば、この開口部が形成される前に3層として積層された補強材入りプリプレグ層131A、132A、133Aに対して加工を行い形成する。ここで、部品用開口部13o1、13o2は、図示するように部品の配置密度が高い領域では複数の部品41、42、49に共通するものとして形成してもよい。その後、加工された積層物に、補強材入りプリプレグ層134Aと銅箔61Aとの積層物を積層して、図示上側の部材とすることができる。なお、補強材入りプリプレグ層131A、132A、133A、134Aそれぞれの厚さやその積層数は、部品41〜43、49の実装高さに応じて不足ないように適宜決定することができる。   The component openings 13o1 and 13o2 are formed by, for example, processing the reinforcing prepreg layers 131A, 132A, and 133A laminated as three layers before the openings are formed. Here, the component openings 13o1 and 13o2 may be formed so as to be common to the plurality of components 41, 42, and 49 in a region where the component arrangement density is high as illustrated. Thereafter, a laminate of the reinforcing material-containing prepreg layer 134A and the copper foil 61A can be laminated on the processed laminate to form a member on the upper side in the figure. It should be noted that the thicknesses of the reinforcing material-containing prepreg layers 131A, 132A, 133A, and 134A and the number of stacked layers can be appropriately determined according to the mounting height of the components 41 to 43 and 49.

図2に示すような配置で加熱、加圧下の積層工程を行うと、プリプレグ層131A、132A、133A、134Aが熱で流動性を得て変形し、部品41〜43、49周りに空隙が生じないようにこれらの部品41〜43、49に密着しつつ熱硬化する。これにより、図1に示したように、スペーサとして機能する補強材入り絶縁層13が形成される。   When the lamination process under heating and pressurization is performed in the arrangement as shown in FIG. 2, the prepreg layers 131A, 132A, 133A, and 134A are deformed by obtaining fluidity by heat, and voids are generated around the parts 41 to 43 and 49. It is thermoset while being in close contact with these components 41 to 43, 49 so as not to exist. Thereby, as shown in FIG. 1, the insulating layer 13 with a reinforcing material which functions as a spacer is formed.

図2に示す積層工程の後、金属箔21Aおよび銅箔61Aを所定にパターニングし、さらにはんだレジスト71、72の形成を行うことで、図1に示したような電子モジュールが得られる。   After the lamination process shown in FIG. 2, the metal foil 21A and the copper foil 61A are patterned in a predetermined manner, and further, the solder resists 71 and 72 are formed, whereby the electronic module as shown in FIG. 1 is obtained.

以上説明のように、この電子モジュールは、第1の絶縁板部材(絶縁層11、12)と、その両面上にそれぞれ設けられた導電パターン21および配線パターン23と、導電パターン21と配線パターン23とを電気導通させる、第1の絶縁板部材の厚み方向に形成された層間接続導体31、32と、第1の絶縁板部材の面上に配線パターン23を介して実装された電子部品(半導体素子部品49)などとで、通常の(=シールド構造のない)電子モジュールとしての構成が実現されている。そして、電子部品を埋め込むように第1の絶縁板部材の面上に積層状に位置する第2の絶縁板部材(補強材入り絶縁層13)と、第2の絶縁板部材の第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上に設けられた金属製シールド層部材61とで、シールド構造が構成されている。   As described above, this electronic module includes the first insulating plate member (insulating layers 11 and 12), the conductive pattern 21 and the wiring pattern 23 provided on both surfaces thereof, the conductive pattern 21 and the wiring pattern 23, respectively. Between the interlayer connecting conductors 31 and 32 formed in the thickness direction of the first insulating plate member and an electronic component (semiconductor) mounted on the surface of the first insulating plate member via the wiring pattern 23 A configuration as a normal (= no shield structure) electronic module is realized with the element parts 49) and the like. Then, a second insulating plate member (insulating layer 13 with a reinforcing material) positioned in a stacked manner on the surface of the first insulating plate member so as to embed the electronic component, and the first insulation of the second insulating plate member The shield structure is configured by the metal shield layer member 61 provided on the side opposite to the side on which the plate member is located.

シールド構造を得るための、第2の絶縁板部材(補強材入り絶縁層13)および金属製シールド層部材61は、部品内蔵(埋設)構造を実現する工程を流用して第1の絶縁板部材上に設けることが可能である。したがって、金属のシールドケースを設けるようなコストアップを抑えることができる。また、電子部品の実装が、第1の絶縁板部材上の配線パターン23への実装に限られていることも相俟って、電子モジュール全体としてきわめて薄型化を図ることができる。さらにこのシールド構造は、金属製シールド層部材61とシールドされる部品41〜43、49との間が、空間ではなく絶縁層13で満たされているので、堅牢なシールド構造である。   In order to obtain the shield structure, the second insulating plate member (insulating layer 13 with reinforcing material) and the metal shield layer member 61 use the first insulating plate member by diverting the process of realizing the component built-in (embedded) structure. It can be provided on. Therefore, it is possible to suppress an increase in cost such as providing a metal shield case. In addition, the mounting of electronic components is limited to mounting on the wiring pattern 23 on the first insulating plate member, so that the entire electronic module can be made extremely thin. Further, this shield structure is a robust shield structure because the space between the metal shield layer member 61 and the shielded parts 41 to 43, 49 is filled with the insulating layer 13 instead of the space.

次に、図3は、別の実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図である。同図において図1中に示したものと同一または同一相当のものには同一符号を付してある。その部分については、追加説明する事項がない限り説明を省略する。   Next, FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an electronic module according to another embodiment. In the figure, the same or equivalent parts as those shown in FIG. The description of the portion is omitted unless there is an additional description.

この実施形態は、導電性組成物をスクリーン印刷して形成されたバンプを由来とする層間接続導体31、32に代えて、導電性組成物の貫通孔に充填して形成した層間接続導体31A、32Aを採用したものである。ほかの点は図1に示したものと同様である。   In this embodiment, instead of the interlayer connection conductors 31 and 32 derived from bumps formed by screen printing the conductive composition, an interlayer connection conductor 31A formed by filling the through holes of the conductive composition, 32A is adopted. The other points are the same as those shown in FIG.

このような層間接続導体31A、32Aも、層間接続導体31、32と同様に、配線パターン22、23、導電パターン21の面間に、密構造の柱状に形成された導体になっている。よって、厚み方向に重ねて位置させることも可能であることから、スルーホール内壁面上の層間接続導体(いわゆるスルーホール)より、高密度な配置が可能である。   Similar to the interlayer connection conductors 31 and 32, the interlayer connection conductors 31A and 32A are also conductors formed in a dense columnar shape between the surfaces of the wiring patterns 22 and 23 and the conductive pattern 21. Therefore, since it can be positioned in the thickness direction, it can be arranged at a higher density than the interlayer connection conductor (so-called through hole) on the inner wall surface of the through hole.

層間接続導体31A、32Aは、その形成過程に依拠して、柱状の軸方向に径の変化しない形状になる。すなわち、このような層間接続体31A、32Aは、それぞれ、例えば、当初ペースト状に調製された導電性組成物を絶縁層11、12とすべきプリプレグ層に形成された貫通孔に充填することで得ることができる。プリプレグ層に貫通孔を形成するのは、いわゆるスルーホールを形成する場合にも用いられる工程であり、特に難しさのない工程である。   The interlayer connection conductors 31A and 32A have a shape in which the diameter does not change in the columnar axial direction depending on the formation process. That is, such interlayer connection bodies 31A and 32A are filled with through-holes formed in the prepreg layers to be the insulating layers 11 and 12, for example, with the conductive composition initially prepared in a paste form. Can be obtained. Forming the through hole in the prepreg layer is a process that is also used when forming a so-called through hole, and is a process that is not particularly difficult.

次に、図4は、さらに別の実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図である。同図においてすでに説明した図中に示したものと同一または同一相当のものには同一符号を付してある。その部分については、追加説明する事項がない限り説明を省略する。   Next, FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an electronic module which is still another embodiment. In the figure, the same or equivalent parts as those shown in the already described figures are denoted by the same reference numerals. The description of the portion is omitted unless there is an additional description.

この実施形態は、図1に示したものと比較すると、補強材入り絶縁層13に代えて、補強材を含まずに構成された絶縁層13rを採用した点が異なる。ほかの点は、図1に示したものと同様である。このような構成は、当然ながら、図1、図2に示した実施形態において、補強材入りプリプレグ層131A、132A、133A、134Aの代わりに、それぞれ補強材のない構成のプリプレグ層を用いれば得ることができる。   This embodiment is different from the one shown in FIG. 1 in that an insulating layer 13r configured without including a reinforcing material is used instead of the insulating layer 13 containing a reinforcing material. Other points are the same as those shown in FIG. Naturally, such a configuration can be obtained by using a prepreg layer without a reinforcing material in place of the prepreg layers 131A, 132A, 133A, and 134A containing the reinforcing material in the embodiment shown in FIGS. be able to.

ただし、このような製造方法のほかに、以下の製造過程で得ることもできる。これを図5を参照して説明する。図5は、図4に示した電子モジュールを製造する過程の一部を模式的断面で示す工程図であり、図2に示した段階に相当する積層段階を示している。図5において、図4中に示したものと同一または同一相当のものには同一符号を付してある。   However, in addition to such a manufacturing method, it can also be obtained by the following manufacturing process. This will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a process diagram schematically showing a part of the process of manufacturing the electronic module shown in FIG. 4 in a cross section, and shows a stacking stage corresponding to the stage shown in FIG. In FIG. 5, the same or equivalent parts as those shown in FIG.

図示するように、この積層段階では、絶縁層13rとすべき、開口部の何ら形成されていないプリプレグ層13rAを用いる。図5に示すような配置で加熱、加圧下の積層工程を行うと、プリプレグ層13rAが熱で流動性を得て変形し、部品41〜43、49周りに空隙が生じないようにこれらの部品41〜43、49に密着しつつ熱硬化する。これにより、図4に示したように、スペーサとして機能する絶縁層13rが形成される。   As shown in the drawing, in this stacking stage, a prepreg layer 13rA that is not formed with any openings and is to be used as the insulating layer 13r is used. When the lamination process under heating and pressurization is performed in the arrangement as shown in FIG. 5, the prepreg layer 13rA is deformed by obtaining fluidity by heat, so that no voids are generated around the parts 41 to 43, 49. It thermosets in close contact with 41-43, 49. Thereby, as shown in FIG. 4, the insulating layer 13r functioning as a spacer is formed.

この実施形態では、絶縁層13rとすべきプリプレグ層13rAにあえてガラスクロスなどの補強材を含有させていないで、図5に示すような積層工程を行っても補強材と部品41〜42、49とが干渉し合うことがない。したがって、上記のように開口部を設けることなく積層工程に供することができる。なお、図1に示した構成と図4に示した構成との中間的位置づけのものとして、補強材入りプリプレグ層134Aの部分は残し、その下側に開口部がなくかつ補強材もないプリプレグ層を積層したものを、プリプレグ層13rAの代わりに用いる態様も考えられる。補強材入りプリプレグ層134Aに限っては、もともと開口部が形成されず、よってその補強材が除去される領域も存在しないことに依拠する。   In this embodiment, the reinforcing material such as glass cloth is not included in the prepreg layer 13rA to be the insulating layer 13r, and the reinforcing material and the components 41 to 42, 49 even if the lamination process as shown in FIG. Does not interfere with each other. Therefore, it can use for a lamination process, without providing an opening part as mentioned above. As an intermediate position between the configuration shown in FIG. 1 and the configuration shown in FIG. 4, the prepreg layer 134A containing the reinforcing material is left, and there is no opening and no reinforcing material below the reinforcing prepreg layer 134A. It is also conceivable to use a laminate of the prepreg layer 13rA instead of the prepreg layer. Only the prepreg layer 134A containing a reinforcing material relies on the fact that no opening is originally formed, and therefore there is no region where the reinforcing material is removed.

次に、さらに別の実施形態について図6を参照して説明する。図6は、さらに別の(第4の)実施形態である電子モジュールの構成を模式的に示す断面図である。同図においてすでに説明した図中に示したものと同一または同一相当のものには同一符号を付してある。その部分については、追加説明する事項がない限り説明を省略する。   Next, still another embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of an electronic module which is still another (fourth) embodiment. In the figure, the same or equivalent parts as those shown in the already described figures are denoted by the same reference numerals. The description of the portion is omitted unless there is an additional description.

この実施形態は、図1等に示したものと比較して、金属製シールド層部材61の電位を固定する内部構造をさらに設けるようにした点が異なる。このために、導電パターン24、25、26、27と、層間接続導体33、34、35、36、37とを付加的に設けている。また、これらの導電パターン24〜27および層間接続導体33〜37を設けるために、絶縁層13に代えて、積層された絶縁層14、15、16、17、18を設けている。図示していないが、絶縁層14〜18には、それぞれ補強材を含有させるようにしてもよい。   This embodiment is different from that shown in FIG. 1 and the like in that an internal structure for fixing the potential of the metallic shield layer member 61 is further provided. For this purpose, conductive patterns 24, 25, 26, and 27 and interlayer connection conductors 33, 34, 35, 36, and 37 are additionally provided. In addition, in order to provide the conductive patterns 24 to 27 and the interlayer connection conductors 33 to 37, laminated insulating layers 14, 15, 16, 17, and 18 are provided in place of the insulating layer 13. Although not shown, each of the insulating layers 14 to 18 may contain a reinforcing material.

図6に示すような構成にすれば、導電パターン21、層間接続導体31、32、および配線パターン22、23を介して、さらに導電パターン24〜27および層間接続導体33〜37を介して、金属製シールド層部材61を電気的に固定(電位を固定)する内部構造が容易に得られる。なお、以下では、説明の便宜上、絶縁層14を第1のサブ板部材、絶縁層15、16、17を第2のサブ板部材、絶縁層18を第3のサブ板部材と呼ぶ。   With the configuration shown in FIG. 6, the metal is connected via the conductive pattern 21, the interlayer connection conductors 31 and 32, and the wiring patterns 22 and 23, and further via the conductive patterns 24 to 27 and the interlayer connection conductors 33 to 37. An internal structure for electrically fixing the shield layer member 61 (fixing the potential) can be easily obtained. Hereinafter, for convenience of explanation, the insulating layer 14 is referred to as a first sub-plate member, the insulating layers 15, 16, and 17 are referred to as a second sub-plate member, and the insulating layer 18 is referred to as a third sub-plate member.

導電パターン24〜27は、導電パターン21や配線パターン22、23と同様に、例えば18μmの銅箔を素材として、これを周知のフォトリソグラフィ工程を用いて所定にパターニングして得ることができる。層間接続導体33〜37は、層間接続導体31、32と同様に、導電性組成物をスクリーン印刷して形成されたバンプを由来として得ることができる。   Similarly to the conductive pattern 21 and the wiring patterns 22 and 23, the conductive patterns 24 to 27 can be obtained by, for example, using 18 μm copper foil as a material and patterning the same using a known photolithography process. Similar to the interlayer connection conductors 31 and 32, the interlayer connection conductors 33 to 37 can be obtained from bumps formed by screen printing the conductive composition.

図7は、図6に示した電子モジュールを製造する過程の一部を模式的断面で示す工程図であり、図2や図5に示した段階に相当する積層段階を示している。図7において、図6中に示したものと同一または同一相当のものには同一符号を付してある。   FIG. 7 is a process view schematically showing a part of the process of manufacturing the electronic module shown in FIG. 6 in a cross section, and shows a stacking stage corresponding to the stage shown in FIGS. In FIG. 7, the same or equivalent parts as those shown in FIG.

図7中のもっとも下側に示した部材は、図2中の下側に示したものとほぼ同一の構成であり、ほぼ通常の電子モジュールの構成として見ることができる。図7中の中間に示した部材は、すでに熱硬化済みの積層された絶縁層15、16、17(第2のサブ板部材)の下側に、絶縁層14(第1のサブ板部材)とすべきプリプレグ層14Aが積層されたものである。そして、これらの絶縁層15〜17およびプリプレグ層14Aには、部品42、43、49の位置に対応して、部品用開口部13o1、13o2が形成されている。なお、導電パターン24〜27や層間接続導体33〜37の形成については、それぞれ、導電パターン21、配線パターン22、23や、層間接続導体31、32と同じく周知なので詳細は端折る。   The member shown on the lowermost side in FIG. 7 has substantially the same configuration as that shown on the lower side in FIG. 2, and can be viewed as a configuration of an ordinary electronic module. The member shown in the middle of FIG. 7 is the insulating layer 14 (first sub-plate member) below the laminated insulating layers 15, 16, 17 (second sub-plate member) that have already been heat-cured. A prepreg layer 14A to be formed is laminated. In the insulating layers 15 to 17 and the prepreg layer 14A, component openings 13o1 and 13o2 are formed corresponding to the positions of the components 42, 43, and 49. The formation of the conductive patterns 24 to 27 and the interlayer connection conductors 33 to 37 is well known as the conductive pattern 21, the wiring patterns 22 and 23, and the interlayer connection conductors 31 and 32.

図7中のもっとも上側に示した部材は、絶縁層18(第3のサブ板部材)とすべきプリプレグ層18A上に金属製シールド層部材61とすべき銅箔61Aが積層されたものである。プリプレグ層18Aには、さらに、層間接続導体37が貫通、形成されている。層間接続導体37の形成については、層間接続導体31、32と同じく周知なので詳細は端折る。   The uppermost member in FIG. 7 is obtained by laminating a copper foil 61A to be a metal shield layer member 61 on a prepreg layer 18A to be an insulating layer 18 (third sub-plate member). . Further, an interlayer connection conductor 37 is formed through the prepreg layer 18A. The formation of the interlayer connection conductor 37 is well known in the same manner as the interlayer connection conductors 31 and 32, and the details will be omitted.

図7に示すような配置で加熱、加圧下の積層工程を行うと、プリプレグ層14A、18Aが熱で流動性を得て変形し、部品42、43、49周りに空隙が生じないように(つまり絶縁層16〜17の開口部に入り込むように)これらの部品42、43、49に密着しつつ熱硬化する。これにより、図6に示したように、スペーサとして機能する、積層された絶縁層14、15、16、17、18が形成される。積層された絶縁層14〜18は、また同時に、金属製シールド層部材61の電位を固定するための、導電パターン24〜27および層間接続導体33〜37の具有をサポートしている。   When the lamination process under heating and pressurization is performed in the arrangement as shown in FIG. 7, the prepreg layers 14A and 18A are deformed by obtaining fluidity by heat, so that no voids are generated around the parts 42, 43, and 49 ( That is, it is thermally cured while closely contacting these components 42, 43, 49 (so as to enter the openings of the insulating layers 16-17). As a result, as shown in FIG. 6, stacked insulating layers 14, 15, 16, 17, and 18 that function as spacers are formed. The laminated insulating layers 14 to 18 simultaneously support the conductive patterns 24 to 27 and the interlayer connection conductors 33 to 37 for fixing the potential of the metal shield layer member 61.

図7に示す積層工程の後、金属箔21Aおよび銅箔61Aを所定にパターニングし、さらにはんだレジスト71、72の形成を行うことで、図6に示したような電子モジュールが得られる。   After the laminating step shown in FIG. 7, the metal foil 21A and the copper foil 61A are patterned in a predetermined manner, and the solder resists 71 and 72 are further formed, whereby the electronic module as shown in FIG. 6 is obtained.

この実施形態では、絶縁層14〜18(第2の絶縁板部材)の構造により以下の効果がある。すなわち、絶縁層15〜17(第2のサブ板部材)の厚みを任意に変化させることで、電子部品49等の高さ方向のサイズに第2の絶縁板部材全体の厚みを合わせることが容易である。したがって、電子部品49等の厚みに対応しやすくかつ電子モジュールとしても厚みの寸法設定の制御が容易な構造になる。   In this embodiment, the following effects are obtained by the structure of the insulating layers 14 to 18 (second insulating plate member). That is, it is easy to match the thickness of the entire second insulating plate member to the size in the height direction of the electronic component 49 and the like by arbitrarily changing the thickness of the insulating layers 15 to 17 (second sub-plate member). It is. Therefore, the thickness of the electronic component 49 or the like can be easily accommodated, and the thickness setting of the electronic module can be easily controlled.

11,12,14,15,16,17,18…絶縁層、13…補強材入り絶縁層、13a…補強材、13o1,13o2…部品用開口部、13r…絶縁層(補強材なし)、13rA…プリプレグ層(補強材なし)、14A…プリプレグ層、18A…プリプレグ層、21,24,25,26,27…導電パターン、21a…外部接続端子、21A…金属箔(銅箔)、22,23…配線パターン、31,32,33,34,35,36,37…層間接続導体(導電性組成物をスクリーン印刷して形成されたバンプを由来とする)、31A,32A…層間接続導体(導電性組成物を貫通孔に充填して形成)、41,42,43…表面実装型受動素子部品、49…半導体素子部品(電子部品;表面実装用端子付属)、51,52,53,54…接続部材(すずを含むはんだ)、61…金属製シールド層部材(銅製)、61A…銅箔(または銅板)、71,72…はんだレジスト(保護膜)、131A,132A,133A,134A…補強材入りプリプレグ層。   11, 12, 14, 15, 16, 17, 18 ... insulating layer, 13 ... insulating layer with reinforcing material, 13a ... reinforcing material, 13o1, 13o2 ... opening for parts, 13r ... insulating layer (without reinforcing material), 13rA ... Prepreg layer (without reinforcing material), 14A ... Prepreg layer, 18A ... Prepreg layer, 21, 24, 25, 26, 27 ... Conductive pattern, 21a ... External connection terminal, 21A ... Metal foil (copper foil), 22, 23 ... Wiring pattern, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 37 ... Interlayer connection conductor (derived from bumps formed by screen printing of conductive composition), 31A, 32A ... Interlayer connection conductor (conductive , 41, 42, 43... Surface mounted passive element parts, 49... Semiconductor element parts (electronic parts; attached to surface mounting terminals), 51, 52, 53, 54. Connection (Solder-containing solder), 61 ... Metal shield layer member (copper), 61A ... Copper foil (or copper plate), 71, 72 ... Solder resist (protective film), 131A, 132A, 133A, 134A ... Prepreg with reinforcing material layer.

Claims (8)

第1の面と該第1の面に対向する第2の面とを有する第1の絶縁板部材と、
前記第1の絶縁板部材の前記第1の面上に設けられた導電パターンと、
前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に設けられた配線パターンと、
前記導電パターンと前記配線パターンとを電気導通させる、前記第1の絶縁板部材の厚み方向に形成された層間接続導体と、
前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に前記配線パターンを介して実装された電子部品と、
前記電子部品を埋め込むように前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に積層状に位置する第2の絶縁板部材と、
前記第2の絶縁板部材の前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上に設けられた金属製シールド層部材と、
前記金属製シールド層部材上を含めて前記第2の絶縁板部材の、前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上を覆うように形成された保護膜と、を具備し、
前記保護膜が、前記第2の絶縁板部材の前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上に部品実装ランド領域を与えないように、前記金属製シールド層部材上を含めて前記第2の絶縁板部材の前記第1の絶縁板部材が位置する側とは反対の側上を覆っていること
を特徴とする電子モジュール。
A first insulating plate member having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
A conductive pattern provided on the first surface of the first insulating plate member;
A wiring pattern provided on the second surface of the first insulating plate member;
An interlayer connection conductor formed in the thickness direction of the first insulating plate member, which electrically connects the conductive pattern and the wiring pattern;
An electronic component mounted on the second surface of the first insulating plate member via the wiring pattern;
A second insulating plate member positioned in a stacked manner on the second surface of the first insulating plate member so as to embed the electronic component;
A metal shield layer member provided on the side of the second insulating plate member opposite to the side on which the first insulating plate member is located;
A protective film formed so as to cover the side of the second insulating plate member including the metal shield layer member on the side opposite to the side on which the first insulating plate member is located. ,
The protective film includes the metal shield layer member so as not to provide a component mounting land region on the side of the second insulating plate member opposite to the side where the first insulating plate member is located. The electronic module is characterized in that it covers the side of the second insulating plate member opposite to the side on which the first insulating plate member is located.
前記第1の絶縁板部材の厚み方向の中間に1層以上層状に設けられた第2の配線パターンをさらに具備することを特徴とする請求項1記載の電子モジュール。   2. The electronic module according to claim 1, further comprising a second wiring pattern provided in a layer form in the middle of the thickness direction of the first insulating plate member. 前記層間接続導体が、前記導電パターンの面と前記第2の配線パターンのうちの前記導電パターンの隣にある第2の配線パターンの面との間、または、相隣り合う前記第2の配線パターンの面どうしの間、または、前記配線パターンの面と前記第2の配線パターンのうちの前記配線パターンの隣にある第2の配線パターンの面との間に、密構造の柱状に形成された導体であることを特徴とする請求項2記載の電子モジュール。   The second wiring pattern in which the interlayer connection conductor is between or adjacent to the surface of the conductive pattern and the surface of the second wiring pattern adjacent to the conductive pattern in the second wiring pattern. Or between the surfaces of the wiring patterns or between the surface of the wiring pattern and the surface of the second wiring pattern adjacent to the wiring pattern of the second wiring patterns. The electronic module according to claim 2, wherein the electronic module is a conductor. 前記電子部品が、前記第1の絶縁板部材の前記第2の面上に前記配線パターンを介してすずを含むはんだを用い実装されていることを特徴とする請求項1記載の電子モジュール。   2. The electronic module according to claim 1, wherein the electronic component is mounted on the second surface of the first insulating plate member using solder containing tin via the wiring pattern. 前記導電パターンが、外部接続端子領域を有することを特徴とする請求項1記載の電子モジュール。   The electronic module according to claim 1, wherein the conductive pattern has an external connection terminal region. 前記第2の絶縁板部材が、前記電子部品の領域を避けた領域に補強材を含有していることを特徴とする請求項1記載の電子モジュール。   2. The electronic module according to claim 1, wherein the second insulating plate member contains a reinforcing material in a region avoiding the region of the electronic component. 前記第2の絶縁板部材が、前記第1の絶縁板部材の側から第1、第2、第3の3層を有する板部材であり、前記第1の絶縁板部材にもっとも近い第1のサブ板部材および前記第1の絶縁板部材からもっとも遠い第3のサブ板部材は、前記電子部品の領域を避ける開口部を有していない一方、前記第1のサブ板部材と前記第3のサブ板部材との間に位置する第2のサブ板部材は、前記電子部品から離間するように開口部が形成されており、
前記電子部品の周りに空隙が生じないように、前記第1のサブ板部材または前記第3のサブ板部材が変形して前記電子部品に密着していること
を特徴とする請求項1記載の電子モジュール。
The second insulating plate member is a plate member having first, second, and third three layers from the side of the first insulating plate member, and a first member closest to the first insulating plate member. The third sub-plate member farthest from the sub-plate member and the first insulating plate member does not have an opening that avoids the area of the electronic component, while the first sub-plate member and the third sub-plate member The second sub plate member positioned between the sub plate members is formed with an opening so as to be separated from the electronic component,
The first sub-plate member or the third sub-plate member is deformed and is in close contact with the electronic component so that no gap is generated around the electronic component. Electronic module.
前記電子部品の領域を避けて前記第2の絶縁板部材の厚み方向の中間に1層以上層状に設けられた第2の導電パターンと、
前記第2の導電パターンを介して前記配線パターンと前記金属製シールド層部材とを電気導通させる、前記第2の絶縁板部材の厚み方向に形成された第2の層間接続導体と
をさらに具備することを特徴とする請求項1記載の電子モジュール。
A second conductive pattern provided in one or more layers in the middle of the thickness direction of the second insulating plate member avoiding the area of the electronic component;
A second interlayer connection conductor formed in the thickness direction of the second insulating plate member, which electrically connects the wiring pattern and the metal shield layer member via the second conductive pattern. The electronic module according to claim 1.
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