JP2013210511A - Projection screen and whiteboard device using the same - Google Patents
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- Drawing Aids And Blackboards (AREA)
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
Abstract
Description
本発明は、映写面にマーカーによる書き込みや消去ができる映写用スクリーン及びこれを用いたホワイトボード装置に関する。 The present invention relates to a projection screen on which a marker can be written and erased with a marker and a whiteboard device using the same.
近年、パーソナルコンピュータ等に接続されたプロジェクター装置からのデータを映写するとともに、ホワイトボード用マーカーによる書き込み及び消去を行うことができるホワイトボード装置が利用されている。 2. Description of the Related Art In recent years, a whiteboard device that can project data from a projector device connected to a personal computer or the like and can perform writing and erasing with a whiteboard marker has been used.
この種のホワイトボード装置は、特徴として、映写面を観やすくするために、プロジェクターからの映写光を拡散反射させる表面加工が施されたスクリーンを有する。この種のホワイトボードに適した映写用スクリーンとして、特許文献１は、ホワイトボードとして使用できるとともに、映写スクリーンとしても使用できるホワイトボード及び映写スクリーン兼用フィルムについて開示している。具体的には、表面の光沢を少なくし、かつ、映写面にマーカーで書き込みや消去ができるように、白色合成樹脂フィルムの表面を微細凹凸面にするとともに、この微細凹凸面に硬質ハードコート層を被覆してなるものである。 This type of whiteboard device has, as a characteristic, a screen on which surface processing is performed to diffusely reflect the projection light from the projector in order to make the projection surface easy to see. As a projection screen suitable for this type of whiteboard, Patent Document 1 discloses a whiteboard and a projection screen combined film that can be used as a whiteboard and also as a projection screen. Specifically, the surface of the white synthetic resin film is made a fine uneven surface so that the surface gloss is reduced and the projection surface can be written and erased with a marker, and the hard hard coat layer is formed on the fine uneven surface. Are coated.
このような構成を有するフィルムは、表面が微細凹凸面であるために、光の拡散反射性は優れており、鮮明な映写画像を得ることができる。しかしながら、ホワイトボードとして用いた場合、マーカーのインクが表面の微細凹部に残存してしまい、ホワイトボード上の筆記データをきれいに消去することが困難であった。この結果、繰り返し使用するうちに、完全に拭き取れなかったインクの蓄積により、ホワイトボードが汚れてしまい、使用に耐えなくなるという問題があった。 Since the film having such a structure has a fine uneven surface, the diffuse reflection property of light is excellent, and a clear projected image can be obtained. However, when used as a whiteboard, the marker ink remains in the fine recesses on the surface, and it is difficult to cleanly erase the written data on the whiteboard. As a result, there is a problem that the whiteboard becomes dirty due to the accumulation of ink that cannot be completely wiped off during repeated use, making it unusable.
消去性を良好にするためには、表面凹凸をより平坦にすればよい。例えば特許文献２に開示されている筆記シートは、エンボス加工による凹凸を有する表面クリア層、ベースフィルム層、及び粘着剤層からなる。このようにエンボス加工されたシートは、先の特許文献１に開示されているフィルムのように、表面が微細な凹凸面とはならないので、消去性が改善される。そして、表面の凹凸を適度に形成すれば、従来のプロジェクター装置においては、防眩性についても改善することができた。 In order to improve the erasability, the surface irregularities may be made flatter. For example, the writing sheet disclosed in Patent Document 2 includes a surface clear layer having an unevenness by embossing, a base film layer, and an adhesive layer. Since the sheet embossed in this way does not have a fine uneven surface like the film disclosed in the above-mentioned Patent Document 1, the erasability is improved. And if the unevenness | corrugation of the surface was formed moderately, in the conventional projector apparatus, it was able to improve also about anti-glare property.
しかしながら、近年、プロジェクター装置の光源が高輝度化している。以前のプロジェクター装置であれば、設置している会場の照明を消さないと、映写画像は観にくかった。これに対して、近年の高輝度なプロジェクター装置を用いれば、特に会場の照明を消さなくても、映写画像を快適に観ることができる。そうなると再び、映し出された映像の中央にプロジェクターの光源が明るいスポット状に見える現象、いわゆるホットスポットが発生し、映写性が低下してしまう。以前の低い輝度でしか映写できないプロジェクター装置であれば防眩性に問題が無かったとしても、高輝度のプロジェクター装置に対しては、さらに高い防眩性が要求される。 However, in recent years, the light source of the projector apparatus has become highly bright. With the previous projector device, it was difficult to see the projected image without turning off the lighting in the venue. On the other hand, if a projector device with high brightness in recent years is used, a projected image can be comfortably viewed without particularly turning off the lighting in the venue. When this happens, a phenomenon in which the light source of the projector appears as a bright spot at the center of the projected image, a so-called hot spot occurs, and the projectability deteriorates. Even if there is no problem with anti-glare properties in the case of a projector device that can only project at a low brightness before, even higher anti-glare properties are required for projector devices with high brightness.
このように、ホワイトボードの表面を映写面として利用する場合には、防眩性を高いレベルで実現しなければならない。それのみならず、マーカー筆記を行った場合には、当然のことながら、イレーサーによりマーカーインクを完全に除去できるようにしなければならない。 As described above, when the surface of the whiteboard is used as a projection surface, the antiglare property must be realized at a high level. In addition, when marker writing is performed, it is a matter of course that the marker ink must be completely removed by the eraser.
本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、映写に適した光の拡散反射性を有し、ホットスポットを生じない鮮明な映写画像を得ることができ、特に、高輝度のプロジェクター装置に対しても十分な光の拡散性を有し、ホットスポットを生じない鮮明な映写画像を得ることができる光沢度を有するとともに、映写面へのマーカーを用いた書き込みを可能とし、かつ映写面上のマーカーインクの汚れが目立たない消去性を有する映写用スクリーン及びこれを用いたホワイトボード装置を提供することを目的としている。 The present invention is for solving the above-described conventional problems, has a diffuse reflection property of light suitable for projection, and can obtain a clear projection image that does not cause a hot spot. It has sufficient light diffusibility for the device, has a gloss level that can produce a clear projected image that does not cause hot spots, and allows writing on the projection surface using markers. It is an object of the present invention to provide a projection screen having erasability in which stains on the marker ink on the surface are not noticeable and a whiteboard device using the projection screen.
本発明は上記目的を達成するために、基材と、前記基材の表面に形成され、前記基材と接する面とは反対側の露出面に凹凸を有する塗膜層と、を備え、前記基材の前記塗膜層との接触面において、凹凸を有する下地荒らし面が形成され、前記下地荒らし面の凹凸は、その算術平均粗さＲａが０．３≦Ｒａ≦１．５の範囲にあり、その平均山間隔Ｓｍを前記算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが、１０≦Ｓｍ／Ｒａ≦１００の範囲にあるものである。 In order to achieve the above object, the present invention comprises a base material, and a coating film layer formed on the surface of the base material and having an unevenness on the exposed surface opposite to the surface in contact with the base material, A base roughening surface having irregularities is formed on the contact surface of the substrate with the coating film layer, and the arithmetic average roughness Ra of the irregularities on the base roughening surface is in a range of 0.3 ≦ Ra ≦ 1.5. There is a value Sm / Ra obtained by dividing the average peak interval Sm by the arithmetic average roughness Ra in the range of 10 ≦ Sm / Ra ≦ 100.
本発明は、上記構成、特に凹凸を有する塗膜層を形成する基材の塗膜層との接触面である塗工面に対して、凹凸を形成するといういわゆる下地荒らし面が形成され、光が下地荒らし面でも拡散反射し、全体の光の拡散反射性がさらに向上するので、高輝度のプロジェクター装置においても、映し出された映像の中央にプロジェクターの光源が明るいスポット状に見える現象、いわゆるホットスポットを生じない鮮明な映写画像を得ることができる。これにより、全体の光沢度を下地荒らし面の凹凸形状により調整できるため、映写面となる塗膜層の露出面へのマーカーの書き込みを可能とし、かつ地汚れが目立たない消去性を確保し得る適切な凹凸形状に設計することが可能な映写用スクリーン及びこれを用いたホワイトボード装置を提供することができる。 In the present invention, a so-called base roughening surface for forming irregularities is formed on the coating surface, which is a contact surface with the coating layer of the base material forming the coating layer having irregularities, and light is emitted. Diffuse reflection on the roughened surface of the ground, further improving the diffuse light reflectivity of the entire light, so even in a high-brightness projector device, the phenomenon that the projector light source appears as a bright spot in the center of the projected image, so-called hot spot It is possible to obtain a clear projected image that does not cause the problem. As a result, the overall glossiness can be adjusted by the uneven shape of the base roughening surface, so that the marker can be written on the exposed surface of the coating film layer to be the projection surface and the erasability with which the background stains are not noticeable can be secured. It is possible to provide a projection screen that can be designed to have an appropriate uneven shape and a whiteboard device using the same.
前記課題を解決するためになされた第１の発明は、基材と、前記基材の表面に形成され、前記基材と接する面とは反対側の露出面に凹凸を有する塗膜層と、を備え、前記基材の前記塗膜層との接触面において、凹凸を有する下地荒らし面が形成され、前記下地荒らし面の凹凸は、その算術平均粗さＲａが０．３≦Ｒａ≦１．５の範囲にあり、その平均山間隔Ｓｍを前記算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが、１０≦Ｓｍ／Ｒａ≦１００の範囲にある構成とする。 1st invention made | formed in order to solve the said subject, The coating-film layer which has an unevenness | corrugation in the exposed surface on the opposite side to the base material and the surface which contacts the said base material, and is formed on the said base material, And a roughening surface of the base having a rough surface is formed on the contact surface of the substrate with the coating layer, and the rough surface of the roughening surface has an arithmetic average roughness Ra of 0.3 ≦ Ra ≦ 1. A value Sm / Ra obtained by dividing the average peak interval Sm by the arithmetic average roughness Ra is in a range of 10 ≦ Sm / Ra ≦ 100.
これによると、特に凹凸を有する塗膜層を形成する基材の塗膜層との接触面である塗工面に対して、凹凸を形成するといういわゆる下地荒らし面が形成され、光が下地荒らし面でも拡散反射し、全体の光の拡散反射性がさらに向上するので、高輝度のプロジェクター装置においても、映し出された映像の中央にプロジェクターの光源が明るいスポット状に見える現象、いわゆるホットスポットを生じない鮮明な映写画像を得ることができる。これにより、全体の光沢度を下地荒らし面の凹凸形状により調整できるため、映写面となる塗膜層の露出面へのマーカーの書き込みを可能とし、かつ地汚れが目立たない消去性を確保し得る適切な凹凸形状に設計することが可能な映写用スクリーン及びこれを用いたホワイトボード装置を提供することができる。 According to this, a so-called base roughening surface that forms unevenness is formed on the coated surface that is a contact surface with the coating layer of the base material that forms the coating layer having unevenness, and light is roughened by the base. However, the diffuse reflection of the whole light is further improved, so even in a high-brightness projector device, the phenomenon that the light source of the projector appears as a bright spot in the center of the projected image, so-called hot spots do not occur. A clear projected image can be obtained. As a result, the overall glossiness can be adjusted by the uneven shape of the base roughening surface, so that the marker can be written on the exposed surface of the coating film layer to be the projection surface and the erasability with which the background stains are not noticeable can be secured. It is possible to provide a projection screen that can be designed to have an appropriate uneven shape and a whiteboard device using the same.
また、第２の発明は、前記第１の発明において、前記下地荒らし面の凹凸は６０°鏡面光沢度により規定され、その範囲は１から６５である構成とする。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the unevenness of the roughening surface of the base is defined by 60 ° specular gloss, and the range is 1 to 65.
下地荒らし面の凹凸が塗膜層の表面の光沢度に影響を及ぼすことから、下地荒らし面の凹凸が６０°鏡面光沢度で１から６５の範囲とすることにより、塗膜層の表面の光沢度が防眩性を失わず、かつ塗膜層の表面の光沢度を低くすることができる。 Since the unevenness of the surface roughening surface affects the glossiness of the surface of the coating layer, the surface roughness of the coating layer can be adjusted by setting the unevenness of the surface roughening surface to a range of 1 to 65 with a 60 ° specular glossiness. The degree does not lose the antiglare property, and the glossiness of the surface of the coating layer can be lowered.
また、第３の発明は、前記第１または第２の発明において、前記下地荒らし面の凹凸は、サンドブラスト処理またはマット塗工により形成された構成とする。これにより、下地荒らし面の凹凸の形成を容易に行うことができ、映写面へのマーカーの書き込みや消去が可能な映写用スクリーンにおいて、高輝度のプロジェクター装置に対しても、映写用スクリーンとして十分な光の拡散反射性を有することができる。 According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the unevenness of the roughening surface of the base is formed by sandblasting or mat coating. As a result, it is possible to easily form irregularities on the roughening surface of the base, and it is sufficient as a projection screen even for a high-brightness projector device in a projection screen in which markers can be written on and erased from the projection surface. It is possible to have a diffuse reflection property of light.
また、第４の発明は、筆記消去を行うボード面が請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の映写用スクリーンにより形成された構成とする。これにより、上記の効果を得ることができる実用的に優れたホワイトボード装置を得ることができる。 According to a fourth aspect of the present invention, a board surface for performing writing erasure is formed by the projection screen according to any one of the first to third aspects. Thereby, a practically excellent whiteboard device capable of obtaining the above-described effect can be obtained.
以下、本発明の映写用スクリーン及びこれを用いたホワイトボード装置の一実施例について詳細に説明する。 Hereinafter, an embodiment of the projection screen of the present invention and a whiteboard device using the same will be described in detail.
図１は、本発明の一実施例におけるホワイトボード装置の概略構成図である。ホワイトボード装置本体１は、本発明の映写用スクリーンにより表層を形成したボード面２を有している。ボード面２は、パーソナルコンピュータ３等に接続されたプロジェクター装置４からの映写画像を映すプロジェクター用スクリーンとしての適正を有するとともに、ホワイトボード用マーカー５及びイレーサー６を用いた筆記消去に対する適正を有する。続いて、本発明の映写用スクリーンについて説明する。 FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a whiteboard device according to an embodiment of the present invention. The whiteboard device main body 1 has a board surface 2 on which a surface layer is formed by the projection screen of the present invention. The board surface 2 has an appropriateness as a projector screen for projecting a projected image from the projector device 4 connected to the personal computer 3 or the like, and has an appropriateness for erasing writing using the whiteboard marker 5 and the eraser 6. Next, the projection screen of the present invention will be described.
図２は、本発明の一実施例における映写用スクリーンの断面構成を示す概略図である。基材７は、後述する球状微粒子８とマトリックス樹脂９により構成される塗膜層１０の形成及び保持、ならびに、ホワイトボード面としての使用に際して、支障が無い程度の強度を有するものである。ただし、この基材７においては、塗膜層を形成する基材の塗工面に対して、いわゆる「下地荒らし処理」を施し、下地荒らし表層１１を設けることにより、映写用スクリーン全体の光沢度を下げるようにしている。この点については、後ほど詳細に述べる。 FIG. 2 is a schematic diagram showing a cross-sectional configuration of a projection screen in one embodiment of the present invention. The base material 7 has a strength that does not hinder the formation and holding of a coating layer 10 composed of spherical fine particles 8 and a matrix resin 9 described later, and use as a whiteboard surface. However, in this base material 7, by applying a so-called “base roughening treatment” to the coated surface of the base material on which the coating film layer is formed and providing the base roughening surface layer 11, the glossiness of the entire projection screen is increased. I try to lower it. This point will be described in detail later.
基材７の材料としては、プラスチック、鋼板、木板、ガラス板、樹脂化粧版等を挙げることができ、特に限定されない。また、基材の厚さも特に制限されず、ホワイトボード装置の構成やボード面の製造方法に合わせ、フィルム状の物や板状のものを用いることができる。特に、シート状の映写用スクリーンを製造する場合には、厚さ２０〜２００μｍ程度のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリカーカーボネートフィルム等を好適に用いることができる。 Examples of the material of the substrate 7 include plastic, steel plate, wood plate, glass plate, and resin decorative plate, and are not particularly limited. The thickness of the substrate is not particularly limited, and a film-like or plate-like material can be used in accordance with the configuration of the whiteboard device and the board surface manufacturing method. In particular, when a sheet-like projection screen is manufactured, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, a polyvinyl chloride film, a polycarbonate film, or the like having a thickness of about 20 to 200 μm is preferably used. be able to.
基材７は、塗膜層１０に透明性を有する材料を用いる場合、塗膜層１０を透過した映写光の反射層及びボード面の色彩を決定する層としても機能するため、その場合は、白色もしくは白色に近い淡色であることが好ましい。また、基材７として無色もしくは透明性の高い材料を用いて、塗膜層１０を形成する面と反対側の面（裏面）に、別途光反射層（図示せず）を形成してもよい。この場合、光反射層は白色インクによる塗装や、別の光反射性フィルム材料を張り合わせる等の方法で形成することができる。ホワイトボード装置本体１のボード面２を形成する際には、板状の基材７を用いた場合にはそのまま利用して形成することが可能であり、フィルム状の基材７を用いる場合等には、別途、裏面を剛性の高い板部材と張り合わせて形成することも可能である。 When the base material 7 uses a transparent material for the coating layer 10, it also functions as a reflection layer for projection light transmitted through the coating layer 10 and a layer for determining the color of the board surface. It is preferably white or a light color close to white. Alternatively, a light reflecting layer (not shown) may be separately formed on the surface (back surface) opposite to the surface on which the coating film layer 10 is formed using a colorless or highly transparent material as the base material 7. . In this case, the light reflecting layer can be formed by a method such as painting with a white ink or pasting another light reflecting film material. When the board surface 2 of the whiteboard device main body 1 is formed, when the plate-like base material 7 is used, it can be used as it is, for example, when the film-like base material 7 is used. In addition, it is possible to separately form the back surface by bonding with a highly rigid plate member.
塗膜層１０は、マトリックス樹脂９に球状微粒子８及び後述する添加剤１２を内包する形で構成され、マトリックス樹脂９で被覆された球状微粒子８の上部（表面１０ａ側）表面とその間を埋めるマトリックス樹脂９によって、本発明の特徴である後述のような寸法形状のなめらかな表面凹凸が形成される。塗膜層１０の厚さは、マトリックス樹脂９と球状微粒子８の組み合わせと工法を用いて、後述のような寸法形状の表面凹凸を形成できれば特に限定されるものではないが、３〜３０μｍ程度が好適範囲となる。また、ホワイトボード面としての強度と耐久性を確保するため、鉛筆硬度でＢ以上の表面硬度を有することが好ましい。 The coating layer 10 is formed in a form in which spherical fine particles 8 and an additive 12 to be described later are included in a matrix resin 9, and the upper surface (surface 10a side) of the spherical fine particles 8 coated with the matrix resin 9 and a matrix filling the space therebetween. The resin 9 forms smooth surface irregularities having dimensions and shapes as described below, which is a feature of the present invention. The thickness of the coating layer 10 is not particularly limited as long as surface irregularities having the dimensions and shapes as described below can be formed using a combination of the matrix resin 9 and the spherical fine particles 8 and a construction method, but the thickness is about 3 to 30 μm. This is the preferred range. Moreover, in order to ensure the strength and durability as a white board surface, it is preferable to have a surface hardness of B or higher in pencil hardness.
球状微粒子８は、マトリックス樹脂９との組み合わせにより、塗膜層１０の基材７と接する面とは相反する反対側となる露出面としての表面１０ａに後述のような寸法形状の滑らかな凹凸を形成するために配合する。また、球状微粒子８は、光反射性とボード面色彩への影響を考慮して、透明もしくは白色であることが好ましい。 The spherical fine particles 8 have smooth irregularities having dimensions and shapes as described below on the surface 10a as an exposed surface opposite to the surface in contact with the substrate 7 of the coating layer 10 by combination with the matrix resin 9. Blend to form. The spherical fine particles 8 are preferably transparent or white in consideration of light reflectivity and influence on the color of the board surface.
従来のホワイトボード装置における映写用スクリーンでは、粉砕型シリカ等、ランダム形状で、粒子径が比較的小さい微粒子が用いられることが多い。このような微粒子を用いた場合、凹凸形状がより細かく不規則になりやすいため、拡散反射性が高く、プロジェクター映写性に優れた表面形状を形成しやすく、また、原料コスト的に優位である等の利点がある。しかしながら、細かく鋭いカーブを有する凹凸形状が発生しやすく、また、複雑な形状の細かい粒子と樹脂との界面が表面１０ａに露出して形成されてしまう場合があること等により、表面１０ａに付着したマーカーインクがイレーサーで完全に拭き取れない場合が多く、十分なマーカー筆記消去性が確保しにくい。 In a projection screen in a conventional whiteboard device, fine particles having a random shape and a relatively small particle size such as pulverized silica are often used. When such fine particles are used, the uneven shape tends to be finer and irregular, so that it is easy to form a surface shape with high diffuse reflectivity and excellent projector projection, and is advantageous in terms of raw material costs, etc. There are advantages. However, uneven shapes having fine and sharp curves are likely to occur, and the interface between fine particles having a complicated shape and the resin may be exposed and formed on the surface 10a. In many cases, the marker ink cannot be completely wiped off by an eraser, and it is difficult to ensure sufficient marker writing erasability.
このような理由から、本発明では、より滑らかなカーブによる凹凸を形成し、好適なプロジェクター映写性とマーカーによる筆記消去性を両立させるため、略球状の微粒子を用いることが好ましい。また、後述のような寸法形状の凹凸表面を形成するためには、平均粒径が３〜３０μｍ、好ましくは５〜２０μｍの範囲にある略球状微粒子を用いるのがよい。ここで言う平均粒径とは体積平均径のことであり、コールターカウンタ（コールター社製）を使用して測定したものである。平均粒径が３μｍより小さい場合、もしくは、３０μｍより大きい場合は、後述のような寸法範囲の凹凸形状を形成することが困難になり、良好な映写性と筆記消去性を両立できなくなる。球状微粒子８としては、樹脂充填用や表面処理用に用いられる種々のガラスビーズ、球状シリカ微粒子、球状アルミナ微粒子、球状樹脂微粒子等を用いることができる。 For this reason, in the present invention, it is preferable to use substantially spherical fine particles in order to form irregularities with a smoother curve and to achieve both good projector projection and writing erasure with a marker. In order to form an uneven surface having a dimension and shape as described later, it is preferable to use substantially spherical fine particles having an average particle diameter of 3 to 30 μm, preferably 5 to 20 μm. The average particle diameter referred to here is a volume average diameter and is measured using a Coulter counter (manufactured by Coulter). When the average particle size is smaller than 3 μm or larger than 30 μm, it becomes difficult to form a concavo-convex shape having a size range as described later, and good projection and writing erasability cannot be achieved at the same time. As the spherical fine particles 8, various glass beads, spherical silica fine particles, spherical alumina fine particles, spherical resin fine particles and the like used for resin filling and surface treatment can be used.
ガラスビーズの例としては、ソーダ石灰ガラスや低アルカリガラスを用いた球状ガラスビーズがあり、市販品の例としては、ポッターズ・バロティーニ株式会社製のフィラー用ガラスビーズ、株式会社ユニオン製のユニビーズ（商品名）シリーズがある。球状シリカ微粒子の例としては、球状溶融シリカ微粒子、球状合成シリカ微粒子があり、市販品の例としては、株式会社トクヤマ製のエクセリカ（商品名）シリーズ、株式会社龍森製の高純度真球状シリカ、電気化学工業株式会社製の溶融シリカ球状タイプがある。球状アルミナ微粒子の市販品の例としては、電気化学工業株式会社製の球状アルミナ、昭和電工株式会社製のアルナビーズ（商品名）、株式会社アドマテックスのアドマファイン（商品名）、株式会社マイクロン製の球状アルミナ微粒子がある。球状樹脂微粒子の例としては、球状アクリル樹脂微粒子、球状ポリスチレン微粒子、球状ポリアクリロニトリル微粒子、球状ナイロン微粒子などがあり、市販品の例としては、綜研化学株式会社製のケミスノー（商品名）シリーズ、東洋紡績株式会社製のタフチック（商品名）シリーズ、住友精化製のフロービーズ（商品名）シリーズ、積水化成品工業株式会社製のテクポリマー（商品名）シリーズがある。 Examples of glass beads include spherical glass beads using soda lime glass or low alkali glass. Examples of commercially available products include glass beads for fillers manufactured by Potters Ballotini Co., Ltd. (Product name) series. Examples of spherical silica fine particles include spherical fused silica fine particles and spherical synthetic silica fine particles. Examples of commercially available products include Excelica (trade name) series manufactured by Tokuyama Corporation, and high-purity true spherical silica manufactured by Tatsumori Co., Ltd. There is a fused silica spherical type manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Examples of commercially available spherical alumina fine particles include spherical alumina manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., Aruna Beads (trade name) manufactured by Showa Denko KK, Admafine (trade name) manufactured by Admatechs Co., Ltd., and manufactured by Micron Co., Ltd. There are spherical alumina particles. Examples of spherical resin fine particles include spherical acrylic resin fine particles, spherical polystyrene fine particles, spherical polyacrylonitrile fine particles, and spherical nylon fine particles. Examples of commercially available products include Chemisnow (trade name) series manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., Toyo There are Tuftic (trade name) series manufactured by Spinning Co., Ltd., Flow Beads (trade name) series manufactured by Sumitomo Seika, and Techpolymer (trade name) series manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.
上記のような球状微粒子の中でも、球状樹脂微粒子は、特に、平滑な表面を有し、形状が均一で、また、比重や熱膨張係数等の物理的特性、粒子表面の化学的性状等の点で、後述するマトリックス樹脂９との組み合わせにより塗膜層１０を形成する上で有利であることから、本発明において特に好適に用いることができる。 Among the spherical fine particles as described above, the spherical resin fine particles have a smooth surface, a uniform shape, physical properties such as specific gravity and thermal expansion coefficient, and chemical properties of the particle surface. Since it is advantageous in forming the coating layer 10 by a combination with the matrix resin 9 described later, it can be used particularly preferably in the present invention.
マトリックス樹脂９は、球状微粒子８を内包し、後述のような寸法形状の滑らかな凹凸を形成するとともに、映写用スクリーンの最表面の物理的、化学的性状を支配的に決定するものである。このため、（１）単独、もしくは溶剤との混合により基材７上に塗膜形成が可能、（２）球状微粒子８の表面を被覆しながら、樹脂微粒子８の平均粒子径や塗膜層１０中における配合比を調整することにより、所望の凹凸形状を形成することが可能、（３）映写用スクリーンの表面層として十分な強度と耐久性を有する塗膜層１０を形成可能、（４）マーカーインクに対する適度な親和性、界面張力を有すること、（５）透明もしくは淡色であること、といった基本的な性能を有していることが必要である。この要求を満たすものであれば、マトリックス樹脂９は特に限定されるものではなく、各種公知の塗料用樹脂やコーティング用樹脂を用いることができる。このような塗料用樹脂やコーティング樹脂の例としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アルキド樹脂、メラミン樹脂及びこれらの変性樹脂や共重合体樹脂があり、多種多様な製品が上市されている。 The matrix resin 9 encloses the spherical fine particles 8 to form smooth irregularities having dimensions and shapes as will be described later, and controls the physical and chemical properties of the outermost surface of the projection screen. Therefore, (1) a coating film can be formed on the substrate 7 by itself or by mixing with a solvent, and (2) the average particle diameter of the resin fine particles 8 and the coating layer 10 while coating the surface of the spherical fine particles 8. It is possible to form a desired concavo-convex shape by adjusting the mixing ratio in the inside, (3) It is possible to form a coating layer 10 having sufficient strength and durability as a surface layer of a projection screen, (4) It is necessary to have basic performance such as moderate affinity for the marker ink, interfacial tension, and (5) transparency or light color. As long as this requirement is satisfied, the matrix resin 9 is not particularly limited, and various known paint resins and coating resins can be used. Examples of such paint resins and coating resins include acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, polyolefin resins, silicon resins, fluorine resins, vinyl chloride resins, alkyd resins, melamine resins, and the like. There are various modified products and copolymer resins, and a wide variety of products are on the market.
これらの樹脂を基材上に成膜する方法としては、例えば、（１）紫外線硬化型、電子線硬化型もしくは熱硬化型のモノマー、オリゴマー、樹脂等を含む反応性樹脂原料混合物を用いて、塗工後に光もしくは熱により樹脂原料を硬化させ、塗膜を形成する方法、（２）樹脂を溶剤に溶解もしくは分散した状態で基材上に塗工後、溶剤を揮発させることにより塗膜を形成する方法、（３）熱可塑性樹脂を押出成型等によりシート状に形成する方法がある。このうち、紫外線硬化型の樹脂を用いる方法は、前記のような基本的な性能を有するマトリックス樹脂９を形成するのに適しており、また、原料の選択肢が多い、原料混合物の物性調整が容易、樹脂の硬化反応が短時間で完了するといった点で、生産性の面でも有利であり、特に好ましい。 As a method of forming a film of these resins on a substrate, for example, (1) using a reactive resin raw material mixture containing an ultraviolet curable, electron beam curable or thermosetting monomer, oligomer, resin, etc. A method of curing a resin raw material by light or heat after coating to form a coating film. (2) After coating on a substrate in a state where the resin is dissolved or dispersed in a solvent, the coating film is formed by volatilizing the solvent. There is a method of forming, and (3) a method of forming a thermoplastic resin into a sheet by extrusion molding or the like. Among these, the method using an ultraviolet curable resin is suitable for forming the matrix resin 9 having the basic performance as described above, and there are many choices of raw materials, and it is easy to adjust the physical properties of the raw material mixture. In terms of productivity, the resin curing reaction is completed in a short time, which is advantageous and particularly preferable.
以上のような観点から、マトリックス樹脂９の原料として特に好ましいものとして、アクリル系、エポキシ系、及びそれらの変性化合物や共重合化合物を主成分とするモノマー、オリゴマー、樹脂を主成分とする紫外線硬化型樹脂が挙げられる。このような紫外線硬化型樹脂原料であるエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシ樹脂、各種モノマーは、例えば、根上工業株式会社、新中村化学工業株式会社、共栄社化学株式会社、サートマー・ジャパン株式会社、東亞合成株式会社、日本化薬株式会社より上市されている。 From the above viewpoints, UV curing based on monomers, oligomers, and resins whose main components are acrylic, epoxy, and modified or copolymerized compounds thereof is particularly preferable as a raw material for the matrix resin 9. Mold resin. Such UV curable resin raw materials such as epoxy acrylate, urethane acrylate, epoxy resin, and various monomers are, for example, Negami Industrial Co., Ltd., Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Kyoeisha Chemical Co., Ltd., Sartomer Japan Co., Ltd., Toagosei Co., Ltd. The company is marketed by Nippon Kayaku Co., Ltd.
通常、紫外線硬化型樹脂を作製する場合には、上記モノマー、オリゴマー、樹脂等に加えて、光重合開始剤を配合する必要がある。光重合開始剤としては、アルキルフェノン系、アシルフォスフィンオキサイド系等のラジカル重合開始剤、ヨードニウム塩系、スルホニウム塩系等のカチオン重合開始剤が挙げられ、市販品の例としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ（商品名）シリーズ、ＤＡＲＯＣＵＲＥ（商品名）シリーズ、日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（商品名）シリーズ、三新化学工業株式会社製のサンエイドＳＩ（商品名）シリーズがある。 Usually, when producing an ultraviolet curable resin, it is necessary to mix | blend a photoinitiator in addition to the said monomer, oligomer, resin, etc. Examples of the photopolymerization initiator include radical polymerization initiators such as alkylphenone and acylphosphine oxides, and cationic polymerization initiators such as iodonium salt and sulfonium salt. Examples of commercially available products include Ciba Specialty.・ IRGACURE (trade name) series made by Chemicals Co., Ltd., DAROCURE (trade name) series, KAYACURE (trade name) series made by Nippon Kayaku Co., Ltd., Sun Aid SI (trade name) series made by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd. is there.
その他、表面の界面張力やすべり性を調整するための表面調整用添加剤１２を始めとして、前記球状微粒子８の分散性を向上させるための分散剤、マトリックス樹脂９を着色するための色材等を適宜配合することが可能である。また、球状微粒子８との混合や塗布工程を行いやすくするため、揮発性有機溶剤を混合して樹脂溶液の粘度調整を行ってもよく、その場合は、基材７上に原料混合物を塗工後、紫外線照射を行う前に、加熱処理等により揮発性有機溶剤を除去する必要がある。好適な揮発性有機溶剤の例としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコールがある。添加剤１２は、乾燥過程を経て、塗膜層１０の表面張力を下げる効果や、乾燥後の塗膜層１０の撥水・撥油性を上げる効果、表面の摩擦係数を下げることにより、すべり性を上げる効果を発現する。これにより、マーカーの筆記／消去性、特に消去性が向上する。なお、添加剤１２は液状の化合物（ポリマー）である。図２においては、便宜上、添加剤１２を粒子状として示しているが、実際には添加剤１２は、マトリックス樹脂９中に分子レベルで溶け込んでおり、図２に示されるような大きさをもった粒子として存在しているわけでは無い。 In addition to the surface adjusting additive 12 for adjusting the interfacial tension and slipperiness of the surface, a dispersant for improving the dispersibility of the spherical fine particles 8, a coloring material for coloring the matrix resin 9, etc. It is possible to mix | blend suitably. Further, in order to facilitate the mixing with the spherical fine particles 8 and the coating process, the viscosity of the resin solution may be adjusted by mixing a volatile organic solvent. In this case, the raw material mixture is applied onto the substrate 7. Then, before performing ultraviolet irradiation, it is necessary to remove the volatile organic solvent by heat treatment or the like. Examples of suitable volatile organic solvents are ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol. The additive 12 is slippery by reducing the surface tension of the coating layer 10 through the drying process, increasing the water / oil repellency of the coating layer 10 after drying, and reducing the friction coefficient of the surface. The effect which raises is expressed. Thereby, the writing / erasing property of the marker, particularly the erasing property is improved. The additive 12 is a liquid compound (polymer). In FIG. 2, for convenience, the additive 12 is shown in the form of particles. However, the additive 12 is actually dissolved in the matrix resin 9 at the molecular level and has a size as shown in FIG. It does not exist as a particle.
上記のような配合を基本として、塗料やコーティング用として調製された紫外線硬化型の樹脂原料混合物も各種上市されており、本発明に好適に用いることができる。市販品の例としては、日本合成化学株式会社製の紫光（商品名）シリーズ、株式会社ＡＤＥＫＡ製のアデカオプトマー（商品名）シリーズ、荒川化学工業株式会社製のビームセット（商品名）シリーズ、ＤＩＣ株式会社のユニディック（商品名）シリーズがある。 Various ultraviolet curable resin raw material mixtures prepared for paints and coatings are commercially available on the basis of the above-described blending and can be suitably used in the present invention. Examples of commercially available products include Shigamine (trade name) series manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., Adekaoptomer (trade name) series manufactured by ADEKA Co., Ltd., Beam Set (trade name) series manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., There is DIC Corporation's Unidick (trade name) series.
以上のような構成材料を用い、後述のような製造工程により、本発明の映写用スクリーンを作製することができる。 Using the above-described constituent materials, the projection screen of the present invention can be produced by the following manufacturing process.
塗膜層１０の表面１０ａの凹凸形状に関する各計測パラメータは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に規定されている。前記のような材料構成により表面塗膜層を形成し、さらに、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に規定されている算術平均粗さＲａが０．３≦Ｒａ≦４（μｍ）の範囲にあり、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に規定されている平均山間隔Ｓｍ（μｍ）を、算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが、およそ３０≦Ｓｍ／Ｒａ≦１５０の範囲にあるような表面凹凸形状とすることにより、マーカーインクの拭き取り性と、ある程度の光拡散反射性を確保することができる。 Each measurement parameter regarding the uneven shape of the surface 10a of the coating layer 10 is defined in JIS B 0601: 2001. The surface coating layer is formed with the material structure as described above, and the arithmetic average roughness Ra specified in JIS B 0601: 2001 is in the range of 0.3 ≦ Ra ≦ 4 (μm), and JIS B The surface unevenness shape is such that a value Sm / Ra obtained by dividing the average peak interval Sm (μm) defined in 0601: 2001 by the arithmetic average roughness Ra is in a range of approximately 30 ≦ Sm / Ra ≦ 150. Thus, it is possible to secure the marker ink wiping property and a certain degree of light diffusion reflectivity.
算術平均粗さＲａが０．３（μｍ）以下になると塗膜層１０の表面１０ａの光沢度が急速に上昇し、その６０°鏡面光沢度（後記するＪＩＳ Ｚ ８７４１に基づく）を４０以下にすることが困難となる。また、算術平均粗さＲａが４以上になると、ペン先がフェルトで構成されたマーカーの磨耗が早くなる。５０回程度の筆記消去でマーカーのペン先が磨耗し、書けなくなる場合がある。また、塗膜層１０の表面１０ａの凹凸が大きくなるので、塗膜層１０の表面１０ａに筆記されたマーカーインクの消去が困難となる。 When the arithmetic average roughness Ra becomes 0.3 (μm) or less, the glossiness of the surface 10a of the coating layer 10 rapidly increases, and the 60 ° specular glossiness (based on JIS Z 8741 described later) becomes 40 or less. Difficult to do. Further, when the arithmetic average roughness Ra is 4 or more, the wear of the marker whose tip is made of felt is accelerated. When the writing is erased about 50 times, the tip of the marker may be worn out and may not be written. Moreover, since the unevenness | corrugation of the surface 10a of the coating film layer 10 becomes large, erasure | elimination of the marker ink written on the surface 10a of the coating film layer 10 becomes difficult.
Ｓｍ／Ｒａの値は、７０程度が最も望ましい。これに対して、Ｓｍ／Ｒａが１５０以上になると、光拡散反射性が小さくなりすぎ、ホットスポットが生じることにより、映写性が低下する。また、Ｓｍ／Ｒａが３０以下になると、マーカーインクの消去性が低下する。 The value of Sm / Ra is most preferably about 70. On the other hand, when Sm / Ra is 150 or more, the light diffusion reflectivity becomes too small, and a hot spot is generated, so that the projectability is deteriorated. On the other hand, when Sm / Ra is 30 or less, the erasability of the marker ink decreases.
以上のような凹凸を形成するために、先に述べたように、基材７の塗工面、すなわち下地荒らし表層１１の上に形成されている塗膜層１０には、その表層に凹凸を形成するための球状微粒子８や添加剤１２が多数含まれている。 In order to form the unevenness as described above, as described above, the coating layer 10 formed on the coating surface of the base material 7, that is, the base roughening surface layer 11, forms unevenness on the surface layer. Many spherical fine particles 8 and additives 12 are included.
図２に示されるように、塗膜層１０の表面１０ａすなわち筆記面より入射する光（矢印Ｌ）は、塗膜層１０の表面１０ａで反射される１次反射光（矢印Ｌ１）と、塗膜層１０を透過し、基材７の塗工面（すなわち、基材７の塗膜層１０との接触面）で反射し、再び塗膜層１０を透過して出射する２次反射光（矢印Ｌ２）とに、大きく分かれる。 As shown in FIG. 2, the light (arrow L) incident from the surface 10 a of the coating layer 10, that is, the writing surface, is reflected by the primary reflected light (arrow L <b> 1) reflected by the surface 10 a of the coating layer 10. Secondary reflected light (arrow) that is transmitted through the film layer 10, reflected by the coating surface of the base material 7 (that is, the contact surface with the coating film layer 10 of the base material 7), and transmitted again through the coating film layer 10. And L2).
塗膜層１０の表面１０ａには、先に述べたような凹凸が形成されているため、１次反射光（Ｌ１）は完全な正反射とはならず、ある程度拡散された状態となる。同時に、塗膜層１０の内部に入射する光も、ある程度拡散されて入射する。塗膜層１０の内部において、それを構成する球状微粒子８、添加剤１２及びそれらを被覆するマトリックス樹脂９は、互いにその材質が異なるため、光の屈折率も異なる。したがって、球状微粒子８、添加剤１２、マトリックス樹脂９のそれぞれの間の界面において、２次反射光（Ｌ２）の屈折や散乱が発生する。そのように屈折や散乱がなされた２次反射光（Ｌ２）は、塗膜層１０の表面１０ａより出射する際に、その凹凸により、さらに拡散される。このようにして、１次反射光（Ｌ１）及び２次反射光（Ｌ２）が二重、三重あるいはそれ以上に拡散されるので、映し出された映像の中央にプロジェクターの光源が明るいスポット状に見える現象、いわゆるホットスポットの発生を低減することができる。 Since the unevenness as described above is formed on the surface 10a of the coating layer 10, the primary reflected light (L1) is not completely specularly reflected but is diffused to some extent. At the same time, the light incident on the inside of the coating layer 10 is also diffused to some extent. In the coating layer 10, the spherical fine particles 8, the additive 12, and the matrix resin 9 that covers them are made of different materials and therefore have different light refractive indexes. Therefore, refraction and scattering of the secondary reflected light (L2) occur at the interface among the spherical fine particles 8, the additive 12, and the matrix resin 9. The secondary reflected light (L2) thus refracted and scattered is further diffused by the unevenness when emitted from the surface 10a of the coating layer 10. In this way, the primary reflected light (L1) and the secondary reflected light (L2) are diffused in double, triple or more, so that the light source of the projector looks like a bright spot in the center of the projected image. It is possible to reduce the phenomenon, the occurrence of so-called hot spots.
ただし、このような塗膜層１０の露出面における凹凸や、球状微粒子８、添加剤１２、マトリックス樹脂９のそれぞれの間の界面における光の屈折・散乱だけでは、十分な光拡散反射性を確保することができない場合がある。近年、プロジェクター装置の光源が高輝度化しているため、特に会場の照明を消さなくても、その映写画像を快適に観ることができるようになっている。そうなると再び、映し出された映像の中央にプロジェクターの光源が明るいスポット状に見える現象、いわゆるホットスポットが発生し、映写性が低下してしまう。以前の低い輝度でしか映写しないプロジェクター装置であれば防眩性に問題無かったとしても、高輝度のプロジェクター装置に対しては、さらに高い防眩性が要求される。 However, sufficient light diffusivity is ensured only by the unevenness on the exposed surface of the coating layer 10 and the refraction / scattering of light at the interfaces between the spherical fine particles 8, the additive 12, and the matrix resin 9. You may not be able to. In recent years, since the light source of a projector device has become brighter, it is possible to comfortably view the projected image without particularly turning off the lighting in the venue. When this happens, a phenomenon in which the light source of the projector appears as a bright spot at the center of the projected image, a so-called hot spot occurs, and the projectability deteriorates. Even if there is no problem with anti-glare properties in the case of a projector device that projects only at a low luminance before, even higher anti-glare properties are required for projector devices with high luminance.
そこで本発明の映写用スクリーンにおいては、基材７の塗膜層１０が形成される面である塗工面（すなわち、基材７の塗膜層１０との接触面）に対して、いわゆる「下地荒らし処理」を施している。図示例では、図２に示すように、基材７の塗工面には、微細な凹凸形状となる下地荒らし表層１１が形成される。この「下地荒らし処理」は、サンドブラスト処理、酸化チタンや炭酸カルシウムなどの顔料や微粒子を用いたマット塗工などにより行われる。それらの工法のいずれを選択するかは、基材７の材質や、形成する下地荒らし表層１１の光沢度により決定される。 Therefore, in the projection screen of the present invention, the so-called “undercoat” is applied to the coated surface (that is, the contact surface of the base material 7 with the coating layer 10), which is the surface on which the coating layer 10 of the base material 7 is formed. "Trolling treatment". In the illustrated example, as shown in FIG. 2, a base roughening surface layer 11 having a fine uneven shape is formed on the coated surface of the base material 7. This “base roughening treatment” is performed by sandblasting, mat coating using pigments and fine particles such as titanium oxide and calcium carbonate, and the like. Which of these methods is selected is determined by the material of the base material 7 and the glossiness of the surface roughening surface layer 11 to be formed.
なお、サンドブラスト処理を選択した場合には、基材７の下地荒らし処理を施す面に当てる砂の粒径、数、形状、当てるスピード等を調整することにより、下地光沢度を変更することができる。そして、マット塗工を選択した場合には、酸化チタンや炭酸カルシウムなどの粒径や含有量などを変更することにより、下地光沢度を変更することができる。また、図２における下地荒らし表層１１は、基材７と全く別の層として記載されているが、これはマット塗工の場合である。サンドブラスト処理などのように、基材７の表面に対して処理を施す工法の場合は、当然のことながら、基材７と下地荒らし表層１１とは一体化している。いずれの場合においても、図２においては、下地荒らし表層１１が存在することを認識しやすくするために、基材７との間に境界線を記載している。 In addition, when the sandblasting process is selected, the base glossiness can be changed by adjusting the particle size, the number, the shape, the applying speed, etc. of the sand applied to the surface of the base material 7 to which the base roughening process is applied. . When mat coating is selected, the base glossiness can be changed by changing the particle size or content of titanium oxide or calcium carbonate. 2 is described as a layer completely different from the base material 7, this is a case of mat coating. In the case of a method of processing the surface of the base material 7 such as sandblasting, the base material 7 and the surface roughening surface layer 11 are naturally integrated. In any case, in FIG. 2, a boundary line is described between the base material 7 and the base material 7 in order to easily recognize the presence of the base roughening surface layer 11.
このような下地荒らし表層１１を形成することにより、塗膜層１０を透過し、基材７の下地荒らし表層１１上で反射する２次反射光はさらに拡散される。すなわち、光拡散反射性がさらに上積みされる。したがって、高輝度のプロジェクター装置においても、ホットスポットを生じない鮮明な映写画像を得ることができる。 By forming such a surface roughening surface layer 11, the secondary reflected light that passes through the coating layer 10 and is reflected on the surface roughening surface layer 11 of the substrate 7 is further diffused. That is, the light diffuse reflectance is further increased. Therefore, even in a high-brightness projector apparatus, a clear projected image that does not cause a hot spot can be obtained.
本発明の映写用スクリーンは、前記のような材料構成により、種々公知の樹脂混合方法ならびに塗工方法を用いて製造することが可能であるが、以下に、製造方法の一実施例を説明する。 The projection screen of the present invention can be manufactured by using various known resin mixing methods and coating methods according to the material structure as described above, and an example of the manufacturing method will be described below. .
図３は、本発明の映写用スクリーンの製造工程を示すフロー図であり、図４は、図３のフロー図の工程に伴うスクリーン面の形成過程を示す図である。まず、基材７の塗工面に塗布し凹凸を形成するための、紫外線硬化型の塗工液を作製する（工程ＳＴ１−１）。これに際して、始めにウレタンアクリレートまたはエポキシアクリレートを主成分とする紫外線硬化型樹脂溶液を作製する。このとき、適量の揮発性有機溶剤を混合し、塗工に適した溶液粘度に調整することが好ましい。ここで、樹脂の混合には、各種公知のミキサー、シェイカー等を用いることができる。続いて、紫外線硬化型樹脂溶液に所定の平均粒径を有する球状アクリル樹脂微粒子８と、マーカーのすべり性や撥油性などを得るための添加剤１２を混合する。先に述べたように、ここで言う平均粒径とは体積平均径のことであり、コールターカウンタ（コールター社製）を使用して測定したものである。なお、混合には、各種公知のミキサー、シェイカー等を用いることができる。以上のようにして、塗工用原液が得られる。 FIG. 3 is a flowchart showing the production process of the projection screen of the present invention, and FIG. 4 is a diagram showing the screen surface forming process accompanying the process of the flowchart of FIG. First, an ultraviolet curable coating solution is formed for applying the coating surface of the substrate 7 to form irregularities (step ST1-1). At this time, first, an ultraviolet curable resin solution mainly composed of urethane acrylate or epoxy acrylate is prepared. At this time, it is preferable that an appropriate amount of a volatile organic solvent is mixed to adjust the solution viscosity to be suitable for coating. Here, various known mixers, shakers and the like can be used for mixing the resins. Subsequently, spherical acrylic resin fine particles 8 having a predetermined average particle diameter and an additive 12 for obtaining the slipperiness and oil repellency of the marker are mixed in the ultraviolet curable resin solution. As described above, the average particle diameter referred to here is a volume average diameter, and is measured using a Coulter counter (manufactured by Coulter). In addition, various well-known mixers, shakers, etc. can be used for mixing. In this way, a coating stock solution is obtained.
これと並行、または前後して、基材７の塗工面（すなわち、下地荒らし表層１１の塗膜層１０との接触面）に対して、いわゆる「下地荒らし処理」を施して、凹凸を有する下地荒らし面１１ａを形成しておく（工程ＳＴ１−２，図４（ａ））。先に述べたように、この「下地荒らし処理」は、サンドブラスト処理やマット塗工などにより行われる。そして、それらの工法のいずれを選択するかは、基材７の材質や、形成する下地荒らし表層１１の光沢度により決定される。なお、図４（ａ）は、図２で示したマット塗工の例であり、図２と同様の部分には同一の符号を付してその詳しい説明を省略する。 In parallel with or before and after this, a so-called “base roughening treatment” is performed on the coated surface of the base material 7 (that is, the contact surface of the base roughening surface layer 11 with the coating layer 10) to form a base having irregularities. A roughening surface 11a is formed (step ST1-2, FIG. 4A). As described above, this “base roughening treatment” is performed by sandblasting or mat coating. Which of these methods is selected depends on the material of the base material 7 and the glossiness of the surface roughening surface layer 11 to be formed. 4A is an example of the mat coating shown in FIG. 2, and the same reference numerals are given to the same parts as those in FIG. 2, and the detailed description thereof is omitted.
このようにして下地荒らし処理が施された白色のＰＥＴからなる基材７の塗工面（下地荒らし面１１ａ）に対して、工程ＳＴ１−１において作製された塗工用原液２１を塗布する（工程ＳＴ２、図４（ｂ））。塗工用原液２１の塗布には、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーターなど、公知の塗工装置を用いることができる。続いて、塗工後の基材をオーブン等で加熱し、揮発性有機溶剤を蒸発させる（工程ＳＴ３，図４（ｃ））。ここで、先に例示したような揮発性有機溶剤を使用した場合には、例えば、８０℃、数分程度の条件で加熱乾燥を行えばよい。このとき、揮発性有機溶剤の蒸発に伴い、前記のような表面凹凸形状がほぼ形成される。 The coating undiluted solution 21 produced in step ST1-1 is applied to the coated surface (base roughening surface 11a) of the base material 7 made of white PET subjected to the base roughening treatment in this way (step ST1). ST2, FIG. 4 (b)). A known coating apparatus such as a roll coater, a bar coater, or a gravure coater can be used for applying the coating stock solution 21. Subsequently, the substrate after coating is heated in an oven or the like to evaporate the volatile organic solvent (step ST3, FIG. 4C). Here, when a volatile organic solvent as exemplified above is used, for example, heat drying may be performed under conditions of 80 ° C. and several minutes. At this time, with the evaporation of the volatile organic solvent, the surface irregularities as described above are almost formed.
さらに、塗工用原液２１の揮発性有機溶剤が蒸発した後の凹凸形状となった塗工凹凸面２１ａに図における上方より紫外線を照射し、紫外線硬化型樹脂を硬化させることにより、塗膜層１０が完成する（工程ＳＴ４，図４（ｄ））。このとき、紫外線硬化型樹脂は重合反応に伴う硬化収縮により、若干収縮している。紫外線照射には、種々公知の紫外線照射用光源装置を用いることができ、例えば、メタルハライドランプ、水銀ランプ、クセノンランプ、ＬＥＤランプ等がある。紫外線の照射量は、一般的なウレタンアクリレート系樹脂の場合、波長３６５ｎｍで計測した積算光量が、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2程度となるようにすればよい。この紫外線照射による硬化により、厚さ１５μｍの凹凸を有する塗膜層１０を、ポリエステルフィルムのサンドブラスト処理が施された下地荒らし面１１ａ上に形成した。 Furthermore, a coating layer is formed by irradiating ultraviolet rays from above in the drawing onto the uneven surface 21a of the uneven surface after the volatile organic solvent of the coating stock solution 21 is evaporated to cure the ultraviolet curable resin. 10 is completed (step ST4, FIG. 4D). At this time, the ultraviolet curable resin is slightly shrunk due to curing shrinkage accompanying the polymerization reaction. Various known ultraviolet light source devices can be used for ultraviolet irradiation, such as a metal halide lamp, a mercury lamp, a xenon lamp, and an LED lamp. In the case of a general urethane acrylate resin, the amount of ultraviolet rays may be such that the integrated light quantity measured at a wavelength of 365 nm is about 100 to 2000 mJ / cm 2 . By the curing by the ultraviolet irradiation, a coating layer 10 having unevenness with a thickness of 15 μm was formed on the base roughening surface 11a on which the polyester film was sandblasted.
以上のような材料構成と工法により、塗膜層１０の表面１０ａ及び下地荒らし面１１ａにおける光の拡散反射性がさらに向上するので、高輝度のプロジェクター装置においても、映し出された映像の中央にプロジェクターの光源が明るいスポット状に見える現象、いわゆるホットスポットを生じない鮮明な映写画像を得ることができる、映写面へのマーカーの書き込みや消去が可能な映写用スクリーン及びこれを用いたホワイトボード装置を提供することができる。 With the material structure and method described above, the diffuse reflectance of light on the surface 10a of the coating layer 10 and the surface roughening surface 11a is further improved, so even in a high-brightness projector device, a projector is provided at the center of the projected image. A projection screen capable of writing or erasing a marker on a projection surface and a whiteboard device using the same can obtain a clear projection image that does not cause a phenomenon that the light source of the light source appears as a bright spot, that is, a so-called hot spot Can be provided.
なお、図２における塗膜層１０の表面（露出面）１０ａの凹凸の形成方法については、先に述べた球状微粒子８とマトリックス樹脂９を主体とするものに限らない。例えば、エンボス加工などの型押しによるものなど、一般に知られている他の凹凸形成方法でもよい。 2 is not limited to the above-described method using the spherical fine particles 8 and the matrix resin 9 as main components. For example, other generally known unevenness forming methods such as by embossing or other embossing may be used.
以下、表１に基づいて本発明の実施例を示す。尚、表１には、上記したＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に規定されている算術平均粗さをＲａ、平均山間隔をＳｍ、その平均山間隔Ｓｍを算術平均粗さＲａで割った値をＳｍ／Ｒａとして記載している。 また、「光沢度」とは、ＬＥＤ光源とシリコンフォトダーオード製受光部を有する光沢度計（堀場製作所製）を用いて、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に規定された鏡面光沢度−測定方法により計測される６０°鏡面光沢度のことである。以下、基材７の表面７ａ（下地荒らし面１１ａ）の光沢度を「下地光沢度」と称し、映写面としての塗膜層１０の表面１０ａの光沢度を「全体光沢度」と称する。全体光沢度の評価としては、３５以下のものは◎、３５を超えて４０以下のものは○、４０を超えるものは×と記した。 Examples of the present invention are shown below based on Table 1. Table 1 shows a value obtained by dividing the arithmetic average roughness specified in JIS B 0601: 2001 by Ra, the average peak interval Sm, and the average peak interval Sm by the arithmetic average roughness Ra. It is described as Ra. Further, the “glossiness” is measured by a specular glossiness-measuring method defined in JIS Z 8741 using a glossiness meter (manufactured by HORIBA, Ltd.) having an LED light source and a silicon photodiode photodiode. 60 ° specular gloss. Hereinafter, the glossiness of the surface 7a (base roughening surface 11a) of the substrate 7 is referred to as “base glossiness”, and the glossiness of the surface 10a of the coating layer 10 as a projection surface is referred to as “overall glossiness”. As the evaluation of the overall glossiness, those with 35 or less were marked with ◎, those with more than 35 and 40 or less were marked with ○, and those with more than 40 were marked with ×.
表１のサンプル番号１〜１１の各映写用スクリーンサンプルについて、プロジェクターによる映写性、ならびにホワイトボードマーカーを用いた筆記消去性を評価した。それらの評価方法について次に述べる。
市販の液晶プロジェクター（パナソニック製 ＰＴ−ＬＢ７５、最大輝度：２６００ルーメン）を用いて、映写用スクリーン正面約２ｍの距離より画像を映写し、投影画像の品質を目視で評価した。ここで、表１の光沢度（防眩性）の欄に、スクリーン上にホットスポットの存在が認められない程度に鮮明な映写画像が得られたものについては◎と記した。そして、ホットスポットの存在は認められるが、映写された画像の視認には支障が無い程度にその影響が低く、容認できる程度に鮮明な映写画像が得られたものについては○と記した。さらに、ホットスポットの存在が大きく認められ、映写された画像の視認に支障をきたす（すなわち「目が疲れる」などの症状を訴える）程度にその影響が大きく、鮮明な映写画像が得られなかったものについては×と記した。
（２）マーカー筆記消去性
An image was projected from a distance of about 2 m in front of the projection screen using a commercially available liquid crystal projector (PT-LB75, manufactured by Panasonic, maximum luminance: 2600 lumens), and the quality of the projected image was visually evaluated. Here, in the column of glossiness (antiglare property) in Table 1, “◎” was given to those in which a projected image was obtained to the extent that no hot spot was observed on the screen. The presence of a hot spot was recognized, but the effect was low to the extent that there was no hindrance to the visual observation of the projected image, and an acceptable clear projection image was marked as “◯”. In addition, the presence of hot spots was greatly recognized, and the effect was so great that it interfered with the visual recognition of the projected image (ie, complained of symptoms such as “eyes were tired”), and a clear projected image could not be obtained. Things were marked with x.
(2) Marker writing erasability
マーカー筆記消去性は、塗膜層１０（図２参照）表面の凹凸形状、すなわち、その算術平均粗さＲａ及び平均山間隔Ｓｍの値が、基材７の塗工面の状態に影響される。基材７の下地光沢度を下げ過ぎると、今度は下地荒らし処理を施された塗工面、すなわち下地荒らし面１１ａの凹凸が大きくなって塗膜層１０の表面１０ａの凹凸に影響する。その結果、表面１０ａの凹んだ部分に残ったマーカーのインクが拭き取りにくくなり、消去性を低下させる要因となる。 The marker writing erasability is affected by the surface roughness of the coating layer 10 (see FIG. 2), that is, the arithmetic average roughness Ra and the average peak spacing Sm. If the base glossiness of the substrate 7 is lowered too much, the unevenness of the coating surface that has been subjected to the base roughening treatment, that is, the base roughening surface 11a, becomes large and affects the unevenness of the surface 10a of the coating layer 10. As a result, the marker ink remaining in the recessed portion of the surface 10a is difficult to wipe off, which causes a decrease in erasability.
より具体的には次の通りである。下地荒らし表層１１の上に塗布された塗膜層１０に含まれる球状微粒子８（図２参照）が、下地荒らし表層１１の凹凸に影響されて、上下に大きく変動して配置される。球状微粒子８と基材７とを被覆するマトリックス樹脂９（図２参照）の凹凸は、球状微粒子８の配置に追従して形成される。すなわち、球状微粒子が配置されている部分が、配置されていない部分よりも突出した状態となる。したがって、球状微粒子８が基材７の下地荒らし表層１１上において、その凹凸により大きく変動して配置されると、それに追従して被覆するマトリックス樹脂９の凹凸も大きなものとなる。その結果、塗膜層１０の凹んだ部分に残ったマーカーのインクが拭き取りにくくなり、消去性が低下する。下地荒らし表層１１の突出部分が塗膜層１０の表面１０ａから露出することも考えられる。また、下地荒らし処理そのものにより、基材７自体の剛性が無くなったり、塗膜層１０の保持に耐えられなくなったりすることも考えられる。このような現象を回避するためには、基材７の塗工面の下地光沢度を１以上にすることが望ましいし、製造上もそれが現在の限界となっている。 More specifically, it is as follows. Spherical fine particles 8 (see FIG. 2) included in the coating layer 10 applied on the base surface-roughening surface layer 11 are affected by the unevenness of the base surface-roughening surface layer 11 so as to vary greatly in the vertical direction. The irregularities of the matrix resin 9 (see FIG. 2) that covers the spherical fine particles 8 and the substrate 7 are formed following the arrangement of the spherical fine particles 8. That is, the portion where the spherical fine particles are arranged protrudes from the portion where the spherical fine particles are not arranged. Therefore, when the spherical fine particles 8 are arranged on the surface roughening surface layer 11 of the base material 7 so as to vary greatly due to the unevenness, the unevenness of the matrix resin 9 that covers and follows the unevenness becomes large. As a result, it becomes difficult to wipe off the marker ink remaining in the recessed portion of the coating film layer 10 and the erasability is lowered. It is also conceivable that the protruding portion of the surface roughening surface layer 11 is exposed from the surface 10 a of the coating layer 10. In addition, it is also conceivable that the substrate roughening treatment itself may cause the base material 7 itself to lose its rigidity or be unable to withstand the holding of the coating film layer 10. In order to avoid such a phenomenon, it is desirable to set the base glossiness of the coated surface of the base material 7 to 1 or more, and this is the current limit in manufacturing.
マーカー筆記消去性の評価としては、黒色の市販ホワイトボード用マーカー（パナソニック電子黒板用マーカー（商品名：イレーサパナソニック））を用いて、映写用スクリーン上に文字を筆記した後、市販のホワイトボード用イレーサーを用いて文字を消去し、この筆記と消去を５０セット繰り返した。そして、色差ΔＥ、すなわち、上に述べた筆記・消去テスト開始前と筆記・消去テスト終了後とのＬ＊ａ＊ｂ＊値の変化量を測定することにより、マーカーインクの拭き取り性を評価し、表１の消去性の欄に、ΔＥが２以下のものを○、そうでないものを×と記した。
［比較例１（サンプル番号１）、比較例２(サンプル番号２)］
For the evaluation of marker writing erasability, use a black commercial whiteboard marker (Panasonic blackboard marker (trade name: Erasa Panasonic)) to write letters on the projection screen, and then use it for a commercial whiteboard. Characters were erased using an eraser, and this writing and erasure was repeated 50 sets. The marker ink wiping property is evaluated by measuring the color difference ΔE, that is, the amount of change in the L * a * b * value before and after the writing / erasing test described above. In the erasability column of Table 1, those with ΔE of 2 or less are marked with ◯, and those with no ΔE are marked with ×.
[Comparative Example 1 (Sample No. 1), Comparative Example 2 (Sample No. 2)]
表１に示すサンプル番号１の映写用スクリーンサンプルを作製した。この映写用スクリーンサンプルは、下地荒らし処理が施される前のポリエステルフィルムであり、例えば、三菱樹脂製：ダイヤホイルＷ−２００であり、その下地光沢度は９０である。この基材７（白色ポリエステルフィルム）の表面のサンドブラスト処理前の写真を図６（ａ）に示す。この状態では、表１に示されるように、基材７の表面の凹凸形状を数値で表すものとして、算術平均粗さＲａが０．１５、平均山間隔Ｓｍが３５、その平均山間隔Ｓｍを算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが２３３．３となった。このサンプル番号１のものでは、消去性は問題無いが、全体光沢度は４５．２であり、防眩性に劣る。 A projection screen sample of sample number 1 shown in Table 1 was produced. This projection screen sample is a polyester film before the surface roughening treatment, for example, made by Mitsubishi Resin: Diafoil W-200, and the background gloss is 90. A photograph of the surface of the substrate 7 (white polyester film) before sandblasting is shown in FIG. In this state, as shown in Table 1, assuming that the uneven shape of the surface of the base material 7 is expressed numerically, the arithmetic average roughness Ra is 0.15, the average mountain interval Sm is 35, and the average mountain interval Sm is The value Sm / Ra divided by the arithmetic average roughness Ra was 233.3. The sample number 1 has no problem with erasability, but the overall glossiness is 45.2, which is inferior in antiglare property.
表１のサンプル番号２は、上記サンプル番号１の映写用スクリーンサンプルに下地荒らし処理を図２で述べたマット塗工により行ったものである。表１に示されるように、その下地荒らし面では、下地光沢度が７５であり、算術平均粗さＲａが０．２、平均山間隔Ｓｍが２３、Ｓｍ／Ｒａが１１５．０となった。このサンプル番号２のものでは、消去性は問題無いが、全体光沢度がサンプル番号１より改善されたが４０．２であり、防眩性に劣る。
［実施例１（サンプル番号４）］
Sample No. 2 in Table 1 is obtained by subjecting the projection screen sample of Sample No. 1 to the surface roughening treatment by the mat coating described in FIG. As shown in Table 1, the background roughening surface had a background glossiness of 75, an arithmetic average roughness Ra of 0.2, an average peak spacing Sm of 23, and Sm / Ra of 115.0. In the sample No. 2, the erasability is not a problem, but the overall glossiness is improved from the sample No. 1, but it is 40.2, which is inferior in the antiglare property.
[Example 1 (sample number 4)]
サンプル番号４は、白色ポリエステルフィルムを基材７として用いたものである。下地光沢度が５５となるよう、基材７の表面（図５の二点鎖線）７ａに対してサンドブラスト処理を施した。白色ポリエステルフィルムには複数の酸化チタンの微粒子３１が含まれており、微粒子によって表れる凹凸と、サンドブラスト処理とにより下地荒らし面１１ａを形成した（図５参照）。そのサンドブラスト処理を施した後の写真を図６（ｂ）に示す。これにより、表１のサンプル番号４に示されるように、下地荒らし面１１ａの凹凸形状を表すものとして、算術平均粗さＲａが０．３６、平均山間隔Ｓｍが１９．２、その平均山間隔Ｓｍを算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが５３．３となった。このサンプル番号４のものでは、全体光沢度が４０以下の３６．２であり、防眩性に問題が無く、また消去性も良好である。
［実施例２（サンプル番号５）］
Sample No. 4 uses a white polyester film as the base material 7. The surface of the base material 7 (the two-dot chain line in FIG. 5) 7a was sandblasted so that the base glossiness was 55. The white polyester film contains a plurality of fine particles 31 of titanium oxide, and the roughening surface 11a was formed by the unevenness expressed by the fine particles and the sand blast treatment (see FIG. 5). A photograph after the sandblast treatment is shown in FIG. Thereby, as shown by sample number 4 in Table 1, the arithmetic average roughness Ra is 0.36, the average mountain interval Sm is 19.2, and the average mountain interval is expressed as representing the uneven shape of the base roughening surface 11a. The value Sm / Ra obtained by dividing Sm by the arithmetic average roughness Ra was 53.3. Sample No. 4 has an overall glossiness of 36.2, which is 40 or less, has no problem with antiglare properties, and has good erasability.
[Example 2 (sample number 5)]
上記実施例１と同じ基材７を用い、その下地荒らし面１１ａの下地光沢度が１０になるようにサンドブラスト処理を施した。そのサンドブラスト処理を施した後の写真を図７（ａ）に示す。これにより、表１のサンプル番号５に示されるように、算術平均粗さＲａが０．５６、平均山間隔Ｓｍが１８、Ｓｍ／Ｒａが３２．１となった。このサンプル番号５のものでは、下地光沢度は１１であるが、全体光沢度が３５以下の２８．６となり、防眩性に何等問題が無く、また消去性も良好である。 The same base material 7 as in Example 1 was used, and sandblasting was performed so that the base glossing surface 11a had a base glossiness of 10. A photograph after the sandblast treatment is shown in FIG. As a result, as shown in sample number 5 of Table 1, the arithmetic average roughness Ra was 0.56, the average peak interval Sm was 18, and Sm / Ra was 32.1. In Sample No. 5, the base glossiness is 11, but the overall glossiness is 28.6, which is 35 or less, and there is no problem with anti-glare property, and the erasability is good.
なお、同じサンドブラスト処理を用いて異なる下地光沢度を得るためには、基材７の下地荒らし処理を施す面に当てる砂の粒径、数、形状、当てるスピード等を調整すれば可能である。以下の例においても、同様にサンドブラスト処理の調整を行っている。
［実施例３（サンプル番号７）］
In order to obtain different base glossiness using the same sandblasting process, it is possible to adjust the particle size, number, shape, speed, etc. of sand applied to the surface of the base material 7 to which the base roughening process is applied. In the following examples, the sandblasting process is similarly adjusted.
[Example 3 (sample number 7)]
上記実施例１と同じ基材７を用い、その下地荒らし面１１ａの下地光沢度が３になるようにサンドブラスト処理を施した。そのサンドブラスト処理を施した後の写真を図７（ｂ）に示す。これにより、表１のサンプル番号７に示されるように、算術平均粗さＲａが０．７７、平均山間隔Ｓｍが１８．９、Ｓｍ／Ｒａが２４．５となった。このサンプル番号７のものでは、下地光沢度が３で、全体光沢度が３５以下の２５．３となり、防眩性に何等問題が無く、また消去性も良好である。
［実施例４（サンプル番号８）］
The same base material 7 as in Example 1 was used, and sandblasting was performed so that the base glossing surface 11a had a base glossiness of 3. A photograph after the sandblasting is shown in FIG. As a result, as shown in Sample No. 7 in Table 1, the arithmetic average roughness Ra was 0.77, the average peak interval Sm was 18.9, and Sm / Ra was 24.5. In sample No. 7, the base glossiness is 3 and the overall glossiness is 25.3, which is 35 or less, and there is no problem in antiglare property and erasability is good.
[Example 4 (sample number 8)]
上記実施例１と同じ基材７を用い、その下地荒らし面１１ａの下地光沢度が２になるようにサンドブラスト処理を施した。そのサンドブラスト処理を施した後の写真を図８に示す。これにより、表１のサンプル番号８に示されるように、算術平均粗さＲａが０．９７、平均山間隔Ｓｍが２２．５、Ｓｍ／Ｒａが２３．２となった。このサンプル番号８のものでは、下地光沢度が２で、全体光沢度が３５以下の２５．６となり、防眩性に何等問題が無く、また消去性も良好である。
［実施例５（サンプル番号３）、実施例６〜８（サンプル番号６、９、１０）］
The same base material 7 as in Example 1 was used, and sandblasting was performed so that the base glossing surface 11a had a base glossiness of 2. A photograph after the sandblasting is shown in FIG. As a result, as shown in sample number 8 of Table 1, the arithmetic average roughness Ra was 0.97, the average peak interval Sm was 22.5, and Sm / Ra was 23.2. Sample No. 8 has a base glossiness of 2 and an overall glossiness of 25.6, which is 35 or less, and has no problem with antiglare properties and good erasability.
[Example 5 (sample number 3), Examples 6 to 8 (sample numbers 6, 9, 10)]
表１のサンプル番号３は、サンプル番号１の基材７の表面７ａにサンドブラスト処理を施して、下地光沢度が６５になるようにしたものである。この場合には、表１のサンプル番号３に示されるように、算術平均粗さＲａが０．３、平均山間隔Ｓｍが２６、Ｓｍ／Ｒａが８６．７となった。このサンプル番号３のものでは、下地光沢度が６５で、全体光沢度が３８．６となり、防眩性に特に問題が無く、また消去性も良好である。 Sample No. 3 in Table 1 is obtained by subjecting the surface 7a of the base material 7 of Sample No. 1 to sand blasting so that the base glossiness is 65. In this case, as shown in sample number 3 of Table 1, the arithmetic average roughness Ra was 0.3, the average peak interval Sm was 26, and Sm / Ra was 86.7. Sample No. 3 has a base glossiness of 65, an overall glossiness of 38.6, no problem with antiglare properties, and good erasability.
表１のサンプル番号６は、基材７に、発泡ポリプロピレンに酸化チタンの粒子が含まれるものを用いて、発泡した表面により下地荒らし面１１ａを形成したものである。これにより、表１のサンプル番号６に示されるように、算術平均粗さＲａが０．６８、平均山間隔Ｓｍが１６．５、Ｓｍ／Ｒａが２４．３となった。このサンプル番号６のものでは、下地光沢度が６であり、全体光沢度が３５以下の２７．６であり、防眩性に何等問題が無く、また消去性も良好である。 Sample No. 6 in Table 1 is such that the base surface roughening surface 11a is formed from the foamed surface using the base material 7 in which the foamed polypropylene contains titanium oxide particles. As a result, as shown in sample number 6 of Table 1, the arithmetic average roughness Ra was 0.68, the average peak interval Sm was 16.5, and Sm / Ra was 24.3. In sample No. 6, the base glossiness is 6, the overall glossiness is 27.6 which is 35 or less, there is no problem in antiglare property, and erasability is good.
表１のサンプル番号９は、図２の下地荒らし表層１１にカシュー（登録商標）塗料を用いたものである。この場合には、表１のサンプル番号９に示されるように、算術平均粗さＲａが１．２９、平均山間隔Ｓｍが１７．７、Ｓｍ／Ｒａが１３．７となった。このサンプル番号６のものでは、下地光沢度が４であり、全体光沢度が３５以下の２７．６であり、防眩性に何等問題が無く、また消去性も良好である。 Sample No. 9 in Table 1 uses a cashew (registered trademark) paint for the surface roughening surface layer 11 in FIG. In this case, as shown in sample number 9 in Table 1, the arithmetic average roughness Ra was 1.29, the average peak interval Sm was 17.7, and Sm / Ra was 13.7. Sample No. 6 has a base glossiness of 4 and an overall glossiness of 27.6 which is 35 or less, which has no problem with antiglare properties and good erasability.
表１のサンプル番号１０は、算術平均粗さＲａが１．５になるようにしたもので、また平均山間隔Ｓｍが１７．２で、Ｓｍ／Ｒａが１１．５となったものである。このサンプル番号１０のものでは、下地光沢度が１．８であり、全体光沢度が３５以下の２６．８であり、防眩性も、消去性も良好である。
［比較例３（サンプル番号１１）］
Sample No. 10 in Table 1 has an arithmetic average roughness Ra of 1.5, an average peak interval Sm of 17.2, and Sm / Ra of 11.5. Sample No. 10 has a base glossiness of 1.8 and an overall glossiness of 26.8 which is 35 or less, and has good antiglare properties and erasability.
[Comparative Example 3 (Sample No. 11)]
表１のサンプル番号１１は、算術平均粗さＲａがサンプル番号１０のものよりも大きい１．７としたものである。平均山間隔Ｓｍは１６．８で、Ｓｍ／Ｒａが９．９である。このサンプル番号１１のものでは、下地光沢度が１．５であり、全体光沢度は３５以下の２６．５で、防眩性に何等問題は無いが、消去性に難があった。すなわち、サンプル番号１１の基材７の下地荒らし表層１１上に塗膜層１０を形成すると、その映写筆記面の凹凸が大きくなり、マーカーインクの消し残りが目立った。
（評価）
Sample number 11 in Table 1 has an arithmetic average roughness Ra of 1.7, which is larger than that of sample number 10. The average mountain interval Sm is 16.8 and Sm / Ra is 9.9. Sample No. 11 had a base glossiness of 1.5 and an overall glossiness of 26.5, which was 35 or less. There was no problem with antiglare properties, but there was difficulty in erasability. That is, when the coating layer 10 was formed on the surface roughening surface layer 11 of the base material 7 of the sample number 11, the projection writing unevenness became large and the unerased marker ink was conspicuous.
(Evaluation)
映写用スクリーン兼用ホワイトボードとして、消去性（マーカー筆記消去性）を満足するためには、映写面かつボード面となる塗膜層１０の表面１０ａの凹凸形状が条件の一つとなる。表１において、消去性を満足するのは、上記したように○が記されたものであり、サンプル番号１〜１０のものである。 In order to satisfy the erasability (marker writing erasability) as a projection screen white board, the uneven shape of the surface 10a of the coating layer 10 serving as the projection surface and the board surface is one of the conditions. In Table 1, the erasability is satisfied when ◯ is marked as described above, and those with sample numbers 1 to 10.
一方、表面１０ａが滑らかなほど消去性に優れるが、表面１０ａが滑らかになるほど表面１０ａの光沢度が高くなって、全体光沢度が増大する。全体光沢度が高くなると、上記したように近年の高輝度プロジェクター装置によるホットスポットが生じてしまう。そのようなホットスポットが目立たないようにするものとしては、表１において、全体光沢度に上記したように◎と○とが記されたもので、具体的には全体光沢度が４０以下のものであり、サンプル番号３〜１１のものである。 On the other hand, the smoother the surface 10a, the better the erasability, but the smoother the surface 10a, the higher the glossiness of the surface 10a and the higher the overall glossiness. When the overall glossiness becomes high, a hot spot by a recent high-intensity projector device occurs as described above. In order to make such hot spots inconspicuous, in Table 1, as described above, ◎ and ○ are indicated for the overall gloss, and specifically, the overall gloss is 40 or less. And sample numbers 3-11.
上記したように、消去性については塗膜層１０の表面１０ａの凹凸形状などにより対応可能であるが、表面１０ａに対して消去性を優先させた凹凸形状にした場合には、全体光沢度が高くなってしまう（サンプル番号１、２）。 As described above, the erasability can be dealt with by the concavo-convex shape of the surface 10a of the coating layer 10, but when the concavo-convex shape is given priority to the erasability with respect to the surface 10a, the overall glossiness is It becomes high (sample numbers 1 and 2).
それに対して、消去性を優先させた表面１０ａの凹凸形状としても、全体光沢度には下地光沢度も関係することから、その下地光沢度を調整して、上記したホットスポットが生じないように全体光沢度を調整することができる。表１から、消去性及び全体光沢度を満足する全体光沢度の上限の目安としては４０以下であり、全体光沢度が４０に近いサンプル番号３の下地光沢度は６５である。その下地光沢度６５にするための下地荒らし面１１ａの凹凸を表すものとして、サンプル番号３によれば、算術平均粗さＲａが０．３、平均山間隔Ｓｍが２６、Ｓｍ／Ｒａが８６．７である。 On the other hand, even if the concavo-convex shape of the surface 10a gives priority to erasability, the base glossiness is also related to the overall glossiness, so that the above-mentioned hot spot does not occur by adjusting the base glossiness. The overall glossiness can be adjusted. From Table 1, the upper limit of the overall glossiness satisfying the erasability and the overall glossiness is 40 or less, and the base glossiness of the sample number 3 with the overall glossiness close to 40 is 65. According to Sample No. 3, the arithmetic average roughness Ra is 0.3, the average crest interval Sm is 26, and the Sm / Ra is 86. 7.
また、下地荒らし処理は、その下地光沢度が可能な限り低くなるよう、基材７に対して施された方がよい。下地光沢度が下がれば下がるほど、全体としての塗膜層１０の表面１０ａの光沢度も下がる傾向にある。その結果、光の拡散反射性がさらに向上する。しかしながら、下地荒らし処理により、基材７に対して際限なく低い下地光沢度が得られるものではない。現状では、値の低い側で実現容易な下地光沢度は、通常３〜２であり、さらに１まで可能である。これにより、下地荒らし面７ａの凹凸は６０°鏡面光沢度により規定され、その範囲は１から６５であるとよい。また、全体光沢度は何等問題無いが、消去性に難ありとされたサンプル番号１１の下地条件では、算術平均粗さＲａが１．７、Ｓｍ／Ｒａが９．９であった。サンプル番号１１の基材７の下地荒らし表層１１上に塗膜層１０を形成すると、塗膜層１０の筆記映写面の凹凸が大きくなり、マーカーインクの消し残りが目立った。基材７の下地光沢度を下げ過ぎると、その下地荒らし面７ａの凹凸が大きくなる。それに影響されて、たとえ下地光沢度が低くない基材７と同じ条件で塗膜層１０を形成したとしても、その映写筆記面の凹凸が相対的に、より大きくなるものと思われる。 Further, it is preferable that the base roughening treatment is performed on the base material 7 so that the base glossiness is as low as possible. The lower the base glossiness, the lower the glossiness of the surface 10a of the coating layer 10 as a whole. As a result, the diffuse reflectance of light is further improved. However, the background roughening treatment does not provide an endlessly low background gloss for the substrate 7. Under the present circumstances, the base glossiness that can be easily realized on the low value side is usually 3 to 2, and can be up to 1. Thereby, the unevenness | corrugation of the base roughening surface 7a is prescribed | regulated by 60 degree specular glossiness, and the range is good to be 1 to 65. Further, the overall glossiness was not a problem, but under the ground condition of sample number 11 that was difficult to erase, the arithmetic average roughness Ra was 1.7 and Sm / Ra was 9.9. When the coating layer 10 was formed on the surface roughening surface layer 11 of the base material 7 of the sample number 11, the unevenness of the writing projection surface of the coating layer 10 became large, and the unerased marker ink was conspicuous. When the base glossiness of the substrate 7 is excessively lowered, the unevenness of the base roughening surface 7a becomes large. Even if the coating layer 10 is formed under the same conditions as those of the base material 7 that is not low in base gloss, it is considered that the unevenness of the projection writing surface becomes relatively larger.
このように、映写用スクリーン兼用ホワイトボードとして、全体光沢度及び消去性の両者を満足するものは、表１から明らかなように、サンプル番号３〜１０となり、下地荒らし面１１ａの凹凸形状を表すものとして、算術平均粗さＲａが０．３≦Ｒａ≦１．５の範囲にあり、その平均山間隔Ｓｍを算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが、１０≦Ｓｍ／Ｒａ≦１００の範囲にあると良いことが判明した。これにより、高輝度のプロジェクター装置においても、映し出された映像の中央にプロジェクターの光源が明るいスポット状に見える現象、いわゆるホットスポットを生じない鮮明な映写画像を得ることができる、映写面へのマーカーの書き込みや消去が可能な映写用スクリーン及びこれを用いたホワイトボード装置を提供することができる。 Thus, as the projection screen white board that satisfies both the overall glossiness and the erasability, as shown in Table 1, sample numbers 3 to 10 indicate the uneven shape of the base roughening surface 11a. The arithmetic average roughness Ra is in the range of 0.3 ≦ Ra ≦ 1.5, and the value Sm / Ra obtained by dividing the average peak interval Sm by the arithmetic average roughness Ra is 10 ≦ Sm / Ra ≦ 100. It turned out to be good to be in the range. As a result, even in a high-brightness projector device, it is possible to obtain a sharp projected image in which the light source of the projector appears as a bright spot at the center of the projected image, that is, a so-called hot spot. It is possible to provide a projection screen capable of writing and erasing and a whiteboard device using the same.
さらに、スクリーン上にホットスポットの存在が認められない程度に鮮明な映写画像が得られたものとして表１に◎で記されたものであるとさらに良い。その範囲は表１のサンプル番号５〜１０となり、下地条件として、算術平均粗さＲａが０．５≦Ｒａ≦１．５の範囲にあり、その平均山間隔Ｓｍを算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが、１０≦Ｓｍ／Ｒａ≦５０の範囲となる。 Further, it is more preferable that the film is marked with 表 in Table 1 on the assumption that a sharp projected image is obtained to the extent that no hot spot is recognized on the screen. The range is sample numbers 5 to 10 in Table 1. As the ground conditions, the arithmetic average roughness Ra is in the range of 0.5 ≦ Ra ≦ 1.5, and the average peak interval Sm is divided by the arithmetic average roughness Ra. The value Sm / Ra falls within the range of 10 ≦ Sm / Ra ≦ 50.
なお、表１のサンプル番号３〜１０の映写用スクリーンサンプルについて、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４に記載の方法で、引っかき硬度（鉛筆法）を計測したところ、いずれのサンプルも鉛筆硬度Ｂ以上を有していた。すなわち、耐磨耗性についても十分な性能を有する。 In addition, about the screen sample for a projection of the sample numbers 3-10 of Table 1, when scratch hardness (pencil method) was measured by the method of JISK5600-5-4, all samples had pencil hardness B or more. Had. That is, it has sufficient performance with respect to wear resistance.
また、下地荒らし面１１ａについては、基材７の表面を直接的にサンドブラスト処理した例について述べたが、上記した図２のように基材７の表面にマット塗工等により下地荒らし表層１１を形成して、その表面をサンドブラストその他の処理により凹凸形状に加工して形成してもよい。 Further, regarding the base roughening surface 11a, the example in which the surface of the base material 7 is directly sandblasted has been described. However, as shown in FIG. 2, the base roughening surface layer 11 is applied to the surface of the base material 7 by mat coating or the like. The surface may be formed and processed into a concavo-convex shape by sandblasting or other treatment.
このように、表１から明らかなように、本発明の構成を有する映写用スクリーン（サンプル番号３〜１０）を用いることで、良好なプロジェクター映写性とマーカー筆記消去性を兼ね備えたホワイトボード装置を実現することができる。 Thus, as is clear from Table 1, by using the projection screen (sample numbers 3 to 10) having the configuration of the present invention, a whiteboard device having both good projector projection and marker writing erasability is obtained. Can be realized.
以上、本発明を、その好適形態実施例について説明したが、当業者であれば容易に理解できるように、本発明はこのような実施例により限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能であり、例えば電子黒板装置にも適用し得る。また、上記実施形態に示した構成要素は必ずしも全てが必須なものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて適宜取捨選択することが可能である。 Although the present invention has been described above with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to such embodiments so that those skilled in the art can easily understand, and departs from the spirit of the present invention. For example, the present invention can be applied to an electronic blackboard device. In addition, all the components shown in the above embodiment are not necessarily essential, and can be appropriately selected without departing from the gist of the present invention.
本発明の投影用スクリーンによれば、高輝度のプロジェクター装置においても鮮明な映写画像を得ることができ、また、ホワイトボード用の投影用スクリーンとしても有用である。 According to the projection screen of the present invention, a clear projected image can be obtained even in a projector device with high brightness, and is also useful as a projection screen for whiteboard.
１ ホワイトボード装置本体
２ ボード面
３ パーソナルコンピュータ
４ プロジェクター装置
５ マーカー
６ イレーサー
７ 基材
７ａ 表面
８ 球状微粒子
９ マトリックス樹脂
１０ 塗膜層
１０ａ 表面
１１ 下地荒らし表層
１１ａ 下地荒らし面
１２ 添加剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Whiteboard apparatus main body 2 Board surface 3 Personal computer 4 Projector apparatus 5 Marker 6 Eraser 7 Base material 7a Surface 8 Spherical fine particle 9 Matrix resin 10 Coating layer 10a Surface 11 Ground surface roughening surface 11a Ground surface roughening surface 12 Additive
Claims (4)
前記基材の表面に形成され、前記基材と接する面とは反対側の露出面に凹凸を有する塗膜層と、を備え、
前記基材の前記塗膜層との接触面において、凹凸を有する下地荒らし面が形成され、
前記下地荒らし面の凹凸は、その算術平均粗さＲａが０．３≦Ｒａ≦１．５の範囲にあり、その平均山間隔Ｓｍを前記算術平均粗さＲａで割った値Ｓｍ／Ｒａが、１０≦Ｓｍ／Ｒａ≦１００の範囲にあることを特徴とする映写用スクリーン。 A substrate;
A coating layer formed on the surface of the substrate and having irregularities on the exposed surface opposite to the surface in contact with the substrate;
In the contact surface with the coating film layer of the base material, a base roughening surface having irregularities is formed,
The unevenness of the ground surface roughening surface has an arithmetic average roughness Ra in a range of 0.3 ≦ Ra ≦ 1.5, and a value Sm / Ra obtained by dividing the average peak interval Sm by the arithmetic average roughness Ra is: A projection screen characterized by being in the range of 10 ≦ Sm / Ra ≦ 100.
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