JP2013201175A - Light reflector - Google Patents

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Maho Hasuike
真保 蓮池
Kazuya Tanaka
一也 田中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a light reflector which has a high heat resistance, and a high reflectance to light of a visible light region, which is less prone to be reduced in reflectance in high-temperature thermal load and UV environments, and which can be used as a reflector adapted to LED mounting; and an LED package having the reflector used therein.SOLUTION: The light reflector is produced by molding a resin composition including a thermosetting silicone resin (A) and alumina (B) blended into the silicone resin. The sodium content in the alumina (B) is no less than 80 ppm below 300 ppm. The reflector achieves an average reflectance of 94% or more against light of a wavelength of 350-450 nm with a thickness of 0.4 mm.

Description

本発明は、耐熱性に優れ、且つ高い反射率特性を備えた光反射体に関する。特に紫外線領域等、短波長光領域の光に対する光反射体として好適であり、より詳細には、半田リフロー工程等の(長期)高温熱負や、更には紫外線(UV)照射等の厳しい条件を経ても反射率低下が抑制され、発光ダイオード(Light Emitting diode。以下、LEDと略記することがある。)等を実装するLEDパッケージの光反射体として好適な、光反射体等に関する。   The present invention relates to a light reflector having excellent heat resistance and high reflectance characteristics. In particular, it is suitable as a light reflector for light in the short-wavelength light region such as the ultraviolet region, and more specifically, (long-term) high-temperature heat negative such as a solder reflow process, and further severe conditions such as ultraviolet (UV) irradiation. The present invention also relates to a light reflector and the like suitable as a light reflector of an LED package on which a light emitting diode (Light Emitting Diode; hereinafter abbreviated as LED) or the like is mounted.

LEDは小型、軽量、省エネルギーなどの特長を有しており、パソコン、テレビ、携帯電話等のバックライト光源や、テンキー照明等の各種表示灯光源として電子機器に数多く採用されている。
LEDは、LED素子を、電極部材や光反射部材、LED素子封止樹脂部材等から構成されたLEDパッケージとし、これを配線基板等に実装し使用する形態が一般的である。LEDパッケージの構造としては、砲弾型、表面実装型、COB型、パワーLED型など種々のものがあるが、その中でも表面実装型パッケージは、一般的な半導体パッケージと同様に半田リフロー工程を経ることでプリント基板等に実装できるという特長があり、広く使用されている。
LEDs have features such as small size, light weight, and energy saving, and are widely used in electronic devices as backlight light sources for personal computers, televisions, mobile phones and the like and various display light sources such as numeric keypad lighting.
In LED, an LED element is an LED package composed of an electrode member, a light reflecting member, an LED element sealing resin member, and the like, and a form in which the LED element is mounted on a wiring board or the like is generally used. There are various LED package structures such as a shell type, surface mount type, COB type, and power LED type. Among them, the surface mount type package undergoes a solder reflow process in the same manner as a general semiconductor package. And is widely used because it can be mounted on printed circuit boards.

近年、LEDの高輝度化技術の著しい向上により、LED素子自体の発熱量が増大している。これに伴い、プリント配線基板等周辺にかかる熱負荷が増大し、LED素子周辺温度が100℃を超える場合がある。またLEDパッケージの製造工程においては、LED素子封止樹脂における熱硬化処理工程や、鉛フリー半田を採用した場合の半田リフロー工程において、200〜300℃ 程度の高温環境下に配線基板が曝される場合もある。   In recent years, the amount of heat generated by the LED element itself has increased due to a significant improvement in LED brightness enhancement technology. Along with this, the thermal load applied to the periphery of the printed wiring board and the like increases, and the LED element peripheral temperature may exceed 100 ° C. in some cases. Further, in the LED package manufacturing process, the wiring substrate is exposed to a high temperature environment of about 200 to 300 ° C. in the thermosetting process in the LED element sealing resin and the solder reflow process in the case of using lead-free solder. In some cases.

この様な熱負荷環境下では、従来使用されてきたポリアミド系樹脂からなる光反射体では、耐光性が低いので光反射体自体が黄変し、光源の白色度が低下や反射効率が劣ると言う問題があった。そして光照射下、特に紫外線照射下で黄変するなど、白色度が低下し反射率が低下する傾向もあり、次世代高輝度LED搭載向け反射体としては、依然改良の余地があった。   Under such a heat load environment, a light reflector made of a polyamide-based resin that has been conventionally used has low light resistance, so that the light reflector itself is yellowed, and the whiteness of the light source is reduced or the reflection efficiency is inferior. There was a problem to say. Further, there is a tendency that the whiteness decreases and the reflectance decreases, such as yellowing under light irradiation, particularly under ultraviolet irradiation, and there is still room for improvement as a reflector for mounting next-generation high-brightness LEDs.

この様な課題に対しては、セラミックを使用した光反射体が検討されている。しかしこの光反射体は、耐熱性の点では優れているものの、硬く脆い性質から薄型化には限界があり、実装プロセス工程時に端部が割れや欠けが発生し易いという問題がある。加えて製造コストが高いのが現状である。今後の一般照明用途や、ディスプレー用途向けの反射体として、高温熱負荷下、UV照射下で、変色しない、反射率の低下しない、耐熱性を有する熱可塑樹脂系の反射体の開発が求められていた。 また、現在のLEDの白色化に伴い、より紫外領域の反射率が高いことが求められていた。   For such problems, a light reflector using ceramic has been studied. However, although this light reflector is excellent in terms of heat resistance, there is a limit to thinning because of its hard and brittle nature, and there is a problem that the end portion is likely to be cracked or chipped during the mounting process. In addition, the current manufacturing cost is high. As reflectors for future general lighting and display applications, development of heat-resistant thermoplastic resin-based reflectors that do not change color or reflectivity under high-temperature heat load or UV irradiation is required. It was. In addition, with the current whitening of LEDs, higher reflectivity in the ultraviolet region has been demanded.

これらの課題に対しては、例えば特許文献1には、特定のポリアミド樹脂100質量部に対して、酸化チタンを1〜40質量部、及び強化材を5〜30質量部含有する、LEDリフレクター成形用ポリアミド樹脂組成物が提案されている。具体的には、例えば前記ポリアミド樹脂組成物を射出成形させた厚さ1mm、幅40mm、長さ100mmの板が開示されている。   For these problems, for example, Patent Document 1 discloses that LED reflector molding includes 1 to 40 parts by mass of titanium oxide and 5 to 30 parts by mass of a reinforcing material with respect to 100 parts by mass of a specific polyamide resin. A polyamide resin composition has been proposed. Specifically, for example, a plate having a thickness of 1 mm, a width of 40 mm, and a length of 100 mm obtained by injection molding of the polyamide resin composition is disclosed.

そして特許文献1には、この樹脂組成物からなるリフレクターは、熱負荷下(180℃で3時間)でも、波長470nmの反射率が80%を超えており、高い白色度が維持され、また260℃で10秒間熱を加えても成形試験片の変形や膨れの発生がなく、半田リフロー耐熱性に優れると記されている。   In Patent Document 1, the reflector made of this resin composition has a reflectance of more than 80% at a wavelength of 470 nm even under a heat load (3 hours at 180 ° C.), and maintains high whiteness. It is stated that even when heat is applied at 0 ° C. for 10 seconds, the molded specimen does not deform or swell and is excellent in solder reflow heat resistance.

また特許文献2には、250nm〜750nmの範囲の各波長の光に対する反射率が70%以上であり、長波長領域(750nm)の反射率と短波長領域(300nm)の反射率の差が20以下である光反射面を有し、かつ該光反射面から剥離する層を有さない焼結体、からなる発光素子搭載用セラミックス焼結体により、紫外線領域から可視光領域にわたって光反射率の高い発光素子搭載用セラミックス焼結体について記載されている。具体的には、厚さが概ね0.6mmとなるように製造した基板が開示されている。前記セラミックス焼結体からなる基板は、250nm〜750nmの全ての波長で反射率が90%以上であることが記されている。   In Patent Document 2, the reflectance for light of each wavelength in the range of 250 nm to 750 nm is 70% or more, and the difference between the reflectance in the long wavelength region (750 nm) and the reflectance in the short wavelength region (300 nm) is 20%. A light-emitting element mounting ceramic sintered body comprising a sintered body having a light reflecting surface and having no layer peeled from the light reflecting surface, and having a light reflectivity ranging from the ultraviolet region to the visible light region. It describes a ceramic sintered body for mounting a high light emitting element. Specifically, a substrate manufactured to have a thickness of approximately 0.6 mm is disclosed. It is described that the substrate made of the ceramic sintered body has a reflectance of 90% or more at all wavelengths of 250 nm to 750 nm.

さらに特許文献3には、(A)熱硬化性オルガノポリシロキサン、(B)白色顔料、(C)無機フィラー(但し、白色顔料を除く)、(D)硬化触媒、(E)離型材、(F)シランカップリング剤、を必須成分とする光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物において、(B)成分の白色顔料がアルミナ又はシリカとアルミナで表面処理されている単位格子がアナタース型構造の二酸化チタンであり、波長350〜400nmで光反射率が80%以上である光半導体ケース形成用白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物について記載されている。   Further, Patent Document 3 includes (A) thermosetting organopolysiloxane, (B) white pigment, (C) inorganic filler (excluding white pigment), (D) curing catalyst, (E) release material, ( F) A white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case containing a silane coupling agent as an essential component, wherein the unit cell in which the white pigment of component (B) is surface-treated with alumina or silica and alumina is anatase It describes a white thermosetting silicone resin composition for forming an optical semiconductor case, which is a titanium dioxide having a mold structure and has a light reflectance of 80% or more at a wavelength of 350 to 400 nm.

具体的には、直径50mm×厚さ3mmの円盤が開示されている。前記シリコーン樹脂組成物からなるリフレクターは、400nmにおける反射率が90%を超えており、さらに、180℃で24時間熱処理した後の470nmにおける反射率の低下がなく、また、UV照射24時間後の470nmにおける反射率低下もないことが記されている。   Specifically, a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm is disclosed. The reflector composed of the silicone resin composition has a reflectance of more than 90% at 400 nm, and further has no decrease in reflectance at 470 nm after heat treatment at 180 ° C. for 24 hours, and after 24 hours of UV irradiation. It is noted that there is no decrease in reflectance at 470 nm.

特開2011−21128公報JP 2011-21128 A W02007/034955公報W02007 / 034955 特開2011−54902公報JP 2011-54902 A

しかし特許文献1に記載の光反射体では、180℃、3時間熱処理した後の470nmにおける反射率低下は9.5〜28.2%であり、未だその抑制が不充分であった。加えて180℃、4時間熱処理後の白色度も9.5〜28.2低下しており、反射率及び白色度の耐熱性が不充分であった。   However, in the light reflector described in Patent Document 1, the reflectance decrease at 470 nm after heat treatment at 180 ° C. for 3 hours was 9.5 to 28.2%, and the suppression thereof was still insufficient. In addition, the whiteness after heat treatment at 180 ° C. for 4 hours was also reduced by 9.5 to 28.2, and the heat resistance of reflectance and whiteness was insufficient.

また特許文献2に記載の発光素子搭載用セラミックス焼結体は、UV照射による反射率低下は避けられず、また硬く脆い性質や、加工性の観点からも、LED搭載用リフレクターへの工業的適用は困難であった。   In addition, the ceramic sintered body for mounting a light emitting element described in Patent Document 2 cannot avoid a decrease in reflectance due to UV irradiation, and is also industrially applied to a reflector for mounting an LED from the viewpoint of hard and brittle properties and workability. Was difficult.

さらに特許文献3に記載のシリコーン樹脂組成物についても、特許文献3で提案されている円盤は厚さが3mmもある、厚肉成形品であるために高い反射率を実現している可能性があり、LED実装用基板の厚み(具体的には例えば、数百μm厚)とした際に、同様の反射率が実現できるかという点には疑問が残る。   Further, with respect to the silicone resin composition described in Patent Document 3, the disc proposed in Patent Document 3 is a thick molded product having a thickness of 3 mm, and thus may have high reflectivity. There is still a question as to whether the same reflectance can be realized when the thickness of the LED mounting substrate (specifically, for example, several hundred μm thick) is used.

本発明は、耐熱性が高く、可視光領域の光に対する反射率が高く、及び高温熱負荷環境下、UV環境下における反射率の低下が少ない、LED実装用反射体として利用可能な光反射体を提供することにある。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is a light reflector that can be used as a LED mounting reflector that has high heat resistance, high reflectance for light in the visible light region, and little reduction in reflectance under a high-temperature heat load environment and a UV environment. Is to provide.

本発明者らは、この様な課題を更に改良すべく、とりわけシリコーン樹脂組成物の構成材料とその反射率に着目し、具体的には熱硬化性シリコーン樹脂(A)にアルミナ(B)を配合してなる樹脂組成物と、これを成形して得られる光反射体について検討した。   In order to further improve such problems, the present inventors pay particular attention to the constituent material of the silicone resin composition and its reflectance, and specifically, alumina (B) is added to the thermosetting silicone resin (A). A resin composition obtained by blending and a light reflector obtained by molding the resin composition were studied.

その結果、アルミナ(B)におけるナトリウム含有量と、この樹脂組成物を成形してなる光反射体の光反射率との関係に於いて、ナトリウム含有量を低減することで光反射率が向上することを見出した。更に意外なことに、このナトリウム含有量が特定量以下になると逆に光反射率が低下することを見出した。   As a result, in the relationship between the sodium content in alumina (B) and the light reflectance of the light reflector formed by molding this resin composition, the light reflectance is improved by reducing the sodium content. I found out. Surprisingly, it has been found that when the sodium content falls below a specific amount, the light reflectance decreases.

そして、熱硬化性シリコーン樹脂(A)にアルミナ(B)を配合してなる樹脂組成物としてアルミナ(B)におけるナトリウム含有量が特定範囲であるものを用い、これを成形して、厚み0.4mmの極薄であっても波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上となる優れた反射特性を有する、これらの課題を解決できる光反射体を見出し、本発明を完成させた。   And as a resin composition formed by blending alumina (B) with thermosetting silicone resin (A), a resin composition having a sodium content in alumina (B) within a specific range is molded, and the thickness is 0. The present inventors have completed the present invention by finding a light reflector capable of solving these problems, which has excellent reflection characteristics such that the average reflectance with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm is 94% or more even though the thickness is 4 mm.

即ち本発明の要旨は、以下の(1)〜(11)である。
(1):熱硬化性シリコーン樹脂(A)にアルミナ(B)を配合してなる樹脂組成物を成形して得られる光反射体であって、アルミナ(B)のナトリウム含有量が80ppm以上300ppm未満であり、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする光反射体。
That is, the gist of the present invention is the following (1) to (11).
(1): A light reflector obtained by molding a resin composition obtained by blending alumina (B) with thermosetting silicone resin (A), wherein the sodium content of alumina (B) is 80 ppm or more and 300 ppm. A light reflector having an average reflectance of 94% or more with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm.

(2):熱硬化性シリコーン樹脂が、ケイ素原子に結合したメチル基を有することを特徴とする(1)に記載の光反射体。 (2) The light reflector according to (1), wherein the thermosetting silicone resin has a methyl group bonded to a silicon atom.

(3):アルミナ(B)の平均粒径が0.1μm以上、1.5μm以下であることを特徴とする(1)または(2)に記載の光反射体。 (3) The light reflector according to (1) or (2), wherein the average particle diameter of alumina (B) is 0.1 μm or more and 1.5 μm or less.

(4):熱硬化性シリコーン樹脂(A)とアルミナ(B)の合計に対するアルミナ(B)の割合が、30質量%以上、70質量%以下であることを特徴とする(1)乃至(3)のいずれかに記載の光反射体。 (4): The ratio of alumina (B) to the total of thermosetting silicone resin (A) and alumina (B) is 30% by mass or more and 70% by mass or less (1) to (3) The light reflector according to any one of the above.

(5):アルミナ(B)が略球状であることを特徴とする(1)乃至(4)のいずれかに記載の光反射体。 (5) The light reflector according to any one of (1) to (4), wherein the alumina (B) is substantially spherical.

(6):200℃、185時間加熱処理後における、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする(1)乃至(5)のいずれかに記載の光反射体。 (6): Any one of (1) to (5), wherein an average reflectance with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm after heat treatment at 200 ° C. for 185 hours is 94% or more The light reflector as described in.

(7):300℃、5分間加熱処理後における、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする(1)乃至(6)のいずれかに記載の光反射体。 (7): Any one of (1) to (6), wherein an average reflectance with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm after heat treatment at 300 ° C. for 5 minutes is 94% or more The light reflector as described in.

(8):48時間UV照射後における、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする(1)乃至(7)のいずれかに記載の光反射体。 (8): The average reflectance with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm after UV irradiation for 48 hours is 94% or more, (1) to (7) Light reflector.

(9):動的粘弾性測定における振動周波数10Hz、温度20℃の貯蔵弾性率(E')が、1MPa以上1000MPa以下であることを特徴とする(1)乃至(8)のいずれかに記載の光反射体。 (9): The storage elastic modulus (E ′) at a vibration frequency of 10 Hz and a temperature of 20 ° C. in the dynamic viscoelasticity measurement is 1 MPa or more and 1000 MPa or less, according to any one of (1) to (8) Light reflector.

(10):上述の(1)乃至(9)のいずれかに記載の光反射体を用いてなるLEDパッケージ基板用光反射体。 (10): A light reflector for an LED package substrate using the light reflector according to any one of (1) to (9) above.

(11):上述の(1)乃至(10)のいずれかに記載の光反射体を備えたLEDパッケージ基板。 (11): An LED package substrate including the light reflector according to any one of (1) to (10) above.

本発明の光反射体は、耐熱性が高く、紫外領域(350nm〜450nm)において反射率が高く、高温熱負荷環境下及びUV照射下における変色による反射率の低下が少ない、優れた特性を有する光反射体がある。即ち高温環境下や、長期間の使用においても光反射特性が抑制でき、LEDパッケージ用光反射体として、各種照明器具や、パソコン、テレビ、携帯電話等のバックライト光源や各種表示灯光源等として、広く使用することができる。   The light reflector of the present invention has excellent heat resistance, high reflectivity in the ultraviolet region (350 nm to 450 nm), and low reduction in reflectivity due to discoloration under high temperature heat load environment and UV irradiation. There is a light reflector. In other words, light reflection characteristics can be suppressed even in high-temperature environments or for long-term use, and as a light reflector for LED packages, as backlights for various lighting fixtures, personal computers, televisions, mobile phones, etc. Can be widely used.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明の範囲がこの実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, although embodiment of this invention is described, the scope of the present invention is not limited to this embodiment.

[シリコーン樹脂(A)]
本発明に用いる熱硬化性シリコーン樹脂(以下、単に「シリコーン樹脂」ということがある。)(A)は、従来公知の任意のシリコーン樹脂を使用することが出きる。例えば、式(1)に記載のシロキサン骨格を有する化合物を架橋してなる樹脂であり、具体的には例えば、分子内に炭素-炭素不飽和結合(特にビニル基)、ケイ素−水素結合及びオキセタニル基を有するポリオルガノシロキサンがあげられる。
[Silicone resin (A)]
As the thermosetting silicone resin (hereinafter, simply referred to as “silicone resin”) (A) used in the present invention, any conventionally known silicone resin can be used. For example, a resin obtained by crosslinking a compound having a siloxane skeleton represented by the formula (1), specifically, for example, a carbon-carbon unsaturated bond (particularly a vinyl group), a silicon-hydrogen bond, and oxetanyl in the molecule. And polyorganosiloxane having a group.

Figure 2013201175
Figure 2013201175

上記式(1)におけるRは、メチル基、エチル基等のアルキル基;ビニル基;フェニル基等の炭化水素基、又は、フルオロアルキル基等のハロゲン置換炭化水素基を示す。具体的には例えば、上記式(1)中のRが、全てメチル基であるポリジメチルシロキサンや、ポリジメチルシロキサンのメチル基の一部が上記炭化水素基、又は、上記ハロゲン置換炭化水素基の一種又は複数種によって置換された、各種のポリオルガノシロキサンが挙げられる。中でも本発明においては、耐候性等の観点から上記式中、Rの一部又は全部がアルキル基であることが好ましく、中でも硬化時間の短縮や光反射特性等の観点からメチル基であることが好ましい。
なお、本発明に用いるシリコーン樹脂(A)は、1種類を単独で用いても、任意の割合からなる2種類以上の混合物、共重合物を用いてもよい。
R in the above formula (1) represents an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group; a vinyl group; a hydrocarbon group such as a phenyl group; or a halogen-substituted hydrocarbon group such as a fluoroalkyl group. Specifically, for example, R in the above formula (1) is a polydimethylsiloxane in which all methyl groups, or a part of the methyl group of the polydimethylsiloxane is the above hydrocarbon group or the above halogen-substituted hydrocarbon group. Examples include various polyorganosiloxanes substituted by one or more species. Among them, in the present invention, from the viewpoint of weather resistance and the like, in the above formula, part or all of R is preferably an alkyl group, and in particular, it is a methyl group from the viewpoint of shortening the curing time and light reflection characteristics. preferable.
In addition, the silicone resin (A) used for this invention may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types of mixtures and copolymers which consist of arbitrary ratios.

また本発明に用いるシリコーン樹脂(A)は架橋されていてもよい。その架橋基や架橋方法は特に限定されるものではなく、従来公知の任意の架橋基、架橋方法を用いることができる。例えば架橋基としては、ポリオルガノシロキサンのメチル基又はビニル基をラジカル反応で架橋する方法や、シラノール末端ポリオルガノシロキサンと、加水分解可能な官能基を有するシラン化合物との縮合反応で架橋する方法、あるいは、ビニル基へのヒドロシリル基の付加反応によって架橋する方法などが挙げられる。この中でも特に、硬化の際に副生成物を生じることがない付加反応により架橋することが好ましい。   Moreover, the silicone resin (A) used for this invention may be bridge | crosslinked. The crosslinking group and crosslinking method are not particularly limited, and any conventionally known crosslinking group or crosslinking method can be used. For example, as a crosslinking group, a method of crosslinking a methyl group or vinyl group of a polyorganosiloxane by a radical reaction, a method of crosslinking by a condensation reaction of a silanol-terminated polyorganosiloxane and a silane compound having a hydrolyzable functional group, Or the method of bridge | crosslinking by the addition reaction of the hydrosilyl group to a vinyl group is mentioned. Among these, it is particularly preferable to crosslink by an addition reaction that does not generate a by-product during curing.

そしてシリコーン樹脂(A)の架橋方法としては、具体的には例えば、硬化触媒を添加し、高温加熱する方法が挙げられる。硬化触媒としては、アミノシラン系、ニッケル塩系、アンモニウム塩系の触媒や、アルミニウム、鉄、コバルト、マンガン、亜鉛などのオクチル酸塩、ナフテン酸塩などの金属石鹸類、白金触媒などが挙げられる。またその反応条件としては、具体的には例えば、前記触媒を添加した際、100℃〜180℃で1秒〜30分程度加熱することにより硬化し、シリコーン樹脂(A)が得られる。   Specific examples of the method for crosslinking the silicone resin (A) include a method in which a curing catalyst is added and heated at a high temperature. Examples of the curing catalyst include aminosilane, nickel salt, and ammonium salt catalysts, octylates such as aluminum, iron, cobalt, manganese, and zinc, metal soaps such as naphthenates, and platinum catalysts. Moreover, as the reaction conditions, specifically, for example, when the catalyst is added, it is cured by heating at 100 ° C. to 180 ° C. for about 1 second to 30 minutes to obtain the silicone resin (A).

また、本発明に用いるシリコーン樹脂(A)としては、メチル基、フェニル基の一部を変性したシリコーンを用いてもよい。具体的な変性シリコーンとしては、例えばアルキル変性、アラルキル変性、フルオロアルキル変性、ポリエーテル変性、アミノ変性、アクリル変性、エポキシ変性等の各種シリコーン樹脂が挙げられる。   Moreover, as a silicone resin (A) used for this invention, you may use the silicone which modified some methyl groups and a phenyl group. Specific examples of the modified silicone include various silicone resins such as alkyl modification, aralkyl modification, fluoroalkyl modification, polyether modification, amino modification, acrylic modification, and epoxy modification.

本発明に用いるシリコーン樹脂(A)の形態は任意であり、適宜選択して決定すればよい。具体的には例えば、ゴム、ミラブル、ワニス、レジン、エラストマー、ゲルなどの形態が挙げられるが、特に限定されるものではない。また、シリコーン樹脂を溶剤に溶かして、溶液タイプとして使用してもよい。溶剤には、トルエン、キシレンなどの炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルアセテートなどのエステル類などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   The form of the silicone resin (A) used in the present invention is arbitrary, and may be appropriately selected and determined. Specific examples include rubbers, millables, varnishes, resins, elastomers, gels and the like, but are not particularly limited. Alternatively, the silicone resin may be dissolved in a solvent and used as a solution type. Solvents include hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran, and esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and ethyl acetate. It is not limited.

本発明に用いるシリコーン樹脂(A)としては、具体的には例えば、信越化学工業社製の商品名「KEG−2000シリーズ」、「KEG−2001シリーズ」、「KE−1950シリーズ」等や、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の商品名「LSR−2670」、「LSR−7070」、「XE13−0810」等や、東レ・ダウコーニング社製の商品名「JCR6101UP」等が挙げられる。   Specific examples of the silicone resin (A) used in the present invention include, for example, trade names “KEG-2000 series”, “KEG-2001 series”, “KE-1950 series” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -Product names "LSR-2670", "LSR-7070", "XE13-0810" manufactured by Performance Materials, etc., and product names "JCR6101UP" manufactured by Toray Dow Corning, etc. may be mentioned.

(アルミナ)
本発明に用いるアルミナ(B)は、ナトリウム含有率量が80ppm以上300ppm未満であることを特徴とする。本発明に用いるアルミナ粒子中のNa含有量が高すぎると、Naによる入射光の吸収が大きすぎてに光反射率の低下が著しくなる。逆にNa含有量が低すぎてもアルミナ粒子の分散性低下が顕著となり、アルミナ粒子が過度に凝集するために比表面積が低下し、光反射体率が低下してしまう。よって中でも、アルミナ(B)のナトリウム含有率は、90ppm以上250ppm以下、特に90ppm以上200ppm以下であることがより好ましい。
(alumina)
The alumina (B) used in the present invention has a sodium content of 80 ppm or more and less than 300 ppm. When the content of Na in the alumina particles used in the present invention is too high, the absorption of incident light by Na is too great, and the light reflectance is significantly reduced. Conversely, if the Na content is too low, the dispersibility of the alumina particles is significantly reduced, and the alumina particles are excessively aggregated, so that the specific surface area is reduced and the light reflector rate is reduced. Therefore, among these, the sodium content of alumina (B) is more preferably 90 ppm to 250 ppm, and particularly preferably 90 ppm to 200 ppm.

本発明においてアルミナ(B)のナトリウム含有量は、以下の方法により測定される値を示す。アルミナ(B)のナトリウム含有量の測定方法は以下の(i)〜(Vii)である。
(i)粉末状のアルミナを約0.2g計量する。
(ii)上記アルミナをガラス瓶に入れる。これに35%塩酸を5cc加える。
(iii)そのまま室温で3時間放置し、アルミナ塩酸溶液とする。
(iV)25mlのメスフラスコに約5ccの純水を入れ、(iii)で得られたアルミナ塩酸溶液を加え、その後、全量が25mlとなるように純水を加える。
(V)(iV)で得られた25mlのアルミナ塩酸水溶液を、濾紙を用いて濾過する。
(Vi)濾過後、ICP測定を実施してナトリウム量を定量する。尚、ナトリウムの定量は589.592nmの波長を使い、ナトリウム含有量100ppmの標準溶液と対比させて、実施する。
(Vii)ICPで求めたナトリウム含有量とアルミナ量との比;(ICPで求めたナトリウム含有量/アルミナ量)からナトリウム含有量を算出する。
In the present invention, the sodium content of alumina (B) is a value measured by the following method. The measurement method of the sodium content of alumina (B) is the following (i) to (Vii).
(I) About 0.2 g of powdered alumina is weighed.
(Ii) Put the alumina in a glass bottle. To this is added 5 cc of 35% hydrochloric acid.
(Iii) Leave as it is at room temperature for 3 hours to obtain an alumina hydrochloric acid solution.
(IV) About 5 cc of pure water is put into a 25 ml volumetric flask, the alumina hydrochloric acid solution obtained in (iii) is added, and then pure water is added so that the total amount becomes 25 ml.
(V) The 25 ml aqueous solution of alumina hydrochloric acid obtained in (iV) is filtered using a filter paper.
(Vi) After filtration, ICP measurement is performed to quantify the amount of sodium. Sodium quantification is carried out using a wavelength of 589.592 nm and comparing with a standard solution having a sodium content of 100 ppm.
(Vii) Ratio of sodium content determined by ICP to alumina content; sodium content is calculated from (sodium content determined by ICP / alumina content).

そして本発明に用いるアルミナ(B)は、上述の特性を満足し、且つ得られるシリコーン樹脂組成物を成形してなる光反射体の特性として、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であれば、特にその種類や形態は任意で有り、適宜選択して決定すればよい。中でも形態としてはα―アルミナ、γ―アルミナ等の結晶型のアルミナが好ましく、その中でも化学的に安定、融点が高い、機械的強度が大きい、硬度が高い、電気絶縁抵抗大きい等の理由から、α―アルミナが特に好ましい。   The alumina (B) used in the present invention satisfies the above-mentioned characteristics and is an average of light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm as a characteristic of a light reflector formed by molding the obtained silicone resin composition. If the reflectance is 94% or more, the type and form are particularly arbitrary, and may be appropriately selected and determined. Among them, crystalline alumina such as α-alumina and γ-alumina is preferable as the form, among them because of chemical stability, high melting point, high mechanical strength, high hardness, high electrical insulation resistance, etc. α-alumina is particularly preferred.

そしてアルミナの形状についても任意で有り、任意の形状のものを使用できる。中でも不定形アルミナに比べて高球形度の球状アルミナ、好ましくは略球状のアルミナを使用することにより、シリコーン樹脂との混練時における混練機や金型との摩耗を軽減させることができるので好ましい。更にはこの略球状のアルミナを用いることによって、シリコーン樹脂への含有量を高くすること(高充填)が容易となり、本発明の光反射体の反射率を向上させることが出来るので好ましい。   The shape of alumina is also arbitrary, and any shape can be used. Among them, it is preferable to use spherical alumina having a higher sphericity than amorphous alumina, preferably substantially spherical alumina, since wear on a kneader or a mold during kneading with a silicone resin can be reduced. Furthermore, it is preferable to use this substantially spherical alumina because it is easy to increase the content in the silicone resin (high filling), and the reflectance of the light reflector of the present invention can be improved.

本発明に用いるアルミナ(B)の平均粒径としては、一般的に0.1〜5μmである。平均粒径が大きすぎると比表面積の低下により光反射率が低下する場合があり、逆に小さすぎても凝集が顕著となり分散性が低下する場合があり、やはり光反射率が低下する場合がある。よってその平均粒径は、0.1〜3μmであることが好ましく、中でも0.1〜3μm、更には0.1〜1.5μm、特に0.5〜1.5μmであることが好ましい。   The average particle diameter of alumina (B) used in the present invention is generally 0.1 to 5 μm. If the average particle size is too large, the light reflectance may decrease due to a decrease in the specific surface area. Conversely, if the average particle size is too small, the aggregation may be remarkable and the dispersibility may decrease, and the light reflectance may also decrease. is there. Therefore, the average particle diameter is preferably 0.1 to 3 μm, more preferably 0.1 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1.5 μm, and particularly preferably 0.5 to 1.5 μm.

本発明に用いる、熱硬化性シリコーン樹脂(A)にアルミナ(B)を配合してなる樹脂組成物における、アルミナ(B)の含有量は任意で有り、本発明の効果を損ねない範囲であれば、光反射体に要求される諸特性を考慮し適宜選択して決定すればよい。   In the resin composition obtained by blending alumina (B) with thermosetting silicone resin (A) for use in the present invention, the content of alumina (B) is arbitrary, so long as the effect of the present invention is not impaired. For example, it may be selected and determined in consideration of various characteristics required for the light reflector.

本発明に用いるこの樹脂組成物においてアルミナの含有量が少なすぎると、本発明の光反射体における反射率が充分得られない場合があり、逆に多すぎても、アルミナの分散性不良が生じたり、シリコーン樹脂組成物の粘度が高くなり過ぎて成形性が低下する場合があるばかりでなく、成形機等の摩耗が生ずる場合もある。   If the content of alumina in the resin composition used in the present invention is too small, the reflectivity of the light reflector of the present invention may not be sufficiently obtained. In addition, the viscosity of the silicone resin composition may become too high and moldability may decrease, and wear of a molding machine or the like may occur.

よって一般的には、本発明に用いる、この樹脂組成物におけるアルミナの含有量は30〜80質量%である。中でも、30〜70質量%であることが好ましく、更には35〜65質量%、特に40〜60質量%であることによって、本発明の光反射体が良好な反射特性を有し、またその厚みが薄くなっても良好な反射特性を得ることができる。   Therefore, generally, the content of alumina in the resin composition used in the present invention is 30 to 80% by mass. Especially, it is preferable that it is 30-70 mass%, Furthermore, when it is 35-65 mass%, especially 40-60 mass%, the light reflector of this invention has a favorable reflective characteristic, Moreover, the thickness Good reflection characteristics can be obtained even when the thickness is reduced.

(反射率)
本発明の光反射体は、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmにおける平均反射率が94%以上であることを特徴の一つとする。本発明において、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmにおける平均反射率とは、厚み0.4mmの光反射体サンプルについて、アルミナ白板の反射率を100%としたときの反射率を、使用波長として300nm〜800nmの範囲にわたって0.5nm間隔で測定して得られた光反射率の平均値である。本発明の光反射体は、この平均反射率が94%以上であり、具体的には例えば、LEDの白色化に伴い短波長領域を効率よく反射することで高輝度化することができる。
(Reflectance)
One feature of the light reflector of the present invention is that the average reflectance at a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm is 94% or more. In the present invention, the average reflectance at a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm is the reflectance when the reflectance of the alumina white plate is set to 100% for a light reflector sample having a thickness of 0.4 mm. It is the average value of the light reflectance obtained by measuring at intervals of 0.5 nm over a range of 300 nm to 800 nm. The average reflectance of the light reflector of the present invention is 94% or more. Specifically, for example, it is possible to increase the brightness by efficiently reflecting the short wavelength region with the whitening of the LED.

本発明の光反射体の厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmにおける平均反射率は、中でも上述した高輝度化のか観点から95%以上、中でも96%以上であることが好ましい。尚、本発明において、熱硬化性シリコーン樹脂(A)にアルミナ(B)を配合してなる樹脂組成物を成形して得られる光反射体において厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上とは、この樹脂組成物を成形して得られた光反射体に対し、光反射体の成形に不要な加熱処理やUV照射等を行っていない測定試料における平均反射率を示す。   The average reflectance at a wavelength of 350 nm to 450 nm with a thickness of 0.4 mm of the light reflector of the present invention is preferably 95% or more, particularly 96% or more from the viewpoint of increasing the brightness. In addition, in this invention, in the light reflector obtained by shape | molding the resin composition formed by mix | blending an alumina (B) with a thermosetting silicone resin (A), the average with respect to the light of wavelength 350nm-450nm in thickness 0.4mm. The reflectance of 94% or more means that the average reflectance in a measurement sample that is not subjected to heat treatment or UV irradiation unnecessary for molding the light reflector on the light reflector obtained by molding this resin composition. Indicates.

また、本発明に用いるアルミナ(B)としては、シリコーン樹脂(A)への分散性を向上するために、シロキサン化合物、シランカップリング剤等の無機化合物や、ポリオール、ポリエチレングリコール等の有機化合物を用いて表面処理を施してもよい。   Moreover, as alumina (B) used in the present invention, in order to improve dispersibility in the silicone resin (A), inorganic compounds such as siloxane compounds and silane coupling agents, and organic compounds such as polyols and polyethylene glycols are used. It may be used for surface treatment.

本発明においては、アルミナ(B)の他に、短波長光の吸収が少ない無機フィラー、具体的には例えば、酸化亜鉛、チタン酸バリウム、ベーマイト、酸化マグネシウム等を含有してもよく、これらは一種または任意の割合で二種以上を併用してもよい。   In the present invention, in addition to alumina (B), it may contain an inorganic filler with little absorption of short-wavelength light, specifically, for example, zinc oxide, barium titanate, boehmite, magnesium oxide, etc. You may use 2 or more types together by 1 type or arbitrary ratios.

さらに本発明においては、前記シリコーン樹脂(A)、及び、アルミナ(B)以外の成分として、本発明の効果を損なわない範囲で、シリコーン樹脂(A)以外の樹脂や、アルミナ(B)以外の各種添加剤、例えば、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、着色剤、滑剤、難燃剤等を配合してもよい。   Furthermore, in this invention, as components other than the said silicone resin (A) and an alumina (B), in the range which does not impair the effect of this invention, resin other than a silicone resin (A), other than an alumina (B) Various additives such as a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a colorant, a lubricant, a flame retardant and the like may be blended.

本発明の光反射体は、LEDパッケージにおける光反射体の様に、極めて薄肉の、又は薄肉部分を有する樹脂成形体とした状態でも、具体的には厚み0.4mmの様な薄肉部においても、波長350〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上という極めて優れた特性を有する。   The light reflector of the present invention may be a resin molded body having an extremely thin or thin portion, such as a light reflector in an LED package, specifically, in a thin portion having a thickness of 0.4 mm. The average reflectance for light having a wavelength of 350 to 450 nm has an extremely excellent characteristic of 94% or more.

更に本発明の光反射体は、長期耐熱性を有しており、具体的には200℃、185時間熱処理した後(加熱試験後)においても、波長350nm〜450nmにおける平均の反射率が94%以上である、優れた特性を有する。この様に、本発明の光反射体は、長期高温熱負荷環境下であっても反射体として十分な反射特性を維持する優れた特性を有するので好ましい。尚、この様な加熱処理方法としては、例えば200℃に設定した循環式乾燥機にて185時間加熱する方法が挙げられる。   Furthermore, the light reflector of the present invention has long-term heat resistance. Specifically, the average reflectance at a wavelength of 350 nm to 450 nm is 94% even after heat treatment at 200 ° C. for 185 hours (after the heating test). It is the above and has the outstanding characteristic. Thus, the light reflector of the present invention is preferable because it has excellent characteristics for maintaining sufficient reflection characteristics as a reflector even under a long-term high-temperature heat load environment. In addition, as such a heat processing method, the method of heating for 185 hours with the circulation type dryer set to 200 degreeC, for example is mentioned.

そして本発明の光反射体は、これを、300℃、5分間熱処理した後(加熱試験後)においても、波長350〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上と優れている。この熱処理加熱試験後の反射率は95%以上であることが好ましく、特に97%以上であることが好ましい。   The light reflector of the present invention has an average reflectance of 94% or more with respect to light having a wavelength of 350 to 450 nm even after heat treatment at 300 ° C. for 5 minutes (after a heating test). The reflectance after the heat treatment heating test is preferably 95% or more, and particularly preferably 97% or more.

この様な加熱試験後の反射率が高く維持されていることによって、半田リフロー工程や、使用時における発熱等により高温環境下にさらされた場合においても光反射体の反射性能が低下することなく、長期間の使用が可能な光反射体となるので好ましい。尚、この様な加熱処理方法としては、具体的には例えば、300℃に設定した循環式乾燥機にて5分間加熱する方法等が挙げられる。   By maintaining such a high reflectivity after the heating test, the reflective performance of the light reflector does not deteriorate even when exposed to a high temperature environment due to a solder reflow process or heat generation during use. Since it becomes a light reflector which can be used for a long time, it is preferable. In addition, specifically as such a heat processing method, the method of heating for 5 minutes with the circulation type dryer set to 300 degreeC etc. is mentioned, for example.

更に本発明の光反射体は、48時間UV照射した後において、厚み0.4mmにおける波長350〜450nmの光に対する反射率が94%以上と優れている。中でもUV照射後の反射率は94%以上であることが好ましく、中でも95%以上、特に96%以上であることが好ましい。紫外線照射後における反射率が94%以上であれば、近紫外LEDを使用した場合においても光反射体の反射性能が低下することなく、長期間の使用が可能となる。   Furthermore, the light reflector of the present invention has an excellent reflectivity of 94% or more with respect to light having a wavelength of 350 to 450 nm at a thickness of 0.4 mm after UV irradiation for 48 hours. In particular, the reflectivity after UV irradiation is preferably 94% or more, more preferably 95% or more, and particularly preferably 96% or more. If the reflectance after ultraviolet irradiation is 94% or more, even when a near-ultraviolet LED is used, the reflection performance of the light reflector does not deteriorate, and long-term use becomes possible.

加えて、本発明の光反射体は、動的粘弾性測定における振動周波数10Hz、温度20℃の貯蔵弾性率(E')が、1〜1000MPaであることが好ましく、中でも5〜500MPa、更には5〜100MPa、特に5〜30MPaであることが好ましい。光反射体の貯蔵弾性率がかかる範囲内であれば、成形時、あるいは、使用時にかかる荷重に対しても追従が可能であり、かつ、十分な剛性も保持しているため過剰な変形も抑制することができる。   In addition, the light reflector of the present invention preferably has a storage elastic modulus (E ′) at a vibration frequency of 10 Hz and a temperature of 20 ° C. in dynamic viscoelasticity measurement of 1 to 1000 MPa, more preferably 5 to 500 MPa, It is preferably 5 to 100 MPa, particularly 5 to 30 MPa. As long as the storage elastic modulus of the light reflector is within the range, it can follow the load applied during molding or use, and also has sufficient rigidity to suppress excessive deformation. can do.

[光反射体の用途]
本発明の光反射体は、優れた反射特性、耐熱性、耐光性を有するので、高温環境下や、長期間の使用においても反射特性の低下が抑制され、また、様々な形状(例えば、フィルム、プレート、及び、成形品等)に成形が可能であるため、LEDパッケージ用光反射体として、各種照明器具や、パソコン、テレビ、携帯電話等のバックライトや、光反射性能を有するLED搭載基板等に広く使用することができる。
[Use of light reflector]
Since the light reflector of the present invention has excellent reflection characteristics, heat resistance, and light resistance, the deterioration of the reflection characteristics is suppressed even in a high temperature environment or for a long period of use, and various shapes (for example, films) , Plates, molded products, etc.), as LED package light reflectors, various lighting fixtures, backlights for personal computers, televisions, mobile phones, etc., and LED mounting substrates with light reflection performance Can be widely used for etc.

[製造方法]
本発明の光反射体の製造方法は特に限定されないが、例えば、前記シリコーン樹脂(A)、アルミナ(B)、及び、必要に応じてその他添加剤をプラネタリーミキサー、ディソルバー、ロールミル、各種ニーダー等の従来公知の任意の混合・攪拌機を用いることで均一に混合した後、同様に従来公知の任意の成形機を用いてシリコーン樹脂の組成、粘度等を考慮した上で、最適な成形機を選定し、各種用途に最適な形状へ成形することができる。成形方法の具体例としては、リキッドインジェクションモールド(LIM)成形法等の射出成形法、注型成形法、圧縮成形法、トランスファー成形法、押出成形法等があげられる。この中でも特に、成形体の形状の自由度が高く、連続成形が可能な点からLIM成形法を採用することが好ましい。
[Production method]
Although the manufacturing method of the light reflector of the present invention is not particularly limited, for example, the silicone resin (A), alumina (B), and other additives as necessary are planetary mixers, dissolvers, roll mills, various kneaders. After mixing uniformly by using any conventionally known mixing / stirring machine such as the above, using an arbitrary conventionally known molding machine, considering the silicone resin composition, viscosity, etc., the optimum molding machine It can be selected and molded into the optimal shape for various applications. Specific examples of the molding method include an injection molding method such as a liquid injection mold (LIM) molding method, a casting molding method, a compression molding method, a transfer molding method, and an extrusion molding method. Among these, it is particularly preferable to employ the LIM molding method from the viewpoint that the degree of freedom of the shape of the molded body is high and continuous molding is possible.

前記方法にて成形した光反射体は、100〜200℃、より好ましくは120〜190℃、さらに好ましくは140℃〜180℃に加熱した状態で、1秒〜30分、より好ましくは3秒〜10分、さらに好ましくは5秒〜2分程度保持することにより耐熱性に優れた硬化物が得られる。なお、金型内で加熱・硬化させても、金型から取り出した後に加熱・硬化させてもどちらでも構わないが、成形品の寸法安定性、生産性を考慮すると金型内で硬化させることが好ましい。   The light reflector molded by the above method is heated at 100 to 200 ° C., more preferably 120 to 190 ° C., and still more preferably 140 to 180 ° C., for 1 second to 30 minutes, more preferably 3 seconds to A cured product having excellent heat resistance can be obtained by holding for about 10 minutes, more preferably for about 5 seconds to 2 minutes. It does not matter whether it is heated and cured in the mold or heated and cured after taking out from the mold, but it is cured in the mold in consideration of the dimensional stability and productivity of the molded product. Is preferred.

本発明において、厚み0.4mmにおける波長350〜450nmの光に対する反射率が94%以上の光反射体を得るためには、上述した成分(A)、(B)として、その好ましい範囲のものを選択し組み合わせる事により得ることが出来る。   In the present invention, in order to obtain a light reflector having a reflectance of 94% or more with respect to light having a wavelength of 350 to 450 nm at a thickness of 0.4 mm, the components (A) and (B) described above are in the preferred range. It can be obtained by selecting and combining.

(光反射体厚み)
本発明のLEDパッケージ基板用光反射体の厚みは、適宜選択して決定すればよいが、一般的には5〜1000μm、中でも300〜700μmであることが好ましい。この厚みが薄すぎると高輝度LEDに必要な反射体としての性能を発揮出来ない場合が有り、逆に厚すぎても、加工時の取り扱い性が低下する場合がある。
(Light reflector thickness)
The thickness of the light reflector for the LED package substrate of the present invention may be selected and determined as appropriate, but is generally 5 to 1000 μm, preferably 300 to 700 μm. If this thickness is too thin, the performance as a reflector necessary for the high-intensity LED may not be exhibited. Conversely, if it is too thick, the handleability during processing may be reduced.

本発明のLEDパッケージ基板は、上述してきた光反射体、そしてこれを用いたLEDパッケージ基板用光反射体を備えたものである。この基板は、本発明の光反射体を用いているので、特に紫外域の光を出す高輝度の白色LEDパッケージ基板として、光反射特性は勿論、耐熱性、耐UV性にも優れる、工業的に有為なLEDパッケージ基板となる。   The LED package substrate of the present invention includes the above-described light reflector and the LED package substrate light reflector using the light reflector. Since this substrate uses the light reflector of the present invention, it is an industrial high-intensity white LED package substrate that emits light in the ultraviolet region, and is excellent in heat resistance and UV resistance as well as light reflection characteristics. It becomes an effective LED package substrate.

以下に実施例、比較例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

本発明の光反射体は、以下の原料を用い、そして以下に記載の方法により評価した。   The light reflector of the present invention was evaluated by the following method using the following raw materials.

[熱硬化性シリコーン樹脂(A)]
(A)−1:付加型熱硬化性メチルシリコーン樹脂(硬度D40)
(A)−2:付加型熱硬化性メチルシリコーン樹脂(硬度D70)
[Thermosetting silicone resin (A)]
(A) -1: Addition-type thermosetting methyl silicone resin (hardness D40)
(A) -2: Addition type thermosetting methyl silicone resin (hardness D70)

[アルミナ(B)]
以下のアルミナ(B)−1〜(B)−8を用いた。尚、アルミナ(B)のナトリウム含有量は以下の方法(i)〜(Vii)により求めた。
[Alumina (B)]
The following alumina (B) -1 to (B) -8 were used. The sodium content of alumina (B) was determined by the following methods (i) to (Vii).

(i)粉末状の各アルミナ試料を約0.2g計量した。
(ii)上記アルミナをガラス瓶に入、これに35%塩酸を5cc加えた。
(iii)そのまま室温で3時間放置し、アルミナ塩酸溶液とした。
(iV)25mlのメスフラスコに約5ccの純水を入れ、(iii)で得られたアルミナ塩酸溶液を加え、その後、全量が25mlとなるように純水を加えた。
(V)(iV)で得られた25mlのアルミナ塩酸水溶液を、濾紙を用いて濾過した。
(Vi)濾過後、ICP測定を実施してナトリウム量を定量した。尚、ナトリウムの定量は589.592nmの波長を使い、ナトリウム含有量100ppmの標準溶液と対比させて、実施した。
(Vii)ICPで求めたナトリウム含有量とアルミナ量との比;(ICPで求めたナトリウム含有量/アルミナ量)からナトリウム含有量を算出した。
(I) About 0.2 g of each powdery alumina sample was weighed.
(Ii) The alumina was placed in a glass bottle, and 5 cc of 35% hydrochloric acid was added thereto.
(Iii) The mixture was allowed to stand at room temperature for 3 hours to obtain an alumina hydrochloric acid solution.
(IV) About 5 cc of pure water was placed in a 25 ml volumetric flask, the alumina hydrochloric acid solution obtained in (iii) was added, and then pure water was added so that the total amount was 25 ml.
(V) 25 ml of the aqueous alumina hydrochloric acid solution obtained in (iV) was filtered using a filter paper.
(Vi) After filtration, ICP measurement was performed to quantify the amount of sodium. Sodium was quantified using a wavelength of 589.592 nm and compared with a standard solution having a sodium content of 100 ppm.
(Vii) The sodium content was calculated from the ratio of sodium content and alumina content determined by ICP; (sodium content determined by ICP / alumina content).

(B)−1:球状アルミナ(Na含有量=92.9ppm、平均粒径0.6μm)
(B)−2:球状アルミナ(Na含有量=93.5ppm、平均粒径0.3μm)
(B)−3:不定形アルミナ(Na含有量=161ppm、平均粒径1.1μm)
(B)−4:球状アルミナ(Na含有量=79.6ppm、平均粒径0.6μm)
(B)−5:不定形アルミナ(Na含有量=300ppm、平均粒径0.5μm)
(B)−6:不定形アルミナ(Na含有量=343ppm、平均粒径0.7μm)
(B)−7:不定形アルミナ(Na含有量=825ppm、平均粒径0.7μm)
(B)−8:不定形アルミナ(Na含有量=225ppm、平均粒径4.1μm)
(B) -1: Spherical alumina (Na content = 92.9 ppm, average particle size 0.6 μm)
(B) -2: Spherical alumina (Na content = 93.5 ppm, average particle size 0.3 μm)
(B) -3: Amorphous alumina (Na content = 161 ppm, average particle size 1.1 μm)
(B) -4: Spherical alumina (Na content = 79.6 ppm, average particle size 0.6 μm)
(B) -5: Amorphous alumina (Na content = 300 ppm, average particle size 0.5 μm)
(B) -6: Amorphous alumina (Na content = 343 ppm, average particle size 0.7 μm)
(B) -7: Amorphous alumina (Na content = 825 ppm, average particle size 0.7 μm)
(B) -8: Amorphous alumina (Na content = 225 ppm, average particle size 4.1 μm)

(実施例1)
東洋精機社製ラボプラストミル20C200を用いて、約20℃の温度で(A)−1、及び、(B)−1を混合質量比45:55の割合で混練した。次いで、得られた混合物を(株)井元製作所製加熱プレスIMC−18DAを用いて、温度150℃、圧力20MPaの条件で3分間保持し、厚み0.4mmの成形体を作製した。得られたサンプルについて反射率、耐熱性、耐UV性、剛性の評価を行った。結果を表1に示す。
Example 1
Using a laboratory plastic mill 20C200 manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd., (A) -1 and (B) -1 were kneaded at a mixing mass ratio of 45:55 at a temperature of about 20 ° C. Next, the obtained mixture was held for 3 minutes under the conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 20 MPa using a heated press IMC-18DA manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd., to produce a molded body having a thickness of 0.4 mm. The obtained samples were evaluated for reflectivity, heat resistance, UV resistance and rigidity. The results are shown in Table 1.

(実施例2)
(A)−1、及び、(B)−2を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 2)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -2 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(実施例3)
(A)−1、及び、(B)−3を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Example 3)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -3 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(実施例4)
(A)−2、及び、(B)−3を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
Example 4
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -2 and (B) -3 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
(A)−1、及び、(B)−4を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -4 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
(A)−1、及び、(B)−5を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -5 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(比較例3)
(A)−1、及び、(B)−6を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -6 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(比較例4)
(A)−1、及び、(B)−7を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 4)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -7 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(比較例5)
(A)−1、及び、(B)−8を混合質量比で45:55の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 5)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -8 were mixed at a mixing mass ratio of 45:55. The results are shown in Table 1.

(比較例6)
(A)−1、及び、(B)−3を混合質量比で80:20の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 6)
A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (A) -1 and (B) -3 were mixed at a mixing mass ratio of 80:20. The results are shown in Table 1.

(比較例7)
(A)−1、及び、ルチル型酸化チタン(平均粒径:0.2μm、以下(N)−1と省略する)を混合質量比で50:50の割合で混合した以外は実施例1と同様の方法で光反射体サンプルの作製、及び、評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 7)
Example 1 except that (A) -1 and rutile-type titanium oxide (average particle size: 0.2 μm, hereinafter abbreviated as (N) -1) were mixed at a mixing mass ratio of 50:50. A light reflector sample was prepared and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

(比較例8)
芳香族ポリアミド樹脂(酸化チタン及びガラス繊維含有、融点:305℃、以下(M)−1と省略する)を(株)井元製作所製加熱プレスIMC−18DAを用いて、温度350℃、圧力20MPaの条件で3分間保持し、厚み0.4mmの成形体を作製した。評価は実施例1と同様の方法で行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 8)
Aromatic polyamide resin (containing titanium oxide and glass fiber, melting point: 305 ° C., hereinafter abbreviated as (M) -1) was heated using a heated press IMC-18DA manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd. at a temperature of 350 ° C. and a pressure of 20 MPa. The molded body having a thickness of 0.4 mm was produced by maintaining the condition for 3 minutes. Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

<評価方法>
(反射率)
厚み0.4mmの光反射体サンプルを日立製作所製分光光度計U−4000に積分球を取りつけ、アルミナ白板の反射率が100%としたときの反射率を、波長300nm〜800nmの範囲にわたって0.5nm間隔で測定し、波長350nm〜450nmの平均の反射率が94%以上であるものを合格とした。
<Evaluation method>
(Reflectance)
A light reflector sample having a thickness of 0.4 mm is attached to a spectrophotometer U-4000 manufactured by Hitachi, Ltd., and the reflectance when the reflectance of the alumina white plate is 100% is set to 0. 0 over a wavelength range of 300 nm to 800 nm. The measurement was performed at intervals of 5 nm, and the average reflectance of wavelengths from 350 nm to 450 nm was 94% or more, which was regarded as acceptable.

(長期耐熱性)
大栄科学精器製作所社製ベーキング試験装置DKS−5Sを用い、厚み0.4mmの光反射体サンプルを装置内に静置し、200℃で185時間加熱した後の反射率を測定した。加熱試験後の波長350nm〜450nmにおける平均の反射率が94%以上であるものを合格とした。
(Long-term heat resistance)
Using a baking test apparatus DKS-5S manufactured by Daiei Scientific Instruments Co., Ltd., a light reflector sample having a thickness of 0.4 mm was left in the apparatus, and the reflectance after heating at 200 ° C. for 185 hours was measured. A sample having an average reflectance of 94% or more at a wavelength of 350 nm to 450 nm after the heating test was regarded as acceptable.

(半田リフロー耐熱性)
大栄科学精器製作所社製ベーキング試験装置DKS−5Sを用い、厚み0.4mmの光反射体サンプルを装置内に静置し、300℃で5分間加熱した後の反射率を測定した。加熱試験後の波長350nm〜450nmにおける平均の反射率が94%以上であるものを合格とした。
(Solder reflow heat resistance)
Using a baking test apparatus DKS-5S manufactured by Daiei Kagaku Seisakusho Co., Ltd., a light reflector sample having a thickness of 0.4 mm was left in the apparatus, and the reflectance after heating at 300 ° C. for 5 minutes was measured. A sample having an average reflectance of 94% or more at a wavelength of 350 nm to 450 nm after the heating test was regarded as acceptable.

(耐UV性)
フェードメーター岩崎電気社製アイスーパーUVテスターSUV−W151を用い、厚み0.4μmの光反射体サンプルを装置内に静置し、50時間紫外線を照射した後の反射率を測定した。紫外線照射後の波長350nm〜450nmにおける平均の反射率が94%以上であるものを合格とした。
(UV resistance)
Using a fade meter, Isuperki UV Tester SUV-W151 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., a light reflector sample having a thickness of 0.4 μm was left in the apparatus, and the reflectance after irradiation with ultraviolet rays for 50 hours was measured. A sample having an average reflectance of 94% or more at a wavelength of 350 nm to 450 nm after ultraviolet irradiation was regarded as acceptable.

(剛性)
動的粘弾性測定機(アイティ計測社製、商品名:粘弾性スペクトロメーターDVA−200)を用いて、振動周波数:1Hz、昇温速度:3℃/分、歪0.1%の条件で、貯蔵弾性率(E')を−100℃から200℃まで測定し、得られたデータから、20℃における貯蔵弾性率(E')を読み取った。20℃における貯蔵弾性率(E')が1MPa以上、1000MPa以下であるものを合格とした。
(rigidity)
Using a dynamic viscoelasticity measuring machine (product name: viscoelastic spectrometer DVA-200, manufactured by IT Measurement Co., Ltd.), with a vibration frequency of 1 Hz, a temperature rising rate of 3 ° C./min, and a strain of 0.1%, The storage elastic modulus (E ′) was measured from −100 ° C. to 200 ° C., and the storage elastic modulus (E ′) at 20 ° C. was read from the obtained data. A storage elastic modulus (E ′) at 20 ° C. of 1 MPa or more and 1000 MPa or less was accepted.

Figure 2013201175
Figure 2013201175

本発明の光反射体は、特定のアルミナを用い、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上と紫外領域における光反射率に優れるばかりでなく、加熱処理やUV照射後に於いてもその低下が抑制されていることが判る。   The light reflector of the present invention uses specific alumina and has an average reflectance of 94% or more for light with a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm, which is excellent in light reflectance in the ultraviolet region, as well as heat treatment and UV. It can be seen that the reduction is suppressed even after irradiation.

さらに、本発明の光反射体は、反射体として十分な強度をも有することが判る。また、従来の材料を用いた比較例(比較例8)においては、紫外領域における反射率の低下や、高温熱環境下及びUV照射下では、変色等による反射率低下が抑制されていることが判る。   Furthermore, it turns out that the light reflector of this invention also has sufficient intensity | strength as a reflector. Moreover, in the comparative example (comparative example 8) using the conventional material, the reflectance fall in an ultraviolet region, and the reflectance fall by discoloration etc. are suppressed under high temperature thermal environment and UV irradiation. I understand.

Claims (11)

熱硬化性シリコーン樹脂(A)にアルミナ(B)を配合してなる樹脂組成物を成形して得られる光反射体であって、アルミナ(B)のナトリウム含有量が80ppm以上300ppm未満であり、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする光反射体。   A light reflector obtained by molding a resin composition obtained by blending alumina (B) with thermosetting silicone resin (A), wherein the sodium content of alumina (B) is 80 ppm or more and less than 300 ppm, A light reflector having an average reflectance of 94% or more with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm. 熱硬化性シリコーン樹脂が、ケイ素原子に結合したメチル基を有することを特徴とする請求項1に記載の光反射体。 The light reflector according to claim 1, wherein the thermosetting silicone resin has a methyl group bonded to a silicon atom. アルミナ(B)の平均粒径が0.1μm以上、1.5μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光反射体。 The light reflector according to claim 1 or 2, wherein the average particle diameter of the alumina (B) is 0.1 µm or more and 1.5 µm or less. 熱硬化性シリコーン樹脂(A)とアルミナ(B)の合計に対するアルミナ(B)の割合が、30質量%以上、70質量%以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光反射体。 The ratio of alumina (B) to the total of thermosetting silicone resin (A) and alumina (B) is 30% by mass or more and 70% by mass or less. Light reflector. アルミナ(B)が略球状であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光反射体。 The light reflector according to any one of claims 1 to 4, wherein the alumina (B) is substantially spherical. 200℃、185時間加熱処理後における、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光反射体。 The light reflector according to any one of claims 1 to 5, wherein an average reflectance with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm after heat treatment at 200 ° C for 185 hours is 94% or more. . 300℃、5分間加熱処理後における、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光反射体。 The light reflector according to any one of claims 1 to 5, wherein an average reflectance with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm after heat treatment at 300 ° C for 5 minutes is 94% or more. . 48時間UV照射後における、厚み0.4mmにおける波長350nm〜450nmの光に対する平均反射率が94%以上であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の光反射体。 The light reflector according to any one of claims 1 to 7, wherein an average reflectance with respect to light having a wavelength of 350 nm to 450 nm at a thickness of 0.4 mm after UV irradiation for 48 hours is 94% or more. 動的粘弾性測定における振動周波数10Hz、温度20℃の貯蔵弾性率(E')が、1MPa以上1000MPa以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の光反射体。 9. The light reflector according to claim 1, wherein a storage elastic modulus (E ′) at a vibration frequency of 10 Hz and a temperature of 20 ° C. in dynamic viscoelasticity measurement is 1 MPa or more and 1000 MPa or less. 請求項1乃至9のいずれかに記載の光反射体を用いてなるLEDパッケージ基板用光反射体。 A light reflector for an LED package substrate, comprising the light reflector according to claim 1. 請求項1乃至10のいずれかに記載の光反射体を備えたLEDパッケージ基板。 An LED package substrate comprising the light reflector according to claim 1.
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